• Главная
  • 光敏性树脂组合物,光敏性元件,防蚀图形及其制法和叠层基板

光敏性树脂组合物,光敏性元件,防蚀图形及其制法和叠层基板

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Photosensitive element, and method for forming resist pattern

Номер патента: US20240012326A1. Автор: Shota Yanagi. Владелец: Asahi Kasei Corp. Дата публикации: 2024-01-11.

Photosensitive resin composition and photosensitive element using the resin composition

Номер патента: AU707535B1. Автор: Shigeru Murakami,Eiji Kosaka. Владелец: Nichigo Morton Co Ltd. Дата публикации: 1999-07-15.

Photosensitive resin laminate and method for producing resist pattern

Номер патента: MY197618A. Автор: Kosuke Inoue,Yuzo Kotani,Shinichi Kunimatsu. Владелец: Asahi Chemical Ind. Дата публикации: 2023-06-28.

Photosensitive resin multilayer body and method for producing same

Номер патента: US20240059803A1. Автор: Takayuki Matsuda,Kazuya Naito,Naohiro Murata. Владелец: Asahi Kasei Corp. Дата публикации: 2024-02-22.

Method for suppressing collapse of three-dimensional structure

Номер патента: EP4309006A1. Автор: Kazumasa Wakiya,Fusayo SAEKI. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-24.

Positive photosensitive resin composition and method for forming cured film using the same

Номер патента: US8329380B2. Автор: Satoshi Takita. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2012-12-11.

Methods for producing an etch resist pattern on a metallic surface

Номер патента: US11807947B2. Автор: Moshe Frenkel,Nava SHPAISMAN. Владелец: Kateeva Inc. Дата публикации: 2023-11-07.

Methods for producing an etch resist pattern on a metallic surface

Номер патента: US20240035167A1. Автор: Moshe Frenkel,Nava SHPAISMAN. Владелец: Kateeva Inc. Дата публикации: 2024-02-01.

Method for manufacturing printed wiring board

Номер патента: US12004304B2. Автор: Yoshinori Shimizu,Makoto Hosokawa,Hiroto Iida,Akitoshi Takanashi,Misato Mizoguchi. Владелец: Mitsui Mining and Smelting Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-04.

METHODS FOR PRODUCING AN ETCH RESIST PATTERN ON A METALLIC SURFACE

Номер патента: US20200396842A1. Автор: Frenkel Moshe,Shpaisman Nava. Владелец: KATEEVA, INC.. Дата публикации: 2020-12-17.

Methods for producing an etch resist pattern on a metallic surface

Номер патента: WO2017025949A1. Автор: Moshe Frenkel,Nava SHPAISMAN. Владелец: Jet Cu Pcb Ltd.. Дата публикации: 2017-02-16.

Methods for producing an etch resist pattern on a metallic surface

Номер патента: EP3304197A2. Автор: Moshe Frenkel,Nava SHPAISMAN. Владелец: Jet Cu Pcb Ltd. Дата публикации: 2018-04-11.

Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition

Номер патента: US20160291469A1. Автор: Shota Katayama,Aya Momozawa. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-06.

Photocurable resin composition and use thereof

Номер патента: US20200347177A1. Автор: Takashi GONDAIRA,Makoto Tai. Владелец: Arisawa Mfg Co Ltd. Дата публикации: 2020-11-05.

Process for producing semiconductor device

Номер патента: MY149401A. Автор: Banba Toshio. Владелец: Sumitomo Bakelite Co. Дата публикации: 2013-08-30.

Photosensitive resin composition and dry film photoresist containing the same

Номер патента: US10545403B2. Автор: Kuen-Yuan Hwang,An-Pang Tu,Gai-Chi Chen,Yun-Chung Wu. Владелец: Chang Chun Plastics Co Ltd. Дата публикации: 2020-01-28.

Photosensitive resin composition

Номер патента: US20200209745A1. Автор: Masahisa Endo,Naoya Nishimura,Takahiro Kishioka,Takuya Ohashi. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2020-07-02.

Resin composition, prepreg, metal foil with resin, laminate, printed wiring board, and method for producing resin composition

Номер патента: IL262895B2. Автор: . Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2023-11-01.

Resin composition, prepreg, metal foil with resin, laminate, printed wiring board, and method for producing resin composition

Номер патента: IL262895B1. Автор: . Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2023-07-01.

Method for manufacturing resist composition and resist pattern

Номер патента: JP6969889B2. Автор: 達郎 増山,幸司 市川. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-24.

Radiation-sensitive resin composition, spacer and protective film for liquid crystal display element, and method for forming them

Номер патента: JP4952918B2. Автор: 仁 浜口. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-06-13.

Sidewall spacer patterning method using gas cluster ion beam

Номер патента: US20160222521A1. Автор: Noel Russell,Soo Doo Chae,Youngdon Chang,Il-seok Song. Владелец: TEL Epion Inc. Дата публикации: 2016-08-04.

METHODS FOR PRODUCING AN ETCH RESIST PATTERN ON A METALLIC SURFACE

Номер патента: US20210007225A1. Автор: Frenkel Moshe,Shpaisman Nava. Владелец: KATEEVA, INC.. Дата публикации: 2021-01-07.

METHODS FOR PRODUCING AN ETCH RESIST PATTERN ON A METALLIC SURFACE

Номер патента: US20220136113A1. Автор: Frenkel Moshe,Shpaisman Nava. Владелец: KATEEVA, INC.. Дата публикации: 2022-05-05.

COATING SOLUTION FOR RESIST PATTERN COATING AND METHOD FOR FORMING PATTERN

Номер патента: US20180107111A1. Автор: Sakamoto Rikimaru,NISHITA Tokio. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2018-04-19.

Polymer resin compound, method for producing same, and photosensitive resin composition comprising same

Номер патента: US20230235169A1. Автор: Sung Ho Chun,Minyoung Lim,Misun YOON. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2023-07-27.

Photosensitive resin composition for forming cell culture substrate

Номер патента: US20170137767A1. Автор: Takahiro Senzaki. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-18.

Polymer and photosensitive resin composition comprising the same

Номер патента: US20130030077A1. Автор: Han Soo Kim,Yoon Hee Heo,Ho Chan Ji,Changho CHO,Sunhwa KIM,Dongchang CHOI,Won Jin CHUNG. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2013-01-31.

Black photosensitive resin composition and light-blocking layer using the same

Номер патента: US9085696B2. Автор: Chih-Yi Chang,Fan-Sen LIN,Hui-Huan HSU,Bo-Nan LIN. Владелец: Everlight USA Inc. Дата публикации: 2015-07-21.

Photosensitive resin composition for microlens

Номер патента: US20120156598A1. Автор: Takahiro Sakaguchi,Takahiro Kishioka. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2012-06-21.

Photosensitive resin compositions and photosensitive element using the same

Номер патента: US5744282A. Автор: Tatsuo Chiba,Tatsuya Ichikawa. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1998-04-28.

Negative photosensitive resin composition

Номер патента: US20230305397A1. Автор: Takashi Tsutsumi. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2023-09-28.

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME

Номер патента: FR2501388A1. Автор: Nobuyuki Hayashi,Toshiaki Ishimaru,Katsushige Tsukada. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1982-09-10.

Photosensitive resin composition and method for producing cured relief pattern

Номер патента: US20230221639A1. Автор: Tomohiro Yorisue,Mitsutaka Nakamura,Taihei Inoue. Владелец: Asahi Kasei Corp. Дата публикации: 2023-07-13.

Photosensitive polyimide resin composition and method of manufacturing cover film using the same

Номер патента: US10584209B2. Автор: Tang-Chieh Huang,Kunhan Hsieh. Владелец: Microcosm Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-03-10.

Photosensitive polyimide resin composition and method of manufacturing cover film using the same

Номер патента: US10407549B2. Автор: Tang-Chieh Huang,Kunhan Hsieh. Владелец: Microcosm Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-09-10.

Photosensitive resin composition, photosensitive resin film using same, color filter and display device

Номер патента: US20230375918A1. Автор: Sangho Lee,Sohyun KIM,Juho Jung. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Resist pattern-forming method and substrate-treating method

Номер патента: US20200218161A1. Автор: Ryuichi Serizawa,Tomoaki Seko,Nozomi SATOU,Yuusuke OOTSUBO,Tomoya TAJI,Souta NISHIMURA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-07-09.

Photosensitive resin composition for color filter and application thereof

Номер патента: US09897729B2. Автор: Bar-Yuan Hsieh,Jung-Pin Hsu. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2018-02-20.

Photosensitive resin composition, laminate, and pattern forming process

Номер патента: US12055853B2. Автор: Michihiro Sugo,Kumiko Hayashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Novel photosensitive resin compositions

Номер патента: WO2000019276A1. Автор: Ahmad Naiini,William D. Weber,Pamela J. Waterson,Steve Lien-Chung Hsu. Владелец: Arch Specialty Chemicals, Inc.. Дата публикации: 2000-04-06.

Photosensitive resin composition and color filter using the same

Номер патента: US09994728B2. Автор: Ju-Ho JUNG,Eui-June JEONG,Kyung-Hee HYUNG,Taek-Jin Baek. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

Photosensitive resin composition, protective film, and liquid crystal display element

Номер патента: US20170168390A1. Автор: Ming-Ju Wu,Chun-An Shih,Chih-Hang Hsu. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2017-06-15.

Photosensitive resin composition and cured article of same, and optical component

Номер патента: US09932439B2. Автор: Takashi Kubo,Tamaki Son. Владелец: Daicel Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Resin composition for strap of wearable electronic device, and method for manufacturing same

Номер патента: US20230348715A1. Автор: Jihyoung CHOI,Duckshin CHOI. Владелец: Innohana Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

Hydrophilic substrate and method for preparing hydrophilic substrate

Номер патента: US20210372895A1. Автор: Yasuhisa Minagawa. Владелец: Sumitomo Rubber Industries Ltd. Дата публикации: 2021-12-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing system having the same

Номер патента: US20230416923A1. Автор: Seung Ho Lee,Kee Jun KIM. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Method for producing soldered electrode and use thereof

Номер патента: US20180174989A1. Автор: Kouichi Hasegawa,Seiichirou Takahashi,Shirou Kusumoto,Jun Mukawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2018-06-21.

Photosensitive resin composition, process for forming relief pattern, and electronic component

Номер патента: US6960420B2. Автор: Hiroshi Komatsu. Владелец: Hitachi Chemical DuPont Microsystems LLC. Дата публикации: 2005-11-01.

Photosensitive resin composition and use thereof

Номер патента: US09835942B2. Автор: Yoshihide Sekito,Masayoshi Kido,Tomohiro Koda,Tetsuya Kogiso. Владелец: Kaneka Corp. Дата публикации: 2017-12-05.

Resist pattern, process for producing same, and utilization thereof

Номер патента: US20040063025A1. Автор: Takahiro Hidaka,Michiko Natori. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2004-04-01.

Photosensitive dry film and process for producing printed wiring board using the same

Номер патента: US09891523B2. Автор: Shoji Minegishi,Nobuhito Ito,Daichi Okamoto. Владелец: Taiyo Ink Mfg Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-13.

Method for producing wiring circuit board

Номер патента: US20230284394A1. Автор: Ryosuke Sasaoka,Naoki Shibata. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2023-09-07.

Photosensitive resin composition and method of forming conductive pattern

Номер патента: CA2040482C. Автор: Toshio Suzuki,Toshinori Marutsuka. Владелец: Nisshinbo Industries Inc. Дата публикации: 1998-11-10.

METHODS FOR PRODUCING AN ETCH RESIST PATTERN ON A METALLIC SURFACE

Номер патента: US20180146556A1. Автор: Frenkel Moshe,Shpaisman Nava. Владелец: Jet Cu Pcb Ltd.. Дата публикации: 2018-05-24.

METHODS FOR PRODUCING AN ETCH RESIST PATTERN ON A METALLIC SURFACE

Номер патента: US20180242457A1. Автор: Frenkel Moshe,Shpaisman Nava. Владелец: . Дата публикации: 2018-08-23.

Method for producing metal filters

Номер патента: EP2767618A1. Автор: Takahiro Suzuki,Kyosuke Suzuki,Yoshihito Kikuhara,Hisashige Kanbara. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2014-08-20.

HEATING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS HAVING THE SAME

Номер патента: US20170218507A1. Автор: Lee Sung-Han,LEE Seung-ho,KIM Byeong-Hoon,Kong Byung-Hwan,Cho Sun,Kang Seung-Hwan,Ko Han-Seo. Владелец: . Дата публикации: 2017-08-03.

Valve Module and Substrate Processing apparatus having the same

Номер патента: KR102229688B1. Автор: 이재민,김상민. Владелец: 프리시스 주식회사. Дата публикации: 2021-03-18.

Resin composition for insulating film

Номер патента: US20200347226A1. Автор: Yosuke Iinuma,Kazuhiro Sawada,Yuki Usui,Takuya Ohashi,Hayato Hattori. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2020-11-05.

Substrate processing method, program, computer-readable storage medium, and substrate processing system

Номер патента: US09690185B2. Автор: Hidetami Yaegashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Substrate processing method, substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US20240288775A1. Автор: Soichiro Okada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

A method for forming an interconnect structure

Номер патента: EP4312252A1. Автор: Zheng Tao,Waikin Li. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2024-01-31.

Method for Forming an Interconnect Structure

Номер патента: US20240036470A1. Автор: Zheng Tao,Waikin Li. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2024-02-01.

Resist pattern improving material, method for forming resist pattern, and method for producing semiconductor device

Номер патента: TW201226378A. Автор: Koji Nozaki,Miwa Kozawa. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2012-07-01.

Resist pattern-forming method and substrate-treating method

Номер патента: US20200218161A1. Автор: Ryuichi Serizawa,Tomoaki Seko,Nozomi SATOU,Yuusuke OOTSUBO,Tomoya TAJI,Souta NISHIMURA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-07-09.

Method for producing a fined resist pattern

Номер патента: TW200813617A. Автор: Masakazu Kobayashi,Go Noya,Ryuta Shimazaki. Владелец: Az Electronic Materials Japan. Дата публикации: 2008-03-16.

Substrate processing device and substrate processing system having the same

Номер патента: CN103177924A. Автор: 魏奎镕. Владелец: YUANYI IPS CORP. Дата публикации: 2013-06-26.

Spray Device of chemical liquid and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: KR101097932B1. Автор: 김경수. Владелец: 세메스 주식회사. Дата публикации: 2011-12-23.

Gas providing member and substrate processing device having the same

Номер патента: KR100766846B1. Автор: 야스미츠 도미타,유타카 우노. Владелец: 니뽄 가이시 가부시키가이샤. Дата публикации: 2007-10-18.

Valve assembly and substrates treating apparatus having the same

Номер патента: KR101461052B1. Автор: 신인규. Владелец: 피에스케이 주식회사. Дата публикации: 2014-11-13.

Resist pattern-forming method, method for manufacturing semiconductor chip

Номер патента: TW202043918A. Автор: 上村哲也,河田幸寿,吉留正洋. Владелец: 日商富士軟片股份有限公司. Дата публикации: 2020-12-01.

Resist pattern model evaluation method for semiconductor component mfr.

Номер патента: DE19542818A1. Автор: Keisuke Tsudaka. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1996-05-23.

method for real-time correction of digital lithographic pattern and apparatus thereof

Номер патента: KR101137446B1. Автор: 최재만,허준규. Владелец: 주식회사 이오테크닉스. Дата публикации: 2012-04-20.

Method for performing lithography process with post treatment

Номер патента: US20200319560A1. Автор: Ching-Yu Chang,Chin-Hsiang Lin,Ming-Hui Weng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-10-08.

Method for performing lithography process with post treatment

Номер патента: US20190064673A1. Автор: Ching-Yu Chang,Chin-Hsiang Lin,Ming-Hui Weng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2019-02-28.

Method for performing lithography process with post treatment

Номер патента: US11281107B2. Автор: Ching-Yu Chang,Chin-Hsiang Lin,Ming-Hui Weng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-03-22.

Positive photosensitive resin composition and cured film forming method using the same

Номер патента: US09964848B2. Автор: Satoshi Takita. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-05-08.

White photosensitive resin composition, white spacer, light conversion layer, and light-emitting device

Номер патента: US20210388158A1. Автор: Yu-Chun Chen,Meng-Po Liu. Владелец: Echem Solutions Corp. Дата публикации: 2021-12-16.

Production method for heat-resistant resin composition

Номер патента: EP4223796A1. Автор: Kohei Nishino,Tatsuhiro MATSUBARA. Владелец: Denka Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-09.

Adhesion promoter and photosensitive resin composition containing same

Номер патента: EP3995894A1. Автор: Bin Liu,Ke Bai,Zhifang Li,Diyuan TANG,Chuanming Sun. Владелец: Shandong Shengquan New Material Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-11.

Cured resin film, semiconductor device and method for producing semiconductor device

Номер патента: US20240352275A1. Автор: Masaya TOBA,Yu Aoki,Yuki IMAZU,Yoshimi HAMANO. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-10-24.

Photosensitive resin composition and uses thereof

Номер патента: US20140293400A1. Автор: Ching-Yuan TSENG. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2014-10-02.

Photosensitive resin composition and uses thereof

Номер патента: US9298091B2. Автор: Ching-Yuan TSENG. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2016-03-29.

Polyacetal Resin Composition and Method for Manufacturing Same

Номер патента: US20240182689A1. Автор: Sara Kusumoto. Владелец: Asahi Kasei Corp. Дата публикации: 2024-06-06.

Mineral base oil, molded article, and method for producing mineral base oil

Номер патента: US20210130724A1. Автор: Kenji Goto,Yuta Yamamoto,Hitoshi ROKKAKU. Владелец: Idemitsu Kosan Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-06.

Polyacetal resin composition and method for manufacturing same

Номер патента: EP4321577A1. Автор: Sara Kusumoto. Владелец: Asahi Chemical Industry Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-14.

Positive photosensitive resin composition and uses thereof

Номер патента: US20130164461A1. Автор: kai-min Chen,Chun-An Shih. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2013-06-27.

Methods for producing sheet molding compound and for producing molded product

Номер патента: US11926073B2. Автор: Kazutoshi Hitomi,Yasuyuki Muranaka. Владелец: DIC Corp. Дата публикации: 2024-03-12.

Method for producing a substrate for a solar cell and substrate for a solar cell

Номер патента: DE112015005529T5. Автор: Hiroyuki Otsuka,Shozo Shirai. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-14.

Method for producing quantum dot dispersion and quantum dot dispersion

Номер патента: US20220073815A1. Автор: Takehiro Seshimo,Kunihiro Noda,Yueh Chun Liao. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-10.

A process for producing a security film and a security film

Номер патента: EP3160716A1. Автор: Simon Read,Thierry Gavel. Владелец: Innovia Films Ltd. Дата публикации: 2017-05-03.

Method for producing layered product

Номер патента: US20240149337A1. Автор: Tomohiro Fukuura. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Production method for laminate

Номер патента: EP4379357A1. Автор: Tomohiro Fukuura. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-05.

Devices and methods for microbiome sampling

Номер патента: US20240130717A1. Автор: Larry Weiss,Lauren Nicole AMBROGIO. Владелец: AOBIOME LLC. Дата публикации: 2024-04-25.

Polyorgano (hydro) silazane and process for producing same

Номер патента: CA1247285A. Автор: Osamu Funayama,Takeshi Isoda,Mikiro Arai. Владелец: Individual. Дата публикации: 1988-12-20.

Substrate supporting apparatus and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: KR101420709B1. Автор: 이준혁,이규상,한영기,서영수. Владелец: 참엔지니어링(주). Дата публикации: 2014-07-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing system having the same

Номер патента: KR20220132171A. Автор: 홍영준,박병진. Владелец: 주식회사 원익아이피에스. Дата публикации: 2022-09-30.

A process for producing a security film and a security film

Номер патента: WO2016001808A1. Автор: Simon Read,Thierry Gavel. Владелец: INNOVIA FILMS LIMITED. Дата публикации: 2016-01-07.

Methods for silicide deposition

Номер патента: US20200013625A1. Автор: Patricia M. Liu,Xuebin Li. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-01-09.

Methods for silicide deposition

Номер патента: WO2020009753A1. Автор: Patricia M. Liu,Xuebin Li. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-01-09.

METHOD FOR MANUFACTURING A SUBSTRATE FOR SURFACE-ENHANCED RAMAN SPECTOGRAPHY AND SUBSTRATE

Номер патента: US20160195476A1. Автор: Landis Stefan,REBOUD Vincent. Владелец: . Дата публикации: 2016-07-07.

Apparatus and method for gas supplying and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: KR101839409B1. Автор: 곽재찬. Владелец: 주성엔지니어링(주). Дата публикации: 2018-03-16.

Alignment system, buffer module having the same, and substrate processing system having the same

Номер патента: KR20230095598A. Автор: 권순영. Владелец: 주식회사 원익아이피에스. Дата публикации: 2023-06-29.

SHOWERHEAD AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS HAVING THE SAME

Номер патента: US20220098737A1. Автор: KIM Jae Hong,Kim Ki Bum,Lee Ju Young,WOO Ram,LEE Gil Je,HA Yun Gyu. Владелец: . Дата публикации: 2022-03-31.

LINER ASSEMBLY AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS HAVING THE SAME

Номер патента: US20160168706A1. Автор: SEO Young-Soo,HAN Young-Ki,LEE Jun-Hyeok,SHIN Woo-Sik,MYOUNG Noh-Sun. Владелец: . Дата публикации: 2016-06-16.

Powder feeding apparatus and substrate depositing apparatus having the same

Номер патента: KR101200358B1. Автор: 이규환,한근조,이창재,이형섭,권영호,전창엽. Владелец: (주)에이디에스. Дата публикации: 2012-11-12.

Evaporation source and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: KR102164986B1. Автор: 김정훈,김영민,김민수,전홍구. Владелец: 주식회사 원익아이피에스. Дата публикации: 2020-10-13.

Source supplying apparatus and substrate treating apparatus having the same

Номер патента: KR101771228B1. Автор: 이상돈,이주일. Владелец: 주성엔지니어링(주). Дата публикации: 2017-08-25.

Heating device and Substrate Processing Apparatus having the same

Номер патента: KR101094279B1. Автор: 홍종원,정민재,강유진,나흥열,장석락. Владелец: 삼성모바일디스플레이주식회사. Дата публикации: 2011-12-19.

Sealing member and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: KR20150073527A. Автор: 고용선,이근택,홍진석,정지훈,조용진,이일상,전용명. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2015-07-01.

Showerhead and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: KR20180065405A. Автор: 김일경,유승관,손진웅. Владелец: 주식회사 원익아이피에스. Дата публикации: 2018-06-18.

Method for forming thin film of refractory material

Номер патента: US4746549A. Автор: Hitoshi Ito,Takahiko Moriya. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1988-05-24.

Method for making topological insulator structure

Номер патента: US20140174343A1. Автор: XIAO Feng,Xi Chen,Ke He,Qi-Kun Xue,Xu-Cun Ma,Li-Li Wang,Cui-Zu Chang,Yao-Yi Li,Jin-Feng Jia. Владелец: Institute of Physics of CAS. Дата публикации: 2014-06-26.

Method For Forming Of Carbon Nano Tube Array Pattern And Cabon Nano Tube Array Pattern Thereof

Номер патента: KR100715840B1. Автор: 김완두,김근형. Владелец: 한국기계연구원. Дата публикации: 2007-05-10.

Method For Forming Of Carbon Nano Tube Array Pattern And Cabon Nano Tube Array Pattern Thereof

Номер патента: KR20070032141A. Автор: 김완두,김근형. Владелец: 한국기계연구원. Дата публикации: 2007-03-21.

Positive photosensitive resin composition and method for forming patterns by using the same

Номер патента: US20140065526A1. Автор: kai-min Chen,Chun-An Shih. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2014-03-06.

Positive-type photosensitive resin composition, and insulating film and OLED formed using the same

Номер патента: US09921476B2. Автор: Se Hyung Park,Byoung Kee Kim. Владелец: KOLON INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2018-03-20.

Photosensitive resin composition and process for producing semiconductor element

Номер патента: EP2799928A1. Автор: Mitsuhito Suwa,Takenori Fujiwara,Yugo Tanigaki. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2014-11-05.

Transfer robot and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: US11769681B2. Автор: Kyung Hee JEON,Dong Sun KO,Hun Hee NA. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-26.

Method for two- and three-dimensional microassembly of patterns and structures

Номер патента: EP1681921A2. Автор: Hallgeir Rui,Matthew LeBaron. Владелец: GEORGETOWN UNIVERSITY. Дата публикации: 2006-07-26.

Method for producing an electrical via in a substrate and substrate with an electrical via

Номер патента: DE102011085084B4. Автор: Jochen Reinmuth,Yvonne Bergmann. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2022-01-13.

Substrate transferring apparatus and substrate inspecting system having the same

Номер патента: KR20130078733A. Автор: 이연호. Владелец: 엘아이지에이디피 주식회사. Дата публикации: 2013-07-10.

Substrate standby device and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: JP4133489B2. Автор: 直之 長田,尚久 岡田,茂樹 南. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2008-08-13.

Substrate Transferring Apparatus and Substrate Inspecting System Having the Same

Номер патента: KR101384092B1. Автор: 이연호. Владелец: 엘아이지에이디피 주식회사. Дата публикации: 2014-04-14.

Semiconductor device and method for fabricating the same

Номер патента: US11744160B2. Автор: Ching-Wen Hung,Yu-Ping Wang. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2023-08-29.

Tape applying apparatus and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: KR100934363B1. Автор: 배진수. Владелец: (주)티엔스. Дата публикации: 2009-12-30.

Ink separating device and substrate processing system having the same

Номер патента: CN114590034A. Автор: 姜汉林,郑娜玧. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-07.

Semiconductor device and method for fabricating the same

Номер патента: US20230354716A1. Автор: Ching-Wen Hung,Yu-Ping Wang. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2023-11-02.

Method for authenticating a substrate using a speckle pattern and apparatus for performing the method

Номер патента: CN110770738A. Автор: J·布尔维斯特. Владелец: Croop Digital Co Ltd. Дата публикации: 2020-02-07.

Red photosensitive resin composition for color filter and application of the same

Номер патента: US20140343185A1. Автор: Wei-Kai Ho. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2014-11-20.

Polyurethane-based photosensitive resin, preparation method and use thereof in 3d printing

Номер патента: NL2025977A. Автор: Chi Hong,Li Tianduo. Владелец: Univ Qilu Technology. Дата публикации: 2021-08-11.

Polyurethane-based photosensitive resin, preparation method and use thereof in 3d printing

Номер патента: NL2025977B1. Автор: Chi Hong,Li Tianduo. Владелец: Univ Qilu Technology. Дата публикации: 2022-05-16.

Photosensitive resin composition, protective film and element having the same

Номер патента: US20150376355A1. Автор: Ming-Ju Wu,Chun-An Shih. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2015-12-31.

Photosensitive resin composition, protective film and element having the same

Номер патента: US9422446B2. Автор: Ming-Ju Wu,Chun-An Shih. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2016-08-23.

Method for evaluating lithography apparatus and method for controlling lithography apparatus

Номер патента: US20090246654A1. Автор: Kenji Yoshida,Masafumi Asano,Masahiro Kanno. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-10-01.

Method for evaluating lithography apparatus and method for controlling lithography apparatus

Номер патента: US7883824B2. Автор: Kenji Yoshida,Masafumi Asano,Masahiro Kanno. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2011-02-08.

Method for manufacturing photomask

Номер патента: US7666556B2. Автор: Ho Yong Jung. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2010-02-23.

Method for manufacturing photomask

Номер патента: US20080160426A1. Автор: Ho Yong Jung. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2008-07-03.

PATTERNING METHOD AND PATTERNING APPARATUS FOR FABRICATING A RESIST PATTERN

Номер патента: US20170277044A1. Автор: Lee Yung-Yao,Peng Jui-Chun,Chen Ho-Ping,Liu Heng-Hsin. Владелец: . Дата публикации: 2017-09-28.

Nozzle cleaning apparatus and substrate treating apparatus having the same

Номер патента: TWI234797B. Автор: HIROKI Mizuno,Yoshinori Takagi,Kazuaki Seino. Владелец: Dainippon Screen Mfg. Дата публикации: 2005-06-21.

Nozzle cleaning apparatus and substrate treating apparatus having the same

Номер патента: TW200414277A. Автор: HIROKI Mizuno,Yoshinori Takagi,Kazuaki Seino. Владелец: Dainippon Screen Mfg. Дата публикации: 2004-08-01.

Preparing method for branched vegetable oil-based photosensitive resin and UV curing glass ink

Номер патента: US12104065B2. Автор: Qiwen Yong,Zhihui Xie,Yuzi Yang. Владелец: CHINA WEST NORMAL UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-10-01.

Substrate heating unit and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: US20190318946A1. Автор: Hyun-Su Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2019-10-17.

Substrate heating unit and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: US11569100B2. Автор: Hyun-Su Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-31.

Device for feeding high-frequency power and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: US20170071053A1. Автор: Jae Seung Lee,Chang Won Lee. Владелец: AP SYSTEMS INC. Дата публикации: 2017-03-09.

Heater and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: KR101846509B1. Автор: 정지영,정경천. Владелец: (주)앤피에스. Дата публикации: 2018-04-09.

Heater and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: KR20230071433A. Автор: 박준영,장희섭. Владелец: 주식회사 원익아이피에스. Дата публикации: 2023-05-23.

Gas distribution unit and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: KR101499100B1. Автор: 조민철. Владелец: (주)티티에스. Дата публикации: 2015-03-06.

Heater and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: KR20220070994A. Автор: 이승재,서해목. Владелец: 주식회사 원익아이피에스. Дата публикации: 2022-05-31.

A method for producing a latent electric charge pattern and a device for performing the method

Номер патента: AU2824889A. Автор: Ove Larson. Владелец: Ove Larson Production A B. Дата публикации: 1989-07-05.

Heating assembly, electronic atomization device and preparation method for heating assembly

Номер патента: EP4280814A1. Автор: Hongming Zhou,Jicai LONG. Владелец: Shenzhen Smoore Technology Ltd. Дата публикации: 2023-11-22.

9, 10-α, α-oh-taxane analogs and methods for production thereof

Номер патента: US09820962B2. Автор: James Ferrara,Jan Zygmunt,James D. Mcchesney. Владелец: Tapestry Pharmaceuticals Inc. Дата публикации: 2017-11-21.

Laminated tile product, method for producing the same and method for installing the same

Номер патента: CA1331735C. Автор: Charles R. Owens. Владелец: Individual. Дата публикации: 1994-08-30.

Method for reducing the harmful-substance content of flue gases in a furnace unit

Номер патента: IE930736A1. Автор: Dipl-Ing Bernd Wendl,Ing Gerald Koeberl,Dr Heinz Kopp. Владелец: Veitsch Radex Ag. Дата публикации: 1994-04-06.

Method for producing S-adenosyl-L-homocysteine hydrolase

Номер патента: US4609626A. Автор: Sakayu Shimizu,Hideaki Yamada,Shozo Shiozaki. Владелец: Nippon Zeon Co Ltd. Дата публикации: 1986-09-02.

Colored and fired film and method for producing the same

Номер патента: US6068939A. Автор: Kazuo Goto,Jun Kawaguchi,Shigehiko Hayashi,Yasunori Shiraishi,Yoshifumi Maeda. Владелец: Mitsuboshi Belting Ltd. Дата публикации: 2000-05-30.

Methods for producing epoxidation catalysts and epoxidation methods utilizing these

Номер патента: CA2853566C. Автор: Hwaili Soo,Albert C. Liu,Biju M. DIVASSY. Владелец: DOW TECHNOLOGY INVESTMENTS LLC. Дата публикации: 2021-01-05.

Method for producing a motor vehicle component from a 6000-series aluminum alloy

Номер патента: US11773476B2. Автор: FENG Jiao,Jochem Grewe. Владелец: Benteler Automobiltechnik GmbH. Дата публикации: 2023-10-03.

Process for producing a tetraalkylthiuram disulfide

Номер патента: US4120764A. Автор: Hideo Tanaka,Sigeru Torii,Kiyoshi Mishima. Владелец: Ouchi Shinko Chemical Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1978-10-17.

Lisofylline analogs and methods for use

Номер патента: EP2132183A1. Автор: Timothy L. MacDonald,Jerry L. Nadler,Peng Cui. Владелец: University of Virginia UVA. Дата публикации: 2009-12-16.

Micro-Drill and Method for Manufacturing the Same

Номер патента: US20140161550A1. Автор: Ting-Hsun CHANG,Nyan-Hwa Tai. Владелец: National Tsing Hua University NTHU. Дата публикации: 2014-06-12.

Lisofylline analogs and methods for use

Номер патента: US20130137693A1. Автор: Timothy L. MacDonald,Jerry L. Nadler,Peng Cui. Владелец: UNIVERSITY OF VIRGINIA PATENT FOUNDATION. Дата публикации: 2013-05-30.

LINER ASSEMBLY AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS HAVING THE SAME

Номер патента: US20160160351A1. Автор: SEO Young-Soo,HAN Young-Ki,LEE Jun-Hyeok,SHIN Woo-Sik,MYOUNG Noh-Sun. Владелец: . Дата публикации: 2016-06-09.

LINER ASSEMBLY AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS HAVING THE SAME

Номер патента: US20140283746A1. Автор: SEO Young-Soo,HAN Young-Ki,LEE Jun-Hyeok,SHIN Woo-Sik,MYOUNG Noh-Sun. Владелец: . Дата публикации: 2014-09-25.

Gas injecting device and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: KR20130068718A. Автор: 이상진,김영준,김영효,황희,허필웅. Владелец: 주식회사 원익아이피에스. Дата публикации: 2013-06-26.

Compositions and methods for increasing plant tolerance to high population density

Номер патента: US7868224B2. Автор: Nicholas J Bate,Milo J Aukerman. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2011-01-11.

Method for tapping the immunological repertoire

Номер патента: US7858359B2. Автор: Lutz Riechmann,Gregory P. Winter,William D. Huse,Joseph A. Sorge,Richard A. Lerner. Владелец: Stratagene California. Дата публикации: 2010-12-28.

Method for improving intestinal absorption of cephalosporin derivatives

Номер патента: US4465668A. Автор: Joji Nishikido,Eiji Kodama,Mitsuru Shibukawa. Владелец: Asahi Kasei Kogyo KK. Дата публикации: 1984-08-14.

Method for screening substance inhibiting activation of NF-κB

Номер патента: US6156516A. Автор: Yoichi Nunokawa. Владелец: Suntory Ltd. Дата публикации: 2000-12-05.

Photosensitive element and method for producing photosensitive element

Номер патента: EP4357852A1. Автор: Akiko Takeda,masakazu Kume,Yosuke KAGUCHI. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-04-24.

Photosensitive resin composition, pattern forming method, cured film, laminate, and device

Номер патента: US12078929B2. Автор: Toshihide Aoshima,Kenta Yamazaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-09-03.

Method for manufacturing printing plate and printing method

Номер патента: EP4414787A1. Автор: Takumi Ishii,Yuka Yoshida. Владелец: Asahi Chemical Industry Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-14.

Photosensitive resin composition for color filter and application of the same

Номер патента: US09939568B2. Автор: Jung-Pin Hsu,Bo-Hsuan Lin. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2018-04-10.

Method for producing microstructure

Номер патента: US20120214104A1. Автор: Takaaki Suzuki,Isaku Kanno,Hidetoshi Kotera,Daisuke Hiramaru. Владелец: Kyoto University NUC. Дата публикации: 2012-08-23.

Photosensitive resin composition, production method for cured relief pattern using it, and semiconductor device

Номер патента: US7598009B2. Автор: Kenichiro Sato,Naoya Sugimoto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-10-06.

Photosensitive resin composition for a color filter and uses thereof

Номер патента: US20140346416A1. Автор: Jung-Pin Hsu,Duan-Chih WANG. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2014-11-27.

Photosensitive resin constituent for flexographic printing plate and flexographic printing plate

Номер патента: US20190105937A1. Автор: Ryo ICHIHASHI. Владелец: Asahi Kasei Corp. Дата публикации: 2019-04-11.

Method for producing recycled developer, and method for producing flexographic printing plate using same

Номер патента: EP4309899A1. Автор: Keiichi Motoi,Daiki Yoshioka. Владелец: Toyobo MC Corp. Дата публикации: 2024-01-24.

Photosensitive film, photosensitive element, and method for producing laminate

Номер патента: US20230161248A1. Автор: Shiho Tanaka,Akiko Takeda,Keishi Ono,Yusaku Watanabe,Mao Narita. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2023-05-25.

Photosensitive resin composition, resist laminate, and cured product thereof (2)

Номер патента: US09684239B2. Автор: Naoko Imaizumi,Shinya Inagaki,Nao Honda. Владелец: Nippon Kayaku Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-20.

Method for forming pattern having hollow structure

Номер патента: US20160054655A1. Автор: Shoji Shiba,Yohei Hamade. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-02-25.

Novel photosensitive resin compositions

Номер патента: EP1266266A1. Автор: Ahmad Naiini,William D. Weber,Pamela J. Waterson,Steve Lien-Chung Hsu. Владелец: Arch Specialty Chemicals Inc. Дата публикации: 2002-12-18.

Novel photosensitive resin compositions

Номер патента: EP1266266A4. Автор: Pamela J Waterson,William D Weber,Ahmad Naiini,Steve Lien-Chung Hsu. Владелец: Arch Specialty Chemicals Inc. Дата публикации: 2005-07-20.

Developing solution and development processing method of photosensitive resin composition

Номер патента: US09891527B2. Автор: Kunihiro Noda,Hiroki Chisaka,Dai Shiota. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-13.

Method for forming pattern having hollow structure

Номер патента: US09798236B2. Автор: Shoji Shiba,Yohei Hamade. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-10-24.

Photosensitive resin composition, color filter and liquid crystal display device

Номер патента: US09791773B2. Автор: Hao-wei LIAO,I-Chun HSIEH. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2017-10-17.

Photosensitive element and method for producing photosensitive element

Номер патента: US20230393476A1. Автор: Akiko Takeda,masakazu Kume,Yosuke KAGUCHI. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2023-12-07.

Photosensitive film, photosensitive element, and production method for layered product

Номер патента: EP4307049A1. Автор: Shiho Tanaka,Akiko Takeda,Keishi Ono,Yusaku Watanabe,Mao Narita. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-01-17.

Method for producing cylindrical relief printing original plate

Номер патента: US20160250840A1. Автор: Toru Wada,Yukimi Yawata. Владелец: Toyobo Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-01.

Photosensitive resin composition, color filter and liquid crystal display device

Номер патента: US20130244177A1. Автор: Hao-wei LIAO,Ching-Yuan TSENG. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2013-09-19.

Photosensitive resin composition, cured film and black matrix

Номер патента: US20240241439A1. Автор: Wei-Cheng Chen,Yu-Lun Li,Jui-Yu Hsu. Владелец: Advanced Echem Materials Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Photosensitive resin composition for color filter and application thereof

Номер патента: US20150323863A1. Автор: Jung-Pin Hsu. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2015-11-12.

Photosensitive resin composition and cured product

Номер патента: US20230324793A1. Автор: Jui-Yu Hsu,Hsiao-Chi Chiu. Владелец: Echem Solutions Corp. Дата публикации: 2023-10-12.

Negative-working photosensitive resin composition and photosensitive resin plate using the same

Номер патента: US20010019811A1. Автор: Hiroshi Takanashi,Tomoya Kudo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-09-06.

Method for forming film pattern

Номер патента: US20090181331A1. Автор: Masahiro Terada,Shosei Mori. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-07-16.

Process for producing laser engravable printing substrate

Номер патента: EP1710094A1. Автор: Hiroshi Yamada,Miyoshi Watanabe,Kei Tomeba. Владелец: Asahi Kasei Chemicals Corp. Дата публикации: 2006-10-11.

Method for producing recycled developer and method for producing flexographic printing plate using same

Номер патента: US20240085848A1. Автор: Keiichi Motoi,Daiki Yoshioka. Владелец: Toyobo MC Corp. Дата публикации: 2024-03-14.

Photosensitive transfer recording material and process for producing color filter

Номер патента: US20030054266A1. Автор: Akira Hatakeyama. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2003-03-20.

Photosensitive resin composition, pattern forming method, cured film, laminate, and device

Номер патента: US20210302835A1. Автор: Toshihide Aoshima,Kenta Yamazaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-09-30.

Photosensitive resin composition, pattern forming method, cured film, multilayer body and device

Номер патента: EP3893053A1. Автор: Toshihide Aoshima,Kenta Yamazaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-10-13.

Process for producing a liquid ejection head

Номер патента: US20140193756A1. Автор: Tamaki Sato,Tetsushi Ishikawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-07-10.

Novel photosensitive resin compositions

Номер патента: EP1602009A2. Автор: William D. Weber,Pamela J. Waterson,Steve Lien-Chung Hsu,Ahmad N. Naiini. Владелец: Arch Specialty Chemicals Inc. Дата публикации: 2005-12-07.

Improved method for bump exposing relief image printing plates

Номер патента: EP1769285A2. Автор: David H. Roberts,Gregory E. Mueller. Владелец: MacDermid Printing Solutions LLC. Дата публикации: 2007-04-04.

Novel photosensitive resin compositions

Номер патента: EP1886187A2. Автор: Richard Hopla,Il'ya Rushkin,Ahmad A. Naiini,N. Jon Metivier,David P. Powell. Владелец: Fujifilm Electronic Materials Co Ltd. Дата публикации: 2008-02-13.

Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition for thick film

Номер патента: US09977328B2. Автор: Yuta Yamamoto,Yasushi Kuroiwa. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-22.

Photosensitive resin composition for color filter, and color filter using the same

Номер патента: US09864272B2. Автор: Gyu-Seok HAN,Se-Young CHOI,Nam-Gwang KIM,Kyung-Hee HYUNG. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Welding method for creating an upscaled master

Номер патента: US20230280649A1. Автор: Jan Matthijs Ter Meulen,Bram Johannes Titulaer,Leon Willem VELDHUIZEN. Владелец: Morphotonics Holding BV. Дата публикации: 2023-09-07.

Photosensitive resin bag for non-pre-sensitized printing plate making

Номер патента: US20060029883A1. Автор: Hilson Huang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-02-09.

Printing original plate for photosensitive resin letterpress, and printing plate

Номер патента: EP4411479A1. Автор: Yuji Iwashita,Masahito Tanigawa. Владелец: Toyobo MC Corp. Дата публикации: 2024-08-07.

A photosensitive resin bag for non-pre-sensitized printing plate making

Номер патента: MY146269A. Автор: Hilson Huang. Владелец: Hilson Huang. Дата публикации: 2012-07-31.

Photosensitive resin composition for optical waveguides, and optical waveguide and manufacturing method thereof

Номер патента: US20060088257A1. Автор: Yukio Maeda,Yuuichi Eriyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2006-04-27.

Photosensitive resin composition for optical waveguides, and optical waveguide and manufacturing method thereof

Номер патента: US20080145016A1. Автор: Yukio Maeda,Yuuichi Eriyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2008-06-19.

Method for producing flexographic printing plate, and printing method

Номер патента: EP4451063A1. Автор: Takumi Ishii,Yusuke Shimizu,Hiroki Akiyama,Akinao Nakamura. Владелец: Asahi Chemical Industry Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-23.

Probe assembly, system and method for testing rf device of phased array antenna

Номер патента: US20240201245A1. Автор: Yu-Jiu Wang,Ta-Shun Chu,Yue Ming WU,Hao-Chung Chou. Владелец: Tron Future Tech Inc. Дата публикации: 2024-06-20.

Semiconductor devices and methods for forming the same

Номер патента: US20200194564A1. Автор: Chung-Yeh Lee,Sheng-Wei FU,Tsung-Yeh CHEN. Владелец: Vanguard International Semiconductor Corp. Дата публикации: 2020-06-18.

Optical sensing system and method for eliminating misjudgment of reflective lights

Номер патента: US20240288580A1. Автор: Guo-Zhen Wang,Tse-En Peng. Владелец: PixArt Imaging Inc. Дата публикации: 2024-08-29.

Method for shutting down a generator unit having a fuel cell device

Номер патента: EP3494609A1. Автор: Daiki Tanaka,Jörg MATHÉ. Владелец: Nissan Motor Co Ltd. Дата публикации: 2019-06-12.

System and a method for providing real-time restaurant reviews

Номер патента: US20010037244A1. Автор: Brian Mattson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-11-01.

Semiconductor structures having deep trench capacitor and methods for manufacturing the same

Номер патента: US20240332347A1. Автор: Li-Han Lin,Szu-Yu Hou. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2024-10-03.

Semiconductor structures having deep trench capacitor and methods for manufacturing the same

Номер патента: US20240355871A1. Автор: Li-Han Lin,Szu-Yu Hou. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2024-10-24.

Process for producing substrate provided with metal pattern and substrate provided with metal laminate

Номер патента: US20110249340A1. Автор: Guangyao NIU. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2011-10-13.

Plasma generating unit and substrate treating apparatus having the same

Номер патента: US20160027617A1. Автор: Jung Hwan Lee,Duk Hyun SON. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2016-01-28.

Integrated semiconductor structure and method for making the same

Номер патента: US20240313088A1. Автор: Boting Liu,Shenghou LIU,Wenbi Cai,Xiguo SUN. Владелец: Xiamen Sanan Integrated Circuit Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Method for producing a silicon carbide semiconductor component

Номер патента: US11855147B2. Автор: Wolfgang Bergner,Ralf Siemieniec. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2023-12-26.

Semiconductor devices and methods for forming the same

Номер патента: US20190378902A1. Автор: Chung-Yeh Lee,Sheng-Wei FU,Tsung-Yeh CHEN. Владелец: Vanguard International Semiconductor Corp. Дата публикации: 2019-12-12.

Method for manufacturing semiconductor devices having a metallisation layer

Номер патента: US09887152B2. Автор: Rudolf Zelsacher,Paul Ganitzer. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AUSTRIA AG. Дата публикации: 2018-02-06.

Method for making thermoacoustic device array

Номер патента: US09756442B2. Автор: Yang Wei,Kai-Li Jiang,Shou-Shan Fan,xiao-yang Lin. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-05.

Etching method for obtaining at least one cavity in a substrate and substrate obtained by such method

Номер патента: CA2053859A1. Автор: Harald T. G. Van Lintel. Владелец: Individual. Дата публикации: 1991-09-17.

Substrate exchanging module for substrate processing apparatus and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: CN102024732A. Автор: 金炳埈. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-04-20.

Semiconductor device and method for making the same

Номер патента: US20240234270A1. Автор: Changoh Kim,JinHee Jung,Omin Kwon. Владелец: Stats Chippac Pte Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Heat exchange system and substrate processing apparatus having the heat exchange system

Номер патента: TWI607806B. Автор: Satoshi Kaneko,Kazuki Motomatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-12-11.

Low thermal budget fabrication method for a mask read only memory device

Номер патента: US20030207539A1. Автор: Jen-Chuan Pan,Shui-Chin Huang. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2003-11-06.

Method for fabricating semiconductor device

Номер патента: US20210320187A1. Автор: Chia-Ming Kuo,Chia-Wei Chang,Chia-Yuan Chang,Guan-Wei Huang,Fu-Jung Chuang,Po-Jen Chuang. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2021-10-14.

Method for fabricating semiconductor device

Номер патента: US20230064701A1. Автор: Tsung-Hsun Tsai. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2023-03-02.

Semiconductor device and method for fabricating the same

Номер патента: US12089508B2. Автор: Hung-Chan Lin. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2024-09-10.

Semiconductor structure and method for preparing same

Номер патента: US20240306366A1. Автор: Ya Wang,Xing Zhang,Fandong LIU,Wenyu HUA,Kuan HU. Владелец: ICLeague Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Method for fabricating semiconductor device

Номер патента: US11676823B2. Автор: Tsung-Hsun Tsai. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2023-06-13.

Lift Pin Assembly, Substrate Support Apparatus and Substrate Processing Apparatus Having the Same

Номер патента: US20190080955A1. Автор: LEE Su-ho,Lee Ja-Woo,Shin Seung-Won. Владелец: . Дата публикации: 2019-03-14.

SUBSTRATE CLEANING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING FACILITY HAVING THE SAME

Номер патента: US20170250095A1. Автор: KIM Tea-Geon. Владелец: . Дата публикации: 2017-08-31.

SUBSTRATE SUPPORT APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESS APPARATUS HAVING THE SAME

Номер патента: US20140373782A1. Автор: PARK Yong Gyun,SEO Tae Wook,LEE Nae Il. Владелец: . Дата публикации: 2014-12-25.

SUBSTRATE SUPPORT UNIT AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS HAVING THE SAME

Номер патента: US20190311923A1. Автор: KIM Hyun-su. Владелец: . Дата публикации: 2019-10-10.

Substrate transfer equipment and substrate processing system having the same

Номер патента: KR100980283B1. Автор: 위순임. Владелец: 주식회사 뉴파워 프라즈마. Дата публикации: 2010-09-06.

Substrate hoder unit and substrate assembling appratus having the same

Номер патента: KR100983605B1. Автор: 이철수,신재혁,조익성,문성철. Владелец: 에이피시스템 주식회사. Дата публикации: 2010-09-24.

Substrate stand device and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: KR102330274B1. Автор: 신형환. Владелец: 주식회사 케이씨텍. Дата публикации: 2021-11-24.

Substrate supporting apparatus and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: KR101421644B1. Автор: 김형원,한영기,서영수. Владелец: 참엔지니어링(주). Дата публикации: 2014-07-24.

Substrate supporting unit and Substrate processing apparatus having the same

Номер патента: KR102098556B1. Автор: 김진영,안명헌,김찬유. Владелец: 주식회사 테스. Дата публикации: 2020-04-17.

Substrate transfer device and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: KR20100059479A. Автор: 유승우,김대호,유준호. Владелец: 세메스 주식회사. Дата публикации: 2010-06-04.

Substrate supporting unit and Substrate supporting apparatus having the same

Номер патента: KR101477142B1. Автор: 김현정,고성근,경재진. Владелец: (주)티티에스. Дата публикации: 2014-12-29.

Substrate supporting unit and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: CN112117232A. Автор: 吴承勋,崔永燮,李暎熏,诸振模,禹钟贤,朴仁煌,朴贵秀. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-22.

Substrate supporting apparatus and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: KR101772180B1. Автор: 송대석,남원식,연강흠. Владелец: (주)앤피에스. Дата публикации: 2017-08-29.

Substrate Transfer Device and Substrate Aligning Apparatus Having the Same

Номер патента: KR101678375B1. Автор: 이현성. Владелец: 주식회사 선익시스템. Дата публикации: 2016-11-23.

Substrate supporting device and Substrate treating apparatus having the same

Номер патента: KR101736363B1. Автор: 김미선,고성근. Владелец: (주)티티에스. Дата публикации: 2017-05-18.

Substrate processing module and substrate processing system having the same

Номер патента: KR101898066B1. Автор: 장석필. Владелец: 주식회사 원익아이피에스. Дата публикации: 2018-10-30.

Substrate transferring apparatus and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: TW200716468A. Автор: Man-Soo Choi,Ho-Youn Park,Jeong-Chol Kim. Владелец: DMS Co Ltd. Дата публикации: 2007-05-01.

Method for producing an optoelectronic device comprising light-emitting diodes which are homogeneous in dimensions

Номер патента: US11894413B2. Автор: Benoit Amstatt,Pierre Tchoulfian. Владелец: Aledia. Дата публикации: 2024-02-06.

Semiconductor device and method for forming the same

Номер патента: US12022739B2. Автор: Chih-Wei Kuo. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2024-06-25.

Method for fabricating active device array substrate

Номер патента: US20100267177A1. Автор: Yu-Cheng Chen,Ching-Chieh Shih,An-Thung Cho,Chen-Yueh Li,Ching-Sang Chuang. Владелец: AU OPTRONICS CORP. Дата публикации: 2010-10-21.

Method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20130017671A1. Автор: Hiroyuki Kitabayashi,Taku Horii. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2013-01-17.

Semiconductor device including isolation structure with impurity and method for manufacturing the same

Номер патента: US20240347375A1. Автор: Kuo-Chung Hsu,En-Jui Li. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2024-10-17.

METHOD FOR ETCHING AT LEAST ONE DEPTH IN A SUBSTRATE AND SUBSTRATE OBTAINED thereby.

Номер патента: DE69114786D1. Автор: Lintel Harald Van. Владелец: Westonbridge International Ltd. Дата публикации: 1996-01-04.

PLASMA GENERATING UNIT AND SUBSTRATE TREATING APPARATUS HAVING THE SAME

Номер патента: US20160027617A1. Автор: Lee Jung Hwan,Son Duk Hyun. Владелец: . Дата публикации: 2016-01-28.

LIFT PIN UNIT AND SUBSTRATE SUPPORTING UNIT HAVING THE SAME

Номер патента: US20190035671A1. Автор: Kim Hyung Joon,HA Kang Rae. Владелец: . Дата публикации: 2019-01-31.

Process Chamber, Semiconductor Manufacturing Apparatus and Substrate Processing Method Having the Same

Номер патента: US20150083331A1. Автор: Lee Yong Hyun,Lee Myung Jin,CHA An Ki. Владелец: . Дата публикации: 2015-03-26.

Gas injecting device and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: KR101993669B1. Автор: 윤태호,김용진,류동호,박주성,함태호. Владелец: 주식회사 원익아이피에스. Дата публикации: 2019-10-01.

Mask and Mask stack module and substrate processing system having the same

Номер патента: KR102445717B1. Автор: 박해윤. Владелец: 주식회사 원익아이피에스. Дата публикации: 2022-09-21.

Susceptor and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: KR101568735B1. Автор: 권용철. Владелец: 주식회사 알지비하이텍. Дата публикации: 2015-11-12.

Shuttle and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: KR101868459B1. Автор: 김진홍. Владелец: 주식회사 원익아이피에스. Дата публикации: 2018-06-21.

Shuttle and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: KR101877338B1. Автор: 김진홍. Владелец: 주식회사 원익아이피에스. Дата публикации: 2018-08-09.

Crystallization Induction Apparatus And Substrate Processing System Having The Same

Номер патента: KR101063246B1. Автор: 김성진,김종명,이기웅,백성환. Владелец: 에이피시스템 주식회사. Дата публикации: 2011-09-07.

Nozzle unit and substrate treating apparatus having the same

Номер патента: KR101958740B1. Автор: 박철호. Владелец: 세메스 주식회사. Дата публикации: 2019-03-15.

Housing and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: KR101728582B1. Автор: 기요히코 고콘. Владелец: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤. Дата публикации: 2017-04-19.

Two-fluid nozzle and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: KR101980618B1. Автор: 박소영,오정민,김진규,이강석,김태홍. Владелец: 세메스 주식회사. Дата публикации: 2019-08-28.

Cooling module and Substrate supporting unit having the same

Номер патента: KR20200005771A. Автор: 김진영,안명헌,정민혁. Владелец: 주식회사 테스. Дата публикации: 2020-01-17.

Shower head unit and substrate processing system having the same

Номер патента: CN112185791A. Автор: 孙亨圭,韩有东,金善玉,金铉珪. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-05.

Transfer robot and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: US20210305075A1. Автор: Kyung Hee JEON,Dong Sun KO,Hun Hee NA. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2021-09-30.

Exhaust system and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: KR101796627B1. Автор: 김병수,김종명,백종화,심형기. Владелец: 에이피시스템 주식회사. Дата публикации: 2017-11-10.

Processing liquid supply unit and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: CN115116888A. Автор: 刘在赫,李建旼,河道炅,崔文淳,林采永. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2022-09-27.

Heater and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: KR101439279B1. Автор: 김경희,이경선,임현준. Владелец: (주)티티에스. Дата публикации: 2014-09-11.

Susceptor and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: KR101651912B1. Автор: 김진영,이상선,김재우,윤병호,안명헌. Владелец: 주식회사 테스. Дата публикации: 2016-09-09.

Vacuum chuck and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: KR102244010B1. Автор: 오정훈. Владелец: 주식회사 원익아이피에스. Дата публикации: 2021-04-23.

Lift pin assembly and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: TW201528415A. Автор: Tae-hoon Kang,Young-Rok Kim,In-Seo Yoo. Владелец: Jusung Eng Co Ltd. Дата публикации: 2015-07-16.

Susceptor and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: KR101651884B1. Автор: 김진영,이상선,김재우,윤병호,안명헌. Владелец: 주식회사 테스. Дата публикации: 2016-08-29.

Heater unit and substrate treating apparatus having the same

Номер патента: KR101323360B1. Автор: 김경민. Владелец: (주)티티에스. Дата публикации: 2013-10-30.

Two way gate valve and substrate processing system having the same

Номер патента: TW201340231A. Автор: Dae-Kyu Choi. Владелец: New Power Plasma Co Ltd. Дата публикации: 2013-10-01.

Sealing unit and Substrate processing apparatus having the same

Номер патента: KR102510922B9. Автор: 이준희,박병욱,김영빈,고광훈,오승민,주정명. Владелец: 주식회사 테스. Дата публикации: 2023-06-09.

Carrier unit and substrate processing system having the same

Номер патента: KR102368797B1. Автор: 고영학. Владелец: 주식회사 케이씨텍. Дата публикации: 2022-03-02.

Tray and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: KR101403292B1. Автор: 하주일,마희전,노동민,윤희동,김수천. Владелец: 주식회사 테스. Дата публикации: 2014-06-09.

Sealing unit and Substrate processing apparatus having the same

Номер патента: KR102510922B1. Автор: 이준희,박병욱,김영빈,고광훈,오승민,주정명. Владелец: 주식회사 테스. Дата публикации: 2023-03-16.

Loadlock module and substrate processing system having the same

Номер патента: KR20230065616A. Автор: 조재현. Владелец: 프리시스 주식회사. Дата публикации: 2023-05-12.

Susceptor and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: KR20160075385A. Автор: 김진영,이상선,김재우,윤병호,안명헌. Владелец: 주식회사 테스. Дата публикации: 2016-06-29.

Polishing head and substrate polishing apparatus having the same

Номер патента: KR102490812B1. Автор: 김경모. Владелец: 주식회사 케이씨텍. Дата публикации: 2023-01-25.

Exhaust apparatus and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: TW201508813A. Автор: Jong-Myong Kim,Byung-Su Kim,Hyung-Ki Sim,Jong-Hwa Baek. Владелец: AP SYSTEMS INC. Дата публикации: 2015-03-01.

Support unit and substrate treating apparatus having the same

Номер патента: TW201220428A. Автор: Hyung-Keun Lee,Jin-Hwan Lee. Владелец: AP SYSTEMS INC. Дата публикации: 2012-05-16.

Semiconductor structures having deep trench capacitor and methods for manufacturing the same

Номер патента: US20240063254A1. Автор: Li-Han Lin,Szu-Yu Hou. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2024-02-22.

Semiconductor structures having deep trench capacitor and methods for manufacturing the same

Номер патента: US20240063255A1. Автор: Li-Han Lin,Szu-Yu Hou. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2024-02-22.

Semiconductor structure and method for forming the same

Номер патента: US20170103899A1. Автор: Deyuan Xiao. Владелец: Zing Semiconductor Corp. Дата публикации: 2017-04-13.

A METHOD FOR FOR PRODUCING A PHOTOVOLTAIC DEVICE

Номер патента: US20210280808A1. Автор: Lindstrom Henrik,Fili Glovanni. Владелец: Exeger Operations AB. Дата публикации: 2021-09-09.

Method for fabricating semiconductor components having lasered features containing dopants

Номер патента: US20130323909A1. Автор: Alan G. Wood,Tim Corbett. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2013-12-05.

Method for monitoring a machine tool, and controller

Номер патента: US20190025795A1. Автор: Jan-Wilm Brinkhaus,Joachim Imiela. Владелец: KOMET GROUP GMBH. Дата публикации: 2019-01-24.

Method for shutting down a generator unit having a fuel cell device

Номер патента: US20190181471A1. Автор: Daiki Tanaka,Jörg MATHÉ. Владелец: Nissan Motor Co Ltd. Дата публикации: 2019-06-13.

Chip package and method for forming the same

Номер патента: US20240178261A1. Автор: Kuei-Wei CHEN,Chao-Yuan YANG,Yueh Hsien LI. Владелец: XinTec Inc. Дата публикации: 2024-05-30.

Method for programming antifuses for reliable programmed links

Номер патента: WO1995032433A1. Автор: William James Allen. Владелец: Crosspoint Solutions, Inc.. Дата публикации: 1995-11-30.

Method for controlling transistor spacer width

Номер патента: US6133132A. Автор: Anthony J. Toprac,John R. Behnke,Matthew Purdy. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2000-10-17.

Method for fabricating semiconductor device including stacked capacitors

Номер патента: US6482695B1. Автор: Jae Kap Kim. Владелец: Dongbu Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2002-11-19.

Semiconductor device with asymmetric transistor and method for fabricating the same

Номер патента: US20060170116A1. Автор: Tae-Woo Jung,Sang-Won Oh. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2006-08-03.

High electron mobility transistor and method for fabricating the same

Номер патента: US20230275147A1. Автор: Kuo-Yu Liao,Sheng-Yuan Hsueh,Chien-Liang Wu,Kuo-Hsing Lee. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2023-08-31.

Method for checking the radio characteristics of a means of transport

Номер патента: US10476616B2. Автор: Justin Eichenlaub,Marcus Hammes,Bernd Knobe,Markus Michelt. Владелец: P3 Aero Systems GmbH. Дата публикации: 2019-11-12.

Method for checking the radio characteristics of a means of transport

Номер патента: US20190036628A1. Автор: Justin Eichenlaub,Marcus Hammes,Bernd Knobe,Markus Michelt. Владелец: P3 Aero Systems GmbH. Дата публикации: 2019-01-31.

Apparatus and method for manufacturing permanent magnet

Номер патента: US20170151697A1. Автор: Jae Ryung Lee,Hyung Ju Lee,Kun Min Park. Владелец: Hyundai Motor Co. Дата публикации: 2017-06-01.

Led chip and method for manufacturing the same

Номер патента: US20140231831A1. Автор: Pei-Shiu Tsai,Wan-Chun Huang. Владелец: Lextar Electronics Corp. Дата публикации: 2014-08-21.

Backlight module, display device and fabricating method for backlight module

Номер патента: US20190285946A1. Автор: Xiaoling Xu,Meili Wang,Yuanxin DU. Владелец: Beijing BOE Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-09-19.

High electron mobility transistor and method for fabricating the same

Номер патента: US11973133B2. Автор: Kuo-Yu Liao,Sheng-Yuan Hsueh,Chien-Liang Wu,Kuo-Hsing Lee. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2024-04-30.

Chip package and method for forming the same

Номер патента: US20230369371A1. Автор: Shu-Ming Chang,Tsang-Yu Liu,Chaung-Lin LAI. Владелец: XinTec Inc. Дата публикации: 2023-11-16.

Semiconductor device and method for forming the same

Номер патента: US20230225216A1. Автор: Chih-Wei Kuo. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2023-07-13.

Semiconductor device and method for fabricating the same

Номер патента: US20180277545A1. Автор: Yukihiro Nagai,Le-Tien Jung. Владелец: Fujian Jinhua Integrated Circuit Co Ltd. Дата публикации: 2018-09-27.

Method for manufacturing an image sensor

Номер патента: US20040179126A1. Автор: Jackson Hsieh,Jichen Wu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-09-16.

Wafer packaging system and method for manufacturing the same

Номер патента: US20230386967A1. Автор: Jin Yang,Chengchung LIN. Владелец: SJ Semiconductor Jiangyin Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Method for forming semiconductor structure and semiconductor structure

Номер патента: US20220102194A1. Автор: SHANG Gao. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2022-03-31.

Method for forming semiconductor structure and semiconductor structure

Номер патента: US12014950B2. Автор: SHANG Gao. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2024-06-18.

Semiconductor device and method for fabricating the same

Номер патента: US20240204085A1. Автор: Chun-Hsien Lin,Chih-Kai Hsu,Ssu-I Fu,Chih-Wei Yang. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Method for determining the position of a terminal of a wildfire early detection system

Номер патента: CA3240261A1. Автор: Marco Bönig,Carsten Brinkschulte. Владелец: Dryad Networks GmbH. Дата публикации: 2023-06-22.

METHOD FOR ENHANCED SCHEDULE MANAGEMENT BASED ON ROTATION PATTERN AND APPARATUS FOR THE SAME

Номер патента: US20200104801A1. Автор: Kim Jin Young,PARK Min Sang,KWON Ah Young. Владелец: Bespin Global Inc.. Дата публикации: 2020-04-02.

METHOD FOR FORMING SEMICONDUCTOR LAYOUT PATTERNS, SEMICONDUCTOR LAYOUT PATTERNS, AND SEMICONDUCTOR STRUCTURE

Номер патента: US20140337809A1. Автор: Zhao Jie,Wu Huabiao. Владелец: . Дата публикации: 2014-11-13.

METHOD FOR EXPLORING AND RECORDING IMAGES HAVING CONTINUOUS PATTERNS AND FEATURES

Номер патента: FR2530050A1. Автор: Mitsuhiko Yamada. Владелец: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 1984-01-13.

Method for inspection of positional deviation of transfer pattern and transfer pattern mask

Номер патента: JPS5919318A. Автор: Masahiro Dan,檀 昌宏. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1984-01-31.

Method for measuring magnetic write width using burst pattern and apparatus thereof

Номер патента: KR100455391B1. Автор: 박철훈,김종윤,여창동. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2004-11-06.

Photosensitive resin composition, color filter and liquid crystal display device using the same

Номер патента: US20150028272A1. Автор: Hao-wei LIAO,Ching-Yuan TSENG. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2015-01-29.

Method for producing semiconductor optical device and semiconductor optical device

Номер патента: US20120094415A1. Автор: Hideki Yagi,Hiroyuki Yoshinaga. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2012-04-19.

Electronic device, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20160271951A1. Автор: Naoya Sato. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2016-09-22.

Electronic device, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US09789688B2. Автор: Naoya Sato. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2017-10-17.

Thermoelectric conversion material and method for manufacturing same

Номер патента: US20150075578A1. Автор: Kunihisa Kato,Tsuyoshi MUTOU. Владелец: Lintec Corp. Дата публикации: 2015-03-19.

Methods for producing sheet molding compound and for producing molded product

Номер патента: US20230271349A1. Автор: Kazutoshi Hitomi,Daisuke Nishikawa,Yasuyuki Muranaka. Владелец: DIC Corp. Дата публикации: 2023-08-31.

System and method for three-dimensional animation of rod-arm puppet extremities

Номер патента: US20060094330A1. Автор: David Privett. Владелец: Playsoup LLC. Дата публикации: 2006-05-04.

3D printed modular centrifugal contactors and method for separating moieties using 3D printed optimized surfaces

Номер патента: US09744476B2. Автор: Kent E. Wardle. Владелец: UChicago Argonne LLC. Дата публикации: 2017-08-29.

Substrate transferring apparatus and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: KR100701642B1. Автор: 다이 키타하라. Владелец: 시마쯔 코포레이션. Дата публикации: 2007-03-29.

Substrate carrying device and substrate processing device having the same

Номер патента: TW200539314A. Автор: Dai Kitahara. Владелец: Shimadzu Corp. Дата публикации: 2005-12-01.

TWO WAY GATE VALVE AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM HAVING THE SAME

Номер патента: US20130153806A1. Автор: CHOI Dae-Kyu. Владелец: NEW POWER PLASMA CO., LTD.. Дата публикации: 2013-06-20.

Polishing unit and substrate polishing apparatus having the same

Номер патента: KR101042323B1. Автор: 최기훈,오세훈. Владелец: 세메스 주식회사. Дата публикации: 2011-06-17.

Apparatus and method for cleaning air

Номер патента: CA1153955A. Автор: Frederick F. Fritz. Владелец: Oxford Air Systems Inc. Дата публикации: 1983-09-20.

Method for manufacturing a baffle liner

Номер патента: US5618255A. Автор: Norman C. Derby,Craig A. Nickell,Vincent E. Durden. Владелец: Super Sack Manufacturing Corp. Дата публикации: 1997-04-08.

Metal-resin composite pipe that can be easily wound into ring shape and, methods for manufacturing the same

Номер патента: US20150114508A1. Автор: Manhyuk Bang. Владелец: KUMKANG CO Ltd. Дата публикации: 2015-04-30.

METHOD FOR OPERATING AN EXHAUST-GAS TREATMENT DEVICE HAVING A HEATER AND MOTOR VEHICLE HAVING THE DEVICE

Номер патента: US20140366509A1. Автор: HIRTH Peter,BAUER PETER,HODGSON JAN. Владелец: . Дата публикации: 2014-12-18.

Method for making a glazing pane

Номер патента: EP4017727A1. Автор: Andrew Thomas Stanley,Neil Winstanley,Tomasz TELEGA,Neil John Durbin. Владелец: Pilkington Group Ltd. Дата публикации: 2022-06-29.

METHOD FOR PRINTING A SURFACE WITH A PRINTED PATTERN AND ASSOCIATED PRINTING DEVICE

Номер патента: US20200238729A1. Автор: Komolzew Roman. Владелец: . Дата публикации: 2020-07-30.

Method for painting in order to form a pattern and its apparatus for painting

Номер патента: KR101320040B1. Автор: 최성필. Владелец: 최성필. Дата публикации: 2013-10-18.

METHOD FOR MANUFACTURING A DECORATIVE FABRIC WITH RELIEF PATTERNS AND FABRIC THUS OBTAINED

Номер патента: FR2591238A1. Автор: . Владелец: Jourquin Andre. Дата публикации: 1987-06-12.

Method for producing liquid ejection head

Номер патента: US20180170055A1. Автор: Kazunari Ishizuka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-06-21.

Method for manufacturing liquid ejecting head

Номер патента: US8956703B2. Автор: Kazuhiro Asai,Yoshinori Tagawa,Masaki Ohsumi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2015-02-17.

Liquid discharge head and method for producing liquid discharge head

Номер патента: US20210213738A1. Автор: Satoshi Tsutsui,Isamu Horiuchi,Kazunari Ishizuka,Yohei Hamade,Miho Ishii. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-07-15.

Method for manufacturing liquid discharge head

Номер патента: US20100233630A1. Автор: Makoto Watanabe,Kazuhiro Asai,Masataka Nagai,Satoshi Ibe,Yoshinori Tagawa,Masaki Ohsumi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2010-09-16.

Liquid discharge head and method for manufacturing liquid discharge head

Номер патента: US20210229437A1. Автор: Satoshi Tsutsui,Isamu Horiuchi,Kazunari Ishizuka,Yohei Hamade,Miho Ishii. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-07-29.

Method for manufacturing liquid discharge head

Номер патента: US8133662B2. Автор: Makoto Watanabe,Kazuhiro Asai,Masataka Nagai,Satoshi Ibe,Yoshinori Tagawa,Masaki Ohsumi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-03-13.

Laminate and method for producing printing plate

Номер патента: US20240308201A1. Автор: Yoshihiko Sato. Владелец: Asahi Kasei Corp. Дата публикации: 2024-09-19.

Method for manufacturing liquid ejection head

Номер патента: US20180304632A1. Автор: Isamu Horiuchi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-10-25.

METHOD FOR MANUFACTURING PLASTIC LABELS WITH SELF-ADHESIVE PATTERN, AND ATTACHING SUCH LABELS TO A TIN

Номер патента: US20120000598A1. Автор: . Владелец: REYNDERS ETIKETTEN, NAAMLOZE VENNOOTSCHAP. Дата публикации: 2012-01-05.

Fringe pattern method and apparatus for producing x- ray dosage compensating filters

Номер патента: CA1145168A. Автор: Michael Goitein,Arthur L. Boyer. Владелец: General Hospital Corp. Дата публикации: 1983-04-26.

SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME

Номер патента: US20120001331A1. Автор: . Владелец: KABUSHI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

FLAME-RETARDANT POLY LACTIC ACID-CONTAINING FILM OR SHEET, AND METHOD FOR MANUFACTURING THEREOF

Номер патента: US20120003459A1. Автор: . Владелец: NITTO DENKO CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR TRANSMITTING CONTROL SIGNAL TO RELAY NODE AT BASE STATION IN MIMO WIRELESS COMMUNICATION SYSTEM AND APPARATUS THEREFOR

Номер патента: US20120002596A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method for producing an electrical feedthrough in a substrate, and substrate having an electrical feedthrough

Номер патента: US20120037412A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-02-16.

Substrate supporting stage and substrate inspecting apparatus having the same

Номер патента: TW200801493A. Автор: Min-Ho Park,Yoo-Chan Choi,Sun-Joo Hong. Владелец: SFA Engineering Corp. Дата публикации: 2008-01-01.

Elevating type substrate processing apparatus and substrate processing system having the same

Номер патента: JP4136826B2. Автор: 茂 水川,勝利 中田. Владелец: Sumitomo Precision Products Co Ltd. Дата публикации: 2008-08-20.

Method for forming antireflection film and resist pattern

Номер патента: JP3082473B2. Автор: 宏明 根本,昌之 遠藤,喜次 勇元,孝夫 三浦. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2000-08-28.

Method for manufacturing resist composition and resist pattern

Номер патента: JP6848697B2. Автор: 達郎 増山,幸司 市川,市川 幸司,崇裕 安江. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-03-24.

Method for manufacturing resist composition and resist pattern

Номер патента: JP7019292B2. Автор: 達郎 増山,幸司 市川,由香子 安立. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-02-15.

Method for manufacturing resist composition and resist pattern

Номер патента: JP6960308B2. Автор: 達郎 増山,幸司 市川,裕子 向井. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-05.

Radiation-sensitive resin composition, spacer and protective film for liquid crystal display element, and method for forming them

Номер патента: JP5051378B2. Автор: 仁 浜口. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-10-17.

Process for producing anodic films exhibiting coloured patterns and structures incorporating such films

Номер патента: CA2042161A1. Автор: Mark Adrian Jozefowicz. Владелец: Mark Adrian Jozefowicz. Дата публикации: 1992-11-10.

METHOD FOR FORMING SEMICONDUCTOR LAYOUT PATTERNS, SEMICONDUCTOR LAYOUT PATTERNS, AND SEMICONDUCTOR STRUCTURE

Номер патента: US20130307069A1. Автор: Zhao Jie,Wu Huabiao. Владелец: . Дата публикации: 2013-11-21.

Method for eliminating key size deviation of dense pattern and single pattern

Номер патента: CN1299164C. Автор: 张庆裕,陈昕辉,陈孟伟. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2007-02-07.

Photosensitive element and production method thereof

Номер патента: MY173479A. Автор: OCHIAI Masahiko,Naito Kazuya. Владелец: Asahi Kasei E Mat Corporation. Дата публикации: 2020-01-28.

Oxygen-absorbable Solvent-soluble Resin and Oxygen-absorbable Adhesive Resin Composition

Номер патента: US20120001121A1. Автор: . Владелец: TOYO SEIKAN KAISHA, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

FLEXIBLE SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME

Номер патента: US20120001173A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Large Area Nitride Crystal and Method for Making It

Номер патента: US20120000415A1. Автор: Speck James S.,"DEvelyn Mark P.". Владелец: Soraa, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20120003590A1. Автор: . Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR PRODUCING METAL THIN FILM

Номер патента: US20120000382A1. Автор: . Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

Positive photosensitive resin composition

Номер патента: MY122883A. Автор: Hirano Takashi,Makabe Hiroaki,Banba Toshio. Владелец: Sumitomo Bakelite Co. Дата публикации: 2006-05-31.

Organometallic films, methods for applying organometallic films to substrates and substrates coated with such films

Номер патента: US20120003481A1. Автор: Hanson Eric L.. Владелец: Aculon, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

PROCESS FOR PRODUCING MULTILAYERED GAS-BARRIER FILM

Номер патента: US20120003500A1. Автор: . Владелец: MITSUBISHI PLASTICS, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Organometallic films, methods for applying organometallic films to substrates and substrates coated with such films

Номер патента: US20120004388A1. Автор: Hanson Eric L.. Владелец: Aculon, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR PRODUCING SOLID STATE IMAGING DEVICE AND SOLID-STATE IMAGING DEVICE

Номер патента: US20120001292A1. Автор: . Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM USING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD

Номер патента: US20120003586A1. Автор: . Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR DRIVING LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE

Номер патента: US20120001878A1. Автор: . Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method for Preparing Small Volume Reaction Containers

Номер патента: US20120003675A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Solar Cell And Method For Manufacturing Solar Cell

Номер патента: US20120000512A1. Автор: HASHIMOTO Masanori,SAITO Kazuya,SHIMIZU Miho. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS FOR INDUCING AN IMMUNE RESPONSE

Номер патента: US20120003298A1. Автор: Maj Roberto,Pattarino Franco,Mura Emanuela,Barberis Alcide. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Photosensitive resin composition and photosensitive resin laminate

Номер патента: MY187337A. Автор: FUJIWARA Akira,MATSUDA TAKAYUKI,Nishimoto Hideaki. Владелец: Asahi Chemical Ind. Дата публикации: 2021-09-22.

GLOVE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME

Номер патента: US20120000005A1. Автор: KISHIHARA Hidetoshi,II Yasuyuki. Владелец: SHOWA GLOVE CO.. Дата публикации: 2012-01-05.

OPTICAL ELEMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120002285A1. Автор: Matsuda Manabu. Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

COMPOSITE COMPONENT AND METHOD FOR PRODUCING A COMPOSITE COMPONENT

Номер патента: US20120002372A1. Автор: Hirsch Michele,Guenther Michael. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

MANUFACTURING METHOD FOR SOLID-STATE IMAGING DEVICE

Номер патента: US20120003778A1. Автор: OOTAKE Hajime. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE SENSOR AND METHOD FOR FABRICATING THE SAME

Номер патента: US20120001234A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

RESIN COMPOSITION FOR ENCAPSULATING SEMICONDUCTOR AND SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120001350A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE TRANSFER METHOD ADOPTED IN SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20120004753A1. Автор: . Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.