• Главная
  • Seed wafer for gan thickening using gas- or liquid-phase epitaxy

Seed wafer for gan thickening using gas- or liquid-phase epitaxy

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Seed wafer for gan thickening using gas- or liquid-phase epitaxy

Номер патента: EP3494248A1. Автор: Francois J. Henley. Владелец: Qmat Inc. Дата публикации: 2019-06-12.

SEED WAFER FOR GaN THICKENING USING GAS- OR LIQUID-PHASE EPITAXY

Номер патента: US20190288158A1. Автор: Francois J. Henley. Владелец: Qmat Inc. Дата публикации: 2019-09-19.

SEED WAFER FOR GaN THICKENING USING GAS- OR LIQUID-PHASE EPITAXY

Номер патента: US20190288158A1. Автор: Henley Francois J.. Владелец: . Дата публикации: 2019-09-19.

SEED WAFER FOR GaN THICKENING USING GAS- OR LIQUID-PHASE EPITAXY

Номер патента: US20180040764A1. Автор: Henley Francois J.. Владелец: . Дата публикации: 2018-02-08.

Smooth surface liquid phase epitaxial germanium

Номер патента: US20060194418A1. Автор: David Evans,Jer-shen Maa,Jong-Jan Lee,Douglas Tweet,Allen Burmaster. Владелец: Sharp Laboratories of America Inc. Дата публикации: 2006-08-31.

Liquid-phase epitaxy growth system and method for growing epitaxial layer

Номер патента: US5482555A. Автор: Song J. Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 1996-01-09.

Method for growing a liquid phase epitaxial layer on a semiconductor substrate

Номер патента: US4298410A. Автор: Masaharu Watanabe,Koichiro Nakajima. Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd. Дата публикации: 1981-11-03.

Semiconductor formation by lateral diffusion liquid phase epitaxy

Номер патента: US09824892B2. Автор: Bo Li,Adrian Kitai,Haoling YU. Владелец: MCMASTER UNIVERSITY. Дата публикации: 2017-11-21.

Method of making a liquid phase epitaxial layer of gallium phosphide

Номер патента: CA1054904A. Автор: Nobuyuki Izawa,Kazuya Tanabe. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1979-05-22.

Liquid phase epitaxy technique for reducing edge growth

Номер патента: CA1055367A. Автор: Norman E. Schumaker,Daniel L. Rode. Владелец: Daniel L. Rode. Дата публикации: 1979-05-29.

Method of liquid-phase epitaxial growth of lead zirconate titanate single crystals

Номер патента: US20170314156A1. Автор: Vincent FRATELLO. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-11-02.

Method of liquid-phase epitaxial growth of lead zirconate titanate single crystals

Номер патента: US09738990B2. Автор: Vincent FRATELLO. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-08-22.

Nucleation layer growth and lift-up of process for GaN wafer

Номер патента: US20020096674A1. Автор: Seung Park,Hak Cho,Sang Won. Владелец: GAN Semiconductor Inc. Дата публикации: 2002-07-25.

Composite substrate for GaN growth

Номер патента: CN103305908A. Автор: 张国义,孙永健,童玉珍. Владелец: Sino Nitride Semiconductor Co Ltd. Дата публикации: 2013-09-18.

Liquid phase epitaxial growth technique

Номер патента: US4504328A. Автор: Toshio Tanaka,Ryoichi Hirano,Wataru Susaki,Hirofumi Namizaki. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1985-03-12.

DEVICES AND METHODS FOR ELECTROCHEMICAL LIQUID PHASE EPITAXY

Номер патента: US20180195203A1. Автор: Maldonado Stephen,DeMuth Joshua,Fahrenkrug Eli. Владелец: . Дата публикации: 2018-07-12.

Vertical Liquid Phase Epitaxy Equipment

Номер патента: KR100416697B1. Автор: 김채규,김봉철. Владелец: 주식회사 옵토웨이퍼테크. Дата публикации: 2004-02-05.

Liquid phase epitaxial equipment

Номер патента: KR102209707B1. Автор: 박영태. Владелец: 주식회사 아이오지. Дата публикации: 2021-01-29.

Liquid phase epitaxial deposition of monocrystals - of semiconductor matl one component of which is volatile

Номер патента: FR2255102A1. Автор: . Владелец: Thomson CSF SA. Дата публикации: 1975-07-18.

Growing of liquid phase epitaxial layers

Номер патента: CA978452A. Автор: Anthony J. Springthorpe. Владелец: Bell Northern Research Ltd. Дата публикации: 1975-11-25.

Semiconductor formation by lateral diffusion liquid phase epitaxy

Номер патента: KR101554932B1. Автор: 보 리,아드리안 키타이,하오링 유. Владелец: 맥마스터 유니버시티. Дата публикации: 2015-09-22.

LIQUID PHASE EPITAXIAL GROWTH METHOD

Номер патента: IT1025632B. Автор: . Владелец: Philips Nv. Дата публикации: 1978-08-30.

Semiconductor formation by lateral diffusion liquid phase epitaxy

Номер патента: WO2012155273A1. Автор: Bo Li,Adrian Kitai,Haoling YU. Владелец: MCMASTER UNIVERSITY. Дата публикации: 2012-11-22.

Liquid phase epitaxial deposition process.

Номер патента: FR93694E. Автор: Elie Andre,Jean-Marc Le Duc. Владелец: RADIOTECHNIQUE COPRIM RTC. Дата публикации: 1969-05-02.

METHOD OF LIQUID-PHASE EPITAXIAL GROWTH OF LEAD ZIRCONATE TITANATE SINGLE CRYSTALS

Номер патента: US20170314156A1. Автор: Fratello Vincent. Владелец: Quest Integrated, LLC. Дата публикации: 2017-11-02.

Rod assembly for manufacturing large wafers for electronic devices

Номер патента: CA2001934C. Автор: Noboru Terao. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1994-10-18.

Liquid phase epitaxial process for growing semi-insulating GaAs layers

Номер патента: US3994755A. Автор: G. Sanjiv Kamath,Bradley W. Smith. Владелец: Hughes Aircraft Co. Дата публикации: 1976-11-30.

Method for liquid phase epitaxial growth

Номер патента: US4798812A. Автор: Randall B. Wilson. Владелец: Lytel Corp. Дата публикации: 1989-01-17.

Selective uniform liquid phase epitaxial growth

Номер патента: US3647578A. Автор: Allen M Barnett,Harold A Jensen,Virginia F Meikleham. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1972-03-07.

Method of forming a liquid phase epitaxial film on a wafer

Номер патента: GB2028679B. Автор: . Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1982-07-14.

Liquid phase epitaxial film on a wafer

Номер патента: AU4871879A. Автор: Guido Galli,John Edward Davies. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1980-03-06.

Pattern wafer for leds, epitaxial wafer for leds and method of manufacturing the epitaxial wafer for leds

Номер патента: US20160149079A1. Автор: Jun Koike. Владелец: Asahi Kasei E Materials Corp. Дата публикации: 2016-05-26.

Pattern wafer for LEDs, epitaxial wafer for LEDs and method of manufacturing the epitaxial wafer for LEDs

Номер патента: US09660141B2. Автор: Jun Koike. Владелец: Asahi Kasei E Materials Corp. Дата публикации: 2017-05-23.

A wafer for the cvd growth of uniform graphene and method of manufacture thereof

Номер патента: EP4314377A1. Автор: Sebastian Dixon,Robert JAGT,Jaspreet KAINTH. Владелец: Paragraf Ltd. Дата публикации: 2024-02-07.

Wafer for the cvd growth of uniform graphene and method of manufacture thereof

Номер патента: US20240153762A1. Автор: Sebastian Dixon,Robert JAGT,Jaspreet KAINTH. Владелец: Paragraf Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Glass wafers for semiconductor device fabrication

Номер патента: US11948792B2. Автор: Jen-Chieh Lin,Jian-Zhi Jay Zhang,Karl William Koch, III,Ya-Huei Chang. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2024-04-02.

Ultra-thin film formation using gas cluster ion beam processing

Номер патента: WO2010101688A1. Автор: Noel Russell,Edmund Burke,Gregory Herdt,John J. Hautala. Владелец: TEL EPION INC.. Дата публикации: 2010-09-10.

Method for preparing silicon by using gas-phase electroreduction

Номер патента: US20240243270A1. Автор: Jihyun Seo. Владелец: Beilab Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Epitaxial wafer for GaP light-emitting element and GaP light-emitting element

Номер патента: US5811840A. Автор: Atsushi Yoshinaga. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 1998-09-22.

Growth method for gan crystal and gan crystal substrate

Номер патента: EP2623648A1. Автор: Hideki Osada,Shinsuke Fujiwara,Koji Uematsu. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2013-08-07.

Methods for forming charge layers using gas and liquid phase coatings

Номер патента: US20230307235A1. Автор: Taichou Papo CHEN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-28.

Methods for forming charge layers using gas and liquid phase coatings

Номер патента: US11894232B2. Автор: Taichou Papo CHEN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-06.

Methods for forming charge layers using gas and liquid phase coatings

Номер патента: WO2023183157A1. Автор: Taichou Papo CHEN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-09-28.

Preparation of gap-si heterojunction by liquid phase epitaxy

Номер патента: US3810794A. Автор: W Stein,G Antypas,F Rosztoczy,Szeremy S Von. Владелец: Varian Associates Inc. Дата публикации: 1974-05-14.

SEMICONDUCTOR FORMATION BY LATERAL DIFFUSION LIQUID PHASE EPITAXY

Номер патента: US20130119518A1. Автор: Li Bo,Kitai Adrian,Yu Haoling. Владелец: MCMASTER UNIVERSITY. Дата публикации: 2013-05-16.

LIQUID PHASE EPITAXY DOPING AND SILICON PN JUNCTION PHOTOVOLTAIC DEVICES

Номер патента: US20180240671A1. Автор: Magana Ernesto,Fenning David. Владелец: . Дата публикации: 2018-08-23.

CMOS VFET CONTACTS WITH TRENCH SOLID AND LIQUID PHASE EPITAXY

Номер патента: US20190279913A1. Автор: Yamashita Tenko,NIIMI Hiroaki,Mochizuki Shogo,Liu Zuoguang,Gluschenkov Oleg. Владелец: . Дата публикации: 2019-09-12.

Liquid-phase epitaxial growing method for multiple-element semiconductor

Номер патента: JPS577940A. Автор: Hiroshi Nishi,Michiharu Ito,Tomoshi Ueda,Shigeki Hamashima,Hiroshi Takigawa. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1982-01-16.

Boat for liquid-phase epitaxial growth

Номер патента: JPS6169119A. Автор: Yoichi Osawa,洋一 大澤. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1986-04-09.

Liquid-phase epitaxial growing method

Номер патента: JPS5860533A. Автор: Kazuo Nakajima,Yutaka Kishi,Susumu Yamazaki,一雄 中嶋,岸 豊,進 山崎. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1983-04-11.

Multilayer liquid phase epitaxial growing method

Номер патента: JPS5623740A. Автор: Masaru Ihara,Katsuji Seki. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1981-03-06.

Liquid-phase epitaxial crystal growth method

Номер патента: JPS61208216A. Автор: Sadao Fujii,Masayoshi Umeno,正義 梅野,貞男 藤井. Владелец: Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd. Дата публикации: 1986-09-16.

Liquid phase epitaxial growth of 3-5 mixed crystal semiconductor

Номер патента: JPS58194329A. Автор: Akira Usui,彰 碓井. Владелец: Nippon Electric Co Ltd. Дата публикации: 1983-11-12.

Liquid phase epitaxial growth method

Номер патента: JPS59147441A. Автор: Kosaku Yamamoto,Yoshito Nishijima,Hirokazu Fukuda,山本 功作,西嶋 由人,福田 広和. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1984-08-23.

PROCESS FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR STRUCTURES BY LIQUID-PHASE EPITAXY

Номер патента: FR2463824B1. Автор: Bantval Jayant Baliga,Gerald Borst Gidley. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1986-05-02.

Impurity doping method in liquid phase epitaxial growth

Номер патента: JPS5928331A. Автор: Kenshin Taguchi,田口 剣申. Владелец: Nippon Electric Co Ltd. Дата публикации: 1984-02-15.

Liquid-phase epitaxial crystal growth equipment

Номер патента: JPS61111523A. Автор: Katsumi Sato,克己 佐藤. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1986-05-29.

Formation of liquid phase epitaxial growth film

Номер патента: JPS6025230A. Автор: Hideo Kato,Toshio Sakata,Nobutaka Shimizu,信孝 清水,英雄 加藤,坂田 敏夫. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1985-02-08.

Liquid phase epitaxial process

Номер патента: JPS60196935A. Автор: Tetsuro Kato,哲朗 加藤. Владелец: Nippon Electric Co Ltd. Дата публикации: 1985-10-05.

Liquid phase epitaxial growth method

Номер патента: JPS6074431A. Автор: Toshiyuki Tanahashi,俊之 棚橋,Jiro Okazaki,岡崎 二郎. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1985-04-26.

Liquid phase epitaxial growth method

Номер патента: JPS60145608A. Автор: Hikari Sugano,菅野 光. Владелец: Nippon Electric Co Ltd. Дата публикации: 1985-08-01.

Device for liquid phase epitaxial growth

Номер патента: JPS5739541A. Автор: Ryuichi Ueda,Michiharu Ito,Mitsuo Yoshikawa,Hiroshi Takigawa. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1982-03-04.

Liquid phase epitaxial growth

Номер патента: JPS58164223A. Автор: Saburo Nakai,Itsuo Umeo,中井 三郎,「あ」生 逸雄. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1983-09-29.

Liquid phase epitaxial growth of gallium phosphide

Номер патента: JPS57183021A. Автор: Toshihiko Ishii. Владелец: Tottori Sanyo Electric Co Ltd. Дата публикации: 1982-11-11.

Liquid phase epitaxial growth method

Номер патента: JPS5979520A. Автор: Kazuo Nakajima,Toshiyuki Tanahashi,俊之 棚橋,一雄 中嶋. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1984-05-08.

Method for liquid-phase epitaxial growth

Номер патента: JPS5961127A. Автор: Jiro Okazaki,岡崎 二郎. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1984-04-07.

Liquid phase epitaxial growth

Номер патента: JPS5683933A. Автор: Hiroshi Hayashi,Kazuhisa Murata,Takuo Takenaka. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 1981-07-08.

Strain-inducing film formation by liquid-phase epitaxial re-growth

Номер патента: US20070224785A1. Автор: Mark Liu. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2007-09-27.

Method for liquid-phase epitaxial growth

Номер патента: JPS5961125A. Автор: Susumu Yamazaki,Jiro Okazaki,岡崎 二郎,進 山崎. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1984-04-07.

Liquid-phase epitaxial crowth method

Номер патента: JPS60176225A. Автор: Kunio Ito,Takeshi Hamada,Masaru Wada,国雄 伊藤,健 浜田,優 和田. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1985-09-10.

Liquid phase epitaxial growing method

Номер патента: JPS57197823A. Автор: Yutaka Kishi. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1982-12-04.

Liquid-phase epitaxial growing apparatus

Номер патента: JPS61271845A. Автор: Kenji Maruyama,Michiharu Ito,Koji Hirota,研二 丸山,伊藤 道春,廣田 耕治. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1986-12-02.

Liquid-phase epitaxial growth method

Номер патента: JPS57157531A. Автор: Kosaku Yamamoto,Kouji Shinohara,Yoshito Nishijima,Yoshio Kawabata,Hirokazu Fukuda. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1982-09-29.

Liquid phase epitaxially growing method for multiple-element semiconductor

Номер патента: JPS56169334A. Автор: Michiharu Ito,Tomoshi Ueda,Shigeki Hamashima,Hiroshi Takigawa. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1981-12-26.

Method for producing wafer for backside illumination type solid imaging device

Номер патента: US20100062584A1. Автор: Kazunari Kurita,Shuichi Omote. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2010-03-11.

GaN-based devices using (Ga, AL, In)N base layers

Номер патента: US6156581A. Автор: Robert P. Vaudo,Joan M. Redwing,Michael A. Tischler,Duncan W. Brown. Владелец: Advanced Technology Materials Inc. Дата публикации: 2000-12-05.

Liquid phase epitaxial

Номер патента: US5759267A. Автор: Yuji Yoshida,Masahiko Saito,Munehisa Yanagisawa,Susumu Higuchi. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 1998-06-02.

Liquid phase epitaxial growth method for carrying out the same

Номер патента: US5603761A. Автор: Yuji Yoshida,Masahiko Saito,Munehisa Yanagisawa,Susumu Higuchi. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 1997-02-18.

Liquid phase epitaxy apparatus

Номер патента: CA1229291A. Автор: John C. Brice,John L. Page,Peter A.C. Whiffin. Владелец: Peter A.C. Whiffin. Дата публикации: 1987-11-17.

Melt dispensing liquid phase epitaxy boat

Номер патента: CA1201220A. Автор: Mikelis N. Svilans. Владелец: Bookham Technology PLC. Дата публикации: 1986-02-25.

Process for the liquid phase epitaxial deposition of a monocrystalline ternary compound

Номер патента: CA1217410A. Автор: Jean-Louis Benchimol,Maurice Quillec. Владелец: BENCHIMOL JEAN LOUIS. Дата публикации: 1987-02-03.

Apparatus for liquid-phase epitaxial growth

Номер патента: US4033291A. Автор: Makoto Naito,Minoru Akatsuka,Masaharu Toyama,Masaru Kawachi,Akinobu Kasami,Tetuo Sekiwa. Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd. Дата публикации: 1977-07-05.

Holder for liquid phase epitaxial growth

Номер патента: CA1163538A. Автор: Johannes Grandia,William G. McChesney,Harold L. Turk,Hugo A.E. Santini. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1984-03-13.

Method of making nickel zinc ferrite by liquid-phase epitaxial growth

Номер патента: US4057458A. Автор: Kunihiro Maeda,Matsunosuke Kikuchi,Hiromichi Imahasi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1977-11-08.

Liquid-phase-epitaxy deposition method in the manufacture of devices

Номер патента: CA1326624C. Автор: Steven Joy Licht. Владелец: American Telephone and Telegraph Co Inc. Дата публикации: 1994-02-01.

Method for controlling impurities in liquid phase epitaxial growth

Номер патента: US4371420A. Автор: David A. Stevenson. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 1983-02-01.

Holder for liquid phase epitaxial growth

Номер патента: US4350116A. Автор: Johannes Grandia,William G. McChesney,Hugo A. E. Santini,Harold L. Turk. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1982-09-21.

Process and apparatus for liquid phase epitaxy

Номер патента: EP1400614A3. Автор: Masaki Mizutani,Shoji Nishida,Takehito Yoshino. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-07-12.

Conductivity based selective etch for gan devices and applications thereof

Номер патента: CN102782818A. Автор: 张宇,孙乾,荣格·韩. Владелец: YALE UNIVERSITY. Дата публикации: 2012-11-14.

Conductivity based on selective etch for gan devices and applications thereof

Номер патента: US20160153113A1. Автор: Jung Han,Yu Zhang,Qian Sun. Владелец: YALE UNIVERSITY. Дата публикации: 2016-06-02.

MANUFACTURING METHOD FOR GaN WAFER

Номер патента: KR101967716B1. Автор: 김민호,이성남. Владелец: 주식회사 루미스탈. Дата публикации: 2019-04-10.

Buffer layer for GaN-on-Si LED

Номер патента: US8686430B2. Автор: Zhen Chen. Владелец: Toshiba Techno Center Inc. Дата публикации: 2014-04-01.

Conductivity based selective etch for gan devices and applications thereof

Номер патента: EP3923352A1. Автор: Jung Han,Yu Zhang,Qian Sun. Владелец: Yale University Corp. Дата публикации: 2021-12-15.

Conductivity based selective etch for gan devices and applications thereof

Номер патента: EP2529394A1. Автор: Jung Han,Yu Zhang,Qian Sun. Владелец: YALE UNIVERSITY. Дата публикации: 2012-12-05.

SUBSTRATE PROCESSING FOR GaN GROWTH

Номер патента: US20230117013A1. Автор: Michel Khoury,Ria Someshwar. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-04-20.

SUBSTRATE PROCESSING FOR GaN GROWTH

Номер патента: US20230299236A1. Автор: Michel Khoury,Ria Someshwar. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-21.

SUBSTRATE PROCESSING FOR GaN GROWTH

Номер патента: WO2023064156A1. Автор: Michel Khoury,Ria Someshwar. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-04-20.

SUBSTRATE PROCESSING FOR GaN GROWTH

Номер патента: WO2023177550A1. Автор: Michel Khoury,Ria Someshwar. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-09-21.

Substrate processing for gan growth

Номер патента: EP4416756A1. Автор: Michel Khoury,Ria Someshwar. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-21.

Growing method for GaN-based LED epitaxial wafer

Номер патента: CN103730554A. Автор: 王辉,张博,孔俊杰,王怀兵,吴思,傅华,蔡金,陈柏君. Владелец: SUZHOU NANOJOIN PHOTONICS CO Ltd. Дата публикации: 2014-04-16.

EPITAXIAL TRANSPARENT CONDUCTIVE OXIDE ELECTRODES FOR GaN LEDS

Номер патента: US20160218246A1. Автор: Lockett Vera Nicholaevna,Oraw Bradley Steven. Владелец: . Дата публикации: 2016-07-28.

Method for Preparing Composite Substrate Used For GaN Growth

Номер патента: US20140357053A1. Автор: Sun Yongjian,Zhang Guoyi,Tong Yuzhen. Владелец: Sino Nitride Semiconductor Co., LTD. Дата публикации: 2014-12-04.

REFLECTIVE CONTACT FOR GaN-BASED LEDS

Номер патента: US20160284957A1. Автор: SATO Taisuke. Владелец: . Дата публикации: 2016-09-29.

SUBSTRATE PROCESSING FOR GaN GROWTH

Номер патента: WO2023064157A1. Автор: Michel Khoury,Ria Someshwar. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-04-20.

Laser spike annealing for GaN LEDs

Номер патента: TW201143131A. Автор: Yun Wang,Andrew M Hawryluk. Владелец: Ultratech Inc. Дата публикации: 2011-12-01.

Method for preparing a light-emitting device using gas cluster ion beam processing

Номер патента: US20110312106A1. Автор: John J. Hautala. Владелец: TEL Epion Inc. Дата публикации: 2011-12-22.

Sidewall spacer patterning method using gas cluster ion beam

Номер патента: US20160222521A1. Автор: Noel Russell,Soo Doo Chae,Youngdon Chang,Il-seok Song. Владелец: TEL Epion Inc. Дата публикации: 2016-08-04.

Sidewall spacer patterning method using gas cluster ion beam

Номер патента: US09500946B2. Автор: Noel Russell,Soo Doo Chae,Youngdon Chang,Il-seok Song. Владелец: TEL Epion Inc. Дата публикации: 2016-11-22.

Leadless electronic packages for GAN devices

Номер патента: US09929079B2. Автор: Daniel Marvin Kinzer. Владелец: Navitas Semiconductor Inc. Дата публикации: 2018-03-27.

Leadless electronic packages for GaN devices

Номер патента: US09640471B2. Автор: Daniel M. Kinzer. Владелец: Navitas Semiconductor Inc. Дата публикации: 2017-05-02.

Semiconductor wafer for semiconductor components and production method

Номер патента: US20090051013A1. Автор: Hans-Joachim Schulze. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AUSTRIA AG. Дата публикации: 2009-02-26.

Semiconductor wafer for semiconductor components and production method

Номер патента: US20110062558A1. Автор: Hans-Joachim Schulze. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AUSTRIA AG. Дата публикации: 2011-03-17.

Controlling impurities in a wafer for an electronic circuit

Номер патента: WO2012136999A1. Автор: Cornelis DE GROOT,Peter Ashburn,Peter WILSHAW,Kanad Mallik,Doug JORDAN. Владелец: ISIS INNOVATION LIMITED. Дата публикации: 2012-10-11.

Processing a wafer for an electronic circuit

Номер патента: EP2695184A1. Автор: Peter WILSHAW,Kanad Mallik,Doug JORDAN. Владелец: Oxford University Innovation Ltd. Дата публикации: 2014-02-12.

Methods relating to the reconstruction of semiconductor wafers for wafer-level processing

Номер патента: US20060240582A1. Автор: Yong Tan,Wuu Tay. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-10-26.

Silicon wafer for an electronic component and method for the production thereof

Номер патента: US11915922B2. Автор: Stefan Reber,Kai Schillinger,Frank Siebke. Владелец: NexWafe GmbH. Дата публикации: 2024-02-27.

Methods of aligning a semiconductor wafer for singulation

Номер патента: US20220172994A1. Автор: Michael J. Seddon,Takashi Noma. Владелец: Semiconductor Components Industries LLC. Дата публикации: 2022-06-02.

Methods of aligning a semiconductor wafer for singulation

Номер патента: US20210028064A1. Автор: Michael J. Seddon,Takashi Noma. Владелец: Semiconductor Components Industries LLC. Дата публикации: 2021-01-28.

Methods of aligning a semiconductor wafer for singulation

Номер патента: US20200243392A1. Автор: Michael J. Seddon,Takashi Noma. Владелец: Semiconductor Components Industries LLC. Дата публикации: 2020-07-30.

Liquid-phase epitaxial film of (110) garnet

Номер патента: JPS5694610A. Автор: Hiroshi Makino,Taketoshi Hibiya,Hiroko Honda. Владелец: Nippon Electric Co Ltd. Дата публикации: 1981-07-31.

Method for reducing magnetism resistant force of liquid-phase epitaxial garnet film

Номер патента: JPS5646518A. Автор: Taketoshi Hibiya. Владелец: Nippon Electric Co Ltd. Дата публикации: 1981-04-27.

Liquid phase epitaxial growth apparatus

Номер патента: JPS58215016A. Автор: Toshio Sakata,坂田 敏夫. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1983-12-14.

Fast Annealing for GaN LEDs

Номер патента: US20110278587A1. Автор: Yun Wang,Andrew M. Hawryluk. Владелец: Ultratech Inc. Дата публикации: 2011-11-17.

Lift-off process for gan films formed on sic substrates and devices fabricated using the method

Номер патента: CN1950957A. Автор: 中村修二,S·迪巴尔司. Владелец: Cree Lighting Co. Дата публикации: 2007-04-18.

Lift-off process for GaN films formed on SiC substrates

Номер патента: EP2410581B1. Автор: Shuji Nakamura,Steven DenBaars. Владелец: Cree Inc. Дата публикации: 2020-06-10.

Lift-off process for gan films formed on sic substrates and devices fabricated using the method

Номер патента: CA2564957A1. Автор: Shuji Nakamura,Steven DenBaars. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-11-24.

Process for making wafers for ion implantation monitoring

Номер патента: US20030008421A1. Автор: Larry Shive. Владелец: SunEdison Inc. Дата публикации: 2003-01-09.

Silicon wafer for probe bonding and probe bonding method using thereof

Номер патента: WO2005122240A1. Автор: Jung-Hoon Lee. Владелец: Phicom Corporation. Дата публикации: 2005-12-22.

Epitaxial wafer for hetero-junction bipolar transistor and hetero-junction bipolar transistor

Номер патента: US10312324B2. Автор: Takeshi Meguro,Shinjiro FUJIO. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2019-06-04.

Epitaxial wafer for heterojunction bipolar transistor and heterojunction bipolar transistor

Номер патента: US20170200816A1. Автор: Takeshi Meguro,Shinjiro FUJIO. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-13.

Epitaxial wafer for heterojunction bipolar transistor and heterojunction bipolar transistor

Номер патента: US9865715B2. Автор: Takeshi Meguro,Shinjiro FUJIO. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Epitaxial wafer for hetero-junction bipolar transistor and hetero-junction bipolar transistor

Номер патента: US20180061948A1. Автор: Takeshi Meguro,Shinjiro FUJIO. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-01.

Plasma etching method using gas molecule containing sulfur atom

Номер патента: EP3813097A1. Автор: Yoshinao Takahashi,Korehito Kato,Yoshihiko IKETANI,Mitsuharu SHIMODA. Владелец: Kanto Denka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-28.

Method of forming memory cell using gas cluster ion beams

Номер патента: US20120235108A1. Автор: John Smythe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-09-20.

Method of forming memory cell using gas cluster ion beams

Номер патента: EP2393957A1. Автор: John Smythe. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2011-12-14.

Method of forming memory cell using gas cluster ion beams

Номер патента: WO2010090900A1. Автор: John Smythe. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2010-08-12.

Method of forming memory cell using gas cluster ion beams

Номер патента: US20100288994A1. Автор: John Smythe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-11-18.

Scanning transmission electron microscope using gas amplification

Номер патента: EP2182546B1. Автор: William Knowles,Milos Toth. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2011-10-26.

Laser based on a dielectric resonator with gas or plasma at population inversion

Номер патента: WO2024166102A1. Автор: Tal CARMON,Raanan GAD,Sile Nic Chormaic. Владелец: Ramot at Tel-Aviv University Ltd.. Дата публикации: 2024-08-15.

Method of forming memory cell using gas cluster ion beams

Номер патента: US20100193780A1. Автор: John Smythe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-08-05.

A metal hydride battery with added hydrogen gas, oxygen gas or hydrogen peroxide

Номер патента: AU2022256203B2. Автор: Dag NORÉUS. Владелец: Nilar International AB. Дата публикации: 2024-06-13.

Improvements in or relating to gas or vapour filled electric discharge devices

Номер патента: GB431889A. Автор: . Владелец: Telefunken Gesellschaft fuer Drahtlose Telegraphie mbH. Дата публикации: 1935-07-17.

Method and apparatus for producing readout from gas or liquid chromatograph

Номер патента: GB1306534A. Автор: . Владелец: Franklin Gno Corp. Дата публикации: 1973-02-14.

Portable industrial x-ray system conveniently field-configurable for gas or liquid cooling

Номер патента: US20060029185A1. Автор: Gerald Baur,Donald Sharpe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-02-09.

A plant for extracting substances in gas or mist form from a flow of gas

Номер патента: WO1992014106A1. Автор: Göran ALMLÖF,Folke Lilliehöök. Владелец: BAL AB. Дата публикации: 1992-08-20.

Improved window for gan led

Номер патента: CA2412416C. Автор: John Chen,Bingwen Liang,Robert Shih. Владелец: Lumei Optoelectronics Corp. Дата публикации: 2006-07-04.

Improved window for gan led

Номер патента: CA2412416A1. Автор: John Chen,Bingwen Liang,Robert Shih. Владелец: Dalian Meiming Epitaxy Technology Co., Ltd.. Дата публикации: 2002-01-31.

Method of manufacturing semiconductor device using gas blowing agent

Номер патента: US20230087718A1. Автор: Hwail Jin,Myoungchul Eum,Cheonil Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-23.

Asymmetrical plug technique for GaN devices

Номер патента: US11776815B2. Автор: Jamal Ramdani,Alexey Kudymov,Linlin Liu. Владелец: Power Integrations Inc. Дата публикации: 2023-10-03.

Asymmetrical plug technique for GaN devices

Номер патента: US10665463B2. Автор: Jamal Ramdani,Alexey Kudymov,Linlin Liu. Владелец: Power Integrations Inc. Дата публикации: 2020-05-26.

Asymmetrical plug technique for gan devices

Номер патента: US20190139776A1. Автор: Jamal Ramdani,Alexey Kudymov,Linlin Liu. Владелец: Power Integrations Inc. Дата публикации: 2019-05-09.

Asymmetrical plug technique for gan devices

Номер патента: US20200258749A1. Автор: Jamal Ramdani,Alexey Kudymov,Linlin Liu. Владелец: Power Integrations Inc. Дата публикации: 2020-08-13.

Asymmetrical plug technique for gan devices

Номер патента: US20220406607A1. Автор: Jamal Ramdani,Alexey Kudymov,Linlin Liu. Владелец: Power Integrations Inc. Дата публикации: 2022-12-22.

Crucible for multi-bath liquid phase epitaxy

Номер патента: US4779561A. Автор: Marc Mahieu,Francois Fromage. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 1988-10-25.

Liquid phase epitaxy method and apparatus

Номер патента: CA1160762A. Автор: Masaru Kazumura,Haruyoshi Yamanaka. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1984-01-17.

Liquid phase epitaxy

Номер патента: US4594128A. Автор: Melvin S. Cook. Владелец: Individual. Дата публикации: 1986-06-10.

Liquid phase epitaxy

Номер патента: US20030010277A1. Автор: Yuen Chan,Xiangjun Mao. Владелец: NTU Ventures Pte Ltd. Дата публикации: 2003-01-16.

Liquid phase epitaxial growth

Номер патента: JPS57198622A. Автор: Susumu Yamazaki. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1982-12-06.

Boat for use in a liquid phase epitaxy growth apparatus

Номер патента: GB2074469A. Автор: . Владелец: Philips Gloeilampenfabrieken NV. Дата публикации: 1981-11-04.

Method of manufacturing semiconductor structures by liquid phase epitaxy

Номер патента: GB2064977A. Автор: . Владелец: Philips Gloeilampenfabrieken NV. Дата публикации: 1981-06-24.

High pressure liquid phase epitaxy reactor chamber with direct see through capability

Номер патента: US5375557A. Автор: Jeffrey M. Anderson. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1994-12-27.

Liquid phase epitaxial growth for compound semiconductor

Номер патента: JPS56131926A. Автор: Yutaka Kishi. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1981-10-15.

Reactor for liquid phase epitaxy method

Номер патента: AU2003277846A1. Автор: Jorg Wedermann. Владелец: Vishay Semiconductor GmbH. Дата публикации: 2004-04-30.

Vessel for the liquid-phase epitaxy of semiconductor films

Номер патента: DE3665613D1. Автор: Bernard Societe Civile Latorre,Guy Societe Civile S P Martin. Владелец: Electronique & Physique. Дата публикации: 1989-10-19.

Method of liquid phase epitaxial growth and device therefor

Номер патента: JPS5629320A. Автор: Morio Inoue. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1981-03-24.

Liquid-phase epitaxial device

Номер патента: JPS59156995A. Автор: Toshio Sakata,坂田 敏夫. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1984-09-06.

Liquid-phase epitaxial growth device

Номер патента: JPS6071595A. Автор: Minoru Kubo,実 久保,Masato Ishino,Yoichi Sasai,正人 石野,佐々井 洋一. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1985-04-23.

Liquid phase epitaxial growing method

Номер патента: JPS5957989A. Автор: Ichiro Ushijima,Toshihiro Kusuki,Shoji Isozumi,五十棲 祥二,楠木 敏弘,牛嶋 一郎. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1984-04-03.

Liquid phase epitaxial growth method

Номер патента: JPS60161397A. Автор: Koji Kobashi,Hisanori Fujita,Toshio Ishiwatari,尚徳 藤田,小橋 康二,石渡 俊男. Владелец: Mitsubishi Kasei Corp. Дата публикации: 1985-08-23.

LIQUID PHASE EPITAXY DEPOSITION METHOD OF TERNARY COMPOUND

Номер патента: FR2519032A1. Автор: . Владелец: BENCHIMOL JEAN LOUIS. Дата публикации: 1983-07-01.

Liquid phase epitaxially growing method

Номер патента: JPS5768020A. Автор: Kazutoshi Konno,Tsuneo Furukawa. Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd. Дата публикации: 1982-04-26.

Growth control method and system for growing silicon carbide crystal based on liquid phase epitaxial method

Номер патента: CN112410870B. Автор: 马远,薛卫明. Владелец: Clc Semiconductor Co ltd. Дата публикации: 2022-02-01.

Liquid phase epitaxial growth of semiconductor layer - with slow rotation of substrate for improved crystal quality

Номер патента: FR2145830A5. Автор: . Владелец: Radiotechnique Compelec RTC SA. Дата публикации: 1973-02-23.

A method of liquid phase epitaxial growth

Номер патента: EP0093569A1. Автор: Shoji Isozumi,Toshihiro Kusunoki. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1983-11-09.

Vertical liquid phase epitaxial growth device

Номер патента: JPS5891099A. Автор: Mikio Tanabe,幹雄 田辺,Kazuo Hiura,Tatsuhiko Kokado,日浦 和夫,古門 竜彦. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 1983-05-30.

Liquid phase epitaxial growth

Номер патента: JPS5728325A. Автор: Katsuto Shima. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1982-02-16.

Liquid phase epitaxial growth

Номер патента: JPS56105628A. Автор: Toshihiko Suzuki,Nobuyuki Izawa,Kinji Hoshi. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1981-08-22.

A liquid-phase epitaxial growth method of a IIIb-Vb group compound

Номер патента: EP0151000A2. Автор: Hisanori Fujita,Toshio Ishiwatari,Yasuji Kohashi. Владелец: Mitsubishi Kasei Polytec Co. Дата публикации: 1985-08-07.

Method for liquid phase epitaxial growth of monocrystalline silicon carbide

Номер патента: EP2657376B1. Автор: Tsuyoshi Matsumoto,Satoru Nogami,Satoshi TORIMI. Владелец: Toyo Tanso Co Ltd. Дата публикации: 2019-04-17.

Growing method for liquid phase epitaxial crystal

Номер патента: JPS57211726A. Автор: Michiharu Ito,Tomoshi Ueda,Shigeki Hamashima,Mitsuo Yoshikawa,Hiroshi Takigawa. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1982-12-25.

A liquid-phase epitaxial growth method of a iiib-vb group compound

Номер патента: DE3560913D1. Автор: Hisanori Fujita,Toshio Ishiwatari,Yasuji Kohashi. Владелец: Mitsubishi Kasei Corp. Дата публикации: 1987-12-10.

Liquid phase epitaxial growing method

Номер патента: JPS58131737A. Автор: Kenji Maruyama,Michiharu Ito,Mitsuo Yoshikawa,研二 丸山,伊藤 道春,吉河 満男. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1983-08-05.

Method for liquid-phase epitaxial growth and protecting substrate with use thereof

Номер патента: JPS60195089A. Автор: Hiroshi Nakagome,弘 中込. Владелец: Nippon Telegraph and Telephone Corp. Дата публикации: 1985-10-03.

Apparatus for liquid-phase epitaxial growth

Номер патента: JPS6065790A. Автор: Minoru Kubo,実 久保,Yoichi Sasai,佐々井 洋一. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1985-04-15.

Method for gaas liquid-phase epitaxial growth

Номер патента: JPS55138230A. Автор: Fumio Matsumoto. Владелец: Sanyo Electric Co Ltd. Дата публикации: 1980-10-28.

Double-crucible liquid phase epitaxial growth device

Номер патента: CN114752997B. Автор: 宋波,韩杰才,王先杰,张晗旭,朱森寅. Владелец: Harbin Institute of Technology. Дата публикации: 2023-06-16.

Liquid-phase epitaxial magnetic garnet single crystal

Номер патента: JPS60145990A. Автор: Taketoshi Hibiya,Kenichi Shiraki,健一 白木,孟俊 日比谷. Владелец: Tohoku Metal Industries Ltd. Дата публикации: 1985-08-01.

Liquid phase epitaxial growth

Номер патента: JPS5816525A. Автор: Yukio Watanabe,幸雄 渡辺,Naoto Mogi,茂木 直人. Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd. Дата публикации: 1983-01-31.

Selective liquid phase epitaxial growth process

Номер патента: US3715245A. Автор: A Barnett,S Galginaitis. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1973-02-06.

Liquid phase epitaxial growth

Номер патента: JPS59169998A. Автор: Masaaki Nidou,正明 仁道. Владелец: Nippon Electric Co Ltd. Дата публикации: 1984-09-26.

Liquid phase epitaxial growth

Номер патента: JPS5788722A. Автор: Yutaka Kishi. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1982-06-02.

Method for liquid-phase epitaxial growth

Номер патента: JPS55163836A. Автор: Toshihiro Kusuki. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1980-12-20.

Method for liquid phase epitaxial growth

Номер патента: JPS57103313A. Автор: Hiroshi Takano,Yasuhiko Kasama,Masaaki Sakuta. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 1982-06-26.

Boat for use in a liquid phase epitaxy growth apparatus

Номер патента: GB2074469B. Автор: . Владелец: Philips Gloeilampenfabrieken NV. Дата публикации: 1983-12-21.

Method for liquid-phase epitaxial growth

Номер патента: JPS57124422A. Автор: Hideaki Nishizawa. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 1982-08-03.

Method and system for fabricating two-dimensional material by using gas-phase method

Номер патента: US20240092702A1. Автор: Zhiguo Du,Shubin Yang. Владелец: BEIHANG UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-03-21.

Liquid phase epitaxy device

Номер патента: JPH01126299A. Автор: Katsuji Horikawa,勝司 堀川. Владелец: Nippon Chemi Con Corp. Дата публикации: 1989-05-18.

A method for gan vertical microcavity surface emitting laser (vcsel)

Номер патента: US20170237234A1. Автор: Jung Han,Cheng Zhang. Владелец: YALE UNIVERSITY. Дата публикации: 2017-08-17.

For GaN vertical microcavity surface-emitting lasers(VCSEL)Method

Номер патента: CN107078190A. Автор: 张�成,韩重. Владелец: YALE UNIVERSITY. Дата публикации: 2017-08-18.

A METHOD FOR GaN VERTICAL MICROCAVITY SURFACE EMITTING LASER (VCSEL)

Номер патента: EP3201952A1. Автор: Jung Han,Cheng Zhang. Владелец: YALE UNIVERSITY. Дата публикации: 2017-08-09.

FORMING IRON NITRIDE HARD MAGNETIC MATERIALS USING CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OR LIQUID PHASE EPITAXY

Номер патента: US20170226635A1. Автор: Jiang Yanfeng,Wang Jian-Ping. Владелец: . Дата публикации: 2017-08-10.

Forming iron nitride hard magnetic materials using chemical vapor deposition or liquid phase epitaxy

Номер патента: TW201612925A. Автор: Jian-Ping Wang,Yan-feng JIANG. Владелец: Univ Minnesota. Дата публикации: 2016-04-01.

Method and structure for reduced substrate loss for gan devices

Номер патента: US20240222365A1. Автор: Ebenezer Eshun. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2024-07-04.

Defect-tolerant layout and packaging for GaN power devices

Номер патента: US10892254B2. Автор: Yue Fu,Yan-Fei Liu,Zhanming Li,Wai Tung Ng,Guanhou Luo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-01-12.

LOW-LEAKAGE REGROWN GAN P-N JUNCTIONS FOR GAN POWER DEVICES

Номер патента: US20210104603A1. Автор: Fu Kai,Fu Houqiang,Zhao Yuji. Владелец: . Дата публикации: 2021-04-08.

Low-leakage regrown GaN p-n junctions for GaN power devices

Номер патента: US11626483B2. Автор: Kai Fu,Houqiang Fu,Yuji Zhao. Владелец: Arizona Board of Regents of ASU. Дата публикации: 2023-04-11.

Article holders that use gas vortices to hold an article in a desired position

Номер патента: US20030178146A1. Автор: Sam Kao. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-09-25.

OHMIC METAL STRUCTURE FOR GaN DEVICE

Номер патента: US20190131244A1. Автор: HUA Chang-Hwang,LIEN Yi-Wei. Владелец: . Дата публикации: 2019-05-02.

Pnictide Buffer Structures and Devices for GaN Base Applications

Номер патента: US20190139761A1. Автор: Clark Andrew,LEBBY MICHAEL,Dargis Rytis,Pelzel Rodney. Владелец: . Дата публикации: 2019-05-09.

Leadless electronic packages for gan devices

Номер патента: US20170194237A1. Автор: Daniel Marvin Kinzer. Владелец: Navitas Semiconductor Inc. Дата публикации: 2017-07-06.

ASYMMETRICAL PLUG TECHNIQUE FOR GAN DEVICES

Номер патента: US20200258749A1. Автор: Ramdani Jamal,Liu LinLin,Kudymov Alexey. Владелец: . Дата публикации: 2020-08-13.

Defect-Tolerant Layout and Packaging for GaN Power Devices

Номер патента: US20190378822A1. Автор: Liu Yan-Fei,Li Zhanming,FU Yue,Ng Wai Tung,Luo Guanhou. Владелец: . Дата публикации: 2019-12-12.

Diamond based substrate for gan devices

Номер патента: GB0505752D0. Автор: . Владелец: Element Six Ltd. Дата публикации: 2005-04-27.

Semiconductor wafer temperature measurement and control thereof using gas temperature measurement

Номер патента: US5992046A. Автор: Peter Weigand,Naohiro Shoda. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1999-11-30.

Technique for GaN Epitaxy on Insulating Substrates

Номер патента: US20220246423A1. Автор: Scott Robert Summerfelt,Nicholas S. DELLAS, JR.. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2022-08-04.

Stress management layer for gan hemt

Номер патента: WO2023002466A3. Автор: Oleg Laboutin,Chen-Kai Kao,Felix KAESS. Владелец: IQE plc. Дата публикации: 2023-04-13.

Stress management layer for gan hemt

Номер патента: EP4374418A2. Автор: Oleg Laboutin,Chen-Kai Kao,Felix KAESS. Владелец: IQE plc. Дата публикации: 2024-05-29.

Stress management layer for gan hemt

Номер патента: WO2023002466A2. Автор: Oleg Laboutin,Chen-Kai Kao,Felix KAESS. Владелец: IQE plc. Дата публикации: 2023-01-26.

Surface profile adjustment using gas cluster ion beam processing

Номер патента: US20130075366A1. Автор: John J. Hautala. Владелец: TEL Epion Inc. Дата публикации: 2013-03-28.

Method of surface profile correction using gas cluster ion beam

Номер патента: US09875947B2. Автор: Noel Russell,Soo Doo Chae,Vincent Gizzo,Joshua LaRose,Nicholas Joy. Владелец: TEL Epion Inc. Дата публикации: 2018-01-23.

Near junction cooling for GaN devices

Номер патента: US09496197B1. Автор: Keisuke Shinohara,Miroslav Micovic,Andrea Corrion,Alexandros D. Margomenos. Владелец: HRL LABORATORIES LLC. Дата публикации: 2016-11-15.

Copper chromite catalyst and its use in preparation of furfuryl alcohol from furfural by batch or liquid phase process

Номер патента: ZA801034B. Автор: H Fineberg,L Frainier. Владелец: Ashland Oil Inc. Дата публикации: 1981-03-25.

Copper chromite catalyst and its use in preparation of furfuryl alcohol from furfural by batch or liquid phase process

Номер патента: GB2047219B. Автор: . Владелец: Ashland Oil Inc. Дата публикации: 1983-03-09.

Improvements in and connected with the catalytic treatment of carbonaceous materials in gaseous or liquid phase

Номер патента: GB394506A. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 1933-06-29.

Process for the treatment of organic contaminants in solid or liquid phase wastes

Номер патента: EP0307242A1. Автор: Pauline Macura Brown,R.D. Samuel Stevens. Владелец: Solarchem Enterprises Inc. Дата публикации: 1989-03-15.

Crystal growing device for liquid phase epitaxy

Номер патента: JPH01179785A. Автор: Hiroshi Yamamoto,Tatsuya Harada,洋 山本,達也 原田,Norihiro Okada,式博 岡田. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 1989-07-17.

Preparation method of transition metal-based SURMAOFs based on liquid phase epitaxy method

Номер патента: CN112920416A. Автор: 梁竞,刘进轩. Владелец: Dalian University of Technology. Дата публикации: 2021-06-08.

Field plate structures for gan high voltage transistors

Номер патента: US20220384586A1. Автор: Daniel M. Kinzer,Pil Sung Park. Владелец: Navitas Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2022-12-01.

Transformer-based drive for gan devices

Номер патента: US20240128967A1. Автор: Kennith Kin Leong,Thomas Ferianz,Derek Bernardon. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AUSTRIA AG. Дата публикации: 2024-04-18.

Transformer-based drive for gan devices

Номер патента: EP4358407A1. Автор: Kennith Kin Leong,Thomas Ferianz,Derek Bernardon. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AUSTRIA AG. Дата публикации: 2024-04-24.

Bootstrap capacitor charging circuit for GaN devices

Номер патента: US09960620B2. Автор: Daniel M. Kinzer,Santosh Sharma,Ju Jason Zhang. Владелец: Navitas Semiconductor Inc. Дата публикации: 2018-05-01.

Integrated bias supply, reference and bias current circuits for GaN devices

Номер патента: US09647476B2. Автор: Daniel M. Kinzer,Santosh Sharma,Ju Jason Zhang. Владелец: Navitas Semiconductor Inc. Дата публикации: 2017-05-09.

Level shift and inverter circuits for GaN devices

Номер патента: US09537338B2. Автор: Daniel M. Kinzer,Santosh Sharma,Ju Jason Zhang. Владелец: Navitas Semiconductor Inc. Дата публикации: 2017-01-03.

Pulsed level shift and inverter circuits for GaN devices

Номер патента: US11862996B2. Автор: Daniel M. Kinzer,Santosh Sharma,Ju Jason Zhang. Владелец: Navitas Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2024-01-02.

High accuracy current sensing for GaN power switching devices

Номер патента: US11831303B2. Автор: XueChao Liu,Ruoyu Hou. Владелец: GaN Systems Inc. Дата публикации: 2023-11-28.

Leakage barrier for GaN based HEMT active device

Номер патента: US8809137B2. Автор: Michael Wojtowicz,Rajinder Randy Sandhu,Michael Edward Barsky. Владелец: Northrop Grumman Systems Corp. Дата публикации: 2014-08-19.

Interdigitated conductive lead frame or laminate lead frame for gan die

Номер патента: WO2007081806A2. Автор: Kunzhong Hu,Chuan Cheah. Владелец: INTERNATIONAL RECTIFIER CORPORATION. Дата публикации: 2007-07-19.

GaN circuit drivers for GaN circuit loads

Номер патента: US09716395B2. Автор: Daniel M. Kinzer,Santosh Sharma,Ju Jason Zhang. Владелец: Navitas Semiconductor Inc. Дата публикации: 2017-07-25.

GaN CIRCUIT DRIVERS FOR GaN CIRCUIT LOADS

Номер патента: US20170324263A1. Автор: Sharma Santosh,Kinzer Daniel Marvin,Zhang Ju. Владелец: . Дата публикации: 2017-11-09.

GaN CIRCUIT DRIVERS FOR GaN CIRCUIT LOADS

Номер патента: US20190386503A1. Автор: Kinzer Daniel M.,Sharma Santosh,Zhang Ju. Владелец: NAVITAS SEMICONDUCTOR, INC.. Дата публикации: 2019-12-19.

Gate stack design for GaN E-mode transistor performance

Номер патента: CN109314135B. Автор: H·W·田,S·达斯古普塔,M·拉多萨夫列维奇,S·H·宋,S·K·加德纳. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2023-03-10.

Top side cooling for GaN power device

Номер патента: US09881862B1. Автор: Klaus Schiess,Ralf Otremba. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AUSTRIA AG. Дата публикации: 2018-01-30.

Integrated ESD Protection Circuit for GaN Based Device

Номер патента: US20180026029A1. Автор: Wong King-Yuen,TSAI Chun Lin,Yu Jiun-Lei,Lin Ming-Cheng,LIN Yu-Syuan. Владелец: . Дата публикации: 2018-01-25.

Integrated bias supply, reference and bias current circuits for gan devices

Номер патента: US20160079853A1. Автор: Daniel M. Kinzer,Santosh Sharma,Ju Jason Zhang. Владелец: Navitas Semiconductor Inc. Дата публикации: 2016-03-17.

LEVEL SHIFT AND INVERTER CIRCUITS FOR GAN DEVICES

Номер патента: US20160079978A1. Автор: Kinzer Daniel M.,Sharma Santosh,Zhang Ju Jason. Владелец: . Дата публикации: 2016-03-17.

THERMALLY ENHANCED ELECTRONIC PACKAGES FOR GAN POWER INTEGRATED CIRCUITS

Номер патента: US20220102251A1. Автор: Zhang Jason,Kinzer Daniel M.,Ribarich Thomas. Владелец: Navitas Semiconductor Limited. Дата публикации: 2022-03-31.

PULSED LEVEL SHIFT AND INVERTER CIRCUITS FOR GAN DEVICES

Номер патента: US20200099241A1. Автор: Kinzer Daniel M.,Sharma Santosh,Zhang Ju Jason. Владелец: NAVITAS SEMICONDUCTOR, INC.. Дата публикации: 2020-03-26.

HIGH ACCURACY CURRENT SENSING FOR GaN POWER SWITCHING DEVICES

Номер патента: US20220182048A1. Автор: Liu XueChao,Hou Ruoyu. Владелец: . Дата публикации: 2022-06-09.

Passivation Structure For GaN Field Effect Transistor

Номер патента: US20190148498A1. Автор: Lee Eric,WOHLMUTH Walter Tony,YANG YU-KUO,LIN Che-Kai,CHO Forrest. Владелец: . Дата публикации: 2019-05-16.

BOOTSTRAP CAPACITOR CHARGING CIRCUIT FOR GAN DEVICES

Номер патента: US20190148961A1. Автор: Sharma Santosh,Zhang Ju Jason,Kinzer Daniel Marvin. Владелец: . Дата публикации: 2019-05-16.

BOOTSTRAP CAPACITOR OVER-VOLTAGE MANAGEMENT CIRCUIT FOR GaN TRANSISTOR BASED POWER CONVERTERS

Номер патента: US20180159529A1. Автор: De Rooij Michael A.,Reusch David C.,Glaser John. Владелец: . Дата публикации: 2018-06-07.

GATE STACK DESIGN FOR GAN E-MODE TRANSISTOR PERFORMANCE

Номер патента: US20190221660A1. Автор: Then Han Wui,Radosavljevic Marko,DASGUPTA Sansaptak,SUNG Seung Hoon,GARDNER Sanaz K.. Владелец: Intel Corporation. Дата публикации: 2019-07-18.

LEADLESS ELECTRONIC PACKAGES FOR GAN DEVICES

Номер патента: US20160247751A1. Автор: Kinzer Daniel M.. Владелец: NAVITAS SEMICONDUCTOR INC.. Дата публикации: 2016-08-25.

CASCODE STRUCTURES FOR GaN HEMTs

Номер патента: US20140361341A1. Автор: Sriram Saptharishi,Radulescu Fabian,Sheppard Scott,Alcorn Terry. Владелец: . Дата публикации: 2014-12-11.

Composite Substrate Used For GaN Growth

Номер патента: US20140377507A1. Автор: Sun Yongjian,Zhang Guoyi,Tong Yuzhen. Владелец: . Дата публикации: 2014-12-25.

Pulsed level shift and inverter circuits for gan devices

Номер патента: US20160336926A1. Автор: Daniel M. Kinzer,Santosh Sharma,Ju Jason Zhang. Владелец: Navitas Semiconductor Inc. Дата публикации: 2016-11-17.

GATE STACK DESIGN FOR GAN E-MODE TRANSISTOR PERFORMANCE

Номер патента: US20200403092A1. Автор: Then Han Wui,Radosavljevic Marko,DASGUPTA Sansaptak,SUNG Seung Hoon,GARDNER Sanaz K.. Владелец: Intel Corporation. Дата публикации: 2020-12-24.

Cascode structures for GaN HEMTs

Номер патента: US9679981B2. Автор: Saptharishi Sriram,Scott Sheppard,Fabian Radulescu,Terry Alcorn. Владелец: Cree Inc. Дата публикации: 2017-06-13.

Cascode structures for gan hemts

Номер патента: WO2014200643A1. Автор: Saptharishi Sriram,Scott Sheppard,Fabian Radulescu,Terry Alcorn. Владелец: CREE, INC.. Дата публикации: 2014-12-18.

Bootstrap capacitor charging circuit for GaN devices

Номер патента: US10333327B2. Автор: Daniel Marvin Kinzer,Santosh Sharma,Ju Jason Zhang. Владелец: Navitas Semiconductor Inc. Дата публикации: 2019-06-25.

Leakage barrier for GaN based HEMT active device

Номер патента: US8026132B2. Автор: Michael Wojtowicz,Rajinder Randy Sandhu,Michael Edward Barsky. Владелец: Northrop Grumman Systems Corp. Дата публикации: 2011-09-27.

Regrown Schottky structures for GAN HEMT devices

Номер патента: US8778747B2. Автор: Edward A. Beam, III. Владелец: Triquint Semiconductor Inc. Дата публикации: 2014-07-15.

Pulsed level shift and inverter circuits for GaN devices

Номер патента: US11404884B2. Автор: Daniel M. Kinzer,Santosh Sharma,Ju Jason Zhang. Владелец: Navitas Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2022-08-02.

STACKED CLIP DESIGN FOR GaN HALF BRIDGE IPM

Номер патента: US20240120308A1. Автор: Makoto Shibuya,Kwang-Soo Kim,Woochan Kim,Vivek Arora. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2024-04-11.

Integrated failsafe pulldown circuit for gan switch

Номер патента: EP3745466B1. Автор: Kennith Kin Leong,Thomas Ferianz. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AUSTRIA AG. Дата публикации: 2024-09-11.

BANDWIDTH LIMITING METHODS FOR GAN POWER TRANSISTORS

Номер патента: US20150349727A1. Автор: Wood Simon,Flowers Mitchell,Milligan James W.. Владелец: CREE, INC.. Дата публикации: 2015-12-03.

Bandwidth limiting methods for GaN power transistors

Номер патента: US09641163B2. Автор: Simon Wood,James W. Milligan,Mitchell Flowers. Владелец: Cree Inc. Дата публикации: 2017-05-02.

GAS-DETECTING APPARATUS INCLUDING GAS SENSOR AND METHOD OF DETECTING HYDROGEN USING GAS SENSOR

Номер патента: US20170307556A1. Автор: Muraoka Shunsaku,WEI Zhiqiang,Fujii Satoru,Homma Kazunari. Владелец: . Дата публикации: 2017-10-26.

Deodorant composition suitable for aldehyde-based gas or ketone-based gas

Номер патента: US12042777B2. Автор: Yoshinao Yamada,Atsushi TAKANOHASHI,Yuki UESUGI. Владелец: TOAGOSEI CO LTD. Дата публикации: 2024-07-23.

System for rebalancing a pressure differential in a fuel cell using gas injection

Номер патента: WO2021262574A1. Автор: Joseph M. Daly,Robert S. Fournier,Thomas J. Voytek. Владелец: FuelCell Energy, Inc.. Дата публикации: 2021-12-30.

Focusing ions using gas dynamics

Номер патента: US20050151074A1. Автор: Rohan Thakur. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-07-14.

Preparation method for gan-based vertical cavity surface emitting laser

Номер патента: WO2021004181A1. Автор: 王灿,张保平,徐欢,应磊莹,许荣彬. Владелец: 厦门大学. Дата публикации: 2021-01-14.

System for rebalancing a pressure differential in a fuel cell using gas injection

Номер патента: EP4169101A1. Автор: Joseph M. Daly,Robert S. Fournier,Thomas J. Voytek. Владелец: Fuelcell Energy Inc. Дата публикации: 2023-04-26.

GAS SENSOR INCLUDING METAL OXIDE LAYER AND HYDROGEN DETECTION METHOD USING GAS SENSOR

Номер патента: US20170276626A1. Автор: WEI Zhiqiang,Fujii Satoru,Homma Kazunari. Владелец: . Дата публикации: 2017-09-28.

HIGH-SPEED GAS SAMPLE ANALYSIS DEVICE USING GAS CHROMATOGRAPHY, AND METHOD THEREOF

Номер патента: US20180284082A1. Автор: JUNG Jong-Mo,OK Jong-Hoa,AHN Jeong-Ae. Владелец: . Дата публикации: 2018-10-04.

Gas insulated circuit-breaker using gas vent guide

Номер патента: KR20120034981A. Автор: 송태헌,최명준,오시열,김연풍. Владелец: 현대중공업 주식회사. Дата публикации: 2012-04-13.

Method for preparing fluorescent carbon quantum dots by using gas-liquid two-phase plasma

Номер патента: US20230002673A1. Автор: YUAN Li,Jing Gao,Guanjun ZHANG. Владелец: Xian Jiaotong University. Дата публикации: 2023-01-05.

Synthesis of aldonolactones, aldarolactones, and aldarodilactones using gas sparging

Номер патента: CA2571774A1. Автор: H. Keith Chenault. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-01-12.

Synthesis of aldonolactones, aldarolactones, and aldarodilactones using gas sparging

Номер патента: EP1773838A1. Автор: H. Keith Chenault. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2007-04-18.

Method and Apparatus for the Treatment of Water with a Gas or Nutrient Infused Liquid

Номер патента: US20150218023A1. Автор: Dennis Lapin,Brad McMahen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-08-06.

Method and apparatus for the treatment of water with a gas or nutrient infused liquid

Номер патента: US09463991B2. Автор: Dennis Lapin,Brad McMahen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-10-11.

Method for forming reversible colloidal gas or liquid aphrons and compositions produced

Номер патента: US6022727A. Автор: Alec B. Scranton,Robert Mark Worden. Владелец: Michigan State University MSU. Дата публикации: 2000-02-08.

Improvements relating to gas or vapour absorption apparatus

Номер патента: GB569607A. Автор: . Владелец: INTERNAT FURNACE EQUIPMENT COM. Дата публикации: 1945-05-31.

Catalyst for production of hydrocarbons from synthesis gas or oxygenated organic compounds

Номер патента: CA1290736C. Автор: Jacques Monnier,Serge Kaliaguine. Владелец: Individual. Дата публикации: 1991-10-15.

For being distributed the system of gas phase and/or liquid phase in the reaction chamber

Номер патента: CN109894054A. Автор: E·尼德尔科恩,J·德尔特尔,D-J·维内尔. Владелец: Axens SA. Дата публикации: 2019-06-18.

Tank for chemicals or liquid-phase gas supply

Номер патента: KR101198887B1. Автор: 고재만,오재철,유원양. Владелец: (주)이노메이트. Дата публикации: 2012-11-07.

Credit card with luminous pattern or liquid phase pattern

Номер патента: KR20110088253A. Автор: 정인숙,김혜옥. Владелец: (주)브랜드웍스. Дата публикации: 2011-08-03.

Preparation of submicron sized nanoparticles via dispersion and solvent or liquid phase removal

Номер патента: IL160570A0. Автор: . Владелец: Baxter Int. Дата публикации: 2004-07-25.

DEVICE FOR FINE AND FINE GRINDING OF GOOD IN POWDER OR LIQUID PHASE

Номер патента: DE2314768A1. Автор: Friedrich J Dipl Ing Zucker. Владелец: Supraton Aurer and Zucker oHG Firma. Дата публикации: 1974-10-03.

Ice intake manifold supercharging system that exploits used gas energy

Номер патента: RU2572154C2. Автор: Игорь Юрьевич Исаев. Владелец: Игорь Юрьевич Исаев. Дата публикации: 2015-12-27.

Patient interface for using gas delivery to the user

Номер патента: RU2648219C2. Автор: Хармина Христина ЗЕЙЛСТРА. Владелец: КОНИНКЛЕЙКЕ ФИЛИПС Н.В.. Дата публикации: 2018-03-22.

Control device using gas jets for a guided missile

Номер патента: US4482107A. Автор: Pierre Metz. Владелец: Thomson-Brandt SA. Дата публикации: 1984-11-13.

Portable electrical energy produced from waste gas or liquid

Номер патента: US12018569B2. Автор: John Petersen,Darton J. ZINK,Rex K. ISAACS. Владелец: Zeeco Inc. Дата публикации: 2024-06-25.

Radiation detector using gas amplification and method for manufacturing the same

Номер патента: US20120227260A1. Автор: Osamu Shimada,Tomohisa Motomura. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2012-09-13.

Radiation detector using gas amplication and method for manufacturing the same

Номер патента: US20090321652A1. Автор: Tomohisa Motomura,Oasmu SHIMADA. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2009-12-31.

Device at a nozzle for regulation of gas or fluid

Номер патента: EP1497041A1. Автор: Per Johansson. Владелец: Eltex of Sweden AB. Дата публикации: 2005-01-19.

Insect guard for an aspirated smoke, gas, or air quality monitoring systems and devices

Номер патента: US20240224987A1. Автор: Kemal Ajay,Deepakumar Subbian. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Device for separation of water drops from gas or steam flow

Номер патента: RU2552556C2. Автор: Кристиан Петер ШТУКИ. Владелец: АЛЬСТОМ ТЕКНОЛОДЖИ ЛТД. Дата публикации: 2015-06-10.

Improvements relating to gas or electric cooker hotplates

Номер патента: GB868307A. Автор: Arthur Frederick Oatley. Владелец: Oatley Technical Dev. Дата публикации: 1961-05-17.

Gas- or gel-filled silicone cushion for treatment of keloid and hypertrophic scars

Номер патента: CA2240171A1. Автор: Bernard Hirshowitz,Ella Lindenbaum,Yaron Har-Shai. Владелец: Individual. Дата публикации: 1998-04-30.

Gas or vapour sensing assembly

Номер патента: GB2332525A. Автор: Max Chesney Carcas. Владелец: City Technology Ltd. Дата публикации: 1999-06-23.

Portable electrical energy produced from waste gas or liquid

Номер патента: WO2019246238A1. Автор: John Petersen,Darton J. ZINK,Rex K. ISAACS. Владелец: ZEECO, INC.. Дата публикации: 2019-12-26.

A method for building an offshore oil, gas or wind farm platform, and a lifting device

Номер патента: NL2032730B1. Автор: Van Kerchove Petrus. Владелец: Iv Groep B V. Дата публикации: 2024-02-16.

A method for building an offshore oil, gas or wind farm platform, and a lifting device

Номер патента: EP4321688A1. Автор: Petrus Van Kerchove. Владелец: Iv Groep BV. Дата публикации: 2024-02-14.

Means for removal of malodorous gas or air from enclosed spaces

Номер патента: WO1998010689A2. Автор: Shmuel Saghi. Владелец: Saghi - Solutions In Industry Ltd.. Дата публикации: 1998-03-19.

Modular aspirated smoke, gas, or air quality monitoring systems and devices

Номер патента: EP3985632A1. Автор: Ajay Kemal. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2022-04-20.

Modular aspirated smoke, gas, or air quality monitoring systems and devices

Номер патента: EP4439511A2. Автор: Ajay Kemal. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2024-10-02.

Ostomy appliance and an adhesive wafer for such appliance

Номер патента: US09629743B2. Автор: Christen Grum-Schwensen. Владелец: Hollister Inc. Дата публикации: 2017-04-25.

Perfected apparatus for separation of fluid drops caught by gas or vapour

Номер патента: RU2552479C2. Автор: Седрик ВЕССИЛЛЕР. Владелец: АЛЬСТОМ ТЕКНОЛОДЖИ ЛТД. Дата публикации: 2015-06-10.

Improvements in or relating to coin-freed mechanisms for gas or similar meters

Номер патента: GB648586A. Автор: . Владелец: ROY ROBERT RITSON DOUGLAS. Дата публикации: 1951-01-10.

Exhaust-gas duct system for gas or oil-heated apparatus

Номер патента: GB1349602A. Автор: . Владелец: Joh Vaillant GmbH and Co. Дата публикации: 1974-04-10.

Improvements in or relating to hot plates heated by electric, gas or spirit flat irons

Номер патента: GB341286A. Автор: . Владелец: DONALD BERTRAM SCOTT MARSHALL. Дата публикации: 1931-01-15.

Improvements in and relating to the Control of Gas or like Systems or Burners.

Номер патента: GB191007727A. Автор: John Anderson,John Mackay. Владелец: Individual. Дата публикации: 1911-05-01.

Improvements in or relating to gas or other cookers

Номер патента: GB553799A. Автор: . Владелец: Turley & Williams Ltd. Дата публикации: 1943-06-07.

Improved method of cooling the gas or liquid coolant of a turbo-generator and apparatus therefor

Номер патента: GB1035806A. Автор: Adolf Frankel. Владелец: Richardsons Westgarth and Co Ltd. Дата публикации: 1966-07-13.

Improvements in or relating to gas or oil heated furnaces of the crucible type

Номер патента: GB181452A. Автор: . Владелец: STOCKPORT FURNACES Ltd. Дата публикации: 1922-06-09.

A pellet for an air, gas or spring operated gun

Номер патента: GB2110347A. Автор: Lucien John Camilleri. Владелец: Individual. Дата публикации: 1983-06-15.

Sealing film and packaging for gas or vapor decontaminable packaging applications

Номер патента: US20240033181A1. Автор: Patrick Wolf. Владелец: Schott Pharma Schweiz AG. Дата публикации: 2024-02-01.

Sealing film and packaging for gas or vapor decontaminable packaging applications

Номер патента: EP4311670A1. Автор: Patrick Dr. Wolf. Владелец: Schott Pharma Schweiz AG. Дата публикации: 2024-01-31.

Pressure reduction plant for a gas or gas mixture

Номер патента: WO2009131477A2. Автор: Antonio Jose Silva Valente. Владелец: Partex Services Portugal - Serviços Para A Indústria Petrolífera, S.A.. Дата публикации: 2009-10-29.

Pressure reduction plant for a gas or gas mixture

Номер патента: WO2009131477A3. Автор: Antonio Jose Silva Valente. Владелец: Partex Services Portugal - Serviços Para A Indústria Petrolífera, S.A.. Дата публикации: 2011-11-17.

Gas or fluid transfer system with double absorption compression apparatus and double chamber

Номер патента: WO2024058754A1. Автор: Hamit AYKAÇ. Владелец: Aykac Hamit. Дата публикации: 2024-03-21.

Apparatus and method for monitoring of oxidative gas or vapor

Номер патента: EP1308718A3. Автор: Henry K. Hui,Anthony Lemus,Szu-Min Lin,Ben Fryer,Debra Timm,Keith Engstrom. Владелец: Ethicon Inc. Дата публикации: 2005-01-26.

Pressure reduction plant for a gas or gas mixture

Номер патента: EP2614226A2. Автор: designation of the inventor has not yet been filed The. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-07-17.

Petroleum, gas or geothermal driling apparatus

Номер патента: US5343964A. Автор: Andre Leroy. Владелец: Individual. Дата публикации: 1994-09-06.

A clothes drying rack for use in association with a gas or electric cooker

Номер патента: GB741092A. Автор: . Владелец: TURLEY AND WILLIAMS Ltd. Дата публикации: 1955-11-23.

Batteryless signal transmitter having a wiegand sensor for gas or water meters

Номер патента: CA2902083C. Автор: George Efimov,Michael Mixner. Владелец: Hengstler GmbH. Дата публикации: 2018-06-05.

Improvements in gas or oil fired air heaters

Номер патента: GB368482A. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 1932-03-10.

Mixer for mixing at least two flows of gas or other newtonian liquids

Номер патента: CA2350961C. Автор: Miroslav Podhorsky,Michael Kaatz,Hans Ruscheweyh. Владелец: Balcke Duerr Gmbh. Дата публикации: 2005-08-16.

Retroffitable safety shut-off valve for gas or liquid meter

Номер патента: US5603345A. Автор: Richard Franklin,Robert Salazar,William Osburn. Владелец: Pacific Enterprises. Дата публикации: 1997-02-18.

Method of improving the production of a mature gas or oil field

Номер патента: CA2801803C. Автор: Bruno Heintz,Jean-Marc Oury,Hugues De Saint Germain,Remi Daudin,Benoit Desjardins. Владелец: FOROIL. Дата публикации: 2018-10-16.

Insect guard for an aspirated smoke, gas, or air quality monitoring systems and devices

Номер патента: US11849716B2. Автор: Kemal Ajay,Deepakumar Subbian. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2023-12-26.

Wafer for an ostomy bag

Номер патента: AU2022272011A1. Автор: Luke Harry BATCHELOR,Duale Abdirahman Mohamed MAHDI. Владелец: Welland Medical Ltd. Дата публикации: 2023-11-09.

Wafer for testing and a test system

Номер патента: US09684053B2. Автор: Tetsuya Kuitani. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2017-06-20.

Assembly and method for production of gas, or gas and condensate/oil

Номер патента: CA2711376C. Автор: Harald Underbakke. Владелец: Statoil Petroleum ASA. Дата публикации: 2016-05-03.

Ultrasonic contrast agent with polymeric gas or air filled microballoons

Номер патента: US5840275A. Автор: Philippe Bussat,Daniel Bichon,Michel Schneider. Владелец: Bracco International BV. Дата публикации: 1998-11-24.

Safety device for an apparatus under gas or vapor pressure

Номер патента: US5861126A. Автор: Daniel Bajolet. Владелец: Industrie Chimique Mulhouse Dornach. Дата публикации: 1999-01-19.

Monitor for determining an unknown property of a gas or vapor sample

Номер патента: CA1205916A. Автор: Paul J. Kuchar,Robert W. Sampson,Ronald F. Pacanowski. Владелец: UOP LLC. Дата публикации: 1986-06-10.

Improvements in Pistons and Piston Rings as Applied to Steam, Gas or Oil Engines, Hydraulic Pumps, and the like.

Номер патента: GB191323136A. Автор: Herbert Edward Childs. Владелец: Individual. Дата публикации: 1914-05-07.

Rack for supporting wafers for treatment

Номер патента: US4653650A. Автор: Karl A. Schulke. Владелец: Heraeus Quarzschmelze GmbH. Дата публикации: 1987-03-31.

Apparatus for effecting alignment and spacing control of a mask and wafer for use in X-ray lithography

Номер патента: US4472824A. Автор: W. Derek Buckley. Владелец: Perkin Elmer Corp. Дата публикации: 1984-09-18.

Body attachment wafer for an ostomy device

Номер патента: US9039668B2. Автор: Anna Svensby,Päranders Wärja,Sofia Lundgren. Владелец: Molnycke Health Care AB. Дата публикации: 2015-05-26.

Wafer for use in selective connecting and disconnecting of plastic tubes

Номер патента: CA2302728A1. Автор: Dudley W.C. Spencer. Владелец: Denco Inc. Дата публикации: 2000-10-06.

Thinning of a si wafer for mems-sensors applications

Номер патента: CA2610693C. Автор: Jari Mäkinen,Vesa-Pekka Lempinen,Markku Tilli. Владелец: Okmetic Oy. Дата публикации: 2015-07-14.

Wafer for carrying biological sample

Номер патента: US20240033726A1. Автор: Hector Zenil,Jürgen Hermann Richard Riedel,Isaac Gerald Frederick Jones. Владелец: Oxford Immune Algorithmics Ltd. Дата публикации: 2024-02-01.

Wafer For Frozen Confections

Номер патента: US20130309383A1. Автор: Maureen Elizabeth Fagan. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-11-21.

Polarizing pva wafer for reducing optical distortion

Номер патента: EP4371750A1. Автор: Tony Dantas De Morais,Carlos Omar GONZALEZ,Aaron POLANCO DOMINGUEZ. Владелец: Essilor International SAS. Дата публикации: 2024-05-22.

Polarizing pva wafer for reducing optical distortion

Номер патента: WO2024105274A1. Автор: Tony Dantas De Morais,Carlos Omar GONZALEZ,Aaron POLANCO DOMINGUEZ. Владелец: Essilor International. Дата публикации: 2024-05-23.

Wafer for carrying biological sample

Номер патента: EP4267299A1. Автор: Hector Zenil,Jürgen Hermann Richard Riedel,Isaac Gerald Frederick Jones. Владелец: Oxford Immune Algorithmics Ltd. Дата публикации: 2023-11-01.

Wafer for an ostomy bag

Номер патента: EP4337271A1. Автор: Luke Harry BATCHELOR,Duale Abdirahman Mohamed MAHDI. Владелец: Welland Medical Ltd. Дата публикации: 2024-03-20.

Wafer for testing and a test system

Номер патента: US20150268275A1. Автор: Tetsuya Kuitani. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2015-09-24.

Method for GaN single crystal

Номер патента: KR100450784B1. Автор: 한재용. Владелец: 삼성전기주식회사. Дата публикации: 2004-11-16.

Linear spray head for gan material growth

Номер патента: EP4067532A4. Автор: Peng Liu,Ye Huang,Jianhui Wang,Jingquan LU. Владелец: Sino Nitride Semiconductor Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-16.

GaN boule grown from liquid melt using GaN seed wafers

Номер патента: US7097707B2. Автор: Xueping Xu. Владелец: Cree Inc. Дата публикации: 2006-08-29.

A formation method of buffer layer for gan single crystal

Номер патента: KR100893360B1. Автор: 김형준,한경섭,허정. Владелец: (주)그랜드 텍. Дата публикации: 2009-04-15.

High-side double-NMOS tube sectional driving system for GaN power tube

Номер патента: CN113659966A. Автор: 张伟,朱涛,施刚,祝靖,余思远,陆兆俊. Владелец: Wuxi Anqu Electronics Co ltd. Дата публикации: 2021-11-16.

Drive module for gan transistor, switch circuit and electronic device

Номер патента: US20230387906A1. Автор: Wei Zhang,Bin Wang,Min Xu,Jian Jin,Mengyuan SUN. Владелец: FUDAN UNIVERSITY. Дата публикации: 2023-11-30.

Drive module for GaN transistor, switch circuit and electronic device

Номер патента: US12009809B2. Автор: Wei Zhang,Bin Wang,Min Xu,Jian Jin,Mengyuan SUN. Владелец: FUDAN UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-06-11.

CIRCUITRY AND METHOD FOR GaN DEVICE

Номер патента: US20190123695A1. Автор: Jingjing Shi,Baoliang Feng,Zaiqing Li. Владелец: Alcatel Lucent SAS. Дата публикации: 2019-04-25.

DEADTIME OPTIMIZATION FOR GaN HALF-BRIDGE AND FULL-BRIDGE SWITCH TOPOLOGIES

Номер патента: US20220209650A1. Автор: Yajie QIU,Larry SPAZIANI. Владелец: GaN Systems Inc. Дата публикации: 2022-06-30.

A kind of double-frequency broadband power amplifier matching circuit for GaN power devices

Номер патента: CN107659277A. Автор: 谢生,毛陆虹,蔡昊成,丛佳. Владелец: TIANJIN UNIVERSITY. Дата публикации: 2018-02-02.

GaN CIRCUIT DRIVERS FOR GaN CIRCUIT LOADS

Номер патента: US20160079854A1. Автор: Kinzer Daniel M.,Sharma Santosh,Zhang Ju Jason. Владелец: . Дата публикации: 2016-03-17.

DRIVER CIRCUIT FOR GaN FET SOLID STATE RELAY

Номер патента: US20240048142A1. Автор: Michael A. de Rooij. Владелец: Efficient Power Conversion Corp. Дата публикации: 2024-02-08.

DIFFERENTIAL ACTIVATED LATCH FOR GaN BASED LEVEL SHIFTER

Номер патента: US20210399731A1. Автор: Ravi Ananth,Edward Lee. Владелец: Efficient Power Conversion Corp. Дата публикации: 2021-12-23.

Differential activated latch for GaN based level shifter

Номер патента: US11496134B2. Автор: Ravi Ananth,Edward Lee. Владелец: Efficient Power Conversion Corp. Дата публикации: 2022-11-08.

Glass breakage detection using gas discharge lighting

Номер патента: US20020130629A1. Автор: Vince Walbe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-09-19.

PULSED LEVEL SHIFT AND INVERTER CIRCUITS FOR GAN DEVICES

Номер патента: US20190044357A1. Автор: Sharma Santosh,Kinzer Daniel Marvin,Zhang Ju. Владелец: . Дата публикации: 2019-02-07.

BOOTSTRAP CAPACITOR CHARGING CIRCUIT FOR GAN DEVICES

Номер патента: US20160079785A1. Автор: Kinzer Daniel M.,Sharma Santosh,Zhang Ju Jason. Владелец: . Дата публикации: 2016-03-17.

PULSED LEVEL SHIFT AND INVERTER CIRCUITS FOR GAN DEVICES

Номер патента: US20160079979A1. Автор: Kinzer Daniel M.,Sharma Santosh,Zhang Ju Jason. Владелец: . Дата публикации: 2016-03-17.

CIRCUITRY AND METHOD FOR GaN DEVICE

Номер патента: US20190123695A1. Автор: Shi Jingjing,Feng Baoliang,Li Zaiqing. Владелец: ALCATEL LUCENT. Дата публикации: 2019-04-25.

KNOWLEDGE AGGREGATION FOR GAN-BASED ANOMALY DETECTORS

Номер патента: US20200252296A1. Автор: Goloubev Dmitri,Berlog Borys Viacheslavovych,Iashyn Volodymyr. Владелец: . Дата публикации: 2020-08-06.

Linearizing Bias Circuit for GaN MMIC Amplifier

Номер патента: KR101891619B1. Автор: 노윤섭,최윤호,염인복. Владелец: 한국전자통신연구원. Дата публикации: 2018-08-27.

DRIVING CIRCUIT FOR GaN FET

Номер патента: KR20230063647A. Автор: 이경호,김종현,김기현,심민섭. Владелец: 한국전기연구원. Дата публикации: 2023-05-09.

Systems and methods to control light fixture operation using gas concentration sensors

Номер патента: CA3004073C. Автор: Yenpao Lu,Steven E. Downs. Владелец: ABL IP HOLDING LLC. Дата публикации: 2021-05-11.

Differential activated latch for gan based level shifter

Номер патента: EP4169161B1. Автор: Ravi Ananth,Edward Lee. Владелец: Efficient Power Conversion Corp. Дата публикации: 2024-05-01.

MULTIPHASE N-CHANNEL HIGH-SIDE SWITCH FOR GaN INTEGRATED CIRCUITS

Номер патента: US20240372543A1. Автор: Ravi Ananth,Edward Lee,John Glaser,Michael Chapman. Владелец: Efficient Power Conversion Corp. Дата публикации: 2024-11-07.

Gas supplying method using gas distributing unit

Номер патента: US20240050981A1. Автор: Jin Ho Lee,Yong Hyun Lee,Kwang Su YOO,Hyeon Chang KIM,Yoon Jeong KIM. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Brazing rod for depositing diamond coating to metal substrate using gas or electric brazing techniques

Номер патента: CA2198985A1. Автор: Royce A. Anthon. Владелец: Individual. Дата публикации: 1998-09-03.

Gas discharge roll and manufacturing method for same, and processing apparatus using gas discharge roll

Номер патента: US20210230742A1. Автор: Hideharu Okami. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 2021-07-29.

Uniform electroplating of thin metal seeded wafers using rotationally asymmetric variable anode correction

Номер патента: US6919010B1. Автор: Steven T. Mayer. Владелец: Novellus Systems Inc. Дата публикации: 2005-07-19.

Apparatus for the direct reduction of iron and production of fuel gas using gas from coal

Номер патента: US4234169A. Автор: Donald Beggs,John C. Scarlett. Владелец: Midrex Corp. Дата публикации: 1980-11-18.

System for flare gas recovery using gas sweetening process

Номер патента: US20210008497A1. Автор: Ahmed Khalifah Al Muhsen. Владелец: Saudi Arabian Oil Co. Дата публикации: 2021-01-14.

System for flare gas recovery using gas sweetening process

Номер патента: US11951441B2. Автор: Ahmed Khalifah Al Muhsen. Владелец: Saudi Arabian Oil Co. Дата публикации: 2024-04-09.

Process and System for GaN Crystalline Powders Using Means for Removing Waste Gas

Номер патента: KR100839757B1. Автор: 고정민,권태현,윤태훈,박은용. Владелец: 주식회사 엘지화학. Дата публикации: 2008-06-19.

Method for the direct reduction of iron using gas from coal

Номер патента: US4173465A. Автор: David C. Meissner,Charles W. Sanzenbacher. Владелец: Midrex Corp. Дата публикации: 1979-11-06.

System for flare gas recovery using gas sweetening process

Номер патента: US11865493B2. Автор: Ahmed Khalifah Al Muhsen. Владелец: Saudi Arabian Oil Co. Дата публикации: 2024-01-09.

System for flare gas recovery using gas sweetening process

Номер патента: US20190314755A1. Автор: Ahmed Khalifah Al Muhsen. Владелец: Saudi Arabian Oil Co. Дата публикации: 2019-10-17.

System for flare gas recovery using gas sweetening process

Номер патента: EP3773990A1. Автор: Ahmed Khalifah Al Muhsen. Владелец: Saudi Arabian Oil Co. Дата публикации: 2021-02-17.

System for flare gas recovery using gas sweetening process

Номер патента: WO2019199432A1. Автор: Ahmed Khalifah Al Muhsen. Владелец: Aramco Services Company. Дата публикации: 2019-10-17.

System for flare gas recovery using gas sweetening process

Номер патента: EP3895784A1. Автор: Ahmed Khalifah Al Muhsen. Владелец: Saudi Arabian Oil Co. Дата публикации: 2021-10-20.

Apparatus for electrolysis using gas and electrolyte channeling to reduce shunt currents

Номер патента: US4382849A. Автор: Laurence E. Spicer. Владелец: Individual. Дата публикации: 1983-05-10.

Hydraulic fracturing methods and systems using gas mixture

Номер патента: CA3043154C. Автор: Stanley V. Stephenson,Ronald Glen Dusterhoft. Владелец: Halliburton Energy Services Inc. Дата публикации: 2021-03-16.

An assembly to use gas turbine heat to pretreat solid fuels

Номер патента: WO2016037212A1. Автор: Bevan Dooley. Владелец: BTOLA Pty Ltd. Дата публикации: 2016-03-17.

Blast furnace tuyere protection - using gas or liquid coolant which penetrates the furnace lining

Номер патента: DE2355305A1. Автор: Ernst Dipl Ing Engl. Владелец: Messerschmitt Bolkow Blohm AG. Дата публикации: 1975-05-07.

System for flare gas recovery using gas sweetening process

Номер патента: US20210008497A1. Автор: Ahmed Khalifah Al Muhsen. Владелец: Saudi Arabian Oil Co. Дата публикации: 2021-01-14.

System for flare gas recovery using gas sweetening process

Номер патента: US20190022580A1. Автор: Ahmed Khalifah Al Muhsen. Владелец: Saudi Arabian Oil Co. Дата публикации: 2019-01-24.

A gas hydrate promoter and Method of carbon dioxide separation by using gas hydrate

Номер патента: KR102400190B1. Автор: 박영준,이윤석. Владелец: 광주과학기술원. Дата публикации: 2022-05-20.

Gas generation device and device using gas generation device

Номер патента: CN203238334U. Автор: 棚桥正和,棚桥正治,近藤宏惠,登祥子. Владелец: Tanah Process Ltd. Дата публикации: 2013-10-16.

Recovering energy from low calorific value fuel gas using gas turbine engine

Номер патента: NZ216396A. Автор: A Pinto. Владелец: Ici Plc. Дата публикации: 1988-01-08.

Pyrotechnic cool gas generation for filling an air cushion - using gas oxidisers and coolants

Номер патента: FR2280612A1. Автор: Brian Keith Hamilton. Владелец: Allied Chemical and Dye Corp. Дата публикации: 1976-02-27.

Training method for gan, machine learning system and communication apparatus

Номер патента: EP4345699A1. Автор: Rong Li,Jian Wang,Guanding Yu,Jinke REN,Chonghe LIU. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-03.

Gas spring device, and balancer device and actuator which use gas spring device

Номер патента: US09732822B2. Автор: Katsuhiko Asai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-15.

Air measurement method using gas chromatograph and gas chromatograph analysis system

Номер патента: US20240118248A1. Автор: Shinji Uchiyama. Владелец: Shimadzu Corp. Дата публикации: 2024-04-11.

Air measurement method using gas chromatograph and gas chromatograph analysis system

Номер патента: EP4296663A1. Автор: Shinji Uchiyama. Владелец: Shimadzu Corp. Дата публикации: 2023-12-27.

Method of power generation in cycle using gas turbine

Номер патента: RU2175724C2. Автор: Хальдор Фредерик Аксель ТОПСЕЭ. Владелец: ХАЛЬДОР ТОПСЕЭ А/С. Дата публикации: 2001-11-10.

Method of processing volatile organic compound by using gas turbine and processing system of volatile organic compound

Номер патента: US20070175327A1. Автор: Shigekazu Uji. Владелец: IHI Corp. Дата публикации: 2007-08-02.

Atomisation of liquids using gas - or dispersal of gas as small bubbles in liq.

Номер патента: DE2627880A1. Автор: Jogindar Mohan Dr Ing Chawla. Владелец: Chawla jogindar Mohan dr-Ing. Дата публикации: 1977-12-29.

In-situ solid rocket motor propellant grain aging using gas

Номер патента: US20200333224A1. Автор: Kevin Mueller,Joshua David Carter. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2020-10-22.

TEMPERATURE CONTROL FOR GaN BASED MATERIALS

Номер патента: US20130343426A1. Автор: Tas Guray,Gurary Alexander I.,Belousov Mikhail. Владелец: VEECO INSTRUMENTS INC.. Дата публикации: 2013-12-26.

TEMPERATURE CONTROL FOR GaN BASED MATERIALS

Номер патента: US20160041037A1. Автор: Tas Guray,Gurary Alexander I.,Belousov Mikhail. Владелец: . Дата публикации: 2016-02-11.

Temperature control for GaN based materials

Номер патента: US9200965B2. Автор: Alexander I. Gurary,Mikhail Belousov,Guray Tas. Владелец: Veeco Instruments Inc. Дата публикации: 2015-12-01.

Air conditioner using gas sensing data and control method therefor

Номер патента: US11933514B2. Автор: Sanghun Lee,Joonho Kim,Jaehong Kim,Yongwon Jeong,Jangpyo PARK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-19.

Products built using gas generating agents

Номер патента: WO2023244270A1. Автор: Emre Hiro DISCEKICI,Dennis John SCHISSLER. Владелец: Hewlett-Packard Development Company, L.P.. Дата публикации: 2023-12-21.

Air bag-use gas generator and air bag device

Номер патента: US20040051289A1. Автор: Yasunori Iwai,Katsuhito Miyaji. Владелец: Daicel Chemical Industries Ltd. Дата публикации: 2004-03-18.

Gas spring device, and balancer device and actuator which use gas spring device

Номер патента: US20140231731A1. Автор: Katsuhiko Asai. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2014-08-21.

Gas sensor and concentration measurement method using gas sensor

Номер патента: US20230314367A1. Автор: Taku Okamoto,Yuichiro Kondo. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Gas sensor and concentration measurement method using gas sensor

Номер патента: US20230314366A1. Автор: Yusuke Watanabe,Osamu Nakasone,Yuichiro Kondo. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Temperature control for GaN based materials

Номер патента: US09677944B2. Автор: Alexander I. Gurary,Mikhail Belousov,Guray Tas. Владелец: Veeco Instruments Inc. Дата публикации: 2017-06-13.

Gas scrubbing method using gas liquid contact in a particulate bed

Номер патента: US4533367A. Автор: Dzemal Hadzismajlovic. Владелец: Dzemal Hadzismajlovic. Дата публикации: 1985-08-06.

Liq. gas diffusion, esp. gas washing - using gas regulated spray injected into main gas stream

Номер патента: FR2226203A1. Автор: . Владелец: KERAG KESSELSCHMIEDE APPARATE. Дата публикации: 1974-11-15.

SPRAY HEAD TO APPLY A MULTIPLE COMPONENT MATERIAL USING GAS.

Номер патента: ES2034059T3. Автор: Josef Zimmermann. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1993-04-01.

Tuning engine parameter estimator using gas path analysis data

Номер патента: US11840966B1. Автор: Danbing Seto,Joshua Adams,Ramesh Rajagopalan. Владелец: RTX Corp. Дата публикации: 2023-12-12.

Methods of using gas sensors

Номер патента: US20180038260A1. Автор: Yong Miao,Christopher L. Whitt. Владелец: GM GLOBAL TECHNOLOGY OPERATIONS LLC. Дата публикации: 2018-02-08.

Tuning engine parameter estimator using gas path analysis data

Номер патента: EP4372210A1. Автор: Danbing Seto,Joshua Adams,Ramesh Rajagopalan. Владелец: RTX Corp. Дата публикации: 2024-05-22.

Gas flow rate measurement using gas concentration measurements

Номер патента: EP1391700B1. Автор: Akinobu Moriyama. Владелец: Nissan Motor Co Ltd. Дата публикации: 2008-05-21.

GAS-DETECTING APPARATUS INCLUDING GAS SENSOR AND METHOD OF DETECTING HYDROGEN USING GAS SENSOR

Номер патента: US20170307557A1. Автор: Muraoka Shunsaku,Katayama Koji,WEI Zhiqiang,Homma Kazunari. Владелец: . Дата публикации: 2017-10-26.

A kind of method that gas stringer calculates gas phase flow rate using gas holdup

Номер патента: CN106595787B. Автор: 李康,戴家才,邓仁双,秦昊,朱绍武. Владелец: SOUTHWEST PETROLEUM UNIVERSITY. Дата публикации: 2019-04-16.

Methods of ultrasound treatment using gas or gaseous precursor-filled compositions

Номер патента: US6716412B2. Автор: Evan C. Unger. Владелец: ImaRx Therapeutics Inc. Дата публикации: 2004-04-06.

Burner which can use gas or petroleum as a fuel

Номер патента: KR820000091Y1. Автор: 안병열. Владелец: 안병열. Дата публикации: 1982-02-01.

A brazier for cooking food to use gas or charcoal

Номер патента: KR0134084Y1. Автор: 정현각. Владелец: 정현각. Дата публикации: 1999-03-20.

Turbine-assisted internal combustion engine - uses gas or steam vaporised by heat of exhaust gases to drive turbine

Номер патента: FR2502692A1. Автор: . Владелец: Bergounhoux Marcel. Дата публикации: 1982-10-01.

Control system for cintral heating installations - uses gas or liquid fuel and can be programmed on weekly basis

Номер патента: FR2292191A1. Автор: . Владелец: PLUSQUELLEC CHANTAL. Дата публикации: 1976-06-18.

Arc welding electrode for steel without using gas or the like

Номер патента: US3531620A. Автор: Izumi Ichihara,Masayasu Arikawa,Shou Horiuchi. Владелец: Kobe Steel Ltd. Дата публикации: 1970-09-29.

Motor vehicle exhaust gas purifier and silencer - uses gas pressure to produce gas, water-mist mixture and separates out water

Номер патента: FR2442965A1. Автор: . Владелец: Lin Ping Ho. Дата публикации: 1980-06-27.

Molding process using gas under pressure

Номер патента: US5798063A. Автор: Klaus Bender,Philippe Leboeuf,Georgios Topulos. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 1998-08-25.

Method for Gas Detection Model, System and Method for Detecting Gas Using Gas Detection Model

Номер патента: KR102174444B1. Автор: 김성욱. Владелец: 주식회사 포스코아이씨티. Дата публикации: 2020-11-04.

Systems and methods for adjusting production of a well using gas injection

Номер патента: US20170122085A1. Автор: Hassan S. Suheil. Владелец: Rockwell Automation Asia Pacific Business Center Pte Ltd. Дата публикации: 2017-05-04.

GAS SPRING DEVICE, AND BALANCER DEVICE AND ACTUATOR WHICH USE GAS SPRING DEVICE

Номер патента: US20140231731A1. Автор: ASAI KATSUHIKO. Владелец: Panasonic Corporation. Дата публикации: 2014-08-21.

SYSTEM FOR FLARE GAS RECOVERY USING GAS SWEETENING PROCESS

Номер патента: US20210187436A1. Автор: AL MUHSEN Ahmed Khalifah. Владелец: . Дата публикации: 2021-06-24.

Gas Detection Using Gas Modulation

Номер патента: US20180313749A1. Автор: Hellgren Johan,Vennerberg Henrik,Enquist Fredrik,Edvardsson Niclas. Владелец: . Дата публикации: 2018-11-01.

SYSTEM FOR FLARE GAS RECOVERY USING GAS SWEETENING PROCESS

Номер патента: US20190314755A1. Автор: AL MUHSEN Ahmed Khalifah. Владелец: . Дата публикации: 2019-10-17.

Gas alarm apparatus using gas sensor

Номер патента: KR850003296Y1. Автор: 김상권. Владелец: 정재은. Дата публикации: 1985-12-30.

Device using gas sensor for pressure gas relief in safety injection tank

Номер патента: KR102175648B1. Автор: 김민정,송준규,추봉식. Владелец: 한국수력원자력 주식회사. Дата публикации: 2020-11-06.

Combustion control method to save gas in boiler by using gas consumption

Номер патента: KR101888966B1. Автор: 이현철,이상희,권기출,유승우. Владелец: 린나이코리아 주식회사. Дата публикации: 2018-08-17.

Mold for molding using gas injection pin for gas injection molding

Номер патента: JP3892518B2. Автор: 誠 松島,成康 原田. Владелец: Prime Polymer Co Ltd. Дата публикации: 2007-03-14.

Fire extinguisher pressurising system - uses gas pressure from first source to control supply of main gas

Номер патента: FR2245162A5. Автор: . Владелец: Biro Fils. Дата публикации: 1975-04-18.

Method of using leakage detector system - involves using gas which is free of test gas to flood test chamber

Номер патента: FR2237190A1. Автор: . Владелец: Leybold Heraeus GmbH. Дата публикации: 1975-02-07.

Optimisation using GA

Номер патента: GB2359643A. Автор: Shunji Matsumoto,Makihiko Sato,Yohiko Teramoto. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2001-08-29.

Determining gas traces in air using gas ionisation detector

Номер патента: DE4244440A1. Автор: Juergen W Prof Dr Sc Leonhardt,Dieter Dr Ing Berger. Владелец: Individual. Дата публикации: 1994-06-30.

NORMALLY GAS FUEL TANK, STORED IN LIQUID PHASE, FOR APPARATUS USING GAS PHASE COMBUSTION.

Номер патента: FR2659723A1. Автор: Rene Frigiere,Frigiere Rene,Philippe Grel,Grel Philippe. Владелец: Cricket SA. Дата публикации: 1991-09-20.

Gas detection method and apparatus using gas reactive pigment

Номер патента: EP0824212B1. Автор: Kazunari Tanaka,Chiaki Igarashi,Yoshihiko Sadaoka. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2000-03-22.

Device for heating hair rollers using gas flame - rollers fit onto rods which extend within combustion gas zone

Номер патента: FR2247178A1. Автор: . Владелец: Cadac Pty Ltd. Дата публикации: 1975-05-09.

Epitaxial substrate and liquid phase epitaxial growth method

Номер патента: JP4946247B2. Автор: 真 川崎,晋 樋口. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2012-06-06.

Epitaxial substrate and liquid - phase epitaxy growth method

Номер патента: TWI405880B. Автор: . Владелец: Shinetsu Handotai Kk. Дата публикации: 2013-08-21.

Liquid phase epitaxial growing boat

Номер патента: JPS55100300A. Автор: Susumu Furuike,Hitoo Iwasa,Hakobu Miyoshi. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1980-07-31.

Growing liquid phase epitaxial garnet film

Номер патента: JPS52116899A. Автор: Hiroshi Makino,Taketoshi Hibiya. Владелец: Nippon Electric Co Ltd. Дата публикации: 1977-09-30.

Liquid-phase epitaxial growth method for semiconductor element

Номер патента: JPS54150971A. Автор: Yoshio Iizuka,Tsuneo Furukawa. Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd. Дата публикации: 1979-11-27.

Method and apparatus for liquid phase epitaxial growth

Номер патента: JPS5381487A. Автор: Akio Yamaguchi,Kenzo Akita,Saburo Nakai. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1978-07-18.

Liquid phase epitaxial crystal growth

Номер патента: JPS51114383A. Автор: Yoshiharu Horikoshi,Yoshitaka Furukawa. Владелец: Nippon Telegraph and Telephone Corp. Дата публикации: 1976-10-08.

Liquid phase epitaxial growth method

Номер патента: JPS5399079A. Автор: Ganzou Iwane. Владелец: Nippon Telegraph and Telephone Corp. Дата публикации: 1978-08-30.

Liquid phase epitaxial device

Номер патента: JPS5258361A. Автор: Masaaki Ayabe. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1977-05-13.

Device for effecting liquid-phase epitaxial growth

Номер патента: JPS536567A. Автор: Toshio Sogo,Kotaro Mitsui. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1978-01-21.

Substrate fixing jig for liquid phase epitaxial growth

Номер патента: JPS5376175A. Автор: Keikichi Ando,Norio Oota,Fumihiko Ishida. Владелец: Agency of Industrial Science and Technology. Дата публикации: 1978-07-06.

Liquid phase epitaxial growth for semiconductor crystal

Номер патента: JPS6461398A. Автор: Masaaki Sakata,Kiyotaka Benzaki. Владелец: Stanley Electric Co Ltd. Дата публикации: 1989-03-08.

Liquid phase epitaxial growth equipment

Номер патента: JP3214069B2. Автор: 洋 鷹木,優 藤野,嗣伸 水埜,誠人 熊取谷,雄徳 関島,充弘 青田. Владелец: Murata Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2001-10-02.

Device for liquid-phase epitaxial growth

Номер патента: JPS5761700A. Автор: Michiharu Ito,Mitsuo Yoshikawa,Hiroshi Takigawa. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1982-04-14.

Liquid phase epitaxial growth

Номер патента: JPS533063A. Автор: Takeshi Kobayashi,Yoshitaka Furukawa. Владелец: Nippon Telegraph and Telephone Corp. Дата публикации: 1978-01-12.

Liquid phase epitaxial growth method

Номер патента: JPS5382164A. Автор: Yorimitsu Nishitani. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1978-07-20.

Liquid-phase epitaxial growth

Номер патента: JPS6230694A. Автор: Jiro Okazaki,岡崎 二郎. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1987-02-09.

Liquid phase epitaxial growing apparatus

Номер патента: JPS5659696A. Автор: Hiromi Takasu. Владелец: Tottori Sanyo Electric Co Ltd. Дата публикации: 1981-05-23.

Jig for liquid phase epitaxial crystal growth

Номер патента: JPS634627A. Автор: Kosaku Yamamoto,Michiharu Ito,Koji Hirota,山本 功作,伊藤 道春,廣田 耕治. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1988-01-09.

Method of liquid-phase epitaxial growth

Номер патента: JPS6153193A. Автор: Hikari Sugano,菅野 光. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1986-03-17.

Liquid-phase epitaxy apparatus

Номер патента: JPS62120033A. Автор: Kosaku Yamamoto,Michiharu Ito,Koji Hirota,山本 功作,伊藤 道春,廣田 耕治. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1987-06-01.

Liquid-phase epitaxial growth equipment

Номер патента: JPS6213022A. Автор: Hikari Sugano,菅野 光. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1987-01-21.

Apparatus for liquid-phase epitaxial growth

Номер патента: JPS6445797A. Автор: Takao Oda. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1989-02-20.

Liquid-phase epitaxial growth

Номер патента: JPS6230693A. Автор: Jiro Okazaki,岡崎 二郎. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1987-02-09.

Liquid phase epitaxial growth method

Номер патента: JPS62244128A. Автор: Minoru Kubo,実 久保,Masato Ishino,Yoichi Sasai,正人 石野,佐々井 洋一. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1987-10-24.

Liquid-phase epitaxial growth method for thin semiconductor film

Номер патента: JPS6291490A. Автор: Kenji Endo,健司 遠藤. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1987-04-25.

Method and apparatus for liquid-phase epitaxial growth

Номер патента: JPS627696A. Автор: Tsunehiro Unno,恒弘 海野,峰生 和島,Mineo Wajima. Владелец: Hitachi Cable Ltd. Дата публикации: 1987-01-14.

Liquid phase epitaxial growth system

Номер патента: JPH0625955Y2. Автор: 知史 上田,研二 丸山,満男 吉河,道春 伊藤. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1994-07-06.

Process for liquid phase epitaxial growth

Номер патента: JPS51129882A. Автор: Yoshiharu Horikoshi,Yoshitaka Furukawa. Владелец: Nippon Telegraph and Telephone Corp. Дата публикации: 1976-11-11.

Liquid phase epitaxial growth method of gaas crystal

Номер патента: JPS53139970A. Автор: Fumio Matsumoto. Владелец: Sanyo Electric Co Ltd. Дата публикации: 1978-12-06.

Liquid phase epitaxial growing boat

Номер патента: JPS5590500A. Автор: Takao Oda. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1980-07-09.

Liquid-phase epitaxial device

Номер патента: JPS6254915A. Автор: 茂 藤本,Shigeru Fujimoto. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1987-03-10.

Process for liquid phase epitaxial growth

Номер патента: JPS52126699A. Автор: Yasukazu Morita,Toshiaki Kasai,Susumu Kurokawa. Владелец: Agency of Industrial Science and Technology. Дата публикации: 1977-10-24.

Liquid-phase epitaxial growth method of compound semiconductor

Номер патента: JPS542660A. Автор: Yasoo Harada,Fumio Matsumoto. Владелец: Sanyo Electric Co Ltd. Дата публикации: 1979-01-10.

Liquid-phase epitaxial growth method

Номер патента: JPS6235616A. Автор: Fukunobu Aisaka,逢坂 福信. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1987-02-16.

Preparation of liquid phase epitaxial growth layer

Номер патента: JPS52113155A. Автор: Shinichi Iguchi,Shinichi Akai. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 1977-09-22.

Equipment for liquid phase epitaxial growth

Номер патента: JPS5210073A. Автор: Kazuhisa Murata,Takeshi Sakurai. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 1977-01-26.

Vertical liquid phase epitaxial growth system

Номер патента: JPH0613262Y2. Автор: 英雄 福田. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 1994-04-06.

Unit for liquid-phase epitaxial growth

Номер патента: JPS5792597A. Автор: Kosaku Yamamoto,Kouji Shinohara,Yoshito Nishijima,Hirokazu Fukuda,Yoshio Kawamizu. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1982-06-09.

Liquid phase epitaxial growth of superconductive thick film material with overheated seed film as seed crystal

Номер патента: CN1439747A. Автор: 胡剑,姚忻. Владелец: Shanghai Jiaotong University. Дата публикации: 2003-09-03.

Liquid phase epitaxial crowth method of semiconductor crystal

Номер патента: JPS52103952A. Автор: Jun Ishii,Wataru Suzaki,Ryoichi Hirano,Hirobumi Suga. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1977-08-31.

Method for liquid-phase epitaxial growth

Номер патента: JPS62105995A. Автор: Shigetaka Murasato,村里 茂隆. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 1987-05-16.

Liquid phase epitaxial growth method

Номер патента: JPS547861A. Автор: Shoji Igarashi. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1979-01-20.

Method for producing single crystal thin film by liquid phase epitaxy

Номер патента: JP3188541B2. Автор: 哲史 大野,昌宏 辻. Владелец: Ibiden Co Ltd. Дата публикации: 2001-07-16.

Liquid phase epitaxial growth method and boat for growth

Номер патента: JPS5453858A. Автор: Yorimitsu Nishitani. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1979-04-27.

Liquid phase epitaxial growth

Номер патента: JPS5260569A. Автор: Jisaburo Ushizawa. Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd. Дата публикации: 1977-05-19.

Liquid phase epitaxially growing method

Номер патента: JPS5673700A. Автор: Hiroshi Hayashi,Kazuhisa Murata,Takuo Takenaka. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 1981-06-18.

Semiconductor liquid phase epitaxial equipment

Номер патента: JP3210840B2. Автор: 和昭 金子,隆宏 橋本. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2001-09-25.

Liquid phase epitaxial growth method

Номер патента: JPS5275271A. Автор: Kunio Ito,Morio Inoue. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1977-06-24.

Liquid phase epitaxial growth method

Номер патента: JP3717220B2. Автор: 正敏 斉藤,親夫 木村. Владелец: New Japan Radio Co Ltd. Дата публикации: 2005-11-16.

Method of liquid-phase epitaxial growth and device therefor

Номер патента: JPS61261291A. Автор: Kazuhisa Ikeda,Masaya Konishi,昌也 小西,池田 和央. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 1986-11-19.

Method of liquid-phase epitaxial growth

Номер патента: JPS6153191A. Автор: Noriyuki Hirayama,平山 則行. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1986-03-17.

Liquid phase epitaxial growth method

Номер патента: JPS5473558A. Автор: Akio Yamaguchi. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1979-06-12.

Liquid phase epitaxial growth method and apparatus

Номер патента: JPH0694399B2. Автор: 恒弘 海野,峰生 和島,泰一郎 今野,洋 杉本,尚史 楯. Владелец: Hitachi Cable Ltd. Дата публикации: 1994-11-24.

Liquid phase epitaxial growth apparatus

Номер патента: JPS52149476A. Автор: Tsuneo Furukawa,Kazumi Unno. Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd. Дата публикации: 1977-12-12.

Apparatus for liquid phase epitaxial crystal growth

Номер патента: JPS6293951A. Автор: Kosaku Yamamoto,Michiharu Ito,Koji Hirota,山本 功作,伊藤 道春,廣田 耕治. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1987-04-30.

Liquid phase epitaxial growth method

Номер патента: JP2543791B2. Автор: 雅人 山田,卓夫 竹中. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 1996-10-16.

Liquid phase epitaxial growth method

Номер патента: JP2508726B2. Автор: 洋一 大澤. Владелец: Nippon Electric Co Ltd. Дата публикации: 1996-06-19.

Liquid-phase epitaxial growth

Номер патента: JPS63307199A. Автор: Takeshi Idota,Noriyuki Hirayama,健 井戸田,平山 則行. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1988-12-14.

Liquid-phase epitaxial device

Номер патента: JPS5288275A. Автор: Masaaki Sakuta. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 1977-07-23.

Liquid phase epitaxial growing apparatus for crystal

Номер патента: JPS57118100A. Автор: Junichi Kinoshita. Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd. Дата публикации: 1982-07-22.

Device for liquid phase epitaxial growth

Номер патента: JPS62158192A. Автор: Satoshi Oraku,大楽 智. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 1987-07-14.

Equipment for liquid phase epitaxial growth

Номер патента: JPS6288320A. Автор: Koji Yoneda,幸司 米田. Владелец: Sanyo Electric Co Ltd. Дата публикации: 1987-04-22.

Liquid phase epitaxy growth method and apparatus for HgCdTe

Номер патента: JP2700123B2. Автор: 文毅 中西,雅美 龍見. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 1998-01-19.

Liquid phase epitaxial growth method and apparatus therefor

Номер патента: JPH07516B2. Автор: 昌也 小西,和央 池田. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 1995-01-11.

Liquid phase epitaxy growing device

Номер патента: JPH01111795A. Автор: Koji Yamazaki,Katsuhiro Tanaka,孝司 山崎,克皓 田中,Tomoyuki Izumi,智之 和泉. Владелец: Nippon Ester Co Ltd. Дата публикации: 1989-04-28.

Method for preparing crack-free YBCO liquid phase epitaxial film

Номер патента: CN104109905A. Автор: 王伟,崔祥祥,郭林山,姚忻. Владелец: Shanghai Jiaotong University. Дата публикации: 2014-10-22.

Substrate holder used in liquid phase epitaxial growth method

Номер патента: JP2967372B2. Автор: 昌宏 辻. Владелец: Ibiden Co Ltd. Дата публикации: 1999-10-25.

Liquid phase epitaxial growth

Номер патента: JPS52115784A. Автор: Hideki Mori,Takashi Shimoda,Shinichi Akai. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 1977-09-28.

Liquid-phase epitaxial growth method

Номер патента: JPS61256994A. Автор: Kunio Uehara,上原 邦夫. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1986-11-14.

Liquid phase epitaxy method

Номер патента: JPS6373607A. Автор: Osamu Igata,理 伊形,Hidema Uchishiba,内柴 秀磨. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1988-04-04.

Growth method for liquid phase epitaxial

Номер патента: JPS54133480A. Автор: Tatsuro Beppu,Masami Iwamoto,Makoto Tashiro,Akinobu Kasami. Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd. Дата публикации: 1979-10-17.

Liquid phase epitaxial growth method

Номер патента: JPH0694398B2. Автор: 恒弘 海野,峰生 和島,彰二 隈,泰一郎 今野,洋 杉本,尚史 楯. Владелец: Hitachi Cable Ltd. Дата публикации: 1994-11-24.

Liquid phase epitaxial growth

Номер патента: JPS5261957A. Автор: Masahiro Nakajima,Masanobu Kihara. Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd. Дата публикации: 1977-05-21.

Liquid phase epitaxial crystal growth apparatus

Номер патента: JPS63170915A. Автор: Kosaku Yamamoto,Michiharu Ito,Koji Hirota,山本 功作,伊藤 道春,廣田 耕治. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1988-07-14.

Liquid-phase epitaxial growth device

Номер патента: JPS62219918A. Автор: Takao Oda,織田 隆雄. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1987-09-28.

Tube for liquid phase epitaxial growth

Номер патента: JPS5252879A. Автор: Takeshi Kobayashi,Yoshiharu Horikoshi,Yoshitaka Furukawa. Владелец: Nippon Telegraph and Telephone Corp. Дата публикации: 1977-04-28.

Growing method of liquid-phase epitaxial magnetic bubble garnet film

Номер патента: JPS5267000A. Автор: Taketoshi Hibiya. Владелец: Nippon Electric Co Ltd. Дата публикации: 1977-06-02.

Liquid phase epitaxial growth method

Номер патента: JPS52149065A. Автор: Toshio Kawasaki. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 1977-12-10.

Liquid phase epitaxial growth apparatus

Номер патента: JPS54150376A. Автор: Takao Yamaguchi. Владелец: Sanyo Electric Co Ltd. Дата публикации: 1979-11-26.

Liquid phase epitaxy growing boat

Номер патента: TW241373B. Автор: Jeong-Sheng Shyu,Been-Tzeng You,Ruey-Liang Perng,Jeng-Yeu Gau. Владелец: Ind Tech Res Inst. Дата публикации: 1995-02-21.

Liquid phase epitaxial growth method

Номер патента: JPS51137374A. Автор: Susumu Yoshida. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1976-11-27.

Fire fighting method using gas-liquid mixture

Номер патента: RU2394619C1. Автор: Олег Савельевич Кочетов. Владелец: Олег Савельевич Кочетов. Дата публикации: 2010-07-20.

Device for pressure transportation of gas or liquid

Номер патента: RU2315896C1. Автор: Юлия Алексеевна Щепочкина. Владелец: Юлия Алексеевна Щепочкина. Дата публикации: 2008-01-27.

Improvements in or relating to Means for Controlling the Supply of Gas or Liquids from a Distance.

Номер патента: GB190504865A. Автор: Ernest William Gilbert. Владелец: Individual. Дата публикации: 1906-03-08.

Improvements in Governors for Regulating the Speed of Gas or Air Compressors or Machines for Pumping Liquids.

Номер патента: GB190004259A. Автор: . Владелец: Fraser & Chalmers Ltd. Дата публикации: 1901-03-06.

Improvements in Gas or Vapour Separators.

Номер патента: GB190202697A. Автор: Percy Nicholas Hooper. Владелец: Individual. Дата публикации: 1903-01-29.

Improvements in Gas or Vapour Electric Apparatus.

Номер патента: GB190422964A. Автор: James Reid Baker. Владелец: Individual. Дата публикации: 1904-12-01.

An Improved Coin Receiving Device for Prepayment Sale and Delivery Mechanism for the Sale of Gas or other Fluid.

Номер патента: GB190415652A. Автор: . Владелец: METERS Ltd. Дата публикации: 1905-05-18.

Improvements in or relating to Gas or Petrol Engines

Номер патента: GB190414895A. Автор: Leon Emile Lemperiere. Владелец: Individual. Дата публикации: 1904-10-20.

Improvements in Heating Stoves Burning Gas or other Fuel

Номер патента: GB190424161A. Автор: William Richter. Владелец: Individual. Дата публикации: 1905-10-05.

Improvements in and relating to Gas or Vapour Burners for Heating Purposes.

Номер патента: GB190111981A. Автор: Sigmund Adolf Rosenthal. Владелец: Individual. Дата публикации: 1902-06-12.

Improvements in or relating to Gas or Liquid Fuel Burners.

Номер патента: GB190501795A. Автор: Charles Cheers Wakefield,Walter Grimes. Владелец: Individual. Дата публикации: 1906-01-25.

Improvements in Appliances for Burning Gas or Hydrocarbon Vapours.

Номер патента: GB189908367A. Автор: George Bower. Владелец: Individual. Дата публикации: 1900-03-10.

Combined Stove Cover and Gas or Vapour Burner.

Номер патента: GB189907628A. Автор: William Humphrey Wheatley. Владелец: Individual. Дата публикации: 1899-05-27.

Improvements in Gas or Vapour Electric Apparatus

Номер патента: GB190410672A. Автор: Frederick William Le Tall. Владелец: Individual. Дата публикации: 1905-04-20.

An Improved Locking Device for Gas or other Cocks or Taps.

Номер патента: GB190107206A. Автор: Ernest Lomax Newbigging. Владелец: Individual. Дата публикации: 1901-11-09.

Improvements in and relating to Gas or Explosive Vapour Engines.

Номер патента: GB190426431A. Автор: Peter Burt. Владелец: Individual. Дата публикации: 1905-11-23.

Improvements in Gas or Oil Lighting, Heating, and Cooking Apparatus.

Номер патента: GB189718063A. Автор: Thomas Boydell. Владелец: Individual. Дата публикации: 1898-06-11.

Production of Stable Catalytic Material, and Catalytic Gas or Vapour Lighting Tips or Burners, and Tufts.

Номер патента: GB189821337A. Автор: William Henry Porter. Владелец: Individual. Дата публикации: 1898-11-26.

Improvements in and connected with Gas or Vapour Heating Devices.

Номер патента: GB190123449A. Автор: Daniel Webster Bowman. Владелец: Individual. Дата публикации: 1902-04-03.

An Improved Water Heater Operated by Gas or other Fuel

Номер патента: GB190407987A. Автор: Jane Key. Владелец: Individual. Дата публикации: 1904-05-12.

Improvements in Gas or Vapour Burners.

Номер патента: GB189911491A. Автор: William Gordon Potter. Владелец: Individual. Дата публикации: 1899-07-29.

Improvements in Methods and Apparatus for Incandescence Gas or Vapour Lighting

Номер патента: GB190210712A. Автор: William Hooker. Владелец: Individual. Дата публикации: 1903-04-02.

Improvements in Gas or Hydro-carbon Motors.

Номер патента: GB189710005A. Автор: Andre Fritscher,Abel Raymond Houdry. Владелец: Individual. Дата публикации: 1898-02-26.

Improvements in Gas or Oil Motors.

Номер патента: GB190016627A. Автор: Denton Abel Charles. Владелец: Anciens Etablissements Panhard et Levassor SA. Дата публикации: 1901-08-03.

Improvements in Luminous Gas or Vapour Electric Lamps.

Номер патента: GB190303444A. Автор: Frederick William Le Tall. Владелец: Individual. Дата публикации: 1904-01-07.

Improvements in Gas or Vapour Condensers for Railway Vehicles Fitted with Refrigerating Machinery.

Номер патента: GB190728471A. Автор: Arthur Robert Thomas Woods,Bernard Rathmell. Владелец: Individual. Дата публикации: 1908-12-28.

Device for Stopping Leaky Joints in Gas or other Pipes.

Номер патента: GB190001996A. Автор: Solomon Robert Dresser. Владелец: Individual. Дата публикации: 1900-03-31.

Improved Apparatus for the Compression of Gas, or Air, for Lighting, or Heating, Purposes.

Номер патента: GB190826719A. Автор: Edward Fletcher. Владелец: Individual. Дата публикации: 1909-09-02.

Improvements in or relating to Gas or Vapour Burners.

Номер патента: GB190422638A. Автор: Alexander Shiels. Владелец: Individual. Дата публикации: 1905-10-19.

An Apparatus for Detecting Explosive Gas or Dust in the Atmosphere.

Номер патента: GB189921714A. Автор: Charles Edward Glascodi Simons. Владелец: Individual. Дата публикации: 1900-10-27.

Improvements relating to Coin-freed Mechanism, specially applicable to Prepayment Gas or Electricity Meters.

Номер патента: GB190325658A. Автор: . Владелец: British Thomson Houston Co Ltd. Дата публикации: 1904-09-29.

Improvements in the Manufacture of Water Gas or Mixed Gas and in Apparatus therefor.

Номер патента: GB190312182A. Автор: Gustav Horn. Владелец: Individual. Дата публикации: 1903-07-16.

Improvements in Lamps or Lanterns for Inverted Gas or Vapour Incandescent Burners.

Номер патента: GB190425036A. Автор: Lucien Liais. Владелец: Individual. Дата публикации: 1904-12-22.

Improvements in and relating to Gas or Oil Stoves.

Номер патента: GB189812434A. Автор: Edward Burden. Владелец: Individual. Дата публикации: 1899-09-02.

Condensation of natural gas or methane into gasoline range hydrocarbons

Номер патента: CA1185268A. Автор: George A. Olah. Владелец: Individual. Дата публикации: 1985-04-09.

Improvements in and relating to Coin-freed Apparatus for Delivering Gas or like Fluids.

Номер патента: GB190110691A. Автор: William Cox. Владелец: Individual. Дата публикации: 1901-12-31.

Improvements in Cooking Stoves Heated by Gas or Oil.

Номер патента: GB190511133A. Автор: Percy Frederick Williams. Владелец: Individual. Дата публикации: 1906-05-03.

Improvements in the Mixing of Air with the Fuel Vapours of Gas or Oil Engines.

Номер патента: GB189809856A. Автор: Oscar Brunler. Владелец: Individual. Дата публикации: 1898-06-25.

Improvements in Opening Capsules Charged with Gas or Liquid under Pressure.

Номер патента: GB190008579A. Автор: Jean Baptiste Bourseau. Владелец: Individual. Дата публикации: 1900-06-16.

Improvements in Gas or Vapour Heating Stoves and Ventilators.

Номер патента: GB189915707A. Автор: Henry Martyn Williams. Владелец: Individual. Дата публикации: 1899-09-23.

Silicon wafer for solar battery

Номер патента: CA130835S. Автор: . Владелец: RIN SOON PARK. Дата публикации: 2010-01-18.

Manufacturing method for GaN-based film chip

Номер патента: CN102790137A. Автор: 陈栋,朱浩,闫占彪,赵汉民,周印华,熊传兵. Владелец: Shineon Beijing Technology Co Ltd. Дата публикации: 2012-11-21.

Production method for GaN based LED

Номер патента: CN101488551B. Автор: 刘�文,余永林,黄德修,黄黎蓉,赵彦立,元秀华. Владелец: HUAZHONG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY. Дата публикации: 2011-12-14.

Method for preparing synthetic gas or safety fuel gas using gas of coal mine

Номер патента: CN1955268B. Автор: 王志坚,庞玉学,庞彪,冯友茵. Владелец: 庞玉学. Дата публикации: 2011-05-18.

LEAKAGE BARRIER FOR GaN BASED HEMT ACTIVE DEVICE

Номер патента: US20120032185A1. Автор: . Владелец: NORTHROP GRUMMAN CORPORATION. Дата публикации: 2012-02-09.

ION IMPLANTED AND SELF ALIGNED GATE STRUCTURE FOR GaN TRANSISTORS

Номер патента: US20120193688A1. Автор: Cao Jianjun,Lidow Alexander,Beach Robert,Nakata Alana,Strittmatter Robert,Zhao Guang Y.. Владелец: . Дата публикации: 2012-08-02.

REGROWN SHOTTKY STRUCTURES FOR GAN HEMT DEVICES

Номер патента: US20120302178A1. Автор: III Edward A.,Beam. Владелец: TRIQUINT SEMICONDUCTOR, INC.. Дата публикации: 2012-11-29.

Conductivity Based on Selective Etch for GaN Devices and Applications Thereof

Номер патента: US20130011656A1. Автор: . Владелец: YALE UNIVERSITY. Дата публикации: 2013-01-10.

Buffer Layer for GaN-on-Si LED

Номер патента: US20130056745A1. Автор: Chen Zhen. Владелец: Bridgelux, Inc.. Дата публикации: 2013-03-07.

Vapor phase growing method for gan

Номер патента: JPS5727999A. Автор: Kiyoshi Yoneda. Владелец: Sanyo Electric Co Ltd. Дата публикации: 1982-02-15.

Structure of electrode for GaN-based semiconductor

Номер патента: KR100726562B1. Автор: 장자순,추성호. Владелец: 엘지이노텍 주식회사. Дата публикации: 2007-06-11.

Manufacturing method for GaN compound semiconductor

Номер патента: TW473836B. Автор: Ying-Che Sung,Wen-Ming Liou. Владелец: Arima Optoelectronics Corp. Дата публикации: 2002-01-21.

Apparatus and method for converting an electric water heater to use gas

Номер патента: CA2070074C. Автор: Frank L. Horne, Sr.. Владелец: GAS-FIRED PRODUCTS, INC.. Дата публикации: 1996-01-16.

Improvements in or relating to the Burning of Inflammable Gas or Vapour and in Apparatus therefor.

Номер патента: GB189909573A. Автор: . Владелец: Clarkson & Capel Steam Car Syn. Дата публикации: 1900-05-05.

Improvements in or relating to Taps for Steam, Water, or Gas, or other Liquids or Fluids.

Номер патента: GB190425943A. Автор: Joseph Booth Butterfield. Владелец: Individual. Дата публикации: 1905-10-05.

Gas analyzer for metal using gas density balance type detector

Номер патента: JPS53120593A. Автор: Iichi Kogahara. Владелец: RIGOUSHIYA KK. Дата публикации: 1978-10-21.

Gas seal for reactors using gas conducting bodies

Номер патента: AU2002342819A1. Автор: Frank Stockhausen. Владелец: SGL CARBON SE. Дата публикации: 2002-11-25.

Improvements in Gas or Vapour Electric Apparatus for Rectifying Alternating Electric Currents and other pusposes.

Номер патента: GB190411831A. Автор: Max Von Recklinghausen. Владелец: Individual. Дата публикации: 1905-03-09.

Improvements in Cooking Stoves Heated by Oil, Gas, or Electricity

Номер патента: GB190202343A. Автор: Harry James Yates,David Robert Mcneill. Владелец: Individual. Дата публикации: 1903-01-15.

Gas detection apparatus and gas detection method using gas detection apparatus

Номер патента: CN106442640A. Автор: 范富诚. Владелец: High Tech Computer Corp. Дата публикации: 2017-02-22.

Dual-purpose circular fire burner using gas or fuel oil

Номер патента: CN2581814Y. Автор: 邹长青,陈隆生,王斯怀. Владелец: Hunan Jixiang Burner Co ltd. Дата публикации: 2003-10-22.

Improvements in or relating to Gas or Vapour Burners.

Номер патента: GB190409755A. Автор: Albert Nuernberg. Владелец: Individual. Дата публикации: 1904-06-02.

The Purification of Iron Making Blast Furnace Gas, or any Combustible Gas of an Analogous Character.

Номер патента: GB190224152A. Автор: Benjamin Howarth Thwaite. Владелец: Individual. Дата публикации: 1903-10-15.

Improvements in or relating to Gas or Vapour Burners.

Номер патента: GB190006608A. Автор: Alfred Julius Boult. Владелец: Individual. Дата публикации: 1900-09-29.

Improvements in Apparatus for Rapid Water Heating by Gas or the like.

Номер патента: GB189815084A. Автор: John Frederick Simmance,Jacques Abady. Владелец: Individual. Дата публикации: 1899-05-27.

Improvements in or relating to Anti-vibratory Supports for Incandescent Gas or Oil Burners and Mantles.

Номер патента: GB189819565A. Автор: Arthur Otto Sachse. Владелец: Individual. Дата публикации: 1899-08-26.

Improvements in the Valve Gear of Pumps for Exhausting or Compressing Gas or Air.

Номер патента: GB190010358A. Автор: Melville Clark Alexander. Владелец: Pokorny & Wittekind. Дата публикации: 1901-04-20.

Improvements in or connected with Gas or Vapour Burners.

Номер патента: GB190010038A. Автор: Henry Alonzo House. Владелец: Individual. Дата публикации: 1901-05-25.

An Improvement in Engines Worked by Gas or Combustible Vapour.

Номер патента: GB189606573A. Автор: Herbert John Dowsing,Henry Sheehy Keating. Владелец: Individual. Дата публикации: 1897-03-06.

Improvements in Generating Pressure by the Combustion of Air and Gas or Liquid Fuel.

Номер патента: GB190300197A. Автор: William John Rodgerson. Владелец: Individual. Дата публикации: 1904-01-02.

Improvements in or relating to Taps for Steam, Water, or Gas, or other Liquids or Fluids.

Номер патента: GB190420731A. Автор: Joseph Booth Butterfield. Владелец: Individual. Дата публикации: 1905-08-10.

Improvements in Gas or like Engines for Motor Road Vehicles.

Номер патента: GB190105981A. Автор: Harry Austin Knox. Владелец: Individual. Дата публикации: 1901-10-26.

An Improvements in Taps for Steam, Water, or Gas, or other Liquids or Fluids.

Номер патента: GB189817731A. Автор: Joseph Booth Butterfield. Владелец: Individual. Дата публикации: 1898-10-15.

Method for Separating a Cleaned Useful Gas From a Gas Mixture, and Device for Carrying Out Said Method

Номер патента: US20120304689A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-12-06.

Gas trubine by using gas included dust

Номер патента: JPS5236208A. Автор: Kazuo Yamane. Владелец: Kawasaki Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 1977-03-19.

Rock drill using gas jets - has rocket and head with nozzles communicating with gas generator

Номер патента: FR2307118A1. Автор: . Владелец: TS GEOFIZICHESKY TREST. Дата публикации: 1976-11-05.

Production method for photoacoustic gas sensor-use gas diffusion filter

Номер патента: AU2002253646A1. Автор: Takashi Kihara,Hisatoshi Fujiwara,Nobuaki Honda. Владелец: Azbil Corp. Дата публикации: 2002-11-11.