반도체 소자의 다층금속 배선의 형성방법
Номер патента: KR950034482A
Опубликовано: 28-12-1995
Автор(ы): 박내학
Принадлежит: 금성일렉트론 주식회사, 문정환
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 28-12-1995
Автор(ы): 박내학
Принадлежит: 금성일렉트론 주식회사, 문정환
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method for forming multi layer metal wiring of semiconductor device using damascene process
Номер патента: KR100808601B1. Автор: 김수현,이영진,황선우,김정태,정동하,김백만. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2008-02-29.