Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

Imprinting method and manufacturing method

Номер патента: US20190265588A1
Опубликовано: 29-08-2019
Автор(ы): Kiyohito Yamamoto, Tsutomu Hashimoto
Принадлежит: Canon Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Imprinting method, imprint apparatus, and article manufacturing method

Номер патента: US20210055649A1. Автор: Tadashi Hattori,Akio Aoki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-02-25.

Imprinting method, imprint apparatus, and article manufacturing method

Номер патента: US11531266B2. Автор: Tadashi Hattori,Akio Aoki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-12-20.

Overlay correction method, and exposure method and semiconductor device manufacturing method including overlay correction method

Номер патента: US20240160115A1. Автор: Jeongjin Lee,Chan Hwang,Seungyoon LEE,Dohun KIM,Wooyong Jung,Joonhyun Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-16.

Mold, imprint method, imprint apparatus, and article manufacturing method

Номер патента: JP6748496B2. Автор: 健一郎 篠田. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-09-02.

Photo mask pattern designing method, resist pattern fabricating method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: CA2336569A1. Автор: Koji Kikuchi. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2001-08-24.

Sliding inhibition portion extracting method, pattern forming method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20200089106A1. Автор: Sachiko Kobayashi. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2020-03-19.

Critical dimension inspection method and semiconductor device manufacturing method using the same

Номер патента: US20240045342A1. Автор: Woo Jin Jung,Sang-Ho Yun,Su Bin KONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-08.

An exposure apparatus and an exposure method, and an element manufacturing method

Номер патента: TWI422982B. Автор: 柴崎祐一. Владелец: 尼康股份有限公司. Дата публикации: 2014-01-11.

SLIDING INHIBITION PORTION EXTRACTING METHOD, PATTERN FORMING METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20200089106A1. Автор: Kobayashi Sachiko. Владелец: Toshiba Memory Corporation. Дата публикации: 2020-03-19.

Processing liquid, its manufacturing method, pattern forming method and electronic device manufacturing method

Номер патента: KR102126215B1. Автор: 테츠야 카미무라. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2020-06-24.

Photo mask pattern designing method, resist pattern fabricating method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: EP1130467A2. Автор: Kikuchi Koji. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2001-09-05.

Imprinting method, imprinting apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US09442370B2. Автор: Hiroshi Sato,Mitsuru Hiura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-09-13.

Imprint method, imprint apparatus, and article manufacturing method

Номер патента: US09703190B2. Автор: Nozomu Hayashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-07-11.

Imprint method, imprint apparatus, and article manufacturing method

Номер патента: US09566741B2. Автор: Takahiro Matsumoto,Noriyasu Hasegawa,Yosuke Murakami,Kazuki Nakagawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-02-14.

Imprinting method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20200303190A1. Автор: Hirokazu Kato,Takayuki Nakamura,Kei Kobayashi. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2020-09-24.

Imprinting method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US10964539B2. Автор: Hirokazu Kato,Takayuki Nakamura,Kei Kobayashi. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2021-03-30.

Imprint method, imprint apparatus, and article manufacturing method

Номер патента: US09892949B2. Автор: Takahiro Matsumoto,Noriyasu Hasegawa,Yosuke Murakami,Kazuki Nakagawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-02-13.

Imprint device, imprint method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US11835854B2. Автор: Hirokazu Kato,Kei Kobayashi,Daizo Muto,Kasumi Okabe. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-12-05.

IMPRINT DEVICE, IMPRINT METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20200387066A1. Автор: Kobayashi Kei,KATO Hirokazu,Okabe Kasumi,MUTO Daizo. Владелец: . Дата публикации: 2020-12-10.

Imprint method and imprint mold manufacturing method

Номер патента: KR102234133B1. Автор: 다카하루 나가이,유이치 이나즈키,가츠토시 스즈키,류고 히키치,고지 이치무라,사부로 하라다. Владелец: 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2021-04-01.

Imprint method and imprint mold manufacturing method

Номер патента: JP6413981B2. Автор: 三郎 原田,隆治 長井,友一 稲月,勝敏 鈴木,龍吾 引地,公二 市村,原田　三郎. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2018-10-31.

Imprint method imprint apparatus, and article manufacturing method

Номер патента: US20130112097A1. Автор: Takahiro Matsumoto,Noriyasu Hasegawa,Yosuke Murakami,Kazuki Nakagawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2013-05-09.

Imprint method, imprint apparatus and device manufacturing method

Номер патента: KR20130040723A. Автор: 요스케 무라카미,노리야스 하세가와,가즈키 나카가와,다카히로 마츠모토. Владелец: 캐논 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2013-04-24.

Imprint method, imprint apparatus, and article manufacturing method

Номер патента: TWI671182B. Автор: 薄井義行. Владелец: 日商佳能股份有限公司. Дата публикации: 2019-09-11.

Imprint method, imprint apparatus, and article manufacturing method using the same

Номер патента: CN104160477A. Автор: 林望. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-11-19.

Imprint method, imprint apparatus, and article manufacturing method

Номер патента: KR101995615B1. Автор: 요시유키 우스이. Владелец: 캐논 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2019-07-02.

Imprint method, imprint apparatus, and article manufacturing method

Номер патента: CN104160476A. Автор: 林望. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-11-19.

IMPRINTING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20200303190A1. Автор: Kobayashi Kei,Nakamura Takayuki,KATO Hirokazu. Владелец: . Дата публикации: 2020-09-24.

Optical Mask And Manufacturing Method Thereof, Pattern Transferring Method And Display Device Manufacturing Method

Номер патента: CN104423141A. Автор: 山口昇,坪井诚治,吉川裕. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2015-03-18.

Pattern forming method, template manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20230420291A1. Автор: Masatoshi Terayama. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-12-28.

Resist pattern forming method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20230082514A1. Автор: Kentaro Matsunaga,Satomi Abe,Issui Aiba. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-03-16.

Laser device, laser oscillation method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240079844A1. Автор: Takashi Shiga. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-03-07.

Target supply device, target supply method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2027804A. Автор: HORI Tsukasa,Shiraishi Yutaka,SOMEYA Hiroshi,NISHISAKA Toshihiro,WATANABE Yukio. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-12-01.

Target supply device, target supply method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2027804B1. Автор: HORI Tsukasa,Shiraishi Yutaka,SOMEYA Hiroshi,NISHISAKA Toshihiro,WATANABE Yukio. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-06-15.

Target supply device, target supply method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US11320740B2. Автор: Yukio Watanabe,Yutaka Shiraishi,Hiroshi Someya,Toshihiro Nishisaka,Tsukasa Hori. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-05-03.

Pattern forming method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20160079076A1. Автор: Hiroshi Yamamoto,Mitsuhiro Omura,Tsubasa IMAMURA. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-03-17.

Optical characteristic measuring method and optical characteristic measuring apparatus, optical characteristic adjusting method, exposing device, exposing method, and exposing device manufacturing method

Номер патента: KR101521193B1. Автор: 히로시 오오키,아야코 나카무라. Владелец: 가부시키가이샤 니콘. Дата публикации: 2015-05-18.

An exposure apparatus and an exposure method, and an element manufacturing method

Номер патента: TWI497220B. Автор: 柴崎祐一. Владелец: 尼康股份有限公司. Дата публикации: 2015-08-21.

PATTERN FORMING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20200012187A1. Автор: KOMUKAI Toshiaki. Владелец: Toshiba Memory Corporation. Дата публикации: 2020-01-09.

Template, template manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20220055254A1. Автор: Hirokazu Kato,Seiji Morita,Kei Kobayashi,Anupam Mitra. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2022-02-24.

Target supply device, target supply method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210364927A1. Автор: Yukio Watanabe,Yutaka Shiraishi,Hiroshi Someya,Toshihiro Nishisaka,Tsukasa Hori. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-11-25.

Overlay mark, overlay measurement method and semiconductor device manufacturing method using the overlay mark

Номер патента: KR101906098B1. Автор: 이길수,하호철. Владелец: (주)오로스 테크놀로지. Дата публикации: 2018-10-10.

Reticle, exposure apparatus using the same, exposure method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4301584B2. Автор: 孝一郎 成松. Владелец: Renesas Technology Corp. Дата публикации: 2009-07-22.

Multi-wavelength selection method for overlay measurement, and overlay measurement method and semiconductor device manufacturing method using multi-wavelengths

Номер патента: US20240134290A1. Автор: Jeongjin Lee,Chan Hwang,Seungyoon LEE,Inbeom YIM,Junseong Yoon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-25.

Overlay mark, overlay measurement method and semiconductor device manufacturing method using the overlay mark

Номер патента: KR101665569B1. Автор: 장현진,이길수,하호철. Владелец: (주)오로스 테크놀로지. Дата публикации: 2016-10-12.

Photomask manufacturing method, pattern transfer method, and display device manufacturing method

Номер патента: KR101343256B1. Автор: 고이찌로 요시다. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2013-12-18.

Mask blank, mask blank manufacturing method, transfer mask manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JPWO2017169587A1. Автор: 淳志 小湊,寿幸 鈴木,鈴木　寿幸. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2018-04-05.

Mask blank, mask blank manufacturing method, transfer mask manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP6495472B2. Автор: 淳志 小湊,寿幸 鈴木,鈴木　寿幸. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2019-04-03.

A holding device, an exposure device, an exposure method, and an element manufacturing method

Номер патента: TWI443469B. Автор: 山本�一. Владелец: 尼康股份有限公司. Дата публикации: 2014-07-01.

Deposition apparatus, substrate processing system, substrate processing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: TW201245890A. Автор: Teruyuki Hayashi,Yuji Ono,Takaaki Matsuoka,Hiraku Ishikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-11-16.

Exposure mask, exposure mask manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method using exposure mask

Номер патента: EP1089128A3. Автор: Mizunori c/o Intell. Prop. Div. Ezaki. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2001-05-02.

DEVELOPER, PATTERN FORMING METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20180186907A1. Автор: TSUBAKI Hideaki,TSUCHIHASHI Toru,NIHASHI Wataru. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2018-07-05.

Mask blank, phase shift mask, phase shift mask manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP6328863B1. Автор: 野澤　順,順 野澤,浩之 岩下,淳志 松本. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2018-05-23.

Photoresist pattern forming method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP3837279B2. Автор: ▲みん▼鎬 鄭,載昌 鄭,基鎬 白,根守 李,次元 高,炯秀 金,珍秀 金,聖恩 洪. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2006-10-25.

A substrate holding device, an exposure apparatus, an exposure method, and an element manufacturing method

Номер патента: TWI406321B. Автор: 柴崎祐一,水谷剛之,涉田慎. Владелец: 尼康股份有限公司. Дата публикации: 2013-08-21.

Exposure method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP3633506B2. Автор: 晃司 菊地. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2005-03-30.

Pattern designing method, photomask manufacturing method, resist pattern forming method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20050058914A1. Автор: Shoji Mimotogi,Maki Miyazaki. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2005-03-17.

Pattern designing method, photomask manufacturing method, resist pattern forming method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: TWI241628B. Автор: Shoji Mimotogi,Maki Miyazaki. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2005-10-11.

Exposure mask substrate manufacturing method, exposure mask manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP3673263B2. Автор: 正光 伊藤. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2005-07-20.

An exposure apparatus and an exposure method, and an element manufacturing method

Номер патента: TWI435048B. Автор: 柴崎祐一. Владелец: 尼康股份有限公司. Дата публикации: 2014-04-21.

Chemical liquid, chemical liquid storage body, resist pattern forming method, and semiconductor chip manufacturing method

Номер патента: IL281957A. Автор: . Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-05-31.

Radiation-sensitive composition, pattern forming method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP3822101B2. Автор: 義之 横山,孝司 服部. Владелец: Renesas Technology Corp. Дата публикации: 2006-09-13.

Pattern forming method and electronic device manufacturing method

Номер патента: JP6205399B2. Автор: 秀知 高橋,慶 山本,修平 山口,純一 伊藤. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-09-27.

Photosensitive resin composition for projection exposure, photosensitive element, resist pattern forming method, printed wiring board manufacturing method, and lead frame manufacturing method

Номер патента: JP6432511B2. Автор: 壮和 粂,桃子 宗像. Владелец: Showa Denko Materials Co Ltd. Дата публикации: 2018-12-05.

Mask blank, phase shift mask, phase shift mask manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP6720139B2. Автор: 野澤　順,順 野澤,淳志 小湊. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2020-07-08.

Photomask substrate, phase shift mask, phase shift mask manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: TWI673563B. Автор: 野澤順,小湊淳志. Владелец: 日商Ｈｏｙａ股份有限公司. Дата публикации: 2019-10-01.

Active-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, pattern formation method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: WO2021039407A1. Автор: 英明 椿,直也 畠山,康智 米久田. Владелец: 富士フイルム株式会社. Дата публикации: 2021-03-04.

Laser device, laser control method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240072510A1. Автор: Takashi Shiga. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-02-29.

MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK, PHASE SHIFT MASK MANUFACTURING METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20180210331A1. Автор: Nozawa Osamu,SHISHIDO Hiroaki,Kajiwara Takenori. Владелец: HOYA CORPORATION. Дата публикации: 2018-07-26.

EXPOSURE SYSTEM, LASER CONTROL PARAMETER PRODUCTION METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20220373893A1. Автор: Wakabayashi Osamu,FUJII Koichi. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2022-11-24.

Template, template manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US11806901B2. Автор: Hideki Kanai,Toshiaki Komukai,Kazuhiro Takahata. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-11-07.

Methods And Apparatus For Simulating Interaction Of Radiation With Structures, Metrology Methods And Apparatus, Device Manufacturing Method

Номер патента: US20170017738A1. Автор: PISARENCO Maxim,VAN KRAAIJ Markus Gerardus Martinus Maria,DIRKS Remco. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2017-01-19.

Methods and Apparatus for Simulating Interaction of Radiation with Structures, Metrology Methods and Apparatus, Device Manufacturing Method

Номер патента: US20200202054A1. Автор: Remco Dirks,Markus Gerardus Martinus Maria Van Kraaij,Maxim PISARENCO. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-06-25.

Methods and apparatus for simulating interaction of radiation with structures, metrology methods and apparatus, device manufacturing method

Номер патента: TWI606312B. Автор: 可拉吉 馬可斯 傑拉度 馬堤司 瑪麗亞 凡,馬克辛 帕薩瑞可,萊姆克 德爾克斯. Владелец: Ａｓｍｌ荷蘭公司. Дата публикации: 2017-11-21.

Methods and apparatus for simulating interaction of radiation with structures, metrology methods and apparatus, device manufacturing method

Номер патента: IL280148A. Автор: . Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2021-03-01.

Insulating layer manufacturing method and semiconductor package manufacturing method

Номер патента: JP2019532488A. Автор: ボ・ユン・チェ,ミン・ス・チョン,ユ・ジン・キョン,クワン・ジュ・イ,ウ・ジェ・チョン,ビョン・ジュ・チェ. Владелец: エルジー・ケム・リミテッド. Дата публикации: 2019-11-07.

Imprint apparatus, imprint method, imprint system, and device manufacturing method

Номер патента: US20130106023A1. Автор: Akiyoshi Suzuki,Akiko Iimura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2013-05-02.

Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method, and calibration method

Номер патента: US09429854B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-08-30.

MOVABLE BODY DRIVE METHOD AND MOVABLE BODY DRIVE SYSTEM, PATTERN FORMATION METHOD AND APPARATUS, EXPOSURE METHOD AND APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND CALIBRATION METHOD

Номер патента: US20190107787A1. Автор: Shibazaki Yuichi. Владелец: NIKON CORPORATION. Дата публикации: 2019-04-11.

Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method, and calibration method

Номер патента: US20140354966A1. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2014-12-04.

Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method, and calibration method

Номер патента: US9625834B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-04-18.

Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method, and calibration method

Номер патента: US9740114B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method, and calibration method

Номер патента: US9760021B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-09-12.

Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method, and calibration method

Номер патента: US9846374B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-12-19.

Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method, and calibration method

Номер патента: US10197924B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2019-02-05.

Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method, and calibration method

Номер патента: US9971253B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-05-15.

Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method, and calibration method

Номер патента: TW201824351A. Автор: 柴崎祐一. Владелец: 日商尼康股份有限公司. Дата публикации: 2018-07-01.

Mobile body driving method and moving body driving system, pattern forming method and apparatus, exposure method and apparatus, component manufacturing method, and correcting method

Номер патента: TWI553704B. Автор: 柴崎祐一. Владелец: 尼康股份有限公司. Дата публикации: 2016-10-11.

Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method, and calibration method

Номер патента: TW201415537A. Автор: 柴崎祐一. Владелец: 尼康股份有限公司. Дата публикации: 2014-04-16.

Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method, and calibration method

Номер патента: US8134688B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2012-03-13.

Reflective mask blank, reflective mask, reflective mask manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20240069428A1. Автор: Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-02-29.

Mobile object driving method, mobile object driving system, pattern forming method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method and calibration method

Номер патента: KR101881716B1. Автор: 유이치 시바자키. Владелец: 가부시키가이샤 니콘. Дата публикации: 2018-07-24.

Mobile object driving method, mobile object driving system, pattern forming method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method and calibration method

Номер патента: KR101444632B1. Автор: 유이치 시바자키. Владелец: 가부시키가이샤 니콘. Дата публикации: 2014-09-26.

Mobile object driving method, mobile object driving system, pattern forming method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method and calibration method

Номер патента: KR20130105916A. Автор: 유이치 시바자키. Владелец: 가부시키가이샤 니콘. Дата публикации: 2013-09-26.

Mobile object driving method, mobile object driving system, pattern forming method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method and calibration method

Номер патента: KR101511929B1. Автор: 유이치 시바자키. Владелец: 가부시키가이샤 니콘. Дата публикации: 2015-04-13.

Pattern forming methods and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20140038318A1. Автор: Hironobu Sato. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2014-02-06.

A moving body device, an exposure apparatus and an exposure method, and an element manufacturing method

Номер патента: TWI479275B. Автор: 柴崎祐一. Владелец: 尼康股份有限公司. Дата публикации: 2015-04-01.

Extreme ultraviolet light generating apparatus, extreme ultraviolet light generating method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210072646A1. Автор: Kengo Hayashi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-03-11.

Extreme ultraviolet light generating apparatus, extreme ultraviolet light generating method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US11307501B2. Автор: Kengo Hayashi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-04-19.

Extreme ultraviolet light generating apparatus, extreme ultraviolet light generating method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210072646A1. Автор: Kengo Hayashi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-03-11.

RINSING LIQUID, PATTERN FORMING METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20180120708A1. Автор: TSUBAKI Hideaki,TSUCHIHASHI Toru,NIHASHI Wataru. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2018-05-03.

Extreme UV generators, target control methods, and electronic device manufacturing methods

Номер патента: JPWO2020165942A1. Автор: 徹 阿部. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-12-09.

Rinse solution, pattern forming method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: JP6379292B2. Автор: 英明 椿,亘 二橋,徹 土橋. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-08-22.

Alignment apparatus, film formation apparatus, alignment method, film formation method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: JP7244401B2. Автор: 康信 小林,洋紀 菅原. Владелец: Canon Tokki Corp. Дата публикации: 2023-03-22.

Rinse solution, pattern forming method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: JPWO2016208312A1. Автор: 英明 椿,亘 二橋,徹 土橋. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-02-22.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, pattern forming method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: JP6739468B2. Автор: 啓太 加藤,三千紘 白川,研由 後藤,雅史 小島. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2020-08-12.

Extreme ultraviolet light generation system, laser beam size controlling method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2025490B9. Автор: YABU Takayuki,NISHIMURA Yuichi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-07-14.

Imprint method, imprint apparatus, and article manufacturing method

Номер патента: US20210339433A1. Автор: Kenichi Kobayashi,Hiroyuki Sekiguchi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-11-04.

Imprint method, imprint apparatus, and article manufacturing method

Номер патента: US11833720B2. Автор: Kenichi Kobayashi,Hiroyuki Sekiguchi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-12-05.

Active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: EP4293054A1. Автор: Shuhei Yamaguchi,Eiji Fukuzaki,Tomoaki Yoshioka,Taro MIYOSHI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-12-20.

Laser system, pulse laser light generating method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240291220A1. Автор: Seiji Nogiwa,Takayuki OSANAI. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-08-29.

Exposure system, exposure method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US7629092B2. Автор: Keiji Yamada. Владелец: Fujitsu Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2009-12-08.

Imprint method, imprint apparatus, and article manufacturing method

Номер патента: US20240210833A1. Автор: Ryosuke Hamamoto,Masayoshi Fujimoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

Target supply device, target supply method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210410261A1. Автор: Yutaka Shiraishi,Tsukasa Hori. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-12-30.

Target supply device, target supply method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2028111B1. Автор: HORI Tsukasa,Shiraishi Yutaka. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-09-14.

Target supply device, target supply method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2028111A. Автор: HORI Tsukasa,Shiraishi Yutaka. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-02-04.

Chemical liquid, chemical liquid storage body, resist pattern forming method, and semiconductor chip manufacturing method

Номер патента: IL281957B1. Автор: . Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

Beam delivery system, focal length selecting method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210149185A1. Автор: Takashi Suganuma,Takahiro Tatsumi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-05-20.

Beam delivery system, focal length selecting method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2026637A. Автор: SUGANUMA Takashi,TATSUMI Takahiro. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-07-20.

Beam delivery system, focal length selecting method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2026637B1. Автор: SUGANUMA Takashi,TATSUMI Takahiro. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-09-23.

Extreme ultraviolet light generation apparatus, target control method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210349400A1. Автор: Toru Abe. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-11-11.

Extreme ultraviolet light generation apparatus, target control method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2027803A. Автор: Abe Toru. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-11-23.

Extreme ultraviolet light generation apparatus, target control method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2027803B1. Автор: Abe Toru. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-06-15.

Pattern forming method and electronic device manufacturing method

Номер патента: JPWO2016052178A1. Автор: 慶 山本,直紘 丹呉,三千紘 白川,研由 後藤,尚紀 井上. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-05-25.

Photosensitive resin composition, plating method and metal pattern manufacturing method

Номер патента: JPWO2020027024A1. Автор: 宗利 入澤,優子 中村,旭 伊藤,邦人 梶谷. Владелец: Mitsubishi Paper Mills Ltd. Дата публикации: 2021-08-02.

Pattern forming method and electronic device manufacturing method

Номер патента: JP5879229B2. Автор: 敏明 福原,明規 渋谷,祥平 片岡,知樹 松田,研由 後藤,渋谷　明規. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-03-08.

Pattern formation method and electronic device manufacturing method

Номер патента: KR102206776B1. Автор: 히데아키 츠바키,와타루 니하시,토모타카 츠치무라,슈지 히라노,아키히로 카네코. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2021-01-25.

Imprint method, imprint apparatus, and article manufacturing method

Номер патента: US11768433B2. Автор: Hiroshi Sato,Kazuhiro Sato. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-09-26.

Imprint method, imprint apparatus, and article manufacturing method

Номер патента: US12078927B2. Автор: Hiroshi Sato,Kazuhiro Sato. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-09-03.

Imprint method, imprint apparatus, and article manufacturing method

Номер патента: US20210223688A1. Автор: Hiroshi Sato,Kazuhiro Sato. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-07-22.

Imprint method, imprint apparatus, and article manufacturing method

Номер патента: US9128371B2. Автор: Hiroshi Kurosawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2015-09-08.

Imprint method, imprint apparatus, and article manufacturing method

Номер патента: US20120321797A1. Автор: Hiroshi Kurosawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-12-20.

Imprint method, imprint apparatus, and article manufacturing method

Номер патента: US20230194981A1. Автор: Tatsuya Hayashi,Takafumi Miyaharu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-06-22.

Imprint method, imprint apparatus, and article manufacturing method

Номер патента: US20230384666A1. Автор: Hiroshi Sato,Kazuhiro Sato. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-11-30.

Imprinting method, imprint apparatus and article manufacturing method

Номер патента: US20240045347A1. Автор: Yuji Sakata. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-02-08.

Imidazole compound, a metal surface treatment liquid, a metal surface processing method and a laminate manufacturing method

Номер патента: RU2692774C2. Автор: Такафуми ИМОТО,Тацуро ИСИКАВА,Кунихиро НОДА,Ясухиде ОХУТИ,Хироки ТИСАКА,Дай СИОТА,Юкицугу МАЕДА,Коухей ФУДЗИТА,Ясуюки АКАИ. Владелец: Дайсел Корпорэйшн. Дата публикации: 2019-06-27.

Euv mask inspection apparatus and method, and euv mask manufacturing method including euv mask inspection method

Номер патента: US20200003685A1. Автор: Byeong-Hwan Jeon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-01-02.

Extreme ultraviolet light generation system, laser beam size controlling method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20200393687A1. Автор: Yuichi Nishimura,Takayuki Yabu. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-12-17.

Laser system, spectrum waveform calculation method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20230349762A1. Автор: Masato Moriya,Natsuhiko KOUNO,Shunya OIWA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-11-02.

Extreme ultraviolet light generation system, laser beam size controlling method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2025490B1. Автор: YABU Takayuki,NISHIMURA Yuichi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-01-25.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM, LASER BEAM SIZE CONTROLLING METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20200393687A1. Автор: YABU Takayuki,NISHIMURA Yuichi. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2020-12-17.

Membrane manufacturing method, laminate manufacturing method and electronic device manufacturing method

Номер патента: JP6764480B2. Автор: 悠 岩井,充 沢野,勝志 伊藤,沢野　充,義貴 加持,犬島　孝能,孝能 犬島,ステファン ヴァンクロースター. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2020-09-30.

Plating defects estimating method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20240282643A1. Автор: Toshihito Tabata,Reo Kobayashi,Kanya HAMADA. Владелец: Hitachi Power Seemiconductor Device Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Inkjet printing device, dipole aligning method, and display device manufacturing method

Номер патента: EP3907082A1. Автор: Byung Chul Lee,Min Soo Kim,Myung Soo Huh,Heung Cheol JEONG,Jae Ha Lim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-10.

Exposure mask, method of designing and manufacturing the same, exposure method and apparatus, pattern forming method, and device manufacturing method

Номер патента: EP1642171A1. Автор: Takako Yamaguchi,Yasuhisa Inao. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-04-05.

Method of designing an exposure mask, exposure method, pattern forming method and device manufacturing method

Номер патента: EP1642171B1. Автор: Takako Yamaguchi,Yasuhisa Inao. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2011-06-15.

Imprint method, imprint apparatus, and structure manufacturing method

Номер патента: JP4262271B2. Автор: 淳一 関,信人 末平. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-05-13.

Imprint device, imprint method, storage medium, and article manufacturing method

Номер патента: KR20220165195A. Автор: 마사히로 다무라,요스케 무라카미,가즈키 나카가와. Владелец: 캐논 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2022-12-14.

Pattern forming method, photo mask manufacturing method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US10488755B2. Автор: Shuji Hirano,Akira Takada,Hidehiro Mochizuki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-11-26.

Pattern forming method, photo mask manufacturing method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20180017865A1. Автор: Shuji Hirano,Akira Takada,Hidehiro Mochizuki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-01-18.

Extreme ultraviolet light condensation mirror, extreme ultraviolet light condensation mirror manufacturing method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210193344A1. Автор: Masahiko Ando. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-06-24.

Extreme ultraviolet light condenser mirror, extreme ultraviolet light condenser mirror manufacturing method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2026727A. Автор: ANDO Masahiko. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-08-11.

Active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: EP4293054A4. Автор: Shuhei Yamaguchi,Eiji Fukuzaki,Tomoaki Yoshioka,Taro MIYOSHI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-09-25.

Actinic light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern formation method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: EP3919981A1. Автор: Kei Yamamoto,Minoru Uemura,Akiyoshi Goto,Masafumi KOJIMA,Keiyu OU,Yasuharu SHIRAISHI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-12-08.

Extreme ultraviolet light condenser mirror, extreme ultraviolet light condenser mirror manufacturing method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2026727B1. Автор: ANDO Masahiko. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-09-29.

Radiation-sensitive or actinic-light-sensitive composition; and film, mask blank, resist pattern formation method, and electronic device manufacturing method using same

Номер патента: TW201629632A. Автор: Tomotaka Tsuchimura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-08-16.

Optimum Imaging Position Detecting Method, Optimum Imaging Position Detecting Device, Photomask Manufacturing Method, and Semiconductor Device Manufacturing Method

Номер патента: US20130244143A1. Автор: TERASAWA Tsuneo,YAMANE Takeshi. Владелец: Kabushiki Kaihsa Toshiba. Дата публикации: 2013-09-19.

PATTERN FORMING METHOD, PHOTO MASK MANUFACTURING METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20180017865A1. Автор: MOCHIZUKI Hidehiro,HIRANO Shuji,TAKADA Akira. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2018-01-18.

PATTERN FORMING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20180120705A1. Автор: TSUBAKI Hideaki,TSUCHIHASHI Toru,NIHASHI Wataru. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2018-05-03.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT CONDENSATION MIRROR, EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT CONDENSATION MIRROR MANUFACTURING METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20210193344A1. Автор: ANDO Masahiko. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2021-06-24.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern formation method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: KR20220167320A. Автор: 슈헤이 야마구치,타로 미요시,에이지 후쿠자키. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2022-12-20.

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION, PHOTORESIST LAMINATE, PHOTORESIST PATTERN MANUFACTURING METHOD, AND CONNECTION TERMINAL MANUFACTURING METHOD

Номер патента: JP6195445B2. Автор: 貴敬 森,内海　義之,義之 内海,貴弘 清水,鷲尾　泰史,泰史 鷲尾,靖司 黒岩. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-13.

Lithographic projection apparatus, apparatus manufacturing method, and optical element manufacturing method

Номер патента: JP3588095B2. Автор: ヨセフス ボクス ウィルヘルムス. Владелец: エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ. Дата публикации: 2004-11-10.

A liquid recovery member, an exposure apparatus, an exposure method, and an element manufacturing method

Номер патента: TWI397945B. Автор: 長坂博之. Владелец: 尼康股份有限公司. Дата публикации: 2013-06-01.

Imprint lithography method, pattern formation method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: KR102202291B1. Автор: 웨이준 리우,티모시 브라이언 스타초위악. Владелец: 캐논 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2021-01-13.

Pattern forming method, photocurable resin composition, layered body manufacturing method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: TW202128839A. Автор: 嶋田和人,井上和臣,榎本雄一郎,佐藤直樹. Владелец: 日商富士軟片股份有限公司. Дата публикации: 2021-08-01.

Active light sensitive or radiation sensitive resin composition, pattern forming method and electronic device manufacturing method

Номер патента: TW201734635A. Автор: Fumihiro Yoshino. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-10-01.

Actinic ray sensitive or radiation sensitive composition, purification method of actinic ray sensitive or radiation sensitive composition, pattern forming method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: JPWO2017163922A1. Автор: 英明 椿,亘 二橋. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-11-08.

Active light sensitive or radiation sensitive resin composition, pattern forming method and electronic device manufacturing method

Номер патента: TW202040270A. Автор: 吉野文博. Владелец: 日商富士軟片股份有限公司. Дата публикации: 2020-11-01.

Spark plug inspection method and spark plug manufacturing method

Номер патента: US11146042B2. Автор: Atsutoshi Hidaka. Владелец: NGK Spark Plug Co Ltd. Дата публикации: 2021-10-12.

Spark plug inspection method and spark plug manufacturing method

Номер патента: US20200244049A1. Автор: Atsutoshi Hidaka. Владелец: NGK Spark Plug Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-30.

Resist composition, and resist film, pattern forming method, and electronic device manufacturing method using the same

Номер патента: JPWO2017056928A1. Автор: 修史 平野,年哉 高橋,英宏 望月,直也 下重,暁 ▲高▼田. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-01-18.

Pattern forming method and electronic device manufacturing method

Номер патента: JP6650461B2. Автор: 慶 山本,英明 椿,亘 二橋,徹 土橋. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2020-02-19.

Exposure method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4352068B2. Автор: 和也 福原,健二 川野,和之 益川. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2009-10-28.

Imprint method, imprint apparatus, and article manufacturing method

Номер патента: US09880463B2. Автор: Makoto Mizuno,Hideki Matsumoto,Fumio Sakai,Kohei Wakabayashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-01-30.

Imprint method, imprint apparatus, and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20130078821A1. Автор: Yohko FURUTONO. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-03-28.

IMPRINT METHOD AND IMPRINT MOLD MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20190384169A1. Автор: SUZUKI Katsutoshi,NAGAI Takaharu,ICHIMURA Koji,INAZUKI Yuichi,HIKICHI Ryugo,HARADA Saburou. Владелец: Dai Nippon Printing Co., Ltd.. Дата публикации: 2019-12-19.

IMPRINT METHOD AND IMPRINT MOLD MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20170235221A1. Автор: SUZUKI Katsutoshi,NAGAI Takaharu,ICHIMURA Koji,INAZUKI Yuichi,HIKICHI Ryugo,HARADA Saburou. Владелец: Dai Nippon Printing Co., Ltd.. Дата публикации: 2017-08-17.

IMPRINT METHOD, IMPRINT APPARATUS, AND ARTICLE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20150013559A1. Автор: HAYASHI Nozomu. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2015-01-15.

IMPRINTING METHOD, IMPRINT APPARATUS, AND ARTICLE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20210055649A1. Автор: Hattori Tadashi,Aoki Akio. Владелец: . Дата публикации: 2021-02-25.

IMPRINT METHOD, IMPRINT APPARATUS, AND ARTICLE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20210096462A1. Автор: Ito Masato,Someya Yoshinari. Владелец: . Дата публикации: 2021-04-01.

IMPRINT METHOD, IMPRINT APPARATUS, AND ARTICLE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20210223688A1. Автор: SATO Kazuhiro,Sato Hiroshi. Владелец: . Дата публикации: 2021-07-22.

IMPRINT METHOD, IMPRINT APPARATUS, AND ARTICLE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20190204733A1. Автор: Usui Yoshiyuki. Владелец: . Дата публикации: 2019-07-04.

IMPRINTING METHOD, IMPRINTING APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20140346700A1. Автор: Sato Hiroshi,Hiura Mitsuru. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2014-11-27.

Imprint method, imprint apparatus, and semiconductor manufacturing method

Номер патента: JP5173311B2. Автор: 淳一 関,真吾 奥島,信人 末平. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2013-04-03.

Imprint method, imprint apparatus, and article manufacturing method

Номер патента: US20120313293A1. Автор: Makoto Mizuno,Hideki Matsumoto,Fumio Sakai,Kohei Wakabayashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-12-13.

Imprint method, imprint apparatus, and article manufacturing method

Номер патента: US20150360400A1. Автор: Naoya Tsurumi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2015-12-17.

Imprint method, imprint apparatus, and article manufacturing method

Номер патента: KR20150143321A. Автор: 나오야 츠루미. Владелец: 캐논 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2015-12-23.

Methods and Apparatus For Measuring Wavefronts and For Determining Scattered Light, and Related Devices and Manufacturing Methods

Номер патента: US20080231840A1. Автор: Ulrich Wegmann,Wolfgang Emer,Helmut Haidner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2008-09-25.

Exposure method, mask data producing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US8142960B2. Автор: Satoshi Nagai,Kazuya Fukuhara. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2012-03-27.

Pattern Verification Method, Pattern Verification System, Mask Manufacturing Method and Semiconductor Device Manufacturing Method

Номер патента: US20120054695A1. Автор: SATOSHI Tanaka,Kyoko Izuha,Toshiya Kotani,Shigeki Nojima. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2012-03-01.

A positioning system, a lithographic apparatus, a driving force attenuation method, and a device manufacturing method

Номер патента: US20240175479A1. Автор: Hans Butler,Michael Erath,Petrus Martinus Bernardus Vermeulen Johannes,Maarten Hartger Kimman,Philipp Gaida,Stefan TROGER. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-05-30.

Exposure method, exposure quantity calculating system using the exposure method and semiconductor device manufacturing method using the exposure method

Номер патента: US20040253553A1. Автор: Takashi Sato,Shoji Mimotogi,Shigeru Hasebe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-12-16.

Exposure method, exposure quantity calculating system using the exposure method and semiconductor device manufacturing method using the exposure method

Номер патента: US7118834B2. Автор: Takashi Sato,Shoji Mimotogi,Shigeru Hasebe. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2006-10-10.

Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method, and measuring method

Номер патента: TW200921289A. Автор: Yuichi Shibazaki,Yuho Kanaya. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2009-05-16.

Overlay correction method and semiconductor device manufacturing method comprising the overlay correction method

Номер патента: US20240310720A1. Автор: Jaeil LEE,Kyoungcho Na. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-19.

Mask blank transparent substrate manufacturing method, mask blank manufacturing method, and exposure mask manufacturing method

Номер патента: US20110027701A1. Автор: Masaru Tanabe. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2011-02-03.

Correction pattern generation device, pattern defect correction system, correction pattern generation method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20200089103A1. Автор: Keiko Morishita. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2020-03-19.

MOVABLE BODY DRIVE METHOD AND MOVABLE BODY DRIVE SYSTEM, PATTERN FORMATION METHOD AND APPARATUS, EXPOSURE METHOD AND APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND CALIBRATION METHOD

Номер патента: US20180067405A1. Автор: Shibazaki Yuichi. Владелец: NIKON CORPORATION. Дата публикации: 2018-03-08.

MOVABLE BODY DRIVE METHOD AND MOVABLE BODY DRIVE SYSTEM, PATTERN FORMATION METHOD AND APPARATUS, EXPOSURE METHOD AND APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND CALIBRATION METHOD

Номер патента: US20170160649A1. Автор: Shibazaki Yuichi. Владелец: NIKON CORPORATION. Дата публикации: 2017-06-08.

MOVABLE BODY DRIVE METHOD AND MOVABLE BODY DRIVE SYSTEM, PATTERN FORMATION METHOD AND APPARATUS, EXPOSURE METHOD AND APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND CALIBRATION METHOD

Номер патента: US20180224758A1. Автор: Shibazaki Yuichi. Владелец: NIKON CORPORATION. Дата публикации: 2018-08-09.

MOVABLE BODY DRIVE METHOD AND MOVABLE BODY DRIVE SYSTEM, PATTERN FORMATION METHOD AND APPARATUS, EXPOSURE METHOD AND APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND CALIBRATION METHOD

Номер патента: US20150293464A1. Автор: Shibazaki Yuichi. Владелец: . Дата публикации: 2015-10-15.

MOVABLE BODY DRIVE METHOD AND MOVABLE BODY DRIVE SYSTEM, PATTERN FORMATION METHOD AND APPARATUS, EXPOSURE METHOD AND APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND CALIBRATION METHOD

Номер патента: US20150309423A1. Автор: Shibazaki Yuichi. Владелец: . Дата публикации: 2015-10-29.

MOVABLE BODY DRIVE METHOD AND MOVABLE BODY DRIVE SYSTEM, PATTERN FORMATION METHOD AND APPARATUS, EXPOSURE METHOD AND APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND CALIBRATION METHOD

Номер патента: US20170315457A1. Автор: Shibazaki Yuichi. Владелец: NIKON CORPORATION. Дата публикации: 2017-11-02.

MOVABLE BODY DRIVE METHOD AND MOVABLE BODY DRIVE SYSTEM, PATTERN FORMATION METHOD AND APPARATUS, EXPOSURE METHOD AND APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND CALIBRATION METHOD

Номер патента: US20160327872A1. Автор: Shibazaki Yuichi. Владелец: NIKON CORPORATION. Дата публикации: 2016-11-10.

A positioning system, a lithographic apparatus, an absolute position determination method, and a device manufacturing method

Номер патента: EP4251947A1. Автор: Maarten Jozef Jansen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-10-04.

A positioning system, a lithographic apparatus, an absolute position determination method, and a device manufacturing method

Номер патента: US20230408933A1. Автор: Maarten Jozef Jansen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-12-21.

An interferometer system, positioning system, a lithographic apparatus, a jitter determination method, and a device manufacturing method

Номер патента: EP4278146A1. Автор: Maarten Jozef Jansen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-11-22.

Mask pattern data generating method, photo mask manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20060093926A1. Автор: Takeshi Ito,Tadahito Fujisawa,Toshiya Kotani. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2006-05-04.

Template, pattern forming method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20230418155A1. Автор: Hirotaka Tsuda. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-12-28.

Exposure apparatus, exposure method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20190271922A1. Автор: Manabu Takakuwa. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-09-05.

Exposure apparatus, exposure method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US10921722B2. Автор: Manabu Takakuwa. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2021-02-16.

Machine learning (ml)-based process proximity correction (ppc) method and semiconductor device manufacturing method including the same

Номер патента: US20230324881A1. Автор: Sooyong Lee,Jeeyong Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-10-12.

An interferometer system, positioning system, a lithographic apparatus, a jitter determination method, and a device manufacturing method

Номер патента: US20240061351A1. Автор: Maarten Jozef Jansen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-02-22.

Methods and Apparatus for Simulating Interaction of Radiation with Structures, Metrology Methods and Apparatus, Device Manufacturing Method

Номер патента: US20170102623A1. Автор: PISARENCO Maxim,QUINTANILHA Richard,VAN KRAAIJ Markus Gerardus Martinus Maria. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2017-04-13.

Wavefront aberration measurement method, projection optical system adjustment method and exposure method, and exposure apparatus manufacturing method

Номер патента: JP4147574B2. Автор: 浩二 貝瀬. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2008-09-10.

Reticle, semiconductor exposure apparatus and method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: KR100552559B1. Автор: 타케나카츠토무,미우라세이야. Владелец: 캐논 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2006-02-14.

Reticle, semiconductor exposure apparatus and method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20050042525A1. Автор: Tsutomu Takenaka,Seiya Miura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2005-02-24.

Pattern forming method and semiconductor device manufacturing method and apparatus using the method

Номер патента: JP3458549B2. Автор: 透 小川,政也 植松. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2003-10-20.

Scanning exposure apparatus and method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP3514401B2. Автор: 和彦 三島. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2004-03-31.

COMPOUND, ACID GENERATOR, COMPOSITION, CURED PRODUCT, CURED PRODUCT MANUFACTURING METHOD, AND PATTERN COATING MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20220137507A1. Автор: MURAI Toshihiko,MIYAKE Junya,FUJITA Shohei,MATSUI Izumi,OTSUKA Konomi. Владелец: . Дата публикации: 2022-05-05.

CORRECTION PATTERN GENERATION DEVICE, PATTERN DEFECT CORRECTION SYSTEM, CORRECTION PATTERN GENERATION METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20200089103A1. Автор: MORISHITA Keiko. Владелец: . Дата публикации: 2020-03-19.

TEMPLATE, TEMPLATE MANUFACTURING METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20190263024A1. Автор: Morita Seiji,Kobayashi Kei,KATO Hirokazu,Mitra Anupam. Владелец: . Дата публикации: 2019-08-29.

Exposure apparatus, exposure method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20190271922A1. Автор: Manabu Takakuwa. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-09-05.

Overlay mark, overlay measurement method and semiconductor device manufacturing method using the overlay mark

Номер патента: KR102440758B1. Автор: 홍성훈,이현철,장현진,우영제. Владелец: (주)오로스 테크놀로지. Дата публикации: 2022-09-06.

Overlay mark, overlay measurement method and semiconductor device manufacturing method using the overlay mark

Номер патента: KR102460132B1. Автор: 이현철. Владелец: (주)오로스 테크놀로지. Дата публикации: 2022-10-31.

Overlay mark, overlay measurement method and semiconductor device manufacturing method using the overlay mark

Номер патента: KR20230003843A. Автор: 박규남,장주일,원대경. Владелец: (주)오로스 테크놀로지. Дата публикации: 2023-01-06.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: JP7191981B2. Автор: 慶 山本,三千紘 白川,敬史 川島,研由 後藤,大輔 浅川. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-12-19.

Cured film manufacturing method, resin composition, cured film, laminate manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: KR20210057104A. Автор: 켄타 야마자키,케이 후쿠하라. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2021-05-20.

Photomask, photomask manufacturing method and semiconductor device manufacturing method using photomask

Номер патента: KR100647182B1. Автор: 다나까도시히꼬,나까오슈지. Владелец: 가부시끼가이샤 르네사스 테크놀로지. Дата публикации: 2006-11-23.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern formation method, and electronic device manufacturing method using the same

Номер патента: JP6195552B2. Автор: 智孝 土村,土村　智孝,修史 平野,健志 川端. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-09-13.

Exposure device, exposure method, and micro device manufacturing method

Номер патента: WO2006080285A1. Автор: Masaki Kato,Kenji Shimizu,Tomoyuki Watanabe,Manabu Toguchi. Владелец: NIKON CORPORATION. Дата публикации: 2006-08-03.

Lighting optical device, projection aligner, exposure method and electronic device manufacturing method

Номер патента: KR100839686B1. Автор: 나오마사 시라이시. Владелец: 가부시키가이샤 니콘. Дата публикации: 2008-06-19.

Illumination optical apparatus, projection exposure apparatus, exposure method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: JP4543341B2. Автор: 直正 白石. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2010-09-15.

Film manufacturing method, optical component manufacturing method, circuit board manufacturing method, and electronic component manufacturing method

Номер патента: JP6460672B2. Автор: 伊藤　　俊樹,伊藤　俊樹,陽司 川▲崎▼,猛 本間,詩織 米澤. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-01-30.

Pattern forming method, manufacturing method of substrate, optical component manufacturing method, circuit board manufacturing method, electronic component manufacturing method, and imprint mold manufacturing method

Номер патента: KR20180126026A. Автор: 니야즈 쿠스나트디노프,도시키 이토,게이코 치바,웨이준 리우,브라이언 티모시 스타초위악. Владелец: 캐논 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2018-11-26.

Pattern correction method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP5606369B2. Автор: 敏也 小谷,幸子 小林,誠生 梶原,浩充 間下,史晴 中嶌. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2014-10-15.

Lighting optical device, aligner, exposure method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JPH11224853A. Автор: Osamu Tanitsu,修 谷津,香葉 杉山,Kayo Sugiyama. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1999-08-17.

Optical element support structure, optical system, optical system adjustment method, exposure apparatus, exposure method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4174262B2. Автор: 隆一 海老沼. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-10-29.

Exposure apparatus, exposure method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20070081139A1. Автор: Takashi Sato,Kazuya Fukuhara. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2007-04-12.

Exposure apparatus, exposure method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US6573976B2. Автор: Hiroaki Takeishi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2003-06-03.

A pattern forming apparatus, a pattern forming method, and an element manufacturing method

Номер патента: TWI534550B. Автор: 木內徹,水谷英夫. Владелец: 尼康股份有限公司. Дата публикации: 2016-05-21.

Indium Phosphide Substrate Manufacturing Method and Epitaxial Wafer Manufacturing Method

Номер патента: US20130109156A1. Автор: Kyoko Okita. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2013-05-02.

Laser irradiation apparatus, laser irradiation method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20220184734A1. Автор: Kenichi Ohmori,Suk-Hwan Chung. Владелец: Japan Steel Works Ltd. Дата публикации: 2022-06-16.

Laser irradiation apparatus, laser irradiation method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US11992896B2. Автор: Kenichi Ohmori,Suk-Hwan Chung. Владелец: JSW Aktina System Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-28.

AlGaN BULK CRYSTAL MANUFACTURING METHOD AND AlGaN SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20110114016A1. Автор: Hideaki Nakahata,Michimasa Miyanaga,Naho Mizuhara,Keisuke Tanizaki,Issei Satoh. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2011-05-19.

Wet etching process-based modeling method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20240202399A1. Автор: Hui ZENG,Ruijing Han. Владелец: Cansemi Technology Inc. Дата публикации: 2024-06-20.

Defect detection device, defect detection method, wafer, semiconductor chip, die bonder, semiconductor manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: SG11201911669SA. Автор: Yoji Shimizu,Nobuhiro Nagamoto,Haruka TAI,Atsumasa Kambayashi,Yoshikazu Shimokawa. Владелец: Canon Machinery Inc. Дата публикации: 2020-01-30.

Defect detection device, defect detection method, wafer, semiconductor chip, semiconductor device, die bonder, bonding method, semiconductor manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: MY202139A. Автор: Haruka TAI,Atsumasa Kambayashi. Владелец: Canon Machinery Inc. Дата публикации: 2024-04-05.

Stress analysis method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US11901223B2. Автор: Sachiyo Ito,Hiroshi Yoshimura,Jiro Higuchi,Kazuyuki Hino,Ken FURUBAYASHI. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-02-13.

OXIDE SEMICONDUCTOR FILM ETCHING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20180197974A1. Автор: Kanzaki Yohsuke,SAITOH TAKAO,Takamaru Yutaka. Владелец: . Дата публикации: 2018-07-12.

CALIBRATION CURVE FORMATION METHOD, IMPURITY CONCENTRATION MEASUREMENT METHOD, AND SEMICONDUCTOR WAFER MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20150338276A1. Автор: NAKAGAWA Satoko,KASHIMA Kazuhiko. Владелец: . Дата публикации: 2015-11-26.

OPTICAL PROCESS MONITOR DEVICE, OPTICAL PROCESS MONITOR METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: JP3886953B2. Автор: 隆行 酒井,正信 岐部,徳久 大岩. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2007-02-28.

Organic transistor manufacturing method, active matrix device manufacturing method, display device manufacturing method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: JP4325479B2. Автор: 壮一 守谷. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2009-09-02.

Substrate processing equipment, reaction tube shape measurement method, and semiconductor equipment manufacturing method

Номер патента: JP6971383B2. Автор: 基哉 竹脇,智志 谷山. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2021-11-24.

Magnetoresistive element, its use and manufacturing method, and Heusler alloy manufacturing method

Номер патента: JP6444276B2. Автор: イェ ドゥ,孝夫 古林,泰祐 佐々木,裕弥 桜庭,有紀子 高橋,和博 宝野. Владелец: NATIONAL INSTITUTE FOR MATERIALS SCIENCE. Дата публикации: 2018-12-26.

Gas sensor, component detection apparatus including gas sensor, inspection system including gas sensor, gas sensor inspection method, and gas sensor manufacturing method

Номер патента: US12038424B2. Автор: Takanori Murakami,Hidenori Mochizuki,Daiki HIRASHIMA. Владелец: Asahi Kasei Corp. Дата публикации: 2024-07-16.

Laser processing system, laser processing method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240272444A1. Автор: Akiyoshi Suzuki,Osamu Wakabayashi,Yasufumi Kawasuji. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-08-15.

Wafer flatness evaluation method, wafer flatness evaluation apparatus carrying out the evaluation method, wafer manufacturing method using the evaluation method, wafer quality assurance method using the evaluation method, semiconductor device manufacturing method using the evaluation method and semiconductor device manufacturing method using a wafer evaluated by the evaluation method

Номер патента: US7365830B2. Автор: Makoto Kobayashi,Masashi Ichikawa,Kenichi Kodama,Soichi Inoue,Tadahito Fujisawa,Tsuneyuki Hagiwara. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2008-04-29.

Wafer flatness evaluation method, wafer flatness evaluation apparatus carrying out the evaluation method, wafer manufacturing method using the evaluation method, wafer quality assurance method using the evaluation method, semiconductor device manufacturing method using the evaluation method and semiconductor device manufacturing method using a wafer evaluated by the evaluation method

Номер патента: US20070177126A1. Автор: Makoto Kobayashi,Masashi Ichikawa,Kenichi Kodama,Soichi Inoue,Tadahito Fujisawa,Tsuneyuki Hagiwara. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2007-08-02.

Radiation detector, medical image diagnosis apparatus, detector package, scintillator array, scintillator array manufacturing method, and radiation detector manufacturing method

Номер патента: US20180267183A1. Автор: Kazuto Nishizawa. Владелец: Canon Medical Systems Corp. Дата публикации: 2018-09-20.

Calibration curve formation method, impurity concentration measurement method, and semiconductor wafer manufacturing method

Номер патента: US09541452B2. Автор: Kazuhiko Kashima,Satoko Nakagawa. Владелец: GlobalWafers Japan Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Exposure apparatus, surface position control method, exposure method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US10488761B2. Автор: Yoshimitsu Kato. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-11-26.

Cleaning method of heat mode type recording material layer, bumpy product manufacturing method, light emitting device manufacturing method, and optical device manufacturing method

Номер патента: TW200929207A. Автор: Yoshihisa Usami. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-07-01.

Element mounting means, electrode means manufacturing method, and smoke detector manufacturing method

Номер патента: EP4318425A1. Автор: Kiyotaka Teshima. Владелец: Hochiki Corp. Дата публикации: 2024-02-07.

Memory device, memory device controlling method, and memory device manufacturing method

Номер патента: US20230004310A1. Автор: Atsushi Kondo,Ryo YONEZAWA. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-01-05.

Scintillator panel, radiation detector, scintillator panel manufacturing method, and radiation detector manufacturing method

Номер патента: EP4050381A1. Автор: Jun Sakurai,Keisuke Goto,Kazuhiro Shirakawa,Masashi Hatanaka,Haruki Yamaji. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2022-08-31.

Laser processing device, laser processing method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240103336A1. Автор: Yasufumi Kawasuji. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-03-28.

Scintillator panel, radiation detector, scintillator panel manufacturing method, and radiation detector manufacturing method

Номер патента: US20240103189A1. Автор: Jun Sakurai,Keisuke Goto,Kazuhiro Shirakawa,Masashi Hatanaka,Haruki Yamaji. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2024-03-28.

Semiconductor wafer evaluation method and semiconductor wafer manufacturing method

Номер патента: US11955390B2. Автор: Hirotaka Kato,Yasuyuki Hashimoto,Takahiro Nagasawa. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2024-04-09.

Assessment method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20190363027A1. Автор: Toshihiro Arai,Yasushi Niimura,Hideki Shishido,Takayuki SHIMATOU. Владелец: Fuji Electric Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-28.

Inkjet printing device, dipole aligning method, and display device manufacturing method

Номер патента: US20220080725A1. Автор: Byung Chul Lee,Min Soo Kim,Myung Soo Huh,Heung Cheol JEONG,Jae Ha Lim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-17.

Element Mounting Means, Electrode Means Manufacturing Method, and Smoke Detector Manufacturing Method

Номер патента: US20230420433A1. Автор: Kiyotaka Teshima. Владелец: Hochiki Corp. Дата публикации: 2023-12-28.

Semiconductor device testing apparatus, semiconductor device testing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20160306005A1. Автор: Teruyuki Ohashi,Ryosuke llJIMA. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-10-20.

ION DEPTH PROFILE CONTROL METHOD, ION IMPLANTATION METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD BASED ON THE CONTROL METHOD, AND ION IMPLANTATION SYSTEM ADAPTING THE CONTROL METHOD

Номер патента: US20200303266A1. Автор: KANG SEUNGMO,JEONG Seongrak. Владелец: . Дата публикации: 2020-09-24.

Photosensitive element, laminate, permanent mask resist and its manufacturing method, and semiconductor package manufacturing method

Номер патента: JP6879348B2. Автор: 名越　俊昌,田中　恵生,俊昌 名越,恵生 田中,志津 福住. Владелец: Showa Denko Materials Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-02.

Semiconductor wafer examination method and semiconductor chip manufacturing method

Номер патента: US20070259458A1. Автор: Hideki Yuzawa,Kazuhiro Kijima. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2007-11-08.

Voltage measuring method, electrical test method and apparatus, semiconductor device manufacturing method and device substrate manufacturing method

Номер патента: KR100873181B1. Автор: 히로키마사아키. Владелец: 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼. Дата публикации: 2008-12-10.

Exposure apparatus, surface position control method, exposure method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20190079402A1. Автор: Yoshimitsu Kato. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-03-14.

Wafer flatness evaluation method, wafer manufacturing method using the same, wafer quality assurance method and semiconductor device manufacturing method using the evaluation method, wafer flatness evaluation apparatus carrying out the same and so on

Номер патента: TW200425370A. Автор: Makoto Kobayashi,Masashi Ichikawa,Kenichi Komada,Soichi Inoue,Tadahito Fujisawa,Tsuneyuki Hagiwara. Владелец: Shinetsu Handotai Kk. Дата публикации: 2004-11-16.

SEMICONDUCTOR DEVICE TESTING APPARATUS, SEMICONDUCTOR DEVICE TESTING METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20160056085A1. Автор: llJIMA Ryosuke,OHASHI Teruyuki. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2016-02-25.

EXPOSURE APPARATUS, SURFACE POSITION CONTROL METHOD, EXPOSURE METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20190079402A1. Автор: Kato Yoshimitsu. Владелец: Toshiba Memory Corporation. Дата публикации: 2019-03-14.

SEMICONDUCTOR WAFER EVALUATION STANDARD SETTING METHOD, SEMICONDUCTOR WAFER EVALUATION METHOD, SEMICONDUCTOR WAFER MANUFACTURING PROCESS EVALUATION METHOD, AND SEMICONDUCTOR WAFER MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20180136279A1. Автор: Takanashi Keiichi,NAGASAWA Takahiro. Владелец: SUMCO CORPORATION. Дата публикации: 2018-05-17.

ASSESSMENT METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20170229356A1. Автор: NIIMURA Yasushi,Shishido Hideki,ARAI Toshihiro,SHIMATOU Takayuki. Владелец: . Дата публикации: 2017-08-10.

Calibration curve determination method, carbon concentration measurement method, and silicon wafer-manufacturing method

Номер патента: US20180231468A1. Автор: Satoko Nakagawa,Yuta NAGAI. Владелец: GlobalWafers Japan Co Ltd. Дата публикации: 2018-08-16.

RADIATION DETECTOR, MEDICAL IMAGE DIAGNOSIS APPARATUS, DETECTOR PACKAGE, SCINTILLATOR ARRAY, SCINTILLATOR ARRAY MANUFACTURING METHOD, AND RADIATION DETECTOR MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20180267183A1. Автор: NISHIZAWA Kazuto. Владелец: Canon Medical Systems Corporation. Дата публикации: 2018-09-20.

SEMICONDUCTOR DEVICE TESTING APPARATUS, SEMICONDUCTOR DEVICE TESTING METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20160306005A1. Автор: llJIMA Ryosuke,OHASHI Teruyuki. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2016-10-20.

ASSESSMENT METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20190363027A1. Автор: NIIMURA Yasushi,Shishido Hideki,ARAI Toshihiro,SHIMATOU Takayuki. Владелец: . Дата публикации: 2019-11-28.

SEMICONDUCTOR WAFER EVALUATION METHOD AND SEMICONDUCTOR WAFER MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20200411391A1. Автор: KATO Hirotaka,NAGASAWA Takahiro,HASHIMOTO Yasuyuki. Владелец: SUMCO CORPORATION. Дата публикации: 2020-12-31.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, mask blank provided with actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern formation method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: JP6286227B2. Автор: 修平 山口,夏海 横川,孝太郎 高橋. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-02-28.

Electroluminescent element design method and electroluminescent element manufacturing method using such design method

Номер патента: KR101825871B1. Автор: 고 오사와,고지로 세키네,미츠루 요코야마. Владелец: 코니카 미놀타 가부시키가이샤. Дата публикации: 2018-02-05.

Laser processing method and semiconductor chip manufacturing method

Номер патента: JP4659300B2. Автор: 文嗣 福世,憲志 福満,直己 内山,敏光 和久田. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2011-03-30.

Calibration curve determination method, carbon concentration measurement method, and silicon wafer-manufacturing method

Номер патента: KR102017957B1. Автор: 사토코 나카가와,유타 나가이. Владелец: 글로벌웨어퍼스 재팬 가부시키가이샤. Дата публикации: 2019-09-03.

ESD analysis apparatus, ESD analysis program, semiconductor device design method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4312784B2. Автор: 哲也 加藤,基嗣 奥島,進 小林,守央 平田,智広 北山. Владелец: NEC Electronics Corp. Дата публикации: 2009-08-12.

Silicon-based photomultiplier tube manufacturing method, silicon-based photomultiplier tube manufacturing method, and radiation detector manufacturing method

Номер патента: JP5908497B2. Автор: ラズミック ミルゾヤン,政廣 手嶋,ボリス アナトリエヴィッチ ドルゴシェイン,ボリス アナトリエヴィッチ ドルゴシェイン,パヴェル ゾルゼヴィッチ ブザン,パヴェル ゾルゼヴィッチ ブザン,アレクセィ アナトリーヴィッチ スティフトキン,アレクセィ アナトリーヴィッチ スティフトキン. Владелец: マックス−プランク−ゲゼルシャフト ツール フォーデルング デル ヴィッセンシャフテン エー．ヴェー．. Дата публикации: 2016-04-26.

Cleanliness evaluation method, cleaning condition determination method, and silicon wafer manufacturing method

Номер патента: JP6269709B2. Автор: 宏和 加藤,崇志 村松. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2018-01-31.

Peeling method and flexible device manufacturing method

Номер патента: KR102388701B1. Автор: 순페이 야마자키,세이지 야스모토,마사타카 사토,마사카츠 오노,히로키 아다치. Владелец: 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼. Дата публикации: 2022-04-19.

Electroluminescent element design method, electroluminescent element manufactured using such design method, and electroluminescent element manufacturing method using such design method

Номер патента: WO2015194359A1. Автор: 孝二郎 関根,耕 大澤,光 横山. Владелец: コニカミノルタ株式会社. Дата публикации: 2015-12-23.

Semiconductor device testing method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP6381854B1. Автор: 肇 佐々木,佐々木　肇. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2018-08-29.

Calibration curve determination method, carbon concentration measurement method, and silicon wafer-manufacturing method

Номер патента: TWI647440B. Автор: 永井勇太,中川聰子. Владелец: 日商環球晶圓日本股份有限公司. Дата публикации: 2019-01-11.

Composition, film manufacturing method and optical sensor manufacturing method

Номер патента: JP6890662B2. Автор: 昂広 大河原,裕樹 奈良. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-06-18.

Semiconductor device evaluation method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4844101B2. Автор: 亨 山崎. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2011-12-28.

Calibration Curve Determination Method, Carbon Concentration Measurement Method, And Silicon Wafer-Manufacturing Method

Номер патента: TW201842321A. Автор: 永井勇太,中川聰子. Владелец: 日商環球晶圓日本股份有限公司. Дата публикации: 2018-12-01.

Ion implantation method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US7785994B2. Автор: Hideki Okai. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2010-08-31.

Packaged wafer manufacturing method and device chip manufacturing method

Номер патента: US09892986B2. Автор: Xin Lu,Hideki Koshimizu,Yurika Araya. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2018-02-13.

Position aligning apparatus, position aligning method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20090269685A1. Автор: Yoshiaki Yanagawa,Yuki Okada. Владелец: NEC Electronics Corp. Дата публикации: 2009-10-29.

Resolver and manufacturing manufacturing method thereof

Номер патента: KR101964371B1. Автор: 박용호,이진주,진창성. Владелец: 한화디펜스 주식회사. Дата публикации: 2019-04-01.

Photomask creating method, data creating method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240329518A1. Автор: Koichi Fujii. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-10-03.

Pattern inspection method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20110237087A1. Автор: Ryoji Yoshikawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-09-29.

Photomask making method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: TW200737319A. Автор: Takayoshi Minami. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2007-10-01.

Former, optical fiber unit manufacturing method and optical cable manufacturing method

Номер патента: CA2930504A1. Автор: Masayoshi Yamanaka,Satoru Shiobara,Tomoaki KAJI,Daiki Takeda. Владелец: Fujikura Ltd. Дата публикации: 2015-07-16.

Electrode assembly manufacturing method and secondary battery manufacturing method

Номер патента: EP3731322A1. Автор: Woo Yong Lee,Hyun Tae Kim,Shin Hwa Lee. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2020-10-28.

Former, optical fiber unit manufacturing method and optical cable manufacturing method

Номер патента: CA2930504C. Автор: Masayoshi Yamanaka,Satoru Shiobara,Tomoaki KAJI,Daiki Takeda. Владелец: Fujikura Ltd. Дата публикации: 2017-07-04.

Pattern dimension correction method and verification method using OPC, mask creation method and semiconductor device manufacturing method, and system and program for executing the correction method

Номер патента: JP4068531B2. Автор: 谷 敏 也 小,嶋 茂 樹 野. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2008-03-26.

Multilayer reflective film-equipped substrate, reflective mask blank, reflective mask manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20230314928A1. Автор: Masanori Nakagawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2023-10-05.

Mask determination method, exposure method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20120163699A1. Автор: Kazuya Fukuhara. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-06-28.

Micro pattern forming method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20040157169A1. Автор: Hiroshi Morioka. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2004-08-12.

Aligning method, exposure apparatus using this aligning method, and semiconductor device manufacturing method utilizing this exposure apparatus

Номер патента: US6649484B2. Автор: Yoshinori Ohsaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2003-11-18.

Mask determination method, exposure method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20120163699A1. Автор: Kazuya Fukuhara. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-06-28.

OPTICAL ALIGNMENT METHOD AND PATTERNED RETARDER MANUFACTURING METHOD USING POLARIZED PULSE UV

Номер патента: US20160085010A1. Автор: CHOI Kyung Ho,Shin Gyo Jic,Lee Sang Kug. Владелец: . Дата публикации: 2016-03-24.

MASK MANUFACTURING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20170115556A1. Автор: Shim Woo-seok,Liang Wenqing. Владелец: . Дата публикации: 2017-04-27.

CHEMICAL LIQUID, CHEMICAL LIQUID STORAGE BODY, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND SEMICONDUCTOR CHIP MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20210223698A1. Автор: KAMIMURA Tetsuya. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2021-07-22.

STEEL SHEET INSPECTION DEVICE, STEEL SHEET INSPECTION METHOD, AND STEEL SHEET MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20150253242A1. Автор: Yamaguchi Hiroi,Ito Tomohiko,Takajo Shigehiro,Yotsuji Junichi,Hanazawa Kazuhiro,Koga Yasunari. Владелец: . Дата публикации: 2015-09-10.

SPARK PLUG INSPECTION METHOD AND SPARK PLUG MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20200244049A1. Автор: HIDAKA Atsutoshi. Владелец: NGK SPARK PLUG CO., LTD.. Дата публикации: 2020-07-30.

Mask defect correcting method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4607705B2. Автор: 正光 伊藤. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2011-01-05.

Photomask blank, photomask manufacturing method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: KR101302630B1. Автор: 아츠시 코미나토,타케유키 야마다,미노루 사카모토,마사히로 하시모토. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2013-09-03.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern formation method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: KR102335575B1. Автор: 타카시 카와시마,미치히로 시라카와,하지메 후루타니,토모타카 츠치무라,카즈나리 야기. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2021-12-06.

Antireflection material, optical element, display device, stamper manufacturing method, and antireflection material manufacturing method using stamper

Номер патента: JPWO2006059686A1. Автор: 俊 植木,浩三 中村,登喜生 田口,和彦 津田,中村　浩三,津田　和彦. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2008-06-05.

Former, optical fiber unit manufacturing method and optical cable manufacturing method

Номер патента: EP3093697A4. Автор: Masayoshi Yamanaka,Satoru Shiobara,Tomoaki KAJI,Daiki Takeda. Владелец: Fujikura Ltd. Дата публикации: 2017-08-30.

EUV mask manufacturing method and semiconductor device manufacturing method using the mask

Номер патента: JP5350594B2. Автор: 正光 伊藤. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2013-11-27.

Photomask blank, photomask manufacturing method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: WO2006006540A1. Автор: Masahiro Hashimoto,Minoru Sakamoto,Atsushi Kominato,Takeyuki Yamada. Владелец: HOYA CORPORATION. Дата публикации: 2006-01-19.

Former, optical fiber unit manufacturing method and optical cable manufacturing method

Номер патента: EP3093697B1. Автор: Masayoshi Yamanaka,Satoru Shiobara,Tomoaki KAJI,Daiki Takeda. Владелец: Fujikura Ltd. Дата публикации: 2018-10-24.

Antireflection material, optical element, display device, stamper manufacturing method, and antireflection material manufacturing method using stamper

Номер патента: JP4368384B2. Автор: 俊 植木,浩三 中村,登喜生 田口,和彦 津田. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2009-11-18.

Pellicle manufacturing method, photomask manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP2013109126A. Автор: Masato Suzuki,哲郎 中杉,Tetsuo Nakasugi,理人 鈴木. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2013-06-06.

Defect probability calculation method, pattern creation method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4256408B2. Автор: 帥現 姜. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2009-04-22.

Mask pattern design method and semiconductor device manufacturing method using the same

Номер патента: JP4714930B2. Автор: 哲也 樋口,栄一 高橋,哲明 松縄,博和 野里,英徳 坂無. Владелец: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST. Дата публикации: 2011-07-06.

Liquid film forming method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP3655576B2. Автор: 信一 伊藤. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2005-06-02.

Mask blank substrate processing apparatus, mask blank substrate processing method, mask blank substrate manufacturing method, mask blank manufacturing method, and transfer mask manufacturing method

Номер патента: JP5980957B2. Автор: 敏彦 折原,山田　剛之,剛之 山田,貴仁 西村. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-08-31.

Reflective mask manufacturing method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4521753B2. Автор: 勉 笑喜. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2010-08-11.

Inkjet printing apparatus, dipole alignment method, and display device manufacturing method

Номер патента: US20210336142A1. Автор: Byung Chul Lee,Jin Oh KWAG,Myung Soo Huh,Heung Cheol JEONG,Do Hun LEE. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2021-10-28.

Lifting-magnet attachment magnetic pole unit, steel-lifting magnetic-pole-equipped lifting magnet, steel material conveying method, and steel plate manufacturing method

Номер патента: US11875940B2. Автор: Junichi Yotsuji,Masaki Kobayashi,Yuki TAKAKI. Владелец: JFE Steel Corp. Дата публикации: 2024-01-16.

Print control apparatus, image forming system, print control method, and printed-matter manufacturing method

Номер патента: US09977391B2. Автор: Hiroaki Suzuki,Hiroo Kitagawa. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-22.

Processing device, sheet manufacturing apparatus, processing method, and sheet manufacturing method

Номер патента: US20180305868A1. Автор: Masanao Kunugi,Satomi Yoshioka. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2018-10-25.

Toner container information acquiring method, toner container sorting method, toner container pulverizing method, toner container processing method, and toner container manufacturing method

Номер патента: EP3995901A1. Автор: Kosuke Nakamura,Shinichi Hamaguchi,Toshio Tsukamoto. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2022-05-11.

TONER CONTAINER INFORMATION ACQUIRING METHOD, TONER CONTAINER SORTING METHOD, TONER CONTAINER PULVERIZING METHOD, TONER CONTAINER PROCESSING METHOD, AND TONER CONTAINER MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20220137529A1. Автор: Hamaguchi Shinichi,NAKAMURA Kosuke,Tsukamoto Toshio. Владелец: . Дата публикации: 2022-05-05.

PRINT CONTROL APPARATUS, IMAGE FORMING SYSTEM, PRINT CONTROL METHOD, AND PRINTED-MATTER MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20160246238A1. Автор: SUZUKI Hiroaki,Kitagawa Hiroo. Владелец: . Дата публикации: 2016-08-25.

Toner, toner manufacturing method, and printing fabric manufacturing method

Номер патента: JP6250218B1. Автор: 洋幸 福田,義久 植田,智史 鍔本. Владелец: Nagase and Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-20.

Steel pipe deformability estimation method and steel pipe manufacturing method

Номер патента: RU2726168C1. Автор: Сатоси ИГИ,Хисакадзу ТАДЗИКА. Владелец: ДжФЕ СТИЛ КОРПОРЕЙШН. Дата публикации: 2020-07-09.

Steel pipe collapse strength prediction model generation method, steel pipe collapse strength prediction method, steel pipe manufacturing characteristics determination method, and steel pipe manufacturing method

Номер патента: EP4212846A1. Автор: Takahiro SAKIMOTO,Tsunehisa Handa. Владелец: JFE Steel Corp. Дата публикации: 2023-07-19.

Flaw grinding system, flaw grinding method, and steel-product manufacturing method employing the flaw grinding method

Номер патента: US20230330802A1. Автор: Koji Yamashita,Taku Watanabe,Kyohei Ishida. Владелец: JFE Steel Corp. Дата публикации: 2023-10-19.

Signal processing device, magnetic tape drive, magnetic tape, magnetic tape cartridge, program, signal processing method, and magnetic tape manufacturing method

Номер патента: EP4254411A1. Автор: Tetsuya Kaneko,Toru Nakao,Yoichi AKANO. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-10-04.

Mirror device manufacturing method and mirror unit manufacturing method

Номер патента: US20220363535A1. Автор: Daiki Suzuki,Tomoyuki Ide,Mikito TAKAHASHI. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2022-11-17.

Mirror device manufacturing method and mirror unit manufacturing method

Номер патента: EP4043942A1. Автор: Daiki Suzuki,Tomoyuki Ide,Mikito TAKAHASHI. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2022-08-17.

Steel pipe collapse strength prediction model generation method, steel pipe collapse strength prediction method, steel pipe manufacturing characteristics determination method, and steel pipe manufacturing method

Номер патента: US20230315934A1. Автор: Takahiro SAKIMOTO,Tsunehisa Handa. Владелец: JFE Steel Corp. Дата публикации: 2023-10-05.

Steel pipe collapse strength prediction model generation method, steel pipe collapse strength prediction method, steel pipe manufacturing characteristics determination method, and steel pipe manufacturing method

Номер патента: EP4160182A1. Автор: Hisakazu TAJIKA,Takahiro SAKIMOTO,Tsunehisa Handa. Владелец: JFE Steel Corp. Дата публикации: 2023-04-05.

Glass bottle inspection method and glass bottle manufacturing method

Номер патента: PH12020552062A1. Автор: Takashi Harada,Takashi Suzuki. Владелец: Toyo Glass Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-31.

IMPRINT METHOD, IMPRINT APPARATUS, AND ARTICLE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20170092524A1. Автор: Hasegawa Noriyasu,MATSUMOTO Takahiro,Nakagawa Kazuki,Murakami Yosuke. Владелец: . Дата публикации: 2017-03-30.

Pattern formation method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US11735431B2. Автор: Yusuke KASAHARA. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-08-22.

Element chip smoothing method and element chip manufacturing method

Номер патента: US20210057227A1. Автор: Akihiro Itou,Shogo Okita,Atsushi Harikai,Toshiyuki TAKASAKI. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2021-02-25.

Workpiece processing method and device chip manufacturing method

Номер патента: US20200185277A1. Автор: Yuki Ikeda,Toshiyuki Yoshikawa,Hideyuki Kawaguchi,Kenta Nakano,Senichi Ryo. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2020-06-11.

Film-forming surface reforming method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20010029109A1. Автор: Takayoshi Azumi,Kazuo Maeda,Kiyotaka Sasaki,Setsu Suzuki. Владелец: CANON SALES Co AND SEMICONDUCTOR PROCESS LABORATORY Co Ltd. Дата публикации: 2001-10-11.

Conductor pattern forming method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US09466485B2. Автор: Keita Torii. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-10-11.

Film forming method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: TW201003786A. Автор: Shintaro Aoyama,Kouji Shimomura,Genji Nakamura,Tetsuji Ueno. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2010-01-16.

Nitrogen concentration measuring method, silicon-oxynitride-film forming method, and semiconductor-device manufacturing method

Номер патента: TW200807492A. Автор: Tetsuro Takahashi,Jiro Katsuki,Shuuichi Ishizuka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-02-01.

Etching method and element chip manufacturing method

Номер патента: US11817323B2. Автор: Akihiro Itou,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-14.

Hole pattern forming method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20090093120A1. Автор: Toshiyuki Hirota. Владелец: Elpida Memory Inc. Дата публикации: 2009-04-09.

Graphene film manufacturing method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US10079209B2. Автор: Daiyu Kondo,Haruhisa Nakano. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2018-09-18.

Graphene film manufacturing method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20150249034A1. Автор: Daiyu Kondo,Haruhisa Nakano. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2015-09-03.

Atomic layer etching method and semiconductor device manufacturing method using the same

Номер патента: US20220375760A1. Автор: Jun Hee Cho,Joong Jin Park,Youn Joung CHO,Gyu-hee Park,Eun Hyea Ko,Hee Yeon Jeong,Byeong IL Yang,Ji Yu Choi. Владелец: DNF Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-24.

Crystal growth method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20190237323A1. Автор: Takehiro Nishimura,Chiaki DOUMOTO. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2019-08-01.

Plasma processing method, and element chip manufacturing method

Номер патента: US20210202207A1. Автор: Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2021-07-01.

Substrate treatment device, substrate treatment method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20200185221A1. Автор: Yuji Yamada,Yohei Yamamoto,Hisashi Okuchi,Yasuhito Yoshimizu,Fuyuma ITO,Hakuba KITAGAWA. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2020-06-11.

Substrate processing method, substrate processing apparatus using the same, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US11965244B2. Автор: Kyung Park,Dae Seong LEE,Hyeon Beom GWON. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-23.

Functional fine line pattern precursor forming method, functional fine line pattern forming method, transparent conductive film forming method, device manufacturing method and electronic device manufacturing method, functional thin line pattern, substrate with transparent conductive film, Devices and electronic equipment

Номер патента: JP6413978B2. Автор: 秀信 大屋,直人 新妻,大屋　秀信,正好 山内,小俣　猛憲,猛憲 小俣,圭一郎 鈴木. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2018-10-31.

Semiconductor base and its manufacturing method, and semiconductor crystal manufacturing method

Номер патента: KR100677683B1. Автор: 다다토모가주유키,오카가와히로아키,오우치요이치로,고토마사히로. Владелец: 미츠비시 덴센 고교 가부시키가이샤. Дата публикации: 2007-02-05.

Semiconductor base and its manufacturing method, and semiconductor crystal manufacturing method

Номер патента: US7504324B2. Автор: Hiroaki Okagawa,Kazuyuki Tadatomo,Yoichiro Ouchi,Masahiro Koto. Владелец: Mitsubishi Chemical Corp. Дата публикации: 2009-03-17.

TEMPLATE, TEMPLATE FORMING METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20160056036A1. Автор: Hatano Masayuki,KASHIWAGI Hiroyuki,Tsuji Masatoshi,Komatsu Yohko,TOKUE Hiroshi. Владелец: . Дата публикации: 2016-02-25.

ELEMENT CHIP SMOOTHING METHOD AND ELEMENT CHIP MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20210057227A1. Автор: Okita Shogo,HARIKAI Atsushi,ITOU AKIHIRO,TAKASAKI Toshiyuki. Владелец: . Дата публикации: 2021-02-25.

PATTERN FORMING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20160079076A1. Автор: Yamamoto Hiroshi,Imamura Tsubasa,OMURA Mitsuhiro. Владелец: . Дата публикации: 2016-03-17.

SUBSTRATE TREATING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20200075315A1. Автор: Yanai Naomi,Yoshimizu Yasuhito,ITO Fuyuma. Владелец: Toshiba Memory Corporation. Дата публикации: 2020-03-05.

BORON NITRIDE FILM FORMING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20170117145A1. Автор: MIYAHARA Takahiro. Владелец: . Дата публикации: 2017-04-27.

CONDUCTOR PATTERN FORMING METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20150162375A1. Автор: Torii Keita. Владелец: . Дата публикации: 2015-06-11.

Plasma processing method, and element chip manufacturing method

Номер патента: US20210202207A1. Автор: Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2021-07-01.

SUBSTRATE TREATMENT DEVICE, SUBSTRATE TREATMENT METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20200185221A1. Автор: OKUCHI Hisashi,YAMADA Yuji,Yoshimizu Yasuhito,Yamamoto Yohei,ITO Fuyuma,KITAGAWA Hakuba. Владелец: Toshiba Memory Corporation. Дата публикации: 2020-06-11.

SEMICONDUCTOR WAFER EVALUATION METHOD AND SEMICONDUCTOR WAFER MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20150214123A1. Автор: Shimizu Yuichi. Владелец: . Дата публикации: 2015-07-30.

GRAPHENE FILM MANUFACTURING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20150249034A1. Автор: Kondo Daiyu,NAKANO Haruhisa. Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2015-09-03.

Crystal growth method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20190237323A1. Автор: Takehiro Nishimura,Chiaki DOUMOTO. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2019-08-01.

PATTERN FORMATION METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20210280431A1. Автор: Kasahara Yusuke. Владелец: Kioxia Corporation. Дата публикации: 2021-09-09.

Substrate suction device, substrate bonding device, substrate bonding method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20170266943A1. Автор: Yasunori Ito,Hiroshi Utsugi. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-21.

Polishing composition, polishing composition manufacturing method and polishing product manufacturing method

Номер патента: JP5897200B2. Автор: 久典 丹所,公亮 土屋,真希 浅田,裕介 須賀. Владелец: Fujimi Inc. Дата публикации: 2016-03-30.

Semiconductor substrate etching method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP6198384B2. Автор: 上村　　哲也,正 稲葉,篤史 水谷,上村　哲也,良典 西脇,稲葉　正. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-09-20.

Polishing method and semiconductor device manufacturing method using the same

Номер патента: AU2792797A. Автор: Seiichi Kondo,Yoshio Homma,Noriyuki Sakuma. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1998-12-30.

Process liquid, substrate cleaning method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: KR101966674B1. Автор: 토모노리 타카하시,나오츠구 무로,테츠야 시미즈,아키코 요시이,사토미 타카하시. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2019-04-09.

Peripheral part processing method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4745038B2. Автор: 厚 重田,壮男 窪田,かおり 艾原,亮 本多,弘和 江澤. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2011-08-10.

Thin film deposition method and semiconductor device manufacturing method using the same

Номер патента: JP7210647B2. Автор: 秀仁 金,暎▲吉▼ 崔,昌學 辛,愍隅 朴,智賢 金,京美 金. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-23.

Cleaning solution, substrate cleaning method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP6629880B2. Автор: 智美 高橋,智威 高橋,哲也 清水,祐継 室,清水　哲也,朗子 吉井. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2020-01-15.

Nitride semiconductor laminate manufacturing method, nitride semiconductor self-supporting substrate manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP6824829B2. Автор: 藤倉　序章,序章 藤倉. Владелец: Sciocs Co Ltd. Дата публикации: 2021-02-03.

Chemical treatment apparatus, chemical treatment method, and semiconductor device manufacturing method using the same

Номер патента: JP4112343B2. Автор: 克也 小崎,勝 衣川,武夫 中本. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2008-07-02.

Mask pattern forming method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4733214B1. Автор: 英民 八重樫,義樹 五十嵐,和樹 成重,貴仁 武川. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-07-27.

Processing liquid, substrate cleaning method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: KR102027793B1. Автор: 토모노리 타카하시,나오츠구 무로,테츠야 시미즈,아키코 요시이,사토미 타카하시. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2019-10-02.

Composition for polishing, composition for polishing manufacture method and abrasive material manufacture method

Номер патента: CN104995277B. Автор: 土屋公亮,浅田真希,丹所久典,须贺裕介. Владелец: Fujimi Inc. Дата публикации: 2018-05-08.

Semiconductor device manufacturing method and electronic device manufacturing method

Номер патента: JP4407685B2. Автор: 充 佐藤,純夫 宇都宮. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2010-02-03.

Semiconductor film production method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: KR100570541B1. Автор: 순페이 야마자키. Владелец: 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼. Дата публикации: 2006-10-24.

Polishing composition, polishing composition manufacturing method and polishing product manufacturing method

Номер патента: JPWO2014126051A1. Автор: 久典 丹所,公亮 土屋,真希 浅田,裕介 須賀. Владелец: Fujimi Inc. Дата публикации: 2017-02-02.

Treatment liquid, substrate cleaning method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JPWO2017119334A1. Автор: 智美 高橋,智威 高橋,哲也 清水,祐継 室,清水　哲也,朗子 吉井. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-10-25.

Treatment liquid, substrate cleaning method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: KR102027795B1. Автор: 토모노리 타카하시,나오츠구 무로,테츠야 시미즈,아키코 요시이,사토미 타카하시. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2019-10-02.

Semiconductor substrate, electronic device, semiconductor substrate manufacturing method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: CN102439696A. Автор: 山中贞则,秦雅彦,福原升. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2012-05-02.

Catalytic CVD apparatus, film forming method, and solar cell manufacturing method

Номер патента: JP5586199B2. Автор: 英之 小形,智彦 岡山,幹英 甲斐,修司 大園. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2014-09-10.

Vapor phase growth apparatus, vapor phase growth method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4840832B2. Автор: 英和 坂上,雄介 足立. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2011-12-21.

Epitaxial growth substrate manufacturing method and semiconductor device manufacturing method using this epitaxial growth substrate

Номер патента: JP3946427B2. Автор: 譲司 西尾,正行 石川. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2007-07-18.

Polishing method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4901301B2. Автор: 学 南幅,大 福島,博之 矢野. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2012-03-21.

Hard mask manufacturing method and semiconductor device manufacturing method using the same

Номер патента: KR20220062828A. Автор: 김동학,문재정. Владелец: 주식회사 원익아이피에스. Дата публикации: 2022-05-17.

Electrostatic chuck, film forming apparatus, substrate adsorption method, film forming method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: JP7127765B2. Автор: 一史 柏倉,博 石井,秀和 元矢. Владелец: Canon Tokki Corp. Дата публикации: 2022-08-30.

Plasma processing method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP5713808B2. Автор: 寛 冨田,徳久 大岩,栄一 西村,慈 田原,扶美子 山下,大岩　徳久,寿史 大口,大村　光広,光広 大村. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-05-07.

Method and apparatus for manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: JPH10189527A. Автор: Tomokazu Kawamoto,智一 川本,慎二 ▲葛▼谷,Shinji Kuzutani. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1998-07-21.

Catalytic cvd device, film forming method and solar cell manufacturing method

Номер патента: KR101603818B1. Автор: 모토히데 가이,슈지 오소노,사토히로 오카야마,히데유키 오가타. Владелец: 산요덴키가부시키가이샤. Дата публикации: 2016-03-16.

Silicon wafer polishing method and epitaxial wafer manufacturing method

Номер патента: JP5888280B2. Автор: 英樹 佐藤,佐藤　英樹. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2016-03-16.

Polishing composition, polishing composition manufacturing method and polishing product manufacturing method

Номер патента: JP6387032B2. Автор: 久典 丹所,公亮 土屋,真希 浅田,裕介 須賀. Владелец: Fujimi Inc. Дата публикации: 2018-09-05.

Semiconductor wafer evaluation method and semiconductor wafer manufacturing method

Номер патента: US10043719B2. Автор: Yuichi Shimizu. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2018-08-07.

Mark recognition method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4256115B2. Автор: 欣一 熊谷,晃 高島,光久 渡部. Владелец: Fujitsu Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2009-04-22.

Semiconductor device manufacturing method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4355785B2. Автор: 光 小林. Владелец: 光 小林. Дата публикации: 2009-11-04.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, photomask cleaning method, and photo mask manufacturing method

Номер патента: KR102205921B1. Автор: 가쯔히로 다꾸시마. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2021-01-20.

Multilayer Substrate Cleaning Method, Substrate Bonding Method, And Bonded Wafer Manufacturing Method

Номер патента: KR101142138B1. Автор: 키요시 미타니,이사오 요코카와. Владелец: 신에쯔 한도타이 가부시키가이샤. Дата публикации: 2012-05-10.

Fixed abrasive processing apparatus, fixed abrasive processing method, and semiconductor wafer manufacturing method

Номер патента: JP5177290B2. Автор: 友裕 橋井,勇一 柿園,義明 黒澤. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2013-04-03.

Film formation device, film build method and electronic device manufacturing method

Номер патента: CN109722625A. Автор: 石井博. Владелец: Tokki Corp. Дата публикации: 2019-05-07.

P-type nitride III-V compound semiconductor manufacturing method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4618465B2. Автор: 元伸 竹谷,理 谷口. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2011-01-26.

Substrate processing apparatus, substrate manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP5677563B2. Автор: 隆史 佐々木,原　大介,大介 原,周平 西堂. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2015-02-25.

Silicon wafer cleaning method and epitaxial wafer manufacturing method using the cleaning method

Номер патента: JP5278549B2. Автор: 智憲 川崎. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2013-09-04.

Recording medium, authoring method, and optical disc manufacturing method

Номер патента: EP1912220B1. Автор: Kouichi Uchimura,So Fujii. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2011-02-23.

Thin film forming method and color filter manufacturing method

Номер патента: US8187665B2. Автор: Satoru Katagami,Hirotaka ISHIZUKA. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2012-05-29.

Thin film forming method and color filter manufacturing method

Номер патента: TW200950890A. Автор: Satoru Katagami,Hirotaka ISHIZUKA. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2009-12-16.

Neutron ray irradiation target apparatus, mutation induction method, and irradiation target manufacturing method

Номер патента: US11980148B2. Автор: Norio Kikuchi,Kohei Yamaguchi,Hiroya ISOZAKI. Владелец: Quantum Flowers & Foods Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-14.

SHAPE MEASURING DEVICE, SHAPE MEASURING METHOD, AND GLASS PLATE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20130098109A1. Автор: OHTO Kimiaki. Владелец: Asahi Glass Company, Limited. Дата публикации: 2013-04-25.

ON-VEHICLE AUTHENTICATION SYSTEM, COMMUNICATION DEVICE, ON-VEHICLE AUTHENTICATION DEVICE, COMMUNICATION DEVICE AUTHENTICATION METHOD AND COMMUNICATION DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20200153636A1. Автор: Ueda Hiroshi,TAKADA Hiroaki,KURACHI Ryo. Владелец: . Дата публикации: 2020-05-14.

Film forming apparatus, film forming method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: JP2022173248A. Автор: Yukio Matsumoto,達哉 岩崎,行生 松本,Tatsuya Iwasaki. Владелец: Canon Tokki Corp. Дата публикации: 2022-11-18.

Lens barrel, image pickup device, lens barrel inspecting method, and lens barrel manufacturing method

Номер патента: CN101384939B. Автор: 林谦一,林孝行,伊藤大介,长冈英一,阪本圭司,安达右二. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2010-06-02.

Inkjet printing method and display device manufacturing method using the inkjet printing method

Номер патента: KR102487276B1. Автор: 이동준,김종원,김민수,이현진,이승돈. Владелец: 삼성디스플레이 주식회사. Дата публикации: 2023-01-12.

Board Cutting Method and Display Panel Manufacturing Method

Номер патента: KR100302991B1. Автор: 요시노리 하라다,요시히로 이주미. Владелец: 샤프 가부시키가이샤. Дата публикации: 2002-10-09.

Laminated structure, semiconductor device, laminated structure manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP2009272437A. Автор: 幸栄 鈴木,隆徳 田野,敦 小野寺,Yukie Suzuki,Atsushi Onodera,Takanori Tano. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2009-11-19.

Optical film, polarizing plate, image display device, optical film manufacturing method and polarizing plate manufacturing method

Номер патента: JP6622385B2. Автор: 克文 大室,雅明 鈴木,達也 岩▲崎▼,大室　克文,晃治 飯島. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-12-18.

Display, its inspecting method, its manufacturing method, display panel inspecting method, and display panel manufacturing method

Номер патента: KR100941406B1. Автор: 신야 다나카. Владелец: 후지쓰 텐 가부시키가이샤. Дата публикации: 2010-02-10.

Glow plug inspecting method, glow plug manufacturing method, sheathed heater inspecting method, and sheathed heater manufacturing method

Номер патента: EP2728257A2. Автор: Chiaki Kumada,Shunsuke Gotoh. Владелец: NGK Spark Plug Co Ltd. Дата публикации: 2014-05-07.

Display panel substrate, display panel including the substrate, display panel substrate manufacturing method, and display panel manufacturing method

Номер патента: JP4667505B2. Автор: 俊英 津幡,義朗 平形,成裕 松田. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2011-04-13.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP5075819B2. Автор: 一洋 木村,和宏 湯浅,靖浩 女川. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2012-11-21.

Inkjet printing apparatus, dipole alignment method, and display device manufacturing method

Номер патента: US12004412B2. Автор: Byung Chul Lee,Jin Oh KWAG,Myung Soo Huh,Heung Cheol JEONG,Do Hun LEE. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-04.

Pattern forming method and semiconductor device manufacturing method using the same

Номер патента: US09941285B2. Автор: Jae-Houb CHUN,Jeong-Sub LIM. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2018-04-10.

Pattern forming method and semiconductor device manufacturing method using the same

Номер патента: US9780095B2. Автор: Jae-Houb CHUN,Jeong-Sub LIM. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2017-10-03.

Pattern forming method and semiconductor device manufacturing method using the same

Номер патента: US20170352667A1. Автор: Jae-Houb CHUN,Jeong-Sub LIM. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2017-12-07.

Pattern forming method and semiconductor device manufacturing method using the same

Номер патента: US20170243871A1. Автор: Jae-Houb CHUN,Jeong-Sub LIM. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2017-08-24.

FILM PROCESSING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20210296137A1. Автор: Hashimoto Junichi,OMURA Mitsuhiro,Sasaki Toshiyuki. Владелец: Kioxia Corporation. Дата публикации: 2021-09-23.

IMPRINT METHOD, IMPRINT APPARATUS, AND ARTICLE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20200189175A1. Автор: Nawata Ryo. Владелец: . Дата публикации: 2020-06-18.

Shower plate and manufacturing method thereof, and plasma processing apparatus, plasma processing method and electronic device manufacturing method using the shower plate

Номер патента: JP5463536B2. Автор: 忠弘 大見,哲也 後藤,清隆 石橋,正広 桶作. Владелец: Hokuriku Seikei Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2014-04-09.

Semiconductor device, semiconductor device control method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20240313094A1. Автор: Ayanori Gatto. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-19.

Laser processing apparatus, laser processing method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240173796A1. Автор: Yasuhiro Adachi,Yasufumi Kawasuji,Akira SUWA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-05-30.

Etching method and semiconductor element manufacturing method

Номер патента: EP4181176A1. Автор: Kazuma Matsui. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2023-05-17.

Wafer temporary bonding method and thin wafer manufacturing method

Номер патента: US09646868B2. Автор: Hiroyuki Yasuda,Michihiro Sugo,Masahito Tanabe,Shohei Tagami. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-09.

Base material, mold package, base material manufacturing method, and mold package manufacturing method

Номер патента: US20200043835A1. Автор: Wataru Kobayashi,Takumi Nomura,Kazuki KODA. Владелец: Denso Corp. Дата публикации: 2020-02-06.

Polishing liquid, polishing method, component manufacturing method, and semiconductor component manufacturing method

Номер патента: US20240282581A1. Автор: Masahiro Sakashita,Yousuke Hoshi,Yasuhiro Ichige,Shogo ARATA. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-08-22.

Polishing solution, polishing method, component manufacturing method, and semiconductor component manufacturing method

Номер патента: EP4379779A1. Автор: Masahiro Sakashita,Yousuke Hoshi,Yasuhiro Ichige,Shogo ARATA. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-06-05.

Polishing liquid, polishing method, component manufacturing method, and semiconductor component manufacturing method

Номер патента: EP4379780A1. Автор: Yasuhiro Ichige,Shogo ARATA. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-06-05.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20240087918A1. Автор: Katsuhiro Sato,Hiroshi Fujita,Tomohiko Sugita,Tatsuhiko Koide. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-03-14.

Ion implantation method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: TW200913021A. Автор: Hideki Okai. Владелец: Matsushita Electric Ind Co Ltd. Дата публикации: 2009-03-16.

Wiring layer dry etching method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: TW541579B. Автор: Kenji Kawai,Atsunori Nishiura,Ryoichi Yoshifuku. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2003-07-11.

Plasma etching method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20150187588A1. Автор: Takayuki Katsunuma,Kazuhiro Kubota,Masanobu Honda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-07-02.

Semiconductor-substrate manufacturing method and semiconductor-device manufacturing method in which germanium layer is heat-treated

Номер патента: US09647074B2. Автор: Tomonori Nishimura,Akira Toriumi,Choong-Hyun Lee. Владелец: JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY. Дата публикации: 2017-05-09.

Polishing method, substrate manufacturing method, and electronic apparatus manufacturing method

Номер патента: EP2025468A2. Автор: Mitsuo Takeuchi,Fumihiko Tokura. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2009-02-18.

Polishing composition for semiconductor processing polishing composition preparation method, and semiconductor device manufacturing method to which polishing composition is applied

Номер патента: US20240030041A1. Автор: Han Teo PARK,Jang Kuk KWON,Seung Chul Hong,Deok Su Han. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Boron nitride film forming method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20170117145A1. Автор: Takahiro Miyahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-27.

Gas supply amount calculation method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20230129351A1. Автор: Kouichi SEKIDO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-04-27.

Paste including a mixture of powders, connection plug, burying method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US7049223B2. Автор: Nobuo Hayasaka,Manabu Kimura,Keiichi Sasaki,Yoshimi Hisatsune. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2006-05-23.

Paste including a mixture of powders, connection plug, burying method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20040043596A1. Автор: Nobuo Hayasaka,Manabu Kimura,Keiichi Sasaki,Yoshimi Hisatsune. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2004-03-04.

Wafer processing method and device chip manufacturing method

Номер патента: US20240105513A1. Автор: Kazuma Sekiya. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2024-03-28.

Dry etching method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20010005632A1. Автор: Hideo Ichinose,Shoji Seta. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2001-06-28.

Etching method and semiconductor element manufacturing method

Номер патента: US20230290643A1. Автор: Kazuma Matsui. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2023-09-14.

Wiring formation method and transfer mold manufacturing method

Номер патента: US20240032205A1. Автор: Hiroshi Komatsu. Владелец: Connectec Japan Corp. Дата публикации: 2024-01-25.

Semiconductor substrate manufacturing method and semiconductor device manufacturing method, and semiconductor substrate and semiconductor device manufactured by the methods

Номер патента: CN1669148A. Автор: 小椋厚志. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2005-09-14.

Semiconductor substrate manufacturing method and semiconductor device manufacturing method, and semiconductor substrate and semiconductor device manufactured by the methods

Номер патента: WO2003096426A1. Автор: Atsushi Ogura. Владелец: NEC Corporation. Дата публикации: 2003-11-20.

Polishing liquid, polishing method, component manufacturing method, and semiconductor component manufacturing method

Номер патента: EP4339254A1. Автор: Masahiro Sakashita,Yousuke Hoshi,Yasuhiro Ichige,Shogo ARATA. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-03-20.

Semiconductor device inspection method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20190295901A1. Автор: Ikuo Motonaga. Владелец: Toshiba Electronic Devices and Storage Corp. Дата публикации: 2019-09-26.

Plasma processing device, plasma processing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20240096593A1. Автор: Toshiyuki Sasaki. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

LAMINATED BODY AND COMPOSITE BODY; ASSEMBLY RETRIEVAL METHOD; AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20170140974A1. Автор: TAKAMOTO Naohide,KIMURA Ryuichi. Владелец: NITTO DENKO CORPORATION. Дата публикации: 2017-05-18.

CMP abrasive, substrate polishing method and semiconductor device manufacturing method using the same, and additive for CMP abrasive

Номер патента: JP4729834B2. Автор: 誠人 吉田,寅之助 芦沢,直之 小山,浩二 芳賀,圭三 平井,洋一 町井. Владелец: Showa Denko Materials Co Ltd. Дата публикации: 2011-07-20.

CMP polishing liquid, and polishing method and semiconductor substrate manufacturing method using the same

Номер патента: JPWO2011058816A1. Автор: 深沢　正人,利明 阿久津,正人 深沢,茂 吉川,吉川　茂. Владелец: Showa Denko Materials Co Ltd. Дата публикации: 2013-03-28.

Etching material and etching method and electronic device manufacturing method

Номер патента: KR100305415B1. Автор: 사토시 무라카미,다케시 니시,도시미쯔 고누마,아키라 수가와라,유키코 우에하라,미사코 나카자와. Владелец: 야마자끼 순페이. Дата публикации: 2001-11-22.

Substrate processing apparatus and method, and semiconductor device manufacturing method using the processing method

Номер патента: KR20210037318A. Автор: 박민섭,강성길,안상진,이영광,정찬영. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2021-04-06.

Porous region removing method and semiconductor substrate manufacturing method

Номер патента: US6127281A. Автор: Kiyofumi Sakaguchi,Kazutaka Yanagita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2000-10-03.

Plasma processing apparatus and method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: JP6473889B2. Автор: 智洋 奥村,智志 末益,奥村　智洋. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2019-02-27.

Field effect transistor and bipolar transistor structure manufacturing method, integrated circuit manufacturing method, semiconductor device manufacturing method, and semiconductor structure manufacturing method

Номер патента: JPH073813B2. Автор: ポール・シー・エフ・トング. Владелец: サムスング・セミコンダクター・インコーポレイテッド. Дата публикации: 1995-01-18.

Electrostatic reticle chucks, charged-particle-beam microlithography apparatus and methods, and semiconductor-device manufacturing methods comprising same

Номер патента: US6433346B1. Автор: Noriyuki Hirayanagi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-08-13.

Plasma etching apparatus, plasma etching method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20120064726A1. Автор: Toshihisa Nozawa,Masaru Sasaki,Jun Hashimoto,Tetsuya Nishizuka,Shota Yoshimura,Toshihisa Ozu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-03-15.

Power Semiconductor Unit, Power Module, Power Semiconductor Unit Manufacturing Method, and Power Module Manufacturing Method

Номер патента: US20130119525A1. Автор: Nakatsu Kinya,Hozoji Hiroshi,SUWA Tokihito,Tokuyama Takeshi,Tsuyuno Nobutake,ISHII Toshiaki,KUSUKAWA Junpei. Владелец: Hitachi Automotive Systems, Ltd.. Дата публикации: 2013-05-16.

DICING/DIE BONDING INTEGRAL FILM, DICING/DIE BONDING INTEGRAL FILM MANUFACTURING METHOD, AND SEMICONDUCTOR CHIP MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20130143390A1. Автор: MATSUZAKI Takayuki,FURUTANI Ryoji,Katou Rie,Katou Shinya,Sakuta Tatsuya,Komorida Kouji. Владелец: HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD.. Дата публикации: 2013-06-06.

SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20130217184A1. Автор: Sasaki Shinya,ishizuki yoshikatsu,TANI Motoaki. Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2013-08-22.

WAFER, WAFER MANUFACTURING METHOD, AND DEVICE CHIP MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20220032404A1. Автор: SEKIYA Kazuma. Владелец: . Дата публикации: 2022-02-03.

BASE MATERIAL, MOLD PACKAGE, BASE MATERIAL MANUFACTURING METHOD, AND MOLD PACKAGE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20200043835A1. Автор: Kobayashi Wataru,KODA Kazuki,NOMURA TAKUMI. Владелец: . Дата публикации: 2020-02-06.

Cu WIRING FORMING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20180047624A1. Автор: Matsumoto Kenji,Nagai Hiroyuki,CHANG Peng. Владелец: . Дата публикации: 2018-02-15.

TEMPLATE, TEMPLATE MANUFACTURING METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20220080627A1. Автор: TAKAHATA Kazuhiro,KOMUKAI Toshiaki,KANAI Hideki. Владелец: Kioxia Corporation. Дата публикации: 2022-03-17.

PLASMA ETCHING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20140234992A1. Автор: Katsunuma Takayuki,HONDA Masanobu,Kubota Kazuhiro. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2014-08-21.

FLIP CHIP PACKAGING METHOD, AND FLUX HEAD MANUFACTURING METHOD APPLIED TO THE SAME

Номер патента: US20140242753A1. Автор: Kim Dae Jung,LEE Suk Won,Uh Ji Ho,YEO Kyeong Min,RYU Seung Min. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2014-08-28.

PLASMA PROCESSING APPARATUS, PLASMA PROCESSING METHOD, AND ELEMENT CHIP MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20210202289A1. Автор: Okita Shogo,HARIKAI Atsushi. Владелец: . Дата публикации: 2021-07-01.

PLASMA ETCHING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20150187588A1. Автор: Katsunuma Takayuki,HONDA Masanobu,Kubota Kazuhiro. Владелец: . Дата публикации: 2015-07-02.

DOPING METHOD AND SEMICONDUCTOR ELEMENT MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20160189963A1. Автор: Ueda Hirokazu,Oka Masahiro,KOBAYASHI Yuuki,SUGIMOTO Yasuhiro. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2016-06-30.

WAFER TEMPORARY BONDING METHOD AND THIN WAFER MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20160189998A1. Автор: YASUDA Hiroyuki,SUGO Michihiro,TAGAMI Shohei,TANABE Masahito. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2016-06-30.

WORKPIECE PROCESSING METHOD AND DEVICE CHIP MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20200185277A1. Автор: Ikeda Yuki,YOSHIKAWA Toshiyuki,Kawaguchi Hideyuki,Ryo Senichi,Nakano Kenta. Владелец: . Дата публикации: 2020-06-11.

SEMICONDUCTOR-SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD AND SEMICONDUCTOR-DEVICE MANUFACTURING METHOD IN WHICH GERMANIUM LAYER IS HEAT-TREATED

Номер патента: US20160276445A1. Автор: LEE Choong-Hyun,Toriumi Akira,NISHIMURA Tomonori. Владелец: JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY. Дата публикации: 2016-09-22.

IMPURITY ADDING APPARATUS, IMPURITY ADDING METHOD, AND SEMICONDUCTOR ELEMENT MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20160284547A1. Автор: OGINO Masaaki,NAKAZAWA Haruo,IGUCHI Kenichi. Владелец: FUJI ELECTRIC CO., LTD.. Дата публикации: 2016-09-29.

PACKAGED WAFER MANUFACTURING METHOD AND DEVICE CHIP MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20170294364A1. Автор: Lu Xin,Koshimizu Hideki,Araya Yurika. Владелец: . Дата публикации: 2017-10-12.

SEMICONDUCTOR DEVICE INSPECTION METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20190295901A1. Автор: Motonaga Ikuo. Владелец: . Дата публикации: 2019-09-26.

CMP slurry, polishing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP3892846B2. Автор: 学 南幅,大 福島,進 山本,博之 矢野. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2007-03-14.

Chemical mechanical polishing method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4372173B2. Автор: 学 南幅,博之 矢野,之輝 松井,岳 西岡. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2009-11-25.

CMP slurry, polishing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4012180B2. Автор: 学 南幅,博之 矢野,之輝 松井. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2007-11-21.

Chemical mechanical polishing aqueous dispersion, kit for preparing the aqueous dispersion, chemical mechanical polishing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JPWO2008117573A1. Автор: 裕貴 仕田,彰浩 竹村,池田　正俊,正俊 池田. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-07-15.

Polishing method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP3748410B2. Автор: 学 南幅,延行 倉嶋,博之 矢野. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2006-02-22.

Polishing method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP3660511B2. Автор: 学 南幅,賢朗 中村,壮男 窪田. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2005-06-15.

Semiconductor process polishing composition, polishing composition preparation method, and semiconductor device manufacturing method in which polishing composition is applied

Номер патента: WO2022045866A1. Автор: 한덕수,권장국,박한터,홍승철. Владелец: 에스케이씨솔믹스 주식회사. Дата публикации: 2022-03-03.

Polishing composition for semiconductor processing, polishing composition preparation method, and semiconductor device manufacturing method to which polishing composition is applied

Номер патента: WO2022145653A1. Автор: 한덕수,권장국,박한터,홍승철. Владелец: 에스케이씨솔믹스 주식회사. Дата публикации: 2022-07-07.

ATOMIC LAYER ETCHING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20220375760A1. Автор: CHO YOUN JOUNG,PARK Gyu-hee,PARK Joong Jin,JEONG Hee Yeon,YANG Byeong il,CHO Jun Hee,KO EUN HYEA,CHOI JI YU. Владелец: DNF CO., LTD.. Дата публикации: 2022-11-24.

Separation method and semiconductor substrate manufacturing method

Номер патента: JP4323577B2. Автор: 清文 坂口,隆夫 米原,和明 近江,一隆 柳田. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-09-02.

Substrate, semiconductor device, substrate manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4558413B2. Автор: 茂次 村松,正宏 経塚,幹幸 小松. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2010-10-06.

Abrasive, its production method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: KR100372980B1. Автор: 겐조 하나와,나오요시 모치즈키,나루오 우에다,가즈히코 가토. Владелец: 미츠이 긴조쿠 고교 가부시키가이샤. Дата публикации: 2003-05-09.

Cleaning method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP3876167B2. Автор: 克典 鈴木. Владелец: Kawasaki Microelectronics Inc. Дата публикации: 2007-01-31.

Dicing adhesive sheet, dicing method and semiconductor element manufacturing method

Номер патента: JP4554908B2. Автор: 健二郎 高柳,昌司 山本. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2010-09-29.

LAMINATED STRUCTURE FORMATION METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD USING THE METHOD

Номер патента: JP4575205B2. Автор: 良実 江川. Владелец: Oki Semiconductor Co Ltd. Дата публикации: 2010-11-04.

Substrate polishing method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4301305B2. Автор: 雄一 山本,寛子 中村,貴晶 上月,貴幸 榎本. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2009-07-22.

Dry etching method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP6697372B2. Автор: 明生 宇井,陽介 佐藤,香織 成宮,久貴 林,圭介 菊谷. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2020-05-20.

Semiconductor device manufacturing method and electronic device manufacturing method

Номер патента: JP5903920B2. Автор: 義克 石月,元昭 谷,佐々木　伸也,伸也 佐々木,谷　元昭,石月　義克. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2016-04-13.

Wiring board, semiconductor package, semiconductor device, wiring board manufacturing method, and semiconductor package manufacturing method

Номер патента: JP6584939B2. Автор: 清水　規良,規良 清水,渉 金田. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2019-10-02.

Dicing/die bonding integral film, dicing/die bonding integral film manufacturing method, and semiconductor chip manufacturing method

Номер патента: KR101521727B1. Автор: 료지 후루타니,리에 가토우,다카유키 마츠자키,신야 가토우,다츠야 사쿠타,고우지 고모리다. Владелец: 히타치가세이가부시끼가이샤. Дата публикации: 2015-05-19.

Cutting Method and Epitaxial Wafer Manufacturing Method

Номер патента: KR101356190B1. Автор: 히로시 오이시,다이스케 나카마타. Владелец: 신에쯔 한도타이 가부시키가이샤. Дата публикации: 2014-01-24.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4581031B2. Автор: 建久 松永,秀宏 柳川,考宜 中島. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2010-11-17.

Thin film forming method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JPWO2007020874A1. Автор: 優幸 浅井,佐々木　伸也,伸也 佐々木,浅井　優幸,経田　昌幸,昌幸 経田. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2009-02-26.

Temperature control method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: KR100521706B1. Автор: 나까노미노루,우에노마사아끼. Владелец: 가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키. Дата публикации: 2005-10-14.

Temperature control method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20030040198A1. Автор: Masaaki Ueno,Minoru Nakano. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2003-02-27.

Semiconductor substrate manufacturing method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4867216B2. Автор: 照夫 瀧澤,啓 金本. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2012-02-01.

Electronic substrate manufacturing method, semiconductor device manufacturing method, and electronic equipment manufacturing method

Номер патента: KR100788445B1. Автор: 하루키 이토. Владелец: 세이코 엡슨 가부시키가이샤. Дата публикации: 2007-12-24.

Cutting method and epitaxial wafer manufacturing method

Номер патента: CN101517710B. Автор: 大石弘,仲俣大辅. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2012-10-03.

Porous region removing method and semiconductor substrate manufacturing method

Номер патента: AU737593B2. Автор: Kiyofumi Sakaguchi,Kazutaka Yanagita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2001-08-23.

Package wafer manufacturing method and device chip manufacturing method

Номер патента: JP6636377B2. Автор: ▲听▼ 陸,秀輝 小清水,侑里香 荒谷. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2020-01-29.

Polysilicon etching method and semiconductor memory manufacturing method

Номер патента: KR100555366B1. Автор: 스즈키다미토. Владелец: 야마하 가부시키가이샤. Дата публикации: 2006-02-24.

Polishing composition, polishing method and semiconductor substrate manufacturing method

Номер патента: JP2022154454A. Автор: 幸信 吉▲崎▼,Yukinobu Yoshizaki,Maki Tada,真樹 多田,僚太 前,Ryota Mae,貴仁 長野,Takahito Nagano,裕文 井川,Hirofumi Ikawa. Владелец: Fujimi Inc. Дата публикации: 2022-10-13.

Dicing / die bonding integrated film, dicing / die bonding integrated film manufacturing method, and semiconductor chip manufacturing method

Номер патента: JPWO2012008491A1. Автор: 竜弥 作田,慎也 加藤,涼士 古谷,加藤　慎也,隆行 松崎,理絵 加藤,松崎　隆行,康二 小森田. Владелец: Resonac Corporation. Дата публикации: 2013-09-09.

Cutting method and epitaxial wafer manufacturing method

Номер патента: WO2008035530A1. Автор: Hiroshi Oishi,Daisuke Nakamata. Владелец: SHIN-ETSU HANDOTAI CO., LTD.. Дата публикации: 2008-03-27.

Electropolishing method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP3843871B2. Автор: 毅 野上,尚紀 駒井. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2006-11-08.

Polishing apparatus, substrate manufacturing method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: JP2009039828A. Автор: Mitsuo Takeuchi,Fumihiko Tokura,光生 竹内,史彦 十倉. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2009-02-26.

Laminate peeling apparatus, peeling method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: JPWO2017065155A1. Автор: 康章 渡邉,泰則 伊藤,浩二 中村,洋 宇津木,翼 近藤,雄貴 堀. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2018-08-02.

Etching solution composition, multilayer film etching method, and display device manufacturing method

Номер патента: JP6420903B2. Автор: ジュン−イグ チョン,チ−スン イン,ミ−ソオン リー,ヒョン−オク シン,ジョン−ウ ペ. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2018-11-07.

Element isolation film forming method and semiconductor device manufacturing method using the same

Номер патента: JP4637442B2. Автор: 成 煥 金. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2011-02-23.

Interposer, semiconductor device, interposer manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: TWI670803B. Автор: 今吉孝二,木內脩治. Владелец: 日商凸版印刷股份有限公司. Дата публикации: 2019-09-01.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: WO2009150968A1. Автор: 真 武藤,秀幸 新田,卓 細野,壮史 湊,慶久 嘉瀬. Владелец: 芝浦メカトロニクス株式会社. Дата публикации: 2009-12-17.

IMPRINT METHOD, IMPRINT APPARATUS, AND ARTICLE MANUFACTURING METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20150325526A1. Автор: HAYASHI Nozomu. Владелец: . Дата публикации: 2015-11-12.

Electronic substrate and its manufacturing method, electro-optical device manufacturing method, and electronic apparatus manufacturing method

Номер патента: TW200707901A. Автор: Nobuaki Hashimoto. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2007-02-16.

Semiconductor device, semiconductor device design method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20230386983A1. Автор: Kenji Fujii,Hiroaki Matsubara,Taro Nishioka,Tomohira Kikuchi,Yoshizo OSUMI. Владелец: ROHM CO LTD. Дата публикации: 2023-11-30.

Spray coating, sraying powder, spraying powder manufacturing method and spray coating manufacturing method

Номер патента: US20240102142A1. Автор: Ichiro Uehara,Noriaki Hamaya. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-28.

Silica particles and their manufacturing method, silica sol, polishing composition, polishing method, semiconductor wafer manufacturing method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP6756423B1. Автор: 直子 住谷,智裕 京谷,栄治 出島,住谷　直子,友寛 加藤,毅 沢井. Владелец: Mitsubishi Chemical Corp. Дата публикации: 2020-09-16.

Silica particles and their manufacturing method, silica sol, polishing composition, polishing method, semiconductor wafer manufacturing method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP6756422B1. Автор: 直子 住谷,智裕 京谷,栄治 出島,住谷　直子,友寛 加藤,毅 沢井. Владелец: Mitsubishi Chemical Corp. Дата публикации: 2020-09-16.

TFT substrate and its manufacturing method, and OLED panel manufacturing method

Номер патента: KR102284344B1. Автор: 자오송 리우,위엔쥔 쉬. Владелец: 선전 차이나 스타 옵토일렉트로닉스 세미컨덕터 디스플레이 테크놀로지 컴퍼니 리미티드. Дата публикации: 2021-08-04.

Metal powder sintered paste and its manufacturing method, and conductive material manufacturing method

Номер патента: JP6888401B2. Автор: 雅史 蔵本,蔵本　雅史,哲平 国宗. Владелец: Nichia Corp. Дата публикации: 2021-06-16.

Soldering Method and Semiconductor Module Manufacturing Method

Номер патента: US20090134204A1. Автор: Masahiko Kimbara. Владелец: Toyota Industries Corp. Дата публикации: 2009-05-28.

Indium Phosphide Substrate Manufacturing Method and Epitaxial Wafer Manufacturing Method

Номер патента: US20130109156A1. Автор: Okita Kyoko. Владелец: Sumitomo Electric Industries, Ltd.. Дата публикации: 2013-05-02.

PATTERN FORMING METHODS AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20140038318A1. Автор: SATO Hironobu. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2014-02-06.

Thermoelectric cell, thermoelectric cell manufacturing method, and thermoelectric body manufacturing method

Номер патента: US20220077373A1. Автор: Sachiko Matsushita,Biao MEI. Владелец: Sanoh Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-10.

VAPOR DEPOSITION MASK SUBSTRATE, VAPOR DEPOSITION MASK SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD, VAPOR DEPOSITION MASK MANUFACTURING METHOD, AND DISPLAY DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20190078194A1. Автор: SHINNO Mikio,NISHITSUJI Kiyoaki,TERADA Reiji. Владелец: . Дата публикации: 2019-03-14.

SEMICONDUCTOR TEST APPARATUS, SEMICONDUCTOR DEVICE TEST METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20210098314A1. Автор: ITO Yoshinori,Ebiike Yuji,TAKAYAMA Koichi,NOGUCHI Takaya,IKUTA Yoshikazu. Владелец: Mitsubishi Electric Corporation. Дата публикации: 2021-04-01.

SEMICONDUCTOR ELEMENT, SEMICONDUCTOR DEVICE, SEMICONDUCTOR ELEMENT MANUFACTURING METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20220149093A1. Автор: Kudoh Yoshiharu,Kataoka Toyotaka,KIMIZUKA Naohiko. Владелец: SONY SEMICONDUCTOR SOLUTIONS CORPORATION. Дата публикации: 2022-05-12.

VAPOR DEPOSITION MASK SUBSTRATE, VAPOR DEPOSITION MASK SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD, VAPOR DEPOSITION MASK MANUFACTURING METHOD, AND DISPLAY DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20190112699A1. Автор: SHINNO Mikio. Владелец: . Дата публикации: 2019-04-18.

JOINING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20140217156A1. Автор: Shinkai Masayoshi,MUTO Aya. Владелец: Mitsubishi Electric Corporation. Дата публикации: 2014-08-07.

PATTERN FORMING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20170243871A1. Автор: CHUN Jae-Houb,LIM Jeong-Sub. Владелец: . Дата публикации: 2017-08-24.

DEPOSITION MASK, DEPOSITION DEVICE, DEPOSITION METHOD, AND DEPOSITION MASK MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20170244035A1. Автор: Kobayashi Yuhki,Kawato Shinichi,Niboshi Manabu,TAKIZAWA Kazuo. Владелец: SHARP KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2017-08-24.

INKJET PRINTING APPARATUS, DIPOLE ALIGNMENT METHOD, AND DISPLAY DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20210336142A1. Автор: Lee Byung Chul,KWAG Jin Oh,JEONG Heung Cheol,LEE Do Hun,HUH Myung Soo. Владелец: Samsung Display Co., Ltd.. Дата публикации: 2021-10-28.

PATTERN FORMING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20170352667A1. Автор: CHUN Jae-Houb,LIM Jeong-Sub. Владелец: . Дата публикации: 2017-12-07.

VAPOR DEPOSITION METHOD, AND EL DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20190355906A1. Автор: FUJIWARA Seiji,NAKAJIMA Shinsaku. Владелец: . Дата публикации: 2019-11-21.

Mounting board manufacturing method and electronic device manufacturing method

Номер патента: JP5874683B2. Автор: 大鳥居　英,英 大鳥居,研 足立,水野　剛,剛 水野. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2016-03-02.

N-type nanometer black silicon manufacturing method and solar cell manufacturing method

Номер патента: CN104409564A. Автор: 杨德仁,汪雷,唐勋,戴准,庄重源,王明昂,张军娜. Владелец: Zhejiang University ZJU. Дата публикации: 2015-03-11.

Semiconductor device manufacturing method and package member manufacturing method

Номер патента: JP7206483B2. Автор: 聖人 田邉. Владелец: Nichia Corp. Дата публикации: 2023-01-18.

Circuit board, semiconductor device, circuit board manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4832369B2. Автор: 信幸 林,佳彦 今中. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2011-12-07.

Film forming apparatus, film forming method, and display device manufacturing method

Номер патента: JP3833066B2. Автор: 舜平 山崎,健司 福永. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2006-10-11.

Ferroelectric memory, ferroelectric memory manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4525889B2. Автор: 栄治 名取,立雄 沢崎,泰彰 ▲濱▼田,智一 古林. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2010-08-18.

Multilayer substrate manufacturing method and circuit device manufacturing method using the same

Номер патента: JP4245365B2. Автор: 良輔 臼井,岳史 中村,優助 五十嵐,則明 坂本,宣久 高草木. Владелец: Sanyo Electric Co Ltd. Дата публикации: 2009-03-25.

Semiconductor wafer bonding method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP5277564B2. Автор: 悟 桂山,研三 前島,光生 杉野. Владелец: Sumitomo Bakelite Co Ltd. Дата публикации: 2013-08-28.

Semiconductor device, data reading method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4950037B2. Автор: 靖 笠. Владелец: スパンション エルエルシー. Дата публикации: 2012-06-13.

Heat treatment evaluation wafer, heat treatment evaluation method, and semiconductor wafer manufacturing method

Номер патента: JP5087855B2. Автор: モハマッド．ビー．シャバニー,崇史 山下. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2012-12-05.

Cu film polishing method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4799122B2. Автор: 学 南幅,大 福島,進 山本,博之 矢野. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2011-10-26.

Bonding method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP5800778B2. Автор: 亜弥 武藤,雅芳 新飼. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2015-10-28.

Substrate surface modification method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP5100032B2. Автор: 康雄 田中. Владелец: Lapis Semiconductor Co Ltd. Дата публикации: 2012-12-19.

Semiconductor device manufacturing method and electronic device manufacturing method

Номер патента: JP3912318B2. Автор: 雅邦 塩澤. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2007-05-09.

Bump forming apparatus, bump forming method, and semiconductor element manufacturing method

Номер патента: JP3415283B2. Автор: 彰 牛島,睦 末松. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2003-06-09.

Wiring connection method and display device manufacturing method

Номер патента: JP4737502B2. Автор: 正人 土居,秋彦 渡辺. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2011-08-03.

Bump forming method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP3968554B2. Автор: 文明 松島,勉 太田,和徳 桜井,明 間ヶ部. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2007-08-29.

Bump forming method and flip chip manufacturing method

Номер патента: JP3940891B2. Автор: 剛 依田,健 湯沢,武志 岩垂. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2007-07-04.

Wiring formation method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP6297789B2. Автор: 貴洋 佐藤,直哉 坂本,佐藤　貴洋,隆之 長,俊介 越岡,哲也 大嶋. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-20.

Circuit board manufacturing method and lead frame manufacturing method

Номер патента: JP4295395B2. Автор: 洋一 松岡. Владелец: Fuji Machinery Manufacturing and Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2009-07-15.

INKJET COATING MATERIAL, INKJET PATTERN FORMING METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: JP6385449B2. Автор: 賢一 梅田,文彦 望月,梅田　賢一. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-09-05.

Soldering method and semiconductor module manufacturing method

Номер патента: CN101351874A. Автор: 金原雅彦. Владелец: Toyoda Automatic Loom Works Ltd. Дата публикации: 2009-01-21.

Backlight framework manufacturing method and display device manufacturing method

Номер патента: CN112908976A. Автор: 李鹏飞,陈细俊,季洪雷,许怀书. Владелец: Huizhou Shiwei New Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-04.

Wiring circuit board, semiconductor device, wiring circuit board manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: WO2016075863A1. Автор: 孝二 今吉. Владелец: 凸版印刷株式会社. Дата публикации: 2016-05-19.

LED module manufacturing method and lighting apparatus manufacturing method

Номер патента: JP5185683B2. Автор: 昌男 桐原,加奈子 星野. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2013-04-17.

Semiconductor wafer dicing method and semiconductor device manufacturing method using the same

Номер патента: JP5660178B2. Автор: 哲也 榎本,朗 永井,恵一 畠山,畠山　恵一,一尊 本田,榎本　哲也,永井　朗. Владелец: Showa Denko Materials Co Ltd. Дата публикации: 2015-01-28.

Laser apparatus, optical path adjusting method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240364070A1. Автор: Toru Suzuki,Atsushi Fuchimukai. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-10-31.

Gas laser apparatus, gas laser apparatus maintenance method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240154381A1. Автор: Junichi Fujimoto,Akira SUWA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-05-09.

Plasma treatment apparatus, plasma treatment method, and original plate manufacturing method

Номер патента: US20230290619A1. Автор: Hideaki Sakurai,Noriko Sakurai,Takeharu Motokawa. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-09-14.

Plasma process simulation method and semiconductor device manufacturing method including the same

Номер патента: US20240274416A1. Автор: Seungmin Lee,Inkook Jang,Suntaek LIM,Dongig OH,Jaesik An,Joohyun JEON,Thanh Cuong Nguyen. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-15.

Fuel cell cathode manufacturing method and fuel cell manufacturing method

Номер патента: US20070167313A1. Автор: Atsushi Sano,Satoshi Maruyama. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2007-07-19.

Battery cell activation method and battery cell manufacturing method comprising same

Номер патента: EP4064400A4. Автор: Gyu Ok HWANG. Владелец: LG Energy Solution Ltd. Дата публикации: 2023-11-29.

Antenna manufacturing method and communication equipment manufacturing method

Номер патента: EP1786062A4. Автор: M Ito,Y Sasaki,H Shimizu,K Hiraide. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2007-08-01.

Fuel cell cathode manufacturing method and fuel cell manufacturing method

Номер патента: TW200618384A. Автор: Atsushi Sano,Satoshi Maruyama. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2006-06-01.

Thermoelectric cell, thermoelectric cell manufacturing method, and thermoelectric body manufacturing method

Номер патента: US20230329114A1. Автор: Sachiko Matsushita,Biao MEI. Владелец: Sanoh Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Thermoelectric cell, thermoelectric cell manufacturing method, and thermoelectric body manufacturing method

Номер патента: US11737363B2. Автор: Sachiko Matsushita,Biao MEI. Владелец: Sanoh Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-22.

Secondary battery electrode manufacturing method and secondary battery manufacturing method

Номер патента: US20200058930A1. Автор: Noboru Yoshida,Makihiro Otohata. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2020-02-20.

Fine-particles synthesis method and electronic-component manufacturing method

Номер патента: EP2168919A1. Автор: Isao Nakahata,Tomoya Imura,Kiyoyuki Masuzawa,Jintao Huang. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2010-03-31.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20240087853A1. Автор: Kazuhiko Nakamura. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-03-14.

Electrode forming coating liquid, electrode and electrochemical element, and electrode forming coating liquid manufacturing method, electrode manufacturing method and electrochemical element manufacturing method

Номер патента: JP4184057B2. Автор: 雅人 栗原,鈴木　　忠,篤史 佐野,哲 丸山. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2008-11-19.

Paste manufacturing method and flexible electrode manufacturing method using the same

Номер патента: US11787966B2. Автор: Phillip Lee,Seungjun Chung,Heesuk KIM,Hyunjoo CHO,Byeongmoon LEE,JeongGon SON,Jaikyeong KIM,Youngpyo Ko. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2023-10-17.

Paste manufacturing method and flexible electrode manufacturing method using the same

Номер патента: US20230010066A1. Автор: Phillip Lee,Seungjun Chung,Heesuk KIM,Hyunjoo CHO,Byeongmoon LEE,JeongGon SON,Jaikyeong KIM,Youngpyo Ko. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2023-01-12.

Barrier film, secondary cell and their manufacture method and membrane composition manufacture method

Номер патента: CN106960930A. Автор: 金容庆,徐东完,李璟姝. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-18.

Layering tool, layering method, and battery structure manufacturing method

Номер патента: EP3748721A1. Автор: Hidenori Ando,Makoto Kikuta. Владелец: Micronics Japan Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-09.

ELECTROMAGNETIC CONTACTOR, ELECTROMAGNETIC CONTACTOR GAS ENCAPSULATING METHOD, AND ELECTROMAGNETIC CONTACTOR MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20130234813A1. Автор: Takaya Kouetsu,Yamamoto Yuichi,Okamoto Kouichi,IMAMURA Seiji,OGAWA Taku. Владелец: . Дата публикации: 2013-09-12.

SECONDARY BATTERY ELECTRODE MANUFACTURING METHOD AND SECONDARY BATTERY MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20200058930A1. Автор: YOSHIDA Noboru,OTOHATA Makihiro. Владелец: NEC Corporation. Дата публикации: 2020-02-20.

ELECTRODE PATTERN FORMING METHOD AND ELECTRIC COMPONENT MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20170207026A1. Автор: GOTO Seiji,IWAKOSHI Kunio. Владелец: MURATA MANUFACTURING CO., LTD.. Дата публикации: 2017-07-20.

Electrode Foil, Winding Capacitor, Electrode Foil Manufacturing Method, and Winding Capacitor Manufacturing Method

Номер патента: US20180315552A1. Автор: TANAKA Atsushi,Ono Shoji,NAGAHARA Kazuhiro,NARITA Yoshiyuki. Владелец: . Дата публикации: 2018-11-01.

LIFTING-MAGNET ATTACHMENT MAGNETIC POLE UNIT, STEEL-LIFTING MAGNETIC-POLE-EQUIPPED LIFTING MAGNET, STEEL MATERIAL CONVEYING METHOD, AND STEEL PLATE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20200385240A1. Автор: Kobayashi Masaki,Yotsuji Junichi,TAKAKI Yuki. Владелец: JFE STEEL CORPORATION. Дата публикации: 2020-12-10.

ELECTRODE FOIL, WINDING CAPACITOR, ELECTRODE FOIL MANUFACTURING METHOD, AND WINDING CAPACITOR MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20200388443A1. Автор: TANAKA Atsushi,Ono Shoji,NAGAHARA Kazuhiro,NARITA Yoshiyuki. Владелец: . Дата публикации: 2020-12-10.

PREFORMED CHIP MANUFACTURING APPARATUS, PREFORMED CHIP, DUST CORE MANUFACTURING APPARATUS, DUST CORE, PREFORMED CHIP MANUFACTURING METHOD, AND DUST CORE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20220367112A1. Автор: Hirai Yoshiki. Владелец: . Дата публикации: 2022-11-17.

Electrode assembly manufacturing method and rechargeable battery manufacturing method

Номер патента: KR102446279B1. Автор: 이병규,정태진,구자훈,표정관,김원년,구상현. Владелец: 주식회사 엘지에너지솔루션. Дата публикации: 2022-09-22.

Protective film compound manufacturing method and transparent electrode manufacturing method with improved visibility

Номер патента: KR102027954B1. Автор: 김창수,송명관,민정호,정용찬. Владелец: 한국기계연구원. Дата публикации: 2019-10-04.

Plating treatment method and conductive film manufacturing method

Номер патента: JP4905803B2. Автор: 佳弘 藤田. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2012-03-28.

Vacuum film forming apparatus, vacuum film forming method, and battery electrode manufacturing method

Номер патента: JP4336869B2. Автор: 満博 森,裕 坂内,博規 山本,麻里子 宮地,伊紀子 山崎,功二 宇津木,環 三浦. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2009-09-30.

Green sheet paint, green sheet, green sheet manufacturing method and electronic component manufacturing method

Номер патента: JPWO2004087613A1. Автор: 佐藤　　茂樹,暁太朗 阿部,佐藤　茂樹,央始 小林. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2006-06-29.

Atmospheric pressure remote plasma CD device, film formation method, and plastic bottle manufacturing method

Номер патента: KR20220157958A. Автор: 데츠야 스즈키,마사노리 니시야마,야스히코 아카누마,아키라 시라쿠라,다쿠미 다나카,고토노 미카모토. Владелец: 산토리 홀딩스 가부시키가이샤. Дата публикации: 2022-11-29.

Crimping terminal, connection structure, connector, wire harness, crimping terminal manufacturing method, and connection structure manufacturing method

Номер патента: KR101488464B1. Автор: 유키히로 카와무라,타카시 토노이케,사부로 야기. Владелец: 후루카와 에이에스 가부시키가이샤. Дата публикации: 2015-01-30.

Non-oriented electrical steel sheet, non-oriented electrical steel sheet manufacturing method, and motor core manufacturing method

Номер патента: JPWO2018025941A1. Автор: 卓也 松本,裕義 屋鋪,竹田　和年,和年 竹田,松本　卓也,克 高橋,高橋　克,屋鋪　裕義,義顕 名取. Владелец: Nippon Steel and Sumitomo Metal Corp. Дата публикации: 2019-04-11.

Laser device, laser irradiation method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4531323B2. Автор: 将樹 古山,秀和 宮入,明久 下村,幸一郎 田中,圭恵 高野. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2010-08-25.

Temperature monitoring device, temperature monitoring method, and composite material manufacturing method

Номер патента: US20210123680A1. Автор: Jun Eto,Masami Kamiya,Akihisa Okuda,Kazuki NOMA. Владелец: Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2021-04-29.

Master plate, master plate manufacturing method, and transfer body manufacturing method

Номер патента: EP3858572A1. Автор: Shunichi Kajiya. Владелец: Dexerials Corp. Дата публикации: 2021-08-04.

Crane, transportation method, and plate member manufacturing method

Номер патента: EP4446272A1. Автор: Atsushi Kurimoto,Yuki TAKAKI,Yusaku Takemura,Kento Uematsu,Ayaka USUI. Владелец: JFE Steel Corp. Дата публикации: 2024-10-16.

Signal processing device, magnetic tape drive, magnetic tape, magnetic tape cartridge, program, signal processing method, and magnetic tape manufacturing method

Номер патента: US12057148B2. Автор: Tetsuya Kaneko,Toru Nakao,Yoichi AKANO. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-08-06.

Signal processing device, magnetic tape drive, magnetic tape, magnetic tape cartridge, program, signal processing method, and magnetic tape manufacturing method

Номер патента: US20240363143A1. Автор: Tetsuya Kaneko,Toru Nakao,Yoichi AKANO. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-10-31.

Ball joint manufacturing method and stabilizer link manufacturing method

Номер патента: US20200039317A1. Автор: Shigeru Kuroda. Владелец: NHK Spring Co Ltd. Дата публикации: 2020-02-06.

Inkjet head, inkjet image forming apparatus, nozzle plate manufacturing method, and inkjet head manufacturing method

Номер патента: US11772379B2. Автор: Yohei Sato,Yusuke Hayashi,Hiroaki Kozai. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2023-10-03.

Defect grinding system, defect grinding method, and steel product manufacturing method employing same

Номер патента: EP4194144A4. Автор: Koji Yamashita,Taku Watanabe,Kyohei Ishida. Владелец: JFE Steel Corp. Дата публикации: 2024-01-10.

Steel pipe collapse strength prediction model generation method, steel pipe collapse strength prediction method, steel pipe manufacturing characteristics determination method, and steel pipe manufacturing method

Номер патента: EP4212846A4. Автор: Takahiro SAKIMOTO,Tsunehisa Handa. Владелец: JFE Steel Corp. Дата публикации: 2024-03-13.

Setup condition determining method for manufacturing facilities, mill setup value determining method for rolling mill, mill setup value determining device for rolling mill, product manufacturing method, and rolled material manufacturing method

Номер патента: EP3926425B1. Автор: Tatsuya Yamazaki. Владелец: JFE Steel Corp. Дата публикации: 2024-07-24.

Temperature measuring method, heat treating method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: TWI276189B. Автор: Junji Hirase,Tatsuo Sugiyama,Satoshi Shibata,Fumitoshi Kawase,Emi Kanazaki. Владелец: Matsushita Electric Ind Co Ltd. Дата публикации: 2007-03-11.

Steel pipe collapse strength prediction model generation method, steel pipe collapse strength prediction method, steel pipe manufacturing characteristics determination method, and steel pipe manufacturing method

Номер патента: EP4212846B1. Автор: Takahiro SAKIMOTO,Tsunehisa Handa. Владелец: JFE Steel Corp. Дата публикации: 2024-10-23.

Holding jig, optical element coating method, and optical lens manufacturing method

Номер патента: EP4310554A1. Автор: Satoshi Annaka. Владелец: Hoya Lens Thailand Ltd. Дата публикации: 2024-01-24.

Moving apparatus, and member inspection method and member manufacturing method using same

Номер патента: EP4220148A1. Автор: Kyohei Ishida,Yuta TOKUMOTO. Владелец: JFE Steel Corp. Дата публикации: 2023-08-02.

Pattern evaluation system, pattern evaluation method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US8355560B2. Автор: Tadashi Mitsui. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2013-01-15.

Fluidic device, fluid control method, testing device, testing method, and fluidic device manufacturing method

Номер патента: US20170102383A1. Автор: Masaru Kato,Kenji Miyamoto. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-04-13.

Camshaft-manufacturing method and gear shaft-manufacturing method

Номер патента: US20160052045A1. Автор: Atsushi Tomizawa,Hidehiro Arita,Masaaki Mizumura. Владелец: Nippon Steel and Sumitomo Metal Corp. Дата публикации: 2016-02-25.

Optical medium enabling copy detection, copy detection device and method, and optical media manufacture method and system

Номер патента: EP2405431A1. Автор: Mohamed Karroumi. Владелец: Thomson Licensing SAS. Дата публикации: 2012-01-11.

Electronic commerce method for semiconductor products, electronic commerce thereof, production system, production method, production equipment design system, production equipment design method, and production equipment manufacturing method

Номер патента: EP1164522A3. Автор: Kunihiro Toshiba Kabushiki Kaisha Mitsutake,Katsuya Toshiba Kabushiki Kaisha Okumura. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2004-01-07.

Acquiring apparatus, acquiring method, and optical system manufacturing method

Номер патента: EP4339553A1. Автор: Tomohiro Sugimoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-03-20.

Acquiring apparatus, acquiring method, and optical system manufacturing method

Номер патента: US20240085269A1. Автор: Tomohiro Sugimoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-03-14.

Stretch flange crack evaluation method, metal sheet selection method, press die design method, component shape design method, and pressed component manufacturing method

Номер патента: US11971390B2. Автор: Toyohisa Shinmiya,Yuji Yamasaki,Kento FUJII. Владелец: JFE Steel Corp. Дата публикации: 2024-04-30.

Signal processing device, magnetic tape drive, magnetic tape, magnetic tape cartridge, program, signal processing method, and magnetic tape manufacturing method

Номер патента: US20230317108A1. Автор: Tetsuya Kaneko,Toru Nakao,Yoichi AKANO. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-10-05.

Optical fiber eccentric measurement method and optical fiber manufacturing method

Номер патента: US20230174408A1. Автор: Takahiro Nomura,Kazuyuki Sohma. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2023-06-08.

Dam formation method and layered body manufacturing method

Номер патента: EP4032622A1. Автор: Yuko Takebayashi. Владелец: Dexerials Corp. Дата публикации: 2022-07-27.

Mask manufacturing method and toy figure manufacturing method

Номер патента: US20240165525A1. Автор: Koichi Nishino. Владелец: Epoch Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

EUV MASK INSPECTION APPARATUS AND METHOD, AND EUV MASK MANUFACTURING METHOD INCLUDING EUV MASK INSPECTION METHOD

Номер патента: US20200003685A1. Автор: JEON Byeong-Hwan. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2020-01-02.

Scanning probe microscope and specimen observation method and semiconductor device manufacturing method using said scanning probe microscope

Номер патента: US20060219900A1. Автор: Masahiro Watanabe,Toshihiko Nakata. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2006-10-05.

Glare contrast correction method, comparison method and comparison device, electronic display manufacturing method and antiglare layer manufacturing method

Номер патента: JP2023041667A. Автор: Hiroko Suzuki,裕子 鈴木,Norinaga Nakamura,典永 中村,Makio KURASHIGE,Shumpei NISHIO,雅行 恒川,玄 古井,牧夫 倉重,Yukimitsu Iwata,行光 岩田,Gen Furui,Kazutoshi Ishida,一敏 石田,俊平 西尾,Masayuki Tsunekawa. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2023-03-24.

Optical apparatus, measurement method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20040156052A1. Автор: Takeshi Yamamoto,Akira Miyake. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2004-08-12.

Lens dyeing method, and lens assembly manufacturing method

Номер патента: US20220001418A1. Автор: Choon Keun Lee,Seong Chan Park,Ae Rim Kim,Sang Hyun KWON,Sang Hyeon HONG. Владелец: Samsung Electro Mechanics Co Ltd. Дата публикации: 2022-01-06.

Mirror device, mirror array, optical switch, mirror device manufacturing method, and mirror substrate manufacturing method

Номер патента: US20120162736A1. Автор: HIROFUMI Morita,Hiromu Ishii,Katsuyuki Machida,Makoto Murakami,Makoto Sato,Kunihiko Sasakura,Shingo Uchiyama,Johji Yamaguchi,Shuichiro Inagaki. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-06-28.

Mirror device, mirror array, optical switch, mirror device manufacturing method, and mirror substrate manufacturing method

Номер патента: US20120162737A1. Автор: HIROFUMI Morita,Hiromu Ishii,Katsuyuki Machida,Makoto Murakami,Makoto Sato,Kunihiko Sasakura,Shingo Uchiyama,Johji Yamaguchi,Shuichiro Inagaki. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-06-28.

PHOTOMASK MANUFACTURING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20130179846A1. Автор: Hirano Takashi,ITOH Masamitsu,Fukuhara Kazuya. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2013-07-11.

LENS DYEING METHOD, AND LENS ASSEMBLY MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20220001418A1. Автор: Lee Choon Keun,Kwon Sang Hyun,PARK Seong Chan,KIM Ae Rim,HONG Sang Hyeon. Владелец: SAMSUNG ELECTRO-MECHANICS CO., LTD.. Дата публикации: 2022-01-06.

GLOW PLUG INSPECTING METHOD, GLOW PLUG MANUFACTURING METHOD, SHEATHED HEATER INSPECTING METHOD, AND SHEATHED HEATER MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20140117991A1. Автор: KUMADA Chiaki,Gotoh Shunsuke. Владелец: NGK SPARK PLUG CO., LTD.. Дата публикации: 2014-05-01.

FLUIDIC DEVICE, FLUID CONTROL METHOD, TESTING DEVICE, TESTING METHOD, AND FLUIDIC DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20170102383A1. Автор: MIYAMOTO Kenji,KATO Masaru. Владелец: . Дата публикации: 2017-04-13.

TEMPERATURE MONITORING DEVICE, TEMPERATURE MONITORING METHOD, AND COMPOSITE MATERIAL MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20210123680A1. Автор: OKUDA Akihisa,ETO Jun,NOMA Kazuki,Kamiya Masami. Владелец: . Дата публикации: 2021-04-29.

Lens Array, Lens Array Laminate Body , Lens Array Manufacturing Method, Lens Array Laminate Body Manufacturing Method, And Lens Unit Manufacturing Method

Номер патента: US20150247959A1. Автор: Sannokyou Takashi. Владелец: . Дата публикации: 2015-09-03.

MOLTEN STEEL DESULFURIZATION METHOD, MOLTEN STEEL SECONDARY REFINING METHOD, AND MOLTEN STEEL MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20170247773A1. Автор: Kinoshiro Satoshi,Ito Toshiyuki,Fujimoto Kyoko,Inose Masao,Kawabata Ryo,Ishige Toshiro. Владелец: JFE STEEL CORPORATION. Дата публикации: 2017-08-31.

JOINT PART DETERMINATION METHOD AND JOINT MATERIAL MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20170266754A1. Автор: Kato Yoshinori,Yamasu Kazushige. Владелец: . Дата публикации: 2017-09-21.

SHAPE MEASURING DEVICE, SHAPE MEASURING METHOD, AND GLASS PLATE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20160297704A1. Автор: OHTO Kimiaki,Sugahara Akira,ARITA Yusuke,IKENOTA Minoru. Владелец: Asahi Glass Company, Limited. Дата публикации: 2016-10-13.

FORMER, OPTICAL FIBER UNIT MANUFACTURING METHOD AND OPTICAL CABLE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20160299311A1. Автор: Shiobara Satoru,Kaji Tomoaki,YAMANAKA Masayoshi,Takeda Daiki. Владелец: FUJIKURA LTD.. Дата публикации: 2016-10-13.

LEARNING DEVICE, IMAGE PICKUP APPARATUS, IMAGE PROCESSING DEVICE, LEARNING METHOD, NON-TRANSIENT COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM FOR RECORDING LEARNING PROGRAM, DISPLAY CONTROL METHOD AND INFERENCE MODEL MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20190332952A1. Автор: NONAKA Osamu,Ogata Yoshihisa,Fujimoto Masahiro,SAKAI Koji,OKADA Keiji,Iwaki Hidekazu,YOSHIDA Yoichi,OSA Kazuhiko,NOZAKI Hirokazu. Владелец: OLYMPUS CORPORATION. Дата публикации: 2019-10-31.

Gas cell, gas cell sealing method, and gas cell manufacturing method

Номер патента: JP6488572B2. Автор: 公夫 長坂,長坂　公夫,藤井　永一,永一 藤井. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2019-03-27.

Surface defect detection device, surface defect detection method, and steel product manufacturing method

Номер патента: CN107735674B. Автор: 大野纮明,楯真沙美,大重贵彦,儿玉俊文,腰原敬弘,小川晃弘,饭塚幸理. Владелец: JFE Steel Corp. Дата публикации: 2021-09-17.

Optical member manufacturing method and lighting device manufacturing method

Номер патента: JP4968784B2. Автор: 純司 宮下. Владелец: Citizen Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2012-07-04.

Ink liquid filling method and color filter manufacturing method

Номер патента: JP5159679B2. Автор: 学 勝村. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2013-03-06.

Inspection apparatus, inspection method, and pattern substrate manufacturing method

Номер патента: JP4224863B2. Автор: 治彦 楠瀬. Владелец: Lasertec Corp. Дата публикации: 2009-02-18.

Hardcourt film manufacturing method and antireflection film manufacturing method

Номер патента: JP7071813B2. Автор: 啓介 緒方,泰佑 塩谷,塁 井上. Владелец: Toppan Tomoegawa Optical Films Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-19.

Surface defect detection apparatus, surface defect detection method, and steel material manufacturing method

Номер патента: JP6447637B2. Автор: 幸理 飯塚,腰原　敬弘,敬弘 腰原,貴彦 大重,俊文 児玉,紘明 大野,真沙美 楯,児玉　俊文,晃弘 小川,飯塚　幸理. Владелец: JFE Steel Corp. Дата публикации: 2019-01-09.

Mother substrate, film formation region arrangement method, and color filter manufacturing method

Номер патента: KR101021550B1. Автор: 겐지 사카모토. Владелец: 세이코 엡슨 가부시키가이샤. Дата публикации: 2011-03-16.

Film sticking apparatus, film sticking method, and electronic paper manufacturing method

Номер патента: JP4973783B2. Автор: 芳明 柳田,徹 原田,和久 三島,宏和 山西. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2012-07-11.

Spectacle lens design method and spectacle lens manufacturing method

Номер патента: JP6470706B2. Автор: 隆志 畑中,倫裕 大平. Владелец: Hoya Lens Thailand Ltd. Дата публикации: 2019-02-13.

Color filter manufacturing method and display device manufacturing method

Номер патента: JP4065476B2. Автор: 裕充 山口,誠 赤平,聡 和田,義朋 丸本,弘 藤池,賢 菊池. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-03-26.

Optical film transport method and polarizing plate manufacturing method

Номер патента: JP6898071B2. Автор: 勉 古谷,康弘 羽場. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-07-07.

Layered body, layered body manufacturing method, and polarizing plate manufacturing method

Номер патента: TW202118637A. Автор: 田坂公志,西村浩,藤枝奈奈恵,南條崇. Владелец: 日商柯尼卡美能達股份有限公司. Дата публикации: 2021-05-16.

Molten steel desulfurization method, molten steel secondary refining method, and molten steel manufacturing method

Номер патента: EP2722405A1. Автор: Toshiyuki Ito,Satoshi Kinoshiro,Masao Inose,Ryo Kawabata,Toshiro ISHIGE,Kyoko Fujimoto. Владелец: JFE Steel Corp. Дата публикации: 2014-04-23.

Distance piece manufacturing method and array panel manufacturing method

Номер патента: CN104991380A. Автор: 徐先华,熊燕军. Владелец: Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2015-10-21.

Stretch flange crack evaluation method, metal plate selection method, press die design method, part shape design method, and press part manufacturing method

Номер патента: JP6819832B1. Автор: 雄司 山▲崎▼,新宮　豊久,豊久 新宮,健斗 藤井. Владелец: JFE Steel Corp. Дата публикации: 2021-01-27.

Sealing pin, assembly manufacturing method, and gas sensor manufacturing method

Номер патента: JP6824802B2. Автор: 信和 生駒,健二 井阪,浩二 江川. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2021-02-03.

Polishing apparatus, polishing method, and magnetic head manufacturing method

Номер патента: JP3926565B2. Автор: 浩二 須藤,芳明 柳田,和雄 横井,友一 杉山,照秋 西岡,俊介 曽根. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2007-06-06.

Detection panel, display device, detection panel driving method and detection panel manufacturing method

Номер патента: WO2020253590A1. Автор: 王海生,刘英明,韩艳玲,赵利军,张晨阳,郭玉珍,李秀锋,李佩笑. Владелец: 京东方科技集团股份有限公司. Дата публикации: 2020-12-24.

Optical fiber inspection device, optical fiber manufacturing device, optical fiber inspection method, and optical fiber manufacturing method

Номер патента: CN108885182B. Автор: 橘久美子,藤井隆志,耕田浩. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2021-11-30.

Two-dimensional patterning method and electronic device manufacturing method using the same

Номер патента: JP4405201B2. Автор: 明子 中村,慎一 五十嵐,正弘 北島. Владелец: National Institute of Japan Science and Technology Agency. Дата публикации: 2010-01-27.

Ophthalmic lens design method and ophthalmic lens manufacturing method

Номер патента: JP6190133B2. Автор: ツンデウオ ラウ. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-08-30.

Iodine polarizing film manufacturing method, polaroid manufacturing method and optical laminate manufacturing method

Номер патента: CN100437162C. Автор: 网谷圭二,松元浩二,藤本清二,山根尚德. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2008-11-26.

Mother substrate, film formation region arrangement method, and color filter manufacturing method

Номер патента: CN101515082B. Автор: 坂本贤治. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2012-02-08.

Optical filter manufacturing method, solid-state imaging device manufacturing method, camera module manufacturing method, ambient light sensor manufacturing method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: TWI749157B. Автор: 堀内正子,大月敏敬,大橋幸恵,長屋勝也. Владелец: 日商Ｊｓｒ股份有限公司. Дата публикации: 2021-12-11.

Molten metal component estimation device, molten metal component estimation method, and molten metal manufacturing method

Номер патента: KR20210003917A. Автор: 유키오 다카하시,신지 도미야마,히로토 가세,쇼타 아마노,도시후미 고다마. Владелец: 제이에프이 스틸 가부시키가이샤. Дата публикации: 2021-01-12.

Mold shape design method and press part manufacturing method

Номер патента: KR102412831B1. Автор: 유지 야마사키,유스케 후지이. Владелец: 제이에프이 스틸 가부시키가이샤. Дата публикации: 2022-06-23.

Scanning tunneling microscope, its probe, its processing method, and fine structure manufacturing method

Номер патента: JP3624212B2. Автор: 正和 青野,知信 中山,一弥 寺部. Владелец: RIKEN Institute of Physical and Chemical Research. Дата публикации: 2005-03-02.

Metal residue removing liquid, metal residue removing method, and metal wiring manufacturing method

Номер патента: US20240117280A1. Автор: Mai Sugawara,Yugeng Wu,Ivan Ryzhii. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-11.

Brushless motor, stator, stator manufacturing method and brushless motor manufacturing method

Номер патента: US09806566B2. Автор: Satoru Suzuki,Toshihiro Matsuura,Yoshinobu Nagao,Yukihide Ishino,Yoshihiro Adachi,Masaru Irie,Takashi Nagaya,Yoshitsugu Nakagawa. Владелец: Asmo Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Package, package manufacturing method and piezoelectric vibrator manufacturing method

Номер патента: TW201041196A. Автор: Takeshi Sugiyama. Владелец: Seiko Instr Inc. Дата публикации: 2010-11-16.

Crystal display processing method and crystal wafer manufacturing method

Номер патента: US6063301A. Автор: Katsumi Suzuki,Itaru Nagai,Kazushige Umetsu,Kazunori Kiwada. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2000-05-16.

Laser processing method and circuit board manufacturing method

Номер патента: US20230071592A1. Автор: Masakazu Kobayashi,Junichi Fujimoto,Kouji Kakizaki,Yasufumi Kawasuji,Akira SUWA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-03-09.

Through-hole forming method, and piezoelectric device manufacturing method and piezoelectric device manufactured thereby

Номер патента: CN1933325A. Автор: 青木信也. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2007-03-21.

BRUSHLESS MOTOR, STATOR, STATOR MANUFACTURING METHOD AND BRUSHLESS MOTOR MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20140062249A1. Автор: Suzuki Satoru,ADACHI Yoshihiro,ISHINO Yukihide,NAKAGAWA Yoshitsugu,Irie Masaru,Nagao Yoshinobu,MATSUURA Toshihiro,NAGAYA Takashi. Владелец: ASMO CO., LTD.. Дата публикации: 2014-03-06.

Photoelectric conversion device, imaging system, photoelectric conversion device testing method, and imaging system manufacturing method

Номер патента: US20140092286A1. Автор: Kazuhiro Saito,Kazuo Yamazaki,Hiroki Hiyama,Kohichi Nakamura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-04-03.

BRUSHLESS MOTOR, STATOR, STATOR MANUFACTURING METHOD AND BRUSHLESS MOTOR MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20170149316A1. Автор: Suzuki Satoru,ADACHI Yoshihiro,ISHINO Yukihide,NAKAGAWA Yoshitsugu,Irie Masaru,Nagao Yoshinobu,MATSUURA Toshihiro,NAGAYA Takashi. Владелец: . Дата публикации: 2017-05-25.

Resin protrusion forming method and wiring board manufacturing method

Номер патента: US20140295065A1. Автор: Tomomi Sato,Tsutomu Komuro. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2014-10-02.

Copper microetchant, copper surface roughening method and wiring board manufacturing method

Номер патента: KR102198155B1. Автор: 유키 오기노,다카히로 사카모토,가오루 우루시바타. Владелец: 멕크 가부시키가이샤. Дата публикации: 2021-01-04.

Electric wire formation method, wiring substrate, electrooptical element manufacturing method and electronic apparatus manufacturing method

Номер патента: CN1791306A. Автор: 丰田直之,平井利充. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2006-06-21.

Wiring board manufacturing method and electronic device manufacturing method

Номер патента: JP3823870B2. Автор: 貴志 橋本. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2006-09-20.

Lighting device, lighting fixture, lighting device design method, and lighting device manufacturing method

Номер патента: JP6167400B2. Автор: 圭介 関,武志 鴨井,大輔 山原. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-26.

PATTERNING METHOD, FILM FORMING METHOD, PATTERNING APPARATUS, ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE ELEMENT MANUFACTURING METHOD, COLOR FILTER MANUFACTURING METHOD, ELECTRO-OPTICAL DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: JP4345278B2. Автор: 貴士 宮澤. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2009-10-14.

Multilayer structure forming method, wiring board manufacturing method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: JP4059260B2. Автор: 山田　　純,和昭 桜田,剛 新舘. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2008-03-12.

EL device manufacturing method and EL panel manufacturing method

Номер патента: JP5028402B2. Автор: 貴志 木津. Владелец: Casio Computer Co Ltd. Дата публикации: 2012-09-19.

Organic EL element, display device, optical device, organic EL element manufacturing method, display device manufacturing method, and optical device manufacturing method

Номер патента: JP3951445B2. Автор: 一夫 湯田坂. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2007-08-01.

Coating liquid, film manufacturing method, functional element manufacturing method, organic electroluminescence element manufacturing method, organic electroluminescence display device manufacturing method, color filter substrate manufacturing method, liquid crystal display device manufacturing method, and wiring Substrate manufacturing method

Номер патента: JP4707658B2. Автор: 恵美 山本. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2011-06-22.

Piezoelectric vibrator, ultrasonic probe, piezoelectric vibrator manufacturing method and ultrasonic probe manufacturing method

Номер патента: JP6091951B2. Автор: 洋八 山下,紀子 山本,和弘 逸見,細野　靖晴,靖晴 細野,山本　紀子,山下　洋八,逸見　和弘. Владелец: Toshiba Medical Systems Corp. Дата публикации: 2017-03-08.

Film forming apparatus, film forming method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: JP7199889B2. Автор: 一史 柏倉,博 石井. Владелец: Canon Tokki Corp. Дата публикации: 2023-01-06.

Vapor deposition mask substrate, vapor deposition mask substrate manufacturing method, vapor deposition mask manufacturing method, and display device manufacturing method

Номер патента: TWI744612B. Автор: 新納幹大. Владелец: 日商凸版印刷股份有限公司. Дата публикации: 2021-11-01.

Substrate bonding structure manufacturing method and inkjet head manufacturing method

Номер патента: JP4501752B2. Автор: 祐次 新海,貴昭 伴野. Владелец: Brother Industries Ltd. Дата публикации: 2010-07-14.

IMPRINT METHOD, IMPRINT APPARATUS, AND ARTICLE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20150336305A1. Автор: KUROSAWA Hiroshi. Владелец: . Дата публикации: 2015-11-26.

IMPRINT METHOD, IMPRINT APPARATUS, AND ARTICLE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20160023380A1. Автор: Kondo Yousuke. Владелец: . Дата публикации: 2016-01-28.

IMPRINTING METHOD, IMPRINTING APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20150028506A1. Автор: Sato Hiroshi. Владелец: . Дата публикации: 2015-01-29.

IMPRINT METHOD, IMPRINT APPARATUS, AND ARTICLE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20160039143A1. Автор: Hasegawa Noriyasu,MATSUMOTO Takahiro,Nakagawa Kazuki,Murakami Yosuke. Владелец: . Дата публикации: 2016-02-11.

IMPRINT METHOD, IMPRINT APPARATUS, AND ARTICLE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20160096313A1. Автор: Usui Yoshiyuki. Владелец: . Дата публикации: 2016-04-07.

Glass lump manufacturing method and manufacturing apparatus, glass molded product manufacturing method, and optical element manufacturing method

Номер патента: JP3929237B2. Автор: 啓介 吉國,洋司 當麻,章吾 塚田,敦司 上崎. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2007-06-13.

Brewed Liquid Filtering System, Brewed Liquid Filtering Method, and Brewed Liquid Manufacturing Method

Номер патента: US20110229618A1. Автор: Tadahiro Ohmi,Hisayoshi Kobayashi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-09-22.

Heat recovery device, heat recovery method, and steel sheet manufacturing method

Номер патента: EP4431829A1. Автор: Kenichi Fujii,Takashi Kuroki,Sho Tamura,Yusuke YASUFUKU,Zongtao Cheng,Akinobu KUROKAWA. Владелец: JFE Steel Corp. Дата публикации: 2024-09-18.

Brick laying structure, brick laying method, and brick manufacturing method

Номер патента: CA2421932C. Автор: Yasunori Matsufuji. Владелец: JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY. Дата публикации: 2008-08-05.

Bricklaying structure, Bricklaying method and Brick manufacturing method

Номер патента: NZ524640A. Автор: Yasunori Matsufuji. Владелец: Japan Science & Tech Agency. Дата публикации: 2006-04-28.

Dihydroxy compound manufacturing method and recycled resin manufacturing method

Номер патента: EP4414409A1. Автор: Noriyuki Kato,Kentaro Ishihara,Atsushi MOTEGI,Katsushi NISHIMORI,Shoko MURATA SUZUKI,Kazutaka Takamatsu. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2024-08-14.

Nonaqueous ink composition, and recording method and recorded matter manufacturing method using same

Номер патента: AU2021355246B2. Автор: Mitsuyoshi Tamura,Mitsuteru Yamada,Kisei Matsumoto,Yoshiya Maegawa,Koujun Utaka,Keishiro Yoshimori,Yuka ORIKASA,Ryouhei OKA. Владелец: DNP FINE CHEMICALS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-11.

Intra-furnace state inference device, intra-furnace state inference method, and molten steel manufacturing method

Номер патента: EP4400607A1. Автор: Yuki Kimura,Ryo Kawabata,Tomohiro Sugino,Hiroto Kase. Владелец: JFE Steel Corp. Дата публикации: 2024-07-17.

Hydrothermal treatment device, biomass fuel manufacturing plant, hydrothermal treatment method, and biomass fuel manufacturing method

Номер патента: CA3103195A1. Автор: Akito Yoshida,Yoichi Shimbo,Yuta Ozawa. Владелец: Mitsubishi Power Ltd. Дата публикации: 2019-12-19.

Nonaqueous ink composition, and recording method and recorded matter manufacturing method using same

Номер патента: AU2021355246A9. Автор: Mitsuyoshi Tamura,Mitsuteru Yamada,Kisei Matsumoto,Yoshiya Maegawa,Koujun Utaka,Keishiro Yoshimori,Yuka ORIKASA,Ryouhei OKA. Владелец: DNP FINE CHEMICALS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-25.

Temperature adjusting device, temperature adjusting method, and resin container manufacturing method

Номер патента: US20240308127A1. Автор: Kazuhiro Horiuchi,Atsushi Nagasaki,Manabu OGIHARA. Владелец: Nissei ASB Machine Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Wire electric-discharge machining device, wire electric-discharge machining method, thin-plate manufacturing method, and semiconductor wafer manufacturing method

Номер патента: US09707638B2. Автор: Hidetaka Miyake,Atsushi Itokazu. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2017-07-18.

Hollow element manufacturing method and rotary machine manufacturing method

Номер патента: US20180030561A1. Автор: Yuji Masuda,Yusuke Ishibashi,Shugo Iwasaki,Kosei KAWAHARA,Shinichiro Tokuyama. Владелец: Mitsubishi Heavy Industries Compressor Corp. Дата публикации: 2018-02-01.

Hollow element manufacturing method and rotary machine manufacturing method

Номер патента: US10837071B2. Автор: Yuji Masuda,Yusuke Ishibashi,Shugo Iwasaki,Kosei KAWAHARA,Shinichiro Tokuyama. Владелец: Mitsubishi Heavy Industries Compressor Corp. Дата публикации: 2020-11-17.

Steel pipe end processing device, steel pipe end processing method, and steel pipe manufacturing method

Номер патента: EP4434649A1. Автор: Yukio Takashima,Masayuki Horie,Kosuke Hinata. Владелец: JFE Steel Corp. Дата публикации: 2024-09-25.

Workpiece retainer, wire electric discharge machining device, thin-plate manufacturing method, and semiconductor-wafer manufacturing method

Номер патента: US09833854B2. Автор: Takashi Yuzawa,Tatsushi Sato,Hidetaka Miyake,Atsushi Itokazu. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2017-12-05.

Resin film material, laminated structure comprising resin film material, resin composition manufacturing method, resin film material manufacturing method, and laminated structure manufacturing method

Номер патента: EP4261039A1. Автор: Katsutoshi Aoki,Keito SATO,Shunsuke FUKUI,Gota KATAYANAGI. Владелец: Kao Corp. Дата публикации: 2023-10-18.

Resin film material, laminated structure comprising resin film material, resin composition manufacturing method, resin film material manufacturing method, and laminated structure manufacturing method

Номер патента: US20240042746A1. Автор: Katsutoshi Aoki,Keito SATO,Shunsuke FUKUI,Gota KATAYANAGI. Владелец: Kao Corp. Дата публикации: 2024-02-08.

Workpiece support device, machining device, machining method, bearing manufacturing method, vehicle manufacturing method, and mechanical device manufacturing method

Номер патента: EP3674034A1. Автор: Takashi Yoshimura,Takeshi Ebina,Koji YOKOE. Владелец: NSK LTD. Дата публикации: 2020-07-01.

Fin-Assembled Tube Manufacturing Method and Double Tube Manufacturing Method

Номер патента: US20200049427A1. Автор: Hiroyuki Oono. Владелец: Marelli Corp. Дата публикации: 2020-02-13.

Lens manufacturing method and coating liquid manufacturing method

Номер патента: US20100255193A1. Автор: Takamitsu Hirose,Takeshi Imizu. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2010-10-07.

Electric discharge machining apparatus, electric discharge machining method, and semiconductor substrate manufacturing method

Номер патента: US09550245B2. Автор: Takashi Hashimoto,Akihiko Iwata,Taichiro Tamida,Tatsushi Sato. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2017-01-24.

Glass plate cutting device, glass plate cutting method, and glass plate manufacturing method

Номер патента: TWI624438B. Автор: Akihiro Sasaki,Yoshihiro Shimizu,Hiroyuki Hattori,Kohei Yamasaki,Hidehito Iwasaki,Shigeyoshi Takuwa. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-21.

Absorption rotor, rotor element, absorption rotor manufacturing method, and rotor element manufacturing method

Номер патента: EP3501621A4. Автор: Katsuhiro Yamashita,Tomohiro Deguchi,Teruzi Yamazaki,Yusuke Chigira,Masahiro TSUZAKI. Владелец: Nichias Corp. Дата публикации: 2020-05-27.

Joining method, and joined structure manufacturing method

Номер патента: TW200906526A. Автор: Kazuo Aoki,Hayato Sato,Hisashi Hori,Nobushiro Seo,Tomohiro Komoto. Владелец: Nippon Light Metal Co. Дата публикации: 2009-02-16.

Ball joint manufacturing method and stabilizer link manufacturing method

Номер патента: EP3604838A4. Автор: Shigeru Kuroda. Владелец: NHK Spring Co Ltd. Дата публикации: 2021-03-10.

Ball joint manufacturing method and stabilizer link manufacturing method

Номер патента: EP3604838B1. Автор: Shigeru Kuroda. Владелец: NHK Spring Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-21.

Rubber composition manufacturing method, and related tire manufacturing method

Номер патента: EP4201627B1. Автор: Sho Taniguchi. Владелец: Toyo Tire Corp. Дата публикации: 2024-07-17.

Brazing sheet, brazing method, and heat exchanger manufacturing method

Номер патента: EP4100202A1. Автор: Hiroshi Kumagai,Masahiro ARIYAMA,Yohei Hatano. Владелец: Mahle Filter Systems Japan Corp. Дата публикации: 2022-12-14.

Vapor deposition mask substrate, vapor deposition mask substrate manufacturing method, vapor deposition mask manufacturing method, and display device manufacturing method

Номер патента: US10697069B2. Автор: Mikio SHINNO. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2020-06-30.

Cylinder Liner, Block Manufacturing Method and Cylinder Liner Manufacturing Method

Номер патента: US20200063685A1. Автор: Akira Sato,Koichi Hatakeyama. Владелец: Teipi Industry Co Ltd. Дата публикации: 2020-02-27.

Bending mechanism, bending method, and food manufacturing method

Номер патента: US11684070B2. Автор: Masahiko Honda,Toru Iwasa,Ryuichi Itou,Suguru HIRAYAMA,Minoru Mamiya. Владелец: Nichirei Foods Inc. Дата публикации: 2023-06-27.

Window transfer method and window manufacturing method using the same

Номер патента: US20220371315A1. Автор: Seungjun LEE,Leegu Han,Hanggyun Park. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-24.

Cylinder Liner, Block Manufacturing Method and Cylinder Liner Manufacturing Method

Номер патента: US20200063684A1. Автор: Akira Sato,Koichi Hatakeyama. Владелец: Teipi Industry Co Ltd. Дата публикации: 2020-02-27.

Brazing sheet, brazing method, and heat exchanger manufacturing method

Номер патента: US20230080566A1. Автор: Hiroshi Kumagai,Masahiro ARIYAMA,Yohei Hatano. Владелец: Mahle Filter Systems Japan Corp. Дата публикации: 2023-03-16.

Heat exchanger, fin tube manufacturing method, and heat exchanger manufacturing method

Номер патента: US20240011722A1. Автор: JaeYoung Kim,Seungmo Jung,Hongseong Kim,Hanchoon Lee. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2024-01-11.

Processing device, sheet manufacturing apparatus, processing method, and sheet manufacturing method

Номер патента: US20180305869A1. Автор: Hiroshi Tanaka,Shunichi Seki,Kaneo Yoda,Hiroki Kurata,Seiichi Taniguchi. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2018-10-25.

Nonaqueous ink composition, and recording method and recorded matter manufacturing method using same

Номер патента: US20230365826A1. Автор: Mitsuyoshi Tamura,Mitsuteru Yamada,Kisei Matsumoto,Yoshiya Maegawa,Koujun Utaka,Keishiro Yoshimori,Yuka ORIKASA,Ryouhei OKA. Владелец: DNP FINE CHEMICALS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-16.

Surface modification sheet, laminate, surface modification member, painted object, surface modification member manufacturing method, and painted object manufacturing method

Номер патента: EP4286154A1. Автор: Shigeki Ishiguro,Kayo Shimokawa,Ryohei OBAN,Asuka Endo. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2023-12-06.

Quench-hardening apparatus, quench-hardening method, and metal sheet manufacturing method

Номер патента: EP4372106A1. Автор: Hirokazu Kobayashi,Soshi Yoshimoto. Владелец: JFE Steel Corp. Дата публикации: 2024-05-22.

Food material processing mechanism, food material processing method, food manufacturing method, and food manufacturing system

Номер патента: US11992018B2. Автор: Toru Iwasa,Ryuichi Itou,Suguru HIRAYAMA,Minoru Mamiya. Владелец: Nichirei Foods Inc. Дата публикации: 2024-05-28.

Bending mechanism, bending method, and food manufacturing method

Номер патента: US20210315217A1. Автор: Masahiko Honda,Toru Iwasa,Ryuichi Itou,Suguru HIRAYAMA,Minoru Mamiya. Владелец: Nichirei Foods Inc. Дата публикации: 2021-10-14.

Inert gas substituting method and ceramic structure manufacturing method using inert gas substituting method

Номер патента: US20180244584A1. Автор: Yoshiyuki Kamei,Takashi Goshima,Chikashi Ihara. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2018-08-30.

Inert gas substituting method and ceramic structure manufacturing method using inert gas substituting method

Номер патента: US10774009B2. Автор: Yoshiyuki Kamei,Takashi Goshima,Chikashi Ihara. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2020-09-15.

Wire electric-discharge machining device, wire electric-discharge machining method, thin-plate manufacturing method, and semiconductor wafer manufacturing method

Номер патента: US20140332503A1. Автор: Hidetaka Miyake,Atsushi Itokazu. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2014-11-13.

Temperature adjusting device, temperature adjusting method, and resin container manufacturing method

Номер патента: US12017399B2. Автор: Kazuhiro Horiuchi,Atsushi Nagasaki,Manabu OGIHARA. Владелец: Nissei ASB Machine Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Hydrothermal treatment device, biomass fuel manufacturing plant, hydrothermal treatment method, and biomass fuel manufacturing method

Номер патента: US20210230494A1. Автор: Akito Yoshida,Yoichi Shimbo,Yuta Ozawa. Владелец: Mitsubishi Power Ltd. Дата публикации: 2021-07-29.

Nozzle plate, inkjet head, nozzle plate manufacturing method, and inkjet head manufacturing method

Номер патента: EP4173827A1. Автор: Tadashi Hirano,Akihisa Shimomura,Tomohiro NISHIURA. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2023-05-03.

Quenching device, quenching method, and metal sheet manufacturing method

Номер патента: EP4372105A1. Автор: Hirokazu Kobayashi,Soshi Yoshimoto. Владелец: JFE Steel Corp. Дата публикации: 2024-05-22.

UNPACKING DEVICE AND METHOD, AND UNPACKED CONTENT MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20130125517A1. Автор: GOMI Kazuya. Владелец: KABUSHIKI KAISHA YASKAWA DENKI. Дата публикации: 2013-05-23.

IMAGE FORMING APPARATUS AND METHOD, ABNORMAL NOZZLE DETECTION METHOD, AND PRINTED MATTER MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20210001638A1. Автор: Shibata Hiroyuki. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2021-01-07.

Molten glass manufacturing device, molten glass manufacturing method, and sheet glass manufacturing method using the device and the method

Номер патента: KR101453629B1. Автор: 료스께 아까기,아쯔시 이찌까와,하지메 이또,히로시 도도리끼. Владелец: 아사히 가라스 가부시키가이샤. Дата публикации: 2014-10-22.

Image forming apparatus and method, abnormal nozzle detection method, and printed matter manufacturing method

Номер патента: US11247483B2. Автор: Hiroyuki Shibata. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-02-15.

Polyacrylonitrile fiber manufacturing method and carbon fiber manufacturing method

Номер патента: US8845938B2. Автор: Takashi Shibata,Yasutaka Kato,Takashi Ochi,Akira Kishiro,Tomoko Ichikawa,Masafumi Ise. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2014-09-30.

Image forming device and method, abnormality nozzle detection method, and printed matter manufacturing method

Номер патента: JP6945060B2. Автор: 浩行 柴田. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-10-06.

Supply and demand adjustment method and system, product manufacturing method

Номер патента: JP4559698B2. Автор: 周 山田,マイケル・オー・ボール,シェンィエン・ツァオ. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2010-10-13.

Sedimentation tank and its control method, and solid material manufacturing method

Номер патента: JP7024632B2. Автор: 範幸 長瀬,典久 土岐,達也 秋山. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 2022-02-24.

Nonaqueous ink composition, and recording method and recorded matter manufacturing method using same

Номер патента: WO2022071477A1. Автор: 貴生 松本,充功 田村,喜哉 前川,公淳 宇高,圭士郎 吉森,満輝 山田,由佳 折笠,良平 岡. Владелец: 株式会社Ｄｎｐファインケミカル. Дата публикации: 2022-04-07.

Image forming device and method, abnormality nozzle detection method, and printed matter manufacturing method

Номер патента: JPWO2019188911A1. Автор: 浩行 柴田. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-03-18.

Molten glass manufacturing device, molten glass manufacturing method, and sheet glass manufacturing method using the device and the method

Номер патента: CN102574719B. Автор: 市川敦,伊藤肇,赤木亮介,等等力宏. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2014-07-09.

Pressure reducing and defoaming device for molten glass, molten glass manufacturing method, and glass product manufacturing method

Номер патента: WO2011145526A1. Автор: 和雄 浜島,健一 増田,渉 三好,道人 佐々木. Владелец: 旭硝子株式会社. Дата публикации: 2011-11-24.

Nozzle plate, inkjet head, nozzle plate manufacturing method, and inkjet head manufacturing method

Номер патента: US20230234354A1. Автор: Tadashi Hirano,Akihisa Shimomura,Tomohiro NISHIURA. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2023-07-27.

WIRE ELECTRIC DISCHARGE MACHINING APPARATUS, WIRE ELECTRIC DISCHARGE MACHINING METHOD, THIN PLATE MANUFACTURING METHOD, AND SEMICONDUCTOR WAFER MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20130140277A1. Автор: Sato Tatsushi,Miyake Hidetaka,Yuzawa Takashi,Itokazu Atsushi,FUKUSHIMA Kazuhiko. Владелец: Mitsubishi Electric Corporation. Дата публикации: 2013-06-06.

PATTERN FORMING METHOD AND IMPRINT MOLD MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20130256263A1. Автор: YUZAWA Akiko,KIHARA Naoko,KAMATA Yoshiyuki,HIEDA Hiroyuki,SASAO Norikatsu,YAMAMOTO Ryosuke. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2013-10-03.

POLYACRYLONITRILE FIBER MANUFACTURING METHOD AND CARBON FIBER MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20130264733A1. Автор: OCHI Takashi,Shibata Takashi,Kishiro Akira,ICHIKAWA Tomoko,Kato Yasutaka,ISE Masafumi. Владелец: Toray Industries, Inc.. Дата публикации: 2013-10-10.

MOLTEN STEEL DESULFURIZATION METHOD, MOLTEN STEEL SECONDARY REFINING METHOD, AND MOLTEN STEEL MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20140096643A1. Автор: Kinoshiro Satoshi,Ito Toshiyuki,Fujimoto Kyoko,Inose Masao,Kawabata Ryo,Ishige Toshiro. Владелец: JFE STEEL CORPORATION. Дата публикации: 2014-04-10.

SPRAY COATING, SRAYING POWDER, SPRAYING POWDER MANUFACTURING METHOD AND SPRAY COATING MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20200002799A1. Автор: Hamaya Noriaki,UEHARA Ichiro. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2020-01-02.

TURBINE BLADE, EROSION SHIELD FORMING METHOD, AND TURBINE BLADE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20170016334A1. Автор: MATSUNAMI Yasuo,Okuda Takehisa,MACHIDA Motonari. Владелец: . Дата публикации: 2017-01-19.

HOLLOW ELEMENT MANUFACTURING METHOD AND ROTARY MACHINE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20180030561A1. Автор: Masuda Yuji,Tokuyama Shinichiro,Kawahara Kosei,ISHIBASHI Yusuke,Iwasaki Shugo. Владелец: . Дата публикации: 2018-02-01.

ORE SLURRY PRE-TREATMENT METHOD AND ORE SLURRY MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20180037971A1. Автор: Nakai Osamu,Higuchi Hirotaka,Ohara Go,Imamura Masaki. Владелец: . Дата публикации: 2018-02-08.

BALL JOINT MANUFACTURING METHOD AND STABILIZER LINK MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20200039317A1. Автор: Kuroda Shigeru. Владелец: NHK SPRING CO., LTD.. Дата публикации: 2020-02-06.

CAMSHAFT-MANUFACTURING METHOD AND GEAR SHAFT-MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20160052045A1. Автор: Mizumura Masaaki,Tomizawa Atsushi,ARITA Hidehiro. Владелец: . Дата публикации: 2016-02-25.

Fin-Assembled Tube Manufacturing Method and Double Tube Manufacturing Method

Номер патента: US20200049427A1. Автор: Hiroyuki Oono. Владелец: Marelli Corp. Дата публикации: 2020-02-13.

INKJET PRINTING DEVICE, DIPOLE ALIGNING METHOD, AND DISPLAY DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20220080725A1. Автор: Kim Min Soo,Lee Byung Chul,JEONG Heung Cheol,HUH Myung Soo,LIM Jae Ha. Владелец: Samsung Display Co., Ltd.. Дата публикации: 2022-03-17.

Cylinder Liner, Block Manufacturing Method and Cylinder Liner Manufacturing Method

Номер патента: US20200063684A1. Автор: Akira Sato,Koichi Hatakeyama. Владелец: Teipi Industry Co Ltd. Дата публикации: 2020-02-27.

Cylinder Liner, Block Manufacturing Method and Cylinder Liner Manufacturing Method

Номер патента: US20200063685A1. Автор: Sato Akira,Hatakeyama Koichi. Владелец: . Дата публикации: 2020-02-27.

Injection molding apparatus, injection molding method, and molded-product manufacturing method

Номер патента: US20150076737A1. Автор: Koki Kodaira. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2015-03-19.

Pneumatic Tire, Pneumatic-Tire Mold, Two-Dimensional-Code Engraved-Mark Testing Method, and Pneumatic-Tire Manufacturing Method

Номер патента: US20200070592A1. Автор: Atsuya Hatano. Владелец: Yokohama Rubber Co Ltd. Дата публикации: 2020-03-05.

TEMPERATURE ADJUSTING DEVICE, TEMPERATURE ADJUSTING METHOD, AND RESIN CONTAINER MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20220097287A1. Автор: Horiuchi Kazuhiro,NAGASAKI Atsushi,OGIHARA Manabu. Владелец: NISSEI ASB MACHINE CO., LTD.. Дата публикации: 2022-03-31.

INKJET HEAD, INKJET IMAGE FORMING APPARATUS, NOZZLE PLATE MANUFACTURING METHOD, AND INKJET HEAD MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20220097377A1. Автор: Sato Yohei,Hayashi Yusuke,KOZAI HIROAKI. Владелец: . Дата публикации: 2022-03-31.

SEAT PAD, VEHICLE SEAT, VEHICLE SEAT CONTROLLING METHOD, AND SEAT PAD MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20210086677A1. Автор: Takahashi Yoshiyuki,Yonezawa Taisuke,TSUGAWA Yukiko. Владелец: BRIDGESTONE CORPORATION. Дата публикации: 2021-03-25.

Vapor deposition mask substrate, vapor deposition mask substrate manufacturing method, vapor deposition mask manufacturing method, and display device manufacturing method

Номер патента: US20190112715A1. Автор: Mikio SHINNO. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2019-04-18.

CLADDING-BY-WELDING DEVICE, EROSION SHIELD FORMING METHOD, AND TURBINE BLADE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20170120384A1. Автор: MATSUNAMI Yasuo,Okuda Takehisa,MACHIDA Motonari. Владелец: . Дата публикации: 2017-05-04.

RESIN PELLET, RESIN PELLET MANUFACTURING METHOD, AND MOLDED ARTICLE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20170145159A1. Автор: NISHIDA TOMOYA,KUNISHIMA Takeshi. Владелец: JTEKT CORPORATION. Дата публикации: 2017-05-25.

LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE PRECURSOR, LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE MANUFACTURING METHOD, PRINTING METHOD AND ALUMINUM SUPPORT MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20190143666A1. Автор: Nakamura Ryo,Hirokawa Tsuyoshi,Matsuura Atsushi. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2019-05-16.

Gravure printing apparatus, gravure printing method, and printed matter manufacturing method

Номер патента: US20190160843A1. Автор: Tatsuo Shigeta. Владелец: Think Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-30.

METHOD FOR MANUFACTURING HOT-ROLLED STEEL SHEET, STEEL SHEET CUTTING LOCATION SETTING DEVICE, STEEL SHEET CUTTING LOCATION SETTING METHOD, AND STEEL SHEET MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20170182534A1. Автор: Nakata Naoki,UEOKA Satoshi,MIYAKE Masaru,Kimura Yukio,GOTO Hiroto,NISHIURA Nobuo,SHIRASAKI Sonomi,KATO Takaomi. Владелец: JFE STEEL CORPORATION. Дата публикации: 2017-06-29.

HYDROTHERMAL TREATMENT DEVICE, BIOMASS FUEL MANUFACTURING PLANT, HYDROTHERMAL TREATMENT METHOD, AND BIOMASS FUEL MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20210230494A1. Автор: OZAWA Yuta,Shimbo Yoichi,Yoshida Akito. Владелец: MITSUBISHI POWER, LTD.. Дата публикации: 2021-07-29.

WIRE ELECTRIC-DISCHARGE MACHINING DEVICE, WIRE ELECTRIC-DISCHARGE MACHINING METHOD, THIN-PLATE MANUFACTURING METHOD, AND SEMICONDUCTOR WAFER MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20140332503A1. Автор: Miyake Hidetaka,Itokazu Atsushi. Владелец: Mitsubishi Electric Corporation. Дата публикации: 2014-11-13.

INERT GAS SUBSTITUTING METHOD AND CERAMIC STRUCTURE MANUFACTURING METHOD USING INERT GAS SUBSTITUTING METHOD

Номер патента: US20180244584A1. Автор: IHARA Chikashi,KAMEI Yoshiyuki,GOSHIMA Takashi. Владелец: NGK Insulators, Ltd.. Дата публикации: 2018-08-30.

RESIN PELLET, RESIN PELLET MANUFACTURING METHOD, AND MOLDED ARTICLE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20180265651A1. Автор: KUNISHIMA Takeshi. Владелец: JTEKT CORPORATION. Дата публикации: 2018-09-20.

SHEET FOR FORMING PILLAR FOR GLASS PANEL UNIT, PILLAR MOUNTING DEVICE FOR MANUFACTURING GLASS PANEL UNIT, GLASS PANEL UNIT MANUFACTURING METHOD, AND GLASS WINDOW MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20190270215A1. Автор: Abe Hiroyuki,HASEGAWA Kazuya,Shimizu Takeshi,Takahashi Hiroshi,URIU Eiichi,ISHIBASHI Tasuku,NONAKA Masataka,ISHIKAWA Haruhiko,Watanabe Shinobu. Владелец: . Дата публикации: 2019-09-05.

Glass panel unit manufacturing method and glass window manufacturing method

Номер патента: US20180282210A1. Автор: Hiroyuki Abe,Kazuya Hasegawa,Masataka Nonaka,Eiichi Uriu,Tasuku Ishibashi. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2018-10-04.

RACK BAR BLANK MATERIAL, RACK BAR, RACK BAR BLANK MATERIAL MANUFACTURING METHOD, AND RACK BAR MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20200284334A1. Автор: YAMAWAKI Takashi,AOKI Kenichi. Владелец: NETUREN CO., LTD.. Дата публикации: 2020-09-10.

RESIN PELLET, RESIN PELLET MANUFACTURING METHOD, AND MOLDED ARTICLE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20190300650A1. Автор: NISHIDA TOMOYA,KUNISHIMA Takeshi. Владелец: JTEKT CORPORATION. Дата публикации: 2019-10-03.

GLASS PANEL UNIT MANUFACTURING METHOD AND GLASS WINDOW MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20180319707A1. Автор: Abe Hiroyuki,HASEGAWA Kazuya,URIU Eiichi,ISHIBASHI Tasuku,NONAKA Masataka. Владелец: Panasonic Intelectual Property Management Co., Ltd.. Дата публикации: 2018-11-08.

ELECTRIC DISCHARGE MACHINING APPARATUS, ELECTRIC DISCHARGE MACHINING METHOD, AND SEMICONDUCTOR SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20160354851A1. Автор: Hashimoto Takashi,Sato Tatsushi,Iwata Akihiko,TAMIDA Taichiro. Владелец: Mitsubishi Electric Corporation. Дата публикации: 2016-12-08.

MAGNETIC SEPARATOR, MAGNETIC SEPARATION METHOD, AND IRON SOURCE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20180353969A1. Автор: ISHIDA Kyohei,TAKAKI Yuki. Владелец: JFE STEEL CORPORATION. Дата публикации: 2018-12-13.

METAL PLATE MEMBER MANUFACTURING METHOD AND VEHICLE BODY MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20200353525A1. Автор: Okamura Koji,MORINO Masaki. Владелец: TOYOTA JIDOSHA KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2020-11-12.

SHEET FOR FORMING PILLAR FOR GLASS PANEL UNIT, PILLAR MOUNTING DEVICE FOR MANUFACTURING GLASS PANEL UNIT, GLASS PANEL UNIT MANUFACTURING METHOD, AND GLASS WINDOW MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20200361110A1. Автор: Abe Hiroyuki,HASEGAWA Kazuya,Shimizu Takeshi,Takahashi Hiroshi,URIU Eiichi,ISHIBASHI Tasuku,NONAKA Masataka,ISHIKAWA Haruhiko,Watanabe Shinobu. Владелец: . Дата публикации: 2020-11-19.

VAPOR DEPOSITION MASK SUBSTRATE, VAPOR DEPOSITION MASK SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD, VAPOR DEPOSITION MASK MANUFACTURING METHOD, AND DISPLAY DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20200362464A1. Автор: SHINNO Mikio. Владелец: . Дата публикации: 2020-11-19.

Electrolytic plating method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP5446126B2. Автор: 元伸 佐藤. Владелец: Fujitsu Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2014-03-19.

Electrode, electrochemical element, electrode manufacturing method, and electrochemical element manufacturing method

Номер патента: JP4204419B2. Автор: 雅人 栗原,鈴木　　忠,哲 丸山. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2009-01-07.

Polyacrylonitrile fiber manufacturing method and carbon fiber manufacturing method

Номер патента: KR101321621B1. Автор: 도모코 이치카와,다카시 오치,아키라 기시로,야스타카 가토,다카시 시바타,마사후미 이세. Владелец: 도레이 카부시키가이샤. Дата публикации: 2013-10-29.

Deposited film manufacturing method and photovoltaic device manufacturing method

Номер патента: JP3787410B2. Автор: 篤志 塩崎. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-06-21.

Glass lump manufacturing method, glass lump forming apparatus, glass molded product manufacturing method, and optical element manufacturing method

Номер патента: JP3945995B2. Автор: 啓介 吉國,洋司 當麻,義規 井口. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2007-07-18.

Shoe, shoe manufacturing method, and shoe upper manufacturing method

Номер патента: CN112335996A. Автор: 别所亚友,阿部悟,谷口宪彦. Владелец: Aishike Private. Дата публикации: 2021-02-09.

Poly-acrylonitrile based polymer solution, manufacturing method thereof, carbon fiber precursor fiber, carbon fiber precursor fiber manufacturing method, and carbon fiber manufacturing method

Номер патента: CN102753589B. Автор: 韩仁植,曺银静,尹浚荣. Владелец: Kolon Corp. Дата публикации: 2015-01-21.

FUEL CELL MANUFACTURING LAMINATE, ITS MANUFACTURING METHOD, AND FUEL CELL MANUFACTURING METHOD

Номер патента: JP6069036B2. Автор: 浩 尾道,西村　協,協 西村. Владелец: Daicel Value Coating Ltd. Дата публикации: 2017-01-25.

Ink jet head manufacturing method and through electrode manufacturing method

Номер патента: JP4981491B2. Автор: 環樹 佐藤,亮二 柬理. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-07-18.

Wiring film manufacturing method and electronic component manufacturing method

Номер патента: JP5053471B2. Автор: 光一 渡邊,幸伸 鈴木,直美 藤岡,隆 石上,泰郎 高阪. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2012-10-17.

Ball screw device manufacturing method and steering device manufacturing method using ball screw device

Номер патента: JP6699364B2. Автор: 利浩 朝倉,琢也 中山,敬祐 小川. Владелец: JTEKT Corp. Дата публикации: 2020-05-27.

Tire member molding device, tire member inspection method and tire member manufacturing method

Номер патента: JP7099939B2. Автор: 和浩 小林,博喜 井上. Владелец: Toyo Tire Corp. Дата публикации: 2022-07-12.

Precision press molding preform manufacturing apparatus, precision press molding preform manufacturing method, and optical element manufacturing method

Номер патента: JP5198036B2. Автор: 亮介 坂井,正尚 篠崎,忍 青江. Владелец: Ohara Inc. Дата публикации: 2013-05-15.

Fusion protein, substance manufacturing method, vector, transformed cell, pneumatic tire manufacturing method and rubber product manufacturing method

Номер патента: JP6923166B2. Автор: 征司 高橋,亨 中山,山口　晴彦,山口　　晴彦,ゆき乃 井之上,高橋　征司,中山　亨,哲 山下,譲 戸澤. Владелец: Kanazawa University NUC. Дата публикации: 2021-08-18.

Electrode, electrochemical element, electrode manufacturing method, and electrochemical element manufacturing method

Номер патента: JP4204407B2. Автор: 雅人 栗原,鈴木　　忠,哲 丸山. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2009-01-07.

Casein solubilization method and coffee creamer manufacturing method using the same

Номер патента: KR101312418B1. Автор: 전혜주,김환수,신한결. Владелец: 동서식품주식회사. Дата публикации: 2013-09-27.

Laminate battery exterior material, laminate battery exterior material manufacturing method, and laminate battery manufacturing method

Номер патента: JP5374742B2. Автор: 節子 小浦,和典 小沢,裕介 本間,教昌 三浦,克哉 乘田,康典 小沢,紀裕 今,好江 吉田. Владелец: Nippon Steel Nisshin Co Ltd. Дата публикации: 2013-12-25.

Zinc separation method, zinc material manufacturing method, and iron material manufacturing method

Номер патента: JP6743858B2. Автор: 鷲見　郁宏,郁宏 鷲見,亮太 村井,山口　東洋司,東洋司 山口,万里子 篠田,村井　亮太. Владелец: JFE Steel Corp. Дата публикации: 2020-08-19.

Water treatment method and ultrapure water manufacture method

Номер патента: CN102781849B. Автор: 育野望,新井伸说. Владелец: Kurita Water Industries ltd. Дата публикации: 2015-09-16.

Heat shielding device, paste-attached sheet manufacturing system, paste-attached sheet manufacturing method, and electrode plate manufacturing method

Номер патента: JP5545185B2. Автор: 尚也 岸本. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2014-07-09.

Precision press molding preform manufacturing method and optical element manufacturing method

Номер патента: JP4162623B2. Автор: 昌弘 吉田,学禄 鄒,義包 新熊,幹男 池西. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2008-10-08.

Window profile welding device, window profile welding method, and window frmae manufacturing method

Номер патента: KR102223893B1. Автор: 구자건,성재경,노용호. Владелец: (주)엘지하우시스. Дата публикации: 2021-03-08.

Electrolytic plating method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP2009277772A. Автор: 元伸 佐藤,Motonobu Sato. Владелец: Fujitsu Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2009-11-26.

Tooth defect restoration method and restoration material manufacturing method

Номер патента: JPWO2010021340A1. Автор: 孝 辻,悦子 池田,洋明 朝井. Владелец: Organ Technologies Inc. Дата публикации: 2012-01-26.

Wire electric discharge machining apparatus, wire electric discharge machining method, thin plate manufacturing method, and semiconductor wafer manufacturing method

Номер патента: JP5172019B2. Автор: 達志 佐藤,英孝 三宅,一彦 福島. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2013-03-27.

Polymer mold manufacturing method and plastic member manufacturing method

Номер патента: CN105216252B. Автор: G·贝克,M·菲施施魏格尔,W·卡佩尔米勒,L·赖特,H·席姆伯克,G·施泰因比希勒,G·哈通. Владелец: ENGEL AUSTRIA GMBH. Дата публикации: 2019-04-26.

Lightweight case manufacturing method and battery case manufacturing method

Номер патента: JP3719496B2. Автор: 泰久 青野,久宣 岡村,欣也 青田,昌之 土井,和孝 岡本. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2005-11-24.

Organic acid recovery method and recycled pulp manufacturing method

Номер патента: JP6667575B2. Автор: 孝 加藤,孝義 小西,宜秀 石川,利夫 平岡,加藤　孝,範朋 栗田. Владелец: Uni Charm Corp. Дата публикации: 2020-03-18.

Composite material joining method and joined body manufacturing method

Номер патента: JPWO2013099971A1. Автор: 卓巳 加藤. Владелец: Teijin Ltd. Дата публикации: 2015-05-11.

Metal tube drawing method and metal tube manufacturing method using the same

Номер патента: JPWO2011158464A1. Автор: 圭司 松本,松本　圭司,仁寿 豊田. Владелец: Sumitomo Metal Industries Ltd. Дата публикации: 2013-08-19.

Flame resistant fiber, its manufacturing method, and carbon fiber manufacturing method

Номер патента: JP6998923B2. Автор: 誠 毛利,望 重光,卓也 森下,麻美子 成田,秀保 河合,良弘 菊澤. Владелец: Toyota Central R&D Labs Inc. Дата публикации: 2022-01-18.

Winding device, sheet winding method and winding element manufacturing method

Номер патента: JP6998186B2. Автор: 僚治 多賀. Владелец: CKD Corp. Дата публикации: 2022-02-04.

Polishing method and alloy material manufacturing method

Номер патента: JPWO2014054611A1. Автор: 一誠 玉井,均 森永,舞子 浅井,玉井　一誠,裕 庭野. Владелец: Fujimi Inc. Дата публикации: 2016-08-25.

Relationship identification method, estimation method, and concrete composition manufacturing method

Номер патента: JP6909106B2. Автор: 祐一 ▲高▼橋,淳也 ▲鶴▼見,友弘 松沢. Владелец: Flowric Co Ltd. Дата публикации: 2021-07-28.

Mandrel mill, its operating method, and seamless pipe manufacturing method

Номер патента: WO2008056540A1. Автор: Kenichi Sasaki. Владелец: Sumitomo Metal Industries, Ltd.. Дата публикации: 2008-05-15.

Steel strip rolling method and steel plate manufacturing method

Номер патента: KR101158209B1. Автор: 시게루 오가와,다께아끼 와끼사까,도시유끼 시라이시. Владелец: 신닛뽄세이테쯔 카부시키카이샤. Дата публикации: 2012-06-19.

Multi-electrode submerged arc welding method and welded joint manufacturing method

Номер патента: JPWO2016199419A1. Автор: 直哉 早川,健次 大井,早川　直哉,大井　健次,渉平 上月. Владелец: JFE Steel Corp. Дата публикации: 2017-06-22.

Steel heat treatment method and bearing part manufacturing method

Номер патента: JP4540351B2. Автор: 力 大木,康平 藤田. Владелец: NTN Corp. Дата публикации: 2010-09-08.

Organic material removal method and recycled material manufacturing method

Номер патента: JP6785425B2. Автор: 和仁 小林,圭一 春日,小林　和仁,辛一 川澄. Владелец: Showa Denko Materials Co Ltd. Дата публикации: 2020-11-18.

Glass lump manufacturing apparatus, glass lump manufacturing method, and optical element manufacturing method

Номер патента: JP4309858B2. Автор: 昌弘 吉田. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2009-08-05.

Seat pad, vehicle seat, vehicle seat control method, and seat pad manufacturing method

Номер патента: WO2019116685A1. Автор: 泰輔 米澤,佳之 ▲高▼橋,由紀子 津川. Владелец: 株式会社ブリヂストン. Дата публикации: 2019-06-20.

Flux-cored wire, welded metal, gas-shielded arc welding method, and welded joint manufacturing method

Номер патента: KR20220113255A. Автор: 사토루 가노,마사히로 이노모토,다카노리 이토. Владелец: 가부시키가이샤 고베 세이코쇼. Дата публикации: 2022-08-12.

Steel pipe quenching method and steel pipe manufacturing method using same

Номер патента: EP2612932A4. Автор: Masanao Seo. Владелец: Nippon Steel and Sumitomo Metal Corp. Дата публикации: 2017-08-09.

Ink filling method and ink cartridge manufacturing method

Номер патента: CN109572219B. Автор: 志村真一郎,安藤一行,守永真利绘,杉浦光,大泽信介. Владелец: Riso Kagaku Corp. Дата публикации: 2020-11-10.

End cap for drive cable, drive cable, end cap manufacturing method, and drive cable manufacturing method

Номер патента: JP2011510244A. Автор: ベルント アーベントロート，,クラウス キュスター，. Владелец: メフレックス テレコントロール ゲーエムベーハー ウント ツェーオー． カーゲー. Дата публикации: 2011-03-31.

Gas mixing device, synthetic gas manufacturing apparatus, gas mixing method, and synthetic gas manufacturing method

Номер патента: US20120001125A1. Автор: Oguro Shuichi,Yamada Nobuhiro. Владелец: JDC CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

IMPRINT METHOD, IMPRINT APPARATUS, AND ARTICLE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20120321797A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-12-20.

Imprint method, imprint apparatus, and article manufacturing method using the same

Номер патента: JP6304921B2. Автор: 啓子 千葉,由紀夫 羽生,羽生　由紀夫. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-04-04.

Bearing manufacturing method and manufacturing device, vehicle manufacturing method, and mechanical device manufacturing method

Номер патента: JP7180206B2. Автор: 一登 小林,信行 萩原. Владелец: NSK LTD. Дата публикации: 2022-11-30.

Coating apparatus and coating method, and color filter manufacturing method and manufacturing apparatus

Номер патента: JP3757992B2. Автор: 俊英 関戸,義之 北村,浩充 金森. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2006-03-22.

A piezoelectric transducer, an actuator system, a measurement system, a control system, an optical metrology tool, an e-beam inspection tool, a lithographic apparatus, a piezo transducer manufacturing method and a device manufacturing method

Номер патента: NL2025293A. Автор: JANSEN Bas,Petrus Martinus Bernardus Vermeulen Johannes,Jeroen Hermanussen Sander. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-05-07.

MOVABLE BODY DRIVE METHOD AND MOVABLE BODY DRIVE SYSTEM, PATTERN FORMATION METHOD AND APPARATUS, EXPOSURE METHOD AND APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND CALIBRATION METHOD

Номер патента: US20120127453A1. Автор: Shibazaki Yuichi. Владелец: NIKON CORPORATION. Дата публикации: 2012-05-24.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20120214317A1. Автор: . Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC.. Дата публикации: 2012-08-23.

OVERLAY CONTROL METHOD AND A SEMICONDUCTOR MANUFACTURING METHOD AND APPARATUS EMPLOYING THE SAME

Номер патента: US20120244461A1. Автор: . Владелец: TOSHIBA AMERICA ELECTRONIC COMPONENTS, INC.. Дата публикации: 2012-09-27.

WELDING DEFECT DETECTING METHOD AND SYSTEM, ELECTRIC SEWING TUBE MANUFACTURING METHOD, AND WELDED PRODUCT MANUFACTURING METHOD

Номер патента: JP5909872B2. Автор: 昌利 荒谷,幸理 飯塚,岡部　能知,能知 岡部,泰康 横山,俊文 児玉,俊介 豊田,児玉　俊文,飯塚　幸理,弘道 堀,謙一 岩崎,竜男 小出. Владелец: JFE Steel Corp. Дата публикации: 2016-04-27.

RESIN EMULSION FOR METAL SURFACE TREATMENT, METAL SURFACE TREATING AGENT, SURFACE TREATED METAL MATERIAL AND ITS MANUFACTURING METHOD, AND RESIN EMULSION MANUFACTURING METHOD

Номер патента: JP6574973B1. Автор: 明 長谷部,憲一郎 石本. Владелец: Saiden Chemical Industry Co Ltd. Дата публикации: 2019-09-18.

Prepreg and its manufacturing method, fiber reinforced thermoplastic resin sheet manufacturing method, metal-clad laminated sheet manufacturing method, and wiring board manufacturing method

Номер патента: JP6866626B2. Автор: 浩義 上野,河向　隆,隆 河向. Владелец: Oji Paper Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-28.

Projection optical system manufacturing method, projection optical system manufactured by the manufacturing method, projection exposure apparatus and method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4192279B2. Автор: 陽子 木村,一政 田中. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2008-12-10.

Processing liquid and removing method for alkali-soluble polymer resin layer, resist pattern forming method, and circuit board manufacturing method

Номер патента: JP2007286385A. Автор: Yuji Toyoda,Kunihiro Nakagawa,裕二 豊田,邦弘 中川,Yasuo Kaneda,安生 金田,宗利 入沢,Munetoshi Irisawa. Владелец: Mitsubishi Paper Mills Ltd. Дата публикации: 2007-11-01.

Photosensitive transfer material and its manufacturing method, resin pattern manufacturing method, and circuit wiring manufacturing method.

Номер патента: JP7048332B2. Автор: 慎一 漢那,一真 両角,克己 篠田,進二 藤本. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-04-05.

Group III nitride semiconductor device manufacturing apparatus and method, and semiconductor wafer manufacturing method

Номер патента: JP6562350B2. Автор: 勝 堀,修 小田,小田　　修. Владелец: Tokai National Higher Education and Research System NUC. Дата публикации: 2019-08-21.

Heating method and carbon fiber manufacturing method, carbonization equipment and carbon fiber manufacturing equipment

Номер патента: JP6878095B2. Автор: 鈴木　慶宜,慶宜 鈴木,章成 中島. Владелец: Teijin Ltd. Дата публикации: 2021-05-26.

Pattern Verification Method, Pattern Verification System, Mask Manufacturing Method and Semiconductor Device Manufacturing Method

Номер патента: US20120054695A1. Автор: . Владелец: KABUBHSIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-03-01.

PRINT CONTROL APPARATUS, IMAGE FORMING SYSTEM, PRINT CONTROL METHOD, AND PRINTED-MATTER MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20120063802A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-03-15.

BINOCULAR VISUAL PERFORMANCE MEASURING METHOD, BINOCULAR VISUAL PERFORMANCE MEASURING PROGRAM, EYEGLASS LENS DESIGN METHOD AND EYEGLASS LENS MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20120105609A1. Автор: Qi Hua. Владелец: HOYA CORPORATION. Дата публикации: 2012-05-03.

DEFLECTOR ARRAY, CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND DEFLECTOR ARRAY MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20120115306A1. Автор: Yamazaki Toru,HIRATA Yoshihiro,Kuwabara Masamichi. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-05-10.

MIRROR DEVICE, MIRROR ARRAY, OPTICAL SWITCH, MIRROR DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND MIRROR SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20120162735A1. Автор: MURAKAMI Makoto,UCHIYAMA Shingo,YAMAGUCHI Johji,SATO Makoto,SASAKURA Kunihiko,MORITA Hirofumi,INAGAKI Shuichiro,MACHIDA Katsuyuki,ISHII Hiromu. Владелец: . Дата публикации: 2012-06-28.

Polishing Agent, Compound Semiconductor Manufacturing Method, and Semiconductor Device Manufacturing Method

Номер патента: US20120164833A1. Автор: . Владелец: Sumitomo Electric Industries, Ltd.. Дата публикации: 2012-06-28.

WIRE ELECTRIC DISCHARGE MACHINING APPARATUS, WIRE ELECTRIC DISCHARGE MACHINING METHOD, THIN BOARD MANUFACTURING METHOD, AND SEMICONDUCTOR WAFER MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20120217224A1. Автор: . Владелец: Mitsubishi Electric Corporation. Дата публикации: 2012-08-30.

VAPOR DEPOSITION DEVICE, VAPOR DEPOSITION METHOD, AND SEMICONDUCTOR ELEMENT MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20120225564A1. Автор: Sakagami Hidekazu,ADACHI Yusuke. Владелец: SHARP KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-09-06.

VACUUM PROCESSING APPARATUS, VACUUM PROCESSING METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20130032468A1. Автор: Yamamoto Hajime,IMAI Hiroyuki. Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2013-02-07.

WORKPIECE RETAINER, WIRE ELECTRIC DISCHARGE MACHINING DEVICE, THIN-PLATE MANUFACTURING METHOD, AND SEMICONDUCTOR-WAFER MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20130043217A1. Автор: Sato Tatsushi,Miyake Hidetaka,Yuzawa Takashi,Itokazu Atsushi. Владелец: Mitsubishi Electric Corporation. Дата публикации: 2013-02-21.

SILICON CARBIDE SUBSTRATE, SILICON CARBIDE SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20130056752A1. Автор: Fujiwara Shinsuke,HARADA Shin. Владелец: Sumitomo Electric Industries, Ltd.. Дата публикации: 2013-03-07.

JOINING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20130134210A1. Автор: Shinkai Masayoshi,MUTO Aya. Владелец: . Дата публикации: 2013-05-30.

Granule transfer pipe, olefin polymer manufacturing apparatus, powder particle transfer method, and olefin polymer manufacturing method

Номер патента: JP5459697B2. Автор: 友彰 後藤. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2014-04-02.

Chemical mechanical polishing method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4077192B2. Автор: 直明 桜井,俊秀 林. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2008-04-16.

Polishing method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP3529926B2. Автор: 貞浩 岸井,亘 中村,由弘 有本,明良 大石,隣太郎 鈴木. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2004-05-24.

Polishing method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4068323B2. Автор: 学 南幅,博之 矢野. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2008-03-26.

Cleaning composition, semiconductor substrate cleaning method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4821122B2. Автор: 雅幸 服部,智久 金野,信夫 川橋,清信 窪田. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-11-24.

Cylindrical molded body processing method and pneumatic tire manufacturing method

Номер патента: JP4720291B2. Автор: 善弘 添田. Владелец: Yokohama Rubber Co Ltd. Дата публикации: 2011-07-13.

Substrate cleaning method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4094323B2. Автор: 至 菅野. Владелец: Renesas Technology Corp. Дата публикации: 2008-06-04.

Semiconductor device manufacturing method and multilayer wiring manufacturing method

Номер патента: JP3869537B2. Автор: 嘉之 大倉,渉 布藤,秀樹 原田. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2007-01-17.

Multilayer wiring forming method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP3941485B2. Автор: 武憲 成田. Владелец: Showa Denko Materials Co Ltd. Дата публикации: 2007-07-04.

Photomask, shot overlay accuracy measuring method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4634929B2. Автор: 孝継 吉田,勝裕 西野. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2011-02-23.

Focused ion beam apparatus, processing method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP3350374B2. Автор: 通伸 水村,有一 濱村,淳三 東,規正 西村,朗 嶋瀬. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2002-11-25.

Cleaning method and semiconductor device manufacturing method using the same

Номер патента: JP3863229B2. Автор: 勝啓 太田,昭男 斉藤,晴夫 伊藤,勝彦 伊藤,倫正 舟橋. Владелец: Renesas Technology Corp. Дата публикации: 2006-12-27.

Tungsten nitride (WNx) layer manufacturing method and metal wiring manufacturing method using the same

Номер патента: CN1115723C. Автор: 李相忍,朴炳律,河定旼,高大弘. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2003-07-23.

Mask blank manufacturing method, phase shift mask manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP6295352B2. Автор: 博明 宍戸,猛伯 梶原,野澤　順,順 野澤. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2018-03-14.

Honeycomb fired body inspection method and honeycomb structure manufacturing method

Номер патента: JP5057802B2. Автор: 一茂 大野,範彦 山村,幸二 島戸. Владелец: Ibiden Co Ltd. Дата публикации: 2012-10-24.

Thin film forming method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4966899B2. Автор: 秀昭 座間,道夫 石川. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2012-07-04.

Heat treatment apparatus, heat treatment method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4355441B2. Автор: 英二 保坂,克尚 笠次,幹雄 田辺,敏光 宮田,和賀子 白鳥,健治 大野. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2009-11-04.

Manufacturing device for transplantation, its manufacturing method, and bioartificial organ manufacturing method

Номер патента: JP6920681B2. Автор: 昭一郎 角,雅子 川越,清文 榎本. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 2021-08-18.

Inspection apparatus, inspection method, and pattern substrate manufacturing method

Номер патента: JP4822103B2. Автор: 正典 小林,治彦 楠瀬,克宜 中嶋,博基 宮井,弘修 鈴木. Владелец: Lasertec Corp. Дата публикации: 2011-11-24.

Mask blank glass substrate manufacturing method, mask blank manufacturing method, reflective mask blank manufacturing method, exposure mask manufacturing method, reflective mask manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4786899B2. Автор: 今朝広 小池,伸和 田中,修 丸山,勝治 下嶋. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2011-10-05.

Dry etching method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP3816494B2. Автор: 武志 山下,秀樹 堂下,光一 川嶋. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2006-08-30.

Toner binder manufacturing method and resin particle manufacturing method

Номер патента: JP6404390B2. Автор: 泰昭 大田. Владелец: Sanyo Chemical Industries Ltd. Дата публикации: 2018-10-10.

糠 Food manufacturing method and 糠 food intermediate manufacturing method

Номер патента: JP4294184B2. Автор: 陽子 田中. Владелец: 陽子 田中. Дата публикации: 2009-07-08.

Refining process state estimation device, refining process state estimation method, and molten metal manufacturing method

Номер патента: JP6579136B2. Автор: 富山　伸司,伸司 富山,寛人 加瀬. Владелец: JFE Steel Corp. Дата публикации: 2019-09-25.

Thin film transistor manufacturing method and display device manufacturing method including the thin film transistor

Номер патента: JP4434644B2. Автор: 弘喜 中村. Владелец: Toshiba Mobile Display Co Ltd. Дата публикации: 2010-03-17.

Soundproof material manufacturing method and soundproof structure manufacturing method

Номер патента: JP2021096305A. Автор: 健太 南,Kenta Minami,哲史 堀部,Tetsushi Horibe. Владелец: Nissan Motor Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-24.

Mask blank glass substrate manufacturing method, mask blank manufacturing method, exposure mask manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4761360B2. Автор: 勝 田辺. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2011-08-31.

Semiconductor substrate quality evaluating method and semiconductor substrate manufacturing method

Номер патента: JP2007180485A. Автор: Morimasa Miyazaki,守正 宮崎. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2007-07-12.

Valve device, butterfly valve assembly method, and throttle body manufacturing method

Номер патента: JP4593538B2. Автор: 肇 森本,和人 西村,直 北村. Владелец: Aisan Industry Co Ltd. Дата публикации: 2010-12-08.

Dry etching method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP3295172B2. Автор: 加津雄 高野. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2002-06-24.

Spark plug inspection method and spark plug manufacturing method

Номер патента: JP3792918B2. Автор: 隆男 浜田,和弘 野澤,伸一郎 光松. Владелец: NGK Spark Plug Co Ltd. Дата публикации: 2006-07-05.

Ceramic substrate manufacturing method and circuit board manufacturing method

Номер патента: JP7047493B2. Автор: 浩和 加藤,拓也 松尾. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2022-04-05.

Pneumatic tire manufacturing method and tire member manufacturing method

Номер патента: JP6449580B2. Автор: 祐樹 込谷. Владелец: Toyo Tire and Rubber Co Ltd. Дата публикации: 2019-01-09.

Silicon sample pretreatment method, silicon sample metal contamination evaluation method, single crystal silicon ingot growth process evaluation method, single crystal silicon ingot manufacturing method, and silicon wafer manufacturing method

Номер патента: JP7131513B2. Автор: 宏和 加藤. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2022-09-06.

Mask blank glass substrate manufacturing method, mask blank manufacturing method, and exposure mask manufacturing method

Номер патента: JP4683409B2. Автор: 勝 田辺. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2011-05-18.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP5184329B2. Автор: 正直 福田,隆史 佐々木,和広 盛満. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2013-04-17.

Semiconductor wafer inspection method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4944982B2. Автор: 修 溝口. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2012-06-06.

Laser device, laser irradiation method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4459581B2. Автор: 将樹 古山,秀和 宮入,明久 下村,圭恵 高野. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2010-04-28.

Inspection apparatus, inspection method, and pattern substrate manufacturing method

Номер патента: JP4654408B2. Автор: 治彦 楠瀬. Владелец: Lasertec Corp. Дата публикации: 2011-03-23.

Substrate bonding method and inkjet head manufacturing method

Номер патента: JP4569201B2. Автор: 泰男 西. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2010-10-27.

Piezoelectric element manufacturing method and piezoelectric ceramic manufacturing method

Номер патента: JP4518772B2. Автор: 泰治 立山. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2010-08-04.

Carbon fiber sheet material, molded body, carbon fiber sheet material manufacturing method and molded body manufacturing method

Номер патента: JP6890141B2. Автор: 宏亮 佐藤,裕也 豊川. Владелец: Awa Paper Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-18.

Photosensitive composition, pattern forming method, and electronic component manufacturing method

Номер патента: JP3713360B2. Автор: 修二 早瀬,智 御子柴,義彦 中野,利佳子 可児. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2005-11-09.

Semiconductor film manufacturing method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4711042B2. Автор: 浩行 島田. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2011-06-29.

Pattern forming method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: CN103226285A. Автор: 小泽美和,野崎耕司. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2013-07-31.

Wiring film manufacturing method, liquid crystal display device manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP3629716B2. Автор: 孝 井上. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2005-03-16.

Photosensitive material, relief pattern manufacturing method and polyimide pattern manufacturing method

Номер патента: JP3748086B2. Автор: 茂樹 加藤木,誠 鍛治,昌彦 広. Владелец: Showa Denko Materials Co Ltd. Дата публикации: 2006-02-22.

Laminate manufacturing method and pneumatic tire manufacturing method

Номер патента: JP5565501B2. Автор: 修作 友井. Владелец: Yokohama Rubber Co Ltd. Дата публикации: 2014-08-06.

Mask blank substrate manufacturing method, mask blank manufacturing method, and transfer mask manufacturing method

Номер патента: JP5671305B2. Автор: 今朝広 小池,貴仁 西村,小池　今朝広. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2015-02-18.

Semiconductor manufacturing apparatus cleaning method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP3338123B2. Автор: 晴雄 岡野,圭 服部. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2002-10-28.

Optical fiber preform manufacturing method and optical fiber manufacturing method

Номер патента: JP6170968B2. Автор: 美矢子 合原,伸男 大関. Владелец: Fujikura Ltd. Дата публикации: 2017-07-26.

Surface emitting semiconductor laser manufacturing method and electronic device manufacturing method

Номер патента: JP3876910B2. Автор: 啓修 成井,義昭 渡部,嘉幸 田中,義則 山内,勇一 黒水. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2007-02-07.

Dry developing method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP3309095B2. Автор: 尚 松坂,敦子 山口,隆 曽我,太郎 小川,昌昭 伊東,橘　　浩昭,睦良 松本. Владелец: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST. Дата публикации: 2002-07-29.

Steel strip side trimmer, steel strip shearing device, steel strip shearing method and steel strip manufacturing method

Номер патента: JP2020121317A. Автор: 隆嘉 仁保,大剛 中島,Daigo Nakajima,Takayoshi Niho. Владелец: JFE Steel Corp. Дата публикации: 2020-08-13.

Thin film transistor manufacturing method and display device manufacturing method

Номер патента: JP4614652B2. Автор: 厳 藤井. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2011-01-19.

Substrate alignment apparatus, substrate bonding apparatus, substrate alignment method, and laminated semiconductor manufacturing method

Номер патента: JP5798721B2. Автор: 義昭 鬼頭,廣 白数,豊 帆引,白数　廣,帆引　豊. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2015-10-21.

Impurity introduction device, impurity introduction method, and semiconductor element manufacturing method

Номер патента: JP6647621B2. Автор: 池上　浩,康和 関,治雄 中澤,種正 浅野,中澤　治雄,研一 井口,晃裕 池田,浩 池上. Владелец: Fuji Electric Co Ltd. Дата публикации: 2020-02-14.

Semiconductor device manufacturing method and semiconductor substrate manufacturing method

Номер патента: JP4126863B2. Автор: 昌宏 石田. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2008-07-30.

Pattern forming method, phase shift mask manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP3279313B2. Автор: 尚志 渡辺. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2002-04-30.

柿 paste manufacturing method and 柿 ice cream manufacturing method

Номер патента: JP6452865B1. Автор: 茂満 ▲高▼橋. Владелец: 茂満 ▲高▼橋. Дата публикации: 2019-01-16.

Vibrating piece manufacturing method and electronic device manufacturing method

Номер патента: JP6435599B2. Автор: 菊池　尊行,菊池　　尊行,竜太 西澤,貴俊 杉山,啓史 中川. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2018-12-12.

Group III nitride crystal manufacturing method and semiconductor substrate manufacturing method

Номер патента: JP4554287B2. Автор: 康夫 北岡,尚 峯本,勇介 森,勲 木戸口,孝友 佐々木,史朗 川村. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2010-09-29.

Display body manufacturing method and electronic device manufacturing method

Номер патента: JP4207421B2. Автор: 秀幸 川居. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2009-01-14.

Sealing material, sealing material forming method, and sealing material manufacturing method

Номер патента: JP3238987B2. Автор: 和夫 太田,俊一 清沢,捷二 清家,俊市 伊神. Владелец: Tokyo Electric Power Services Co Ltd. Дата публикации: 2001-12-17.

Pattern forming method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP3242122B2. Автор: 好彦 岡本. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2001-12-25.

Shallow groove isolation formation method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: CN102709226A. Автор: 徐强. Владелец: Shanghai Huali Microelectronics Corp. Дата публикации: 2012-10-03.

Substrate defect inspection method and photomask blank manufacturing method

Номер патента: JP7088772B2. Автор: 恒男 寺澤,隆裕 木下. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-21.

Tenter blower, polymer film drying method, and polymer film manufacturing method

Номер патента: JP4813216B2. Автор: 紳由 鈴木,健太郎 谷村. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2011-11-09.

III-nitride semiconductor device, manufacturing method thereof, semiconductor wafer manufacturing method, and template substrate manufacturing method

Номер патента: JP7202604B2. Автор: 勝 堀,修 小田. Владелец: Tokai National Higher Education and Research System NUC. Дата публикации: 2023-01-12.

Pattern transfer method, metal thin film pattern transfer method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: JP5177260B2. Автор: 弘嗣 石原,敏規 島村,正信 田中,隆広 亀井. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2013-04-03.

Mask substrate information generation method and mask substrate manufacturing method

Номер патента: JP3947154B2. Автор: 正光 伊藤. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2007-07-18.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP5362782B2. Автор: 徹 加賀谷,信人 嶋,正憲 境. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2013-12-11.

Plasma treatment apparatus, surface treatment method, and optical component manufacturing method

Номер патента: JP4268231B2. Автор: 忠弘 大見,信義 田中,昌樹 平山,剛洙 丁. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-05-27.

Pattern forming method, uneven structure manufacturing method and replica mold manufacturing method

Номер патента: JP6940940B2. Автор: 泰央 大川,勝 中川,中川　勝,博和 小田,一行 須向,盛久 法元,慶太 飯村,法元　盛久. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2021-09-29.

Diaphragm manufacturing method and pressure sensor manufacturing method

Номер патента: JP5864079B2. Автор: 隆史 鎌田,恭太郎 高橋,雅志 山田. Владелец: Seiko Instruments Inc. Дата публикации: 2016-02-17.

Ashing method and semiconductor device manufacturing method using the same

Номер патента: JP4128507B2. Автор: 晃一 濱田,慎二 梶原. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp . Дата публикации: 2008-07-30.

Steel length measuring device, steel material manufacturing device, steel length measuring method, and steel material manufacturing method

Номер патента: JP6390639B2. Автор: 悠人 則武. Владелец: JFE Steel Corp. Дата публикации: 2018-09-19.

Substrate manufacturing method, mask blank manufacturing method, and transfer mask manufacturing method

Номер патента: JP6823376B2. Автор: 達也 佐々木,山田　剛之,剛之 山田,寿治 菊地,佐々木　達也. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2021-02-03.

Pattern forming method and integrated circuit manufacturing method

Номер патента: JP3947755B2. Автор: 和也 加門. Владелец: Renesas Technology Corp. Дата публикации: 2007-07-25.

Wafer, wafer manufacturing method, and device chip manufacturing method

Номер патента: JP6391294B2. Автор: 栄 松崎. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2018-09-19.

Silicon surface passivation method, surface passivated silicon manufacturing method, and solar cell manufacturing method

Номер патента: JP6415918B2. Автор: 直樹 深田,ムリナル ダッタ. Владелец: NATIONAL INSTITUTE FOR MATERIALS SCIENCE. Дата публикации: 2018-10-31.

Coating equipment, sanitary goods manufacturing equipment, coating methods, and sanitary goods manufacturing methods

Номер патента: JP6879048B2. Автор: 壮 佐藤,大介 西郡,伸二 仲山,宏幸 永谷. Владелец: Oji Paper Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-02.

Probe manufacturing method and probe array manufacturing method

Номер патента: JP4558886B2. Автор: 淳一 高橋,元一 大津,元伸 興梠,崇 八井. Владелец: Kanagawa Academy of Science and Technology. Дата публикации: 2010-10-06.

Projection exposure apparatus, projection exposure method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP5002704B2. Автор: 洋明 武石. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-08-15.

Semiconductor thin film manufacturing method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4315742B2. Автор: 博之 藤原,光彦 荻原,一松 安孫子,昌明 佐久田. Владелец: 株式会社沖デジタルイメージング. Дата публикации: 2009-08-19.

Laser irradiation method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP3871994B2. Автор: 幸一郎 田中,智昭 森若. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2007-01-24.

Foreign matter detection method and semiconductor device manufacturing method using the same

Номер патента: JP3339856B2. Автор: 稔 野口,行雄 見坊. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2002-10-28.

Cylindrical core holder, polyimide endless belt manufacturing method, and fixing belt manufacturing method

Номер патента: JP4492172B2. Автор: 雄一 矢敷,雅之 武井,朗 佐藤,淳 三原,武志 米山. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2010-06-30.

Surface hydrophobization method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4780276B2. Автор: 達也 山中,学 関口,淳 塩田,将宏 秋山,清太郎 服部. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-09-28.

Clad container welding method and sponge titanium manufacturing method using the same

Номер патента: JP4866148B2. Автор: 直文 中原,雅之 成田,正巳 広田. Владелец: Toho Titanium Co Ltd. Дата публикации: 2012-02-01.

Photosensitive resin composition, photosensitive resin laminate, resist pattern forming method and conductor pattern manufacturing method

Номер патента: JP6755109B2. Автор: 秀昭 西本. Владелец: Asahi Kasei Corp. Дата публикации: 2020-09-16.

Substrate processing method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP4612424B2. Автор: 雅利 小薄,竹志 伊藤,博之 豊村,英機 伊藤. Владелец: Fujitsu Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2011-01-12.

Microstructure manufacturing method, organic EL device manufacturing method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: JP3951162B2. Автор: 克行 森井. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2007-08-01.

Heat sink forging material, heat sink forging material manufacturing method, and heat sink manufacturing method

Номер патента: JP6566566B2. Автор: 翔史 橋本. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2019-08-28.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.