REPLACEMENT GATE MOSFET WITH A HIGH PERFORMANCE GATE ELECTRODE
Номер патента: US20130175641A1
Опубликовано: 11-07-2013
Автор(ы): Guo Dechao, Knarr Randolph F., Li Zhengwen, Pei Chengwen, Wang Gan, Wang Yanfeng, Wong Keith Kwong Hon, Yu Jian, Yuan Jun
Принадлежит: INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 11-07-2013
Автор(ы): Guo Dechao, Knarr Randolph F., Li Zhengwen, Pei Chengwen, Wang Gan, Wang Yanfeng, Wong Keith Kwong Hon, Yu Jian, Yuan Jun
Принадлежит: INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Thin film transistor with a high impurity region overlapping the gate electrode
Номер патента: US8263982B2. Автор: Hidenori Kawata. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2012-09-11.