Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • Substrate inspection apparatus and substrate inspection method using charged particle beam

Substrate inspection apparatus and substrate inspection method using charged particle beam

Номер патента: JP3973372B2
Опубликовано: 12-09-2007
Автор(ы): 敦子 高藤, 真理 野副, 都 松井
Принадлежит: HITACHI LTD
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Substrate inspecting apparatus, substrate inspecting system having the same apparatus and substrate inspecting method

Номер патента: US6038018A. Автор: Motosuke Miyoshi,Yuichiro Yamazaki. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2000-03-14.

Charged particle beam apparatus, charged particle beam irradiation method, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20040211925A1. Автор: Hideaki Abe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-10-28.

Scanning charged particle microscope

Номер патента: US20110254944A1. Автор: Tohru Ishitani,Isao Nagaoki. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2011-10-20.

Method for examining a sample by using a charged particle beam

Номер патента: US20120273678A1. Автор: Wei Fang,YAN Zhao,Jack Jau. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2012-11-01.

Method for examining a sample by using a charged particle beam

Номер патента: US8937281B2. Автор: Wei Fang,YAN Zhao,Jack Jau. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2015-01-20.

Charged Particle Gun and Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20240212966A1. Автор: Masahiro Fukuta,Tomoya IGARI,Takshi DOI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US9892887B2. Автор: Muneyuki Fukuda,Akihiro Miura,Fumihiro Sasajima,Yoshinori Momonoi,Hiroaki Mito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-02-13.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20190304740A1. Автор: Muneyuki Fukuda,Akihiro Miura,Fumihiro Sasajima,Yoshinori Momonoi,Hiroaki Mito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-10-03.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20180138010A1. Автор: Muneyuki Fukuda,Akihiro Miura,Fumihiro Sasajima,Yoshinori Momonoi,Hiroaki Mito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-05-17.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20230274909A1. Автор: Yasuhiro Shirasaki,Minami Shouji,Natsuki Tsuno,Hiroya Ohta,Hirohiko Kitsuki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-08-31.

Apperance inspection apparatus with scanning electron microscope and image data processing method using scanning electron microscope

Номер патента: US20090208092A1. Автор: Hiroshi Miyai,Yasuhiro Gunji,Yusuke Ominami. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2009-08-20.

Charged particle beam apparatus, image forming method using a charged particle beam apparatus, and image processing apparatus

Номер патента: US09633818B2. Автор: Wen Li,Makoto Suzuki,Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Kazuki Ikeda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-04-25.

Charged particle beam apparatus and image acquiring method

Номер патента: EP4099359A1. Автор: Takeshi Otsuka. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2022-12-07.

Charged particle beam apparatus and image acquiring method

Номер патента: US12148594B2. Автор: Takeshi Otsuka. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2024-11-19.

Apparatus for and method of controlling an energy spread of a charged-particle beam

Номер патента: WO2020164951A1. Автор: Shakeeb Bin HASAN,Maikel Robert GOOSEN,Erwin Paul SMAKMAN,Albertus Victor Gerardus MANGNUS,Yan Ren. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2020-08-20.

Charged particle beam device and detection method using said device

Номер патента: US09799483B2. Автор: Hajime Kawano,Yasunari Sohda,Tomoyasu Shojo. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-10-24.

Charged particle beam apparatus and image forming method of charged particle beam apparatus

Номер патента: US09859094B2. Автор: Wen Li,Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Kazuki Ikeda,Takuma NISHIMOTO. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-01-02.

Method and apparatus for charged particle beam inspection

Номер патента: US8497475B2. Автор: CHANG CHUN YEH,Shih-Tsuan CHANG. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2013-07-30.

Method and apparatus for charged particle beam inspection

Номер патента: US20120043462A1. Автор: CHANG CHUN YEH,Shih-Tsuan CHANG. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2012-02-23.

Method and system for fine focusing secondary beam spots on detector for multi-beam inspection apparatus

Номер патента: WO2024013145A1. Автор: Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu,Oleg Krupin,Xiaoyu JI,Zizhou GONG. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-01-18.

Systems and methods for signal electron detection in an inspection apparatus

Номер патента: US20230298851A1. Автор: Bruno La Fontaine,Chien-Hung Chen,Long Ma,Datong ZHANG,Chih-Yu Jen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-09-21.

Charged particle-beam device

Номер патента: US09653256B2. Автор: Akira Ikegami,Akio Takaoka,Yoichi Ose,Naomasa Suzuki,Hideyuki Kazumi,Ryuji Nishi,Momoyo Enyama,Hideto Dohi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-05-16.

Method for inspecting a specimen and charged particle multi-beam device

Номер патента: US09922796B1. Автор: Jürgen Frosien,Pieter Kruit. Владелец: Applied Materials Israel Ltd. Дата публикации: 2018-03-20.

Method of influencing a charged particle beam, multipole device, and charged particle beam apparatus

Номер патента: WO2022184387A3. Автор: Dieter Winkler,Benjamin John Cook,Bernd Wöllert. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH. Дата публикации: 2022-12-01.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US11749497B2. Автор: Makoto Suzuki,Shunsuke Mizutani,Shahedul Hoque,Uki Ikeda. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-09-05.

Charged-particle beam microscopy

Номер патента: US09997331B1. Автор: Christopher Su-Yan OWN,Matthew Francis Murfitt. Владелец: Mochii Inc. Дата публикации: 2018-06-12.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US09941095B2. Автор: Akira Ikegami,Yuko Sasaki,Ryota Watanabe. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-04-10.

Charged particle beam device

Номер патента: US09697987B2. Автор: Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Hideyuki Kazumi,Toshiyuki Yokosuka,Kumiko Shimizu,Shahedul Hoque,Chahn Lee. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-07-04.

Charged particle beam device

Номер патента: US09627171B2. Автор: Hiroshi Makino,Minoru Yamazaki,Hideyuki Kazumi,Yuzuru MIZUHARA,Miki Isawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-04-18.

Charged particle beam device and detection method using said device

Номер патента: US20170053777A1. Автор: Hajime Kawano,Yasunari Sohda,Tomoyasu Shojo. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-02-23.

Apparatus for and method of controlling an energy spread of a charged-particle beam

Номер патента: US11881374B2. Автор: Shakeeb Bin HASAN,Maikel Robert GOOSEN,Erwin Paul SMAKMAN,Albertus Victor Gerardus MANGNUS,Yan Ren. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-01-23.

Apparatus and method for directing charged particle beam towards a sample

Номер патента: US20230326706A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-10-12.

Charged particle beam device

Номер патента: US12142457B2. Автор: Makoto Suzuki,Yuji Takagi,Takuma Yamamoto,Takahiro Nishihata,Mayuka Osaki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-11-12.

Charged Particle Beam Apparatus and Image Acquiring Method

Номер патента: US20220392738A1. Автор: Takeshi Otsuka. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2022-12-08.

Charged Particle Beam Apparatus and Image Acquisition Method

Номер патента: US20190362930A1. Автор: Takeshi Otsuka. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2019-11-28.

Particle beam system and method for the particle-optical examination of an object

Номер патента: US10535494B2. Автор: Dirk Zeidler,Stefan Schubert. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2020-01-14.

Charged-particle beam apparatus with large field-of-view and methods thereof

Номер патента: WO2023198397A1. Автор: Weiming Ren,Xiaoyu JI. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2023-10-19.

Multi-beam charged particle imaging system with reduced charging effects

Номер патента: WO2024099587A1. Автор: Stefan Schubert. Владелец: Carl Zeiss Multisem Gmbh. Дата публикации: 2024-05-16.

Measurement and correction of optical aberrations in charged particle beam microscopy

Номер патента: EP4235731A1. Автор: Bart Jozef Janssen,Erik Franken. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2023-08-30.

Multiple charged-particle beam apparatus and methods

Номер патента: US11854765B2. Автор: Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu,Zhong-Wei Chen,Martinus Gerardus Johannes Maria MAASSEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-12-26.

Multiple charged-particle beam apparatus and methods

Номер патента: US20240145214A1. Автор: Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu,Zhong-Wei Chen,Martinus Gerardus Johannes Maria MAASSEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-05-02.

Measurement and correction of optical aberrations in charged particle beam microscopy

Номер патента: US20230274908A1. Автор: Bart Jozef Janssen,Erik Franken. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2023-08-31.

Measurement and correction of optical aberrations in charged particle beam microscopy

Номер патента: US11990315B2. Автор: Bart Jozef Janssen,Erik Franken. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-05-21.

Multiple charged-particle beam apparatus and methods

Номер патента: US20200381211A1. Автор: Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu,Zhong-Wei Chen,Martinus Gerardus Johannes Maria MAASSEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-12-03.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20190355552A1. Автор: Makoto Suzuki,Shunsuke Mizutani,Shahedul Hoque,Uki Ikeda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-11-21.

Apparatus of plural charged-particle beams

Номер патента: US09607805B2. Автор: Shuai Li,Zhongwei Chen,Xuedong Liu,Weiming Ren. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2017-03-28.

Charged particle device and method

Номер патента: US20240087835A1. Автор: Albertus Victor Gerardus MANGNUS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-03-14.

Systems and methods for charged particle flooding to enhance voltage contrast defect signal

Номер патента: US20210142979A1. Автор: Zhongwei Chen,Yixiang Wang,Frank Nan Zhang,Ying Crystal SHEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2021-05-13.

Method of influencing a charged particle beam, multipole device, and charged particle beam apparatus

Номер патента: US20220277921A1. Автор: Dieter Winkler,Benjamin John Cook,Bernd Woellert. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2022-09-01.

Systems and methods for charged particle flooding to enhance voltage contrast defect signal

Номер патента: US11929232B2. Автор: Zhongwei Chen,Yixiang Wang,Frank Nan Zhang,Ying Crystal SHEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-03-12.

Method of influencing a charged particle beam, multipole device, and charged particle beam apparatus

Номер патента: EP4302318A2. Автор: Dieter Winkler,Benjamin John Cook,Bernd Wöllert. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2024-01-10.

Aperture assembly, beam manipulator unit, method of manipulating charged particle beams, and charged particle projection apparatus

Номер патента: EP4133514A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-02-15.

Aperture assembly, beam manipulator unit, method of manipulating charged particle beams, and charged particle projection apparatus

Номер патента: CA3173642A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-10-14.

Charged particle beam device

Номер патента: US11798780B2. Автор: Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Hideyuki Kazumi,Toshiyuki Yokosuka,Kumiko Shimizu,Shahedul Hoque,Chahn Lee. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-24.

Charged particle beam pattern forming device and charged particle beam apparatus

Номер патента: US20230298848A1. Автор: Tomohiro Saito,Hiroko Nakamura,Yoshiaki Shimooka. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2023-09-21.

Assessment apparatus using a plurality of charged particle beams

Номер патента: EP4303908A1. Автор: Peter Paul HEMPENIUS,Martin Frans Pierre Smeets,Niels Johannes Maria BOSCH,Wouter Onno Pril,Erwin Slot,Thomas Izaak Fred HAARTSEN,Jasper Hendrik GRASMAN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-01-10.

Workpiece holder, semiconductor fabricating apparatus, semiconductor inspecting apparatus, circuit pattern inspecting apparatus, charged particle beam application apparatus, calibrating substrate, workpiece holding method, circuit pattern inspecting method, and charged particle beam application method

Номер патента: US20030146382A1. Автор: Hiroyuki Suzuki,YASUTSUGU Usami,Hiroyuki Shinada,Shuji Sugiyama,Atsuko Takafuji. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2003-08-07.

Charged particle beam apparatus, observation method using charged particle beam apparatus, and program

Номер патента: US20200013583A1. Автор: Yoshinobu Hoshino,Hiroyuki Chiba,Shigeru Kawamata. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2020-01-09.

Charged particle beam apparatus, observation method using charged particle beam apparatus, and program

Номер патента: US20180323035A1. Автор: Yoshinobu Hoshino,Hiroyuki Chiba,Shigeru Kawamata. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-11-08.

Charged particle optics, charged particle beam apparatus, and method for scanning a charged particle beam

Номер патента: US20240290571A1. Автор: Pieter Kruit,Benjamin Cook. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2024-08-29.

Charged particle beam apparatus and image generation method

Номер патента: US09478392B2. Автор: Wen Li,Makoto Suzuki,Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Ryo Kadoi,Kazuki Ikeda,Hisaaki Kanai. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-10-25.

Charged particle beam apparatus and sample image acquiring method

Номер патента: US09741526B2. Автор: Hiroyuki Suzuki,Yusuke Ominami,Shinsuke Kawanishi,Masako Nishimura. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20170271121A1. Автор: Wen Li,Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Ryo Kadoi,Kazuki Ikeda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-09-21.

Charged particle beam apparatus and trajectory correction method in charged particle beam apparatus

Номер патента: US09484181B2. Автор: Akira Ikegami,Hideyuki Kazumi,Hideto Dohi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-11-01.

Charged particle microscope device and image capturing method

Номер патента: US09460889B2. Автор: Kenji Nakahira,Atsushi Miyamoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-10-04.

Sample storage container, charged particle beam apparatus, and image acquiring method

Номер патента: US09564288B2. Автор: Hiroyuki Suzuki,Yusuke Ominami,Shinsuke Kawanishi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-02-07.

Method of determining an energy spectrum or energy width of a charged particle beam, and charged particle beam imaging device

Номер патента: US20240371600A1. Автор: John Breuer,Dominik Ehberger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2024-11-07.

Charged particle beam device and method for inspecting and/or imaging a sample

Номер патента: US09601303B2. Автор: Jürgen Frosien. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-03-21.

A computer-aided defect correction method of a charged particle beam device, defect correction device of a charged particle beam device and a computer program

Номер патента: WO2024146664A1. Автор: Stanislav Petras,Jan SOPOUSEK. Владелец: Tescan Group, A.S.. Дата публикации: 2024-07-11.

Charged particle beam system

Номер патента: US20200411274A1. Автор: Ingo Mueller,Dirk Zeidler,Stefan Schubert,Christof Riedesel,Joerg Jacobi,Antonio Casares,Mario Muetzel. Владелец: Carl Zeiss Multisem Gmbh. Дата публикации: 2020-12-31.

Apparatus for multiple charged-particle beams

Номер патента: US12080515B2. Автор: Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu,Zong-Wei Chen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-09-03.

Defect inspection apparatus, program, and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20050230618A1. Автор: Atsushi Onishi,Yuichiro Yamazaki,Ichirota Nagahama. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-10-20.

Method for calibrating deflectors of a charged particle beam device, and charged particle beam device

Номер патента: WO2023232257A1. Автор: Bernhard G. Mueller,Robert TRAUNER,Ludwig Ledl,Axel Wenzel. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-12-07.

Charged particle beam apparatus and control method thereof

Номер патента: US20180350554A1. Автор: Takeshi Sunaoshi,Haruhiko Hatano,Yoshihisa Orai,Takashi MIZUO. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-12-06.

Charged particle beam device

Номер патента: US09997326B2. Автор: Akira Ikegami,Hideyuki Kazumi,Hideto Dohi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-06-12.

Charged-particle-beam device, specimen-image acquisition method, and program recording medium

Номер патента: US09741530B2. Автор: Kenji Nakahira,Maki Tanaka,Yusuke Ominami,Shinsuke Kawanishi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Housing device for magnetic shielding, housing arrangement for magnetic shielding, charged particle beam device, and method of manufacturing a housing device

Номер патента: US09673017B1. Автор: Pavel Adamec. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-06-06.

Multi-beam charged particle microscope design with detection system for fast charge compensation

Номер патента: WO2024125816A1. Автор: Thomas Schmid,Markus Koch,Dirk Zeidler,Thomas Dieterle,Bjoern Miksch,Felix MENKE. Владелец: Carl Zeiss Multisem Gmbh. Дата публикации: 2024-06-20.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20200035450A1. Автор: Makoto Suzuki,Minoru Yamazaki,Shunsuke Mizutani,Yuuji Kasai. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2020-01-30.

Integrated optical and charged particle inspection apparatus

Номер патента: EP3942590A1. Автор: Jacob Pieter Hoogenboom,Sander DEN HOEDT. Владелец: Delmic IP BV. Дата публикации: 2022-01-26.

Charged particle beam device and axis adjustment method thereof

Номер патента: US12027342B2. Автор: Yuta Imai,Masahiro Sasajima,Yoshihiro Takahoko. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-02.

Charged Particle Beam System and Method of Aberration Correction

Номер патента: US20170365442A1. Автор: Shigeyuki Morishita. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2017-12-21.

Charged Particle Beam Device, Sample Stage Unit, and Sample Observation Method

Номер патента: US20150311033A1. Автор: Hiroyuki Suzuki,Yusuke Ominami,Shinsuke Kawanishi,Mami Konomi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-10-29.

Charged particle beam device and axis adjustment method thereof

Номер патента: US11764028B2. Автор: Yuta Imai,Masahiro Sasajima,Yoshihiro Takahoko. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-09-19.

Charged particle beam device with dark field detector

Номер патента: EP2560185A3. Автор: Kaname Takahashi,Mine Nakagawa,Atsushi Muto,Mitsugu Sato,Akinari Morikawa,Yuusuke Tanba,Shunya Watanabe. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2013-09-04.

Charged particle beam system and method of aberration correction

Номер патента: US09892886B2. Автор: Shigeyuki Morishita. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2018-02-13.

Charged particle beam device, sample stage unit, and sample observation method

Номер патента: US09472375B2. Автор: Hiroyuki Suzuki,Yusuke Ominami,Shinsuke Kawanishi,Mami Konomi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20190362931A1. Автор: Makoto Suzuki,Minoru Yamazaki,Yuko Sasaki,Wataru Mori,Ryota Watanabe,Kazunari Asao. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-11-28.

Charged particle beam device

Номер патента: US20040238752A1. Автор: Kaname Takahashi,Mine Nakagawa,Atsushi Muto,Mitsugu Sato,Akinari Morikawa,Yuusuke Tanba,Shunya Watanabe. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2004-12-02.

Charged particle beam device

Номер патента: US6963069B2. Автор: Kaname Takahashi,Mine Nakagawa,Atsushi Muto,Mitsugu Sato,Akinari Morikawa,Yuusuke Tanba,Shunya Watanabe. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2005-11-08.

Charged particle optical apparatus having a selectively positionable differential pressure module

Номер патента: US20150348742A1. Автор: Michael Albiez,Stefan Meyer,Stewart Bean,Daniel Kirsten. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2015-12-03.

Charged particle beam apparatus and control method for charged particle beam apparatus

Номер патента: EP4246551A1. Автор: Takeo Sasaki,Kazuki Yagi,Kanako Noguchi. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-09-20.

Charged Particle Beam Apparatus and Control Method for Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20230290607A1. Автор: Takeo Sasaki,Kazuki Yagi,Kanako Noguchi. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-09-14.

Sample Base, Charged Particle Beam Device and Sample Observation Method

Номер патента: US20150318143A1. Автор: Yusuke Ominami,Takashi Ohshima,Sukehiro Ito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-11-05.

Energy Filter, and Energy Analyzer and Charged Particle Beam Device Provided with Same

Номер патента: US20230298845A1. Автор: Hiroyuki Ito,Takashi Doi,Kazuhiro Honda,Soichiro Matsunaga. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-09-21.

Multiple charged particle beam system with a mirror mode of operation, method for operating a multi-beam charged particle microscope system with a mirror mode of operation and associated computer program product

Номер патента: US20240371596A1. Автор: Ingo Mueller,Yanko Sarov,Stefan Schubert,Claudia Lumpp. Владелец: Carl Zeiss Multisem Gmbh. Дата публикации: 2024-11-07.

Charged particle beam device and charged particle beam device control method

Номер патента: US09881769B2. Автор: Tsutomu Saitou,Kenji Aoki,Mitsuhiro Nakamura,Kunji Shigeto,Kotaro Hosoya. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-01-30.

Sample base, charged particle beam device and sample observation method

Номер патента: US09508527B2. Автор: Yusuke Ominami,Takashi Ohshima,Sukehiro Ito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-11-29.

Demagnification measurement method for charged particle beam exposure apparatus, stage phase measurement method for charged particle beam exposure apparatus, control method for charged particle beam exposure apparatus, and charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US20040183036A1. Автор: Shinsuke Nishimura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-09-23.

Charged particle beam device enabling facilitated EBSD detector analysis of desired position and control method thereof

Номер патента: US09741531B2. Автор: Tsutomu Saito,Kazuyuki Takeda,Tohru Ando. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Conduction inspection method for multipole aberration corrector, and conduction inspection apparatus for multipole aberration corrector

Номер патента: US11915902B2. Автор: Kazuhiko Inoue,Atsushi Ando. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-02-27.

Charged particle beam apparatus and image generation method

Номер патента: US20160064182A1. Автор: Wen Li,Makoto Suzuki,Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Ryo Kadoi,Kazuki Ikeda,Hisaaki Kanai. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-03-03.

Charged Particle Detector and Charged Particle Beam Device Using the Same

Номер патента: US20180261425A1. Автор: Makoto Sakakibara,Yasuhiro Shirasaki,Momoyo Enyama,Kaori Shirahata. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2018-09-13.

Charged particle microscope apparatus and image acquisition method of charged particle microscope apparatus

Номер патента: US20140319341A1. Автор: Maki Tanaka. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2014-10-30.

Charged particle beam apparatus, scanning electron microscope, and method of operating a charged particle beam apparatus

Номер патента: EP4295385A1. Автор: Pavel Adamec. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2023-12-27.

Beam blanker and method for blanking a charged particle beam

Номер патента: US20180151327A1. Автор: Christof Baur,Michael Budach. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-05-31.

Method of investigating the wavefront of a charged-particle beam

Номер патента: US20150170876A1. Автор: Uwe Luecken,Ivan Lazic,Bart Jozef Janssen,Ross Savage,Gijs van Duinen,Stephanus H.L. van den Boom. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2015-06-18.

Charged Particle Beam Apparatus, Alignment Method of Charged Particle Beam Apparatus, Alignment Program, and Storage Medium

Номер патента: US20180108512A1. Автор: Hiroyuki Chiba,Kazuki ISHIZAWA,Yoshihiro Takahoko,Daichi Nara. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-04-19.

Charged-particle beam device

Номер патента: US09443695B2. Автор: Hajime Kawano,Yasunari Sohda,Takeyoshi Ohashi,Noritsugu Takahashi,Osamu Komuro. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-09-13.

Charged particle beam system and method of operating thereof

Номер патента: US9305740B2. Автор: Jürgen Frosien,Benjamin John Cook. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2016-04-05.

Charged particle beam device

Номер патента: US9679740B2. Автор: Wen Li,Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Ryo Kadoi,Kazuki Ikeda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-06-13.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20190035600A1. Автор: Satoru Yamaguchi,Kumiko Shimizu,Kei Sakai,Hideki ITAI,Yasunori Takasugi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-01-31.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210175047A1. Автор: Ichiro Fujimura,Hiroki Kannami,Hironori Itabashi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-06-10.

Charged particle beam device

Номер патента: US20190108970A1. Автор: Hironori Ogawa,Motohiro Takahashi,Shuichi Nakagawa,Takanori Kato. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-04-11.

Charged particle beam device, field curvature corrector, and methods of operating a charged particle beam device

Номер патента: WO2020078610A1. Автор: Benjamin John Cook,Thomas Kemen,Roman BARDAY. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH. Дата публикации: 2020-04-23.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210313140A1. Автор: Minoru Yamazaki,Yuzuru MIZUHARA,Noritsugu Takahashi,Daisuke Bizen,Kaori BIZEN. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-10-07.

Charged particle beam device

Номер патента: US20180261426A1. Автор: Makoto Sakakibara,Megumi Kimura,Momoyo Enyama. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2018-09-13.

Electron gun, charged particle gun, and charged particle beam apparatus using electron gun and charged particle gun

Номер патента: US09570268B2. Автор: Hideo Morishita,Takashi Ohshima,Yuta Imai. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-02-14.

A method for measuring and reducing angular deviations of a charged particle beam

Номер патента: WO2004072631A3. Автор: Zvika Rosenberg,Guy Eytan,Ofer Adan,Charles Archie,Roger Steele Cornell,Jason Mayer,Eric Solecky. Владелец: Eric Solecky. Дата публикации: 2004-10-28.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20190295815A1. Автор: Satoru Yamaguchi,Yoshihiro Kimura,Yoshinori Momonoi,Kei Sakai,Toshimasa Kameda,Hideki ITAI,Yasunori Takasugi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-09-26.

Method and device for correcting image errors when scanning a charged particle beam over a sample

Номер патента: WO2024028233A1. Автор: Michael Budach. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-02-08.

Charged particle apparatus and method

Номер патента: US20240128043A1. Автор: Erwin Paul SMAKMAN,Albertus Victor Gerardus MANGNUS,Tom Van Zutphen,Jurgen VAN SOEST,Roy Ramon VEENSTRA. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-04-18.

Charged particle beam device

Номер патента: US8212224B2. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Akiko Fujisawa,Eiko Nakazawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2012-07-03.

Charged particle beam device

Номер патента: US11817289B2. Автор: Ryuji Yoshida,Tsunenori Nomaguchi,Shunichi Motomura,Takeharu Kato,Tadahiro KAWASAKI. Владелец: Japan Fine Ceramics Center. Дата публикации: 2023-11-14.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210118641A1. Автор: Ryuji Yoshida,Tsunenori Nomaguchi,Shunichi Motomura,Takeharu Kato,Tadahiro KAWASAKI. Владелец: Japan Fine Ceramics Center. Дата публикации: 2021-04-22.

Platform for charged particle apparatus and components within a charged particle apparatus

Номер патента: US20240312756A1. Автор: Hans Butler,Peter Paul HEMPENIUS,Niels Johannes Maria BOSCH,Willem Henk URBANUS,Jasper Hendrik GRASMAN,Joan SANS MERCADER,Patrick Peter Hubert Helena PHILIPS,Gerardus Wilhelmus SARS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-09-19.

Charged Particle Beam Device and Control Method of Optical System of Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20200343072A1. Автор: Yuko Shimizu,Kazuya Yamazaki,Hirofumi Iijima,Tomohiro NAKAMICHI,Naoki Hosogi,Takuma FUKUMURA. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2020-10-29.

Charged particle beam device and charged particle beam device noise source determination method

Номер патента: US20190341225A1. Автор: Wen Li,Hiroyuki Takahashi,Hajime Kawano,Takuma NISHIMOTO,Wataru Mori. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-11-07.

Charged particle apparatus and method

Номер патента: EP4352773A1. Автор: Erwin Paul SMAKMAN,Albertus Victor Gerardus MANGNUS,Tom Van Zutphen,Jurgen VAN SOEST,Roy Ramon VEENSTRA. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-04-17.

Charged particle beam device

Номер патента: US20090218507A1. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Akiko Fujisawa,Eiko Nakazawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2009-09-03.

Charged particle beam system

Номер патента: EP3901983A1. Автор: Naoki Fujimoto,Izuru Chiyo,Tomoyuki Naganuma. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2021-10-27.

Charged Particle Beam System

Номер патента: US20210313142A1. Автор: Naoki Fujimoto,Izuru Chiyo,Tomoyuki Naganuma. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2021-10-07.

Sample holder with light emitting and transferring elements for a charged particle beam apparatus

Номер патента: US09812288B2. Автор: Hideo Morishita,Takashi Ohshima,Kunio Harada,Minami Shouji,Yuusuke Oominami. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-11-07.

Transmission charged particle beam apparatus, and method of aligning such a transmission charged particle beam apparatus

Номер патента: US20230282443A1. Автор: Shanel Ondrej,Martin Schneider,Jan Jisa,Ondrej Baco. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-09-07.

Charged particle beam device and control method of optical system of charged particle beam device

Номер патента: EP3731256A1. Автор: Yuko Shimizu,Kazuya Yamazaki,Hirofumi Iijima,Tomohiro NAKAMICHI,Naoki Hosogi,Takuma FUKUMURA. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2020-10-28.

Charged particle beam system with optical microscope

Номер патента: US5905266A. Автор: James H. Brown,Theodore R. Lundquist,Xavier Larduinat. Владелец: Schlumberger Technologies Inc. Дата публикации: 1999-05-18.

Method of controlling particle absorption on a wafer sample being inspected by a charged particle beam imaging system

Номер патента: US20120006984A1. Автор: You-Jin Wang,Chung-Shih Pan. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2012-01-12.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US7652249B2. Автор: Satoru Yamaguchi,Yasuhiko Ozawa,Atsushi Takane,Mitsuji Ikeda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2010-01-26.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20100102224A1. Автор: Satoru Yamaguchi,Yasuhiko Ozawa,Atsushi Takane,Mitsuji Ikeda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2010-04-29.

Charged particle apparatus and method

Номер патента: US20240242921A1. Автор: Mans Johan Bertil OSTERBERG,Koen SCHUURBIERS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-07-18.

Charged particle apparatus and method

Номер патента: EP4409617A1. Автор: Mans Johan Bertil OSTERBERG,Koen SCHUURBIERS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-08-07.

Charged-particle beam apparatus for voltage-contrast inspection and methods thereof

Номер патента: EP4437577A1. Автор: Chia Wen Lin,Xuedong Liu,Weiming Ren,Xiaoyu JI,Datong ZHANG. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-10-02.

Charged particle beam column and method of operating same

Номер патента: US8558190B2. Автор: Dirk Preikszas. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2013-10-15.

Charged particle beam column and method of operating same

Номер патента: US20100327179A1. Автор: Dirk Preikszas. Владелец: Carl Zeiss NTS GmbH. Дата публикации: 2010-12-30.

Chicane blanker assemblies for charged particle beam systems and methods of using the same

Номер патента: US09767984B2. Автор: N. William Parker,Charles Otis,Kevin Kagarice. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2017-09-19.

Charged particle apparatus and method

Номер патента: EP4156227A1. Автор: Mans Johan Bertil OSTERBERG,Koen SCHUURBIERS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-03-29.

Aligning charged particle beams

Номер патента: WO2010039339A3. Автор: Raymond Hill. Владелец: Carl Zeiss Smt Inc.. Дата публикации: 2010-06-10.

Multi-beam charged particle source with alighment means

Номер патента: US20240096585A1. Автор: Pieter Kruit. Владелец: Applied Materials Israel Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Multi-beam charged particle source with alignment means

Номер патента: EP4049300A1. Автор: Pieter Kruit. Владелец: Applied Materials Israel Ltd. Дата публикации: 2022-08-31.

Signal charged particle deflection device, signal charged particle detection system, charged particle beam device and method of detection of a signal charged particle beam

Номер патента: US9805908B2. Автор: Stefan Lanio,Matthias FIRNKES. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-10-31.

Charged particle beam column and method of operating same

Номер патента: US20120025095A1. Автор: Dirk Preikszas. Владелец: Carl Zeiss NTS GmbH. Дата публикации: 2012-02-02.

Charged particle beam apparatus and charged particle beam irradiation method

Номер патента: US6956211B2. Автор: Takashi Doi,Yoichi Ose,Hideo Todokoro,Mitsugu Sato,Makoto Ezumi,Noriaki Arai. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2005-10-18.

Observation support unit, sample observation method using the same, charged particle beam apparatus

Номер патента: JP6522133B2. Автор: 祐介 大南,明子 久田. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-05-29.

Inspection or observation apparatus and sample inspection or observation method

Номер патента: US20150083908A1. Автор: Yusuke Ominami,Shinsuke Kawanishi,Sukehiro Ito,Tomohisa Ohtaki,Mami Konomi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-03-26.

Charged-particle beam device for irradiating a charged particle beam on a sample

Номер патента: US09543113B2. Автор: Masashi Fujita,Seiichiro Kanno,Naoya Ishigaki,Yasushi Ebizuka. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-01-10.

Charged particle beam device and sample observation method

Номер патента: US09418818B2. Автор: Yusuke Ominami,Sukehiro Ito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-08-16.

Improvements in and relating to charged particle beam devices

Номер патента: GB201017342D0. Автор: . Владелец: Carl Zeiss Microscopy Ltd. Дата публикации: 2010-11-24.

Charged particle optical apparatus having a selectively positionable differential pressure module

Номер патента: US09741528B2. Автор: Michael Albiez,Stefan Meyer,Erik Essers,Stewart Bean,Daniel Kirsten. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2017-08-22.

Method of operation of a charged particle beam device

Номер патента: WO2022028633A1. Автор: FILIP Vojtech. Владелец: Tescan Brno. Дата публикации: 2022-02-10.

Spatial phase manipulation of charged particle beam

Номер патента: US20200258712A1. Автор: Johan VERBEECK,Armand Béché. Владелец: UNIVERSITEIT ANTWERPEN. Дата публикации: 2020-08-13.

Spatial phase manipulation of charged particle beam

Номер патента: EP3698394A1. Автор: Johan VERBEECK,Armand Béché. Владелец: UNIVERSITEIT ANTWERPEN. Дата публикации: 2020-08-26.

Method of determining the beam convergence of a focused charged particle beam, and charged particle beam system

Номер патента: US11791128B2. Автор: Matthias FIRNKES,John Breuer,Dominik Ehberger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2023-10-17.

Method of determining the beam convergence of a focused charged particle beam, and charged particle beam system

Номер патента: WO2023061650A1. Автор: Matthias FIRNKES,John Breuer,Dominik Ehberger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH. Дата публикации: 2023-04-20.

System and method for resolution improvement of charged particles microscopy

Номер патента: US20240186102A1. Автор: Raphael Dahan,Ido KAMINER,Tal Fishman,Michael YANNAI. Владелец: Technion Research and Development Foundation Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Method of determining the beam convergence of a focused charged particle beam, and charged particle beam system

Номер патента: US20230116466A1. Автор: Matthias FIRNKES,John Breuer,Dominik Ehberger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2023-04-13.

Charged particle beam device and sample observation method

Номер патента: GB2519038A. Автор: Yusuke Ominami,Sukehiro Ito. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2015-04-08.

Composite charged particle beam apparatus

Номер патента: US20210151283A1. Автор: Hiroyuki Suzuki,Shinya Kitayama. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2021-05-20.

Charged-particle-beam device and method for correcting aberration

Номер патента: US9484182B2. Автор: Takaho Yoshida,Hisanao Akima. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-11-01.

System and method for high throughput defect inspection in a charged particle system

Номер патента: EP4118675A1. Автор: Long Ma,Zhonghua Dong,Te-Yu Chen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-01-18.

Charged particle beam device, system for a charged particle beam device, and method for operating a charged particle beam device

Номер патента: US09666406B1. Автор: Stefan Lanio,Matthias FIRNKES,Benjamin John Cook. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-05-30.

Charged Particle Beam Device and Method for Controlling Same

Номер патента: US20240242928A1. Автор: Koichi Kuroda. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Apparatus and method for projecting an array of multiple charged particle beamlets on a sample

Номер патента: US12123841B2. Автор: Andries Pieter Johan EFFTING. Владелец: Delmic IP BV. Дата публикации: 2024-10-22.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US09620333B2. Автор: Makoto Sato,Satoshi Tomimatsu,Tatsuya Asahata,Yo Yamamoto,Atsushi Uemoto. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2017-04-11.

Charged-particle beam drawing apparatus and vibration damping mechanism

Номер патента: US09431208B2. Автор: Shuichiro Fukutome. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-08-30.

Charged particle beam drawing apparatus and drawing chamber

Номер патента: US20150021495A1. Автор: Hiroyasu Saito,Yoshinori Nakagawa,Seiichi Nakazawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-01-22.

Stage devices including linear motors that produce reduced beam-perturbing stray magnetic fields, and charged-particle-beam microlithography systems comprising same

Номер патента: US20030111614A1. Автор: Keiichi Tanaka. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-06-19.

Environmental cell for charged particle beam system

Номер патента: US09679741B2. Автор: William Parker,Marcus Straw,Mark Emerson,Libor Novak,Milos Toth,Marek Uncovský,Martin Cafourek. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2017-06-13.

Charged-particle beam lithographic system

Номер патента: US9362085B2. Автор: Noriyuki Kobayashi,Yoshiaki Takizawa. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2016-06-07.

Cryogenic cell for mounting a specimen in a charged particle microscope

Номер патента: US20190131105A1. Автор: Gerbert Jeroen van de Water,Gijs van Duinen,Stephanus H.L. van den Boom,Roland W.P JONKERS,Fotios SAKELLARIOU. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2019-05-02.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20160013010A1. Автор: Go Miya,Seiichiro Kanno,Takafumi Miwa,Yasushi Ebizuka. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-01-14.

Charged particle beam apparatus for measuring surface potential of a sample

Номер патента: US09799486B2. Автор: Go Miya,Seiichiro Kanno,Takafumi Miwa,Yasushi Ebizuka. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-10-24.

Charged particle beam instrument and sample container

Номер патента: US09449784B2. Автор: Tatsuo Naruse. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Charged particle beam system and control method therefor

Номер патента: EP4167267A1. Автор: Takeshi Kaneko,Isamu Ishikawa,Eiji Okunishi. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-04-19.

Wafer and dut inspection apparatus and method using thereof

Номер патента: US20180158647A1. Автор: Bao-Hua Niu,Jung-Hsiang Chuang,David Hung-I Su. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-06-07.

Charged particle beam apparatus and sample observation method

Номер патента: US11393658B2. Автор: Kenji Aoki,Kunji Shigeto,Yuki Tani. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-07-19.

Charged Particle Beam Apparatus and Image Forming Method

Номер патента: US20150221471A1. Автор: Zhigang Wang,Yusuke Abe,Michio Hatano. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-08-06.

Apparatus and method for inspecting a surface of a sample

Номер патента: US09697985B2. Автор: Pieter Kruit,Yan Ren,Ali Mohammadi-Gheidari. Владелец: Technische Universiteit Delft. Дата публикации: 2017-07-04.

Apparatus and method for inspecting a surface of a sample

Номер патента: EP2864997A1. Автор: Pieter Kruit,Yan Ren,Ali Mohammadi Gheidari. Владелец: Technische Universiteit Delft. Дата публикации: 2015-04-29.

Multi-beam lens device, charged particle beam device, and method of operating a multi-beam lens device

Номер патента: US09984848B2. Автор: Jürgen Frosien. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2018-05-29.

Charged particle beam device and aberration correction method for charged particle beam device

Номер патента: US20190214222A1. Автор: Hideyuki Kazumi,Takeyoshi Ohashi,Zhaohui Cheng,Kotoko Urano. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-07-11.

Charged Particle Beam Device and Method for Setting Condition in Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20200126754A1. Автор: Shigeru Kawamata,Hirofumi Sato,Yuki Numata. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-04-23.

Non-invasive charged particle beam monitor

Номер патента: EP3047502A1. Автор: Tomas Plettner,John Gerling. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2016-07-27.

Non-invasive charged particle beam monitor

Номер патента: WO2015042051A1. Автор: Tomas Plettner,John Gerling. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2015-03-26.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20240321543A1. Автор: Hajime Kawano,Toshiyuki Yokosuka,Hideyuki Kotsuji. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Charged particle beam device, image generation method, observation system

Номер патента: US09824854B2. Автор: Yusuke Ominami,Shinsuke Kawanishi,Sukehiro Ito,Junichi Katane. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20230290606A1. Автор: Yusuke Nakamura,Shunsuke Mizutani,Muneyuki Fukuda,Yusuke Abe. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-09-14.

Signal separator for a multi-beam charged particle inspection apparatus

Номер патента: WO2019164391A1. Автор: Pieter Kruit,Ron Naftali. Владелец: Applied Materials Israel, Ltd.. Дата публикации: 2019-08-29.

Signal separator for a multi-beam charged particle inspection apparatus

Номер патента: EP3756209A1. Автор: Pieter Kruit,Ron Naftali. Владелец: Applied Materials Israel Ltd. Дата публикации: 2020-12-30.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20230317399A1. Автор: Shunsuke Mizutani,Toshimasa Kameda,Tomoyo Sasaki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-05.

On-Axis Detector for Charged Particle Beam System

Номер патента: US20140001357A1. Автор: N. William Parker,Mark W. Utlaut,Anthony Graupera. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2014-01-02.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US8000939B2. Автор: Atsushi Kobaru. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2011-08-16.

Charged particle-optical apparatus

Номер патента: WO2024013042A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-01-18.

Charged particle-optical apparatus

Номер патента: EP4354485A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-04-17.

Charged particle beam device

Номер патента: US11823861B2. Автор: Junichi Katane,Yuta Imai. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-11-21.

Multiple charged-particle beam apparatus with low crosstalk

Номер патента: EP3977499A1. Автор: Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu,Qingpo Xi. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2022-04-06.

Multiple charged-particle beam apparatus with low crosstalk

Номер патента: US12033830B2. Автор: Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu,Qingpo Xi. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-07-09.

Charged-particle beam apparatus with fast focus correction and methods thereof

Номер патента: WO2023237277A1. Автор: Weiming Ren,Xiaoyu JI,Wei-Yu Chang. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2023-12-14.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20240014002A1. Автор: Wen Li,Hideto Dohi,Tomoyo Sasaki,Takayasu Iwatsuka. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-01-11.

Charged particle beam device and analysis method

Номер патента: US11315753B2. Автор: Tatsuya Uchida,Kenichi Tsutsumi. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2022-04-26.

Charged particle beam device

Номер патента: US20230274907A1. Автор: Hideo Morishita,Junichi Katane,Tatsuro Ide,Teruo Kohashi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-08-31.

Apparatus and method for inspecting a surface of a sample

Номер патента: WO2013191539A1. Автор: Pieter Kruit,Yan Ren,Ali Mohammadi Gheidari. Владелец: Technische Universiteit Delft. Дата публикации: 2013-12-27.

Charged particle beam device

Номер патента: US20210217580A1. Автор: Tsunenori Nomaguchi,Yuta Imai,Kazuo Ootsuga. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-07-15.

Charged particle beam device and analysis method

Номер патента: EP3792951A1. Автор: Tatsuya Uchida,Kenichi Tsutsumi. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2021-03-17.

Charged particle beam device and analysis method

Номер патента: US11710615B2. Автор: Tatsuya Uchida,Kenichi Tsutsumi. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-07-25.

Operation methods of 2d pixelated detector for an apparatus with plural charged-particle beams and mapping surface potentials

Номер патента: US20240079204A1. Автор: Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu,Oleg Krupin,Yongxin Wang. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-03-07.

Methods and devices for determining times for maintenance activity performed on a charged-particle-beam microlithography apparatus, and microelectronic-device-manufacturing methods comprising same

Номер патента: US6545274B1. Автор: Kenji Morita. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-04-08.

Charged particle beam drawing apparatus and drawing chamber

Номер патента: US9196458B2. Автор: Hiroyasu Saito,Yoshinori Nakagawa,Seiichi Nakazawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-11-24.

Charged particle beam system and method of operating a charged particle beam system

Номер патента: US09530611B2. Автор: Alexander Groholski,Raymond Hill,John A. Notte, IV,Mark D. DiManna,Robert Conners. Владелец: Carl Zeiss Microscopy LLC. Дата публикации: 2016-12-27.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210027977A1. Автор: Ryuji Yoshida,Tsunenori Nomaguchi,Shunichi Motomura,Takeharu Kato,Tadahiro KAWASAKI. Владелец: Japan Fine Ceramics Center. Дата публикации: 2021-01-28.

Systems and methods of energy discrimination of backscattered charged-particles

Номер патента: WO2024115029A1. Автор: Weiming Ren,Xiaoyu JI. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-06-06.

Charged particle assessment system and method

Номер патента: US20240071716A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-02-29.

Primary charged particle beam current measurement

Номер патента: US11817292B2. Автор: John Breuer,Christian Droese. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2023-11-14.

Primary charged particle beam current measurement

Номер патента: EP4272238A1. Автор: John Breuer,Christian Droese. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2023-11-08.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20150083910A1. Автор: Toshihide Agemura,Tsunenori Nomaguchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-03-26.

Apparatus for providing a protective layer for charged-particle-beam processing

Номер патента: EP1918981B1. Автор: Jeff Blackwood,Stacey Stone. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2011-02-16.

Protective Layer For Charged Particle Beam Processing

Номер патента: US20120107521A1. Автор: Jeff Blackwood,Stacey Stone. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2012-05-03.

Charged particle beam inspection apparatus and method

Номер патента: WO2024132808A1. Автор: Weiming Ren,Xiaoyu JI,Xuechen ZHU,Datong ZHANG. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-06-27.

Multi-beam particle beam system

Номер патента: US20240234080A9. Автор: Thomas Schmid,Dirk Zeidler. Владелец: Carl Zeiss Multisem Gmbh. Дата публикации: 2024-07-11.

Charged particle beam application device

Номер патента: US20150364290A1. Автор: Akira Ikegami,Naomasa Suzuki,Hideyuki Kazumi,Momoyo Enyama,Hideto Dohi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-12-17.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20090302233A1. Автор: TAKASHI Ogawa. Владелец: SII NanoTechnology Inc. Дата публикации: 2009-12-10.

Beam separator device, charged particle beam device and methods of operating thereof

Номер патента: US09472373B1. Автор: Jürgen Frosien,Stefan Lanio,Matthias FIRNKES,John Breuer,Johannes Hopster. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2016-10-18.

Charged particle device and charged particle apparatus

Номер патента: EP4391009A1. Автор: Erwin Paul SMAKMAN,Yan Ren,Roy Ramon VEENSTRA. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-06-26.

Charged particle device and charged particle apparatus

Номер патента: WO2024132486A1. Автор: Erwin Paul SMAKMAN,Yan Ren,Roy Ramon VEENSTRA. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-06-27.

Charged particle beam application device

Номер патента: US09704687B2. Автор: Akira Ikegami,Naomasa Suzuki,Hideyuki Kazumi,Momoyo Enyama,Hideto Dohi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-07-11.

Charged particle beam reflector device and electron microscope

Номер патента: EP2048690A3. Автор: Hirotami Koike,Shinichi Okada. Владелец: Topcon Corp. Дата публикации: 2010-12-15.

Beam manipulator in charged particle-beam apparatus

Номер патента: US20240355575A1. Автор: Vincent Claude BEUGIN,German AKSENOV,Pieter Lucas Brandt. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-10-24.

A beam manipulator in charged particle-beam apparatus

Номер патента: EP4457851A1. Автор: Vincent Claude BEUGIN,German AKSENOV,Pieter Lucas Brandt. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-11-06.

Charged particle beam apparatus and plasma ignition method

Номер патента: US20170278678A1. Автор: Hiroshi Oba,Yasuhiko Sugiyama. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2017-09-28.

Electrostatic multipole device, electrostatic multipole arrangement, charged particle beam device, and method of operating an electrostatic multipole device

Номер патента: US09620328B1. Автор: Benjamin John Cook. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-04-11.

Charged particle beam source and charged particle beam system

Номер патента: EP4254465A1. Автор: Keiichi Yamamoto,Yasuyuki Okano,Norikazu Arima,Tomohisa Fukuda,Kyouichi KAMINO. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-10-04.

Charged Particle Beam Source and Charged Particle Beam System

Номер патента: US20230317400A1. Автор: Keiichi Yamamoto,Yasuyuki Okano,Norikazu Arima,Tomohisa Fukuda,Kyouichi KAMINO. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Beam deflection device, aberration corrector, monochromator, and charged particle beam device

Номер патента: US12062519B2. Автор: Pieter Kruit,Hideto Dohi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-08-13.

Magnetic multipole device, charged particle beam apparatus, and method of influencing a charged particle beam propagating along an optical axis

Номер патента: US20240087837A1. Автор: Benjamin Cook. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2024-03-14.

Charged particle beam apparatus having particular electrostatic objective lens and vacuum pump systems

Номер патента: US5254856A. Автор: Kazue Takahashi,Tadashi Otaka,Kenji Odaka,Toshiaki Kobari,Mikio Ichihashi,Hironobu Matsui,Shinjiroo Ueda. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1993-10-19.

Electrostatic multipole device, electrostatic multipole arrangement, charged particle beam device, and method of manufacturing an electrostatic multipole device

Номер патента: US09620329B1. Автор: Dieter Winkler,Benjamin John Cook. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-04-11.

Charged-particle beam apparatus with beam-tilt and methods thereof

Номер патента: US20240021404A1. Автор: Hermanus Adrianus Dillen,Xuedong Liu,Weiming Ren,Xiaoyu JI,Shahedul Hoque. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-01-18.

Charged particle beam system

Номер патента: US20230093287A1. Автор: Hirokazu Tamaki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-03-23.

Lens for a charged particle beam apparatus, charged particle beam apparatus, and method of focusing a charged particle beam

Номер патента: US20240212968A1. Автор: Pieter Kruit,Benjamin Cook. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2024-06-27.

Mechanism for Adjusting Angle of Incidence on Charged Particle Beam Aperture, and Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20240029992A1. Автор: Tsunenori Nomaguchi,Shunichi Motomura. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-01-25.

Charged Particle Beam Device and Charged Particle Beam Measurement Method

Номер патента: US20160225583A1. Автор: Yoshinobu Kimura,Hajime Kawano,Hideyuki Kazumi,Natsuki Tsuno,Junichiro Tomizawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-08-04.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20140021366A1. Автор: Akira Ikegami,Hideyuki Kazumi,Hideto Dohi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2014-01-23.

Charged particle gun and charged particle beam device

Номер патента: GB2605035A. Автор: Sasaki Tomoyo. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-09-21.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20230005700A1. Автор: Go Miya,Seiichiro Kanno,Takafumi Miwa,Kazuma Tanii. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-01-05.

Charged particle beam device

Номер патента: US11011345B2. Автор: Naoya Ishigaki,Takumi Hatakeyama. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-05-18.

Charged Particle Beam Drawing Apparatus and Control Method for Charged Particle Beam Drawing Apparatus

Номер патента: US20230075825A1. Автор: Yukinori Aida. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-03-09.

Charged particle beam writing apparatus, and method for detecting irregularities in dose of charged particle beam

Номер патента: US20150325407A1. Автор: Hideo Inoue,Hironori Mizoguchi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-11-12.

Charged practicles beam apparatus and charged particles beam apparatus design method

Номер патента: US20140097352A1. Автор: Mamoru Nakasuji. Владелец: Individual. Дата публикации: 2014-04-10.

Charged particle beam writing apparatus and method for diagnosing dac amplifier unit in charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20100030522A1. Автор: Seiichi Tsuchiya,Akinori Mine. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2010-02-04.

Charged particle beam writing apparatus and method for diagnosing DAC amplifier unit in charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US8290743B2. Автор: Seiichi Tsuchiya,Akinori Mine. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2012-10-16.

Charged-particle beam device for diffraction analysis

Номер патента: US20240355577A1. Автор: Harald Niebel,Günther STEINFELD,Tomi Tuohimaa,Christiaan Van Den Berg,Alexander Van Veen. Владелец: Eldico Scientific AG. Дата публикации: 2024-10-24.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20220238296A1. Автор: Tsunenori Nomaguchi,Shunichi Motomura. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-07-28.

Charged particle beam device

Номер патента: EP4365926A1. Автор: Hajime Kawano,Toshiyuki Yokosuka,Hideyuki Kotsuji. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-05-08.

Charged particle-optical apparatus

Номер патента: EP4421843A1. Автор: Henricus Petrus Maria Pellemans,Duygu Akbulut,Marco Jan-Jaco Wieland,Vincent Sylvester KUIPER,Erwin Slot,Ezgi Sahin,Jorn Paul VAN ENGELEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-08-28.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210391143A1. Автор: Shuhei Yabu,Kazuki ISHIZAWA,Michio Hatano,Anoru SUGA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-12-16.

Multiple charged particle beam lithography apparatus and multiple charged particle beam pattern writing method

Номер патента: US20160155610A1. Автор: Yasuo Kato,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-06-02.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US11798776B2. Автор: Tsunenori Nomaguchi,Shunichi Motomura. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-24.

Charged particle optical device, assessment apparatus, method of assessing a sample

Номер патента: WO2024110489A1. Автор: Willem Henk URBANUS,Marco Jan-Jaco Wieland,Johan Joost Koning,Laura DEL TIN,Johannes Cornelis Jacobus DE LANGEN. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-05-30.

Charged particle optical device, assessment apparatus, method of assessing a sample

Номер патента: EP4376048A1. Автор: Willem Henk URBANUS,Marco Jan-Jaco Wieland,Johan Joost Koning,Laura DEL TIN,Johannes Cornelis Jacobus DE LANGEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-05-29.

Charged particle beam writing method and charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20180269034A1. Автор: Haruyuki NOMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-09-20.

Charged particle beam column, charged particle beam chromatic aberration corrector, and method of correcting charged particle beam chromatic aberration

Номер патента: US20240222063A1. Автор: Pieter Kruit,John Breuer. Владелец: Ict Integrated Circuit Testing Gesellschaft Fuer Halbleiterpueftechnik Mbh. Дата публикации: 2024-07-04.

Double stage charged particle beam energy width reduction system for charged particle beam system

Номер патента: WO2005024888A3. Автор: Juergen Frosien,Stefan Lanio,Ralf Degenhardt. Владелец: Ralf Degenhardt. Дата публикации: 2005-04-28.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US11791124B2. Автор: Akira Ikegami,Yasushi Ebizuka,Yuta Kawamoto,Nobuo FUJINAGA. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2023-10-17.

Charged particle-optical apparatus

Номер патента: WO2024088718A1. Автор: Henricus Petrus Maria Pellemans,Duygu Akbulut,Marco Jan-Jaco Wieland,Vincent Sylvester KUIPER,Erwin Slot,Ezgi Sahin,Jorn Paul VAN ENGELEN. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-05-02.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US11784023B2. Автор: Akira Ikegami,Yasushi Ebizuka,Yuta Kawamoto,Nobuo FUJINAGA. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2023-10-10.

Charged Particle Device

Номер патента: US20150179394A1. Автор: Tsutomu Saito,Kenji Aoki. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-06-25.

Integrated light optics and gas delivery in a charged particle lens

Номер патента: US09478390B2. Автор: N. William Parker,Clive Chandler,Mark Utlaut,Steven Randolph,Marcus Straw,Jorge Filevich,Aurelien Philippe Jean Maclou Botman. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2016-10-25.

Charged particle beam device

Номер патента: US5235188A. Автор: Petrus M. Mul. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 1993-08-10.

Charged particle beam lithography system and target positioning device

Номер патента: US9082584B2. Автор: Guido De Boer,Jerry Peijster. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2015-07-14.

Apparatus and method for irradiating a surface of a sample using charged particle beams

Номер патента: NL2016853B1. Автор: KRUIT Pieter,Wouter Hagen Cornelis,Scotuzzi Marijke. Владелец: Univ Delft Tech. Дата публикации: 2017-12-11.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US20160284513A1. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-09-29.

Charged-particle beam exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US20120126136A1. Автор: Hirohito Ito. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-05-24.

Plasma driven particle propagation apparatus and pumping method

Номер патента: EP3314988A1. Автор: David BUDGE. Владелец: Aurora Labs Ltd. Дата публикации: 2018-05-02.

Beam irradiation apparatus and beam irradiation method

Номер патента: US09449791B2. Автор: Mitsukuni Tsukihara,Noriyasu Ido,Noriyuki Suetsugu. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ion Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US09673018B2. Автор: Haruyuki NOMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-06-06.

Multiple charged particle beam lithography apparatus and multiple charged particle beam pattern writing method

Номер патента: US09601315B2. Автор: Yasuo Kato,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-03-21.

Charged particle apparatus and method

Номер патента: EP4250331A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-09-27.

Charged particle beam apparatus and aberration corrector

Номер патента: US20170162362A1. Автор: Takaho Yoshida. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-06-08.

Charged particle beam writing apparatus, and charged particle beam writing method

Номер патента: US09484185B2. Автор: Yasuo Kato,Noriaki Nakayamada,Mizuna Suganuma. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-11-01.

Multi-charged particle beam writing apparatus and multi-charged particle beam writing method

Номер патента: US09953800B2. Автор: Hideo Inoue,Hayato Kimura,Kei Hasegawa,Yoshiaki Onimaru. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-04-24.

Charged particle beam writing apparatus, method of adjusting beam incident angle to target object surface, and charged particle beam writing method

Номер патента: US09824849B2. Автор: Takahito Nakayama,Takanao TOUYA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-11-21.

High resolution charged particle beam device and method of operating the same

Номер патента: US09595417B2. Автор: Jürgen Frosien. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-03-14.

Beam optical component having a charged particle lens

Номер патента: WO2005071709A2. Автор: Juergen Frosien. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH. Дата публикации: 2005-08-04.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US09721756B2. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-08-01.

Charged particle source arrangement for a charged particle beam device, charged particle beam device for sample inspection, and method for providing a primary charged particle beam for sample inspection in a charged particle beam

Номер патента: US09666404B2. Автор: Jürgen Frosien. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-05-30.

Charged particle beam writing apparatus, and charged particle beam writing method

Номер патента: US09548183B2. Автор: Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-01-17.

Charged particle beam writing apparatus, and charged particle beam writing method

Номер патента: US20150060690A1. Автор: Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-03-05.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20070246651A1. Автор: Masahiro Inoue,Akira Higuchi,Masahiro Yamamoto,Hirotami Koike,Shinichi Okada,Sumio Sasaki. Владелец: Topcon Corp. Дата публикации: 2007-10-25.

A beam manipulator in charged particle-beam apparatus

Номер патента: CA3242123A1. Автор: Vincent Claude BEUGIN,German AKSENOV,Pieter Lucas Brandt. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-07-06.

Blanking device for multi charged particle beams, and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US09543120B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-01-10.

Charged particle beam drawing apparatus and article manufacturing method using same

Номер патента: US8384051B2. Автор: Kimitaka Ozawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2013-02-26.

Multi charged particle beam evaluation method, multi charged particle beam writing method, inspection method for aperture array substrate for multi charged particle beam irradiation apparatus, and computer-readable recording medium

Номер патента: US20230402253A1. Автор: HIROFUMI Morita,Yoshikuni GOSHIMA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-12-14.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US09741535B2. Автор: Makoto Sato,Tatsuya Asahata,Shota Torikawa,Atsushi Uemoto. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Charged particle beam writing apparatus, charged particle beam writing method, and shot correction method of charged particle beam writing method

Номер патента: US09583310B2. Автор: Tomoo Motosugi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-02-28.

Method for correcting drift of charged particle beam, and charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US09536705B2. Автор: Osamu Iizuka. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-01-03.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US09336987B2. Автор: Makoto Sato,Tatsuya Asahata,Shota Torikawa,Atsushi Uemoto. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2016-05-10.

Method of generation of charged particle beam exposure data and charged particle beam exposure method using a block mask

Номер патента: US20060033048A1. Автор: Takashi Maruyama,Manabu Ohno. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2006-02-16.

Multi-beam inspection apparatus

Номер патента: US20190341222A1. Автор: Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu,Zhong-Wei Chen. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2019-11-07.

Multi-beam inspection apparatus

Номер патента: US20210151280A1. Автор: Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu,Zhong-Wei Chen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2021-05-20.

Techniques for controlling a charged particle beam

Номер патента: WO2009036267A2. Автор: Anthony Renau,Joseph C. Olson,Russell J. Low,Piotr R. Lubicki. Владелец: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.. Дата публикации: 2009-03-19.

Techniques for controlling a charged particle beam

Номер патента: WO2009036267A3. Автор: Anthony Renau,Joseph C Olson,Russell J Low,Piotr R Lubicki. Владелец: Piotr R Lubicki. Дата публикации: 2009-06-11.

Aperture body, flood column and charged particle tool

Номер патента: US20230005699A1. Автор: Christiaan OTTEN,Jurgen VAN SOEST,Christian Teunissen,Boudewjin Weijert Herman Jan VAN DER KROON. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-01-05.

Charged-particle-beam projection-exposure method exhibiting aberration reduction through multiple deflector use

Номер патента: US6027841A. Автор: Shohei Suzuki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-02-22.

Charged-particle beam exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US8618516B2. Автор: Hirohito Ito. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2013-12-31.

Charged-particle beam exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US8981321B2. Автор: Hirohito Ito. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2015-03-17.

Charged-particle beam system

Номер патента: US7329881B2. Автор: Osamu Wakimoto. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2008-02-12.

Charged-particle beam system

Номер патента: US20050211681A1. Автор: Osamu Wakimoto. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2005-09-29.

Charged particle beam exposure method and charged particle beam exposure device

Номер патента: US20060019199A1. Автор: Yasushi Takahashi. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2006-01-26.

Charged particle beam exposure method and charged particle beam exposure device

Номер патента: US20090288060A1. Автор: Yasushi Takahashi. Владелец: Fujitsu Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2009-11-19.

Charged particle beam exposure method and charged particle beam exposure device

Номер патента: US7582884B2. Автор: Yasushi Takahashi. Владелец: Fujitsu Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2009-09-01.

Blanking system for multi charged particle beams, and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US09697981B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-07-04.

Charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US09478396B2. Автор: Akio Yamada,Shinichi Hamaguchi,Masaki Kurokawa,Shinji Sugatani. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2016-10-25.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20140077103A1. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2014-03-20.

Charged particle beam writing apparatus, method of adjusting beam incident angle to target object surface, and charged particle beam writing method

Номер патента: US20180076002A1. Автор: Takahito Nakayama,Takanao TOUYA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-03-15.

Charged particle beam writing apparatus, method of adjusting beam incident angle to target object surface, and charged particle beam writing method

Номер патента: US20160071682A1. Автор: Takahito Nakayama,Takanao TOUYA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-03-10.

Charged particle beam writing apparatus, method of adjusting beam incident angle to target object surface, and charged particle beam writing method

Номер патента: US20190115185A1. Автор: Takahito Nakayama,Takanao TOUYA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-04-18.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US9018602B2. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-04-28.

Structure for Particle Acceleration And Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20240242918A1. Автор: Kenji Tanimoto,Shuhei Ishikawa,Ryo Sugiyama. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

System and apparatus for stabilizing electron sources in charged particle systems

Номер патента: US20240347311A1. Автор: Bruno La Fontaine,Juying Dou,Zhidong DU,Che-Chia KUO. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-10-17.

Charged particle beam exposure apparatus and method of cleaning the same

Номер патента: US5401974A. Автор: HIROSHI Yasuda,Yasushi Takahashi,Moritaka Nakamura,Soichiro Arai,Kiichi Sakamoto,Takamasa Satoh,Yoshihisa Oae. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1995-03-28.

Charged particle beam exposure method and apparatus

Номер патента: US5099133A. Автор: Akio Yamada. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1992-03-24.

Arrangement for masked beam lithography by means of electrically charged particles

Номер патента: US5742062A. Автор: Gerhard Stengl,Alfred Chalupka,Herbert Vonach,Hans Loeschner. Владелец: Ims Ionen Mikrofabrikations Systems GmbH. Дата публикации: 1998-04-21.

Charged particle beam writing apparatus, and charged particle beam writing method

Номер патента: US20160148785A1. Автор: Yasuo Kato,Noriaki Nakayamada,Mizuna Suganuma. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-05-26.

Charged particle blocking element, exposure apparatus comprising such an element, and method for using such an exposure apparatus

Номер патента: US20200194214A1. Автор: Alexander Hendrik Vincent van Veen,Derk Ferdinand WALVOORT. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-06-18.

Charged particle blocking element, exposure apparatus comprising such an element, and method for using such an exposure apparatus

Номер патента: EP3665716A1. Автор: Alexander Hendrik Vincent van Veen,Derk Ferdinand WALVOORT. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-06-17.

Charged particle blocking element, exposure apparatus comprising such an element, and method for using such an exposure apparatus

Номер патента: NL2021299A. Автор: Hendrik Vincent Van Veen Alexander,Ferdinand Walvoort Derk. Владелец: Mapper Lithography Ip Bv. Дата публикации: 2019-02-18.

Charged particle blocking element, exposure apparatus comprising such an element, and method for using such an exposure apparatus

Номер патента: US20230335366A1. Автор: Alexander Hendrik Vincent van Veen,Derk Ferdinand WALVOORT. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-10-19.

Charged particle blocking element, exposure apparatus comprising such an element, and method for using such an exposure apparatus

Номер патента: NL2021299B1. Автор: Hendrik Vincent Van Veen Alexander,Ferdinand Walvoort Derk. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2019-05-29.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20160336141A1. Автор: Haruyuki NOMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-11-17.

Gas blowingnozzle of charged particle beam apparatus and charged particle beam apparatus as well as working method

Номер патента: US20050167614A1. Автор: Takashi Kaito. Владелец: SII NanoTechnology Inc. Дата публикации: 2005-08-04.

Charged particle beam processing method

Номер патента: EP2221849A3. Автор: Katsuhiro Funabashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-06-13.

Scanning apparatus, drawing apparatus, and method of manufacturing article

Номер патента: US8829461B2. Автор: Hirohito Ito,Yusuke Sugiyama. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-09-09.

Charged particle apparatus and method

Номер патента: WO2023180016A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2023-09-28.

Charged particle beam device with multi-source array

Номер патента: WO2005006385A3. Автор: Dieter Winkler,Juergen Frosien,Hans-Peter Feuerbaum,Pavel Adamec,Uli Hoffmann. Владелец: Uli Hoffmann. Дата публикации: 2005-04-14.

Focusing apparatus for uniform application of charged particle beam

Номер патента: US4276477A. Автор: Harald A. Enge. Владелец: Varian Associates Inc. Дата публикации: 1981-06-30.

Charged particle apparatus and method

Номер патента: EP4250332A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-09-27.

Charged particle optical device and method

Номер патента: EP4280252A1. Автор: Petrus Wilhelmus SMORENBURG. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-11-22.

Charged particle optical device and method

Номер патента: WO2023202819A1. Автор: Petrus Wilhelmus SMORENBURG. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2023-10-26.

Charged particle beam lithography method and charged particle beam lithography apparatus

Номер патента: US10074515B2. Автор: Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-09-11.

High Current Density Particle Beam System

Номер патента: US20070284536A1. Автор: Juergen Frosien. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-12-13.

High current density particle beam system

Номер патента: WO2005096343A1. Автор: Jürgen Frosien. Владелец: Ict, Integrated Circuit Testing Gesellschaft Für Halbleiterprüftechnik Mbh. Дата публикации: 2005-10-13.

Multi charged particle beam writing method, and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20170103869A1. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-04-13.

Charged-particle analyzer

Номер патента: US4135088A. Автор: Isao Ishikawa,Katsuhisa Usami,Michiyasu Itoh. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1979-01-16.

Substrate inspection apparatus, method of calibrating the substrate inspection apparatus, and method of fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20200182777A1. Автор: YOON Sung Bae,Young Hoon Sohn,Yu Sin YANG,Jang Ik PARK,Kwang Rak KIM,Tae Yong Jo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-06-11.

Battery cell welded part inspection apparatus, and battery cell welded part inspection method using same

Номер патента: EP4414121A1. Автор: Seok Won Jeung,Choon Kwon Kang,Hyun Min Oh. Владелец: LG Energy Solution Ltd. Дата публикации: 2024-08-14.

Inspection apparatus, manufacturing method of integrated circuit, and inspection method

Номер патента: US20230298917A1. Автор: Tsung-Fu Tsai,Szu-Wei Lu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Charged particle beam substrate inspection using both vector and raster scanning

Номер патента: US09466463B1. Автор: Kevin M. Monahan,Theodore A. Prescop,David K. Lam,Cong Tran,Enden David Liu. Владелец: Multibeam Corp. Дата публикации: 2016-10-11.

Charged particle beam substrate inspection using both vector and raster scanning

Номер патента: US09620332B1. Автор: Kevin M. Monahan,Theodore A. Prescop,David K. Lam,Cong Tran,Enden David Liu. Владелец: Multibeam Corp. Дата публикации: 2017-04-11.

Wafer inspecting method, wafer inspecting instrument, and electron beam apparatus

Номер патента: EP1273907A1. Автор: Toshifumi Kimba,Kenji Watanabe,Tsutomu Karimata,Muneki Hamashima,Mamoru Nakasuji,Masahiro Hatakeyama,Mutsumi Saito,Nobuharu Noji,Tohru Satake,Hirosi Sobukawa,Shoji Yoshikawa,Shin Oowada. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2003-01-08.

Semiconductor inspection device including a counter electrode with adjustable potentials used to obtain images for detection of defects, and inspection method using charged particle beam

Номер патента: US09846133B2. Автор: Yoshinobu Kimura,Yuki Mori,Natsuki Tsuno,Toshiyuki Ohno,Hiroya Ohta,Renichi Yamada. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2017-12-19.

Multiple charged particle beam inspection apparatus and multiple charged particle beam inspection method

Номер патента: US20190360951A1. Автор: Riki Ogawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-11-28.

Charged particle beam apparatus and inspection method using the same

Номер патента: US09659744B2. Автор: Yoshinobu Kimura,Naomasa Suzuki,Hideyuki Kazumi,Natsuki Tsuno,Shoji Hotta. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-05-23.

Charged particle device, charged particle assessment apparatus, measuring method, and monitoring method

Номер патента: US20240339292A1. Автор: Marijke SCOTUZZI,Erwin Paul SMAKMAN,Albertus Victor Gerardus MANGNUS,Yan Ren. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-10-10.

Charged-particle apparatus, multi-device apparatus, method of using charged-particle apparatus and control method

Номер патента: US20240331968A1. Автор: Marijke SCOTUZZI,Erwin Paul SMAKMAN,Albertus Victor Gerardus MANGNUS,Yan Ren. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-10-03.

Charged particle beam device and inspection method

Номер патента: US12057288B2. Автор: Makoto Sakakibara,Hajime Kawano,Momoyo Enyama. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-08-06.

Charged particle beam apparatus and processing method

Номер патента: US09793092B2. Автор: Fumio Aramaki,Tomokazu Kozakai,Masashi Muramatsu. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2017-10-17.

Apparatus and method for detecting one or more scanning charged particle beams

Номер патента: EP3977502A1. Автор: Andries Pieter Johan EFFTING,Lenard Maarten VOORTMAN. Владелец: Delmic IP BV. Дата публикации: 2022-04-06.

Charged particle beam apparatus and image acquisition method

Номер патента: US10763077B2. Автор: Takeshi Otsuka. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2020-09-01.

Integrated optical and charged particle inspection apparatus

Номер патента: EP2834832A2. Автор: Pieter Kruit,Jacob Pieter Hoogenboom,Nalan M. SC LIV,Aernout Christian ZONNEVYLLE. Владелец: Delmic BV. Дата публикации: 2015-02-11.

Charged Particle Beam Apparatus and Image Acquisition Method

Номер патента: US20190362934A1. Автор: Takeshi Otsuka. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2019-11-28.

Charged particle beam lithography apparatus and charged particle beam lithography method

Номер патента: US20180197717A1. Автор: Seiji WAKE. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-07-12.

Integrated optical and charged particle inspection apparatus

Номер патента: US09715992B2. Автор: Pieter Kruit,Jacob Pieter Hoogenboom,Aernout Christiaan Zonnevylle,Nalan Liv. Владелец: Delmic BV. Дата публикации: 2017-07-25.

Observation apparatus and optical axis adjustment method

Номер патента: US09466457B2. Автор: Yusuke Ominami,Shinsuke Kawanishi,Sukehiro Ito,Mami Konomi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-10-11.

Method for analyzing an object and a charged particle beam device for carrying out this method

Номер патента: US09905394B1. Автор: Lorenz Lechner,Sreenivas Bhattiprolu. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2018-02-27.

Apparatus and method for inspecting a surface of a sample

Номер патента: US09449789B2. Автор: Pieter Kruit. Владелец: Technische Universiteit Delft. Дата публикации: 2016-09-20.

Charged particle beam apparatus and method of controlling charged particle beam apparatus

Номер патента: US11756764B2. Автор: Kuniyasu Nakamura,Hirokazu Tamaki,Takashi Dobashi,Hiromi MISE. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-09-12.

System and method for simultaneous detection of secondary electrons and light in a charged particle beam system

Номер патента: US20140131573A1. Автор: N. William Parker,Mark W. Utlaut. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2014-05-15.

Cross-talk cancellation in multiple charged-particle beam inspection

Номер патента: US12080513B2. Автор: Wei Fang,BO Wang,Yongxin Wang,Lingling Pu,Zhonghua Dong. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-09-03.

Charged particle beam device, and sample observation method employing same

Номер патента: US20240242925A1. Автор: Takeshi Ohmori,Shunya TANAKA. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2024-07-18.

Method of determining a brightness of a charged particle beam, method of determining a size of a source of the charged particle beam, and charged particle beam imaging device

Номер патента: US20240126057A1. Автор: Matthias FIRNKES,John Breuer,Dominik Ehberger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2024-04-18.

System and method for simultaneous detection of secondary electrons and light in a charged particle beam system

Номер патента: US09494516B2. Автор: N. William Parker,Mark W. Utlaut. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2016-11-15.

Charged Particle Beam Irradiation Apparatus, Charged Particle Beam Image Acquisition Apparatus, and Charged Particle Beam Inspection Apparatus

Номер патента: US20190304737A1. Автор: Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-10-03.

System and method for scanning a sample using multi-beam inspection apparatus

Номер патента: US20210217582A1. Автор: Joost Jeroen Ottens,Long Ma,Xuedong Liu,Weihua Yin,Youfei JIANG,Maria Johannes MAASSEN Martinus Gerardus,Wei-Te LI. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2021-07-15.

System and method for scanning a sample using multi-beam inspection apparatus

Номер патента: US20230274906A1. Автор: Joost Jeroen Ottens,Long Ma,Xuedong Liu,Weihua Yin,Youfei JIANG,Maria Johannes MAASSEN Martinus Gerardus,Wei-Te LI. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-08-31.

Charged particle beam device and method for inspecting and/or imaging a sample

Номер патента: EP4154291A1. Автор: Dieter Winkler,Bernd Wöllert,Birgit Schabinger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2023-03-29.

Charged particle beam device and method for inspecting and/or imaging a sample

Номер патента: WO2021233584A1. Автор: Dieter Winkler,Bernd Wöllert,Birgit Schabinger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH. Дата публикации: 2021-11-25.

Charged Particle Beam Apparatus and Image Adjustment Method

Номер патента: US20230100291A1. Автор: Tomohiro Mihira. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Charged particle assessment tool, inspection method

Номер патента: US20240249912A1. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-07-25.

Charged Particle Beam Apparatus and Sample Observation Method

Номер патента: US20190279838A1. Автор: Kunji Shigeto,Mitsugu Yamashita. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-09-12.

Composite charged particle detector, charged particle beam device, and charged particle detector

Номер патента: US09761409B2. Автор: Toshihide Agemura,Tsunenori Nomaguchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-09-12.

System and methods for thermally conditioning a wafer in a charged particle beam apparatus

Номер патента: US11804358B2. Автор: Martijn Petrus Christianus VAN HEUMEN,Jeroen Gerard Gosen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-10-31.

Systems and methods for thermally conditioning a wafer in a charged particle beam apparatus

Номер патента: US20240079202A1. Автор: Martijn Petrus Christianus VAN HEUMEN,Jeroen Gerard Gosen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-03-07.

Sample delivery, data acquisition, and analysis, and automation thereof, in charged-particle-beam microscopy

Номер патента: EP4356414A1. Автор: Chistopher Su-Yan OWN. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-04-24.

Charged particle radiation apparatus

Номер патента: US9153418B2. Автор: Yoshihiro Kimura,Akihiro Miura,Fumihiro Sasajima. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-10-06.

Charged particle radiation apparatus

Номер патента: US20150076349A1. Автор: Yoshihiro Kimura,Akihiro Miura,Fumihiro Sasajima. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-03-19.

Scanning charged-particle-beam microscopy with energy-dispersive x-ray spectroscopy

Номер патента: US12094684B1. Автор: Christopher Su-Yan OWN,Matthew Francis Murfitt. Владелец: Mochii Inc. Дата публикации: 2024-09-17.

System and method for aligning electron beams in multi-beam inspection apparatus

Номер патента: US20230280293A1. Автор: Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu,Qingpo Xi,Xinan LUO. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-09-07.

Method for positioning objects in a particle beam microscope with the aid of a flexible particle beam barrier

Номер патента: US20220375714A1. Автор: Josef Biberger,Michal Postolski,Miriam Tabea Kaefer,Holger Ehm. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2022-11-24.

Tilting parameters calculating device, sample stage, charged particle beam device, and program

Номер патента: US20200066481A1. Автор: Shunsuke Taniguchi,Naoki Maruyama,Akira Taniyama,Takafumi Amino,Takashige Mori,Chie Yokoyama. Владелец: Nippon Steel Corp. Дата публикации: 2020-02-27.

Inclination angle amount calculation device, sample stand, charged particle beam device, and program

Номер патента: EP3633709A1. Автор: Shunsuke Taniguchi,Naoki Maruyama,Akira Taniyama,Takafumi Amino,Takashige Mori,Chie Yokoyama. Владелец: Nippon Steel Corp. Дата публикации: 2020-04-08.

Method for detecting signal charged particles in a charged particle beam device, and charged particle beam device

Номер патента: US09589763B1. Автор: Jürgen Frosien. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2017-03-07.

Charged particle radiation device and specimen preparation method using said device

Номер патента: US09449786B2. Автор: Satoshi Tomimatsu,Miki Tsuchiya,Yasuhira Nagakubo. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-09-20.

Multi-beam inspection apparatus with single-beam mode

Номер патента: WO2020200745A1. Автор: Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu,Zhong-Wei Chen. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2020-10-08.

Charged-Particle Beam Device

Номер патента: US20190393014A1. Автор: Akira Ikegami,Yasushi Ebizuka,Yuta Kawamoto,Naoma Ban. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-12-26.

Composite Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20150221468A1. Автор: Toshihide Agemura,Tsunenori Nomaguchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-08-06.

Particle beam system and the use thereof for flexibly setting the current intensity of individual particle beams

Номер патента: US12119204B2. Автор: Dirk Zeidler,Hans Fritz,Georgo Metalidis,Stefan Schubert,Ralf Lenke. Владелец: Carl Zeiss Multisem Gmbh. Дата публикации: 2024-10-15.

Charged particle beam device

Номер патента: US12051563B2. Автор: Hiroyuki Chiba,Wei Chean TAN,Ryo KOMATSUZAKI,Hirofumi Satou. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-30.

Charged particle beam device

Номер патента: US09786468B2. Автор: Hideyuki Kazumi,Toshiyuki Yokosuka,Chahn Lee. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-10-10.

Charged particle beam device, method for adjusting charged particle beam device, and method for inspecting or observing sample

Номер патента: US09673020B2. Автор: Yusuke Ominami,Sukehiro Ito,Tomohisa Ohtaki. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-06-06.

Method for analyzing an object and a charged particle beam device for carrying out this method

Номер патента: EP3364443A3. Автор: Lorenz Lechner,Sreenivas Bhattiprolu. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2019-01-09.

Charged particle optics components and their fabrication

Номер патента: US20240047171A1. Автор: Alexander Henstra,Luigi Mele,Ali Mohammadi-Gheidari. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-02-08.

Charged particle assessment tool, inspection method and image

Номер патента: US20230304949A1. Автор: Roy Ramon VEENSTRA. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-09-28.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20190362938A1. Автор: Chikako ABE,Hitoshi SUGAHARA. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-11-28.

Charged particle beam system

Номер патента: US12068128B2. Автор: Yusuke Nakamura,Kenji Tanimoto,Takeyoshi Ohashi,Yusuke Abe. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-08-20.

High throughput multi-beam charged particle inspection system with dynamic control

Номер патента: EP4411782A2. Автор: Michael Behnke,Ingo Müller,Ulrich Bihr,Dirk Zeidler,Andreas Adolf,Nicolas Kaufmann. Владелец: Carl Zeiss Multisem Gmbh. Дата публикации: 2024-08-07.

Charged Particle Beam System

Номер патента: US20240371601A1. Автор: Yusuke Nakamura,Kenji Tanimoto,Takeyoshi Ohashi,Yusuke Abe. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-11-07.

Charged particle beam device

Номер патента: US09543111B2. Автор: Yusuke Ominami,Masami Katsuyama,Sukehiro Ito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-01-10.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US09502212B2. Автор: Hitoshi Tamura,Minoru Yamazaki,Hideyuki Kazumi,Yuzuru MIZUHARA,Miki Isawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-11-22.

Charged particle beam device

Номер патента: US12046446B2. Автор: Hiroyuki Chiba,Hirofumi Sato,Wei Chean TAN,Ryo KOMATSUZAKI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-23.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20220230840A1. Автор: Shuntaro Ito,Hiromi MISE. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-07-21.

Transmission charged particle microscope with an electron energy loss spectroscopy detector

Номер патента: US20240258067A1. Автор: Peter Christiaan Tiemeijer. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-08-01.

Energy Filter for Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20160035533A1. Автор: Shuai Li,Joe Wang,Zhongwei Chen,Weiming Ren. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2016-02-04.

Charged particle beam device provided with ion pump

Номер патента: US20180158648A1. Автор: Fujio Onishi,Masazumi Tone,Hiroshi Touda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-06-07.

Dual speed acquisition for drift corrected, fast, low dose, adaptive compositional charged particle imaging

Номер патента: EP4064323A1. Автор: Pavel Potocek,Bert Freitag,Maurice PEEMEN,Remco Schoenmakes. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2022-09-28.

Dual speed acquisition for drift corrected, fast, low dose, adaptive compositional charged particle imaging

Номер патента: US20230035267A1. Автор: Pavel Potocek,Remco Schoenmakers,Bert Henning Freitag,Maurice PEEMEN. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2023-02-02.

Dual speed acquisition for drift corrected, fast, low dose, adaptive compositional charged particle imaging

Номер патента: US12136532B2. Автор: Pavel Potocek,Remco Schoenmakers,Bert Henning Freitag,Maurice PEEMEN. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-11-05.

Method for analyzing an object and charged particle beam device for carrying out the method

Номер патента: US09620331B1. Автор: Edward Hill,Sreenivas Bhattiprolu. Владелец: Carl Zeiss Microscopy Ltd. Дата публикации: 2017-04-11.

Charged particle-beam device and specimen observation method

Номер патента: US09466460B2. Автор: Taku Sakazume,Yusuke Ominami,Sukehiro Ito. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-10-11.

Charged particle radiation device and image capturing condition determining method using charged particle radiation device

Номер патента: US8258472B2. Автор: Tamotsu Shindo,Yuji Tange. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2012-09-04.

Method for alignment of a light beam to a charged particle beam

Номер патента: US20190013178A1. Автор: Steven Randolph,Jorge Filevich,Aurelien Philippe Jean Maclou Botman,Milos Toth,Dolf Timmerman,Cameron James Zachreson. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2019-01-10.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20150228450A1. Автор: Hidekazu Suzuki,Tatsuya Asahata,Yo Yamamoto,Atsushi Uemoto. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2015-08-13.

Charged particle beam device

Номер патента: WO2004086452A2. Автор: Juergen Frosien. Владелец: Ict, Integrated Circuit Testing Gesellschaft Für Halbleiterprüftechnik Mbh. Дата публикации: 2004-10-07.

Device and method for generating charged particle beam pulses

Номер патента: US20190096630A1. Автор: Pieter Kruit,Izaak Gerrit Cornelis WEPPELMAN. Владелец: Technische Universiteit Delft. Дата публикации: 2019-03-28.

Device and method for generating charged particle beam pulses

Номер патента: WO2016076718A2. Автор: Pieter Kruit,Izaak Gerrit Cornelis WEPPELMAN. Владелец: Technische Universiteit Delft. Дата публикации: 2016-05-19.

Hole Inspection Apparatus and Hole Inspection Method using the Same

Номер патента: US20090152461A1. Автор: Ho Seob Kim. Владелец: CEBT Co Ltd. Дата публикации: 2009-06-18.

Method of operating a particle beam system and computer program product

Номер патента: US20240258065A1. Автор: Ralf Wolleschensky,Yauheni Novikau,Kai Wicker,Dirk Preikszas,Bjoern Gamm. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2024-08-01.

Sample Inspection Apparatus

Номер патента: US20240255556A1. Автор: Akira Kageyama,Junichi Fuse,Yasuhiko Nara,Tomoko SHIMAMORI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-08-01.

Charged-particle-beam device

Номер патента: US09960006B2. Автор: Hajime Kawano,Yuko Sasaki,Yasunari Sohda,Noritsugu Takahashi,Wataru Mori. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-05-01.

Multi-beam inspection apparatus

Номер патента: US12142453B2. Автор: Qian Zhang,Xuedong Liu,Weiming Ren,Xuerang Hu. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-11-12.

A new design concept of scanning electron microscope with charged particle source

Номер патента: WO2024133328A1. Автор: Weiming Ren,Xuerang Hu,Oleg Krupin,Yongxin Wang,Zizhou GONG. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-06-27.

Charged Particle Beam Device, Charged Particle Beam System, and Adjustment Method

Номер патента: US20230386781A1. Автор: Ayumi Doi,Shuichiro Takahashi,Aoi YAMAUCHI,Zhao JINYU. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: EP4250330A1. Автор: Tatsuya Uchida,Kenichi Tsutsumi,Nobuyuki Ikeo,Kazushiro Yokouchi,Konomi Ikita. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-09-27.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20230307206A1. Автор: Tatsuya Uchida,Kenichi Tsutsumi,Nobuyuki Ikeo,Kazushiro Yokouchi,Konomi Ikita. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Inspection system by charged particle beam and method of manufacturing devices using the system

Номер патента: US20140034831A1. Автор: Takeshi Murakami,Toshifumi Kimba,Kenji Watanabe,Tsutomu Karimata,Mamoru Nakasuji,Masahiro Hatakeyama,Yuichiro Yamazaki,Mutsumi Saito,Nobuharu Noji,Tohru Satake,Hirosi Sobukawa,Shoji Yoshikawa,Shin Oowada,Ichirota Nagahama,Takamitsu Nagai. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2014-02-06.

Diaphragm mounting member and charged particle beam device

Номер патента: US09633817B2. Автор: Hiroyuki Suzuki,Yusuke Ominami,Shinsuke Kawanishi,Masahiko Ajima. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-04-25.

Integrated optical and charged particle inspection apparatus

Номер патента: WO2013151421A2. Автор: Pieter Kruit,Jacob Pieter Hoogenboom,Nalan M. SC LIV,Aernout Christian ZONNEVYLLE. Владелец: DELMIC B.V.. Дата публикации: 2013-10-10.

Charged particle beam device and capturing condition adjusting method in charged particle beam device

Номер патента: US10770266B2. Автор: Tomohito Nakano,Minoru Yamazaki,Yuko Sasaki,Toshiyuki Yokosuka,Yuzuru Mochizuki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-09-08.

Method for acquiring simultaneous and overlapping optical and charged particle beam images

Номер патента: EP2601477A2. Автор: Thomas Moore,Cheryl Hartfield,Gregory Magel. Владелец: Omniprobe Inc. Дата публикации: 2013-06-12.

Charged Particle Beam Device and Capturing Condition Adjusting Method in Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20200035449A1. Автор: Tomohito Nakano,Minoru Yamazaki,Yuko Sasaki,Toshiyuki Yokosuka,Yuzuru Mochizuki. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2020-01-30.

Particle beam system and method for operating the same

Номер патента: US20140217303A1. Автор: Volker Wieczorek,Josef Biberger,Ralph Pulwey. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2014-08-07.

Sample inspection apparatus, sample inspection method, and sample inspection system

Номер патента: EP1936363A2. Автор: Hidetoshi Nishiyama. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2008-06-25.

Charged particle beam apparatus, composite charged particle beam apparatus, and control method for charged particle beam apparatus

Номер патента: US20210118645A1. Автор: Koji Nagahara,Yasuhiko Sugiyama. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2021-04-22.

Charged particle apparatus and method

Номер патента: US20240145208A1. Автор: Erwin Slot,Bertil OSTERBERG Mans Johan. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-05-02.

Method for adjusting charged particle beam device and adjusting beam aperture based on a selected emission condition and charged particle beam device for same

Номер патента: US10176968B2. Автор: Tsutomu Saito,Mitsugu Sato,Kunji Shigeto,Tohru Ando,Yoshihiro Takahoko,Kohtaro Hosoya. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-01-08.

Charged particle beam device and method for inspecting and/or imaging a sample

Номер патента: WO2021233583A1. Автор: Dieter Winkler,Bernd Wöllert,Birgit Schabinger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH. Дата публикации: 2021-11-25.

Charged particle beam device and method for inspecting and/or imaging a sample

Номер патента: EP4154290A1. Автор: Dieter Winkler,Bernd Wöllert,Birgit Schabinger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2023-03-29.

Method of examining a sample using a charged particle microscope

Номер патента: US20200355633A1. Автор: Tomas Tuma,Jan Klusacek,Jiri Petrek. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2020-11-12.

System to inspect, modify or analyze a region of interest of a sample by charged particles, set of systems to inspect, modify or analyze a region of interest of a sample and method to inspect, modify or analyze a region of interest of a sample by charged particles

Номер патента: US20240288391A1. Автор: John A. Notte,Mark D. DiManna,Terry Griffin,Jeffrey Sauer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-08-29.

Scanning type charged particle beam microscope

Номер патента: US20020017606A1. Автор: Masayuki Maruo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-02-14.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20230377837A1. Автор: Yuko Sasaki,Yasuhiro Shirasaki,Yohei Nakamura,Minami Shouji,Natsuki Tsuno,Shota MITSUGI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-11-23.

Multi-beam particle beam system

Номер патента: US20240136146A1. Автор: Thomas Schmid,Dirk Zeidler. Владелец: Carl Zeiss Multisem Gmbh. Дата публикации: 2024-04-25.

Charged Particle Beam Device and Image Generation Method

Номер патента: US20230072991A1. Автор: Kazuki Yagi,Bryan W. Reed,Ruth Shewmon Bloom,Hiroki HASHIGUCHI. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-03-09.

Method of deconvoluting and restoring image observed in charged particle beam apparatus, image processing apparatus, and charged particle beam apparatus equipped with image processing apparatus

Номер патента: US20230109872A1. Автор: Ogawa Takashi,In Yong Park,Jun Hyeok HWANG. Владелец: Korea Research Institute of Standards and Science KRISS. Дата публикации: 2023-04-13.

Adjusting method of charged particle beam device and charged particle beam device system

Номер патента: US12001521B2. Автор: Muneyuki Fukuda,Natsuki Tsuno,Heita KIMIZUKA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-04.

On-axis illumination and alignment for charge control during charged particle beam inspection

Номер патента: US20180364564A1. Автор: Stefan Lanio,Alex Goldenshtein. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2018-12-20.

Charged particle beam apparatus and method for controlling charged beam apparatus

Номер патента: US20180182596A1. Автор: Hidekazu Suzuki. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2018-06-28.

Multi-charged particle beam image acquisition apparatus and multi-charged particle beam image acquisition method

Номер патента: US20210005422A1. Автор: Kazuhiro Nakashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2021-01-07.

Charged Particle Beam Device and Method for Adjusting Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20160118218A1. Автор: Tsutomu Saito,Mitsugu Sato,Kunji Shigeto,Tohru Ando,Yoshihiro Takahoko,Kohtaro Hosoya. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-04-28.

Composite Charged Particle Beam Detector, Charged Particle Beam Device, and Charged Particle Beam Detector

Номер патента: US20170358421A1. Автор: Toshihide Agemura,Tsunenori Nomaguchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-12-14.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US7449692B2. Автор: Takashi Onishi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2008-11-11.

Thermal-aided inspection by advanced charge controller module in a charged particle system

Номер патента: US11728131B2. Автор: Jian Zhang,Jun Jiang,Ning Ye,Yixiang Wang. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-08-15.

Thermal-aided inspection by advanced charge controller module in a charged particle system

Номер патента: US12125669B2. Автор: Jian Zhang,Jun Jiang,Ning Ye,Yixiang Wang. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-10-22.

Method for inspecting a specimen and charged particle beam device

Номер патента: WO2021078352A1. Автор: Dieter Winkler,Jürgen Frosien,Pieter Kruit,Ralf Schmid,Benjamin John Cook,Ron Naftali,Roman BARDAY. Владелец: Applied Materials Israel Ltd.. Дата публикации: 2021-04-29.

Charged particle beam column and method for directing a charged particle beam

Номер патента: WO2003100815A2. Автор: Juergen Frosien,Igor Petrov,Zvika Rosenberg,Pavel Adamec,Ralf Degenhardt,Igor KRYVITZ. Владелец: Applied Materials Israel, Ltd.. Дата публикации: 2003-12-04.

Charged particle beam device and image generation method

Номер патента: EP4148766A1. Автор: Kazuki Yagi,Ruth Shewmon Bloom,Hiroki HASHIGUCHI,Bryan W Reed. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-03-15.

Charged particle beam device and evaluation method using the charged particle beam device

Номер патента: US20120070066A1. Автор: Hiroyuki Kitsunai,Masaru Matsushima,Shuichi Nakagawa,Go Miya,Seiichiro Kanno. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2012-03-22.

Charged particle beam device and image processing method in charged particle beam device

Номер патента: US20200066484A1. Автор: Yoshinobu Hoshino,Masashi Watanabe,Yuichi Sakurai,Shigeru Kawamata,Katsunori Hirano,Masato Kamio. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2020-02-27.

Charged particle beam device and image processing method in charged particle beam device

Номер патента: US10522325B2. Автор: Yoshinobu Hoshino,Masashi Watanabe,Yuichi Sakurai,Shigeru Kawamata,Katsunori Hirano,Masato Kamio. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-12-31.

Charged Particle Beam System

Номер патента: US20240186108A1. Автор: Hirokazu Tamaki,Hiromi MISE. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-06.

Charged particle beam device

Номер патента: US20220359150A1. Автор: Makoto Sakakibara,Hajime Kawano,Momoyo Enyama,Hiroya Ohta. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-11-10.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US9455119B2. Автор: Makoto Sato,Masahiro Kiyohara,Tatsuya Asahata,Ikuko Nakatani. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2016-09-27.

Sample delivery, data acquisition, and analysis, and automation thereof, in charged-particle-beam microscopy

Номер патента: WO2022266269A9. Автор: Christopher Su-Yan OWN. Владелец: Own Christopher Su Yan. Дата публикации: 2023-02-23.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20130105690A1. Автор: Satoshi Takada,Tatsuichi Katou. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2013-05-02.

Charged-particle microscopy imaging method

Номер патента: EP2557586A3. Автор: Cees Kooijman,Faysal Boughorbel,Eric Bosch,Frank De Jong,Ben Lich. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2013-04-10.

Light guide, detector having light guide, and charged particle beam device

Номер патента: US10593512B2. Автор: Yoshifumi Sekiguchi,Shin Imamura,Hajime Kawano,Shahedul Hoque. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2020-03-17.

Methods of determining aberrations of a charged particle beam, and charged particle beam system

Номер патента: US20230352268A1. Автор: John Breuer,Dominik Ehberger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2023-11-02.

Charged Particle Beam System

Номер патента: US20230317406A1. Автор: Satoru Yamaguchi,Yuto Kawashima,Yasunori Takasugi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-05.

Methods of determining aberrations of a charged particle beam, and charged particle beam system

Номер патента: US11810753B2. Автор: Matthias FIRNKES,John Breuer,Dominik Ehberger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2023-11-07.

Charged particle beam device for inspection of a specimen with a plurality of charged particle beamlets

Номер патента: US20240006149A1. Автор: Pieter Kruit,Erik Rene Kieft,Ali Mohammadi-Gheidari. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-01-04.

Charged particle beam device and operation method therefor

Номер патента: US11961701B2. Автор: Wen Li,Masashi Wada,Hajime Kawano,Kazuki Ikeda,Tomoharu NAGASHIMA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-04-16.

Charged particle assessment tool, inspection method

Номер патента: US11798783B2. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-10-24.

Charged particle beam device for inspection of a specimen with a plurality of charged particle beamlets

Номер патента: US11961709B2. Автор: Pieter Kruit,Erik Rene Kieft,Ali Mohammadi-Gheidari. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-04-16.

Charged particle assessment tool, inspection method

Номер патента: US11984295B2. Автор: Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-05-14.

Methods of determining aberrations of a charged particle beam, and charged particle beam system

Номер патента: WO2023061651A1. Автор: Matthias FIRNKES,John Breuer,Dominik Ehberger. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH. Дата публикации: 2023-04-20.

Charged particle beam adjustment method, charged particle beam drawing method, and charged particle beam irradiation apparatus

Номер патента: US20220068591A1. Автор: Takahito Nakayama,Ryoichi Kakehi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2022-03-03.

Composite charged particle beam apparatus and control method thereof

Номер патента: US20200266029A1. Автор: Hiroshi Oba,Yasuhiko Sugiyama,Naoko Hirose. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2020-08-20.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20210020422A1. Автор: Tsutomu Saito,Mitsuhiro Nakamura,Yohei Nakamura,Natsuki Tsuno,Masahiro Sasajima,Hironori Itabashi,Hirofumi Satou. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-01-21.

Charged particle beam apparatus and control method

Номер патента: US20220115203A1. Автор: Yuzuru MIZUHARA,Daisuke Bizen,Ryota Watanabe,Kaori BIZEN. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-04-14.

Charged particle beam microprobe apparatus

Номер патента: US4670652A. Автор: Masahide Okumura,Satoru Fukuhara,Mikio Ichihashi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1987-06-02.

Microscopy imaging method for 3D tomography with predictive drift tracking for multiple charged particle beams

Номер патента: US11923168B2. Автор: Ken Guillaume Lagarec,Michael William Phaneuf. Владелец: Fibics Inc. Дата публикации: 2024-03-05.

Charged-Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20200185189A1. Автор: Makoto Sakakibara,Makoto Suzuki,Daisuke Bizen,Uki Ikeda. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-06-11.

Charged particle beam device

Номер патента: US11152186B2. Автор: Takashi Doi,Minoru Yamazaki,Yuko Sasaki,Wataru Yamane,Wataru Mori. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-10-19.

Charged Particle Beam System and Control Method Therefor

Номер патента: US20230343550A1. Автор: Takamitsu Saito. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-10-26.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US11928801B2. Автор: Ryo KOMATSUZAKI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-03-12.

Multi-pole deflector for charged particle beam and charged particle beam imaging apparatus

Номер патента: US20210066021A1. Автор: YAN Zhao,Weiqiang SUN,Qinglang MENG. Владелец: Zhongke Jingyuan Microelectronic Technology Beijing Co Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Charged particle beam apparatus and method for controlling charged particle beam apparatus

Номер патента: US11791131B2. Автор: Shuntaro Ito,Hirokazu Tamaki,Takashi Dobashi,Hiromi MISE. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-17.

Pulsed charged-particle beam system

Номер патента: US11942302B2. Автор: Arno Jan Bleeker,Maikel Robert GOOSEN,Erwin Paul SMAKMAN,Albertus Victor Gerardus MANGNUS,Yan Ren,Pieter Willem Herman De Jager,Adam Lassise. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-03-26.

Multi-beam charged particle beam system with anisotropic filtering for improved image contrast

Номер патента: US20240128051A1. Автор: Dirk Zeidler,Maksym Kompaniiets,Bjoern Miksch. Владелец: Carl Zeiss Multisem Gmbh. Дата публикации: 2024-04-18.

Charged particle optics components and their fabrication

Номер патента: EP4322196A2. Автор: Alexander Henstra,Luigi Mele,Ali Mohammadi-Gheidari. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-02-14.

Beam detector, multi charged particle beam irradiation apparatus, and beam detector adjustment method

Номер патента: US20240071714A1. Автор: Yasutaka Sato,Kiminobu Akeno. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-02-29.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20220261973A1. Автор: Ryo KOMATSUZAKI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-08-18.

Multi-pole deflector for charged particle beam and charged particle beam imaging apparatus

Номер патента: US11295928B2. Автор: YAN Zhao,Weiqiang SUN,Qinglang MENG. Владелец: Zhongke Jingyuan Microelectronic Technology Beijing Co Ltd. Дата публикации: 2022-04-05.

Methods and apparatuses for adjusting beam condition of charged particles

Номер патента: US11948772B2. Автор: Xuedong Liu. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-04-02.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210134555A1. Автор: Kei Shibayama,Seiichiro Kanno,Akito Tanokuchi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-05-06.

Charged particle beam system, corrector for aberration correction of a charged particle beam, and method thereof

Номер патента: US20240170249A1. Автор: Pieter Kruit,John Breuer. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2024-05-23.

Charged particle beam system and control method therefor

Номер патента: EP4266346A1. Автор: Takamitsu Saito. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2023-10-25.

Ion source, ion beam processing/observation apparatus, charged particle beam apparatus, and method for observing cross section of sample

Номер патента: US20130284593A1. Автор: Hiroyasu Shichi,Kaoru Umemura,Satoshi Tomimatsu,Koji Ishiguro,Noriyuki Kaneoka. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2013-10-31.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20190311875A1. Автор: Takashi Doi,Minoru Yamazaki,Yuko Sasaki,Wataru Yamane,Wataru Mori. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-10-10.

Charged Particle Beam Device and Specimen Observation Method

Номер патента: US20230343549A1. Автор: Makoto Suzuki,Masashi Wada,Masahiro Fukuta,Tomoyo Sasaki,Hiroshi Nishihama. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-26.

Charge particle beam drawing device and inspection method of irradiation quantity of charged particle beam

Номер патента: TWI505316B. Автор: Yasuo Kato,Mizuna Suganuma. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-10-21.

Method for operating a particle beam device and / or a light microscope, computer program product as well as particle beam device and light microscope for carrying out the method

Номер патента: US20210271063A1. Автор: Gero Walter,Andreas Schmaunz,Stephan Hiller. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2021-09-02.

Apparatus and method for exposing a radiation sensitive layer by means of charged particles as well as a mask for this purpose

Номер патента: TW588226B. Автор: Oliver Kienzle,Alexander Orchowski. Владелец: Carl Zeiss Stiftung Tradeing A. Дата публикации: 2004-05-21.

Apparatus and method

Номер патента: EP3033613A1. Автор: Saulius Juodkazis,Gediminas GERVINSKAS,Gediminas SENIUTINAS. Владелец: Swinburne University of Technology. Дата публикации: 2016-06-22.

Inspection apparatus and inspection method

Номер патента: US09859096B2. Автор: Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-01-02.

Multi charged particle beam writing apparatus and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US09852876B2. Автор: Yasuo Kato,Hiroshi Matsumoto,Hideo Inoue,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-12-26.

Alignment and registration targets for multiple-column charged particle beam lithography and inspection

Номер патента: US09478395B1. Автор: Michael C. Smayling,Kevin M. Monahan,Theodore A. Prescop,David K. Lam. Владелец: Multibeam Corp. Дата публикации: 2016-10-25.

Method of generating write data, multi charged particle beam writing apparatus, and pattern inspection apparatus

Номер патента: US20160103945A1. Автор: Kenichi Yasui,Shigehiro Hara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-04-14.

Multi charged particle beam writing apparatus and adjusting method for multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20180247788A1. Автор: Yukitaka Shimizu,Eita FUJISAKI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-08-30.

Control method of writing apparatus and writing apparatus

Номер патента: US20240297010A1. Автор: Takahito Nakayama,Satoshi Nakahashi,Eita FUJISAKI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-09-05.

Adjustment method for charged particle beam drawing apparatus and charged particle beam drawing method

Номер патента: US09659746B2. Автор: Takashi Nakamura,Rieko Nishimura. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-05-23.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US09437396B2. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-09-06.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US20150303029A1. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-10-22.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US9190246B2. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-11-17.

Charged Particle Beam Writing Apparatus and Charged Particle Beam Writing Method

Номер патента: US20190027340A1. Автор: Satoru Hirose,Ryosuke Ueba,Rieko Nishimura. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-01-24.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US09715993B2. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-07-25.

System for imaging a secondary charged particle beam with adaptive secondary charged particle optics

Номер патента: US09953805B2. Автор: Dieter Winkler,Stefan Lanio,Matthias FIRNKES. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2018-04-24.

Precision substrate material multi-processing using miniature-column charged particle beam arrays

Номер патента: US09881817B1. Автор: Michael C. Smayling,Kevin M. Monahan,Theodore A. Prescop,David K. Lam. Владелец: Multibeam Corp. Дата публикации: 2018-01-30.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US09734981B2. Автор: Hitoshi Higurashi,Saori GOMI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-08-15.

Charged particle beam generating apparatus, charged particle beam apparatus, high voltage generating apparatus, and high potential apparatus

Номер патента: US09548182B2. Автор: Takashi Onishi,Shunichi Watanabe,Minoru Kaneda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-01-17.

Multi charged particle beam writing apparatus and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US09934935B2. Автор: Yasuo Kato,Hideo Inoue,Hayato Kimura,Ryoichi Yoshikawa,Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-04-03.

Charged particle beam exposure apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09824860B2. Автор: Akio Yamada. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Inspection apparatus and inspection method

Номер патента: US20170243716A1. Автор: Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-08-24.

Charged-particle beam device for diffraction analysis

Номер патента: WO2023017107A1. Автор: Harald Niebel,Günther STEINFELD,Tomi Tuohimaa,Christiaan Van Den Berg,Alexander Van Veen. Владелец: Eldico Scientific AG. Дата публикации: 2023-02-16.

Charged particle beam inspection apparatus and charged particle beam inspection method

Номер патента: US20210202206A1. Автор: Hidekazu Takekoshi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2021-07-01.

Multi charged particle beam writing apparatus and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US10483087B2. Автор: Hayato Kimura,Kei Hasegawa,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-11-19.

Charged-particle beam microscope with an evaporator

Номер патента: US09899186B1. Автор: Christopher Su-Yan OWN,Matthew Francis Murfitt. Владелец: Mochii Inc. Дата публикации: 2018-02-20.

Rotation angle measuring method of multi-charged particle beam image, rotation angle adjustment method of multi-charged particle beam image, and multi-charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US09466461B2. Автор: Osamu Iizuka,Kenji Ohtoshi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-10-11.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US09859099B2. Автор: Akio Yamada,Masahiro Seyama,Hideki Nasuno. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2018-01-02.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20150221473A1. Автор: Makoto Sato,Tatsuya Asahata,Shota Torikawa,Atsushi Uemoto. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2015-08-06.

Charged particle apparatus

Номер патента: WO2024068252A1. Автор: Marijke SCOTUZZI,Vincent Sylvester KUIPER. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-04-04.

Multi charged particle beam writing method, and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US09691585B2. Автор: Hiroshi Matsumoto,Ryoichi Yoshikawa,Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-06-27.

Multi charged particle beam writing method and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US09570267B2. Автор: Hiroshi Matsumoto,Hideo Inoue,Tomohiro Iijima,Ryoichi Yoshikawa,Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-02-14.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20200365368A1. Автор: Keisuke Goto,Kiyoshi Nakaso. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-11-19.

Drawing apparatus and deflector

Номер патента: US12009174B2. Автор: Kazuhiro Kishi,Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-06-11.

Charged particle beam device and power supply device

Номер патента: US20220068595A1. Автор: Wen Li,Makoto Suzuki,Hiroyuki Takahashi,Yuzuru MIZUHARA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-03-03.

Blanking device for multi-beam of charged particle writing apparatus using multi-beam of charged particle and defective beam blocking method for multi-beam of charged particle

Номер патента: US09805905B2. Автор: Hiroshi Yamashita,Hiroshi Matsumoto,Kazuhiro Chiba,Ryoichi Yoshikawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-10-31.

Multi charged particle beam writing apparatus and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US20170229280A1. Автор: Yasuo Kato,Hiroshi Matsumoto,Hideo Inoue,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-08-10.

Multi charged particle beam exposing method, and multi charged particle beam exposing apparatus

Номер патента: US20170207064A1. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-07-20.

Multi charged particle beam exposing method, and multi charged particle beam exposing apparatus

Номер патента: US09881770B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-01-30.

Multi charged particle beam writing method, and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US09805907B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-10-31.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20210305008A1. Автор: Taku Yamada. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2021-09-30.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20150228443A1. Автор: Makoto Sakakibara,Kenichi Morita,Kenji Obara,Muneyuki Fukuda,Naomasa Suzuki,Sayaka Tanimoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-08-13.

Multiple charged particle beam writing apparatus, multiple charged particle beam writing method, and computer readable recording media storing program

Номер патента: US20240242931A1. Автор: Haruyuki NOMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-07-18.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20210272768A1. Автор: Masaaki Komatsu,Shin Imamura,Shuhei Yabu,Michio Hatano. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-09-02.

Charged particle beam device and inspection device

Номер патента: US20240297012A1. Автор: Makoto Suzuki,Hiroki Kawada,Atsuko SHINTANI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-05.

Apparatus and method for controlling the beam current of a charged particle beam

Номер патента: WO2004088709A1. Автор: Josef Sellmair. Владелец: Ict, Integrated Circuit Testing Gesellschaft Für Halbleiterprüftechnik Mbh. Дата публикации: 2004-10-14.

Apparatus and method for controlling the beam current of a charged particle beam

Номер патента: US7345436B2. Автор: Josef Sellmair. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2008-03-18.

Charged particle beam exposure apparatus suitable for drawing on line patterns, and exposure method using the same

Номер патента: US20160133438A1. Автор: Akio Yamada,Tatsuro Okawa,Masahiro Seyama,Masaki Kurokawa. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2016-05-12.

Charged particle beam exposure apparatus suitable for drawing on line patterns, and exposure method using the same

Номер патента: US9607807B2. Автор: Akio Yamada,Tatsuro Okawa,Masahiro Seyama,Masaki Kurokawa. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Charged particle beam irradiation apparatus

Номер патента: US09343265B2. Автор: Hisayuki Takasu,Asako Kaneko,Hirobumi Mutou. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-05-17.

Charged particle beam writing apparatus, and charged particle beam writing method

Номер патента: US9190245B2. Автор: Takayuki Ohnishi,Kenji Ohtoshi,Kaoru TSURUTA,Tomoo Motosugi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-11-17.

Method and system for the removal and/or avoidance of contamination in charged particle beam systems

Номер патента: US20240017301A1. Автор: Marc Smits,Johan Joost Koning,Chris Franciscus Jessica Lodewijk,Hindrik Willem Mook,Ludovic Lattard. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2024-01-18.

Adjustment method for charged particle beam drawing apparatus and charged particle beam drawing method

Номер патента: US20170011884A1. Автор: Takashi Nakamura,Rieko Nishimura. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-01-12.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20190189389A1. Автор: Takashi Nakamura,Hideki Matsui,Yoshiaki Hattori,Munehiro Ogasawara,Takuya Uemura,Rieko Nishimura,Tatsuya Murofushi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-06-20.

Charged Particle Beam Apparatus and Focus Adjusting Method Therefor

Номер патента: US20230230798A1. Автор: Keisuke Igarashi,Hiroyuki Chiba,Wei Chean TAN,Mai YOSHIHARA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-07-20.

Charged-particle beam device for diffraction analysis

Номер патента: EP4385056A1. Автор: Harald Niebel,Günther STEINFELD,Tomi Tuohimaa,Christiaan Van Den Berg,Alexander Van Veen. Владелец: Eldico Scientific AG. Дата публикации: 2024-06-19.

Charged Particle Beam Apparatus

Номер патента: US20240177963A1. Автор: Masaru Matsushima,Go Miya,Masaki Mizuochi,Yuki UCHIOKE,Katsumi Kambe. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-05-30.

Charged Particle Beam System With Receptacle Chamber For Cleaning Sample and Sample Stage

Номер патента: US09881768B2. Автор: Shuji Kawai. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2018-01-30.

Method and system for reducing curtaining in charged particle beam sample preparation

Номер патента: US09488554B2. Автор: Michael Schmidt,Sang Hoon Lee,Stacey Stone,Jeffrey Blackwood,Hyun Hwa Kim. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2016-11-08.

Multi charged particle beam apparatus, and shape adjustment method of multi charged particle beam image

Номер патента: US9966228B2. Автор: Osamu Iizuka. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-05-08.

Charged particle beam writing apparatus and method for diagnosing failure of blanking circuit

Номер патента: US10460902B2. Автор: Takahito Nakayama. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-10-29.

Drawing apparatus, method of manufacturing article, method of manufacturing deflecting apparatus, and method of manufacturing drawing apparatus

Номер патента: US8729493B2. Автор: Shinji Ohishi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-05-20.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US20160155608A1. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-06-02.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20150270096A1. Автор: Makoto Sato,Masahiro Kiyohara,Tatsuya Asahata,Ikuko Nakatani. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2015-09-24.

Method of determining an energy width of a charged particle beam

Номер патента: US11948771B2. Автор: Peter Christiaan Tiemeijer. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-04-02.

Diagnosis method, charged particle beam lithography apparatus, and recording medium

Номер патента: US10109454B2. Автор: Hayato Kimura,Kei Hasegawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-10-23.

Charged particle beam system, opto-electro simultaneous detection system and method

Номер патента: EP3332417A1. Автор: Wei He,Shuai Li,PENG Wang. Владелец: Focus eBeam Technology Beijing Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-13.

Charged particle beam system, opto-electro simultaneous detection system and method

Номер патента: WO2018068506A1. Автор: Wei He,Shuai Li,PENG Wang. Владелец: FOCUS-EBEAM TECHNOLOGY (BEIJING) CO., LTD.. Дата публикации: 2018-04-19.

Multiple charged particle beam writing method and multiple charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20230420217A1. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-12-28.

Charged particle apparatus

Номер патента: EP4345861A1. Автор: Marijke SCOTUZZI,Vincent Sylvester KUIPER. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-04-03.

Multi charged particle beam writing method and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20180261421A1. Автор: Hiroshi Matsumoto,Hideo Inoue,Tomohiro Iijima,Ryoichi Yoshikawa,Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-09-13.

Multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20200335297A1. Автор: Kazuhiro Kishi,Mitsuhiro Okazawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-10-22.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US20160181062A1. Автор: Yasuo Kato,Hiroshi Matsumoto,Hideo Inoue,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-06-23.

Diagnosis method, charged particle beam lithography apparatus, and recording medium

Номер патента: US20170243714A1. Автор: Hayato Kimura,Kei Hasegawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-08-24.

Multi charged particle beam writing method, and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20150340196A1. Автор: Hiroshi Matsumoto,Ryoichi Yoshikawa,Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-11-26.

Charged particle beam device and operation method therefor

Номер патента: US20220189729A1. Автор: Wen Li,Masashi Wada,Hajime Kawano,Kazuki Ikeda,Tomoharu NAGASHIMA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-06-16.

Control device, charged particle beam apparatus, program and method for producing processed product

Номер патента: US20170278673A1. Автор: Hideo Sakai,Satoshi Tomimatsu,Hiroki Kawada,Tsuyoshi OONISHI. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2017-09-28.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US20160314934A1. Автор: Akio Yamada,Masahiro Seyama,Hideki Nasuno. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2016-10-27.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US11239046B2. Автор: Tatsuya Asahata,Atsushi Uemoto,Ayana MURAKI. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2022-02-01.

Charged particle beam device and power supply device

Номер патента: US11810752B2. Автор: Wen Li,Makoto Suzuki,Hiroyuki Takahashi,Yuzuru MIZUHARA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-11-07.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US20210090851A1. Автор: Tatsuya Asahata,Atsushi Uemoto,Ayana MURAKI. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2021-03-25.

Control device, charged particle beam apparatus, program and method for producing processed product

Номер патента: US9934940B2. Автор: Hideo Sakai,Satoshi Tomimatsu,Hiroki Kawada,Tsuyoshi OONISHI. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Charged particle beam irradiation apparatus and irradiation method using the apparatus

Номер патента: US6323498B1. Автор: Kaneo Kageyama. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2001-11-27.

Charged particle beam lithography apparatus and charged particle beam pattern writing method

Номер патента: US20200266033A1. Автор: Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-08-20.

Exposure method using charged particle beam

Номер патента: US20110033789A1. Автор: Kozo Ogino. Владелец: Fujitsu Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2011-02-10.

Exposure method using charged particle beam

Номер патента: US8158312B2. Автор: Kozo Ogino. Владелец: Fujitsu Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2012-04-17.

Method and system for dimensional uniformity using charged particle beam lithography

Номер патента: US09859100B2. Автор: Akira Fujimura,Robert C. Pack,Kazuyuki Hagiwara. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2018-01-02.

Method of generating write data, multi charged particle beam writing apparatus, and pattern inspection apparatus

Номер патента: US09558315B2. Автор: Kenichi Yasui,Shigehiro Hara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-01-31.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US09472372B2. Автор: Taku Yamada,Kenji Ohtoshi,Kaoru TSURUTA,Yasuyuki Taneda. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-10-18.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US9679748B2. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-06-13.

Multi charged particle beam writing apparatus, and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US09679748B2. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-06-13.

Multiple charged particle beam writing method, and multiple charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20190198294A1. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-06-27.

Method for detecting substrate position of charged particle beam photolithography apparatus and charged particle beam photolithography apparatus

Номер патента: US8237139B2. Автор: Yoshiro Yamanaka,Michihiro Kawaguchi,Kazuhiro Shiba,Kota Fujiwara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2012-08-07.

Method for detecting substrate position of charged particle beam photolithography apparatus and charged particle beam photolithography apparatus

Номер патента: US20100290023A1. Автор: Yoshiro Yamanaka,Michihiro Kawaguchi,Kazuhiro Shiba,Kota Fujiwara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2010-11-18.

Drawing apparatus, and method of manufacturing article

Номер патента: US09455124B2. Автор: Yoshihiro Hirata,Masato Muraki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-09-27.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20180061614A1. Автор: Yasuo Kato,Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-03-01.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20190122857A1. Автор: Yasuo Kato,Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-04-25.

Multi-charged-particle-beam writing method, multi-charged-particle-beam writing apparatus, and computer-readable recording medium

Номер патента: US12046447B2. Автор: Taku Yamada,Takahito Nakayama. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-07-23.

Charged particle beam drawing apparatus and charged particle beam drawing method

Номер патента: US09812284B2. Автор: Hideki Matsui. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-11-07.

Method and system for forming high precision patterns using charged particle beam lithography

Номер патента: US20130205264A1. Автор: Akira Fujimura,Robert C. Pack. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2013-08-08.

Charged particle beam emitting device and method for operating a charged particle beam emitting device

Номер патента: EP1801838A1. Автор: FANG Zhou. Владелец: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH. Дата публикации: 2007-06-27.

Charged particle beam writing apparatus and method utilizing a sum of the weighted area density of each figure pattern

Номер патента: US09837247B2. Автор: Yasuo Kato,Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-12-05.

Method and system for forming a pattern on a reticle using charged particle beam lithography

Номер патента: US09715169B2. Автор: Akira Fujimura. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2017-07-25.

Apparatus and methods for patterning a reticle blank by electron-beam inscription with reduced exposure of the reticle blank by backscattered electrons

Номер патента: US20020012853A1. Автор: Atsushi Yamada,Hajime Yamamoto,Shohei Suzuki,Sumito Shimizu,Wakako Suganuma. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-01-31.

Charged particle beam drawing data production apparatus and charged particle beam drawing system

Номер патента: US5796408A. Автор: Makoto Kanno,Koichi Moriizumi,Kinya Kamiyama,Hironobu Taoka. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1998-08-18.

Writing error diagnosis method for charged particle beam photolithography apparatus and charged particle beam photolithography apparatus

Номер патента: US20080067423A1. Автор: Hayato Kimura,Seiichi Tsuchiya,Seiji WAKE,Takuya Matsukawa,Yujin Handa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2008-03-20.

Exposure method using control of settling times and methods of manufacturing integrated circuit devices by using the same

Номер патента: US09583305B2. Автор: SHUICHI TAMAMUSHI,Sang-Hee Lee,Jin Choi,Yong-seok JUNG,In-kyun Shin,In-Hwan NOH. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-02-28.

Charged particle beam writing apparatus, and apparatus and method for correcting dimension error of pattern

Номер патента: US20090200488A1. Автор: Takayuki Abe,Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2009-08-13.

Charged particle beam generator, charged particle irradiation system, method for operating charged particle beam generator and method for operating charged particle irradiation system

Номер патента: US09596746B2. Автор: Takashi Iga,Kazunori Tsubuku,Masumi Umezawa,Kouji TOBINAGA. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2017-03-14.

Method and system for dimensional uniformity using charged particle beam lithography

Номер патента: US20160260581A1. Автор: Akira Fujimura,Robert C. Pack,Kazuyuki Hagiwara. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2016-09-08.

Multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20200343073A1. Автор: HIROFUMI Morita,Mitsuhiro Okazawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-10-29.

Charged-particle-beam microlithography apparatus and methods including optical corrections made during subfield exposures

Номер патента: US20010052579A1. Автор: Kazuaki Suzuki,Teruaki Okino,Noriyuki Hirayanagi,Shintaro Kawata. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2001-12-20.

Generation, acceleration, focusing and collection of a high-brightness, space-charge-dominated circular charged-particle beam

Номер патента: WO2008061173A3. Автор: Jing Zhou,Chiping Chen,Thomas M Bemis,Ronak J Bhatt. Владелец: Ronak J Bhatt. Дата публикации: 2008-08-21.

Circuit pattern design method,exposure method, charged-particle beam exposure system

Номер патента: US20020010906A1. Автор: Ryoichi Inanami,Shunko Magoshi. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2002-01-24.

Charged particle beam writing method, computer-readable recording medium, and charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20140166869A1. Автор: Osamu Iizuka,Hideyuki Tsurumaki,Sumito NAKADA,Hikaru YAMAMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2014-06-19.

Multi charged particle beam irradiation apparatus, multi charged particle beam irradiation method, and multi charged particle beam adjustment method

Номер патента: US09916962B2. Автор: HIROFUMI Morita,Shinsuke Nishimura,Munehiro Ogasawara,Takanao TOUYA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-03-13.

Charged particle lithography system and beam generator

Номер патента: US09653261B2. Автор: Alexander Hendrik Vincent van Veen,Willem Henk URBANUS. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2017-05-16.

Method and system for dimensional uniformity using charged particle beam lithography

Номер патента: US20140359542A1. Автор: Akira Fujimura,Robert C. Pack,Kazuyuki Hagiwara. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2014-12-04.

Method and system for dimensional uniformity using charged particle beam lithography

Номер патента: US20180108513A1. Автор: Akira Fujimura,Robert C. Pack,Kazuyuki Hagiwara. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2018-04-19.

Generation, acceleration, focusing and collection of a high-brightness, space-charge-dominated circular charged-particle beam

Номер патента: WO2008061173A2. Автор: Jing Zhou,Chiping Chen,Thomas M. Bemis,Ronak J. Bhatt. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2008-05-22.

Device and method for calibrating a charged-particle beam

Номер патента: EP4428896A1. Автор: Elmar Platzgummer. Владелец: IMS Nanofabrication GmbH. Дата публикации: 2024-09-11.

Device and Method for Calibrating a Charged-Particle Beam

Номер патента: US20240304407A1. Автор: Elmar Platzgummer. Владелец: IMS Nanofabrication GmbH. Дата публикации: 2024-09-12.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US09875876B2. Автор: Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-01-23.

Multi-beam current quantity measuring method, multi-charged particle drawing control device, and multi-charged particle beam drawing device

Номер патента: US09734984B2. Автор: Hideyuki Iwata. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-08-15.

Charged particle beam writing apparatus, aperture unit, and charged particle beam writing method

Номер патента: US09449792B2. Автор: Tetsuro Nishiyama. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-09-20.

Monochromator and charged particle apparatus including the same

Номер патента: US09425022B2. Автор: TAKASHI Ogawa,Bok Lae CHO,Sang Jung Ahn,In Yong Park,Cheolsu Han. Владелец: Korea Research Institute of Standards and Science KRISS. Дата публикации: 2016-08-23.

Apparatus and methods for reducing Coulombic blur in charged-particle-beam microlithography

Номер патента: US6545282B2. Автор: Hiroyasu Simizu. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-04-08.

Multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20240242922A1. Автор: HIROFUMI Morita,Haruyuki NOMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-07-18.

Charged particle beam writing device and charged particle beam writing method

Номер патента: US20220301818A1. Автор: Junpei YASUDA,Naoto WAKUI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2022-09-22.

Multi charged particle beam writing method and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US09991086B2. Автор: HIROFUMI Morita. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-06-05.

Charged particle beam drawing apparatus and drawing data generation method

Номер патента: US20160284510A1. Автор: Takao Tamura,Shinji Sakamoto,Hiroshi Yamashita,Kenichi Yasui,Yasuo Kato,Hideo Tsuchiya,Hironobu Matsumoto,Shigehiro Hara,Noriaki Nakayamada,Saori GOMI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-09-29.

Methods and devices for measuring and adjusting illumination uniformity obtained from a charged-particle illumination-optical system

Номер патента: US20030096179A1. Автор: Takehisa Yahiro. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-05-22.

Multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20240242920A1. Автор: HIROFUMI Morita. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-07-18.

Multi charged particle beam exposure method and multi charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US10134565B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-11-20.

Charged particle beam writing apparatus, and buffer memory data storage method

Номер патента: US09564293B2. Автор: Yasuo Kato,Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-02-07.

Methods and devices for measuring and adjusting illumination uniformity obtained from a charged-particle illumination-optical system

Номер патента: US20010016294A1. Автор: Takehisa Yahiro. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2001-08-23.

Combined aperture holder, beam blanker and vacuum feed through for electron beam, ion beam charged particle devices

Номер патента: US20070069149A1. Автор: Earl Weltmer. Владелец: SCANSERVICE Corp. Дата публикации: 2007-03-29.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US09977337B2. Автор: Akio Yamada,Masahiro Seyama,Shoji Kojima. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2018-05-22.

Charged particle beam drawing apparatus and drawing data generation method

Номер патента: US09779913B2. Автор: Takao Tamura,Shinji Sakamoto,Hiroshi Yamashita,Kenichi Yasui,Yasuo Kato,Hideo Tsuchiya,Hironobu Matsumoto,Shigehiro Hara,Noriaki Nakayamada,Saori GOMI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-10-03.

Apparatus for controlling a charged particle beam and a lithographic process in which the apparatus is used

Номер патента: US5663568A. Автор: Warren Kazmir Waskiewicz. Владелец: Lucent Technologies Inc. Дата публикации: 1997-09-02.

Charged particle beam lithography apparatus and charged particle beam pattern writing method

Номер патента: US20190198293A1. Автор: Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-06-27.

Charged particle beam writing method, charged particle beam writing apparatus, and computer-readable recording medium

Номер патента: US11804361B2. Автор: Munehiro Ogasawara,Haruyuki NOMURA,Noriaki Nakayamada. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-10-31.

Method for depositing a film using a charged particle beam, method for performing selective etching using the same, and charged particle beam equipment therefor

Номер патента: US20070252092A1. Автор: Hiroyasu Shichi,Muneyuki Fukuda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2007-11-01.

Method and system for forming a pattern on a surface using multi-beam charged particle beam lithography

Номер патента: WO2015138362A1. Автор: Akira Fujimura. Владелец: D2S, INC.. Дата публикации: 2015-09-17.

Multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20240242919A1. Автор: HIROFUMI Morita. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-07-18.

Charged particle multi-beam apparatus including a manipulator device for manipulation of one or more charged particle beams

Номер патента: US09607806B2. Автор: Pieter Kruit,Aernout Christiaan Zonnevylle. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2017-03-28.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US20170358426A1. Автор: Akio Yamada,Masahiro Seyama,Masaki Kurokawa,Shinji Sugatani. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-12-14.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US7928414B2. Автор: Takayuki Abe. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2011-04-19.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US9734988B2. Автор: Akio Yamada,Masahiro Seyama,Masaki Kurokawa,Shinji Sugatani. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-08-15.

Multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20240242933A1. Автор: HIROFUMI Morita,Haruyuki NOMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-07-18.

Method and system for forming a pattern on a surface using multi-beam charged particle lithography

Номер патента: US20150254393A1. Автор: Akira Fujimura. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2015-09-10.

Apparatus and method for removal of selected particles from a charged particle beam

Номер патента: GB2446005A. Автор: Superion Limited. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-07-30.

Particle beam irradiation system and control method therefor, and control device for particle beam irradiation system

Номер патента: EP4197591A1. Автор: Kenta Takahashi,Yuki Ito,Kohei Yamada,Satoru Okura. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2023-06-21.

Method for evaluating charged particle beam drawing apparatus

Номер патента: US9812289B2. Автор: Satoru Hirose,Takayuki Ohnishi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-11-07.

Method for evaluating charged particle beam drawing apparatus

Номер патента: US9514915B2. Автор: Satoru Hirose,Takayuki Ohnishi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-12-06.

Method for evaluating charged particle beam drawing apparatus

Номер патента: US20160365223A1. Автор: Satoru Hirose,Takayuki Ohnishi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-12-15.

Shot data generation method and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US9514914B2. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-12-06.

Method for evaluating charged particle beam drawing apparatus

Номер патента: US20160233052A1. Автор: Satoru Hirose,Takayuki Ohnishi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-08-11.

Shot data generation method and multi charged particle beam writing method

Номер патента: US09514914B2. Автор: Hideo Inoue. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-12-06.

Drawing apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US8729509B2. Автор: Takahiro Matsumoto,Wataru Yamaguchi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-05-20.

Multi-charged-particle-beam writing apparatus and multi-charged-particle-beam writing method

Номер патента: US11901156B2. Автор: Satoru Hirose,Ryosuke Ueba,Rieko Nishimura,Shunsuke Isaji. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-02-13.

Charged particle beam lens apparatus, charged particle beam column, and charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US20170213689A1. Автор: Shinichi Kojima,Tomohiko Abe. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-07-27.

Charged particle beam drawing apparatus, information processing apparatus and pattern inspection apparatus

Номер патента: US9659745B2. Автор: Kenichi Yasui. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-05-23.

Charged particle beam lens apparatus, charged particle beam column, and charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US10049854B2. Автор: Shinichi Kojima,Tomohiko Abe. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2018-08-14.

Particle beam irradiation system, control method for particle beam irradiation system, and control device for particle beam irradiation system

Номер патента: US20230253175A1. Автор: Kenta Takahashi,Yuki Ito,Kohei Yamada,Satoru Okura. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2023-08-10.

Non-axisymmetric charged-particle beam system

Номер патента: US7612346B2. Автор: Jing Zhou,Chiping Chen,Ronak J. Bhatt. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2009-11-03.

Non-axisymmetric charged-particle beam system

Номер патента: US20060017002A1. Автор: Jing Zhou,Chiping Chen,Ronak Bhatt. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2006-01-26.

Multi charged particle beam writing apparatus and method for correcting a current distribution of groups of charged particle beams

Номер патента: US9543119B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-01-10.

Charged particle beam generator, charged particle irradiation system, method for operating charged particle beam generator and method for operating charged particle irradiation system

Номер патента: US20160150630A1. Автор: Takashi Iga,Kazunori Tsubuku,Masumi Umezawa,Kouji TOBINAGA. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2016-05-26.

Data processing method, charged particle beam writing apparatus, and charged particle beam writing system

Номер патента: US10714312B2. Автор: Kenichi Yasui. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-07-14.

Data processing method, charged particle beam writing apparatus, and charged particle beam writing system

Номер патента: US20180366297A1. Автор: Kenichi Yasui. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-12-20.

Charged particle beam drawing apparatus, information processing apparatus and pattern inspection apparatus

Номер патента: US20150279617A1. Автор: Kenichi Yasui. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-10-01.

Multiple-charged particle-beam irradiation apparatus and multiple-charged particle-beam irradiation method

Номер патента: US20220102113A1. Автор: Mitsuhiro Okazawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2022-03-31.

Multiple-charged particle-beam irradiation apparatus and multiple-charged particle-beam irradiation method

Номер патента: US11574797B2. Автор: Mitsuhiro Okazawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-02-07.

Multi charged particle beam irradiation apparatus, multi charged particle beam irradiation method, and multi charged particle beam adjustment method

Номер патента: US20170309440A1. Автор: HIROFUMI Morita,Shinsuke Nishimura,Munehiro Ogasawara,Takanao TOUYA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-10-26.

Methods and systems for forming a pattern on a surface using multi-beam charged particle beam lithography

Номер патента: US20200051781A1. Автор: Akira Fujimura,Michael J. Meyer,Thang Nguyen,Ajay Baranwal,Suhas Pillai. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2020-02-13.

Inspection method for blanking device for blanking multi charged particle beams

Номер патента: US09880215B2. Автор: Hiroshi Yamashita. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-01-30.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US5324950A. Автор: Tadashi Otaka,Mikio Ichihashi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1994-06-28.

Microfabricated template for multiple charged particle beam calibrations and shielded charged particle beam lithography

Номер патента: WO2000067291A2. Автор: Kim Y. Lee,Marian Mankos,Ho-Seob Kim,Lawrence Muray,T. H. P. Chang. Владелец: Etec Systems, Inc.. Дата публикации: 2000-11-09.

Charged-particle optical systems and pattern transfer apparatus comprising same

Номер патента: US6060711A. Автор: Hiroyasu Shimizu. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-05-09.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20220319807A1. Автор: HIROFUMI Morita,Takahito Nakayama. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2022-10-06.

Vacuum chamber arrangement for charged particle beam generator

Номер патента: US20230386696A1. Автор: Alexander Hendrik Vincent van Veen,Willem Henk URBANUS,Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2023-11-30.

Charged particle beam drawing apparatus and charged particle beam drawing method

Номер патента: US20160343535A1. Автор: Hideki Matsui. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-11-24.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20180342371A1. Автор: Shunsuke Isaji. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-11-29.

Vacuum chamber arrangement for charged particle beam generator

Номер патента: US11961627B2. Автор: Alexander Hendrik Vincent van Veen,Willem Henk URBANUS,Marco Jan-Jaco Wieland. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-04-16.

Mounting substrate, blanking aperture array chip, blanking aperture array system and multi charged particle beam irradiation apparatus

Номер патента: US20240013999A1. Автор: HIROFUMI Morita,Toshiki Kimura,Kazuhiro Chiba,Hayato Kimura,Takanao TOUYA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-01-11.

Blanking device for multi charged particle beams, and multi charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20160111246A1. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-04-21.

Charged particle beam irradiation method, method of manufacturing semiconductor device and charged particle beam apparatus

Номер патента: US20050121610A1. Автор: Hideaki Abe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-06-09.

Apparatus for chopping a charged particle beam

Номер патента: US4626690A. Автор: Hideo Todokoro,Tsutomu Komoda. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1986-12-02.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US11756766B2. Автор: HIROFUMI Morita,Takahito Nakayama. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-09-12.

Charged particle beam writing apparatus, charged particle beam writing method and apparatus of processing data for charged particle beam writing

Номер патента: US8183545B2. Автор: Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2012-05-22.

Drawing apparatus, and method of manufacturing article

Номер патента: US20150004807A1. Автор: Masato Muraki,Tomoyuki Morita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2015-01-01.

Charged particle beam writing apparatus and method thereof

Номер патента: US20110031387A1. Автор: Noriaki Nakayamada,Seiji WAKE. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2011-02-10.

Charged particle beam writing apparatus and method thereof

Номер патента: US20090008568A1. Автор: Takayuki Abe. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2009-01-08.

Charged particle beam lithography method and charged particle beam lithography apparatus

Номер патента: US20160365226A1. Автор: Munehiro Ogasawara. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-12-15.

Charged particle beam writing apparatus, charged particle beam writing method, and shot correction method of charged particle beam writing method

Номер патента: US20160111252A1. Автор: Tomoo Motosugi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-04-21.

Irradiation system with ion beam/charged particle beam

Номер патента: US7423276B2. Автор: Takanori Yagita. Владелец: SEN Corp. Дата публикации: 2008-09-09.

Charged particle beam exposure method and method for producing charged particle beam exposure data

Номер патента: US20030160192A1. Автор: Atsushi Ando,Ryoichi Inanami,Shunko Magoshi. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2003-08-28.

Charged particle beam writing device and charged particle beam writing method

Номер патента: US11854764B2. Автор: Junpei YASUDA,Naoto WAKUI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-12-26.

Multi charged particle beam exposure method, and multi charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US20170352520A1. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-12-07.

Charged particle beam writing apparatus, charged particle beam writing method and apparatus of processing data for charged particle beam writing

Номер патента: US20110046762A1. Автор: Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2011-02-24.

Charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US12009175B2. Автор: HIROFUMI Morita,Takanao TOUYA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-06-11.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20140127914A1. Автор: Yusuke Sakai,Saori GOMI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2014-05-08.

Apparatus for blanking a charged particle beam

Номер патента: EP1751784A2. Автор: Tao Zhang. Владелец: Nanobeam Ltd. Дата публикации: 2007-02-14.

Apparatus for blanking a charged particle beam

Номер патента: WO2005119361A3. Автор: Tao Zhang. Владелец: Nanobeam Ltd. Дата публикации: 2006-03-23.

Apparatus for blanking a charged particle beam

Номер патента: WO2005119361A2. Автор: Tao Zhang. Владелец: Nanobeam Limited. Дата публикации: 2005-12-15.

Method and system for design of enhanced edge slope patterns for charged particle beam lithography

Номер патента: US09612530B2. Автор: Akira Fujimura,Kazuyuki Hagiwara,Ingo Bork,Stephen F. Meier. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2017-04-04.

Charged particle beam writing method

Номер патента: US7759659B2. Автор: Takayuki Abe,Tetsuo Yamaguchi,Fumio Hide. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2010-07-20.

Time-dependent defect inspection apparatus

Номер патента: US20220005666A1. Автор: Jun Jiang,Long Ma,Yongjun WANG,Chih-Yu Jen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2022-01-06.

Time-dependent defect inspection apparatus

Номер патента: US20200075287A1. Автор: Jun Jiang,Long Ma,Yongjun WANG,Chih-Yu Jen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-03-05.

Writing data generating method, multi charged particle beam writing apparatus, pattern inspecting apparatus, and computer-readable recording medium

Номер патента: US11774860B2. Автор: Kenichi Yasui,Noriaki Nakayamada. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-10-03.

Writing data generating method, multi charged particle beam writing apparatus, pattern inspecting apparatus, and computer-readable recording medium

Номер патента: US20200278612A1. Автор: Kenichi Yasui,Noriaki Nakayamada. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-09-03.

Precision material modification using miniature-column charged particle beam arrays

Номер патента: US09824859B1. Автор: Michael C. Smayling,Kevin M. Monahan,Theodore A. Prescop,David K. Lam. Владелец: Multibeam Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Precision material modification using miniature-column charged particle beam arrays

Номер патента: US09822443B1. Автор: Michael C. Smayling,Kevin M. Monahan,Theodore A. Prescop,David K. Lam. Владелец: Multibeam Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Precision deposition using miniature-column charged particle beam arrays

Номер патента: US09556521B1. Автор: Michael C. Smayling,Kevin M. Monahan,Theodore A. Prescop,David K. Lam. Владелец: Multibeam Corp. Дата публикации: 2017-01-31.

Precision deposition using miniature-column charged particle beam arrays

Номер патента: US09453281B1. Автор: Michael C. Smayling,Kevin M. Monahan,Theodore A. Prescop,David K. Lam. Владелец: Multibeam Corp. Дата публикации: 2016-09-27.

Precision substrate material removal using miniature-column charged particle beam arrays

Номер патента: US9673114B1. Автор: Michael C. Smayling,Kevin M. Monahan,Theodore A. Prescop,David K. Lam. Владелец: Multibeam Corp. Дата публикации: 2017-06-06.

Pattern writing apparatus using charged particle beam, and program-recorded readable recording medium

Номер патента: US20080067431A1. Автор: Tomoyuki Horiuchi,Takeshi Kurohori. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2008-03-20.

Precision substrate material removal using miniature-column charged particle beam arrays

Номер патента: US09466464B1. Автор: Michael C. Smayling,Kevin M. Monahan,Theodore A. Prescop,David K. Lam. Владелец: Multibeam Corp. Дата публикации: 2016-10-11.

Charged particle beam source, surface processing apparatus and surface processing method

Номер патента: US12125664B2. Автор: David Pearson,Joao Ferreira,Sebastien POCHON. Владелец: OXFORD INSTRUMENTS NANOTECHNOLOGY TOOLS LTD. Дата публикации: 2024-10-22.

Charged-particle beam writing apparatus and charged-particle beam writing method

Номер патента: US20190355553A1. Автор: Takashi Kamikubo,Haruyuki NOMURA. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-11-21.

Multiple charged particle beam writing apparatus and multiple charged particle beam writing method

Номер патента: US20220107569A1. Автор: Yasuo Kato,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2022-04-07.

Drawing apparatus, and method of manufacturing article

Номер патента: US20130199719A1. Автор: Tomoyuki Morita,Go Tsuchiya. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2013-08-08.

Multi charged particle beam writing apparatus and method of adjusting same

Номер патента: US11740546B2. Автор: Hiroshi Matsumoto,Tsubasa NANAO. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-08-29.

Multi-charged particle beam writing apparatus, and multi-charged particle beam writing method

Номер патента: US12087543B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-09-10.

Multiple charged particle beam lithography apparatus and multiple charged particle beam lithography method

Номер патента: US09947509B2. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-04-17.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US09478391B2. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2016-10-25.

Inspection method and inspection system using charged particle beam

Номер патента: US7526747B2. Автор: Mari Nozoe,Hiroyuki Shinada,Hidetoshi Nishiyama. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2009-04-28.

Multi-charged particle beam writing apparatus, and multi-charged particle beam writing method

Номер патента: US20240242932A1. Автор: Yasuo Kato,Ryoh Kawana,Masao HAYAMI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-07-18.

Scan strategies to minimize charging effects and radiation damage of charged particle beam metrology system

Номер патента: EP3762779A1. Автор: HONG Xiao. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2021-01-13.

Scan strategies to minimize charging effects and radiation damage of charged particle beam metrology system

Номер патента: WO2019173252A1. Автор: HONG Xiao. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2019-09-12.

Charged particle acceleration apparatus and method

Номер патента: WO2007133225A3. Автор: Jonathan Gorrell,Mark Davidson,Michael E Maines,Paul K Hart. Владелец: Virgin Islands Microsystems. Дата публикации: 2009-04-16.

Charged particle beam targets

Номер патента: WO2014091195A1. Автор: Ivan KONOPLEV. Владелец: ISIS INNOVATION LIMITED. Дата публикации: 2014-06-19.

Method and system for forming a pattern on a reticle using charged particle beam lithography

Номер патента: US20140162466A1. Автор: Akira Fujimura. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2014-06-12.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US09899187B2. Автор: Yasuo Kato,Masafumi Ise,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-02-20.

Method and apparatus for generation of a uniform-profile particle beam

Номер патента: US09953798B2. Автор: Brian Patrick Wilfley,Josh Star-Lack,Thomas A CASE. Владелец: Novaray Medical Inc. Дата публикации: 2018-04-24.

Charged particle beam writing apparatus, and buffer memory data storage method

Номер патента: US20140237196A1. Автор: Yasuo Kato,Jun Yashima. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2014-08-21.

Aperture set for multi-beam and multi-charged particle beam writing apparatus

Номер патента: US20180182593A1. Автор: Hiroshi Yamashita,Kenichi Kataoka,Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-06-28.

Charged particle beam apparatus

Номер патента: US11747292B2. Автор: Hiroyuki Chiba,Wei Chean TAN. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-09-05.

Charged particle beam writing apparatus and method therefor

Номер патента: US09552963B2. Автор: Shusuke Yoshitake. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-01-24.

Method for fracturing a pattern for writing with a shaped charged particle beam writing system using dragged shots

Номер патента: WO2011049735A2. Автор: Michael Tucker,Akira Fujimura,Harold Robert Zable. Владелец: D2S, INC.. Дата публикации: 2011-04-28.

Charged particle beam device and inspection device

Номер патента: US09824938B2. Автор: Osamu Inoue,Atsuko Yamaguchi,Hiroki Kawada. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Charged particle beam lithography apparatus, inspection apparatus and inspection method of pattern writing data

Номер патента: US20130264478A1. Автор: Yasuo Kato,Shigehiro Hara,Akihito Anpo,Noriaki Nakayamada. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2013-10-10.

Charged particle beam treatment apparatus and method of adjusting path length of charged particle beam

Номер патента: US20150270098A1. Автор: Shinji Iwanaga. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2015-09-24.

Method and device for generating a focused strong-current charged-particle beam

Номер патента: US20150303019A1. Автор: Julien Fuchs,Bruno Albertazzi,Henri Pepin,Emmanuel D'HUMIERES. Владелец: Institut National de La Recherche Scientifique INRS. Дата публикации: 2015-10-22.

Particle beam transport apparatus

Номер патента: US09818573B2. Автор: Willem Kleeven,Michel Abs,Szymon Zaremba. Владелец: Ion Beam Applications SA. Дата публикации: 2017-11-14.

Method and device for generating a focused strong-current charged-particle beam

Номер патента: US09514908B2. Автор: Julien Fuchs,Bruno Albertazzi,Henri Pepin,Emmanuel D'HUMIERES. Владелец: Institut National de La Recherche Scientifique INRS. Дата публикации: 2016-12-06.

Charged particle beam source, surface processing apparatus and surface processing method

Номер патента: US20220216027A1. Автор: David Pearson,Joao Ferreira,Sebastien POCHON. Владелец: OXFORD INSTRUMENTS NANOTECHNOLOGY TOOLS LTD. Дата публикации: 2022-07-07.

Rotatable targeting magnet apparatus and method of use thereof in conjunction with a charged particle cancer therapy system

Номер патента: US09757594B2. Автор: Vladimir Balakin. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-09-12.

Charged particle imaging system and use thereof

Номер патента: WO2022221948A1. Автор: Rodney HERRING. Владелец: HERRING Rodney. Дата публикации: 2022-10-27.

Charged-particle-beam microlithography methods exhibiting reduced coulomb effects

Номер патента: US20020187411A1. Автор: Kazuaki Suzuki,Sumito Shimizu. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-12-12.

Relativistic energy compensating cancer therapy apparatus and method of use thereof

Номер патента: US11000705B2. Автор: W. Davis Lee,Maureen Petterson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-05-11.

Scintillator for charged particle beam apparatus and charged particle beam apparatus

Номер патента: US11846736B2. Автор: Makoto Suzuki,Shin Imamura,Shunsuke Mizutani,Eri Takahashi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-12-19.

Scintillator for charged particle beam apparatus and charged particle beam apparatus

Номер патента: US20220244412A1. Автор: Makoto Suzuki,Shin Imamura,Shunsuke Mizutani,Eri Takahashi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-08-04.

Particle beam mass spectrometer and particle measurement method by means of same

Номер патента: US20180286655A1. Автор: Sang Jung Ahn,Cheolsu Han,Chang Joon Park,Keu Chan Lee,Seok Rae Yoon. Владелец: Korea Research Institute of Standards and Science KRISS. Дата публикации: 2018-10-04.

Charged particle beam treatment apparatus

Номер патента: US20190027339A1. Автор: Nagaaki Kamiguchi. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2019-01-24.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20240055218A1. Автор: Yoshikuni GOSHIMA,John William Kay,Chising Lai,Yasuo Sengoku. Владелец: Nuflare Technology America Inc. Дата публикации: 2024-02-15.

Charged particle processing for forming pattern boundaries at a uniform thickness

Номер патента: US20020177055A1. Автор: Ryoji Hagiwara,Tomokazu Kozakai. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-11-28.

Stage device and charged particle beam device

Номер патента: US20190228947A1. Автор: Hironori Ogawa,Motohiro Takahashi,Shuichi Nakagawa,Takanori Kato,Masaki Mizuochi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-07-25.

Multi-layer range measurement for characterizing charged particle beams

Номер патента: US09981146B2. Автор: Raymond P. Boisseau,John S. Gordon,Andrew Dart,Julia C. Nett. Владелец: PYRAMID TECHNICAL CONSULTANTS Inc. Дата публикации: 2018-05-29.

Charged-particle beam lithography apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20090057571A1. Автор: Susumu Goto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-03-05.

Charged particle beam source, surface processing apparatus and surface processing method

Номер патента: GB2582242A. Автор: Pearson David,Ferreira Joao,POCHON Sebastien. Владелец: OXFORD INSTRUMENTS NANOTECHNOLOGY TOOLS LTD. Дата публикации: 2020-09-23.

Proton therapy tuning apparatus and method of use thereof

Номер патента: US11918830B2. Автор: Susan L. Michaud,Daniel J. Raymond,Ran Tu,Artur Teymurazyan. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-03-05.

Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Номер патента: US20150279611A1. Автор: Hironobu Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-10-01.

Proton therapy tuning apparatus and method of use thereof

Номер патента: US20240066325A1. Автор: Susan L. Michaud,Daniel J. Raymond,Ran Tu,Artur Teymurazyan. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-02-29.

Charged particle beam targets

Номер патента: US20150318138A1. Автор: Ivan KONOPLEV. Владелец: Oxford University Innovation Ltd. Дата публикации: 2015-11-05.

Charged particle translation slide control apparatus and method of use thereof

Номер патента: US9737734B2. Автор: Susan L. Michaud,Stephen L. Spotts. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-08-22.

Charged particle translation slide control apparatus and method of use thereof

Номер патента: US9907981B2. Автор: Susan L. Michaud,Daniel J. Raymond,Stephen L. Spotts. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-03-06.

Charged particle beam exposure method and apparatus therefor

Номер патента: US5981960A. Автор: HIROSHI Yasuda,Hitoshi Tanaka,Akio Yamada,Yoshihisa Ooaeh. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1999-11-09.

Multi charged particle beam adjustment method, multi charged particle beam irradiation method, and multi charged particle beam irradiation apparatus

Номер патента: US11804360B2. Автор: HIROFUMI Morita,Takanao TOUYA,Tsubasa NANAO. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2023-10-31.

Charged particle beam writing apparatus, charged particle beam writing method, and a non-transitory computer-readable storage medium

Номер патента: US11961708B2. Автор: Haruyuki NOMURA,Noriaki Nakayamada. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-04-16.

Method and apparatus for correcting chromatic aberration in charged particle beams

Номер патента: US4795912A. Автор: Alfred W. Maschke. Владелец: TRW Inc. Дата публикации: 1989-01-03.

Charged Particle Beam Device

Номер патента: US20240055220A1. Автор: Yuka II. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-02-15.

Multiple charged particle beam lithography apparatus and multiple charged particle beam pattern writing method

Номер патента: US20180307144A1. Автор: Yasuo Kato,Ryoh Kawana. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-10-25.

SUBSTRATE INSPECTION APPARATUS, METHOD OF CALIBRATING THE SUBSTRATE INSPECTION APPARATUS, AND METHOD OF FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME

Номер патента: US20200182777A1. Автор: YANG Yu Sin,PARK Jang Ik,KIM Kwang Rak,BAE Yoon Sung,SOHN Young Hoon,JO Tae Yong. Владелец: . Дата публикации: 2020-06-11.

X-ray transmission inspection apparatus and x-ray transmission inspection method

Номер патента: US20240255444A1. Автор: Satoshi Matsubara. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate inspecting device, coating/developing device and substrate inspecting method

Номер патента: CN1329953C. Автор: 田中道夫,清田诚,爱内隆志,上村良一. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-08-01.

Method and apparatus for enhanced embedded substrate inspection through process data collection and substrate imaging techniques

Номер патента: KR100886850B1. Автор: 레지날드 헌터. Владелец: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2009-03-05.

APPARATUS AND METHOD FOR SUBSTRATE INSPECTION

Номер патента: US20200072760A1. Автор: Liu Hsu-Shui,Pai Jiun-Rong,Chuang Sheng-Hsiang,Kuo Shou-Wen,SHIH BO-HAN. Владелец: . Дата публикации: 2020-03-05.

Epitaxial wafer back surface inspection apparatus and epitaxial wafer back surface inspection method using the same

Номер патента: JP6601119B2. Автор: 達弥 長田,秀明 金原,雅彦 江頭. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2019-11-06.

An epitaxial wafer backside inspection apparatus and an epitaxial wafer backside inspection method using the same

Номер патента: KR20180050369A. Автор: 타츠야 오사다,마사히코 에가시라,히데아키 긴바라. Владелец: 가부시키가이샤 사무코. Дата публикации: 2018-05-14.

Exposure device, device inspection apparatus and device making method and pattern exposure method using the exposure device

Номер патента: CN106933066A. Автор: 鬼头义昭,加藤正纪,铃木智也,堀正和,林田洋祐,木内彻. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-07-07.

Exposure device, device inspection apparatus and device making method and pattern exposure method using the exposure device

Номер патента: CN106933066B. Автор: 鬼头义昭,加藤正纪,铃木智也,堀正和,林田洋祐,木内彻. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-10-23.

Thin film deposition apparatus and organic light emitting display device manufacturing method using the same

Номер патента: JP5677785B2. Автор: 鎔 燮 崔,相 洙 金,鍾 憲 金,永 默 崔,永 默 崔,昌 睦 趙,昌 睦 趙,鍾 憲 金,鎔 燮 崔,金　相　洙,煕 哲 姜,煕 哲 姜. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2015-02-25.

Allowance setting system, substrate inspection device, allowance setting method, and substrate inspection method

Номер патента: US12041724B2. Автор: Keiichi Ono,Kazuya Kotani,Mitsutaka Inagaki,Yuta YOKOI. Владелец: Fuji Corp. Дата публикации: 2024-07-16.

Inspection apparatus, image reading apparatus, image forming apparatus, inspection method, and recording medium

Номер патента: US20200009860A1. Автор: Takuji Kamada. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2020-01-09.

Inspection apparatus, image forming system, inspection program, and inspection method

Номер патента: US11941305B2. Автор: Shoichi Ayukawa. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2024-03-26.

Method for fracturing and forming a pattern using shaped beam charged particle beam lithography

Номер патента: US09448473B2. Автор: Michael Tucker,Akira Fujimura. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2016-09-20.

Substrate inspection apparatus and substrate temperature control method

Номер патента: US09885747B2. Автор: Dai Kobayashi,Yutaka Akaike. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Substrate inspection method and substrate inspection apparatus

Номер патента: US20200025692A1. Автор: Akiko Kiyotomi,Kazuya HISANO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-01-23.

Electron beam type substrate inspecting apparatus

Номер патента: US20110204230A1. Автор: Daiji Fujiwara. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2011-08-25.

Substrate inspection system, substrate inspection method and recording medium

Номер патента: US20200386538A1. Автор: Hiroshi Nakamura,Toyohisa Tsuruda,Yasuaki Noda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-12-10.

Substrate inspection method and system

Номер патента: US20180040118A1. Автор: Yeon Hee Lee,Hye In LEE,Seung Ae SEO,Won Mi AHN,Jong Hui Lee. Владелец: KOH YOUNG TECHNOLOGY INC. Дата публикации: 2018-02-08.

Substrate inspection device and substrate inspection method using the same

Номер патента: US20240201100A1. Автор: Dongwook Lee,Sung Hune Yoo. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Method For Fracturing And Forming A Pattern Using Shaped Beam Charged Particle Beam Lithography

Номер патента: US20160103390A1. Автор: Michael Tucker,Akira Fujimura. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2016-04-14.

Substrate inspection apparatus and substrate treatment system including the same

Номер патента: US20240142389A1. Автор: Dong Min Park,Jeong Hoon Han,Jun Hyun LIM,Oh Yeol KWON. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-02.

Inspection apparatus for inspecting semiconductor devices using charged particles

Номер патента: US11754517B2. Автор: Suyoung LEE,Jongmin Kim,Chungsam Jun,Kwangil SHIN,Ilsuk PARK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-09-12.

Substrate inspection apparatus, substrate processing apparatus, substrate inspection method, and computer-readable recording medium

Номер патента: US11823922B2. Автор: Masato Hosaka,Tadashi Nishiyama,Akiko Kiyotomi,Kazuya HISANO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-21.

Substrate inspecting apparatus and operating method thereof

Номер патента: US20240192144A1. Автор: Yong Jun Lee. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Electromagnet and charged particle accelerator

Номер патента: US20240008165A1. Автор: Yujiro Tajima,Ryuki YOKOTA. Владелец: Toshiba Energy Systems and Solutions Corp. Дата публикации: 2024-01-04.

Substrate inspecting apparatus and method of inspecting substrate

Номер патента: US20230215013A1. Автор: Donghoon Lee,Taejun KIM,Jihoon SEO,Jiyong Jung,Myoungchul KIM,Eonpil Shin,Moonkyoung Yong. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-06.

Compact Charged Particle Beam Plasma Multi-Frequency Antenna

Номер патента: US20240275029A1. Автор: Eric N. Enig,Yil-Bong KIM. Владелец: Enig Associates Inc. Дата публикации: 2024-08-15.

Heat treatment apparatus and heat treatment method

Номер патента: US20160109508A1. Автор: Dai Kobayashi,Yutaka Akaike. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-04-21.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12027393B2. Автор: Takuya Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20210335636A1. Автор: Takuya Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-10-28.

Particle beam inspection apparatus

Номер патента: US20240258138A1. Автор: Jeroen Gerard Gosen,Edwin Cornelis KADIJK,Te-Yu Chen,Erheng WANG,Christianus VAN HEUMEN Martijn Petrus,Caspar VAN BANNING Dennis Herman,Henricus Maria JACOBS Johannes Andreas. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate inspection system and method of manufacturing semiconductor device using substrate inspection system

Номер патента: US11823961B2. Автор: Taehyun Kim,Sangmin Lee,Sangwoo Bae,Boris Afinogenov,Maksim RIABKO,Anton MEDVEDEV,Aleksandr SHOROKHOV,Anton Sofronov,Ingi KIM,Seulgi Lee,Eunhee Jeang,Wondon Joo,Minhwan Seo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-21.

Substrate inspection system and method of manufacturing semiconductor device using substrate inspection system

Номер патента: US20240145315A1. Автор: Taehyun Kim,Sangmin Lee,Sangwoo Bae,Boris Afinogenov,Maksim RIABKO,Anton MEDVEDEV,Aleksandr SHOROKHOV,Anton Sofronov,Ingi KIM,Seulgi Lee,Eunhee Jeang,Wondon Joo,Minhwan Seo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-02.

Method and system for forming patterns using charged particle beam lithography

Номер патента: US20160334700A1. Автор: Akira Fujimura,Ingo Bork,Eldar Khaliullin,Anatoly Aadamov. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2016-11-17.

Method and system for forming patterns using charged particle beam lithography

Номер патента: US20130283219A1. Автор: Akira Fujimura,Ingo Bork,Eldar Khaliullin,Anatoly Aadamov. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2013-10-24.

Surface inspection apparatus, processing system, and method of manufacturing article

Номер патента: US11749546B2. Автор: Kenichi Kobayashi,Kohei Suzuki,Shinichiro Hirai. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-09-05.

Systems and methods for duality modulation separation of charged particle wave packets

Номер патента: US20240029913A1. Автор: Stuart Mirell,Daniel Mirell. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-01-25.

Liquid shaping with charged particle beams

Номер патента: US20220381654A1. Автор: Libor Novak,Tomás Kazda. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2022-12-01.

Liquid shaping with charged particle beams

Номер патента: EP4095940A1. Автор: Libor Novak,Tomás Kazda. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2022-11-30.

Image processing device, charged particle beam device, charged particle beam device adjustment sample, and manufacturing method thereof

Номер патента: US09702695B2. Автор: Osamu Inoue,Takashi Takahama,Naoshi Itabashi,Miyako Matsui,Takahiro Kawasaki,Hiroki Kawada,Osamu Komuro,Katsumi Setoguchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-07-11.

Spectroscopic system, optical inspection method, and semiconductor device fabrication method

Номер патента: US20200194294A1. Автор: Minsu Kim,Younghoon Sohn,Yusin Yang,Kang-woong KO,Sungho Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-06-18.

Inspection apparatus and inspection method using same

Номер патента: US20220412898A1. Автор: Jongmin Yoon,Suhwan PARK,Kwangrak Kim,Junbum Park,Wonki Lee,Inkeun BAEK,Ikseon Jeon,Martin Priwisch. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-12-29.

Substrate inspection method

Номер патента: US20240019380A1. Автор: Kiwook Song,Chungsam Jun,Kihong Chung,Seungryeol Oh. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-01-18.

Substrate inspection device and method

Номер патента: US09880408B2. Автор: Yongjin Lee,Tae Hyuck Yoon,Unsub LEE. Владелец: Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-30.

Allowance setting system, substrate inspection device, allowance setting method, and substrate inspection method

Номер патента: EP3989696A4. Автор: Keiichi Ono,Kazuya Kotani,Mitsutaka Inagaki,Yuta YOKOI. Владелец: Fuji Corp. Дата публикации: 2022-06-29.

Allowance setting system, substrate inspection device, allowance setting method, and substrate inspection method

Номер патента: EP3989696B1. Автор: Keiichi Ono,Kazuya Kotani,Mitsutaka Inagaki,Yuta YOKOI. Владелец: Fuji Corp. Дата публикации: 2024-02-21.

LIGHT SOURCE SUBSTRATE, DISPLAY APPARATUS, AND LIGHT SOURCE SUBSTRATE INSPECTION METHOD

Номер патента: US20160128143A1. Автор: KAZIKAWA Yosuke. Владелец: SHARP KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2016-05-05.

Light source substrate, display apparatus, and light source substrate inspection method

Номер патента: US9693419B2. Автор: Yosuke KAZIKAWA. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2017-06-27.

Inspection apparatus, analysis display apparatus, inspection system and inspection method

Номер патента: US7729692B2. Автор: Hitoshi Oka,Yojiro Hiranuma,Taiji Katsube,Yukinori Amao. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2010-06-01.

Inspection apparatus, image reading apparatus, image forming apparatus, inspection method, and recording medium

Номер патента: US20200009860A1. Автор: Takuji Kamada. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2020-01-09.

Polarized image acquisition apparatus, pattern inspection apparatus, polarized image acquisition method, and pattern inspection method

Номер патента: US20180114306A1. Автор: Riki Ogawa. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-04-26.

Solar power generation system inspection apparatus and solar power generation system inspection method

Номер патента: JP6405807B2. Автор: 彰彦 佐野,修一 三角,康介 森田,誠 井手. Владелец: Omron Corp. Дата публикации: 2018-10-17.

Control apparatus, controlled apparatus, and remote control system and remote control method using these apparatuses

Номер патента: CA2469916C. Автор: Takanobu Iseki. Владелец: Fujisoft ABC Inc. Дата публикации: 2009-06-30.

INSPECTION APPARATUS, IMAGE FORMING SYSTEM, INSPECTION PROGRAM, AND INSPECTION METHOD

Номер патента: US20200233618A1. Автор: Ayukawa Shoichi. Владелец: KONICA MINOLTA, INC.. Дата публикации: 2020-07-23.

Apparatus and system for playing contents, and the method using the same

Номер патента: KR101908527B1. Автор: 박홍재,송영국. Владелец: 주식회사 제이티비씨미디어텍. Дата публикации: 2018-10-16.

The shape inspection apparatus of metallic object and the shape inspection method of metallic object

Номер патента: CN107003115B. Автор: 今野雄介,赤木俊夫,山地宏尚,梅村纯. Владелец: Nippon Steel Corp. Дата публикации: 2019-08-09.

Control apparatus, controlled apparatus, and remote control system and remote control method using these apparatuses

Номер патента: CA2469916A1. Автор: Takanobu Iseki. Владелец: Fujisoft Abc Inc.. Дата публикации: 2003-06-26.

Thin film deposition apparatus and organic light emitting display device manufacturing method using the same

Номер патента: JP5328727B2. Автор: 鎔 燮 崔,昌 睦 ▲曹▼,枝 淑 ▲呉▼,鍾 憲 金,煕 哲 康,潤 美 李. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2013-10-30.

Organic layer deposition apparatus and organic light emitting display device manufacturing method using the same

Номер патента: JP5882668B2. Автор: 興烈 羅,ワレリー・プルシンスキー,レン・カプラン,世呼 鄭,元植 玄,慶太 朴,炳成 鄭,鎔燮 崔. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2016-03-09.

Sensor chip breaking strength inspection apparatus and sensor chip breaking strength inspection method

Номер патента: US20070137310A1. Автор: Yuichi Sakai,Munehito Kumagai,Yoshitatsu Kawama,Yasuyuki Nakaoka,Hideki Yabe. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2007-06-21.

Fixed state inspection apparatus, fixed state inspection system, fixed state inspection method, and a non-transitory computer readable medium

Номер патента: US11954911B2. Автор: Rina YAKUWA. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2024-04-09.

Method for inspecting insertion state of plurality of pins inserted into substrate, and substrate inspection device

Номер патента: EP3734299A1. Автор: Yong Kim,Dae Sung Koo,Woo Young Lim. Владелец: KOH YOUNG TECHNOLOGY INC. Дата публикации: 2020-11-04.

Particle beam irradiation system and particle beam irradiation method

Номер патента: US20240324092A1. Автор: Takuya Nomura,Mina EGUCHI. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2024-09-26.

Charged particle beam extraction method using pulse voltage

Номер патента: US20120200237A1. Автор: Satoru Yamada,Kota Torikai. Владелец: Gunma University NUC. Дата публикации: 2012-08-09.

Accelerator for two particle beams for producing collision

Номер патента: RU2569324C2. Автор: Оливер ХАЙД. Владелец: СИМЕНС АКЦИЕНГЕЗЕЛЛЬШАФТ. Дата публикации: 2015-11-20.

Particle beam therapy system

Номер патента: US09776019B2. Автор: Kazuyoshi Saito,Takuya Nomura,Hideaki Nishiuchi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2017-10-03.

Charged particle beam extraction system and method

Номер патента: EP1732369A3. Автор: Takahide Nakayama,Takayoshi Hitachi Ltd. IPO 12F Natori,Masaki Hitachi Ltd. IPO 12F Yanagisawa. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2010-01-20.

Particle beam accelerator

Номер патента: US20060250097A1. Автор: Yuichi Yamamoto,Takahisa Nagayama,Nobuhiko Ina. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2006-11-09.

Display substrate, inspection method thereof, and display device

Номер патента: US20240284771A1. Автор: Cong Liu,Shuang Li,Yuanjie Xu,Binyan Wang,Yue Long,Zhuoran YAN. Владелец: Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Particle accelerator and particle beam therapy apparatus

Номер патента: US12101869B2. Автор: Toshiyuki Shirai,Kota Mizushima. Владелец: NATIONAL INSTITUTES FOR QUANTUM SCIENCE AND TECHNOLOGY. Дата публикации: 2024-09-24.

Particle beam cooling device

Номер патента: US20110074287A1. Автор: Thomas J. Roberts. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-03-31.

Method and system of beam injection to charged particle storage ring

Номер патента: US09655226B2. Автор: Hironari Yamada. Владелец: PHOTON PRODUCTION LABORATORY Ltd. Дата публикации: 2017-05-16.

Particle beam treatment system and beam position correcting method thereof

Номер патента: US20140235922A1. Автор: Masahiro Ikeda,Hisashi Harada,Toshihiro Otani,Kengo Sugahara,Shuhei ODAWARA,Kazushi Hanakawa,Taizo Honda,Katsuhisa Yoshida. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2014-08-21.

Charged particle beam extraction method and apparatus used in conjunction with a charged particle cancer therapy system

Номер патента: EP2283705A2. Автор: Vladimir Yegorovich Balakin. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-02-16.

Charged particle generator

Номер патента: EP2517539A1. Автор: Susan Smith,Christopher Prior,Shinji Machida,Neil Bliss,Bruno Muratori,Robert Cywinski. Владелец: Science and Technology Facilities Council. Дата публикации: 2012-10-31.

Method for inspecting insertion states of pins inserted into substrate, and substrate inspection apparatus

Номер патента: US20200348367A1. Автор: Yong Kim,Dae Sung Koo,Woo Young Lim. Владелец: KOH YOUNG TECHNOLOGY INC. Дата публикации: 2020-11-05.

Circular accelerator and particle beam treatment system

Номер патента: US20240198138A1. Автор: Kenji Miyata,Futaro EBINA. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2024-06-20.

Circular accelerator and particle beam treatment system

Номер патента: EP4383955A1. Автор: Kenji Miyata,Futaro EBINA. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2024-06-12.

Pulsed ion beam to pulsed neutral particle beam slow wave converter device and method for use thereof

Номер патента: US11991814B1. Автор: Mark Bennahmias,Michael J. Zani. Владелец: NEXGEN SEMI HOLDING Inc. Дата публикации: 2024-05-21.

Method for manufacturing particle beam therapy system and particle beam therapy system

Номер патента: US20240355497A1. Автор: Yutaka Hirata,Atsushi Miyamoto,Hiromichi RYUTO. Владелец: Toshiba Energy Systems and Solutions Corp. Дата публикации: 2024-10-24.

Beam transport system and particle beam therapy system

Номер патента: US09881711B2. Автор: Shuhei ODAWARA,Kazushi Hanakawa. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2018-01-30.

Charged particle beam radiation system, synchrotron, and beam ejection method therefor

Номер патента: US09763316B2. Автор: Takuya Nomura,Kunio Moriyama,Hideaki Nishiuchi,Satoshi Totake,Futaro EBINA. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2017-09-12.

Substrate inspection apparatus and method of determining fault type of screen printer

Номер патента: US20210357693A1. Автор: Seung Jae Lee,Jong Hwan Kim,Juyoun PARK,Ye Won HWANG,Jin Man PARK,Tae Min CHOI,Yong Ho Yoo,Duk Young LEE. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2021-11-18.

Target material for particle beam generation apparatus

Номер патента: US20240172354A1. Автор: Yuan-hao LIU,Chun-Ting Lin. Владелец: Neuboron Therapy System Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Reel-to-reel inspection apparatus and inspection method using the same

Номер патента: US09671352B2. Автор: Suck-Ha WOO,Je-Youn JEE,Ki-Sang MOON. Владелец: Haesung DS Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-06.

Method and system for stable dynamics and constant beam delivery for acceleration of charged particle beams in a non-scaling fixed field alternating gradient magnetic field accelerator

Номер патента: EP2701468A3. Автор: Carol Johnstone. Владелец: PARTICLE ACCELERATOR CORP. Дата публикации: 2014-10-29.

Particle beam couplingsystem and method

Номер патента: WO2012048166A3. Автор: Gary Guethlein. Владелец: Lawrence Livermore National Security, LLC. Дата публикации: 2012-07-05.

Target material for particle beam generation apparatus

Номер патента: EP4371608A1. Автор: Yuan-hao LIU,Chun-Ting Lin. Владелец: Neuboron Therapy System Ltd. Дата публикации: 2024-05-22.

Charged particle beam irradiation apparatus

Номер патента: EP2073612A2. Автор: Takahide Nakayama,Kunio Moriyama,Hideaki Nishiuchi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2009-06-24.

X-ray method and apparatus used in conjunction with a charged particle cancer therapy system

Номер патента: CA2725315C. Автор: Vladimir Yegorovich Balakin. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-06-30.

Target material for particle beam generation apparatus

Номер патента: CA3225929A1. Автор: Yuan-hao LIU,Chun-Ting Lin. Владелец: Neuboron Therapy System Ltd. Дата публикации: 2023-01-19.

Charged particle emission control device, method, and program

Номер патента: US20220132648A1. Автор: Takuji Furukawa,Kota Mizushima,Munemichi MATSUMOTO,Kohei KOTAKI. Владелец: Toshiba Energy Systems and Solutions Corp. Дата публикации: 2022-04-28.

Charged particle emission control device, method, and program

Номер патента: US11968773B2. Автор: Takuji Furukawa,Kota Mizushima,Munemichi MATSUMOTO,Kohei KOTAKI. Владелец: Toshiba Energy Systems and Solutions Corp. Дата публикации: 2024-04-23.

Target material for particle beam generation apparatus

Номер патента: AU2022309543A1. Автор: Yuan-hao LIU,Chun-Ting Lin. Владелец: Neuboron Therapy System Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Charged particle beam extraction method and apparatus used in conjunction with a charged particle cancer therapy system

Номер патента: US8384053B2. Автор: Vladimir Balakin. Владелец: Vladimir Balakin. Дата публикации: 2013-02-26.

Device and method for tuning a charged particle beam position

Номер патента: EP4309730A1. Автор: Rudi Labarbe,David Chris Hertlein,François Vander Stappen. Владелец: Ion Beam Applications SA. Дата публикации: 2024-01-24.

Device and method for tuning a charged particle beam position

Номер патента: US20240024702A1. Автор: Rudi Labarbe,David Chris Hertlein,François Vander Stappen. Владелец: Ion Beam Applications SA. Дата публикации: 2024-01-25.

Substrate inspecting unit and substrate treating apparatus including the same

Номер патента: US20230206415A1. Автор: Ji Hoon Yoo,Young Ho Park,Jong Min Lee,Yeon Chul SONG,Myeong Jun LIM,Kwang Sup Kim,Jun Ho Oh. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Method of correcting in-line substrate inspection apparatus and in-line substrate inspection apparatus

Номер патента: KR101138041B1. Автор: 신지 스즈키. Владелец: 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈. Дата публикации: 2012-04-23.

Liquid droplet jetting-inspection apparatus and liquid droplet jetting-inspection method

Номер патента: US20080309705A1. Автор: Masaharu Ito. Владелец: Brother Industries Ltd. Дата публикации: 2008-12-18.

Liquid droplet jetting-inspection apparatus and liquid droplet jetting-inspection method

Номер патента: US7963627B2. Автор: Masaharu Ito. Владелец: Brother Industries Ltd. Дата публикации: 2011-06-21.

X-ray transmission inspection apparatus and x-ray transmission inspection method

Номер патента: US20240255445A1. Автор: Satoshi Matsubara. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2024-08-01.

X-ray transmission inspection apparatus and x-ray transmission inspection method

Номер патента: US20240255443A1. Автор: Satoshi Matsubara. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2024-08-01.

Method of registering a blank substrate to a pattern generating particle beam apparatus and of correcting alignment during pattern generation

Номер патента: US20070069154A1. Автор: Jeffrey Sullivan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2007-03-29.

Signal inspection apparatus, signal inspection system, signal inspection method, and non-transitory computer-readable medium encoded with signal inspection program

Номер патента: US20170242060A1. Автор: Shouhei MIYASHITA. Владелец: FANUC Corp. Дата публикации: 2017-08-24.

Machine vision inspection method, and inspection apparatus and inspection system therefor

Номер патента: EP4332553A1. Автор: Yinhang TU,Kunpeng CUI. Владелец: Contemporary Amperex Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-06.

A defect device automatic inspection apparatus using an ultrasonic probe and an inspection method using the same

Номер патента: KR102399076B1. Автор: 최종명. Владелец: 주식회사 엠아이티. Дата публикации: 2022-05-17.

POLARIZED IMAGE ACQUISITION APPARATUS, PATTERN INSPECTION APPARATUS, POLARIZED IMAGE ACQUISITION METHOD, AND PATTERN INSPECTION METHOD

Номер патента: US20180364472A1. Автор: Ogawa Riki. Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2018-12-20.

Inspection apparatus and method by magnetic resonance inspection method including elliptical algorithm

Номер патента: KR102434224B1. Автор: 이성호,이민성,윤태영,서동만,박익기. Владелец: (주)글로스코. Дата публикации: 2022-08-19.

Quantity-of-light unevenness inspection apparatus, and quantity-of-light unevenness inspection method

Номер патента: US20040026637A9. Автор: Etsuro Saito,Yuuichi Motomura. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2004-02-12.

Quantity-of-light unevenness inspection apparatus, and quantity-of-light unevenness inspection method

Номер патента: US20020121616A1. Автор: Etsuro Saito,Yuuichi Motomura. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2002-09-05.

Inspection Apparatus, Lithographic Apparatus, Lithographic Processing Cell and Inspection Method

Номер патента: US20140211185A1. Автор: Kiers Antoine Gaston Marie,Pellemans Henricus Petrus Maria,Cramer Hugo Augustinus Joseph. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2014-07-31.

TUBULAR BODY INNER SURFACE INSPECTION APPARATUS AND TUBULAR BODY INNER SURFACE INSPECTION METHOD

Номер патента: US20210208085A1. Автор: YAMANO Masaki,AKAGI Toshio,YAMAJI Hironao,NAKATA Takeo. Владелец: NIPPON STEEL CORPORATION. Дата публикации: 2021-07-08.

Inspection apparatus, lithographic apparatus, lithographic processing cell and inspection method

Номер патента: US9128065B2. Автор: Antoine Gaston Marie Kiers,Henricus Petrus Maria Pellemans,Hugo Augustinus Joseph Cramer. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2015-09-08.

Inspection apparatus, lithographic apparatus, lithographic processing cell and inspection method

Номер патента: US8705007B2. Автор: Antoine Gaston Marie Kiers,Henricus Petrus Maria Pellemans,Hugo Augustinus Joseph Cramer. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2014-04-22.

Inspection apparatus, apparatus and method for manufacturing plate-like object, and method for manufacturing plate-like object

Номер патента: CN112074726A. Автор: 安江健造. Владелец: Yoshino Gypsum Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-11.

Secondary battery connection structure inspection apparatus and secondary battery connection structure inspection method

Номер патента: JP5702355B2. Автор: 兼之 牧野,義敬 清水. Владелец: Primearth EV Energy Co Ltd. Дата публикации: 2015-04-15.

Uneven light intensity distribution inspecting apparatus and uneven light intensity distribution inspecting method

Номер патента: AU6948001A. Автор: Etsuro Saito,Yuuichi Motomura. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2002-01-21.

FIXED STATE INSPECTION APPARATUS, FIXED STATE INSPECTION SYSTEM, FIXED STATE INSPECTION METHOD, AND PROGRAM

Номер патента: US20210397850A1. Автор: YAKUWA Rina. Владелец: NEC Corporation. Дата публикации: 2021-12-23.

Fall detecting apparatus and method, and emergency aid system and method using the same

Номер патента: US7961109B2. Автор: Taehyoung Zyung,Jae-Won Jang,Sa-Kwang SONG,Myung-Eun Lim,Soo-Jun Park,Seon-Hee Park,Soo-Young Oh. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute ETRI. Дата публикации: 2011-06-14.

Apparatus and terminal for advertisement service, and service method using the same

Номер патента: KR102045377B1. Автор: 고영관,최용주,정영우,한민호,손상목. Владелец: 에스케이플래닛 주식회사. Дата публикации: 2019-11-15.

Molding apparatus and molding method, imprint mold, and imprint method using the imprint mold

Номер патента: JPWO2013047753A1. Автор: 覚 田中,宏輔 河口,竜也 萩野,田中　覚. Владелец: Scivax Corp. Дата публикации: 2015-03-30.

Substrate foreign matter inspection device and substrate foreign matter inspection method

Номер патента: US20230186458A1. Автор: Tsuyoshi Ohyama,Norihiko Sakaida,Kazuyoshi Kikuchi,Naohiro Zaima. Владелец: CKD Corp. Дата публикации: 2023-06-15.

Apparatus and non-uniform film thickness inspection method

Номер патента: KR20230011414A. Автор: 미츠지 요시바야시. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2023-01-20.

Substrate inspection apparatus and substrate inspection method

Номер патента: US20240175915A1. Автор: Suyoung LEE,Jinwoo Lee,Chungsam Jun,Hyeongcheol Lee,Sekye Jeon,Jongcheon Sun. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-30.

Substrate inspection apparatus and substrate inspection method

Номер патента: US20240219315A1. Автор: LEI Tian,HAO WANG,Seungbeom Park,Hojun Lee,Myungjun Lee,Junho SHIN,Jiabei Zhu,Wookrae Kim,Jangwoon SUNG. Владелец: Boston University. Дата публикации: 2024-07-04.

Substrate inspecting apparatus and control method thereof

Номер патента: US20060044378A1. Автор: Dae-jung Kim,Sang-jin Choi,Jong-Han Oh. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2006-03-02.

Substrate inspection apparatus and substrate inspection method

Номер патента: US20240219170A1. Автор: Oh June Kwon,Seung Yeon Chae,Hyo Jeong Kwon. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Optical reticle substrate inspection apparatus and beam scanning method of the same

Номер патента: US20020093719A1. Автор: Motonari Tateno. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2002-07-18.

Optical reticle substrate inspection apparatus and beam scanning method of the same

Номер патента: US20030117683A1. Автор: Motonari Tateno. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2003-06-26.

Particle beam irradiation apparatus and particle beam therapy system

Номер патента: US20120132826A1. Автор: Takaaki Iwata,Yuehu Pu. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2012-05-31.

Particle beam irradiation apparatus and particle beam therapy system

Номер патента: US09770604B2. Автор: Takaaki Iwata. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2017-09-26.

Particle beam therapy system

Номер патента: US09687679B2. Автор: Masahiro Ikeda,Hisashi Harada,Takaaki Iwata,Yuehu Pu. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2017-06-27.

Substrate inspection device and substrate inspection method

Номер патента: US09784676B2. Автор: HE Wang,XIANG Liu,Xin Fang,Peng Luo,Jiajia PENG. Владелец: Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-10.

Substrate inspection apparatus and probe card transferring method

Номер патента: US09671452B2. Автор: Takashi Amemiya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-06-06.

Mask for projection system using charged particle beam

Номер патента: US5728492A. Автор: Shintaro Kawata. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1998-03-17.

Substrate inspection apparatus

Номер патента: US09678107B2. Автор: Shingo Morita,Michio Murata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-06-13.

Multifunctional substrate inspection apparatus and multifunctional substrate inspection method

Номер патента: US20190162756A1. Автор: Masato Utsumi. Владелец: WIT CO Ltd. Дата публикации: 2019-05-30.

Particle beam irradiation system and particle beam irradiation method

Номер патента: EP4434577A1. Автор: Takuya Nomura,Mina EGUCHI. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2024-09-25.

Charged particle beam therapy and magnetic resonance imaging

Номер патента: RU2681075C2. Автор: Йоханнес Адрианус ОВЕРВЕГ. Владелец: КОНИНКЛЕЙКЕ ФИЛИПС Н.В.. Дата публикации: 2019-03-01.

Method and system for forming high accuracy patterns using charged particle beam lithography

Номер патента: WO2012051082A2. Автор: Akira Fujimura,Kazuyuki Hagiwara,Ingo Bork,Stephen F. Meier. Владелец: D2S, INC.. Дата публикации: 2012-04-19.

Method and system for forming patterns using charged particle beam lithography with multiple exposure passes

Номер патента: US20130284947A1. Автор: Akira Fujimura. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2013-10-31.

Charged-particle beam irradiation device

Номер патента: US20140058186A1. Автор: Kenzo SASAI. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2014-02-27.

Charged particle beam irradiation apparatus

Номер патента: US09566453B2. Автор: Masanori Tachibana. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2017-02-14.

Particle beam irradiation system and particle beam irradiation facility

Номер патента: US12121754B2. Автор: Kenichi Takizawa,Hideaki Nishiuchi,Tadashi Katayose. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-10-22.

Rotating gantry and particle beam therapy system

Номер патента: US09504854B2. Автор: Tadashi Katayose. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2016-11-29.

Particle beam rotational irradiation apparatus

Номер патента: US8664620B2. Автор: Kazuo Yamamoto,Takahisa Nagayama,Nobuyuki HARUNA. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2014-03-04.

Method and system of overlay measurement using charged-particle inspection apparatus

Номер патента: WO2024012965A1. Автор: Antoine Gaston Marie Kiers,Benoit Herve GAURY,Thomas Jarik Huisman. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-01-18.

Method and system of overlay measurement using charged-particle inspection apparatus

Номер патента: WO2023213503A1. Автор: Antoine Gaston Marie Kiers. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2023-11-09.

Method and System for Forming High Accuracy Patterns Using Charged Particle Beam Lithography

Номер патента: US20140223393A1. Автор: Akira Fujimura,Kazuyuki Hagiwara,Ingo Bork,Stephen F. Meier. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2014-08-07.

Method of evaluating a sample using charged particle microscopy

Номер патента: EP4382897A1. Автор: Sebastian Unger,Harold Phelippeau,Laure KAIRAWICZ,Steven MILIAN,Daniel Nemecek,Thijs M. J. Bressers. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-06-12.

System for irradiating charged particles and method for irradiating charged particles

Номер патента: US09750957B2. Автор: Kikuo Umegaki,Toru Umekawa,Naoki Miyamoto,Yusuke Fujii,Hiroki Shirato,Taeko Matsuura,Masumi Umezawa. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2017-09-05.

Method and apparatus for determining the spatial profile of a flux generated by a charged particle beam

Номер патента: WO2016020769A2. Автор: Leonello SERVOLI,Paola TUCCERI. Владелец: ISTITUTO NAZIONALE DI FISICA NUCLEARE. Дата публикации: 2016-02-11.

Method and apparatus for determining the spatial profile of a flux generated by a charged particle beam

Номер патента: WO2016020769A3. Автор: Leonello SERVOLI,Paola TUCCERI. Владелец: ISTITUTO NAZIONALE DI FISICA NUCLEARE. Дата публикации: 2016-04-07.

Particle beam treatment apparatus

Номер патента: US09610462B2. Автор: Hiroshi Ishiyama,Kentaro Matsui,Yuuji Takiguchi,Teppei Ukegawa. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-04-04.

Charged-particle beam therapy apparatus and method for controlling charged-particle beam therapy apparatus

Номер патента: US20150265855A1. Автор: Masanori Tachibana,Toru Asaba,Toshiki Tachikawa. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2015-09-24.

Substrate inspection device and component mounting device

Номер патента: US09511455B2. Автор: Tsuyoshi Ohyama,Norihiko Sakaida,Manabu Okuda. Владелец: CKD Corp. Дата публикации: 2016-12-06.

Insulating substrate inspecting method and inspecting apparatus

Номер патента: US20190361067A1. Автор: Tetsuya Ueda,Hiroki Shiota,Kazuki SAMESHIMA. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2019-11-28.

Insulating substrate inspecting method and inspecting apparatus

Номер патента: US10996257B2. Автор: Tetsuya Ueda,Hiroki Shiota,Kazuki SAMESHIMA. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2021-05-04.

System to inspect, modify or analyze a region of interest of a sample by charged particles, set of systems to inspect, modify or analyze a region of interest of a sample and method to inspect, modify or analyze a region of interest of a sample by charged particles

Номер патента: US12044638B2. Автор: John A. Notte,Mark D. DiManna,Terry Griffin,Jeff Sauer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-07-23.

Beam monitor system and particle beam irradiation system

Номер патента: US9044605B2. Автор: Masahiro Tadokoro,Kunio Moriyama,Yoshihito Hori,Tomohisa Iwamoto. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2015-06-02.

Energy exchange between a laser beam and charged particles using inverse transition radiation and method for its use

Номер патента: US5737354A. Автор: Wayne D. Kimura,Richard D. Romea,Loren C. Steinhauer. Владелец: STI Optronics Inc. Дата публикации: 1998-04-07.

Charged particle beam irradiation apparatus

Номер патента: US20210299480A1. Автор: Kenzo SASAI. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2021-09-30.

Particle beam irradiation apparatus and particle beam therapy system

Номер патента: US20130253252A1. Автор: Takaaki Iwata. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2013-09-26.

Vibration isolated table for a charged particle beam apparatus provided with a shock protection element and shock protection element

Номер патента: US20050121592A1. Автор: Johannes Van Der Ven,Albertus Dirks. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-06-09.

Charged-particle-beam analysis device and analysis method

Номер патента: US09752997B2. Автор: Masanari Koguchi,Yoshihiro Anan. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2017-09-05.

Energy degrader and charged particle beam irradiation system equipped therewith

Номер патента: US09390826B2. Автор: Takamasa Ueda,Takuya Miyashita. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2016-07-12.

Charged particle beam irradiation apparatus

Номер патента: US20100288946A1. Автор: Hisashi Harada,Yuehu Pu,Taizo Honda. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2010-11-18.

Charged-particle distribution measuring apparatus

Номер патента: US4992742A. Автор: Shigeo Sasaki,Kazuo Yoshida,Yoshio Yamane,Soichiro Okuda,Fumiharu Yabunaka. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1991-02-12.

Charged-particle beam irradiation device, charged-particle beam irradiation method, and computer readable medium

Номер патента: US20120049091A1. Автор: Masanori Tachibana. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2012-03-01.

Charged particle beam irradiating apparatus

Номер патента: US20100072389A1. Автор: Toshiaki Ochi,Toru Asaba,Toshiki Tachikawa. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2010-03-25.

Inspection method of contact failure of semiconductor device and semiconductor device to which inspection method is applied

Номер патента: US20070069757A1. Автор: Yasuo Matsumiya. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2007-03-29.

Detector based on scintillating optical fibers for charged particles tracking with application in the realization of a residual range detector employing a read-out channels reduction and compression method

Номер патента: EP2859382A2. Автор: Domenico LO PRESTI. Владелец: Instituto Nazionale di Fisica Nucleare INFN. Дата публикации: 2015-04-15.

Detector based on scintillating optical fibers for charged particles tracking with application in the realization of a residual range detector employing a read-out channels reduction and compression method

Номер патента: WO2013186798A3. Автор: Domenico LO PRESTI. Владелец: Infn Istituto Nationale Di Fisica Nucleare. Дата публикации: 2014-05-08.

Apparatus and method for cleaning an inspection system

Номер патента: US20240353315A1. Автор: Andrey Nikipelov,Maarten Van Kampen,Saeedeh Farokhipoor. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-10-24.

Electric vehicle charging system and method using charging module

Номер патента: EP4442493A1. Автор: Hun Lee,Dong Hyuk Shin,Ki Jae Kim. Владелец: Evar Inc. Дата публикации: 2024-10-09.

Apparatus and method for cleaning an inspection system

Номер патента: US12055478B2. Автор: Andrey Nikipelov,Maarten Van Kampen,Saeedeh Farokhipoor. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-08-06.

Charged particle beam irradiation system

Номер патента: EP4052758A1. Автор: Takashi Yamaguchi,Masayuki Araya,Shouhei MIZUTANI,Yuya SUGAMA. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2022-09-07.

Extreme ultraviolet (euv) substrate inspection system with simplified optics and method of manufacturing thereof

Номер патента: WO2015095621A1. Автор: Christopher Dennis Bencher,Christopher G. Talbot,Majeed A. Foad,John Christopher Moran. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2015-06-25.

Extreme ultraviolet (EUV) substrate inspection system with simplified optics and method of manufacturing thereof

Номер патента: US09915621B2. Автор: Christopher Dennis Bencher,Christopher G. Talbot,Majeed A. Foad,John Christopher Moran. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-03-13.

IC analysis system having charged particle beam apparatus for improved contrast image

Номер патента: US5640539A. Автор: Akira Goishi,Masayuki Kurihara,Koshi Ueda. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 1997-06-17.

Particle beam irradiation system and particle beam therapy system

Номер патента: US20110147604A1. Автор: Takaaki Iwata. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2011-06-23.

Particle beam therapy system

Номер патента: US20120211667A1. Автор: Hisashi Harada,Takaaki Iwata,Kengo Sugahara. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2012-08-23.

Hatching egg inspection apparatus and hatching egg inspecting method using a central and outer light emitter

Номер патента: US09435783B2. Автор: Kenji Yasuda,Kunio Nambu,Toyoaki Ohashi,Hiroshige IGUCHI. Владелец: Nabel Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-06.

Dual rotation charged particle imaging / treatment apparatus and method of use thereof

Номер патента: US10143854B2. Автор: W. Davis Lee,Susan L. Michaud,Daniel J. Raymond. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-12-04.

Charged particle beam irradiation apparatus

Номер патента: US8941086B2. Автор: Satoru YAJIMA. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2015-01-27.

Gantry system for particle beam therapy

Номер патента: US10201719B2. Автор: Juergen SCHULTHEISS. Владелец: Varian Medical Systems Particle Therapy GmbH and Co KG. Дата публикации: 2019-02-12.

Treatment planning device, treatment planning method, control device, and particle beam treatment system

Номер патента: US20170216622A1. Автор: Shinichiro Fujitaka,Masumi Umezawa,Shusuke HIRAYAMA. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2017-08-03.

Processing apparatus, substrate inspection apparatus, processing method, and substrate inspection method

Номер патента: JP6498564B2. Автор: 豪 小河原. Владелец: Hioki EE Corp. Дата публикации: 2019-04-10.

Active matrix substrate inspection apparatus and active matrix substrate inspection method

Номер патента: JP2613980B2. Автор: 文明 船田,昌也 岡本,正治 ▲吉▼井. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 1997-05-28.

Substrate inspection apparatus with illumination device for substrate inspection camera

Номер патента: JP4724756B2. Автор: 秀一 清水. Владелец: Hioki EE Corp. Дата публикации: 2011-07-13.

Substrate inspection device and transmission illumination device for substrate inspection device

Номер патента: JP5966704B2. Автор: 正道 永井,義夫 綱澤,豊之 橋本,雅人 平出. Владелец: Shimadzu Corp. Дата публикации: 2016-08-10.

Substrate inspecting device and transmission illumination device for substrate inspecting device

Номер патента: CN103543158A. Автор: 平出雅人,桥本丰之,永井正道,纲泽义夫. Владелец: Shimadzu Corp. Дата публикации: 2014-01-29.

Liquid crystal display panel inspection apparatus and liquid crystal display panel inspection method

Номер патента: JP3533946B2. Автор: 信一 岩田,広明 宮下. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2004-06-07.

Glass substrate surface state inspection apparatus and glass substrate surface state inspection method

Номер патента: JP2014160026A. Автор: Kimitaka Tanaka,公貴 田中. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2014-09-04.

IMAGE DEFECT INSPECTION APPARATUS, IMAGE DEFECT INSPECTION SYSTEM, IMAGE DEFECT INSPECTION METHOD AND NON-TRANSITORY COMPUTER READABLE RECORDING MEDIUM

Номер патента: US20120013935A1. Автор: ADACHI Koji. Владелец: FUJI XEROX CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-19.

SERVER APPARATUS AND TELEPHONE SYSTEM AND FIRMWARE UPDATE CONTROL METHOD USED IN SERVER APPARATUS

Номер патента: US20120311556A1. Автор: Matsukawa Fumikazu. Владелец: . Дата публикации: 2012-12-06.

Group III nitride compound semiconductor manufacturing apparatus and group III nitride compound semiconductor manufacturing method using the same

Номер патента: JP3758528B2. Автор: 正好 小池,大志 渡辺. Владелец: Toyoda Gosei Co Ltd. Дата публикации: 2006-03-22.

CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING APPARATUS AND CONTROL METHOD THEREOF

Номер патента: US20120001097A1. Автор: . Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

Charged particle beam apparatus and sample processing method

Номер патента: US20120001086A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

System For Monitoring Foreign Particles, Process Processing Apparatus And Method Of Electronic Commerce

Номер патента: US20120002196A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION

Номер патента: US20120003583A1. Автор: TSUBAKI Hideaki,Tsuchimura Tomotaka,TAKAHASHI Toshiya. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20120003590A1. Автор: . Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

Charged particle accelerating device

Номер патента: RU2236094C1. Автор: А.С. Богомолов. Владелец: Богомолов Алексей Сергеевич. Дата публикации: 2004-09-10.

Scanning system for charged and neutral particle beams

Номер патента: CA1150422A. Автор: Anders Brahme. Владелец: INSTRUMENT SCANDITRONIX AB. Дата публикации: 1983-07-19.

Cyclic charged particle accelerator

Номер патента: RU2477936C2. Автор: Геннадий Варламович Долбилов. Владелец: Объединенный Институт Ядерных Исследований. Дата публикации: 2013-03-20.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.