反应腔体以及干法刻蚀机台
Номер патента: CN106158708B
Опубликовано: 18-02-2020
Автор(ы): 程志浩
Принадлежит: Kunshan Govisionox Optoelectronics Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 18-02-2020
Автор(ы): 程志浩
Принадлежит: Kunshan Govisionox Optoelectronics Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Local dry etching apparatus
Номер патента: US20200135429A1. Автор: Yasushi Obara. Владелец: SpeedFam Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-30.