Mask set, fabrication method of mask set, manufacturing method of semiconductor device, and recording medium
Номер патента: US09703912B2
Опубликовано: 11-07-2017
Автор(ы): Ai Furubayashi, Nobuhiro Komine, Takaki Hashimoto, Takashi Obara
Принадлежит: Toshiba Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 11-07-2017
Автор(ы): Ai Furubayashi, Nobuhiro Komine, Takaki Hashimoto, Takashi Obara
Принадлежит: Toshiba Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
PELLICLE FRAME, PELLICLE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, ORIGINAL PLATE FOR EXPOSURE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, EXPOSURE DEVICE, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
Номер патента: US20170192349A1. Автор: SATO Yasuyuki,Kohmura Kazuo,Ono Yosuke,Hirota Toshiaki,Taneichi Daiki. Владелец: Mitsui Chemicals, Inc.. Дата публикации: 2017-07-06.