Photoactive monomer, photosensitive polymer and chemically amplified photoresist composition including the same
Номер патента: TW200536825A
Опубликовано: 16-11-2005
Автор(ы): Deog-Bae Kim, Jae-Hyun Kim, Jae-Woo Lee
Принадлежит: Dongjin Semichem Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 16-11-2005
Автор(ы): Deog-Bae Kim, Jae-Hyun Kim, Jae-Woo Lee
Принадлежит: Dongjin Semichem Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
PHOTOACID GENERATOR AND CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE-TYPE PHOTORESIST COMPOSITION FOR THICK FILM COMPRISING THE SAME
Номер патента: US20200033724A1. Автор: KIM Ji Hye,LIM Min Young,LEE Tae Seob. Владелец: LG CHEM, LTD.. Дата публикации: 2020-01-30.