Electron beam device with single crystal window and matching anode.

Electron beam device with single crystal window and matching anode

Номер патента: AU4749596A
Опубликовано: 24-07-1996
Автор(ы): George Wakalopulos
Принадлежит: Ushio International Technologies Inc

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Diaphragm with windows for electron beam, having inhomogeneous cross sections

Номер патента: RU2702336C2. Автор: Имтиаз РАНГВАЛЛА,Рич АЛЕКСИ,Джонатан БАРОУД. Владелец: Энерджи Сайенсиз Инк.. Дата публикации: 2019-10-08.

Electron beam window tile having non-uniform cross-sections

Номер патента: US09715990B2. Автор: Imtiaz Rangwalla,Rich ALEXY,Jonathan Baroud. Владелец: Energy Sciences Inc. Дата публикации: 2017-07-25.

Electron exit window foil for electron beam emitter

Номер патента: US20230402245A1. Автор: Alaa Omrane. Владелец: Tetra Laval Holdings and Finance SA. Дата публикации: 2023-12-14.

Electron-beam irradiation apparatus and maintenance method for electron-beam irradiation apparatus

Номер патента: US12033828B2. Автор: Masahiro Nagai,Toshio Kimura. Владелец: NHV Corp. Дата публикации: 2024-07-09.

System and method for electron beam irradiation

Номер патента: EP1339085A3. Автор: Setsuo Norioka,Toshiaki Miyokawa,Naoki Date,Yoshihisa c/o Sony Corporation Miura,Yuichi c/o Sony Corporation Aki,Jun c/o Sony Corporation Sasaki. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2005-08-17.

Electron source and charged particle beam device

Номер патента: US11929230B2. Автор: Souichi Katagiri,Takashi Doi,Kazuhiro Honda,Akira Ikegami,Aki Takei,Masahiro Fukuta,Keigo Kasuya,Soichiro Matsunaga. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-03-12.

Electron beam apparatus and method for controlling electron beam apparatus

Номер патента: US11894211B2. Автор: Souichi Katagiri,Takashi Doi,Minoru Yamazaki,Keigo Kasuya,Tetsuya Sawahata,Soichiro Matsunaga,Erina Kawamoto. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-02-06.

Electrical inspection of electronic devices using electron-beam induced plasma probes

Номер патента: US09523714B2. Автор: Abraham Gross,Daniel Toet,Alexander Kadyshevitch,Arie Glazer,Ofer Kadar,Ronen Loewinger. Владелец: Photon Dynamics Inc. Дата публикации: 2016-12-20.

Automatic electron gun with an anastigmatic device and a method for correcting electron beam astigmatism for an electron gun

Номер патента: RU2769346C1. Автор: Сяодун ХУАН,Бинь Ван,Цян ТАН,Тун Чжан,Шоуци Вэй,Сян Фэй,Найбо Су,Ян Дун,Вэньмин Го,Цзумин Лян,Гохуа Хуан. Владелец: Гуйлинь Тхд Текнолоджи Ко. Лтд. Дата публикации: 2022-03-30.

Electron gun, electron beam applicator, emission axis verification method for electron beam emitted from photocathode, and emission axis alignment method for electron beam emitted from photocathode

Номер патента: US12080507B2. Автор: Hokuto Iijima. Владелец: Photo Electron Soul Inc. Дата публикации: 2024-09-03.

Electron gun, electron beam application device, and method for forming multi-electron beam

Номер патента: EP4432328A1. Автор: Hokuto Iijima. Владелец: Photo Electron Soul Inc. Дата публикации: 2024-09-18.

System and method for imaging a sample with an electron beam with a filtered energy spread

Номер патента: US09905391B2. Автор: Xinrong Jiang. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2018-02-27.

Method and apparatus for electron beam column assembly with precise alignment using displaced semi-transparent membranes

Номер патента: EP1153411A1. Автор: Lawrence P. Muray,James P. Spallas. Владелец: Etec Systems Inc. Дата публикации: 2001-11-14.

Method and apparatus for electron beam column assembly with precise alignment using displaced semi-transparent membranes

Номер патента: WO2001035440A9. Автор: Lawrence P Muray,James P Spallas. Владелец: Etec Systems Inc. Дата публикации: 2002-09-12.

Method and apparatus for electron beam column assembly with precise alignment using displaced semi-transparent membranes

Номер патента: WO2001035440A8. Автор: Lawrence P Muray,James P Spallas. Владелец: Etec Systems Inc. Дата публикации: 2003-11-13.

Electron beam drawing apparatus, deflection amplifier, deflection control device, electron beam drawing method, method of manufacturing semiconductor device, and electron beam drawing program

Номер патента: US20060151721A1. Автор: Hiroyuki Mizuno,Noriaki Sasaki,Takeshi Koshiba,Kazuo Tawarayama,Takumi Ota,Tatsuhiko Higashiki,Tetsuro Nakasugi,Shunko Magoshi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-07-13.

Electron source and electron beam apparatus

Номер патента: US20100237762A1. Автор: Yoshinori Terui,Ryozo Nonogaki. Владелец: Denki Kagaku Kogyo KK. Дата публикации: 2010-09-23.

Electron beam illumination device, and exposure apparatus with electron beam illumination device

Номер патента: US6037601A. Автор: Masahiko Okunuki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2000-03-14.

Apparatus for GHz rate high duty cycle pulsing and manipulation of low and medium energy DC electron beams

Номер патента: US09697982B2. Автор: Chunguang Jing,Yimei Zhu,Sergey Antipov,Jiaqi Qiu,Sergey V Baryshev,Gwanghui Ha,June W Lau. Владелец: Euclid Techlabs LLC. Дата публикации: 2017-07-04.

Electron gun, electron gun component, electron beam applicator, and alignment method

Номер патента: US11842879B2. Автор: Tomohiro Nishitani. Владелец: Photo Electron Soul Inc. Дата публикации: 2023-12-12.

Method and apparatus for electron beam column assembly with precise alignment using displaced semi-transparent membranes

Номер патента: WO2001035440A1. Автор: Lawrence P. Muray,James P. Spallas. Владелец: Etec Systems, Inc.. Дата публикации: 2001-05-17.

Automatic hydraulic clamping mechanism for a window foil holder of an electron beam irradiator

Номер патента: US4829190A. Автор: Takashi Matsumoto,Kenji Okamoto. Владелец: Nissin High Voltage Co Ltd. Дата публикации: 1989-05-09.

Thermal field emitter tip, electron beam device including a thermal field emitter tip and method for operating an electron beam device

Номер патента: US09697983B1. Автор: Stefan Lanio,Aleksandra Kramer,John Breuer. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-07-04.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20170271121A1. Автор: Wen Li,Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Ryo Kadoi,Kazuki Ikeda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-09-21.

Charged Particle Beam Device, Electron Microscope and Sample Observation Method

Номер патента: US20170221676A1. Автор: Yasuhira Nagakubo,Takeshi Sunaoshi,Kazutaka Nimura. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-08-03.

Method of forming a multipole device, method of influencing an electron beam, and multipole device

Номер патента: US20240274396A1. Автор: John Breuer,Ivo LISKA,Dominik Patrick Ehberger,Kathrin Mohler. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2024-08-15.

Electron Microscope And Electron Beam Inspection System

Номер патента: US20080265161A1. Автор: Masaki Hasegawa,Hideo Todokoro,Hisaya Murakoshi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-10-30.

Electron beam imaging with dual Wien-filter monochromator

Номер патента: US09443696B2. Автор: Xinrong Jiang,Liqun Han. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2016-09-13.

Electron beam exposure apparatus and method

Номер патента: US20140131589A1. Автор: Akio Yamada. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2014-05-15.

Electron optical module for providing an off-axial electron beam with a tunable coma

Номер патента: EP4167265A1. Автор: Alexander Henstra,Peter Christiaan Tiemeijer,Ali Mohammadi-Gheidari,Tomas RADLICKA. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2023-04-19.

Apparatus and methods for high-resolution electron beam imaging

Номер патента: US20130256530A1. Автор: Xinrong Jiang,Liqun Han. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2013-10-03.

System and method for drift compensation on an electron beam based characterization tool

Номер патента: WO2017165308A1. Автор: Christopher Sears,Frank Laske. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2017-09-28.

System and method for drift compensation on an electron beam based characterization tool

Номер патента: US09892885B2. Автор: Christopher Sears,Frank Laske. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2018-02-13.

Scanning electron beam device

Номер патента: US5422486A. Автор: Jürgen Frosien,Stefan Lanio,Steffen Beck,Karl H. Herrmann,Hans P. Feuerbaum,Andreas Benez,Gerold Schonecker. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 1995-06-06.

Electron beam application apparatus

Номер патента: US20220319798A1. Автор: Takeshi Morimoto,Akira Ikegami,Yasuhiro Shirasaki,Momoyo Enyama. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-10-06.

Charged particle beam device

Номер патента: US9679740B2. Автор: Wen Li,Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Ryo Kadoi,Kazuki Ikeda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-06-13.

Electron beam emitter with slotted gun

Номер патента: US8338796B2. Автор: Gerald M. Friedman,Steven Raymond Walther,Michael L. Bufano. Владелец: Hitachi Zosen Corp. Дата публикации: 2012-12-25.

Electron beam emitter with slotted gun

Номер патента: WO2009151533A3. Автор: Gerald M. Friedman,Steven Raymond Walther,Michael L. Bufano. Владелец: Advanced Electron Beams, Inc.. Дата публикации: 2010-04-08.

Electron beam emitter with slotted gun

Номер патента: US20090289204A1. Автор: Gerald M. Friedman,Steven Raymond Walther,Michael L. Bufano. Владелец: Advanced Electron Beams Inc. Дата публикации: 2009-11-26.

Electron beam emitter with slotted gun

Номер патента: EP2301057A2. Автор: Gerald M. Friedman,Steven Raymond Walther,Michael L. Bufano. Владелец: Advanced Electron Beams Inc. Дата публикации: 2011-03-30.

Electron beam emitter with slotted gun

Номер патента: WO2009151533A8. Автор: Gerald M. Friedman,Steven Raymond Walther,Michael L. Bufano. Владелец: Advanced Electron Beams, Inc.. Дата публикации: 2010-02-18.

Electron beam generator, image apparatus including the same and optical apparatus

Номер патента: US09460888B2. Автор: Jin Sun Kim,Moon Youn Jung,Dong Hoon SONG. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute ETRI. Дата публикации: 2016-10-04.

Thermoelectric field emission electron source and electron beam application device

Номер патента: US20220037107A1. Автор: Souichi Katagiri,Takashi Doi,Hajime Kawano,Aki Takei,Keigo Kasuya,Soichiro Matsunaga. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-02-03.

Miniature hybrid electron beam column

Номер патента: EP4427256A1. Автор: James Spallas,Lawrence Muray,Alan Brodie,John Gerling. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-09-11.

Electromagnetic lens for electron beam exposure apparatus

Номер патента: US8957389B2. Автор: Akio Yamada. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2015-02-17.

Patterned heat conducting photocathode for electron beam source

Номер патента: WO2001009913A3. Автор: Andres Fernandez,Kim Lee,Marian Mankos,Tai-Hon Philip Chang,Steven T Coyle. Владелец: Etec Systems Inc. Дата публикации: 2001-10-04.

Patterned heat conducting photocathode for electron beam source

Номер патента: WO2001009913A2. Автор: Andres Fernandez,Kim Lee,Marian Mankos,Tai-Hon Philip Chang,Steven T. Coyle. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2001-02-08.

Electron gun, electron beam applying equipment and an electron beam emission method

Номер патента: EP4310883A1. Автор: Tomohiro Nishitani. Владелец: Photo Electron Soul Inc. Дата публикации: 2024-01-24.

Dual-lens-gun electron beam apparatus and methods for high-resolution imaging with both high and low beam currents

Номер патента: EP2896062A1. Автор: Xinrong Jiang,Liqun Han. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2015-07-22.

Electron gun, electron beam applying device, and electron gun control method

Номер патента: EP3780063A1. Автор: Atsushi Koizumi,Hokuto Iijima. Владелец: Photo Electron Soul Inc. Дата публикации: 2021-02-17.

Electron gun, electron beam applicator, and emission method of electron beam

Номер патента: US20240212967A1. Автор: Tomohiro Nishitani. Владелец: Photo Electron Soul Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

Electron Gun, Electron Beam Applicator, and Method for Controlling Electron Gun

Номер патента: US20230131413A1. Автор: Atsushi Koizumi,Hokuto Iijima. Владелец: Photo Electron Soul Inc. Дата публикации: 2023-04-27.

Electrostatic deflection control circuit and method of electronic beam measuring apparatus

Номер патента: US20070063146A1. Автор: Hiroshi Sasaki. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2007-03-22.

Electrostatic deflector for electron beam exposure apparatus

Номер патента: US20010045528A1. Автор: Hitoshi Tanaka,Takeshi Haraguchi,Tomohiko Abe,Ryoji Kato,Yoshihisa Ooae,Kazuto Ashiwara. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2001-11-29.

Electrostatic deflector for electron beam exposure apparatus

Номер патента: US20020020354A1. Автор: Hitoshi Tanaka,Takeshi Haraguchi,Tomohiko Abe,Ryoji Kato,Yoshihisa Ooae,Kazuto Ashiwara. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2002-02-21.

Patterned heat conducting photocathode for electron beam source

Номер патента: EP1200977A2. Автор: Andres Fernandez,Kim Lee,Marian Mankos,Tai-Hon Philip Chang,Steven T. Coyle. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2002-05-02.

Electron beam application device

Номер патента: US20210319970A1. Автор: Hiroyuki Minemura,Hideo Morishita,Takashi Ohshima,Manabu Shiozawa. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-10-14.

Electron optical module for providing an off-axial electron beam with a tunable coma

Номер патента: US11804357B2. Автор: Alexander Henstra,Peter Christiaan Tiemeijer,Ali Mohammadi-Gheidari,Tomas RADLICKA. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2023-10-31.

Electron Source and Electron Beam Device Using the Same

Номер патента: US20190385809A1. Автор: Yoichi Ose,Tomihiro Hashizume,Takashi Ohshima,Toshiaki Kusunoki,Noriaki Arai,Keigo Kasuya. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-12-19.

Apparatus having a magnetic lens configured to diverge an electron beam

Номер патента: US09390882B2. Автор: Shixin Wang. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2016-07-12.

Parallel multi-electron beam lithography for IC fabrication with precise X-Y translation

Номер патента: US20050253093A1. Автор: Hsing-Yao Chen,Boris Rozansky,Richard Gorski. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-11-17.

Electron-beam irradiation apparatus and maintenance method for electron-beam irradiation apparatus

Номер патента: US20240087836A1. Автор: Masahiro Nagai,Toshio Kimura. Владелец: NHV Corp. Дата публикации: 2024-03-14.

Illumination system for electron beam lithography tool

Номер патента: EP1091386A3. Автор: Victor Katsap,Daniel Moonen,Warren Kazmir Waskiewicz,Peter Kruit. Владелец: Lucent Technologies Inc. Дата публикации: 2006-03-01.

Electron beam exposure device

Номер патента: US5945683A. Автор: HIROSHI Yasuda,Hitoshi Tanaka,Yoshihisa Ooae,Tatsuro Ohkawa. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 1999-08-31.

Electron beam source system and method

Номер патента: WO2012119009A2. Автор: Jan Bennett,Mark Troll,John Bennett. Владелец: John Bennett. Дата публикации: 2012-09-07.

Electron beam application apparatus

Номер патента: US11915903B2. Автор: Takeshi Morimoto,Akira Ikegami,Yasuhiro Shirasaki,Momoyo Enyama. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-02-27.

Micro stigmator array for multi-electron beam system

Номер патента: EP4091187A1. Автор: Christopher Sears,Xinrong Jiang. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2022-11-23.

Electron beam drawing apparatus

Номер патента: US20030197134A1. Автор: Yoshimasa Fukushima,Toshihiko Horiuchi,Masaki Kurihara,Masaki Mizuochi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2003-10-23.

System of naked conductors and method of counting electron beams

Номер патента: RU2407040C2. Автор: Ханс ХАЛЛСТАДИУС,Андерс КРИСТИАНССОН,Ларс Аке НЕСЛУНД,ОЛССОН Андерс ХЕДСЕ. Владелец: ТЕТРА ЛАВАЛЬ ХОЛДИНГЗ ЭНД ФАЙНЭНС С.А.. Дата публикации: 2010-12-20.

Electron beam accelerator

Номер патента: EP1194944A1. Автор: Tzvi Avnery,Kenneth P. Felis. Владелец: Advanced Electron Beams Inc. Дата публикации: 2002-04-10.

Electron beam emitter with increased electron transmission efficiency

Номер патента: US09576765B2. Автор: Kaveh Bakhtari. Владелец: Hitachi Zosen Corp. Дата публикации: 2017-02-21.

Device and method for controlling focussed electron beams

Номер патента: WO2002082497A1. Автор: Dieter Winkler,Pavel Adamec. Владелец: Ict, Integrated Circuit Testing Gesellschaft Für Halbleiterprüftechnik Mbh. Дата публикации: 2002-10-17.

Micro-column electron beam apparatus

Номер патента: US20060151716A1. Автор: Dae Kim,Jin Jeong,Sang Choi. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute ETRI. Дата публикации: 2006-07-13.

Electron beam lithography system and method

Номер патента: EP1406291A3. Автор: Takashi Hitachi High-Techologies Corp. Onishi,Masaki Hitachi High-Technologies Corp. Mizuochi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2005-11-09.

Apparatus and methods for electron beam lithography using array cathode

Номер патента: US09715995B1. Автор: Keith Standiford,Alan D. Brodie,Paul F. Petric. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2017-07-25.

Electron beam plasma formation for surface chemistry

Номер патента: WO2001015199A1. Автор: George Wakalopulos. Владелец: Ushio International Technologies, Inc.. Дата публикации: 2001-03-01.

Electron beam aperture element with beam shielding

Номер патента: EP1121704A1. Автор: Tao Zhang. Владелец: Vistec Lithography Ltd. Дата публикации: 2001-08-08.

Electron beam application device and method for creating detection data in electron beam application device

Номер патента: EP4421842A1. Автор: Tomohiro Nishitani. Владелец: Photo Electron Soul Inc. Дата публикации: 2024-08-28.

Electron Beam Apparatus And Method Of Generating An Electron Beam Irradiation Pattern

Номер патента: US20100078555A1. Автор: Yuji Inoue,Masato Muraki,Haruo Yoda,Ryo Fujita,Kimiaki Ando. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-04-01.

Method and apparatus for electron-beam lithography

Номер патента: US7342241B2. Автор: Yasuko Aoki,Tsutomu Tawa,Yoshimitsu Saze. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2008-03-11.

Method and apparatus for electron-beam lithography

Номер патента: US20060011080A1. Автор: Yasuko Aoki,Tsutomu Tawa,Yoshimitsu Saze. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2006-01-19.

Method of and machine for pattern writing by an electron beam

Номер патента: EP1000437A1. Автор: David Martin Platton King,Barrie James Hughes. Владелец: Vistec Lithography Ltd. Дата публикации: 2000-05-17.

Method of and machine for pattern writing by an electron beam

Номер патента: WO1999007009A1. Автор: David Martin Platton King,Barrie James Hughes. Владелец: Leica Lithography Systems Ltd.. Дата публикации: 1999-02-11.

Electron Source, Method of Manufacturing the Same, And Electron Beam Apparatus Using the Same

Номер патента: US20230317401A1. Автор: Tomihiro Hashizume,Toshiaki Kusunoki,Noriaki Arai,Keigo Kasuya. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-05.

Ultra broad band continuously tunable electron beam pulser

Номер патента: US20170162361A1. Автор: Chunguang Jing,Yimei Zhu,Jiaqi Qiu,Sergey V. Baryshev,June W. Lau. Владелец: Euclid Techlabs LLC. Дата публикации: 2017-06-08.

Method and apparatus for controlling an electron beam with a phase modulator driven by analog multiplexing

Номер патента: WO2023222733A1. Автор: Vincenzo Grillo,Enzo ROTUNNO,Alberto RONCAGLIA,Luca BELSITO. Владелец: CONSIGLIO NAZIONALE DELLE RICERCHE. Дата публикации: 2023-11-23.

Electron-beam exposure system

Номер патента: US20060284119A1. Автор: Masaki Kurokawa. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2006-12-21.

Method and device for generation of electron beams

Номер патента: RU2637509C2. Автор: Маттиас СВЕНССОН,Ульрик ЛЮНГБЛАД. Владелец: Аркам Аб. Дата публикации: 2017-12-05.

Electron beam irradiating apparatus and irradiating method

Номер патента: US7326943B2. Автор: Munehiro Ogasawara. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2008-02-05.

Electron beam irradiating apparatus and irradiating method

Номер патента: US20060192148A1. Автор: Munehiro Ogasawara. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-08-31.

Electron beam exposure system

Номер патента: US5105089A. Автор: Akio Yamada. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1992-04-14.

Electron gun and charged particle beam device equipped with electron gun

Номер патента: US11978609B2. Автор: Minoru Kaneda. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-05-07.

Method of operating emitter for electron-beam projection lithography system

Номер патента: US20070278425A1. Автор: Chang-Hoon Choi,In-kyeong Yoo,Chang-wook Moon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-12-06.

Emitter for electron-beam projection lithography system, and method of manufacturing and operating the emitter

Номер патента: US20050077833A1. Автор: Chang-Hoon Choi,In-kyeong Yoo,Chang-wook Moon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2005-04-14.

Emitter for electron-beam projection lithography system, and method of manufacturing and operating the emitter

Номер патента: US7256406B2. Автор: Chang-Hoon Choi,In-kyeong Yoo,Chang-wook Moon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-08-14.

System for discharging an area that is scanned by an electron beam

Номер патента: US09673023B2. Автор: Alex Goldenshtein. Владелец: Applied Materials Israel Ltd. Дата публикации: 2017-06-06.

Electronic beam generator

Номер патента: RU2557078C2. Автор: Геста МАТТАУШ,Петер ФАЙНОЙГЛЕ,Фолькер КИРХХОФФ,Дитер ВАЙСКЕ,Хенрик ФЛАСКЕ,Райнер ЦАЙБЕ. Владелец: Фраунхофер-Гезелльшафт Цур Фердерунг Дер Ангевандтен Форшунг Е.Ф.. Дата публикации: 2015-07-20.

High throughput multi-electron beam system

Номер патента: US11869743B2. Автор: Xinrong Jiang. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-01-09.

Minimization of electron fogging in electron beam lithography

Номер патента: EP1200979A1. Автор: Lee H. Veneklasen,Chen Hwa,Robert Innes,Allan L. Sagle,Sergey V. Babin. Владелец: Etec Systems Inc. Дата публикации: 2002-05-02.

Systems and methods of creating multiple electron beams

Номер патента: EP4327350A1. Автор: Kevin Cummings,Christopher Sears,Sameet K. Shriyan,Xinrong Jiang,Luca Grella. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-02-28.

High throughput multi-electron beam system

Номер патента: EP4285399A1. Автор: Xinrong Jiang. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2023-12-06.

Electron beam lithography system and method therefor

Номер патента: US20040065848A1. Автор: Takashi Onishi,Masaki Mizuochi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2004-04-08.

Electron beam apparatus and method for generating a pulsed electron beam and applications thereof

Номер патента: WO2024061773A1. Автор: Rudolf Haindl,Claus Ropers,Armin FEIST. Владелец: MAX-PLANCK-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER WISSENSCHAFTEN E. V.. Дата публикации: 2024-03-28.

High resolution electron beam exposure machines

Номер патента: US20040217303A1. Автор: Martin Lepselter. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-11-04.

Dual-mode electron beam lithography machine

Номер патента: GB2404783A. Автор: Timothy Groves. Владелец: Vistec Lithography Ltd. Дата публикации: 2005-02-09.

Dual-mode electron beam lithography machine

Номер патента: US7053388B2. Автор: Gerhard Schubert,Brian Rafferty,Klaus-Dieter Adam,Nigel Crosland,Timothy Groves,Jeffrey Kristoff. Владелец: Vistec Lithography Ltd. Дата публикации: 2006-05-30.

Electron beam plasma formation for surface chemistry

Номер патента: EP1218916A1. Автор: George Wakalopulos. Владелец: Ushio International Technologies Inc. Дата публикации: 2002-07-03.

Electron beam inspection apparatus

Номер патента: US20230113062A1. Автор: Atsushi Ando,Takahiro Murata. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-04-13.

Method for changing energy of electron beam in electron column

Номер патента: EP1929504A1. Автор: Ho Seob Kim. Владелец: CEBT Co Ltd. Дата публикации: 2008-06-11.

Electron beam apparatus

Номер патента: US20130341527A1. Автор: Jean Berney. Владелец: Ecole Polytechnique Federale de Lausanne EPFL. Дата публикации: 2013-12-26.

Electron-beam tube including a thermionic-field emission cathode for a scanning electron microscope

Номер патента: US3809899A. Автор: T Baker,M Balsiger,K Considine,H Litsjo. Владелец: Tektronix Inc. Дата публикации: 1974-05-07.

Electron accelerator having a wide electron beam

Номер патента: WO2000034958A3. Автор: Avnery Tzvi. Владелец: Applied Advanced Technologies. Дата публикации: 2000-11-23.

Electron-beam irradiation method and device (alternatives)

Номер патента: RU2250532C2. Автор: Ацуси НАКАМУРА,Масахиро КИГА. Владелец: Ибара Корпорейшн. Дата публикации: 2005-04-20.

Emitter for electron-beam projection lithography system and manufacturing method thereof

Номер патента: US20040178405A1. Автор: Dong-Wook Kim,Chang-wook Moon,Soo-Hwan Jeong,In-Keyong Yoo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2004-09-16.

Manufacturing method for emitter for electron-beam projection lithography

Номер патента: US7091054B2. Автор: Dong-Wook Kim,In-kyeong Yoo,Chang-wook Moon,Soo-Hwan Jeong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2006-08-15.

Emitter for electron-beam projection lithography system and manufacturing method thereof

Номер патента: US6953946B2. Автор: Dong-Wook Kim,In-kyeong Yoo,Chang-wook Moon,Soo-Hwan Jeong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2005-10-11.

Method of controlling an electron beam in an electron accelerator and an electron accelerator

Номер патента: WO1991018411A1. Автор: Pertti Puumalainen. Владелец: Tampella Power Oy. Дата публикации: 1991-11-28.

Electron beam tube and window for electron beam extraction

Номер патента: US6870174B2. Автор: Katsuya Okumura,Masanori Yamaguchi. Владелец: Octec Inc. Дата публикации: 2005-03-22.

Electron beam apparatus having a low loss beam path

Номер патента: CA2384608C. Автор: James P. DiZio,Douglas E. Weiss,Harvey W. Kalweit,Bruce A. Sventek,Roy G. Schlemmer. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2009-05-19.

Electron beam accelerator

Номер патента: EP2204838A2. Автор: Tzvi Avnery. Владелец: Advanced Electron Beams Inc. Дата публикации: 2010-07-07.

Charged particle beam device with dynamic focus and method of operating thereof

Номер патента: US09431210B2. Автор: Dieter Winkler,Igor Petrov. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2016-08-30.

Charged particle beam device and axis adjustment method thereof

Номер патента: US12027342B2. Автор: Yuta Imai,Masahiro Sasajima,Yoshihiro Takahoko. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-02.

Charged particle beam device and axis adjustment method thereof

Номер патента: US11764028B2. Автор: Yuta Imai,Masahiro Sasajima,Yoshihiro Takahoko. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-09-19.

Field emission electron source, method for manufacturing same, and electron beam device

Номер патента: US10586674B2. Автор: Yoichi Ose,Tomihiro Hashizume,Takashi Ohshima,Yusuke Sakai,Toshiaki Kusunoki,Noriaki Arai,Keigo Kasuya. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2020-03-10.

Creating multiple electron beams with a photocathode film

Номер патента: EP4427255A1. Автор: Michael Steigerwald,Xinrong Jiang,Ralph Nyffenegger,Youfei JIANG. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-09-11.

Electron beam irradiation apparatus, electron beam irradiation method, and apparatus for and method of manufacturing disc-shaped object

Номер патента: US20050161599A1. Автор: Kazushi Tanaka,Mamoru Usami,Kenji Yoneyama. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2005-07-28.

Electron beam length-measurement apparatus and measurement method

Номер патента: US20030052270A1. Автор: Jun Matsumoto,Takayuki Nakamura. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2003-03-20.

Electron beam irradiation apparatus, electron beam exposure apparatus, and defect detection method

Номер патента: US6784426B2. Автор: Takayuki Sugiura,Hideki Nasuno. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2004-08-31.

Observation apparatus and observation method using an electron beam

Номер патента: EP1274114A3. Автор: Masanari Intellectual Property Group Koguchi,Kuniyasu Intellectual Property Group Nakamura,Kaoru Intellectual Property Group Umemura,Yoshifumi Intellectual Property Group Taniguchi,Mikio Intellectual Property Group Ichihashi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2007-11-28.

Electron beam lithography system, electron beam lithography apparatus, and method of lithography

Номер патента: US20020145119A1. Автор: Haruo Yoda,Hajime Kawano,Minoru Wakita,Masato Kamada. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-10-10.

Electron beam pattern-writing column

Номер патента: WO1997025735A1. Автор: Thomas Chisholm. Владелец: Leica Lithography Systems Ltd.. Дата публикации: 1997-07-17.

Coherence measuring device for spin-polarized electron beam and method using the same

Номер патента: US09881767B2. Автор: Nobuo Tanaka,Toru Ujihara,Makoto Kuwahara,Koh Saitoh. Владелец: Nagoya University NUC. Дата публикации: 2018-01-30.

Charged Particle Beam Device and Axis Adjustment Method Thereof

Номер патента: US20230377829A1. Автор: Yuta Imai,Masahiro Sasajima,Yoshihiro Takahoko. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-11-23.

System for tomographic determination of the power distribution in electron beams

Номер патента: US5468966A. Автор: Dennis W. O'Brien,John W. Elmer,Alan T. Teruya. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 1995-11-21.

Apparatus and methods for aberration correction in electron beam based system

Номер патента: US09607802B2. Автор: Christopher F. Bevis. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Spot grid array electron beam imaging system

Номер патента: EP1446676A2. Автор: Gilad Almogy,Oren Reches. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-08-18.

Electron beam diagnostic for profiling high power beams

Номер патента: WO2006088486A1. Автор: John W. Elmer,Alan T. Teruya,Todd A. Palmer. Владелец: The Regents of the University of California. Дата публикации: 2006-08-24.

Electron beam detection element, electron microscope, and transmission electron microscope

Номер патента: US20190139737A1. Автор: Yukihiro Kuroda. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-05-09.

Electron beam microscope

Номер патента: US20240304410A1. Автор: Erik Essers. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2024-09-12.

Electron Beam Inspection System

Номер патента: US20220406560A1. Автор: Noriyuki Kobayashi,Ryuichi Kusakabe. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2022-12-22.

Optically-addressed phase modulator for electron beams

Номер патента: US12033829B2. Автор: Mark A. Kasevich,Adam Bowman,Stewart A. KOPPELL. Владелец: Leland Stanford Junior University. Дата публикации: 2024-07-09.

Electron-beam spot optimization

Номер патента: WO2017184232A1. Автор: Eric Miller,Richard Zimmerman,Dustin Peterson,Vince Jones. Владелец: Moxtek, Inc.. Дата публикации: 2017-10-26.

Electron-Beam Spot Optimization

Номер патента: US20170309436A1. Автор: Eric Miller,Richard Zimmerman,Dustin Peterson,Vince Jones. Владелец: Moxtek Inc. Дата публикации: 2017-10-26.

High voltage electron beam system and method

Номер патента: US09911571B2. Автор: Yosef Basson. Владелец: Applied Materials Israel Ltd. Дата публикации: 2018-03-06.

Electron beam generator for multiple columns

Номер патента: US20070296343A1. Автор: Takamasa Sato. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2007-12-27.

Method of electron beam imaging of a specimen by combining images of an image sequence

Номер патента: US20140239176A1. Автор: Liang Jin,Benjamin Eugene BAMMES. Владелец: Direct Electron LP. Дата публикации: 2014-08-28.

Electron beam observation device, electron beam observation system, and image correcting method and method for calculating correction factor for image correction in electron beam observation device

Номер патента: US11791130B2. Автор: Makoto Sakakibara,Satoru Yamaguchi,Koichi Hamada,Megumi Kimura,Momoyo Enyama,Kei Sakai,Ryou Yumiba,Katsumi Setoguchi,Masumi Shirai,Yasunori Takasugi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-17.

Charged particle beam device and inclined observation image display method

Номер патента: US20150001393A1. Автор: Shigeru Kawamata,Wataru Kotake,Sukehiro Ito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-01-01.

Charged Particle Beam Device, Autofocus Processing Method of Charged Particle Beam Device, and Detector

Номер патента: US20220044906A1. Автор: Mitsuhiro Nakamura,Michio Hatano. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-02-10.

Electron beam irradiation apparatus, electron beam irradiation method, and apparatus for and method of manufacturing disc-shaped object

Номер патента: US7205558B2. Автор: Kazushi Tanaka,Mamoru Usami,Kenji Yoneyama. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2007-04-17.

Electron Beam System and Method of Operating the Same

Номер патента: US20080087821A1. Автор: Norihisa Mori. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2008-04-17.

Electron beam detection element, electron microscope, and transmission electron microscope

Номер патента: US20190139749A1. Автор: Hidekazu Takahashi,Mizuki Nagasaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-05-09.

Electron beam irradiation device

Номер патента: US09960007B2. Автор: Takashi Sato,Hiroyuki Kashiwagi,Kazuto Matsuki,Ryoichi SUSUKI. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2018-05-01.

Creating multiple electron beams with a photocathode film

Номер патента: WO2023235441A1. Автор: Michael Steigerwald,Xinrong Jiang,Ralph Nyffenegger,Youfei JIANG. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2023-12-07.

Electron beam apparatus

Номер патента: US20140361168A1. Автор: MITSUHIRO Togashi,TAKASHI Ogawa,YASUTSUGU Usami. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2014-12-11.

Creating Multiple Electron Beams with a Photocathode Film

Номер патента: US20230395349A1. Автор: Michael Steigerwald,Xinrong Jiang,Ralph Nyffenegger,Youfei JIANG. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2023-12-07.

Detecting registration marks with a low energy electron beam

Номер патента: WO1999053518A1. Автор: Tai-Hon Philip Chang,Hoseob Kim. Владелец: Etec Systems, Inc.. Дата публикации: 1999-10-21.

Electron beam processing

Номер патента: US20030047691A1. Автор: Christian Musil,J. Casey,Thomas Gannon,Clive Chandler,Xiadong Da. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2003-03-13.

Electron beam processing

Номер патента: WO2003012551A1. Автор: Clive Chandler,Xiadong Da,Christian R. Musil,David J. Casey, Jr.,Thomas J. Gannon. Владелец: FEI COMPANY. Дата публикации: 2003-02-13.

Electron beam length measuring instrument and length measuring method

Номер патента: US20030029998A1. Автор: Jun Matsumoto,Takayuki Nakamura,Motoji Hirano. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2003-02-13.

Scanning electron microscope device and electron beam inspection apparatus

Номер патента: US11908658B2. Автор: Weiqiang SUN,Qinglang MENG. Владелец: Zhongke Jingyuan Microelectronic Technology Beijing Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-20.

Calibration method for electron beam exposer

Номер патента: US4763004A. Автор: HIROSHI Yasuda,Takayuki Miyazaki. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1988-08-09.

Specimen stages for electron beam instruments

Номер патента: GB1477458A. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 1977-06-22.

Suppression of emission noise for microcolumn applications in electron beam inspection

Номер патента: EP1425776A1. Автор: Kim Y. Lee,Ming Yu,Marian Mankos,Tai-Hon Philip Chang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-06-09.

Electron beam pattern-writing column

Номер патента: GB9600166D0. Автор: . Владелец: Vistec Lithography Ltd. Дата публикации: 1996-03-06.

Electron beam dose control for scanning electron microscopy and critical dimension measurement instruments

Номер патента: US5869833A. Автор: Neil Richardson,Stefano E. Concina,David L. Adler,Farid Askary,Kevin M. Monahan. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 1999-02-09.

Electron beam lithography and workpiece supporting apparatus having supporting means for workpiece stage and moving means detachably mounted to cover opening in vacuum chamber

Номер патента: US5214290A. Автор: Hiroyuki Sakai. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1993-05-25.

Electron beam exposure data processing method, electron beam exposure method and apparatus

Номер патента: US5210696A. Автор: Keiko Yano. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1993-05-11.

Coherence measuring device for spin-polarized electron beam and method using the same

Номер патента: US20170309446A1. Автор: Nobuo Tanaka,Toru Ujihara,Makoto Kuwahara,Koh Saitoh. Владелец: Nagoya University NUC. Дата публикации: 2017-10-26.

Multiport high-pressure fluid cell for photon and electron beams

Номер патента: US20220283061A1. Автор: Nicolaie A. Moldovan. Владелец: Alcorix Co. Дата публикации: 2022-09-08.

Electron beam splitter

Номер патента: US9984849B2. Автор: Jakob Hammer,Peter Hommelhoff. Владелец: Friedrich Alexander Univeritaet Erlangen Nuernberg FAU. Дата публикации: 2018-05-29.

Electron beam writing apparatus and output control method

Номер патента: US20160141143A1. Автор: Hiroyoshi Ando,Takiji Ishimura,Kennosuke ITAGAKI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-05-19.

Electron beam device, a getter sheet and a method of manufacturing an electron beam device provided with said getter sheet

Номер патента: US20140145589A1. Автор: Benno Zigerlig,Werner Haag,Toni Waber,Urs Hostettler,Dominique Cloetta. Владелец: Tetra Laval Holdings and Finance SA. Дата публикации: 2014-05-29.

An electron beam device, a getter sheet and a method of manufacturing an electron beam device provided with said getter sheet

Номер патента: EP2729954A2. Автор: Benno Zigerlig,Werner Haag,Toni Waber,Urs Hostettler,Dominique Cloetta. Владелец: Tetra Laval Holdings and Finance SA. Дата публикации: 2014-05-14.

An electron beam device, a getter sheet and a method of manufacturing an electron beam device provided with said getter sheet

Номер патента: WO2013004566A3. Автор: Benno Zigerlig,Werner Haag,Toni Waber,Urs Hostettler,Dominique Cloetta. Владелец: TETRA LAVAL HOLDINGS & FINANCE S.A.. Дата публикации: 2013-03-28.

Clean room arrangement for electron beam lithography

Номер патента: US20030015670A1. Автор: Hsing-Yao Chen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-01-23.

Cathode assembly for a line focus electron beam device

Номер патента: WO1997027612A1. Автор: George Wakalopulos. Владелец: American International Technologies, Inc.. Дата публикации: 1997-07-31.

Cathode housing suspension of an electron beam device

Номер патента: EP2729938A1. Автор: Toni Waber,Urs Hostettler,Hans Wittwer,Hans Reusser. Владелец: Tetra Laval Holdings and Finance SA. Дата публикации: 2014-05-14.

Electron spectroscope with emission induced by a monochromatic electron beam

Номер патента: WO2005033683A1. Автор: Stefano Giovanni Alberici. Владелец: STMICROELECTRONICS S.R.L.. Дата публикации: 2005-04-14.

Electron beam generator, electron beam emission device and x-ray emission device

Номер патента: EP4131320A1. Автор: Yoshito Hasegawa,Dai Haraguchi. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2023-02-08.

Electron beam processing for mask repair

Номер патента: EP1586007A2. Автор: J. David Casey, Jr.,Christian R. Musil,Steven Berger,Diane K. Stewart,John Beaty,Sybren J. Sijbrandij. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2005-10-19.

Structures useful in electron beam lithography

Номер патента: US20040169008A1. Автор: Stephen Moffatt,Cheng Guo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-09-02.

Adjustment method and electron beam device

Номер патента: US20210012997A1. Автор: Tatsuya Kohama,Kenji Watanabe,Takehide Hayashi,Tsutomu Karimata,Ryo Tajima. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2021-01-14.

Electron beam exciter for use in chemical analysis in processing systems

Номер патента: US09997325B2. Автор: Matthew J. Goeckner,Jimmy W. Hosch,Andrew Weeks Kueny,Mike Whelan,Kenneth C. Harvey,P.L. Stephan Thamban. Владелец: Verity Instruments Inc. Дата публикации: 2018-06-12.

Electron beam generation method for electron beam treatment of metal materials surface

Номер патента: RU2746265C1. Автор: Тамара Васильевна Коваль,Николай Николаевич Коваль,Павел Владимирович Москвин,Антон Дмитриевич Тересов,Максим Сергеевич Воробьёв,Владислав Игоревич Шин,Сергей Юрьевич Дорошкевич,Елизавета Алексеевна Петрикова,Владислав Викторович Яковлев,Камилла Тахировна Ашурова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт сильноточной электроники Сибирского отделения Российской академии наук (ИСЭ СО РАН). Дата публикации: 2021-04-12.

Method for creating detection data in electron beam application device, method for synthesizing image of object being irradiated, program, recording medium, and electron beam application device

Номер патента: EP4401109A1. Автор: Tomohiro Nishitani. Владелец: Photo Electron Soul Inc. Дата публикации: 2024-07-17.

Cathode-heating unit for an electron beam gun

Номер патента: RU2756845C1. Автор: Александр Владимирович Щербаков. Владелец: Акционерное Общество "Наука И Инновации". Дата публикации: 2021-10-06.

Source of pulse electronic beams

Номер патента: RU2754347C1. Автор: Евгений Павлович Павлов,Константин Иванович Ткаченко,Николай Петрович Щеголихин. Владелец: Акционерное Общество "Нииэфа Им. Д.В. Ефремова". Дата публикации: 2021-09-01.

Electron beam-generating apparatus

Номер патента: US5763889A. Автор: Atsushi Kimura,Shoji Kato,Takeshi Tomita. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 1998-06-09.

Faraday cup for determination of power density distribution of electron beams

Номер патента: WO2000072048A1. Автор: John W. Elmer,Alan T. Teruya. Владелец: The Regents of the University of California. Дата публикации: 2000-11-30.

Electron beam generator device and method for producing the same

Номер патента: US20050212395A1. Автор: Shinsuke Okada,Masaki Hirakata,Miho Watanabe,Taishi Shigematsu,Shigeki Ooma,Chikara Manabe,Hiroyuki Watanabe,Kentaro Kishi,Takashi Isozaki,Kazunori Anazawa. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2005-09-29.

Charged particle beam device

Номер патента: US11961699B2. Автор: Hiroyuki Yamamoto,Hideo Morishita,Junichi Katane,Teruo Kohashi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-04-16.

Multibeam generating apparatus and electron beam drawing apparatus

Номер патента: US20040056578A1. Автор: Norio Saito,Masahiko Okunuki,Takeshi Haraguchi,Sayaka Tanimoto,Masaki Takakuwa,Hiroya Ohta. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2004-03-25.

Multi-electron beam image acquiring apparatus and multi-electron beam image acquiring method

Номер патента: US20240079200A1. Автор: Kazuhiko Inoue,Atsushi Ando,Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-03-07.

Electron beam apparatus comprising a wire source

Номер патента: US4591753A. Автор: Franciscus A. Stoelinga. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 1986-05-27.

Electron beam gun

Номер патента: US4731537A. Автор: P. Michael Fletcher,Kenneth E. Williams. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1988-03-15.

Electron beam apparatus

Номер патента: GB1537478A. Автор: . Владелец: Philips Electronic and Associated Industries Ltd. Дата публикации: 1978-12-29.

Electron gun with linear hot cathode for electron-beam heating

Номер патента: RU2238602C1. Автор: Борис Алексеевич Мовчан,Олег Якович Гаврилюк. Владелец: Международный центр электронно-лучевых технологий Института электросварки им. Е.О. Патона. Дата публикации: 2004-10-20.

Electron-emitting device and electron beam lithograph machine and image display apparatus making use of it

Номер патента: US5569974A. Автор: Yoshihiro Yanagisawa,Kiyoshi Takimoto,Yuko Morikawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1996-10-29.

Electron beam apparatus comprising a semiconductor electron emitter

Номер патента: CA1254307A. Автор: Gerardus G.P. Van Gorkom,Harm Tolner,Arthur M.E. Hoeberechts,Karel D. van der Mast. Владелец: Karel D. van der Mast. Дата публикации: 1989-05-16.

Electron beam generator with magnetic cathode-protection unit

Номер патента: US5866974A. Автор: Karl Heinz Herrmann,Roland Herb,Wilfried Hermann Nisch,Gerald Johannes Sermund. Владелец: Linotype Hell AG. Дата публикации: 1999-02-02.

Electron gun and electron beam application device

Номер патента: US20200266020A1. Автор: Makoto Sakakibara,Souichi Katagiri,Takashi Doi,Hajime Kawano,Yasunari Sohda,Soichiro Matsunaga. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-08-20.

Device for ion beam acceleration, electron beam pulse shaping/amplification has ion acceleration tank, electron beam shaping/amplifying device with offset transverse electron axis

Номер патента: DE10040896A1. Автор: Ulrich Ratzinger,Serguej Minaev,Stefan Setzer. Владелец: GSI Gesellschaft fuer Schwerionenforschung mbH. Дата публикации: 2002-03-07.

Electron beam irradiation device

Номер патента: US7705330B2. Автор: Seitaro NAKAO. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2010-04-27.

Iridium tip, gas field ion source, focused ion beam apparatus, electron source, electron microscope, electron beam applied analysis apparatus, ion-electron multi-beam apparatus, scanning probe microscope, and mask repair apparatus

Номер патента: US09583299B2. Автор: Hiroshi Oba,Osamu Matsuda,Anto Yasaka,Fumio Aramaki,Yasuhiko Sugiyama,Tomokazu Kozakai,Kazuo Aita. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2017-02-28.

Electron beam device and semiconductor device production method using the device

Номер патента: EP1261016A1. Автор: Takao Kato,Toshifumi Kimba,Kenji Watanabe,Tsutomu Karimata,Muneki Hamashima,Mamoru Nakasuji,Masahiro Hatakeyama,Mutsumi Saito,Nobuharu Noji,Tohru Satake,Hirosi Sobukawa,Shoji Yoshikawa,Shin Oowada. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2002-11-27.

Combined aperture holder, beam blanker and vacuum feed through for electron beam, ion beam charged particle devices

Номер патента: US20070069149A1. Автор: Earl Weltmer. Владелец: SCANSERVICE Corp. Дата публикации: 2007-03-29.

Iridium tip, gas field ion source, focused ion beam apparatus, electron source, electron microscope, electron beam applied analysis apparatus, ion-electron multi-beam apparatus, scanning probe microscope, and mask repair apparatus

Номер патента: US9773634B2. Автор: Hiroshi Oba,Osamu Matsuda,Anto Yasaka,Fumio Aramaki,Yasuhiko Sugiyama,Tomokazu Kozakai,Kazuo Aita. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2017-09-26.

Mask inspection apparatus, mask inspection method, and electron beam exposure system

Номер патента: US20060076491A1. Автор: HIROSHI Yasuda,Takeshi Haraguchi. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2006-04-13.

Electron beam adjustment method and three-dimensional powder bed fusion additive manufacturing apparatus

Номер патента: EP3912752A1. Автор: Takashi Sato,Shio EN. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2021-11-24.

Electron beam recorder and electron beam irradiation position detecting method

Номер патента: US20080144472A1. Автор: Shinya Abe,Masahiko Tsukuda. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2008-06-19.

Enhanced electron beam generation

Номер патента: EP3729484A1. Автор: Johan Backlund,Mattias Fager. Владелец: ARCAM AB. Дата публикации: 2020-10-28.

Spatial light modulator driven photocathode source electron beam pattern generator

Номер патента: WO2002013226A8. Автор: Paul C Allen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-11-13.

Spatial light modulator driven photocathode source electron beam pattern generator

Номер патента: WO2002013226A3. Автор: Paul C Allen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2002-09-06.

Spatial light modulator driven photocathode source electron beam pattern generator

Номер патента: EP1309983A2. Автор: Paul C. Allen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-05-14.

Apparatus and Method for Modifying Physical Properties of Nanostructure Using Focused Electron Beam, and Nano-Barcode and Serial-Junction Nanowire Fabricated Thereby

Номер патента: US20110282021A1. Автор: Young Ki Hong,Dong Hyuk Park,Min Ho KOO,Jinsoo Joo,Seong Gi JO. Владелец: KOREA UNIVERSITY RESEARCH AND BUSINESS FOUNDATION. Дата публикации: 2011-11-17.

Electron beam welding systems employing a plasma cathode

Номер патента: US20240153739A1. Автор: John Noonan,Dean Walters. Владелец: Us Electron Inc. Дата публикации: 2024-05-09.

Electron beam deflector

Номер патента: WO2023094795A1. Автор: Alex O'FARRELL. Владелец: Aquasium Technology Limited. Дата публикации: 2023-06-01.

Method for Focusing Electron Beam in Electron Column

Номер патента: US20090200482A1. Автор: Young Chul Kim,Ho Seob Kim,Dae Wook Kim,Seung Joon Ahn. Владелец: CEBT Co Ltd. Дата публикации: 2009-08-13.

Method for focusing electron beam in electron column

Номер патента: WO2007066961A1. Автор: Young Chul Kim,Ho Seob Kim,Dae Wook Kim,Seung Joon Ahn. Владелец: Cebt Co. Ltd.. Дата публикации: 2007-06-14.

Method for focusing electron beam in electron column

Номер патента: US7902521B2. Автор: Young Chul Kim,Ho Seob Kim,Dae Wook Kim,Seung Joon Ahn. Владелец: CEBT Co Ltd. Дата публикации: 2011-03-08.

Method of exposing using electron beam

Номер патента: US20050184258A1. Автор: Jin-Seung Sohn,Hae-Sung Kim,Eun-Hyoung Cho,Myung-bok Lee,Mee-suk Jung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2005-08-25.

Electron beam depicting method, mother die manufacturing method, mother die, metallic mold manufacturing method, metallic mold and optical element

Номер патента: US20040185354A1. Автор: Osamu Masuda,Kazumi Furuta. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2004-09-23.

Raster shaped beam, electron beam exposure strategy using a two dimensional multipixel flash field

Номер патента: EP1070335A1. Автор: Weidong Wang,Lee H. Veneklasen,Stephen A. Rishton,Allan L. Sagle,Jeffrey K. Varner. Владелец: Etec Systems Inc. Дата публикации: 2001-01-24.

Electron beam duplication lithography method and apparatus

Номер патента: US20050121623A1. Автор: Seiichi Iwamatsu. Владелец: Applied Nanotech Holdings Inc. Дата публикации: 2005-06-09.

Electron beam shielding apparatus and methods for shielding electron beams

Номер патента: EP1204984A1. Автор: Mark Hall,Leonard C. Ii Hainz,Ingo A. Grosse. Владелец: ATI Properties LLC. Дата публикации: 2002-05-15.

Electron beam shielding apparatus and methods for shielding electron beams

Номер патента: WO2001006537A1. Автор: Mark Hall,Leonard C. Ii Hainz,Ingo A. Grosse. Владелец: ATI PROPERTIES, INC.. Дата публикации: 2001-01-25.

Method of cutting super-hard materials using an electron beam and a range of beam scanning velocities

Номер патента: US09555499B2. Автор: Christopher John Howard Wort. Владелец: Element Six Technologies Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Electron-beam welding method of heterogeneous metals

Номер патента: RU2615101C1. Автор: Дмитрий Витальевич Панов,Виктор Иванович Кулик,Александр Иванович Портных,Лариса Павловна Шуваева,Михаил Вячеславович Ерёмин,Владимир Глебович Бещеков,Иван Иванович Коптев,Александр Михайлович Ильинский. Владелец: Федеральное Государственное Унитарное Предприятие "Научно-Производственное Объединение "Техномаш". Дата публикации: 2017-04-03.

Apparatus for adjusting a focal position of an electron beam and electron beam projection apparatus including the same

Номер патента: US5272347A. Автор: HIROSHI Yasuda,Akio Yamada,Yoshihisa Oae. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1993-12-21.

Simplified reticle stage removal system for an electron beam system

Номер патента: US20030141461A1. Автор: Douglas Watson,W. Novak. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-07-31.

Metal wire cathode for electron beam apparatus

Номер патента: US4419561A. Автор: Jan B. Le Poole,Heico J. Frima. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 1983-12-06.

Method for electron beam welding with beam oscillation

Номер патента: RU2760201C1. Автор: Артём Юрьевич Марченков,Виктор Карпович Драгунов,Андрей Петрович Слива,Алексей Леонидович Гончаров,Егор Валериевич Терентьев. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский университет "МЭИ" (ФГБОУ ВО "НИУ "МЭИ"). Дата публикации: 2021-11-22.

Optically addressed, thermionic electron beam device

Номер патента: US10741352B2. Автор: R. Fabian W. Pease,Alireza Nojeh,Mike H. C. Chang,Kais DRIDI,George Albert SAWATZKY,Reuben Levi PAUL. Владелец: Leland Stanford Junior University. Дата публикации: 2020-08-11.

Apparatus and methods for patterning a reticle blank by electron-beam inscription with reduced exposure of the reticle blank by backscattered electrons

Номер патента: US20020012853A1. Автор: Atsushi Yamada,Hajime Yamamoto,Shohei Suzuki,Sumito Shimizu,Wakako Suganuma. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-01-31.

Operative control method for electron-beam welding

Номер патента: RU2519155C2. Автор: Дмитрий Николаевич Трушников,Владимир Яковлевич Беленький. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Пермский национальный исследовательский политехнический университет". Дата публикации: 2014-06-10.

Improvements in ion generators for electron beam devices such as microscopes

Номер патента: GB999380A. Автор: . Владелец: Philips Electronics and Pharmaceutical Industries Corp. Дата публикации: 1965-07-21.

Method of operating an electron beam measuring device

Номер патента: US5041724A. Автор: Jürgen Frosien,Hans-Peter Feuerbaum. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 1991-08-20.

Electron beam welding machine

Номер патента: US4317022A. Автор: Yoji Akutsu,Hisanao Kita,Yoshinori Karatsu,Takamitsu Nakazaki. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1982-02-23.

Multi-electron-beam imaging apparatus with improved performance

Номер патента: US20200090899A1. Автор: Gerard Nicolaas Anne Van Veen,Peter Christiaan Tiemeijer,Erik Rene Kieft,Ali Mohammadi-Gheidari. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2020-03-19.

Electron beam writing equipment and method

Номер патента: EP1523028A3. Автор: Osamu Kamimura,Yoshinori Nakayama,Masato Muraki,Yasunari Sohda,Sayaka Tanimoto. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2011-06-01.

Electron beam patterning

Номер патента: US7958464B1. Автор: Luca Grella,Allen M. Carroll. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2011-06-07.

Electron-beam apparatus and method of welding with this apparatus

Номер патента: US3602686A. Автор: Joseph Lempert. Владелец: Westinghouse Electric Corp. Дата публикации: 1971-08-31.

Electron beam control method, electron beam drawing apparatus and method of fabricating a semiconductor device

Номер патента: US20060097191A1. Автор: Hiroyuki Mizuno. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-05-11.

A miniature low- energy electron beam generator

Номер патента: WO2011089439A3. Автор: Derek Eastham. Владелец: Nfab Limited. Дата публикации: 2011-11-17.

Electron beam drawing apparatus, electron beam drawing method, semiconductor device manufacturing mask manufacturing method, and semiconductor device manufacturing template manufacturing method

Номер патента: US20110287345A1. Автор: Masato Saito. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-11-24.

Static electricity deflecting device, electron beam irradiating apparatus, substrate processing apparatus, substrate processing method and method of manufacturing substrate

Номер патента: US20070228285A1. Автор: Koji Takeya,Takashi Fuse,Tadashi Kotsugi,Kyo Tsuboi. Владелец: E Beam Corp. Дата публикации: 2007-10-04.

Static electricity deflecting device, electron beam irradiating apparatus, substrate processing apparatus, substrate processing method and method of manufacturing substrate

Номер патента: US20080067429A1. Автор: Koji Takeya,Takashi Fuse,Tadashi Kotsugi,Kyo Tsuboi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-03-20.

Magnetic object lens for an electron beam exposure apparatus which processes a wafer carried on a continuously moving stage

Номер патента: US4929838A. Автор: HIROSHI Yasuda,Masahiko Suzuki, deceased. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1990-05-29.

Projection electron beam lithography apparatus and method employing an estimator

Номер патента: US20020147507A1. Автор: Stuart Stanton. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-10-10.

Electron beam exposure system and electron lens

Номер патента: US6777694B2. Автор: Takeshi Haraguchi. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2004-08-17.

Deflector for equipment of electron beam lithography and equipment of electron beam lithography

Номер патента: US7521689B2. Автор: Yoshimasa SANMIYA,Kenji Ohtoshi,Tetsuro Nishiyama. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2009-04-21.

Enhanced electron beam generation

Номер патента: US20190193192A1. Автор: Johan Backlund,Mattias Fager. Владелец: ARCAM AB. Дата публикации: 2019-06-27.

Method of selecting a spatial energy spread within an electron beam, and an electron beam apparatus suitable for carrying out such a method

Номер патента: US5300775A. Автор: Karel D. van der Mast. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 1994-04-05.

Electron beam exposure equipment and electron beam exposure method

Номер патента: EP1432009A2. Автор: Yasunari Hitachi Ltd. Sohda,Osamu Hitachi Ltd. Kamimura,Hiroya Hitachi Ltd. Ohta,Susumu Gotoh. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2004-06-23.

Dual-mode electron beam column

Номер патента: GB2421630B. Автор: Brian Rafferty. Владелец: Vistec Lithography Ltd. Дата публикации: 2006-11-29.

Electron-beam illuminating system for an electrical apparatus such as an electron microscope or the like

Номер патента: US3862419A. Автор: Lee Veneklasen. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1975-01-21.

Method and apparatus for exposing photoresist by using an electron beam and controlling its voltage and charge

Номер патента: CA1226075A. Автор: Arnold Reisman. Владелец: MCNC. Дата публикации: 1987-08-25.

Optical viewing system for an electron beam welder

Номер патента: US4090056A. Автор: Herbert C. Lockwood,Salvatore M. Robelotto. Владелец: ELECTRON BEAM WELDING Inc. Дата публикации: 1978-05-16.

Electron beam exposure equipment and electron beam exposure method

Номер патента: EP1432009A3. Автор: Yasunari Hitachi Ltd. Sohda,Osamu Hitachi Ltd. Kamimura,Hiroya Hitachi Ltd. Ohta,Susumu Gotoh. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2010-06-23.

Electron-beam lithography system

Номер патента: GB2337359A. Автор: Koji Enomoto. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 1999-11-17.

Method of cutting super-hard materials using an electron beam and a range of beam scanning velocities

Номер патента: EP2888071A1. Автор: Christopher John Howard Wort. Владелец: Element Six Technologies Ltd. Дата публикации: 2015-07-01.

Electron-beam cell projection lithography system

Номер патента: US5784150A. Автор: Katsuyuki Itoh. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1998-07-21.

Devices, systems, and methods for using an imaging device to calibrate and operate a plurality of electron beam guns in an additive manufacturing system

Номер патента: US11925983B2. Автор: Anders Snis. Владелец: ARCAM AB. Дата публикации: 2024-03-12.

Electron beam installation and method for working powdered material

Номер патента: US11911838B2. Автор: Gerhard Huber,Bjorn Hansen,Thorsten Löwer. Владелец: Pro Beam GmbH and Co KG. Дата публикации: 2024-02-27.

Electron beam exposure apparatus, electron lens, and device manufacturing method

Номер патента: US20020047096A1. Автор: Susumu Goto. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-04-25.

Electron beam lithography

Номер патента: GB2041639A. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 1980-09-10.

Electron beam source and the use of the same

Номер патента: EP3729483A1. Автор: Mattias Fager. Владелец: ARCAM AB. Дата публикации: 2020-10-28.

Electron beam source and the use of the same

Номер патента: WO2019121430A1. Автор: Mattias Fager. Владелец: ARCAM AB. Дата публикации: 2019-06-27.

Method of exposing using electron beam

Номер патента: US7154105B2. Автор: Jin-Seung Sohn,Hae-Sung Kim,Eun-Hyoung Cho,Myung-bok Lee,Mee-suk Jung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2006-12-26.

Electron beam inspection apparatus and electron beam inspection method

Номер патента: US11270866B2. Автор: Atsushi Ando,Takahiro Murata. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2022-03-08.

Dose modification proximity effect compensation (PEC) technique for electron beam lithography

Номер патента: US5736281A. Автор: George Patrick Watson. Владелец: Lucent Technologies Inc. Дата публикации: 1998-04-07.

Viewing optics for external-mount electron beam welders

Номер патента: US4803333A. Автор: Joseph D. Ferrario,Glen S. Lawrence,Timothy J. Haynie,Stefan P. Kyselica. Владелец: Ferranti Sciaky Inc. Дата публикации: 1989-02-07.

Viewing optics for external-mount electron beam welders

Номер патента: CA1316993C. Автор: Joseph D. Ferrario,Glen S. Lawrence,Timothy J. Haynie,Stefan P. Kyselica. Владелец: Ferranti Sciaky Inc. Дата публикации: 1993-04-27.

Method of compensating the proximity effect in electron beam projection systems

Номер патента: US4504558A. Автор: Johann Greschner,Harald Bohlen,Helmut Engelke,Peter Nehmiz. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1985-03-12.

Electron beam exposure system and an apparatus for carrying out the same

Номер патента: CA1125441A. Автор: HIROSHI Yasuda,Kenichi Kawashima,Kenyu Uema. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1982-06-08.

Electron beam evaporation device for vacuum evaporators

Номер патента: US4221629A. Автор: Erich Zollinger. Владелец: Balzers AG. Дата публикации: 1980-09-09.

Electron beam recording apparatus, controller for the same, and method for controlling same

Номер патента: US20110182161A1. Автор: Hiroaki Suzuki,Akio Fukushima,Takayuki Kasuya. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-07-28.

Gate photocathode for controlled single and multiple electron beam emission

Номер патента: US20010038263A1. Автор: Kim Y. Lee,Marian Mankos,Tai-Hon Philip Chang,C. Neil Berglund. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-11-08.

Electron beam modulation device and electron beam modulation method

Номер патента: US20240177961A1. Автор: Shunichi Sato,Yuichi Kozawa,Yuuki UESUGI. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2024-05-30.

System and method of electron beam writing

Номер патента: US20110192994A1. Автор: Zhigang Wu,Takashi Mitsuhashi,Shohei Matsushita,Dmitri LANPANIK. Владелец: Cadence Design Systems Inc. Дата публикации: 2011-08-11.

System and method of electron beam writing

Номер патента: EP1961031B1. Автор: Zhigang Wu,Takashi Mitsuhashi,Shohei Matsushita,Dmitri Lapanik. Владелец: Cadence Design Systems Inc. Дата публикации: 2011-08-03.

Method of electron-beam lithography with correction of corner roundings

Номер патента: US09607808B2. Автор: Serdar Manakli. Владелец: Commissariat a lEnergie Atomique et aux Energies Alternatives CEA. Дата публикации: 2017-03-28.

Scanning system for electron beam machining equipment

Номер патента: AU2020103865A4. Автор: Li Li,Yang Dong,Xiang Fei,Wei Wang,Bin Wang,Xiaodong Huang,Tong Zhang,Jianhui Wang,Shouqi Wei,Wenming Guo,Zuming Liang,Fengbin Wang. Владелец: Guilin Thd Tech Co Ltd. Дата публикации: 2021-02-11.

Device and method for irradiating objects with electron beam

Номер патента: US09675718B2. Автор: Hans Hallstadius,Lars-Ake Naslund,Hakan Mellbin,Fredrik Hansen,Kristoffer BENGTSSON,Marco LAVALLE. Владелец: Tetra Laval Holdings and Finance SA. Дата публикации: 2017-06-13.

A large-area shower electron beam irradiator with field emitters as an electron source

Номер патента: EP1735810A1. Автор: Byung-Cheol Lee,Cheol-jin Lee,Seong-Hee Park,Young-Kyung Lim,Young-Hwan Han,Young-Uk Jung,Tae-Jae Lee. Владелец: Korea Atomic Energy Research Institute KAERI. Дата публикации: 2006-12-27.

A large-area shower electron beam irradiator with field emitters as an electron source

Номер патента: EP1735810A4. Автор: Byung-Cheol Lee,Cheol-jin Lee,Seong-Hee Park,Young-Kyung Lim,Young-Hwan Han,Young-Uk Jung,Tae-Jae Lee. Владелец: Korea Atomic Energy Research Institute KAERI. Дата публикации: 2009-08-05.

A large-area shower electron beam irradiator with field emitters as an electron source

Номер патента: WO2005086201A1. Автор: Byung-Cheol Lee,Cheol-jin Lee,Seong-Hee Park,Young-Kyung Lim,Young-Hwan Han,Young-Uk Jung,Tae-Jae Lee. Владелец: KOREA ATOMIC ENERGY RESEARCH INSTITUTE. Дата публикации: 2005-09-15.

A large-area shower electron beam irradiator with field emitters as an electron source

Номер патента: EP1735810B1. Автор: Byung-Cheol Lee,Cheol-jin Lee,Seong-Hee Park,Young-Kyung Lim,Young-Hwan Han,Young-Uk Jung,Tae-Jae Lee. Владелец: Korea Atomic Energy Research Institute KAERI. Дата публикации: 2012-05-23.

Electron-beam-pumped light source

Номер патента: US20130322484A1. Автор: Masanori Yamaguchi,Hiroyuki Takada,Ken Kataoka,Hiroshige Hata,Tsuyoshi Maesoba. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2013-12-05.

Electron beam melting furnace and method for operating same

Номер патента: US09773642B2. Автор: Takashi Oda,Takeshi Shiraki,Hisamune Tanaka. Владелец: Toho Titanium Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-26.

Electron beam irradiation device and electron beam irradiation method

Номер патента: US20200266024A1. Автор: Tatsuya Matsumura. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2020-08-20.

Electron Beam 3D Printing Machine

Номер патента: US20190202000A1. Автор: Mariano Zarcone,Gildo Di Domenico,Flavio LUCIBELLO,Lorenzo SCATENA. Владелец: Consorzio Di Ricerca Hypatia. Дата публикации: 2019-07-04.

Electron beam 3d printing machine

Номер патента: WO2018025239A1. Автор: Mariano Zarcone,Gildo Di Domenico,Flavio LUCIBELLO,Lorenzo SCATENA. Владелец: Consorzio Di Ricerca Hypatia. Дата публикации: 2018-02-08.

Electron beam 3d printing machine

Номер патента: EP3493932A1. Автор: Mariano Zarcone,Gildo Di Domenico,Flavio LUCIBELLO,Lorenzo SCATENA. Владелец: Consorzio Di Ricerca Hypatia. Дата публикации: 2019-06-12.

Nozzle-type electron beam irradiation device, and electron beam sterilization equipment equipped with same

Номер патента: US10568980B2. Автор: Hiroyuki Daiku,Ichiro Sakai,Takeshi Noda. Владелец: Hitachi Zosen Corp. Дата публикации: 2020-02-25.

Nozzle-type electron beam irradiation device, and electron beam sterilization equipment equipped with same

Номер патента: US20190134241A1. Автор: Hiroyuki Daiku,Ichiro Sakai,Takeshi Noda. Владелец: Hitachi Zosen Corp. Дата публикации: 2019-05-09.

Method for assembling an electron exit window and an electron exit window assembly

Номер патента: US20120269997A1. Автор: Paolo Benedetti,Luca Poppi. Владелец: Tetra Laval Holdings and Finance SA. Дата публикации: 2012-10-25.

Electron beam emitter

Номер патента: RU2688941C2. Автор: Урс ХОСТЕТТЛЕР. Владелец: ТЕТРА ЛАВАЛЬ ХОЛДИНГЗ ЭНД ФАЙНЭНС С.А.. Дата публикации: 2019-05-23.

Electron beam processing with condensed ice

Номер патента: WO2012099635A3. Автор: Jene A. Golovchenko,Daniel Branton,Anpan Han. Владелец: President and Fellows of Harvard College. Дата публикации: 2012-12-27.

Method for radiation by electron beams

Номер патента: RU2139753C1. Автор: Саито Муцуми,Йосиока Такеси,Нисимура Тацу,Нисимура Тацуя. Владелец: Ибара Корпорейшн. Дата публикации: 1999-10-20.

Switchable electron beam sterilizing device

Номер патента: EP2332149A1. Автор: Werner Haag,Kurt Holm,Dominique Cloetta. Владелец: Tetra Laval Holdings and Finance SA. Дата публикации: 2011-06-15.

Electron beam pumped laser light source for projection television

Номер патента: US7898162B2. Автор: Michael D. Tiberi,Vladimir I. Kozlovsky. Владелец: Principia Lightworks Inc. Дата публикации: 2011-03-01.

Electron beam pumped laser light source for projection television

Номер патента: US20080054782A1. Автор: Michael Tiberi,Vladimir Kozlovsky. Владелец: Principia Lightworks Inc. Дата публикации: 2008-03-06.

Electron beam pumped laser light source for projection television

Номер патента: US20080081107A1. Автор: Michael Tiberi,Vladimir Kozlovsky. Владелец: Principia Lightworks Inc. Дата публикации: 2008-04-03.

Method for verifying characteristics of an electron beam

Номер патента: US09543116B2. Автор: Tomas Lock. Владелец: ARCAM AB. Дата публикации: 2017-01-10.

Electron beam irradiation device

Номер патента: US20210113722A1. Автор: Tatsuya Matsumura,Takeaki HATTORI,Keigo Uchiyama. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2021-04-22.

Electron beam welding method and apparatus

Номер патента: EP4387801A1. Автор: Colin Nigel Ribton,Vitalijs JEFIMOVS. Владелец: TWI Ltd. Дата публикации: 2024-06-26.

Sensor and system for sensing an electron beam

Номер патента: EP2033016A1. Автор: Benno Zigerlig,Hans Hallstadius,Lars Ake Naslund,Werner Haag,Anders Kristiansson,Kurt Holm. Владелец: Tetra Laval Holdings and Finance SA. Дата публикации: 2009-03-11.

Radially inwardly directed electron beam source and window assembly for electron beam source or other source of electromagnetic radiation

Номер патента: US20100065752A1. Автор: Edgar B. Dally,Robert J. Espinosa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-03-18.

Electron beam welding methods and apparatus

Номер патента: US20240359254A1. Автор: Vitalijs JEFIMOVS,Colin Ribton. Владелец: TWI Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Low voltage electron beam dosimeter device and method

Номер патента: US20170319729A1. Автор: Alaa Omrane. Владелец: Tetra Laval Holdings and Finance SA. Дата публикации: 2017-11-09.

Integrated sub-nanometer-scale electron beam systems

Номер патента: EP1810299A2. Автор: Conrad W. Schneiker. Владелец: Biomed Solutions LLC. Дата публикации: 2007-07-25.

Integrated sub-nanometer-scale electron beam systems

Номер патента: EP1810299A4. Автор: Conrad W Schneiker. Владелец: Biomed Solutions LLC. Дата публикации: 2008-04-16.

Integrated sub-nanometer-scale electron beam systems

Номер патента: WO2006052549A2. Автор: Conrad W. Schneiker. Владелец: Biomed Solutions, LLC. Дата публикации: 2006-05-18.

Method and system for controlling electron beams from field emission cathodes

Номер патента: US20040017166A1. Автор: Kent Kalar,Byron Zollars,John Lorr. Владелец: Extreme Devices Inc. Дата публикации: 2004-01-29.

Electron beam exposure apparatus and electron beam exposure method

Номер патента: GB2379082A. Автор: Hitoshi Tanaka. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2003-02-26.

Manufacturing method of mask for electron beam proximity exposure and mask

Номер патента: US20020071994A1. Автор: Nobuo Shimazu,Takao Utsumi. Владелец: LEEPL Corp. Дата публикации: 2002-06-13.

Technique of exposing a resist using electron beams having different accelerating voltages, and method of manufacturing a photomask using the technique

Номер патента: US20020042005A1. Автор: Seung-hune Yang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2002-04-11.

Electronic beam machining system

Номер патента: US20170358424A1. Автор: Wei Zhao,Kai-Li Jiang,Shou-Shan Fan,Peng Liu,Duan-Liang Zhou,xiao-yang Lin,chun-hai Zhang. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-14.

Electronic beam machining system

Номер патента: US20190139738A1. Автор: Wei Zhao,Kai-Li Jiang,Shou-Shan Fan,Peng Liu,Duan-Liang Zhou,xiao-yang Lin,chun-hai Zhang. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-09.

Electronic beam machining system

Номер патента: US10319563B2. Автор: Wei Zhao,Kai-Li Jiang,Shou-Shan Fan,Peng Liu,Duan-Liang Zhou,xiao-yang Lin,chun-hai Zhang. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2019-06-11.

Test method of mask for electron-beam exposure and method of electron-beam exposure

Номер патента: US20010054697A1. Автор: Hiroshi Yamashita. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2001-12-27.

Field emission device with gate having cylindrical part

Номер патента: US7233102B2. Автор: Hang-woo Lee,Pil-soo Ahn,You-Jong Kim,Shang-hyeun Park. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2007-06-19.

Low voltage electron beam dosimeter device and method

Номер патента: EP3220963A1. Автор: Alaa Omrane. Владелец: Tetra Laval Holdings and Finance SA. Дата публикации: 2017-09-27.

Electron beam etching of integrated circuit structures

Номер патента: US4496449A. Автор: George J. Collins,Jorge J. Rocca. Владелец: Colromm Inc. Дата публикации: 1985-01-29.

Device for monitoring an electron beam via an electrical sensor with multiple conductors

Номер патента: EP2925664A2. Автор: Hans Hallstadius,Lars-Ake Naslund,Hakan Mellbin,Fredrik Hansen,Kristoffer BENGTSSON,Marco LAVALLE. Владелец: Tetra Laval Holdings and Finance SA. Дата публикации: 2015-10-07.

Control method for electron beam sterilizing device and device performing said method

Номер патента: EP2332148A1. Автор: Kurt Holm. Владелец: Tetra Laval Holdings and Finance SA. Дата публикации: 2011-06-15.

Method of introduction of electron beam into medium with increased pressure

Номер патента: RU2612267C2. Автор: Виктор Олегович Константинов,Сергей Александрович Городецкий,Равель Газизович Шарафутдинов,Пётр Алексеевич Сковородко,Вальдемар Мартынович Карстен,Виктор Геннадьевич Щукин. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе Сибирского отделения Российской академии наук (ИТ СО РАН). Дата публикации: 2017-03-03.

A method for performing electron beam lithography

Номер патента: EP2245646A1. Автор: Brian Bilenberg,Theodor Kamp Nielsen,Peixiong Shi. Владелец: Nil Tech APS. Дата публикации: 2010-11-03.

Methods for forming pattern using electron beam and cell masks used in electron beam lithography

Номер патента: US20070166646A1. Автор: Seong-Woon Choi,Hee-Bom Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-07-19.

Cathode member for electron beam generation, and method for manufacturing the same

Номер патента: US20220336179A1. Автор: Kenji Koga,Toshiaki Takagi,Tatsuhiko Kusamichi,Fumiaki Kudo. Владелец: Kobelco Research Institute Inc. Дата публикации: 2022-10-20.

Cathode member for electron beam generation and method for producing same

Номер патента: EP4026635A1. Автор: Kenji Koga,Toshiaki Takagi,Tatsuhiko Kusamichi,Fumiaki Kudo. Владелец: Kobelco Research Institute Inc. Дата публикации: 2022-07-13.

Electron Beam Lithography System and Method for Improving Throughput

Номер патента: US20130330670A1. Автор: BURN JENG LIN,Jaw-Jung Shin,Wen-Chuan Wang,Shy-Jay Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2013-12-12.

Electron-beam-supported production of electrical components

Номер патента: US09937584B2. Автор: Helge Schmidt,Soenke Sachs,Eva Henschel. Владелец: TE Connectivity Germany GmbH. Дата публикации: 2018-04-10.

Target for ultraviolet light generation, electron beam-excited ultraviolet light source, and production method for target for ultraviolet light generation

Номер патента: US09728393B2. Автор: Koji Kawai,Takashi Suzuki,Yoshinori Honda,Fumitsugu Fukuyo,Hiroyuki Taketomi,Hidetsugu Takaoka. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2017-08-08.

Electron source, method for manufacturing the same, and electron beam device using the same

Номер патента: US20210327674A1. Автор: Minoru Kaneda,Tomihiro Hashizume,Takashi Ohshima,Toshiaki Kusunoki,Noriaki Arai,Hiromitsu Seino,Keigo Kasuya,Soichiro Matsunaga. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-10-21.

Scanning electron beam device with focus adjustment based on acceleration voltage and dimension measurement method using same

Номер патента: US09644955B2. Автор: Hajime Kawano,Muneyuki Fukuda,Naomasa Suzuki,Yasunari Sohda,Tasuku Yano,Katsunori Onuki. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-05-09.

Calibration sample, electron beam adjustment method and electron beam apparatus using same

Номер патента: US20210131801A1. Автор: Yoshinori Nakayama,Yasunari Sohda,Yusuke Abe,Hiroya Ohta,Kaori BIZEN. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-05-06.

Emitter for an electron beam, electron beam device and method for producing and operating an electron emitter

Номер патента: US09633815B1. Автор: Pavel Adamec,Harry Kleinschmidt. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-04-25.

Electron beam device, cold field emitter, and method for regeneration of a cold field emitter

Номер патента: US09847208B1. Автор: Pavel Adamec. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-12-19.

Electron-beam gun with increased service life

Номер патента: RU2709793C1. Автор: Валерий Николаевич Иванов,Виктор Вениаминович Константинов,Андрей Викторович Константинов,Николай Николаевич Чупятов,Валерий Вячеславович Дьяков,Сергей Альбертович Гусев,Николай Викторович Павлушин. Владелец: Публичное акционерное общество "Электромеханика". Дата публикации: 2019-12-20.

Electron beam inspection equipment and inspection method

Номер патента: EP4403909A1. Автор: Yang Wang,Jie Zeng,Xiaoshan Shi,Guizhen Xin,Yanzhong HAO,Qitao LIU,Taotao GUAN. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-24.

Electron beam monitoring device and electron beam irradiation system

Номер патента: EP4390975A1. Автор: Shinjiro Matsui. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2024-06-26.

Multi-column electron beam lithography including field emitters on a silicon substrate with boron layer

Номер патента: US09966230B1. Автор: Xuefeng Liu,Yung-ho Chuang,John Fielden,Yinying Xiao-Li. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2018-05-08.

Charged particle beam device and capturing condition adjusting method in charged particle beam device

Номер патента: US10770266B2. Автор: Tomohito Nakano,Minoru Yamazaki,Yuko Sasaki,Toshiyuki Yokosuka,Yuzuru Mochizuki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-09-08.

Charged Particle Beam Device and Capturing Condition Adjusting Method in Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20200035449A1. Автор: Tomohito Nakano,Minoru Yamazaki,Yuko Sasaki,Toshiyuki Yokosuka,Yuzuru Mochizuki. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2020-01-30.

Composite charged particle detector, charged particle beam device, and charged particle detector

Номер патента: US09761409B2. Автор: Toshihide Agemura,Tsunenori Nomaguchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-09-12.

Method for analyzing and/or processing an object as well as a particle beam device for carrying out the method

Номер патента: US09558911B2. Автор: Lorenz Lechner,Josef Biberger,Ralph Pulwey,Michal Postolski,Marcin Janaszewski. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2017-01-31.

Electron-beam irradiated area adjustment method and adjustment system, electron-beam irradiated region correction method, and electron beam irradiation apparatus

Номер патента: US20180233374A1. Автор: Kenji Watanabe,Shinichi Okada,Kenji Terao,Masahiro Hatakeyama,Shoji Yoshikawa,Kenichi Suematsu,Ryo Tajima,Kiwamu Tsukamoto. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-08-16.

Electron beam recorder, electron beam irradiation position detecting method and electron beam irradiation position controlling method

Номер патента: US20050232114A1. Автор: Shinya Abe,Masahiko Tsukuda. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-10-20.

Electron-beam irradiated area adjustment method and adjustment system, electron-beam irradiated region correction method, and electron beam irradiation apparatus

Номер патента: US10446404B2. Автор: Kenji Watanabe,Shinichi Okada,Kenji Terao,Masahiro Hatakeyama,Shoji Yoshikawa,Kenichi Suematsu,Ryo Tajima,Kiwamu Tsukamoto. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-10-15.

Electron beam recorder, electron beam irradiation position detecting method and electron beam irradiation position controlling method

Номер патента: EP1577928A3. Автор: Shinya Abe,Masahiko Tsukuda. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2008-10-15.

Multi-electron beam image acquisition apparatus and multi-electron beam image acquisition method

Номер патента: US20240282547A1. Автор: Koichi Ishii,Atsushi Ando. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-08-22.

Method and apparatus for controlling electron beam intensity

Номер патента: RU2498442C2. Автор: Алоис МОНЦЕЛЬ,Гернот КАЙЛ. Владелец: Кхс Гмбх. Дата публикации: 2013-11-10.

Multi-electron beam inspection apparatus and adjustment method for the same

Номер патента: US20230080062A1. Автор: Koichi Ishii,Kazuhiko Inoue,Toshikatsu Akiba,Shohei Mikami. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-03-16.

Electron beam irradiation apparatus and electron beam irradiating method

Номер патента: US20030178581A1. Автор: Hiroshi Kawase,Setsuo Norioka,Masanobu Yamamoto,Yoshihisa Miura,Naoki Date,Yuichi Aki,Mitsuru Koizumi,Gakuo Komatsubara. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2003-09-25.

Method for analyzing an object and a charged particle beam device for carrying out this method

Номер патента: US09905394B1. Автор: Lorenz Lechner,Sreenivas Bhattiprolu. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2018-02-27.

Electron beam direct drawing method, system and recording medium

Номер патента: US6103434A. Автор: Naka Onoda. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2000-08-15.

Electron beam inspection apparatus and electron beam inspection method

Номер патента: US10712295B2. Автор: Hideaki Hashimoto,Ryoichi Hirano,Hideo Tsuchiya,Riki Ogawa,Masataka Shiratsuchi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-07-14.

Electron beam applying apparatus for recording information

Номер патента: EP1769521B1. Автор: Takashi Obara,Takeshi Miyazaki,Hideyuki Ohyi. Владелец: Crestec Corp. Дата публикации: 2012-03-07.

Protective beam catcher for electron beam apparatus

Номер патента: US4152574A. Автор: Sigwalt Hart. Владелец: Steigerwald Strahltecknik GmbH. Дата публикации: 1979-05-01.

Test structure for electron beam inspection and method for defect determination using electron beam inspection

Номер патента: US09711326B1. Автор: Shih-Cheng Chen,Chung-Chih Hung,Yung-Teng Tsai,Kuan-Chun Lin,Chih-Chieh Chou,Chi-Hung Chan. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-07-18.

Spectroscopic element and charged particle beam device using the same

Номер патента: US09601308B2. Автор: Masanari Koguchi,Yoshihiro Anan. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2017-03-21.

Enhanced defect detection in electron beam inspection and review

Номер патента: US09449788B2. Автор: HONG Xiao,Kumar Raja GUVINDAN RAJU,Wade Lenn Jensen,Lorraine Ellen Young,Gary G. FAN. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2016-09-20.

Electron beam physical vapor deposition apparatus and processes

Номер патента: EP1939924A3. Автор: Richard S. Mullin,Igor V. Belousov,Yurity M. Barabash,Yurity G. Kononenko. Владелец: United Technologies Corp. Дата публикации: 2008-11-12.

Deflecting Device for Electron Beams, Magnetic Deflecting Unit for Such a Deflecting Device, and Device for Vapor Coating a Planar Substrate Using Such a Deflecting Device

Номер патента: US20120298041A1. Автор: Cristian Jans,Juergen Zinsstag. Владелец: Ferrotec GmbH. Дата публикации: 2012-11-29.

Electron beam device and image acquisition method

Номер патента: US20220084782A1. Автор: Ryoji Yoshikawa. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2022-03-17.

Electron beam irradiation apparatus

Номер патента: US20200411275A1. Автор: Ryo Tajima. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2020-12-31.

Broad band tunable energy electron beam pulser

Номер патента: US20200343013A1. Автор: Chunguang Jing,Roman Kostin,Ao LIU,Yubin Zhao,Jiaqi Qiu,Eric John Montgomery,Wade Rush,Alexei Kanareykin. Владелец: Euclid Techlabs LLC. Дата публикации: 2020-10-29.

Multiple-beam system for high-speed electron-beam inspection

Номер патента: WO2012128967A3. Автор: Xinrong Jiang,Liqun Han,John D. Greene. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2012-12-13.

Electron beam writing apparatus and cathode life span prediction method

Номер патента: US11749491B2. Автор: Nobuo Miyamoto,Takahito Nakayama,Satoshi Nakahashi,Shunji Shinkawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-09-05.

Electron beam apparatus, inspection tool and inspection method

Номер патента: WO2019228922A1. Автор: Maikel Robert GOOSEN,Erwin Paul SMAKMAN,Albertus Victor Gerardus MANGNUS. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2019-12-05.

Liquid crystal alignment using electron beam exposure

Номер патента: US20060000986A1. Автор: Satyendra Kumar,Carlos Vargas-Aburto,Qingbing Wing. Владелец: KENT STATE UNIVERSITY. Дата публикации: 2006-01-05.

Electron beam lithography process with multiple columns

Номер патента: US09589764B2. Автор: Wen-Chuan Wang,Shy-Jay Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-03-07.

Broad band tunable energy electron beam pulser

Номер патента: EP3959730A2. Автор: Chunguang Jing,Roman Kostin,Ao LIU,Yubin Zhao,Jiaqi Qiu,Eric John Montgomery,Wade Rush,Alexei Kanareykin. Владелец: Euclid Techlabs LLC. Дата публикации: 2022-03-02.

Broad band tunable energy electron beam pulser

Номер патента: WO2020219817A2. Автор: Chunguang Jing,Roman Kostin,Ao LIU,Yubin Zhao,Jiaqi Qiu,Eric John Montgomery,Wade Rush,Alexei Kanareykin. Владелец: Euclid Techlabs, LLC. Дата публикации: 2020-10-29.

System for electron beam detection

Номер патента: WO2015160922A1. Автор: Shinichi Kojima,Michael R. Gluszczak,Joseph A. Di Regolo,Hamada WAHBA. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2015-10-22.

System for electron beam detection

Номер патента: US09778186B2. Автор: Shinichi Kojima,Michael R. Gluszczak,Joseph A. DiRegolo,Hamada WAHBA. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2017-10-03.

Method and system for adaptively scanning a sample during electron beam inspection

Номер патента: US09734987B2. Автор: HONG Xiao,Vivekanand Kini,David Chen,Gary Fan. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2017-08-15.

Electron beam device

Номер патента: EP4170693A1. Автор: Alexander Henstra,Yuchen Deng,Holger Kohr. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2023-04-26.

Electron beam plasma source with segmented suppression electrode for uniform plasma generation

Номер патента: US20140265855A1. Автор: Shahid Rauf,Kartik Ramaswamy,Kenneth S. Collins,Steven Lane,Nipun Misra,James D. Carducci,Leonid Dorf. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2014-09-18.

Electron beam irradiation apparatus

Номер патента: US20140021348A1. Автор: Hajime Kawano,Shahedul Hoque. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2014-01-23.

Evaluation method, correction method, recording medium and electron beam lithography system

Номер патента: US20180269028A1. Автор: Rieko Nishimura. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-09-20.

Electron beam line evaporator

Номер патента: US4778974A. Автор: Siegfried Schiller,Manfred Neumann,Henry Morgner,Peter Unganz. Владелец: Bakish Materials Corp. Дата публикации: 1988-10-18.

Evaluation method, correction method, recording medium and electron beam lithography system

Номер патента: US20170154755A1. Автор: Rieko Nishimura. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-06-01.

Height sensing system for electron beam metrology tool

Номер патента: US20240355579A1. Автор: Peter Lin,Yeishin Tung,Chengping Zhang,Mi ZHANG,Sameet SHRIYAN. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-10-24.

Height sensing system for electron beam metrology tool

Номер патента: WO2024226248A1. Автор: Peter Lin,Yeishin Tung,Chengping Zhang,Mi ZHANG,Sameet SHRIYAN. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2024-10-31.

Evaluation method, correction method, recording medium and electron beam lithography system

Номер патента: US09997329B2. Автор: Rieko Nishimura. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-06-12.

Sample processing method and charged particle beam device

Номер патента: US09922798B2. Автор: Takashi Shidara. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-03-20.

Heat-spreading blanking system for high throughput electron beam apparatus

Номер патента: US09881764B2. Автор: Christopher Sears,Xinrong Jiang,Douglas Larson. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2018-01-30.

Electron beam plasma source with segmented suppression electrode for uniform plasma generation

Номер патента: US09443700B2. Автор: Shahid Rauf,Kartik Ramaswamy,Kenneth S. Collins,Steven Lane,Nipun Misra,James D. Carducci,Leonid Dorf. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-09-13.

Charged Particle Beam Device and Sample Observation Method in Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20180068826A1. Автор: Takashi Kubo. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-03-08.

Electron Beam Interference Device and Electron Beam Interferometry

Номер патента: US20140332684A1. Автор: Hiroto Kasai,Ken Harada. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2014-11-13.

Electron-beam chamber

Номер патента: US3745320A. Автор: H Kindler,S Baumgartner. Владелец: Steigerwald Strahltecknik GmbH. Дата публикации: 1973-07-10.

Deflector for multiple electron beams and multiple beam image acquiring apparatus

Номер патента: US20190378676A1. Автор: John Hartley. Владелец: Nuflare Technology America Inc. Дата публикации: 2019-12-12.

Multi-column electron beam lithography including field emitters on a silicon substrate with boron layer

Номер патента: WO2018071710A2. Автор: Xuefeng Liu,Yung-Ho Alex Chuang,John Fielden,Yinying XIAOLI. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2018-04-19.

Bulk nanofabrication with single atomic plane precision via atomic-level sculpting of crystalline oxides

Номер патента: US20180066376A1. Автор: Qian He,Stephen Jesse,Sergei V. Kalinin,Albina Y. Borisevich,Andrew R. Lupini,Raymond R. UNOCIC. Владелец: UT Battelle LLC. Дата публикации: 2018-03-08.

Electron beam system

Номер патента: US20230317404A1. Автор: Shuai Li. Владелец: Focus eBeam Technology Beijing Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Switched electron beam plasma source array for uniform plasma production

Номер патента: WO2013059132A1. Автор: Shahid Rauf,Kartik Ramaswamy,Kenneth S. Collins,Nipun Misra,James D. Carducci,Leonid Dorf,Gary Leray. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2013-04-25.

Electron beam exposure method

Номер патента: US20140120475A1. Автор: Masahiro Takizawa,Shinichi Hamaguchi,Masaki Kurokawa. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2014-05-01.

Electron beam vaporizer and method for vaporizing a vaporization material by means of an electron beam

Номер патента: US20190318909A1. Автор: Carsten Deus. Владелец: Von Ardenne Asset GmbH and Co KG. Дата публикации: 2019-10-17.

Electron beam plasma source with reduced metal contamination

Номер патента: US09721760B2. Автор: Shahid Rauf,Kartik Ramaswamy,Kenneth S. Collins,Steven Lane,Nipun Misra,James D. Carducci,Leonid Dorf,Gonzalo Antonio Monroy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-08-01.

Structure electron beam inspection system for inspecting extreme ultraviolet mask and structure for discharging extreme ultraviolet mask

Номер патента: US09572237B2. Автор: You-Jin Wang,Chiyan Kuan,Chung-Shih Pan. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2017-02-14.

Apparatus for electron beam lithography

Номер патента: US4199688A. Автор: Susumu Ozasa. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1980-04-22.

Charged particle beam device and charged particle beam device calibration method

Номер патента: US11848171B2. Автор: Wen Li,Akio Yamamoto,Shunsuke Mizutani,Hiroshi Oinuma. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-12-19.

Overhead electron beam source for plasma ion generation in a workpiece processing region

Номер патента: WO2013059097A1. Автор: Shahid Rauf,Kartik Ramaswamy,Kenneth S. Collins,Kallol Bera. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2013-04-25.

Electron beam exposure method

Номер патента: US20150243482A1. Автор: Masahiro Takizawa,Shinichi Hamaguchi,Masaki Kurokawa. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2015-08-27.

Electron beam exposure method

Номер патента: US9116434B2. Автор: Masahiro Takizawa,Shinichi Hamaguchi,Masaki Kurokawa. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2015-08-25.

Nanofabrication using a new class of electron beam induced surface processing techniques

Номер патента: US20170073814A1. Автор: James Bishop,Milos Toth,Charlene Lobo,Toan Trong Tran,Igor Aharonovich. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2017-03-16.

An electron beam evaporator with prolonged inter-maintenance periods and greater film thickness monitoring stability

Номер патента: GB201117595D0. Автор: . Владелец: UNIVERSITY OF YORK. Дата публикации: 2011-11-23.

An electron beam evaporator

Номер патента: GB201218384D0. Автор: . Владелец: BOSTECH Ltd. Дата публикации: 2012-11-28.

Electron beam drawing apparatus, electron beam drawing method, and storage medium

Номер патента: US09430607B2. Автор: Masakazu HAMAJI,Takuya Tao. Владелец: Nippon Control System Corp. Дата публикации: 2016-08-30.

Electron Beam Apparatus.

Номер патента: GB1196787A. Автор: . Владелец: Air Reduction Co Inc. Дата публикации: 1970-07-01.

Electron beam measuring apparatus

Номер патента: US5117111A. Автор: Shinichi Kato,Kazumitsu Nakamura,Yoshio Sakitani,Yoshihisa Minamikawa. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1992-05-26.

Multiple electron-beam vapor source assembly

Номер патента: CA1101076A. Автор: Paul S. Mcleod,Kazumi N. Tsujimoto. Владелец: Airco Inc. Дата публикации: 1981-05-12.

Electron beam heating apparatus having means for sweeping the beam spot

Номер патента: US4035573A. Автор: Sergio Negri. Владелец: Varian Associates Inc. Дата публикации: 1977-07-12.

Scanning electron microscope device and electron beam inspection apparatus

Номер патента: US11908657B2. Автор: Weiqiang SUN,Qinglang MENG. Владелец: Zhongke Jingyuan Microelectronic Technology Beijing Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-20.

Method for creating electron-beam hologram, magnetic field information measurement method and magnetic field information measuring device

Номер патента: US20200124687A1. Автор: Takafumi Sato,Daisuke Shindo. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2020-04-23.

Electron beam apparatus and positional displacement correcting method of electron beam

Номер патента: US20180090298A1. Автор: Noriaki Nakayamada. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-03-29.

Photolithography method based on electronic beam

Номер патента: US20170357157A1. Автор: Wei Zhao,Kai-Li Jiang,Shou-Shan Fan,Peng Liu,Duan-Liang Zhou,xiao-yang Lin,chun-hai Zhang. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-14.

System and method for rf pulsed electron beam based scanning transmission electron microscope

Номер патента: EP3951829A1. Автор: Bert Freitag,Erik Kieft. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2022-02-09.

Electron beam exposure system and methods of performing exposing and patterning processes using the same

Номер патента: US09588415B2. Автор: Jin Choi,Sukjong Bae,Sunghoon Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-03-07.

Particle beam device and method for operating a particle beam device

Номер патента: EP2706553A2. Автор: Michael Albiez. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2014-03-12.

Electron-beam evaporator

Номер патента: GB1540944A. Автор: . Владелец: Leybold Heraeus GmbH. Дата публикации: 1979-02-21.

Method for exposing an electron beam

Номер патента: US4413187A. Автор: Masayuki Hattori,Toshihiko Osada,Yuji Tanaka,Yuji Akazawa,Takaharu Shima. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1983-11-01.

Electron beam registration system

Номер патента: US3924113A. Автор: Charles D Gill,Philip M Ryan. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1975-12-02.

Method and system for measuring the diameter of an electron beam

Номер патента: US4336597A. Автор: Tsuneo Okubo,Yasuo Kato,Genya Matsuoka. Владелец: Nippon Telegraph and Telephone Corp. Дата публикации: 1982-06-22.

Method for analyzing an object and a charged particle beam device for carrying out this method

Номер патента: EP3364443A3. Автор: Lorenz Lechner,Sreenivas Bhattiprolu. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2019-01-09.

High resolution electron beam apparatus with dual-aperture schemes

Номер патента: EP4281988A1. Автор: Christopher Sears,Xinrong Jiang,Luca Grella,Nikolai Chubun. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2023-11-29.

Charged particle beam system, method for determining range for automatically searching for focal point position in charged particle beam device, and non-transitory storage medium recording program for causing computer system to determine range for automatically searching for focal position in charged particle beam device

Номер патента: US11195694B2. Автор: Kenji Obara,Kosuke Matsumoto,Takashi NOBUHARA,Hirohiko Kitsuki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-12-07.

Electron beam apparatus

Номер патента: US11784022B2. Автор: Yoichi Ose,Hideo Morishita,Takashi Ohshima,Toshihide Agemura,Tsunenori Nomaguchi,Tatsuro Ide. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-10.

System and method for aligning electron beams in multi-beam inspection apparatus

Номер патента: US20230280293A1. Автор: Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu,Qingpo Xi,Xinan LUO. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-09-07.

Inspection method and inspection apparatus using electron beam

Номер патента: US20040026633A1. Автор: Ryuichi Funatsu,Mari Nozoe,Yasuhiro Gunji,Yoshikazu Inada,Kenjirou Yamamoto,Taku Ninomya. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2004-02-12.

Multiple electron-beam image acquisition apparatus and multiple electron-beam image acquisition method

Номер патента: US20200411280A1. Автор: Chosaku Noda. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-12-31.

Multiple electron-beam image acquisition apparatus and multiple electron-beam image acquisition method using beam arrangement with omitted corners in a scan direction

Номер патента: US11961703B2. Автор: Chosaku Noda. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-04-16.

Enhanced defect detection in electron beam inspection and review

Номер патента: WO2015048473A1. Автор: HONG Xiao,Lorraine Young,Kumar Raja GUVINDAN RAJU,Gary Fan,Wade Jensen. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2015-04-02.

Radiation correction method for electron beam lithography

Номер патента: US20040086786A1. Автор: San-De Tzu,Wei-Zen Chou,Chia Wu,Ching Chiu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2004-05-06.

Electron beam control device for electron microscopes

Номер патента: US4451737A. Автор: Shigeto Isakozawa. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1984-05-29.

Device for electron-beam heating of materials

Номер патента: US4105890A. Автор: Boris A. Movchan,Viktor A. Timashov,Konstantin N. Kljuev. Владелец: Individual. Дата публикации: 1978-08-08.

Variable axis immersion lens electron beam projection system

Номер патента: US4544846A. Автор: Maris A. Sturans,Hans C. Pfeiffer,Gunther O. Langner. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1985-10-01.

Dummy insertion for improving throughput of electron beam lithography

Номер патента: US11899367B2. Автор: CHUN-HUNG Liu,Chien-Chih Chen,Chien-Cheng Chen,Hsin-Wei Wu,Shih-Ming Chang,Chia-Hua Chang,Wen Lo,Ta-Wei Ou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-02-13.

Electron beam irradiation apparatus and electron beam drawing apparatus

Номер патента: US20120235054A1. Автор: Shinsuke Nishimura,Munehiro Ogasawara. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2012-09-20.

Electron-Beam Lithography Process with Multiple Columns

Номер патента: US20160284504A1. Автор: Wen-Chuan Wang,Shy-Jay Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-09-29.

Wafer inspecting method, wafer inspecting instrument, and electron beam apparatus

Номер патента: EP1273907A1. Автор: Toshifumi Kimba,Kenji Watanabe,Tsutomu Karimata,Muneki Hamashima,Mamoru Nakasuji,Masahiro Hatakeyama,Mutsumi Saito,Nobuharu Noji,Tohru Satake,Hirosi Sobukawa,Shoji Yoshikawa,Shin Oowada. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2003-01-08.

Patterned substrate imaging using multiple electron beams

Номер патента: WO2018160688A1. Автор: Tao Feng,YAN Zhao,Weiqiang SUN. Владелец: Dongfang Jingyuan Electron Limited. Дата публикации: 2018-09-07.

Method and apparatus for reconstructing atomic spatial distribution and electron beam function

Номер патента: US20230317409A1. Автор: RONG Yu,Wenfeng YANG,Haozhi SHA,Jizhe Cui. Владелец: TSINGHUA UNIVERSITY. Дата публикации: 2023-10-05.

Tailored electron energy distribution function by new plasma source: hybrid electron beam and RF plasma

Номер патента: US12014901B2. Автор: Alok Ranjan,Peter Ventzek,Zhiying Chen. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-18.

Patterned substrate imaging using multiple electron beams

Номер патента: EP3590127A1. Автор: Tao Feng,YAN Zhao,Weiqiang SUN. Владелец: Dongfang Jingyuan Electron Ltd. Дата публикации: 2020-01-08.

Electron-beam furnace with magnetically guided beam

Номер патента: GB935571A. Автор: . Владелец: Stauffer Chemical Co. Дата публикации: 1963-08-28.

Small-dimension measurement system by scanning electron beam

Номер патента: US4600839A. Автор: Masahide Okumura,Satoru Fukuhara,Mikio Ichihashi,Hisaya Murakoshi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1986-07-15.

Methods of steering and focusing ion and electron beams

Номер патента: US4694457A. Автор: John C. Kelly,Glenn W. Kentwell. Владелец: Unisearch Ltd. Дата публикации: 1987-09-15.

Electron microscope and image capturing method using electron beam

Номер патента: US20140097342A1. Автор: Yoshinobu Kimura,Hideyuki Kazumi,Toshiyuki Yokosuka,Natsuki Tsuno,Takafumi Miwa,Yuzuru Mochizuki. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2014-04-10.

Spectroscopic element and charged particle beam device using the same

Номер патента: US20150318144A1. Автор: Masanari Koguchi,Yoshihiro Anan. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2015-11-05.

Electron microscope and image capturing method using electron beam

Номер патента: US8907279B2. Автор: Yoshinobu Kimura,Hideyuki Kazumi,Toshiyuki Yokosuka,Natsuki Tsuno,Takafumi Miwa,Yuzuru Mochizuki. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2014-12-09.

Multiple-beam system for high-speed electron-beam inspection

Номер патента: WO2012128967A2. Автор: Xinrong Jiang,Liqun Han,John D. Greene. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2012-09-27.

Heat-spreadable blanking system for high throughput electron beam apparatus

Номер патента: SG11201804756RA. Автор: Christopher Sears,Xinrong Jiang,Doug Larson. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2018-07-30.

Electron beam generation and measurement

Номер патента: EP3695437A1. Автор: Frances Hill,Rudy Garcia,Mike Romero,Katerina Ioakeimidi,Gildardo DELGADO. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2020-08-19.

Electron beam writing apparatus and electron beam writing method

Номер патента: US20240087845A1. Автор: HIROFUMI Morita,Haruyuki NOMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-03-14.

Electron beam irradiation system and electron beam irradiation method

Номер патента: US20020117636A1. Автор: Jun Sasaki,Yoshihisa Miura,Yuichi Aki. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2002-08-29.

Method for studying a zone of an object so as to determine a mass-thickness and a composition thereof by using an electron beam and measurements of x-ray radiation intensity

Номер патента: US20160169668A1. Автор: Eric Robin. Владелец: Commissariat a lEnergie Atomique et aux Energies Alternatives CEA. Дата публикации: 2016-06-16.

Films and the like produced from particles by processing with electron beams, and a method for production thereof

Номер патента: US09837599B1. Автор: Justin J. Hill,Ryan D. Reeves,Thomas M. Lasko. Владелец: Mainstream Engineering Corp. Дата публикации: 2017-12-05.

Electron beam plasma source with remote radical source

Номер патента: US09564297B2. Автор: Ying Zhang,Shahid Rauf,Kartik Ramaswamy,Kenneth S. Collins,Steven Lane,Leonid Dorf,Ming-Feng Wu,Hamid Tavassoli. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-02-07.

Method of forming hollow single-crystal cylindrical tubes

Номер патента: RU2630811C1. Автор: Мырзамамат Арзиевич Каримбеков,Виктор Васильевич Новокрещенов,Регина Владимировна Родякина,Вячеслав Николаевич Ластовиря. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский университет "МЭИ" (ФГБОУ ВО "НИУ "МЭИ"). Дата публикации: 2017-09-13.

Laser electron-beam device

Номер патента: RU2192686C2. Автор: О.М. Макиенко,Н.Г. Румянцев. Владелец: Самсунг Дисплей Дивайсиз Ко., Лтд.. Дата публикации: 2002-11-10.

Method and device for cooling window foil of electron beam accelerator

Номер патента: RU2175172C2. Автор: Тацуя НИСИМУРА. Владелец: Ибара Корпорейшн. Дата публикации: 2001-10-20.

Ultraviolet light generating target, electron-beam-excited ultraviolet light source, and method for producing ultraviolet light generating target

Номер патента: US20140034853A1. Автор: Koji Kawai,Takashi Suzuki,Yoshinori Honda,Norio Ichikawa,Fumitsugu Fukuyo,Takeaki HATTORI,Shucheng Chu. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2014-02-06.

Multi-target x-ray tube with stationary electron beam position

Номер патента: US20140314209A1. Автор: Todd S. Parker,Dave Reynolds,Steven D. Liddiard. Владелец: Moxtek Inc. Дата публикации: 2014-10-23.

Output window for electron beam in isotope production

Номер патента: RU2762668C9. Автор: Дуглас УЛРИХ. Владелец: Канейдьен Лайт Сорс Инк.. Дата публикации: 2022-02-17.

Direct nanolithography or printing method for electron beams in wet environment

Номер патента: US20170075234A1. Автор: Yue Lu,Furong CHEN,Manling Sui. Владелец: BEIJING UNIVERSITY OF TECHNOLOGY. Дата публикации: 2017-03-16.

Electron emitter assembly and method for adjusting a power level of electron beams

Номер патента: US20060098783A1. Автор: COLIN Wilson,Bruce Dunham,John Price. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2006-05-11.

Electron capture dissociation (ecd) utilizing electron beam generated low energy electrons

Номер патента: US20190287775A1. Автор: Kenneth R. Newton,Nigel P. Gore,Mark Denning. Владелец: AGILENT TECHNOLOGIES INC. Дата публикации: 2019-09-19.

Electron beam inspection apparatus and electron beam inspection method

Номер патента: US12046445B2. Автор: Takuro Nagao. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-07-23.

High voltage standoff, current regulating, hollow electron beam switch tube

Номер патента: WO2000028569A1. Автор: Richard Brownell True. Владелец: Litton Systems, Inc.. Дата публикации: 2000-05-18.

Technique for multi-stream electron beam generation with different energies and comparable currents from a single cathode potential for high power microwave sources

Номер патента: US20230420212A1. Автор: Edl Schamiloglu,Khandakar Nusrat ISLAM. Владелец: UNM Rainforest Innovations. Дата публикации: 2023-12-28.

Method for assembling an electron exit window and an electron exit window assembly

Номер патента: EP2406808A1. Автор: Werner Haag,Lars-Ake Naslund,Anders Kristiansson,Luca Poppi,Kurt Holm,Toni Waber. Владелец: Tetra Laval Holdings and Finance SA. Дата публикации: 2012-01-18.

Color display device with a deflection-dependent distance between outer beams

Номер патента: US20020057048A1. Автор: Daniel Den Engelsen,Albertus A. S. Sluyterman,Johannes C. A. Van Nes. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 2002-05-16.

High brightness boron-containing electron beam emitters for use in a vacuum environment

Номер патента: US09984846B2. Автор: Gildardo R. Delgado,Edgardo Garcia Berrios,Frances Hill,Rudy Garcia,William G. Schultz. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2018-05-29.

Output window for electron beam in isotope production

Номер патента: RU2762668C2. Автор: Дуглас УЛРИХ. Владелец: Канейдьен Лайт Сорс Инк.. Дата публикации: 2021-12-21.

X-ray generation using electron beam

Номер патента: US20210319971A1. Автор: Ryosuke Yabushita,Shinya Hattori,Naofumi Kosugi. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2021-10-14.

Color CRT device with deflection yoke

Номер патента: US5801480A. Автор: Takeo Kawaguchi,Makoto Iwagami,Masumi Yuasa,Hisanobu Tokunaga. Владелец: Mitsubishi Electric Engineering Co Ltd. Дата публикации: 1998-09-01.

An electron beam device having a resistive focusing lens structure and method for making such a device

Номер патента: WO1996002932A1. Автор: Edward Cosman,William Osborne,Petrus Prinsen,Edwin Montie. Владелец: Philips Norden Ab. Дата публикации: 1996-02-01.

Amplifier hub of electron beam with electron membrane

Номер патента: RU2619767C2. Автор: Богдан Николаевич Казьмин,Иван Васильевич Трифанов,Дмитрий Ринатович Рыжов,Людмила Ивановна Оборина,Владимир Иванович Трифанов,Марина Викторовна Савельева. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Сибирский государственный аэрокосмический университет имени академика М.Ф. Решетнева" (СибГАУ). Дата публикации: 2017-05-18.

Electron beam deflection lens for color crt

Номер патента: WO1993022790A1. Автор: Hsing-Yao Chen. Владелец: Chen Hsing Yao. Дата публикации: 1993-11-11.

Electron beam detecting device

Номер патента: US20150331018A1. Автор: Yukinobu Nishino,Ryo Abe,Yuichi Takenaka,Youhei Sakamoto. Владелец: Shibuya Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2015-11-19.

Hybrid linear accelerator with a broad range of regulated electron and X-ray beam parameters includes both standing wave and traveling wave linear sections for providing a multiple-energy high-efficiency electron beam or X-ray beam useful for security inspection, non-destructive testing, radiation therapy, and other applications

Номер патента: US09854662B2. Автор: Andrey Mishin. Владелец: Varex Imaging Corp. Дата публикации: 2017-12-26.

Electron beam detecting device

Номер патента: US09632117B2. Автор: Yukinobu Nishino,Ryo Abe,Yuichi Takenaka,Youhei Sakamoto. Владелец: Shibuya Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-25.

Electron beam lithography with a bilayer resist

Номер патента: AU2021236441A1. Автор: Ivan Milosavljevic,Amanda Simpson,Antonio Mei. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2022-05-19.

Electron beam-generating apparatus, image-forming apparatus, and driving methods thereof

Номер патента: AU681097B2. Автор: Hidetoshi Suzuki,Ichiro Nomura,Tetsuya Kaneko,Shinya Mishina,Naoto Nakamura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1997-08-21.

Display device with electron beam guiding channels

Номер патента: EP1518254A1. Автор: Michel C. J. M. Vissenberg,Willem L. Ijzerman,Hubertus M. R. Cortenraad. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2005-03-30.

Display device with electron beam guiding channels

Номер патента: WO2004001788A1. Автор: Michel C. J. M. Vissenberg,Willem L. Ijzerman,Hubertus M. R. Cortenraad. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V.. Дата публикации: 2003-12-31.

Apparatus for measuring total pressure and partial pressure with common electron beam

Номер патента: WO2003103005A1. Автор: Robert E. Ellefson,Louis C. Frees. Владелец: Inficon, Inc.. Дата публикации: 2003-12-11.

Apparatus for measuring total pressure and partial pressure with common electron beam

Номер патента: US20020153820A1. Автор: Robert Ellefson,Louis Frees. Владелец: Inficon Inc. Дата публикации: 2002-10-24.

Field emission device with focusing control electrode and field emission display

Номер патента: US20050189868A1. Автор: Hang-woo Lee,Pil-soo Ahn. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2005-09-01.

Manufacturing method of spacer for electron-beam apparatus and manufacturing method of electron-beam apparatus

Номер патента: US20020123292A1. Автор: Nobuhiro Ito,Koji Yamazaki,Masahiro Fushimi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-09-05.

Color cathode ray tube having improved arrangement of electron beams

Номер патента: US6320307B1. Автор: Toshiyuki Tanaka. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2001-11-20.

Low energy electron beam lithography

Номер патента: US09557658B2. Автор: Takao Utsumi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-01-31.

Electron-beam device and semiconductor device for use in such an electron-beam device

Номер патента: CA1249012A. Автор: Arthur M.E. Hoeberechst,Gerardus G.P. Van Gorkom. Владелец: Gerardus G.P. Van Gorkom. Дата публикации: 1989-01-17.

Diamond like carbon layer formed by an electron beam plasma process

Номер патента: EP3475971A1. Автор: Yang Yang,Chentsau Ying,Srinivas D. Nemani,Jie Zhou,Kartik Ramaswamy,Kenneth S. Collins,Steven Lane,James D. Carducci,Jingjing Liu,Gonzalo MONROY,Lucy Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-05-01.

Electron beam apparatus and image displaying apparatus using the same

Номер патента: US20100201247A1. Автор: Toshihiko Takeda,Tamayo Hiroki,Takanori Suwa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2010-08-12.

Vacuum display device with reduced ion damage

Номер патента: EP1537593A1. Автор: Ramon P. Van Gorkom,Nijs C. Van Der Vaart,Johannes J. W. M. Rosink. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2005-06-08.

Electron beam deflection device for cathode ray tube

Номер патента: US6346769B1. Автор: Ichiro Saito,Koichi Iida. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2002-02-12.

Electron beam lithography with a bilayer resist

Номер патента: EP3995895A1. Автор: Ivan Milosavljevic,Amanda Simpson,Antonio Mei. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2022-05-11.

Electron Beam Lithography With a Bilayer Resist

Номер патента: US20220137510A1. Автор: Ivan Milosavljevic,Amanda Simpson,Antonio Mei. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2022-05-05.

Three-dimensional electron beam computed tomography

Номер патента: WO2005104952A8. Автор: Hermann Schomberg. Владелец: Hermann Schomberg. Дата публикации: 2006-10-05.

Image display device with support assembly

Номер патента: US20060279199A1. Автор: Shigeo Takenaka,Satoshi Ishikawa,Masaru Nikaido. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-12-14.

Methods of plasma processing using a pulsed electron beam

Номер патента: WO2021141651A1. Автор: Alok Ranjan,Peter Ventzek. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2021-07-15.

X-ray source, high-voltage generator, electron beam gun, rotary target assembly, rotary target, and rotary vacuum seal

Номер патента: US09966217B2. Автор: Roger Hadland. Владелец: NIKON METROLOGY NV. Дата публикации: 2018-05-08.

X-ray source, high-voltage generator, electron beam gun, rotary target assembly, rotary target, and rotary vacuum seal

Номер патента: US09947501B2. Автор: Roger Hadland. Владелец: NIKON METROLOGY NV. Дата публикации: 2018-04-17.

X-ray source, high-voltage generator, electron beam gun, rotary target assembly, and rotary vacuum seal

Номер патента: US09941090B2. Автор: Roger Hadland. Владелец: NIKON METROLOGY NV. Дата публикации: 2018-04-10.

Device for producing an electron beam

Номер патента: US09916960B2. Автор: Oliver Heid. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2018-03-13.

Ferroelectric emitter for electron beam emission and radiation generation

Номер патента: US09646797B2. Автор: Moshe Einat. Владелец: Ariel University Research and Development Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-09.

Method of forming bunches of high energy density in an electron beam and a transit klystron

Номер патента: RU2744218C1. Автор: Игорь Анатольевич Гузилов. Владелец: Игорь Анатольевич Гузилов. Дата публикации: 2021-03-03.

Video signal reproducing device with electron beam scanning velocity modulation

Номер патента: US3936872A. Автор: Senri Miyaoka. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1976-02-03.

Camera device with resistive target

Номер патента: GB1529004A. Автор: . Владелец: Thomson CSF SA. Дата публикации: 1978-10-18.

Electron beam gun with kinematic coupling for high power rf vacuum devices

Номер патента: WO2017112411A1. Автор: Philipp Borchard. Владелец: Dymenso LLC. Дата публикации: 2017-06-29.

Electron beam gun with kinematic coupling for high power rf vacuum devices

Номер патента: EP3394875A1. Автор: Philipp Borchard. Владелец: Dymenso LLC. Дата публикации: 2018-10-31.

Cathode ray tube with electron beam convergence regulator

Номер патента: US5955830A. Автор: Toshio Uyama. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1999-09-21.

Electron beam pumped semiconductor laser screen and associated fabrication method

Номер патента: US20040028109A1. Автор: Robert Morgan,Robert Rice,Neil Ruggieri,J. Whiteley,Richard Skogman. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2004-02-12.

Electron beam apparatus using electron source, image-forming apparatus using the same and method of manufacturing members to be used in such electron beam apparatus

Номер патента: US20050003730A1. Автор: Hideaki Mitsutake,Yoichi Ando. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-01-06.

Convergent photon and electron beam generator device

Номер патента: US09583302B2. Автор: Rodolfo FIGUEROA SAAVEDRA,Mauro VALENTE. Владелец: Universidad Nacional de Cordoba. Дата публикации: 2017-02-28.

Electron beam gun with kinematic coupling for high power RF vacuum devices

Номер патента: US09502203B1. Автор: Philipp Borchard. Владелец: Dymenso LLC. Дата публикации: 2016-11-22.

Method for estimating patterns to be printed on a plate or mask by means of electron-beam lithography and corresponding printing device

Номер патента: US09430597B2. Автор: Jerome Belledent. Владелец: Aselta Nanographics SA. Дата публикации: 2016-08-30.

Patterning method using electron beam and exposure system configured to perform the same

Номер патента: US09411236B2. Автор: Yongseok Jung,Sanghee Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-08-09.

Microwave traveling wave device with electronically switched interaction characteristics

Номер патента: US3573540A. Автор: John M Osepchuk. Владелец: Raytheon Co. Дата публикации: 1971-04-06.

Electron beam focusing system

Номер патента: GB1242003A. Автор: . Владелец: Minnesota Mining and Manufacturing Co. Дата публикации: 1971-08-11.

Flat display device with beam guide

Номер патента: US4076994A. Автор: Charles Hammond Anderson. Владелец: RCA Corp. Дата публикации: 1978-02-28.

Flat display device with beam guide

Номер патента: US4088920A. Автор: Charles H. Anderson,Thomas L. Credelle,Wieslaw W. Siekanowicz. Владелец: RCA Corp. Дата публикации: 1978-05-09.

Electron Beam Transport System

Номер патента: US20190246486A1. Автор: Roelof Harm KLUNDER,Gijsbertus Geert PGORTER,Johannes Aldegonda Theodoras Marie VAN DEN HOMBERG. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2019-08-08.

Electron beam probing techniques and related structures

Номер патента: US11996336B2. Автор: Amitava Majumdar,Radhakrishna Kotti,Mallesh Rajashekharaiah. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2024-05-28.

Semiconductor device for emitting highly spin-polarized electron beam

Номер патента: CA2067843A1. Автор: Toshihiro Kato,Tsutomu Nakanishi,Takashi Saka,Hiromichi Horinaka. Владелец: Individual. Дата публикации: 1992-11-03.

Electron beam probing techniques and related structures

Номер патента: US20220301946A1. Автор: Amitava Majumdar,Radhakrishna Kotti,Mallesh Rajashekharaiah. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2022-09-22.

Electron beam tube with moving display or memory

Номер патента: US3790851A. Автор: J Baring. Владелец: Honeywell Inc. Дата публикации: 1974-02-05.

Method of manufacturing a spacer used in an electron beam generating device, an electron beam generating device using the spacer and image-forming apparatus

Номер патента: US20020034916A1. Автор: Yasushi Shimizu,Masahiro Fushimi,Yasushi Shioya. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-03-21.

Electron beam equipment

Номер патента: US4064543A. Автор: Peter Harold Phillips,David William Warwick. Владелец: Plessey Handel und Investments AG. Дата публикации: 1977-12-20.

Composite Electron Beam Vacuum Tube

Номер патента: US20240312754A1. Автор: Michael K. Strahan,Kyle Eversole. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2024-09-19.

Scanning electron microscope system capable of measuring in-cell overlay offset using high-energy electron beam and method thereof

Номер патента: US09934939B2. Автор: Sang Kil Lee,Chung Sam Jun,Min Kook Kim,Yu Sin YANG,Woo Seok KO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-04-03.

Nonlinear transmission line based electron beam density modulator

Номер патента: US09685296B1. Автор: Donald A. Shiffler,David Michael French,Brad Winston Hoff,Susan L. Heidger,Wilkin W. Tang. Владелец: US Air Force. Дата публикации: 2017-06-20.

Alignment of members to electron beams

Номер патента: GB1361804A. Автор: . Владелец: Westinghouse Electric Corp. Дата публикации: 1974-07-30.

Electron emitter assembly and method for adjusting a size of electron beams

Номер патента: US20060098780A1. Автор: COLIN Wilson,Bruce Dunham,John Price. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2006-05-11.

High density electron beam generated by low voltage limiting aperture gun

Номер патента: US5220239A. Автор: Hsing-Yao Chen. Владелец: Chunghwa Picture Tubes Ltd. Дата публикации: 1993-06-15.

Photo-sensitive target for an electron tube which employs a scanning electron beam in operation

Номер патента: GB1350696A. Автор: . Владелец: Philips Electronic and Associated Industries Ltd. Дата публикации: 1974-04-18.

Multiple focal spot X-ray tube with multiple electron beam manipulating units

Номер патента: US7949102B2. Автор: Rolf Karl Otto Behling. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2011-05-24.

Electron gun for in-line color cathode ray tube having differently shaped electron beam passage apertures

Номер патента: US6031325A. Автор: Yasunobu Amano. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2000-02-29.

Method and apparatus for magnetic focusing of off-axis electron beam

Номер патента: EP1522084B1. Автор: Mark J. CATTELINO,Fred I. FRIEDLANDER. Владелец: Communications and Power Industries LLC. Дата публикации: 2011-11-16.

Apparatus and method for trajectory modulation of an electron beam

Номер патента: WO2008022004A3. Автор: Mark Frederick Kirshner,Craig Bisset Wilsen,Richard Donald Kowalczyk. Владелец: Richard Donald Kowalczyk. Дата публикации: 2008-06-19.

Color display device with a deflection-dependent distance between outer beams

Номер патента: EP1192636A1. Автор: Albertus A. S. Sluyterman. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2002-04-03.

Method and apparatus for magnetic focusing of off-axis electron beam

Номер патента: WO2004006281A3. Автор: Mark J Cattelino,Fred I Friedlander. Владелец: Comm And Power Ind Inc. Дата публикации: 2004-07-22.

Method and apparatus for magnetic focusing of off-axis electron beam

Номер патента: WO2004006281A2. Автор: Mark J. Cattelino,Fred I. Friedlander. Владелец: Communications And Power Industries, Inc.. Дата публикации: 2004-01-15.

Method and apparatus for magnetic focusing of off-axis electron beam

Номер патента: EP1522084A2. Автор: Mark J. Comm. & Power Industries Inc CATTELINO,Fred I. Comm. & Power Industries Inc FRIEDLANDER. Владелец: Communications and Power Industries LLC. Дата публикации: 2005-04-13.

Electron beam probing techniques and related structures

Номер патента: US20210166979A1. Автор: Amitava Majumdar,Radhakrishna Kotti,Mallesh Rajashekharaiah. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2021-06-03.

Electron beam apparatus and image display apparatus using the same

Номер патента: EP2251888A3. Автор: Hisanobu Azuma,Toshiharu Sumiya,Takanori Suwa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2011-05-04.

Electron beam apparatus using electorn source, image-forming apparatus using the same and method of manufacturing members to be used in such electron beam apparatus

Номер патента: US20020190635A1. Автор: Hideaki Mitsutake,Yoichi Ando. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-12-19.

Microwave electron beam tubes

Номер патента: US3621316A. Автор: Geoffrey Thomas Clayworth. Владелец: English Electric Valve Co Ltd. Дата публикации: 1971-11-16.

Electron beam probing techniques and related structures

Номер патента: US20240355685A1. Автор: Amitava Majumdar,Radhakrishna Kotti,Mallesh Rajashekharaiah. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2024-10-24.

Aligning and focusing an electron beam in an X-ray source

Номер патента: US09947502B2. Автор: Oscar Hemberg,Tomi Tuohimaa,Björn SUNDMAN. Владелец: EXCILLUM AB. Дата публикации: 2018-04-17.

Blanking of electron beam during dynamic focal spot jumping in circumferential direction of a rotating anode disk of an X-ray tube

Номер патента: US09659739B2. Автор: Christoph Helmut Bathe,Thorben Repenning. Владелец: Koninklijke Philips NV. Дата публикации: 2017-05-23.

Electron beam source of narrow energy distribution

Номер патента: US3990038A. Автор: Clarence Williams,Arthur S. Jensen. Владелец: Westinghouse Electric Corp. Дата публикации: 1976-11-02.

Electron beam generator, plasma processing apparatus having the same and plasma processing method using the same

Номер патента: US11195696B2. Автор: Akira Koshiishi,Soonam Park,Dongkyu Shin,Kyuhee Han,Sangki NAM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-12-07.

Color cathode-ray tube having electrostatic quadrupole lens exhibiting different intensities for electron beams

Номер патента: US6400105B2. Автор: Shinichi Kato,Go Uchida,Syoji Shirai,Masafumi Nagaoka. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2002-06-04.

Device for adjusting electron beams in a cathode-ray tube

Номер патента: CA1206510A. Автор: Walter Kornaker. Владелец: ITT Industries Inc. Дата публикации: 1986-06-24.

Electron beam addressed memory

Номер патента: CA1276295C. Автор: Max Smollett,George L. Macdonald. Владелец: Philips Gloeilampenfabrieken NV. Дата публикации: 1990-11-13.

Characterization of an electron beam

Номер патента: US11892576B2. Автор: Tomi Tuohimaa,Per TAKMAN,Ulf Lundstrom. Владелец: EXCILLUM AB. Дата публикации: 2024-02-06.

Electron beam apparatus for patterned metal reduction and method for the same

Номер патента: US20150259783A1. Автор: Tri-Rung Yew,Pin Chang,Ying-Chan HUNG,Shih-En Lai. Владелец: National Tsing Hua University NTHU. Дата публикации: 2015-09-17.

Characterization of an electron beam

Номер патента: EP4062441A1. Автор: Tomi Tuohimaa,Per TAKMAN,Ulf Lundstrom. Владелец: EXCILLUM AB. Дата публикации: 2022-09-28.

Characterization of an electron beam

Номер патента: US20220404514A1. Автор: Tomi Tuohimaa,Per TAKMAN,Ulf Lundstrom. Владелец: EXCILLUM AB. Дата публикации: 2022-12-22.

Characterization of an electron beam

Номер патента: WO2021099202A1. Автор: Tomi Tuohimaa,Per TAKMAN,Ulf Lundstrom. Владелец: EXCILLUM AB. Дата публикации: 2021-05-27.

Filament having a variable cross-section, and electron beam emitter comprising such filament

Номер патента: WO2002078033A2. Автор: Tzvi Avnery. Владелец: Advanced Electron Beams, Inc.. Дата публикации: 2002-10-03.

Magneto-electrostatic sensing, focusing, and steering of electron beams in vacuum electron devices

Номер патента: WO2022104168A3. Автор: Diana Gamzina DAUGHERTY. Владелец: Elve Inc.. Дата публикации: 2022-06-23.

Magneto-electrostatic sensing, focusing, and steering of electron beams in vacuum electron devices

Номер патента: US20240258061A1. Автор: Diana Gamzina DAUGHERTY. Владелец: Elve Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Electron beam emitter

Номер патента: US20020135285A1. Автор: Tzvi Avnery. Владелец: Advanced Electron Beams Inc. Дата публикации: 2002-09-26.

Filament having variable cross-section, and electron beam emitter comprising such filament

Номер патента: EP1402553A2. Автор: Tzvi Avnery. Владелец: Advanced Electron Beams Inc. Дата публикации: 2004-03-31.

Field emission display having improved capability of converging electron beams

Номер патента: US20030071257A1. Автор: Sang-Hyuck Ahn,Yong-soo Choi,Jung-ho Kang,Ho-Su Han. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2003-04-17.

Apparatus and method for providing a modulated electron beam

Номер патента: US4703228A. Автор: William P. West. Владелец: GA Technologies Inc. Дата публикации: 1987-10-27.

Method and apparatus for monitoring vapour density in an electron beam furnace

Номер патента: GB1333993A. Автор: . Владелец: Airco Inc. Дата публикации: 1973-10-17.

Dielectric guide for electron beam transport

Номер патента: US4079285A. Автор: Roger G. Little. Владелец: Simulation Physics Inc. Дата публикации: 1978-03-14.

Method of conversion of image of external power effects to electric signal and electron-beam vacuum device intended for its realization

Номер патента: RU2100866C1. Автор: Ю.А. Крутяков. Владелец: Плотников Михаил Ильич. Дата публикации: 1997-12-27.

Tuning the scanning electron beam computed tomography scanner

Номер патента: US5224137A. Автор: Roy E. Rand,Mark C. Nicely,Susan E. Plomgren,John L. Couch. Владелец: Imatron Inc. Дата публикации: 1993-06-29.

Electron gun structure for converging electron beams

Номер патента: US4833365A. Автор: Yoshiaki Takahashi,Kazuo Majima,Masakazu Fukushima,Hidemasa Komoro,Shoji Shirai. Владелец: Hitachi Device Engineering Co Ltd. Дата публикации: 1989-05-23.

Electron beam regulator

Номер патента: US3794878A. Автор: E Sickafus. Владелец: Ford Motor Co. Дата публикации: 1974-02-26.

Sterilization by a low energy electron beam

Номер патента: WO2000055884A1. Автор: George Wakalopulos,Eduardo R. Urgiles. Владелец: American International Technologies, Inc.. Дата публикации: 2000-09-21.

Electron beam display

Номер патента: US20120091878A1. Автор: Minoru Ookoba. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-04-19.

Electron beam rendering device, electron beam rendering method, and recording medium

Номер патента: EP4362057A1. Автор: Natsuki Suzuki,Masakazu HAMAJI,Issei MASUMOTO. Владелец: Nippon Control System Corp. Дата публикации: 2024-05-01.

Convergence correction device for electron beams in color picture tube and process of using

Номер патента: US20030048065A1. Автор: Song Shik. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-03-13.

Electron beam irradiation apparatus and electron beam irradiation method

Номер патента: US20220189734A1. Автор: Taku Yamada,Kota Iwasaki. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2022-06-16.

Electron beam resist composition

Номер патента: EP3177966A1. Автор: Stephen Yeates,Scott Lewis,Richard WINPENNY. Владелец: University of Manchester. Дата публикации: 2017-06-14.

Electron beam resist composition

Номер патента: US20170235227A1. Автор: Stephen Yeates,Scott Lewis,Richard WINPENNY. Владелец: University of Manchester. Дата публикации: 2017-08-17.

Electron beam resist composition

Номер патента: US20190324370A1. Автор: Stephen Yeates,Scott Lewis,Richard WINPENNY. Владелец: University of Manchester. Дата публикации: 2019-10-24.

Electron beam apparatus using electron source, spacers having high-resistance film and low-resistance layer, and image-forming device using the same

Номер патента: US20020079829A1. Автор: Hideaki Mitsutake,Yoichi Ando. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-06-27.

Electron-beam tube as symbol-printing tube

Номер патента: US3753035A. Автор: W Veith. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1973-08-14.

High intensity discharge lamp with single crystal sapphire envelope

Номер патента: EP1470569A1. Автор: Bernard J. Eastlund,Maurice E. Levis. Владелец: Gem Lighting LLC. Дата публикации: 2004-10-27.

Electron beam apparatus and image display apparatus

Номер патента: US20100283379A1. Автор: Yohei Hashizume. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2010-11-11.

Positioning apparatus for an electron beam

Номер патента: US9748067B2. Автор: Jan Berk,Thomas Weidinger. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2017-08-29.

Electron beam apparatus and image display apparatus

Номер патента: EP2251891A3. Автор: Yohei Hashizume. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2011-03-16.

Positioning apparatus for an electron beam

Номер патента: US09748067B2. Автор: Jan Berk,Thomas Weidinger. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2017-08-29.

Method and means for dynamic correction of electrostatic deflector for electron beam tube

Номер патента: US4142132A. Автор: Kenneth J. Harte. Владелец: Control Data Corp. Дата публикации: 1979-02-27.

Image-forming apparatus, and designation of electron beam diameter at image-forming member in image-forming apparatus

Номер патента: CA2112432C. Автор: Hidetoshi Suzuki,Yasue Sato,Ichiro Nomura,Naoto Nakamura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1999-05-04.

Electron beam multistage accelerator driven probe device

Номер патента: EP1146931A1. Автор: Mark Dinsmore. Владелец: Photoelectron Corp. Дата публикации: 2001-10-24.

Electron-beam generating apparatus, image display apparatus having the same, and method of driving thereof

Номер патента: CA2201243C. Автор: Hidetoshi Suzuki,Takamasa Sakuragi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2002-09-10.

Electron beam device having an electron gun and a method of making the electron gun

Номер патента: US4853589A. Автор: Gerardus A. H. M. Vrijssen. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 1989-08-01.

CRT with means for monitoring electron beam

Номер патента: US4827183A. Автор: Peter Seats. Владелец: Thomson Electron Tubes and Devices Corp. Дата публикации: 1989-05-02.

Electron beam electrical power transmission system

Номер патента: CA1039797A. Автор: Robert S. Symons. Владелец: Varian Associates Inc. Дата публикации: 1978-10-03.

Method for manufacturing surface-conductive electron beam source device

Номер патента: US5597338A. Автор: Ichiro Nomura,Tetsuya Kaneko,Kumi Iwai. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1997-01-28.

Single-beam and multiple-beam klystrons using periodic permanent magnets for electron beam focusing

Номер патента: WO1997038436A1. Автор: Robert M. Phillips,George Caryotakis,Daryl W. Sprehn,Neville C. LUHMANN, Jr.. Владелец: THE BOARD OF TRUSTEES OF THE LELAND STANFORD JUNIOR UNIVERSITY. Дата публикации: 1997-10-16.

Electron beam irradiation apparatus

Номер патента: EP2634776A3. Автор: Toshiaki Naka,Yukihiro Yamamoto,Yukinobu Nishino,Ryo Abe,Tokuo Nishi,Hirotoshi SHIBUYA. Владелец: Shibuya Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2016-01-20.

Electron beam irradiation apparatus

Номер патента: US20130221244A1. Автор: Toshiaki Naka,Yukihiro Yamamoto,Yukinobu Nishino,Ryo Abe,Tokuo Nishi,Hirotoshi SHIBUYA. Владелец: Shibuya Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2013-08-29.

Electron beam deflection lens for crt

Номер патента: WO1993022791A1. Автор: Hsing-Yao Chen. Владелец: Chen Hsing Yao. Дата публикации: 1993-11-11.

Linear accelerator system having a magnet unit for electron beam deflection

Номер патента: US20220104339A1. Автор: Sven Mueller,Martin Koschmieder,Stefan Willing,Claudia Noak,Marvin Moeller. Владелец: Siemens Healthcare GmbH. Дата публикации: 2022-03-31.

Device and method for measuring electron beam

Номер патента: US11874414B2. Автор: Guo Chen,Ke Zhang,Kai-Li Jiang,Shou-Shan Fan,Peng Liu. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-16.

Inline electron gun having magnetically permeable plates for enhancing convergence of electron beams

Номер патента: US3866080A. Автор: William Henry Barkow. Владелец: RCA Corp. Дата публикации: 1975-02-11.

Photoelectric tube using electron beam irradiation diode as anode

Номер патента: US5780913A. Автор: Motohiro Suyama,Koei Yamamoto,Masaharu Muramatsu. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 1998-07-14.

Portable radiography system using a relativistic electron beam

Номер патента: CA1298417C. Автор: Robert F. Hoeberling. Владелец: US Department of Energy. Дата публикации: 1992-03-31.

Electron beam deflector and a display tube including the deflector

Номер патента: GB2114806A. Автор: James Smith. Владелец: Philips Electronic and Associated Industries Ltd. Дата публикации: 1983-08-24.

Electron beam producing and focussing assembly

Номер патента: GB733910A. Автор: . Владелец: Sperry Corp. Дата публикации: 1955-07-20.

Flat electron beam addressed device

Номер патента: CA1065385A. Автор: Thomas O. Stanley. Владелец: RCA Corp. Дата публикации: 1979-10-30.

Electron beam profile and energy shaping lens

Номер патента: US5977727A. Автор: Thomas A. Dunbar. Владелец: Imaging and Sensing Technology Corp. Дата публикации: 1999-11-02.

Electron-emitting device, and electron beam-generating apparatus and image-forming apparatus employing the device

Номер патента: CA2080092C. Автор: Hidetoshi Suzuki,Ichiro Nomura,Rie Ueno,Takashi Noma,Naoto Nakamura,Yoshikazu Banno. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1999-03-23.

Traveling wave deflector for electron beams

Номер патента: CA1088992A. Автор: Ronald E. Correll,Alvin B. Christie. Владелец: Tektronix Inc. Дата публикации: 1980-11-04.

Electron beam plasma source with segmented beam dump for uniform plasma generation

Номер патента: US20130098882A1. Автор: Shahid Rauf,Kartik Ramaswamy,Kenneth S. Collins,Nipun Misra,James D. Carducci,Leonid Dorf,Gary Leray. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2013-04-25.

Electron beam lithography apparatus, electron beam lithography method, and recording medium

Номер патента: US20240145212A1. Автор: Natsuki Suzuki,Masakazu HAMAJI,Issei MASUMOTO. Владелец: Nippon Control System Corp. Дата публикации: 2024-05-02.

Electron-beam deflection system for cathode-ray tubes

Номер патента: EP1166316A1. Автор: Sébastien Volatier,Olivier Masson,Nacerdine Azzi. Владелец: Thomson Licensing SAS. Дата публикации: 2002-01-02.

Crucible cover for coating with an electron beam source

Номер патента: EP3887562A1. Автор: Cris Kroneberger. Владелец: Ferrotec USA Corp. Дата публикации: 2021-10-06.

Crucible cover for coating with an electron beam source

Номер патента: US20240068085A1. Автор: Cris Kroneberger. Владелец: Ferrotec USA Corp. Дата публикации: 2024-02-29.

Crucible cover for coating with an electron beam source

Номер патента: US20220018013A1. Автор: Cris Kroneberger. Владелец: Ferrotec USA Corp. Дата публикации: 2022-01-20.

Electron beam pvd endpoint detection and closed-loop process control systems

Номер патента: WO2021076219A3. Автор: Joseph Yudovsky,David Masayuki Ishikawa,Jonathan Frankel,David Alexander Britz. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-05-27.

Exposure method for correcting dimension variation in electron beam lithography, and recording medium for recording the same

Номер патента: US20030027064A1. Автор: Won-tai Ki. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2003-02-06.

Device for automatically controlling electrical conditions of an electron beam unit

Номер патента: US3758816A. Автор: K Gutterman,I Brukovsky,P Yakovlev,L Nekrasova,J Ivanovsky,A Perov,V Zhukov. Владелец: Individual. Дата публикации: 1973-09-11.

Ultraviolet light-generating target and method for manufacturing the same, and electron beam-excited ultraviolet light source

Номер патента: US20180182609A1. Автор: Norio Ichikawa,Kohei Ikeda. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2018-06-28.

Electron beam lithography with dynamic fin overlay correction

Номер патента: US12099304B2. Автор: Simon Dawes,Ernst Kratschmer. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2024-09-24.

Voltage supply for electrical focusing of electron beams

Номер патента: US09660597B2. Автор: Jürgen Oelschlegel,Josef Deuringer. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2017-05-23.

Method of obtaining sealed case of microelectronic device with controlled environment in its interior volume

Номер патента: RU2660799C1. Автор: Максим Сергеевич Писарев,Дмитрий Николаевич Лежнев,Сергей Аркадьевич Собко,Константин Александрович Агеев. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Российский федеральный ядерный центр - Всероссийский научно-исследовательский институт технической физики имени академика Е.И. Забабахина". Дата публикации: 2018-07-09.

Electron beam irradiation apparatus and method

Номер патента: WO2001002082A1. Автор: Yoshihiko Naitoh. Владелец: EBARA CORPORATION. Дата публикации: 2001-01-11.

Semiconductor device with single-crystal nanowire finfet

Номер патента: US20180102411A1. Автор: Hsin-Yu Chen,Sheng-Hao Lin,Huai-Tzu Chiang,Hao-Ming Lee. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2018-04-12.

Method for producing nanoparticles for magnetic fluids by electron-beam evaporation and condensation in vacuum, a magnetic fluid producing method and magnetic fluid produced according to said method

Номер патента: US20110001079A1. Автор: Boris Paton,Boris Movchan,Iurii Kurapov. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-01-06.

3D semiconductor device and structure with single-crystal layers

Номер патента: US12136562B2. Автор: Zvi Or-Bach,Brian Cronquist,Deepak C. Sekar. Владелец: Monolithic 3D Inc. Дата публикации: 2024-11-05.

Electron-beam lithography process adapted for a sample comprising at least one fragile nanostructure

Номер патента: US11127565B2. Автор: Chérif Belacel,Pascale Senellart,Agnès MAITRE,Amit Raj DHAWAN. Владелец: Universite Paris Diderot Paris 7. Дата публикации: 2021-09-21.

Electron-beam lithography process adapted for a sample comprising at least one fragile nanostructure

Номер патента: WO2018149777A1. Автор: Chérif Belacel,Pascale Senellart,Agnès MAITRE,Amit Raj DHAWAN. Владелец: SORBONNE UNIVERSITÉ. Дата публикации: 2018-08-23.

Electron-beam lithography process adapted for a sample comprising at least one fragile nanostructure

Номер патента: US20200006037A1. Автор: Chérif Belacel,Pascale Senellart,Agnès MAITRE,Amit Raj DHAWAN. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-01-02.

Electron-beam lithography process adapted for a sample comprising at least one fragile nanostructure

Номер патента: EP3583468A1. Автор: Chérif Belacel,Pascale Senellart,Agnès MAITRE,Amit Raj DHAWAN. Владелец: Universite Paris Diderot Paris 7. Дата публикации: 2019-12-25.

Machine for unloading micro-electronic beam lead chips

Номер патента: US3961409A. Автор: Theodore R. Sherwood. Владелец: Lockheed Missiles and Space Co Inc. Дата публикации: 1976-06-08.

3D semiconductor device and structure with single-crystal layers

Номер патента: US11876011B2. Автор: Zvi Or-Bach,Brian Cronquist,Deepak C. Sekar. Владелец: Monolithic 3D Inc. Дата публикации: 2024-01-16.

3d semiconductor device and structure with single-crystal layers

Номер патента: US20230343632A1. Автор: Zvi Or-Bach,Brian Cronquist,Deepak C. Sekar. Владелец: Monolithic 3D Inc. Дата публикации: 2023-10-26.

Solid-state high-luminance far ultraviolet light emitting element including highly pure hexagonal boron nitride single crystal, solid-state laser, and solid-state light emitting apparatus

Номер патента: US20100091803A1. Автор: Satoshi Koizumi,Masayuki Katagiri,Nesladek Milos,Kenji Watanabe,Takashi Taniguchi,Takatoshi Yamada,Hisao Kanda. Владелец: NATIONAL INSTITUTE FOR MATERIALS SCIENCE. Дата публикации: 2010-04-15.

Electron beam curable resin composition, resin frame for reflectors, reflector, semiconductor light emitting device, and method for producing molded body

Номер патента: US09975284B2. Автор: Toshiyuki Sakai. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2018-05-22.

Electron beam curable resin composition, resin frame for reflectors, reflector, semiconductor light emitting device, and method for producing molded body

Номер патента: US09884441B2. Автор: Toshiyuki Sakai. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2018-02-06.

Group i-vii semiconductor single crystal thin film and process for producing same

Номер патента: US20070090341A1. Автор: Masaaki Ashida,Tadashi Itoh. Владелец: JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY. Дата публикации: 2007-04-26.

Single crystal diamond and semiconductor element using same

Номер патента: US20210098578A1. Автор: Hideaki Yamada,Yoshiaki Mokuno,Akiyoshi Chayahara,Shinya OHMAGARI. Владелец: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST. Дата публикации: 2021-04-01.

Single crystal diamond and semiconductor element using same

Номер патента: EP3730677A1. Автор: Hideaki Yamada,Yoshiaki Mokuno,Akiyoshi Chayahara,Shinya OHMAGARI. Владелец: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST. Дата публикации: 2020-10-28.

Method and device for producing gamma-ray laser; method and device for shaping high- power coherent electron beam

Номер патента: RU2143773C1. Автор: Икегами Хидецугу. Владелец: Джапэн Сайенс энд Текнолоджи Корпорейшн. Дата публикации: 1999-12-27.

Plasma polymerized electron beam resist

Номер патента: EP1521997A2. Автор: Dominique Drouin,Yousef Awad,Jacques Beauvais,Eric Lavallee. Владелец: Quantiscript Inc. Дата публикации: 2005-04-13.

Electronic beam scanning lens antenna

Номер патента: RU2494506C1. Автор: Роман Олегович Масленников,Алексей Андреевич Артеменко,Андрей Викторович Можаровский,Владимир Николаевич Ссорин. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Радио Гигабит". Дата публикации: 2013-09-27.

Method and apparatus for producing a high gain free electron laser using a large energy spread electron beam

Номер патента: US12057674B2. Автор: Roderick J. Loewen,Ronald D. Ruth. Владелец: Lyra Acquisition Holdings LLC. Дата публикации: 2024-08-06.

Method for manufacturing polycrystalline silicon thin-film solar cells by means method for crystallizing large-area amorphous silicon thin film using linear electron beam

Номер патента: US09680047B2. Автор: Sun Hwa Lee,Ho Sung Kim,Sang Ryu,Chae Hwan Jeong,Seong Jae Boo. Владелец: Korea Institute of Industrial Technology KITECH. Дата публикации: 2017-06-13.

Method for making seed crystals for single-crystal semiconductor devices

Номер патента: US4585512A. Автор: Setsuo Usui,Akashi Sawada,Akikazu Shibata,Yoshinori Hayafuji. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1986-04-29.

Group I-VII semiconductor single crystal thin film and process for producing same

Номер патента: US7683457B2. Автор: Masaaki Ashida,Tadashi Itoh. Владелец: JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY. Дата публикации: 2010-03-23.

Methods and apparatus for providing a broadband tunable source of coherent millimeter, sub-millimeter and infrared radiation utilizing a non-relativistic electron beam

Номер патента: US20020060299A1. Автор: Anissim Silivra. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-05-23.

Acoustic resonator device with single crystal piezo material and capacitor on a bulk substrate

Номер патента: US09537465B1. Автор: Jeffrey B. Shealy. Владелец: Akoustis Inc. Дата публикации: 2017-01-03.

Method of manufacturing resistance change layer using irradiation of electron beam and resistive random access memory device using the same

Номер патента: US09337425B2. Автор: Dong Uk Lee,Byung Cheol Lee,Dongwook Kim,Eun Kyu Kim,Gyu Jin Oh,Seong Guk Cho,Sang Woo Pak,Hyung Dal PARK. Владелец: Industry University Cooperation Foundation IUCF HYU. Дата публикации: 2016-05-10.

Method of manufacturing single-crystal film

Номер патента: CA1203148A. Автор: Masao Tamura,Masanobu Miyao,Hideo Sunami,Takashi Tokuyama,Makoto Ohkura,Nobuyoshi Natsuaki,Naotsugu Yoshihiro. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1986-04-15.

Electron-beam (e-beam) based semiconductor device features

Номер патента: WO2016133837A1. Автор: Stanley Seungchul SONG,Jeffrey Junhao XU,Da YANG,Choh fei Yeap. Владелец: QUALCOMM INCORPORATED. Дата публикации: 2016-08-25.

Electronically beam steerable antenna device

Номер патента: EP2715869A1. Автор: Roman Olegovich Maslennikov,Aleksey Andreevich ARTEMENKO. Владелец: "RADIO GIGABIT" LLC. Дата публикации: 2014-04-09.

Electronically beam-steerable antenna device

Номер патента: US09590300B2. Автор: Roman Olegovich Maslennikov,Aleksey Andreevich ARTEMENKO. Владелец: RADIO GIGABIT. Дата публикации: 2017-03-07.

Electron-beam (E-beam) based semiconductor device features

Номер патента: US09502283B2. Автор: Stanley Seungchul SONG,Jeffrey Junhao XU,Da YANG,Choh fei Yeap. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2016-11-22.

Pattern forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet ray-sensitive resin composition, resist film, and method for manufacturing electronic device, and electronic device using the same

Номер патента: US09423690B2. Автор: Shuji Hirano,Hiroo Takizawa,Wataru Nihashi,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-08-23.

Electron beam type substrate inspecting apparatus

Номер патента: US20110204230A1. Автор: Daiji Fujiwara. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2011-08-25.

Single crystal silicon layer, its epitaxial growth method and semiconductor device

Номер патента: US6500256B2. Автор: Hisayoshi Yamoto,Hideo Yamanaka. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2002-12-31.

Capacitor with single crystal tantalum oxide layer and method for fabricating the same

Номер патента: US20070001204A1. Автор: Do-Hyung Kim. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2007-01-04.

Electron beam magnetic switch for a plurality of free electron lasers

Номер патента: US4455277A. Автор: Leland G. Schlitt. Владелец: US Department of Energy. Дата публикации: 1984-06-19.

Electron beam modification of CVD deposited films, forming low dielectric constant materials

Номер патента: US7309514B2. Автор: Matthew Ross,Jingjun Yang,Heike Thompson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2007-12-18.

Semiconductor device with single crystal layer grown from single nucleus

Номер патента: CA1290077C. Автор: Takao Yonehara,Masaharu Ozaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1991-10-01.

Fast-switch undulator and method for polarizing electron beam

Номер патента: US20200352018A1. Автор: Ching-Shiang Hwang,Sei-Da Chen,Ting-Yi CHUNG,Jyh-Chyuan Jan. Владелец: NATIONAL SYNCHROTRON RADIATION RESEARCH CENTER. Дата публикации: 2020-11-05.

Epoxy-diphenolic radiation-resistant compound for the manufacturing of the electron-beam gun insulators

Номер патента: RU2660058C1. Автор: Юрий Николаевич Быков,Аркадий Анатольевич Лысов. Владелец: Акционерное общество "Научно-исследовательский и конструкторский институт монтажной технологии - Атомстрой" (АО "НИКИМТ-Атомстрой"). Дата публикации: 2018-07-04.

Electron beam pumped gas laser

Номер патента: CA1070809A. Автор: Russell W. Dreyfus. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1980-01-29.

Radioisotope production system using an electron beam splitter

Номер патента: CA3003766C. Автор: Antonius Theodorus Anna Maria Derksen,Jacobus Johannus Leonardus Hendricus Verspay,Nicolaas Ten Kate,Olav Waldemar Vladimir Frijns,Pieter Willem Herman De Jager,Andrey Alexandrovich NIKIPELOV,Robert Gabriel Maria Lansbergen,Sipke Jacob BIJLSMA,Aukje Arianne Annette Kastelijn. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-02-20.

Select gate transistor with single crystal silicon for three-dimensional memory

Номер патента: WO2017074577A1. Автор: Jin Liu,Yanli Zhang,Raghuveer S. Makala,Johann Alsmeier,Murshed CHOWDHURY. Владелец: SanDisk Technologies LLC. Дата публикации: 2017-05-04.

Select gate transistor with single crystal silicon for three-dimensional memory

Номер патента: EP3332425A1. Автор: Jin Liu,Yanli Zhang,Raghuveer S. Makala,Johann Alsmeier,Murshed CHOWDHURY. Владелец: SanDisk Technologies LLC. Дата публикации: 2018-06-13.

Methods for electron beam patterning

Номер патента: US9182660B2. Автор: BURN JENG LIN,Jaw-Jung Shin,Wen-Chuan Wang,Shy-Jay Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-11-10.

Stimulated emission of radiation in periodically deflected electron beam

Номер патента: US3822410A. Автор: J Madey. Владелец: Individual. Дата публикации: 1974-07-02.

Method for curing spin-on-glass film utilizing electron beam radiation

Номер патента: US6132814A. Автор: William R. Livesay,Matthew F. Ross,Anthony L. Rubiales. Владелец: Electron Vision Corp. Дата публикации: 2000-10-17.

A tdi detecting device, a feed-through equipment and electron beam apparatus using these devices

Номер патента: EP1393546A1. Автор: Takeshi Murakami,Kenji Watanabe,Masahiro Hatakeyama,Nobuharu Noji,Tohru Satake. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2004-03-03.

Actinic and electron beam radiation curable electrode binders and electrodes incorporating same

Номер патента: US09543565B2. Автор: John Arnold,Gary E. Voelker. Владелец: Actega Radcure Inc. Дата публикации: 2017-01-10.

Electron beam sterilised medical device with bioactive coating

Номер патента: RU2591829C2. Автор: Джонатон З. ЧЖАО,Роберт ФАЛОТИКО,Теодор Л. ПАРКЕР,Тай Минх НГУЙЕН,Чэнсюэ ЛИ. Владелец: Кордис Корпорейшн. Дата публикации: 2016-07-20.

Improved device for sterilising flexible bags by electron-beam irradiation and method for sterilising them

Номер патента: AU2020202165B2. Автор: Jordi Boira Bonhora,Daniel Fleta Coit,Carlos ROURA SALIETTI. Владелец: Grifols Engineering SA. Дата публикации: 2024-07-04.

Microphone device with single crystal piezoelectric film and method of forming the same

Номер патента: US11785852B2. Автор: You Qian,Rakesh Kumar,Joan Josep GINER DE HARO. Владелец: Vanguard International Semiconductor SIngapore Pte Ltd. Дата публикации: 2023-10-10.

Improved device for sterilising flexible bags by electron-beam irradiation and method for sterilising them

Номер патента: EP4290983A3. Автор: Jordi Boira Bonhora,Daniel Fleta Coit,Carlos ROURA SALIETTI. Владелец: Grifols Engineering SA. Дата публикации: 2024-02-28.

Device and method for sterilizing flexible bags by electron beam irradiation

Номер патента: US11850315B2. Автор: Jordi Boira Bonhora,Daniel Fleta Coit,Carlos ROURA SALIETTI. Владелец: Grifols Engineering SA. Дата публикации: 2023-12-26.

Improved device for sterilising flexible bags by electron-beam irradiation and method for sterilising them

Номер патента: EP4290983A2. Автор: Jordi Boira Bonhora,Daniel Fleta Coit,Carlos ROURA SALIETTI. Владелец: Grifols Engineering SA. Дата публикации: 2023-12-13.

Method and apparatus for cleaning harmful gas by irradiation with gas laser and electron beams

Номер патента: CA2253045C. Автор: Jin Kyu Park,Jin Ho Park,Yong Hee Lee. Владелец: Enex Co Ltd. Дата публикации: 2002-07-02.

Electron beam-based extreme ultraviolet light source device

Номер патента: EP4401513A1. Автор: Kyu Chang Park,Sung Tae Yoo. Владелец: Industry Academic Cooperation Foundation of Kyung Hee University. Дата публикации: 2024-07-17.

Device and method for adjusting collision timing between electron beam and laser light

Номер патента: EP2164307A4. Автор: Yasuo Sakai,Hiroyuki Nose,Namio Kaneko,Fumito Sakamoto,Katsuhiro Dobashi,Daisuke Ishida,Mitsuru Uesaka. Владелец: University of Tokyo NUC. Дата публикации: 2011-08-31.

Compensated electron beam deflection device

Номер патента: US4017805A. Автор: Herbert M. Wagner. Владелец: US Department of Army. Дата публикации: 1977-04-12.

Electron beam radiation system with collision detection functionality

Номер патента: US20240245933A1. Автор: Richard L. Johnson,Michael F. Turk. Владелец: Intraop Medical Corp. Дата публикации: 2024-07-25.

Controlling x-ray tube electron beam optics during kvp switching

Номер патента: WO2024132742A1. Автор: Timothy Striker,Helmut Gerhard SCHMÜCKER. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS N.V.. Дата публикации: 2024-06-27.

Production of molybdenum-99 with use of electron beams

Номер патента: RU2667072C2. Автор: Дуглас УЛРИХ,Уильям ДАЙАМОНД,Вайней НАГАРКАЛ,ЖОН Марк ДЕ,Кристофер РЕЖЬЕ,Линда ЛИН. Владелец: Канейдьен Лайт Сорс Инк.. Дата публикации: 2018-09-14.

Electron beam excited superconducting analog-to-digital converter

Номер патента: US20020145549A1. Автор: Sadeg Faris. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-10-10.

Electron beam excited superconducting analog-to-digital converter

Номер патента: US20050035889A1. Автор: Sadeg Faris. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-02-17.

Electron beam excited superconducting analog-to-digital converter

Номер патента: WO2002073809A3. Автор: Sadeg M Faris. Владелец: Reveo Inc. Дата публикации: 2004-03-04.

Electron beam excited superconducting analog-to-digital converter

Номер патента: WO2002073809A2. Автор: Sadeg M. Faris. Владелец: Reveo, Inc.. Дата публикации: 2002-09-19.

Electron beam excited superconducting analog-to-digital converter

Номер патента: EP1413056A2. Автор: Sadeg M. Faris. Владелец: Reveo Inc. Дата публикации: 2004-04-28.

Method of generation and conclusion of the electron beam in the field of high gas pressure, to the atmospheric

Номер патента: RU2650101C1. Автор: Сергей Юрьевич Корнилов,Николай Гербертович Ремпе. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники" (ТУСУР). Дата публикации: 2018-04-09.

Mobile system for electron beam intraoperative radiation therapy

Номер патента: WO2009050577A3. Автор: Nikolai Ivanovich Pakhomov,Vasily Ivanovich Shvedunov,Merkulov Youri Alex Koubychine. Владелец: Merkulov Youri Alex Koubychine. Дата публикации: 2009-08-13.

Electron beam excited superconducting analog-to-digital converter

Номер патента: US6980142B2. Автор: Sadeg M. Faris. Владелец: Reveo Inc. Дата публикации: 2005-12-27.

Production of molybdenum-99 using electron beams

Номер патента: US20180102196A1. Автор: Linda Lin,Christopher REGIER,William Diamond,Vinay Nagarkal,Douglas Ullrich,Mark DE JONG. Владелец: Canadian Light Source Inc. Дата публикации: 2018-04-12.

Production of molybdenum-99 using electron beams

Номер патента: US09892808B2. Автор: Linda Lin,Christopher REGIER,William Diamond,Vinay Nagarkal,Douglas Ullrich,Mark DE JONG. Владелец: Canadian Light Source Inc. Дата публикации: 2018-02-13.

Electron beam suppression circuit for a television receiver

Номер патента: US4488181A. Автор: Peter E. Haferl. Владелец: RCA Corp. Дата публикации: 1984-12-11.

Video signal reproducing apparatus with electron beam scanning velocity modulation

Номер патента: CA1087302A. Автор: Susumu Yoshida,Yoshio Ishigaki,Takao Tsuchiya,Kinya Shinkai. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1980-10-07.

Method and structure for high performance resonance circuit with single crystal piezoelectric capacitor dielectric material

Номер патента: US20230412145A1. Автор: Jeffrey B. Shealy. Владелец: Akoustis Inc. Дата публикации: 2023-12-21.

System, devices and methods for electron beam for plasma heating

Номер патента: US20230403779A1. Автор: Sergey Korepanov,Anton TKACHEV. Владелец: TAE Technologies Inc. Дата публикации: 2023-12-14.

Method and structure for high performance resonance circuit with single crystal piezoelectric capacitor dielectric material

Номер патента: US11804819B2. Автор: Jeffrey B. Shealy. Владелец: Akoustis Inc. Дата публикации: 2023-10-31.

Controlling x-ray tube electron beam optics during kvp switching

Номер патента: EP4391729A1. Автор: Timothy Striker,Helmut Gerhard SCHMÜCKER. Владелец: Koninklijke Philips NV. Дата публикации: 2024-06-26.

System, devices and methods for electron beam for plasma heating

Номер патента: AU2021373891A9. Автор: Sergey Korepanov,Anton TKACHEV. Владелец: TAE Technologies Inc. Дата публикации: 2024-07-04.

Photoelectron linear accelerator for producing a low emittance polarized electron beam

Номер патента: US20040061456A1. Автор: David Yu,Robert Kirby,James Clendenin. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-04-01.

Pulse circuit for switching a grid electrode of an electron beam generator

Номер патента: US4728809A. Автор: Frank D. Fisher,Ronald Ovens. Владелец: Ferranti PLC. Дата публикации: 1988-03-01.

Electron-beam probing of photodiodes

Номер патента: WO1987007731A1. Автор: Richard J. Joyce,Ichiro Kasai,Roderic L. Osgood,Charley B. Burgett,Michael D. Warfield. Владелец: Santa Barbara Research Center. Дата публикации: 1987-12-17.

Method of manufacturing acoustic wave device with multi-layer piezoelectric substrate

Номер патента: US20240364290A1. Автор: Rei GOTO,Benjamin Paul Abbott. Владелец: Skyworks Solutions Inc. Дата публикации: 2024-10-31.

Method for electron-beam welding of closed spherical and cylindrical vessels and protective device for its implementation

Номер патента: RU2733964C1. Автор: Сергей Викторович Ковалев,Лариса Павловна Шуваева,Сергей Степанович Юхневич,Евгений Владимирович Паничев,Геннадий Иванович Бабичев. Владелец: Акционерное общество "Конструкторское бюро химавтоматики" (АО КБХА). Дата публикации: 2020-10-08.

Ultra-high density storage device with electron beam steering

Номер патента: US20020196725A1. Автор: Daniel Marshall. Владелец: Hewlett Packard Co. Дата публикации: 2002-12-26.

Methods and apparatus for dispersing a fluent material utilizing an electron beam

Номер патента: AU7034391A. Автор: Arnold James Kelly. Владелец: Charged Injection Corp. Дата публикации: 1991-06-13.

Method for electron beam surfacing with vertical filler wire supply

Номер патента: RU2753069C1. Автор: Дмитрий Николаевич Трушников,Степан Владимирович Варушкин. Владелец: федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Пермский национальный исследовательский политехнический университет". Дата публикации: 2021-08-11.

Method of producing welded seam by electron-beam welding of parts from titanium alloys

Номер патента: RU2737187C1. Автор: Валерий Викторович Соснин,Александр Викторович Макаров,Марина Львовна Андреева,Алексей Владимирович Шиманов. Владелец: Российская Федерация, от имени которой выступает Государственная корпорация по атомной энергии "Росатом" (Госкорпорация "Росатом"). Дата публикации: 2020-11-25.

Method of forming coating on metal with electron-beam surfacing of ceramic powder

Номер патента: RU2735688C1. Автор: Илья Юрьевич Бакеев. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования «Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники». Дата публикации: 2020-11-05.

Device for sterilization of flexible packages with electron beam irradiation and a method of sterilizing flexible packages

Номер патента: RU2737900C9. Автор: БОНОРА Хорди БОЙРА,КОЙТ Даниэль ФЛЕТА,САЛЬЕТТИ Карлос РОУРА. Владелец: Грифольс Энджиниринг, С.А.. Дата публикации: 2021-01-25.

Method of electron-beam welding and welded joints made by this method

Номер патента: RU2346795C2. Автор: Джон Томас МЕРФИ. Владелец: Дженерал Электрик Компани. Дата публикации: 2009-02-20.

Method of electron-beam welding of parts

Номер патента: RU2681067C1. Автор: Александр Иванович Портных,Лариса Павловна Шуваева,Евгений Владимирович Паничев,Андрей Александрович Татаринцев. Владелец: Акционерное общество "Государственный космический научно-производственный центр имени М.В. Хруничева" (АО "ГКНПЦ им. М.В. Хруничева"). Дата публикации: 2019-03-01.

Method of electron-beam melting lateral surface ingots of heat-resistant alloys

Номер патента: RU2673702C1. Автор: Павел Михайлович Явтушенко,Анатолий Данилович Рябцев,Максим Викторович Клочай,Алексей Иванович Амелин. Владелец: Публичное акционерное общество "Русполимет". Дата публикации: 2018-11-29.

Internal surface electron beam-irradiating device

Номер патента: US20190015535A1. Автор: Hiroyuki Daiku,Ichiro Sakai,Takeshi Noda. Владелец: Hitachi Zosen Corp. Дата публикации: 2019-01-17.

Sterilisation device with electron beams for thin walled containers and sterilisation method

Номер патента: US09446158B2. Автор: Fulvio Laguzzi. Владелец: Guala Pack SpA. Дата публикации: 2016-09-20.

Method of electron beam welding

Номер патента: RU2668648C2. Автор: Владимир Романович Петренко,Роман Юрьевич Киреев,Сергей Викторович Шахов,Владимир Петрович Чумарный. Владелец: Публичное Акционерное Общество "Воронежское акционерное самолетостроительное общество". Дата публикации: 2018-10-02.

Method of electron-beam welding of dissimilar ferro- and paramagnetic materials

Номер патента: RU2635445C1. Автор: Виктор Карпович Драгунов,Андрей Петрович Слива,Алексей Леонидович Гончаров. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский университет "МЭИ" (ФГБОУ ВО "НИУ "МЭИ"). Дата публикации: 2017-11-13.

Method of electron-beam welding of annular connection of thin-wall shell with cylindrical cover, made of high-strength aluminum alloys

Номер патента: RU2708724C1. Автор: Владимир Афанасьевич Архипов,Владислав Христианович Даммер,Александр Борисович Ворожцов,Василий Владимирович Соловьев,Марина Григорьевна Хмелева. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский Томский государственный университет" (НИ ТГУ). Дата публикации: 2019-12-11.

Use of beam deflection to control an electron beam wire deposition process

Номер патента: WO2012082091A1. Автор: Karen M. Taminger,Robert A. Hafley,William H. Hofmeister. Владелец: United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration. Дата публикации: 2012-06-21.

Electron beam sterilization apparatus

Номер патента: US20170239379A1. Автор: Shinichi Takeda,Kazuaki Sasaki,Takayasu Yokobayashi. Владелец: Hitachi Zosen Corp. Дата публикации: 2017-08-24.

Electron beam irradiation apparatus

Номер патента: US09601224B2. Автор: Ichiro Sakai,Takayasu Yokobayashi. Владелец: Hitachi Zosen Corp. Дата публикации: 2017-03-21.

Method for electron-beam surfacing

Номер патента: RU2205094C2. Автор: В.А. Клименов,В.Е. Панин,С.И. Белюк,В.П. Самарцев,Н.К. Гальченко,В.Г. Дураков,Г.А. Прибытков. Владелец: Ассоциация учебно-научных организаций "Российский Материаловедческий Центр". Дата публикации: 2003-05-27.

System and method for monitoring and controlling build quality during electron beam manufacturing

Номер патента: WO2020036630A3. Автор: John Scott Price,Vance Scott Robinson,Vincent Scott Smentkowski,Vladimir Anatolievich Lobastov. Владелец: GENERAL ELECTRIC COMPANY. Дата публикации: 2020-04-23.

Card sheet with electron-beam curable polymers as breakable layers in pre-cut substrates

Номер патента: EP1708874A4. Автор: Wayne L Bilodeau. Владелец: Avery Dennison Corp. Дата публикации: 2008-07-09.

Electron beam irradiation process and polymerizable stain applied to wood planking

Номер патента: US12043756B2. Автор: Paul Smith,Scott Fishel,Connor Fishel. Владелец: BOND DISTRIBUTING Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Electron beam welding

Номер патента: US20220402067A1. Автор: Stanley G. READYHOOF. Владелец: Rolls Royce PLC. Дата публикации: 2022-12-22.

Catalyst-Free Removal of NOx and Other Contaminants From Combustion Exhausts Using Intense Pulsed Electron Beams

Номер патента: US20170087509A1. Автор: Matthew C. Myers,John D. Sethian,Frank Hegeler,Matthew F. Wolford. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 2017-03-30.

Height control and deposition measurement for the electron beam free form fabrication (EBF3) process

Номер патента: US09764415B2. Автор: Robert A. Hafley,William J. Seufzer. Владелец: National Aeronautics and Space Administration NASA. Дата публикации: 2017-09-19.

Catalyst-free removal of NOx and other contaminants from combustion exhausts using intense pulsed electron beams

Номер патента: US09757684B2. Автор: Matthew C. Myers,John D. Sethian,Frank Hegeler,Matthew F. Wolford. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 2017-09-12.

Integrated electron beam tip and sample heating device for a scanning tunneling microscope

Номер патента: US20070029480A1. Автор: John Pearson,Haifeng Ding,Dongqi Li. Владелец: University of Chicago. Дата публикации: 2007-02-08.

Atmosphere purification reactor using electron beam and atmosphere purification apparatus including the same

Номер патента: US12036504B2. Автор: Byung Nam Kim,Myun Joo Lee,Youn Mook Lim,Kyu Ha Jang,Byun Young CHUNG. Владелец: Korea Atomic Energy Research Institute KAERI. Дата публикации: 2024-07-16.

Electron beam irradiation apparatus

Номер патента: US4755686A. Автор: Satoshi Miyazaki,Hironori Muraki,Teruo Araki. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 1988-07-05.

Method of writing a servo pattern on a magnetic recording medium with an electron beam

Номер патента: EP1420399A3. Автор: Kazunori Fuji Photo Film Co. Ltd. Komatsu,Toshihiro Fuji Photo Film Co. Ltd. Usa. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2006-10-11.

Electron beam patterning system in additive manufacturing

Номер патента: US12115720B2. Автор: Heiner Fees,Eugene Berdichevsky,James A. DEMUTH,Francis L. Leard,Erik Toomre,Kourosh Kamshad. Владелец: Seurat Technologies Inc. Дата публикации: 2024-10-15.

Device and method for sterlizing packaging containers by electron beam

Номер патента: US09969512B2. Автор: Mats ÅKESSON,Jonas Dickner,Hakan Mellbin,roger LINDGREN,Roy EIDEBAKKEN. Владелец: Tetra Laval Holdings and Finance SA. Дата публикации: 2018-05-15.

Titanium slab for hot rolling produced by electron-beam melting furnace, process for production thereof, and process for rolling titanium slab for hot rolling

Номер патента: US09962760B2. Автор: Kazuhiro Takahashi,Takashi Oda,Takeshi Shiraki,Norio Yamamoto,Hisamune Tanaka,Yoshihiro Fujii,Yoshimasa Miyazaki. Владелец: Nippon Steel and Sumitomo Metal Corp. Дата публикации: 2018-05-08.

System and method for converting gaseous hydrocarbon mixtures into highly-branched hydrocarbons using electron beam combined with electron beam-sustained non-thermal plasma discharge

Номер патента: US09908094B2. Автор: Jacob G. Appelbaum. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-03-06.

Dissimilar materials bonding with electronic beam technique

Номер патента: RU2635123C1. Автор: Игорь Святославович Гареев,Дмитрий Николаевич Лежнев,Сергей Аркадьевич Собко. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Российский федеральный ядерный центр - Всероссийский научно-исследовательский институт технической физики имени академика Е.И. Забабахина". Дата публикации: 2017-11-09.

Ultra-high density storage device with resonant scanning micromover

Номер патента: US20020122373A1. Автор: Daniel Marshall. Владелец: Hewlett Packard Co. Дата публикации: 2002-09-05.

Special tooling and method for electron beam welding of cavity body and beam tube of superconducting niobium cavity

Номер патента: US20240227059A9. Автор: Wei Wen,Jia Tao,Zhihong Liu,Jianguo Ma,Nian Liu,Liming Peng,Zhenfei Liu,Jiefeng Wu. Владелец: Huainan New Energy Research Center. Дата публикации: 2024-07-11.

Multiple wire electron beam melting

Номер патента: EP2961557A1. Автор: Benjamin Zimmerman. Владелец: United Technologies Corp. Дата публикации: 2016-01-06.

Method of curing coatings on automotive bodies using high energy electron beam or x-ray

Номер патента: WO2005013288A3. Автор: Marshall R Cleland,Richard Galloway,David R Kerluke,Victor R Balmer. Владелец: Victor R Balmer. Дата публикации: 2005-05-12.

Method of curing coatings on automotive bodies using high energy electron beam or x-ray

Номер патента: EP1651680A2. Автор: Richard Galloway,Marshall R. Cleland,David R. Kerluke,Victor R. Balmer. Владелец: Ion Beam Applications SA. Дата публикации: 2006-05-03.

Method of curing coatings on automotive bodies using high energy electron beam or x-ray

Номер патента: WO2005013288A2. Автор: Richard Galloway,Marshall R. Cleland,David R. Kerluke,Victor R. Balmer. Владелец: Ion Beam Applications, S.A.. Дата публикации: 2005-02-10.

Method of curing coatings on automotive bodies using high energy electron beam or x-ray

Номер патента: EP1651680A4. Автор: Marshall R Cleland,Richard Galloway,David R Kerluke,Victor R Balmer. Владелец: Ion Beam Applications SA. Дата публикации: 2006-11-02.

Joining method to perform defect-free, electron beam welds using a slope-out technique

Номер патента: EP4142976A1. Автор: Thomas DUTILLEUL. Владелец: CSG Electric Power Research Institute. Дата публикации: 2023-03-08.

Joining Method to Perform Defect-Free, Electron Beam Welds Using a Slope-Out Technique

Номер патента: US20240342822A1. Автор: Thomas DUTILLEUL. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-10-17.

Joining method to perform defect-free, electron beam welds using a slope-out technique

Номер патента: CA3181575A1. Автор: Thomas DUTILLEUL. Владелец: Electric Power Research Institute Inc. Дата публикации: 2021-11-04.

Joining method to perform defect-free, electron beam welds using a slope-out technique

Номер патента: WO2021222259A1. Автор: Thomas DUTILLEUL. Владелец: ELECTRIC POWER RESEARCH INSTITUTE, INC.. Дата публикации: 2021-11-04.

Multiple wire electron beam melting

Номер патента: US09902015B2. Автор: Benjamin J. Zimmerman. Владелец: United Technologies Corp. Дата публикации: 2018-02-27.

Method of electron-beam welding of titanium alloy ring compounds

Номер патента: RU2644491C2. Автор: Александр Владимирович Гребенщиков,Александр Иванович Портных,Лариса Павловна Шуваева,Михаил Вячеславович Ерёмин. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Государственный космический научно-производственный центр имени М.В. Хруничева" (ФГУП "ГКНПЦ им. М.В. Хруничева"). Дата публикации: 2018-02-12.

Method of layer electron-beam sintering of products from ceramic powder

Номер патента: RU2627796C2. Автор: Александр Сергеевич Климов,Илья Юрьевич Бакеев,Юрий Александрович Бурачевский,Виктор Алексеевич Бурдовицин,Алексей Александрович Зенин,Ефим Михайлович Окс. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники" (ТУСУР). Дата публикации: 2017-08-11.

Method for electron-beam additive production of workpieces

Номер патента: RU2725537C1. Автор: Виктор Карпович Драгунов,Андрей Петрович Слива,Алексей Леонидович Гончаров,Егор Валериевич Терентьев,Александр Викторович Гуденко. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский университет "МЭИ" (ФГБОУ ВО "НИУ "МЭИ"). Дата публикации: 2020-07-02.

Fusing one or more cross sections by electron beam powder bed fusion

Номер патента: EP4217135A1. Автор: Frank Heinrichsdorff,Jan Drendel,Ruslan Logvinov. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2023-08-02.

Fusing one or more cross sections by electron beam powder bed fusion

Номер патента: WO2022117326A1. Автор: Frank Heinrichsdorff,Jan Drendel,Ruslan Logvinov. Владелец: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT. Дата публикации: 2022-06-09.

Electron-beam welded joint, steel for electron-beam welding, and method of manufacturing the same

Номер патента: US20130189536A1. Автор: Tadashi Ishikawa,Akihiko Kojima,Manabu Hoshino,Ryuichi Honma,Ryuji Uemori. Владелец: Nippon Steel and Sumitomo Metal Corp. Дата публикации: 2013-07-25.

Method for creating a 3d print using organic ice and focused electron beam

Номер патента: WO2024218125A1. Автор: Anpan Han,Affan Kaysa WAAFI,Joachim LYNGHOLM-KJÆRBY. Владелец: Danmarks Tekniske Univresitet. Дата публикации: 2024-10-24.

Method for electron-beam butt welding

Номер патента: RU2701262C1. Автор: Татьяна Алексеевна Ващенко. Владелец: Ефремов Никита Андреевич. Дата публикации: 2019-09-25.

Method of electron-beam welding glass tube parts

Номер патента: RU2635592C2. Автор: Александр Сергеевич Климов,Виктор Алексеевич Бурдовицин,Алексей Александрович Зенин,Ефим Михайлович Окс. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники" (ТУСУР). Дата публикации: 2017-11-14.

Apparatus and method for sterilizing vessel with electron beam

Номер патента: US20130202481A1. Автор: Hideki Nishikawa,Yukihiro Yamamoto,Yukinobu Nishino,Masami Hayashi,Toshiya Kobayashi,Tokuo Nishi,Tomohiko Sugimori,Mitsuomi Narita,Tsunehiko Yokoi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-08-08.

Magnetic semiconductor memory and the reading method using spin-polarized electron beam

Номер патента: US6912148B2. Автор: Eric C. Hannah,Michael A. Brown. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2005-06-28.

Method of measuring and stabilizing the diameter of heating point on workpiece in electron beam welding machine and on automatic device for realization thereof

Номер патента: US4158122A. Автор: Nikolai V. Podola,Alexei P. Obolonsky,Evgeny L. Tsokol. Владелец: Individual. Дата публикации: 1979-06-12.

Use of Beam Deflection to Control an Electron Beam Wire Deposition Process

Номер патента: US20100270274A1. Автор: Karen M. Taminger,Robert A. Hafley,William H. Hofmeister. Владелец: National Aeronautics and Space Administration NASA. Дата публикации: 2010-10-28.

Method for electron-beam application of hardening coating on articles made from polymer materials

Номер патента: RU2709069C1. Автор: Анна Павловна Андрейчик. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники". Дата публикации: 2019-12-13.

Method of electron-beam welding of thin-wall tubes made of molybdenum alloys

Номер патента: RU2664746C1. Автор: Андрей Равильевич Абитов,Валерий Иванович Выбыванец,Евгений Геннадиевич Колесников,Аркадий Васильевич Приезжев,Владимир Александрович Толченников. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-исследовательский институт Научно-производственное объединение "ЛУЧ" (ФГУП "НИИ НПО "ЛУЧ"). Дата публикации: 2018-08-22.

Method of and apparatus for treating waste gas by irradiation with electron beam

Номер патента: US5015443A. Автор: Kanichi Ito,Akihiko Maezawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 1991-05-14.

Electron beam welder control

Номер патента: US4560854A. Автор: Henry A. Domian,Charles M. Weber. Владелец: Babcock and Wilcox Co. Дата публикации: 1985-12-24.

Devices, systems, and methods for monitoring a spot quality of an electron beam

Номер патента: US20240066598A1. Автор: Jonas Hellgren,Jimmie Jonnor. Владелец: ARCAM AB. Дата публикации: 2024-02-29.

Devices, systems, and methods for monitoring a spot quality of an electron beam

Номер патента: EP4338867A1. Автор: Jonas Hellgren,Jimmie Jonnor. Владелец: ARCAM AB. Дата публикации: 2024-03-20.

Electron beam sterilizer for cap

Номер патента: US8552400B2. Автор: Toshiaki Naka,Yukinobu Nishino,Mitsuhiro Fujita,Tokuo Nishi,Satoshi Masumoto,Ryoji KOUDO,Soma Watanabe,Yusuke HIROSAWA. Владелец: Shibuya Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2013-10-08.

Method for preparing high-purity nickel-based superalloy by electron beam induced refining and casting technology

Номер патента: US11981978B2. Автор: Yi Tan,Longhai ZHAO,Xinpeng ZHUANG,Xiaogang YOU,Pengting LI,Yinong Wang. Владелец: Dalian University of Technology. Дата публикации: 2024-05-14.

Method of fabrication of composites by using an electron beam

Номер патента: WO2003035353A9. Автор: Luisa M Deckard,Jennifer J Zinck. Владелец: Jennifer J Zinck. Дата публикации: 2003-10-30.

Method of electron-beam welding of parts

Номер патента: RU2635637C1. Автор: Алексей Николаевич Лялин,Константин Анатольевич Рожков,Сергей Евгеньевич Дударев. Владелец: Акционерное общество "Пермский завод "Машиностроитель". Дата публикации: 2017-11-14.

Method of manufacturing part with single-crystal structure by oriented crystallization and device for method embodiment

Номер патента: RU2167739C1. Автор: Е.В. Спиридонов,И.Е. Цацулина. Владелец: Цацулина Ирина Евгеньевна. Дата публикации: 2001-05-27.

Method of electron-beam welding of parts from ferromagnetic materials

Номер патента: RU2739931C1. Автор: Алексей Николаевич Лялин,Игорь Николаевич Старков. Владелец: Акционерное общество "Пермский завод "Машиностроитель". Дата публикации: 2020-12-29.

Method for electron beam welding (dot matrix)

Номер патента: CA1179741A. Автор: Albert M. Sciaky,William J. Farrell,Julius L. Solomon. Владелец: Sciaky Brothers Inc. Дата публикации: 1984-12-18.

Electron beam drilling apparatus

Номер патента: US4467170A. Автор: Makoto Watanabe,Seiji Hata,Noriyoshi Arakawa,Takao Terabayashi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1984-08-21.

Electron beam sterilization method

Номер патента: CA2694904C. Автор: Takayuki Yano,Toshinori Koizumi,Ryo Komura,Yasuko Sato. Владелец: Asahi Kasei Medical Co Ltd. Дата публикации: 2013-05-14.

Magnetic recorder having carbon nanotubes embedded in anodic alumina for emitting electron beams to perform heat-assisted magnetic recording

Номер патента: US7190539B1. Автор: John P. Nibarger. Владелец: Storage Technology Corp. Дата публикации: 2007-03-13.

Electron beam recording device

Номер патента: EP1729291A1. Автор: Masahiro Corporate R&D Pioneer Corp. KATSUMURA. Владелец: Pioneer Corp. Дата публикации: 2006-12-06.

Electron beam sterilization method for bottle cap and electron beam sterilization device

Номер патента: US20170057679A1. Автор: Satoshi Ogawa,Shimpei Kobayashi. Владелец: Hitachi Zosen Corp. Дата публикации: 2017-03-02.

System and method for monitoring and controlling build quality during electron beam manufacturing

Номер патента: US20190283169A1. Автор: John Scott Price,Vance Scott Robinson,Vincent Scott Smentkowski,Vladimir Anatolievich Lobastov. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2019-09-19.

Electron beam irradiation device

Номер патента: US20180344884A1. Автор: Koji Kawasaki,Daisuke KAKUDA,Jun Masudome. Владелец: Airex Co Ltd. Дата публикации: 2018-12-06.

System and method for monitoring and controlling build quality during electron beam manufacturing

Номер патента: EP3765228A2. Автор: John Scott Price,Vance Scott Robinson,Vincent Scott Smentkowski,Vladimir Anatolievich Lobastov. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2021-01-20.

Electron beam irradiation apparatus

Номер патента: US20160064111A1. Автор: Ichiro Sakai,Takayasu Yokobayashi. Владелец: Hitachi Zosen Corp. Дата публикации: 2016-03-03.

Method for increasing adhesion between a coating and an optical glass fiber electron beam pretreatment

Номер патента: US5812725A. Автор: James R. Petisce. Владелец: DSM NV. Дата публикации: 1998-09-22.

Process for treating aged oil by electron beam irradiation

Номер патента: US20240123372A1. Автор: Yi Li,DONG Yang,YUAN Fan,Liping Wei,Haitao CUI,Xiaohui Fan,Liqing Wang,Lingli REN,Xudong QING,Guangchuan LIU,Xiuding HU. Владелец: Hainan Haijiahui Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-18.

Electron beam-curable ink, and image recording method

Номер патента: EP4286163A1. Автор: Kenjiro Araki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-12-06.

Electron beam curable ink and image recording method

Номер патента: US20230365822A1. Автор: Kenjiro Araki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-11-16.

Electron beam-curable water-based flexo ink for surface printing and boilable/retort pouch using same

Номер патента: AU2018344119A1. Автор: Toshinori Ishibashi,Tsutomu Haruyama,Shigeki Itou,Nobuo SAWATARI. Владелец: DIC Graphics Corp. Дата публикации: 2020-04-09.

A process for curing a composition by electron beam radiation, and by gas-generated plasma and ultraviolet radiation

Номер патента: EP2760920A2. Автор: Mikhail Laksin,Wolfgang Decker,Siddharth FERNANDES. Владелец: METALLIZED SURFACE TECHNOLOGIES LLC. Дата публикации: 2014-08-06.

Electron beam-curable water-based flexo ink for surface printing and boilable/retort pouch using same

Номер патента: AU2018344119B2. Автор: Toshinori Ishibashi,Tsutomu Haruyama,Shigeki Itou,Nobuo SAWATARI. Владелец: DIC Graphics Corp. Дата публикации: 2020-10-01.

Fusing One or More Cross Sections by Electron Beam Powder Bed Fusion

Номер патента: US20240091858A1. Автор: Frank Heinrichsdorff,Jan Drendel,Ruslan Logvinov. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2024-03-21.

Method of coating a substrate by electron beam curing

Номер патента: EP4096844A1. Автор: Giuseppe Li Bassi,Giovanni Floridi,Stefano Fumagalli,Thomas Gallo,Domenico VETRI,Mariuccia De Luca,Silvia MANSI,Daria DIAMANTE. Владелец: LAMBERTI SPA. Дата публикации: 2022-12-07.

Electron beam curing of polymeric inks

Номер патента: EP3397499A1. Автор: Imtiaz Rangwalla,Edward MAGUIRE. Владелец: Energy Sciences Inc. Дата публикации: 2018-11-07.

Protective gas for the non-vacuum electron-beam welding of metallic materials

Номер патента: US20040169019A1. Автор: Bernd Hildebrandt. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-09-02.

Monitoring operation of electron beam additive manufacturing with piezoelectric crystals

Номер патента: US20230381885A1. Автор: Scott Alan Gold. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2023-11-30.

Ink jet ink for electron beam curing, ink set, and image recording method

Номер патента: US20240327667A1. Автор: Toshiyuki Makuta. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-10-03.

Electron beam-curing inkjet ink, ink set, and image recording method

Номер патента: EP4455232A1. Автор: Toshiyuki Makuta. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-10-30.

Cylinder for conveying printed sheets along a UV or electron beam drier and method for conveying printed sheets

Номер патента: US09796530B2. Автор: Albert Maul,Jens Friedrichs. Владелец: HEIDELBERGER DRUCKMASCHINEN AG. Дата публикации: 2017-10-24.

Method of processing signals in scanning devices with a highly focused electron beam

Номер патента: RU2713090C1. Автор: Кирилл Николаевич Смирнов,Дмитрий Олегович Новиков,Алексей Владимирович Бородин,Вячеслав Васильевич Казьмирук,Татьяна Николаевна Савицкая,Илья Геннадьевич Курганов,Александр Владимирович Веретенников,Максим Николаевич Кузьмин. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие Экспериментальный завод научного приборостроения со Специальным конструкторским бюро Российской академии наук. Дата публикации: 2020-02-03.

Magnesium oxide single crystal and method for producing the same

Номер патента: US20090053131A1. Автор: Yoshifumi Kawaguchi,Masaaki Kunishige,Atsuo Toutsuka. Владелец: TATEHO CHENMICAL Ind Co Ltd. Дата публикации: 2009-02-26.

Radiotherapy system provided with a program for calculation of the intensity of an electron beam

Номер патента: RU2655070C2. Автор: Лидия СТРИГАРИ,Марчелло БЕНАССИ,Сандро КАРПИНО,Марко Д'АНДРЕА,Антонелла СОРЬЯНИ,Джузеппе ЯККАРИНО. Владелец: Иститути Физьотерапичи Оспитальери. Дата публикации: 2018-05-23.

Real time monitoring of electron beam radiation dose

Номер патента: EP1206714A1. Автор: John Masefield,Sergey Alexandrovich Korenev,Jerry Kriebel,Stephen Scott Johnson. Владелец: Steris Inc. Дата публикации: 2002-05-22.

Method and device for treating poultry eggs using electron beams to sterilize the calcareous shell

Номер патента: CA3028861C. Автор: Björn Fischer,Sven Meißner. Владелец: Skan Stein Ag. Дата публикации: 2023-09-05.

Self-healing method for fractured SiC single crystal nanowires

Номер патента: US10942099B2. Автор: Zhenyu Zhang,Junfeng Cui,Yuefeng DU,Dongming GUO. Владелец: Dalian University of Technology. Дата публикации: 2021-03-09.

Guar graph-interpolymerization and other polysaccharides by electron-beam machining

Номер патента: RU2325405C2. Автор: Кристиан ПРИУ,Лео Джаоцин ЛЮ. Владелец: Родиа, Инк.. Дата публикации: 2008-05-27.

Method for rapid assessment of results of electron-beam thermal action on objects in a vacuum chamber

Номер патента: RU2702537C1. Автор: Михаил Павлович Козочкин,Сергей Вольдемарович Федоров. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский государственный технологический университет "СТАНКИН" (ФГБОУ ВО "МГТУ "СТАНКИН"). Дата публикации: 2019-10-08.

Electronic radiotherapy apparatus and electron beam transmission structure applied to apparatus, and beam needle

Номер патента: EP3878509A1. Автор: PING Wang,WEI Gai. Владелец: Shenzhen Mingjie Medical Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-09-15.

Electron beam irradiating apparatus with monitoring device

Номер патента: US20110062351A1. Автор: Takayuki Suzuki,Isao Hashimoto,Nobuyasu Harada,Shigekatsu Sato,Tomoyuki Hikosaka,Shiro Eguchi,Satoru Gohzaki. Владелец: Japan AE Power Systems Corp. Дата публикации: 2011-03-17.

Electron beam irradiation apparatus, electron beam irradiation method, and apparatus for and method of manufacturing disc-shaped object

Номер патента: US20060098550A1. Автор: Yukio Kaneko,Kazushi Tanaka,Mamoru Usami,Kenji Yoneyama,Takeshi Umega. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2006-05-11.

Electron beam addressed liquid crystal light valve with input sheet conductor

Номер патента: WO1988006746A1. Автор: Jan Grinberg,Philip G. Reif,Murray S. Welkowsky,Arno G. Ledebuhr,William P. Bleha,Nubuo J. Koda. Владелец: Hughes Aircraft Company. Дата публикации: 1988-09-07.

Target, meant for evaporation under effect of electron beam, method of making said target, heat barrier and coating made from said target and mechanical component with such coating

Номер патента: RU2370471C2. Автор: Андре МАЛИ,Бертран СЭН-РАМОН,Кристоф ШАПЮ,Изабель ПОРТ,Сириль ДЕЛАЖ. Владелец: Снекма Сервис. Дата публикации: 2009-10-20.

Electron beam irradiation apparatus, electron beam irradiation method, and apparatus for and method of manufacturing disc-shape object

Номер патента: US20060138352A1. Автор: Kazushi Tanaka. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2006-06-29.

Electron beam sterilization device

Номер патента: EP3974001A1. Автор: Ichiro Sakai,Ryuta Tanaka,Hiroki Yamada. Владелец: Hitachi Zosen Corp. Дата публикации: 2022-03-30.

Method for testing through-silicon vias at wafer sort using electron beam deflection

Номер патента: US09903910B2. Автор: Brian D. Erickson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-02-27.

Method for testing through-silicon vias at wafer sort using electron beam deflection

Номер патента: US09529041B2. Автор: Brian D. Erickson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-12-27.

Reducing molecular weight of polysaccharides by electron beam treatment

Номер патента: RU2323943C2. Автор: Кристиан ПРИУ,Лео Джаоцин ЛЮ,Кристиан ПРИУ (FR),Лео Джаоцин ЛЮ (US). Владелец: Родиа, Инк.. Дата публикации: 2008-05-10.

Method and device of electron-beam or plasma smelting of metal from crystalliser to crystalliser

Номер патента: RU2489506C2. Автор: Анатолий Евгеньевич Волков. Владелец: Анатолий Евгеньевич Волков. Дата публикации: 2013-08-10.

On-line measurement of absorbed electron beam dosage in irradiated product

Номер патента: WO2002061464A1. Автор: Sergey A. Korenev. Владелец: STERIS INC.. Дата публикации: 2002-08-08.

Systems and methods for controlling electron beam in radiotherapy

Номер патента: EP4090421A1. Автор: Peng Cheng,CHENG Ni,PENG Wang,Shoubo HE,Feichao FU. Владелец: Shanghai United Imaging Healthcare Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-23.

Pattern forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet-sensitive composition, resist film, method for manufacturing electronic device using the same, and electronic device

Номер патента: US09411230B2. Автор: Kaoru Iwato,Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-08-09.

Method for improving electron-beam

Номер патента: US20120115087A1. Автор: Qiuxia Xu,Gaobo Xu. Владелец: Institute of Microelectronics of CAS. Дата публикации: 2012-05-10.

Overlay mark design for electron beam overlay

Номер патента: US12055859B2. Автор: YOEL Feler,Raviv YOHANAN,Mark Ghinovker,Nadav GUTMAN,Stefan Eyring,Ulrich Pohlmann,Ira Naot,Eitan Hajaj,Inna Steely-Tarshish,Chris Steely. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-08-06.

Electron beam melting method for metallic material

Номер патента: US20030084751A1. Автор: Norio Yamamoto,Katsuhiko Sakai. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-05-08.

Electron beam apparatus for work function measurements

Номер патента: US20080035845A1. Автор: Alexei Ermakov,Barbara Hinch. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-02-14.

Electron beam irradiated osteoinductive bone implant

Номер патента: US20240277898A1. Автор: Erick Vasquez,Daniel A. Shimko,Kelly W. Schlachter. Владелец: WARSAW ORTHOPEDIC INC. Дата публикации: 2024-08-22.

Methods for electron-beam induced deposition of material inside energetic-beam microscopes

Номер патента: WO2010033420A2. Автор: Thomas Moore,Lyudmila Zaykova-Feldman,Rocky Kruger,Herschel Marchman. Владелец: Omniprobe, Inc.. Дата публикации: 2010-03-25.

Pattern-forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using them and electronic device

Номер патента: EP2761373A1. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Naoki Inoue. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-08-06.

Pattern forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet-sensitive composition, resist film, manufacturing method of electronic device, and electronic device

Номер патента: US20130084438A1. Автор: Kaoru Iwato,Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2013-04-04.

Method for generating sterile zeugodacus scutellata males by using electron beam irradiation and method for controlling zeugodacus scutellata by using same

Номер патента: US20220400659A1. Автор: Yong Gyun Kim. Владелец: Andong National University Industry Academic Cooperation Foundation. Дата публикации: 2022-12-22.

Surface modification method of fluoropolymers by electron beam irradiation and the fabrication of superhydrophobic surfaces using the same

Номер патента: US20120056108A1. Автор: Young-Chang Nho,Chan-Hee Jung,Jae-Hak Choi,In-Tae Hwang,Sung Oh Cho,Eun Je Lee. Владелец: Korea Hydro and Nuclear Power Co Ltd. Дата публикации: 2012-03-08.

Pattern-forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using them and electronic device

Номер патента: US09470980B2. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Naoki Inoue. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

Method of electron beam transport in an X-ray scanner

Номер патента: US09442213B2. Автор: Joseph Bendahan,James Kevin Jones,Deepa Angal-Kalinin,Kiril Borisov Marinov. Владелец: Rapiscan Systems Inc. Дата публикации: 2016-09-13.

Method for continuous monitoring of the thickness of ceramics sprayed onto the blades in an electron beam vacuum installation

Номер патента: RU2765136C1. Автор: Николай Васильевич Нестеров,Владимир Геннадьевич Опокин,Ринат Галимчанович Равилов. Владелец: Публичное акционерное общество "ОДК-Уфимское моторостроительное производственное объединение" (ПАО "ОДК-УМПО"). Дата публикации: 2022-01-25.

Pattern forming method, electron beam- or extreme ultraviolet-sensitive resin composition, resist film using the same, method of manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US20150370170A1. Автор: Shuji Hirano,Hiroo Takizawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-12-24.

Electron beam physical vapor deposition apparatus and control panel therefor

Номер патента: WO2001011103A3. Автор: Robert William Bruce,Antonio Frank Maricocchi,John Douglas Evans Sr. Владелец: Gen Electric. Дата публикации: 2001-08-16.

Device comprising low outgassing photo or electron beam cured rubbery polymer material

Номер патента: US20050152595A1. Автор: Robert Sabia,Paul Shustack,David Sauer,Kelsee Coykendall,Paul Dewa,Kamal Soni. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2005-07-14.

Method and apparatus for correcting multipole aberrations of an electron beam in an ebt scanner

Номер патента: US20030230731A1. Автор: Roy Rand,Khem Garewal. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-12-18.

Hydrogel preparation method using crosslinking structure control by electron beam irradiation and natural polysaccharide hydrogel prepared by the same

Номер патента: US20230331936A1. Автор: Ji-Hyun Park,Yeon-hee Kim,Tae-Sung HA,Pyeong-Hwan JUNG,Young-Ah Kim,Yu-Ji KANG. Владелец: Biocos Inc. Дата публикации: 2023-10-19.

Electron beam physical vapor deposition apparatus

Номер патента: EP1121475A1. Автор: Robert William Bruce,David John Wortman,Rudolfo Viguie,David Vincent Rigney,Antonio Frank Maricocchi,William Seth Willen,John Douglas Evans, Sr.. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2001-08-08.

Electron beam-curable printing ink composition and electron beam-curable overprint varnish composition

Номер патента: US12116489B2. Автор: Keishiro Hishinuma,Naoki Omi,Aika NISHIMOTO. Владелец: Sakata Inx Corp. Дата публикации: 2024-10-15.

Crystal analysis apparatus, composite charged particle beam device, and crystal analysis method

Номер патента: US09470642B2. Автор: Toshiaki Fujii,Xin Man. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

Two-electrode tem strip line with variable dimensions and tunable load and matching device

Номер патента: RU2722409C1. Автор: Игорь Владимирович Акиншин,Вячеслав Михайлович Жихарев,Дмитрий Иванович Крохалев,Сергей Николаевич Матюхевич,Павел Александрович Сидорюк,Дмитрий Николаевич Ушанов,Алексей Андреевич Саломатин,Иван Дмитриевич Фисенко. Владелец: Федеральное государственное казенное учреждение "12 Центральный научно-исследовательский институт" Министерства обороны Российской Федерации. Дата публикации: 2020-05-29.

Electron-beam addressed active-matrix spatial light modulator

Номер патента: WO2005091749A3. Автор: Duane A Haven,Marcial Vidal,David K Mutchler. Владелец: David K Mutchler. Дата публикации: 2009-03-26.

Diagnostic technique for pulsed high-current relativistic electron beam in linear induction accelerator

Номер патента: RU2601772C1. Автор: Анатолий Владимирович Родигин,Виктор Павлович Грицына,Олег Владимирович Зверев,Борис Ильич Модель. Владелец: Российская Федерация, от имени которой выступает Государственная корпорация по атомной энергии "Росатом" (Госкорпорация "Росатом"). Дата публикации: 2016-11-10.

Method for outputting audio information about the technological process of electron-beam action

Номер патента: RU2727339C1. Автор: Михаил Павлович Козочкин,Сергей Вольдемарович Федоров. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский государственный технологический университет "СТАНКИН" (ФГБОУ ВО "МГТУ "СТАНКИН"). Дата публикации: 2020-07-21.

Magnetic induction tomography imaging with single coil

Номер патента: RU2647150C1. Автор: Джозеф Р. ФЕЛЬДКАМП,Шон Джеффери САЛЛИВАН. Владелец: Кимберли-Кларк Ворлдвайд, Инк.. Дата публикации: 2018-03-14.

Electron beam addressable memory system

Номер патента: US3774116A. Автор: F Marlowe,C Wine. Владелец: RCA Corp. Дата публикации: 1973-11-20.

Niedrigenergetische Elektronenstrahlimpulsbearbeitung (engl:"Low Energy High Current Pulsed Electron Beam"/"LEHCPEB") für biologisch abbaubare Implantat aus Magnesiumlegierungen

Номер патента: DE102014006195A1. Автор: Anmelder Gleich. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-11-05.

METHOD OF PRODUCING AN ETCH−RESISTANT POLYMER STRUCTURE USING ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY

Номер патента: EP1485757A1. Автор: Dominique Drouin,Jacques Beauvais,Eric Lavallee,Melanie Cloutier. Владелец: Quantiscript Inc. Дата публикации: 2004-12-15.

Method of producing an etch-resistant polymer structure using electron beam lithography

Номер патента: US20030180627A1. Автор: Dominique Drouin,Jacques Beauvais,Eric Lavallee,Melanie Cloutier. Владелец: Quantiscript Inc. Дата публикации: 2003-09-25.

Electron beam exposure system and electron beam exposure method

Номер патента: US20120250479A1. Автор: Seiichi Izawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2012-10-04.

Electron beam web irradiation apparatus and process

Номер патента: WO2010104820A2. Автор: John Drenter. Владелец: Pct Engineered System, Llc. Дата публикации: 2010-09-16.

Kuretovs' clasp system for partial dentures with single tooth

Номер патента: RU2693448C2. Автор: Владимир Александрович Зеленский,Илья Владимирович Зеленский,Павел Борисович Куретов,Андрей Павлович Куретов,Мария Андреевна Куретова. Владелец: Мария Андреевна Куретова. Дата публикации: 2019-07-02.

Method and apparatus for measuring fusion width of t-shaped electron beam weld

Номер патента: EP4400807A1. Автор: Yonghong Wang,Peng Zhang,Jianchao Wang,Dongfang Wang,Can Zhao,Zhaoyi PAN,Shaobin CHEN. Владелец: Xi'an Space Engine Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-17.

Non-contact electron beam probing techniques and related structures

Номер патента: US20190355418A1. Автор: Zengtao T. Liu,Hongmei Wang,Amitava Majumdar,Shawn D. Lyonsmith,Ervin T. Hill,Rajesh Kamana,Marlon W. Hug. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2019-11-21.

Method of measuring a voltage with an electron beam apparatus

Номер патента: US5300880A. Автор: Akio Ito,Kazuo Okubo,Hironori Teguri,Takayuki Anbe. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1994-04-05.

Electron beam curable inkjet ink composition

Номер патента: EP3423530A1. Автор: Kenji Suzuki. Владелец: INX International Ink Co. Дата публикации: 2019-01-09.

Electron beam curable toners and processes thereof

Номер патента: EP1610186A3. Автор: Chieh-Min Cheng,T Hwee Ng. Владелец: Xerox Corp. Дата публикации: 2008-07-23.

Enhanced electron beam (e-beam) apparatus and methodology with nano-scale e-beam probe tips for fault isolation in integrated circuits and other structures

Номер патента: US20240219460A1. Автор: Yunfei WANG,Shuai ZHAO,May Ling Oh,Xianghong Tong,Martin Von Haartman,Hyuk Ju Ryu,Kimberlee CELIO,Prasoon Joshi,Jennifer Huening,Joshua KEVEK,Mitchell SENGER,Tristan DEBORDE. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-07-04.

Electron beam web irradiation apparatus and process

Номер патента: WO2010104820A8. Автор: John Drenter. Владелец: Pct Engineered Systems, Llc. Дата публикации: 2010-11-04.

Exposure method using electron beam and substrate manufacturing method using the same

Номер патента: US09709893B2. Автор: SHUICHI TAMAMUSHI,Jin Choi,Inkyun Shin,So-Eun Shin,Sook Hyun Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-07-18.

Pulsed laser photoemission electron-beam probe

Номер патента: US5270643A. Автор: Neil Richardson,Kenneth R. Wilsher. Владелец: Schlumberger Technology Corp. Дата публикации: 1993-12-14.

Electron beam addressed liquid crystal light valve

Номер патента: CA1301971C. Автор: Jan Grinberg,William P. Bleha, Jr.,Murray S. Welkowsky,Nobuo J. Koda,Arno G. Ledebuhr,Phillip G. Reif. Владелец: Hughes Aircraft Co. Дата публикации: 1992-05-26.

Electron beam addressed liquid crystal light valve with input sheet conductor

Номер патента: CA1298646C. Автор: Jan Grinberg,Philip G. Reif,Murray S. Welkowsky,Arno G. Ledebuhr,William P. Bleha,Nubuo J. Koda. Владелец: Hughes Aircraft Co. Дата публикации: 1992-04-07.

Electron beam irradiating apparatus with monitoring device

Номер патента: US8227776B2. Автор: Takayuki Suzuki,Isao Hashimoto,Nobuyasu Harada,Shigekatsu Sato,Tomoyuki Hikosaka,Shiro Eguchi,Satoru Gohzaki. Владелец: Japan AE Power Systems Corp. Дата публикации: 2012-07-24.

Charged particle beam device

Номер патента: EP3779403A1. Автор: Toshie Yaguchi,Hiromi MISE. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-02-17.

Fast 3D radiography with multiple pulsed X-ray sources by deflecting tube electron beam using electro-magnetic field

Номер патента: US12102469B2. Автор: Jianqiang Liu,Chwen-Yuan Ku,Manat Maolinbay,Linbo Yang. Владелец: Aixscan Inc. Дата публикации: 2024-10-01.

Method for acoustic monitoring of electron-beam surface alloying in vacuum chambers

Номер патента: RU2727338C1. Автор: Михаил Павлович Козочкин,Сергей Вольдемарович Федоров. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский государственный технологический университет "СТАНКИН" (ФГБОУ ВО "МГТУ "СТАНКИН"). Дата публикации: 2020-07-21.

Electron Beam Apparatus

Номер патента: GB1195271A. Автор: Andrew David Garry Stewart,Alistar John Campbell. Владелец: Cambridge Instruments Ltd. Дата публикации: 1970-06-17.

System for intraoperative electron beam radiotherapy using remotely located beam generator

Номер патента: US5161546A. Автор: Donald G. Bronn. Владелец: Individual. Дата публикации: 1992-11-10.

Electron beam memory system with improved high rate digital beam pulsing system

Номер патента: CA1266122A. Автор: Albert V. Crewe. Владелец: Electron Beam Memories. Дата публикации: 1990-02-20.

Method of inspecting a sample, and multi-electron beam inspection system

Номер патента: EP4136436A1. Автор: Bernhard G. Mueller,Peter Nunan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-02-22.

Method of evaluating primary optical system of electron beam observation device, evaluation device used therefor, and method of manufacturing same

Номер патента: US20230393085A1. Автор: Takeshi Murakami,Yasushi Toma,Kenji Watanabe,Tsutomu Karimata,Ryo Tajima. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-12-07.

Pattern-forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using them and electronic device

Номер патента: EP2761372A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Takeshi Kawabata. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-08-06.

Electron beam irradiated osteoinductive bone implant

Номер патента: US11918705B2. Автор: Erick Vasquez,Daniel A. Shimko,Kelly W. Schlachter. Владелец: WARSAW ORTHOPEDIC INC. Дата публикации: 2024-03-05.

Overlay mark design for electron beam overlay

Номер патента: WO2023278174A1. Автор: YOEL Feler,Raviv YOHANAN,Mark Ghinovker,Nadav GUTMAN,Stefan Eyring,Ulrich Pohlmann,Ira Naot,Eitan Hajaj,Inna Steely-Tarshish,Chris Steely. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2023-01-05.

Pattern-forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using them and electronic device

Номер патента: WO2013047092A1. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Naoki Inoue. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-04-04.

Номер патента: EP1117853A1. Автор: Robert William Bruce,David John Wortman,Keith H. Betscher,Antonio Frank Maricocchi,John Douglas Evans, Sr.,William Allen Bowlin,Harold Phillips Ii Dillon. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2001-07-25.

Crucible for electron-beam evaporator

Номер патента: US20170044658A1. Автор: Ki-Hwan Kim,Ara Cho,Jae-Ho Yun,Seoung-Kyu Ahn,Jun-Sik Cho,SeJin Ahn,Jihye Gwak,Jin-Su Yoo,Joo-Hyung Park,Young-Joo Eo,Kyung Hoon YOON,Kee Shik Shin. Владелец: Korea Institute of Energy Research KIER. Дата публикации: 2017-02-16.

Method and system for a vacuum compatible electrical interface, enabling microprocessor debug, at high speed, inside an electron beam probe

Номер патента: US20240219452A1. Автор: Charles Peterson,Joseph Basile,James Neeb,Xianghong Tong,Prasoon Joshi,Jennifer Huening,Joshua Freier,Eric Brummer,Evan FLEDELL,Brett Grossman,Matthew Kirsch,Robert NESTING,Ashraf REZAIE,Ling Hong TAN,Vladimir VLASYUK. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

Номер патента: RU2523447C2. Автор: Михаил Юрьевич Глявин,Михаил Иванович Петелин,Аркадий Львович Гольденберг. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт прикладной физики Российской академии наук(ИПФ РАН),. Дата публикации: 2014-07-20.

Single-crystal emitter shell and method of its manufacture

Номер патента: RU2550744C1. Автор: Александр Степанович Гонтарь,Валерий Иванович Выбыванец,Виктор Анатольевич Зазноба,Михаил Васильевич Нелидов,Виктор Петрович Смирнов,Николай Алексеевич Бочков,Леонид Евгеньевич Кошкин. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-исследовательский институт Научно-производственное объединение "ЛУЧ" (ФГУП "НИИ НПО "ЛУЧ"). Дата публикации: 2015-05-10.

Method of forming domain structure in single-crystal wafer of nonlinear optical ferroelectric material

Номер патента: RU2411561C1. Автор: Дмитрий Константинович Кузнецов,Владимир Яковлевич Шур,Иван Сергеевич Батурин,Станислав Александрович Негашев,Алексей Иванович Лобов. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Лабфер". Дата публикации: 2011-02-10.

Method of electron-beam backfilling with control of filler wire position relative to electron beam (versions)

Номер патента: RU2704682C1. Автор: Дмитрий Николаевич Трушников,Степан Владимирович Варушкин. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Пермский национальный исследовательский политехнический университет". Дата публикации: 2019-10-30.

Method of determining energy spectrum of electrons in electron beam

Номер патента: RU2523424C1. Автор: Александр Викторович Архипов,Геннадий Гиршевич Соминский,Олег Игоревич Лукша,Наталья Владиславовна Дворецкая,Гантенбейн Герд,Керн Стефан. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Санкт-Петербургский государственный политехнический университет" (ФГБОУ ВПО "СПбГПУ"). Дата публикации: 2014-07-20.

ALLOY BASED ON INTERMETALLIDE Ni3Al WITH SINGLE-CRYSTAL STRUCTURE AND PRODUCT MADE FROM IT

Номер патента: RU2516215C1. Автор: Евгений Николаевич Каблов,Юрий Александрович Бондаренко,Ольга Анатольевна Базылева,Александр Валерьевич Горюнов. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт авиационных материалов" (ФГУП "ВИАМ"). Дата публикации: 2014-05-20.

Device for determination of energy density distribution and control of electron beam focusing

Номер патента: RU2580266C1. Автор: Татьяна Васильевна Ольшанская,Дмитрий Николаевич Трушников,Владимир Яковлевич Беленький,Глеб Львович Пермяков,Елена Львовна Кротова,Николай Андреевич Мусихин,Екатерина Сергеевна Саломатова,Елена Георгиева Колева. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Пермский национальный исследовательский политехнический университет". Дата публикации: 2016-04-10.

Electromagnetic filter for separating electron beams

Номер патента: RU2305345C1. Автор: Леонид Борисович Розенфельд,Инна Семеновна Гайдукова,Дмитрий Эдуардович Гринфельд. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "НПО "ОРИОН" (ФГУП "НПО "ОРИОН"). Дата публикации: 2007-08-27.

Method of electron beam welding of nonmagnetic metals and alloys

Номер патента: RU2433024C1. Автор: Рудольф Михайлович Голубчик,Владимир Николаевич Мартынов,Александр Сергеевич Саяпин,Александр Сергеевич Хохловский. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский энергетический институт (технический университет)" (ГОУВПО "МЭИ"(ТУ)"). Дата публикации: 2011-11-10.

Method of electron beam welding

Номер патента: RU2494846C2. Автор: Дмитрий Николаевич Трушников,Владимир Яковлевич Беленький,Степан Владимирович Варушкин,Елена Львовна Кротова. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Пермский национальный исследовательский политехнический университет". Дата публикации: 2013-10-10.

Method for generating subnanosecond electron beam

Номер патента: RU2244361C1. Автор: В.Ф. Тарасенко,С.Б. Алексеев,В.М. Орловский. Владелец: Институт сильноточной электроники СО РАН. Дата публикации: 2005-01-10.

Device for producing polarized electron beam

Номер патента: RU2069938C1. Автор: Валерий Викторович Закутин,Александр Маркович Шендерович,Владимир Павлович Ефимов,Виктор Павлович Ромасько,Игорь Александрович Ильичев. Владелец: Национальный Научный Центр "Харьковский Физико-Технический Институт". Дата публикации: 1996-11-27.

Method of electron beam welding

Номер патента: RU2527112C2. Автор: Евгений Давыдович Бланк,Раиса Васильевна Додон,Николай Васильевич Александров,Никита Вильевич Вовченко,Сергей Николаевич Курта. Владелец: Росссийская Федерация, от имени которой выступает Министерство промышленности и торговли Российской Федерации (Минпромторг России). Дата публикации: 2014-08-27.

Method of generating multi-velocity non-laminar electron beams

Номер патента: RU2531267C2. Автор: Юрий Александрович Калинин,Андрей Викторович Стародубов. Владелец: Федеральное Государственное Бюджетное Образовательное Учреждение Высшего Профессионального Образования "Саратовский Государственный Университет Имени Н.Г. Чернышевского". Дата публикации: 2014-10-20.

Crystallizer for producing ingots in electron-beam furnaces

Номер патента: RU2309997C2. Автор: Михаил Михайлович Веселков,Евгений Владимирович Ильенко,Михаил Георгиевич Штуца,Вадим Витальевич Антипов,Валентина Михайловна Аржакова,Сергей Геннадьевич Ахтонов,Владимир Александрович Богатырев,Николай Васильевич Родченков,вский Вадим Борисович Черн,Вадим Борисович Чернявский,Михаил Анатольевич Кияненко,ненко Михаил Анатольевич Ки,Сергей Васильевич Ладохин. Владелец: Открытое акционерное общество "Чепецкий механический завод" (ОАО ЧМЗ). Дата публикации: 2007-11-10.

Alignment of electron beam with ring joint butt (versions)

Номер патента: RU2552824C2. Автор: Дмитрий Николаевич Лежнев,Владимир Александрович Куликов,Сергей Аркадьевич Собко. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Российский федеральный ядерный центр-Всероссийский научно-исследовательский институт технической физики имени академика Е.И. Забабахина". Дата публикации: 2015-06-10.

Method for electron-beam surfacing of multimodal-structure coatings

Номер патента: RU2309827C1. Автор: Борис Федорович Советченко,Сергей Федорович Гнюсов,Василий Григорьевич Дураков,Дмитрий Анатольевич Маков,Константин Сергеевич Гнюсов. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Томский политехнический университет. Дата публикации: 2007-11-10.

Method of electron-beam zone melting of metal and device for realization of this method

Номер патента: RU2287023C1. Автор: Олег Савельевич Кочетов,Алексей Иванович Пашков,Вадим Георгиевич Глебовский,Евгений Дмитриевич Штинов,Римма Алексеевна Казанцева,Анастаси Вадимовна Пискунова,Анастасия Вадимовна Пискунова,Виктор Васильевич Ломейко. Владелец: Вадим Георгиевич Глебовский. Дата публикации: 2006-11-10.

Номер патента: RU2486041C1. Автор: Иван Владимирович Скворцов,Наталия Ивановна Шаронова,Евгений Михайлович Наговицын,Виктор Васильевич Докашев,Сергей Георгиевич Пузанов,Евгений Олегович Фомичев. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-производственный центр газотурбостроения "Салют" (ФГУП "НПЦ газотурбостроения "Салют"). Дата публикации: 2013-06-27.

Номер патента: RU2623578C2. Автор: Павел Владимирович Логачев,Олег Николаевич Алякринский,Юрий Игнатьевич Семенов,Александр Анатольевич Старостенко. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт ядерной физики им. Г.И. Будкера Сибирского отделения РАН (ИЯФ СО РАН). Дата публикации: 2017-06-28.

Ionization x-ray electron-beam detector

Номер патента: RU2268762C2. Автор: Михаил Георгиевич Петрушанский,Евгений Андреевич Корнев. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Оренбургский государственный университет". Дата публикации: 2006-01-27.

Subnanosecond electron beam generator

Номер патента: RU2242062C1. Автор: В.Ф. Тарасенко,С.Б. Алексеев,В.М. Орловский. Владелец: Институт сильноточной электроники СО РАН. Дата публикации: 2004-12-10.

Pulsed electron beam source (versions)

Номер патента: RU2395866C1. Автор: Владимир Иванович Энгелько,Константин Иванович Ткаченко,Георг МЮЛЛЕР,Владимир Иванович Энгелько (RU),Константин Иванович Ткаченко (RU),Георг МЮЛЛЕР (DE). Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-исследовательский институт электрофизической аппаратуры им. Д.В. Ефремова" (ФГУП "НИИЭФА им. Д.В. Ефремова"). Дата публикации: 2010-07-27.

อุปกรณ์ก๊าซเซนเซอร์แบบฟิลม์บางที่สร้างโดยกระบวนการ ion-assisted electron beam evaporation และ กระบวนการผลิตอุปกรณ์ดังกล่าว

Номер патента: TH26223B. Автор: วิศิษฎ์สรอรรถ นายอนุรัตน์. Владелец: นายเกรียงศักดิ์ ก้อนทอง นายกนกศักดิ์ ทองพานิชย์ นางสาวอรุณศรี ศรีธนะอิทธิพล. Дата публикации: 2009-07-02.

อุปกรณ์ก๊าซเซนเซอร์แบบฟิลม์บางที่สร้างโดยกระบวนการ ion-assisted electron beam evaporation และ กระบวนการผลิตอุปกรณ์ดังกล่าว

Номер патента: TH75910A. Автор: วิศิษฎ์สรอรรถ นายอนุรัตน์. Владелец: นายกนกศักดิ์ ทองพานิชย์. Дата публикации: 2006-02-23.

Method for electron-beam welding of monocrystallyne pipes from refractory metals and alloys

Номер патента: RU2067516C1. Автор: А.В. Коробов,В.С. Кузнецов,Ю.В. Николаев,Е.М. Годжиева,В.П. Качкин,Б.Ш. Кишмахов,А.И. Мелешков,А.А. Ястребков. Владелец: Отделение Научно-технический центр "Источники тока" Научно-исследовательского института Научно-производственного объединения "Луч". Дата публикации: 1996-10-10.

Номер патента: RU2275710C1. Автор: Валерий Михайлович Якушев,Николай Иванович Каргин,Александр Валерьевич Якушев,Андрей Арсеньевич Брагин. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Северо-Кавказский государственный технический университет". Дата публикации: 2006-04-27.

Номер патента: RU2322335C1. Автор: Борис Федорович Советченко,Сергей Федорович Гнюсов,Василий Григорьевич Дураков,Дмитрий Анатольевич Маков. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Томский политехнический университет. Дата публикации: 2008-04-20.

Method of welding by electron beam

Номер патента: RU2448822C1. Автор: Владислав Александрович Парфенов,Виктор Карпович Драгунов,Андрей Петрович Слива. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский университет "МЭИ" (ФГБОУ ВПО "НИУ МЭИ"). Дата публикации: 2012-04-27.

Method of electron-beam welding

Номер патента: RU2259264C1. Автор: А.Н. Семенов,Г.С. Черемных,В.Б. Филиппов,В.Н. Тюрин,Г.Н. Шевелев,А.М. Блинов,В.В. Мелюков,М.И. Плышевский,А.Г. Корепанов. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-исследовательский и конструкторский институт энерготехники им. Н.А. Доллежаля". Дата публикации: 2005-08-27.

Compositions and Methods of Using Living and Non-Living Bioactive Devices with Components Derived from Self-Renewing Colony Forming Cells Cultured and Expanded In Vitro

Номер патента: US20120003188A1. Автор: KOPEN Gene,RAGAGLIA Vanessa,BRAYFIELD Candace. Владелец: Garnet Biotherapeutics, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method for irradiation of polymer films with electronic beam

Номер патента: RU2119431C1. Автор: Г.А. Виноградов,Г.И. Бацких,С.В. Денисюк,Г.И. Кленов. Владелец: Московский радиотехнический институт РАН. Дата публикации: 1998-09-27.

Electron beam welding control device

Номер патента: RU2469827C1. Автор: Алексей Владимирович Щербаков. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский университет "МЭИ" (ФГБОУ ВПО "НИУ МЭИ"). Дата публикации: 2012-12-20.

Electron beam lithography

Номер патента: RU2462784C1. Автор: Александр Иванович Мамыкин,Владимир Игоревич Марголин,Максим Сергеевич Потехин,Виктор Анатольевич Тупик,Виктор Николаевич Шелудько. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ". Дата публикации: 2012-09-27.

Injector of electron with output of electron beam into overpressure medium and electron-beam unit on its basis

Номер патента: RU2348086C1. Автор: Владимир Филиппович Мартынов,Михаил Александрович Завьялов,Павел Михайлович Тюрюканов,Алексей Иванович Казаков,лов Михаил Александрович Завь (RU),Владимир Филиппович Мартынов (RU),Павел Михайлович Тюрюканов (RU),Алексей Иванович Казаков (RU). Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский электротехнический институт им. В.И. Ленина". Дата публикации: 2009-02-27.

Method for obtaining hafnium ingots in electron beam furnace

Номер патента: RU2443789C2. Автор: Александр Владимирович Александров,Евгений Владимирович Ильенко,Валентина Михайловна Аржакова,Александр Гусманович Зиганшин,Надежда Константиновна Филатова,Андрей Владиславович Андреев,Вадим Борисович Чернявский,Михаил Анатольевич Кияненко,Ольга Григорьевна Моренко. Владелец: Открытое акционерное общество "Чепецкий механический завод". Дата публикации: 2012-02-27.

Method of electron beam cutting

Номер патента: RU2088389C1. Автор: А.П. Семенов,Е.И. Гырылов. Владелец: Бурятский институт естественных наук СО РАН. Дата публикации: 1997-08-27.

Method of electron-beam melting of product from high-melting metal or alloy, and device for its implementation

Номер патента: RU2469115C1. Автор: Дмитрий Владимирович Прохоров,Юрий Романович Колобов,Виктор Иванович Внуков,Евгений Витальевич Голосов,Михаил Иванович Карпов,Валерий Поликарпович Коржов,Валерий Николаевич Семенов,Ирина Сергеевна Желтякова,Виктор Васильевич Ломейко. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики твердого тела Российской академии наук (ИФТТ РАН). Дата публикации: 2012-12-10.

Номер патента: RU2532626C1. Автор: Алексей Николаевич Лялин,Дмитрий Николаевич Трушников,Владимир Яковлевич Беленький,Анатолий Леонидович Пискунов,Валерий Евгеньевич Щавлев. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Пермский национальный исследовательский политехнический университет". Дата публикации: 2014-11-10.

Номер патента: RU2534183C1. Автор: Виктор Карпович Драгунов,Андрей Петрович Слива,Алексей Леонидович Гончаров,Максим Владимирович Чепурин. Владелец: федеративное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский университет "МЭИ" (ФГБОУ ВПО "НИУ "МЭИ"). Дата публикации: 2014-11-27.

Method of and device for electron-beam welding

Номер патента: RU2090327C1. Автор: В.М. Язовских,В.Я. Беленький,Л.Н. Кротов. Владелец: Пермский государственный технический университет. Дата публикации: 1997-09-20.

Tube electron-beam welding method

Номер патента: RU2259906C1. Автор: А.Н. Семенов,Г.С. Черемных,В.Б. Филиппов,В.Н. Тюрин,Г.Н. Шевелев,А.М. Блинов,В.В. Мелюков,М.И. Плышевский,А.Г. Корепанов. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-исследовательский и конструкторский институт энерготехники им. Н.А. Доллежаля". Дата публикации: 2005-09-10.

Facility for receiving of cast made of heat-resistant alloys with single-crystal structure

Номер патента: RU2353471C2. Автор: Евгений Николаевич Каблов,Юрий Александрович Бондаренко,Александр Борисович Ечин,Валентина Алексеевна Сурова. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт авиационных материалов" (ФГУП "ВИАМ"). Дата публикации: 2009-04-27.

Method for electron beam strengthening of hard-alloy tool or item

Номер патента: RU2457261C1. Автор: Владимир Ефимович Овчаренко,Николай Николаевич Коваль,Юрий Федорович Иванов,Антон Дмитриевич Тересов,Алексей Александрович Моховиков. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский Томский политехнический университет" (ГОУ ВПО НИ ТПУ). Дата публикации: 2012-07-27.

EMITTER WIRE CLEANING DEVICE WITH WEAR-TOLERANT PROFILE

Номер патента: US20120000486A1. Автор: . Владелец: TESSERA, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Commutator switched by electron beams for active compressor microwave pulses

Номер патента: RU2461922C1. Автор: Владимир Александрович Исаев,Анатолий Леонтьевич Вихарев,Михаил Александрович Лобаев,Олег Андреевич Иванов. Владелец: Учреждение Российской академии наук институт прикладной физики РАН. Дата публикации: 2012-09-20.

Shf quantum generator based on electron beams

Номер патента: RU2541162C1. Автор: Богдан Николаевич Казьмин,Иван Васильевич Трифанов,Юрий Юрьевич Логинов,Дмитрий Ринатович Рыжов,Владимир Афанасьевич Колмыков. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Сибирский государственный аэрокосмический университет имени академика М.Ф. Решетнева" (СибГАУ). Дата публикации: 2015-02-10.

Electron-beam installation

Номер патента: RU2192687C2. Автор: М.А. Завьялов,В.Н. Лисин,В.Ф. Мартынов,П.М. Тюрюканов,С.И. Гусев,Л.Я. Гринченко,Н.С. Гусев,А.П. Еремин,А.Г. Уваев,А.М. Филачев. Владелец: Федеральное государственное унитарное дочернее предприятие "Научно-исследовательский институт электронной и ионной оптики Государственного унитарного предприятия "НПО "ОРИОН". Дата публикации: 2002-11-10.

Tube electron-beam welding method

Номер патента: RU2285599C1. Автор: Александр Николаевич Семенов,Владимир Павлович Гордо,Василий Никитович Тюрин,Михаил Иванович Плышевский,Герман Николаевич Шевелев. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-исследовательский и конструкторский институт энерготехники им. Н.А. Доллежаля". Дата публикации: 2006-10-20.

Номер патента: RU2595162C2. Автор: Михаил Николаевич Васильев,Валерий Петрович Варламов,Татьяна Михайловна Васильева,Сергей Александрович Лопатин. Владелец: Федеральное государственное учреждение "Федеральный исследовательский центр "Фундаментальные основы биотехнологии" Российской академии наук (ФИЦ Биотехнологии РАН). Дата публикации: 2016-08-20.

Treatment method of mouldings with single-crystal from heat-resistant nickel alloys by hot isostatic pressing

Номер патента: RU2380454C1. Автор: Владимир Николаевич Крылов,Альберт Андреевич Тихонов,Александр Иванович Виноградов,Владимир Андреевич Кочетков,Александр Сергеевич Новиков,Александр Вячеславович Логунов,Игорь Михайлович Разумовский,Святослав Федорович Маринин,Константин Борисович Вертий. Владелец: Открытое акционерное общество "Композит" (ОАО "Композит"). Дата публикации: 2010-01-27.

Method of coating application by electron beam evaporation in vacuum

Номер патента: RU2496912C1. Автор: Алексей Алексеевич Буянкин. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт автоматики им. Н.Л. Духова" (ФГУП "ВНИИА"). Дата публикации: 2013-10-27.

Method and means for dynamic correction of electrostatic deflector for electron beam tube

Номер патента: CA1130929A. Автор: Kenneth J. Harte. Владелец: Control Data Corp. Дата публикации: 1982-08-31.

Cathode-ray tube having inline electron gun comprising screen grid plate having openings with inline and transverse dimensions to independently control the horizontal and verticalsizes of the electron beam spot

Номер патента: CA1278813C. Автор: Hsing-Yao Chen,Robert Lloyd Barbin,Loren Lee Maninger. Владелец: RCA Licensing Corp. Дата публикации: 1991-01-08.

Номер патента: RU2060134C1. Автор: В.В. Баринов,В.В. Докашев,В.А. Гейкин,В.Н. Полегаев,Г.И. Смирнова,В.А. Устинец. Владелец: Научно-исследовательский институт технологии и организации производства двигателей. Дата публикации: 1996-05-20.

Номер патента: RU2027783C1. Автор: В.Н. Радченко,В.К. Коронцевич,Ю.И. Чистов,В.П. Косенко,В.А. Дробышев,В.Г. Зиновьев,В.Л. Метте,А.К.-С. Цораев,И.Н. Лозовский. Владелец: Производственное объединение "Ульбинский металлургический завод". Дата публикации: 1995-01-27.

Electron-beam welding method

Номер патента: RU2113954C1. Автор: В.Ф. Шабанов,В.В. Башенко,С.Г. Баякин,В.Я. Браверман. Владелец: Сибирская аэрокосмическая академия. Дата публикации: 1998-06-27.

Electron beam device with single crystal window and matching anode

Вам могут быть интересны следующие патенты

Главная

Проекты и услуги

Контакты