Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

Mask and pattern forming method

Номер патента: US09881808B2
Опубликовано: 30-01-2018
Автор(ы): SATOSHI Tanaka, Takashi Sato
Принадлежит: Toshiba Memory Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Method for fabricating mask and device isolation film

Номер патента: US20080032210A1. Автор: Jae-Young Choi. Владелец: Dongbu HitekCo Ltd. Дата публикации: 2008-02-07.

Method for fabricating semiconductor device, pattern writing apparatus, recording medium recording program, and pattern transfer apparatus

Номер патента: US20170068172A1. Автор: Takayuki Abe. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-03-09.

Method for fabricating semiconductor device, pattern writing apparatus, recording medium recording program, and pattern transfer apparatus

Номер патента: US10884336B2. Автор: Takayuki Abe. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2021-01-05.

Method for fabricating semiconductor device, pattern writing apparatus, recording medium recording program, and pattern transfer apparatus

Номер патента: US20150309412A1. Автор: Takayuki Abe. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-10-29.

Method for fabricating semiconductor device, pattern writing apparatus, recording medium recording program, and pattern transfer apparatus

Номер патента: US9122176B2. Автор: Takayuki Abe. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-09-01.

Patterns forming method

Номер патента: US09929019B2. Автор: Kuo-Yao Chou. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2018-03-27.

Pattern forming method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20160079076A1. Автор: Hiroshi Yamamoto,Mitsuhiro Omura,Tsubasa IMAMURA. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-03-17.

Composition for forming organic film, method for forming organic film, and patterning process

Номер патента: EP4451062A2. Автор: Yasuyuki Yamamoto,Daisuke Kori,Tomohiro Imata. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-23.

Composition for forming organic film, method for forming organic film, and patterning process

Номер патента: EP4451062A3. Автор: Yasuyuki Yamamoto,Daisuke Kori,Tomohiro Imata. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-30.

Composition For Forming Organic Film, Method For Forming Organic Film, And Patterning Process

Номер патента: US20240355632A1. Автор: Yasuyuki Yamamoto,Daisuke Kori,Tomohiro Imata. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Patterns forming method

Номер патента: US20170294317A1. Автор: Kuo-Yao Chou. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2017-10-12.

Pattern forming method

Номер патента: US20170184958A1. Автор: Koji Matsuo,Daisuke Kawamura,Masanobu Baba,Taishi ISHIKURA,Tatsuro SHINOZAKI. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-06-29.

Pattern forming method

Номер патента: US09880464B2. Автор: Koji Matsuo,Daisuke Kawamura,Masanobu Baba,Taishi ISHIKURA,Tatsuro SHINOZAKI. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2018-01-30.

Pattern forming method

Номер патента: US20160071740A1. Автор: Yoshihiro Naka,Katsuyoshi Kodera. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-03-10.

Pattern forming method, resist pattern formed by the method, method for manufacturing electronic device using the same, and electronic device

Номер патента: US9448482B2. Автор: Kaoru Iwato,Hiroo Takizawa,Takanobu Takeda. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-09-20.

Method of high-density pattern forming

Номер патента: US20220344157A1. Автор: Chen En Wu. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2022-10-27.

Method of high-density pattern forming

Номер патента: US11929255B2. Автор: Chen En Wu. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2024-03-12.

Pattern forming method, semiconductor device manufacturing method, and pattern forming apparatus

Номер патента: US20230298888A1. Автор: Satoshi MITSUGI. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-09-21.

Solvent removal of photoresist mask and gold impregnated residue and process

Номер патента: US20070093061A1. Автор: John Moore. Владелец: General Chemical Performance Products LLC. Дата публикации: 2007-04-26.

Process for preparing of semiconductor device and pattern-forming coating solution used for this process

Номер патента: US5087551A. Автор: Satoshi Takechi,Yuko Nakamura. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1992-02-11.

Pattern forming method, combined processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US20230089980A1. Автор: Noriko Sakurai,Kosuke TAKAI. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-03-23.

Photo mask and semiconductor device fabricated using the same

Номер патента: US20060118838A1. Автор: Sang Bae. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2006-06-08.

Photo mask and semiconductor device fabricated using the same

Номер патента: US7755149B2. Автор: Sang Man Bae. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2010-07-13.

Pattern-forming method

Номер патента: US20170003592A1. Автор: Junya Suzuki,Hiromitsu Tanaka,Masayoshi Ishikawa,Yoshio Takimoto,Tomoaki Seko,Tomoharu KAWAZU. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-01-05.

Fine pattern forming method

Номер патента: US20060204899A1. Автор: Akitaka Shimizu,Masato Kushibiki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-09-14.

Pattern forming method

Номер патента: US20150079794A1. Автор: Hiroki Tanaka,Naoko Kihara,Ryosuke Yamamoto. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2015-03-19.

Method of designing a mask and method of manufacturing a semiconductor device using the same

Номер патента: US20210018830A1. Автор: Kyungjae Park,Moojoon SHIN,Jongsu Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-01-21.

Identification information acquisition method, pattern forming method, semiconductor manufacturing facility operation method, processing apparatus, and pattern forming apparatus

Номер патента: US20240213176A1. Автор: Yoshihito Tada. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

Gap filling composition and pattern forming method using composition containing polymer

Номер патента: US20200319556A1. Автор: Tatsuro Nagahara,Xiaowei Wang. Владелец: AZ Electronic Materials SARL. Дата публикации: 2020-10-08.

Assistant pattern configuration method, mask and forming method thereof, and related device

Номер патента: US11307502B2. Автор: YAO Xu,Feng Bai,Fan Zhang,Yibin HUANG,Wanjuan Zhang. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2022-04-19.

Assistant pattern configuration method, mask and forming method thereof, and related device

Номер патента: US20210271176A1. Автор: YAO Xu,Feng Bai,Fan Zhang,Yibin HUANG,Wanjuan Zhang. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2021-09-02.

Chemical liquid, chemical liquid storage body, and pattern forming method

Номер патента: US20190346764A1. Автор: Tetsuya Kamimura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-11-14.

Pattern forming material and pattern forming method

Номер патента: US20010036599A1. Автор: Masayuki Endo,Takahiro Matsuo,Masahiro Tsunooka,Masamitsu Shiri. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2001-11-01.

Patterning A Single Integrated Circuit Layer Using Automatically-Generated Masks And Multiple Masking Layers

Номер патента: US20130171548A1. Автор: Tsu-Jae King Liu. Владелец: Synopsys Inc. Дата публикации: 2013-07-04.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and resist film and pattern forming method using the same

Номер патента: US20120301831A1. Автор: Toru Fujimori,Kana Fujii,Takamitsu Tomica. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2012-11-29.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and resist film and pattern forming method using the same

Номер патента: EP2545412A1. Автор: Takamitsu Tomiga,Toru Fujimori,Kana Fujii. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2013-01-16.

Patterning a single integrated circuit layer using automatically-generated masks and multiple masking layers

Номер патента: EP2430650A1. Автор: Tsu-Jae King Liu. Владелец: Synopsys Inc. Дата публикации: 2012-03-21.

Phase shift mask and method of forming patterns using the same

Номер патента: US09977324B2. Автор: DongEon Lee,Jinho JU,Junhyuk Woo,Min Kang,Yong Son,Hyunjoo Lee,Bong Yeon Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-22.

Phase shift mask and method of forming patterns using the same

Номер патента: US09632438B2. Автор: DongEon Lee,Jinho JU,Junhyuk Woo,Min Kang,Yong Son,Hyunjoo Lee,Bong Yeon Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-25.

Reflective mask blank, reflective mask and manufacturing method thereof, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US12111566B2. Автор: Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-10-08.

Reflection-type mask blank, reflection-type mask, method for manufacturing reflection-type mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240160095A1. Автор: Masanori Nakagawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-05-16.

Silicon-containing film, resin composition, and pattern formation method

Номер патента: US8791020B2. Автор: Yoshikazu Yamaguchi,Masato Tanaka,Yukio Nishimura,Takashi Mori. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-07-29.

Substrate equipped with multi-layer reflection film, reflection-type mask blank, reflection-type mask, and semiconductor device manufacturing process

Номер патента: US20200310239A1. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2020-10-01.

Rinsing liquid and pattern forming method

Номер патента: US20230132693A1. Автор: Satomi Takahashi,Toru Tsuchihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-05-04.

Pattern forming method

Номер патента: US9437477B1. Автор: Makoto Aida. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-09-06.

Exposure pattern forming method and exposure pattern

Номер патента: US20050174557A1. Автор: Kazuhisa Ogawa,Hidetoshi Ohnuma. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2005-08-11.

Multiple-pattern forming methods

Номер патента: US09753370B2. Автор: Phillip D. Hustad,Shintaro Yamada,Cong Liu,Cheng-Bai Xu,James C. Taylor,Jung Woo Kim,Choong-Bong LEE,Chang-Young Hong,Lori Anne Joesten. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd. Дата публикации: 2017-09-05.

Pattern forming method, template manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20230420291A1. Автор: Masatoshi Terayama. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-12-28.

Pattern forming method for forming a pattern

Номер патента: US10317797B2. Автор: Takehiro Seshimo,Kenichi Oyama,Hidetami Yaegashi,Yoshitaka Komuro,Katsumi Ohmori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-06-11.

Pattern forming method

Номер патента: US20170068162A1. Автор: Yusuke KASAHARA. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-03-09.

Pattern forming method and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US09897918B2. Автор: Shinichi Ito,Hirokazu Kato,Tomoyuki Takeishi. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2018-02-20.

Pattern forming method

Номер патента: US09696628B2. Автор: Hideki Kanai,Yusuke KASAHARA. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-07-04.

Pattern-forming method

Номер патента: US09847232B1. Автор: Kristin Schmidt,Chi-chun Liu,Hitoshi Osaki. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-12-19.

Reflective mask blank, reflective mask, method for manufacturing reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240142866A1. Автор: Masanori Nakagawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-05-02.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US20150050600A9. Автор: Hiromitsu Tanaka,Hirokazu Sakakibara,Takashi Mori,Kazunori Takanashi,Yusuke Anno,Taiichi Furukawa,Shin-ya MINEGISHI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2015-02-19.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US20170322492A1. Автор: Hiromitsu Tanaka,Hirokazu Sakakibara,Takashi Mori,Kazunori Takanashi,Yusuke Anno,Taiichi Furukawa,Shin-ya MINEGISHI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-11-09.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US20140134544A1. Автор: Hiromitsu Tanaka,Hirokazu Sakakibara,Takashi Mori,Kazunori Takanashi,Yusuke Anno,Taiichi Furukawa,Shin-ya MINEGISHI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-05-15.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US20160320705A1. Автор: Hiromitsu Tanaka,Hirokazu Sakakibara,Takashi Mori,Kazunori Takanashi,Yusuke Anno,Taiichi Furukawa,Shin-ya MINEGISHI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-11-03.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US20160097978A1. Автор: Hiromitsu Tanaka,Hirokazu Sakakibara,Takashi Mori,Kazunori Takanashi,Yusuke Anno,Taiichi Furukawa,Shin-ya MINEGISHI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-04-07.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US20150160556A1. Автор: Hiromitsu Tanaka,Hirokazu Sakakibara,Takashi Mori,Kazunori Takanashi,Yusuke Anno,Taiichi Furukawa,Shin-ya MINEGISHI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2015-06-11.

Pattern forming method

Номер патента: US20100021850A1. Автор: Hiroko Nakamura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-01-28.

Photo mask and method for manufacturing same

Номер патента: US5725973A. Автор: Woo-Sung Han,Chang-Jin Sohn. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 1998-03-10.

Reflective mask blank, reflective mask and manufacturing method thereof, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US11815806B2. Автор: Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2023-11-14.

Reflective mask blank, reflective mask and manufacturing method thereof, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20240036457A1. Автор: Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-02-01.

Reflective mask blank, reflective mask and manufacturing method thereof, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20230168575A1. Автор: Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2023-06-01.

Exposure pattern forming method and exposure pattern

Номер патента: US20050204330A1. Автор: Kazuhisa Ogawa,Hidetoshi Ohnuma. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2005-09-15.

Mask and method for manufacturing the same

Номер патента: CA2116805C. Автор: Woo-Sung Han,Chang-Jin Sohn. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2006-01-10.

Phase shift mask and method for repairing a defect of a phase shift mask

Номер патента: US5464713A. Автор: Nobuyuki Yoshioka,Junji Miyazaki,Kunihiro Hosono. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 1995-11-07.

Pattern forming method

Номер патента: US09659816B2. Автор: Koji Asakawa,Atsushi Hieno. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-05-23.

Photo-mask and semiconductor process

Номер патента: US11662658B2. Автор: You-Ming KE. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2023-05-30.

Substrate with multilayer reflective film, reflective mask blank, reflective mask, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20200249558A1. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Tsutomu Shoki. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2020-08-06.

Resist pattern-forming method and substrate-treating method

Номер патента: US20200218161A1. Автор: Ryuichi Serizawa,Tomoaki Seko,Nozomi SATOU,Yuusuke OOTSUBO,Tomoya TAJI,Souta NISHIMURA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-07-09.

Undercoating layer material for lithography and wiring forming method using the same

Номер патента: US20050112383A1. Автор: Takeshi Tanaka,Yoshio Hagiwara. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2005-05-26.

Mask and manufacturing method thereof

Номер патента: US20200272046A1. Автор: En-Tsung Cho. Владелец: Chongqing HKC Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-08-27.

Pattern forming method, method for producing electronic device, and kit

Номер патента: US20230333478A1. Автор: Tetsuya Kamimura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-10-19.

Pattern forming method

Номер патента: US10366888B2. Автор: Kazuki Yamada,Takehiro Seshimo,Masatoshi Yamato,Hidetami Yaegashi,Yoshitaka Komuro,Katsumi Ohmori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-07-30.

Pattern forming method and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20220179312A1. Автор: Toru Tsuchihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-06-09.

Pattern forming method

Номер патента: US20170076940A1. Автор: Hideki Kanai,Yusuke KASAHARA. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-03-16.

Pattern forming method

Номер патента: US4824766A. Автор: Kazufumi Ogawa. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1989-04-25.

Film deposition apparatus for fine pattern forming

Номер патента: US11404271B2. Автор: Shigeru Nakajima,Kazuhide Hasebe,Hiroki Murakami,Jun Ogawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-08-02.

Film deposition apparatus for fine pattern forming

Номер патента: US11881379B2. Автор: Shigeru Nakajima,Kazuhide Hasebe,Hiroki Murakami,Jun Ogawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-23.

Film deposition apparatus for fine pattern forming

Номер патента: US20240096595A1. Автор: Shigeru Nakajima,Kazuhide Hasebe,Hiroki Murakami,Jun Ogawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Pattern forming method, imprint apparatus, and article manufacturing method

Номер патента: US11840010B2. Автор: Ryohei Suzuki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-12-12.

Pattern forming method

Номер патента: US9412618B2. Автор: Eiichi Nishimura,Fumiko Yamashita,Shinya Morikita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-08-09.

Pattern forming method and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11798806B2. Автор: Yusuke KASAHARA. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-10-24.

Pattern forming method and methods for manufacturing processed substrate, optical component and quartz mold replica as well as coating material for imprint pretreatment and set thereof with imprint resist

Номер патента: US20190391484A1. Автор: Keiko Chiba,Weijun Liu,Toshiki Ito,Toshiaki Ando,Shingo Ishida,Timothy Brian Stachowiak. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-12-26.

Pattern forming method

Номер патента: US20160042970A1. Автор: Eiichi Nishimura,Fumiko Yamashita,Shinya Morikita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-02-11.

Pattern forming method, semiconductor device manufacturing method, and template

Номер патента: US20230408935A1. Автор: Anupam Mitra. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-12-21.

Pattern-forming method

Номер патента: US20190259606A1. Автор: Shinichi Ito,Ryuichi Saito,Ryoichi Suzuki,Seiji Morita,Soichi Inoue,Ryosuke Yamamoto,Takeharu Motokawa. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2019-08-22.

Pattern-forming method and composition for resist pattern-refinement

Номер патента: US20160291462A1. Автор: Ken Maruyama,Yusuke Anno,Kanako MEYA,Shuto MORI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-10-06.

Pattern-forming method

Номер патента: US10811252B2. Автор: Shinichi Ito,Ryuichi Saito,Ryoichi Suzuki,Seiji Morita,Soichi Inoue,Ryosuke Yamamoto,Takeharu Motokawa. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2020-10-20.

Pattern forming method, manufacturing method of semiconductor device, and semiconductor device

Номер патента: US20240096644A1. Автор: Katsuyoshi Kodera,Koki Ueha. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

Pattern forming method by imparting hydrogen atoms and selectively depositing metal film

Номер патента: US5861233A. Автор: Yasuhiro Sekine,Hiroshi Yuzurihara,Genzo Momma. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1999-01-19.

Pattern forming method

Номер патента: US10018915B2. Автор: Shinichi Ito,Ryoichi Suzuki,Seiji Morita,Kazuto Matsuki. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2018-07-10.

Organic solvent development or multiple development pattern-forming method using electron beams or EUV rays

Номер патента: US8546063B2. Автор: Hideaki Tsubaki,Koji Shirakawa,Toru Tsuchihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2013-10-01.

Chemical liquid, pattern forming method, and kit

Номер патента: US20190258165A1. Автор: Takashi Nakamura,Tetsuya Kamimura,Satomi Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-08-22.

Pattern forming method

Номер патента: US20170178896A1. Автор: Shinichi Ito,Ryoichi Suzuki,Seiji Morita,Kazuto Matsuki. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-06-22.

Pattern-forming method

Номер патента: US20170184960A1. Автор: Hisashi Nakagawa,Takehiko Naruoka,Tomohisa Fujisawa,Motohiro SHIRATANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-06-29.

Pattern-forming method

Номер патента: US20180017864A9. Автор: Hisashi Nakagawa,Takehiko Naruoka,Tomohisa Fujisawa,Motohiro SHIRATANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2018-01-18.

Forming method, forming apparatus, and article manufacturing method

Номер патента: US20230271356A1. Автор: Takahiro Sato. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-08-31.

Mark forming method, mark detecting method, and device manufacturing method

Номер патента: US09972574B2. Автор: Yuji Shiba. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-05-15.

Pattern forming method using resist underlayer film

Номер патента: US09793131B2. Автор: Shigeo Kimura,Hiroto Ogata,Yuki Usui,Tomoya Ohashi. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2017-10-17.

Photo mask and exposure system

Номер патента: US09978595B2. Автор: ZHENRUI Fan,Seungmin Lee,Wenxuan Zhang. Владелец: Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-22.

Treatment liquid and pattern forming method

Номер патента: US20180217503A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Kei Yamamoto,Toru Tsuchihashi,Wataru Nihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-08-02.

Treatment liquid and pattern forming method

Номер патента: US20210200097A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Kei Yamamoto,Toru Tsuchihashi,Wataru Nihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-07-01.

Treatment liquid and pattern forming method

Номер патента: US20180217499A1. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Kei Yamamoto,Toru Tsuchihashi,Wataru Nihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-08-02.

Pattern forming method and pattern forming apparatus

Номер патента: US20140300018A1. Автор: Ikuo Yoneda. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2014-10-09.

Pattern forming method and pattern forming apparatus

Номер патента: US20160318234A1. Автор: Ikuo Yoneda. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-11-03.

Treatment liquid and pattern forming method

Номер патента: US20180101100A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Toru Tsuchihashi,Wataru Nihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-04-12.

Mask manufacturing apparatus and, manufacturing method of mask and, mask for lithography

Номер патента: US20180348651A1. Автор: In Ki Kim,Jun Suk RHO,Heon Yeong JEONG. Владелец: Academy Industry Foundation of POSTECH. Дата публикации: 2018-12-06.

Compensating Masks, Multi-Optical Systems Using the Masks, and Methods of Compensating for 3-D Mask Effect Using the Same

Номер патента: US20080106719A1. Автор: Young-Chang Kim,Han-ku Cho,Suk-joo Lee,Sung-Soo Suh,Sung-woo Lee,Yong-Jin Chun. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2008-05-08.

Compensating masks, multi-optical systems using the masks, and methods of compensating for 3-D mask effect using the same

Номер патента: US7940373B2. Автор: Young-Chang Kim,Han-ku Cho,Suk-joo Lee,Sung-Soo Suh,Sung-woo Lee,Yong-Jin Chun. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2011-05-10.

Mask and Reticle Protection with Atomic Layer Deposition (ALD)

Номер патента: US20220197131A1. Автор: Birol Kuyel. Владелец: Nano Master Inc. Дата публикации: 2022-06-23.

Method for preparing mask, mask and evaporation system

Номер патента: US20180196341A1. Автор: ZHEN Wang,Zhiming Lin. Владелец: Ordos Yuansheng Optoelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-12.

Method for preparing mask, mask and evaporation system

Номер патента: US10739672B2. Автор: ZHEN Wang,Zhiming Lin. Владелец: Ordos Yuansheng Optoelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2020-08-11.

Pattern forming method

Номер патента: US20040265745A1. Автор: Hirokazu Kato,Yasunobu Onishi,Tsuyoshi Shibata,Daisuke Kawamura,Koutaro Sho. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-12-30.

Selective stencil mask and a stencil printing method

Номер патента: US20240343055A1. Автор: KyoWang Koo,Hyunseok Park,SeongKuk Kim,SeokBeom HEO. Владелец: Stats Chippac Pte Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Deposition mask and method of manufacturing the deposition mask

Номер патента: US11345988B2. Автор: Hwi Kim,In Bae Kim,Kyu Hwan Hwang,Sung Soon Im. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-31.

Pattern forming method and pattern structural body

Номер патента: US20170168388A1. Автор: Masahiko Akiyama. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-06-15.

Pattern characteristic-detection apparatus for photomask and pattern characteristic-detection method for photomask

Номер патента: US09841385B2. Автор: Hiroyuki Ikeda,Eiji Sawa,Hiromu Inoue. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-12-12.

Composition for forming silicon-containing resist underlayer film and patterning process

Номер патента: US20200341377A1. Автор: Tsutomu Ogihara,Tsukasa Watanabe,Yusuke Biyajima,Masahiro Kanayama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-10-29.

Chemically amplified positive type photoresist composition and pattern forming method using the same

Номер патента: US20190339614A1. Автор: Masato Suzuki,Shunji Kawato,Tetsumasa TAKAICHI,Kazumichi Akashi. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2019-11-07.

Chemically amplified positive type photoresist composition and pattern forming method using the same

Номер патента: PH12019501406A1. Автор: Masato Suzuki,Shunji Kawato,Tetsumasa TAKAICHI,Kazumichi Akashi. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2020-06-08.

Chemically amplified positive type photoresist composition and pattern forming method using the same

Номер патента: EP3566098A1. Автор: Masato Suzuki,Shunji Kawato,Tetsumasa TAKAICHI,Kazumichi Akashi. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2019-11-13.

Method of patterning block copolymer layer and patterned structure

Номер патента: US20140193614A1. Автор: Haeng Deog Koh,Mi-Jeong Kim,In Taek Han,Youn Jung Park,Seong-Jun JEONG,June HUH. Владелец: University Industry Foundation UIF of Yonsei University. Дата публикации: 2014-07-10.

Method of patterning block copolymer layer and patterned structure

Номер патента: US9557639B2. Автор: Haeng Deog Koh,Mi-Jeong Kim,In Taek Han,Youn Jung Park,Seong-Jun JEONG,June HUH. Владелец: University Industry Foundation UIF of Yonsei University. Дата публикации: 2017-01-31.

Multilayer reflector and methods of manufacture and patterning

Номер патента: WO2021076854A1. Автор: Lei Zhong,Ho-Yung David Hwang. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-04-22.

Mask, method of providing mask, and method of providing display panel using the same

Номер патента: US20220165997A1. Автор: Seul LEE,Seungyong Song,Youngmin Moon,Minho Moon,Sungsoon Im,Ji-Hee Son. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-26.

Chemical liquid supply method and pattern forming method

Номер патента: US20230229078A1. Автор: Masahiro Yoshidome. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-07-20.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film using the composition and pattern forming method

Номер патента: EP2529276A1. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Takayuki Ito,Tadateru Yatsuo,Takeshi Inasaki,Koutarou Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2012-12-05.

Pattern forming method capable of minimizing deviation of an inversion pattern

Номер патента: US09887099B2. Автор: Hiroyuki Nagai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Contact exposure device provided with a mask and workpiece interval setting means

Номер патента: US6459474B1. Автор: Syoichi Okada. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2002-10-01.

Compound, pattern forming substrate, coupling agent, and pattern formation method

Номер патента: US20200148700A1. Автор: Kazuo Yamaguchi,Yusuke Kawakami. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2020-05-14.

Mask and fabrication method thereof, and method of patterning by using mask

Номер патента: US9488917B2. Автор: HONGLIANG Liu,Dawei Shi. Владелец: Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-08.

Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: WO2013081168A1. Автор: Sou Kamimura,Keita Kato,Hidenori Takahashi,Michihiro Shirakawa. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-06-06.

Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US9128376B2. Автор: Sou Kamimura,Keita Kato,Hidenori Takahashi,Michihiro Shirakawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-09-08.

Pattern forming method and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20240295822A1. Автор: Tetsuya Kamimura,Satoru Murayama,Tetsuya Shimizu. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-09-05.

Pattern forming method

Номер патента: US09891526B2. Автор: Toru Kimura,Yoshio Takimoto,Kazunori Takanashi,Shunsuke Kurita. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2018-02-13.

Pattern forming method, active light sensitive or radiation sensitive resin composition, resist film, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US09651863B2. Автор: Shuji Hirano,Hiroo Takizawa,Wataru Nihashi,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-05-16.

Lithography pattern forming method using self-organizing block copolymer

Номер патента: US09816004B2. Автор: Yusuke KASAHARA,Ayako KAWANISHI,Hiroki YONEMITSU. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2017-11-14.

Active-light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US09996003B2. Автор: Keita Kato,Michihiro Shirakawa,Akiyoshi Goto,Masafumi KOJIMA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-06-12.

Pattern layout and the forming method thereof

Номер патента: US20240040764A1. Автор: Yifei Yan. Владелец: Fujian Jinhua Integrated Circuit Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-01.

Pattern forming method and resist laminate for organic solvent development

Номер патента: US20210200098A1. Автор: Michihiro Shirakawa,Wataru Nihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-07-01.

Pattern forming method

Номер патента: US20170125262A1. Автор: Hiroyuki Nagai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-04.

Pattern-forming method

Номер патента: WO2013061601A1. Автор: Hiroki Nakagawa,Kentaro Harada,Hayato Namai,Takehiko Naruoka. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2013-05-02.

Semiconductor device manufacturing method and resist pattern forming method

Номер патента: US9437637B2. Автор: MASAHIKO KONDO,Nobutaka Ukigaya,Koji Hara,Satoshi Yoshizaki,Atsushi Kanome. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-09-06.

Pattern forming method

Номер патента: EP2413194A2. Автор: Hideaki Tsubaki,Shinichi Kanna. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2012-02-01.

Pattern-forming method and composition

Номер патента: US20170351174A1. Автор: Hitoshi Osaki. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-12-07.

Pattern forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet ray-sensitive resin composition, resist film, and method for manufacturing electronic device, and electronic device using the same

Номер патента: WO2014030723A1. Автор: Shuji Hirano,Hiroo Takizawa,Wataru Nihashi,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2014-02-27.

Pattern forming methods and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20140038318A1. Автор: Hironobu Sato. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2014-02-06.

Pattern forming method, active light sensitive or radiation sensitive resin composition, resist film, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US20160041465A1. Автор: Shuji Hirano,Hiroo Takizawa,Wataru Nihashi,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-02-11.

Pre-wet liquid, resist film forming method, pattern forming method, and kit

Номер патента: US20220197137A1. Автор: Satomi Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-06-23.

Pattern forming method, kit, and resist composition

Номер патента: US20230350290A1. Автор: Tetsuya Kamimura,Satomi Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-11-02.

Treatment liquid for manufacturing semiconductor, pattern forming method using the same, and method of manufacturing electronic device using the same

Номер патента: US20240103374A1. Автор: Tetsuya Kamimura,Tetsuya Shimizu. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-03-28.

Chemical liquid, chemical liquid storage body, pattern forming method, and kit

Номер патента: US11747727B2. Автор: Tetsuya Kamimura,Satomi Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-09-05.

Pattern forming method, processing method, and processing apparatus

Номер патента: US8420422B2. Автор: Masayuki Hatano,Masafumi Asano,Ryoichi Inanami. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2013-04-16.

Pattern layout and the forming method thereof

Номер патента: US11825641B2. Автор: Yifei Yan. Владелец: Fujian Jinhua Integrated Circuit Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-21.

Pattern forming method, processing method, and processing apparatus

Номер патента: US20110229988A1. Автор: Masayuki Hatano,Masafumi Asano,Ryoichi Inanami. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-09-22.

Structures and structure forming methods

Номер патента: US20020076620A1. Автор: James J. Alwan,David Wells,Eric J. Knappenberger,John Michiels. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-06-20.

Structures, lithographic mask forming solutions, mask forming methods, field emission display emitter mask forming methods, and methods of forming plural field emission display emitters

Номер патента: US20020006557A1. Автор: David Wells,Eric Knappenberger,James Alwan,John Michiels. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-01-17.

Pattern forming process and process for preparing semiconductor device utilizing said pattern forming process

Номер патента: US5344522A. Автор: Takayuki Yagi,Yasue Sato,Shinichi Kawate,Toshiyuki Komatsu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1994-09-06.

Resin composition, dry-etching resist mask, and patterning method

Номер патента: US09777079B2. Автор: Makoto Yada,Takeshi Ibe. Владелец: DIC Corp. Дата публикации: 2017-10-03.

Treatment liquid and pattern forming method

Номер патента: US20190258168A1. Автор: Tetsuya Kamimura,Michihiro Shirakawa,Tadashi OOMATSU. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-08-22.

Production of substrate with etching mask and making of article with pattern

Номер патента: RU2562923C2. Автор: Каку Шигета,Шинтаро Сугавара,Татсуо Шигета. Владелец: Тинк Лаборатори Ко., Лтд.. Дата публикации: 2015-09-10.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film and pattern forming method, each using the same

Номер патента: US20140295332A1. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-10-02.

Method of fabricating metal mask and metal mask

Номер патента: US20230067548A1. Автор: Yu-Wei Chang,Jen-Shun Lin,Yun-Pei Yang. Владелец: Darwin Precisions Corp. Дата публикации: 2023-03-02.

Semiconductor integrated circuit and pattern layouting method for the same

Номер патента: US20140035108A1. Автор: Kazuya Kamon. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2014-02-06.

Silicon-containing resist underlayer film-forming composition and patterning process

Номер патента: US20130137041A1. Автор: Tsutomu Ogihara,Fujio Yagihashi,Takafumi Ueda. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2013-05-30.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and pattern forming method using the same

Номер патента: WO2011002102A1. Автор: Toru Fujimori,Kana Fujii. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2011-01-06.

Composition for pattern formation, pattern-forming method, and block copolymer

Номер патента: US09738746B2. Автор: Tomoki Nagai,Hiroyuki Komatsu,Takehiko Naruoka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Pattern inspection apparatus and pattern inspection method

Номер патента: US20190346769A1. Автор: Hideaki Hashimoto,Ryoichi Hirano,Riki Ogawa,Masataka Shiratsuchi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-11-14.

Mask, method of producing mask, and method of producing semiconductor device

Номер патента: US20070054202A1. Автор: Shigeru Moriya,Shinji Omori. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2007-03-08.

Photocurable composition for imprints, pattern forming method, and method for manufacturing device

Номер патента: US20170285468A1. Автор: Hirotaka Kitagawa,Yuichiro Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-10-05.

Pattern forming material, composition for pattern formation, pattern forming method and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20200291155A1. Автор: Koji Asakawa,Shinobu Sugimura,Norikatsu Sasao. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2020-09-17.

Kit, composition for forming underlayer film for imprinting, pattern forming method, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20200373167A1. Автор: Yuichiro Goto,Akihiro HAKAMATA,Naoya SHIMOJU. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2020-11-26.

Pattern-forming method and composition

Номер патента: US20190235386A1. Автор: Masafumi Hori,Hiroyuki Komatsu,Tomohiro Oda,Takehiko Naruoka,Hitoshi Osaki. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2019-08-01.

Pattern forming method and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20180321589A1. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Akihiro Kaneko,Wataru Nihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-11-08.

Pattern-forming method, and composition

Номер патента: US20200357633A1. Автор: Masafumi Hori,Tomoki Nagai,Hiroyuki Komatsu,Tomohiro Oda,Takehiko Naruoka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-11-12.

Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using the same, and electronic device

Номер патента: US20150185610A1. Автор: Shuji Hirano,Hiroo Takizawa,Wataru Nihashi,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-07-02.

Pattern-forming method, and composition

Номер патента: US20180342387A1. Автор: Masafumi Hori,Tomoki Nagai,Hiroyuki Komatsu,Tomohiro Oda,Takehiko Naruoka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2018-11-29.

Pattern forming method, manufacturing method of circuit board, and laminate

Номер патента: US20230305403A1. Автор: Morimasa Sato,Soji Ishizaka,Akio Katayama. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-09-28.

Curable composition, pattern forming method, pattern, and method for manufacturing device

Номер патента: US20170190820A1. Автор: Hirotaka Kitagawa,Yuichiro Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-07-06.

Curable composition for imprinting, release agent, cured product, pattern forming method, and lithography method

Номер патента: US20210018833A1. Автор: Yuichiro Goto,Akihiro HAKAMATA,Naoya SHIMOJU. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-01-21.

Radiation-sensitive composition, optical filter, laminate, pattern forming method, solid image pickup element, image display device, and infrared sensor

Номер патента: US20180356575A1. Автор: Kazutaka Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-12-13.

Method for manufacturing shadow mask and shadow mask manufactured by said method

Номер патента: US5567555A. Автор: Osamu Nakamura,Takeshi Ikegami. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 1996-10-22.

Photo mask, method of manufacturing photo mask, and method of generating mask data

Номер патента: US7222327B2. Автор: Osamu Ikenaga,Tomohiro Tsutsui. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2007-05-22.

Pattern forming method and developer

Номер патента: US20200401043A1. Автор: Makoto Shimizu,Ryo Kawajiri,Noboru Ootsuka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-12-24.

Patterning method using metal mask and method of fabricating semiconductor device including the same patterning method

Номер патента: US9607853B2. Автор: Jae-Hong Park,Dong-Chan Kim,Kyung-yub Jeon,Je-woo Han,Gyung-Jin Min. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-03-28.

Pattern forming method

Номер патента: US20130078813A1. Автор: Yusuke Kawano,Tsuyoshi Chiba,Yuki Aritsuka. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2013-03-28.

Self-aligned two-time forming method capable of preventing sidewalls from being deformed

Номер патента: US11244833B1. Автор: Aimei Lin. Владелец: Shanghai Huali Microelectronics Corp. Дата публикации: 2022-02-08.

Oxide film removing method, oxide film removing apparatus, contact forming method, and contact forming system

Номер патента: US09984892B2. Автор: Takashi Kobayashi,Seishi Murakami,Takashi Sakuma,Akitaka Shimizu,Einosuke Tsuda,Masahiko Tomita,Takamichi Kikuchi,Takayuki Kamaishi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-29.

Pattern-forming method for forming a conductive circuit pattern

Номер патента: US09980393B2. Автор: Kwang-Seong Choi,Hyun-Cheol Bae,Yong Sung Eom,Jong Tae Moon,Jung Hyun Noh. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute ETRI. Дата публикации: 2018-05-22.

Pattern forming method and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20220084833A1. Автор: Hironobu Sato,Yoshihiro Naka. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2022-03-17.

Pattern forming method and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11024510B2. Автор: Tsubasa IMAMURA. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2021-06-01.

Self-aligned masks and methods of use

Номер патента: US20150054135A1. Автор: Paul S. Ho,Zhuojie Wu. Владелец: University of Texas System. Дата публикации: 2015-02-26.

Pattern forming method

Номер патента: US11776817B2. Автор: Shota ISHIBASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Pattern forming method

Номер патента: US20140094034A1. Автор: Kenichi Oyama,Hidetami Yaegashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-04-03.

Pattern forming method and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11996295B2. Автор: Hironobu Sato,Yoshihiro Naka. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-05-28.

Pattern forming method and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20210090893A1. Автор: Tsubasa IMAMURA. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2021-03-25.

Method of forming patterns, patterns formed according to the method, and semiconductor device including the patterns

Номер патента: US20180204730A1. Автор: Junyoung JANG,Jinwoo SEO,Jin-Hee Bae,Huichan Yun,Taeksoo Kwak,Kunbae Noh. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-19.

Pattern forming method, mold and data processing method

Номер патента: US8722535B2. Автор: Masafumi Asano. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2014-05-13.

Method of forming pattern, method of manufacturing semiconductor device, and pattern-forming material

Номер патента: US20210296116A1. Автор: Koji Asakawa,Shinobu Sugimura,Norikatsu Sasao. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2021-09-23.

Methods for forming pattern layout, mask, and semiconductor structure

Номер патента: US20230367946A1. Автор: Chun-Yen Lin,Bao-Ru Young,Tung-Heng Hsieh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Pattern forming method

Номер патента: US20130157437A1. Автор: Seiro Miyoshi,Koichi Matsuno,Yoshihiro Yanai. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2013-06-20.

Pattern forming method, mold and data processing method

Номер патента: US20130323925A1. Автор: Masafumi Asano. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2013-12-05.

Pattern forming method

Номер патента: US20140199852A1. Автор: Masahiro Kimura,Tomonori Umezaki,Akiou Kikuchi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2014-07-17.

Pattern forming method

Номер патента: EP1143506A3. Автор: Hiromu Ishii,Katsuyuki Machida,Kunio Saito,Tadao Nagatsuma,Shouji Yagi,Hakaru Kyuragi. Владелец: Nippon Telegraph and Telephone Corp. Дата публикации: 2004-02-25.

Method for producing a mask and the mask

Номер патента: US09946151B2. Автор: Seiji Fujino,Xiaohu Wang,Xiaolei ZHANG. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-17.

Method for producing a mask and the mask

Номер патента: US20170139315A1. Автор: Seiji Fujino,Xiaohu Wang,Xiaolei ZHANG. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-18.

Patterning material, patterning composition, and pattern forming method

Номер патента: US20240034930A1. Автор: Yu Zhang,Lei Zhang,Di Wang,Xiaofeng YI. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-01.

Pattern transfer device and pattern transfer method

Номер патента: US20120037018A1. Автор: Joo-Han Bae,Gug-Rae Jo,Min-Uk Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2012-02-16.

Etching pattern forming method in semiconductor manufacturing process

Номер патента: US12094719B2. Автор: Seung Hyun Lee,Su Jin Lee,Seung Hun Lee,Gi Hong Kim. Владелец: Youngchang Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Method of metal mask and manufacturing method of metal mask

Номер патента: US11709420B2. Автор: Jianpeng Wu,Zhongying Yang,Weiwei Ding,Chang Luo. Владелец: Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-25.

Design method of metal mask and manufacturing method of metal mask

Номер патента: US20210187576A1. Автор: Jianpeng Wu,Zhongying Yang,Weiwei Ding,Chang Luo. Владелец: Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-24.

Composition for forming silicon-containing resist underlayer film and patterning process

Номер патента: EP3686256A1. Автор: Tsutomu Ogihara,Masaki Ohashi,Tsukasa Watanabe,Yusuke Biyajima,Masahiro Kanayama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-29.

Defect removal device, defect removal method, pattern forming method, and method of manufacturing electronic device

Номер патента: US20230395366A1. Автор: Ryo Saito,Masahiro Yoshidome,Akihiko Ohtsu,Yukihisa KAWADA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-12-07.

Pattern forming method

Номер патента: EP4332677A1. Автор: Seiichiro Tachibana,Takeru Watanabe,Daisuke Kori,Takashi Sawamura. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-06.

Pattern Forming Method

Номер патента: US20240103365A1. Автор: Seiichiro Tachibana,Takeru Watanabe,Daisuke Kori,Takashi Sawamura. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-28.

Compound, polymer, pattern forming material, pattern forming method, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11796915B2. Автор: Koji Asakawa,Shinobu Sugimura,Norikatsu Sasao. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-10-24.

Compound, polymer, pattern forming material, pattern forming method, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240004298A1. Автор: Koji Asakawa,Shinobu Sugimura,Norikatsu Sasao. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-01-04.

Pattern forming method, under coating agent, and laminate

Номер патента: US20200048491A1. Автор: Kimiko Hattori,Kazuyo MORITA. Владелец: Oji Holdings Corp. Дата публикации: 2020-02-13.

Method for forming and patterning color centers

Номер патента: WO2020096839A1. Автор: Nicholas Alexander Melosh,Matthew A. GEBBIE,Patrick MCQUADE,Andrew E. GONZALEZ. Владелец: THE BOARD OF TRUSTEES OF THE LELAND STANFORD JUNIOR UNIVERSITY. Дата публикации: 2020-05-14.

Method for Forming and Patterning Color Centers

Номер патента: US20220002555A1. Автор: Nicholas Alexander Melosh,Matthew A. GEBBIE,Patrick MCQUADE,Andrew E. GONZALEZ. Владелец: Leland Stanford Junior University. Дата публикации: 2022-01-06.

Active light sensitive or radiation sensitive resin composition, active light sensitive or radiation sensitive film, pattern forming method, and method for producing electronic device

Номер патента: EP4039669A1. Автор: Toshiya Takahashi,Eiji Fukuzaki,Yasunori Yonekuta,Taro MIYOSHI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-08-10.

Pattern-forming composition, film, infrared cut filter, infrared transmitting filter, solid image pickup element, infrared sensor, and camera module

Номер патента: US20200218150A1. Автор: Kyohei Arayama. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2020-07-09.

Semiconductor apparatus, electronic device, and forming method for transistor

Номер патента: EP4273932A1. Автор: Zhengbo Wang,Weiliang JING,Kailiang HUANG,Junxiao FENG. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-08.

Film forming method and film forming apparatus

Номер патента: US20210380836A1. Автор: Takashi Namikawa,Takashi Fuse. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-12-09.

Methods of forming contact holes using pillar masks and mask bridges

Номер патента: US09875932B2. Автор: Nam-Gun Kim,Chan-Mi Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-01-23.

Method of forming a patterned hard mask and method of forming conductive lines

Номер патента: US20220139710A1. Автор: Chien-Chung Wang,Hsih-Yang Chiu. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2022-05-05.

Method of forming a patterned hard mask and method of forming conductive lines

Номер патента: US11424124B2. Автор: Chien-Chung Wang,Hsih-Yang Chiu. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2022-08-23.

Pattern-formed substrate, pattern-forming method, and die

Номер патента: US20080233361A1. Автор: Shingo Imanishi. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2008-09-25.

Method for generating mask data, mask and computer readable recording media

Номер патента: US20010039647A1. Автор: Katsumi Mori,Kei Kawahara,Yoshikazu Kasuya. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2001-11-08.

Methods of masking and etching a semiconductor substrate, and ion implant lithography methods of processing a semiconductor substrate

Номер патента: US20030096195A1. Автор: J. Rolfson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-05-22.

Pattern forming method, semiconductor device manufacturing apparatus and storage medium

Номер патента: US20090176374A1. Автор: Teruyuki Hayashi,Akitake Tamura,Kaoru Fujihara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-07-09.

Methods of forming oxide isolation regions for integrated circuits substrates using mask and spacer

Номер патента: US5940720A. Автор: Jun-Pyo Hong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 1999-08-17.

Self-Aligned Gate Hard Mask and Method Forming Same

Номер патента: US20200287042A1. Автор: Yen-Ming Chen,Sheng-Chen Wang,Sai-Hooi Yeong,Chi On Chui,Kai-Hsuan LEE,Bo-Yu Lai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-09-10.

Film forming method, computer storage medium, and film forming system

Номер патента: US09741559B2. Автор: Kousuke Yoshihara,Satoru Shimura,Fumiko Iwao. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-08-22.

Ion implant mask and cap for gallium arsenide structures

Номер патента: US4494997A. Автор: Zachary J. Lemnios,He B. Kim. Владелец: Westinghouse Electric Corp. Дата публикации: 1985-01-22.

Semiconductor structure and forming method thereof

Номер патента: US11769672B2. Автор: JISONG Jin. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2023-09-26.

Hole pattern forming method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20090093120A1. Автор: Toshiyuki Hirota. Владелец: Elpida Memory Inc. Дата публикации: 2009-04-09.

Pattern forming method, semiconductor device manufacturing apparatus and storage medium

Номер патента: US8008211B2. Автор: Teruyuki Hayashi,Akitake Tamura,Kaoru Fujihara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-08-30.

Pattern forming method

Номер патента: US20200294796A1. Автор: Tsukasa Azuma. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2020-09-17.

Pattern forming method

Номер патента: US10950439B2. Автор: Tsukasa Azuma. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2021-03-16.

Film forming method and patterning method

Номер патента: US20190074172A1. Автор: Taishi Ebisudani,Yoshio SUSA,Yuko KENGOYAMA. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2019-03-07.

Capacitors and forming method therefor, and dram unit

Номер патента: EP3910670A1. Автор: Chi-Wei DAI. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2021-11-17.

Film forming method, semiconductor device and manufacturing method of the same

Номер патента: US20020013068A1. Автор: Tomomi Suzuki,Kazuo Maeda,Youichi Yamamoto,Hiroshi Ikakura,Kouichi Ohira,Yoshimi Shioya,Yuichiro Kotake,Shoji Ohgawara. Владелец: Canon Marketing Japan Inc. Дата публикации: 2002-01-31.

Deposition mask and method of manufacturing the deposition mask

Номер патента: US20200208249A1. Автор: Hwi Kim,In Bae Kim,Kyu Hwan Hwang,Sung Soon Im. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-02.

Methods for manufacturing phase masks and lens-less camera module

Номер патента: US20230291986A1. Автор: Yu Jin Lee,Seung Ah Lee,Tae Young Kim,Jae Woo Jung,Kyung Chul Lee,Nak Kyu BAEK,Hye Suk CHAE. Владелец: University Industry Foundation UIF of Yonsei University. Дата публикации: 2023-09-14.

Pattern-forming method, and composition for forming resist underlayer film

Номер патента: US20120285929A1. Автор: Satoru Murakami,Yushi Matsumura,Yusuke Anno,Shinya Minegishi,Kyoyu Yasuda,Shinya NAKAFUJI,Kazuhiko KOMURA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-11-15.

Pattern-forming method, and composition for forming resist underlayer film

Номер патента: US20140371466A1. Автор: Satoru Murakami,Yushi Matsumura,Yusuke Anno,Shinya Minegishi,Kyoyu Yasuda,Shinya NAKAFUJI,Kazuhiko KOMURA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-12-18.

Graft pattern forming method and conductive pattern forming method

Номер патента: MY142216A. Автор: Koichi Kawamura,Yasuaki Matsushita. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2010-11-15.

Optical mask and MOPA laser apparatus including the same

Номер патента: US7599106B2. Автор: Osamu Matsumoto,Toshiyuki Kawashima,Tadashi Kanabe. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2009-10-06.

Mask, method of providing mask, and method of providing display panel using the same

Номер патента: US11825727B2. Автор: Seul LEE,Seungyong Song,Youngmin Moon,Minho Moon,Sungsoon Im,Ji-Hee Son. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-21.

Compound, pattern forming substrate, coupling agent, and pattern formation method

Номер патента: US11767327B2. Автор: Kazuo Yamaguchi,Yusuke Kawakami. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2023-09-26.

Pattern forming method, graft pattern material, conductive pattern forming method and conductive pattern material

Номер патента: US20050214693A1. Автор: Koichi Kawamura,Takeyoshi Kano. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2005-09-29.

Method for alignment employing film mask and aligner therefor

Номер патента: GB2271430A. Автор: Akira Nagai,Minoru Tanaka. Владелец: Adtec Engineering Co Ltd. Дата публикации: 1994-04-13.

Pattern transfer sheet, method of monitoring pattern transfer printing, and pattern transfer printing system

Номер патента: US12103276B2. Автор: Eyal Cohen,Amir Noy,Benny Naveh,Valery SORIN,Dor DROR. Владелец: Wuhan Dr Laser Technology Corp ltd. Дата публикации: 2024-10-01.

Dry film photoresist for forming a conformable mask and method of application to a printed circuit board or the like

Номер патента: US5213945A. Автор: James J. Briguglio,Fredrick J. Axon,Leo Roos. Владелец: Morton International LLC. Дата публикации: 1993-05-25.

Pattern transfer sheet, method of monitoring pattern transfer printing, and pattern transfer printing system

Номер патента: US20230019668A1. Автор: Eyal Cohen,Amir Noy,Benny Naveh,Valery SORIN,Dor DROR. Владелец: Wuhan DR Llaser Technology Corp Ltd. Дата публикации: 2023-01-19.

Graft pattern forming method and conductive pattern forming method

Номер патента: WO2006123834A3. Автор: Koichi Kawamura,Yasuaki Matsushita. Владелец: Yasuaki Matsushita. Дата публикации: 2007-04-19.

Pattern forming method, graft polymer-based pattern material, conductive pattern forming method and conductive pattern material

Номер патента: EP1580595A3. Автор: Takeyoshi c/o FUJI PHOTO FILM CO. LTD. KANO,Koichi C/O Fuji Photo Film Co. Ltd. Kawamura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-05-06.

Photosensitive composition, transfer film, pattern forming method, method for manufacturing circuit wiring, and method for manufacturing touch panel

Номер патента: US20240210828A1. Автор: Kunihiko Kodama,Keigo YAMAGUCHI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Pattern Forming Process

Номер патента: US20080113302A1. Автор: Masanobu Takashima,Hiromi Ishikawa,Yuji Shimoyama. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2008-05-15.

Article with curved patterns formed from aligned pigment flakes

Номер патента: RU2728839C2. Автор: Владимир П. РАКША,Пол Г. КУМБЗ,Джон Хайнс,Лоуренс ХОЛДЕН. Владелец: Виави Солюшнз Инк.. Дата публикации: 2020-07-31.

Article with bent patterns formed from aligned pigment flakes

Номер патента: RU2596942C2. Автор: Владимир П. РАКША,Пол Г. КУМБЗ,Джон Хайнс,Лоуренс ХОЛДЕН. Владелец: Джей Ди Эс ЮНИФЕЙЗ КОРПОРЕЙШН. Дата публикации: 2016-09-10.

Image forming apparatus and image forming method

Номер патента: EP4096205A1. Автор: Katsuhiko Maeda. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-30.

Pattern forming apparatus and manufacturing apparatus using the same

Номер патента: US20070166850A1. Автор: Tsutomu Tanaka,Yosuke Kobayashi,Fumitaka Takemura,Tomoe Yamazaki. Владелец: Future Vision Inc. Дата публикации: 2007-07-19.

Image forming apparatus and image forming method

Номер патента: US20160112580A1. Автор: Akira Yoshida,Tetsuya Muto,Shinichi Akatsu,Keita Gotoh,Yuuichiroh Uematsu. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2016-04-21.

Metal pattern forming method

Номер патента: US20070218695A1. Автор: Shinya Momose,Kazushige Hakeda. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2007-09-20.

Laminate, etching mask, method of producing laminate, method of producing etching mask, and method of producing thin film transistor

Номер патента: US20190088501A1. Автор: Satoshi Inoue,Tatsuya Shimoda,Kiyoshi Nishioka,Kazuhiro Fukada. Владелец: Sumitomo Seika Chemicals Co Ltd. Дата публикации: 2019-03-21.

Self-aligned metal oxide TFT with reduced number of masks and with reduced power consumption

Номер патента: US09614102B2. Автор: Chan-Long Shieh,Gang Yu,Fatt Foong. Владелец: CBRITE Inc. Дата публикации: 2017-04-04.

Selective deposition utilizing masks and directional plasma treatment

Номер патента: US09754791B2. Автор: YIN Fan,Srinivas D. Nemani,Ludovic Godet,Ellie Y. Yieh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-09-05.

Method for making narrow channel FET by masking and ion-implantation

Номер патента: US4145233A. Автор: Robert K. Jones,Stephen A. Sefick. Владелец: NCR Corp. Дата публикации: 1979-03-20.

Stencil mask and stencil printing method

Номер патента: US20230337369A1. Автор: KyoWang Koo,Kicheol Lee,BoLee LIM. Владелец: Stats Chippac Pte Ltd. Дата публикации: 2023-10-19.

Method for forming epitaxial source/drain features using a self-aligned mask and semiconductor devices fabricated thereof

Номер патента: US20230395433A1. Автор: Huang-Lin Chao,Yao-Sheng Huang,I-Ming Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Semiconductor structure and forming method thereof

Номер патента: US20210183706A1. Автор: HAIYANG Zhang,Zhuofan Chen. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2021-06-17.

Film forming apparatus and film forming method

Номер патента: US20210066067A1. Автор: Jun Ogawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Pattern forming material, pattern forming method, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20200006076A1. Автор: Koji Asakawa,Shinobu Sugimura,Norikatsu Sasao,Tomoaki Sawabe. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2020-01-02.

Pattern forming method and plasma processing method

Номер патента: EP4369381A1. Автор: Tatsuya Yamaguchi,Yoshiaki Shoji,Shin Oowada,Takanori Fukushima,Ryuichi Asako,Takashi Kajitani,Hibiki OGIWARA. Владелец: Tokyo Institute of Technology NUC. Дата публикации: 2024-05-15.

Film-forming material, film-forming composition, film-forming method using film-forming material and film-forming composition, and semiconductor device fabricated using film-forming method

Номер патента: US20240240318A1. Автор: Jong Moon Kim,Chang Bong Yeon,Jae Sun Jung,Kok Chew TAN. Владелец: Soulbrain Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Film-forming method, film-forming device, and crystalline oxide film

Номер патента: EP4407660A1. Автор: Takenori Watabe,Hiroshi Hashigami,Takahiro Sakatsume. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-31.

Film forming method and method of manufacturing thin film transistor

Номер патента: US09947550B2. Автор: Eiji Takahashi. Владелец: Nissin Electric Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-17.

Memory device, and semiconductor structure and forming method therefor

Номер патента: EP4199042A1. Автор: Shih-hung Lee. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2023-06-21.

Film forming method and substrate processing device

Номер патента: US20240274436A1. Автор: Keiichi Nagasaka,Toru Kitada,Shota ISHIBASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Adhesion removal method and film-forming method

Номер патента: US12116675B2. Автор: Yosuke TANIMOTO,Shimon Osada. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-10-15.

Semiconductor device and forming method thereof

Номер патента: US12125896B2. Автор: Yang Liu. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2024-10-22.

Silicon film forming method, thin film forming method and cross-sectional shape control method

Номер патента: US09758865B2. Автор: Mitsuhiro Okada,Hiroyuki Hayashi,Kazuya Takahashi,Kazuhide Hasebe,Katsuhiko Komori,Akinobu Kakimoto,Yoshikazu Furusawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-12.

Nitride layer forming methods

Номер патента: US20010025797A1. Автор: Rita Klein. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-10-04.

Nitride layer forming methods

Номер патента: EP1259984A2. Автор: Rita J. Klein. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-11-27.

Film-forming method, manufacturing method of electronic device, and plasma atomic layer deposition apparatus

Номер патента: US20200013593A1. Автор: Tatsuya Matsumoto,Keisuke Washio,Junichi Shida,Masao Nakata. Владелец: Japan Steel Works Ltd. Дата публикации: 2020-01-09.

Oxide semiconductor film and film-forming method the same, semiconductor apparatus

Номер патента: US20240234138A9. Автор: Takahiro Sakatsume. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Semiconductor structure and forming method thereof

Номер патента: US20240023317A1. Автор: Deyuan Xiao,GuangSu SHAO. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2024-01-18.

Forming method for floating contact hole, and semiconductor device

Номер патента: EP4401119A1. Автор: Song Zhang,Wenming Zhu,Qun Liu,Yaohui ZHOU,Dejin Wang. Владелец: CSMC Technologies Fab2 Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-17.

Semiconductor structure and forming method therefor

Номер патента: US20240172418A1. Автор: Boyong He,Wenyu HUA. Владелец: ICLeague Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Film forming method, film forming system and surface processing method

Номер патента: US20180037989A1. Автор: Tsuyoshi Takahashi,Kazuyoshi Yamazaki,Naotaka Noro,Miyako Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-08.

Mask and fabricating method thereof, and displaying base plate and fabricating method thereof

Номер патента: US20220149282A1. Автор: Pengcheng LU,Yunlong Li. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-12.

Vapor deposition mask, frame-equipped vapor deposition mask, and method for producing organic semiconductor element

Номер патента: US09806257B2. Автор: Hiroshi Kawasaki,Toshihiko Takeda,Katsunari Obata. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2017-10-31.

Screening nest, method of screening wiring layers in a multi-layer ceramic and cleaning the screening mask and mask cleaning station

Номер патента: US20060157085A1. Автор: Krystyna Semkow,Lester Herron,John Harmuth. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2006-07-20.

Mask, method of manufacturing a mask and method of manufacturing an OLED panel

Номер патента: US9437837B2. Автор: Jinchuan Li. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-06.

Electronic device having liquid crystal polymer solder mask and outer sealing layers, and associated methods

Номер патента: EP2664225A1. Автор: Louis Joseph Rendek, Jr.,Steven R. Snyder,Casey Philip Rodriguez. Владелец: HARRIS CORP. Дата публикации: 2013-11-20.

Electronic device having liquid crystal polymer solder mask and outer sealing layers, and associated methods

Номер патента: WO2012096764A1. Автор: Louis Joseph Rendek, Jr.,Steven R. Snyder,Casey Philip Rodriguez. Владелец: HARRIS CORPORATION. Дата публикации: 2012-07-19.

Method of making an electronic device having a thin film resistor formed on an LCP solder mask and related devices

Номер патента: US09795039B2. Автор: Louis Joseph Rendek, Jr.. Владелец: HARRIS CORP. Дата публикации: 2017-10-17.

Deposition mask and method of fabricating the same

Номер патента: US20170069843A1. Автор: Hoon Kang,Chong Sup Chang,Bum Soo KAM,Woo Seok JEON. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-09.

Laminate having organic mask and method for manufacturing organic electroluminescent device using same

Номер патента: US09722181B2. Автор: Minsoo Kang,Sehwan Son,Hyunsik Park. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Evaporation mask and evaporation method

Номер патента: US20200270741A1. Автор: FAN YANG,Kun Guo,Yinan LIANG. Владелец: Ordos Yuansheng Optoelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2020-08-27.

Method of making an electronic device having a liquid crystal polymer solder mask and related devices

Номер патента: US09763324B2. Автор: Louis Joseph Rendek, Jr.,Travis L. Kerby,Casey Philip Rodriguez. Владелец: HARRIS CORP. Дата публикации: 2017-09-12.

Pixel arrangement structure, vapor deposition mask and irregular-shaped display screen

Номер патента: US20200273925A1. Автор: Zhu Hui,Zhang Tingting,HU Siming,Wang Zhixiang. Владелец: Kunshan Govisionox Optoelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2020-08-27.

Film-forming method, manufacturing method of electronic device, and mask holder

Номер патента: US20200010949A1. Автор: Masaki Chiba,Keisuke Washio,Masao Nakata. Владелец: Japan Steel Works Ltd. Дата публикации: 2020-01-09.

Evaporation mask and manufacturing method thereof

Номер патента: US20200270740A1. Автор: Yinan LIANG,Fengli JI. Владелец: Ordos Yuansheng Optoelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2020-08-27.

Resistive random-access memory (rram) device and forming method thereof

Номер патента: US20220399495A1. Автор: Chuan-Fu Wang,Wen-Jen Wang,Chun-hung Cheng. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2022-12-15.

Mask and method of manufacturing mask assembly including the same

Номер патента: US20200206765A1. Автор: Min Ju Kim,Jung Woo Ko,Min Goo Kang,Su Cheol GONG,Taek Kyo Kang,Young Eun RYU,Jae Suk MOON,Soo Hyun MIN. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-02.

Deposition mask, method of manufacturing display device using the deposition mask, and display device

Номер патента: US20230232667A1. Автор: Youngmin Moon,Jeongkuk Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-20.

Pattern forming method and plasma processing method

Номер патента: US20240318014A1. Автор: Tatsuya Yamaguchi,Yoshiaki Shoji,Shin Oowada,Takanori Fukushima,Ryuichi Asako,Takashi Kajitani,Hibiki OGIWARA. Владелец: Tokyo Institute of Technology NUC. Дата публикации: 2024-09-26.

Donor mask and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus

Номер патента: US20150380650A1. Автор: Tae-Wook Kang. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2015-12-31.

Mask and manufacturing method thereof, evaporation method and display screen

Номер патента: US20200357998A1. Автор: Kuo Sun,Shanshan BAI,Dongmei Xie,Qiaonan HAN. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2020-11-12.

Pattern forming method and manufacturing method of solar battery

Номер патента: US20130309807A1. Автор: Shiro Sekino,Yoshinobu Hirokado. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2013-11-21.

Electrode forming method, capacitor element and fabricating method therefor

Номер патента: US20050104113A1. Автор: Takumi Mikawa,Hiroshige Hirano. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2005-05-19.

Semiconductor light-emitting device having a photonic crystal pattern formed thereon, and method for manufacturing same

Номер патента: US09806231B2. Автор: Taegeun Kim,Homyoung An,Jaein Sim. Владелец: Intellectual Discovery Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Pattern forming method, self-organization material, and method of manufacturing semiconductor apparatus

Номер патента: US20180076019A1. Автор: Seiji Morita,Masahiro Kanno,Yusuke KASAHARA. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2018-03-15.

Compound, polymer, pattern forming material, and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US11820840B2. Автор: Koji Asakawa,Shinobu Sugimura,Norikatsu Sasao. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-11-21.

Compound, polymer, pattern forming material, and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20230220130A1. Автор: Koji Asakawa,Shinobu Sugimura,Norikatsu Sasao. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-07-13.

Terminal, semiconductor device, terminal forming method and flip chip semiconductor device manufactrring method

Номер патента: US20030222326A1. Автор: Hideaki Sakaguchi,Mitsutoshi Higashi,Hiroko Koike. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2003-12-04.

Semiconductor structure and forming method thereof

Номер патента: US20230223369A1. Автор: Zengyan Fan. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2023-07-13.

Film forming method and film forming device

Номер патента: US20130323421A1. Автор: Koji Honma,Hitoshi Inuzuka. Владелец: SANKEI ENGR CO Ltd. Дата публикации: 2013-12-05.

Semiconductor device and forming method thereof

Номер патента: US20230301064A1. Автор: Deyuan Xiao,GuangSu SHAO,Youming Liu,Yunsong QIU. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2023-09-21.

Semiconductor structure and forming method thereof

Номер патента: US20210408006A1. Автор: Yong Lu. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2021-12-30.

Near field exposure mask, method of forming resist pattern using the mask, and method of producing device

Номер патента: US7968256B2. Автор: Toshiki Ito,Natsuhiko Mizutani,Akira Terao. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2011-06-28.

Near field exposure mask, method of forming resist pattern using the mask, and method of producing device

Номер патента: WO2008047733A1. Автор: Toshiki Ito,Natsuhiko Mizutani,Akira Terao. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2008-04-24.

Mask blank, transfer mask, method of manufacturing mask blank, method of manufacturing transfer mask and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20150293441A1. Автор: Hiroaki Shishido,Osamu Nozawa,Toshiharu Kikuchi,Atsushi Kominato. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2015-10-15.

Semiconductor device fabrication mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US20110053058A1. Автор: Haruko Akutsu,Kyo Otsubo,Makiko Katano,Ayako Mizuno. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-03-03.

Mask blank, transfer mask, method of manufacturing a mask blank, method of manufacturing a transfer mask and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US09625807B2. Автор: Hiroaki Shishido,Osamu Nozawa,Toshiharu Kikuchi,Atsushi Kominato. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-04-18.

Near-field exposure method and apparatus, near-field exposure mask, and device manufacturing method

Номер патента: WO2005015311A2. Автор: Natsuhiko Mizutani. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2005-02-17.

Mask and method for manufacturing display substrate

Номер патента: US20200073227A1. Автор: Yu Xiao,Dong Wang,Guohua Zhang,Yongzhi SONG,Jingyang Li. Владелец: Beijing BOE Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-03-05.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, resist-coated mask blank, photomask and pattern forming method, and method for producing electronic device using them, and electronic device

Номер патента: US9632410B2. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Shuhei Yamaguchi,Toru Tsuchihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-04-25.

Half tone mask and fabricating method

Номер патента: WO2010074481A3. Автор: Joo Hyun Hwang,Jin Ho HONG,Seung Ho Back,Seung Han Kang. Владелец: LG INNOTEK CO., LTD.. Дата публикации: 2010-09-16.

Mask and manufacturing method thereof as well as display device

Номер патента: US20200225513A1. Автор: WEI Xue,Ping Song,Hongmin Li,Zhifu Dong,Liqing LIAO. Владелец: Hefei BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-16.

Exposure mask, method of designing and manufacturing the same, exposure method and apparatus, pattern forming method, and device manufacturing method

Номер патента: EP1642171A1. Автор: Takako Yamaguchi,Yasuhisa Inao. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-04-05.

Method of designing an exposure mask, exposure method, pattern forming method and device manufacturing method

Номер патента: EP1642171B1. Автор: Takako Yamaguchi,Yasuhisa Inao. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2011-06-15.

Near-field exposure method and apparatus, near-field exposure mask, and device manufacturing method

Номер патента: US20060160036A1. Автор: Natsuhiko Mizutani. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-07-20.

Half tone mask and fabricating method

Номер патента: WO2010074481A2. Автор: Joo Hyun Hwang,Jin Ho HONG,Seung Ho Back,Seung Han Kang. Владелец: LG INNOTEK CO., LTD.. Дата публикации: 2010-07-01.

Intelligent mask, method, intelligent mask and device for calculation quantitative pollutant absorption amount

Номер патента: RU2665907C2. Автор: Хуаицзюнь ЛЮ,Тун ЧЖАО,Цюнь ТАО. Владелец: Сяоми Инк.. Дата публикации: 2018-09-04.

Systems and methods for masking and unmasking of sensitive data

Номер патента: EP3787217A1. Автор: Ashim Roy,Mayur JAIN,Shirish DAMLE,Anushka SHARMA. Владелец: Tata Consultancy Services Ltd. Дата публикации: 2021-03-03.

Phase shift mask blank, phase shift mask, and method for manufacturing phase shift mask

Номер патента: US20240302732A1. Автор: Kyoko Kuroki,Kazuaki Matsui,Yosuke Kojima. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2024-09-12.

Charged-particle optical systems and pattern transfer apparatus comprising same

Номер патента: US6060711A. Автор: Hiroyasu Shimizu. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-05-09.

One time cold-rolled steel strip for shadow mask and method of its manufacturing

Номер патента: RU2381294C2. Автор: Шуангцзиэ ЧУ,Цзун ЛИ,Ксиучжэн ЛИН,Рэнчжонг ЦЗИН,Хайлинг ГУАН,Цзианцинг ГОНГ. Владелец: Баошан Айрон Энд Стил Ко., Лтд. Дата публикации: 2010-02-10.

Identity anonymization with controlled masking and format preserving encryption

Номер патента: WO2024081096A1. Автор: Guillermo Paul PROANO. Владелец: Microsoft Technology Licensing, LLC. Дата публикации: 2024-04-18.

Mask blank, phase shift mask, and production method thereof

Номер патента: US09971238B2. Автор: Hiroshi Watanabe,Katsuya Hayano,Takashi Adachi,Ayako Tani,Yoichi Miura,Hideyoshi Takamizawa,Youhei Ohkawa. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2018-05-15.

Mask blank, phase shift mask, and method for producing semiconductor device

Номер патента: US20240337919A1. Автор: Hitoshi Maeda,Osamu Nozawa,Ryo Ohkubo,Kenta Tsukagoshi. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-10-10.

Pixel arrangement structure, metal mask and organic light-emitting display apparatus

Номер патента: US20240265860A1. Автор: Jun Hu,Wei SANG,Kaikai CHEN,Danfeng PU. Владелец: EverDisplay Optronics Shanghai Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Method for generating mask, and projection apparatus for performing the same

Номер патента: US20210377500A1. Автор: Chi-Wei Lin,Chien-Chun Peng,Hsun-Cheng Tu. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2021-12-02.

Mask blank, reflective mask, and method for producing semiconductor device

Номер патента: US20240184193A1. Автор: Takashi Uchida,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-06-06.

Phase-shift mask blank, phase-shift mask, method of manufacturing phase-shift mask, and method of modifying phase-shift mask

Номер патента: EP4307047A1. Автор: Kyoko Kuroki,Kazuaki Matsui,Yosuke Kojima. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2024-01-17.

Phase shift mask blank, phase shift mask, and method for manufacturing phase shift mask

Номер патента: EP4310591A1. Автор: Kyoko Kuroki,Kazuaki Matsui,Yosuke Kojima. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2024-01-24.

Phase shift mask blank, phase shift mask, method for manufacturing phase shift mask, and method for modifying phase shift mask

Номер патента: US20240152045A1. Автор: Kyoko Kuroki,Kazuaki Matsui,Yosuke Kojima. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2024-05-09.

Systems and methods for masking and unmasking of sensitive data

Номер патента: US20210064783A1. Автор: Ashim Roy,Mayur JAIN,Shirish DAMLE,Anushka SHARMA. Владелец: Tata Consultancy Services Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Head-mounted display system, method for adaptively adjusting hidden area mask, and computer program product

Номер патента: US20180336719A1. Автор: Jiun-Lin Chen. Владелец: HTC Corp. Дата публикации: 2018-11-22.

Anti-doming composition for a shadow-mask and processes for preparing the same

Номер патента: US6094003A. Автор: Dong Hee Han,Hwan Chul Rho,Sung-Hwan Moon,Jae Myung Kim. Владелец: Samsung Display Devices Co Ltd. Дата публикации: 2000-07-25.

Identity anonymization with controlled masking and format preserving encryption

Номер патента: US20240129316A1. Автор: Guillermo Paul PROANO. Владелец: Microsoft Technology Licensing LLC. Дата публикации: 2024-04-18.

Reflective mask blank, reflective mask and method of manufacturing the same, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11892768B2. Автор: Yohei IKEBE,Mizuki KATAOKA. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-02-06.

Pixel structure, mask and display device

Номер патента: EP3678183A1. Автор: Xin Ye,Jun Yu,Xiaoxu Hu. Владелец: Kunshan Govisionox Optoelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-08.

Method for Masking and/or Reducing Disturbing Noises or the Conspicuousness Thereof During Operation of a Motor Vehicle

Номер патента: US20190066653A1. Автор: Gerd Speidel,Michael Sturm,Thomas Alber. Владелец: Robert Bosch Automotive Steering GmbH. Дата публикации: 2019-02-28.

Method and apparatus for automating threat model generation and pattern identification

Номер патента: US09742794B2. Автор: Luis Felipe Cabrera,M. Shannon Lietz,Javier Godinez. Владелец: Intuit Inc. Дата публикации: 2017-08-22.

Reflective structure, reflective mask blank, reflective mask and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12025911B2. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Tsutomu Shoki. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-07-02.

Color picture tube having a tensioned mask and compliant support frame assembly

Номер патента: CA2189287C. Автор: Frank Rowland Ragland, Jr.. Владелец: Thomson Consumer Electronics Inc. Дата публикации: 2002-06-18.

System and method for cleaning surfaces and components of mask and wafer inspection systems based on the positive column of a glow discharge plasma

Номер патента: EP2834708A1. Автор: Garry Rose,Gildardo DELGADO. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2015-02-11.

System and method to match vectors using mask and count

Номер патента: US10339043B1. Автор: Michael J Miller. Владелец: Mosys Inc. Дата публикации: 2019-07-02.

Service performance manager with obligation-bound service level agreements and patterns for mitigation and autoprotection

Номер патента: RU2526711C2. Автор: Тхиерри СЧАНГ,Арун Л. КАТКЕРЕ,Аскуит А. БАИЛЕИ. Владелец: Тибко Софтвеар Инк.. Дата публикации: 2014-08-27.

Method of extracting windows executable file using hardware based on session matching and pattern matching and appratus using the same

Номер патента: US20100146621A1. Автор: Hyun Sook Cho,Jong Soo Jang,Byoung Koo Kim,Jin Tae Oh,Ik Kyun Kim,Seung Yong Yoon. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute ETRI. Дата публикации: 2010-06-10.

Methods and patterns of electric energy distribution in spd-loads

Номер патента: RU2384928C2. Автор: Алберт П. МАЛВИНО. Владелец: Ресерч Франтиерс Инк.. Дата публикации: 2010-03-20.

Combined spectroscopic reflectometry and pattern recognition based measurements of semiconductor structures

Номер патента: WO2024220227A1. Автор: David Y. Wang,Shankar Krishnan. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2024-10-24.

Combined Spectroscopic Reflectometry And Pattern Recognition Based Measurements Of Semiconductor Structures

Номер патента: US20240353321A1. Автор: David Y. Wang,Shankar Krishnan. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-10-24.

Broadband camouflage pattern forming device and operation method thereof

Номер патента: US20240338502A1. Автор: Doo-Hee Cho,Ji-Young Oh,Tae-Youb KIM,Chil Seong Ah,Juhyun Park. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute ETRI. Дата публикации: 2024-10-10.

Fast search method for vector quantizer communication and pattern recognition systems

Номер патента: US4907276A. Автор: Shabtai Aldersberg. Владелец: DSP Group Israel Ltd. Дата публикации: 1990-03-06.

Pattern forming method

Номер патента: US20120148959A1. Автор: Sang-Hee Lee,Jin Choi,Byung-gook Kim,Hee-Bom Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2012-06-14.

Deformation sensing flexible substrate using pattern formed of conductive material

Номер патента: US09699894B2. Автор: Kyu Jin Cho,Maenghyo Cho,Jong Gu Lee,Junghyun Ryu,Je Sung KOH. Владелец: SEOUL NATIONAL UNIVERSITY R&DB FOUNDATION. Дата публикации: 2017-07-04.

Cold Forming Method for Forming Power Pins and Power Pin Formed Thereof

Номер патента: US20160336675A1. Автор: Manzhi Zhou,Guangdong Song. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-11-17.

Cold forming method for forming power pins and power pin formed thereof

Номер патента: US09634419B2. Автор: Manzhi Zhou,Guangdong Song. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-04-25.

Device and method for pattern forming using inkjet printing

Номер патента: US20210309035A1. Автор: Bong Woo Lee. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-10-07.

Fuel cell electrode catalyst protective layer forming method

Номер патента: US12021245B2. Автор: Soo Kim,Jonathan MAILOA,Jake Christensen,Christina Johnston,Charles Tuffile. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2024-06-25.

Fuel cell electrode catalyst protective layer forming method

Номер патента: US20240072265A1. Автор: Soo Kim,Jonathan MAILOA,Jake Christensen,Christina Johnston,Charles Tuffile. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2024-02-29.

Electrode sheet forming method, manufacturing method for wound electrode assembly, and manufacturing method for laminated electrode assembly

Номер патента: US20240274777A1. Автор: Ying Zhao,Wenfa LIN,Jie YE. Владелец: Contemporary Amperex Technology Hong Kong Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Battery cushion and forming method thereof, and battery module and forming method thereof

Номер патента: US12051818B2. Автор: Guangjun Wang,Yonghuang YE,Shaojun Niu,Jiawel Zheng. Владелец: Contemporary Amperex Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Deformation sensing flexible substrate using pattern formed of conductive material

Номер патента: US20170048965A1. Автор: Kyu Jin Cho,Maenghyo Cho,Jong Gu Lee,Junghyun Ryu,Je Sung KOH. Владелец: SEOUL NATIONAL UNIVERSITY R&DB FOUNDATION. Дата публикации: 2017-02-16.

Charged particle beam pattern forming device and charged particle beam apparatus

Номер патента: US20230298848A1. Автор: Tomohiro Saito,Hiroko Nakamura,Yoshiaki Shimooka. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2023-09-21.

Circuit forming method and circuit forming device

Номер патента: EP4142436A1. Автор: Hironori Kondo,Kyosuke YAMAZAKI. Владелец: Fuji Corp. Дата публикации: 2023-03-01.

Image forming method and apparatus

Номер патента: US20100097637A1. Автор: Hwang-hyeon Gha. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2010-04-22.

Image forming method and apparatus

Номер патента: US8582146B2. Автор: Hwang-hyeon Gha. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2013-11-12.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern forming method, and photo mask

Номер патента: US12061418B2. Автор: Toshiya Takahashi,Hideyuki Ishihara. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-08-13.

Photo mask and method for controlling the same

Номер патента: US20050233225A1. Автор: Toshiaki Ibaragi. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2005-10-20.

Negative tone photosensitive composition for EUV light, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US11573491B2. Автор: Michihiro Shirakawa,Wataru Nihashi,Michihiro OGAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-02-07.

Positive resist composition and pattern forming method using the same

Номер патента: US7338744B2. Автор: Hideaki Tsubaki,Shinji Tarutani. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2008-03-04.

Mask blank, reflective mask, and method for producing semiconductor devices

Номер патента: US20240231216A1. Автор: Takuro Ono,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Crosslinking agent, negative resist composition, and pattern forming method using the negative resist composition

Номер патента: US8841059B2. Автор: Kenichi Okuyama,Yasunori Nagatsuka. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2014-09-23.

Resist composition and pattern forming method using the same

Номер патента: EP4394508A1. Автор: Yoonhyun Kwak,Kyuhyun IM,Youngmin Nam,Haengdeog Koh,Chanjae Ahn,Sungwon Choi,Sunghyun HAN,Changheon Lee,Mijeong Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-03.

Organometallic compound, resist composition including the same and pattern forming method using the same

Номер патента: US20240239820A1. Автор: Yoonhyun Kwak,Hasup LEE,Kyuhyun IM,Haengdeog Koh,Jaejun Lee,Sunghyun HAN,Sukkoo Hong,Mijeong Kim,Kyungoh KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-18.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film using the same and pattern forming method

Номер патента: EP2411873A1. Автор: Shuji Hirano,Toru Fujimori,Shinki Yamada,Kana Fuji. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2012-02-01.

Organometallic compound, resist composition including the same and pattern forming method using the same

Номер патента: EP4393925A1. Автор: Yoonhyun Kwak,Hasup LEE,Kyuhyun IM,Haengdeog Koh,Jaejun Lee,Sunghyun HAN,Sukkoo Hong,Mijeong Kim,Kyungoh KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-03.

Pattern transfer method and pattern transfer apparatus

Номер патента: US20070212488A1. Автор: Kenichi Murooka. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-09-13.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resing composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film using the composition, and pattern forming method

Номер патента: US20140170564A1. Автор: Akinori Shibuya,Tomoki Matsuda,Yoko TOKUGAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-06-19.

Titanocene based compound, photosensitive composition, photosensitive transfer sheet and pattern forming method

Номер патента: US20070212642A1. Автор: Takekatsu Sugiyama. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2007-09-13.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film using the same and pattern forming method

Номер патента: WO2010110472A1. Автор: Shuji Hirano,Toru Fujimori,Kana Fujii,Shinki Yamada. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2010-09-30.

Method and apparatus to facilitate separation of a mask and a mask platform

Номер патента: US20050088639A1. Автор: Sang Lee. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2005-04-28.

Positive resist composition, resin used for the positive resist composition, compound used for synthesis of the resin and pattern forming method using the positive resist composition

Номер патента: US09709891B2. Автор: Hiromi Kanda,Shinichi Kanna. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-07-18.

Reflective exposure mask, method of manufacturing reflective exposure mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20110117479A1. Автор: Takashi Kamo,Osamu Suga. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2011-05-19.

Image mask and image mask assembly

Номер патента: US20090269680A1. Автор: Michael Lucien GENIER,Jeffrey Mathew Clark,Windsor P. Thomas. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2009-10-29.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12105413B2. Автор: Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

Mask and device for managing the same

Номер патента: US6077632A. Автор: Hiroyuki Funatsu. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 2000-06-20.

Shadow mask and method of manufacturing blank mask using the same

Номер патента: US20230408903A1. Автор: Inkyun Shin,Sung Hoon Son,Min Gyo Jeong,GeonGon LEE,Seong Yoon Kim. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Merging a mask and a printing plate

Номер патента: EP1987399A2. Автор: Gregory Lloyd Zwadlo. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2008-11-05.

Merging a mask and a printing plate

Номер патента: WO2007106241A2. Автор: Gregory Lloyd Zwadlo. Владелец: EASTMAN KODAK COMPANY. Дата публикации: 2007-09-20.

Rinse solution for pattern formation and pattern forming process

Номер патента: US09798242B2. Автор: Tsutomu Ogihara,Jun Hatakeyama,Daisuke Kori. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Mask and blank storage inner gas

Номер патента: US20080206683A1. Автор: Cheng-Ming Lin,Chue San Yoo. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2008-08-28.

Large-area mask and exposure system having the same

Номер патента: US20050073664A1. Автор: Yong-Seok Park,Han-Beom Jo. Владелец: Display Manufacturing Services Co Ltd. Дата публикации: 2005-04-07.

Device with light-absorbing mask and method of its production

Номер патента: RU2344450C2. Автор: Марк В. МАЙЛЗ. Владелец: АйДиСи, ЭлЭлСи. Дата публикации: 2009-01-20.

Pattern forming method and pattern forming apparatus

Номер патента: US20160243753A1. Автор: Yoshihisa Kawamura,Masayuki Hatano. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-08-25.

Photoresist composition containing a protected hydroxyl group for negative development and pattern forming method using thereof

Номер патента: US20130288178A1. Автор: Kuang-Jung Chen,Wu-Song Huang,Wai-Kin Li. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2013-10-31.

Pattern forming method and pattern forming device

Номер патента: US20120049396A1. Автор: Osamu Ikenaga,Tomohiro Tsutsui,Ryoichi Inanami. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-03-01.

Photo mask and method for controlling the same

Номер патента: US7491473B2. Автор: Toshiaki Ibaragi. Владелец: Fujitsu Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2009-02-17.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20240310725A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Diffraction grating-fabricating phase mask, and its fabrication method

Номер патента: CA2657509C. Автор: Massaaki Kurihara,Toshikazu Segawa. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2012-01-03.

Diffraction grating-fabricating phase mask, and its fabrication method

Номер патента: CA2283403C. Автор: Masaaki Kurihara,Toshikazu Segawa. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2009-05-19.

Substrate with multilayer reflective film, reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240231214A9. Автор: Teiichiro Umezawa,Kota Suzuki. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Mask and method of fabricating spacers

Номер патента: US20150316797A1. Автор: Yue Li,Xiaochuan Chen,Hailin XUE,Chuncheng CHE,Wenbo Jiang. Владелец: Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2015-11-05.

Manufacturing method of pattern formed body and pattern formed body manufacturing apparatus

Номер патента: US20090168033A1. Автор: Takashi Sawada,Hironori Kobayashi,Kaori Yamashita. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-07-02.

Mask and method for forming the same

Номер патента: US20240045317A1. Автор: Hsin-Chang Lee,Pei-Cheng Hsu,Ta-Cheng Lien,Hung-Yi Tsai,Ping-Hsun LIN,Bo-Wei SHIH,Hsuan-I Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Surface-treating agent for pattern formation and pattern-forming method using the surface-treating agent

Номер патента: EP1975718A2. Автор: Hideaki Tsubaki,Wataru HOSHINO,Masahiro Yoshidome. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2008-10-01.

Pattern forming contrast enhanced material utilizing water soluble photosensitive diazo compound and pattern forming method

Номер патента: US5272036A. Автор: Kazufumi Ogawa,Masayuki Endo,Yoshiyuki Tani,Fumiyoshi Urano,Masaaki Nakahata. Владелец: Wako Pure Chemical Industries Ltd. Дата публикации: 1993-12-21.

Mold, pattern forming method, and pattern forming apparatus

Номер патента: EP2090929A3. Автор: Masao C/O Canon Kabushiki Kaisha Majima,Nobuhito c/o CANON KABUSHIKI KAISHA Suehira,Hideki c/o CANON KABUSHIKI KAISHA Ina,Atsunori c/o CANON KABUSHIKI KAISHA Terasaki,Junichi c/o CANON KABUSHIKI KAISHA Seki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-09-16.

Organic anti-reflective coating composition and pattern forming method using the same

Номер патента: US20050014094A1. Автор: Sam Kim,Geun Lee. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2005-01-20.

Mask blank, method for manufacturing transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240053672A1. Автор: Hiroaki Shishido,Osamu Nozawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-02-15.

Mask and method for determining mask pattern line length

Номер патента: US20060008709A1. Автор: Yasuyuki Kushida,Hitoshi Handa. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2006-01-12.

Alignment method of exposure mask and manufacturing method of thin film element substrate

Номер патента: US20060068304A1. Автор: Chiharu Iriguchi. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2006-03-30.

Mask and method for fabricating the same

Номер патента: US20220113621A1. Автор: Chi-Ming Tsai,Chi-Ta Lu,Jia-Guei Jou,Huang-Ming Wu,Jiun-Hao Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-04-14.

Complementary division mask, method of producing mask, and program

Номер патента: EP1496393A3. Автор: Yoko c/o SONY CORPORATION Watanabe,Shinji c/o SONY CORPORATION Omori. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2006-05-24.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20240310727A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Polymer, resist composition, and pattern forming method

Номер патента: US20230244142A1. Автор: Koji Hasegawa,Masahiro Fukushima,Tomohiro Kobayashi,Masayoshi Sagehashi,Yutaro OTOMO. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

Negative-type photosensitive composition for euv light, pattern forming method, and manufacturing method of electronic device

Номер патента: EP3779596A1. Автор: Michihiro Shirakawa,Wataru Nihashi,Michihiro OGAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-02-17.

Negative tone photosensitive composition for euv light, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20210011380A1. Автор: Michihiro Shirakawa,Wataru Nihashi,Michihiro OGAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-01-14.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film and pattern forming method using the same, manufacturing method of semiconductor device, and semiconductor device

Номер патента: WO2013180314A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Takeshi Kawabata,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-12-05.

Positive resist composition and pattern forming method using the same

Номер патента: US20060194148A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Shinji Tarutani. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2006-08-31.

Positive resist composition and pattern forming method using the resist composition

Номер патента: EP1693705B1. Автор: Yasutomo Kawanishi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-01-22.

Exposure Method, Exposure Apparatus, Light Converging Pattern Formation Member, Mask, and Device Manufacturing Method

Номер патента: US20120176590A1. Автор: Michio Noboru. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2012-07-12.

Micro pattern forming method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20040157169A1. Автор: Hiroshi Morioka. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2004-08-12.

Onium salt, resist composition, and pattern forming process

Номер патента: US20240361688A1. Автор: Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Display panel and manufacturing method thereof, mask and manufacturing method thereof, and display device

Номер патента: US09880426B2. Автор: Huifang Yuan. Владелец: Hefei BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-30.

Composition for pattern formation, and pattern-forming method

Номер патента: US20150253671A1. Автор: Yuji Namie,Tomoki Nagai,Hiroyuki Komatsu,Shinya Minegishi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2015-09-10.

Photosensitive resin composition, laminate, and pattern forming process

Номер патента: US12055853B2. Автор: Michihiro Sugo,Kumiko Hayashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Photoacid generating compounds, chemically amplified positive resist materials, and pattern forming method

Номер патента: US20030235779A1. Автор: Jun Hatakeyama,Tomohiro Kobayashi,Youichi Ohsawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2003-12-25.

Actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and resist film and pattern forming method using the same composition

Номер патента: US20120207978A1. Автор: Kunihiko Kodama,Kenji Wada,Shuhei Yamaguchi,Akinori Shibuya,Tomoki Matsuda. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2012-08-16.

Fluorine-Containing Monomer, Fluorine-Containing Polymer, Pattern Forming Composition Using Same, and Pattern Forming Method of Same

Номер патента: US20200089116A1. Автор: Ryo Nadano,Yuzuru Kaneko,Tsubasa ITAKURA. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2020-03-19.

Pattern inspection apparatus and pattern inspection method

Номер патента: US20170178314A1. Автор: Nobutaka Kikuiri,Hideki Nukada. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-06-22.

Rinse solution for pattern formation and pattern forming process

Номер патента: US20160154312A1. Автор: Tsutomu Ogihara,Jun Hatakeyama,Daisuke Kori. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-02.

Stepping photoetching machine and operating method therefor, and pattern alignment device

Номер патента: EP4258057A1. Автор: Ivo Rangelow,Xiangqian Zhou,Zhiyao YIN,Chuan DU. Владелец: Parcan Nanotech Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-11.

Metal oxide-containing film-forming composition, metal oxide-containing film-formed substrate, and patterning process

Номер патента: US20100086872A1. Автор: Tsutomu Ogihara,Takafumi Ueda,Toshiharu Yano. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2010-04-08.

Resist material and pattern forming method

Номер патента: US20230296980A1. Автор: Masahiro Fukushima,Tomohiro Kobayashi,Masayoshi Sagehashi,Kousuke Ohyama,Yutaro OTOMO,Gentaro Hida. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Crosslinking agent, negative resist composition, and pattern forming method using the negative resist composition

Номер патента: US20120115084A1. Автор: Kenichi Okuyama,Yasunori Nagatsuka. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2012-05-10.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film using the same, pattern forming method, manufacturing method of electronic device, electronic device and resin

Номер патента: WO2013081184A1. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-06-06.

Methods of forming resist pattern, forming electrode pattern, and manufacturing surface acoustic wave device

Номер патента: US6821712B2. Автор: Kenji Sakaguchi,Yoshihiro Koshido,Toshiyuki Fuyutsume. Владелец: Murata Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2004-11-23.

Mask fork for transferring mask, and corresponding mask box and mask transferring method

Номер патента: US20200201195A1. Автор: Gang Wang,Rongjun Zhang,Dongliang Huang. Владелец: Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2020-06-25.

Mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US20030096174A1. Автор: Tsutomu Koike. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2003-05-22.

Pattern forming method, template manufacturing method, and photomask manufacturing method

Номер патента: US20220091499A1. Автор: Yoshinori Kagawa. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2022-03-24.

Apparatus and method for measuring phase of extreme ultraviolet (EUV) mask and method of fabricating EUV mask including the method

Номер патента: US11852583B2. Автор: Jongju Park,Raewon Yi,Hakseung Han,Seongsue Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-12-26.

Photosensitive composition, compound for use in the photosensitive composition and pattern forming method using the photosensitive composition

Номер патента: EP1736824A2. Автор: Kenji Wada. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2006-12-27.

Positive resist compostion and pattern forming method using the same

Номер патента: EP1975717A2. Автор: Kazuyoshi Mizutani,Shuji Hirano. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2008-10-01.

Method of detecting relative position of exposure mask and object to be exposed, alignment method, and exposure method using the same

Номер патента: WO2004099879A3. Автор: Ryo Kuroda,Takako Yamaguchi. Владелец: Takako Yamaguchi. Дата публикации: 2005-05-26.

Photolithography mask and method of fabricating a photolithography mask

Номер патента: US20030091911A1. Автор: Christoph Noelscher. Владелец: Christoph Noelscher. Дата публикации: 2003-05-15.

Reflecting mask, apparatus for fixing the reflecting mask and method of fixing the reflecting mask

Номер патента: US20080057412A1. Автор: Suk-Ho Lee,Sung-min Huh. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2008-03-06.

Mask and method for testing quality of mask

Номер патента: US20210333706A1. Автор: Mei-Li Wang. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2021-10-28.

Resist composition and pattern forming method using the same

Номер патента: US20240231225A1. Автор: Yoonhyun Kwak,Kyuhyun IM,Youngmin Nam,Haengdeog Koh,Chanjae Ahn,Sungwon Choi,Sunghyun HAN,Changheon Lee,Mijeong Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-11.

Fine pattern forming method and stamper

Номер патента: US20090017266A1. Автор: Kyosuke Deguchi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-01-15.

Pattern forming method using contrast enhanced material

Номер патента: US4849323A. Автор: Kazufumi Ogawa,Masayuki Endo,Masaru Sasago. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1989-07-18.

Pattern forming method, and, electronic device producing method and electronic device, each using the same

Номер патента: US09885956B2. Автор: Kei Yamamoto,Tsukasa Yamanaka,Naoya Iguchi,Ryosuke Ueba. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-02-06.

Pattern-forming material and pattern formation method

Номер патента: CA1335542C. Автор: Katsutoshi Mine,Naohiro Muramoto. Владелец: Dow Corning Toray Silicone Co Ltd. Дата публикации: 1995-05-16.

Polymer, monomer, resist composition, and patterning process

Номер патента: US9790166B2. Автор: Kazuhiro Katayama,Jun Hatakeyama,Koji Hasegawa,Masahiro Fukushima,Masayoshi Sagehashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-17.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11815807B2. Автор: Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2023-11-14.

Mask blank, resist pattern forming process and chemically amplified positive resist composition

Номер патента: EP4276534A1. Автор: Jun Hatakeyama,Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-15.

Mask blank, resist pattern forming process and chemically amplified positive resist composition

Номер патента: US20230367213A1. Автор: Jun Hatakeyama,Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Pattern forming method, composition kit and resist film, and method for producing electronic device using them, and electronic device

Номер патента: US09915870B2. Автор: Kaoru Iwato,Hiroo Takizawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Image mask and image mask assembly

Номер патента: US8062812B2. Автор: Michael Lucien GENIER,Jeffrey Mathew Clark,Windsor P Thomas. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2011-11-22.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240036458A1. Автор: Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-02-01.

Pattern-forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using them and electronic device

Номер патента: EP2761373A1. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Naoki Inoue. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-08-06.

Pattern forming method, laminate, and resist composition for organic solvent development

Номер патента: US20180120706A1. Автор: Keita Kato,Takashi Yakushiji,Tadashi Omatsu,Michihiro Shirakawa,Akiyoshi Goto,Naoya HATAKEYAMA,Keiyu OU. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-05-03.

Pattern forming method, electron beam- or extreme ultraviolet-sensitive resin composition, resist film using the same, method of manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US20150370170A1. Автор: Shuji Hirano,Hiroo Takizawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-12-24.

Pattern forming method and template manufacturing method

Номер патента: US20210088906A1. Автор: Hideaki Sakurai,Noriko Sakurai,Takeharu Motokawa,Ryu Komatsu. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2021-03-25.

Pattern forming method, photo mask manufacturing method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US10488755B2. Автор: Shuji Hirano,Akira Takada,Hidehiro Mochizuki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-11-26.

Pattern forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet-sensitive composition, resist film, manufacturing method of electronic device, and electronic device

Номер патента: US20130084438A1. Автор: Kaoru Iwato,Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2013-04-04.

Positive tone resist composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20220382153A1. Автор: Kazunari Yagi,Akira Takada,Kazuhiro Marumo,Michihiro Shirakawa,Akiyoshi Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-12-01.

Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using the same and electronic device

Номер патента: US20140349224A1. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Hiroo Takizawa,Takeshi Kawabata,Takuya TSURUTA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-11-27.

Method of manufacturing photo-mask and photo-mask manufactured thereby

Номер патента: US5457006A. Автор: Akira Takahashi,Hiroyuki Katayama,Tetsuya Inui,Junji Hirokane,Tomoyuki Miyake,Kenji Ohta,Kazuo Van,Michinobu Mieda,Junichi Washo. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 1995-10-10.

Spatial phase modulating masks and production processes thereof, and processes for the formation of phase-shifted diffraction gratings

Номер патента: CA1270934C. Автор: Masataka Shirasaki,Hirochika Nakajima. Владелец: . Дата публикации: 1990-06-26.

Stencil mask and use thereof in lithography fabrication

Номер патента: WO2023247443A1. Автор: Michaela EICHINGER,Morten KJÆRGAARD,Thomas Kanne NORDQVIST,András GYENIS. Владелец: University of Copenhagen. Дата публикации: 2023-12-28.

Method for treating photolithographic developer and stripper waste streams containing resist or solder mask and gamma butyrolactone or benzyl alcohol

Номер патента: MY112943A. Автор: Stephen Ksenak Gary,Adams Shurtleff James,Chinuprasad Bhatt Anilkumar,I Papathomas Kostas,James Wagner Jerome. Владелец: Ibm. Дата публикации: 2001-10-31.

Pattern forming method, photo mask manufacturing method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20180017865A1. Автор: Shuji Hirano,Akira Takada,Hidehiro Mochizuki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-01-18.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, method for manufacturing actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, resin, and method for manufacturing resin

Номер патента: US20240248398A1. Автор: Tsutomu Yoshimura,Akiyoshi Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-07-25.

Imprint pattern forming method

Номер патента: US8444889B2. Автор: Ikuo Yoneda,Ryoichi Inanami,Hiroshi Tokue. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2013-05-21.

Mask and wafer diffraction grating alignment system wherein the diffracted light beams return substantially along an incident angle

Номер патента: US5559601A. Автор: Gregg M. Gallatin,Justin L. Kreuzer,Michael L. Nelson. Владелец: SVG Lithography Systems Inc. Дата публикации: 1996-09-24.

Wavefront metrology sensor and mask therefor, method for optimizing a mask and associated apparatuses

Номер патента: US20230341325A1. Автор: Petrus Wilhelmus SMORENBURG,Christina Lynn PORTER,Lars LOETGERING,Stefan Michiel MICHIEL. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-10-26.

Phase shift mask, and exposure method and device manufacturing method using the same

Номер патента: US20040053144A1. Автор: Kenji Yamazoe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-03-18.

Mask and method to pattern chromeless phase lithography contact hole

Номер патента: SG144908A1. Автор: LIN Qun Ying,Tan Soon Yoeng,Chong Huey Ming,HSIA Liang Choo,Tan Sia Kim. Владелец: Chartered Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2008-08-28.

Exposure mask and method of fabricating display panel using the same

Номер патента: US20150093687A1. Автор: Taegyun Kim,Jin-Su Byun,Jungi KIM. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2015-04-02.

Resist pattern-forming method, and radiation-sensitive composition and production method thereof

Номер патента: US20200333707A1. Автор: Ken Maruyama,Miki TAMADA,Sousuke OOSAWA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-10-22.

Resist pattern forming method, resist pattern, crosslinkable negative chemical amplification resist composition for organic solvent development, resist film and resist-coated mask blanks

Номер патента: US20140030640A1. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Tadateru Yatsuo,Toru Tsuchihashi,Koutarou Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-01-30.

Resist pattern forming method, resist pattern, crosslinkable negative chemical amplification resist composition for organic solvent development, resist film and resist-coated mask blanks

Номер патента: EP2689292A1. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Tadateru Yatsuo,Toru Tsuchihashi,Koutarou Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-01-29.

Photosensitive resin composition, pattern forming method, cured film, laminate, and device

Номер патента: US12078929B2. Автор: Toshihide Aoshima,Kenta Yamazaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-09-03.

Pattern forming method

Номер патента: US20140231380A1. Автор: Yuriko Seino,Hiroki YONEMITSU. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2014-08-21.

Pattern-forming method

Номер патента: US09971247B2. Автор: Tomoki Nagai,Akihiro Oshima,Hisashi Nakagawa,Takehiko Naruoka,Seiji Nagahara,Seiichi Tagawa. Владелец: Osaka University NUC. Дата публикации: 2018-05-15.

Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US09952509B2. Автор: Keita Kato,Michihiro Shirakawa,Akiyoshi Goto,Masafumi KOJIMA,Keiyu OU. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-04-24.

Pattern-forming method and composition

Номер патента: US09921474B2. Автор: Kanako FUKAMI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2018-03-20.

Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, method of manufacturing electronic device using the same, and electronic device

Номер патента: US09766547B2. Автор: Shuji Hirano,Hiroo Takizawa,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-09-19.

Method of manufacturing semiconductor device, mask and semiconductor device

Номер патента: US20070134564A1. Автор: Seiichiro Shirai,Takahiro Machida,Shinroku Maejima. Владелец: Renesas Technology Corp. Дата публикации: 2007-06-14.

Molecular resist composition and patterning process

Номер патента: US11940728B2. Автор: Kazuhiro Katayama,Masaki Ohashi,Masahiro Fukushima,Shun Kikuchi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-26.

Photosensitive resin composition, laminate, and pattern forming process

Номер патента: US20200209751A1. Автор: Michihiro Sugo,Kumiko Hayashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-02.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US12038689B2. Автор: Kazunari Yagi,Takashi Kawashima,Akihiro Kaneko,Akiyoshi Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-07-16.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and, resist film, pattern forming method, electronic device manufacturing method, and electronic device, each using the composition

Номер патента: US20140287363A1. Автор: Kaoru Iwato,Akinori Shibuya. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-09-25.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20240272553A1. Автор: Michihiro Shirakawa,Hideyuki Ishihara,Yuma Kurumisawa,Ahiyoshi Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-08-15.

Pattern forming method

Номер патента: US20160060410A1. Автор: Hitoshi Kubota,Katsutoshi Kobayashi,Yusuke KASAHARA,Ayako KAWANISHI,Hiroki YONEMITSU. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-03-03.

Active light sensitive or radiation sensitive resin composition, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US09791777B2. Автор: Keita Kato,Michihiro Shirakawa,Akiyoshi Goto,Masafumi KOJIMA,Keiyu OU. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-10-17.

Dual layer workpiece masking and manufacturing process

Номер патента: US7588870B2. Автор: Torbjörn Sandström. Владелец: Micronic Laser Systems AB. Дата публикации: 2009-09-15.

Structure of phase shifting mask and method of manufacturing the same comprising an adhesive layer between a phase shift layer and a light blocking layer

Номер патента: US5824438A. Автор: Jun-Seok Lee,Chan-Min Park,Yong-Kyoo Choi. Владелец: LG Semicon Co Ltd. Дата публикации: 1998-10-20.

Arrangement for aligning a mask and a substrate relative to each other

Номер патента: US4749278A. Автор: Jan E. Van Der Werf. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 1988-06-07.

Apparatus for the exact mutual alignment of a mask and semiconductor wafer in a lithographic apparatus

Номер патента: US4825086A. Автор: Karl-Heinz Mueller. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1989-04-25.

Pattern transfer apparatus, imprint apparatus, and pattern transfer method

Номер патента: EP1847875A3. Автор: Junichi Seki,Hideki Ina,Nobuhito Suehira,Koichi Sentoku. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-03-05.

High resolution mask and method of fabrication thereof

Номер патента: US4284678A. Автор: Addison B. Jones. Владелец: Rockwell International Corp. Дата публикации: 1981-08-18.

Substrate with multilayer reflective film, reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240134265A1. Автор: Teiichiro Umezawa,Kota Suzuki. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-04-25.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US20130323653A1. Автор: Koji Ito,Hirokazu Sakakibara,Hiromu Miyata,Taiichi Furukawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-12-05.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US09939729B2. Автор: Tomoki Nagai,Hisashi Nakagawa,Takehiko Naruoka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2018-04-10.

Photosensitive composition and pattern forming process using same

Номер патента: US4735880A. Автор: Kiyoshi Miura,Saburo Nonogaki,Nobuaki Hayashi,Masahiro Nishizawa,Yoshifumi Tomita,Hajime Morishita,Osamu Sasaya,Shoichi Uchino. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1988-04-05.

Laser-decomposable resin composition and pattern-forming material using the same

Номер патента: US20080268371A1. Автор: Yoshinori Taguchi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2008-10-30.

Resist pattern-forming method, substrate-processing method, and photoresist composition

Номер патента: US20160266489A1. Автор: Motoyuki Shima,Ryu Matsumoto,Yuji Yada,Yuichiro KATSURA,Ken Nakakura. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-09-15.

Resist pattern-forming method, substrate-processing method, and photoresist composition

Номер патента: US09817311B2. Автор: Motoyuki Shima,Ryu Matsumoto,Yuji Yada,Yuichiro KATSURA,Ken Nakakura. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-11-14.

X-ray lithography mask and devices made therewith

Номер патента: CA2013245C. Автор: George K. Celler,Lee Edward Trimble. Владелец: American Telephone and Telegraph Co Inc. Дата публикации: 1994-04-19.

Mask and optical filter manufacturing apparatus including the same

Номер патента: US20130114055A1. Автор: Hyuk Yoon,Moon Soo Park,Su Young Ryu,Dong Ho KO,Sin Young Kim,Kyung Ki HONG,Won Cheul Ju,Yong II Cho. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2013-05-09.

Identification film and pattern including photonic crystals and anticounterfeiting product including the same

Номер патента: US09753197B2. Автор: Seung Man Yang,Shin Hyun Kim,Hye Soo Lee,Tae Soup Shim. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2017-09-05.

Semiconductor mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US5718990A. Автор: Hoon Huh. Владелец: LG Semicon Co Ltd. Дата публикации: 1998-02-17.

Radiation sensitive composition and resist pattern forming method

Номер патента: EP3667419A1. Автор: Hisashi Nakagawa,Yusuke Asano,Shinya Minegishi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-06-17.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US09921479B2. Автор: Kenji Yamada,Satoshi Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-20.

Apparatus for effecting alignment and spacing control of a mask and wafer for use in X-ray lithography

Номер патента: US4472824A. Автор: W. Derek Buckley. Владелец: Perkin Elmer Corp. Дата публикации: 1984-09-18.

Flare measuring mask and flare measuring method of semiconductor aligner

Номер патента: US7186481B2. Автор: Akira Watanabe,Yasuhiro Yamamoto. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 2007-03-06.

Flare measuring mask and flare measuring method of semiconductor aligner

Номер патента: US20050095510A1. Автор: Akira Watanabe,Yasuhiro Yamamoto. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 2005-05-05.

Resist material and patterning process

Номер патента: US20230296981A1. Автор: Tomohiro Kobayashi,Yutaro OTOMO,Gentaro Hida,Tomonari NOGUCHI. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Lithography methods, methods for forming patterning tools and patterning tools

Номер патента: US20140106280A1. Автор: Jianming Zhou,Scott L. Light,Anton Devilliers,David Kewley,Prasanna Srinivasan. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2014-04-17.

Pattern forming method and method for manufacturing electronic device using same

Номер патента: US20170146908A1. Автор: Keita Kato,Michihiro Shirakawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-05-25.

Barrier film material and pattern formation method using the same

Номер патента: EP1788440A2. Автор: Masayuki Endo,Masaru Sasago. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2007-05-23.

Patterning material and patterned film

Номер патента: US20230168583A1. Автор: Yu Zhang,Huihui Zhou,Zhixiong Zeng. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-01.

Composition for forming underlayer film, resist pattern forming method, and manufacturing method of electronic device

Номер патента: US20220283499A1. Автор: Kazuyoshi Mizutani,Kei Yamamoto,Takeshi Kawabata. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-09-08.

Image forming methods, pattern forming methods, pattern forming material and planographic printing plate

Номер патента: EP1475230A3. Автор: Koichi Kawamura,Takeyoshi Kano. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-03-25.

Microtransfer molding process and patterned substrate obtainable therefrom

Номер патента: US20200174363A1. Автор: David Grosso,Thomas BOTTEIN. Владелец: Aix Marseille Universite. Дата публикации: 2020-06-04.

Microtransfer molding process and patterned substrate obtainable therefrom

Номер патента: WO2019001934A1. Автор: David Grosso,Thomas BOTTEIN. Владелец: Université D'aix-Marseille. Дата публикации: 2019-01-03.

Pattern forming method, resist composition for multiple development used in the pattern forming method, developer for negative development used in the pattern forming method, and rinsing solution for negative development used in the pattern forming method

Номер патента: US8530148B2. Автор: Hideaki Tsubaki,Shinichi Kanna. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2013-09-10.

Pattern forming method and method of manufacturing liquid crystal display device

Номер патента: US5795686A. Автор: Hideaki Takizawa,Shougo Hayashi. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1998-08-18.

Resist composition and patterning process

Номер патента: EP3088955A3. Автор: Kenji Yamada,Satoshi Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-14.

Pattern forming method, method for producing electronic device, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and resist film

Номер патента: US20240176242A1. Автор: Satomi Takahashi,Michihiro Shirakawa,Yohei Ishiji,Akiyoshi Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-05-30.

Pattern forming method, electronic device manufacturing method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and resist film

Номер патента: EP4372466A1. Автор: Satomi Takahashi,Michihiro Shirakawa,Yohei Ishiji,Akiyoshi Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-05-22.

Pattern forming method, resist composition to be used in the pattern forming method, negative developing solution to be used in the pattern forming method and rinsing solution for negative development to be used in the pattern forming method

Номер патента: US20100330507A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Kenji Wada,Shinji Tarutani,Wataru HOSHINO,Kazuyoshi Mizuyoshi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2010-12-30.

Pattern forming method, method for selecting heating temperature in pattern forming method, extreme ultraviolet-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using the same, and electronic device

Номер патента: US20150017576A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Naoki Inoue. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-01-15.

Pattern forming method, actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition, resist film, method for manufacturing electronic device using same, and electronic device

Номер патента: US20160147147A1. Автор: Shuji Hirano,Hiroo Takizawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-05-26.

Negative resist pattern-forming method, and composition for upper layer film formation

Номер патента: US20190004426A1. Автор: Sosuke OSAWA,Taiichi Furukawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2019-01-03.

Active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, method for producing electronic device, and compound

Номер патента: EP4324822A1. Автор: Akiyoshi Goto,Masafumi KOJIMA,Yosuke BEKKI,Nishiki FUJIMAKI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-02-21.

Method for producing active light sensitive or radiation sensitive resin composition, pattern forming method, and method for producing electronic device

Номер патента: EP3992179A1. Автор: Kei Yamamoto,Kazuhiro Marumo,Naohiro Tango,Keiyu OU. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-05-04.

Negative resist pattern-forming method, and composition for upper layer film formation

Номер патента: US20160299432A1. Автор: Sosuke OSAWA,Taiichi Furukawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-10-13.

Pattern forming method and method for producing electronic device

Номер патента: US20240219831A1. Автор: Satomi Takahashi,Kazuhiro Marumo,Michihiro Shirakawa,Yohei Ishiji,Akiyoshi Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

Pattern forming method, actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and resist film

Номер патента: US9316910B2. Автор: Hidenori Takahashi,Shuhei Yamaguchi,Shohei Kataoka,Michihiro Shirakawa,Shoichi Saitoh,Fumihiro Yoshino. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-04-19.

Pattern forming method and template manufacturing method

Номер патента: US11809082B2. Автор: Mitsuru Kondo. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-11-07.

Pattern forming method

Номер патента: US20100237045A1. Автор: Ikuo Yoneda,Takeshi Koshiba,Tetsuro Nakasugi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-09-23.

Pattern forming method, composition used therein, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: WO2013187530A1. Автор: Kei Yamamoto,Ryosuke Ueba. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-12-19.

Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20230087940A1. Автор: Kazunari Yagi,Hironori Oka,Michihiro Shirakawa,Mitsuhiro Fujita. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-03-23.

Pattern forming method and substance adherence pattern

Номер патента: EP1431821B1. Автор: Koichi Kawamura,Takeyoshi Kano. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2007-02-14.

Pattern forming apparatus and article manufacturing method

Номер патента: US20190278186A1. Автор: Hironobu Fujishima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-09-12.

Method of forming nanopattern and substrate having pattern formed using the method

Номер патента: EP1999513A1. Автор: Seung-Tae Oh,Sang-Choll Han,Deok-Joo Kim,Matthias Henyk. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2008-12-10.

Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using the same, and electronic device

Номер патента: WO2014017665A1. Автор: Shuji Hirano,Hiroo Takizawa,Wataru Nihashi,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2014-01-30.

Pattern-forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using them and electronic device

Номер патента: EP2761372A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Takeshi Kawabata. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-08-06.

Pattern forming method, electron beam- or extreme ultraviolet-sensitive resin composition, resist film using the same, method of manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US9612535B2. Автор: Shuji Hirano,Hiroo Takizawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-04-04.

Pattern forming method

Номер патента: US9046763B2. Автор: Ikuo Yoneda,Takeshi Koshiba,Tetsuro Nakasugi. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2015-06-02.

Pattern-forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using them and electronic device

Номер патента: WO2013047092A1. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Naoki Inoue. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-04-04.

Pattern forming method, photomask substrate creation method, photomask creation method, and photomask

Номер патента: US20210341830A1. Автор: Shoji Mimotogi,Yukio Oppata. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2021-11-04.

Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and resist film

Номер патента: WO2012118168A1. Автор: Hidenori Takahashi,Shuhei Yamaguchi,Shohei Kataoka,Michihiro Shirakawa,Shoichi Saitoh,Fumihiro Yoshino. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-09-07.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and resist film, pattern forming method, method for preparing electronic device, and electronic device, each using the same

Номер патента: US20130078426A1. Автор: Kei Yamamoto,Hidenori Takahashi,Shuhei Yamaguchi,Kosuke KOSHIJIMA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2013-03-28.

Photosensitive resin composition, pattern forming method, cured film, laminate, and device

Номер патента: US20210302835A1. Автор: Toshihide Aoshima,Kenta Yamazaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-09-30.

Photosensitive resin composition, pattern forming method, cured film, multilayer body and device

Номер патента: EP3893053A1. Автор: Toshihide Aoshima,Kenta Yamazaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-10-13.

Active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: EP4293054A1. Автор: Shuhei Yamaguchi,Eiji Fukuzaki,Tomoaki Yoshioka,Taro MIYOSHI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-12-20.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20230185192A1. Автор: Michihiro Shirakawa,Akiyoshi Goto,Masafumi KOJIMA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-06-15.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20230168581A1. Автор: Michihiro Shirakawa,Akiyoshi Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-06-01.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, positive tone pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20230393472A1. Автор: Shuhei Yamaguchi,Taro MIYOSHI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-12-07.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20230384674A1. Автор: Shuhei Yamaguchi,Eiji Fukuzaki,Tomoaki Yoshioka,Taro MIYOSHI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20230408920A1. Автор: Shuhei Yamaguchi,Taro MIYOSHI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-12-21.

Resist composition and resist pattern forming method

Номер патента: US10534264B2. Автор: Tsuyoshi Nakamura,Kazuishi Tanno,Junyeob Lee. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2020-01-14.

Resist composition and resist pattern forming method

Номер патента: US20180224742A1. Автор: Tsuyoshi Nakamura,Kazuishi Tanno,Junyeob Lee. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2018-08-09.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic devices

Номер патента: US20230393473A1. Автор: Shuhei Yamaguchi,Eiji Fukuzaki,Tomoaki Yoshioka,Taro MIYOSHI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-12-07.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20230133710A1. Автор: Keita Kato,Akira Takada,Michihiro Shirakawa,Masafumi KOJIMA,Aina USHIYAMA,Akiyoshi GOYO. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-05-04.

Pattern-forming method

Номер патента: US20170052450A1. Автор: Tomoki Nagai,Akihiro Oshima,Hisashi Nakagawa,Takehiko Naruoka,Seiji Nagahara,Seiichi Tagawa. Владелец: Osaka University NUC. Дата публикации: 2017-02-23.

Pattern forming method utilizing first insulative and then conductive overlayer and underlayer

Номер патента: US5994007A. Автор: Shuji Hayase,Yasunobu Onishi,Atsushi Ando,Yasuhiko Sato,Yoshihiko Nakano,Rikako Kani. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1999-11-30.

Pattern-forming method and radiation-sensitive composition

Номер патента: US20210181627A1. Автор: Christopher K. Ober,Emmanuel P. Giannelis,Kazunori Sakai,Vasiliki Kosma. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2021-06-17.

Pattern forming method and system, and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US20080276216A1. Автор: Toshiya Kotani,Ayako Nakano. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2008-11-06.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US20170329228A1. Автор: Hiromitsu Nakashima,Tomohiko Sakurai,Sousuke OOSAWA,Kousuke TERAYAMA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-11-16.

Pattern forming method, positional deviation measuring method and photomask

Номер патента: US20140065522A1. Автор: Yosuke Okamoto,Yoshinori Hagio. Владелец: Individual. Дата публикации: 2014-03-06.

Pattern forming method and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20230367212A1. Автор: Keita Kato,Tetsuya Shimizu,Satomi Takahashi,Michihiro Shirakawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-11-16.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, and compound

Номер патента: US20240192592A1. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Takeshi Kawabata,Minoru Uemura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

Method for producing resin, method for producing actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, pattern forming method, and resin

Номер патента: US20220382151A1. Автор: Shuhei Yamaguchi,Eiji Fukuzaki,Tomoaki Yoshioka,Taro MIYOSHI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-12-01.

Method for producing radiation-sensitive resin composition, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20220244629A1. Автор: Kenichi Harada,Takumi Tanaka,Takashi Bannai,Hiroyuki Ezoe,Shoichiro IWAGAYA,Hiroki Motoyama. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-08-04.

Structure and method for simultaneously determining an overlay accuracy and pattern placement error

Номер патента: GB2446314A. Автор: Bernd Schulz. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2008-08-06.

Pattern forming method, droplet ejecting device, and electro-optic device

Номер патента: US20080170092A1. Автор: Kohei Ishida. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2008-07-17.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20240027908A1. Автор: Kotaro Takahashi,Fumihiro Yoshino. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-01-25.

Active light sensitive or radiation sensitive resin composition, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US20160347897A1. Автор: Keita Kato,Michihiro Shirakawa,Akiyoshi Goto,Masafumi KOJIMA,Keiyu OU. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-12-01.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20210216012A1. Автор: Kazunari Yagi,Takashi Kawashima,Akihiro Kaneko,Akiyoshi Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-07-15.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US11835849B2. Автор: Tsutomu Yoshimura,Yoichi Nishida,Yasunori Yonekuta,Kohei Higashi,Naoya HATAKEYAMA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-12-05.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, compound, and resin

Номер патента: US20230375925A1. Автор: Tsutomu Yoshimura,Akiyoshi Goto,Masafumi KOJIMA,Yuma Kurumisawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-11-23.

Active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for producing electronic device

Номер патента: EP4372018A1. Автор: Satomi Takahashi,Michihiro Shirakawa,Yohei Ishiji,Akiyoshi Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-05-22.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20230259029A1. Автор: Keita Kato,Akihiro Kaneko,Akiyoshi Goto,Masafumi KOJIMA,Yuta Okuaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-08-17.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US12001140B2. Автор: Kazunari Yagi,Takashi Kawashima,Akihiro Kaneko,Akiyoshi Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-06-04.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20230221640A1. Автор: Tsutomu Yoshimura,Akiyoshi Goto,Kyohei Sakita,Kazuhiro Karumo. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-07-13.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, and compound

Номер патента: US20230139891A1. Автор: Akira Takada,Takeshi Kawabata,Akiyoshi Goto,Masafumi KOJIMA,Aina USHIYAMA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-05-04.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for producing electronic device

Номер патента: US20240192598A1. Автор: Satomi Takahashi,Michihiro Shirakawa,Yohei Ishiji,Akiyoshi Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20230236502A1. Автор: Michihiro Shirakawa,Akiyoshi Goto,Masafumi KOJIMA,Aina USHIYAMA,Yosuke BEKKI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-07-27.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US12032290B2. Автор: Kei Yamamoto,Takashi Kawashima,Michihiro Shirakawa,Akiyoshi Goto,Daisuke Asakawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-07-09.

Onium salt, chemically amplified positive resist composition, and resist pattern forming process

Номер патента: US20240280900A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake,yuta Matsuzawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Chemically amplified resist material, pattern-forming method, compound, and production method of compound

Номер патента: US20170052449A1. Автор: Tomoki Nagai,Akihiro Oshima,Hisashi Nakagawa,Takehiko Naruoka,Seiji Nagahara,Seiichi Tagawa. Владелец: Osaka University NUC. Дата публикации: 2017-02-23.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, pattern forming method using the same, polymerizable compound and polymer compound obtained by polymerizing the polymerizable compound

Номер патента: EP2105440A2. Автор: Shuhei Yamaguchi,Akinori Shibuya,Yuko Yoshida,Michihiro Shirakawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-09-30.

Radiation-sensitive resin composition, cured film, pattern forming method, solid-state imaging device, and image display device

Номер патента: US20210132496A1. Автор: Kaoru Aoyagi,Yuki Nara. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-05-06.

Photosensitive composition, cured film, pattern forming method, color filter, solid-state imaging element, and image display device

Номер патента: US20190212644A1. Автор: Yoshinori Taguchi,Hiroyuki Morishita,Kazuya Oota,Akiko YOSHII. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-07-11.

Pattern-forming method

Номер патента: US20170184961A1. Автор: Hisashi Nakagawa,Takehiko Naruoka,Motohiro SHIRATANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-06-29.

Coloring composition, color filter, pattern forming method, solid-state imaging device, and image display device

Номер патента: US20180329295A1. Автор: Yousuke Murakami,Seongmu BAK,Naotsugu Muro,Yoshinori Taguchi,Akiko YOSHII. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-11-15.

Pattern-forming method

Номер патента: US20140255854A1. Автор: Koji Ito,Hirokazu Sakakibara,Hiromu Miyata,Taiichi Furukawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-09-11.

Intermediate layer composition for multilayer resist process, pattern-forming process using the same, and laminate

Номер патента: US20050003299A1. Автор: Yutaka Adegawa. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2005-01-06.

Forming method of resist pattern and manufacturing method of thin-film magnetic head

Номер патента: US20100035189A1. Автор: Susumu Aoki,Hisayoshi Watanabe. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2010-02-11.

Onium salt, chemically amplified positive resist composition, and resist pattern forming process

Номер патента: US20240337927A1. Автор: Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Pattern forming apparatus

Номер патента: US20130080991A1. Автор: Hiroyuki Kashiwagi,Akiko Mimotogi,Ryoichi Inanami. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-03-28.

Pattern forming apparatus

Номер патента: US4480910A. Автор: Yoshio Kawamura,Sumio Hosaka,Masamoto Akeyama,Shinji Kuniyoshi,Akihiro Takanashi,Tatsuo Harada,Yataro Kondo,Toshiei Kurosaki. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1984-11-06.

Pattern forming apparatus

Номер патента: CA1159160A. Автор: Yoshio Kawamura,Sumio Hosaka,Masamoto Akeyama,Shinji Kuniyoshi,Akihiro Takanashi,Tatsuo Harada,Yataro Kondo,Toshiei Kurosaki. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1983-12-20.

Pattern forming material and method for forming pattern therewith

Номер патента: US4507384A. Автор: Masao Morita,Akinobu Tanaka,Saburo Imamura,Toshiaki Tamamura,Osamu Kogure. Владелец: Nippon Telegraph and Telephone Corp. Дата публикации: 1985-03-26.

Image-forming method and developer

Номер патента: EP1503247A3. Автор: Hiroyuki Nagase. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2006-09-13.

Method for forming a hydraulic transfer film, hydraulic transfer film, and patterned article

Номер патента: US09989919B2. Автор: Mao-Feng Hsu,Chao-Chein Huang,Han-Cheng Wu-Lu. Владелец: Daigin Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Pattern forming method, method for manufacturing color filter, and color filter manufactured thereby

Номер патента: WO2013047906A1. Автор: Yasuo Sugishima,Mitsuji Yoshibayashi. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-04-04.

Coloring composition, cured film, color filter, pattern forming method, method for manufacturing color filter, solid-state imaging device, and image display device

Номер патента: US09650493B2. Автор: Kaoru Aoyagi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-05-16.

Image Forming Apparatus, Image Forming Method, and Image Forming Program

Номер патента: US20210405564A1. Автор: Kazuya Kitamura. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2021-12-30.

Powder pasting device, image forming apparatus, powder pasting method, and image forming method

Номер патента: US20200192239A1. Автор: Atsuto Hirai. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2020-06-18.

Image forming apparatus and image forming method

Номер патента: US20090310994A1. Автор: Osamu Yamada,Takashi Harashima. Владелец: KONICA MINOLTA BUSINESS TECHNOLOGIES INC. Дата публикации: 2009-12-17.

Image forming apparatus and image forming method

Номер патента: US20080273903A1. Автор: Katsuyuki Kitao. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2008-11-06.

Light-receiving member, image-forming apparatus, and image-forming method

Номер патента: EP1134619A2. Автор: Shigenori Ueda,Junichiro Hashizume,Masaya Kawada,Tetsuya Karaki,Ryuji Okamura,Kunimasa Kawamura,Toshiyuki Ehara,Hironori Ohwaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2001-09-19.

Image forming apparatus, image forming system, and image forming method for correcting amount of deviation in color of image

Номер патента: US11934133B2. Автор: Ryoichi KUBOKI. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-19.

Image forming apparatus and image forming method

Номер патента: US20220011705A1. Автор: Yoshinori Shirasaki. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2022-01-13.

Image forming apparatus and image forming method

Номер патента: US8005379B2. Автор: Osamu Yamada,Takashi Harashima. Владелец: KONICA MINOLTA BUSINESS TECHNOLOGIES INC. Дата публикации: 2011-08-23.

Image forming apparatus, image forming method, and image forming program capable of preventing image quality from being lowered

Номер патента: US11385583B2. Автор: Kazuya Kitamura. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2022-07-12.

Image forming apparatus and image forming method

Номер патента: US20160131991A1. Автор: Akira Yoshida,Kazufumi Kimura,Kayoko Tanaka,Natsumi Matsue,Kohta Fujimori. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2016-05-12.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US11886113B2. Автор: Keita Kato,Takashi Kawashima,Michihiro Shirakawa,Akiyoshi Goto,Masafumi KOJIMA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-01-30.

Coloring composition, method for producing coloring composition, color filter, pattern forming method, solid-state imaging device, and image display device

Номер патента: US11767431B2. Автор: Shoichi Nakamura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-09-26.

Image forming apparatus, image forming method, and program

Номер патента: US8331836B2. Автор: Nobuyuki Kobayashi,Takashi Enami,Shigeyuki Ishii,Takahiro Kamekura,Jun Kosako,Natsuko Kawase,Takahiro Miyakawa,Miyo TANIGUCHI. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2012-12-11.

Toner, image forming device, image forming method, process cartridge and developer

Номер патента: RU2597022C1. Автор: Тойоси САВАДА,Синия НАКАЯМА,Хидеки СУГИУРА. Владелец: РИКОХ КОМПАНИ, ЛТД.. Дата публикации: 2016-09-10.

Method for manufacturing conductive pattern forming member

Номер патента: US20170363956A1. Автор: Tomotaka Kawano,Tsukuru Mizuguchi. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2017-12-21.

Toner, developer, image forming device and image forming method

Номер патента: RU2558009C1. Автор: Масааки ОКА,Дайсуке ИТО,Цунеясу НАГАТОМО,Сатоси КОДЗИМА,Сиоуко САТОХ,Кивако ХИРОХАРА,Осаму УТИНОКУРА,Дзунити АВАМУРА,Сатоси ОГАВА,Такахиро ХОНДА,Масаки Ватанабе,Мамору ХОДЗУМИ,Теруки КУСАХАРА,Ясуаки ОХТА. Владелец: РИКОХ КОМПАНИ, ЛТД.. Дата публикации: 2015-07-27.

Image forming method using photothermographic material

Номер патента: US7247421B2. Автор: Tomoyuki Ohzeki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2007-07-24.

Silver halide emulsion, method of preparing the same, and silver halide color photographic photosensitive material and image-forming method using the emulsion

Номер патента: US20020155394A1. Автор: Hirotomo Sasaki,Naoto Ohshima,Hideki Maeta. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2002-10-24.

Image forming method using photothermographic material

Номер патента: US20060199113A1. Автор: Tomoyuki Ohzeki. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2006-09-07.

Image forming method

Номер патента: US20030198884A1. Автор: Hiroshi Yamazaki,Hiroyuki Yamada,Meizo Shirose,Shigenori Kouno. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2003-10-23.

Electrophotographic image forming method and apparatus

Номер патента: US20020150831A1. Автор: Tatsuyuki Aoike,Masaharu Miura,Junichiro Hashizume,Toshiyuki Ehara. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-10-17.

Silver halide emulsion, and color photographic light-sensitive material and image-forming method using the same

Номер патента: EP1089122B1. Автор: Yoshiro Ochiai. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2007-08-01.

Image forming method and image forming apparatus

Номер патента: US8163456B2. Автор: Toshiyuki Fujita,Hirofumi Hayata,Masahiko Kurachi. Владелец: KONICA MINOLTA BUSINESS TECHNOLOGIES INC. Дата публикации: 2012-04-24.

Image forming method, image forming apparatus, and image forming program

Номер патента: EP3926399A1. Автор: Hiroyuki Yoneyama. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-12-22.

Image forming method and image forming system

Номер патента: US20220066337A1. Автор: Akihiko Itami,Seisuke Maeda,Seijiro TAKAHASHI. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2022-03-03.

Photothermographic material and image forming method

Номер патента: EP1582918B1. Автор: Fumito Nariyuki,Tomoyuki Ohzeki. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2006-09-20.

Image forming method using photothermographic material

Номер патента: US20050260529A1. Автор: Takayoshi Oyamada,Takeshi Funakubo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-11-24.

Full color image forming method

Номер патента: US20110008071A1. Автор: Naohiro Hirose,Shiro Hirano,Kaori Soeda,Miyuki Murakami,Youhei Ohno. Владелец: KONICA MINOLTA BUSINESS TECHNOLOGIES INC. Дата публикации: 2011-01-13.

Image forming method

Номер патента: EP1628172A3. Автор: Hiroaki Kawakami,Masaharu Miura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-03-01.

Developer, image-forming method, and process cartridge

Номер патента: EP1128224A3. Автор: Hirohide Tanikawa,Satoshi Yoshida. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2004-05-19.

Image forming method and method of recycling image forming material

Номер патента: US20100248130A1. Автор: Mitsutoshi Nakamura,Masaharu Matsubara,Shigenori Kouno. Владелец: KONICA MINOLTA BUSINESS TECHNOLOGIES INC. Дата публикации: 2010-09-30.

Image forming method and toner set for developing electrostatic latent image

Номер патента: US20190137899A1. Автор: Tomoko Mine,Kaori MATSUSHIMA,Hitomi MOTANI. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2019-05-09.

Image forming method

Номер патента: US20190163095A1. Автор: Shiro Hirano,Junya Onishi,Ami MOTOHASHI,Kentarou MOGI. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2019-05-30.

Image forming method

Номер патента: US10627734B2. Автор: Shiro Hirano,Junya Onishi,Ami MOTOHASHI,Kentarou MOGI. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2020-04-21.

Image forming method and image forming system

Номер патента: EP3926408A1. Автор: Naoki Yoshie,Yuka SUHARA. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2021-12-22.

Photothermographic material and image forming method

Номер патента: US20060127826A1. Автор: Kouta Fukui. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2006-06-15.

Masking and protective device for military equipment

Номер патента: RU2734302C1. Автор: Сергей Владимирович Шишов,Виктор Иванович Матиенко,Александр Германович Козлов. Владелец: Александр Германович Козлов. Дата публикации: 2020-10-15.

Mask repairing apparatus, method for repairing mask and evaporation system

Номер патента: US20180148821A1. Автор: WEI Cui,Wenyue Fu. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-31.

Spectral masks and spectral flatness parameters for millimeter wave (mmwave) carrier signals in wireless communication networks

Номер патента: US20240235582A1. Автор: Lin Yang,Bin Tian,Jialing Li Chen. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Mask and Evaporation Apparatus

Номер патента: US20210230733A1. Автор: Shengji Yang,Kui Zhang. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2021-07-29.

Printing mask and method of printing adhesive pattern

Номер патента: US20200198321A1. Автор: Xu Chen,Liang Zhang,Chunchieh Huang,Shanshan Bao. Владелец: Ordos Yuansheng Optoelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2020-06-25.

Pattern forming apparatus and pattern forming method

Номер патента: US8033648B2. Автор: Hiroto Sugahara. Владелец: Brother Industries Ltd. Дата публикации: 2011-10-11.

Diagnostic mask and method

Номер патента: US20200093387A1. Автор: Roman Gutierrez,Tony Tang. Владелец: Mems Start LLC. Дата публикации: 2020-03-26.

Deposition mask and method of manufacturing deposition mask

Номер патента: US11859274B2. Автор: Chikao Ikenaga,Yasuhiro Uchida,Sachiyo MATSUURA. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2024-01-02.

Mask and evaporation system

Номер патента: US20220098718A1. Автор: Zhiyuan Zhang,Bing Han,Weili Li,Mingxing Liu. Владелец: Kunshan Govisionox Optoelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-31.

Resistive random-access memory device and forming method thereof

Номер патента: US20240074335A1. Автор: Chuan-Fu Wang,Wen-Jen Wang,Chun-hung Cheng. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2024-02-29.

Resistive random-access memory (RRAM) device and forming method thereof

Номер патента: US11871685B2. Автор: Chuan-Fu Wang,Wen-Jen Wang,Chun-hung Cheng. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2024-01-09.

Mask and method for manufacturing the same

Номер патента: US20240209489A1. Автор: Seungjin LEE,Byoungil Lee,Hong-Kyun Ahn,Jungwoo KO,Taekyong JANG. Владелец: Olum Material Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Mask and method for manufacturing the same

Номер патента: EP4394078A1. Автор: Seungjin LEE,Byoung-Il Lee,Hong-Kyun Ahn,Jungwoo KO,Taekyong JANG. Владелец: Olum Material Corp. Дата публикации: 2024-07-03.

Metal pattern forming method

Номер патента: US20230028779A1. Автор: Kenji Ichikawa,Eijiro Iwase. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-01-26.

Metal pattern forming method

Номер патента: US20090087570A1. Автор: Seiichi Inoue,Yasuhiko Maeda,Ken Kawata. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-04-02.

Mask and mask assembly

Номер патента: US20230374648A1. Автор: Bing Han,Weili Li,Yue Qiu,Wenxing Li,Jishuai Zhang,Gongzheng Zang. Владелец: Hefei Visionox Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Combined write enable mask and credit return field

Номер патента: WO2022046253A1. Автор: David Patrick,Tony M. Brewer. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2022-03-03.

Circuit pattern forming device and circuit pattern forming method

Номер патента: US20060288932A1. Автор: Nobuhito Yamaguchi,Takashi Mori,Masao Furukawa,Seiichi Kamiya,Yuji Tsuruoka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-12-28.

Laminate having organic mask and method for manufacturing organic electroluminescent device using same

Номер патента: EP3016170A1. Автор: Minsoo Kang,Sehwan Son,Hyunsik Park. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2016-05-04.

Printed circuit boards having improved adhesion between solder mask and metal

Номер патента: CA1268670A. Автор: Richard J. Radigan,David S. Rosen,Paul L.K. Hung. Владелец: M&T Chemicals Inc. Дата публикации: 1990-05-08.

Zero-overhead method for sequence reversible and pattern independent orthogonal multiplexing

Номер патента: US20030086365A1. Автор: David Horne. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2003-05-08.

Pattern forming method, film structure, electro-optical apparatus, and electronic device

Номер патента: US20050106775A1. Автор: Hironori Hasei. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2005-05-19.

Pattern forming method

Номер патента: US11800648B2. Автор: Hideki Hoshino,Masayoshi Yamauchi,Hidenobu Ohya,Masayuki Ushiku,Ryo AOYAMA,Takenori Omata,Naoto NIIZUMA,Kazuho URAYAMA. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2023-10-24.

Method of producing gold-alloy layers and patterns on substrates, products thus produced and the solutions to be used therefore

Номер патента: CA1206818A. Автор: Arian Molenaar. Владелец: Philips Gloeilampenfabrieken NV. Дата публикации: 1986-07-02.

Pattern forming method

Номер патента: US20120249664A1. Автор: Yuya Haneda,Ryoichi Nozawa. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2012-10-04.

Pattern forming method

Номер патента: EP3758456A1. Автор: Hideki Hoshino,Masayoshi Yamauchi,Hidenobu Ohya,Masayuki Ushiku,Ryo AOYAMA,Takenori Omata,Naoto NIIZUMA,Kazuho URAYAMA. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2020-12-30.

Conductive pattern forming ink, conductive pattern, and wiring substrate

Номер патента: US20090146113A1. Автор: Noboru Uehara,Toshiyuki Kobayashi,Sachiko Endo,Naoyuki Toyoda. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2009-06-11.

Resin substrate having metal film pattern formed thereon

Номер патента: US20140178571A1. Автор: Hideyuki Yamada,Kouichi Kugimiya,Kazuhisa Tsujimoto,Akimitsu Bamba. Владелец: Individual. Дата публикации: 2014-06-26.

Conductive pattern forming ink, conductive pattern, and wiring substrate

Номер патента: US20090148679A1. Автор: Naoyuki Toyoda. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2009-06-11.

Conductive pattern forming ink, conductive pattern, and wiring substrate

Номер патента: US20090145639A1. Автор: Naoyuki Toyoda. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2009-06-11.

Rifaximine polymorphous forms, methods for their preparing and their using in medicinal preparations

Номер патента: RU2270200C2. Автор: Мануэла КАМПАНА,Дарио БРАГА,Джузеппе К. ВИСКОМИ,Винченцо КАННАТА,Донателла КОФОРТИНИ,Денис СЕВЕРИНИ,Паоло РИГИ,Гоффредо РОСИНИ. Владелец: Альфа Вассерман С.п.А.. Дата публикации: 2006-02-20.

Radio terminal, radio base station, channel signal forming method and channel signal receiving method

Номер патента: RU2521089C2. Автор: Акихико НИСИО,Даити ИМАМУРА,Сейго НАКАО. Владелец: ПАНАСОНИК КОРПОРЭЙШН. Дата публикации: 2014-06-27.

Printed circuit board with wiring pattern formed thereon by screen printing and process for manufacturing the same

Номер патента: US6861591B2. Автор: Akihiro Kusaka. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-03-01.

Multi-layered structure forming method, method of manufacturing wiring substrate, and method of manufacturing electronic apparatus

Номер патента: US20070141828A1. Автор: Kenji Wada,Jun Yamada,Toshiaki Mikoshiba,Kazuaki Sakurada,Tsuyoshi Shintate. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2007-06-21.

Rotor structure and forming method therefor, and electric motor structure

Номер патента: EP4418496A1. Автор: Liangzi LI. Владелец: ZHEJIANG FOUNDER MOTOR CO Ltd. Дата публикации: 2024-08-21.

Pattern forming apparatus and method, and method of manufacturing substrate formed with pattern

Номер патента: WO2013031994A1. Автор: Jun Kodama. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-03-07.

Pattern forming device and pattern forming method

Номер патента: US20080227005A1. Автор: Hideyuki Nakao,Koichi Ishii,Masahiro Hosoya,Hiroshi Shirai,Mitsunaga Saito,Yasushi Shinjo,Shigeyuki Tashiro,Daiji Hirosawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-09-18.

Anti-Fog Medical Face Mask and A Device for Preventing Formation of Fog on Eyewear while Wearing Face Cover

Номер патента: US20210041724A1. Автор: Kiarash Ahi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-02-11.

Deposition process based on stencil mask and application to the fabrication of tags supporting multi-functional traceable codes

Номер патента: EP3119683A1. Автор: Giacomo Benvenuti,Estelle Wagner,Cosmin SANDU. Владелец: 3d-Oxides. Дата публикации: 2017-01-25.

Systems and methods for producing user-customized facial masks and portions thereof

Номер патента: WO2021211444A1. Автор: Bo Haaber. Владелец: Themagic5 Inc.. Дата публикации: 2021-10-21.

VR face mask and manufacturing method thereof

Номер патента: US12042962B2. Автор: Zishang WANG. Владелец: Qingdao Pico Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Optical device, phase plate, and image forming method

Номер патента: US20190162954A1. Автор: Masaya Okada,Shigeki Iwanaga. Владелец: Sysmex Corp. Дата публикации: 2019-05-30.

Adjustment method of inspection apparatus focus position, and pattern inspection apparatus

Номер патента: US20240280500A1. Автор: Ryoichi Hirano,Yasuhiro Yamashita,Toshiaki OTAKI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-08-22.

3g sensor mask and continuous positive airway pressure system using same

Номер патента: EP4268871A1. Автор: Jong Cheol Kim. Владелец: Mek Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-01.

Method and apparatus for manufacturing apodized phase masks and related devices

Номер патента: WO2000003297A1. Автор: SHI Yuan,Jing-Jong Pan,Feng Qing Zhou. Владелец: E-Tek Dynamics, Inc.. Дата публикации: 2000-01-20.

Polarizing mask and manufacturing method utilizing the polarizing mask

Номер патента: US09846312B2. Автор: Hyuk Yoon,Moon Soo Park,Bu Gon Shin,Sin Young Kim. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2017-12-19.

Pattern data generation method and pattern data generation program

Номер патента: US20090037852A1. Автор: Sachiko Kobayashi,Suigen Kyoh,Shimon Maeda. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-02-05.

Pattern inspecting system and pattern inspecting method

Номер патента: US20010009461A1. Автор: Mari Nozoe,Haruo Yoda. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-07-26.

Cliché, method of manufacturing cliché, and pattern formed by roll printing method

Номер патента: US8925456B2. Автор: Sung Hee Lee,Jae-Hyuk Chang,Hyun-seok Kim,Seung-Jun Lee,Sin Kwon,Gug-Rae Jo. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2015-01-06.

Anti-fog medical face mask and device for preventing formation of fog on eyewear while wearing face cover

Номер патента: WO2022055775A1. Автор: Ahi Kiarash. Владелец: Kiarash Ahi. Дата публикации: 2022-03-17.

Forming method of thin layer

Номер патента: US11780728B2. Автор: Yasushi Mizumachi,Kazunari Tada,Jinichi Kasuya. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2023-10-10.

Device with conductive light-absorbing mask and method of making said device

Номер патента: RU2389051C2. Автор: Маниш КОТХАРИ. Владелец: АйДиСи, ЭлЭлСи. Дата публикации: 2010-05-10.

Pattern noise removal device, pattern noise removal method, and pattern noise removal program

Номер патента: US20120057797A1. Автор: Masanori Hara. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2012-03-08.

X-ray face mask and bib device

Номер патента: CA1161601A. Автор: David J. Forshee. Владелец: Individual. Дата публикации: 1984-02-07.

Systems and methods for producing user-customized facial masks and portions thereof

Номер патента: US20230139237A1. Автор: Bo Haaber. Владелец: Themagic5 Inc. Дата публикации: 2023-05-04.

X-ray face mask and chest shield device

Номер патента: CA1155564A. Автор: Samuel Moti. Владелец: Individual. Дата публикации: 1983-10-18.

System and method for producing custom fitted face masks and applications thereof

Номер патента: US11887320B1. Автор: Christopher Sullivan,Matthew Williams,Matthew Sullivan. Владелец: Oceanit Laboratories Inc. Дата публикации: 2024-01-30.

System and method for adaptive masking and non-directional language understanding and generation

Номер патента: US20220180071A1. Автор: Hyun Woo Kim,Ran HAN,Jeon Gue Park,Hwa Jeon Song,Eui Sok Chung,Gyeong Moon PARK,Byung Hyun Yoo. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute ETRI. Дата публикации: 2022-06-09.

Round robin arbiter with mask and reset mask

Номер патента: US20120173781A1. Автор: Ballori Banerjee,James F. Vomero. Владелец: LSI Corp. Дата публикации: 2012-07-05.

Improvement of interaction between a mask and a patient during therapy

Номер патента: EP4330978A1. Автор: Cornelis Petrus Hendriks,Joyce Van Zanten,Joachim Johannes KAHLERT,Pedro Miguel FERREIRA DOS SANTOS DA FONSECA,Olaf VAN DER SLUIS. Владелец: Koninklijke Philips NV. Дата публикации: 2024-03-06.

Handling Mask and Range Constraints

Номер патента: US20090259703A1. Автор: Ehud Aharoni,Oded Margalit. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2009-10-15.

Lens design with mask and method for myopia prevention and/or progression reduction

Номер патента: RU2631210C2. Автор: Ноэль А. БРЕННАН,Сюй ЧЭН,Кхалед А. ЧЕХАБ,Синь ВЭЙ,Джеффри Х. Роффман,Курт Джон МУДИ. Владелец: Джонсон Энд Джонсон Вижн Кэа, Инк.. Дата публикации: 2017-09-19.

Method for designing mask and fabricating panel

Номер патента: US20050128398A1. Автор: Jeong Kim,Kyung Kang,Jo Jeong,Myung Nam,Jae Shin. Владелец: LG Philips LCD Co Ltd. Дата публикации: 2005-06-16.

Systems and methods for hardware acceleration of masking and normalizing data with a triangular input mask

Номер патента: US20230376663A1. Автор: Jinwen Xi. Владелец: Microsoft Technology Licensing LLC. Дата публикации: 2023-11-23.

Generating a Number based on Mask and Range Constraints

Номер патента: US20120185522A1. Автор: Ehud Aharoni,Oded Margalit. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2012-07-19.

Auto-generated shader masks and parameters

Номер патента: US20240119655A1. Автор: Joseph Logan Olson,Gabriel LASSONDE,Olivier CARIGNAN. Владелец: Sony Interactive Entertainment LLC. Дата публикации: 2024-04-11.

Systems and methods for hardware acceleration of masking and normalizing data with a triangular input mask

Номер патента: WO2023229679A1. Автор: Jinwen Xi. Владелец: Microsoft Technology Licensing, LLC. Дата публикации: 2023-11-30.

Auto-generated shader masks and parameters

Номер патента: WO2024077020A1. Автор: Joseph Logan Olson,Gabriel LASSONDE,Olivier CARIGNAN. Владелец: Sony Interactive Entertainment LLC. Дата публикации: 2024-04-11.

Device for operating and testing gas masks and breathing equipment

Номер патента: US5289819A. Автор: Rainer Kröger,Ralf Dramenski. Владелец: Draegerwerk AG and Co KGaA. Дата публикации: 1994-03-01.

Synergistic Object Tracking and Pattern Recognition for Event Representation

Номер патента: US20230252651A1. Автор: Kevin Prince,Keith Comito. Владелец: Disney Enterprises Inc. Дата публикации: 2023-08-10.

Synergistic Object Tracking and Pattern Recognition for Event Representation

Номер патента: US20220383519A1. Автор: Kevin Prince,Keith Comito. Владелец: Disney Enterprises Inc. Дата публикации: 2022-12-01.

Magnetic pattern forming method, magnetic pattern forming apparatus, magnetic disk, and magnetic recording apparatus

Номер патента: US20020097640A1. Автор: Hiroyuki Ikeda,Yuzo Seo,Toshihiko Kuriyama,Takeshi Kuriwada. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-07-25.

Servo pattern forming method of hard disk drive

Номер патента: US20100297364A1. Автор: Cheol-soon Kim,Ha Yong Kim,Yoon Chul CHO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2010-11-25.

Synergistic object tracking and pattern recognition for event representation

Номер патента: US12125219B2. Автор: Kevin Prince,Keith Comito. Владелец: Disney Enterprises Inc. Дата публикации: 2024-10-22.

Combined pattern holder and pattern position indicator

Номер патента: CA1147142A. Автор: Manny C. Hamburger. Владелец: Individual. Дата публикации: 1983-05-31.

Interpretation of features for signal processing and pattern recognition

Номер патента: WO2002095730A1. Автор: JI Ming,Francis John Smith,Peter Jancovic. Владелец: Queen's University Of Belfast. Дата публикации: 2002-11-28.

Determining Transient Error Functional Masking And Propagation Probabilities

Номер патента: US20160370429A9. Автор: Jamil Raja Mazzawi,Ayman Kamil Mouallem. Владелец: OPTIMA DESIGN AUTOMATION LTD. Дата публикации: 2016-12-22.

Alarm maps to facilitate root cause analysis through spatial and pattern recognition

Номер патента: WO2007140133A3. Автор: Geoffrey Ho,Yong Ming Kow,Jakub Ja Andrzejewski,Janet Jzx Jin,Sinem C Gonknur. Владелец: Sinem C Gonknur. Дата публикации: 2008-03-13.

Systems and methods for application of statistical classification and pattern recognition for compartment design in horizontal oil wells

Номер патента: US20240026778A1. Автор: Raheel R. Baig. Владелец: Saudi Arabian Oil Co. Дата публикации: 2024-01-25.

Alarm maps to facilitate root cause analysis through spatial and pattern recognition

Номер патента: WO2007140133A2. Автор: Geoffrey Ho,Yong Ming Kow,Jakub Ja Andrzejewski,Janet Jzx Jin,Sinem C. Gonknur. Владелец: HONEYWELL INTERNATIONAL INC.. Дата публикации: 2007-12-06.

Textile matching using color and pattern recognition and methods of use

Номер патента: US20200057912A1. Автор: Bin Jin,Terrence A. CARROLL,Peter Hussami,András KALECZ-SIMON. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-02-20.

Supervised reimaging of vulnerable computing devices with prioritization, auto healing, and pattern detection

Номер патента: WO2021096761A1. Автор: Mark R. GILBERT,Tanmoy Dasgupta,Muthukumaran ARUMUGAM,Tom W. TSENG,Lane A. SCHAFER. Владелец: Microsoft Technology Licensing, LLC. Дата публикации: 2021-05-20.

Systems and methods for color and pattern analysis of images of wearable items

Номер патента: US10528814B1. Автор: Steven Sesshu SHIMOZAKI. Владелец: Caastle Inc. Дата публикации: 2020-01-07.

Supervised reimaging of vulnerable computing devices with prioritization, auto healing, and pattern detection

Номер патента: EP4058918A1. Автор: Mark R. GILBERT,Tanmoy Dasgupta,Muthukumaran ARUMUGAM,Tom W. TSENG,Lane A. SCHAFER. Владелец: Microsoft Technology Licensing LLC. Дата публикации: 2022-09-21.

Dynamic fault model generation for diagnostics simulation and pattern generation

Номер патента: US20170199946A1. Автор: Gary W. Maier,Franco Motika,Mary P. Kusko,Phong T. Tran. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-07-13.

Dynamic fault model generation for diagnostics simulation and pattern generation

Номер патента: US9852245B2. Автор: Gary W. Maier,Franco Motika,Mary P. Kusko,Phong T. Tran. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-12-26.

Forming method of magnetic pattern and manufacturing method of patterned media using the same

Номер патента: WO2009082150A2. Автор: Jongill Hong,Shinill Kang. Владелец: Industry-Academic Cooperation Foundation, Yonsei University. Дата публикации: 2009-07-02.

System and method for locating color and pattern match regions in a target image

Номер патента: EP1218851A2. Автор: Nicolas Vazquez,Dinesh Nair,Darren Schmidt,Siming Lin. Владелец: National Instruments Corp. Дата публикации: 2002-07-03.

System and method for harmonic modulation of standing wavefields for spatial focusing, manipulation and patterning

Номер патента: WO2016118533A8. Автор: Timothy E. Doyle,Blain JOHNSON,Brian C. PATCHETT,Natalie C. SULLIVAN. Владелец: Utah Valley University. Дата публикации: 2018-01-04.

Process for real time geological localization with stochastic clustering and pattern matching

Номер патента: US11401798B2. Автор: Neilkunal Panchal,Mingqi Wu,Sami Mohammed Khair SULTAN. Владелец: Shell USA Inc. Дата публикации: 2022-08-02.

The method the information is dynamically encoded, and a method of decoding the information, in particular using a combination with unique characteristics and patterns on the surface structure of the material

Номер патента: WO2024147032A1. Автор: Swapan CHAUDHURI,Andrzej Saja. Владелец: Deeplai Prosta Spółka Akcyjna. Дата публикации: 2024-07-11.

Contextual item discovery and pattern inculcated reminder mechanism

Номер патента: US20240304075A1. Автор: Shikhar KWATRA,Amitava Kundu,Pritesh Patel,Sujatha B. Perepa. Владелец: Kyndryl Inc. Дата публикации: 2024-09-12.

System and method for creating dynamic, chord based, MIDI scale and pattern generator effects that fit over incoming chords from external sources

Номер патента: US12087260B1. Автор: Zachary Charles Kinter. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-09-10.

Disc streak pattern forming method and apparatus

Номер патента: US5800253A. Автор: Kiyoshi Ikemoto. Владелец: SpeedFam Co Ltd. Дата публикации: 1998-09-01.

Pattern forming ink composition, light guide plate, light emitting unit and liquid crystal display element having the light emitting unit

Номер патента: US20120002138A1. Автор: Chih-Hung Lin,Chia Hui Yu. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2012-01-05.

Optical scanning apparatus for the acquisition and digitization of the peripheral shapes of eyeglass frames, lenses and pattern cams

Номер патента: CA1211845A. Автор: Dieter W. Blum,Andrew S. Duncan. Владелец: Individual. Дата публикации: 1986-09-23.

Associative memory processing method for natural language parsing and pattern recognition

Номер патента: US5619718A. Автор: Nelson Correa. Владелец: Individual. Дата публикации: 1997-04-08.

Concave/convex pattern forming method and information recording medium manufacturing method

Номер патента: US20070199920A1. Автор: Minoru Fujita,Mitsuru Takai,Akimasa Kaizu. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2007-08-30.

Pattern forming method and manufacturing method of magnetic recording medium

Номер патента: US9412405B2. Автор: Akira Watanabe,Akira Fujimoto,Kaori Kimura. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-08-09.

Contextual item discovery and pattern inculcated reminder mechanism

Номер патента: US20230306837A1. Автор: Shikhar KWATRA,Amitava Kundu,Pritesh Patel,Sujatha B. Perepa. Владелец: Kyndryl Inc. Дата публикации: 2023-09-28.

System and methods for streaming string similarity and pattern matching

Номер патента: US20230401246A1. Автор: Anup Rao,Tung Mai,Ryan A. Rossi. Владелец: Adobe Inc. Дата публикации: 2023-12-14.

Process for real time geological localization with stochastic clustering and pattern matching

Номер патента: US20210293133A1. Автор: Neilkunal Panchal,Mingqi Wu,Sami Mohammed Khair SULTAN. Владелец: Shell Oil Co. Дата публикации: 2021-09-23.

Stereogram display member and forming method thereof

Номер патента: US20150055217A1. Автор: Nobuyasu Gomyou. Владелец: NANGO CO Ltd. Дата публикации: 2015-02-26.

Process for real time geological localization with stochastic clustering and pattern matching

Номер патента: WO2020028305A1. Автор: Neilkunal Panchal,Mingqi Wu,Sami Mohammed Khair SULTAN. Владелец: Shell Internationale Research Maatschappij B.V.. Дата публикации: 2020-02-06.

Contextual item discovery and pattern inculcated reminder mechanism

Номер патента: US12014617B2. Автор: Shikhar KWATRA,Amitava Kundu,Pritesh Patel,Sujatha B. Perepa. Владелец: Kyndryl Inc. Дата публикации: 2024-06-18.

Light source type discriminating method, image forming method, method and apparatus for estimating light source energy distribution, and exposure amount determining method

Номер патента: US20040119977A1. Автор: Koji Takahashi,Makoto Yamada,Hideyasu Ishibashi. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2004-06-24.

Image forming method and device

Номер патента: RU2713859C1. Автор: Вэй ГО. Владелец: Алибаба Груп Холдинг Лимитед. Дата публикации: 2020-02-07.

Method of hierarchical data structure forming, method of data search using hierarchical data structure, server and permanent machine-readable media

Номер патента: RU2632414C2. Автор: Леонид Леонидович Налчаджи. Владелец: Общество С Ограниченной Ответственностью "Яндекс". Дата публикации: 2017-10-04.

Image processing for forming realistic stratum detritus detail in a camouflage pattern and a camouflage pattern formed thereby

Номер патента: US20140294297A1. Автор: Michael A Rosswog,Karen Skolnick. Владелец: NTA ENTERPRISE Inc. Дата публикации: 2014-10-02.

Pattern forming body

Номер патента: US20050031973A1. Автор: Hironori Kobayashi,Kaori Yamashita. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2005-02-10.

Method and device for imaging a fragmentation pattern formed in a ply of toughened glass

Номер патента: EP2205963A1. Автор: Simon Peter Aldred. Владелец: Pilkington Group Ltd. Дата публикации: 2010-07-14.

Method and device for imaging a fragmentation pattern formed in a ply of toughened glass

Номер патента: WO2009056882A1. Автор: Simon Peter Aldred. Владелец: Pilkington Group Limited. Дата публикации: 2009-05-07.

Method and Apparatus For Measuring Dimension Of Circuit Pattern Formed On Substrate By Using Scanning Electron Microscope

Номер патента: US20110127429A1. Автор: Atsushi Miyamoto,Tomofumi Nishiura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-06-02.

Image forming method using ultrasound and aberration correction method

Номер патента: EP2269091A2. Автор: Yasuyoshi Takai,Toru Sato,Keishi Saito,Kenichi Nagae,Katsuya Oikawa,Hirofumi Taki,Yasuhiro Someda. Владелец: Kyoto University NUC. Дата публикации: 2011-01-05.

Image forming method using ultrasound and aberration correction method

Номер патента: US09689974B2. Автор: Yasuyoshi Takai,Toru Sato,Keishi Saito,Kenichi Nagae,Katsuya Oikawa,Hirofumi Taki,Yasuhiro Someda. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-06-27.

Fabrication method of liquid crystal display panel and seal pattern forming device using the same

Номер патента: US7342639B2. Автор: Johann Jung,Jeong-Rok Kim,Kyung-Kyu Kang,Jae-Deuk Shin,Myung-Woo Nam. Владелец: LG Philips LCD Co Ltd. Дата публикации: 2008-03-11.

Curved display screen, carrying structure thereof and forming method

Номер патента: EP4116959A1. Автор: Bin Zhu,Fei Shen,Xiaobing Shen,Lili Ji,Lingling Jiang. Владелец: Nanjing Lopu Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-11.

Device for projecting mask with beam of femtosecond and picosecond laser, containing limiter, mask and system of lenses

Номер патента: RU2689018C2. Автор: Шарль БЁЛЬИ,Энди ЭНГЕЛ,Маттиас КАЛЬ,Гюнтер РАЙССЕ,Штеффен ВАЙССМАНТЕЛЬ,Мануэль ПФАЙФФЕР,Александер КРАЧ. Владелец: Бёльи-Гравюр Са. Дата публикации: 2019-05-23.

Film forming method for forming metal film

Номер патента: US20240229278A9. Автор: Koji Inagaki,Keiji Kuroda,Haruki KONDOH. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Safe case for protective masks and filters and method of its use

Номер патента: WO2023080850A2. Автор: Tea PIRNAT. Владелец: Tpredrzno D.O.O.. Дата публикации: 2023-05-11.

Connector for a respiratory mask and a respiratory mask

Номер патента: US20120048276A1. Автор: Geoffrey Crumblin,Michael K. Gunaratnam,Joanne E. Drew,Susan R. Lynch,Phillip Jenkinson. Владелец: ResMed Pty Ltd. Дата публикации: 2012-03-01.

Aquaculture pond masking and feeding system

Номер патента: NL2028337B1. Автор: Wu Song,WANG Peng,Gao Lei,Li Chenhui,Bai Shuyan,Hao Qirui,Tang Shizhan,Chen Zhongxiang,Qin Dongli,Du Ningning. Владелец: Heilongjiang River Fisheries Res Institute Chinese Academy Of Fishery Sciences. Дата публикации: 2022-06-16.

Method and mask for making watermarked paper, method for making resulting watermarked paper mask, and method for authenticating watermarked paper

Номер патента: RU2748464C2. Автор: Иван ТЬЕРРИ,Стефан МАЛЛОЛЬ. Владелец: Обертюр Фидюсьер Сас. Дата публикации: 2021-05-25.

Pattern forming method for quartz surface and pattern forming device for quartz surface

Номер патента: CA3001392A1. Автор: Paul Lee,Jin Seok Kwak,Ju Yeon Won,Suk Whan Ko,Joong Heon Lee,Jung Sang Lee,Yang Won Yun,Chung Man Kim. Владелец: LG HAUSYS LTD. Дата публикации: 2019-05-15.

Quick Adjust Mask and Method for Using the Same

Номер патента: US20190351171A1. Автор: Steve Islava. Владелец: Individual. Дата публикации: 2019-11-21.

Method of manufacturing face mask and nasal spray infused with antiviral and antibacterial Artemisia Argyi

Номер патента: US12096810B2. Автор: Meiqing Gong. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-09-24.

A Blueberry Moisturizing and Hydrating Facial Mask and Its Preparation Method

Номер патента: AU2021102391A4. Автор: Qing Xu,Qiang JIA,Fei Nie,Zhu HUANG,Yuanjing Zhou. Владелец: Insititute Of Biology Guizhou Academy Of Sciences. Дата публикации: 2021-06-24.

Simulated diving mask and snorkel for doll

Номер патента: WO1999006129A1. Автор: Toshio Yamasaki,Odette Souza-Ferreira. Владелец: MATTEL, INC.. Дата публикации: 1999-02-11.

Cleaning method and cleaning device for sealing mask, and production method for honeycomb structure

Номер патента: US20140311534A1. Автор: Masaharu Mori,Ying Gong. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2014-10-23.

Anti-virus face mask and filter

Номер патента: US20210386144A1. Автор: Christopher A. Wiklof,Donald Kendrick. Владелец: Electro Mask LLC. Дата публикации: 2021-12-16.

Pm mask and inhalation device

Номер патента: WO2020190158A3. Автор: Jan WIŚNIEWSKI. Владелец: WISNIEWSKI Jan. Дата публикации: 2020-11-19.

Dental face mask and shield system and method of making

Номер патента: US12023215B2. Автор: Abeer ElSayed ELEMBABY. Владелец: Imam Abdulrahman Bin Faisal University. Дата публикации: 2024-07-02.

Color diving mask and method of making same

Номер патента: US20040261160A1. Автор: Chih-Ban Hsu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-12-30.

Antibacterial and antiviral degradable mask and manufacturing method thereof

Номер патента: US20240237765A1. Автор: Chao Deng,Qiang YONG,Chengcheng Li,Xiangyu Jin,Farzad SEIDI,Haiying WEI. Владелец: NANJING FORESTRY UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-07-18.

Hair masks and balsam (options)

Номер патента: RU2677275C1. Автор: Константин Владимирович Волков. Владелец: Талагаева Елена Владимировна. Дата публикации: 2019-01-16.

Electronic mask and controlling method thereof

Номер патента: US20240198142A1. Автор: Hyojin Kim,Sungjune CHO,Younglae Jo,Yeonseung OH. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-20.

Face Masks and Methods of Producing Same

Номер патента: US20230149750A1. Автор: Ken Milam. Владелец: Thermopore Materials Corp. Дата публикации: 2023-05-18.

Mask and air pressure control systems for use in coating deposition

Номер патента: AU2021269073B2. Автор: Mehran Arbab,Alan Hudd,Simon Kew,Yong Han YEONG,Adam COLBOURNE,Jonny WAITE,Henry ROLT. Владелец: PRC Desoto International Inc. Дата публикации: 2024-09-12.

Equine mask and sun visor

Номер патента: US20110253064A1. Автор: Yvonne Cates. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-10-20.

Electronic mask and method of controlling the same

Номер патента: US20240100369A1. Автор: Kyungah CHANG,Mijo Kang,Mukyong Kim,Sungkoo CHO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-28.

Mouth gag for the introduction of laryngeal masks and other medical devices through oral cavity

Номер патента: US20110251467A1. Автор: Pere Poch Marti. Владелец: Fundacio Hospital Asil De Granollers. Дата публикации: 2011-10-13.

Sterilization of face masks and face mask components

Номер патента: US20220125979A1. Автор: Jessica Williams,Aaron Neighbour. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-04-28.

Masking and sealing system for multi-step surface treatment

Номер патента: CA3150390A1. Автор: James Piascik,Glenn Sklar,Joseph William Mintzer, Iii,Nicola Amatangelo. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2022-04-07.

Aerosol containment mask and methods of use thereof

Номер патента: US20240285001A1. Автор: John CASHIN,Mohamed Zayed. Владелец: Washington University in St Louis WUSTL. Дата публикации: 2024-08-29.

Pattern forming device and pattern forming method

Номер патента: US20240141278A1. Автор: Takahiro Oba,Yusuke Kasai. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-05-02.

Pattern forming device and pattern forming method

Номер патента: EP4365276A1. Автор: Takahiro Oba,Yusuke Kasai. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-05-08.

Reusable liner for use with respiratory mask and method of making same

Номер патента: US12053583B2. Автор: Connie Brooks-MacDonald. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-08-06.

Pattern-bearing sheet for use in simultaneous injection-molding and pattern-forming method

Номер патента: US5843555A. Автор: Kazuhisa Kobayashi,Hiroyuki Atake. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 1998-12-01.

Generation of mask and contrast image data in a continuous acquisition

Номер патента: US20160029987A1. Автор: Bernhard Erich Hermann Claus,David Allen Langan. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2016-02-04.

Mask and headgear connector

Номер патента: EP1187650A4. Автор: Michael Kassipillai Gunaratnam,Philip Rodney Kwok. Владелец: ResMed Pty Ltd. Дата публикации: 2003-04-16.

Antiviral mask and antiviral filter made from a breathable microporous polymeric membrane

Номер патента: US20230225433A1. Автор: Dibakar Bhattacharyya,Thomas D. Dziubla,Rollie Mills,J. Todd Hastings,Yinan Wei,R.J. Vogler,Matthew Bernard,Jacob Concolino,Kevin C. Baldridge. Владелец: University of Kentucky Research Foundation. Дата публикации: 2023-07-20.

Microscopic scale forming method by selective etching of a doped substrate

Номер патента: WO2001032554A3. Автор: Glenn J Fricano,Mark Lizza,Thomas A Pumo,William S Trimmer. Владелец: Standard Mems Inc. Дата публикации: 2001-11-01.

Method for forming pattern on surface of board and pattern-formed board formed by method

Номер патента: US20140170396A1. Автор: Sang Geun Lee. Владелец: Individual. Дата публикации: 2014-06-19.

Generation of mask and contrast image data in a continuous acquisition

Номер патента: US09895119B2. Автор: Bernhard Erich Hermann Claus,David Allen Langan. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2018-02-20.

Method of remanufacturing used cylinder liners and mask and used cylinder liner assembly

Номер патента: WO2015006122A1. Автор: Aaron CLAVER,Trent A. Simpson. Владелец: CATERPILLAR INC.. Дата публикации: 2015-01-15.

Method Of Remanufacturing Used Cylinder Liners And Mask And Used Cylinder Liner Assembly

Номер патента: US20150013159A1. Автор: Trent Simpson,Aaron CLAVER. Владелец: Caterpillar Inc. Дата публикации: 2015-01-15.

Air filter insertion for mask and air treatment installation applied as a therapeutical or preventive process

Номер патента: WO2010125415A1. Автор: Adam Kovacs. Владелец: Kovacs Adam. Дата публикации: 2010-11-04.

Method of remanufacturing used cylinder liners and mask and used cylinder liner assembly

Номер патента: US09676068B2. Автор: Trent Simpson,Aaron CLAVER. Владелец: Caterpillar Inc. Дата публикации: 2017-06-13.

CPAP machine mask and hose holder

Номер патента: US20190076610A1. Автор: Joseph Stephen Alarid. Владелец: Individual. Дата публикации: 2019-03-14.

Laryngoscopy mask and method of its manufacturing

Номер патента: RU2336910C2. Автор: Лассе ПЕТЕРСЕН,Пеер ХОФФМАНН. Владелец: Амбу А/С. Дата публикации: 2008-10-27.

Respiratory face mask and method for making face mask with using separate mould products

Номер патента: RU2379075C2. Автор: Пол Дж. ФЛАННИГАН,Стивен Дж. МАКСА. Владелец: ЗМ Инновейтив Пропертиз Компани. Дата публикации: 2010-01-20.

Safe case for protective masks and filters and method of its use

Номер патента: WO2023080850A3. Автор: Tea PIRNAT. Владелец: Tpredrzno D.O.O.. Дата публикации: 2023-06-15.

Area coated paint mask and method

Номер патента: US4420520A. Автор: Wallace R. Jones,Paul A. Krieger,John F. Haas. Владелец: Excello Specialty Co. Дата публикации: 1983-12-13.

Stack of interfolded face masks and dispenser

Номер патента: WO2011109458A3. Автор: Alexander C. Tsuei. Владелец: 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY. Дата публикации: 2012-01-26.

Face mask and face mask cover

Номер патента: US5479658A. Автор: Daniel S. Harris. Владелец: Individual. Дата публикации: 1996-01-02.

Combination sleep eye mask and face mask

Номер патента: US20200281770A1. Автор: Manuel Salvador Moreno,Edgar Daniel Bosquez Fuentes. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-09-10.

Complex mask and cannula for intranasal positive continuous pressure in airways

Номер патента: RU2476247C2. Автор: Стив ХЭН,Стив ДЮКЕТТ,Харольд МИЛЛЕР. Владелец: Кэафьюжн 207, Инк.. Дата публикации: 2013-02-27.

Respirator with an outer mask and an inner oronasal mask, each with a one-way valve and filter

Номер патента: NZ550364A. Автор: Robert Charles Sutton,Grant Stuart Richardson. Владелец: Scott Health & Safety LTD. Дата публикации: 2010-03-26.

Manufacturing method of preservative-free facial mask and process equipment thereof

Номер патента: US10849833B2. Автор: Fengying Qian. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-12-01.

Manufacturing method of preservative-free facial mask and process equipment thereof

Номер патента: US20190183745A1. Автор: Fengying Qian. Владелец: Individual. Дата публикации: 2019-06-20.

Water-soluble unidirectional moisture transport traditional Chinese medicine facial mask and preparation thereof

Номер патента: US11998623B2. Автор: Jinlian Hu,Shuo SHI,Yifan Si,Chunxia Guo. Владелец: City University of Hong Kong CityU. Дата публикации: 2024-06-04.

Self-heating insulating film and face mask and eye mask manufactured therefrom

Номер патента: RU2683719C2. Автор: Лэй Чэнь,Инло ХУАН. Владелец: Хэнди Текнолоджи (Чжухай) Лтд.. Дата публикации: 2019-04-01.

Respiratory face mask and air filter for personal respiratory protection

Номер патента: RU2744888C1. Автор: Марк Нахимович Бахрах,Игорь Владимирович Качко,Семен Литвин,Алекс ЛЮБОМИРСКИЙ,Михаель Гершман. Владелец: Джен Триз, Ллс. Дата публикации: 2021-03-16.

Goggle mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US20190358496A1. Автор: Chih-Cheng Shiue. Владелец: QBAS Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-28.

Ventilator mask and joint thereof

Номер патента: US20230144588A1. Автор: Chia-Jung Chen,Zu-Chun Lin,Yi-Fong Jhuo,Mei-Chin Hung,Hsing-Long Lin. Владелец: BUDDHIST TZU CHI MEDICAL FOUNDATION. Дата публикации: 2023-05-11.

Oxygen face mask and component system

Номер патента: EP2953538A1. Автор: Edward P. Browka,Stanton D. Batchelor,John W. Beard,V David S. Reid,III Thomas R. BLACKBURN. Владелец: MONITOR MASK Inc. Дата публикации: 2015-12-16.

Facial access oxygen face mask and component system

Номер патента: EP3166675A2. Автор: John W. Beard. Владелец: MONITOR MASK Inc. Дата публикации: 2017-05-17.

Film forming method for forming metal film

Номер патента: US20240133068A1. Автор: Koji Inagaki,Keiji Kuroda,Haruki KONDOH. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2024-04-25.

Prolonged release drug preparation, adsorbent, functional foodstuff, mask and adsorbent layer

Номер патента: RU2476230C2. Автор: Сейитиро ТАБАТА,Такеси ХОРИЕ,Синитиро ЯМАДА,Цутому НОГУТИ. Владелец: Сони Корпорейшн. Дата публикации: 2013-02-27.

Protective mask, inner wall, cover and outer wall for protective mask, and method for decreasing air mixing by means of protective mask

Номер патента: RU2162679C2. Автор: ЭКЛУНД Йорген,МАСЕС Челль. Владелец: Хернелль Интернэшнл АБ. Дата публикации: 2001-02-10.

Face mask and method for making the same

Номер патента: AU2011202073B2. Автор: Jung-Chi Tai. Владелец: Kang Na Hsiung Enterprise Co Ltd. Дата публикации: 2012-09-13.

Facial access oxygen face mask and component system

Номер патента: US20180110951A2. Автор: John W. Beard. Владелец: MONITOR MASK Inc. Дата публикации: 2018-04-26.

Mask and Evaporation Device

Номер патента: US20180245198A1. Автор: Peng Xu,Jie Liu,Shengkai Pan,Yongkang QIAO. Владелец: Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-08-30.

Filter element, medical mask and respirator

Номер патента: RU2750600C1. Автор: Михаил Рудольфович Предтеченский,Владимир Генриевич Меледин,Михаил Сергеевич Галков,Владимир Оскарович Сайк,Александр Евгеньевич Безродный,Вячеслав Ервандович Мурадян,Артем Владимирович Алексеев,Павел Александрович Карпик,Михаил Константинович Лазарев. Владелец: МСД Текнолоджис С.а р.л.. Дата публикации: 2021-06-29.

Respiratory face mask and breathing circuit assembly

Номер патента: US8826905B2. Автор: Ramses Nashed. Владелец: Ramses Nashed. Дата публикации: 2014-09-09.

Mask and a production method therefor

Номер патента: EP2606938A2. Автор: Sung Kyu Lee,Sang Min Lee,Jae-Sung Park,Woon Bong Hwang,Byung Rak Park. Владелец: Academy Industry Foundation of POSTECH. Дата публикации: 2013-06-26.

Dental face mask and shield system and method of making

Номер патента: US20230240799A1. Автор: Abeer ElSayed ELEMBABY. Владелец: Imam Abdulrahman Bin Faisal University. Дата публикации: 2023-08-03.

Portable heating sterilization storage bag for face masks and cloth products

Номер патента: US20220062450A1. Автор: Yi-Yan Yang,Li Chieh Cheng. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-03-03.

One-piece surgical mask and cap

Номер патента: US5937445A. Автор: Biagio Ravo,Enrico Nicolo. Владелец: Individual. Дата публикации: 1999-08-17.

First-aid mask and inflatable structure thereof

Номер патента: US20180110945A1. Автор: Yung-Chu Cheng,Chien-Feng Cheng,Yu-Liang Cheng. Владелец: Center Healthcare Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-26.

Laser beam machining device with protective mask and safety switches

Номер патента: US6008466A. Автор: Naoyoshi Hosoda. Владелец: Nihon Welding Co Ltd. Дата публикации: 1999-12-28.

Face masks and kits therefor

Номер патента: GB2092009A. Автор: . Владелец: Khan & Co Luton Ltd. Дата публикации: 1982-08-11.

Disposable surgical face mask and method of producing it

Номер патента: CA1169601A. Автор: Rory J.M. Smith,David A. Coates. Владелец: Surgikos Inc. Дата публикации: 1984-06-26.

Anti-propylene mask and method for preparation thereof

Номер патента: US20230211190A1. Автор: XIN YANG,Jing Hu,Yuting Wang,Yuqing Liu,Kaiyi Chen,Ranran LI. Владелец: Nantong Textile and Silk Industrial Technology Research Institute. Дата публикации: 2023-07-06.

Odor masking and eliminating composition used by hunters

Номер патента: US20170290343A1. Автор: Timothy Acosta. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-10-12.

Photocatalytic facial mask and method for manufacturing the same

Номер патента: US20220296766A1. Автор: Jae-Hyun Kim,Bongkyun JANG,Sueng-Mo LEE. Владелец: Center for Advanced Meta Materials. Дата публикации: 2022-09-22.

Face mask and method for manufacturing thereof

Номер патента: US11944138B2. Автор: Alexander Chieruen Tsuei,Angie Carol Tsuei,Feng-Yi Tsuei. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-04-02.

Mask and air pressure control systems for use in coating deposition

Номер патента: WO2021226539A9. Автор: Mehran Arbab,Alan Hudd,Simon Kew,Yong Han YEONG,Adam COLBOURNE,Jonny WAITE,Henry ROLT. Владелец: PRC-DeSoto International, Inc.. Дата публикации: 2022-05-19.

Mask and air pressure control systems for use in coating deposition

Номер патента: US20230173523A1. Автор: Mehran Arbab,Alan Hudd,Simon Kew,Yong Han YEONG,Adam COLBOURNE,Jonny WAITE,Henry ROLT. Владелец: PRC Desoto International Inc. Дата публикации: 2023-06-08.

Mask and air pressure control systems for use in coating deposition

Номер патента: CA3176820A1. Автор: Mehran Arbab,Alan Hudd,Simon Kew,Yong Han YEONG,Adam COLBOURNE,Jonny WAITE,Henry ROLT. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-11-11.

Mask and air pressure control systems for use in coating deposition

Номер патента: EP4146406A1. Автор: Mehran Arbab,Alan Hudd,Simon Kew,Yong Han YEONG,Adam COLBOURNE,Jonny WAITE,Henry ROLT. Владелец: PRC Desoto International Inc. Дата публикации: 2023-03-15.

Combination of face mask and dental device

Номер патента: CA2191704C. Автор: W. Keith Thornton. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-11-21.

Mask and Method for Making a Mask

Номер патента: US20190289944A1. Автор: Keith A. Fotta,Robert E. Ziemba, Jr.,Carlos D. Dominguez,Rosario Rosales. Владелец: University Outfitters LLC. Дата публикации: 2019-09-26.

Mask and headgear connector

Номер патента: AU5200700A. Автор: Michael Kassipillai Gunaratnam,Philip Rodney Kwok. Владелец: ResMed Pty Ltd. Дата публикации: 2001-01-09.

Mask and headgear connector

Номер патента: US9901701B2. Автор: Michael Kassipillai Gunaratnam,Philip Rodney Kwok. Владелец: ResMed Pty Ltd. Дата публикации: 2018-02-27.

Combined half-mask and hood type protective respiratory device

Номер патента: US5431156A. Автор: Michael Sundstrom. Владелец: Sundstroem Safety AB. Дата публикации: 1995-07-11.

Ear-hanging member for mask, and mask

Номер патента: EP4316604A1. Автор: Kodai Ujiie. Владелец: Daio Paper Corp. Дата публикации: 2024-02-07.

Protective respiratory mask and check valve for the same

Номер патента: EP4347055A1. Автор: Weizhong Chen,Zhongchi LUO,Haiyong Huang. Владелец: Koninklijke Philips NV. Дата публикации: 2024-04-10.

Patient interface having adaptive system, respiratory mask and cushion module adapted with adaptive system

Номер патента: US11819614B2. Автор: Chun-Hung Chen,Yu-Chen Liu,Chih-Tsan CHIEN,Chia-Wei Huang,Pi-Kai Lee,Shin-Lan Lin. Владелец: Apex Medical Corp. Дата публикации: 2023-11-21.

Granule in which unpleasant taste is masked and method for producing granule

Номер патента: US20230016901A1. Автор: Toru Yasuzawa,Tatsuo Nomura. Владелец: Nobelpharma Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-19.

Mask and evaporation system

Номер патента: US20220098719A1. Автор: Bing Han,Weili Li,Mingxing Liu. Владелец: Kunshan Govisionox Optoelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-31.

Eye mask and control method

Номер патента: US20240173171A1. Автор: Jinhui Ma,Cihang Li. Владелец: Shenzhen Rainslab Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Colored and patterned printing technique applied between coated layers forming artificial leather

Номер патента: WO2009110853A1. Автор: Rafet Tukek. Владелец: Flokser Tekstil Sanayi Ve Ticaret A.S.. Дата публикации: 2009-09-11.

Systems and methods for magnetic guidance and patterning of materials

Номер патента: US09909116B2. Автор: Daniel Joshua Stark,Renata Pasqualini,Wadih Arap,Glauco R Souza,Thomas Charles Killian,Robert M. Raphael. Владелец: William Marsh Rice University. Дата публикации: 2018-03-06.

Method of making patterned floor covering and patterned floor covering

Номер патента: RU2705353C1. Автор: Марио КРЕГЕР,Дитер РИШЕР. Владелец: Нора Системз Гмбх. Дата публикации: 2019-11-06.

Air cleaning cartridge for a gas mask and breathing equipment with an insert

Номер патента: US5291881A. Автор: Hasso Weinmann,Wolfgang Drews,Gunther Kolbe,Stephan Melzer. Владелец: Draegerwerk AG and Co KGaA. Дата публикации: 1994-03-08.

Three-dimensional puzzle and pattern-pasting method

Номер патента: GB2432794A. Автор: Chih-Chung Fang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-06-06.

Printing Cone for Hand Printing Designs and Patterns

Номер патента: US20240217251A1. Автор: Darin A. Grassman. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-07-04.

Gas mask and breathing equipment with liquefied respiration gas

Номер патента: US5499623A. Автор: Adalbert Pasternack. Владелец: Draegerwerk AG and Co KGaA. Дата публикации: 1996-03-19.

Method for preparing printing solution and patterned cigarette wrappers

Номер патента: RU2592017C2. Автор: С. Шервуд Тимоти,Н. Смит Роберт,В. Роуз Мари. Владелец: Алтриа Клайент Сервисез Ллс. Дата публикации: 2016-07-20.

Methods and apparatus for hand printing designs and patterns

Номер патента: US11993091B2. Автор: Darin A. Grassman. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-05-28.

Systems and methods for magnetic guidance and patterning of cells and materials

Номер патента: WO2010036957A1. Автор: Daniel Joshua Stark,Renata Pasqualini,Wadih Arap,Glauco R. Souza,Thomas Charles Killian,Robert M. Raphael. Владелец: William Marsh Rice University. Дата публикации: 2010-04-01.

Test pattern forming method, transport adjusting method, and image forming apparatus

Номер патента: US20120081450A1. Автор: Takeshi Yoshida,Masahiko Yoshida,Tatsuya Nakano,Michiaki Tokunaga. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2012-04-05.

Gutter debris preclusion device with multiple manipulations and patterns thereof

Номер патента: US09976309B2. Автор: Robert C. Lenney. Владелец: Gutterglove Inc. Дата публикации: 2018-05-22.

Metal mold for forming, method for the preparation of the metal mold for forming and molded article obtained on forming by the metal mold for forming

Номер патента: MY134571A. Автор: Yoshihiro Sudo,Akio Komori,Hideki Ohtawa,Katsuharu Ohtsuki,Taku Sunouchi. Владелец: Suzuki Seiki Industry Co Ltd. Дата публикации: 2007-12-31.

Tire including a pattern forming area with a unit pattern

Номер патента: US12036822B2. Автор: Hee Sung Jang. Владелец: Hankook Tire and Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Weaving machine and method for manufacturing fabrics with pattern-forming weft threads such as kelim or gobelin fabrics

Номер патента: EP1078117A1. Автор: Jacques Di Van Geluwe. Владелец: Van Geluwe Philippe A M J L. Дата публикации: 2001-02-28.

Tire including a pattern forming area with a unit pattern

Номер патента: US20230202242A1. Автор: Hee Sung Jang. Владелец: Hankook Tire and Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Weaving machine and method for manufacturing fabrics with pattern-forming weft threads such as kelim or gobelin fabrics

Номер патента: WO1999057351A1. Автор: Jacques Van Geluwe. Владелец: VAN GELUWE, Philippe, A., M., J., L.. Дата публикации: 1999-11-11.

Image forming apparatus, image forming method and computer-readable medium for storing program therefor

Номер патента: US20080007583A1. Автор: Junichi Horii. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2008-01-10.

Pattern forming apparatus for base material, pattern forming method, base material, and container

Номер патента: EP4222061A1. Автор: Kazuhiro Fujita,Shoichiro Sakai,Rie Hirayama,Kazuhiro Akatsu. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-09.

Surface pattern forming method for aluminium product

Номер патента: US11913122B2. Автор: Jinju Kim,Kyunghwan Lee,Jiyoung Song,Kwangjoo KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-27.

Surface pattern forming method for aluminium product

Номер патента: US20210164111A1. Автор: Jinju Kim,Kyunghwan Lee,Jiyoung Song,Kwangjoo KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-06-03.

Pattern forming apparatus

Номер патента: US20230278141A1. Автор: Hirotoshi Nakayama,Yoichi Ichikawa,Keiichi Serizawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-09-07.

Pipe forming method

Номер патента: RU2693708C1. Автор: Максим Сергеевич Карабаналов,Борис Владимирович Баричко,Анатолий Геннадьевич Илларионов,Федор Валерьевич Водолазский,Ярослав Игоревич Космацкий,Николай Владимирович Фокин,Елена Анатольевна Горностаева,Евгений Александрович Алюшкаев,Владислав Дмитриевич Николенко,Александр Маратович Ахмедьянов. Владелец: федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Южно-Уральский государственный университет (национальный исследовательский университет)". Дата публикации: 2019-07-04.

Item made from composite material with ceramic coating (versions) and coating forming method

Номер патента: RU2345180C2. Автор: Сергиу БУКАР. Владелец: Олимекс Груп, Инк.. Дата публикации: 2009-01-27.

Surface coating forming method and device and composition for the surface coating formation

Номер патента: RU2682344C1. Автор: Мартин БОЛЛ,Кристиан РАЙМЕР. Владелец: РИКОХ КОМПАНИ, ЛТД.. Дата публикации: 2019-03-19.

Lenticular pattern forming roll and method for making the roll

Номер патента: US6074192A. Автор: Oystein Mikkelsen. Владелец: Mikkelsen; Oeystein. Дата публикации: 2000-06-13.

Integral forming method for large-size thin-walled ring shell

Номер патента: US20240359225A1. Автор: Yi Xu,Haihui ZHU,Zhubin He,Linwei LENG,Jian NING. Владелец: Dalian University of Technology. Дата публикации: 2024-10-31.

Electro-spinning type pattern forming apparatus

Номер патента: US20160319465A1. Автор: Won Tae Hwang,Goo Sang JEONG,Se Ho LIM. Владелец: ANF Inc. Дата публикации: 2016-11-03.

Film forming method

Номер патента: US12037683B2. Автор: Takenori Watabe,Hiroshi Hashigami. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Forming method and instrument panel

Номер патента: US20230303026A1. Автор: Toshiaki Ono,Takaaki Nagata,Shoichiro Negishi,Toshihisa Kaga. Владелец: Honda Motor Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Forming method of silica glass and forming apparatus thereof

Номер патента: US6505484B1. Автор: Norio Komine,Seishi Fujiwara,Hiroki Jinbo. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-01-14.

Steel plate to be used in hot forming, method for its obtaining and method for obtaining high-strength part

Номер патента: RU2557114C2. Автор: Хидекуни МУРАКАМИ,Масаюки АБЕ,Кадзухиса КУСУМИ,Юдзи ОГАВА,Кенго ТАКЕДА,Дзун МИКИ. Владелец: Ниппон Стил Энд Сумитомо Метал Корпорейшн. Дата публикации: 2015-07-20.

Bee community forming method (options)

Номер патента: RU2647903C1. Автор: Сергей Владимирович Свистунов,Нина Николаевна Бондаренко,Ирина Александровна Романенко. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Кубанский государственный аграрный университет имени И.Т. Трубилина". Дата публикации: 2018-03-21.

Surface member forming method and surface member

Номер патента: RU2296674C2. Автор: Раймо ТИККА. Владелец: Тикка-Систем Ой. Дата публикации: 2007-04-10.

Gas turbine blade and gas turbine member forming method

Номер патента: RU2266803C2. Автор: Ларс Сундин,Бертиль ЙЁНССОН. Владелец: Вольво Аэро Корпорейшн. Дата публикации: 2005-12-27.

Compound structure and forming method thereof

Номер патента: US20230175122A1. Автор: Jihoon Kim,Jungwon Park. Владелец: INSTITUTE FOR BASIC SCIENCE. Дата публикации: 2023-06-08.

Water dispersion of gel particles, producing method thereof, and image forming method

Номер патента: US20170342171A1. Автор: Shota Suzuki,Noriaki Sato. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-11-30.

Extrusion forming method and forming apparatus for manufacturing self-clinching rivet

Номер патента: EP3976289A1. Автор: Haifeng Lu. Владелец: Penn Engineering and Manufacturing Corp. Дата публикации: 2022-04-06.

Side wall conveying system, a forming method and a conveying method for an explosion-proof coal mine roadway

Номер патента: NL2023125A. Автор: Ming Liu,Hui Liu,Chao Wu,Qing Yu,Yunhe Tu,Xiangling Tao. Владелец: Jiangsu Vocational Inst Architectural Tech. Дата публикации: 2019-11-21.

Thermal transfer sheet, coating liquid for colorant layer, method for manufacturing thermal transfer sheet, and image forming method

Номер патента: US20170348992A1. Автор: Tomoko Suzuki,Hiroyuki Hasegawa,Kazuya Yoshida,Yoshimasa Kobayashi,Hiroaki Segawa,Kano Sakamoto,Tomohiko IMODA. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2017-12-07.

Thermal transfer sheet, coating liquid for colorant layer, method for manufacturing thermal transfer sheet, and image forming method

Номер патента: US20160039237A1. Автор: Tomoko Suzuki,Hiroyuki Hasegawa,Kazuya Yoshida,Yoshimasa Kobayashi,Hiroaki Segawa,Kano Sakamoto,Tomohiko IMODA. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2016-02-11.

Thermal transfer sheet, coating liquid for colorant layer, method for manufacturing thermal transfer sheet, and image forming method

Номер патента: US10525757B2. Автор: Tomoko Suzuki,Hiroyuki Hasegawa,Kazuya Yoshida,Yoshimasa Kobayashi,Hiroaki Segawa,Kano Sakamoto,Tomohiko IMODA. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2020-01-07.

Heat-sensitive transfer image-receiving sheet, image forming method using heat-sensitive transfer system and method of producing heat-sensitive transfer image receiving sheet

Номер патента: US20080081134A1. Автор: Kiyoshi Irita,Takuya Arai,Ryuji Shinohara. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2008-04-03.

Heat-sensitive transfer image-receiving sheet, producing method thereof and image-forming method

Номер патента: US20080020931A1. Автор: Kiyoshi Irita. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2008-01-24.

Image forming method and image forming system

Номер патента: EP4411062A1. Автор: Takefumi Kawakami. Владелец: Brother Industries Ltd. Дата публикации: 2024-08-07.

Amide group-containing polyether-ester material and preparation method thereof, molded article and forming method thereof

Номер патента: US12037452B2. Автор: Chun-Hsiung Liao,Kun-Che Hung,Ya-Chun YANG. Владелец: Far Eastern New Century Corp. Дата публикации: 2024-07-16.

Thermal transfer sheet, coating liquid for colorant layer, method for manufacturing thermal transfer sheet, and image forming method

Номер патента: US09764580B2. Автор: Tomoko Suzuki,Hiroyuki Hasegawa,Kazuya Yoshida,Yoshimasa Kobayashi,Hiroaki Segawa,Kano Sakamoto,Tomohiko IMODA. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2017-09-19.

Ink composition, method of producing ink composition, and image forming method

Номер патента: US09683121B2. Автор: Orie Ito. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-06-20.

Flexible stent having a pattern formed from a sheet of material

Номер патента: US5632771A. Автор: Scott E. Boatman,Kimberly D. Brummett. Владелец: Cook Inc. Дата публикации: 1997-05-27.

Cosmetic and/or pharmaceutical composition in dispersion form, method for preparing and use thereof in skin care

Номер патента: RU2700936C2. Автор: Катрин БИДАН,Доминик СЕЛЬЕ,Санди РАТЬЕ,Лор МУЛИ. Владелец: Пьер Фабр Дермо-Косметик. Дата публикации: 2019-09-24.

A flexible stent having a pattern formed from a sheet of material

Номер патента: CA2144305C. Автор: Scott E. Boatman,Kimberly D. Brummett. Владелец: Cook Inc. Дата публикации: 2005-01-11.

Pattern-forming sheet and label comprising same

Номер патента: US5780142A. Автор: Kihachi Suzuki,Katsuya Kume,Katsuyuki Okazaki,Mitsuo Kuramoto,Itsuroh Takenoshita. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 1998-07-14.

Pattern forming apparatus

Номер патента: US20230241637A1. Автор: Dong Soo Kim,Joon-wan Kim,Hyun Ah Lee,Min Hun Jung. Владелец: Industry Academic Cooperation Foundation of Hanbat National University. Дата публикации: 2023-08-03.

Cosemtics having impregnation member with recessed pattern formed on surface thereof by laser processing

Номер патента: CA3005585C. Автор: Jun Young Kim,Ju Ho Kim. Владелец: Amorepacific Corp. Дата публикации: 2023-06-06.

Coating composition capable of forming a crystal-like stereo-pattern and metal product having the crystal-like stereo-pattern formed thereon

Номер патента: US8865813B2. Автор: Chia-Lun Tu. Владелец: Yung Chi Paint and Varnish Mfg Co Ltd. Дата публикации: 2014-10-21.

Packaging structure with patterns formed through continuous multi-color hot foil stamping

Номер патента: US20200270027A1. Автор: Shih-Ching Yeh. Владелец: ALL PACKING ENTERPRISES Co Ltd. Дата публикации: 2020-08-27.

Coating composition capable of forming a crystal-like stereo-pattern and metal product having the crystal-like stereo-pattern formed thereon

Номер патента: US20120076988A1. Автор: Chia-Lun Tu. Владелец: Yung Chi Paint and Varnish Mfg Co Ltd. Дата публикации: 2012-03-29.

White ink composition, ink set for forming multiple layers, image forming method and printed matter

Номер патента: US20140287206A1. Автор: Hiroshi Yamamoto,Misato Sasada. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-09-25.

Image forming method and ink set

Номер патента: US20230392034A1. Автор: Masaki Nakamura,Masaharu Shiraishi. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2023-12-07.

Composite material forming method and composite material

Номер патента: EP3708344A1. Автор: Toshiyuki Takayanagi,Kiyoka Takagi,Sota Kamo. Владелец: Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2020-09-16.

Heat-sensitive transfer image forming method

Номер патента: EP2085244B1. Автор: Akito Yokozawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2010-09-22.

Image forming method and image recorded material

Номер патента: US20160017160A2. Автор: Makoto Ohmoto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-01-21.

Forming method using pressing and injection-molding multifunction die, forming apparatus provided with pressing and injection-molding multifunction die, and metal-resin molded product formed by the method or the apparatus

Номер патента: US20090008815A1. Автор: Hiroaki Sakurai,Mitsuru Mori,Nobuyuki Yamagami,Syuji Ichihashi. Владелец: Kyosan Denki Co Ltd. Дата публикации: 2009-01-08.

Forming method using pressing and injection-molding multifunction die, forming apparatus provided with pressing and injection-molding multifunction die , and metal-resin molded product formed by the method or the apparatus

Номер патента: US20100255144A1. Автор: Hiroaki Sakurai,Mitsuru Mori,Nobuyuki Yamagami,Syuji Ichihashi. Владелец: Kyosan Denki Co Ltd. Дата публикации: 2010-10-07.

Forming method using pressing and injection-molding multifunction die, forming apparatus provided with pressing and injection-molding multifunction die, and metal-resin molded product formed by the method or the apparatus

Номер патента: US20110008479A1. Автор: Hiroaki Sakurai,Mitsuru Mori,Nobuyuki Yamagami,Syuji Ichihashi. Владелец: Kyosan Denki Co Ltd. Дата публикации: 2011-01-13.

Film forming composition and film forming method using the same

Номер патента: US20210115253A1. Автор: Masakazu Kobayashi,Go Noya,Yuki Ozaki. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2021-04-22.

Film forming composition and film forming method using the same

Номер патента: EP3607001A1. Автор: Masakazu Kobayashi,Go Noya,Yuki Ozaki. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2020-02-12.

Forming method for refinishing preformed plate and forming mold matching therewith

Номер патента: US20100034916A1. Автор: Chi-Cheng Hsiao. Владелец: Inventec Corp. Дата публикации: 2010-02-11.

Forming method of forging of 718 plus alloy

Номер патента: US20170173659A1. Автор: Hua Zhang,Zhaohui Liu,Yongan Wu,Huadong WANG,Zhuangye Xie,Jiadian Yang,Chuanhua Sun. Владелец: Guizhou Aviation Technical Development Co ltd. Дата публикации: 2017-06-22.

Draw forming method and device

Номер патента: CA2586049A1. Автор: Hiroshi Ono,Yuichi Konno,Yuichi Hori,Takanori Monda. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-06-01.

Forming method and forming machine for producing a helical toothing of a cylindrical workpiece by extrusion

Номер патента: US20230398598A1. Автор: Serjosha Heinrichs,Nadezda Missal,Max Olaf JANDT,Maximilian LUDWIG,Sascha VOEGELE. Владелец: FELSS Systems GmbH. Дата публикации: 2023-12-14.

Invention image forming method, image forming apparatus, image forming set, and method of producing printed matter

Номер патента: US20200262228A1. Автор: Kazuhiko Umemura,Tomohiro Nakagawa,Hiroki Hagiwara,Yuutaroh Nonaka. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-08-20.

Film forming method, image forming method, film, and ink composition

Номер патента: US20170313897A1. Автор: Toshihiko Sugimoto,Takeshi Honma,Motokazu Kobayashi,Yoshinori Kotani,Kenichi Iida,Satoshi YAMABI,Shinichirou Yoshikawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-11-02.

Multi-layer coating film forming method

Номер патента: US20230278071A1. Автор: Kenji Sakai. Владелец: Kansai Paint Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20120003590A1. Автор: . Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Apparatus For Inspecting Defect Of Pattern Formed On Semiconductor Device

Номер патента: US20120002861A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION

Номер патента: US20120003583A1. Автор: TSUBAKI Hideaki,Tsuchimura Tomotaka,TAKAHASHI Toshiya. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM USING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD

Номер патента: US20120003586A1. Автор: . Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR INSPECTING PATTERNS FORMED ON A SUBSTRATE

Номер патента: US20120002860A1. Автор: Sakai Kaoru,Shibuya Hisae,Maeda Shunji,Nishiyama Hidetoshi. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Welding operator mask and method for making it

Номер патента: RU2268123C1. Автор: Мохкем Керим-Оглы Омаров,Андрей Леонидович Чистов. Владелец: Андрей Леонидович Чистов. Дата публикации: 2006-01-20.

Tear mask and method of its manufacturing

Номер патента: RU2489183C1. Автор: Сергей Николаевич Соловьев,Евгений Абрамович Каменер,Николай Константинович Куликов,Антон Владимирович Нечаев,Дмитрий Сергеевич Резниченко,Владимир Григорьевич Дувидзон. Владелец: Открытое акционерное общество "Электростальский химико-механический завод" (ОАО "ЭХМЗ"). Дата публикации: 2013-08-10.

Method of masking and improving operability and survivability of mobile intercontinental ballistic missiles

Номер патента: RU2413160C2. Автор: Борис Андреевич Адамович,Ахмед-Гири Баматгиреевич Дербичев. Владелец: Ахмед-Гири Баматгиреевич Дербичев. Дата публикации: 2011-02-27.

Improvements in or relating to Masks and the like for Photographic Printing Processes.

Номер патента: GB190605670A. Автор: . Владелец: LEIPZIGER BUCHBINDEREI ACTIEN. Дата публикации: 1906-07-19.

A steel sheet for a shadow mask, a shadow mask and a picture tube

Номер патента: MY121718A. Автор: Akira Ikeda,Hironao Okayama,Tsuneyuki Ide,Hiroaki Ikenaga,Yasuo Tahara,Hiroshi Fujishige,Susumu Shigemasa. Владелец: Toyo Kohan Co Ltd. Дата публикации: 2006-02-28.

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING MATERIAL, AND PHOTOSENSITIVE FILM, PATTERN FORMING METHOD, PATTERN FILM, LOW REFRACTIVE INDEX FILM, OPTICAL DEVICE AND SOLID-STATE IMAGING DEVICE EACH USING THE SAME

Номер патента: US20120003436A1. Автор: . Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE FORMING APPARATUS AND IMAGE FORMING METHOD

Номер патента: US20120002982A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE FORMING APPARATUS AND IMAGE FORMING METHOD

Номер патента: US20120002990A1. Автор: TAKEUCHI Toshifumi. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Pm mask and inhalation or nebulization device

Номер патента: WO2020190159A2. Автор: Jan WIŚNIEWSKI. Владелец: WISNIEWSKI Jan. Дата публикации: 2020-09-24.

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING MATERIAL AND PHOTOSENSITIVE FILM USING THE SAME, PATTERN FORMING METHOD, PATTERN FILM, ANTIREFLECTION FILM, INSULATING FILM, OPTICAL DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE

Номер патента: US20120003437A1. Автор: Kodama Kunihiko,WADA Kenji,OHTA Masaki. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

Tv picture signal masking and unmasking device

Номер патента: RU2014746C1. Автор: Н.А. Семенов,В.М. Жестков,О.В. Андреев,Н.Н. Абжирко,В.А. Акимов,В.А. Ковнисаренко,Л.С. Поляков,Ю.А. Хромихин,С.С. Трошин,Ю.С. Шачнев,В.И. Шлыков. Владелец: Абжирко Николай Николаевич. Дата публикации: 1994-06-15.

Method of forming decorative relief pattern and pattern-forming device therefor

Номер патента: CA1051289A. Автор: Kiyoshi Hori,Nobuyoshi Nagata. Владелец: Nippon Paint Co Ltd. Дата публикации: 1979-03-27.

Impression pattern forming method in functional layer of article by multi-pass planing in nc machine tools and planing cutter for performing the same

Номер патента: RU2296036C1. Автор: Аркадий Владимирович Трачук,Андрей Валерьевич Чеглаков,Александр Георгиевич Писарев,Александр Игоревич Мочалов,Валерий Анатольевич Чеглаков,Дмитрий Николаевич Грачев,Алексей Владимирович Греков,Владимир Васильевич Павлов,залов Сергей Юрьевич В,Сергей Юрьевич Вязалов,Александр Васильевич Курочкин,Евгений Михайлович Метельский,Виктор Сергеевич Солдатченков,Яков Михайлович Ашкиназий,Виктор Афанасьевич Чекмарев,Алексей Иванович Климов,Сергей Геннадьевич Зарубин. Владелец: Федеральное Государственное Унитарное Предприятие "Гознак" (Фгуп "Гознак"). Дата публикации: 2007-03-27.

Method of treating anterior occlusion in patients aged 6-12 years old by means of facial mask and i.a. postnikov's appliance

Номер патента: RU2546403C1. Автор: Дмитрий Александрович Трунин,Михаил Александрович Постников,Наталья Владимировна Панкратова,Леонид Семёнович Персин,Сергей Алексеевич Останков. Владелец: Михаил Александрович Постников. Дата публикации: 2015-04-10.

X-ray mask and method of its fabrication

Номер патента: RU2546989C2. Автор: Александр Николаевич Генцелев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт ядерной физики им. Г.И. Будкера Сибирского отделения РАН (ИЯФ СО РАН). Дата публикации: 2015-04-10.

PHOTORESIST AND PATTERNING PROCESS

Номер патента: US20120003582A1. Автор: Wang Chien-Wei,Huang Chun-Ching. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method of forming wax pan for raising female bee and pattern for implementation of this method

Номер патента: RU2359450C2. Автор: Анатолий Николаевич Верещагин. Владелец: ФГОУ Пермский институт переподготовки и повышения квалификации кадров АПК. Дата публикации: 2009-06-27.

INK FOR ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DEVICE, MANUFACTURING METHOD OF ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DEVICE, ORGANIC DISPLAY PANEL, ORGANIC DISPLAY APPARATUS, ORGANIC ELECTROLUMINESCENT APPARATUS, INK , FORMING METHOD OF FUNCTIONAL LAYER, AND ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DEVICE

Номер патента: US20120001124A1. Автор: . Владелец: Panasonic Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE FORMING METHOD

Номер патента: US20120003580A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

ELECTROPHOTOGRAPHIC PHOTOCONDUCTOR, IMAGE FORMING METHOD, IMAGE FORMING APPARATUS AND PROCESS CARTRIDGE

Номер патента: US20120003007A1. Автор: . Владелец: RICOH COMPANY, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE FORMING APPARATUS TO ADD SPECIFIC DATA TO IMAGE, AND IMAGE FORMING METHOD OF ADDING THE SPECIFIC DATA TO THE IMAGE

Номер патента: US20120002224A1. Автор: KIMOTO Taizo. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Image forming apparatus, image forming method, image forming program, and recording medium

Номер патента: US20120002230A1. Автор: Yamazaki Masataka. Владелец: RICOH COMPANY, LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

Protective road pavement coating forming method

Номер патента: RU2305726C1. Автор: Александр Борисович Соломенцев,Василий Петрович Колодезный,Анатолий Петрович Старчак,Сергей Владимирович Солопов,ев Николай Михайлович Терл,Николай Михайлович Терляев. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Орловский государственный технический университет" (ОрелГТУ). Дата публикации: 2007-09-10.

Relief forming method in functional layer of article by planing (variants)

Номер патента: RU2312743C1. Автор: Аркадий Владимирович Трачук,Андрей Валерьевич Чеглаков,Александр Георгиевич Писарев,Александр Игоревич Мочалов,Валерий Анатольевич Чеглаков,Дмитрий Николаевич Грачев,Алексей Владимирович Греков,Андрей Владимирович Журавлев,Владимир Васильевич Павлов,залов Сергей Юрьевич В,Сергей Юрьевич Вязалов,Александр Васильевич Курочкин,Евгений Михайлович Метельский,Виктор Сергеевич Солдатченков,Яков Михайлович Ашкиназий,Виктор Афанасьевич Чекмарев,Алексей Иванович Климов,Сергей Геннадьевич Зарубин. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Гознак"(ФГУП "Гознак"). Дата публикации: 2007-12-20.

Permanent form, method of assembling it and erection of wall using permanent form

Номер патента: RU2330920C1. Автор: Александр Алексеевич Михеев,Андрей Юрьевич Горев. Владелец: ООО "Вяткастройдеталь". Дата публикации: 2008-08-10.

Bun, bun production method and bun forming method

Номер патента: RU2156066C1. Автор: И.В. Ларин,О.С. Евтеева. Владелец: Закрытое акционерное общество "Щелковохлеб". Дата публикации: 2000-09-20.

Roadbed and roadbed forming method

Номер патента: RU2273687C1. Автор: Святослав Яковлевич Луцкий,Денис Владимирович Долгов,Евгений Самуилович Ашпиз,Св тослав Яковлевич Луцкий (RU),Денис Владимирович Долгов (RU),Евгений Самуилович Ашпиз (RU). Владелец: Евгений Самуилович Ашпиз. Дата публикации: 2006-04-10.

Cast-in-place pile forming method

Номер патента: RU2278212C1. Автор: Андрей Викторович Андреев,Владимир Михайлович Рябинов,бинов Владимир Михайлович Р,Владимир Михайлович Улицкий. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Петербургский государственный университет путей сообщения". Дата публикации: 2006-06-20.

High pressure vessel forming method

Номер патента: RU2288063C1. Автор: Рудольф Анатольевич Кобылин,Николай Александрович Макаровец,Борис Алексеевич Романцев,Анатолий Иванович Капустин,Андрей Николаевич Свободов,Олег Сергеевич Гаврилин,Николай Андреевич Хапонен,Геннадий В чеславович Четвертаков,Геннадий Вячеславович Четвертаков,Виктор Дмитриевич Рыбин. Владелец: ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ УНИТАРНОЕ ПРЕДПРИЯТИЕ "ГОСУДАРСТВЕННОЕ НАУЧНО-ПРОИЗВОДСТВЕННОЕ ПРЕДПРИЯТИЕ "Темп". Дата публикации: 2006-11-27.

End seal friction ring forming method

Номер патента: RU2291338C1. Автор: Игорь Васильевич Сафронов,Николай Борисович Красников,Алексей Михайлович Цыганов,Павел Владимирович Набоких,Сергей Николаевич Михайлов,мичева Тать на Николаевна Гал,Татьяна Николаевна Галямичева. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью Научно-производственное предприятие "Вектор". Дата публикации: 2007-01-10.

Protective screen forming method

Номер патента: RU2255178C1. Автор: В.С. Литвиненко,М.А. Пашкевич,Т.А. Петрова. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Санкт-Петербургский государственный горный институт им. Г.В. Плеханова (технический университет). Дата публикации: 2005-06-27.

Annular blanks forming method

Номер патента: RU2311983C1. Автор: Алексей Михайлович Шнейберг,Федор Павлович Михаленко,Алексей Сергеевич Пудов. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Нижегородский государственный технический университет (ГОУВПО НГТУ). Дата публикации: 2007-12-10.

Packs forming method for producing large-size clad sheets

Номер патента: RU2274528C2. Автор: Аркадий Александрович Сорокин,Эмиль Семенович Каган,Виктор Алексеевич Дурынин,Татьяна Ивановна Титова,Тать на Ивановна Титова,Ирина Федоровна Семернина,Сергей Александрович Бочаров,Алексей Борисович Родичев,Майрам Аведисовна Салтыкова. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "ОМЗ-Спецсталь". Дата публикации: 2006-04-20.

Spinning solution for electrical forming, method for obtaining fibres by electrical forming, and fibres of silicone carbide

Номер патента: RU2427673C1. Автор: Виктор Васильевич Авдеев,Андрей Трофимович Матвеев,Эдмунд Валерьевич Быстревский,Виктор Васильевич Авдеев (RU),Андрей Трофимович Матвеев (RU),Эдмунд Валерьевич Быстревский (RU). Владелец: Институт новых углеродных материалов и технологий (Закрытое акционерное общество) (ИНУМиТ (ЗАО)). Дата публикации: 2011-08-27.

Г-shaped part forming method

Номер патента: RU2277989C2. Автор: Владислав Викторович Евстифеев,Ксени Николаевна Пантюхова,Ксения Николаевна Пантюхова. Владелец: Государственное Образовательное Учреждение Высшего Профессионального Образования "Омский Государственный Технический Университет". Дата публикации: 2006-06-20.

Sheet parts forming method

Номер патента: RU2259249C1. Автор: В.И. Попов,О.С. Куклин,В.М. Левшаков. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Центральный научно-исследовательский институт технологии судостроения" (ФГУП "ЦНИИТС"). Дата публикации: 2005-08-27.

Closed shape forming method

Номер патента: RU2299773C1. Автор: Вадим Григорьевич Антипанов,Александр Владимирович Архандеев,Александр Сергеевич Белышев. Владелец: Открытое акционерное общество "Магнитогорский металлургический комбинат". Дата публикации: 2007-05-27.

Sleeve forming method

Номер патента: RU2257975C1. Автор: Ю.П. Холмогорцев,В.А. Евсеев,Е.С. Устимов,М.А. Тетерлев. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Челябинский тракторный завод - УРАЛТРАК". Дата публикации: 2005-08-10.

Apertured plate forming method

Номер патента: RU2244607C1. Автор: В.С. Мартюгин,А.А. Ромашов,И.М. Володин,А.В. Перевертов,В.В. Фабер,Ю.М. Клочков. Владелец: ОАО "КАМАЗ-Металлургия". Дата публикации: 2005-01-20.

Aluminum cell self-fired anode forming method

Номер патента: RU2308548C2. Автор: Михаил Иванович Крак,Василий Андреевич Крюковский,Владимир Константинович Фризоргер,Дмитрий Владимирович Ткаченко,Николай Васильевич Тонких,Игорь Николаевич Волохов,Владимир Константинович Фризоргер (RU),Василий Андреевич Крюковский (RU),Михаил Иванович Крак (RU),Дмитрий Владимирович Ткаченко (RU),Николай Васильевич Тонких (RU),Игорь Николаевич Волохов (RU). Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Русская инжиниринговая компания". Дата публикации: 2007-10-20.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.