Radiation-sensitive or active-ray-light-sensitive resin composition, resist film in which same is used, mask blank, resist pattern formation method, method for manufacturing electronic device, and electronic device
Номер патента: KR101847429B1
Опубликовано: 10-04-2018
Автор(ы): 토모타카 츠치무라
Принадлежит: 후지필름 가부시키가이샤
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 10-04-2018
Автор(ы): 토모타카 츠치무라
Принадлежит: 후지필름 가부시키가이샤
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern formation method, and method for manufacturing electronic device
Номер патента: US12044967B2. Автор: Hironori Oka,Michihiro Shirakawa,Akiyoshi Goto,Daisuke Asakawa,Kyohei Sakita. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-07-23.