光敏性树脂组合物,光敏性元件,防蚀图形及其制法和叠层基板
Номер патента: CN1595297A
Опубликовано: 16-03-2005
Автор(ы): 佐藤邦明, 吉野利纯, 平山隆雄, 沓名贵彦, 鹈沢干夫
Принадлежит: Hitachi Chemical Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 16-03-2005
Автор(ы): 佐藤邦明, 吉野利纯, 平山隆雄, 沓名贵彦, 鹈沢干夫
Принадлежит: Hitachi Chemical Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Photosensitive resin composition, photosensitive element, method for producing substrate with resist pattern, and method for producing printed wiring board
Номер патента: US20170261851A1. Автор: Ken Sawabe,Emiko OOTA,Shota Okade,Yukiko Muramatsu,Sanchoru RI. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-14.