Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

Mask and headgear connector

Номер патента: US9901701B2
Опубликовано: 27-02-2018
Автор(ы): Michael Kassipillai Gunaratnam, Philip Rodney Kwok
Принадлежит: ResMed Pty Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Mask and headgear connector

Номер патента: US20020096176A1. Автор: Michael Gunaratnam,Philip Kwok. Владелец: ResMed Pty Ltd. Дата публикации: 2002-07-25.

Mask and headgear connector

Номер патента: US8844532B2. Автор: Michael Kassipillai Gunaratnam,Philip Rodney Kwok. Владелец: ResMed Pty Ltd. Дата публикации: 2014-09-30.

Mask and headgear connector

Номер патента: US7600513B2. Автор: Michael K. Gunaratnam,Philip R. Kwok. Владелец: ResMed Pty Ltd. Дата публикации: 2009-10-13.

Mask and headgear connector

Номер патента: US20090293869A1. Автор: Michael K. Gunaratnam,Phillip R. Kwok. Владелец: ResMed Pty Ltd. Дата публикации: 2009-12-03.

Mask and headgear connector

Номер патента: US8210181B2. Автор: Michael Kassipillai Gunaratnam,Philip Rodney Kwok. Владелец: ResMed Pty Ltd. Дата публикации: 2012-07-03.

Mask and headgear connection

Номер патента: US20180140797A1. Автор: Michael Kassipillai Gunaratnam,Philip Rodney Kwok. Владелец: ResMed Pty Ltd. Дата публикации: 2018-05-24.

Mask and headgear connector

Номер патента: EP1187650A4. Автор: Michael Kassipillai Gunaratnam,Philip Rodney Kwok. Владелец: ResMed Pty Ltd. Дата публикации: 2003-04-16.

Mask and headgear connector

Номер патента: AU5200700A. Автор: Michael Kassipillai Gunaratnam,Philip Rodney Kwok. Владелец: ResMed Pty Ltd. Дата публикации: 2001-01-09.

Sleeve with magnet for modularity and headgear for the same

Номер патента: EP4422730A2. Автор: Beng Hai Tan. Владелец: Resmed Asia Operations Pte Ltd. Дата публикации: 2024-09-04.

Sleeve with magnet for modularity and headgear for the same

Номер патента: WO2023075698A3. Автор: Beng Hai Tan. Владелец: ResMed Asia Pte. Ltd.. Дата публикации: 2023-06-22.

Patient interface having adaptive system, respiratory mask and cushion module adapted with adaptive system

Номер патента: US11819614B2. Автор: Chun-Hung Chen,Yu-Chen Liu,Chih-Tsan CHIEN,Chia-Wei Huang,Pi-Kai Lee,Shin-Lan Lin. Владелец: Apex Medical Corp. Дата публикации: 2023-11-21.

Articulating headgear connector for respiratory masks

Номер патента: WO2013162675A1. Автор: Sameer Kulkarni,Robert F. Moore,Thomas M. Moulton. Владелец: Sleepnet Corporation. Дата публикации: 2013-10-31.

Connector for a respiratory mask and a respiratory mask

Номер патента: US20120048276A1. Автор: Geoffrey Crumblin,Michael K. Gunaratnam,Joanne E. Drew,Susan R. Lynch,Phillip Jenkinson. Владелец: ResMed Pty Ltd. Дата публикации: 2012-03-01.

Complex mask and cannula for intranasal positive continuous pressure in airways

Номер патента: RU2476247C2. Автор: Стив ХЭН,Стив ДЮКЕТТ,Харольд МИЛЛЕР. Владелец: Кэафьюжн 207, Инк.. Дата публикации: 2013-02-27.

Frame and headgear for respiratory mask system

Номер патента: EP3684453A1. Автор: Thomas Mark Richardson,Callum Ross Gordon,Ryan Anthony Graham,Bruno Sintive,Mark Andrew Thompson,Amit Galgali,Vicky Dan Gao,Cameron Robert Willis,Jake Baker Hocking,Priyanka Ferdinand Pereira,Jordan Dean Jones KIMPTON. Владелец: Fisher and Paykel Healthcare Ltd. Дата публикации: 2020-07-29.

Frame and headgear for respiratory mask system

Номер патента: AU2018332520B2. Автор: Thomas Mark Richardson,Callum Ross Gordon,Ryan Anthony Graham,Bruno Sintive,Mark Andrew Thompson,Amit Galgali,Vicky Dan Gao,Cameron Robert Willis,Jake Baker Hocking,Priyanka Ferdinand Pereira,Jordan Dean Jones KIMPTON. Владелец: Fisher and Paykel Healthcare Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Frame and headgear for respiratory mask system

Номер патента: US12121663B2. Автор: Thomas Mark Richardson,Callum Ross Gordon,Ryan Anthony Graham,Bruno Sintive,Mark Andrew Thompson,Amit Galgali,Vicky Dan Gao,Cameron Robert Willis,Jake Baker Hocking,Priyanka Ferdinand Pereira,Jordan Dean Jones KIMPTON. Владелец: Fisher and Paykel Healthcare Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Headgear for a respiratory mask and a method for donning a respiratory mask

Номер патента: US12083281B2. Автор: Joel Edward Gibson,Anthony Paul Barbara. Владелец: ResMed Pty Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Frame and headgear for respiratory mask system

Номер патента: EP4309716A2. Автор: Thomas Mark Richardson,Callum Ross Gordon,Ryan Anthony Graham,Bruno Sintive,Mark Andrew Thompson,Amit Galgali,Vicky Dan Gao,Cameron Robert Willis,Jake Baker Hocking,Priyanka Ferdinand Pereira,Jordan Dean Jones KIMPTON. Владелец: Fisher and Paykel Healthcare Ltd. Дата публикации: 2024-01-24.

Patient interface and headgear for a respiratory apparatus

Номер патента: AU2021202249B2. Автор: Kevin Peter O'donnell,Sean Joel BABBAGE,Martin Paul Friedrich Kramer,Peter Geoffrey Hawkins,Milanjot Singh ASSI,Samuel Robertson Frame. Владелец: Fisher and Paykel Healthcare Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Patient interface and headgear for a respiratory apparatus

Номер патента: US20230390515A1. Автор: Kevin Peter O'donnell,Sean Joel BABBAGE,Martin Paul Friedrich Kramer,Peter Geoffrey Hawkins,Milanjot Singh ASSI,Samuel Robertson Frame. Владелец: Fisher and Paykel Healthcare Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Frame and headgear for respiratory mask system

Номер патента: EP4309716A3. Автор: Thomas Mark Richardson,Callum Ross Gordon,Ryan Anthony Graham,Bruno Sintive,Mark Andrew Thompson,Amit Galgali,Vicky Dan Gao,Cameron Robert Willis,Jake Baker Hocking,Priyanka Ferdinand Pereira,Jordan Dean Jones KIMPTON. Владелец: Fisher and Paykel Healthcare Ltd. Дата публикации: 2024-05-01.

Patient interface and headgear for a respiratory apparatus

Номер патента: AU2023270182A1. Автор: Peter O'donnell Kevin,Geoffrey Hawkins Peter,Joel Babbage Sean,Singh Assi Milanjot,Paul Friedrich Kramer Martin,Robertson Frame Samuel. Владелец: Fisher and Paykel Healthcare Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Mask assembly and headgear

Номер патента: US09962513B2. Автор: Amal Shirley Amarasinghe. Владелец: ResMed Pty Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

CPAP machine mask and hose holder

Номер патента: US20190076610A1. Автор: Joseph Stephen Alarid. Владелец: Individual. Дата публикации: 2019-03-14.

Oxygen face mask and component system

Номер патента: EP2953538A1. Автор: Edward P. Browka,Stanton D. Batchelor,John W. Beard,V David S. Reid,III Thomas R. BLACKBURN. Владелец: MONITOR MASK Inc. Дата публикации: 2015-12-16.

Facial access oxygen face mask and component system

Номер патента: EP3166675A2. Автор: John W. Beard. Владелец: MONITOR MASK Inc. Дата публикации: 2017-05-17.

Ventilator mask and joint thereof

Номер патента: US20230144588A1. Автор: Chia-Jung Chen,Zu-Chun Lin,Yi-Fong Jhuo,Mei-Chin Hung,Hsing-Long Lin. Владелец: BUDDHIST TZU CHI MEDICAL FOUNDATION. Дата публикации: 2023-05-11.

Facial access oxygen face mask and component system

Номер патента: US20180110951A2. Автор: John W. Beard. Владелец: MONITOR MASK Inc. Дата публикации: 2018-04-26.

Respiratory face mask and breathing circuit assembly

Номер патента: US8826905B2. Автор: Ramses Nashed. Владелец: Ramses Nashed. Дата публикации: 2014-09-09.

Combination of face mask and dental device

Номер патента: CA2191704C. Автор: W. Keith Thornton. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-11-21.

Mask system with removable headgear connector

Номер патента: US20240165361A1. Автор: Robert Edward Henry. Владелец: ResMed Pty Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Mask with removable headgear connector

Номер патента: US9937315B2. Автор: Robert Edward Henry. Владелец: ResMed Pty Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

MASK AND HEADGEAR CONNECTOR

Номер патента: US20140373834A1. Автор: Kwok Philip Rodney,Gunaratnam Michael Kassipillai. Владелец: . Дата публикации: 2014-12-25.

A COLLAPSIBLE CONDUIT, PATIENT INTERFACE AND HEADGEAR CONNECTOR

Номер патента: US20190175861A1. Автор: White Craig Karl,KLINK German,Evans Alicia Jerram Hunter,HOLYOAKE Bruce Gordon. Владелец: . Дата публикации: 2019-06-13.

Patient interface and headgear connector

Номер патента: US20040025883A1. Автор: Peter Ho,Jason Eaton,Elias Diacopoulos. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-02-12.

Patient interface and headgear connector

Номер патента: US20060225740A1. Автор: Peter Ho,Lance Busch,Jason Eaton,Elias Diacopoulos. Владелец: Ric Investments LLC. Дата публикации: 2006-10-12.

Novel face masks and methods relating thereto

Номер патента: US20240066250A1. Автор: Kamrouz GHADIMI,Jhaymie LAWRENCE CAPPIELLO. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-02-29.

Quick Adjust Mask and Method for Using the Same

Номер патента: US20190351171A1. Автор: Steve Islava. Владелец: Individual. Дата публикации: 2019-11-21.

3g sensor mask and continuous positive airway pressure system using same

Номер патента: EP4268871A1. Автор: Jong Cheol Kim. Владелец: Mek Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-01.

Pm mask and inhalation device

Номер патента: WO2020190158A3. Автор: Jan WIŚNIEWSKI. Владелец: WISNIEWSKI Jan. Дата публикации: 2020-11-19.

Electronic mask and controlling method thereof

Номер патента: US20240198142A1. Автор: Hyojin Kim,Sungjune CHO,Younglae Jo,Yeonseung OH. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-20.

Reusable liner for use with respiratory mask and method of making same

Номер патента: US12053583B2. Автор: Connie Brooks-MacDonald. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-08-06.

A connector for a respiratory mask and a respiratory mask

Номер патента: AU4901200A. Автор: Michael Kassipillai Gunaratnam,Susan Robyn Lynch,Geoffrey Crumblin,Joanne Elizabeth Drew,Phillip Jenkinson. Владелец: ResMed Pty Ltd. Дата публикации: 2001-01-09.

A connector for a respiratory mask and a respiratory mask

Номер патента: EP1187648A1. Автор: Michael Kassipillai Gunaratnam,Susan Robyn Lynch,Geoffrey Crumblin,Joanne Elizabeth Drew,Phillip Jenkinson. Владелец: ResMed Pty Ltd. Дата публикации: 2002-03-20.

Improvement of interaction between a mask and a patient during therapy

Номер патента: EP4330978A1. Автор: Cornelis Petrus Hendriks,Joyce Van Zanten,Joachim Johannes KAHLERT,Pedro Miguel FERREIRA DOS SANTOS DA FONSECA,Olaf VAN DER SLUIS. Владелец: Koninklijke Philips NV. Дата публикации: 2024-03-06.

First-aid mask and inflatable structure thereof

Номер патента: US20180110945A1. Автор: Yung-Chu Cheng,Chien-Feng Cheng,Yu-Liang Cheng. Владелец: Center Healthcare Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-26.

Nasal seal, mask and respiratory interface assembly

Номер патента: AU2024205704A1. Автор: Mark Arvind McLaren,Callum Ross Gordon,Ryan Anthony Graham,Bruno Sintive,Mark Andrew Thompson,Amit Galgali. Владелец: Fisher and Paykel Healthcare Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Respiratory mask and related portions, components or sub-assemblies

Номер патента: CA3211125A1. Автор: Gregory James Olsen,Melissa Catherine Bornholdt,Max Leon BETTERIDGE,Hamish Joshua ROSE,Tony William Spear,Christopher Earl Nightingale,Campbell Neil Addison Martin,Simon MITTERMEIER,Matthew James PEDERSEN,Sophia Adele JOHNSON,Mark John Arrowsmith. Владелец: Fisher and Paykel Healthcare Ltd. Дата публикации: 2016-03-03.

Pediatric ventilation mask and headgear system

Номер патента: CA2416853A1. Автор: Shelly Bohn,Nancy Quennell. Владелец: Nancy Quennell. Дата публикации: 2003-08-06.

Grounding positive airway pressure masks and headgear

Номер патента: WO2019121954A1. Автор: Lauren Patricia CHODKOWSKI,Michael Thomas KANE. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS N.V.. Дата публикации: 2019-06-27.

Grounding positive airway pressure masks and headgear

Номер патента: EP3727537A1. Автор: Lauren Patricia CHODKOWSKI,Michael Thomas KANE. Владелец: Koninklijke Philips NV. Дата публикации: 2020-10-28.

Connector for a respiratory mask and a respiratory mask

Номер патента: US20130233317A1. Автор: Michael Kassipillai Gunaratnam,Susan Robyn Lynch,Geoffrey Crumblin,Joanne Elizabeth Drew,Philip James Jenkinson. Владелец: ResMed Pty Ltd. Дата публикации: 2013-09-12.

Connector for a respiratory mask and a respiratory mask

Номер патента: US09814855B2. Автор: Michael Kassipillai Gunaratnam,Susan Robyn Lynch,Geoffrey Crumblin,Joanne Elizabeth Drew,Philip James Jenkinson. Владелец: ResMed Pty Ltd. Дата публикации: 2017-11-14.

Mask with quick release frame and headgear

Номер патента: EP4262947A1. Автор: Richard Thomas Haibach,Derrick Blake Andrews. Владелец: Koninklijke Philips NV. Дата публикации: 2023-10-25.

Connector for a respiratory mask and a respiratory mask

Номер патента: US09999740B2. Автор: Michael Kassipillai Gunaratnam,Susan Robyn Lynch,Geoffrey Crumblin,Joanne Elizabeth Drew,Philip James Jenkinson. Владелец: ResMed Pty Ltd. Дата публикации: 2018-06-19.

GROUNDING POSITIVE AIRWAY PRESSURE MASKS AND HEADGEAR

Номер патента: US20190184123A1. Автор: Kane Michael Thomas,CHODKOWSKI LAUREN PATRICIA. Владелец: . Дата публикации: 2019-06-20.

A collapsible conduit, patient interface and headgear connector

Номер патента: GB2607540A. Автор: KLINK German,Gordon Holyoake Bruce,Jerram Hunter Evans Alicia,Craig White Karl. Владелец: Fisher and Paykel Healthcare Ltd. Дата публикации: 2022-12-07.

A collapsible conduit, patient interface and headgear connector

Номер патента: WO2018029638A1. Автор: German Klink,Alicia Jerram Hunter EVANS,Craig Karl White,Bruce Gordon Holyoake. Владелец: FISHER & PAYKEL HEALTHCARE LIMITED. Дата публикации: 2018-02-15.

Neck strap, crown strap assembly and headgear for a breathing mask

Номер патента: US20230310784A1. Автор: Justin John Formica,Christopher Scott Skipper,Amal Shirley Amarasinghe,Jessica Lea Dunn. Владелец: ResMed Pty Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

COLLAPSIBLE CONDUIT, PATIENT INTERFACE AND HEADGEAR CONNECTOR

Номер патента: US20200368479A1. Автор: White Craig Karl,Payton Matthew Jon,KLINK German,Evans Alicia Jerram Hunter,Osborne Hamish Adrian,HOLYOAKE Bruce Gordon,Smith Graeme Matthew,Burgess Aidan Robert,FLYNN Cormac Nicholas,ROA Nathan James. Владелец: . Дата публикации: 2020-11-26.

A collapsible conduit, patient interface and headgear connector

Номер патента: TW201940204A. Автор: 寇爾馬克 Ｎ 法來因,布魯斯 Ｇ 后拉歐克,哈米許 Ａ 歐斯伯尼,艾迪恩 Ｒ 布吉斯,葛拉米 Ｍ 史密斯,納桑 Ｊ 若亞,艾莉西亞 Ｊ Ｈ 伊凡斯,吉爾曼 克林克,克雷格 Ｋ 懷特,馬修 Ｊ 派頓. Владелец: 紐西蘭商費雪＆佩凱爾關心健康有限公司. Дата публикации: 2019-10-16.

A collapsible conduit, patient interface and headgear connector

Номер патента: AU2019221188A1. Автор: German Klink,Hamish Adrian Osborne,Graeme Matthew SMITH,Alicia Jerram Hunter EVANS,Craig Karl White,Matthew Jon Payton,Bruce Gordon Holyoake,Aidan Robert BURGESS,Cormac Nicholas FLYNN,Nathan James ROA. Владелец: Fisher and Paykel Healthcare Ltd. Дата публикации: 2020-08-27.

A collapsible conduit, patient interface and headgear connector

Номер патента: AU2022271438A1. Автор: German Klink,Alicia Jerram Hunter EVANS,Craig Karl White,Bruce Gordon Holyoake. Владелец: Fisher and Paykel Healthcare Ltd. Дата публикации: 2022-12-22.

Respiratory mask and process for making a respiratory mask

Номер патента: US11883597B2. Автор: Martin Eifler. Владелец: Loewenstein Medical Technology SA. Дата публикации: 2024-01-30.

Respiratory mask and process for making a respiratory mask

Номер патента: US20200016355A1. Автор: Martin Eifler. Владелец: Loewenstein Medical Technology SA. Дата публикации: 2020-01-16.

Respiratory mask and process for making a respiratory mask

Номер патента: US20240108838A1. Автор: Martin Eifler. Владелец: Loewenstein Medical Technology SA. Дата публикации: 2024-04-04.

Facial interface and headgear system for use with ventilation and positive air pressure systems

Номер патента: CA2955024C. Автор: Andrew Gosline,Aaron Kapelus,Donald Harrison,Veaceslav Arabagi. Владелец: HUMAN DESIGN MEDICAL LLC. Дата публикации: 2019-03-05.

Respiratory face mask and headstrap assembly

Номер патента: WO2010014230A2. Автор: Ramses Nashed. Владелец: Ramses Nashed. Дата публикации: 2010-02-04.

Nasal mask and headgear

Номер патента: US6119694A. Автор: Jose Luis Correa,Diego Fontayne,Karl Dallas Kirk, III,James T. Collins, III. Владелец: Respironics Georgia Inc. Дата публикации: 2000-09-19.

Headgear connectors and headgear for use with or comprising part of a user interface assembly

Номер патента: SG11202101679SA. Автор: Tony William Spear,Mark Arvind McLaren,Neil Gray Duthie,Jeroen Hammer,Andrew Chun Mon FAN,Ryan Anthony Graham,Mark Richard Tomlinson,Carsten Ma On Wong CORAZZA,Katie FYFE,Matthew Joseph Lucas. Владелец: FISHER & PAYKEL HEALTHCARE LTD. Дата публикации: 2021-03-30.

HEADGEAR CONNECTORS AND HEADGEAR FOR USE WITH OR COMPRISING PART OF A USER INTERFACE ASSEMBLY

Номер патента: US20210213231A1. Автор: McLaren Mark Arvind,Hammer Jeroen,Tomlinson Mark Richard,Graham Ryan Anthony,Spear Tony William,FAN Andrew Chun Mon,Corazza Carsten Ma On Wong,Fyfe Katie,Duthie Neil Gray,Lucas Matthew Joseph. Владелец: . Дата публикации: 2021-07-15.

An adapter for a face mask, and an instrument shielding apparatus for shielding an instrument being entered into a subject through a face mask or a trocar

Номер патента: IE20210065U1. Автор: O'dea John,Elizabeth Barrett Hilary,Sarah Joan Perry Sophie,Gorby Mccarthy Robert. Владелец: Palliare Ltd. Дата публикации: 2023-04-26.

Positive pressure mask and related adapters, appliances, and methods

Номер патента: EP3313489A1. Автор: Andrew S. Hansen,Joseph Orr,Timothy R. Nieman,Jared Spendlove,Chakravarthy B. REDDY,Branden R. ROSENHAN. Владелец: Simplicity Airway Inc. Дата публикации: 2018-05-02.

An adapter for a face mask, and an instrument shielding apparatus

Номер патента: WO2021191884A8. Автор: John O'dea,Hilary Elizabeth Barrett,Robert Gorby MCCARTHY,Sophie Sarah Joan PERRY. Владелец: PALLIARE LIMITED. Дата публикации: 2021-11-18.

An adapter for a face mask, and an instrument shielding apparatus

Номер патента: EP4076232A1. Автор: John O'dea,Hilary Elizabeth Barrett,Robert Gorby MCCARTHY,Sophie Sarah Joan PERRY. Владелец: Palliare Ltd. Дата публикации: 2022-10-26.

Nasal mask and headgear

Номер патента: WO1999004842A1. Автор: Jose Luis Correa,Diego Fontayne,Karl Dallas Kirk, III,James T. Collins, III. Владелец: Respironics Georgia, Inc.. Дата публикации: 1999-02-04.

Patient interface and headgear

Номер патента: EP4406577A2. Автор: Timothy James Beresford SHARP,Gregory James Olsen,Roheet Patel,Matthew Roger Stephenson,Brett John Huddart,Daniel John Smith,Nicholas Alexander Hobson,Matthew James Adams,Troy BARSTEN. Владелец: Fisher and Paykel Healthcare Ltd. Дата публикации: 2024-07-31.

Patient interface and headgear

Номер патента: CA3084203C. Автор: Timothy James Beresford SHARP,Gregory James Olsen,Roheet Patel,Matthew Roger Stephenson,Brett John Huddart,Daniel John Smith,Nicholas Alexander Hobson,Matthew James Adams,Troy Barnsten. Владелец: Fisher and Paykel Healthcare Ltd. Дата публикации: 2023-08-29.

Patient interface and headgear

Номер патента: EP4406577A3. Автор: Timothy James Beresford SHARP,Gregory James Olsen,Roheet Patel,Matthew Roger Stephenson,Brett John Huddart,Daniel John Smith,Nicholas Alexander Hobson,Matthew James Adams,Troy BARSTEN. Владелец: Fisher and Paykel Healthcare Ltd. Дата публикации: 2024-08-14.

Patient interface and headgear

Номер патента: US12128183B2. Автор: Timothy James Beresford SHARP,Gregory James Olsen,Roheet Patel,Matthew Roger Stephenson,Brett John Huddart,Daniel John Smith,Nicholas Alexander Hobson,Matthew James Adams,Troy BARSTEN. Владелец: Fisher and Paykel Healthcare Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Patient interface and headgear

Номер патента: US11865263B2. Автор: Timothy James Beresford SHARP,Gregory James Olsen,Roheet Patel,Matthew Roger Stephenson,Brett John Huddart,Daniel John Smith,Nicholas Alexander Hobson,Matthew James Adams,Troy BARSTEN. Владелец: Fisher and Paykel Healthcare Ltd. Дата публикации: 2024-01-09.

Patient interface and headgear

Номер патента: US20240165360A1. Автор: Timothy James Beresford SHARP,Gregory James Olsen,Roheet Patel,Matthew Roger Stephenson,Brett John Huddart,Daniel John Smith,Nicholas Alexander Hobson,Matthew James Adams,Troy BARSTEN. Владелец: Fisher and Paykel Healthcare Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Headgear connector

Номер патента: WO2024207060A1. Автор: Vinay Manjunath,Thontira SUPAOPASPHUN,Maximilian Aji Wijoyoseno,Skye Kimberley SHARMA. Владелец: ResMed Asia Pte. Ltd.. Дата публикации: 2024-10-10.

Cushion for a respiratory mask and respiratory mask having the same

Номер патента: US20240342417A1. Автор: Bruno Sintive,Mark Andrew Thompson. Владелец: Fisher and Paykel Healthcare Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Customizable mask and method of sizing the mask

Номер патента: EP3687612B1. Автор: Richard Thomas Haibach. Владелец: Koninklijke Philips NV. Дата публикации: 2024-08-07.

Nasal mask and mask cushion therefor

Номер патента: US6112746A. Автор: Philip Rodney Kwok,Robert Edward Styles. Владелец: ResMed Pty Ltd. Дата публикации: 2000-09-05.

A mask and a vent assembly therefor

Номер патента: WO1998034665A1. Автор: Philip Rodney Kwok. Владелец: RESMED LIMITED. Дата публикации: 1998-08-13.

Nasal mask and mask cushion therefor

Номер патента: US20020005200A1. Автор: Philip Kwok,Robert Styles. Владелец: ResMed Pty Ltd. Дата публикации: 2002-01-17.

Mouth gag for the introduction of laryngeal masks and other medical devices through oral cavity

Номер патента: US20110251467A1. Автор: Pere Poch Marti. Владелец: Fundacio Hospital Asil De Granollers. Дата публикации: 2011-10-13.

Laryngoscopy mask and method of its manufacturing

Номер патента: RU2336910C2. Автор: Лассе ПЕТЕРСЕН,Пеер ХОФФМАНН. Владелец: Амбу А/С. Дата публикации: 2008-10-27.

Mask and headgear system

Номер патента: EP2866870B1. Автор: Mark Arvind McLaren,Jeroen Hammer. Владелец: Fisher and Paykel Healthcare Ltd. Дата публикации: 2021-11-17.

Method of manufacturing a filter mask and corresponding filter mask

Номер патента: EP4259290B1. Автор: Simon Robert Payne,Andrew Neil Miller,Matthew James William LEARY,David Simon Bottom. Владелец: INTERSURGICAL AG. Дата публикации: 2024-10-30.

A seal for a respiratory mask, and a respiratory mask

Номер патента: WO1999025410A1. Автор: Louis Michael Crowe. Владелец: Medisolve Limited. Дата публикации: 1999-05-27.

Heart failure mask and methods for increasing negative intrathoracic pressures

Номер патента: US6029667A. Автор: Keith G. Lurie. Владелец: CPRx LLC. Дата публикации: 2000-02-29.

Mint mask and methods of use thereof

Номер патента: US10610494B2. Автор: Adriane Fugh-Berman. Владелец: GEORGETOWN UNIVERSITY. Дата публикации: 2020-04-07.

Mint mask and methods of use thereof

Номер патента: US11484509B2. Автор: Adriane Fugh-Berman. Владелец: GEORGETOWN UNIVERSITY. Дата публикации: 2022-11-01.

Facial mask and method of making

Номер патента: EP3116576A1. Автор: Vance D. Bachelder,Iii Jose Carrillo. Владелец: Morpheus Medical Solutions LLC. Дата публикации: 2017-01-18.

Masks and their manufacture

Номер патента: AU1825901A. Автор: James Edward Thomas,Mark William Doane. Владелец: SMITHS GROUP PLC. Дата публикации: 2001-08-09.

Air filter insertion for mask and air treatment installation applied as a therapeutical or preventive process

Номер патента: WO2010125415A1. Автор: Adam Kovacs. Владелец: Kovacs Adam. Дата публикации: 2010-11-04.

Systems and methods for producing user-customized facial masks and portions thereof

Номер патента: WO2021211444A1. Автор: Bo Haaber. Владелец: Themagic5 Inc.. Дата публикации: 2021-10-21.

Systems and methods for producing user-customized facial masks and portions thereof

Номер патента: US20230139237A1. Автор: Bo Haaber. Владелец: Themagic5 Inc. Дата публикации: 2023-05-04.

Prolonged release drug preparation, adsorbent, functional foodstuff, mask and adsorbent layer

Номер патента: RU2476230C2. Автор: Сейитиро ТАБАТА,Такеси ХОРИЕ,Синитиро ЯМАДА,Цутому НОГУТИ. Владелец: Сони Корпорейшн. Дата публикации: 2013-02-27.

Eye mask and control method

Номер патента: US20240173171A1. Автор: Jinhui Ma,Cihang Li. Владелец: Shenzhen Rainslab Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Water-soluble unidirectional moisture transport traditional Chinese medicine facial mask and preparation thereof

Номер патента: US11998623B2. Автор: Jinlian Hu,Shuo SHI,Yifan Si,Chunxia Guo. Владелец: City University of Hong Kong CityU. Дата публикации: 2024-06-04.

A Blueberry Moisturizing and Hydrating Facial Mask and Its Preparation Method

Номер патента: AU2021102391A4. Автор: Qing Xu,Qiang JIA,Fei Nie,Zhu HUANG,Yuanjing Zhou. Владелец: Insititute Of Biology Guizhou Academy Of Sciences. Дата публикации: 2021-06-24.

Anti-virus face mask and filter

Номер патента: US20210386144A1. Автор: Christopher A. Wiklof,Donald Kendrick. Владелец: Electro Mask LLC. Дата публикации: 2021-12-16.

Dental face mask and shield system and method of making

Номер патента: US12023215B2. Автор: Abeer ElSayed ELEMBABY. Владелец: Imam Abdulrahman Bin Faisal University. Дата публикации: 2024-07-02.

Hair masks and balsam (options)

Номер патента: RU2677275C1. Автор: Константин Владимирович Волков. Владелец: Талагаева Елена Владимировна. Дата публикации: 2019-01-16.

Diagnostic mask and method

Номер патента: US20200093387A1. Автор: Roman Gutierrez,Tony Tang. Владелец: Mems Start LLC. Дата публикации: 2020-03-26.

Sterilization of face masks and face mask components

Номер патента: US20220125979A1. Автор: Jessica Williams,Aaron Neighbour. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-04-28.

Generation of mask and contrast image data in a continuous acquisition

Номер патента: US20160029987A1. Автор: Bernhard Erich Hermann Claus,David Allen Langan. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2016-02-04.

Generation of mask and contrast image data in a continuous acquisition

Номер патента: US09895119B2. Автор: Bernhard Erich Hermann Claus,David Allen Langan. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2018-02-20.

Combination sleep eye mask and face mask

Номер патента: US20200281770A1. Автор: Manuel Salvador Moreno,Edgar Daniel Bosquez Fuentes. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-09-10.

Manufacturing method of preservative-free facial mask and process equipment thereof

Номер патента: US10849833B2. Автор: Fengying Qian. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-12-01.

Manufacturing method of preservative-free facial mask and process equipment thereof

Номер патента: US20190183745A1. Автор: Fengying Qian. Владелец: Individual. Дата публикации: 2019-06-20.

Self-heating insulating film and face mask and eye mask manufactured therefrom

Номер патента: RU2683719C2. Автор: Лэй Чэнь,Инло ХУАН. Владелец: Хэнди Текнолоджи (Чжухай) Лтд.. Дата публикации: 2019-04-01.

Protective mask, inner wall, cover and outer wall for protective mask, and method for decreasing air mixing by means of protective mask

Номер патента: RU2162679C2. Автор: ЭКЛУНД Йорген,МАСЕС Челль. Владелец: Хернелль Интернэшнл АБ. Дата публикации: 2001-02-10.

Dental face mask and shield system and method of making

Номер патента: US20230240799A1. Автор: Abeer ElSayed ELEMBABY. Владелец: Imam Abdulrahman Bin Faisal University. Дата публикации: 2023-08-03.

Portable heating sterilization storage bag for face masks and cloth products

Номер патента: US20220062450A1. Автор: Yi-Yan Yang,Li Chieh Cheng. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-03-03.

Lens design with mask and method for myopia prevention and/or progression reduction

Номер патента: RU2631210C2. Автор: Ноэль А. БРЕННАН,Сюй ЧЭН,Кхалед А. ЧЕХАБ,Синь ВЭЙ,Джеффри Х. Роффман,Курт Джон МУДИ. Владелец: Джонсон Энд Джонсон Вижн Кэа, Инк.. Дата публикации: 2017-09-19.

Laser beam machining device with protective mask and safety switches

Номер патента: US6008466A. Автор: Naoyoshi Hosoda. Владелец: Nihon Welding Co Ltd. Дата публикации: 1999-12-28.

Odor masking and eliminating composition used by hunters

Номер патента: US20170290343A1. Автор: Timothy Acosta. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-10-12.

Photocatalytic facial mask and method for manufacturing the same

Номер патента: US20220296766A1. Автор: Jae-Hyun Kim,Bongkyun JANG,Sueng-Mo LEE. Владелец: Center for Advanced Meta Materials. Дата публикации: 2022-09-22.

Granule in which unpleasant taste is masked and method for producing granule

Номер патента: US20230016901A1. Автор: Toru Yasuzawa,Tatsuo Nomura. Владелец: Nobelpharma Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-19.

Multifunctional temperature self-regulating film and face mask and eye mask manufactured therefrom

Номер патента: CA2957324C. Автор: Lei Chen,Yingluo HUANG. Владелец: Handy Technology (zhuhai) Ltd. Дата публикации: 2020-08-18.

Stack of interfolded face masks and dispenser

Номер патента: WO2011109458A3. Автор: Alexander C. Tsuei. Владелец: 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY. Дата публикации: 2012-01-26.

Face mask and method for making the same

Номер патента: AU2011202073B2. Автор: Jung-Chi Tai. Владелец: Kang Na Hsiung Enterprise Co Ltd. Дата публикации: 2012-09-13.

Mask and a production method therefor

Номер патента: EP2606938A2. Автор: Sung Kyu Lee,Sang Min Lee,Jae-Sung Park,Woon Bong Hwang,Byung Rak Park. Владелец: Academy Industry Foundation of POSTECH. Дата публикации: 2013-06-26.

One-piece surgical mask and cap

Номер патента: US5937445A. Автор: Biagio Ravo,Enrico Nicolo. Владелец: Individual. Дата публикации: 1999-08-17.

Gas mask and breathing equipment with liquefied respiration gas

Номер патента: US5499623A. Автор: Adalbert Pasternack. Владелец: Draegerwerk AG and Co KGaA. Дата публикации: 1996-03-19.

Warning mask and vibration vest with inhale and exhale commands

Номер патента: WO2024144722A1. Автор: Miraç Dilruba GEYİKOĞLU,Mete YAĞANOĞLU,Yasemin GÜLTEPE,Faruk Baturalp GÜNAY,Gamze KOÇ. Владелец: Atatürk Üni̇versi̇tesi̇ Fi̇kri̇ Mülki̇yet Haklari Koordi̇natörlüğü Döner Sermaye İşletmesi̇. Дата публикации: 2024-07-04.

Ultrasonic mask and skin care device comprising same

Номер патента: US20220160111A1. Автор: Sang Young Lee,Min Seok Oh,Do Hee KEUM. Владелец: LG Innotek Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-26.

Aquaculture pond masking and feeding system

Номер патента: NL2028337B1. Автор: Wu Song,WANG Peng,Gao Lei,Li Chenhui,Bai Shuyan,Hao Qirui,Tang Shizhan,Chen Zhongxiang,Qin Dongli,Du Ningning. Владелец: Heilongjiang River Fisheries Res Institute Chinese Academy Of Fishery Sciences. Дата публикации: 2022-06-16.

Intelligent mask, method, intelligent mask and device for calculation quantitative pollutant absorption amount

Номер патента: RU2665907C2. Автор: Хуаицзюнь ЛЮ,Тун ЧЖАО,Цюнь ТАО. Владелец: Сяоми Инк.. Дата публикации: 2018-09-04.

Anti-Fog Medical Face Mask and A Device for Preventing Formation of Fog on Eyewear while Wearing Face Cover

Номер патента: US20210041724A1. Автор: Kiarash Ahi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-02-11.

Safe case for protective masks and filters and method of its use

Номер патента: WO2023080850A2. Автор: Tea PIRNAT. Владелец: Tpredrzno D.O.O.. Дата публикации: 2023-05-11.

VR face mask and manufacturing method thereof

Номер патента: US12042962B2. Автор: Zishang WANG. Владелец: Qingdao Pico Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Method of manufacturing face mask and nasal spray infused with antiviral and antibacterial Artemisia Argyi

Номер патента: US12096810B2. Автор: Meiqing Gong. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-09-24.

Simulated diving mask and snorkel for doll

Номер патента: WO1999006129A1. Автор: Toshio Yamasaki,Odette Souza-Ferreira. Владелец: MATTEL, INC.. Дата публикации: 1999-02-11.

Antibacterial and antiviral degradable mask and manufacturing method thereof

Номер патента: US20240237765A1. Автор: Chao Deng,Qiang YONG,Chengcheng Li,Xiangyu Jin,Farzad SEIDI,Haiying WEI. Владелец: NANJING FORESTRY UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-07-18.

Face Masks and Methods of Producing Same

Номер патента: US20230149750A1. Автор: Ken Milam. Владелец: Thermopore Materials Corp. Дата публикации: 2023-05-18.

Equine mask and sun visor

Номер патента: US20110253064A1. Автор: Yvonne Cates. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-10-20.

Electronic mask and method of controlling the same

Номер патента: US20240100369A1. Автор: Kyungah CHANG,Mijo Kang,Mukyong Kim,Sungkoo CHO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-28.

Aerosol containment mask and methods of use thereof

Номер патента: US20240285001A1. Автор: John CASHIN,Mohamed Zayed. Владелец: Washington University in St Louis WUSTL. Дата публикации: 2024-08-29.

Antiviral mask and antiviral filter made from a breathable microporous polymeric membrane

Номер патента: US20230225433A1. Автор: Dibakar Bhattacharyya,Thomas D. Dziubla,Rollie Mills,J. Todd Hastings,Yinan Wei,R.J. Vogler,Matthew Bernard,Jacob Concolino,Kevin C. Baldridge. Владелец: University of Kentucky Research Foundation. Дата публикации: 2023-07-20.

Anti-fog medical face mask and device for preventing formation of fog on eyewear while wearing face cover

Номер патента: WO2022055775A1. Автор: Ahi Kiarash. Владелец: Kiarash Ahi. Дата публикации: 2022-03-17.

Respiratory face mask and method for making face mask with using separate mould products

Номер патента: RU2379075C2. Автор: Пол Дж. ФЛАННИГАН,Стивен Дж. МАКСА. Владелец: ЗМ Инновейтив Пропертиз Компани. Дата публикации: 2010-01-20.

Safe case for protective masks and filters and method of its use

Номер патента: WO2023080850A3. Автор: Tea PIRNAT. Владелец: Tpredrzno D.O.O.. Дата публикации: 2023-06-15.

Face mask and face mask cover

Номер патента: US5479658A. Автор: Daniel S. Harris. Владелец: Individual. Дата публикации: 1996-01-02.

Respirator with an outer mask and an inner oronasal mask, each with a one-way valve and filter

Номер патента: NZ550364A. Автор: Robert Charles Sutton,Grant Stuart Richardson. Владелец: Scott Health & Safety LTD. Дата публикации: 2010-03-26.

Goggle mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US20190358496A1. Автор: Chih-Cheng Shiue. Владелец: QBAS Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-28.

Respiratory face mask and air filter for personal respiratory protection

Номер патента: RU2744888C1. Автор: Марк Нахимович Бахрах,Игорь Владимирович Качко,Семен Литвин,Алекс ЛЮБОМИРСКИЙ,Михаель Гершман. Владелец: Джен Триз, Ллс. Дата публикации: 2021-03-16.

Filter element, medical mask and respirator

Номер патента: RU2750600C1. Автор: Михаил Рудольфович Предтеченский,Владимир Генриевич Меледин,Михаил Сергеевич Галков,Владимир Оскарович Сайк,Александр Евгеньевич Безродный,Вячеслав Ервандович Мурадян,Артем Владимирович Алексеев,Павел Александрович Карпик,Михаил Константинович Лазарев. Владелец: МСД Текнолоджис С.а р.л.. Дата публикации: 2021-06-29.

Anti-propylene mask and method for preparation thereof

Номер патента: US20230211190A1. Автор: XIN YANG,Jing Hu,Yuting Wang,Yuqing Liu,Kaiyi Chen,Ranran LI. Владелец: Nantong Textile and Silk Industrial Technology Research Institute. Дата публикации: 2023-07-06.

Face mask and method for manufacturing thereof

Номер патента: US11944138B2. Автор: Alexander Chieruen Tsuei,Angie Carol Tsuei,Feng-Yi Tsuei. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-04-02.

Auto-generated shader masks and parameters

Номер патента: US20240119655A1. Автор: Joseph Logan Olson,Gabriel LASSONDE,Olivier CARIGNAN. Владелец: Sony Interactive Entertainment LLC. Дата публикации: 2024-04-11.

Face masks and kits therefor

Номер патента: GB2092009A. Автор: . Владелец: Khan & Co Luton Ltd. Дата публикации: 1982-08-11.

Disposable surgical face mask and method of producing it

Номер патента: CA1169601A. Автор: Rory J.M. Smith,David A. Coates. Владелец: Surgikos Inc. Дата публикации: 1984-06-26.

Auto-generated shader masks and parameters

Номер патента: WO2024077020A1. Автор: Joseph Logan Olson,Gabriel LASSONDE,Olivier CARIGNAN. Владелец: Sony Interactive Entertainment LLC. Дата публикации: 2024-04-11.

Mask and Method for Making a Mask

Номер патента: US20190289944A1. Автор: Keith A. Fotta,Robert E. Ziemba, Jr.,Carlos D. Dominguez,Rosario Rosales. Владелец: University Outfitters LLC. Дата публикации: 2019-09-26.

Ear-hanging member for mask, and mask

Номер патента: EP4316604A1. Автор: Kodai Ujiie. Владелец: Daio Paper Corp. Дата публикации: 2024-02-07.

Protective respiratory mask and check valve for the same

Номер патента: EP4347055A1. Автор: Weizhong Chen,Zhongchi LUO,Haiyong Huang. Владелец: Koninklijke Philips NV. Дата публикации: 2024-04-10.

Device for operating and testing gas masks and breathing equipment

Номер патента: US5289819A. Автор: Rainer Kröger,Ralf Dramenski. Владелец: Draegerwerk AG and Co KGaA. Дата публикации: 1994-03-01.

Combined half-mask and hood type protective respiratory device

Номер патента: US5431156A. Автор: Michael Sundstrom. Владелец: Sundstroem Safety AB. Дата публикации: 1995-07-11.

Air cleaning cartridge for a gas mask and breathing equipment with an insert

Номер патента: US5291881A. Автор: Hasso Weinmann,Wolfgang Drews,Gunther Kolbe,Stephan Melzer. Владелец: Draegerwerk AG and Co KGaA. Дата публикации: 1994-03-08.

Heat retention mask and method of using the same

Номер патента: US09949873B2. Автор: Alex Stenzler,Steve Han,Mei-Sheng Teng. Владелец: 12th Man Technologies Inc. Дата публикации: 2018-04-24.

Antimicrobial uv-c emitting composition for masks and related devices and methods

Номер патента: US20210321697A1. Автор: Joshua Aaron Schneider. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-10-21.

Mask and method for use in respiratory monitoring and diagnostics

Номер патента: US09949667B2. Автор: Geoffrey Roy Fernie,Oleksandr Igorovich Levchenko,Hisham Alshaer,T. Douglas Bradley,Steven M. PONG. Владелец: UNIVERSITY HEALTH NETWORK. Дата публикации: 2018-04-24.

Breath sampling mask and system

Номер патента: EP3755220A1. Автор: Gregory J. Sherwood,Arthur Guy ERDMAN,Justin Theodore NELSON,Gregory Kermit Peterson,Michael Mathias Freking. Владелец: University of Minnesota. Дата публикации: 2020-12-30.

Headgear cleaner and headgear stand

Номер патента: US11766493B2. Автор: Yoshiaki Tatsumi,Shinsuke Hirano,Satomi KOYAMA. Владелец: Creative Technology Corp. Дата публикации: 2023-09-26.

Radiation Shielding Eye Mask and Method of Use

Номер патента: US20240225569A9. Автор: Stephen Benjamin Maiman. Владелец: Maico Mgmt LLC. Дата публикации: 2024-07-11.

Radiation shielding eye mask and method of use

Номер патента: US12053311B2. Автор: Stephen Benjamin Maiman. Владелец: Maico Mgmt LLC. Дата публикации: 2024-08-06.

Method for mapping higher brain function and headgear for mapping higher brain function

Номер патента: US20050177041A1. Автор: Tsutomu Murata,Hideo Eda,Akira Takatsuki. Владелец: Comm Res Lab Ind Admin Inst. Дата публикации: 2005-08-11.

Moisturizing and hydrating facial mask composition, facial mask, and preparation method for facial mask composition

Номер патента: ZA202201242B. Автор: Xiang Wang,Chunli Fu,Yinming Wang,Yidian Wang,Weilan Tian,Rongmei Zhu. Владелец: Hubei Chuangjie Biological Tech Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-25.

Mask and method for producing a mask

Номер патента: US12022899B2. Автор: Marc Stefan Witt. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-07-02.

Dysphagia rehabilitation mask and dysphagia rehabilitation apparatus using thereof

Номер патента: US20170065850A1. Автор: Tae Hyung Kim,Yong Hee Han,Min Jae Kang,Chi Woong Mun,Sun Joung AN. Владелец: Industry Academic Cooperation Foundation of Inje University. Дата публикации: 2017-03-09.

Dysphagia rehabilitation mask and dysphagia rehabilitation apparatus using thereof

Номер патента: US09889341B2. Автор: Tae Hyung Kim,Yong Hee Han,Min Jae Kang,Chi Woong Mun,Sun Joung AN. Владелец: Industry Academic Cooperation Foundation of Inje University. Дата публикации: 2018-02-13.

Ear cushion system with fluid flow, ear cushion, fluid guide device, headset and headgear with such system

Номер патента: US12102507B2. Автор: Van Cuong Bui,Jonas A. NILSSON,Patrick R. T. HJORT. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2024-10-01.

Skin care mask and method of manufacture

Номер патента: US20240041705A1. Автор: Julius Zecchino,Marina Turso. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-02-08.

Skin care mask and method of manufacture

Номер патента: US11890360B1. Автор: Julius Zecchino,Marina Turso. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-02-06.

Self-heating insulating film and face mask and eye mask manufactured therefrom

Номер патента: CA2957322C. Автор: Lei Chen,Yingluo HUANG. Владелец: Handy Technology (zhuhai) Ltd. Дата публикации: 2020-07-21.

Protection device with integrated filter mask and eye shield with magnification lenses

Номер патента: US20240315876A1. Автор: Landon Duval. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-09-26.

HEADGEAR CLEANER AND HEADGEAR STAND

Номер патента: US20200338222A1. Автор: HIRANO Shinsuke,TATSUMI Yoshiaki,KOYAMA Satomi. Владелец: . Дата публикации: 2020-10-29.

Ear pad system with fluid flow, ear pad, fluid guiding device, headgear and headgear with such a system

Номер патента: CN114727879A. Автор: 约纳斯·A·尼尔森,凡·库翁·布伊,帕特里克·R·T·约尔特. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2022-07-08.

Cosmetic mask and cosmetic electric stimulator

Номер патента: US20230276924A1. Автор: Hideaki Kojima,Soichiro Fukui. Владелец: Ya Man Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Ear cushion system with fluid flow, ear cushion, fluid guide device, headset and headgear with such system

Номер патента: EP4065059A1. Автор: Van Cuong Bui,Jonas A. NILSSON,Patrick R. T. HJORT. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2022-10-05.

Ear cushion system with fluid flow, ear cushion, fluid guide device, headset and headgear with such system

Номер патента: US20230000685A1. Автор: Patrick R.T. HJORT,Van Cuong Bui,Jonas A. NILSSON. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2023-01-05.

Headgear cleaner and headgear stand

Номер патента: EP3693027A4. Автор: Yoshiaki Tatsumi,Shinsuke Hirano,Satomi KOYAMA. Владелец: Creative Technology Corp. Дата публикации: 2020-12-02.

Face masks and other protective devices having enhanced virus entrapment efficiency, and related methods

Номер патента: WO2022036262A1. Автор: Sergei A. Svarovsky,John Huemoeller. Владелец: Axim Biotechnologies, Inc.. Дата публикации: 2022-02-17.

Visored cap or mask and flexible blank therefor

Номер патента: WO1992007529A1. Автор: Albert Gruneisen. Владелец: Albert Gruneisen. Дата публикации: 1992-05-14.

Electrospun skin masks and uses thereof

Номер патента: CA2386810C. Автор: Daniel Smith,Woraphon Kataphinan,Darrell Reneker,Sally Dabney. Владелец: UNIVERSITY OF AKRON. Дата публикации: 2013-09-03.

Zipper pouch with integrated moldable sleeping mask and retractable beanie

Номер патента: US20210298959A1. Автор: Lauren Lombardo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-09-30.

Deodorizing filter for mask and deodorizing mask

Номер патента: US20170367416A1. Автор: Yoshinao Yamada. Владелец: TOAGOSEI CO LTD. Дата публикации: 2017-12-28.

Electronic device having liquid crystal polymer solder mask and outer sealing layers, and associated methods

Номер патента: EP2664225A1. Автор: Louis Joseph Rendek, Jr.,Steven R. Snyder,Casey Philip Rodriguez. Владелец: HARRIS CORP. Дата публикации: 2013-11-20.

Electronic device having liquid crystal polymer solder mask and outer sealing layers, and associated methods

Номер патента: WO2012096764A1. Автор: Louis Joseph Rendek, Jr.,Steven R. Snyder,Casey Philip Rodriguez. Владелец: HARRIS CORPORATION. Дата публикации: 2012-07-19.

Method of making an electronic device having a liquid crystal polymer solder mask and related devices

Номер патента: US09763324B2. Автор: Louis Joseph Rendek, Jr.,Travis L. Kerby,Casey Philip Rodriguez. Владелец: HARRIS CORP. Дата публикации: 2017-09-12.

Method of remanufacturing used cylinder liners and mask and used cylinder liner assembly

Номер патента: WO2015006122A1. Автор: Aaron CLAVER,Trent A. Simpson. Владелец: CATERPILLAR INC.. Дата публикации: 2015-01-15.

Method Of Remanufacturing Used Cylinder Liners And Mask And Used Cylinder Liner Assembly

Номер патента: US20150013159A1. Автор: Trent Simpson,Aaron CLAVER. Владелец: Caterpillar Inc. Дата публикации: 2015-01-15.

Area coated paint mask and method

Номер патента: US4420520A. Автор: Wallace R. Jones,Paul A. Krieger,John F. Haas. Владелец: Excello Specialty Co. Дата публикации: 1983-12-13.

Device with conductive light-absorbing mask and method of making said device

Номер патента: RU2389051C2. Автор: Маниш КОТХАРИ. Владелец: АйДиСи, ЭлЭлСи. Дата публикации: 2010-05-10.

X-ray face mask and bib device

Номер патента: CA1161601A. Автор: David J. Forshee. Владелец: Individual. Дата публикации: 1984-02-07.

Production of substrate with etching mask and making of article with pattern

Номер патента: RU2562923C2. Автор: Каку Шигета,Шинтаро Сугавара,Татсуо Шигета. Владелец: Тинк Лаборатори Ко., Лтд.. Дата публикации: 2015-09-10.

Method for treating photolithographic developer and stripper waste streams containing resist or solder mask and gamma butyrolactone or benzyl alcohol

Номер патента: MY112943A. Автор: Stephen Ksenak Gary,Adams Shurtleff James,Chinuprasad Bhatt Anilkumar,I Papathomas Kostas,James Wagner Jerome. Владелец: Ibm. Дата публикации: 2001-10-31.

Method of manufacturing photo-mask and photo-mask manufactured thereby

Номер патента: US5457006A. Автор: Akira Takahashi,Hiroyuki Katayama,Tetsuya Inui,Junji Hirokane,Tomoyuki Miyake,Kenji Ohta,Kazuo Van,Michinobu Mieda,Junichi Washo. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 1995-10-10.

Spatial phase modulating masks and production processes thereof, and processes for the formation of phase-shifted diffraction gratings

Номер патента: CA1270934C. Автор: Masataka Shirasaki,Hirochika Nakajima. Владелец: . Дата публикации: 1990-06-26.

Mask, method of producing mask, and method of producing semiconductor device

Номер патента: US20070054202A1. Автор: Shigeru Moriya,Shinji Omori. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2007-03-08.

Dual layer workpiece masking and manufacturing process

Номер патента: US7588870B2. Автор: Torbjörn Sandström. Владелец: Micronic Laser Systems AB. Дата публикации: 2009-09-15.

High resolution mask and method of fabrication thereof

Номер патента: US4284678A. Автор: Addison B. Jones. Владелец: Rockwell International Corp. Дата публикации: 1981-08-18.

X-ray lithography mask and devices made therewith

Номер патента: CA2013245C. Автор: George K. Celler,Lee Edward Trimble. Владелец: American Telephone and Telegraph Co Inc. Дата публикации: 1994-04-19.

Printed circuit boards having improved adhesion between solder mask and metal

Номер патента: CA1268670A. Автор: Richard J. Radigan,David S. Rosen,Paul L.K. Hung. Владелец: M&T Chemicals Inc. Дата публикации: 1990-05-08.

Method of making an electronic device having a thin film resistor formed on an LCP solder mask and related devices

Номер патента: US09795039B2. Автор: Louis Joseph Rendek, Jr.. Владелец: HARRIS CORP. Дата публикации: 2017-10-17.

Design method of metal mask and manufacturing method of metal mask

Номер патента: US20210187576A1. Автор: Jianpeng Wu,Zhongying Yang,Weiwei Ding,Chang Luo. Владелец: Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-24.

Method of metal mask and manufacturing method of metal mask

Номер патента: US11709420B2. Автор: Jianpeng Wu,Zhongying Yang,Weiwei Ding,Chang Luo. Владелец: Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-25.

Donor mask and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus

Номер патента: US20150380650A1. Автор: Tae-Wook Kang. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2015-12-31.

System and method to match vectors using mask and count

Номер патента: US10339043B1. Автор: Michael J Miller. Владелец: Mosys Inc. Дата публикации: 2019-07-02.

Method of electrization of nonwoven cloth, electret filter medium, flexible filtering mask and breathing mask assembly

Номер патента: RU2130521C1. Автор: Марвин Е. ДЖОНС,Сийед А. АНГАДЖИВАНД,Дэниел Е. Мейер. Владелец: Миннесота Майнинг энд Мэнюфекчуринг Компани. Дата публикации: 1999-05-20.

Improved breathing mask and regulator for aircraft

Номер патента: EP1933946A2. Автор: Raymond P. Feith,Thomas K. Mcdonald,James C. Cannon,Bryan N. Rogers,Mark A. Oswald. Владелец: BE Intellectual Property Inc. Дата публикации: 2008-06-25.

Halftone phase shifting mask blank, halftone phase shifting mask, and pattern transfer method

Номер патента: EP1582920A2. Автор: Hiroki c/o Shin-Etsu Chem. Co. Ltd. Yoshikawa,Toshinobu c/o Shin-Etsu Chem. Co. Ltd. Ishihara,Satoshi c/o Shin-Etsu Chem. Co. Ltd. Okazaki,Yukio c/o Shin-Etsu Chem. Co. Ltd. Inazuki,Tadashi Toppan Printing Co. Ltd. Saga,Kimihiro Toppan Printing Co. Ltd. Okada,Masahide Toppan Printing Co. Ltd. Iwakata,Takashi Toppan Printing Co. Ltd. Haraguchi,Mikio Toppan Printing Co. Ltd. Takagi,Yuichi Toppan Printing Co. Ltd. Fukushima. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2005-10-05.

Device for projecting mask with beam of femtosecond and picosecond laser, containing limiter, mask and system of lenses

Номер патента: RU2689018C2. Автор: Шарль БЁЛЬИ,Энди ЭНГЕЛ,Маттиас КАЛЬ,Гюнтер РАЙССЕ,Штеффен ВАЙССМАНТЕЛЬ,Мануэль ПФАЙФФЕР,Александер КРАЧ. Владелец: Бёльи-Гравюр Са. Дата публикации: 2019-05-23.

Systems and methods for masking and unmasking of sensitive data

Номер патента: EP3787217A1. Автор: Ashim Roy,Mayur JAIN,Shirish DAMLE,Anushka SHARMA. Владелец: Tata Consultancy Services Ltd. Дата публикации: 2021-03-03.

Mask and fabricating method thereof, and displaying base plate and fabricating method thereof

Номер патента: US20220149282A1. Автор: Pengcheng LU,Yunlong Li. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-12.

Mask manufacturing apparatus and, manufacturing method of mask and, mask for lithography

Номер патента: US20180348651A1. Автор: In Ki Kim,Jun Suk RHO,Heon Yeong JEONG. Владелец: Academy Industry Foundation of POSTECH. Дата публикации: 2018-12-06.

Phase shift mask blank, phase shift mask, and method for manufacturing phase shift mask

Номер патента: US20240302732A1. Автор: Kyoko Kuroki,Kazuaki Matsui,Yosuke Kojima. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2024-09-12.

Vapor deposition mask, frame-equipped vapor deposition mask, and method for producing organic semiconductor element

Номер патента: US09806257B2. Автор: Hiroshi Kawasaki,Toshihiko Takeda,Katsunari Obata. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2017-10-31.

Patterning A Single Integrated Circuit Layer Using Automatically-Generated Masks And Multiple Masking Layers

Номер патента: US20130171548A1. Автор: Tsu-Jae King Liu. Владелец: Synopsys Inc. Дата публикации: 2013-07-04.

Deposition process based on stencil mask and application to the fabrication of tags supporting multi-functional traceable codes

Номер патента: EP3119683A1. Автор: Giacomo Benvenuti,Estelle Wagner,Cosmin SANDU. Владелец: 3d-Oxides. Дата публикации: 2017-01-25.

Compensating masks, multi-optical systems using the masks, and methods of compensating for 3-D mask effect using the same

Номер патента: US7940373B2. Автор: Young-Chang Kim,Han-ku Cho,Suk-joo Lee,Sung-Soo Suh,Sung-woo Lee,Yong-Jin Chun. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2011-05-10.

Compensating Masks, Multi-Optical Systems Using the Masks, and Methods of Compensating for 3-D Mask Effect Using the Same

Номер патента: US20080106719A1. Автор: Young-Chang Kim,Han-ku Cho,Suk-joo Lee,Sung-Soo Suh,Sung-woo Lee,Yong-Jin Chun. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2008-05-08.

One time cold-rolled steel strip for shadow mask and method of its manufacturing

Номер патента: RU2381294C2. Автор: Шуангцзиэ ЧУ,Цзун ЛИ,Ксиучжэн ЛИН,Рэнчжонг ЦЗИН,Хайлинг ГУАН,Цзианцинг ГОНГ. Владелец: Баошан Айрон Энд Стил Ко., Лтд. Дата публикации: 2010-02-10.

Masking and protective device for military equipment

Номер патента: RU2734302C1. Автор: Сергей Владимирович Шишов,Виктор Иванович Матиенко,Александр Германович Козлов. Владелец: Александр Германович Козлов. Дата публикации: 2020-10-15.

Patterning a single integrated circuit layer using automatically-generated masks and multiple masking layers

Номер патента: EP2430650A1. Автор: Tsu-Jae King Liu. Владелец: Synopsys Inc. Дата публикации: 2012-03-21.

Mask blank, transfer mask, method of manufacturing mask blank, method of manufacturing transfer mask and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20150293441A1. Автор: Hiroaki Shishido,Osamu Nozawa,Toshiharu Kikuchi,Atsushi Kominato. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2015-10-15.

Method and apparatus to facilitate separation of a mask and a mask platform

Номер патента: US20050088639A1. Автор: Sang Lee. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2005-04-28.

Mask and Reticle Protection with Atomic Layer Deposition (ALD)

Номер патента: US20220197131A1. Автор: Birol Kuyel. Владелец: Nano Master Inc. Дата публикации: 2022-06-23.

Reflective exposure mask, method of manufacturing reflective exposure mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20110117479A1. Автор: Takashi Kamo,Osamu Suga. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2011-05-19.

Screening nest, method of screening wiring layers in a multi-layer ceramic and cleaning the screening mask and mask cleaning station

Номер патента: US20060157085A1. Автор: Krystyna Semkow,Lester Herron,John Harmuth. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2006-07-20.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12105413B2. Автор: Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

Method for preparing mask, mask and evaporation system

Номер патента: US10739672B2. Автор: ZHEN Wang,Zhiming Lin. Владелец: Ordos Yuansheng Optoelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2020-08-11.

Phase shift mask and method of forming patterns using the same

Номер патента: US09977324B2. Автор: DongEon Lee,Jinho JU,Junhyuk Woo,Min Kang,Yong Son,Hyunjoo Lee,Bong Yeon Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-22.

Methods of forming contact holes using pillar masks and mask bridges

Номер патента: US09875932B2. Автор: Nam-Gun Kim,Chan-Mi Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-01-23.

Mask blank, transfer mask, method of manufacturing a mask blank, method of manufacturing a transfer mask and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US09625807B2. Автор: Hiroaki Shishido,Osamu Nozawa,Toshiharu Kikuchi,Atsushi Kominato. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-04-18.

Mask and device for managing the same

Номер патента: US6077632A. Автор: Hiroyuki Funatsu. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 2000-06-20.

Near-field exposure method and apparatus, near-field exposure mask, and device manufacturing method

Номер патента: WO2005015311A2. Автор: Natsuhiko Mizutani. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2005-02-17.

Method of forming a patterned hard mask and method of forming conductive lines

Номер патента: US20220139710A1. Автор: Chien-Chung Wang,Hsih-Yang Chiu. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2022-05-05.

Shadow mask and method of manufacturing blank mask using the same

Номер патента: US20230408903A1. Автор: Inkyun Shin,Sung Hoon Son,Min Gyo Jeong,GeonGon LEE,Seong Yoon Kim. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Method of forming a patterned hard mask and method of forming conductive lines

Номер патента: US11424124B2. Автор: Chien-Chung Wang,Hsih-Yang Chiu. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2022-08-23.

Image mask and image mask assembly

Номер патента: US20090269680A1. Автор: Michael Lucien GENIER,Jeffrey Mathew Clark,Windsor P. Thomas. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2009-10-29.

Methods for manufacturing phase masks and lens-less camera module

Номер патента: US20230291986A1. Автор: Yu Jin Lee,Seung Ah Lee,Tae Young Kim,Jae Woo Jung,Kyung Chul Lee,Nak Kyu BAEK,Hye Suk CHAE. Владелец: University Industry Foundation UIF of Yonsei University. Дата публикации: 2023-09-14.

Method for preparing mask, mask and evaporation system

Номер патента: US20180196341A1. Автор: ZHEN Wang,Zhiming Lin. Владелец: Ordos Yuansheng Optoelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-12.

Reflective mask blank, reflective mask and manufacturing method thereof, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US12111566B2. Автор: Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-10-08.

Method for producing a mask and the mask

Номер патента: US09946151B2. Автор: Seiji Fujino,Xiaohu Wang,Xiaolei ZHANG. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-17.

Phase shift mask and method of forming patterns using the same

Номер патента: US09632438B2. Автор: DongEon Lee,Jinho JU,Junhyuk Woo,Min Kang,Yong Son,Hyunjoo Lee,Bong Yeon Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-25.

Method and mask for making watermarked paper, method for making resulting watermarked paper mask, and method for authenticating watermarked paper

Номер патента: RU2748464C2. Автор: Иван ТЬЕРРИ,Стефан МАЛЛОЛЬ. Владелец: Обертюр Фидюсьер Сас. Дата публикации: 2021-05-25.

Identity anonymization with controlled masking and format preserving encryption

Номер патента: WO2024081096A1. Автор: Guillermo Paul PROANO. Владелец: Microsoft Technology Licensing, LLC. Дата публикации: 2024-04-18.

Mask repairing apparatus, method for repairing mask and evaporation system

Номер патента: US20180148821A1. Автор: WEI Cui,Wenyue Fu. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-31.

Merging a mask and a printing plate

Номер патента: EP1987399A2. Автор: Gregory Lloyd Zwadlo. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2008-11-05.

Merging a mask and a printing plate

Номер патента: WO2007106241A2. Автор: Gregory Lloyd Zwadlo. Владелец: EASTMAN KODAK COMPANY. Дата публикации: 2007-09-20.

Mask, method of manufacturing a mask and method of manufacturing an OLED panel

Номер патента: US9437837B2. Автор: Jinchuan Li. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-06.

Patterning method using metal mask and method of fabricating semiconductor device including the same patterning method

Номер патента: US9607853B2. Автор: Jae-Hong Park,Dong-Chan Kim,Kyung-yub Jeon,Je-woo Han,Gyung-Jin Min. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-03-28.

Mask blank, phase shift mask, and production method thereof

Номер патента: US09971238B2. Автор: Hiroshi Watanabe,Katsuya Hayano,Takashi Adachi,Ayako Tani,Yoichi Miura,Hideyoshi Takamizawa,Youhei Ohkawa. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2018-05-15.

Spectral masks and spectral flatness parameters for millimeter wave (mmwave) carrier signals in wireless communication networks

Номер патента: US20240235582A1. Автор: Lin Yang,Bin Tian,Jialing Li Chen. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Reflection-type mask blank, reflection-type mask, method for manufacturing reflection-type mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240160095A1. Автор: Masanori Nakagawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-05-16.

Cleaning method and cleaning device for sealing mask, and production method for honeycomb structure

Номер патента: US20140311534A1. Автор: Masaharu Mori,Ying Gong. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2014-10-23.

Mask and blank storage inner gas

Номер патента: US20080206683A1. Автор: Cheng-Ming Lin,Chue San Yoo. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2008-08-28.

Solvent removal of photoresist mask and gold impregnated residue and process

Номер патента: US20070093061A1. Автор: John Moore. Владелец: General Chemical Performance Products LLC. Дата публикации: 2007-04-26.

Large-area mask and exposure system having the same

Номер патента: US20050073664A1. Автор: Yong-Seok Park,Han-Beom Jo. Владелец: Display Manufacturing Services Co Ltd. Дата публикации: 2005-04-07.

Device with light-absorbing mask and method of its production

Номер патента: RU2344450C2. Автор: Марк В. МАЙЛЗ. Владелец: АйДиСи, ЭлЭлСи. Дата публикации: 2009-01-20.

Color diving mask and method of making same

Номер патента: US20040261160A1. Автор: Chih-Ban Hsu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-12-30.

Selective stencil mask and a stencil printing method

Номер патента: US20240343055A1. Автор: KyoWang Koo,Hyunseok Park,SeongKuk Kim,SeokBeom HEO. Владелец: Stats Chippac Pte Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Mask blank, phase shift mask, and method for producing semiconductor device

Номер патента: US20240337919A1. Автор: Hitoshi Maeda,Osamu Nozawa,Ryo Ohkubo,Kenta Tsukagoshi. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-10-10.

Photo mask and exposure system

Номер патента: US09978595B2. Автор: ZHENRUI Fan,Seungmin Lee,Wenxuan Zhang. Владелец: Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-22.

Printing mask and method of printing adhesive pattern

Номер патента: US20200198321A1. Автор: Xu Chen,Liang Zhang,Chunchieh Huang,Shanshan Bao. Владелец: Ordos Yuansheng Optoelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2020-06-25.

Method and apparatus for manufacturing apodized phase masks and related devices

Номер патента: WO2000003297A1. Автор: SHI Yuan,Jing-Jong Pan,Feng Qing Zhou. Владелец: E-Tek Dynamics, Inc.. Дата публикации: 2000-01-20.

Mask and Evaporation Apparatus

Номер патента: US20210230733A1. Автор: Shengji Yang,Kui Zhang. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2021-07-29.

Mask and method of fabricating spacers

Номер патента: US20150316797A1. Автор: Yue Li,Xiaochuan Chen,Hailin XUE,Chuncheng CHE,Wenbo Jiang. Владелец: Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2015-11-05.

Mask and air pressure control systems for use in coating deposition

Номер патента: AU2021269073B2. Автор: Mehran Arbab,Alan Hudd,Simon Kew,Yong Han YEONG,Adam COLBOURNE,Jonny WAITE,Henry ROLT. Владелец: PRC Desoto International Inc. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate with multilayer reflective film, reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240231214A9. Автор: Teiichiro Umezawa,Kota Suzuki. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Selective deposition utilizing masks and directional plasma treatment

Номер патента: US09754791B2. Автор: YIN Fan,Srinivas D. Nemani,Ludovic Godet,Ellie Y. Yieh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-09-05.

Mask and method for fabricating the same

Номер патента: US20220113621A1. Автор: Chi-Ming Tsai,Chi-Ta Lu,Jia-Guei Jou,Huang-Ming Wu,Jiun-Hao Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-04-14.

Method for generating mask data, mask and computer readable recording media

Номер патента: US20010039647A1. Автор: Katsumi Mori,Kei Kawahara,Yoshikazu Kasuya. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2001-11-08.

Polarizing mask and manufacturing method utilizing the polarizing mask

Номер патента: US09846312B2. Автор: Hyuk Yoon,Moon Soo Park,Bu Gon Shin,Sin Young Kim. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2017-12-19.

Methods of masking and etching a semiconductor substrate, and ion implant lithography methods of processing a semiconductor substrate

Номер патента: US20030096195A1. Автор: J. Rolfson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-05-22.

Substrate equipped with multi-layer reflection film, reflection-type mask blank, reflection-type mask, and semiconductor device manufacturing process

Номер патента: US20200310239A1. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2020-10-01.

Complementary division mask, method of producing mask, and program

Номер патента: EP1496393A3. Автор: Yoko c/o SONY CORPORATION Watanabe,Shinji c/o SONY CORPORATION Omori. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2006-05-24.

Pixel arrangement structure, metal mask and organic light-emitting display apparatus

Номер патента: US20240265860A1. Автор: Jun Hu,Wei SANG,Kaikai CHEN,Danfeng PU. Владелец: EverDisplay Optronics Shanghai Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Masking and sealing system for multi-step surface treatment

Номер патента: CA3150390A1. Автор: James Piascik,Glenn Sklar,Joseph William Mintzer, Iii,Nicola Amatangelo. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2022-04-07.

Mask and method for manufacturing display substrate

Номер патента: US20200073227A1. Автор: Yu Xiao,Dong Wang,Guohua Zhang,Yongzhi SONG,Jingyang Li. Владелец: Beijing BOE Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-03-05.

Half tone mask and fabricating method

Номер патента: WO2010074481A3. Автор: Joo Hyun Hwang,Jin Ho HONG,Seung Ho Back,Seung Han Kang. Владелец: LG INNOTEK CO., LTD.. Дата публикации: 2010-09-16.

Method for generating mask, and projection apparatus for performing the same

Номер патента: US20210377500A1. Автор: Chi-Wei Lin,Chien-Chun Peng,Hsun-Cheng Tu. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2021-12-02.

Laminate having organic mask and method for manufacturing organic electroluminescent device using same

Номер патента: US09722181B2. Автор: Minsoo Kang,Sehwan Son,Hyunsik Park. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Evaporation mask and evaporation method

Номер патента: US20200270741A1. Автор: FAN YANG,Kun Guo,Yinan LIANG. Владелец: Ordos Yuansheng Optoelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2020-08-27.

Display panel and manufacturing method thereof, mask and manufacturing method thereof, and display device

Номер патента: US09880426B2. Автор: Huifang Yuan. Владелец: Hefei BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-30.

Assistant pattern configuration method, mask and forming method thereof, and related device

Номер патента: US11307502B2. Автор: YAO Xu,Feng Bai,Fan Zhang,Yibin HUANG,Wanjuan Zhang. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2022-04-19.

Assistant pattern configuration method, mask and forming method thereof, and related device

Номер патента: US20210271176A1. Автор: YAO Xu,Feng Bai,Fan Zhang,Yibin HUANG,Wanjuan Zhang. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2021-09-02.

Pixel arrangement structure, vapor deposition mask and irregular-shaped display screen

Номер патента: US20200273925A1. Автор: Zhu Hui,Zhang Tingting,HU Siming,Wang Zhixiang. Владелец: Kunshan Govisionox Optoelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2020-08-27.

Method for fabricating mask and device isolation film

Номер патента: US20080032210A1. Автор: Jae-Young Choi. Владелец: Dongbu HitekCo Ltd. Дата публикации: 2008-02-07.

Optical mask and MOPA laser apparatus including the same

Номер патента: US7599106B2. Автор: Osamu Matsumoto,Toshiyuki Kawashima,Tadashi Kanabe. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2009-10-06.

Mask fork for transferring mask, and corresponding mask box and mask transferring method

Номер патента: US20200201195A1. Автор: Gang Wang,Rongjun Zhang,Dongliang Huang. Владелец: Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2020-06-25.

Mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US20030096174A1. Автор: Tsutomu Koike. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2003-05-22.

Mask, method of providing mask, and method of providing display panel using the same

Номер патента: US20220165997A1. Автор: Seul LEE,Seungyong Song,Youngmin Moon,Minho Moon,Sungsoon Im,Ji-Hee Son. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-26.

Mask, method of providing mask, and method of providing display panel using the same

Номер патента: US11825727B2. Автор: Seul LEE,Seungyong Song,Youngmin Moon,Minho Moon,Sungsoon Im,Ji-Hee Son. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-21.

Phase-shift mask blank, phase-shift mask, method of manufacturing phase-shift mask, and method of modifying phase-shift mask

Номер патента: EP4307047A1. Автор: Kyoko Kuroki,Kazuaki Matsui,Yosuke Kojima. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2024-01-17.

Apparatus and method for measuring phase of extreme ultraviolet (EUV) mask and method of fabricating EUV mask including the method

Номер патента: US11852583B2. Автор: Jongju Park,Raewon Yi,Hakseung Han,Seongsue Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-12-26.

Photolithography mask and method of fabricating a photolithography mask

Номер патента: US20030091911A1. Автор: Christoph Noelscher. Владелец: Christoph Noelscher. Дата публикации: 2003-05-15.

Reflecting mask, apparatus for fixing the reflecting mask and method of fixing the reflecting mask

Номер патента: US20080057412A1. Автор: Suk-Ho Lee,Sung-min Huh. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2008-03-06.

Phase shift mask blank, phase shift mask, and method for manufacturing phase shift mask

Номер патента: EP4310591A1. Автор: Kyoko Kuroki,Kazuaki Matsui,Yosuke Kojima. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2024-01-24.

Phase shift mask blank, phase shift mask, method for manufacturing phase shift mask, and method for modifying phase shift mask

Номер патента: US20240152045A1. Автор: Kyoko Kuroki,Kazuaki Matsui,Yosuke Kojima. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2024-05-09.

Systems and methods for masking and unmasking of sensitive data

Номер патента: US20210064783A1. Автор: Ashim Roy,Mayur JAIN,Shirish DAMLE,Anushka SHARMA. Владелец: Tata Consultancy Services Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Method of detecting relative position of exposure mask and object to be exposed, alignment method, and exposure method using the same

Номер патента: WO2004099879A3. Автор: Ryo Kuroda,Takako Yamaguchi. Владелец: Takako Yamaguchi. Дата публикации: 2005-05-26.

Contact exposure device provided with a mask and workpiece interval setting means

Номер патента: US6459474B1. Автор: Syoichi Okada. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2002-10-01.

Mask and method for testing quality of mask

Номер патента: US20210333706A1. Автор: Mei-Li Wang. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2021-10-28.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11815807B2. Автор: Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2023-11-14.

Deposition mask and method of manufacturing deposition mask

Номер патента: US11859274B2. Автор: Chikao Ikenaga,Yasuhiro Uchida,Sachiyo MATSUURA. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2024-01-02.

Mask and evaporation system

Номер патента: US20220098718A1. Автор: Zhiyuan Zhang,Bing Han,Weili Li,Mingxing Liu. Владелец: Kunshan Govisionox Optoelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-31.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240036458A1. Автор: Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-02-01.

Method for making narrow channel FET by masking and ion-implantation

Номер патента: US4145233A. Автор: Robert K. Jones,Stephen A. Sefick. Владелец: NCR Corp. Дата публикации: 1979-03-20.

Image mask and image mask assembly

Номер патента: US8062812B2. Автор: Michael Lucien GENIER,Jeffrey Mathew Clark,Windsor P Thomas. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2011-11-22.

Reflective mask blank, reflective mask and manufacturing method thereof, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US11815806B2. Автор: Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2023-11-14.

Evaporation mask and manufacturing method thereof

Номер патента: US20200270740A1. Автор: Yinan LIANG,Fengli JI. Владелец: Ordos Yuansheng Optoelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2020-08-27.

System and method for adaptive masking and non-directional language understanding and generation

Номер патента: US20220180071A1. Автор: Hyun Woo Kim,Ran HAN,Jeon Gue Park,Hwa Jeon Song,Eui Sok Chung,Gyeong Moon PARK,Byung Hyun Yoo. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute ETRI. Дата публикации: 2022-06-09.

Mask and fabrication method thereof, and method of patterning by using mask

Номер патента: US9488917B2. Автор: HONGLIANG Liu,Dawei Shi. Владелец: Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-08.

Reflective mask blank, reflective mask and manufacturing method thereof, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20230168575A1. Автор: Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2023-06-01.

Reflective mask blank, reflective mask, method for manufacturing reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240142866A1. Автор: Masanori Nakagawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-05-02.

Near-field exposure method and apparatus, near-field exposure mask, and device manufacturing method

Номер патента: US20060160036A1. Автор: Natsuhiko Mizutani. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-07-20.

Mask and method for manufacturing the same

Номер патента: US20240209489A1. Автор: Seungjin LEE,Byoungil Lee,Hong-Kyun Ahn,Jungwoo KO,Taekyong JANG. Владелец: Olum Material Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Head-mounted display system, method for adaptively adjusting hidden area mask, and computer program product

Номер патента: US20180336719A1. Автор: Jiun-Lin Chen. Владелец: HTC Corp. Дата публикации: 2018-11-22.

Mask and method for manufacturing the same

Номер патента: EP4394078A1. Автор: Seungjin LEE,Byoung-Il Lee,Hong-Kyun Ahn,Jungwoo KO,Taekyong JANG. Владелец: Olum Material Corp. Дата публикации: 2024-07-03.

Photo mask and method for manufacturing same

Номер патента: US5725973A. Автор: Woo-Sung Han,Chang-Jin Sohn. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 1998-03-10.

X-ray face mask and chest shield device

Номер патента: CA1155564A. Автор: Samuel Moti. Владелец: Individual. Дата публикации: 1983-10-18.

Methods of forming oxide isolation regions for integrated circuits substrates using mask and spacer

Номер патента: US5940720A. Автор: Jun-Pyo Hong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 1999-08-17.

Method for producing a mask and the mask

Номер патента: US20170139315A1. Автор: Seiji Fujino,Xiaohu Wang,Xiaolei ZHANG. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-18.

Stencil mask and use thereof in lithography fabrication

Номер патента: WO2023247443A1. Автор: Michaela EICHINGER,Morten KJÆRGAARD,Thomas Kanne NORDQVIST,András GYENIS. Владелец: University of Copenhagen. Дата публикации: 2023-12-28.

Mask and method of manufacturing mask assembly including the same

Номер патента: US20200206765A1. Автор: Min Ju Kim,Jung Woo Ko,Min Goo Kang,Su Cheol GONG,Taek Kyo Kang,Young Eun RYU,Jae Suk MOON,Soo Hyun MIN. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-02.

System and method for producing custom fitted face masks and applications thereof

Номер патента: US11887320B1. Автор: Christopher Sullivan,Matthew Williams,Matthew Sullivan. Владелец: Oceanit Laboratories Inc. Дата публикации: 2024-01-30.

Mask and Evaporation Device

Номер патента: US20180245198A1. Автор: Peng Xu,Jie Liu,Shengkai Pan,Yongkang QIAO. Владелец: Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-08-30.

Anti-doming composition for a shadow-mask and processes for preparing the same

Номер патента: US6094003A. Автор: Dong Hee Han,Hwan Chul Rho,Sung-Hwan Moon,Jae Myung Kim. Владелец: Samsung Display Devices Co Ltd. Дата публикации: 2000-07-25.

Self-Aligned Gate Hard Mask and Method Forming Same

Номер патента: US20200287042A1. Автор: Yen-Ming Chen,Sheng-Chen Wang,Sai-Hooi Yeong,Chi On Chui,Kai-Hsuan LEE,Bo-Yu Lai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-09-10.

Reflective mask blank, reflective mask and manufacturing method thereof, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20240036457A1. Автор: Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-02-01.

Identity anonymization with controlled masking and format preserving encryption

Номер патента: US20240129316A1. Автор: Guillermo Paul PROANO. Владелец: Microsoft Technology Licensing LLC. Дата публикации: 2024-04-18.

Round robin arbiter with mask and reset mask

Номер патента: US20120173781A1. Автор: Ballori Banerjee,James F. Vomero. Владелец: LSI Corp. Дата публикации: 2012-07-05.

Stencil mask and stencil printing method

Номер патента: US20230337369A1. Автор: KyoWang Koo,Kicheol Lee,BoLee LIM. Владелец: Stats Chippac Pte Ltd. Дата публикации: 2023-10-19.

Mask and wafer diffraction grating alignment system wherein the diffracted light beams return substantially along an incident angle

Номер патента: US5559601A. Автор: Gregg M. Gallatin,Justin L. Kreuzer,Michael L. Nelson. Владелец: SVG Lithography Systems Inc. Дата публикации: 1996-09-24.

Mask and method for manufacturing the same

Номер патента: CA2116805C. Автор: Woo-Sung Han,Chang-Jin Sohn. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2006-01-10.

Phase shift mask and method for repairing a defect of a phase shift mask

Номер патента: US5464713A. Автор: Nobuyuki Yoshioka,Junji Miyazaki,Kunihiro Hosono. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 1995-11-07.

Wavefront metrology sensor and mask therefor, method for optimizing a mask and associated apparatuses

Номер патента: US20230341325A1. Автор: Petrus Wilhelmus SMORENBURG,Christina Lynn PORTER,Lars LOETGERING,Stefan Michiel MICHIEL. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-10-26.

Deposition mask, method of manufacturing display device using the deposition mask, and display device

Номер патента: US20230232667A1. Автор: Youngmin Moon,Jeongkuk Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-20.

Reflective mask blank, reflective mask and method of manufacturing the same, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11892768B2. Автор: Yohei IKEBE,Mizuki KATAOKA. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-02-06.

Phase shift mask, and exposure method and device manufacturing method using the same

Номер патента: US20040053144A1. Автор: Kenji Yamazoe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-03-18.

Mask and method to pattern chromeless phase lithography contact hole

Номер патента: SG144908A1. Автор: LIN Qun Ying,Tan Soon Yoeng,Chong Huey Ming,HSIA Liang Choo,Tan Sia Kim. Владелец: Chartered Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2008-08-28.

Handling Mask and Range Constraints

Номер патента: US20090259703A1. Автор: Ehud Aharoni,Oded Margalit. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2009-10-15.

Pixel structure, mask and display device

Номер патента: EP3678183A1. Автор: Xin Ye,Jun Yu,Xiaoxu Hu. Владелец: Kunshan Govisionox Optoelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-08.

Exposure mask and method of fabricating display panel using the same

Номер патента: US20150093687A1. Автор: Taegyun Kim,Jin-Su Byun,Jungi KIM. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2015-04-02.

Method for designing mask and fabricating panel

Номер патента: US20050128398A1. Автор: Jeong Kim,Kyung Kang,Jo Jeong,Myung Nam,Jae Shin. Владелец: LG Philips LCD Co Ltd. Дата публикации: 2005-06-16.

Method for alignment employing film mask and aligner therefor

Номер патента: GB2271430A. Автор: Akira Nagai,Minoru Tanaka. Владелец: Adtec Engineering Co Ltd. Дата публикации: 1994-04-13.

Mask and mask assembly

Номер патента: US20230374648A1. Автор: Bing Han,Weili Li,Yue Qiu,Wenxing Li,Jishuai Zhang,Gongzheng Zang. Владелец: Hefei Visionox Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Substrate with multilayer reflective film, reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240134265A1. Автор: Teiichiro Umezawa,Kota Suzuki. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-04-25.

Mask and air pressure control systems for use in coating deposition

Номер патента: WO2021226539A9. Автор: Mehran Arbab,Alan Hudd,Simon Kew,Yong Han YEONG,Adam COLBOURNE,Jonny WAITE,Henry ROLT. Владелец: PRC-DeSoto International, Inc.. Дата публикации: 2022-05-19.

Mask and air pressure control systems for use in coating deposition

Номер патента: US20230173523A1. Автор: Mehran Arbab,Alan Hudd,Simon Kew,Yong Han YEONG,Adam COLBOURNE,Jonny WAITE,Henry ROLT. Владелец: PRC Desoto International Inc. Дата публикации: 2023-06-08.

Systems and methods for hardware acceleration of masking and normalizing data with a triangular input mask

Номер патента: WO2023229679A1. Автор: Jinwen Xi. Владелец: Microsoft Technology Licensing, LLC. Дата публикации: 2023-11-30.

Systems and methods for hardware acceleration of masking and normalizing data with a triangular input mask

Номер патента: US20230376663A1. Автор: Jinwen Xi. Владелец: Microsoft Technology Licensing LLC. Дата публикации: 2023-11-23.

Mask and air pressure control systems for use in coating deposition

Номер патента: CA3176820A1. Автор: Mehran Arbab,Alan Hudd,Simon Kew,Yong Han YEONG,Adam COLBOURNE,Jonny WAITE,Henry ROLT. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-11-11.

Mask and air pressure control systems for use in coating deposition

Номер патента: EP4146406A1. Автор: Mehran Arbab,Alan Hudd,Simon Kew,Yong Han YEONG,Adam COLBOURNE,Jonny WAITE,Henry ROLT. Владелец: PRC Desoto International Inc. Дата публикации: 2023-03-15.

Photo mask and semiconductor device fabricated using the same

Номер патента: US20060118838A1. Автор: Sang Bae. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2006-06-08.

Dry film photoresist for forming a conformable mask and method of application to a printed circuit board or the like

Номер патента: US5213945A. Автор: James J. Briguglio,Fredrick J. Axon,Leo Roos. Владелец: Morton International LLC. Дата публикации: 1993-05-25.

Structure of phase shifting mask and method of manufacturing the same comprising an adhesive layer between a phase shift layer and a light blocking layer

Номер патента: US5824438A. Автор: Jun-Seok Lee,Chan-Min Park,Yong-Kyoo Choi. Владелец: LG Semicon Co Ltd. Дата публикации: 1998-10-20.

Arrangement for aligning a mask and a substrate relative to each other

Номер патента: US4749278A. Автор: Jan E. Van Der Werf. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 1988-06-07.

Apparatus for the exact mutual alignment of a mask and semiconductor wafer in a lithographic apparatus

Номер патента: US4825086A. Автор: Karl-Heinz Mueller. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1989-04-25.

Method for Masking and/or Reducing Disturbing Noises or the Conspicuousness Thereof During Operation of a Motor Vehicle

Номер патента: US20190066653A1. Автор: Gerd Speidel,Michael Sturm,Thomas Alber. Владелец: Robert Bosch Automotive Steering GmbH. Дата публикации: 2019-02-28.

Combined write enable mask and credit return field

Номер патента: WO2022046253A1. Автор: David Patrick,Tony M. Brewer. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2022-03-03.

Generating a Number based on Mask and Range Constraints

Номер патента: US20120185522A1. Автор: Ehud Aharoni,Oded Margalit. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2012-07-19.

Method for forming epitaxial source/drain features using a self-aligned mask and semiconductor devices fabricated thereof

Номер патента: US20230395433A1. Автор: Huang-Lin Chao,Yao-Sheng Huang,I-Ming Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Photo mask and semiconductor device fabricated using the same

Номер патента: US7755149B2. Автор: Sang Man Bae. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2010-07-13.

Mask and manufacturing method thereof as well as display device

Номер патента: US20200225513A1. Автор: WEI Xue,Ping Song,Hongmin Li,Zhifu Dong,Liqing LIAO. Владелец: Hefei BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-16.

Photo-mask and semiconductor process

Номер патента: US11662658B2. Автор: You-Ming KE. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2023-05-30.

Substrate with multilayer reflective film, reflective mask blank, reflective mask, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20200249558A1. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Tsutomu Shoki. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2020-08-06.

Reflective structure, reflective mask blank, reflective mask and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12025911B2. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Tsutomu Shoki. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-07-02.

Color picture tube having a tensioned mask and compliant support frame assembly

Номер патента: CA2189287C. Автор: Frank Rowland Ragland, Jr.. Владелец: Thomson Consumer Electronics Inc. Дата публикации: 2002-06-18.

Mask and optical filter manufacturing apparatus including the same

Номер патента: US20130114055A1. Автор: Hyuk Yoon,Moon Soo Park,Su Young Ryu,Dong Ho KO,Sin Young Kim,Kyung Ki HONG,Won Cheul Ju,Yong II Cho. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2013-05-09.

Half tone mask and fabricating method

Номер патента: WO2010074481A2. Автор: Joo Hyun Hwang,Jin Ho HONG,Seung Ho Back,Seung Han Kang. Владелец: LG INNOTEK CO., LTD.. Дата публикации: 2010-07-01.

Semiconductor mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US5718990A. Автор: Hoon Huh. Владелец: LG Semicon Co Ltd. Дата публикации: 1998-02-17.

Ion implant mask and cap for gallium arsenide structures

Номер патента: US4494997A. Автор: Zachary J. Lemnios,He B. Kim. Владелец: Westinghouse Electric Corp. Дата публикации: 1985-01-22.

Laminate having organic mask and method for manufacturing organic electroluminescent device using same

Номер патента: EP3016170A1. Автор: Minsoo Kang,Sehwan Son,Hyunsik Park. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2016-05-04.

Mask and manufacturing method thereof, evaporation method and display screen

Номер патента: US20200357998A1. Автор: Kuo Sun,Shanshan BAI,Dongmei Xie,Qiaonan HAN. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2020-11-12.

Mask and evaporation system

Номер патента: US20220098719A1. Автор: Bing Han,Weili Li,Mingxing Liu. Владелец: Kunshan Govisionox Optoelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-31.

Self-aligned masks and methods of use

Номер патента: US20150054135A1. Автор: Paul S. Ho,Zhuojie Wu. Владелец: University of Texas System. Дата публикации: 2015-02-26.

System and method for cleaning surfaces and components of mask and wafer inspection systems based on the positive column of a glow discharge plasma

Номер патента: EP2834708A1. Автор: Garry Rose,Gildardo DELGADO. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2015-02-11.

Apparatus for effecting alignment and spacing control of a mask and wafer for use in X-ray lithography

Номер патента: US4472824A. Автор: W. Derek Buckley. Владелец: Perkin Elmer Corp. Дата публикации: 1984-09-18.

Determining Transient Error Functional Masking And Propagation Probabilities

Номер патента: US20160370429A9. Автор: Jamil Raja Mazzawi,Ayman Kamil Mouallem. Владелец: OPTIMA DESIGN AUTOMATION LTD. Дата публикации: 2016-12-22.

Mask and manufacturing method thereof

Номер патента: US20200272046A1. Автор: En-Tsung Cho. Владелец: Chongqing HKC Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-08-27.

Flare measuring mask and flare measuring method of semiconductor aligner

Номер патента: US7186481B2. Автор: Akira Watanabe,Yasuhiro Yamamoto. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 2007-03-06.

Flare measuring mask and flare measuring method of semiconductor aligner

Номер патента: US20050095510A1. Автор: Akira Watanabe,Yasuhiro Yamamoto. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 2005-05-05.

Method for storing a respiratory mask and respiratory equipment including a respiratory mask and a storage element

Номер патента: US09943713B2. Автор: Jean-Paul Libis. Владелец: Zodiac Aerotechnics SAS. Дата публикации: 2018-04-17.

Mask carrying case with multiple pockets for face masks, and associated patterns and methods of manufacture thereof

Номер патента: CA3111067A1. Автор: Amy Mylang Truong-Vuattoux. Владелец: Oniima Inc. Дата публикации: 2022-09-03.

Dual chambered protective mask and frame insert for forming the same

Номер патента: CA3231090A1. Автор: Ronald K. Russikoff. Владелец: Rodan Enterprises LLC. Дата публикации: 2023-03-16.

Dual chambered protective mask and frame insert for forming the same

Номер патента: EP4398994A1. Автор: Ronald K. Russikoff. Владелец: Rodan Enterprises LLC. Дата публикации: 2024-07-17.

Oxygen mask and system

Номер патента: EP3960248A1. Автор: John T. Barker. Владелец: BE Aerospace Inc. Дата публикации: 2022-03-02.

Attachment for mask, attachment kit for mask, and mask equipped with attachment

Номер патента: US20240197006A1. Автор: Yukio Ishikawa. Владелец: Ishikawa Wire Netting Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Mask and manufacturing method thereof

Номер патента: US20230249010A1. Автор: Yu Jin Ahn,Byung Hwan TAK. Владелец: Samhwan Tf Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Face mask and shield combination

Номер патента: US20220346474A1. Автор: Pranav AVASARALA,Pallavi Avasarala. Владелец: Aver Technologies Inc. Дата публикации: 2022-11-03.

Face masks and method of fabricating face mask

Номер патента: AU2020483297A9. Автор: Min-Liang Tan,Gil Jr Palma GUERRERO,Lionel Lim,Alvin Sim,Charlie Bolton. Владелец: Razer Asia Pacific Pte Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Face masks and method of fabricating face mask

Номер патента: US20240350838A1. Автор: Min-Liang Tan,Gil Jr Palma GUERRERO,Lionel Lim,Alvin Sim,Charlie Bolton. Владелец: Razer Asia Pacific Pte Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Nostril-shielding nasal mask and associated method(s)

Номер патента: US20240100371A1. Автор: Blake Livengood. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-03-28.

Nostril-shielding nasal mask and associated method(s)

Номер патента: US11992711B2. Автор: Blake Livengood. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-05-28.

Respiratory mask and filter cartridge therefor

Номер патента: US09750960B2. Автор: Clive Johnstone,Richard James Fleming,Matthew Neal Judson. Владелец: JSP Ltd. Дата публикации: 2017-09-05.

Ear part material for mask, mask, method for producing ear part material for mask, and method for producing mask

Номер патента: EP4169583A4. Автор: Akifumi Hayashi,Rina Onizawa,Ryota Honjo. Владелец: Daio Paper Corp. Дата публикации: 2023-11-08.

Face mask and method of making the same

Номер патента: US11766079B2. Автор: Randall Harward,Margaret Snoke,Joshua Hiney,Breanne Hitch. Владелец: Under Armour Inc. Дата публикации: 2023-09-26.

Method for producing ear hook member for mask, apparatus for producing ear hook member for mask, method for producing mask, and mask

Номер патента: EP4295922A4. Автор: Kodai Ujiie. Владелец: Daio Paper Corp. Дата публикации: 2024-07-31.

Filtering mask and manufacturing method thereof

Номер патента: EP3912502A1. Автор: Giuseppe Ghisa,Carmelo Mirabile,Davide Luigi VIGE'. Владелец: Istituto Poligrafico E Zecca Dello Stato SpA. Дата публикации: 2021-11-24.

Swiveling sound-gathering ear guard for masks and helmets

Номер патента: US7249651B2. Автор: Lester Broersma. Владелец: Brass Eagle LLC. Дата публикации: 2007-07-31.

Swiveling sound-gathering ear guard for masks and helmets

Номер патента: US20030159199A1. Автор: Lester Broersma. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-08-28.

Melt-blown nonwoven fabric, method for producing same, multilayer body, filter for masks, and mask

Номер патента: EP4446487A1. Автор: Masanobu Tamura,Takayuki Miyamoto,Shunsuke Otani,Takekazu Maeda. Владелец: Kaneka Corp. Дата публикации: 2024-10-16.

Skull mounting system for headgear and headgear with skull mounting system

Номер патента: US11969043B2. Автор: Jens Brose,Marco SCHÖNEMANN. Владелец: SATA GmbH and Co KG. Дата публикации: 2024-04-30.

Method for storing a respiratory mask and respiratory equipment including a respiratory mask and a storage element

Номер патента: CA2852823C. Автор: Jean-Paul Libis. Владелец: Zodiac Aerotechnics SAS. Дата публикации: 2018-11-20.

Disposable smoke hood with mask and dual strap arrangement

Номер патента: US5452712A. Автор: James M. Richardson. Владелец: Individual. Дата публикации: 1995-09-26.

Pleating spacer and its use to provide improved facial masks and respirators

Номер патента: US11871802B1. Автор: Parviz Izadjoo,Mina Izadjoo. Владелец: Integrated Pharma Services LLC. Дата публикации: 2024-01-16.

Pleating spacers and their use to provide improved facial masks and respirators

Номер патента: WO2024039921A1. Автор: Parviz Izadjoo,Mina Izadjoo. Владелец: Integrated Pharma Services, Llc. Дата публикации: 2024-02-22.

Mask and member for mount on mask

Номер патента: AU2008208314A1. Автор: Makoto Ishigami,Naohito Takeuchi,Hiromi Teraoka. Владелец: Unicharm Corp. Дата публикации: 2008-07-31.

Mask and member for mount on mask

Номер патента: AU2008208313A1. Автор: Makoto Ishigami,Naohito Takeuchi,Hiromi Teraoka. Владелец: Unicharm Corp. Дата публикации: 2008-07-31.

Respirator mask and method of manufacturing a mask

Номер патента: GB202019829D0. Автор: . Владелец: Denroy Group Ltd. Дата публикации: 2021-01-27.

Breathing mask and flushing arrangement for a breathing mask

Номер патента: GB201712702D0. Автор: . Владелец: MSA EUROPE GMBH. Дата публикации: 2017-09-20.

Ear-hanging member for mask, and mask

Номер патента: EP4316604A4. Автор: Kodai Ujiie. Владелец: Daio Paper Corp. Дата публикации: 2024-08-07.

Air filter filtration material, method for producing air filter filtration material, filtration material for masks, and filtration material for pleat-like masks

Номер патента: EP4289495A4. Автор: Nobuki Uraoka,Yoshiyuki Shibuya,Kunihiko Inui,Hideyuki Kiyotani. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2024-08-14.

A composite material for use in a face mask, and a face mask formed thereof

Номер патента: EP3944886B1. Автор: Hiu Ying LAM. Владелец: Innotier Ltd. Дата публикации: 2024-10-16.

Smart mask and smart mask system

Номер патента: US11848024B2. Автор: Xiaowei Zhou,Xiaoyang Gao,Zhengyu Zhou,Pongtep Angkititrakul,Hyeongsik Kim. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2023-12-19.

Woven personal respirator mask and methods of making same

Номер патента: EP3892764A1. Автор: Carlos Yidi. Владелец: Finotx USA Corp. Дата публикации: 2021-10-13.

Smart mask and smart mask system

Номер патента: EP4033775A2. Автор: Xiaowei Zhou,Xiaoyang Gao,Zhengyu Zhou,Pongtep Angkititrakul,Hyeongsik Kim. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2022-07-27.

SKULL MOUNTING SYSTEM FOR HEADGEAR AND HEADGEAR WITH SKULL MOUNTING SYSTEM

Номер патента: US20220039499A1. Автор: BROSE Jens,SCHÖNEMANN Marco. Владелец: Sata GmbH & Co. KG. Дата публикации: 2022-02-10.

HEADGEAR ASSEMBLIES AND HEADGEAR LINERS HAVING FRICTION-REDUCING INTERFACE ELEMENTS

Номер патента: US20210378342A1. Автор: Kirshon Jason E.. Владелец: Impact Technologies, LLC. Дата публикации: 2021-12-09.

Head suspension system and headgear with replaceable headband bridge and method of adjusting same

Номер патента: WO2007121151A3. Автор: Niklas M S Lilenthal,Jonas D Fridholm. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2007-12-21.

Eye protection, eye protection device for a headgear and headgear comprising an eye protection device

Номер патента: US20230255299A1. Автор: Edwin Busch. Владелец: Busch Protective Germany & Co KG GmbH. Дата публикации: 2023-08-17.

Mask and method for producing same

Номер патента: US20230354930A1. Автор: Toyoshi Umebayashi. Владелец: Zuiko Corp. Дата публикации: 2023-11-09.

Mask and method for manufacturing mask

Номер патента: EP4316605A1. Автор: Kodai Ujiie. Владелец: Daio Paper Corp. Дата публикации: 2024-02-07.

Dual chambered protective mask and frame insert for forming the same

Номер патента: AU2022344814A1. Автор: Ronald K. Russikoff. Владелец: Rodan Enterprises LLC. Дата публикации: 2024-04-18.

Heated air N95 mask, heated air training workout mask and multi-function mask

Номер патента: US11801404B1. Автор: Robert Sabin. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-10-31.

Face mask and method of producing a face mask

Номер патента: WO2023099904A1. Автор: Brendan Cowey. Владелец: Staeger Clear Packaging Limited. Дата публикации: 2023-06-08.

Method for producing ear hook member for mask, apparatus for producing ear hook member for mask, method for producing mask, and mask

Номер патента: EP4295922A1. Автор: Kodai Ujiie. Владелец: Daio Paper Corp. Дата публикации: 2023-12-27.

Air filter filtration material, method for producing air filter filtration material, filtration material for masks, and filtration material for pleat-like masks

Номер патента: EP4289495A1. Автор: Nobuki Uraoka,Yoshiyuki Shibuya,Kunihiko Inui,Hideyuki Kiyotani. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-12-13.

Accessory for gas masks and gas masks equipped therewith

Номер патента: CA1279803C. Автор: Gilbert Vandeputte. Владелец: Engicom NV. Дата публикации: 1991-02-05.

Face mask and shield combination

Номер патента: US20240148087A1. Автор: Pranav AVASARALA,Pallavi Avasarala. Владелец: Aver Technologies Inc. Дата публикации: 2024-05-09.

Filtration mask, packaged filtration mask, and tearable container

Номер патента: CA3042124A1. Автор: Philip Adam Smith,Nicholas John Hunter. Владелец: Avon Polymer Products Ltd. Дата публикации: 2019-11-04.

Thermoresponsive Facial Mask and Materials Thereof

Номер патента: US20220305304A1. Автор: Yi Wei Chen,Kuo Pin Cheng,Wei Hao Lee,Ta Wui Cheng,Ke Yang Chen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-09-29.

Method for thin film lift-off processes using lateral extended etching masks and device

Номер патента: EP1384265A1. Автор: David G. Lishan. Владелец: Unaxis USA Inc. Дата публикации: 2004-01-28.

Deposition mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US09975134B2. Автор: Ikunori Kobayashi,Jung-Woo Ko. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-22.

Etching mask and magnetic head device

Номер патента: US20010046790A1. Автор: Koji Matsukuma. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2001-11-29.

Metal plate for deposition mask, and deposition mask and manufacturing method therefor

Номер патента: US11732364B2. Автор: Dong Mug Seong,Su Hyeon Cho,Hae Sik Kim,Sang Beum Lee,Tae Hoon Han,Hyo Won Son,Sang Yu Lee,Jong Min YUN. Владелец: LG Innotek Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-22.

Semiconductor structure, capacitor, mask and methods of manufacture thereof

Номер патента: US20030039903A1. Автор: Gurtei Sandhu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-02-27.

Layered hard mask and dielectric materials and methods therefor

Номер патента: EP1390976A1. Автор: Lynn Forester. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2004-02-25.

Method of fabricating crystal unit, crystal unit fabrication mask, and crystal unit package

Номер патента: US20140158292A1. Автор: Masakazu Kishi,Hajime Kubota,Masayuki Itoh. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2014-06-12.

Mask, and method and apparatus for making it

Номер патента: US20010013501A1. Автор: J. Rolfson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-08-16.

Semiconductor device, method for manufacturing the same, method for generating mask data, mask and computer readable recording medium

Номер патента: US09978737B2. Автор: Katsumi Mori,Kei Kawahara,Yoshikazu Kasuya. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2018-05-22.

Semiconductor device, method for manufacturing the same, method for generating mask data, mask and computer readable recording medium

Номер патента: US09953922B2. Автор: Katsumi Mori,Kei Kawahara,Yoshikazu Kasuya. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2018-04-24.

Nanoscale masking and printing using patterned substrates

Номер патента: WO2008005448A3. Автор: Christopher Knutson. Владелец: Arryx Inc. Дата публикации: 2008-11-06.

Attenuated phase shift mask and method of manufacture thereof

Номер патента: US5667919A. Автор: Chih-Chiang Tu,Chin-Lung Lin,Jon-Yiew Gan,Tai-Bor Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 1997-09-16.

Display device, electro-optical device, electric equipment, metal mask, and pixel array

Номер патента: US20160148981A1. Автор: Yojiro Matsueda. Владелец: NLT Technologeies Ltd. Дата публикации: 2016-05-26.

Metal plate for deposition mask, and deposition mask and manufacturing method therefor

Номер патента: US11795549B2. Автор: Dong Mug Seong,Su Hyeon Cho,Hae Sik Kim,Sang Beum Lee,Tae Hoon Han,Hyo Won Son,Sang Yu Lee,Jong Min YUN. Владелец: LG Innotek Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-24.

Photolithographic mask and methods for the fabrication of the mask

Номер патента: US20030232256A1. Автор: Siegfried Schwarzl,Stefan Wurm. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2003-12-18.

Method of manufacturing electronic device including aligning first substrate, second substrate and mask, and transferring object from first substrate to second substrate, including irradiating object on first substrate with light through mask

Номер патента: US7127810B2. Автор: Wakao Miyazawa,Tomoyuki Kamakura,Masashi Kasuga,Fukumi Tsuchihashi. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2006-10-31.

Method of fabricating crystal unit, crystal unit fabrication mask, and crystal unit package

Номер патента: US20120062072A1. Автор: Masakazu Kishi,Hajime Kubota,Masayuki Itoh. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2012-03-15.

Method of fabricating Bragg gratings using a silica glass phase grating mask and mask used by same

Номер патента: US5367588A. Автор: Kenneth O. Hill,Derwyn C. Johnson,Bernard Y. Malo,Francois C. Bilodeau. Владелец: Canada Minister of Communications. Дата публикации: 1994-11-22.

X-ray mask and device manufacturing method using the same

Номер патента: US20020197545A1. Автор: Hideki Ina,Kenji Itoga. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2002-12-26.

Mask blank substrate, mask blank, reflective mask blank, transfer mask, reflective mask, and method for making these

Номер патента: KR101874504B1. Автор: 다츠야 사사키,다카히토 니시무라. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2018-07-04.

Ion implantation mask and method for manufacturing same, silicon carbide semiconductor device using ion implantation mask, and method for manufacturing same

Номер патента: US20070032002A1. Автор: Yusuke Fukuda,Masaaki Shimizu,Koichi Nishikawa,Hideki Hashimoto,Seiichi Yokoyama,Ken-ichi Nonaka,Hiroaki Iwakuro. Владелец: Shindengen Electric Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2007-02-08.

Reflective mask blank, reflective mask and methods of producing the mask blank and the mask

Номер патента: EP2317384A2. Автор: Shinichi Ishibashi,Yuki Shiota,Tsutomu Shoki,Morio Hosoya,Mitsuhiro Kureishi. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2011-05-04.

Reflective Mask Blank, Reflective Mask and Methods of Producing the Mask Blank and the Mask

Номер патента: US20080248409A1. Автор: Shinichi Ishibashi,Yuki Shiota,Tsutomu Shoki,Mitsuhiro Kureishi,Mario Hosoya. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2008-10-09.

Reflective mask blank, reflective mask and methods of producing the mask blank and the mask

Номер патента: US7981573B2. Автор: Shinichi Ishibashi,Yuki Shiota,Tsutomu Shoki,Morio Hosoya,Mitsuhiro Kureishi. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2011-07-19.

Mask blank substrate, mask blank, reflective mask blank, transfer mask, and reflective mask, as well as methods of manufacturing the same

Номер патента: TWI610124B. Автор: 西村貴仁,佐佐木達也. Владелец: Ｈｏｙａ股份有限公司. Дата публикации: 2018-01-01.

Use of a shadow mask and a soft mask for aligned implants in solar cells

Номер патента: WO2013003282A2. Автор: Atul Gupta,Nicholas P.T. Bateman,Benjamin B. Riordon. Владелец: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.. Дата публикации: 2013-01-03.

Metal mask and screen printing apparatus

Номер патента: US09789682B2. Автор: Takuya Hirose. Владелец: Nissan Motor Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-17.

Welding mask and welding method

Номер патента: EP4358204A1. Автор: Min-Woo Kim,Do-Gyun Kim,Gil-Young LEE,Hae-Jin Lim,Min-Tae Kim,Kyung-Wook CHO,Kwang-cheol Park,Jun-Oh LEE,Joong-Ha HWANG. Владелец: LG Energy Solution Ltd. Дата публикации: 2024-04-24.

Welding mask and welding method using the same

Номер патента: CA3233990A1. Автор: Min-Woo Kim,Do-Gyun Kim,Gil-Young LEE,Hae-Jin Lim,Min-Tae Kim,Kyung-Wook CHO,Kwang-cheol Park,Jun-Oh LEE,Joong-Ha HWANG. Владелец: LG Energy Solution Ltd. Дата публикации: 2023-04-20.

Integrated circuit pattern designing method, exposure mask manufacturing method, exposure mask, and integrated circuit device manufacturing method

Номер патента: TW200418084A. Автор: Koji Hashimoto,Shigeki Nojima,Shingo Tokutome. Владелец: Toshiba Kk. Дата публикации: 2004-09-16.

Mask and method for manufacturing the same, and mask assembly and method for manufacturing the same

Номер патента: US20240124966A1. Автор: Bing Han,Weili Li,Wenxing Li,Jishuai Zhang,Gongzheng Zang,Mudan CHEN. Владелец: Kunshan Govisionox Optoelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-18.

Slurry spraying mask and slurry spraying jig

Номер патента: US20190240691A1. Автор: Pao-Chi Chi,Yung-Min PAI,Jih-Jenn Huang. Владелец: Hermes Epitek Corp. Дата публикации: 2019-08-08.

Optical proximity correction method and system, mask, and storage medium

Номер патента: US20230185182A1. Автор: GE ZHANG,Zhongwen YAN. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2023-06-15.

Metal mask and method to produce metal mask

Номер патента: US20240191335A1. Автор: Chi-Wei Lin,Kang-Hsiang Liu. Владелец: Darwin Precisions Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

Metal plate for producing vapor deposition masks, production method for metal plates, vapor deposition mask, production method for vapor deposition mask, and vapor deposition mask device comprising vapor deposition mask

Номер патента: US20200149139A1. Автор: Hideyuki Okamoto,Hiroki Oka,Chikao Ikenaga,Masato Ushikusa,Sachiyo MATSUURA,Chiaki Hatsuta. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2020-05-14.

Near field exposure mask, method of forming resist pattern using the mask, and method of producing device

Номер патента: US7968256B2. Автор: Toshiki Ito,Natsuhiko Mizutani,Akira Terao. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2011-06-28.

Near field exposure mask, method of forming resist pattern using the mask, and method of producing device

Номер патента: WO2008047733A1. Автор: Toshiki Ito,Natsuhiko Mizutani,Akira Terao. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2008-04-24.

Photolithography system, method for transporting photo-mask and unit therein

Номер патента: US09921493B2. Автор: Chi-Feng Tung,Mao-Lin Kao,Chih-Cheng Hsiao,Hsiang-Yin Shen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-03-20.

Mask and deposition apparatus including the same

Номер патента: US20240318297A1. Автор: Duck Jung Lee. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Deposition mask and method of fabricating the same

Номер патента: US09863037B2. Автор: Jongwoo Kim,Yoonhyeung Cho,Minho Oh,Jiyoung Moon,Yongtack KIM. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Shadow mask structure having no wrinkle of shadow mask and cathode-ray tube excellent in screen luminance and color-purity

Номер патента: US20010011863A1. Автор: Hiroshi Hasegawa. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2001-08-09.

Reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing reflective mask and semiconductor device

Номер патента: US12072619B2. Автор: Masanori Nakagawa,Tsutomu Shoki. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Method for fine metal mask and design device for the same

Номер патента: US20210019459A1. Автор: Yue Liu,Shanshan BAI. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-21.

Shadow mask, a method of forming the shadow mask, and a method of manufacturing a semiconductor device with using the shadow mask

Номер патента: US20020135287A1. Автор: Shinichi Fukuzawa,Shigeyoshi Ootsuki. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-09-26.

Mask sheet and method of manufacturing the same, opening mask and method of using the same, thin film deposition device and display apparatus

Номер патента: US12091740B2. Автор: Ge Wang,Zhiliang Jiang. Владелец: Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Mask blank and mask and fabrication method thereof

Номер патента: US09921467B2. Автор: Chih-Chiang Tu,Chun-Lang Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-03-20.

Reflective mask blank, method of manufacturing reflective mask blank, reflective mask and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09720315B2. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Tsutomu Shoki,Tatsuo ASAKAWA. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-08-01.

Multi-cell masks and methods and apparatus for using such masks to form three-dimensional structures

Номер патента: US20070102299A1. Автор: Adam Cohen. Владелец: University of Southern California USC. Дата публикации: 2007-05-10.

Solid-state laser with spatially-tailored active ion concentration using valence conversion with surface masking and method

Номер патента: WO2007120432A3. Автор: Michael Ushinsky,Robert W Byren,David S Sumida. Владелец: Raytheon Co. Дата публикации: 2008-03-13.

Method For Forming Photo-Mask And OPC Method

Номер патента: US20150072272A1. Автор: Hsin-Yu Chen,Chun-Hsien Huang,Chia-Wei Huang,Ming-Jui Chen,Kai-Lin Chuang. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2015-03-12.

Reflective mask and method for producing reflective mask

Номер патента: EP4231094A1. Автор: Hideaki Nakano,Ayumi Goda,Kenjiro ICHIKAWA,Yuto YAMAGATA. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2023-08-23.

Multi-cell Masks and Methods and Apparatus for Using Such Masks To Form Three-Dimensional Structures

Номер патента: US20100147695A1. Автор: Adam L. Cohen. Владелец: University of Southern California USC. Дата публикации: 2010-06-17.

Self-polarized mask and self-polarized mask application

Номер патента: US20140038089A1. Автор: Ki Young Lee,Sanggil Bae,Tony Joung. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2014-02-06.

Reflective mask blank, method of manufacturing reflective mask and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20190265585A1. Автор: Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2019-08-29.

Method for forming photo-mask and OPC method

Номер патента: US9274416B2. Автор: Hsin-Yu Chen,Chun-Hsien Huang,Chia-Wei Huang,Ming-Jui Chen,Kai-Lin Chuang. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2016-03-01.

Mask and mask assembly having the same

Номер патента: US20130298826A1. Автор: Jae-Min Hong,Sang-Hyuk Park,Woo-young Jung,Ha-Nul Kwen. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2013-11-14.

Reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240319578A1. Автор: Masanori Nakagawa,Tsutomu Shoki. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Method of manufacturing a semiconductor device utilzing two hard masks and two auxiliary masks to form PN junctions structure

Номер патента: US12087812B2. Автор: Andreas Voerckel. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2024-09-10.

Apparatus for cleaning deposition mask and method of cleaning deposition mask

Номер патента: US11911811B2. Автор: Myungkyu KIM. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-27.

Mask blank, phase-shift mask and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09933698B2. Автор: Atsushi Matsumoto,Takashi Uchida,Hiroaki Shishido. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Mask blank, mask blank with negative resist film, phase shift mask, and method for producing pattern formed body using same

Номер патента: US09874808B2. Автор: Hiroshi Watanabe,Katsuya Hayano,Takashi Adachi,Ayako Tani,Hideyoshi Takamizawa,Youichi Miura,Youhei Ohkawa. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2018-01-23.

Mask blank, method for manufacturing transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09864268B2. Автор: Hiroaki Shishido,Osamu Nozawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2018-01-09.

Gather-op instruction to duplicate a mask and perform an operation on vector elements gathered via tracked offset-based gathering

Номер патента: US09747101B2. Автор: Elmoustapha Ould-Ahmed-Vall,Suleyman Sair,Kshitij A. Doshi,Charles R. Yount. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-08-29.

Solid-state laser with spatially-tailored active ion concentration using valence conversion with surface masking and method

Номер патента: WO2007120432A2. Автор: Michael Ushinsky,Robert W. Byren,David S. Sumida. Владелец: Raytheon Company. Дата публикации: 2007-10-25.

Solid-state laser with spatially-tailored active ion concentration using valence conversion with surface masking and method

Номер патента: EP2011201A2. Автор: Michael Ushinsky,Robert W. Byren,David S. Sumida. Владелец: Raytheon Co. Дата публикации: 2009-01-07.

Mask, method for fabricating mask and drive-backplane motherboard

Номер патента: US12052907B2. Автор: Peng Xu,Fengli JI. Владелец: Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Shadow mask, film forming system using shadow mask and method of manufacturing a display device

Номер патента: US09976210B2. Автор: Taiki Watanabe. Владелец: Japan Display Inc. Дата публикации: 2018-05-22.

Mask blank substrate, substrate with multilayer reflection film, transmissive mask blank, reflective mask blank, transmissive mask, reflective mask, and semiconductor device fabrication method

Номер патента: US09897909B2. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Junichi Horikawa,Tsutomu Shoki,Toshihiko Orihara,Hirofumi Kozakai,Youichi Usui. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2018-02-20.

Mask and method of manufacturing display device by using the same

Номер патента: US09847484B2. Автор: Hyojin Kim,Junmo Ji. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-19.

Mask blank, transfer mask, and method for manufacturing transfer mask

Номер патента: US09726972B2. Автор: Hiroaki Shishido,Osamu Nozawa,Ryo Ohkubo. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-08-08.

Deposition mask and method of manufacturing the deposition mask

Номер патента: US20200208249A1. Автор: Hwi Kim,In Bae Kim,Kyu Hwan Hwang,Sung Soon Im. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-02.

Mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US12016239B2. Автор: Kwanhee Lee,Seil Kim,Euigyu Kim,Sang Min Yi,Junhyeuk KO,Seungju HONG. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-18.

System and Method with Masking and Inpainting Strategy for Generic Defense Against Patch Attacks

Номер патента: US20240095891A1. Автор: Wan-Yi Lin,Chaithanya Kumar Mummadi,Filipe CONDESSA,Aniruddha Saha. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2024-03-21.

Mask blank, transfer mask, method of manufacturing a transfer mask, and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US20150227039A1. Автор: Masahiro Hashimoto,Osamu Nozawa,Atsushi Kominato. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2015-08-13.

Mask blank, transfer mask, method of manufacturing a transfer mask, and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US9256122B2. Автор: Masahiro Hashimoto,Osamu Nozawa,Atsushi Kominato. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-02-09.

Mask blank, transfer mask, method of manufacturing a transfer mask, and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US8501372B2. Автор: Masahiro Hashimoto,Osamu Nozawa,Atsushi Kominato. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2013-08-06.

Reflective mask blank and method for manufacturing same, method for manufacturing reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20150301441A1. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Osamu Maruyama,Tsutomu Shoki,Tatsuo ASAKAWA. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2015-10-22.

Reflective mask blank and method for manufacturing same, method for manufacturing reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20160282711A1. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Osamu Maruyama,Tsutomu Shoki,Tatsuo ASAKAWA. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-09-29.

Shadow mask and manufacturing method thereof

Номер патента: US20070001577A1. Автор: Oh Kwon,Soon Yoo. Владелец: LG Philips LCD Co Ltd. Дата публикации: 2007-01-04.

Mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US20230225179A1. Автор: Kwanhee Lee,Seil Kim,Euigyu Kim,Sang Min Yi,Junhyeuk KO,Seungju HONG. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-13.

Mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US20240298512A1. Автор: Kwanhee Lee,Seil Kim,Euigyu Kim,Sang Min Yi,Junhyeuk KO,Seungju HONG. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Mask and manufacturing method thereof

Номер патента: US20240342749A1. Автор: Ming-Hung Tsai,Chi-Wei Lin. Владелец: Darwin Precisions Corp. Дата публикации: 2024-10-17.

Method of making high aspect ratio openings using multiple cladding masks and apparatus for implementing the same

Номер патента: US20240290622A1. Автор: Raghuveer S. Makala,Rahul Sharangpani,Senaka Kanakamedala,Roshan Jayakhar TIRUKKONDA. Владелец: SanDisk Technologies LLC. Дата публикации: 2024-08-29.

Mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US12063848B2. Автор: Kwanhee Lee,Seil Kim,Euigyu Kim,Sang Min Yi,Junhyeuk KO,Seungju HONG. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09864267B2. Автор: Takahiro Onoue,Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2018-01-09.

Evaporation mask and method of manufacturing display unit

Номер патента: US09761802B2. Автор: Hiroichi Ishikawa,Tomohiro Kubo,Kentaro Kuriyama. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2017-09-12.

Mask and mask assembly

Номер патента: US09711724B2. Автор: Dae Won Baek. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-18.

Deposition mask, method of manufacturing deposition mask, and method of manufacturing display apparatus

Номер патента: US09695522B2. Автор: Jaesik Kim,Youngmin Moon,Minho Moon,Sungsoon Im,Taewook Kang,Soonchul Chang,Kyu H. HWANG. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-04.

Hybrid mask and method of forming same

Номер патента: WO2008083114A3. Автор: Yung-Tin Chen. Владелец: Yung-Tin Chen. Дата публикации: 2008-09-04.

Photo mask and method for controlling the same

Номер патента: US20050233225A1. Автор: Toshiaki Ibaragi. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2005-10-20.

Methods for manufacturing half tone type phase shift mask blank, photo mask and half tone type phase shift mask, and half tone type phase shift mask blank, half tone type phase shift mask, photo mask blank, and photo mask manufactured thereby

Номер патента: TW522286B. Автор: Hideaki Mitsui,Osamu Nozawa,Masaru Mitsui. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2003-03-01.

Reflective mask blank, reflective mask and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US9075315B2. Автор: Toshiyuki Suzuki,Osamu Nozawa,Kazuya Sakai,Ryo Ohkubo. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2015-07-07.

Phase shift mask blank, method for producing phase shift mask, and phase shift mask

Номер патента: US20220082929A1. Автор: Shohei Mimura,Naoki Matsuhashi,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-17.

Phase shift mask blank, method for producing phase shift mask, and phase shift mask

Номер патента: EP3971645A1. Автор: Shohei Mimura,Naoki Matsuhashi,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-23.

Hybrid mask and method of forming same

Номер патента: WO2008083114A2. Автор: Yung-Tin Chen. Владелец: SanDisk Corporation. Дата публикации: 2008-07-10.

Encoding data using combined data mask and data bus inversion

Номер патента: EP3654191A1. Автор: Aliazam Abbasfar. Владелец: RAMBUS INC. Дата публикации: 2020-05-20.

Mask blank, method for manufacturing reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11762279B2. Автор: Hiroaki Shishido,Osamu Nozawa,Ryo Ohkubo. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2023-09-19.

Multiple-Patterning Photolithographic Mask and Method

Номер патента: US20150198887A1. Автор: Yung-Cheng Chen,Li-Wei Kung,Chue San Yoo,Chang-Jyh Hsieh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-07-16.

Mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US20230232698A1. Автор: Kwanhee Lee,Seil Kim,Euigyu Kim,Sang Min Yi,Junhyeuk KO,Seungju HONG. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-20.

Method for producing base for metal masks, method for producing metal mask for vapor deposition, base for metal masks, and metal mask for vapor deposition

Номер патента: US11746423B2. Автор: Takehiro Nishi,Naoko Mikami,Masashi Kurata,Daisei FUJITO,Kiyoaki NISHITSUJI,Reiji TERADA,Sumika TAMURA. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-05.

Phase shift mask and phase shift mask blank

Номер патента: US20010014425A1. Автор: Masaru Mitsui,Hideki Suda,Kimihiro Okada. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2001-08-16.

Phase shift mask and phase shift mask blank

Номер патента: US6475681B2. Автор: Masaru Mitsui,Hideki Suda,Kimihiro Okada. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2002-11-05.

Mask blank, mask blank manufacturing method, transfer mask, and transfer mask manufacturing method

Номер патента: US20110183240A1. Автор: Hiroshi Shirotori,Masahiro Hashimoto,Yuusuke Honma,Mitsuhiro Shirakura. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2011-07-28.

Mask blank, mask blank manufacturing method, transfer mask, and transfer mask manufacturing method

Номер патента: US8404407B2. Автор: Hiroshi Shirotori,Masahiro Hashimoto,Yuusuke Honma,Mitsuhiro Shirakura. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2013-03-26.

Painting method with printed mask and printing device

Номер патента: US12048947B2. Автор: Daniel Lahidjanian,Carsten Barlag. Владелец: AIRBUS OPERATIONS GMBH. Дата публикации: 2024-07-30.

Fine metal mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US20140290574A1. Автор: Jung-Hoon Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2014-10-02.

Photo mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US20160139504A1. Автор: Jeong-Won Kim,Kwang-Woo PARK,Jin-Ho Ju,Seung-Bo Shim,Jun-Hyuk WOO,Dong-Eon Lee. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2016-05-19.

Reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing reflective mask

Номер патента: US12032280B2. Автор: Yusuke Ono,Hiroshi HANEKAWA,Shunya TAKI,Taiga FUDETANI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Spatio-temporal noise masks and sampling using vectors for image processing and light transport simulation systems and applications

Номер патента: US20240037838A1. Автор: Alan Robert Wolfe. Владелец: Nvidia Corp. Дата публикации: 2024-02-01.

Method, apparatus and computer program product for defining importance mask and importance ordering list

Номер патента: US20240265240A1. Автор: Jani Lainema,Miska Matias Hannuksela,Francesco Cricri,Emre Baris Aksu,Hamed REZAZADEGAN TAVAKOLI,Honglei Zhang,Vinod Kumar Malamal Vadakital,Yat Hong LAM,Ramin GHAZNAVI YOUVALARI,Nannan ZOU. Владелец: NOKIA TECHNOLOGIES OY. Дата публикации: 2024-08-08.

Multilayer reflective film-attached substrate, reflective mask blank, reflective mask, and method for producing semiconductor device

Номер патента: US20220269161A1. Автор: Kota Suzuki,Kayo CHAEN. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2022-08-25.

Mask and manufacturing method therefor, and manufacturing method for display substrate

Номер патента: US20240191338A1. Автор: Jianpeng Wu,Zhongying Yang,Fengli JI,Chang Luo. Владелец: Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

OPC method for generating corrected patterns for a phase-shifting mask and its trimming mask and associated device and integrated circuit configuration

Номер патента: US20020071997A1. Автор: Wilhelm Maurer,Rainer Zimmerman,Juergen Knobloch,Marco Ahrens. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2002-06-13.

Phase shift mask and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US11586107B2. Автор: Yi-Kai Lai. Владелец: Powerchip Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2023-02-21.

Stencil mask and method of producing the same, semiconductor device produced using the stencil mask and method of producing the semiconductor device

Номер патента: US20030022496A1. Автор: Isao Ashida. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2003-01-30.

Phase shift mask and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20220155673A1. Автор: Yi-Kai Lai. Владелец: Powerchip Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2022-05-19.

Mask, mask assembly including the mask, and method of fabricating display device

Номер патента: EP4438766A2. Автор: Seung Jin Lee,Se Il Kim,Sang Min Yi,Ji Yun CHUN. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-02.

Blank mask and method of fabricating the same

Номер патента: US20240345467A1. Автор: Tae Wan Kim,Tae Young Kim,Hyung Joo Lee,Min Gyo Jeong,Geon Gon LEE. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Substrate with multilayer reflective film, reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12105411B2. Автор: Kota Suzuki,Kayo CHAEN. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

Shadow mask, method of manufacturing a shadow mask and method of manufacturing a display device using a shadow mask

Номер патента: US09780341B2. Автор: Takeshi OKAWARA. Владелец: Japan Display Inc. Дата публикации: 2017-10-03.

Method of manufacturing an extreme ultraviolet (EUV) mask and the mask manufactured therefrom

Номер патента: US9664995B2. Автор: Yuan-Chih Chu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Method of manufacturing an extreme ultraviolet (euv) mask and the mask manufactured therefrom

Номер патента: US20160161838A1. Автор: Ming-Yun Chen,Chia-Hao Yu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-06-09.

Method Of Manufacturing An Extreme Ultraviolet (EUV) Mask And The Mask Manufactured Therefrom

Номер патента: US20150030970A1. Автор: Yuan-Chih Chu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-01-29.

Method of manufacturing an extreme ultraviolet (euv) mask and the mask manufactured therefrom

Номер патента: US20160223897A1. Автор: Yuan-Chih Chu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-08-04.

Method for producing insulated circuit board using a mask and partial plating method using the mask

Номер патента: US11761108B2. Автор: Satoru Ideguchi,Masaaki HIGO. Владелец: Dowa Metaltech Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Method for preparing halftone phase shift mask blank, halftone phase shift mask blank, halftone phase shift mask, and thin film forming apparatus

Номер патента: US20180059532A1. Автор: Yukio Inazuki. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-01.

Extreme ultraviolet mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US20240280889A1. Автор: SunPyo LEE,Minchang KIM,Yoontaek Han. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Method of manufacturing a device by means of a mask and phase-shifting mask for use in said method

Номер патента: EP1185903A1. Автор: Peter Dirksen,Casparus A. H. Juffermans. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2002-03-13.

Mask, mask assembly including the mask, and methdo of fabricating display device

Номер патента: US20240301543A1. Автор: Seung Jin Lee,Se Il Kim,Sang Min Yi,Ji Yun CHUN. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Production method for deposition mask and deposition mask

Номер патента: US09844835B2. Автор: Michinobu Mizumura. Владелец: V Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-19.

Method of manufacturing an extreme ultraviolet (EUV) mask and the mask manufactured therefrom

Номер патента: US09817307B2. Автор: Ming-Yun Chen,Chia-Hao Yu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-11-14.

Substrate processing method, manufacturing method of euv mask, and euv mask

Номер патента: US20110207031A1. Автор: Hideaki Sakurai,Masatoshi Terayama. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-08-25.

Method of forming a rim phase shifting mask and using the rim phase shifting mask to form a semiconductor device

Номер патента: EP1529246A1. Автор: William J. Dauksher,Bernard J. Roman,Cesar M. Garza,Wei E. Wu,Panwitter J. S. Mangat,Kevin J. Nordquist. Владелец: FREESCALE SEMICONDUCTOR INC. Дата публикации: 2005-05-11.

Method and device for controlling stretching of mask, and stretching system

Номер патента: US12060633B2. Автор: QIAN Xu,Jianpeng Wu,Fengli JI,Sen Du,Yuanqi ZHANG. Владелец: Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Mask blank, phase shift mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20190018312A1. Автор: Hiroaki Shishido,Osamu Nozawa,Takenori Kajiwara. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2019-01-17.

Color kinescope with aperture mask and method of mask manufacture

Номер патента: RU2100865C1. Автор: Мариан Андревски Зигмунт. Владелец: Рка Томсон Лайсенсинг Корпорейшн. Дата публикации: 1997-12-27.

Correcting method of mask and mask manufactured by said method

Номер патента: US20020069398A1. Автор: Taira Iwase. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2002-06-06.

Ultraviolet ray mask and manufacturing method thereof

Номер патента: US20210080821A1. Автор: Wanchun WU. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-03-18.

Composition for forming silicon-containing metal hard mask and patterning process

Номер патента: US20230305405A1. Автор: Naoki Kobayashi,Toshiharu Yano,Ryo Mitsui,Kanata Takizawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Spray masks and line markers

Номер патента: WO2008047205A3. Автор: Rachael Elizabeth Roberts,Peter Viner,Neil Kettlewell,Justin Kerslake,Jacey Moore. Владелец: Jacey Moore. Дата публикации: 2008-07-31.

Paint film with protective extensible mask and parts made therefrom

Номер патента: WO2002000448A3. Автор: Scott William Huffer,Thomas Randall Fields,Mark O'neil Outlaw,Mark Alan Beard,Neil Allen Rollins,Guerry Wayne Taylor. Владелец: Guerry Wayne Taylor. Дата публикации: 2003-03-13.

Mask and mask assembly

Номер патента: US12075687B2. Автор: Sangshin Lee,Jongsung Park,Seungjin LEE,Sanghoon Kim,Seil Kim,Hong-Kyun Ahn. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

Method for fabricating mask, method for fabricating semiconductor device using the mask, and the semiconductor device fabricated using the mask

Номер патента: US12068327B2. Автор: Myoung-ho KANG,Seong-Yul PARK,Yong-Ah KIM,Dong Hyo PARK,Chang Hyeon LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-20.

Methods for data masking and devices thereof

Номер патента: WO2019236872A1. Автор: Vikram Patel,Gaurav Sanghi,Sree Venkatesh Jagannathan. Владелец: JPMORGAN CHASE BANK, N.A.. Дата публикации: 2019-12-12.

Methods for data masking and devices thereof

Номер патента: EP3803669A1. Автор: Vikram Patel,Gaurav Sanghi,Sree Venkatesh Jagannathan. Владелец: JPMorgan Chase Bank NA. Дата публикации: 2021-04-14.

Method for fabricating mask, method for fabricating semiconductor device using the mask, and the semiconductor device fabricated using the mask

Номер патента: US20220302176A1. Автор: Myoung-ho KANG,Seong-Yul PARK,Yong-Ah KIM,Dong Hyo PARK,Chang Hyeon LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-09-22.

Exposure mask and exposure method using the same

Номер патента: US20090297958A1. Автор: Su Woong Lee,Sang Yoon Paik. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2009-12-03.

Reflective mask blank, reflective mask, and manufacturing method thereof

Номер патента: EP4390536A3. Автор: Yukio Inazuki,Takuro Kosaka,Taiga OGOSE. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-17.

Reflective mask blank, reflective mask and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20180329285A1. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2018-11-15.

Method for manufacturing vapor deposition mask and method for vapor deposition of organic light-emittng material

Номер патента: US20190355938A1. Автор: YASUHIRO Mizuno,Ying-Chieh Chen. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-21.

Low-expansion glass substrate for a reflective mask and reflective mask

Номер патента: US20070009812A1. Автор: Masabumi Ito,Hitoshi Mishiro. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2007-01-11.

Reflective mask blank, reflective mask and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20190339608A1. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2019-11-07.

Spray masks and line markers

Номер патента: EP2061934A2. Автор: Rachael Elizabeth Roberts,Peter Viner,Neil Kettlewell,Justin Kerslake,Jacey Moore. Владелец: ILLINOIS TOOL WORKS INC. Дата публикации: 2009-05-27.

Spray masks and line markers

Номер патента: WO2008047205A2. Автор: Rachael Elizabeth Roberts,Peter Viner,Neil Kettlewell,Justin Kerslake,Jacey Moore. Владелец: Illinois Tool Works, Inc.. Дата публикации: 2008-04-24.

Systems and methods for speech enhancement using attention masking and end to end neural networks

Номер патента: US20230162758A1. Автор: Bengt J. Borgstrom,Michael S. Brandstein. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2023-05-25.

Method and apparatus for masking and transmitting data

Номер патента: US20180081818A1. Автор: Shuai Che,Jieming YIN. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2018-03-22.

Metal plate for manufacturing deposition mask, method for manufacturing metal plate, deposition mask and method for manufacturing deposition mask

Номер патента: US11732361B2. Автор: Hiroki Oka,Chikao Ikenaga,Shogo Endo,Sachiyo MATSUURA,Chiaki Hatsuta,Asako Narita. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2023-08-22.

Led transfer device comprising mask and led transferring method using the same

Номер патента: EP3847690A1. Автор: Eunhye Kim,Sangmoo Park,Minsub OH,Doyoung KWAG,Yoonsuk LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-07-14.

Patterning method using mask and manufacturing method for composite type thin film magnetic head using the patterning method

Номер патента: US20010019035A1. Автор: Tetsuya Mino,Toru Inoue,Koji Matsukuma,Yasufumi Uno. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2001-09-06.

Extreme ultra-violet mask and manufacturing method thereof

Номер патента: US20240280888A1. Автор: SunPyo LEE,Minchang KIM,Yoontaek Han. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Reflective mask blank, reflective mask, and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US20240319577A1. Автор: Hitoshi Maeda,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Compound masking and entropy for data packet classification using tree-based binary pattern matching

Номер патента: EP2820808A2. Автор: Lars ERNSTRÖM. Владелец: Telefonaktiebolaget LM Ericsson AB. Дата публикации: 2015-01-07.

Compound masking and entropy for data packet classification using tree-based binary pattern matching

Номер патента: WO2013128356A2. Автор: Lars ERNSTRÖM. Владелец: TELEFONAKTIEBOLAGET L M ERICSSON (PUBL). Дата публикации: 2013-09-06.

Method of manufacturing a transfer mask and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US20130316271A1. Автор: Toshiyuki Suzuki,Hiroaki Shishido,Osamu Nozawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2013-11-28.

Electronic device and method for masking and unmasking of handwritten information in electronic device

Номер патента: US12086297B2. Автор: Olga RADYVONENKO,Ilya DEGTYARENKO,Nataliya SAKHNENKO,Valentyna VOLKOVA. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-10.

Metal plate for manufacturing deposition mask and manufacturing method for metal plate, and deposition mask and manufacturing method for deposition mask

Номер патента: US12117727B2. Автор: Hideyuki Okamoto,Hiroki Oka,Chikao Ikenaga,Masato Ushikusa,Sachiyo MATSUURA,Chiaki Hatsuta. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2024-10-15.

Reflective mask and method for manufacturing reflective mask

Номер патента: US09977323B2. Автор: Takashi Kamo. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2018-05-22.

Neutral hard mask and its application to graphoepitaxy-based directed self-assembly (DSA) patterning

Номер патента: US09881793B2. Автор: Mahmoud Khojasteh,Sebastian U. Engelmann,Deborah A. Neumayer,Hsinyu Tsai,John Papalia. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-01-30.

Nanostencil mask and method for forming a nanostencil mask

Номер патента: US09791774B2. Автор: Mark Brian Howell Breese,Sara Azimi. Владелец: NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE. Дата публикации: 2017-10-17.

Mask blank, method for manufacturing transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: SG11201909351RA. Автор: Takashi Uchida,Hiroaki Shishido,Ryo Ohkubo. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2019-11-28.

Exposure apparatus, mask, and optical film

Номер патента: US9760013B2. Автор: Kazuhiro Ura,Tatsuya Sato,Kenichi Watabe,Yuichi Kakubari,Yasuaki UMEZAWA. Владелец: Arisawa Mfg Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-12.

Masks and methods of forming the same

Номер патента: US8227149B2. Автор: Soohan Choi,Seongwoon Choi,Sangwook Kim,Sungwoo Lee,Youngchang Kim,YongJin Chun,Sukjoo Lee,SungSoo Suh,Jin-sun Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2012-07-24.

Exposure apparatus, mask, and optical film

Номер патента: US20150227057A1. Автор: Kazuhiro Ura,Tatsuya Sato,Kenichi Watabe,Yuichi Kakubari,Yasuaki UMEZAWA. Владелец: Arisawa Mfg Co Ltd. Дата публикации: 2015-08-13.

Masks and methods of forming the same

Номер патента: US20100216063A1. Автор: Soohan Choi,Seongwoon Choi,Sangwook Kim,Sungwoo Lee,Youngchang Kim,YongJin Chun,Sukjoo Lee,SungSoo Suh,Jin-sun Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2010-08-26.

Programmable mask and method of fabricating biomolecule array using the same

Номер патента: US20060030030A1. Автор: Young Kim,Se Park,Dong Shin,Chang Choi,Hyeon Pyo,Moon Jung. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute ETRI. Дата публикации: 2006-02-09.

Programmable mask and method of fabricating biomolecule array using the same

Номер патента: US20080273128A1. Автор: Moon Youn Jung,Chang Auck Choi,Se Ho Park,Young Jun Kim,Dong Ho Shin,Hyeon Bong Pyo. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute ETRI. Дата публикации: 2008-11-06.

Exposure mask and pattern forming method therefor

Номер патента: US20090202926A1. Автор: Tadao Yasuzato. Владелец: Elpida Memory Inc. Дата публикации: 2009-08-13.

Compound masking and entropy for data packet classification using tree-based binary pattern matching

Номер патента: WO2013128356A3. Автор: Lars ERNSTRÖM. Владелец: TELEFONAKTIEBOLAGET L M ERICSSON (PUBL). Дата публикации: 2014-01-23.

Mask blank, reflective mask, and method for producing semiconductor devices

Номер патента: US20240231216A1. Автор: Takuro Ono,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Exposure mask and method of manufacturing a substrate using the exposure mask

Номер патента: US20200127022A1. Автор: Yang-Ho Jung,Jin-Ho Ju,Yong-Jun Park,Seung-Bo Shim,Jun-Gi Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-23.

Serial number mask and check digit for electronic registration system (ers)

Номер патента: EP1222576A1. Автор: David G. Nintendo of America Inc. KOON. Владелец: Nintendo of America Inc. Дата публикации: 2002-07-17.

Method of conveying panel and shadow mask and pallet for holding panel and shadow mask and apparatus for removing shadow mask from panel

Номер патента: GB2103009A. Автор: Hideo Miyazawa,Junzo Kitamura. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1983-02-09.

Exposure mask and method of manufacturing a substrate using the exposure mask

Номер патента: US10083998B2. Автор: Yang-Ho Jung,Jin-Ho Ju,Yong-Jun Park,Seung-Bo Shim,Jun-Gi Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2018-09-25.

[half-tone phase shift mask and patterning method using thereof]

Номер патента: US20040253522A1. Автор: Jun-Cheng Lai. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-12-16.

Systems and methods for data masking and aggregation using one-time pads

Номер патента: US20220029788A1. Автор: Hamza JelJeli. Владелец: SEAGATE TECHNOLOGY LLC. Дата публикации: 2022-01-27.

Intelligent video behavior recognition with multiple masks and configurable logic inference module

Номер патента: WO2006105286A3. Автор: Maurice V Garoutte. Владелец: Maurice V Garoutte. Дата публикации: 2007-01-04.

Substrate with multilayer reflective film, mask blank, transfer mask and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09798050B2. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Toshihiko Orihara. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-10-24.

Deposition mask, and method for producing organic light-emitting element

Номер патента: US20240130211A1. Автор: Hiroyuki Mochizuki,Masumi Itabashi,Tatsuro Uchida. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-04-18.

Method for manufacturing reflective mask and apparatus for manufacturing reflective mask

Номер патента: US20140186754A1. Автор: Takeharu Motokawa,Kosuke TAKAI,Tomoaki Yoshimori,Yoshihisa Kase,Makoto Karyu. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2014-07-03.

Multi-step phase shift mask and methods for fabrication thereof

Номер патента: US20050089764A1. Автор: Ming Lu,Li-Wei Kung,Bin-Chang Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2005-04-28.

Modified mask for photolithography of a wafer with recess, method for producing such a mask and method for photolithography of a wafer with recess

Номер патента: US20130260291A1. Автор: Florian Bieck,Sven Spiller. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2013-10-03.

Method and unit for masking, and marine ship provided with at least one such facility

Номер патента: RU2616489C2. Автор: Кристоф ТАРДИФ,Йоанн БОННЕ,Антуан ДЕЛОНЭ. Владелец: Микротюрбо. Дата публикации: 2017-04-17.

Laminate, etching mask, method of producing laminate, method of producing etching mask, and method of producing thin film transistor

Номер патента: US20190088501A1. Автор: Satoshi Inoue,Tatsuya Shimoda,Kiyoshi Nishioka,Kazuhiro Fukada. Владелец: Sumitomo Seika Chemicals Co Ltd. Дата публикации: 2019-03-21.

Method for manufacturing reflective mask and apparatus for manufacturing reflective mask

Номер патента: US9507251B2. Автор: Takeharu Motokawa,Kosuke TAKAI,Tomoaki Yoshimori,Yoshihisa Kase,Makoto Karyu. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2016-11-29.

Sample holder, detector mask, and scope system

Номер патента: US20170199113A1. Автор: Jason D. Holm,Robert R. Keller,Katherine P. Rice. Владелец: US Department of Commerce. Дата публикации: 2017-07-13.

Extreme ultraviolet lithography method, extreme ultraviolet mask and formation method thereof

Номер патента: US12072633B2. Автор: BO-TSUN Liu,Chih-Tsung Shih,Yu-Hsun Wu,Tsung-Chuan LEE. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

Sample holder, detector mask, and scope system

Номер патента: US09970859B2. Автор: Jason D. Holm,Robert R. Keller,Katherine P. Rice. Владелец: US Department of Commerce. Дата публикации: 2018-05-15.

Sample holder, detector mask, and scope system

Номер патента: US09746415B2. Автор: Jason D. Holm,Robert R. Keller,Katherine P. Rice. Владелец: US Department of Commerce. Дата публикации: 2017-08-29.

Optical masks and methods for measuring aberration of a beam

Номер патента: US7670725B2. Автор: Sang-gyun Woo,Chan Hwang,Han-ku Cho,Suk-joo Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2010-03-02.

Optical masks and methods for measuring aberration of a beam

Номер патента: US20100112466A1. Автор: Sang-gyun Woo,Chan Hwang,Han-ku Cho,Suk-joo Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2010-05-06.

Optical masks and methods for measuring aberration of a beam

Номер патента: US7799490B2. Автор: Sang-gyun Woo,Chan Hwang,Han-ku Cho,Suk-joo Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2010-09-21.

Optical masks and methods for measuring aberration of a beam

Номер патента: US20060154155A1. Автор: Sang-gyun Woo,Chan Hwang,Han-ku Cho,Suk-joo Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2006-07-13.

Mask and method for fabricating the same

Номер патента: US20200004136A1. Автор: Chi-Ming Tsai,Chi-Ta Lu,Jia-Guei Jou,Huang-Ming Wu,Jiun-Hao Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-01-02.

Mask and method for manufacturing the same

Номер патента: US20230259018A1. Автор: Seil Kim,Sang Min Yi. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Semiconductor devices with fin-top hard mask and methods for fabrication thereof

Номер патента: US11757021B2. Автор: Chih-Hao Wang,Kuo-Cheng Chiang,Kuan-Lun Cheng,Kuan-Ting Pan,Yi-Ruei JHAN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-12.

Mask blank, phase shift mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US10114281B2. Автор: Hiroaki Shishido,Osamu Nozawa,Takenori Kajiwara. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2018-10-30.

Substrate for mask blanks, mask blank, transfer mask, and method of manufacturing them

Номер патента: US09778209B2. Автор: Kazuki Aoyama,Takahito Nishimura. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-10-03.

Reflective mask and fabricating method thereof

Номер патента: US20220146924A1. Автор: Tsiao-Chen Wu,Pei-Cheng Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-05-12.

Metal mask and display apparatus manufactured by using the same

Номер патента: EP3955309A3. Автор: Sangha Park,Seungyong Song,Eunbee Jo,Kyu Hwan Hwang,Da-Hee Jeong. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2022-02-23.

Hard mask including amorphous or nanocrystalline boron nitride film and method of fabricating the hard mask, and patterning method using the hard mask

Номер патента: EP4009350B1. Автор: Hyeonjin Shin,Taejin CHOI. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-17.

Mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US11085110B2. Автор: Hyunjun Kim. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2021-08-10.

Exposure mask and method for manufacturing same and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20100203432A1. Автор: Masamitsu Itoh. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-08-12.

Blank mask and method of fabricating mask using the same

Номер патента: US20110159416A1. Автор: Soo Kyeong Jeong. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2011-06-30.

Method of Etching a device using a hard mask and etch stop layer

Номер патента: US20090166330A1. Автор: Gary Yama. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2009-07-02.

Apparatus for fabricating blank mask and method of fabricating the same

Номер патента: US20240248389A1. Автор: Tae Wan Kim,Seong Yoon Kim,Geon Gon LEE. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Gray-tone masks and the manufacturing method thereof

Номер патента: US20170045815A1. Автор: Feng Zhao,Chung-Yi Chiu,Zhuming Deng. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-16.

Gray-tone masks and the manufacturing method thereof

Номер патента: US9835939B2. Автор: Feng Zhao,Chung-Yi Chiu,Zhuming Deng. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-05.

Multilayer reflective film-attached substrate, reflective mask blank, reflective mask, and method for producing semiconductor device

Номер патента: EP4425258A1. Автор: Masanori Nakagawa,Kota Suzuki,Hibiki KISHIDA. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-09-04.

Blank mask and photomask using the same

Номер патента: US20240345468A1. Автор: Suhyeon Kim,Suk Young Choi,Kyuhun Kim,Inkyun Shin,Sung Hoon Son,Min Gyo Jeong,Hyung-Joo Lee,Jiyeon Ryu,Seong Yoon Kim. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Mechanically Pre-biased Shadow Mask and Method of Formation

Номер патента: US20240349583A1. Автор: James A. Walker. Владелец: Emagin Corp. Дата публикации: 2024-10-17.

TiN hard mask and etch residual removal

Номер патента: US09976111B2. Автор: Madhukar Bhaskara Rao,Tianniu Chen,Wen Dar Liu,Yi-Chia Lee,William Jack Casteel, Jr.,Rajiv Krishan Agarwal. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2018-05-22.

Gray-tone masks and the manufacturing method thereof

Номер патента: US09835939B2. Автор: Feng Zhao,Chung-Yi Chiu,Zhuming Deng. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-05.

Resin composition, dry-etching resist mask, and patterning method

Номер патента: US09777079B2. Автор: Makoto Yada,Takeshi Ibe. Владелец: DIC Corp. Дата публикации: 2017-10-03.

Apparatus, methods and computer program products providing pattern masking and traffic rule matrix scheduling for multiradio control

Номер патента: WO2008081261A3. Автор: Ville Pernu. Владелец: Ville Pernu. Дата публикации: 2009-06-04.

Photo mask and lithography method using the same

Номер патента: US20240096628A1. Автор: Chung-Kai Huang,Ching-Yen HSAIO,Bao-Chin LI,Ko-Pin KAO. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Hard mask and preparation method thereof, preparation method of josephson junction, and superconducting circuit

Номер патента: US12048255B2. Автор: Chunqing Deng,Ran GAO,Jingwei Zhou. Владелец: Alibaba Group Holding Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Apparatus for fabricating blank mask and method of fabricating the same

Номер патента: US20240248390A1. Автор: Tae Wan Kim,Hyung Joo Lee,In Kyun SHIN. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Method of making masks and electronic parts

Номер патента: EP1003645A1. Автор: Anthony Paul Kitson,Kevin Barry Ray,Gareth Rhodri Parsons,David Stephen Riley,Richard David Hoare,Peter Andrew Reath Bennett,Alan Stanley Victor Monk,Christopher David Mccullough,John David Riches. Владелец: Kodak Graphics Holding Inc. Дата публикации: 2000-05-31.

Enhanced configuration for physical random access channel mask and random access response window

Номер патента: US20230164844A1. Автор: Jing Lei,Chao Wei,Wanshi Chen,Qiaoyu Li,Linhai He,Peter Pui Lok Ang,Huilin Xu,Ruiming Zheng,Krishna Mukkavilli. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2023-05-25.

Reflective mask and method for manufacturing a semiconductor device using the same

Номер патента: US11768432B2. Автор: Donghoon Lee,Soo Kyung Kim,Soonmok Ha,Sang-Ho Yun,Jaikyun PARK,Rankyung Jung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-09-26.

Hard mask and semiconductor device comprising the same

Номер патента: US20240231219A1. Автор: Sang Chul Han,Seok Jun Hong,Yi Hwan Kim,Nam Jin CHO,Seong Keun CHO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-11.

Phase shift mask and fabrication method therefor

Номер патента: US20030091909A1. Автор: Haruo Iwasaki. Владелец: NEC Electronics Corp. Дата публикации: 2003-05-15.

Method for manufacturing deposition mask and deposition mask

Номер патента: US20160281209A1. Автор: Michinobu Mizumura. Владелец: V Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-29.

Manufacture method of TFT substrate involving reduced number of masks and structure of TFT substrate so manufactured

Номер патента: US09793298B2. Автор: Jun Wang. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-17.

Conductive film coated substrate, multilayer reflective film coated substrate, reflective mask blank, reflective mask, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US09746762B2. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Yoichi Usui. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-08-29.

Cold-rolled steel sheet for shadow mask and method for its production

Номер патента: RU2109839C1. Автор: Чанг Джеонг Воо,Хюн Парк Чанг,Юп Парк Тае,Вон Ким Тае,Хо Хан Сеонг,Таек Хванг Бонг. Владелец: Рисерч Инститьют оф Индастриал Сайенс энд Текнолоджи. Дата публикации: 1998-04-27.

Exposure mask and method for manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20100159701A1. Автор: Hyoung Soon Yune,Joo Kyoung SONG. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2010-06-24.

Exposure mask and display device manufactured by using the same

Номер патента: US20230185135A1. Автор: Dong Hee Shin. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-15.

Euv photo masks and manufacturing method thereof

Номер патента: US20210373430A1. Автор: Ming-Wei Chen,Hsin-Chang Lee,Wei-Che Hsieh,Ta-Cheng Lien,Hao-Ping Cheng,Hung-Yi Tsai,Ping-Hsun LIN,Szu-Ping TSAI. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-12-02.

EUV photo masks and manufacturing method thereof

Номер патента: US12044959B2. Автор: Ming-Wei Chen,Hsin-Chang Lee,Wei-Che Hsieh,Ta-Cheng Lien,Hao-Ping Cheng,Hung-Yi Tsai,Ping-Hsun LIN,Szu-Ping TSAI. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Organic device, group of masks, mask, and manufacturing method for organic device

Номер патента: EP4109576A2. Автор: Isao Inoue,Yoko Nakamura,Chikao Ikenaga,Isao Miyatani. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2022-12-28.

Deposition mask and manufacturing method of organic electronic device

Номер патента: US20220364217A1. Автор: Shinichiro Watanabe,Takahiro Yajima,Yutaka Setomoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-11-17.

Pellicle for an EUV lithography mask and a method of manufacturing thereof

Номер патента: US12066755B2. Автор: Yun-Yue Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

An improved cpl mask and method and program product for generating the same

Номер патента: SG130142A1. Автор: Duan-Fu Stephen Hsu,Thomas Laidig,Douglas Van Den Broeke,Jang Fung Chen,Jung Chul Park. Владелец: Asml Masktools Bv. Дата публикации: 2007-03-20.

Semiconductor device fabrication mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US20110053058A1. Автор: Haruko Akutsu,Kyo Otsubo,Makiko Katano,Ayako Mizuno. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-03-03.

OPC method and program for generating corrected patterns for a phase-shifting mask and its trimming mask and associated device and integrated circuit configuration

Номер патента: TW507112B. Автор: Wilhelm Maurer,Rainer Zimmermann,Juergen Knobloch,Marco Ahrens. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2002-10-21.

Mask and method of manufacturing display panel using the same

Номер патента: US20240315121A1. Автор: Namjin Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Euv photo masks and manufacturing method thereof

Номер патента: US20240337918A1. Автор: Ming-Wei Chen,Hsin-Chang Lee,Wei-Che Hsieh,Ta-Cheng Lien,Hao-Ping Cheng,Hung-Yi Tsai,Ping-Hsun LIN,Szu-Ping TSAI. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Phase shift mask and method of fabricating the same

Номер патента: US09746763B2. Автор: Kao-Tun Chen. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 2017-08-29.

Reflective mask and fabricating method thereof

Номер патента: US20200133113A1. Автор: Tsiao-Chen Wu,Pei-Cheng Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-04-30.

Exposure Mask and Method for Fabricating Semiconductor Device Using the Same

Номер патента: US20080153277A1. Автор: Yong Soon Jung. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2008-06-26.

EUV photo masks and manufacturing method thereof

Номер патента: US12044960B2. Автор: Ming-Wei Chen,Hsin-Chang Lee,Pei-Cheng Hsu,Ta-Cheng Lien,Hung-Yi Tsai,Ching-Huang Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Mask and method of forming the same

Номер патента: US20230259014A1. Автор: Chih-Chiang Tu,Chun-Lang Chen,Shih-Hao YANG,Jheng-Yuan Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Mask and method of forming the same

Номер патента: US12066757B2. Автор: Chih-Chiang Tu,Chun-Lang Chen,Shih-Hao YANG,Jheng-Yuan Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Mask and method for forming dynamic random access memory (DRAM) contacts

Номер патента: US20010002332A1. Автор: Jeffrey McKee,Troy Herndon,Michael Keleher,Jing-Shing Shu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-05-31.

Shadow mask and method of producing the same

Номер патента: US20040048484A1. Автор: Swaminathan Rajaraman,Maurice Karpman. Владелец: Analog Devices Inc. Дата публикации: 2004-03-11.

Apparatus, mask, and method for printing alignment layer

Номер патента: US20060092359A1. Автор: Dae Lee. Владелец: LG Philips LCD Co Ltd. Дата публикации: 2006-05-04.

Mask and pattern forming method

Номер патента: US09881808B2. Автор: Takashi Sato,SATOSHI Tanaka. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2018-01-30.

Complementarity split mask having alignment mark, method for forming alignment mark on the mask, semiconductor device formed by using the mask, and its forming method

Номер патента: TW200414302A. Автор: Shinichiro Nohdo,Keiko Amai. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2004-08-01.

Mask base, transfer mask, and transfer mask manufacturing method

Номер патента: TWI604269B. Автор: Hiroaki Shishido,Osamu Nozawa,Ryo Ohkubo. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-11-01.

Steel sheet for shadow mask, shadow mask, production method of shadow mask, and color picture tube

Номер патента: AU6121798A. Автор: Hironao Okayama,Tsuneyuki Ide,Hiroaki Ikenaga,Yasuo Tahara,Hiroshi Fujishige,Susumu Shigemasa. Владелец: Toyo Kohan Co Ltd. Дата публикации: 1998-09-29.

Phase shift mask blank, phase shift mask, and method for manufacturing phase shift mask

Номер патента: EP4212956A4. Автор: Kyoko Kuroki,Kazuaki Matsui,Yosuke Kojima. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2024-10-23.

Mask and method of manufacturing the same, and mask assembly

Номер патента: US11993839B2. Автор: Yong Zheng,Shuai DU,Wenbiao Ding. Владелец: Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-28.

Fe-Ni BASED ALLOY FOR SEMI-TENSION MASK EXCELLENT IN MAGNETIC CHARACTERISTICS, AND SEMI-TENSION MASK AND COLOR CATHODE-RAY TUBE USING THE SAME

Номер патента: EP1253211A4. Автор: Toshiyuki Ono,Masazumi Mori. Владелец: Nippon Mining and Metals Co Ltd. Дата публикации: 2006-08-30.

Method for manufacturing a semiconductor device using a patterned dielectric mask and semiconductor device

Номер патента: US12057311B2. Автор: Adrian Stefan Avramescu,Jens Mueller. Владелец: OSRAM Opto Semiconductors GmbH. Дата публикации: 2024-08-06.

Pellicle for an EUV lithography mask and a method of manufacturing thereof

Номер патента: US12117725B2. Автор: Yun-Yue Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-15.

Method of manufacturing mask and method of manufacturing display device

Номер патента: US09972781B2. Автор: Byeong-Beom Kim,Je Hyeong Park,Kyung-Bae KIM. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

Pellicle for an euv lithography mask and a method of manufacturing thereof

Номер патента: US20190332005A1. Автор: Yun-Yue Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2019-10-31.

Pellicle for euv lithography masks and methods of manufacturing thereof

Номер патента: US20230259021A1. Автор: Han Wang,Ming-Yang Li,Tzu-Ang Chao. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Manufacturing method of deposition mask and manufacturing method of organic EL display

Номер патента: US12058922B2. Автор: Katsunari Obata,Yasuko Sone. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2024-08-06.

Mask blank, method for manufacturing transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20230259015A1. Автор: Hiroaki Shishido,Osamu Nozawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2023-08-17.

Phase shift mask blank, phase shift mask, and method for manufacturing phase shift mask

Номер патента: US20230333461A1. Автор: Kyoko Kuroki,Kazuaki Matsui,Yosuke Kojima. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2023-10-19.

Extreme ultraviolet mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US20230359115A1. Автор: Yun-Yue Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-09.

Extreme ultraviolet mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US11789355B2. Автор: Yun-Yue Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Phase shift mask blank, phase shift mask, and method for manufacturing phase shift mask

Номер патента: EP4212956A1. Автор: Kyoko Kuroki,Kazuaki Matsui,Yosuke Kojima. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2023-07-19.

Etch mask and method of forming a magnetic random access memory structure

Номер патента: US20070141844A1. Автор: Donald Yates,Karen Signorini. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2007-06-21.

Mask blank substrate, mask blank, transfer mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20160109797A1. Автор: Masaru Tanabe. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-04-21.

Masking and de-masking system and processes

Номер патента: WO2018009893A1. Автор: Wei Li,Robert ASKIN,Sean CLANCY,Joshua SU,David MELON,Alex ANDERSON,Wan-wan LIU,Zhi-guang CHEN. Владелец: HZO, INC.. Дата публикации: 2018-01-11.

Deposition mask and method of fabricating the same

Номер патента: US20160149133A1. Автор: Jongwoo Kim,Yoonhyeung Cho,Minho Oh,Jiyoung Moon,Yongtack KIM. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2016-05-26.

Mask blank substrate, mask blank, transfer mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20170248841A1. Автор: Masaru Tanabe. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-08-31.

Masking and de-masking systems and processes

Номер патента: US20180117893A1. Автор: Wei Li,Robert ASKIN,Joshua SU,David MELON,Alex ANDERSON,Zhi-guang CHEN,Wan-Man Liu. Владелец: HZO Inc. Дата публикации: 2018-05-03.

Networked sound masking and paging system

Номер патента: WO2002069317A3. Автор: Niklas Moeller,Mircea Rusu,Carl Derla,Klaus R Moeller. Владелец: Ontario Ltd 777388. Дата публикации: 2003-03-13.

Networked sound masking and paging system

Номер патента: CA2438639C. Автор: Klaus R. Moeller,Niklas Moeller,Mircea Rusu,Carl Derla. Владелец: 777388 Ontario Ltd. Дата публикации: 2009-12-22.

Networked sound masking and paging system

Номер патента: CA2681915C. Автор: Klaus R. Moeller,Niklas Moeller,Mircea Rusu,Carl Derla. Владелец: 777388 Ontario Ltd. Дата публикации: 2014-05-20.

Decoding apparatus including a filtering unit configured to filter an image using a selected filtering mask and threshold comparison operation

Номер патента: USRE41387E1. Автор: Jae Min Kim. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2010-06-22.

Method Of Fabricating Mask And Method Of Fabricating Semiconductor Device Using The Mask

Номер патента: US20230288795A1. Автор: Sung-hwan Bae,Se Jin Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-09-14.

Masking and compositing visual effects in user interfaces

Номер патента: US20230230295A1. Автор: Xin Liu,Michael Andrew HAWKER,Christopher Recarlo BLACKMAN. Владелец: Microsoft Technology Licensing LLC. Дата публикации: 2023-07-20.

Deposition mask and method of manufacturing display device using the same

Номер патента: US20190140179A1. Автор: Soo Youn Kim,Oh June Kwon,Moon Won CHANG. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-09.

Deposition mask and method of manufacturing display device using the same

Номер патента: US20200259091A1. Автор: Soo Youn Kim,Oh June Kwon,Moon Won CHANG. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2020-08-13.

Mask, method of providing mask, and method of providing display panel using the same

Номер патента: US11773478B2. Автор: Duckjung Lee,Sungsoon Im,Ji-Hee Son. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Method for producing metal mask and metal mask

Номер патента: US20020164534A1. Автор: Kiyoshi Ogawa. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2002-11-07.

Method for performing a sensitive data encryption with masking, and corresponding encryption apparatus and computer program product

Номер патента: US10050776B2. Автор: Filippo Melzani. Владелец: STMICROELECTRONICS SRL. Дата публикации: 2018-08-14.

Mask and manufacturing method therefor, evaporation method, and display screen

Номер патента: EP3816321A1. Автор: Kuo Sun,Shanshan BAI,Dongmei Xie,Qiaonan HAN. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-05.

Method of manufacturing mask and method of manufacturing display device

Номер патента: US20210285086A1. Автор: Jaemin Hong,Jeunghoon Kim,Seungmin Jin. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2021-09-16.

Method for fine metal mask and design device for the same

Номер патента: US11574092B2. Автор: Yue Liu,Shanshan BAI. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-07.

Mask and method of forming the same

Номер патента: US20210103210A1. Автор: Chih-Chiang Tu,Chun-Lang Chen,Shih-Hao YANG,Jheng-Yuan Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-04-08.

Structure electron beam inspection system for inspecting extreme ultraviolet mask and structure for discharging extreme ultraviolet mask

Номер патента: US20150305131A1. Автор: You-Jin Wang,Chiyan Kuan,Chung-Shih Pan. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2015-10-22.

Method of forming blank of sheet material particularly for making electron beam tube mask and apparatus for performing the method

Номер патента: RU2041755C1. Автор: Fr],Фердинан Де Смэ Габриэль. Владелец: Соллак. Дата публикации: 1995-08-20.

Photo mask, method of manufacturing photo mask, and method of generating mask data

Номер патента: US7222327B2. Автор: Osamu Ikenaga,Tomohiro Tsutsui. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2007-05-22.

Methods of fabricating gallium nitride semiconductor layers by lateral overgrowth through masks, and gallium nitride semiconductor structures fabricated thereby

Номер патента: CA2321118C. Автор: Robert F. Davis,Ok-Hyun Nam,Tsvetanka Zheleva,Michael D. Bremser. Владелец: North Carolina State University. Дата публикации: 2008-06-03.

Process for depositing a surface-wide layer through a mask and optionally closing said mask

Номер патента: US5786235A. Автор: Josef Lechner,Ignaz Eisele,Bertrand Flietner. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1998-07-28.

Mask and mask manufacturing method

Номер патента: US20220062945A1. Автор: Hwi Kim,Seungyong Song,Hye Yong Chu,Jeongkuk Kim,Kyu Hwan Hwang,Areum Lee,Da-Hee Jeong. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Method for manufacturing mask and deposition apparatus including mask

Номер патента: EP4012065A2. Автор: Jong-Hyun Choung,Seungyong Song,Youngmin Moon,Sungsoon Im,Hyunmin Cho,Ji-Hee Son,Jaeuoon Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-15.

Method for manufacturing mask and deposition apparatus including mask

Номер патента: EP4012065A3. Автор: Jong-Hyun Choung,Seungyong Song,Youngmin Moon,Sungsoon Im,Hyunmin Cho,Ji-Hee Son,Jaeuoon Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2022-10-12.

Method for manufacturing mask and deposition apparatus including mask

Номер патента: US20220178016A1. Автор: Jong-Hyun Choung,Seungyong Song,Youngmin Moon,Sungsoon Im,Hyunmin Cho,Ji-Hee Son,Jaeuoon Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-09.

Method for forming etching mask and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11443947B2. Автор: Hironobu Sato. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2022-09-13.

Euv photo masks and manufacturing method thereof

Номер патента: US20230375910A1. Автор: Hsin-Chang Lee,Pei-Cheng Hsu,Ta-Cheng Lien. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Method of quality determining of deposition mask, method of manufacturing deposition mask, method of manufacturing deposition mask device, method of selecting deposition mask, and deposition mask

Номер патента: US20230329077A1. Автор: Chikao Ikenaga. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2023-10-12.

Vapor deposition mask, manufacturing method for vapor deposition mask, and manufacturing method for display device

Номер патента: US11877499B2. Автор: Takehiro Nishi. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-16.

Masking and compositing visual effects in user interfaces

Номер патента: US11922542B2. Автор: Xin Liu,Michael Andrew HAWKER,Christopher Recarlo BLACKMAN. Владелец: Microsoft Technology Licensing LLC. Дата публикации: 2024-03-05.

Mask and mask manufacturing method

Номер патента: US20230201868A1. Автор: Hwi Kim,Seungyong Song,Hye Yong Chu,Jeongkuk Kim,Kyu Hwan Hwang,Areum Lee,Da-Hee Jeong. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Masking and compositing visual effects in user interfaces

Номер патента: US20240169605A1. Автор: Xin Liu,Michael Andrew HAWKER,Christopher Recarlo BLACKMAN. Владелец: Microsoft Technology Licensing LLC. Дата публикации: 2024-05-23.

Deposition mask and method of manufacturing the deposition mask

Номер патента: US11345988B2. Автор: Hwi Kim,In Bae Kim,Kyu Hwan Hwang,Sung Soon Im. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-31.

Vapor deposition mask and method for manufacturing vapor deposition mask

Номер патента: US20210074919A1. Автор: Jun FUJIYOSHI. Владелец: Japan Display Inc. Дата публикации: 2021-03-11.

Method for forming etching mask and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20210082699A1. Автор: Hironobu Sato. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2021-03-18.

Mask blank, transfer mask, method of manufacturing transfer mask and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US9029048B2. Автор: Toshiyuki Suzuki,Osamu Nozawa,Kazuya Sakai,Ryo Ohkubo. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2015-05-12.

Method for examining photolithographic masks and mask metrology apparatus for performing the method

Номер патента: US20190079381A1. Автор: Dirk Hellweg,Markus Koch,Renzo Capelli. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-03-14.

Method for aligning substrate and mask and method for preparing semiconductor device

Номер патента: US20140141535A1. Автор: Guangming Lu,Kiyong Kim,Liping Luo,Xiangnan Yun,Ziqing Zhou,Chaoqin Xu. Владелец: Beijing BOE Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2014-05-22.

Reflective mask and fabricating method thereof

Номер патента: US20230229072A1. Автор: Tsiao-Chen Wu,Pei-Cheng Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-07-20.

Phase shift mask and method of manufacturing phase shift mask

Номер патента: TW200604726A. Автор: Jiro Yamamoto. Владелец: Semiconductor Leading Edge Tec. Дата публикации: 2006-02-01.

Patterning a single integrated circuit layer using automatically-generated masks and multiple masking layers

Номер патента: TW201040765A. Автор: Tsu-Jae King Liu. Владелец: Synopsys Inc. Дата публикации: 2010-11-16.

Patterning a single integrated circuit layer using automatically-generated masks and multiple masking layers

Номер патента: EP2430650A4. Автор: Tsu-Jae King Liu. Владелец: Synopsys Inc. Дата публикации: 2014-08-27.

Realm execution context masking and saving

Номер патента: WO2019002809A1. Автор: Jason Parker,Matthew Lucien EVANS,Gareth Rhys STOCKWELL,Djordje KOVACEVIC. Владелец: ARM LIMITED. Дата публикации: 2019-01-03.

Material for shadow mask for color image receiving tube, method for production thereof, shadow mask, and image receiving tube

Номер патента: AU4432500A. Автор: Takahiko Miyazaki,Tsuneyuki Ide,Yasuo Tahara,Susumu Shigemasa. Владелец: Toyo Kohan Co Ltd. Дата публикации: 2000-12-05.

Substrate with a multilayer reflective film, reflective mask blank, reflective mask and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: SG11202002424RA. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2020-05-28.

Invar alloy steel sheet material for shadow mask, method of production thereof, shadow mask, and color picture tube

Номер патента: AU7234898A. Автор: Akira Ikeda,Taizo Sato,Hironao Okayama,Tsuneyuki Ide,Hiroaki Ikenaga,Yasuo Tahara,Susumu Shigemasa. Владелец: Toyo Kohan Co Ltd. Дата публикации: 1998-12-08.

Method of detecing haze formation on mask and method for early detection of haze formation on photolithographic mask

Номер патента: TWI370247B. Автор: Tsai Sheng Gau,Chin Hsiang Lin,Shy Jay Lin,Weiyu Su,Chih Ming Ke,Wen Chuan Wang,Techih Huang,Henghsin Liu. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg Co Ltd. Дата публикации: 2012-08-11.

A lithographic projection mask, a device manufacturing method using a lithographic projection mask and a device manufactured thereby

Номер патента: TW200424812A. Автор: Keith Frank Best,Alexander Friz,Joseph J Consolini. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2004-11-16.

Substrate with a multilayer reflective film, reflective mask blank, reflective mask, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: SG10202002515QA. Автор: KOZAKAI Hirofumi,NAKAGAWA Masanori. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2020-10-29.

The size determination method, the size determination system, shape determination method of the mask, and the manufacture method of the mask pattern

Номер патента: TWI256665B. Автор: Takeshi Yamane. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2006-06-11.

Method of forming a rim phase shifting mask and using the rim phase shifting mask to form a semiconductor device

Номер патента: AU2003232155A1. Автор: William J. Dauksher,Bernard J. Roman,Cesar M. Garza,Wei E. Wu,Panwitter J. S. Mangat,Kevin J. Nordquist. Владелец: Motorola Inc. Дата публикации: 2004-02-23.

Method of forming a rim phase shifting mask and using the rim phase shifting mask to form a semiconductor device

Номер патента: TW200405134A. Автор: Bernard J Roman,Wei E Wu,Cesar M Garza,Kevin J Nordquist,Panwitter J S Mangat,J Dauksher William. Владелец: Motorola Inc. Дата публикации: 2004-04-01.

Pattern formation method using Levenson-type mask and method of manufacturing Levenson-type mask

Номер патента: TW200733192A. Автор: Akemi Moniwa,Mitsuru Okuno. Владелец: Renesas Tech Corp. Дата публикации: 2007-09-01.

Method for production of phase shift mask and phase shift mask

Номер патента: TW548514B. Автор: Haruo Kokubo. Владелец: Dainippon Printing Co Ltd. Дата публикации: 2003-08-21.

Method for manufacturing reflective mask and apparatus for manufacturing reflective mask

Номер патента: TW201234101A. Автор: Takeharu Motokawa,Kosuke TAKAI,Tomoaki Yoshimori,Yoshihisa Kase,Makoto Karyu. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2012-08-16.

Complementary division mask, method of producing mask, and program

Номер патента: TW200507061A. Автор: Shinji Omori,Yoko Watanabe. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2005-02-16.

Realm execution context masking and saving

Номер патента: US20200192585A1. Автор: Jason Parker,Matthew Lucien EVANS,Gareth Rhys STOCKWELL,Djordje KOVACEVIC. Владелец: ARM LTD. Дата публикации: 2020-06-18.

Forming thermal sprayed protrusions using the mask, and method of manufacturing a substrate supporting apparatus using the mask

Номер патента: TW201002426A. Автор: Sang-Won Lee,In-Su Yoon,Hai-Tai Lee,Chi-Won Oh. Владелец: Mico C & C Ltd. Дата публикации: 2010-01-16.

Deposition mask, method of manufacturing deposition mask and metal plate

Номер патента: EP3757247B1. Автор: Chikao Ikenaga,Yo Shimazaki,Chiaki Hatsuta,Kentarou Seki,Hiroki Furushou. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2024-06-12.

Fe-Ni alloy for semi-tension mask having excellent magnetic property, semi-tension mask and color cathode ray tube using the same

Номер патента: TW460592B. Автор: Toshiyuki Ono,Masazumi Mori. Владелец: Nippon Mining & Amp Metals Co. Дата публикации: 2001-10-21.

Realm execution context masking and saving

Номер патента: US11194485B2. Автор: Jason Parker,Matthew Lucien EVANS,Gareth Rhys STOCKWELL,Djordje KOVACEVIC. Владелец: ARM LTD. Дата публикации: 2021-12-07.

Method of manufacturing a device by means of a mask and phase-shifting mask for use in said method

Номер патента: TW530332B. Автор: Peter Dirksen,Casparus Anthonius Juffermans. Владелец: Koninkl Philips Electronics Nv. Дата публикации: 2003-05-01.

Modified mask for photolithography of a wafer with recess, method for producing such a mask and method for photolithography of a wafer with recess

Номер патента: EP2603835B1. Автор: Florian Bieck. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2021-03-10.

Pixel arrangement structure, organic electroluminescent display panel, metal mask and display device

Номер патента: US20240244914A1. Автор: Yang Wang,Yangpeng WANG,Weinan DAI,Yao Hu,Benlian WANG,Haijun Yin,Haijun Qiu. Владелец: Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Defect repairing method for a gray tone mask and gray tone mask

Номер патента: TW200732830A. Автор: Michiaki Sano. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2007-09-01.

Image mask and image mask assembly

Номер патента: TW201007345A. Автор: Michael Lucien GENIER,Jeffrey Mathew Clark,Windsor Thomas. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2010-02-16.

Mask blank, phase shift mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: SG10201911778SA. Автор: Hiroaki Shishido,Osamu Nozawa,Takenori Kajiwara. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2020-01-30.

Steel sheet for shadow mask, shadow mask, and picture tube

Номер патента: AU6420098A. Автор: Akira Ikeda,Hironao Okayama,Tsuneyuki Ide,Hiroaki Ikenaga,Yasuo Tahara,Hiroshi Fujishige,Susumu Shigemasa. Владелец: Toyo Kohan Co Ltd. Дата публикации: 1999-10-11.

Phase shift mask blank, phase shift mask, and pattern transfer method

Номер патента: TWI335488B. Автор: Takashi Haraguchi,Yuichi Fukushima,Hiroki Yoshikawa,Satoshi Okazaki,Yukio Inazuki,Yoshihiro Ii,Tadashi Saga. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2011-01-01.

High speed mask and logical combination operations for parallel processor units

Номер патента: US5499376A. Автор: Edward C. King,Alan G. Smith. Владелец: CPU Technology Inc. Дата публикации: 1996-03-12.

Searching identity space for devices connected to a bus using masks and increasing mask length when replies collide

Номер патента: GB2456743A. Автор: Steven Ian Bennett. Владелец: Thorn Security Ltd. Дата публикации: 2009-07-29.

Butt hinge paint mask and masking method

Номер патента: US5056191A. Автор: Fred Love. Владелец: Individual. Дата публикации: 1991-10-15.

Network adapter with an indication signal mask and an interrupt signal mask

Номер патента: US5530874A. Автор: Brian Petersen,W. Paul Sherer,Scott A. Emery. Владелец: 3Com Corp. Дата публикации: 1996-06-25.

Method of providing a patterned metal layer on a substrate employing metal mask and ion milling

Номер патента: US4098917A. Автор: David Carl Bullock,Mohammed Sabir Shaikh. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1978-07-04.

Chromatic aberration-free wide-angle lens for headgear, and headgear

Номер патента: AU2015281503B2. Автор: Chun Yang,Yuanpeng WANG. Владелец: Goertek Optical Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-18.

Chromatic aberration-free wide-angle lens for headgear,and headgear

Номер патента: KR101860688B1. Автор: 춘 양,위안펭 왕. Владелец: 칭다오 고어텍 테크놀로지 컴파니 리미티드. Дата публикации: 2018-05-23.

Deposition mask, mask member for deposition mask, method of manufacturing deposition mask, and method of manufacturing organic el display apparatus

Номер патента: US20240033856A1. Автор: Katsuhiko Kishimoto,Susumu Sakio,Hideo Takei. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-01.

Method, lithography mask, use of a lithography mask, and processing arrangement

Номер патента: WO2024023165A1. Автор: Tilmann Heil,Horst Schneider,Markus Bauer,Daniel Rhinow,Laura Ahmels,Bartholomaeus Szafranek,Hubertus MARBACH,Michael WALDOW. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-02-01.

Mask and method of manufacturing mask

Номер патента: US20220216405A1. Автор: Donghyun YANG,Inkyung YOO,Sungbae Ju,Sangjin Park. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2022-07-07.

Mask blank, method of manufacturing imprint mold, method of manufacturing transfer mask, method of manufacturing reflective mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20230367196A1. Автор: Hiroaki Shishido,Osamu Nozawa,Ryo Ohkubo. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2023-11-16.

Semiconductor device with carbon hard mask and method for fabricating the same

Номер патента: US20220157713A1. Автор: Jar-Ming Ho. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2022-05-19.

EUV photo masks and manufacturing method thereof

Номер патента: US11829062B2. Автор: Hsin-Chang Lee,Pei-Cheng Hsu,Ta-Cheng Lien. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-28.

Mask for deposition, method of manufacturing mask, and method of manufacturing display device

Номер патента: US20180151803A1. Автор: Youngmin Moon,Minho Moon,Jeongkuk Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-31.

Method of fabricating phase shift mask and method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20180341172A1. Автор: JAE-HEE KIM,Chan Hwang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-11-29.

Nanosheet device with source/drain contacts comprising a silicide mask and manufacturing method using the silicide mask

Номер патента: EP4358150A1. Автор: Sung Hwan Kim,Wan Don KIM,Jun Ki PARK,Heung Seok RYU. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-24.

Particle measurement mask and particle managing method

Номер патента: US9513229B1. Автор: Masaru Suzuki,Hiroyuki Mizuno. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-12-06.

Optical proximity correction mask and method of fabricating color filter

Номер патента: US20070059609A1. Автор: Hsin-Ping Wu,Chia-Huei Lin. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2007-03-15.

Deposition of a projection structure on a substrate using a negative mask and negative photoresist

Номер патента: US20030194657A1. Автор: Douglas Werner,Alfred Renaldo. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2003-10-16.

Semiconductor device with carbon hard mask and method for fabricating the same

Номер патента: US11776904B2. Автор: Jar-Ming Ho. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2023-10-03.

Method for aligning exposure mask and method for manufacturing thin film device substrate

Номер патента: US7258957B2. Автор: Chiharu Iriguchi. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2007-08-21.

Mask and method for forming the same

Номер патента: US20200057365A1. Автор: Chi-Hung Liao,Ju-Wei LIAO. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-02-20.

Mask and method of manufacturing mask

Номер патента: US20200152872A1. Автор: Donghyun YANG,Inkyung YOO,Sungbae Ju,Sangjin Park. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2020-05-14.

Mask blank, method of manufacturing imprint mold, method of manufacturing transfer mask, method of manufacturing reflective mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12007684B2. Автор: Hiroaki Shishido,Osamu Nozawa,Ryo Ohkubo. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-06-11.

Photo mask and method for controlling the same

Номер патента: US7491473B2. Автор: Toshiaki Ibaragi. Владелец: Fujitsu Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2009-02-17.

Reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing reflective mask and semiconductor device

Номер патента: US12019366B2. Автор: Masanori Nakagawa,Tsutomu Shoki. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-06-25.

Reflective mask blank, reflective mask and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US20150261083A1. Автор: Toshiyuki Suzuki,Osamu Nozawa,Kazuya Sakai,Ryo Ohkubo. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2015-09-17.

Mask and method for producing thereof and a semiconductor device using the same

Номер патента: US7344805B2. Автор: Hiroshi Kumano,Yuichi Mikata. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2008-03-18.

Photo mask and method for fabricating image sensors

Номер патента: US20110294046A1. Автор: Hyun-Hee Nam,Jeong-Lyeol Park. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-12-01.

Photo mask and method for fabricating image sensor using the same

Номер патента: US20080233674A1. Автор: Hyun-Hee Nam,Jeong-Lyeol Park. Владелец: MagnaChip Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2008-09-25.

Photo mask and method for fabricating image sensors

Номер патента: US20110291214A1. Автор: Hyun-Hee Nam,Jeong-Lyeol Park. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-12-01.

Method for producing halftone mask, and system for producing halftone mask

Номер патента: EP3386178B1. Автор: Kimito Katsuyama. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-06-15.

Reflective mask and fabricating method thereof

Номер патента: US12038684B2. Автор: Tsiao-Chen Wu,Pei-Cheng Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Electronic device comprising a single dielectric layer for solder mask and cavity and method for fabricating the same

Номер патента: US20240321707A1. Автор: Thomas Scott Morris,John August Orlowski. Владелец: Qorvo US Inc. Дата публикации: 2024-09-26.

Open solder mask and or dielectric to increase lid or ring thickness and contact area to improve package coplanarity

Номер патента: US09716051B2. Автор: Leilei Zhang,Abraham Yee,Zuhair Bokharey,Ron Boja. Владелец: Nvidia Corp. Дата публикации: 2017-07-25.

Selective deposition mask and method for making the same

Номер патента: US5922496A. Автор: Gene Joseph Gaudenzi,Hormazdyar Minocher Dalal,Frederic Robert Pierre,Georges Henri Robert. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1999-07-13.

Stencil mask and charged particle beam exposure method and apparatus using the stencil mask

Номер патента: US5288567A. Автор: HIROSHI Yasuda,Yasushi Takahashi,Kiichi Sakamoto,Yoshihisa Oae. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1994-02-22.

Phase shift mask and method of producing the same

Номер патента: US5972543A. Автор: Hiroshi Mohri,Koichi Mikami,Toshifumi Yokoyama,Chiaki Hatsuda. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 1999-10-26.

Micro-lens array with precisely aligned aperture mask and methods of producing same

Номер патента: CA2527602A1. Автор: David Reed,Robert P. Freese,Dale S. Walker,Edward Fadel. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-12-23.

Reflective mask and method for producing reflective mask

Номер патента: US20240019776A1. Автор: Hideaki Nakano,Ayumi Goda,Kenjiro ICHIKAWA,Yuto YAMAGATA. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2024-01-18.

Reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20230333459A1. Автор: Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2023-10-19.

Patterning mask and method of formation of mask using step double patterning

Номер патента: US20110217843A1. Автор: Anton Devilliers,Michael Hyatt. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-09-08.

Method for manufacturing reflective mask blank, reflective mask blank, method for manufacturing reflective mask, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11852964B2. Автор: Takahiro Onoue,Tsutomu Shoki. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2023-12-26.

FinFET structure with fin top hard mask and method of forming the same

Номер патента: US11923457B2. Автор: Kai-Chieh Yang,Kuan-Lun Cheng,Ching-Wei Tsai,Che-Yu Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-03-05.

Method for forming etching mask and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11264247B2. Автор: Hironobu Sato. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2022-03-01.

Reflective mask blank, reflective mask and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11880130B2. Автор: Takahiro Onoue,Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE,Hirofumi Kozakai. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-01-23.

Semiconductor device with carbon hard mask and method for fabricating the same

Номер патента: US20220157712A1. Автор: Jar-Ming Ho. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2022-05-19.

Deposition mask, mask member for deposition mask, method of manufacturing deposition mask, and method of manufacturing organic EL display apparatus

Номер патента: US11826855B2. Автор: Katsuhiko Kishimoto,Susumu Sakio,Hideo Takei. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-28.

Mask and method for manufacturing mask

Номер патента: US11807932B2. Автор: Seungyong Song,Junho Jo,Youngho Park,Youngchul Lee,Youngsuck Choi. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-07.

Unit mask and mask assembly

Номер патента: US20140141556A1. Автор: Sang-Shin Lee. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2014-05-22.

Reflective mask and method for manufacturing the same

Номер патента: US20120141927A1. Автор: Takashi Kamo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-06-07.

Shadow mask and method of fabricating vertically tapered structure using the shadow mask

Номер патента: US20080299468A1. Автор: Duk-Yong Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2008-12-04.

High precision, high resolution collimating shadow mask and method for fabricating a micro-display

Номер патента: US20160141498A1. Автор: Amalkumar Ghosh,Fridrich Vazan. Владелец: Emagin Corp. Дата публикации: 2016-05-19.

Micro-lens array with precisely aligned aperture mask and methods of producing same

Номер патента: EP1629316A2. Автор: David Reed,Robert P. Freese,Dale S. Walker,Edward Fadel. Владелец: BrightView Technologies Inc. Дата публикации: 2006-03-01.

Micro-lens array with precisely aligned aperture mask and methods of producing same

Номер патента: EP1629316A4. Автор: David Reed,Robert P Freese,Dale S Walker,Edward Fadel. Владелец: BrightView Technologies Inc. Дата публикации: 2009-07-08.

Method for manufacturing semiconductor device using thin hard mask and structure manufactured by the same

Номер патента: US20140183619A1. Автор: Shih-Hung Chen. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2014-07-03.

Phase shift mask blank, phase shift mask, and method for manufacturing the same

Номер патента: US20020061452A1. Автор: Hideaki Mitsui,Osamu Nozawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2002-05-23.

Substrate with conductive film, substrate with multilayer reflective film, reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20210103209A1. Автор: Masanori Nakagawa,Tsutomu Shoki. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2021-04-08.

Metal mask and method for manufacturing metal mask

Номер патента: US20230313360A1. Автор: Yuji Anzai. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2023-10-05.

Metal mask and method for manufacturing metal mask

Номер патента: US20230313359A1. Автор: Yuki Yamamoto,Yuji Anzai. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2023-10-05.

Reflective mask blank, reflective mask and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20230244135A1. Автор: Takahiro Onoue,Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE,Hirofumi Kozakai. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2023-08-03.

Method for forming etching mask and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20210074549A1. Автор: Hironobu Sato. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2021-03-11.

Finfet structure with fin top hard mask and method of forming the same

Номер патента: US20240105850A1. Автор: Kai-Chieh Yang,Kuan-Lun Cheng,Ching-Wei Tsai,Che-Yu Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-03-28.

Finfet Structure With Fin Top Hard Mask And Method Of Forming The Same

Номер патента: US20220328691A1. Автор: Kai-Chieh Yang,Kuan-Lun Cheng,Ching-Wei Tsai,Che-Yu Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-10-13.

Method and apparatus for compressing and accelerating multi-rate neural image compression model by micro-structured nested masks and weight unification

Номер патента: WO2022035493A1. Автор: Wei Wang,Wei Jiang,Shan Liu. Владелец: Tencent America LLC. Дата публикации: 2022-02-17.

Mask and fabrication method thereof and application thereof

Номер патента: US7648804B2. Автор: Chun-hao Tung. Владелец: AU OPTRONICS CORP. Дата публикации: 2010-01-19.

Mask blank, phase shift mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20200409252A1. Автор: Hitoshi Maeda,Ryo Ohkubo,Kazutake Taniguchi. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2020-12-31.

Method of managing euv exposure mask and exposure method

Номер патента: US20110285975A1. Автор: Kazuo Tawarayama. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-11-24.

Method and apparatus for compressing and accelerating multi-rate neural image compression model by micro-structured nested masks and weight unification

Номер патента: EP4026316A1. Автор: Wei Wang,Wei Jiang,Shan Liu. Владелец: Tencent America LLC. Дата публикации: 2022-07-13.

Complementary division mask having alignment mark, method for forming alignment mark of the complementary division mask, semiconductor device manufactured by using the complementary division mask, and its manufacturing method

Номер патента: US20060152723A1. Автор: Shinichiro Nohdo,Keiko Amai. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2006-07-13.

Systems and methods for check masking and interdiction

Номер патента: US11769122B1. Автор: Keith Hart. Владелец: Wells Fargo Bank NA. Дата публикации: 2023-09-26.

Memory device which receives write masking and automatic precharge information

Номер патента: US20020010832A1. Автор: Craig Hampel,Frederick Ware,Donald Stark,Matthew Griffin. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-01-24.

Phase detection autofocus using masked and unmasked photodiodes

Номер патента: US09804357B2. Автор: Jisoo Lee,Ruben Manuel Velarde,Micha Galor Gluskin. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2017-10-31.

Color display tube, method of manufacturing such a display tube having a shadow mask, and reproduction mask for use in such a method

Номер патента: US4159177A. Автор: Leonardus A. M. Elshof,Herman F. van Heek. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 1979-06-26.

Lithographic mask and method for fabrication thereof

Номер патента: US6017658A. Автор: Martin C. Peckerar,Christie R. K. Marrian,Kee W. Rhee,Elizabeth A. Dobisz. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 2000-01-25.

Method of inspecting masks and apparatus thereof

Номер патента: US4748327A. Автор: Toshiaki Shinozaki,Sadao Sasaki. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1988-05-31.

Light pattern exposure method, halftone phase shift mask, and halftone phase shift mask blank

Номер патента: EP2594991A2. Автор: Takashi Haraguchi,Hideo Kaneko,Hiroki Yoshikawa,Yukio Inazuki,Ryuji Koitabashi,Yosuke Kojima,Tomohito Hirose. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2013-05-22.

Method for the alignment of photolithographic masks and corresponding process for manufacturing integrated circuits in a wafer of semiconductor material

Номер патента: EP3652588A1. Автор: Gianluca EUGENI. Владелец: LFoundry SRL. Дата публикации: 2020-05-20.

Optical mask and manufacturing method of thin film transistor array panel using the optical mask

Номер патента: US20060160279A1. Автор: Hi-Kuk Lee,Jeong-Min Park,Joo-Han Kim,Woo-Seok Jeon,Doo-Hee Jung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2006-07-20.

Semiconductor device using hard mask and method for fabricating the same

Номер патента: US20240038534A1. Автор: Jin Hee Park,Bo Young Cho,Soo Min JO. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2024-02-01.

Mask for crystallizing silicon, apparatus having the mask and method of crystallizing with the mask

Номер патента: US20110003484A1. Автор: Hyun-dae Kim,Han-Na Jo. Владелец: Kim Hyun-Dae. Дата публикации: 2011-01-06.

Mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US11864453B2. Автор: Seungyong Song,Junho Jo,Youngmin Moon,Minho Moon,Sungsoon Im,Ji-Hee Son. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-02.

Reflective mask and method of designing anti-reflection pattern of the same

Номер патента: US20240027890A1. Автор: Chan Hwang,HyungJong BAE,Heebom Kim,Woo-Yong Jung,Seungyoon LEE,Seong-Bo Shim,Hyun Jung Hwang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-01-25.

Semiconductor device using hard mask and method for fabricating the same

Номер патента: US11823904B2. Автор: Jin Hee Park,Bo Young Cho,Soo Min JO. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2023-11-21.

Mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US20240138245A1. Автор: Seungyong Song,Junho Jo,Youngmin Moon,Minho Moon,Sungsoon Im,Ji-Hee Son. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-25.

Method for manufacturing reflective mask and apparatus for manufacturing reflective mask

Номер патента: US20130260292A1. Автор: Katsuhiro Yamazaki,Kensuke Demura. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2013-10-03.

Encoding data using combined data mask and data bus inversion

Номер патента: EP4224328A3. Автор: Aliazam Abbasfar. Владелец: RAMBUS INC. Дата публикации: 2023-10-18.

Method Of Manufacturing An Extreme Ultraviolet (EUV) Mask And The Mask Manufactured Therefrom

Номер патента: US20150072270A1. Автор: Ming-Yun Chen,Chia-Hao Yu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-03-12.

Block mask making method, block mask and exposure apparatus

Номер патента: US20030003375A1. Автор: Hiroshi Takita,Hiromi Hoshino. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2003-01-02.

Selectively deposited parylene masks and methods related thereto

Номер патента: US20190221422A1. Автор: Fei Wang,Robert Jan Visser,Abhijit Basu Mallick,Pramit MANNA,Shishi Jiang,Miaojun WANG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-07-18.

Reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240027891A1. Автор: Kazuhiro Hamamoto. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-01-25.

Mask for crystallizing silicon, apparatus having the mask and method of crystallizing with the mask

Номер патента: US20070141482A1. Автор: Hyun-dae Kim,Han-Na Jo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-06-21.

Mask for crystallizing silicon, apparatus having the mask and method of crystallizing with the mask

Номер патента: US7811721B2. Автор: Hyun-dae Kim,Han-Na Jo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2010-10-12.

Deposition mask and method of fabricating the same

Номер патента: US20170069843A1. Автор: Hoon Kang,Chong Sup Chang,Bum Soo KAM,Woo Seok JEON. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-09.

Method, apparatus and computer program product for defining importance mask and importance ordering list

Номер патента: EP4360000A1. Автор: Jani Lainema,Miska Matias Hannuksela,Francesco Cricri,Emre Baris Aksu,Hamed REZAZADEGAN TAVAKOLI,Honglei Zhang,Vinod Kumar Malamal Vadakital,Yat Hong LAM,Ramin GHAZNAVI YOUVALARI,Nannan ZOU. Владелец: NOKIA TECHNOLOGIES OY. Дата публикации: 2024-05-01.

Semiconductor package with nsmd type solder mask and method for manufacturing the same

Номер патента: WO2010126302A3. Автор: Seong Bo Shim,Young Jae Lee,Sung Wuk Ryu. Владелец: LG INNOTEK CO., LTD.. Дата публикации: 2010-12-29.

Substrate processing method, manufacturing method of euv mask, and euv mask

Номер патента: US20130141708A1. Автор: Hideaki Sakurai,Masatoshi Terayama. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2013-06-06.

Photolithographic masks and fabrication method thereof

Номер патента: US20150037714A1. Автор: BoXiu CAI. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2015-02-05.

Method and apparatus for allowing phase conflicts in phase shifting mask and chromeless phase edges

Номер патента: US20030023401A1. Автор: Hua-yu Liu. Владелец: Numerical Technologies Inc. Дата публикации: 2003-01-30.

Top via patterning using metal as hard mask and via conductor

Номер патента: WO2023029616A1. Автор: Hosadurga Shobha,Huai HUANG,Lawrence A Clevenger,Chanro Park,Nicholas Anthony Lanzillo. Владелец: Ibm (China) Co., Limited. Дата публикации: 2023-03-09.

Alignment mark, mask and display substrate motherboard

Номер патента: US11994810B2. Автор: Hao Chen,Li Xiao,LIANG Chen,Qi Qi,Jing Liu,MINGHUA XUAN,Zhenyu Zhang,Haoliang ZHENG,Dongni LIU,Jiao Zhao. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-28.

Planar srfet using no additional masks and layout method

Номер патента: US20160049392A1. Автор: Anup Bhalla. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-02-18.

Ising-model image rendition, and consolidated masking and/or filtering, in incremental printing

Номер патента: EP1711001A3. Автор: Alejandro Manuel De Pena,Santiago Garcia-Reyero,Joan-Manel Garcia. Владелец: Hewlett Packard Development Co LP. Дата публикации: 2010-06-09.

Ising-model image rendition, and consolidated masking and/or filtering, in incremental printing

Номер патента: EP1711001B1. Автор: Alejandro Manuel De Pena,Santiago Garcia-Reyero,Joan-Manel Garcia. Владелец: Hewlett Packard Development Co LP. Дата публикации: 2011-12-07.

Masking and fixturing of a glass-based article during a coating process and articles produced thereby

Номер патента: US20190270668A1. Автор: Jae-Chang Lee. Владелец: Corning Precision Materials. Дата публикации: 2019-09-05.

Pattern dimension correction method and verification method using OPC, mask and semiconductor device fabricated by using the correction method, and system and program for executing the correction method

Номер патента: TW200509215A. Автор: Toshiya Kotani,Shigeki Nojima. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2005-03-01.

System and method for satellite-based masking and amplification

Номер патента: US20240300674A1. Автор: James H. Pratt,Eric Zavesky. Владелец: AT&T INTELLECTUAL PROPERTY I LP. Дата публикации: 2024-09-12.

LED illumination unit having mask and reflector

Номер патента: US09671077B2. Автор: Martin Seipel,Jaroslaw Schimon. Владелец: Hella KGaA Huek and Co. Дата публикации: 2017-06-06.

Mask blank substrate, substrate with multilayer reflection film, transparent mask blank, reflecting mask, transparent mask, and reflecting mask and semiconductor fabrication method

Номер патента: KR102055992B1. Автор: 도시히꼬 오리하라,가즈히로 하마모또,히로후미 고자까이,유이찌 우스이,쯔또무 쇼끼,준이찌 호리까와. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2019-12-13.

Overlay-tolerant via mask and reactive ion etch (RIE) technique

Номер патента: US9263388B2. Автор: Shom Ponoth,Chih-Chao Yang,Steven J. Holmes,David V. Horak,Charles W. Koburger, III. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2016-02-16.

Mask and manufacturing method therefor, and manufacturing method for display substrate

Номер патента: US20220002859A1. Автор: Jianpeng Wu,Zhongying Yang,Fengli JI,Chang Luo. Владелец: Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2022-01-06.

Substrate for mask blank, mask blank, methods for manufacturing substrate for mask blank and mask blank, method for manufacturing transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: WO2016098452A1. Автор: 洋平 池邊,勝 田辺. Владелец: Hoya株式会社. Дата публикации: 2016-06-23.

Method for manufacturing shadow mask and shadow mask manufactured by said method

Номер патента: US5567555A. Автор: Osamu Nakamura,Takeshi Ikegami. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 1996-10-22.

Measurement marks for e-beam projection mask and method of using

Номер патента: US6040095A. Автор: William A. Enichen,Christophe F. Robinson. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-03-21.

Substrate for mask blank, mask blank, methods for manufacturing substrate for mask blank and mask blank, method for manufacturing transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: KR102519334B1. Автор: 요헤이 이케베,마사루 다나베. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2023-04-07.

Position measurement method for measuring a position of an exposure mask and exposure method for transferring an image of the pattern formed in an exposure mask

Номер патента: US5995199A. Автор: Toshio Matsuura,Toshinobu Morioka,Tadaaki Shinozaki,Nobutaka Fujimori. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1999-11-30.

Mask and manufacturing method therefor, and manufacturing method for display substrate

Номер патента: US11885005B2. Автор: Jianpeng Wu,Zhongying Yang,Fengli JI,Chang Luo. Владелец: Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-30.

Phase shift mask and electronic component manufacturing method

Номер патента: WO2019153796A1. Автор: Xiaolong Li,Xiaoxiang Zhang,Yongzhi SONG,Huibin Guo,Wenqing Xu,Mingxuan Liu,Zumou Wu. Владелец: BEIJING BOE DISPLAY TECHNOLOGY CO., LTD.. Дата публикации: 2019-08-15.

Method for fabricating carbon hard mask and method for fabricating patterns of semiconductor device using the same

Номер патента: US20120208367A1. Автор: Tai Ho Kim. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2012-08-16.

Mask blank, transfer mask, method for manufacturing transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20190317394A1. Автор: Hiroaki Shishido,Yasutaka HORIGOME. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2019-10-17.

Euv photo masks and manufacturing method thereof

Номер патента: US20230305381A1. Автор: Sheng-Min Wang,Chieh-Jen Cheng,Ya Hui Chang,Ken-Hsien Hsieh,Yu-Tse LAI,Wei-Shuo Su. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Deposition mask and method for manufacturing deposition mask

Номер патента: US20230272517A1. Автор: Isao Inoue,Chikao Ikenaga,Yuji Anzai. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2023-08-31.

Phase shift mask blank, manufacturing method of phase shift mask, and phase shift mask

Номер патента: EP3992712A1. Автор: Shohei Mimura,Naoki Matsuhashi,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-04.

Phase shift mask blank, manufacturing method of phase shift mask, and phase shift mask

Номер патента: US20220137502A1. Автор: Shohei Mimura,Naoki Matsuhashi,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-05.

Mask blank, phase shift mask, method of manufacturing phase shift mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20220128898A1. Автор: Hiroaki Shishido,Hitoshi Maeda,Osamu Nozawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2022-04-28.

Mask blank, phase shift mask, and method for producing semiconductor device

Номер патента: US20230393457A1. Автор: Hitoshi Maeda,Osamu Nozawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2023-12-07.

Deposition mask, and method for producing an organic light-emitting element

Номер патента: US20240183020A1. Автор: Hiroyuki Mochizuki,Tatsuro Uchida,Hideki Kodama. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-06-06.

Blank mask and fabrication method thereof, and method of fabricating photomask

Номер патента: US20180284601A1. Автор: Chih-Ming Chen,Shao-Chi Wei,Cheng-Ming Lin,Hao-Ming Chang,Sheng-Chang Hsu,Hsao Shih,Li-Chih Lu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-10-04.

Mask blank substrate, substrate with multilayer reflection film, transparent mask blank, reflecting mask, transparent mask, and reflecting mask and semiconductor fabrication method

Номер патента: KR101477470B1. Автор: 도시히꼬 오리하라,가즈히로 하마모또,히로후미 고자까이,유이찌 우스이,쯔또무 쇼끼,준이찌 호리까와. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2014-12-29.

X-ray mask support member, X-ray mask, and X-ray exposure process using the X-ray mask

Номер патента: US5012500A. Автор: Yutaka Watanabe,Yasuaki Fukuda,Shigetaro Ogura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1991-04-30.

Mask blank, method of manufacturing the same, transfer mask, and method of manufacturing the same

Номер патента: US9535320B2. Автор: Masahiro Hashimoto,Kazuya Sakai. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-01-03.

Diffraction grating-fabricating phase mask, and its fabrication method

Номер патента: CA2657509C. Автор: Massaaki Kurihara,Toshikazu Segawa. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2012-01-03.

X-ray mask and method for providing same

Номер патента: US20030128803A1. Автор: Alfredo Morales,Dawn Skala. Владелец: Skala Dawn M.. Дата публикации: 2003-07-10.

Phase-shifting mask and method of forming pattern using the same

Номер патента: US6800402B2. Автор: Masashi Fujimoto. Владелец: NEC Electronics Corp. Дата публикации: 2004-10-05.

Combining a privacy mask and an informational display of differing resolutions with a captured image

Номер патента: GB2414886A. Автор: Iii Paul E Henninger. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2005-12-07.

Foam strip for masking and method for masking a gap

Номер патента: CA2325623A1. Автор: Phillip J. Bouic. Владелец: Phillip J. Bouic. Дата публикации: 1999-10-21.

Method of manufacturing a mask blank and a mask, the mask blank and the mask, and useless film removing method and apparatus

Номер патента: TW578034B. Автор: Mitsuaki Hata. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2004-03-01.

Diffraction grating-fabricating phase mask, and its fabrication method

Номер патента: CA2283403C. Автор: Masaaki Kurihara,Toshikazu Segawa. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2009-05-19.

Multilayer reflective film-equipped substrate, reflective mask blank, reflective mask, and method for producing semiconductor device

Номер патента: US20230418148A1. Автор: Masanori Nakagawa,Kota Suzuki,Ikuya FUKASAWA. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2023-12-28.

Phase shift mask and electronic component manufacturing method

Номер патента: EP3762775A1. Автор: Xiaolong Li,Xiaoxiang Zhang,Yongzhi SONG,Huibin Guo,Wenqing Xu,Mingxuan Liu,Zumou Wu. Владелец: Beijing BOE Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-13.

Phase shift mask and electronic component manufacturing method

Номер патента: US20210356856A1. Автор: Xiaolong Li,Xiaoxiang Zhang,Yongzhi SONG,Huibin Guo,Wenqing Xu,Mingxuan Liu,Zumou Wu. Владелец: Beijing BOE Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-18.

Method of manufacturing photo masks and semiconductor devices

Номер патента: US20230418151A1. Автор: Wen-hao Cheng,Chun Wei HSU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Extreme ultraviolet mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US11774844B2. Автор: BO-TSUN Liu,Shih-Chi Fu,Chih-Tsung Shih,Tsung-Chih Chien,Tsung Chuan LEE,Chi-Hua FU,Kuotang CHENG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Mask blank, transfer mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11314162B2. Автор: Hiroaki Shishido,Kazutake Taniguchi. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2022-04-26.

Enchanced bright peak clear phase shifting mask and method of use

Номер патента: EP1370911A1. Автор: Lei Yang,Francesco Cerrina,James W. Taylor. Владелец: WISCONSIN ALUMNI RESEARCH FOUNDATION. Дата публикации: 2003-12-17.

Alignment method of exposure mask and manufacturing method of thin film element substrate

Номер патента: US20060068304A1. Автор: Chiharu Iriguchi. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2006-03-30.

Composition for forming silicon-containing metal hard mask and patterning process

Номер патента: EP4250008A1. Автор: Naoki Kobayashi,Toshiharu Yano,Ryo Mitsui,Kanata Takizawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-27.

Mask for depositing emission layer, method of manufacturing the mask, and display apparatus manufactured using the mask

Номер патента: EP4280851A1. Автор: Sangshin Lee,Jongsung Park,Seungjin LEE,Sanghoon Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-22.

Mask blank, transfer mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20210141305A1. Автор: Hiroaki Shishido,Kazutake Taniguchi. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2021-05-13.

Mask blank, transfer mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20220206381A1. Автор: Hiroaki Shishido,Kazutake Taniguchi. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2022-06-30.

Mask blank, transfer mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: SG11201908105VA. Автор: Hiroaki Shishido,Kazutake Taniguchi. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2019-10-30.

Spatio-temporal noise masks and sampling using vectors for image processing and light transport simulation systems and applications

Номер патента: US11727621B2. Автор: Alan Robert Wolfe. Владелец: Nvidia Corp. Дата публикации: 2023-08-15.

Reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing reflective mask

Номер патента: US20240160097A1. Автор: Yusuke Ono,Hiroshi HANEKAWA,Shunya TAKI,Taiga FUDETANI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Exposure method, exposure mask, and exposure apparatus

Номер патента: EP1535113A2. Автор: Natsuhiko Mizutani,Ryo Kuroda,Yasuhisa Inao. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2005-06-01.

Method of fabricating wave-shaped mask and exposure method of fabricating nano-scaled structure using the wave-shaped mask

Номер патента: US20130065162A1. Автор: Si-Chen Lee,Yu-Wei Jiang,Fang-Tzu Chuang. Владелец: National Taiwan University NTU. Дата публикации: 2013-03-14.

Mask blank, reflective mask, and method for producing semiconductor device

Номер патента: US20240184193A1. Автор: Takashi Uchida,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-06-06.

Mask blank, transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20230097280A1. Автор: Osamu Nozawa,Keishi AKIYAMA,Hok Tak Lim,Tham Hui Jun. Владелец: Hoya Electronics Singapore Pte Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Extreme ultraviolet mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US20230367195A1. Автор: BO-TSUN Liu,Shih-Chi Fu,Chih-Tsung Shih,Tsung-Chih Chien,Tsung Chuan LEE,Chi-Hua FU,Kuotang CHENG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Correcting method of mask and mask manufactured by said method

Номер патента: US6704922B2. Автор: Taira Iwase. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2004-03-09.

Dynamic mask and illumination system

Номер патента: US20100195325A1. Автор: Chuan-Te Cheng,Hui-Chen Lin. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2010-08-05.

Mask blank, transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12013631B2. Автор: Hiroaki Shishido. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-06-18.

Method for preparing halftone phase shift mask blank, halftone phase shift mask blank, halftone phase shift mask, and thin film forming apparatus

Номер патента: US20200026180A1. Автор: Yukio Inazuki. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-01-23.

Method for preparing halftone phase shift mask blank, halftone phase shift mask blank, halftone phase shift mask, and thin film forming apparatus

Номер патента: US10466582B2. Автор: Yukio Inazuki. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-05.

Phase shift masks and methods of forming phase shift masks

Номер патента: US20140170534A1. Автор: Hoon Kim,Dong-Seok Nam,Se-Gun Moon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2014-06-19.

Enchanced bright peak clear phase shifting mask and method of use

Номер патента: WO2002075456A1. Автор: Lei Yang,Francesco Cerrina,James W. Taylor. Владелец: WISCONSIN ALUMNI RESEARCH FOUNDATION (WARF). Дата публикации: 2002-09-26.

Enchanced bright peak clear phase shifting mask and method of use

Номер патента: EP1370911A4. Автор: Lei Yang,Francesco Cerrina,James W Taylor. Владелец: WISCONSIN ALUMNI RESEARCH FOUNDATION. Дата публикации: 2005-04-20.

Defect inspection method and defect inspection device of gray tone mask, and defect inspection method and defect inspection device of photomask

Номер патента: TWI223061B. Автор: Katsuhiko Nakanishi. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2004-11-01.

Method for providing representative feature for use in inspection of photolithography mask and for use in inspection of photo-lithographically developed and/or patterned wafer layers, and products of same

Номер патента: TWI284787B. Автор: Feng-Hong Zhang,Li-Min Lou. Владелец: Mosel Vitelic Inc. Дата публикации: 2007-08-01.

Substrate for electro-optic device and its manufacturing method, electro-optic device and its manufacturing method, exposure mask and electronic apparatus

Номер патента: TW200519522A. Автор: Tomoyuki Nakano,Keiji Takizawa,Hideki Kaneko,Toshihiro Otake. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2005-06-16.

Defect inspection method and defect inspection device of gray tone mask, and defect inspection method and defect inspection device of photomask

Номер патента: TW200403431A. Автор: Katsuhiko Nakanishi. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2004-03-01.

Method and apparatus for taped interlayer flow cell with masking and conductive traces

Номер патента: US09795963B2. Автор: Georges Roussos,Raymond M. Karam,Anthony T. Chobot. Владелец: Pycosys Inc. Дата публикации: 2017-10-24.

METAL PLATE FOR PRODUCING VAPOR DEPOSITION MASKS, PRODUCTION METHOD FOR METAL PLATES, VAPOR DEPOSITION MASK, PRODUCTION METHOD FOR VAPOR DEPOSITION MASK, AND VAPOR DEPOSITION MASK DEVICE COMPRISING VAPOR DEPOSITION MASK

Номер патента: US20200017951A1. Автор: Okamoto Hideyuki,USHIKUSA Masato,HATSUTA Chiaki,Ikenaga Chikao,MATSUURA Sachiyo,OKA Hiroki. Владелец: Dai Nippon Printing Co., Ltd.. Дата публикации: 2020-01-16.

MASK BLANK SUBSTRATE, SUBSTRATE WITH MULTILAYER REFLECTION FILM, TRANSMISSIVE MASK BLANK, REFLECTIVE MASK BLANK, TRANSMISSIVE MASK, REFLECTIVE MASK, AND SEMICONDUCTOR DEVICE FABRICATION METHOD

Номер патента: US20170023853A1. Автор: SHOKI Tsutomu,HAMAMOTO Kazuhiro,ORIHARA Toshihiko,Horikawa Junichi,KOZAKAI Hirofumi,USUI Youichi. Владелец: HOYA CORPORATION. Дата публикации: 2017-01-26.

MASK BLANK SUBSTRATE, SUBSTRATE WITH MULTILAYER REFLECTION FILM, TRANSMISSIVE MASK BLANK, REFLECTIVE MASK BLANK, TRANSMISSIVE MASK, REFLECTIVE MASK, AND SEMICONDUCTOR DEVICE FABRICATION METHOD

Номер патента: US20180081264A1. Автор: SHOKI Tsutomu,HAMAMOTO Kazuhiro,ORIHARA Toshihiko,Horikawa Junichi,KOZAKAI Hirofumi,USUI Youichi. Владелец: HOYA CORPORATION. Дата публикации: 2018-03-22.

MASK BLANK SUBSTRATE, SUBSTRATE WITH MULTI-LAYER REFLECTIVE COATING, REFLECTION-TYPE MASK BLANK, REFLECTION-TYPE MASK, TRANSMISSION-TYPE MASK BLANK, TRANSMISSION-TYPE MASK, AND SEMICONDUCTOR DEVICE PRODUCTION METHOD

Номер патента: US20220179304A1. Автор: NAKAMURA Ayumi. Владелец: HOYA CORPORATION. Дата публикации: 2022-06-09.

METAL PLATE FOR PRODUCING VAPOR DEPOSITION MASKS, PRODUCTION METHOD FOR METAL PLATES, VAPOR DEPOSITION MASK, PRODUCTION METHOD FOR VAPOR DEPOSITION MASK, AND VAPOR DEPOSITION MASK DEVICE COMPRISING VAPOR DEPOSITION MASK

Номер патента: US20210157232A1. Автор: Okamoto Hideyuki,USHIKUSA Masato,HATSUTA Chiaki,Ikenaga Chikao,MATSUURA Sachiyo,OKA Hiroki. Владелец: Dai Nippon Printing Co., Ltd.. Дата публикации: 2021-05-27.

REFLECTIVE MASK BLANK AND REFLECTIVE MASK, AND METHODS FOR MANUFACTURING REFLECTIVE MASK BLANK AND REFLECTIVE MASK

Номер патента: US20140212795A1. Автор: HARAGUCHI Takashi,TANABE Masahito,Fukugami Norihito,Sakata Yo,Komizo Tooru. Владелец: TOPPAN PRINTING CO., LTD.. Дата публикации: 2014-07-31.

MASK BLANK SUBSTRATE, MASK BLANK, REFLECTIVE MASK BLANK, TRANSFER MASK, REFLECTIVE MASK, AND METHODS OF MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20140234755A1. Автор: Sasaki Tatsuya,NISHIMURA Takahito. Владелец: HOYA CORPORATION. Дата публикации: 2014-08-21.

METHOD OF QUALITY DETERMINING OF DEPOSITION MASK, METHOD OF MANUFACTURING DEPOSITION MASK, METHOD OF MANUFACTURING DEPOSITION MASK DEVICE, METHOD OF SELECTING DEPOSITION MASK AND DEPOSITION MASK

Номер патента: US20210242405A1. Автор: Ikenaga Chikao. Владелец: Dai Nippon Printing Co., Ltd.. Дата публикации: 2021-08-05.

MASK BLANK SUBSTRATE, SUBSTRATE WITH MULTILAYER REFLECTION FILM, TRANSMISSIVE MASK BLANK, REFLECTIVE MASK BLANK, TRANSMISSIVE MASK, REFLECTIVE MASK, AND SEMICONDUCTOR DEVICE FABRICATION METHOD

Номер патента: US20140329174A1. Автор: SHOKI Tsutomu,HAMAMOTO Kazuhiro,ORIHARA Toshihiko,Horikawa Junichi,KOZAKAI Hirofumi,USUI Youichi. Владелец: HOYA CORPORATION. Дата публикации: 2014-11-06.

MASK BLANK SUBSTRATE, SUBSTRATE WITH MULTILAYER REFLECTION FILM, TRANSMISSIVE MASK BLANK, REFLECTIVE MASK BLANK, TRANSMISSIVE MASK, REFLECTIVE MASK, AND SEMICONDUCTOR DEVICE FABRICATION METHOD

Номер патента: US20190361337A1. Автор: SHOKI Tsutomu,HAMAMOTO Kazuhiro,ORIHARA Toshihiko,Horikawa Junichi,KOZAKAI Hirofumi,USUI Youichi. Владелец: HOYA CORPORATION. Дата публикации: 2019-11-28.

Substrate for mask blank, substrate with multilayer reflective film, transmissive mask blank, reflective mask blank, transmissive mask, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: KR20140095462A. Автор: 도시히꼬 오리하라,가즈히로 하마모또,히로후미 고자까이,준이찌 호리까와,요우이찌 우수이,즈또무 쇼끼. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2014-08-01.

Reflective mask blank and reflective mask, and methods for manufacturing reflective mask blank and reflective mask

Номер патента: US9448468B2. Автор: Takashi Haraguchi,Masahito Tanabe,Norihito Fukugami,Yo Sakata,Tooru Komizo. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Gray level imaging masks, optical imaging apparatus for gray level imaging masks and methods for encoding mask and use of the masks

Номер патента: US20050260508A1. Автор: Todd Lizotte. Владелец: Lizotte Todd E. Дата публикации: 2005-11-24.

Substrate for mask blank, substrate with multilayer reflective film, transmissive mask blank, reflective mask blank, transmissive mask, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: KR101640333B1. Автор: 도시히꼬 오리하라,가즈히로 하마모또,히로후미 고자까이,준이찌 호리까와,요우이찌 우수이,즈또무 쇼끼. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2016-07-15.

Method of manufacturing a mask blank substrate, method of manufacturing a mask blank, method of manufacturing a transfer mask, and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US8785085B2. Автор: Masaru Tanabe. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2014-07-22.

Shadow mask and method of manufacturing the same

Номер патента: MY119613A. Автор: Shoichi Yokoyama,Fujio Takahashi,Tadashi Ite. Владелец: Toshiba Kk. Дата публикации: 2005-06-30.

Mask blank substrate, substrate with multilayer reflective film, reflective mask blank, reflective mask, transmissive mask blank, transmissive mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: SG11202110317WA. Автор: Ayumi Nakamura. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2021-10-28.

Reflective mask and method for manufacturing same

Номер патента: US20140170536A1. Автор: Kazuaki Matsui,Norihito Fukugami,Yo Sakata,Genta Watanabe. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2014-06-19.

Welding operator mask and method for making it

Номер патента: RU2268123C1. Автор: Мохкем Керим-Оглы Омаров,Андрей Леонидович Чистов. Владелец: Андрей Леонидович Чистов. Дата публикации: 2006-01-20.

Tear mask and method of its manufacturing

Номер патента: RU2489183C1. Автор: Сергей Николаевич Соловьев,Евгений Абрамович Каменер,Николай Константинович Куликов,Антон Владимирович Нечаев,Дмитрий Сергеевич Резниченко,Владимир Григорьевич Дувидзон. Владелец: Открытое акционерное общество "Электростальский химико-механический завод" (ОАО "ЭХМЗ"). Дата публикации: 2013-08-10.

Method of masking and improving operability and survivability of mobile intercontinental ballistic missiles

Номер патента: RU2413160C2. Автор: Борис Андреевич Адамович,Ахмед-Гири Баматгиреевич Дербичев. Владелец: Ахмед-Гири Баматгиреевич Дербичев. Дата публикации: 2011-02-27.

Improvements in or relating to Masks and the like for Photographic Printing Processes.

Номер патента: GB190605670A. Автор: . Владелец: LEIPZIGER BUCHBINDEREI ACTIEN. Дата публикации: 1906-07-19.

A steel sheet for a shadow mask, a shadow mask and a picture tube

Номер патента: MY121718A. Автор: Akira Ikeda,Hironao Okayama,Tsuneyuki Ide,Hiroaki Ikenaga,Yasuo Tahara,Hiroshi Fujishige,Susumu Shigemasa. Владелец: Toyo Kohan Co Ltd. Дата публикации: 2006-02-28.

Pm mask and inhalation or nebulization device

Номер патента: WO2020190159A2. Автор: Jan WIŚNIEWSKI. Владелец: WISNIEWSKI Jan. Дата публикации: 2020-09-24.

Tv picture signal masking and unmasking device

Номер патента: RU2014746C1. Автор: Н.А. Семенов,В.М. Жестков,О.В. Андреев,Н.Н. Абжирко,В.А. Акимов,В.А. Ковнисаренко,Л.С. Поляков,Ю.А. Хромихин,С.С. Трошин,Ю.С. Шачнев,В.И. Шлыков. Владелец: Абжирко Николай Николаевич. Дата публикации: 1994-06-15.

Method of treating anterior occlusion in patients aged 6-12 years old by means of facial mask and i.a. postnikov's appliance

Номер патента: RU2546403C1. Автор: Дмитрий Александрович Трунин,Михаил Александрович Постников,Наталья Владимировна Панкратова,Леонид Семёнович Персин,Сергей Алексеевич Останков. Владелец: Михаил Александрович Постников. Дата публикации: 2015-04-10.

X-ray mask and method of its fabrication

Номер патента: RU2546989C2. Автор: Александр Николаевич Генцелев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт ядерной физики им. Г.И. Будкера Сибирского отделения РАН (ИЯФ СО РАН). Дата публикации: 2015-04-10.

MASK AND HEADGEAR CONNECTOR

Номер патента: US20120204869A1. Автор: . Владелец: RESMED LIMITED. Дата публикации: 2012-08-16.

Mask structure for combining phase shift mask and traditional mask on one substrate

Номер патента: TW442705B. Автор: Jia-Huei Lin,San-De Tz. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2001-06-23.

Mask original plate used for producing shadow mask and method of producing shadow mask

Номер патента: JPS53110364A. Автор: Tsuneharu Yamada. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 1978-09-27.

A detachable and disposable mask and its disposable mask body

Номер патента: TW200733996A. Автор: Jun-Liang Qiu. Владелец: Jun-Liang Qiu. Дата публикации: 2007-09-16.

Device for adjusting length of tightening string of mask and mask

Номер патента: TW201143851A. Автор: Katsuya Yoshii. Владелец: Midori Anzen Co Ltd. Дата публикации: 2011-12-16.

Method of making shells of dust half-masks and half-mask shell obtained thereby

Номер патента: PL288841A1. Автор: Jacek Krzyzanowski,Miroslaw Jablonski,Ireneusz Kubacki. Владелец: Ireneusz Kubacki. Дата публикации: 1992-07-27.

Mask and production method therefor, optical element and production method therefor, and illuminating opticdal device provided with the optical element and exposure system

Номер патента: AU2002308941A1. Автор: Akihiro Goto. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-11-25.

CPAP mask, NPPV mask with notches or holes for attaching non-woven fabric with water absorption and water retention, and CPAP mask and NPPV mask with non-woven fabric with water absorption and water retention

Номер патента: JP6952642B2. Автор: 高司 澤口. Владелец: 高司 澤口. Дата публикации: 2021-10-20.

A nasal mask and mask cushion therefor

Номер патента: CA2470671A1. Автор: Philip Rodney Kwok,Robert Edward Styles. Владелец: Robert Edward Styles. Дата публикации: 1998-02-05.

Process of providing UV radiation protection and cosmetic aesthetic to face visor and professional face masks and covering

Номер патента: GB202016926D0. Автор: . Владелец: POURTAYMOUR SEPANDAT. Дата публикации: 2020-12-09.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.