Method for Forming an Extreme Ultraviolet Lithography Pellicle
Номер патента: US20210191255A1
Опубликовано: 24-06-2021
Автор(ы): Cedric Huyghebaert, Elie Schapmans, Emily Gallagher, Ivan Pollentier, Marina Timmermans
Принадлежит: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 24-06-2021
Автор(ы): Cedric Huyghebaert, Elie Schapmans, Emily Gallagher, Ivan Pollentier, Marina Timmermans
Принадлежит: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method for forming an extreme ultraviolet lithography pellicle
Номер патента: US11599019B2. Автор: Ivan Pollentier,Cedric Huyghebaert,Emily Gallagher,Marina Timmermans,Elie Schapmans. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2023-03-07.