Semiconductor structure having a landing area extends from first portion to second portion of an active area across a bit-line
Номер патента: US20230114564A1
Опубликовано: 13-04-2023
Автор(ы): Chih-hao Kuo, Chih-Wei Huang, Hsu-Cheng Fan
Принадлежит: Nanya Technology Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 13-04-2023
Автор(ы): Chih-hao Kuo, Chih-Wei Huang, Hsu-Cheng Fan
Принадлежит: Nanya Technology Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Semiconductor structure and manufacturing method thereof
Номер патента: US20230380146A1. Автор: Yi Jiang,Deyuan Xiao,GuangSu SHAO,Yunsong QIU. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2023-11-23.