具有自加热结构的半导体器件、其制造方法和测试方法
Номер патента: CN102969301A
Опубликовано: 13-03-2013
Автор(ы): 柯家洋, 王琳松, 邱盈翰
Принадлежит: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 13-03-2013
Автор(ы): 柯家洋, 王琳松, 邱盈翰
Принадлежит: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Silicon carbide semiconductor device and method of manufacturing a silicon carbide semiconductor device
Номер патента: US20220254916A1. Автор: Makoto Utsumi,Masaki Miyazato. Владелец: Fuji Electric Co Ltd. Дата публикации: 2022-08-11.