Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • MASKING LAYER FORMED BY APPLYING DEVELOPABLE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITIONS ON PANEL STRUCTURE

MASKING LAYER FORMED BY APPLYING DEVELOPABLE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITIONS ON PANEL STRUCTURE

Номер патента: US20150047881A1
Опубликовано: 19-02-2015
Автор(ы): Chen-Wen Chiu, Chia-Ling Luo, Hsin - Jen Cheng, Shih-Peng Lin, Tsung-Mu Yang, Yan-fu Pan, Yi-Lun Chiu, Yu-Cheng Lai
Принадлежит: Echem Solutions Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Positive photosensitive resin composition, and photosensitive resin film and display device prepared by using the same

Номер патента: US09482943B2. Автор: Jae-Yeol BAEK,Jong-Hwa Lee,Ji-Yun KWON,Sang-soo Kim,Kun-Bae NOH,Eun-Bi PARK,Bum-Jin LEE,Eun-Ha HWANG,In-Chul Hwang,Jin-Young Lee,Yong-Tae Kim,Jae-Hwan Song,Jin-Hee Kang,Dae-Yun Kim,Sang-Kyeon Kim,Chung-Beum Hong,Eun-Kyoung YOUN. Владелец: Cheil Industries Inc. Дата публикации: 2016-11-01.

Negative-type photosensitive resin composition, cured film, element and display device provided with cured film, and production method therefor

Номер патента: US11822243B2. Автор: Akihiro Ishikawa,Yugo Tanigaki,Kazuto Miyoshi. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2023-11-21.

Displays with polarizer windows and opaque masking layers for electronic devices

Номер патента: US09372505B2. Автор: Jun Qi,Victor H. Yin,Dinesh C. Mathew,Keith J. Hendren,Adam T. Garelli,Thomas Wilson, JR.. Владелец: Apple Inc. Дата публикации: 2016-06-21.

Displays with polarizer windows and opaque masking layers for electronic devices

Номер патента: US8467177B2. Автор: Jun Qi,Victor H. Yin,Dinesh C. Mathew,Keith J. Hendren,Thomas W. Wilson, JR.,Adam T. Garelli. Владелец: Apple Inc. Дата публикации: 2013-06-18.

Colored photosensitive resin composition and light shielding spacer prepared therefrom

Номер патента: US20180356722A1. Автор: Hyung Gu Kim,Ji Ung KIM,Jong-Ho Na,Kyung-Jae Park,Hyung-Tak Jeon. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd. Дата публикации: 2018-12-13.

Positive photosensitive resin composition and method for forming patterns by using the same

Номер патента: US20140065526A1. Автор: kai-min Chen,Chun-An Shih. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2014-03-06.

Photosensitive resin composition, method for manufacturing organic layer using the composition, and display device comprising the organic layer

Номер патента: US09335631B2. Автор: Ki-Beom Lee,Hi-Kuk Lee,Jae-Hyuk Chang,Chang-Hoon Kim,Sang-Hyun Yun,Jung-In Park. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2016-05-10.

Photosensitive resin compositions, processes for preparing cured films, the resulting cured films, organic el display devices and liquid crystal display devices

Номер патента: US20150148546A1. Автор: Mikio Nakagawa,Shinji Fujimoto,Kenta Yamazaki,Kyouhei SAKITA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-05-28.

Colored photosensitive resin composition and light shielding spacer prepared therefrom

Номер патента: US20180356723A1. Автор: Hyung Gu Kim,Ji Ung KIM,Jong-Ho Na,Kyung-Jae Park,Hyung-Tak Jeon. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd. Дата публикации: 2018-12-13.

Photosensitive resin composition, photosensitive resin layer using the same and color filter

Номер патента: US20240176233A1. Автор: Juho Jung,Chang-Hyun KWON,Heejo MOON,Baek Soung Park,Kwangwon SEO. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Photosensitive resin composition, method for manufacturing organic layer using the composition, and display device comprising the organic layer

Номер патента: US20150168833A1. Автор: Ki-Beom Lee,Hi-Kuk Lee,Jae-Hyuk Chang,Chang-Hoon Kim,Sang-Hyun Yun,Jung-In Park. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2015-06-18.

Colored photosensitive resin composition and light shielding spacer prepared therefrom

Номер патента: US20180143533A1. Автор: Ji Ung KIM,Kyung-Jae Park,Hyung-Tak Jeon. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd. Дата публикации: 2018-05-24.

Photosensitive resin composition, photosensitive material comprising same, black matrix comprising same, and electronic element comprising same

Номер патента: US20240002599A1. Автор: Seongho JEON,Hyunmin PARK,Kyouhyun NAM. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Optical waveguide photosensitive resin composition including a diaryliodonium cation-based photoacid generator, photocurable film for forming optical waveguide core layer, optical waveguide using same, and mixed flexible printed circuit board for optical/electrical transmission

Номер патента: US09696621B2. Автор: Tomoyuki Hirayama. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2017-07-04.

Optical waveguide photosensitive resin composition, photocurable film for forming optical waveguide core layer, optical waveguide using same, and mixed flexible printed circuit board for optical/electrical transmission

Номер патента: US09857504B2. Автор: Tomoyuki Hirayama,Yuichi Tsujita. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2018-01-02.

Photosensitive resin composition for optical waveguide, photocurable film for formation of optical waveguide core layer, optical waveguide produced by using the resin composition or the photocurable film, and hybrid flexible printed wiring board for optical/electrical transmission

Номер патента: US09989848B2. Автор: Naoya Sugimoto,Tomoyuki Hirayama. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2018-06-05.

Method and functional architecture for inline repair of defective lithographically masked layers

Номер патента: US09773836B1. Автор: Michael Robert Johnson,Jerome David Crocco,Geun Jo Han. Владелец: dpiX LLC. Дата публикации: 2017-09-26.

Photosensitive resin composition, method for producing cured film, cured film, liquid crystal display device, organic electroluminescent display device, and touch panel

Номер патента: US10254645B2. Автор: Satoru Yamada,Mikio Nakagawa,Takuma Amemiya,Kenta YOSHIDA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-04-09.

Photosensitive resin compositions, processes for preparing cured films, the resulting cured films, organic EL display devices and liquid crystal display devices

Номер патента: US9223211B2. Автор: Mikio Nakagawa,Shinji Fujimoto,Kenta Yamazaki,Kyouhei SAKITA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-12-29.

Highly heat resistant polysilsesquioxane-based photosensitive resin composition

Номер патента: US20170166700A1. Автор: Jun Young Kim,Hwa Young Kim,Ho Sung Choi,Sang Hun Cho,Kwang Hyun Ryu. Владелец: LTC CO Ltd. Дата публикации: 2017-06-15.

Highly heat resistant polysilsesquioxane-based photosensitive resin composition

Номер патента: US10409162B2. Автор: Jun Young Kim,Hwa Young Kim,Ho Sung Choi,Sang Hun Cho,Kwang Hyun Ryu. Владелец: LTC CO Ltd. Дата публикации: 2019-09-10.

Photosensitive resin composition, board with conductive pattern, antenna element, production method for image display device, and production method for touch panel

Номер патента: US20240045331A1. Автор: Toshiyasu Hibino,Hiroko Mitsui. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2024-02-08.

Photosensitive resin composition having improved adhesiveness or adhesion and light blocking layer using same

Номер патента: US11803123B2. Автор: Soung Yun MUN,Jun Bae,Myung Jun Lee. Владелец: DukSan Neolux Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-31.

Photosensitive resin composition having improved adhesiveness or adhesion and light blocking layer using same

Номер патента: US20200241415A1. Автор: Soung Yun MUN,Jun Bae,Myung Jun Lee. Владелец: DukSan Neolux Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-30.

Negative photosensitive resin composition, cured resin film, partition walls and optical element

Номер патента: US09841677B2. Автор: Masayuki Kawashima,Hideyuki Takahashi,Daisuke Kobayashi,Keigo Matsuura. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-12.

Photosensitive resin composition and application thereof

Номер патента: US09606436B2. Автор: Yu-Jie Tsai,I-kuang Chen. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Photosensitive resin composition, cured film and black matrix

Номер патента: US20240241439A1. Автор: Wei-Cheng Chen,Yu-Lun Li,Jui-Yu Hsu. Владелец: Advanced Echem Materials Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Photosensitive resin composition for color filter and application of the same

Номер патента: US09939568B2. Автор: Jung-Pin Hsu,Bo-Hsuan Lin. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2018-04-10.

Core-shell compound, photosensitive resin composition including the same, photosensitive resin layer, color filter and CMOS image sensor

Номер патента: US12055851B2. Автор: Young Lee,Sundae KIM,Jungsun Lee,Yeji Yang,Chaehyuk Ko,Ieju Kim,Arum Yu,Myungho Cho,Xinhui Feng. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Photosensitive resin composition for color filter and application thereof

Номер патента: US20150323863A1. Автор: Jung-Pin Hsu. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2015-11-12.

Photosensitive resin composition and color filter

Номер патента: US09465151B2. Автор: Yongzhi SONG,Xiaona Liu. Владелец: Beijing BOE Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-11.

Photosensitive resin composition for forming light shielding films, black matrix formed by the same, and method for the production thereof

Номер патента: US5908720A. Автор: Junichi Onodera,Hiroshi Komano,Kiyoshi Uchikawa,Masaru Shida. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 1999-06-01.

Photosensitive resin composition, protective film, and liquid crystal display element

Номер патента: US20170168390A1. Автор: Ming-Ju Wu,Chun-An Shih,Chih-Hang Hsu. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2017-06-15.

Photosensitive resin composition for color filter and application thereof

Номер патента: US09897729B2. Автор: Bar-Yuan Hsieh,Jung-Pin Hsu. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2018-02-20.

Negative photosensitive resin composition, cured resin film, partition walls and optical element

Номер патента: US09459529B2. Автор: Masayuki Kawashima,Hideyuki Takahashi,Daisuke Kobayashi,Keigo Matsuura. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-04.

Photosensitive resin composition and uses thereof

Номер патента: US20140293400A1. Автор: Ching-Yuan TSENG. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2014-10-02.

Core-shell dye, photosensitive resin composition including the same, and color filter

Номер патента: US20230136349A1. Автор: Young Lee,Euisoo Jeong,Yeon Soo Lee,Sundae KIM,Baek Soung Park,Yeji Yang,Ieju Kim,Myungho Cho. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-04.

Photosensitive resin composition and uses thereof

Номер патента: US9298091B2. Автор: Ching-Yuan TSENG. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2016-03-29.

Negative photosensitive resin composition, cured film obtained by curing same, method for producing cured film, optical device provided with cured film, and backside-illuminated CMOS image sensor

Номер патента: US09977329B2. Автор: Mitsuhito Suwa,Hirokazu Iimori,Toshiyasu Hibino. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2018-05-22.

Positive photosensitive resin composition and uses thereof

Номер патента: US20130164461A1. Автор: kai-min Chen,Chun-An Shih. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2013-06-27.

Photosensitive resin composition and display device using the same

Номер патента: US20180149970A1. Автор: Young Min Kim,Seon-Tae Yoon,Baek Hee Lee,Min Ki Nam,Hae II Park. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-31.

Photosensitive resin composition and display device using the same

Номер патента: US9885954B2. Автор: Young Min Kim,Hae IL Park,Seon-Tae Yoon,Baek Hee Lee,Min Ki Nam. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Photosensitive resin composition and display device using the same

Номер патента: US09885954B2. Автор: Young Min Kim,Hae IL Park,Seon-Tae Yoon,Baek Hee Lee,Min Ki Nam. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Photosensitive resin composition for color filter and uses thereof

Номер патента: US9568823B2. Автор: Bar-Yuan Hsieh,Jung-Pin Hsu,Yu-Ju Wu. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2017-02-14.

Photosensitive resin composition, photosensitive resin layer using the same, and color filter

Номер патента: US20240103366A1. Автор: Jihye Kim,Sangho Lee,Jihong Kim,Baek Soung Park,Ieju Kim,Myungho Cho,Kwangseop KIM,Jeongho Yoo,Sabina Kim,Ickjin Kim,Young-Tai LEE. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-28.

Photosensitive resin composition, photosensitive resin layer using the same and color filter

Номер патента: US20240168377A1. Автор: Juho Jung,Chang-Hyun KWON,Heejo MOON,Baek Soung Park,Kwangwon SEO. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Photosensitive resin composition, spacer, light conversion layer, and light-emitting device

Номер патента: US11914292B2. Автор: Yu-Chun Chen,Ya-Qian Chen. Владелец: Echem Solutions Corp. Дата публикации: 2024-02-27.

Colored photosensitive resin composition and black matrix prepared therefrom

Номер патента: US20220100090A1. Автор: Seung-Keun Kim,Kyu Cheol Lee. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd. Дата публикации: 2022-03-31.

Photosensitive resin composition and cured film prepared therefrom

Номер патента: US20180373144A1. Автор: Seok-Bong Park,Gyung-Sik Choi,Hyung-Tak Jeon. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd. Дата публикации: 2018-12-27.

Compound, colorant including the same, positive photosensitive resin composition including the same and color filter

Номер патента: US10031417B2. Автор: Young Lee,Myoungyoup Shin,Hyeongmook KIM,Kyuyoung Kim,Seungjib CHOI. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-24.

Metal oxide photosensitive resin composition, and color filter and image display device manufactured using same

Номер патента: US20190278174A1. Автор: Sung Hun Hong,Ju Ho Kim,Hyung Joo Kim,Hyun Jung Wang. Владелец: Dongwoo Fine Chem Co Ltd. Дата публикации: 2019-09-12.

Photosensitive resin composition, photosensitive resin layer using the same and color filter

Номер патента: US20240176232A1. Автор: Juho Jung,Chang-Hyun KWON,Heejo MOON,Baek Soung Park. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Negative photosensitive resin composition, cured film obtained by curing same, method for producing cured film, optical device provided with cured film, and backside-illuminated cmos image sensor

Номер патента: US20170010532A1. Автор: Mitsuhito Suwa,Hirokazu Iimori,Toshiyasu Hibino. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2017-01-12.

Photosensitive resin composition, process for forming relief pattern, and electronic component

Номер патента: US6960420B2. Автор: Hiroshi Komatsu. Владелец: Hitachi Chemical DuPont Microsystems LLC. Дата публикации: 2005-11-01.

Photosensitive resin composition and method of forming conductive pattern

Номер патента: CA2040482C. Автор: Toshio Suzuki,Toshinori Marutsuka. Владелец: Nisshinbo Industries Inc. Дата публикации: 1998-11-10.

Photosensitive resin composition and photosensitive element using the resin composition

Номер патента: AU707535B1. Автор: Shigeru Murakami,Eiji Kosaka. Владелец: Nichigo Morton Co Ltd. Дата публикации: 1999-07-15.

Method and system for applying a pattern on a mask layer

Номер патента: CA3131546A1. Автор: Dirk Ludo Julien DE RAUW. Владелец: Xeikon Prepress NV. Дата публикации: 2020-09-24.

Photosensitive resin composition, photosensitive resin film, printed wiring board, semiconductor package, and method for producing printed wiring board

Номер патента: US12103999B2. Автор: Akihiro Nakamura,Yoshikazu Suzuki,Yuji Takase,Shuji Nomoto,Shota Okade,Hayato SAWAMOTO. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

Photosensitive resin composition, photosensitive resin film, multilayered printed wiring board, semiconductor package, and method for producing multilayered printed wiring board

Номер патента: US20230303750A1. Автор: Akihiro Nakamura,Norihiko Sakamoto,Kohei OTSUKA,Hayato SAWAMOTO. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2023-09-28.

Photosensitive resin composition and use thereof

Номер патента: US09835942B2. Автор: Yoshihide Sekito,Masayoshi Kido,Tomohiro Koda,Tetsuya Kogiso. Владелец: Kaneka Corp. Дата публикации: 2017-12-05.

Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition for thick-film application

Номер патента: US09448478B2. Автор: Makiko Irie,Yuta Yamamoto,Aya Momozawa. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Photosensitive resin composition, photosensitive element, printed wiring board, and method for producing printed wiring board

Номер патента: US20240337934A1. Автор: Yasuyuki Oyama,Naoki Yamashita,Kaho YAMAGUCHI,Hayato SAWAMOTO,Arisa Yamakawa. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-10-10.

Photosensitive resin composition, photosensitive resin film, photosensitive dry film, and pattern formation method

Номер патента: US20240288772A1. Автор: Hitoshi Maruyama,Kumiko Hayashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Photosensitive resin composition for projection exposure, photosensitive element, method for forming resist pattern, process for producing printed wiring board and process for producing lead frame

Номер патента: US09989854B2. Автор: masakazu Kume,Momoko MUNAKATA. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Poly-amic acid, photo-sensitive resin composition, dry film, and circuit board

Номер патента: US09410017B2. Автор: You-Jin Kyung,HEE-JUNG KIM,Kwang-Joo Lee,Jung-Hak KIM. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2016-08-09.

Photosensitive resin composition, method for manufacturing cured relief pattern, and semiconductor apparatus

Номер патента: US20240210827A1. Автор: Takahiro Sasaki,Tomohiro Yorisue,Mitsutaka Nakamura,Daisuke Sasano,Taihei Inoue,Tomoshige Yunokuchi,Yoshito IDO. Владелец: Asahi Kasei Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Photosensitive resin composition, method for manufacturing cured relief pattern, and semiconductor apparatus

Номер патента: US20240329525A1. Автор: Takahiro Sasaki,Tomohiro Yorisue,Mitsutaka Nakamura,Daisuke Sasano,Taihei Inoue,Tomoshige Yunokuchi,Yoshito IDO. Владелец: Asahi Kasei Corp. Дата публикации: 2024-10-03.

Photosensitive resin composition, photosensitive element, semiconductor device and method for forming resist pattern

Номер патента: US09829791B2. Автор: Tetsuya Kato,Yasuharu Murakami,Masahiko Ebihara,Kenichi Iwashita. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-28.

Method and system for applying a pattern on a mask layer

Номер патента: WO2020188041A1. Автор: Dirk Ludo Julien DE RAUW. Владелец: XEIKON PREPRESS N.V.. Дата публикации: 2020-09-24.

Method and system for applying a pattern on a mask layer

Номер патента: EP3941753A1. Автор: Dirk Ludo Julien DE RAUW. Владелец: Xeikon Prepress NV. Дата публикации: 2022-01-26.

Method for generating post-opc layout in consideration of top loss of etch mask layer

Номер патента: US20140282297A1. Автор: Wai-Kin Li,Geng Han,Sang Yil Chang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2014-09-18.

Photosensitive resin composition, photosensitive element, method for forming resist pattern, and method for producing printed wiring board

Номер патента: US20230273518A1. Автор: Tetsuya Kato,Akiko Takeda,Yutaka Kawakami. Владелец: SHOWA DENKO MATERIALS CO., LTD.. Дата публикации: 2023-08-31.

Conductive film, touch panel, photosensitive resin composition, and method of manufacturing conductive film

Номер патента: US20230053715A1. Автор: Kazuhiro Hasegawa,Daigo Sawaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-02-23.

Photosensitive resin composition, photosensitive dry film, pattern formation method, printed circuit board, and method for producing same

Номер патента: US09625812B2. Автор: Kazuo Watanabe,Shigeki Watanabe,Akifumi Ueda,Shintaro Okada,Saki Fujita,Hidetaka Nakagawara. Владелец: Micro Process Inc. Дата публикации: 2017-04-18.

Photosensitive resin laminate and method for producing resist pattern

Номер патента: MY197618A. Автор: Kosuke Inoue,Yuzo Kotani,Shinichi Kunimatsu. Владелец: Asahi Chemical Ind. Дата публикации: 2023-06-28.

Photosensitive resin multilayer body and method for producing same

Номер патента: US20240059803A1. Автор: Takayuki Matsuda,Kazuya Naito,Naohiro Murata. Владелец: Asahi Kasei Corp. Дата публикации: 2024-02-22.

Method and system for patterning a mask layer

Номер патента: US20080241712A1. Автор: Eric J. Shrader,Uma Srinivasan,Scott Jong Ho Limb. Владелец: Palo Alto Research Center Inc. Дата публикации: 2008-10-02.

Photosensitive resin composition, dry film using same, printed wiring board, and printed wiring board manufacturing method

Номер патента: US11921424B2. Автор: Masayuki Kojima,Nobuhito KOMURO,Shinya OOSAKI,Yuta DAIJIMA,Shinji IRIZAWA. Владелец: Hitachi Chemical Company Ltd Fipas. Дата публикации: 2024-03-05.

Negative photosensitive resin composition, negative photosensitive resin composition film, cured product, preparation method of cured product, hollow structure, and electronic component

Номер патента: EP4317240A1. Автор: Kazuyuki Matsumura,Hitoshi Araki,Yutaro KOYAMA,Kenta AOSHIMA. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2024-02-07.

Photosensitive resin composition, dry film using same, printed wiring board, and printed wiring board manufacturing method

Номер патента: US20230350292A1. Автор: Masayuki Kojima,Nobuhito KOMURO,Shinya OOSAKI,Yuta DAIJIMA,Shinji IRIZAWA. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2023-11-02.

Negative photosensitive resin composition, negative photosensitive resin composition film, cured product, preparation method of cured product, hollow structure, and electronic component

Номер патента: US20240176239A1. Автор: Kazuyuki Matsumura,Hitoshi Araki,Yutaro KOYAMA,Kenta AOSHIMA. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2024-05-30.

Photosensitive resin composition, production method for polyimide cured film using same, and polyimide cured film

Номер патента: US20240176240A1. Автор: Suzuka Matsumoto,Satoshi Shibui. Владелец: Asahi Kasei Corp. Дата публикации: 2024-05-30.

Polyimide resin and resin composition

Номер патента: US20190263968A1. Автор: Atsushi Kumasaki,Kan Fujihara. Владелец: Kaneka Corp. Дата публикации: 2019-08-29.

Photosensitive resin composition for flexible circuit board and flexible circuit board using the same

Номер патента: US20080063955A1. Автор: Hirofumi Fujii,Masaki Mizutani,Kosuke Morita,Takeshi Yoshimi,Kenji Ohnishi,Tadao Ookawa,Kouichirou TADA. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2008-03-13.

Photosensitive resin composition, cured product thereof, and printed wiring board

Номер патента: MY155964A. Автор: Ueta Chiho,Kamata Seiryo. Владелец: Taiyo Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2015-12-31.

Photosensitive resin composition, cured product thereof and multilayer material

Номер патента: US20230374186A1. Автор: Kazuyoshi Yamamoto,Mai TSUBAMOTO,Kengo Nishimura,Takahumi MIZUGUCHI. Владелец: Nippon Kayaku Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Photosensitive resin composition, photosensitive resin laminate, method for forming resist pattern and process for producing printed circuit board, lead frame, semiconductor package and concavoconvex board

Номер патента: US20100297559A1. Автор: Yosuke Hata. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-11-25.

Photosensitive resin composition for projection exposure, photosensitive element, method for forming resist pattern, process for producing printed wiring board and process for producing lead frame

Номер патента: MY182915A. Автор: KUME Masakazu,MUNAKATA Momoko. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-02-05.

Photosensitive resin composition

Номер патента: MY194777A. Автор: Kazuya Naito,Junya Kosaka,Masahiko Ochiai. Владелец: Asahi Chemical Ind. Дата публикации: 2022-12-15.

Photosensitive resin composition, photosensitive resin film, photosensitive dry film, and pattern formation method

Номер патента: EP4361192A1. Автор: Hitoshi Maruyama,Kumiko Hayashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-01.

Photosensitive resin composition, photosensitive element, printed wiring board, and method for manufacturing printed wiring board

Номер патента: US20240134277A1. Автор: Yuta DAIJIMA,Akihiro Nakamura,Shuji Nomoto,Naomitsu KOMORI. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-04-25.

Photosensitive resin material and resin film

Номер патента: US09874813B2. Автор: Yuma Tanaka. Владелец: Sumitomo Bakelite Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-23.

Photosensitive resin composition and uses thereof

Номер патента: US9316907B2. Автор: Yu-Jie Tsai. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2016-04-19.

Photosensitive resin composition and photosensitive element

Номер патента: MY197706A. Автор: Yoshitaka Kamochi. Владелец: Asahi Chemical Ind. Дата публикации: 2023-07-07.

Photosensitive resin composition, photosensitive element, and method for producing wiring board

Номер патента: US20230145264A1. Автор: Tetsuro Yamashita,Keishi Ono,Yuya Hirayama,Seiji Sunohara. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2023-05-11.

Photosensitive resin composition, photosensitive element, method for forming resist pattern, and method for producing printed wiring board

Номер патента: US20230288802A1. Автор: Tetsuya Kato,Akiko Takeda. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2023-09-14.

Photosensitive resin element

Номер патента: MY176799A. Автор: Tsutomu Igarashi,Tomohiro Kino. Владелец: Asahi Chemical Ind. Дата публикации: 2020-08-21.

Dry-developing photosensitive dry film resist

Номер патента: CA1154287A. Автор: Joseph E. Gervay,Abraham B. Cohen. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 1983-09-27.

Photosensitive resin composition, cured product and manufacturing method thereof, light conversion layer and light emitting device

Номер патента: US20240018379A1. Автор: Yu-Chun Chen,Ya-Qian Chen,Chun-Kuan Tai. Владелец: Advanced Echem Materials Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-18.

Curable resin composition, production method of image sensor chip using the same, and image sensor chip

Номер патента: US09657182B2. Автор: Kazuto Shimada,Toshihide Ezoe,Yuki Nara. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-05-23.

Photosensitive resin composition and uses thereof

Номер патента: US09568763B2. Автор: Jung-Pin Hsu,Duan-Chih WANG. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2017-02-14.

Photosensitive resin composition, method for producing cured product of fluororesin, fluororesin, fluororesin film, bank and display element

Номер патента: US20240270952A1. Автор: Satoru Miyazawa,Yusuke Nomura,Keiko Sasaki,Yuzuru Kaneko,Asuka Sano. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Photosensitive resin composition, color filter and liquid crystal display device using the same

Номер патента: US20150028272A1. Автор: Hao-wei LIAO,Ching-Yuan TSENG. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2015-01-29.

Black masking layer in displays having transparent openings

Номер патента: US11864452B1. Автор: Yi-Pai Huang,Ze YUAN,Adam Backer. Владелец: Apple Inc. Дата публикации: 2024-01-02.

Photosensitive resin composition and display device

Номер патента: US20240209216A1. Автор: Sang-Hoon Lee,Jae Young Jang,Hyoc-Min Youn,Tai Hoon Yeo,Chi Yong Hwang. Владелец: Dongjin Semichem Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Photosensitive resin composition and display device

Номер патента: EP4390545A1. Автор: Sang-Hoon Lee,Jae Young Jang,Hyoc-Min Youn,Tai Hoon Yeo,Chi Yong Hwang. Владелец: Dongjin Semichem Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-26.

Method for manufacturing a liquid crystal display by applying a laser to remove at least a portion of a polymer thin film layer and a substrate

Номер патента: US09910305B2. Автор: Myung Hwan Kim,Myeong Hee Kim,Dae Ho Lee,Hee-Keun Lee. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-06.

Negative photosensitive resin composition, partition walls for optical device and production process thereof, process for producing optical device having the partition walls, and ink repellent solution

Номер патента: US9146462B2. Автор: Kenji Ishizeki,Yutaka Furukawa. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2015-09-29.

Photosensitive resin composition, cured product and method for producing same, method for producing resin pattern, cured film, liquid crystal display device, organic el display device, infrared cut filter, and solid-state imaging device

Номер патента: US9599901B2. Автор: Satoru Yamada,Daisuke Kashiwagi,Yasumasa Kawabe,Hisamitsu Tomeba,Takeshi ANDOU. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-03-21.

Core-shell compound, photosensitive resin composition including the same, photosensitive resin layer, color filter and CMOS image sensor

Номер патента: US11827793B2. Автор: Young Lee,Sundae KIM,Yeji Yang,Chaehyuk Ko,Ieju Kim,Arum Yu,Myungho Cho,Xinhui Feng. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-28.

Photosensitive resin composition, resin sheet, cured film, organic EL display device, semiconductor electronic component, semiconductor device, and method for producing organic EL display device

Номер патента: US11852973B2. Автор: Yusuke Komori,Kazuto Miyoshi. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2023-12-26.

Compound, photosensitive resin composition comprising same, photosensitive resin film, color filter and cmos image sensor

Номер патента: US20230374312A1. Автор: Sundae KIM,Chang-Hyun KWON,Baek Soung Park. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Photosensitive resin composition, cured product, fluorine-containing resin cured film, and display

Номер патента: US20240134276A1. Автор: Keita Hattori,Yuzuru Kaneko,Yuki Furuya,Yuta Sakaida. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-25.

Photosensitive resin composition

Номер патента: US11739215B2. Автор: Takaaki Sakurai. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2023-08-29.

Curable resin composition, production method of image sensor chip using the same, and image sensor chip

Номер патента: US09620542B2. Автор: Kazuto Shimada,Toshihide Ezoe. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-04-11.

Photosensitive resin composition, method for producing cured product of fluororesin, fluororesin, fluororesin film, bank and display element

Номер патента: US11939459B2. Автор: Satoru Miyazawa,Yusuke Nomura,Keiko Sasaki,Yuzuru Kaneko,Asuka Sano. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-26.

Curable resin composition containing siloxane resin having polysilsesquioxane structure, optical member set, method of producing the same, and solid state imaging device using the same

Номер патента: US09637649B2. Автор: Kazuto Shimada,Makoto Kubota,Keiji Yamamoto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-05-02.

Semiconductor-nanoparticle-ligand complex, preparation method therefor, photosensitive resin composition, optical film, electroluminescent diode and electronic device

Номер патента: US20240008304A1. Автор: Tae Yun Kim,Hyung Dong Lee,Hyun Ji OH,Chang Min Lee,Eun Byul BANG,Do Eon Kim,See Maek LEE,Yum Hee PARK,Jong Moon SHIN. Владелец: DukSan Neolux Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Surface modifier, photosensitive resin composition, cured product, and display

Номер патента: US20240134278A1. Автор: Keita Hattori,Yuzuru Kaneko,Yuki Furuya,Yuta Sakaida. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-25.

Liquid crystal display device, production method for liquid crystal display device, and retardation layer-forming monomer

Номер патента: US20210109392A1. Автор: Masanobu Mizusaki. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2021-04-15.

Composite particle, method of producing same, resin composition containing the particle, reflector formed from the composition, and light-emitting semiconductor device using the reflector

Номер патента: US09463997B2. Автор: Toshio Shiobara,Yoshihiro Tsutsumi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-11.

Display panel structure capable of enhancing structural strength around a bonding area of an array substrate and a display device having the same

Номер патента: US11609455B2. Автор: Yingzhi SAN. Владелец: Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-21.

Method of fabricating a system-on-panel typed liquid crystal display

Номер патента: US7016010B2. Автор: Dae-Gyu Moon. Владелец: LG Philips LCD Co Ltd. Дата публикации: 2006-03-21.

Resin composition and display apparatus

Номер патента: EP4365256A3. Автор: Yusuke Kamata,Yoshihisa Shinya. Владелец: Dexerials Corp. Дата публикации: 2024-07-10.

Resin composition and use thereof

Номер патента: US09458279B2. Автор: Yoshihide Sekito. Владелец: Kaneka Corp. Дата публикации: 2016-10-04.

Photocurable resin composition and use thereof

Номер патента: US20200347177A1. Автор: Takashi GONDAIRA,Makoto Tai. Владелец: Arisawa Mfg Co Ltd. Дата публикации: 2020-11-05.

Positive photosensitive resin composition, method for producing film using same, and electronic component

Номер патента: US09778569B2. Автор: Kazuhiro Yamanaka,Junya Nakatsuji,Masafumi Oda,Makoto Seino. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-03.

Structure containing conductor circuit, method for manufacturing same, and heat-curable resin composition

Номер патента: US09661763B2. Автор: Toshimasa Nagoshi,Kazuhiko Kurafuchi,Daisuke Fujimoto,Kunpei Yamada. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Resin composition and display device including adhesive layer formed from the same

Номер патента: US20220204672A1. Автор: Keisuke Morita. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-30.

Resin composition and display device including adhesive layer formed from the same

Номер патента: US20220213353A1. Автор: Keisuke Morita. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2022-07-07.

Resin composition and display device including adhesive layer formed from the same

Номер патента: US11739236B2. Автор: Keisuke Morita. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-29.

Display device including a surface reinforcing layer formed by surface treatment of an organic insulating layer and method for manufacturing the same

Номер патента: US12041836B2. Автор: Jae Hyun Kim,Young Seo Choi,Shogo Nishizaki,Byung Rok MOON. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Photovoltaic panel structure capable of reducing influence of dust accumulation and method for designing photovoltaic panel structure

Номер патента: NL2027172B1. Автор: Ye Qing,Wang Lu,YAO Qi,WANG Shaojie,Feng Pu,LI Xingcai,Jiang Wenjing,Su Chuan,Qu Gaoqiang,Xue Yufeng,Jin Panlong. Владелец: State Grid Ningxia Electric Power Co. Дата публикации: 2022-03-18.

Independent scene movement based on mask layers

Номер патента: WO2024123513A1. Автор: Rakesh Raju CHENNA MADHAVUNI. Владелец: QUALCOMM INCORPORATED. Дата публикации: 2024-06-13.

Independent scene movement based on mask layers

Номер патента: US20240193873A1. Автор: Rakesh Raju CHENNA MADHAVUNI. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2024-06-13.

Photosensitive resin composition and dry film photoresist containing the same

Номер патента: US10545403B2. Автор: Kuen-Yuan Hwang,An-Pang Tu,Gai-Chi Chen,Yun-Chung Wu. Владелец: Chang Chun Plastics Co Ltd. Дата публикации: 2020-01-28.

Generating dynamic virtual mask layers for cutout regions of display panels

Номер патента: US12056881B2. Автор: Nan Zhang,Yongjun XU. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2024-08-06.

Generating a dynamic virtual mask layer for a region of a display

Номер патента: US20210319563A1. Автор: Nan Zhang,Yongjun XU. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2021-10-14.

Photosensitive resin composition and manufacturing method of the same, black matrix, pixel layer, protection film, color filter, and liquid crystal display apparatus

Номер патента: US20190049780A1. Автор: Hao-wei LIAO,Fu-Chien Liu. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2019-02-14.

Photosensitive resin composition, light blocking layer using the same, and color filter

Номер патента: US09541675B2. Автор: Chang-Min Lee,Ji-Hye Kim,Kyung-Hee HYUNG. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Generating dynamic virtual mask layers for cutout regions of display panels

Номер патента: EP4133527A1. Автор: Nan Zhang,Yongjun XU. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2023-02-15.

Compound, photosensitive resin composition including the same, and color filter

Номер патента: US20180335547A1. Автор: Myoungyoup Shin,Hyewon Seo,Sunwoong SHIN,Euisoo Jeong,Gyuseok Han,Juho Jung. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2018-11-22.

Xanthene-based compound and photosensitive resin composition comprising same

Номер патента: US20200262807A1. Автор: Jongho Park,Seung Jin YANG,Jihye JUNG,Dami LEE. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2020-08-20.

Fiber/resin composites, and method of making the same

Номер патента: US4892764A. Автор: Richard T. Thompson,Larry A. Nativi,Kieran F. Drain. Владелец: Henkel Loctite Corp. Дата публикации: 1990-01-09.

Photosensitive resins, resin compositions and products of curing thereof

Номер патента: US7361450B2. Автор: Minoru Yokoshima,Hiroo Koyanagi,Koji Nakayama,Chie Umeyama,Yoshihiro Kawada. Владелец: Nippon Kayaku Co Ltd. Дата публикации: 2008-04-22.

Photosensitive resins, resin compositions and products of curing thereof

Номер патента: AU2003211706A1. Автор: Minoru Yokoshima,Hiroo Koyanagi,Koji Nakayama,Chie Umeyama,Yoshihiro Kawada. Владелец: Nippon Kayaku Co Ltd. Дата публикации: 2003-09-09.

Photosensitive resins, resin compositions and products of curing thereof

Номер патента: KR100974053B1. Автор: 요코시마미노루,고야나기히로오,나카야마고지,우메야마치에,가와다요시히로. Владелец: 니폰 가야꾸 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2010-08-04.

Photosensitive resin, resin composition and cured product thereof

Номер патента: JPWO2003072634A1. Автор: 敬夫 小柳,実 横島,義浩 川田,小柳　敬夫,幸治 中山,中山　幸治,横島　実,智江 梅山. Владелец: Nippon Kayaku Co Ltd. Дата публикации: 2005-06-23.

Patterning A Single Integrated Circuit Layer Using Automatically-Generated Masks And Multiple Masking Layers

Номер патента: US20130171548A1. Автор: Tsu-Jae King Liu. Владелец: Synopsys Inc. Дата публикации: 2013-07-04.

Patterning a single integrated circuit layer using automatically-generated masks and multiple masking layers

Номер патента: EP2430650A1. Автор: Tsu-Jae King Liu. Владелец: Synopsys Inc. Дата публикации: 2012-03-21.

Methods for patterning a silicon oxide-silicon nitride-silicon oxide stack and structures formed by the same

Номер патента: US20210183641A1. Автор: Yuan-Chih Hsieh,Yi-Ren Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-06-17.

Multilayer masking layer and method of forming same

Номер патента: EP3940762A1. Автор: Chung-Ting Ko,Ting-Gang CHEN,Tai-Chun Huang,Chi On Chui,Ya-Lan CHANG,Wen-Ju Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-01-19.

Photosensitive resin composition, color filter and liquid crystal display device

Номер патента: US20130244177A1. Автор: Hao-wei LIAO,Ching-Yuan TSENG. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2013-09-19.

Negative photosensitive resin composition, cured resin film, partition walls and optical element

Номер патента: US20160334707A1. Автор: Masayuki Kawashima,Hideyuki Takahashi,Yusuke Nagai. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-17.

Method for selecting photosensitive resin composition, method for producing patterned cured film, cured film, semiconductor device, and method for producing semiconductor device

Номер патента: US20240361697A1. Автор: Kazuyuki Mitsukura,Masaya TOBA,Takuya KOMINE,Yu Aoki,Yuki IMAZU. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-10-31.

Photosensitive resin composition for color filters and uses thereof

Номер патента: US09519208B2. Автор: Jung-Pin Hsu. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2016-12-13.

Gap forming pattern fracturing method for forming optical proximity corrected masking layer

Номер патента: US20030073035A1. Автор: Ren-Guey Hsieh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2003-04-17.

Composition for forming organic hard mask layer for use in lithography containing polymer having acrylamide structure

Номер патента: US09514949B2. Автор: Ryo Karasawa,Yasunobu Someya,Masakazu Kato,Keisuke Hashimoto,Yuki Usui,Tetsuya Shinjo. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2016-12-06.

Alkali-soluble resin, photosensitive resin composition, color filter, method for manufacturing the same, and liquid crystal display apparatus

Номер патента: US09557444B2. Автор: Bar-Yuan Hsieh. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2017-01-31.

Photosensitive resin composition, production method therefor, resist film, pattern formation method, and method for producing electronic device

Номер патента: EP3757676A1. Автор: Kei Yamamoto,Hidenori Takahashi,Naohiro Tango,Yasufumi OISHI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2020-12-30.

Methods and systems for imaging a mask layer

Номер патента: NL2034371B1. Автор: Ludo Julien De Rauw Dirk. Владелец: XSYS Prepress NV. Дата публикации: 2024-09-26.

Photosensitive resin composition, method for producing heat-resistant resin film and display device

Номер патента: US09897915B2. Автор: Yusuke Komori,Kazuto Miyoshi,Mika Koshino. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2018-02-20.

Photosensitive resin composition, photosensitive resin film using the same and color filter

Номер патента: US09753368B2. Автор: Jieun Kim,Gyuseok Han,Seungjib CHOI,Sohyun KIM,Sundae KIM,Jaeyoung Kwon,Eunjeong Choi,Kwangwon SEO. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-05.

Photosensitive resin composition, photosensitive film, rib pattern formation method, hollow structure and formation method for same, and electronic component

Номер патента: US09625814B2. Автор: Sadaaki Katou,Junichi Kamei. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Photosensitive resin composition and color filter using the same

Номер патента: US09494859B1. Автор: Gyuseok Han,Injae Lee,Seyoung Choi,Sooyeon Park,Haeni SONG. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-15.

Black light-shielding photosensitive resin composition, black matrix, black light-shielding film, frame and filling material for splicing area

Номер патента: US20220404698A1. Автор: Yu-Chun Chen,Meng-Po Liu. Владелец: Echem Solutions Corp. Дата публикации: 2022-12-22.

Photosensitive resin composition, photosensitive resin layer using the same, and color filter

Номер патента: US20240240024A1. Автор: Juho Jung,Chang-Hyun KWON,Heejo MOON,Baek Soung Park. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition

Номер патента: US20160291469A1. Автор: Shota Katayama,Aya Momozawa. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-06.

Photosensitive resin composition, photosensitive resin layer using the same and color filter

Номер патента: US20240337924A1. Автор: Chang-Hyun KWON,Heejo MOON,Baek Soung Park,Junghwa Lee,Jhuo JUNG,Gwangil JEON. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Photosensitive resin composition, photosensitive resin layer using the same, and color filter

Номер патента: US20240337932A1. Автор: Juho Jung,Chang-Hyun KWON,Heejo MOON,Baek Soung Park,Kwangwon SEO. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Photosensitive resin composition, photosensitive resin layer using the same, and color filter

Номер патента: US20240361689A1. Автор: Juho Jung,Chang-Hyun KWON,Heejo MOON,Baek Soung Park,Kwangwon SEO. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Photosensitive resin composition and method for producing semiconductor device

Номер патента: US09704724B2. Автор: Mitsuhito Suwa,Takenori Fujiwara,Yugo Tanigaki. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2017-07-11.

Photosensitive resin composition, black matrix, color filter, and liquid crystal display device

Номер патента: US09557443B2. Автор: Ching-Yuan TSENG. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2017-01-31.

Double patterning method using metallic compound mask layer

Номер патента: US8313889B2. Автор: Chih-Yang Yeh,Hung Chang HSIEH,Vincent Yu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2012-11-20.

Etching method and photosensitive resin composition

Номер патента: EP3961676A1. Автор: Teruhiro Uematsu. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-02.

Photosensitive resin composition, display panel manufactured using same, and manufacturing method therefor

Номер патента: EP4435514A1. Автор: Se Hun Kim,Jin Goo Kang,Jong Woo Shin,Jae kook Ha,Ju Yon Lee,Young Mo Koo. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-25.

Photosensitive resin composition, patterning process, method for forming cured film, interlayer insulation film, surface protective film, and electronic component

Номер патента: US11892773B2. Автор: Katsuya Takemura,Masashi Iio,Hiroyuki Urano. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-06.

Multilayer masking layer and method of forming same

Номер патента: US11855185B2. Автор: Chung-Ting Ko,Ting-Gang CHEN,Tai-Chun Huang,Chi On Chui,Ya-Lan CHANG,Wen-Ju Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Multilayer masking layer and method of forming same

Номер патента: US20230395702A1. Автор: Chung-Ting Ko,Ting-Gang CHEN,Tai-Chun Huang,Chi On Chui,Ya-Lan CHANG,Wen-Ju Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Positive-type photosensitive resin composition, and insulating film and OLED formed using the same

Номер патента: US09921476B2. Автор: Se Hyung Park,Byoung Kee Kim. Владелец: KOLON INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2018-03-20.

Positive-type photosensitive resin composition, method for production of resist pattern, semiconductor device, and electronic device

Номер патента: US09786576B2. Автор: Hiroshi Matsutani,Ken Nanaumi,Takumi Ueno,Alexandre Nicolas. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-10.

Polymeric dye compound, photosensitive resin composition comprising same and use thereof

Номер патента: US09683103B2. Автор: CHEN Liu,Yangyang Xin,Jianchao Lun. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-20.

Photosensitive resin composition and display device

Номер патента: US09637683B2. Автор: Jongsoo Lee,Youngmin Kim,Haeil Park,KiSoo Park,Junghyun Kwon,Juho Kim,Kwangkeun Lee,Hunsik Kim,Minki NAM,Baekhee LEE,Seontae Yoon,Junhan LEE,Donguk Kim,Namseok ROH,Hyounwoo Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-02.

Black photosensitive resin composition, photosensitive resin layer, and display device comprising the same

Номер патента: US09557446B2. Автор: Sang Soo Kim,Chanwoo Kim,Sungseo Cho,Jinhee KANG,Heekyoung KANG,Bumjin LEE,Chungbeum HONG. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Method for imaging a mask layer with two imaging settings and associated imaging system

Номер патента: NL2031133B1. Автор: Ludo Julien De Rauw Dirk. Владелец: Xsys Prepress N V. Дата публикации: 2023-09-11.

Photosensitive resin composition, photosensitive dry film, method of manufacturing photosensitive dry film, method of manufacturing patterned resist film, method of manufacturing substrate with template and method of manufacturing plated article

Номер патента: US20200292939A1. Автор: Kenta Kimura,Shota Katayama,Aya Momozawa,Kazuaki EBISAWA. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2020-09-17.

Photosensitive resin composition, cured film, inductor and antenna

Номер патента: EP3950753A1. Автор: Tatsuo Ishikawa,Tatsuo Mikami. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-02-09.

Photosensitive Resin Composition for Color Filter and Color Filter Using the Same

Номер патента: US20140175346A1. Автор: Gyu-Seok HAN,Sang-Won Cho,Soo-Young Heo,Won-A Noh,Han-Chul HWANG. Владелец: Cheil Industries Inc. Дата публикации: 2014-06-26.

Photosensitive resin composition for microlens

Номер патента: US20120156598A1. Автор: Takahiro Sakaguchi,Takahiro Kishioka. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2012-06-21.

Photosensitive resin composition, photosensitive resin layer using the same, and color filter

Номер патента: US20240329526A1. Автор: Juho Jung,Donghyun PARK,Baek Soung Park,Jihye Kwon,Ickjin Kim,Eunbi PARK,Hyuksin KWON,Youngmin JEON. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Photosensitive resin composition and cured article of same, and optical component

Номер патента: US09932439B2. Автор: Takashi Kubo,Tamaki Son. Владелец: Daicel Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Compound, photosensitive resin composition comprising the same, and color filter

Номер патента: US09815843B2. Автор: Seung Jib Choi,Myoung Youp Shin,Hye Won Seo,Chae Won PAK,Eui Soo JEONG. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-14.

Photosensitive resin composition, method for producing patterned cured film, semiconductor element and electronic device

Номер патента: US09633848B2. Автор: Shigeru Nobe,Hiroshi Matsutani,Kei Kasuya,Akitoshi Tanimoto,Yu Aoki,Shingo Tahara. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-25.

Compound, photosensitive resin composition comprising the same and color filter

Номер патента: US09581729B2. Автор: Young Lee,Kyu-Young Kim,Myoung-Youp Shin,Chae-Won Pak,Eui-Soo Jeong,Hye-Won Seo. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Positive photosensitive resin composition, photosensitive resin film prepared by using the same, and display device

Номер патента: US09329475B2. Автор: Hwan-Sung Cheon,Ran Namgung,Hyo-Young KWON. Владелец: Cheil Industries Inc. Дата публикации: 2016-05-03.

Method, control module and system for imaging a mask layer

Номер патента: WO2023217770A1. Автор: Dirk Ludo Julien DE RAUW. Владелец: XSYS Prepress NV. Дата публикации: 2023-11-16.

Method, control module and system for imaging a mask layer

Номер патента: NL2031806B1. Автор: Ludo Julien De Rauw Dirk. Владелец: Xsys Prepress N V. Дата публикации: 2023-11-16.

Novel Compound, Pigment Dispersion Composition and Photosensitive Resin Composition Including the Same, and Color Filter Using the Same

Номер патента: US20120287524A1. Автор: Seong-Yong Uhm,Kyung-Hee HYUNG,Seong-Ryong Nam,Taek-Jin Baek,Tae-Gyu Chun. Владелец: Cheil Industries Inc. Дата публикации: 2012-11-15.

Photosensitive resin composition and color filter using the same

Номер патента: US09994728B2. Автор: Ju-Ho JUNG,Eui-June JEONG,Kyung-Hee HYUNG,Taek-Jin Baek. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

Photosensitive resin composition for color filter, and color filter using the same

Номер патента: US09864272B2. Автор: Gyu-Seok HAN,Se-Young CHOI,Nam-Gwang KIM,Kyung-Hee HYUNG. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Photosensitive resin composition, photosensitive element, semiconductor device and method for forming resist pattern

Номер патента: US09841678B2. Автор: Tetsuya Kato,Masahiko Ebihara,Kenichi Iwashita. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-12.

Photosensitive resin composition for color filter and color filter using the same

Номер патента: US09841675B2. Автор: Dong-wan Kim,Gyu-Seok HAN,Ji-young Jeong,In-jae Lee,Ji-Hong Kim,Jee-Hyun Ryu. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-12.

Black photosensitive resin composition and light-blocking layer using the same

Номер патента: US09599898B2. Автор: Min-Sung Kim,Jin-woo Park,Ho-Jeong PAEK,Seung-Jib Choi,Young-Woong JANG,Do-Uk KIM,Young-Tai LEE,Lee-June Kim. Владелец: Cheil Industries Inc. Дата публикации: 2017-03-21.

Binder resin, negative-type photosensitive resin composition, and display device comprising black bank formed using same

Номер патента: US11892772B2. Автор: Seongho JEON,Minyoung Lim,Junhyun AN,Hyunmin PARK,Baekhwan YANG. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2024-02-06.

Photosensitive resin composition, organic light emitting display device including the same, and method for manufacturing organic light emitting display device

Номер патента: US10494483B2. Автор: Jeong Won KIM,Hwa-Young Kim,Jun-Young Kim,Ho-Sung Choi,Jin Ho JU,Jun Hyuk Woo,Beung Hwa Jeong. Владелец: LTC CO Ltd. Дата публикации: 2019-12-03.

Photosensitive resin composition for optical waveguides, and optical waveguide and manufacturing method thereof

Номер патента: US20060088257A1. Автор: Yukio Maeda,Yuuichi Eriyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2006-04-27.

Photosensitive resin composition for optical waveguides, and optical waveguide and manufacturing method thereof

Номер патента: US20080145016A1. Автор: Yukio Maeda,Yuuichi Eriyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2008-06-19.

Photosensitive resin composition and color filter using the same

Номер патента: US09487694B2. Автор: Gyu-Seok HAN,Hwan-Sung Cheon,Ji-Yun KWON,Hyun-Yong Cho,Youn-Je Ryu. Владелец: Cheil Industries Inc. Дата публикации: 2016-11-08.

Photosensitive resin composition, film, and electronic device

Номер патента: US12019373B2. Автор: Dae Won Lee,Jun Hwan Kim,Jun Bae,Jun Ki Kim,Chung Youl Yoo,Seul Ki Lee,Sun Hee Heo,Yong Jeong JO,Sang Yeob AHN. Владелец: Duksan Techopia Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Photosensitive resin composition for a color filter and uses thereof

Номер патента: US20140346416A1. Автор: Jung-Pin Hsu,Duan-Chih WANG. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2014-11-27.

Apparatus for forming a photoresist layer, method for forming a masking layer, and method for forming a photoresist layer

Номер патента: US20210055658A1. Автор: Yung-Yao Lee,Chen Yi Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-02-25.

Positive photosensitive resin composition and method for forming cured film using the same

Номер патента: US8329380B2. Автор: Satoshi Takita. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2012-12-11.

Colored photosensitive resin composition, coating film of colored photosensitive resin composition, photosensitive resin transfer material, method of foaming photosensitive resin layer, color filter, method for producing color filter, and liquid crystal display device

Номер патента: US8623574B2. Автор: HIDEAKI Ito,Mitsutoshi Tanaka,Hideyuki Nakamura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-01-07.

Photosensitive resin composition, process for producing patterned hardened film with use thereof and electronic part

Номер патента: EP2133743A1. Автор: Tomonori Minegishi,Kenichi Iwashita,Rika Nogita. Владелец: Hitachi Chemical DuPont Microsystems Ltd. Дата публикации: 2009-12-16.

Photosensitive resin composition

Номер патента: US6537719B1. Автор: Shuichi Takahashi. Владелец: Clariant Finance BVI Ltd. Дата публикации: 2003-03-25.

Photosensitive resin composition, cured film, electronic component, antenna element, semiconductor package, and compound

Номер патента: US20240045329A1. Автор: Hitoshi Araki,Hisashi Ogasawara,Masaya JUKEI. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2024-02-08.

Photosensitive resin composition, photosensitive resin film using same, color filter and display device

Номер патента: US20230375918A1. Автор: Sangho Lee,Sohyun KIM,Juho Jung. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Polyimide precursor resin composition and method for manufacturing same

Номер патента: US20240101761A1. Автор: Kohei Murakami,Tomohito Ogura. Владелец: Asahi Kasei Corp. Дата публикации: 2024-03-28.

Photosensitive resin composition, photosensitive sheet, cured film, method for producing cured film, electronic component, antenna element, semiconductor package, and display device

Номер патента: US20230112804A1. Автор: Hitoshi Araki,Hisashi Ogasawara,Masaya JUKEI. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2023-04-13.

Photosensitive resin composition, production method for resin film, production method for organic semiconductor element, and fluorine-containing polymer

Номер патента: US20170322488A1. Автор: Takefumi Abe,Masaki Obi,Tomoaki Sakurada. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-09.

Photosensitive Resin Composition for Color Filter and Color Filter Prepared Using the Same

Номер патента: US20100104958A1. Автор: Kil-Sung Lee,Jae-Hyun Kim,Chang-Min Lee,Eui-June JEONG. Владелец: Cheil Industries Inc. Дата публикации: 2010-04-29.

Photosensitive resin composition and process for producing semiconductor element

Номер патента: EP2799928A1. Автор: Mitsuhito Suwa,Takenori Fujiwara,Yugo Tanigaki. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2014-11-05.

Compound, photosensitive resin composition including the same, photosensitive resin layer, color filter and display device

Номер патента: US11852971B2. Автор: Jonghee PARK,Jeehyun Ryu,Myoungyoup Shin,Euisoo Jeong,Juho Jung,Chang-Hyun KWON,Sooyoung HEO,Jihye Kwon. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Photosensitive resin composition, molded article that is provided with pattern, and method for producing molded article that is provided with pattern

Номер патента: US20230123649A1. Автор: Shinya Murakami. Владелец: Sumitomo Seika Chemicals Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-20.

Positive Photosensitive Resin Composition, Photosensitive Resin Film Prepared by Using the Same, and Semiconductor Device Including the Photosensitive Resin Film

Номер патента: US20130137036A1. Автор: Jong-Hwa Lee,Sang-soo Kim,Eun-Ha HWANG,Jun-Ho Lee,Ji-young Jeong,Jin-Young Lee,Hyun-Yong Cho,Myoung-Hwan Cha,Eun-Kyung Yoon. Владелец: Cheil Industries Inc. Дата публикации: 2013-05-30.

Photosensitive resin composition

Номер патента: US20200209745A1. Автор: Masahisa Endo,Naoya Nishimura,Takahiro Kishioka,Takuya Ohashi. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2020-07-02.

Photosensitive Resin Composition Cured Product Of Same

Номер патента: US20210271165A1. Автор: Yoshiyuki Ono,Taihei Koumoto,Takanori Koizumi,Yoshihiro HAKONE. Владелец: Nippon Kayaku Co Ltd. Дата публикации: 2021-09-02.

Cured film and positive photosensitive resin composition

Номер патента: US20180356727A1. Автор: Yuta Shuto,Satoshi KAMEMOTO,Kazuto Miyoshi. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2018-12-13.

Photosensitive resin composition, photosensitive resin layer using the same, and color filter

Номер патента: US20240094631A1. Автор: Sangho Lee,Baek Soung Park,Ieju Kim,Myungho Cho,Kwangseop KIM,Jeongho Yoo,Sabina Kim,Ickjin Kim. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Photosensitive resin composition, laminate, method for manufacturing semiconductor device, and semiconductor device

Номер патента: US20170012022A1. Автор: Yu Iwai,Kenta YOSHIDA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-01-12.

Colored photosensitive resin composition

Номер патента: US11988962B2. Автор: Takakiyo Terakawa,Jumpei Morimoto. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-21.

Infrared transmission photosensitive resin composition

Номер патента: US9599894B2. Автор: Wan Joong Kim,Seung No Lee,Yu Bin IM. Владелец: Dongwoo Fine Chem Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Positive photosensitive resin composition and display device comprising same

Номер патента: US20240201590A1. Автор: In Ho Song,Sun Hee Lee,Hyoc Min Youn,Seok Hyun Lee,Dong Myung Kim,Tai Hoon Yeo,Ah Rum PARK,Gun Seok JANG,Nu Ri OH. Владелец: Dongjin Semichem Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Infrared transmission photosensitive resin composition

Номер патента: US20160282716A1. Автор: Wan Joong Kim,Seung No Lee,Yu Bin IM. Владелец: Dongwoo Fine Chem Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-29.

Resin composition, dry-etching resist mask, and patterning method

Номер патента: US09777079B2. Автор: Makoto Yada,Takeshi Ibe. Владелец: DIC Corp. Дата публикации: 2017-10-03.

Positive-type photosensitive resin composition, and insulating film and oled formed using the same

Номер патента: WO2013048069A9. Автор: Se Hyung Park,Byoung Kee Kim. Владелец: KOLON INDUSTRIES, INC.. Дата публикации: 2013-09-19.

Positive Photosensitive Resin Composition, Photosensitive Resin Film Prepared by Using the Same, and Semiconductor Device Including the Photosensitive Resin Film

Номер патента: US20120171614A1. Автор: Hwan-Sung Cheon,Jong-Hwa Lee,Ji-young Jeong,Hyun-Yong Cho,Myoung-Hwan Cha,Mi-Ra Im,Min-Kook CHUNG. Владелец: Cheil Industries Inc. Дата публикации: 2012-07-05.

Photosensitive resin composition for optical waveguide formation and optical waveguide

Номер патента: US7394965B2. Автор: Yuuichi Eriyama,Hideaki Takase,Tomohiro Utaka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2008-07-01.

Epoxy-containing, isocyanurate-modified silicone resin, photosensitive resin composition, photosensitive dry film, laminate, and pattern forming process

Номер патента: US20190064666A1. Автор: Kazunori Kondo,Hideto Kato,Hitoshi Maruyama,Kumiko Hayashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2019-02-28.

Low reflectivity photosensitive resin composition and light-shielding layer using same

Номер патента: US20230273517A1. Автор: Changmin Lee,Soung Yun MUN,Jun Bae,Jun Ki Kim,Hyunsang CHO,Yun Jong KO. Владелец: DukSan Neolux Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-31.

Positive photosensitive resin composition and display device comprising same

Номер патента: EP4383008A1. Автор: In Ho Song,Sun Hee Lee,Hyoc Min Youn,Seok Hyun Lee,Dong Myung Kim,Tai Hoon Yeo,Ah Rum PARK,Gun Seok JANG,Nu Ri OH. Владелец: Dongjin Semichem Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-12.

Photosensitive resin composition, photosensitive resin layer and color filter using same

Номер патента: US20190041747A1. Автор: Bumjin LEE,Misun Kim,JongGi Kim,Hojeong PAEK,JiHyeon YIM,Jinsuop YOUN,Obum KWON,Hyunjoo Han,JiYoung JEONG. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2019-02-07.

Photosensitive resin composition, photosensitive resin layer and color filter using same

Номер патента: WO2017217631A1. Автор: Bumjin LEE,Misun Kim,JongGi Kim,Hojeong PAEK,JiHyeon YIM,Jinsuop YOUN,Obum KWON,Hyunjoo Han,JiYoung JEONG. Владелец: Samsung SDI Co., Ltd.. Дата публикации: 2017-12-21.

Pigment dispersion liquid containing organic color pigment and infrared absorbing dye, colored resin composition, and optical filter

Номер патента: US20180179306A1. Автор: Satoshi Kobayashi,Takashi Yoshimoto,Yusuke TONE. Владелец: Nippon Kayaku Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-28.

Photosensitive resin composition, pattern forming process, and fabrication of opto-semiconductor device

Номер патента: EP3505551A1. Автор: Kazunori Kondo,Hitoshi Maruyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2019-07-03.

Compound, core-shell dye, photosensitive resin composition including the same, and color filter

Номер патента: US11945763B2. Автор: Myoungyoup Shin,Hyewon Seo,Chaewon Pak,Sunwoong SHIN,Euisoo Jeong,Kyubuem CHOI,Gyuseok Han. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-02.

Negative photosensitive resin composition, patterning process, interlayer insulating film, surface protection film, and electronic component

Номер патента: EP4273624A1. Автор: Katsuya Takemura,Masashi Iio,Hiroyuki Urano. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-08.

Positive Photosensitive Resin Composition, Photosensitive Resin Film Prepared by Using the Same, and Display Device

Номер патента: US20150111153A1. Автор: Hwan-Sung Cheon,Ran Namgung,Hyo-Young KWON. Владелец: Cheil Industries Inc. Дата публикации: 2015-04-23.

Photosensitive resin composition and display device

Номер патента: US11774852B2. Автор: Jae Hyun Lim,Soung Yun MUN,Jun Bae,Jun Ki Kim,Chang Min Lee. Владелец: DukSan Neolux Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Branched copolymer, and photosensitive resin composition, photosensitive resin film and optical device using the same

Номер патента: US11981775B2. Автор: Da Jung Kim,Bethy KIM,Young Jee SONG,Dongmin JEONG. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2024-05-14.

Negative Photosensitive Resin Composition, Patterning Process, Interlayer Insulating Film, Surface Protection Film, And Electronic Component

Номер патента: US20230350294A1. Автор: Katsuya Takemura,Masashi Iio,Hiroyuki Urano. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

Photosensitive resin composition, pattern forming process, and fabrication of opto-semiconductor device

Номер патента: US20190354013A1. Автор: Kazunori Kondo,Hitoshi Maruyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-21.

Photosensitive resin composition and display device

Номер патента: US20240126169A1. Автор: Hoon Kang,Yang-Ho Jung,Bum Sung LEE,Jihee KIM,Jun Bae,Chang Min Lee,Nakcho Choi,Jaehun Lee,Jungi KIM,Junho SIM,Dae-Gi KWEON. Владелец: DukSan Neolux Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-18.

Photosensitive resin composition, optical film, and method of producing optical film

Номер патента: US20200225581A1. Автор: Chen-Wen Chiu,Chia-Hao Lou,Jui-Yu Hsu. Владелец: Echem Solutions Corp. Дата публикации: 2020-07-16.

Photosensitive resin composition and display device including the same

Номер патента: US20230324795A1. Автор: Jeong Soo Kim,Suk Hoon KANG,Beom Soo SHIN,Sung Hwan Hong. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Compound for semiconductor package, photosensitive resin composition including the same and semiconductor package structure thereof

Номер патента: US20160187776A1. Автор: Yung-Chi Tsai. Владелец: GTA ELECTRONICS CO Ltd. Дата публикации: 2016-06-30.

Photosensitive resin composition, and, photosensitive element, method for forming resist pattern, method for manufacturing printed wiring board and method for manufacturing partition wall for plasma display panel using the composition

Номер патента: US20090202944A1. Автор: Takashi Kumaki,Masahiro Miyasaka. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2009-08-13.

Photosensitive resin composition, organic light emitting display device including the same, and method for manufacturing organic light emitting display device

Номер патента: US20170226294A1. Автор: Jeong Won KIM,Hwa-Young Kim,Jun-Young Kim,Ho-Sung Choi,Jin Ho JU,Jun Hyuk Woo,Beung Hwa Jeong. Владелец: LTC CO Ltd. Дата публикации: 2017-08-10.

Photosensitive resin composition, photosensitive element comprising the same, method of forming resist pattern, and process for producing printed wiring board

Номер патента: MY148552A. Автор: Ajioka Yoshiki. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2013-04-30.

Photosensitive resin composition and manufacturing method of display device using the same

Номер патента: US20230096077A1. Автор: Koichi Sugitani,Jun Young Kim,Hye In KIM,Hwa Young Kim,Ho Sung Choi,Gwui-Hyun PARK,Pil Soon HONG,Saehee Han,Do Hyun Seo,Do Hyuk IM,Sung Goo HAN. Владелец: LTC CO Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Photosensitive resin composition, film, and electronic device

Номер патента: US20220019144A1. Автор: Dae Won Lee,Jun Hwan Kim,Jun Bae,Jun Ki Kim,Chung Youl Yoo,Seul Ki Lee,Sun Hee Heo,Yong Jeong JO,Sang Yeob AHN. Владелец: Duksan Techopia Co Ltd. Дата публикации: 2022-01-20.

Photosensitive resin composition, optical waveguide film, film for forming optical waveguide, optical interconnect, opto-electric hybrid circuit board, electronic device, and a method of manufacturing an optical waveguide film

Номер патента: SG173646A1. Автор: Tetsuya Mori,Keizo Takahama. Владелец: Sumitomo Bakelite Co. Дата публикации: 2011-09-29.

Structure for optical devices, process for preparing the same, and photocurable siloxane resin composition therefor

Номер патента: US20240168383A1. Автор: Geun Huh,Ji-Ung Kim,Seung-Kyu Song,Hyung-Tak Jeon. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Photosensitive resin composition and touch panel or display device including bezel pattern prepared by using same

Номер патента: US09470975B2. Автор: Sang Chul Lee,Geun Young Cha,Dongchang CHOI,Kyung Soo Choi,Kwang Han Park,Heeyoung Oh. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2016-10-18.

Method of forming protective film for touch panel electrode, photosensitive resin composition and photosensitive element, and method of manufacturing touch panel

Номер патента: US09488912B2. Автор: Hiroshi Yamazaki,Yasuharu Murakami,Ikuo Mukai,Naoki Sasahara. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-08.

Positive photosensitive resin composition, cured film formed by curing same, and optical device equipped with same

Номер патента: US09989852B2. Автор: Mitsuhito Suwa,Keiichi Uchida,Chika Taniguchi,Masao Kamogawa. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2018-06-05.

Photosensitive resin composition for optical waveguide, photocurable film for formation of optical waveguide core layer, optical waveguide produced by using the resin composition or the photocurable film, and hybrid flexible printed wiring board for optical/electrical transmission

Номер патента: US09963541B2. Автор: Naoya Sugimoto,Tomoyuki Hirayama. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2018-05-08.

Positive photosensitive resin composition and cured film forming method using the same

Номер патента: US09964848B2. Автор: Satoshi Takita. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-05-08.

Modified acrylate adhesive resin and production process of the same, photosensitive resin composition, display substrate, liquid crystal panel

Номер патента: US09644122B2. Автор: HE Feng,Min Li,Ming Dong,Tonghua Yang,Sikai Zhang. Владелец: Beijing BOE Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-09.

Polyimide copolymer, method for preparing the polyimide copolymer, photosensitive resin composition, photosensitive resin film, and optical device using the polyimide copolymer

Номер патента: US20210214500A1. Автор: Min Hyung Lee,Seongho JEON,Bethy KIM,Young Jee SONG. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2021-07-15.

Photosensitive resin composition, method for producing hardened relief pattern, semiconductor device and display device

Номер патента: US09575410B2. Автор: Takahiro Sasaki,Tatsuya Hirata,Satoshi Shibui,Taisuke Yamada. Владелец: Asahi Kasei E Materials Corp. Дата публикации: 2017-02-21.

Photosensitive resin composition, cured film, and semiconductor device

Номер патента: US20240321803A1. Автор: Keita Imai,Toshiharu Kuboyama,Yuki Ueda,Akihiko Otoguro. Владелец: Sumitomo Bakelite Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Photosensitive resin composition, photosensitive resin film, photosensitive dry film, patterning process, and light emitting device

Номер патента: US20230030194A1. Автор: Hitoshi Maruyama,Tamotsu Oowada. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-02.

Photosensitive resin composition, photosensitive resin coating, photosensitive dry film, pattern forming method, and light emitting element

Номер патента: EP4071200A1. Автор: Hitoshi Maruyama,Tamotsu Oowada. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-10-12.

Base generator, photosensitive resin composition, pattern forming material comprising the photosensitive resin composition, and pattern forming method and article using the photosensitive resin composition

Номер патента: US20110086311A1. Автор: Katsuya Sakayori,Shunji Fukuda,Mami Katayama. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2011-04-14.

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME

Номер патента: FR2501388A1. Автор: Nobuyuki Hayashi,Toshiaki Ishimaru,Katsushige Tsukada. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1982-09-10.

Photosensitive resin composition, heterocyclic ring-containing polymer precursor, cured film, laminate, method for producing cured film, and semiconductor device

Номер патента: US11860538B2. Автор: Takeshi Kawabata,Akinori Shibuya,Yu Iwai. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-01-02.

Photosensitive resin composition and application of the same

Номер патента: US9529116B2. Автор: Jung-Pin Hsu,Bo-Hsuan Lin,Duan-Chih WANG. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2016-12-27.

Modified acrylate adhesive resin and production process of the same, photosensitive resin composition, display substrate, liquid crystal panel

Номер патента: US20150368526A1. Автор: HE Feng,Min Li,Ming Dong,Tonghua Yang,Sikai Zhang. Владелец: Beijing BOE Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2015-12-24.

Compound, curable resin composition, cured product, diffractive optical element, and augmented reality glasses

Номер патента: US20240368076A1. Автор: Naoyuki Morooka,Naozumi SHIRAIWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-11-07.

Photosensitive resin composition for forming a polyimide film pattern

Номер патента: US5176982A. Автор: Shuzi Hayase,Yukihiro Mikogami,Yoshihiko Nakano. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1993-01-05.

Photosensitive resin composition for optical waveguide formation, optical waveguide and method for producing optical waveguide

Номер патента: US20110044597A1. Автор: Katsumi Maeda,Kaichiro Nakano. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2011-02-24.

Polyimide copolymer, method for preparing the polyimide copolymer, photosensitive resin composition, photosensitive resin film, and optical device using the polyimide copolymer

Номер патента: US12018126B2. Автор: Min Hyung Lee,Seongho JEON,Bethy KIM,Young Jee SONG. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

First and second magneto-resistive sensors formed by first and second sections of a layer stack

Номер патента: US09618589B2. Автор: Juergen Zimmer,Harald Witschnig. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2017-04-11.

Resin composition and optical film formed by using the same

Номер патента: WO2012165755A1. Автор: Dae-woo Lee,Chang-Hun Han,Byoung-Il Kang,Jun-Geun Um,Sang-Min Kwak,Nam-Jeong Lee,Suk-Il Youn,Joon-Sik Kim,Jung-Tae Park,Jae-Bum Seo,Eun-Jung Choi,Joong-Hoon Lee,Beom-Suk KIM. Владелец: LG CHEM, LTD.. Дата публикации: 2012-12-06.

Article and active energy ray-curable resin composition

Номер патента: US09718910B2. Автор: Shinji Makino,Keiko Yasukawa,Seiichiro Mori,Yusuke Nakai,Go Otani,Masashi IKAWA. Владелец: Mitsubishi Rayon Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Resin composition for formation of optical waveguide, resin film for formation of optical waveguide which comprises the resin composition, and optical waveguide produced using the resin composition or the resin film

Номер патента: US09605143B2. Автор: Tatsuya Makino,Masami Ochiai,Masatoshi Yamaguchi. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-28.

(Meth)acrylic resin composition, film, polarizing plate protective film, polarizing plate, and liquid crystal display device

Номер патента: US9777184B2. Автор: Hajime Nakayama,Yutaka Nozoe,Shusuke Arita. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-10-03.

(meth)acrylic resin composition, film, polarizing plate protective film, polarizing plate, and liquid crystal display device

Номер патента: US20160376462A1. Автор: Hajime Nakayama,Yutaka Nozoe,Shusuke Arita. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-12-29.

Polycarbonate resin composition having excellent optical characteristics and molded product comprising same

Номер патента: US20240209145A1. Автор: Soon Yong Kwon,Tae Jin An,Do Young Bae,Suk Woo Kang,Sam Jung Kim. Владелец: Samyang Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, resist-coated mask blank, photomask and pattern forming method, and method for producing electronic device using them, and electronic device

Номер патента: US9632410B2. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Shuhei Yamaguchi,Toru Tsuchihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-04-25.

Method and apparatus for adjusting a user interface displayed on a user device using a masking layer

Номер патента: US11372539B2. Автор: Su Ho Lee,Hae Young Jung,Bo Hyun OH,Ji Hong PARK,Eun Jung GIL,Oh Hyeon Kwon. Владелец: Kakaobank Corp. Дата публикации: 2022-06-28.

Securing credentials with optical security features formed by quasi-random optical characteristics of credential substrates

Номер патента: US20180276364A1. Автор: Robert K. Rowe. Владелец: HID Global Corp. Дата публикации: 2018-09-27.

Method for forming resin cured film pattern, photosensitive resin composition, photosensitive element, method for producing touch panel, and resin cured film

Номер патента: US09964849B2. Автор: Hiroshi Yamazaki,Yasuharu Murakami,Ikuo Mukai,Naoki Sasahara,Yoshimi Igarashi. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Method of preparing image job data for imaging a mask layer, associated controller and mask layer imaging system

Номер патента: NL2033172B1. Автор: Ludo Julien De Rauw Dirk. Владелец: Xsys Prepress N V. Дата публикации: 2024-04-05.

Method of preparing image job data for imaging a mask layer, associated controller and mask layer imaging system

Номер патента: EP4345596A1. Автор: Dirk Ludo Julien DE RAUW. Владелец: XSYS Prepress NV. Дата публикации: 2024-04-03.

Method of preparing image job data for imaging a mask layer, associated controller and mask layer imaging system

Номер патента: US20240103780A1. Автор: Dirk Ludo Julien DE RAUW. Владелец: XSYS Prepress NV. Дата публикации: 2024-03-28.

Method and apparatus for adjusting a user interface displayed on a user device using a masking layer

Номер патента: US20210318799A1. Автор: Su Ho Lee,Hae Young Jung,Bo Hyun OH,Ji Hong PARK,Eun Jung GIL,Oh Hyeon Kwon. Владелец: Kakaobank Corp. Дата публикации: 2021-10-14.

Method for forming resin cured film pattern, photosensitive resin composition, photosensitive element, method for producing touch panel, and resin cured film

Номер патента: US20170184965A1. Автор: Hiroshi Yamazaki,Yasuharu Murakami,Ikuo Mukai,Naoki Sasahara,Yoshimi Igarashi. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-29.

Method for forming resin cured film pattern, photosensitive resin composition, photosensitive element, method for producing touch panel, and resin cured film

Номер патента: US20180321587A1. Автор: Hiroshi Yamazaki,Yasuharu Murakami,Ikuo Mukai,Naoki Sasahara,Yoshimi Igarashi. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-11-08.

Interface device and on-panel pad

Номер патента: US11644912B2. Автор: Yoshio Nomura,Shigeyuki Sano,Kazuhiro Miyoshi,Thilo Naoki Hornung,Jui Min Liu. Владелец: Wacom Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-09.

Method for manufacturing touch panel structure, and method for manufacturing display apparatus

Номер патента: US09864474B2. Автор: Masaru Aoki,Masami Hayashi. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2018-01-09.

Interface device and on-panel pad

Номер патента: US20210157419A1. Автор: Yoshio Nomura,Shigeyuki Sano,Kazuhiro Miyoshi,Thilo Naoki Hornung,Jui Min Liu. Владелец: Wacom Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-27.

Video mask layer display method, apparatus, device and medium

Номер патента: US12039628B2. Автор: Yujie Li,Xiaotong MA. Владелец: Beijing Zitiao Network Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Document with a region protected by a masking layer

Номер патента: EP1087329A3. Автор: Antonio Mantegazza. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-01-02.

Acoustic biometric imaging system with acoustic impedance matched opaque masking layer, and manufacturing method

Номер патента: WO2019235988A1. Автор: Karl Lundahl,Martin Grip,Adam Benson,Hanna Nilsson. Владелец: Fingerprint Cards AB. Дата публикации: 2019-12-12.

Acoustic biometric imaging system with acoustic impedance matched opaque masking layer, and manufacturing method

Номер патента: EP3803690A1. Автор: Karl Lundahl,Martin Grip,Adam Benson,Hanna Nilsson. Владелец: Fingerprint Cards AB. Дата публикации: 2021-04-14.

Systems and methods for improving ultrasound image quality by applying weighting factors

Номер патента: US09668714B2. Автор: Josef R. Call,Kenneth D. Brewer,Donald F. Specht. Владелец: Maui Imaging Inc. Дата публикации: 2017-06-06.

Systems and methods for improving ultrasound image quality by applying weighting factors

Номер патента: US11172911B2. Автор: Josef R. Call,Kenneth D. Brewer,Donald F. Specht. Владелец: Maui Imaging Inc. Дата публикации: 2021-11-16.

Water-developable photosensitive resin composition for flexographic printing use, and photosensitive resin original plate for flexographic printing use which is produced from same

Номер патента: EP3680715A1. Автор: Wataru Kawashima,Jun HASUIKE. Владелец: Toyobo Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-15.

Water-developable photosensitive resin composition for flexographic printing and photosensitive resin original plate for flexographic printing obtained therefrom

Номер патента: US20210063877A1. Автор: Wataru Kawashima,Jun HASUIKE. Владелец: Toyobo Co Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Photosensitive resin printing plate original, process for producing the same and process for producing resin relief printing plate therewith

Номер патента: AU2003275582A1. Автор: Shinji Tanaka,Tamio Adachi,Michihiko Ichikawa,Yoshiki Ichii. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2004-05-13.

Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition, photosensitive dry film, method of manufacturing photosensitive dry film, method of manufacturing patterned resist film, method of manufacturing substrate with template and method of manufacturing plated article

Номер патента: US20190346765A1. Автор: Akiya Kawaue,Shota Katayama,Kazuaki EBISAWA. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-14.

Water-developable photosensitive resin printing original plate

Номер патента: US12061417B2. Автор: Toru Wada,Toshiyuki Kita. Владелец: Toyobo MC Corp. Дата публикации: 2024-08-13.

Photosensitive resin composition, color filter and liquid crystal display device

Номер патента: US09791773B2. Автор: Hao-wei LIAO,I-Chun HSIEH. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2017-10-17.

Alkali developable photosensitive resin composition containing oil-soluble diazo resin

Номер патента: US5397675A. Автор: Yoshifumi Ichinose,Katsuji Konishi,Takakazu Hase,Seuji Arimatsu. Владелец: Nippon Paint Co Ltd. Дата публикации: 1995-03-14.

Water developable photosensitive resin composition

Номер патента: US5230987A. Автор: Yasushi Umeda,Toshitaka Kawanami,Norihisa Osaka. Владелец: Mitsubishi Rayon Co Ltd. Дата публикации: 1993-07-27.

Photosensitive resin composition for relief printing original plate, and relief printing original plate using same

Номер патента: EP3667418A1. Автор: Kazuya Yoshimoto. Владелец: Toyobo Co Ltd. Дата публикации: 2020-06-17.

Photomask having self-masking layer and methods of etching same

Номер патента: EP1901119A3. Автор: Banqiu Wu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2012-06-06.

Polymer, photosensitive resin composition, patterning method, method of forming cured film, interlayer insulating film, surface protective film, and electronic component

Номер патента: US20210317268A1. Автор: Yoshio Kawai,Katsuya Takemura,Dmitry Zubarev,Masashi Iio,Hiroyuki Urano,Kazuya HONDA. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-10-14.

Photosensitive resin composition, resist laminate, cured product of photosensitive resin composition, and cured product of resist laminate (11)

Номер патента: US09857685B2. Автор: Naoko Imaizumi,Shinya Inagaki,Yoshiyuki Ono,Takanori Koizumi,Maki Kumagai. Владелец: Nippon Kayaku Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-02.

Photosensitive resin composition, resist laminate, and articles obtained by curing same (7)

Номер патента: US09448479B2. Автор: Naoko Imaizumi,Shinya Inagaki,Nao Honda. Владелец: Nippon Kayaku Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Photosensitive resin composition and resin plate for flexography

Номер патента: US20010033981A1. Автор: Masatoshi Yoshida,Toshimi Aoyama,Toshiya Takagi,Koji Kahara,Nobuhiro Kobayashi. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2001-10-25.

Alkali-soluble resin, method for preparing the same and photosensitive resin composition comprising the same

Номер патента: US09783626B2. Автор: SHAN CHANG,Xuelan WANG,Chen Tang,Zhuo Zhang. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-10.

Photosensitive resin composition, resist laminate, and cured product thereof (2)

Номер патента: US09684239B2. Автор: Naoko Imaizumi,Shinya Inagaki,Nao Honda. Владелец: Nippon Kayaku Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-20.

Photosensitive resin composition for relief printing original plate and relief printing original plate using the same

Номер патента: US20200247169A1. Автор: Kazuya Yoshimoto. Владелец: Toyobo Co Ltd. Дата публикации: 2020-08-06.

Photosensitive resin constituent for flexographic printing plate and flexographic printing plate

Номер патента: US20190105937A1. Автор: Ryo ICHIHASHI. Владелец: Asahi Kasei Corp. Дата публикации: 2019-04-11.

Photosensitive resin composition for forming cell culture substrate

Номер патента: US20170137767A1. Автор: Takahiro Senzaki. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-18.

Photosensitive resin composition, pattern forming method, cured film, laminate, and device

Номер патента: US12078929B2. Автор: Toshihide Aoshima,Kenta Yamazaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-09-03.

Method for producing multi-layered type microchannel device using photosensitive resin laminate

Номер патента: US12032286B2. Автор: Hidenori Nagai,Yuzo Kotani,Shunsuke Furutani,Kanako Mizumura. Владелец: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST. Дата публикации: 2024-07-09.

Positive photosensitive resin composition

Номер патента: US20230205085A1. Автор: In Ho Song,Sun Hee Lee,Hyoc Min Youn,Seok Hyun Lee,Dong Myung Kim,Tai Hoon Yeo,Ah Rum PARK,Gun Seok JANG,Nu Ri OH. Владелец: Dongjin Semichem Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Polymer resin compound, method for producing same, and photosensitive resin composition comprising same

Номер патента: US20230235169A1. Автор: Sung Ho Chun,Minyoung Lim,Misun YOON. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2023-07-27.

Photosensitive resin composition, ink-jet recording head using the composition, and production method for the same

Номер патента: EP1634123A1. Автор: Shoji; c/o CANON KABUSHIKI KAISHA SHIBA,Hiroe; c/o CANON KABUSHIKI KAISHA ISHIKURA. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-03-15.

Flexographic element having an integral thermally bleachable mask layer

Номер патента: WO2004019129A1. Автор: Kevin B. Ray. Владелец: Kodak Polychrome Graphics Llc. Дата публикации: 2004-03-04.

Black photosensitive resin composition and light-blocking layer using the same

Номер патента: US9085696B2. Автор: Chih-Yi Chang,Fan-Sen LIN,Hui-Huan HSU,Bo-Nan LIN. Владелец: Everlight USA Inc. Дата публикации: 2015-07-21.

Developing solution and development processing method of photosensitive resin composition

Номер патента: US09891527B2. Автор: Kunihiro Noda,Hiroki Chisaka,Dai Shiota. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-13.

Photosensitive resin composition for screen printing, photosensitive film, and screen plate

Номер патента: US09588424B2. Автор: Toru Mori,Kenji Ota,Yuichi Ono,Yoshio Umeda,Masataka Miyazaki,Taichi Okada,Yukina Kuwahara,Takafumi Somei,Setsuka Nakajima,Suguru Komatsu,Michihiro Iljima. Владелец: SUNTYPE Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-07.

Photosensitive resin composition, protective film and element having the same

Номер патента: US09541832B2. Автор: Ming-Ju Wu,Chun-An Shih. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2017-01-10.

Photosensitive resin composition for flexographic printing original plate and flexographic printing original plate obtained therefrom

Номер патента: US20240191016A1. Автор: Kazuya Yoshimoto,Tomoko Watanabe. Владелец: Toyobo MC Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

Photosensitive resin composition and cured product

Номер патента: US20230324793A1. Автор: Jui-Yu Hsu,Hsiao-Chi Chiu. Владелец: Echem Solutions Corp. Дата публикации: 2023-10-12.

Heat developable photosensitive material

Номер патента: EP1168067A3. Автор: Kazuhiko Hirabayashi. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2002-12-18.

System and method for identfying dummy features on a mask layer

Номер патента: EP1425787A2. Автор: Christophe Pierrat,Fang-Cheng Chang,Jacqueline C. c/o W.P. Thompson & Co. FREEMAN. Владелец: Numerical Technologies Inc. Дата публикации: 2004-06-09.

System and method for identifying dummy features on a mask layer

Номер патента: WO2003021654A2. Автор: Christophe Pierrat,Fang-Cheng Chang,Jacqueline Carol Freeman. Владелец: Numerical Technologies, Inc.. Дата публикации: 2003-03-13.

Adhesion promoter and photosensitive resin composition containing same

Номер патента: EP3995894A1. Автор: Bin Liu,Ke Bai,Zhifang Li,Diyuan TANG,Chuanming Sun. Владелец: Shandong Shengquan New Material Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-11.

Polymer and photosensitive resin composition comprising the same

Номер патента: US20130030077A1. Автор: Han Soo Kim,Yoon Hee Heo,Ho Chan Ji,Changho CHO,Sunhwa KIM,Dongchang CHOI,Won Jin CHUNG. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2013-01-31.

Negative photosensitive resin composition, pattern structure and method for producing patterned cured film

Номер патента: US20230037301A1. Автор: Kazuhiro Yamanaka,Takashi Masubuchi,Yuri OIKAWA,Rikako YOTSUMOTO. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-09.

Photosensitive resin composition for CTP flexographic printing original plate and printing original plate prepared therefrom

Номер патента: US09709888B2. Автор: Hiroto Yamada,Kazuya Yoshimoto,Yukimi Yawata. Владелец: Toyobo Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-18.

Photosensitive resin composition and photosensitive resin printing plate original

Номер патента: US09678424B2. Автор: Tsutomu Abura,Shuhei Yabuki. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2017-06-13.

Compound and photosensitive resin composition

Номер патента: US09594302B2. Автор: Daisuke Sawamoto,Koichi Kimijima,Kiyoshi Murata,Takeo Oishi,Nobuhide Tominaga,Hirokatsu Shinano. Владелец: Adeka Corp. Дата публикации: 2017-03-14.

Functional material and preparation method thereof, resin composition, film, and display device

Номер патента: US09587121B2. Автор: Feng Bai,Jiuxia YANG,Jiantao Liu. Владелец: Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-07.

Positive-type photosensitive resin composition, method for producing semiconductor device including cured film using the same

Номер патента: US09454078B2. Автор: Hiroyuki Onishi,Masao Tomikawa,Yuki Masuda. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2016-09-27.

Positive photosensitive resin composition and pattern forming method

Номер патента: US09448474B2. Автор: Chi-Ming Liu,Chun-An Shih. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2016-09-20.

Resin, positive photosensitive resin composition and use

Номер патента: US11886115B1. Автор: Zhiguo Wang,Xuesong Jiang,Guangqiang Shao,Xinyu Qiu,Hongyin Dai,Baohua Hu. Владелец: Yantai Sunera LLC. Дата публикации: 2024-01-30.

Resin, positive photosensitive resin composition and use

Номер патента: US20240061333A1. Автор: Zhiguo Wang,Xuesong Jiang,Guangqiang Shao,Xinyu Qiu,Hongyin Dai,Baohua Hu. Владелец: Yantai Sunera LLC. Дата публикации: 2024-02-22.

Photosensitive resin composition, method for manufacturing resist pattern film, and method for manufacturing plated shaped article

Номер патента: US20240118612A1. Автор: Akira Ishii,Takuya Tomita,Keiichi Satou,Kazuhiko KOUMURA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-04-11.

Photosensitive resin structure for flexographic printing plate and method for producing flexographic printing plate

Номер патента: US20240012328A1. Автор: Hiroki Akiyama,Shinji Miyamoto. Владелец: Asahi Kasei Corp. Дата публикации: 2024-01-11.

Photosensitive resin composition, production method for cured relief pattern using it, and semiconductor device

Номер патента: US7598009B2. Автор: Kenichiro Sato,Naoya Sugimoto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-10-06.

Black photosensitive resin composition, and color filter and method of producing the same

Номер патента: US8211598B2. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Kazuto Shimada,Hiroshi Taguchi,Yoichi Maruyama,Hiroyuki Einaga. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2012-07-03.

Photosensitive resin composition, photosensitive element, printed wiring board, and method for manufacturing printed wiring board

Номер патента: US20240160103A1. Автор: Naoki Yamashita,Shuji Nomoto,Hayato SAWAMOTO. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-05-16.

Positive photosensitive resin composition, positive photosensitive dry film, method for producing positive photosensitive dry film, patterning process, method for forming cured film, interlayer insulation film, surface protective film, and electronic component

Номер патента: US20220043351A1. Автор: Osamu Watanabe,Katsuya Takemura,Masashi Iio,Hiroyuki Urano. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-02-10.

Positive photosensitive resin composition, and photosensitive resin layer and display device using the same

Номер патента: US8921019B2. Автор: Sang-kyun Kim,Hwan-Sung Cheon,Jong-Hwa Lee,Ji-Yun KWON,Sang-soo Kim,Kun-Bae NOH,Eun-Ha HWANG,Jun-Ho Lee,Jin-Young Lee,Jin-Hee Kang,Hyun-Yong Cho,Dae-Yun Kim,Sang-Kyeon Kim,Eun-Kyung Yoon,Chung-Beom HONG. Владелец: Cheil Industries Inc. Дата публикации: 2014-12-30.

Positive photosensitive resin composition, positive photosensitive dry film, method for producing positive photosensitive dry film, patterning process, method for forming cured film, interlayer insulation film, surface protective film, and electronic component

Номер патента: US12085856B2. Автор: Osamu Watanabe,Katsuya Takemura,Masashi Iio,Hiroyuki Urano. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Photosensitive resin composition and photosensitive material comprising the same

Номер патента: US09733563B2. Автор: Sunghyun Kim,Ho Chan Ji,Sang Chul Lee,Geun Young Cha,Dongchang CHOI,Kyung Soo Choi. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2017-08-15.

Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition

Номер патента: US09557651B2. Автор: Yasushi Washio,Takahiro Shimizu,Shota Katayama. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Positive photosensitive resin composition, photosensitive resin film prepared by using the same, and display device

Номер патента: US09429842B2. Автор: Ji-Yun KWON,Bum-Jin LEE,Jin-Young Lee,Jae-Hwan Song. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-30.

Photosensitive resin composition and method for producing resist pattern

Номер патента: US09417522B2. Автор: Hisanori AKIMARU,Hirokazu Sakakibara,Hidefumi Ishikawa,Shingo Naruse. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-08-16.

Imageable element with masking layer comprising betaine-containing co-polymers

Номер патента: US20060051700A1. Автор: Ting Tao,Kevin Ray,Scott Beckley. Владелец: Kodak Graphics Holding Inc. Дата публикации: 2006-03-09.

Positive photosensitive resin composition and display device using the same

Номер патента: US20240118616A1. Автор: Hyoc-Min Youn,Dong Myung Kim,Tai Hoon Yeo,Ah Rum PARK,Kyoungsoon SHIN,Gi Seon LEE,Seok Hyeon LEE. Владелец: Dongjin Semichem Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-11.

Chemically amplified photosensitive resin composition and method for producing resist pattern using the same

Номер патента: US20150044613A1. Автор: Makiko Irie,Shota Katayama. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2015-02-12.

Photosensitive resin composition, photosensitive resin film, photosensitive dry film, and pattern formation method

Номер патента: EP4421563A1. Автор: Hitoshi Maruyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-28.

Negative photosensitive resin composition

Номер патента: US20230305397A1. Автор: Takashi Tsutsumi. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2023-09-28.

Photosensitive resin composition for flexographic printing having excellent solvent resistance

Номер патента: US20120015296A1. Автор: Jun Yoshida,Masanori Maruno,Yukikazu Nobuhara,Kenya Yamashitas. Владелец: Nippon Soda Co Ltd. Дата публикации: 2012-01-19.

Photosensitive resin composition, laminate, and pattern forming process

Номер патента: US12055853B2. Автор: Michihiro Sugo,Kumiko Hayashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition for thick film

Номер патента: US09977328B2. Автор: Yuta Yamamoto,Yasushi Kuroiwa. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-22.

Positive photosensitive resin composition, photo-curable dry film and method for producing same, layered product, patterning process, and substrate

Номер патента: US09557645B2. Автор: Takashi Miyazaki,Katsuya Takemura,Masashi Iio,Hiroyuki Urano. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Photosensitive resin composition, photosensitive element using same, method for forming partition wall of image display device, and method for manufacturing image display device

Номер патента: US09482946B2. Автор: Mayumi Sato,Yasuhiro Seri. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-01.

Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition, method of manufacturing substrate with template, and method of manufacturing plated article

Номер патента: US20200033729A1. Автор: Shota Katayama,Kazuaki EBISAWA. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2020-01-30.

1,2 quinone diazide photosensitive resin composition containing select additive and method for forming a photoresist pattern

Номер патента: US5698362A. Автор: Makoto Ikemoto,Yasuhiro Kawase,Koji Nakano,Tadashi Kusumoto,Mineo Nishi. Владелец: Mitsubishi Chemical Corp. Дата публикации: 1997-12-16.

Polymer having a structure of polyamide, polyamide-imide, or polyimide, photosensitive resin composition, patterning process, photosensitive dry film, and protective film for electric and electronic parts

Номер патента: US11768434B2. Автор: Katsuya Takemura,Masashi Iio,Hiroyuki Urano,Kazuya HONDA. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-26.

Positive photosensitive resin composition

Номер патента: US9256118B2. Автор: Sang-kyun Kim,Hwan-Sung Cheon,Jong-Hwa Lee,Ji-Yun KWON,Sang-soo Kim,Eun-Ha HWANG,Jun-Ho Lee,Jin-Young Lee,Hyun-Yong Cho,Dae-Yun Kim,Sang-Kyeon Kim,Eun-Kyung Yoon,Chung-Beom HONG. Владелец: Cheil Industries Inc. Дата публикации: 2016-02-09.

Positive photosensitive resin composition for low-temperature process and method for preparing photoresist film

Номер патента: US20220276559A1. Автор: Kuan-Ming Chen,Chi-Yu Lai,Chi-sung Chen. Владелец: Echem Solutions Corp. Дата публикации: 2022-09-01.

Novel photosensitive resin compositions

Номер патента: EP1886187A2. Автор: Richard Hopla,Il'ya Rushkin,Ahmad A. Naiini,N. Jon Metivier,David P. Powell. Владелец: Fujifilm Electronic Materials Co Ltd. Дата публикации: 2008-02-13.

Photosensitive resin composition for display device insulation film, and display device insulation film and display device using same

Номер патента: US09465289B2. Автор: Sang-kyun Kim,Jong-Hwa Lee,Ji-Yun KWON,In-Chul Hwang,Jin-Young Lee,Yong-Tae Kim,Jin-Hee Kang,Dae-Yun Kim. Владелец: Cheil Industries Inc. Дата публикации: 2016-10-11.

Photosensitive resin composition

Номер патента: US5916731A. Автор: Shinji Tanaka,Shigetora Kashio,Katutoshi Sasashita. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 1999-06-29.

Photosensitive resin composition for dry etching, and method for producing resist pattern for dry etching

Номер патента: US10061195B2. Автор: Teruhiro Uematsu,Kiminori Oshio. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2018-08-28.

Photosensitive resin composition for dry etching, and method for producing resist pattern for dry etching

Номер патента: US20160291475A1. Автор: Teruhiro Uematsu,Kiminori Oshio. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-06.

Novel photosensitive resin compositions

Номер патента: EP1602009A2. Автор: William D. Weber,Pamela J. Waterson,Steve Lien-Chung Hsu,Ahmad N. Naiini. Владелец: Arch Specialty Chemicals Inc. Дата публикации: 2005-12-07.

Novel photosensitive resin compositions

Номер патента: EP1266266A1. Автор: Ahmad Naiini,William D. Weber,Pamela J. Waterson,Steve Lien-Chung Hsu. Владелец: Arch Specialty Chemicals Inc. Дата публикации: 2002-12-18.

Novel photosensitive resin compositions

Номер патента: EP1266266A4. Автор: Pamela J Waterson,William D Weber,Ahmad Naiini,Steve Lien-Chung Hsu. Владелец: Arch Specialty Chemicals Inc. Дата публикации: 2005-07-20.

Novel photosensitive resin compositions

Номер патента: WO2000019276A1. Автор: Ahmad Naiini,William D. Weber,Pamela J. Waterson,Steve Lien-Chung Hsu. Владелец: Arch Specialty Chemicals, Inc.. Дата публикации: 2000-04-06.

Photosensitive resin composition and method of improving dry etching resistance of photosensitive resin composition

Номер патента: EP1126319A1. Автор: Shuichi Takahashi. Владелец: CLARIANT INTERNATIONAL LTD. Дата публикации: 2001-08-22.

Photosensitive resin composition, polyamide resin, method for producing polyamide resin, compound, method for producing compound, method for producing cured film, and cured film

Номер патента: US20180107114A1. Автор: Dai Shiota,Yoshinori Tadokoro. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-19.

Photosensitive resin composition, polyamide resin, method for producing polyamide resin, compound, method for producing compound, method for producing cured film, and cured film

Номер патента: US20190332012A9. Автор: Dai Shiota,Yoshinori Tadokoro. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2019-10-31.

Negative-working photosensitive resin composition and photosensitive resin plate using the same

Номер патента: US20010019811A1. Автор: Hiroshi Takanashi,Tomoya Kudo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-09-06.

System and method for identifying dummy features on a mask layer

Номер патента: WO2003021654A3. Автор: Christophe Pierrat,Fang-Cheng Chang,Jacqueline Carol Freeman. Владелец: Jacqueline Carol Freeman. Дата публикации: 2003-05-22.

Polyvinylacetal resin for heat-developable photosensitive material and heat-developable photosensitive material

Номер патента: EP3123243A1. Автор: Kenji Yamauchi,Takayuki Maeda,Jiro Miyai,Shogo Naruwaki. Владелец: Sekisui Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-01.

Polyvinylacetal resin for heat-developable photosensitive material and heat-developable photosensitive material

Номер патента: US20170088640A1. Автор: Kenji Yamauchi,Takayuki Maeda,Jiro Miyai,Shogo Naruwaki. Владелец: Sekisui Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-30.

Method for producing novel ali cyclic ester compound, novel alicyclic ester compound, (meth)acrylic copolymer produced by polymerizing said compound, and photosensitive resin composition using said copolymer

Номер патента: US09994513B2. Автор: Hiroshi Horikoshi,Hiroyasu Tanaka,Kikuo Furukawa,Shoichi Hayakawa,Hiroyuki TANAGI. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2018-06-12.

(Meth)acrylate compound, (meth)acrylic copolymer and photosensitive resin composition containing same

Номер патента: US09951163B2. Автор: Hiroshi Horikoshi,Hiroyasu Tanaka,Kikuo Furukawa,Shoichi Hayakawa,Hiroyuki TANAGI. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2018-04-24.

Polyvinylacetal resin for heat-developable photosensitive material and heat-developable photosensitive material

Номер патента: US09951154B2. Автор: Kenji Yamauchi,Takayuki Maeda,Jiro Miyai,Shogo Naruwaki. Владелец: Sekisui Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Alicyclic ester compound, and (meth)acrylic copolymer and photosensitive resin composition containing same

Номер патента: US09477151B2. Автор: Yoshio Nishimura,Hiroyasu Tanaka,Kikuo Furukawa,Shoichi Hayakawa. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2016-10-25.

Polymer, method for preparing the same, and a photosensitive resin composition thereof

Номер патента: US09477148B1. Автор: Jeng-Yu Tsai,Jyh-Long Jeng,Wei-Ta Yang. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2016-10-25.

Negative photosensitive resin composition, cured product, laminate, method for producing cured product, and semiconductor device

Номер патента: EP4317287A1. Автор: Kenta Yamazaki,Kyohei Sakita. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-02-07.

Photosensitive polyimide resin composition and method of manufacturing cover film using the same

Номер патента: US20190345289A1. Автор: Tang-Chieh Huang,Kunhan Hsieh. Владелец: Microcosm Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-14.

Photosensitive polyimide resin composition and method of manufacturing cover film using the same

Номер патента: US20180346652A1. Автор: Tang-Chieh Huang,Kunhan Hsieh. Владелец: Microcosm Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-12-06.

Photosensitive polyimide resin composition and method of manufacturing cover film using the same

Номер патента: US10584209B2. Автор: Tang-Chieh Huang,Kunhan Hsieh. Владелец: Microcosm Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-03-10.

Photosensitive polyimide resin composition and method of manufacturing cover film using the same

Номер патента: US10407549B2. Автор: Tang-Chieh Huang,Kunhan Hsieh. Владелец: Microcosm Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-09-10.

Photo-sensitive resin composition for black matrix, black matrix produced by the composition and liquid crystal display including the black matrix

Номер патента: WO2008102990A1. Автор: Dae-Hyun Kim,Yoon-Hee Heo,Dong-Chang Choi,Ho-Chan Ji,Geun-Young Cha,Kyung-Soo Choi. Владелец: LG CHEM, LTD.. Дата публикации: 2008-08-28.

Photosensitive resin composition and photoresist ink for manufacturing printed wiring boards

Номер патента: US6322952B1. Автор: Toshio Morigaki. Владелец: Goo Chemical Industries Co Ltd. Дата публикации: 2001-11-27.

Methods for the manufacture of cylindrical photosensitive resin structures and cylindrical printing plates

Номер патента: US4868090A. Автор: Atsushi Kitamura,Mayumi Yoshimoto. Владелец: KITAMURA ATSUSHI 30 IZUMI-HOMMACHI 5-CHOME KANAZAWA-SHI ISHIKAWA 921 JAPAN. Дата публикации: 1989-09-19.

Photosensitive resin composition

Номер патента: MY197134A. Автор: Takayuki Matsuda,Yuri Yamada,Junya Kosaka. Владелец: Asahi Chemical Ind. Дата публикации: 2023-05-26.

Photosensitive resin composition, method of producing patterned cured product using the same, and cured product of photosensitive resin composition

Номер патента: US20230259026A1. Автор: Shinichiro Abe,Kazuyuki Mitsukura,Masaya TOBA,Yuki IMAZU. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2023-08-17.

Photosensitive resin composition, pattern forming method, cured film, laminate, and device

Номер патента: US20210302835A1. Автор: Toshihide Aoshima,Kenta Yamazaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-09-30.

Photosensitive resin composition, pattern forming method, cured film, multilayer body and device

Номер патента: EP3893053A1. Автор: Toshihide Aoshima,Kenta Yamazaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-10-13.

Photosensitive resin composition, permanent resist, method for forming permanent resist, and method for inspecting permanent resist cured film

Номер патента: US20230324789A1. Автор: Teruaki Suzuki,Yu Aoki,Yoshimi HAMANO. Владелец: Resonac Corporation. Дата публикации: 2023-10-12.

Photosensitive Resin Composition And Cured Product Therefrom

Номер патента: US20240168380A1. Автор: Nao Honda,Masahiro Tagami,Naoki Kawamoto. Владелец: Nippon Kayaku Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Silicon-containing monomer mixture, polysiloxane, resin composition, photosensitive resin composition, cured film, production method for cured film, patterned cured film, and production method for patterned cured film

Номер патента: US20230244145A1. Автор: Kazuhiro Yamanaka,Takashi Masubuchi,Tomohiro KATAMURA. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

Chemically-amplified positive photosensitive resin composition, manufacturing method of substrate with casting mold, and manufacturing method of electroplated molded article

Номер патента: SG10201710688SA. Автор: Chi-Ming Liu,Chun-An Shih. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2018-07-30.

Heat - developable photosensitive material containing latex polymer in outermost layer

Номер патента: US20040234911A1. Автор: Keiichi Suzuki. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-11-25.

Thermally developable photosensitive material

Номер патента: US20020197570A1. Автор: Tomoyuki Ohzeki. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-12-26.

Photosensitive resin composition, photosensitive layer therefrom and photosensitive resin printing original plate

Номер патента: CA2521616C. Автор: Toru Wada,Akira Tomita,Tomonori Hiramatsu. Владелец: Toyobo Co Ltd. Дата публикации: 2011-05-31.

Photosensitive resin composition

Номер патента: US5668248A. Автор: Yasunori Kojima,Kenji Suzuki,Hiroshi Nishizawa,Makoto Kaji,Hideo Hagiwara. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1997-09-16.

Urethane photosensitive resinous composition

Номер патента: US4358354A. Автор: Kiichi Iida,Tadashi Kawamoto,Kazuhito Miyoshi. Владелец: Asahi Kasei Kogyo KK. Дата публикации: 1982-11-09.

Photosensitive resin composition with o-quinone diazide and novolac resins prepared from mixed phenolic reactants to include 3,5-xylenol and 2,5-xylenol

Номер патента: US4988601A. Автор: Shuji Hayase,Rumiko Horiguchi,Toru Ushirogouchi,Yasunobu Onishi. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1991-01-29.

Photosensitive resin composition

Номер патента: US20240045326A1. Автор: Wataru Takada,Sakiko Suzuki,Makoto Horii,Ryuji HIROSAWA. Владелец: Sumitomo Bakelite Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Photosensitive resin composition for flexographic printing

Номер патента: AU2021272031B2. Автор: Shota OSUMI. Владелец: Nippon Soda Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Method for imaging a mask layer and associated imaging system

Номер патента: NL2031541B1. Автор: DEFOUR Frederik,Ludo Julien De Rauw Dirk. Владелец: Xsys Prepress N V. Дата публикации: 2023-11-03.

Photosensitive resin composition for flexographic printing original plates, and flexographic printing original plate obtained using said composition

Номер патента: EP4316844A1. Автор: Kazuya Yoshimoto,Tomoko Watanabe. Владелец: Toyobo MC Corp. Дата публикации: 2024-02-07.

Resin composition, cured film, method for manufacturing cured film, substrate having multilayer film, method for producing patterned substrate, photosensitive resin composition, method for producing pattern cured film, method for producing polymer, and method for producing resin composition

Номер патента: US20230333468A1. Автор: Kazuhiro Yamanaka,Takashi Masubuchi,Yuri OIKAWA. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-19.

Pegylated thioxanthone photoinitiator and photosensitive resin composition

Номер патента: US20200131147A1. Автор: Hui Zhu,Xuan Zhao,Meina Lin. Владелец: Jenkem Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-30.

Photosensitive resin composition for imprinting, cured article and optical element

Номер патента: US20220221789A1. Автор: Chin-Chen Huang,Yu-Lun Li,Chen-Wen Chiu. Владелец: Echem Solutions Corp. Дата публикации: 2022-07-14.

Photosensitive resin composition and use thereof

Номер патента: US11827781B2. Автор: Gaohua Zhu,Weijie Li,Jianhua Lin,Rongbai TONG,Weiqiang QIAN,Guangda ZHOU. Владелец: Zhejiang First Advanced Material R&d Institute Co ltd. Дата публикации: 2023-11-28.

Positive photosensitive resin composition and method for forming patterns by using the same

Номер патента: US20120287393A1. Автор: Chi-Ming Liu,Chun-An Shih. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2012-11-15.

Method for imaging a mask layer and associated imaging system

Номер патента: WO2023194387A1. Автор: Dirk Ludo Julien DE RAUW,Frederik DEFOUR. Владелец: XSYS Prepress NV. Дата публикации: 2023-10-12.

Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition, photosensitive dry film, method of manufacturing photosensitive dry film, method of manufacturing patterned resist film, method of manufacturing substrate with template, method of manufacturing plated article, and mercapto compound

Номер патента: US20190121233A1. Автор: Akiya Kawaue,Yuta Yamamoto,Yasushi Kuroiwa,Kazuaki EBISAWA. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2019-04-25.

Photosensitive resin composition, lithographic printing plate precursor and method for producing lithographic printing plate

Номер патента: US20170017153A1. Автор: Takashi Sato,Kazuto Shimada,Atsuyasu Nozaki,Rena Mukaiyama,Kotaro Asano. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-01-19.

Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition, photosensitive dry film, method of manufacturing photosensitive dry film, method of manufacturing patterned resist film, method of manufacturing substrate with template and method of manufacturing plated article

Номер патента: US20200142307A1. Автор: Yasuo Masuda,Akiya Kawaue,Shota Katayama,Aya Momozawa,Yasushi Kuroiwa,Kazuaki EBISAWA,Kohei Fukumoto. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2020-05-07.

Photosensitive resin composition for printing plate precursor capable of laser engraving

Номер патента: EP1424210A4. Автор: Hiroshi Yamada,Yoshifumi Araki,Masahisa Yokota,Kei Tomeba. Владелец: Asahi Kasei Chemicals Corp. Дата публикации: 2006-09-27.

Photosensitive resin composition, cured film and microlens array

Номер патента: US20240019780A1. Автор: Yu-Chun Chen,Ya-Qian Chen. Владелец: Advanced Echem Materials Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-18.

Thermal development apparatus, thermal development method and thermal development photosensitive material used in thermal development apparatus

Номер патента: US20040080605A1. Автор: Makoto Sumi,Hajime Ishimoto. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2004-04-29.

Thermally developable photosensitive material

Номер патента: US20030190568A1. Автор: Yasuhiro Yoshioka,Keiichi Suzuki. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2003-10-09.

Silver halide photographic emulsion and thermally developable photosensitive material

Номер патента: US20040018457A1. Автор: Hiroyuki Mifune. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-01-29.

Heat-developable photosensitive material

Номер патента: US20020106594A1. Автор: Takanori Hioki,Katsumi Kobayashi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-08-08.

Heat developable photosensitive material

Номер патента: US20030129553A1. Автор: Yasuhiro Yoshioka,Eiichi Okutsu,Takayoshi Oyamada. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-07-10.

Heat-developable photosensitive material and image forming method

Номер патента: US20030235791A1. Автор: Hirokazu Kyota,Toyohisa Oya,Kouta Fukui. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2003-12-25.

Pyran derivative, photosensitive resin composition, and hologram recording medium using it

Номер патента: US5492942A. Автор: Naosato Taniguchi,Yoko Yoshinaga,Shin Kobayashi,Hideki Morishima,Susumu Matsumura,Tadashi Kaneko,Toshiyuki Sudo. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1996-02-20.

Photosensitive resin composition, ink jet head using photosensitive resin composition, and process for manufacturing ink jet head

Номер патента: US20070081048A1. Автор: Shoji Shiba,Hiroe Ishikura,Akihiko Okano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2007-04-12.

Photosensitive resin composition

Номер патента: CA1255412A. Автор: Shigetora Kashio,Junichi Fujikawa. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 1989-06-06.

Photosensitive diazo resins and resin compositions for lithographic printing having a quaternary ammonium salt-containing group

Номер патента: US5308735A. Автор: Kazunori Kanda,Osamu Nanba,Edward Lam. Владелец: Nippon Paint Co Ltd. Дата публикации: 1994-05-03.

Improved photosensitive resin for flexographic printing developable with an aqueous developer solution

Номер патента: CA2430101C. Автор: Yoshifumi Araki,Hiromi Kobayashi. Владелец: Asahi Kasei Corp. Дата публикации: 2009-05-26.

Photosensitive resin composition, photosensitive dry film, and pattern forming process

Номер патента: EP3640289A1. Автор: Hitoshi Maruyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-22.

Photosensitive resin composition and method for producing cured relief pattern

Номер патента: US20230221639A1. Автор: Tomohiro Yorisue,Mitsutaka Nakamura,Taihei Inoue. Владелец: Asahi Kasei Corp. Дата публикации: 2023-07-13.

Fluorene-based resin polymer and photo-sensitive resin composition comprising the same

Номер патента: US20120196949A1. Автор: Han Soo Kim,Yoon Hee Heo,Changho CHO,Sunhwa KIM,Won Jin CHUNG,Kwang Han Park. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2012-08-02.

Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition, method for manufacturing substrate with template, and method for manufacturing plated article

Номер патента: US20190278178A1. Автор: Yuta Yamamoto,Yasushi Kuroiwa. Владелец: Tokyo Institute of Technology NUC. Дата публикации: 2019-09-12.

Photosensitive resin composition, method for producing patterned cured film, patterned cured film and semiconductor element

Номер патента: EP4099090A1. Автор: Teruaki Suzuki,Masahiro Hashimoto,Yu Aoki,Yoshimi HAMANO. Владелец: Showa Denko Materials Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-07.

Photosensitive resin composition, method for producing patterned cured film, patterned cured film and semiconductor element

Номер патента: US20230236508A1. Автор: Teruaki Suzuki,Masahiro Hashimoto,Yu Aoki,Yoshimi HAMANO. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2023-07-27.

Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition, method for manufacturing substrate with template, and method for manufacturing plated article

Номер патента: US20180259853A1. Автор: Kazuaki EBISAWA. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2018-09-13.

Photosensitive resin composition, production method for cured relief pattern using it, and semiconductor device

Номер патента: US20090035693A1. Автор: Kenichiro Sato,Naoya Sugimoto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-02-05.

Photosensitive resin structure for flexographic printing plate, and method for producing flexographic printing plate

Номер патента: EP4282656A1. Автор: Hiroki Akiyama,Shinji Miyamoto. Владелец: Asahi Chemical Industry Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-29.

Photosensitive resin composition, protective layer and method for pattern formation

Номер патента: US20230418160A1. Автор: Kuan-Ming Chen,Chi-Yu Lai. Владелец: Advanced Echem Materials Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Photosensitive resin composition for biochip and method for forming liquid repellent film

Номер патента: US20180307140A1. Автор: Masaki Obi,Miyako Sasaki,Taihei Taniguchi,Tomoaki Sakurada. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2018-10-25.

Positive-type photosensitive resin composition and cured film prepared therefrom

Номер патента: US20230244144A1. Автор: Jung-Hwa Lee,Geun Huh,Jong-Ho Na. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

Photosensitive resin structure for flexographic printing plate and method for producing flexographic printing plate

Номер патента: US12019374B2. Автор: Hiroki Akiyama,Shinji Miyamoto. Владелец: Asahi Kasei Corp. Дата публикации: 2024-06-25.

Photosensitive resin composition, method of forming level difference pattern using the photosensitive resin composition, and method of producing ink jet head

Номер патента: EP1766475A1. Автор: Shoji; Shiba,Hiroe; Ishikura,Akihiko; OKANO. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2007-03-28.

Printing original plate for photosensitive resin letterpress, and printing plate

Номер патента: EP4411479A1. Автор: Yuji Iwashita,Masahito Tanigawa. Владелец: Toyobo MC Corp. Дата публикации: 2024-08-07.

Support for liquid photosensitive resin

Номер патента: CA1045880A. Автор: Kiyomi Naka,Teruo Takahashi. Владелец: Teijin Ltd. Дата публикации: 1979-01-09.

Novel photosensitive resin compositions

Номер патента: WO2006104803A2. Автор: Donald F. Perry,David B. Powell,Ahmad A. Naiini,Jon N. Metivier. Владелец: Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc.. Дата публикации: 2006-10-05.

Liquid photosensitive resin composition for use in forming a relief structure

Номер патента: US5843622A. Автор: Takashi Kobayashi,Norihiko Sakata,Hiroaki Tomita. Владелец: Asahi Kasei Kogyo KK. Дата публикации: 1998-12-01.

Water soluble photosensitive resin compositions with bisazide compound

Номер патента: US4842984A. Автор: Kiyoshi Shimizu,Hajime Serizawa,Koichi Ojima. Владелец: Nitto Boseki Co Ltd. Дата публикации: 1989-06-27.

Photosensitive resin composition

Номер патента: CA1271870A. Автор: Masami Kawabata,Hidefumi Kusuda,Seio Mamoru. Владелец: Napp Systems USA Inc. Дата публикации: 1990-07-17.

Photosensitive resin composition

Номер патента: US5935761A. Автор: Jae-Young Hwang,Byeong-Il Lee,Kie-Jin Park. Владелец: KOLON INDUSTRIES INC. Дата публикации: 1999-08-10.

Method for forming photosensitive resin layer, method for producing photoresist pattern, and method for producing plated molded article

Номер патента: US10353291B2. Автор: Shinji Kumada,Eiichi Shimura,Aya Momozawa. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2019-07-16.

Photosensitive resin for flexographic printing plate

Номер патента: US7960088B2. Автор: Yoshifumi Araki,Takeshi Aoyagi,Kazuyoshi Yamazawa,Katsuya Nakano. Владелец: Asahi Kasei Chemicals Corp. Дата публикации: 2011-06-14.

Photosensitive resin composition for flexographic printing plates

Номер патента: US4045231A. Автор: Hisashi Nakane,Toshimi Aoyama,Hiroyuki Toda,Eiichi Otomegawa. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 1977-08-30.

Photosensitive resin composition

Номер патента: US5866296A. Автор: Mitsuharu Miyazaki,Toru Shibuya,Hideo Kikuchi,Noriaki Tochizawa. Владелец: Toyo Gosei Co Ltd. Дата публикации: 1999-02-02.

Photosensitive resin composition and photosensitive dry film containing the same

Номер патента: US20050238998A1. Автор: Takashi Ono,Hiroyuki Obiya,Syunji Nakazato,Ryuma Mizusawa,Yusuke Fujito. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2005-10-27.

Binder resin, positive-type photosensitive resin composition, insulating film and semiconductor device

Номер патента: US11687002B2. Автор: Sumin Park,Minyoung Lim. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2023-06-27.

Adhesion promoter and photosensitive resin composition containing same

Номер патента: US11886117B2. Автор: Bin Liu,Ke Bai,Zhifang Li,Diyuan TANG,Chuanming Sun. Владелец: Shandong Shengquan New Material Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-30.

Positive-type photosensitive resin composition and cured film prepared therefrom

Номер патента: US20190369493A1. Автор: Ju-Young Jung,Yeonok KIM,Jung-Hwa Lee,Geun Huh. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd. Дата публикации: 2019-12-05.

Negative type photosensitive resin composition, negative type planographic printing plate precursor, and method of preparing planographic printing plate

Номер патента: US20180157174A1. Автор: Atsuyasu Nozaki,Yuichi Yasuhara. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-06-07.

Negative type photosensitive resin composition, negative type planographic printing plate precursor, and method of preparing planographic printing plate

Номер патента: US20180149975A1. Автор: Atsuyasu Nozaki,Yuichi Yasuhara. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-05-31.

Negative type photosensitive resin composition, negative type planographic printing plate precursor, and method of preparing planographic printing plate

Номер патента: US10509317B2. Автор: Atsuyasu Nozaki,Yuichi Yasuhara. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-12-17.

Photosensitive resin composition and photosensitive dry film

Номер патента: US20200140678A1. Автор: Kazunori Kondo,Yoichiro Ichioka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-05-07.

Photosensitive resin composition, photosensitive resin film, photosensitive dry film, and pattern formation method

Номер патента: EP4282895A1. Автор: Hitoshi Maruyama,Kumiko Hayashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-29.

Photosensitive resin composition, dry film resist, and cured objects obtained therefrom

Номер патента: US11809078B2. Автор: Naoko Imaizumi. Владелец: Nippon Kayaku Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-07.

Photosensitive resin composition, optical film, and method of producing the same

Номер патента: US20230099041A1. Автор: Chen-Wen Chiu,Chia-Hao Lou,Jui-Yu Hsu. Владелец: Echem Solutions Corp. Дата публикации: 2023-03-30.

Photosensitive resin composition, photosensitive resin film, photosensitive dry film, and pattern formation method

Номер патента: EP4321553A1. Автор: Hitoshi Maruyama,Kumiko Hayashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-14.

Positive photosensitive resin composition, cured film therefrom, and solid state image sensor comprising the same

Номер патента: US11789363B2. Автор: Mitsuhito Suwa,Yoshinori Matoba,Toshiyasu Hibino. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2023-10-17.

Photosensitive resin composition, photosensitive resin film, photosensitive dry film, and pattern formation method

Номер патента: US20240160105A1. Автор: Hitoshi Maruyama,Kumiko Hayashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Tetracarboxylic dianhydride, derivative and production thereof, polyimide precursor, polyimide, resin composition, photosensitive resin composition, method of forming relief pattern, and electronic part

Номер патента: EP1013650A3. Автор: Akihiro Sasaki,Makoto Kaji,Noriyoshi Arai,Toshiki Hagiwara. Владелец: Hitachi Chemical DuPont Microsystems Ltd. Дата публикации: 2001-10-24.

Positive photoresist resin composition and insulating film and display device based thereon

Номер патента: US20240004292A1. Автор: In Ho Song,Sun Hee Lee,Hyoc Min Youn,Seok Hyun Lee,Dong Myung Kim,Tai Hoon Yeo,Ah Rum PARK,Gun Seok JANG,Nu Ri OH. Владелец: Dongjin Semichem Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Photosensitive resin composition

Номер патента: US20220043345A1. Автор: Toshiaki Kadota,Ryoji Tatara,Ryouta TSUYUKI,Kimiyuki KANNO. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2022-02-10.

Photosensitive resin composition, laminate, and pattern forming process

Номер патента: US20200209751A1. Автор: Michihiro Sugo,Kumiko Hayashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-02.

Binder resin, positive-type photosensitive resin composition, insulating film and semiconductor device

Номер патента: US20220043349A1. Автор: Sumin Park,Minyoung Lim. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2022-02-10.

Photosensitive resin composition and display device comprising the same

Номер патента: US20230257550A1. Автор: Suk Hoon KANG,Hyung Guen YOON,Sun Young CHANG,Hyung Jun YU. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Photosensitive resin composition for forming interlayer insulating film, interlayer insulating film, and method for forming interlayer insulating film

Номер патента: US20170255099A1. Автор: Kazuhide Uno. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-07.

Photosensitive resin composition, photosensitive resin film, photosensitive dry film, and pattern formation method

Номер патента: US20240210831A1. Автор: Hitoshi Maruyama,Kumiko Hayashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Alkali soluble, photo-curable and thermo-curable copolymer, and photosensitive resin composition, photosensitive resin film and color filter using the same

Номер патента: US12006386B2. Автор: Hye Jin Park,Changho CHO. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2024-06-11.

Dual-cure phase-separation type photosensitive resin composition for continuous 3D printing with high precision

Номер патента: US12013638B2. Автор: Wenbin Wang,Jie Xiong. Владелец: Suzhou Polly New Material Tech Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-18.

Photosensitive resin bag for non-pre-sensitized printing plate making

Номер патента: US20060029883A1. Автор: Hilson Huang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-02-09.

A photosensitive resin bag for non-pre-sensitized printing plate making

Номер патента: MY146269A. Автор: Hilson Huang. Владелец: Hilson Huang. Дата публикации: 2012-07-31.

Photopolymerizable resin composition for optical recording media and optical recording media

Номер патента: EP1318158A1. Автор: Misao Sony Chemicals Corp. KONISHI,Yoshiaki Sony Chemicals Corp. NAKATA. Владелец: Sony Chemicals Corp. Дата публикации: 2003-06-11.

Photosensitive resin compositions

Номер патента: US6127086A. Автор: Ahmad Naiini,William D. Weber,Pamela J. Waterson,Steve Lien-Chung Hsu. Владелец: Arch Specialty Chemicals Inc. Дата публикации: 2000-10-03.

Photosensitive resin composition and manufacturing method of semiconductor device using the same

Номер патента: US7368216B2. Автор: Kenichiro Sato,Tsukasa Yamanaka. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2008-05-06.

Photosensitive resin containing a combination of diphenyl-imiazolyl dimer and a heterocyclic mercaptan

Номер патента: US4410621A. Автор: Minoru Fukuda,Minoru Wada. Владелец: Toyobo Co Ltd. Дата публикации: 1983-10-18.

Photosensitive resin composition having high resistance to oxygen plasma, containing alkali-soluble organosilicon polymer and photosensitive dissolution inhibitor

Номер патента: US5264319A. Автор: Takashi Inoue,Kazuo Nate,Hisashi Sugiyama,Akiko Mizushima. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1993-11-23.

Heat-developable photosensitive material

Номер патента: US4820617A. Автор: Akira Tsukada,Yukio Takegawa,Tetuya Higuchi. Владелец: Oriental Photo Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1989-04-11.

Colored photosensitive resin composition and mutilayer cured film prepared therefrom

Номер патента: US20240085791A1. Автор: Seung-Keun Kim,Kyung-Jae Park. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Polymer having a structure of polyamide, polyamide-imide, or polyimide, photosensitive resin composition, patterning process, photosensitive dry film, and protective film for electric and electronic parts

Номер патента: US20200041903A1. Автор: Katsuya Takemura,Masashi Iio,Hiroyuki Urano,Kazuya HONDA. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-02-06.

Negative type photosensitive resin composition, photosensitive resist film, pattern forming method, cured film, and method of producing cured film

Номер патента: SG11201901510VA. Автор: Tomoyuki Ando,Ryosuke Nakamura,Tokunori Yamadaya. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2019-03-28.

Photosensitive resin composition and adhesives composition

Номер патента: US20170342238A1. Автор: Tetsuo Sato,Mamoru Tamura,Tomoyuki Enomoto,Takuya Ohashi. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2017-11-30.

Negative type photosensitive resin composition, photosensitive resist film, pattern forming method, cured film, and method of producing cured film

Номер патента: US20190235380A1. Автор: Tomoyuki Ando,Ryosuke Nakamura,Tokunori Yamadaya. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2019-08-01.

Positive Photosensitive Resin Composition

Номер патента: US20140170562A1. Автор: Sang-kyun Kim,Hwan-Sung Cheon,Jong-Hwa Lee,Ji-Yun KWON,Sang-soo Kim,Eun-Ha HWANG,Jun-Ho Lee,Jin-Young Lee,Hyun-Yong Cho,Dae-Yun Kim,Sang-Kyeon Kim,Eun-Kyung Yoon,Chung-Beom HONG. Владелец: Cheil Industries Inc. Дата публикации: 2014-06-19.

Negative photosensitive resin composition, pattern formation method, and laminated film

Номер патента: US20230236505A1. Автор: Takahiro Kondo,Masahiro Masujima,Yuji Nakamura,Hirofumi Imai,Kenichi Yamagata,Takuto NAKAO,Tomoyuki Shibagaki. Владелец: San Apro KK. Дата публикации: 2023-07-27.

Photosensitive resin composition and pattern forming process

Номер патента: US20200026189A1. Автор: Hitoshi Maruyama,Tamotsu Oowada. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-01-23.

Photosensitive resin composition and cured film thereof

Номер патента: EP3978549A1. Автор: Yumi Sato,Tatsuya UTAMURA,Tatsuyuki Kumano,Daichi MIYAHARA. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2022-04-06.

Negative photosensitive resin composition

Номер патента: US20200019059A1. Автор: Takaaki Sakurai. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2020-01-16.

Photosensitive compound, photosensitive resin, and photosensitive composition

Номер патента: US20150079519A1. Автор: Toru Shibuya. Владелец: Toyo Gosei Co Ltd. Дата публикации: 2015-03-19.

Process for treating periphery of unexposed photosensitive resin plate

Номер патента: US6348300B1. Автор: Katsumasa Yamamoto,Kosaku Onodera,Masaru Nampei,Takamitsu Ariki. Владелец: Toyobo Co Ltd. Дата публикации: 2002-02-19.

Photopolymerizable resin compositions for optical recording media and optical recording media

Номер патента: US20030039795A1. Автор: Misao Konishi,Yoshiaki Nakata. Владелец: Sony Chemicals Corp. Дата публикации: 2003-02-27.

Photosensitive resin compositions

Номер патента: CA1232915A. Автор: Takeo Kuramoto. Владелец: WR Grace KK. Дата публикации: 1988-02-16.

Photosensitive resin compositions and photosensitive element using the same

Номер патента: US5744282A. Автор: Tatsuo Chiba,Tatsuya Ichikawa. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1998-04-28.

Conjugated diene copolymer, process for producing the same, and photosensitive resin composition comprising the same

Номер патента: US4927738A. Автор: Shin-ichiro Iwanaga,Tatsuaki Matsunaga,Ituo Nishiwaki,Hiroji Enyo. Владелец: Japan Synthetic Rubber Co Ltd. Дата публикации: 1990-05-22.

Lithographic printing plate precursor, method for making lithographic printing plate, organic polymer particle, and photosensitive resin composition

Номер патента: US11567404B2. Автор: Kenjiro Araki,Atsuyasu Nozaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-01-31.

Photosensitive resin composition

Номер патента: US4258123A. Автор: Akira Nagashima,Shigeru Sato. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1981-03-24.

Photosensitive resin composition

Номер патента: US4459349A. Автор: Toshihiko Kajima,Satoshi Imahashi,Hisashi Uhara,Toshikiyo Tanaka,Yoshio Katoh. Владелец: Toyobo Co Ltd. Дата публикации: 1984-07-10.

Photosensitive resin composition containing a carboxylic acid polymer, photoacid generator and secondary or tertiary aliphatic amine

Номер патента: US5633112A. Автор: Akio Takahashi,Shunichi Numata,Takao Miwa,Yoshiaki Okabe,Mina Ishida. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1997-05-27.

Lithography original plate, platemaking method for lithography plate, organic polymer particles, and photosensitive resin composition

Номер патента: EP3640039A1. Автор: Kenjiro Araki,Atsuyasu Nozaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2020-04-22.

Conjugated diene copolymer, process for producing the same, and photosensitive resin composition comprising the same

Номер патента: CA1325694C. Автор: Shin-ichiro Iwanaga,Tatsuaki Matsunaga,Ituo Nishiwaki,Hiroji Enyo. Владелец: Japan Synthetic Rubber Co Ltd. Дата публикации: 1993-12-28.

Saponified polyvinyl acetate derivatives which are photosensitive resin compositions

Номер патента: US4891300A. Автор: Hiroshi Itoh,Kunihiro Ichimura,Hideaki Takazawa,Shuuichi Nakazato. Владелец: Oji Kako Co Ltd. Дата публикации: 1990-01-02.

Photosensitive resin composition, method for producing patterned cured film, cured film, interlayer insulating film, cover coat layer, surface protection film, and electronic component

Номер патента: US20230359122A1. Автор: Akira Asada,Atsutaro Yoshizawa. Владелец: HD MicroSystems Ltd. Дата публикации: 2023-11-09.

Photosensitive resin structure for printing plate, and method for producing same

Номер патента: US11796914B2. Автор: Shusaku Tabata,Masaki Matsumoto,Ryo ICHIHASHI. Владелец: Asahi Kasei Corp. Дата публикации: 2023-10-24.

Method for producing novel ali cyclic ester compound, novel alicyclic ester compound, (meth)acrylic copolymer produced by polymerizing said compound, and photosensitive resin composition using said copolymer

Номер патента: US20160355461A1. Автор: Hiroshi Horikoshi,Hiroyasu Tanaka,Kikuo Furukawa,Shoichi Hayakawa,Hiroyuki TANAGI. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2016-12-08.

Photosensitive resin composition, cured product of same, interlayer insulating film, surface protective film and electronic component

Номер патента: US20190161580A1. Автор: Satoshi Abe,Masato Nishimura,Ayaka Azuma,Tadamitsu Nakamura,Kazuya Soejima. Владелец: Hitachi Chemical DuPont Microsystems Ltd. Дата публикации: 2019-05-30.

Water-developable flexographic printing original plate, flexographic printing plate and photosensitive resin composition

Номер патента: EP3919524A1. Автор: Kazuhiro Fujimaki,Taira MURAKAMI,Yusuke Namba. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-12-08.

Photosensitive resin composition, planographic printing plate precursor, method for producing planographic printing plate, and polymer compound

Номер патента: US20170329225A1. Автор: Atsuyasu Nozaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-11-16.

Photosensitive resin composition, planographic printing plate precursor, and plate-making method for planographic printing plate

Номер патента: US20180129136A1. Автор: Atsuyasu Nozaki,Yuichi Yasuhara. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-05-10.

Water-developable flexo printing plate original plate, flexo printing plate, and photosensitive resin composition

Номер патента: EP3842862A1. Автор: Hiroshi Sato,Kazuhiro Fujimaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-06-30.

Water-developable flexographic printing plate precursor, flexographic printing plate, and photosensitive resin composition

Номер патента: US20210165322A1. Автор: Hiroshi Sato,Kazuhiro Fujimaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-06-03.

Polyimide resin and positive-type photosensitive resin comprising the same

Номер патента: US20220244640A1. Автор: Jiyeon SUNG,Minyoung Lim,Hyunsoon LIM. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2022-08-04.

Heat-developable photosensitive material

Номер патента: EP1050777B1. Автор: Kazunobu Fuji Photo Film Co. Ltd. Katoh. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2002-07-24.

Positive-type photosensitive resin composition

Номер патента: PH12018501573A1. Автор: Tadamitsu Nakamura,Daisaku Matsukawa. Владелец: Hitachi Chemical DuPont Microsystems Ltd. Дата публикации: 2019-04-15.

Water-developable photosensitive lithographic printing plate material

Номер патента: US20100112478A1. Автор: Akira Furukawa. Владелец: Mitsubishi Paper Mills Ltd. Дата публикации: 2010-05-06.

Resin composition for toner, method of preparing the same and toner

Номер патента: CA2086582C. Автор: Susumu Tanaka,Yoshiyuki Kosaka,Takashi Ueyama,Masazumi Okudo. Владелец: Sekisui Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1999-07-13.

Process for preparing an aqueous developable photosensitive element

Номер патента: US5707773A. Автор: David William Swatton,John Anthony Quinn,Paul Thomas Shea,Jan Grossman,Jose Antonio Briones. Владелец: Reichhold Chemicals Inc. Дата публикации: 1998-01-13.

Actinic light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern formation method, and method for producing electronic devices

Номер патента: EP4293011A1. Автор: Shuhei Yamaguchi,Eiji Fukuzaki,Tomoaki Yoshioka,Taro MIYOSHI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-12-20.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20230408920A1. Автор: Shuhei Yamaguchi,Taro MIYOSHI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-12-21.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic devices

Номер патента: US20230393473A1. Автор: Shuhei Yamaguchi,Eiji Fukuzaki,Tomoaki Yoshioka,Taro MIYOSHI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-12-07.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20240152049A1. Автор: Masafumi KOJIMA,Yosuke BEKKI,Nobuhiro HIURA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-05-09.

Photosensitive resin printing plate precursor, and method of manufacturing printing plate using said precursor

Номер патента: US20230333473A1. Автор: Kenji Ido,Tsutomu Abura,Norihito Tachi. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2023-10-19.

Photosensitive resin printing plate precursor, and method for manufacturing printing plate using said precursor

Номер патента: EP4212957A1. Автор: Kenji Ido,Tsutomu Abura,Norihito Tachi. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2023-07-19.

Crosslinking curable resin composition

Номер патента: US5356754A. Автор: Kenji Kushi,Ken-ichi Inukai,Takayuki Iseki,Seiya Koyanagi. Владелец: Mitsubishi Rayon Co Ltd. Дата публикации: 1994-10-18.

Liquid jet recording head having a layer of a resin composition curable with an active energy ray

Номер патента: US4688056A. Автор: Hiromichi Noguchi,Tadayoshi Inamoto,Megumi Munakata. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1987-08-18.

Device and method for producing flexographic printing forms for printing newspapers by applying digital optical images

Номер патента: RU2294553C2. Автор: Уве ШТЕБАНИ,Томас ТЕЛЬЗЕР,Эльмар КЕБЕНИХ,Хартмут ЗАНДИГ. Владелец: XSYS Принт Солюшенс Дойчланд ГмбХ. Дата публикации: 2007-02-27.

Fold-in information-bearing panel and fold-out write-on panel for outer cover of single-use camera

Номер патента: US5463439A. Автор: Dennis R. Zander. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1995-10-31.

Thermally developable photosensitive compositions containing acutance agents

Номер патента: US4271263A. Автор: Edward J. Goettert. Владелец: Minnesota Mining and Manufacturing Co. Дата публикации: 1981-06-02.

Heat-developable photosensitive material

Номер патента: US5258281A. Автор: Masao Suzuki,Tetsuya Higuchi,Hiromi Tanaka,Tetsuro Fukui,Kenji Kagami,Motokazu Kobayashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1993-11-02.

Base precursor for heat-developable photosensitive material

Номер патента: US4560763A. Автор: Hiroyuki Hirai,Kozo Sato. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1985-12-24.

Heat-developable photosensitive material

Номер патента: US4636462A. Автор: Yoshiharu Yabuki,Hiroyuki Hirai,Kozo Sato,Ken Kawata. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1987-01-13.

Heat-developable photosensitive material

Номер патента: US4273845A. Автор: Yasuhiro Yano,Hajime Kobayashi,Ichiro Endo. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1981-06-16.

Photosensitive resin printing plate precursor and method of manufacturing printing plate

Номер патента: US20190039397A1. Автор: Hiroyuki Kawahara,Norihito Tachi,Kei NAGANO. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2019-02-07.

Binder resin composition of toner, toner composition and preparation method thereof

Номер патента: US20080090162A1. Автор: Koichi Tsunemi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2008-04-17.

Resin composition for printed wiring board material and prepreg, resin sheet, metal foil-clad laminate, and printed wiring board using the same

Номер патента: US09905328B2. Автор: Keiichi HASEBE,Naoki KASHIMA,Takenori TAKIGUCHI,Takaaki Ogashiwa. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2018-02-27.

Optical storage medium with a mask layer providing a super resolution near field effect, and respective manufacturing method

Номер патента: US20100062203A1. Автор: Joachim Knittel. Владелец: Thomson Licensing SAS. Дата публикации: 2010-03-11.

Optical storage medium with a mask layer providing a super resolution near field effect, and respective manufacturing method

Номер патента: EP2106609A1. Автор: Joachim Knittel. Владелец: Thomson Licensing SAS. Дата публикации: 2009-10-07.

Optical recording medium having mask layer

Номер патента: US5529864A. Автор: Yoichi Osato,Shinichi Tachibana. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1996-06-25.

Optical storage medium comprising a mask layer with a super resolution near field structure

Номер патента: EP2084706B1. Автор: Gael Pilard,Christophe Fery,Stephan Knappmann,Larisa Pacearescu. Владелец: Thomson Licensing SAS. Дата публикации: 2011-03-02.

Optical storage medium comprising a mask layer with a super resolution near field structure

Номер патента: US8067079B2. Автор: Gael Pilard,Christophe Fery,Stephan Knappmann,Larisa von Riewel. Владелец: Thomson Licensing SAS. Дата публикации: 2011-11-29.

Optical storage medium comprising a mask layer with a super resolution near field structure

Номер патента: WO2008043824A1. Автор: Gael Pilard,Christophe Fery,Stephan Knappmann,Larisa Pacearescu. Владелец: THOMSON LICENSING. Дата публикации: 2008-04-17.

Optical storage medium comprising a mask layer with a super resolution near field structure

Номер патента: EP2084706A1. Автор: Gael Pilard,Christophe Fery,Stephan Knappmann,Larisa Pacearescu. Владелец: Thomson Licensing SAS. Дата публикации: 2009-08-05.

Optical storage medium comprising a mask layer with a super resolution near field structure

Номер патента: US20100189950A1. Автор: Gael Pilard,Christophe Fery,Stephan Knappmann,Larisa von Riewet. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-07-29.

Sensor comprising a masking layer adhesive

Номер патента: US09442073B2. Автор: Duane D. Fansler,Guy D. Joly,Neal A. Rakow. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2016-09-13.

Fluorocarbon resin composite, cookware, cooker, roller for office automation equipment, belt for office automation equipment, and method for producing them

Номер патента: US09776289B2. Автор: Kazuaki Ikeda,Yoshimasa Suzuki,Nobutaka Matsushita. Владелец: SUMITOMO ELECTRIC FINE POLYMER INC. Дата публикации: 2017-10-03.

Photocurable resin composition

Номер патента: EP1794199B1. Автор: Katsunori c/o Hitachi Chemical Co. Ltd. HAYASHI,Akihiro c/o Hitachi Chemical Co. Ltd. KOBAYASHI,Junichi c/o Hitachi Chemical Co. Ltd. KAMEI. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2010-01-13.

Ferroelectric memory to be tested by applying disturbance voltage to a plurality of ferroelectric capacitors at once in direction to weaken polarization, and method of testing the same

Номер патента: US7411809B2. Автор: Daisaburo Takashima,Ryu Ogiwara. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2008-08-12.

Ferroelectric memory to be tested by applying disturbance voltage to a plurality of ferroelectric capacitors at once in direction to weaken polarization, and method of testing the same

Номер патента: US20070109834A1. Автор: Daisaburo Takashima,Ryu Ogiwara. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-05-17.

Displays with embedded color tracking algorithm based on panel optical characteristics

Номер патента: US20080150961A1. Автор: Ter-Wei Peng. Владелец: BenQ Corp. Дата публикации: 2008-06-26.

Method of removing radioactive cesium, hydrophilic resin composition for removing radioactive cesium, method of removing radioactive iodine and radioactive cesium and hydrophilic resin composition for removing radioactive iodine and radioactive cesium

Номер патента: RU2597306C2. Автор: Казуюки ХАНАДА,Казуя КИМУРА,Кенити ТАКАХАСИ,Манабу УРУНО. Владелец: Укима Кемикалс Энд Колор Мфг. Ко., Лтд.. Дата публикации: 2016-09-10.

Method of removing radioactive cesium, hydrophilic resin composition for removing radioactive cesium, method of removing radioactive iodine and radioactive cesium and hydrophilic composition for removing radioactive iodine and radioactive cesium

Номер патента: RU2603201C1. Автор: Казуюки ХАНАДА,Казуя КИМУРА,Кенити ТАКАХАСИ,Манабу УРУНО,Кадзуаки МУТО. Владелец: Укима Кемикалс Энд Колор Мфг. Ко., Лтд.. Дата публикации: 2016-11-27.

Composite material and resin composition containing metastable particles

Номер патента: RU2725922C2. Автор: Джудит ЭЛДЕР,Джеймс Мартин ГРИФФИН,Винсент АЕРТС. Владелец: Сайтек Индастриз Инк.. Дата публикации: 2020-07-07.

Fluorocarbon resin composite, cookware, cooker, roller for office automation equipment, belt for office automation equipment , and method for producing them

Номер патента: US20140106084A1. Автор: Kazuaki Ikeda,Yoshimasa Suzuki,Nobutaka Matsushita. Владелец: SUMITOMO ELECTRIC FINE POLYMER INC. Дата публикации: 2014-04-17.

Photosensitive resin laminate for sign boards

Номер патента: US20030091802A1. Автор: Yuji Taguchi,James Chapman,Howard Vreeland. Владелец: Anderson and Vreeland Inc. Дата публикации: 2003-05-15.

Purification and labeling of extracellular vesicles using a mixed mode resin composition

Номер патента: EP3731947A1. Автор: Jay A. Berzofsky,Jennifer C. Jones,Joshua A. WELSH,Katherine M. MCKINNON. Владелец: US Department of Health and Human Services. Дата публикации: 2020-11-04.

Method for forming pattern on substrate structure without using mask layer and substrate structure

Номер патента: US20230199968A1. Автор: Tze-Yang Yeh,Shih-Hsi Tai,Tung-Ho Tao. Владелец: Amulaire Thermal Tech Inc. Дата публикации: 2023-06-22.

Package structure having solder mask layer with low dielectric constant and method of fabricating the same

Номер патента: US20220240367A1. Автор: Kuo-Wei Li,Ming-Hao Wu. Владелец: Unimicron Technology Corp. Дата публикации: 2022-07-28.

Methods of parallel transfer of micro-devices using mask layer

Номер патента: US11756982B2. Автор: Manivannan Thothadri,Arvinder CHADHA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-12.

Multilayer material having a resistance layer formed on an electrically conductive layer and a multilayer board for a printed circuit board which has a resistance layer

Номер патента: US5061550A. Автор: Takeshi Yamagishi,Masahiro Mikamo,Kazunao Shimizu. Владелец: Nippon Denkai Co Ltd. Дата публикации: 1991-10-29.

Resin composition eliminating volatile loss of initiating species for the preparation of printed circuit board laminates

Номер патента: US09888570B2. Автор: Dylan J. Boday,Joseph Kuczynski. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-02-06.

Resin composition, prepreg and metal-foil-clad laminate

Номер патента: US09743515B2. Автор: Kenichi Mori,Shoichi Ito. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2017-08-22.

Halogen-free epoxy resin composition, prepreg and laminate using same

Номер патента: US09873789B2. Автор: Xianping Zeng,Liexiang He. Владелец: Shengyi Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-23.

Conductive resin composition, method for manufacturing electronic component using same, bonding method, bonding structure, and electronic component

Номер патента: US09491868B2. Автор: Masaaki Hirayama,Tomoaki Onoue,Yoshiki Aburatani. Владелец: Murata Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-08.

Curable resin composition, multilayer printed circuit board manufactured by using the composition, and method for the production thereof

Номер патента: US20010000518A1. Автор: Akio Sekimoto,Shinichi Yamada. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-04-26.

Resin composition for wiring circuit board, substrate for wiring circuit board, and wiring circuit board

Номер патента: US6623843B2. Автор: Hirofumi Fujii,Shunichi Hayashi. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2003-09-23.

Resin composition eliminating volatile loss of initiating species for the preparation of printed circuit board laminates

Номер патента: US10111327B2. Автор: Dylan J. Boday,Joseph Kuczynski. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-10-23.

Surface modified amine curing agent, and one-component type epoxy resin composition and anisotropic conductive adhesive having the same

Номер патента: WO2009014353A2. Автор: Seong-Jun Park,Joon-hee Kim,Yong-Gyun Cho,No-Hyung Park,Mun-Seop Song,Chul-Hwan Lim. Владелец: LG CHEM, LTD.. Дата публикации: 2009-01-29.

Conductive substrate structure with conductive channels formed by using a two-sided cut approach and a method for manufacturing the same

Номер патента: US20110155436A1. Автор: Bily Wang,Sung-Yi Hsiao,Jack Chen. Владелец: Harvatek Corp. Дата публикации: 2011-06-30.

Copper circuit formed by kinetic spray

Номер патента: US7476422B2. Автор: John R. Smith,Alaa A. Elmoursi,Frans P. Lautzenhiser,Albert B. Campbell. Владелец: Delphi Technologies Inc. Дата публикации: 2009-01-13.

Dielectric resin composition and multilayer circuit board comprising dielectric layers formed therefrom

Номер патента: US20020131247A1. Автор: Nawalage Cooray. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2002-09-19.

Metal resin composite and preparation method thereof and electronic product housing

Номер патента: US20220002876A1. Автор: FAN CHEN,Junlan Lian,Hongye LIN,Weitu LI. Владелец: BYD Co Ltd. Дата публикации: 2022-01-06.

Resin composition and article made therefrom

Номер патента: US11807756B2. Автор: Chen-Yu Hsieh,Yi-Fei Yu,Ching-Huan LEE. Владелец: Elite Material Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-07.

Filler, preparation method thereof, resin composition comprising the filler and article made therefrom

Номер патента: US11787935B2. Автор: Yan Zhang,Ningning JIA,Rongtao WANG. Владелец: Elite Electronic Material Kunshan Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Resin composition and article made therefrom

Номер патента: US20230101478A1. Автор: Chen-Yu Hsieh,Yi-Fei Yu,Ching-Huan LEE. Владелец: Elite Material Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Electroconductive resin composition and method for manufacturing shielded package using same

Номер патента: EP3650499A1. Автор: Hiroaki Umeda,Kazuhiro Matsuda,Hajime NAKAZONO. Владелец: Tatsuta Electric Wire and Cable Co Ltd. Дата публикации: 2020-05-13.

Filler, preparation method thereof, resin composition comprising the filler and article made therefrom

Номер патента: US20230151212A1. Автор: Yan Zhang,Ningning JIA,Rongtao WANG. Владелец: Elite Electronic Material Kunshan Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-18.

Epoxy resin compositions and methods of making

Номер патента: WO2024167746A1. Автор: Christoph Scheuer,Gabriele Badini,Thomas Dressen,Alexander LINZNER. Владелец: Westlake Epoxy Inc.. Дата публикации: 2024-08-15.

Epoxy resin compositions and methods of making

Номер патента: US20240279523A1. Автор: Christoph Scheuer,Gabriele Badini,Thomas Dressen,Alexander LINZNER. Владелец: Westlake Epoxy Inc. Дата публикации: 2024-08-22.

Thermoset resin composition, and prepreg and laminate for printed circuit board manufactured therefrom

Номер патента: US09670362B2. Автор: KeHong FANG,Yundong Meng. Владелец: Shengyi Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-06.

Thermoplastic resin composition having excellent heat resistance and electromagnetic wave shielding capacity, method of preparing thermoplastic resin composition, and injection-molded article manufactured using thermoplastic resin composition

Номер патента: US11993695B2. Автор: Minsu Kim,Eon Seok Lee,Gi Dae Choi,Changhun Yun,Youngjoo Kim. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2024-05-28.

Flame retardant resin compositions containing phosphoramides, and method for making

Номер патента: EP1131378A1. Автор: John Robert Campbell,Neal Steven Falcone. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2001-09-12.

Resin composition, layered body including resin composition layer, layered body, and electromagnetic wave shielding film

Номер патента: US20220259427A1. Автор: Makoto Hirakawa,Masashi Yamada,Masahiro Torii,Yuya Okimura. Владелец: TOAGOSEI CO LTD. Дата публикации: 2022-08-18.

Resin composition, prepreg, and printed circuit board

Номер патента: US20210298169A1. Автор: Yen-Hsing Wu,Chen-Hao Chang. Владелец: ITEQ Corp. Дата публикации: 2021-09-23.

Method and device for directing lighting effect that induces dynamic effect of direction object by using masking layer

Номер патента: US20230201738A1. Автор: Jung Min Choi,Hyun Gil Kim,Kyung Il Choi. Владелец: Fanlight Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Lighting effect directing method and device for inducing dynamic effect of directed object by using masking layers

Номер патента: EP4190422A1. Автор: Jung Min Choi,Hyun Gil Kim,Kyung Ii Choi. Владелец: Fanlight Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-07.

Composite wavelength conversion powder, resin composition containing composite wavelength conversion powder, and light emitting device

Номер патента: US20150299566A1. Автор: Toru Kinoshita,Tsutomu Nozoe. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2015-10-22.

Composite wavelength conversion powder, resin composition containing composite wavelength conversion powder, and light emitting device

Номер патента: US09487697B2. Автор: Toru Kinoshita,Tsutomu Nozoe. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2016-11-08.

Layer formation method, and substrate with a layer formed by the method

Номер патента: US20030232136A1. Автор: Yoshikazu Kondo,Yasuo Morohoshi,Akira Nishiwaki,Kazuhiro Fukuda,Yoshiro Toda,Kiyoshi Oishi. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2003-12-18.

Layer formation method, and substrate with a layer formed by the method

Номер патента: US20040213920A1. Автор: Yoshikazu Kondo,Yasuo Morohoshi,Akira Nishiwaki,Kazuhiro Fukuda,Yoshiro Toda,Kiyoshi Oishi. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2004-10-28.

Layer formation method, and substrate with a layer formed by the method

Номер патента: EP1371752A3. Автор: Yoshikazu Kondo,Yasuo Morohoshi,Akira Nishiwaki,Kazuhiro Fukuda,Yoshiro Toda,Kiyoshi Oishi. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2004-01-14.

Resin composition, resin film and organic electroluminescent device

Номер патента: US11970606B2. Автор: Hiroyasu Inoue. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2024-04-30.

Resin composition for sealing organic electroluminescent device; method of producing the same; and adhesive film, gas-barrier film, organic electroluminescent device and organic electroluminescent panel using the resin composition

Номер патента: US20140291655A1. Автор: Toshihiro Suzuki,Satoshi Hattori,Toshimitsu Nakamura,Tetsuya Mieda,Takanori Yamakawa,Hideto Fukuda. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 2014-10-02.

Methods of forming trench/via features in an underlying structure using a process that includes a masking layer formed by a directed self-assembly process

Номер патента: US20140273469A1. Автор: Chanro Park,Gerard M. Schmid,Richard A. Farrell,Jeremy A. Wahl. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2014-09-18.

Method of fabricating zinc oxide nanostructures using liquid masking layer

Номер патента: US9368346B2. Автор: Gun-Young Jung,Hui Song,Heung-Cho Ko,Hun-Soo JANG,Bokyeong SON. Владелец: GWANGJU INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY. Дата публикации: 2016-06-14.

Method of fabricating zinc oxide nanostructures using liquid masking layer

Номер патента: US20160104616A1. Автор: Gun-Young Jung,Hui Song,Heung-Cho Ko,Hun-Soo JANG,Bokyeong SON. Владелец: GWANGJU INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY. Дата публикации: 2016-04-14.

Removable mask layer to reduce overhang during re-sputter process in pvd chambers

Номер патента: US20240249920A1. Автор: Jianxin Lei,Wenting Hou. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-25.

Removable mask layer to reduce overhang during re-sputter process in pvd chambers

Номер патента: WO2024155351A1. Автор: Jianxin Lei,Wenting Hou. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-07-25.

Faceted structure formed by self-limiting etch

Номер патента: US09812394B2. Автор: Kangguo Cheng,Ali Khakifirooz,Juntao Li,Werner A Rausch. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-11-07.

Method For Etching High Aspect Ratio Features Within A Dielectric Using A Hard Mask Stack Having Multiple Hard Mask Layers

Номер патента: US20230360925A1. Автор: JinYing Lin. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-09.

Epitaxial structure with pattern mask layers for multi-layer epitaxial buffer layer growth

Номер патента: US09548417B2. Автор: Yen-Lin LAI,Jyun-De Wu. Владелец: PlayNitride Inc. Дата публикации: 2017-01-17.

Transistor having hard-mask layers

Номер патента: US20160380109A1. Автор: Chao-Shun Yang. Владелец: AU OPTRONICS CORP. Дата публикации: 2016-12-29.

Method for fabricating transistor having hard-mask layer

Номер патента: US09484441B2. Автор: Chao-Shun Yang. Владелец: AU OPTRONICS CORP. Дата публикации: 2016-11-01.

Method of trimming a hard mask layer, method for fabricating a gate in a mos transistor, and a stack for fabricating a gate in a mos transistor

Номер патента: US20090206403A1. Автор: Min-Chieh Yang,Yi-Hsing Chen,Jiunn-Hsiung Liao,Meng-Jun Wang. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2009-08-20.

Manufacturing method of semiconductor structure using first mask layer and first photoresist layer to selectively etch stack on complete die region

Номер патента: US12048139B2. Автор: Jun Xia,Sen Li. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2024-07-23.

Masking layers in led structures

Номер патента: EP4416768A1. Автор: Michel Khoury,Ria Someshwar. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-21.

Method of forming patterned mask layer

Номер патента: US09779942B1. Автор: Yu-Tsung Lai,Chih-Wei Kuo,Jiunn-Hsiung Liao. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-10-03.

Method of forming an integrated circuit using a patterned mask layer

Номер патента: US09640398B2. Автор: MING-CHING Chang,De-Fang Chen,Chao-Cheng Chen,Chun-Hung Lee,Yih-Ann Lin,Tzu-Yen Hsieh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-05-02.

Reflective solder mask layer for led phosphor package

Номер патента: EP3084849A1. Автор: Ting Zhu,Gregory GUTH,Frederic Stephane Diana,Yiwen RONG. Владелец: Koninklijke Philips NV. Дата публикации: 2016-10-26.

Methods for forming mask layers using a flowable carbon-containing silicon dioxide material

Номер патента: US09793169B1. Автор: Huang Liu,Guillaume Bouche,Huy Cao,Songkram Srivathanakul. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-10-17.

Method of removing a hard mask layer on a gate structure while forming a protective layer on the surface of a substrate

Номер патента: US09646889B1. Автор: Hsu Ting,Chun-Wei Yu,Chueh-Yang Liu,Yu-Ren Wang,Kuang-Hsiu Chen. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-05-09.

Formation of a masking layer on a dielectric region to facilitate formation of a capping layer on electrically conductive regions separated by the dielectric region

Номер патента: US09368400B2. Автор: Thomas R. Boussie,Sandra G. Malhotra,David E. Lazovsky. Владелец: Intermolecular Inc. Дата публикации: 2016-06-14.

Method of manufacturing semiconductor devices in which oxide regions are formed by an oxidation mask disposed directly on a substrate damaged by ion implantation

Номер патента: CA1088217A. Автор: Billy L. Crowder,William R. Hunter,Douglas W. Ormond, Jr.. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1980-10-21.

Electrodes for localized control facilitating the integration of porous silicon formed by galvanic etching

Номер патента: US20180151379A1. Автор: Christopher James Morris,Matthew Henderson Ervin,Nicholas William Piekiel,Wayne Anthony Churaman. Владелец: US Department of Army. Дата публикации: 2018-05-31.

Method of removing hard mask layer

Номер патента: US12040189B2. Автор: Shih-Hsien Huang,Wen Yi Tan,Sen Mao Feng,Ming Xuan Ren. Владелец: United Semiconductor Xiamen Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Method of forming patterned hard mask layer

Номер патента: US09543408B1. Автор: Yu-Ren Wang,Yi-Hui Lin,Keng-Jen Lin,Chun-Yao Yang. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-01-10.

In-situ sequential silicon containing hard mask layer/silicon layer plasma etch method

Номер патента: US6069091A. Автор: Ming-Yeon Hung,Fa-Yuan Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2000-05-30.

Semiconductor device including hard mask structure with repeating spin-on hard mask layers

Номер патента: US11901187B2. Автор: Songyi Baek,Yongdeok Lee,Hwanyeol PARK,JongYoung Park,Sejin KYUNG,Daewee KONG,Ilwoo KIM,Philippe COCHE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-13.

Method of forming a dual damascene via by using a metal hard mask layer

Номер патента: US20030092279A1. Автор: Chia-Lin Hsu,Teng-Chun Tsai. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2003-05-15.

Use of sacrificial masking layer and backside exposure in forming openings that typically receive light-emissive material

Номер патента: US6046539A. Автор: John D. Porter,Arthur J. Learn,Duane A. Haven. Владелец: Candescent Technologies Inc. Дата публикации: 2000-04-04.

Method of manufacturing semiconductor devices in which silicon oxide regions inset in silicon are formed by a masking oxidation, wherein an intermediate layer of polycrystalline silicon is provided between the substrate and the oxidation mask

Номер патента: US3900350A. Автор: Johannes Arnoldus Appels,Wilhelmus Henricus Verkuijlen. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 1975-08-19.

Method For Improving Etch Rate And Critical Dimension Uniformity When Etching High Aspect Ratio Features Within A Hard Mask Layer

Номер патента: US20230343598A1. Автор: Yun Han,Kai-Hung YU,Shihsheng Chang,Andrew Metz,Eric Chih-Fang Liu,Minjoon PARK. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-26.

Method for Producing a Plurality of Semiconductor Chips Having a Mask Layer with Openings and Semiconductor Chip Having a Mask Layer with Openings

Номер патента: US20190139763A1. Автор: Korbinian Perzlmaier,Jürgen Off,Tobias Gotschke. Владелец: OSRAM Opto Semiconductors GmbH. Дата публикации: 2019-05-09.

Method of forming a narrow self-aligned, annular opening in a masking layer

Номер патента: US5047117A. Автор: Martin C. Roberts. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1991-09-10.

Mask layer and dual damascene interconnect structure in a semiconductor device

Номер патента: US20040121579A1. Автор: Subramanian Karthikeyan,Kurt Steiner,Joseph Taylor,Joshua Li,Robert Huang,Scott Jessen,Isaiah Oladeji. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-06-24.

Hard mask layer stack and a method of patterning

Номер патента: US20070215986A1. Автор: Dirk Caspary,Martin Verhoeven,Dirk Manger,Matthias Markert,Hocine Boubekeur,Nicolas Nagel,Thomas Tatry. Владелец: Qimonda AG. Дата публикации: 2007-09-20.

Method for etching back hard mask layer on tops of dummy polysilicon gates in gate last process

Номер патента: US11538923B2. Автор: Ying Xu,Ran Huang,Shidong Fu,Bohan Jiang. Владелец: Shanghai Huali Integrated Circuit Corp. Дата публикации: 2022-12-27.

Masking Layer with Post Treatment

Номер патента: US20230335406A1. Автор: Chung-Ting Ko,Tai-Chun Huang,Chi On Chui,Chun-Ming Lung,Wan-Chen Hsieh,Wen-Ju Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-19.

Methods of forming a masking layer for patterning underlying structures

Номер патента: US20140273473A1. Автор: Chanro Park,Gerard M. Schmid,Richard A. Farrell,Jeremy A. Wahl. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2014-09-18.

Method of trimming a hard mask layer, method for fabricating a gate in a mos transistor, and a stack for fabricating a gate in a mos transistor

Номер патента: US20080164526A1. Автор: Min-Chieh Yang,Yi-Hsing Chen,Jiunn-Hsiung Liao,Meng-Jun Wang. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2008-07-10.

Masking layers in led structures

Номер патента: WO2023064155A1. Автор: Michel Khoury,Ria Someshwar. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-04-20.

Method of forming through silicon via and trench using the same mask layer

Номер патента: US20230377967A1. Автор: Keizo Kawakita,Hidenori Yamaguchi. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2023-11-23.

Method for etching back hard mask layer on tops of dummy polysilicon gates in gate last process

Номер патента: US20220102531A1. Автор: Ying Xu,Ran Huang,Shidong Fu,Bohan Jiang. Владелец: Shanghai Huali Integrated Circuit Corp. Дата публикации: 2022-03-31.

Method of forming an integrated circuit using a patterned mask layer

Номер патента: US12027370B2. Автор: MING-CHING Chang,De-Fang Chen,Chao-Cheng Chen,Chun-Hung Lee,Yih-Ann Lin,Tzu-Yen Hsieh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-02.

White photosensitive resin composition, white spacer, light conversion layer, and light-emitting device

Номер патента: US20210388158A1. Автор: Yu-Chun Chen,Meng-Po Liu. Владелец: Echem Solutions Corp. Дата публикации: 2021-12-16.

Method for changing a background-target image of an object formed by a radar station

Номер патента: RU2664885C1. Автор: Анатолий Анатольевич Хорев,Виталий Алексеевич Щербаков,Сергей Вениаминович Протасов. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский университет "Московский институт электронной техники". Дата публикации: 2018-08-23.

Oxidation resistant mask layer and process for producing recessed oxide region in a silicon body

Номер патента: US3874919A. Автор: Herbert S Lehman. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1975-04-01.

Method for growing monocrystalline silicon on a mask layer

Номер патента: US4549926A. Автор: Lubomir L. Jastrzebski,Scott C. Blackstone,Robert H. Pagliaro, Jr.,John F. Corboy, Jr.. Владелец: RCA Corp. Дата публикации: 1985-10-29.

Method for fabricating self-aligned semiconductor devices utilizing selectively etchable masking layers

Номер патента: US4135954A. Автор: Augustine W. Chang,Arun K. Gaind. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1979-01-23.

Fin field effect transistor (finfet) device structure with hard mask layer over gate structure and method for forming the same

Номер патента: US20200105931A1. Автор: Jhon-Jhy Liaw,Cheng-Han Wu,Jyh-Huei Chen,Yu-Ho Chiang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-04-02.

Formation of a Masking Layer on a Dielectric Region to Facilitate Formation of a Capping Layer on Electrically Conductive Regions Separated by the Dielectric Regions

Номер патента: US20110021015A1. Автор: Thomas R. Boussie,Sandra G. Malhotra,David E. Lazovsky. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-01-27.

Formation of a Masking Layer on a Dielectric Region to Facilitate Formation of a Capping Layer on Electrically Conductive Regions Separated by the Dielectric Region

Номер патента: US20120258595A1. Автор: Thomas R. Boussie,Sandra G. Malhotra,David E. Lazovsky. Владелец: Intermolecular Inc. Дата публикации: 2012-10-11.

Formation of a masking layer on a dielectric region to facilitate formation of a capping layer on electrically conductive regions separated by the dielectric regions

Номер патента: US8039383B2. Автор: Thomas R. Boussie,Sandra G. Malhotra,David E. Lazovsky. Владелец: Intermolecular Inc. Дата публикации: 2011-10-18.

Mask-layer-free hybrid passivation back contact cell and fabrication method thereof

Номер патента: US20240120424A1. Автор: Kairui LIN. Владелец: Golden Solar Quanzhou New Energy Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-11.

Mask-layer-free hybrid passivation back contact cell and fabrication method thereof

Номер патента: AU2023201491A1. Автор: Kairui LIN. Владелец: Golden Solar Quanzhou New Energy Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-02.

Mask-layer-free hybrid passivation back contact cell and fabrication method thereof

Номер патента: EP4354515A1. Автор: Kairui LIN. Владелец: Golden Solar Quanzhou New Energy Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-17.

Mask-layer-free hybrid passivation back contact cell and fabrication method thereof

Номер патента: US12021158B2. Автор: Kairui LIN. Владелец: Golden Solar Quanzhou New Energy Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Method for forming patterned mask layer

Номер патента: US20230352303A1. Автор: Chien-Wen Lai,Yu-chen Chang,Chih-Min HSIAO. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

Method of removing hard mask layer

Номер патента: US20230317453A1. Автор: Shih-Hsien Huang,Wen Yi Tan,Sen Mao Feng,Ming Xuan Ren. Владелец: United Semiconductor Xiamen Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Method of forming a mask layer

Номер патента: US20200328122A1. Автор: Zheng Tao,Efrain Altamirano Sanchez,Boon Teik CHAN. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2020-10-15.

Method for fabricating read only memory including forming masking layers with openings and pre-coding the cell and peripheral regions

Номер патента: US6734064B2. Автор: Ching-Yu Chang,Henry Chung,Cheng-Chen Calvin Hsueh,Tahorng Yang. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2004-05-11.

High-selectivity plasma-assisted etching of resist- masked layer

Номер патента: CA1160759A. Автор: David N. Wang,Nadia Lifshitz,Joseph M. Moran. Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1984-01-17.

Nanowire device with mask layer

Номер патента: WO2024042219A1. Автор: Helge Weman. Владелец: Crayonano AS. Дата публикации: 2024-02-29.

Polyester resin composition having good yellowing resistance and impact resistance

Номер патента: US09437790B2. Автор: Jong Cheol Lim,Pil Ho Kim,Sang Hwa Lee,In Sik Shim,Sun Ho Song. Владелец: Cheil Industries Inc. Дата публикации: 2016-09-06.

Silicone resin composition for sealant and power semiconductor module that uses this composition

Номер патента: US09617455B2. Автор: Yuji Ichimura,Makoto Higashidate. Владелец: Fuji Electric Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-11.

Resin composition for insulating film

Номер патента: US20200347226A1. Автор: Yosuke Iinuma,Kazuhiro Sawada,Yuki Usui,Takuya Ohashi,Hayato Hattori. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2020-11-05.

Method of forming planar carbon layer by applying plasma power to a combination of hydrocarbon precursor and hydrogen-containing precursor

Номер патента: US09646818B2. Автор: Kwangduk Lee,Patrick James Reilly,David Alan Bethke. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-05-09.

Hard mask layer below via structure in display device

Номер патента: US20220359609A1. Автор: Hsun-Chung KUANG,Chia-Hua Lin,Yao-Wen Chang,Yu-Hsing Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-11-10.

Diamond like carbon layer formed by an electron beam plasma process

Номер патента: EP3475971A1. Автор: Yang Yang,Chentsau Ying,Srinivas D. Nemani,Jie Zhou,Kartik Ramaswamy,Kenneth S. Collins,Steven Lane,James D. Carducci,Jingjing Liu,Gonzalo MONROY,Lucy Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-05-01.

Binder Resin for Nonaqueous Secondary Battery Electrode, Binder Resin Composition for Nonaqueous Secondary Battery Electrode Slurry Composition for Nonaqueous Secondary Battery Electrode, Electrode for Nonaqueous Secondary Battery, and Nonaqueous Secondary Battery

Номер патента: US20170244105A1. Автор: Akikazu Matsumoto,Akihiro Ishii,Daisuke Fujikawa,Haruki Okada,Hikaru Momose,Fumino Momose,Mitsufumi Nodono,Ayako Shimonaka,Fumiko Fujie. Владелец: Mitsubishi Rayon Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-24.

Method for forming inner capacitor of semiconductor devices using oxide layers formed by the SACVD method

Номер патента: US20020039827A1. Автор: Jai-Sun Roh. Владелец: Hyundai Electronics Industries Co Ltd. Дата публикации: 2002-04-04.

Fixing resin composition, rotor, automobile, and method of manufacturing rotor

Номер патента: US09997968B2. Автор: Tetsuya Kitada. Владелец: Sumitomo Bakelite Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

Condensation-curable silicone resin composition, condensation-curable silicone resin cured product, and sealed optical semiconductor element

Номер патента: US09963552B2. Автор: Katsumasa Yamamoto,Noriaki Fukuda. Владелец: Sumitomo Seika Chemicals Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Binder resin for nonaqueous secondary battery electrode, binder resin composition for nonaqueous secondary battery electrode slurry composition for nonaqueous secondary battery electrode, electrode for nonaqueous secondary battery, and nonaqueous secondary battery

Номер патента: US09774038B2. Автор: Akikazu Matsumoto,Akihiro Ishii,Daisuke Fujikawa,Haruki Okada,Hikaru Momose,Fumino Momose,Mitsufumi Nodono,Ayako Shimonaka,Fumiko Fujie. Владелец: Mitsubishi Chemical Corp. Дата публикации: 2017-09-26.

White photosensitive resin composition, white spacer, light conversion layer, and light-emitting device

Номер патента: US11919997B2. Автор: Yu-Chun Chen,Meng-Po Liu. Владелец: Echem Solutions Corp. Дата публикации: 2024-03-05.

Semiconductor nanoparticle-ligand composite, manufacturing method of thereof, photosensitive resin composition, optical film, electroluminescent diode and electronic device

Номер патента: US20230100943A1. Автор: Changmin Lee,Hyun Ji OH,Seemaek LEE,Shin Jong MOON. Владелец: DukSan Neolux Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Polyimide resin composition for semiconductor devices, method of forming film in semiconductor devices using the same and semiconductor devices

Номер патента: US20110213075A1. Автор: Junichi Yamashita,Toshiyuki Goshima,Maw Soe Win,Ken Takanashi,Sigemasa Segawa. Владелец: PI R&D Co Ltd. Дата публикации: 2011-09-01.

Resin composition, filler-containing resin film for non-aqueous electrolyte secondary battery, and method for producing filler-containing resin film for non-aqueous electrolyte secondary battery

Номер патента: US09850394B2. Автор: Yusaku Inaba,Tamito Igarashi,Yuki Sakai,Aya Takeuchi. Владелец: Kureha Corp. Дата публикации: 2017-12-26.

Epitaxial Growth Process for Semiconductor Device and Semiconductor Device Comprising Epitaxial Layer Formed By Adopting the Same

Номер патента: US20210398805A1. Автор: Qin Deng,Huojin Tu,Zhanyuan Hu,Jueyang Liu. Владелец: Shanghai Huali Integrated Circuit Corp. Дата публикации: 2021-12-23.

Low dielectric constant insulating film resin composition, method of forming low dielectric constant insulating film, and method of producing semiconductor device

Номер патента: US20010036689A1. Автор: Masakazu Muroyama. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-11-01.

High aspect ratio via fill process employing selective metal deposition and structures formed by the same

Номер патента: US12087626B2. Автор: Kensuke Ishikawa,Fumitaka Amano. Владелец: SanDisk Technologies LLC. Дата публикации: 2024-09-10.

Composite film for superstrate solar cell having conductive film and electroconductive reflective film formed by applying composition containing metal nanoparticles and comprising air pores of preset diameter in contact surface

Номер патента: US8921688B2. Автор: Kazuhiko Yamasaki,Masahide Arai,Yoshiaki Takata,Toshiharu Hayashi,Satoko Ogawa. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2014-12-30.

Process for fabricating a semiconductor device having an insulating layer formed over a semiconductor substrate

Номер патента: US7223677B2. Автор: Martin L. Green,Martin Michael Frank,Glen David Wilk,Yves Chabal. Владелец: Agere Systems LLC. Дата публикации: 2007-05-29.

Bulk acoustic wave device with piezoelectric layer formed by atomic layer deposition

Номер патента: US20230108824A1. Автор: Stefan Bader,Alexandre Augusto Shirakawa,Kwang Jae Shin,Kezia Cheng. Владелец: Skyworks Global Pte Ltd. Дата публикации: 2023-04-06.

Ue capability report on panel and beam switching

Номер патента: US20240365356A1. Автор: Ankit BHAMRI,Bingchao LIU,Alexander Johann Maria Golitschek Edler Von Elbwart. Владелец: Lenovo Beijing Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Method of making polysilicon/tungsten silicide multilayer composite on an integrated circuit structure

Номер патента: US5940733A. Автор: Israel Beinglass,Ramanujapuram A. Srinivas. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1999-08-17.

Semiconductor device and method of singulating thin semiconductor wafer on carrier along modified region within non-active region formed by irradiating energy

Номер патента: US9559004B2. Автор: Il Kwon Shim,Won Kyoung Choi,Byung Joon Han. Владелец: Stats Chippac Pte Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Method for forming graphene barrier layer for semiconductor device and contact structure formed by the same

Номер патента: US20230081962A1. Автор: Won Jun Yoon,Jee Hye Park,Dong Woo Kim,Tae Sung Kim,Jin Ho Jeon,Hong Ki PARK,Woo Hoon SUN,Keon Jung LEE. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-16.

Diamond like carbon layer formed by an electron beam plasma process

Номер патента: WO2018004973A1. Автор: Yang Yang,Chentsau Ying,Srinivas D. Nemani,Jie Zhou,Kartik Ramaswamy,Kenneth S. Collins,Steven Lane,James D. Carducci,Jingjing Liu,Gonzalo MONROY,Lucy Chen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2018-01-04.

Cross-linked polyolefin separator having inorganic coating layer formed thereon, and high-output secondary battery comprising same

Номер патента: EP3719869A1. Автор: Seok Koo Kim,Su Rim Lee,Soon Hyung Choi. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2020-10-07.

Resin composition for sealing an optical semiconductor and optical semiconductor device using said resin composition

Номер патента: MY160200A. Автор: Noriko Kimura. Владелец: Daicel Corp. Дата публикации: 2017-02-28.

Electronic package including cavity formed by removal of sacrificial material from within a cap

Номер патента: US10574202B2. Автор: Atsushi Takano,Ichiro Kameyama,Mitsuhiro Furukawa,Tetsuya Uebayashi. Владелец: Skyworks Filter Solutions Japan Co Ltd. Дата публикации: 2020-02-25.

Protective layers formed on semiconductor device components so as to reduce or eliminate the occurrence of delamination thereof and cracking therein

Номер патента: US20040183210A1. Автор: Tongbi Jiang,Shijian Luo,S. Hinkle. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-09-23.

Method for producing encapsulated structure and epoxy resin composition

Номер патента: US20240182705A1. Автор: Makoto Matsuo,Hidetoshi Seki. Владелец: Sumitomo Bakelite Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Resin composition, cured product sheet, composite molded body, and semiconductor device

Номер патента: US20240010814A1. Автор: Toshiyuki Tanaka,Toshiyuki SAWAMURA. Владелец: Mitsubishi Chemical Corp. Дата публикации: 2024-01-11.

Resin composition, resin composition production method, and electrochemical device

Номер патента: US20240279376A1. Автор: Kimio Yoshimura,Yue Zhao,Yasunari Maekawa,Akihiro Hiroki,Hwan-Chul Yu,Ahmed Mohamed Ahmed MAHMOUD. Владелец: NATIONAL INSTITUTES FOR QUANTUM SCIENCE AND TECHNOLOGY. Дата публикации: 2024-08-22.

Curable resin composition, cured film, multilayered object, imaging device, semiconductor device, method for producing multilayered object, and method for producing element having junction electrode

Номер патента: EP4455223A1. Автор: Kenichiro Sato,Hidenobu Deguchi,Tokushige Shichiri,Taro Shiojima,Hayate Nomoto. Владелец: Sekisui Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-30.

Conveying and cooling apparatus for a resin composition and conveying and cooling method for a resin composition

Номер патента: US09849613B2. Автор: Hiroshi Shibata,Shigehisa Ueda. Владелец: Sumitomo Bakelite Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-26.

Resin composition for sealing

Номер патента: US09676978B2. Автор: Yuichi Kageyama. Владелец: Ajinomoto Co Inc. Дата публикации: 2017-06-13.

Surface-treated steel sheet for battery case, method of production thereof, battery case formed by the steel sheet and battery using the case

Номер патента: MY124694A. Автор: Keiji Yamane,Tatsuo Tomomori,Hideo Ohmura,Hitoshi Ohmura. Владелец: Toyo Kohan Co Ltd. Дата публикации: 2006-06-30.

Epitaxial growth process for semiconductor device and semiconductor device comprising epitaxial layer formed by adopting the same

Номер патента: US11476114B2. Автор: Qin Deng,Huojin Tu,Zhanyuan Hu,Jueyang Liu. Владелец: Shanghai Huali Integrated Circuit Corp. Дата публикации: 2022-10-18.

Resin composition for solar cell encapsulant, and solar cell encapsulant and solar cell module using the same

Номер патента: US20160002440A1. Автор: Masahiro Ueno,Tomoaki Maeyama. Владелец: Japan Polyethylene Corp. Дата публикации: 2016-01-07.

Thermoelectric conversion material-containing resin composition and film formed from thermoelectric conversion material-containing resin composition

Номер патента: US20170069812A1. Автор: Naoki Toshima,Keisuke Oshima,Shoko ICHIKAWA,Yosuke OHKAWACHI. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2017-03-09.

Epoxy resin composition for optical semiconductor device, lead frame obtained using the same for optical semiconductor device, and optical semiconductor device

Номер патента: US20120080705A1. Автор: Shinya Ota,Kohei Nakamura,Kazuhiro Fuke,Hidenori Ohnishi. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2012-04-05.

Tableted epoxy resin composition for encapsulation of semiconductor device and semiconductor device encapsulated using the same

Номер патента: US20200199351A1. Автор: Sang Kyun Kim,Sang Jin Kim,Dong Hwan Lee,Young Joon Lee,Tae Shin Eom,Yong Han CHO. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2020-06-25.

Resin composition for encapsulating semiconductor, semiconductor device, and method for producing resin composition for encapsulating semiconductor

Номер патента: US20210002414A1. Автор: Hiroshi Shibata,Takahiro Kotani. Владелец: Sumitomo Bakelite Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-07.

Resin composition for semiconductor sealing use, semiconductor device, and method for producing resin composition for semiconductor sealing use

Номер патента: EP3751601A1. Автор: Hiroshi Shibata,Takahiro Kotani. Владелец: Sumitomo Bakelite Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-16.

Epoxy resin composition for semiconductor encapsulation and semiconductor device

Номер патента: US20210002474A1. Автор: Norifumi Kawamura,Kenji Hagiwara,Shoichi Osada,Hiroki Oishi,Ryuhei Yokota,Masahiro Kaneta. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-07.

Microcapsule type curable resin composition

Номер патента: EP4435050A1. Автор: Tetsunori SOGA. Владелец: ThreeBond Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-25.

Component comprising a masking layer

Номер патента: US20050181222A1. Автор: Ralph Reiche,Nigel-Philip Cox,Oliver Dernovsek. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2005-08-18.

Polyurethane resin composition suitable for extrusion molding

Номер патента: EP4299641A1. Автор: Yusaku Nomoto,Yantao ZHOU. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-03.

Absorbent article with a channel-forming area and a masking layer

Номер патента: US20240315885A1. Автор: Andrea Peri,Adrien Grenier,Aniruddha Chatterjee,Ernesto Gabriel BIANCHI,Matthias Konrad Hippe,Udo Friedel Schoenborn,Abhishek Prakash Surushe. Владелец: Procter and Gamble Co. Дата публикации: 2024-09-26.

Red photosensitive resin composition for color filter and application of the same

Номер патента: US20140343185A1. Автор: Wei-Kai Ho. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2014-11-20.

Cold spray deposited masking layer

Номер патента: US20220186381A1. Автор: Scott Nelson,Quinlan Yee Shuck,Peter E. Daum,Martyn Anthony JONES. Владелец: Rolls Royce Corp. Дата публикации: 2022-06-16.

Alkali soluble resin polymer and negative-type photosensitive resin composition including the same

Номер патента: US20120004341A1. Автор: Chang Soon Lee,Han Soo Kim,Yoon Hee Heo,Sun Hwa Kim,Hee Kwan Park,Chang Ho Cho,Sang Kyu Kwak,Ki Youl Lee,Won Jin CHUNG. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2012-01-05.

Polyfunctional urethane (meth)acrylate and curable resin composition thereof

Номер патента: US09969839B2. Автор: Tetsuji Moroiwa,Yasuhiro Maeda,Takahiro Matsumoto,Katsuyuki Murai,Humiaki KAKEYA. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2018-05-15.

Co-extruded mask layer

Номер патента: CA2572482A1. Автор: Dennis C. Smith,Mark A. Tyler,Heather L. Scaglione. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-02-09.

Volume indicators with masking layer

Номер патента: US09597238B2. Автор: Thomas James Klofta,Laveeta JOSEPH. Владелец: Procter and Gamble Co. Дата публикации: 2017-03-21.

Resin composition for laser engraving, relief printing plate precursor for laser engraving and process for producing same, and relief printing plate and process for making same

Номер патента: US20110293896A1. Автор: Atsushi Sugasaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2011-12-01.

Absorbent article with a channel-forming area and a masking layer

Номер патента: US12004934B2. Автор: Andrea Peri,Adrien Grenier,Aniruddha Chatterjee,Ernesto Gabriel BIANCHI,Matthias Konrad Hippe,Udo Friedel Schoenborn,Abhishek Prakash Surushe. Владелец: Procter and Gamble Co. Дата публикации: 2024-06-11.

Resin composition, adhesive tape, and method for producing adhesive tape

Номер патента: US09926475B2. Автор: Takayuki Matsushima,Daisuke Masuko. Владелец: Dexerials Corp. Дата публикации: 2018-03-27.

Method and device for manufacturing cured light-curing resin composition

Номер патента: US09868796B2. Автор: Kazuo Ashikaga,Kiyoko Kawamura,Teruo Orikasa. Владелец: Heraeus KK. Дата публикации: 2018-01-16.

Metal composite and method of preparing the same, metal-resin composite and method of preparing the same

Номер патента: US09783894B2. Автор: LIANG Chen,Qiang Guo,Xiao Zhang,Yun Cheng,Lili Tang. Владелец: BYD Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-10.

Gloss-adjusting mask layer with particulate filler

Номер патента: US6440546B1. Автор: Scott William Huffer,Thomas Randall Fields. Владелец: Ream Industries Corp. Дата публикации: 2002-08-27.

Polyimide precursor, preparation method thereof, photosensitive resin composition and cured product

Номер патента: US20230295366A1. Автор: Kuo-Chu Yeh,Wei-Chung Liang. Владелец: Echem Solutions Corp. Дата публикации: 2023-09-21.

Polyurethane chain extender, composition for forming polyurethane resin, polyurethane resin, polyurethane resin composition, molded body, and article

Номер патента: EP4414398A1. Автор: Kazuki KOUNO,Takuma HANAOKA,Kousuke IKEUCHI,Yuma OHNO,Yuka AKAI. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2024-08-14.

Photocurable resin composition for forming support regions

Номер патента: EP3122537A1. Автор: Tsuneo Hagiwara,Jan-Michael STEPPER. Владелец: I-Squared GmbH. Дата публикации: 2017-02-01.

Curable resin composition for decoration film, decoration film and molded decoration film article

Номер патента: US20240158558A1. Автор: Tsun-Sheng Tao. Владелец: BenQ Materials Corp. Дата публикации: 2024-05-16.

Epoxy resin composition, and fiber-reinforced composite material and production method therefor

Номер патента: AU2023233366A1. Автор: Daisuke Konishi,Noriyuki Hirano,Ko MATSUKAWA,Hiroya Tsuchida. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2024-09-26.

Polyarylene sulfide resin composition and molded body

Номер патента: US09725596B2. Автор: Takayuki Okada,Taku Shimaya,Masanori Uchigata. Владелец: DIC Corp. Дата публикации: 2017-08-08.

Curable resin composition, resin composition, resin sheet formed by using said curable resin composition and resin composition, and cured materials thereof

Номер патента: US09598573B2. Автор: Takahiro Mori,Yoshihiro Fukuda,Yuichiro Deguchi,Takeru Ohtsu. Владелец: Adeka Corp. Дата публикации: 2017-03-21.

Volume indicators with masking layer

Номер патента: US20170143558A1. Автор: Thomas James Klofta,Laveeta JOSEPH. Владелец: Procter and Gamble Co. Дата публикации: 2017-05-25.

Volume indicators with masking layer

Номер патента: EP3119363A1. Автор: Thomas James Klofta,Laveeta JOSEPH. Владелец: Procter and Gamble Co. Дата публикации: 2017-01-25.

Epoxy resin compositions suitable for bonding to oily surface

Номер патента: EP4442746A1. Автор: Olaf Ludewig,Christian Heering. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2024-10-09.

Curable siloxane-modified resin compositions with silicone-oil additives and use thereof

Номер патента: US20240343942A1. Автор: Dean C. Webster,Shokoofeh Ghasemi,Morgen J. HAGEROTT,Ramsharan PANDEY. Владелец: NORTH DAKOTA STATE UNIVERSITY RESEARCH FOUNDATION. Дата публикации: 2024-10-17.

Corona-resistant member, corona-resistant resin composition, and method for developing corona resistance of resin molded article

Номер патента: US09695293B2. Автор: Hiroki ARAI. Владелец: Polyplastics Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-04.

Antistatic agent, antistatic agent composition, antistatic resin composition, and molded article

Номер патента: US09580545B2. Автор: Tatsuhito Nakamura,Kazukiyo Nomura. Владелец: Adeka Corp. Дата публикации: 2017-02-28.

Photosensitive resin composition, protective film and element having the same

Номер патента: US20150376355A1. Автор: Ming-Ju Wu,Chun-An Shih. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2015-12-31.

Photosensitive resin composition, protective film and element having the same

Номер патента: US9422446B2. Автор: Ming-Ju Wu,Chun-An Shih. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2016-08-23.

Photosensitive resin composition and cured product

Номер патента: US20230323134A1. Автор: Jui-Yu Hsu,Hsiao-Chi Chiu. Владелец: Echem Solutions Corp. Дата публикации: 2023-10-12.

Conduit tube and thermoplastic polyester elastomer resin composition

Номер патента: EP4400545A1. Автор: Shinji Harada,Takuya Akaishi. Владелец: Toyobo MC Corp. Дата публикации: 2024-07-17.

Process for producing thermoplastic resin composition, and thermoplastic resin composition produced by the same

Номер патента: US20090131596A1. Автор: Isao Hagiwara,Shunichiro Nishida,Kenichiro Iuchi,Daishi Saiki,Tomomi Tsutsumi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-05-21.

Dual-cure resin composition comprising uretdione-containing compound and its use in 3d printing

Номер патента: US20240343941A1. Автор: Rui Ding,Zhi Zhong CAI,Yue Wang. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2024-10-17.

Coating method for vehicle shift fork and shift fork with amorphous coating layer formed by same

Номер патента: US09933070B2. Автор: Min Gyun Chung. Владелец: Hyundai Motor Co. Дата публикации: 2018-04-03.

Polymerisable plasticiser, liquid polyurethane resin composition comprising same and uses thereof

Номер патента: US09783623B2. Автор: Remi Perrin,Pierre-Etienne Bindschedler,Louis Durot,Virginie FRANCOIS BARSEGHIAN. Владелец: Soprema SAS. Дата публикации: 2017-10-10.

Cellulose-fiber dispersion polyethylene resin composite material, formed body and pellet using same, production method therefor, and recycling method for cellulose-fiber adhesion polyethylene thin film piece

Номер патента: US20210139664A1. Автор: Toshihiro Suzuki,Hidekazu Hara,Jirou HIROISHI,Yuka SAWADA,Masami TAZUKE,Shingo Mitsugi. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.

Process for making up keratin materials by applying a covering coat formed by interaction of a polyphenol with a hydrogen bonding compound and a makeup coat

Номер патента: EP4262702A1. Автор: Philippe Ilekti,Gregory Plos. Владелец: LOreal SA. Дата публикации: 2023-10-25.

Roof panel structure

Номер патента: US20210101537A1. Автор: Ming-Shun Yang. Владелец: Formosa Saint Jose Corp. Дата публикации: 2021-04-08.

Vehicle roof panel structure

Номер патента: CA3099489A1. Автор: Mingshun YANG. Владелец: Formosa Saint Jose Corp. Дата публикации: 2020-01-02.

Thermoplastic polyurethane resin composition having enhanced texture and durability and production method thereof

Номер патента: US20170275411A1. Автор: Hak Soo Kim,Jae Chan Lee,Sang Yun Lee,Dae Young Kwon. Владелец: Dongsung Corp. Дата публикации: 2017-09-28.

Biodegradable nanocomposite resin composition

Номер патента: WO2007086623A1. Автор: Jae Sik Lee,Yeon Suk Jang. Владелец: Sk Networks Co., Ltd.. Дата публикации: 2007-08-02.

Eco-friendly adhesive resin prepared by low carbon emission process, adhesive composition comprising same, and adhesive layer formed by using same

Номер патента: EP4455244A1. Автор: Seiyun KO. Владелец: Chem Co Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-30.

Resin modifier, polycarbonate resin composition and molded article thereof

Номер патента: US09902849B2. Автор: Toshihiro Kasai,Masahiro Ueda. Владелец: Mitsubishi Chemical Corp. Дата публикации: 2018-02-27.

Resin composition for foam, foam, and production method of foam

Номер патента: EP3816216A1. Автор: Hiroshi Kamiyama. Владелец: Kaneka Corp. Дата публикации: 2021-05-05.

Bearing system for application of coating on panel

Номер патента: RU2583258C2. Автор: Марк Д. ЛЬЮИС,Уолтер Дж. РОБЕРТСОН,Мэри ПАРК,Натан ГУДНАУ,Джозеф С. младший ШУЛЬ,Джейсон ДЬЮИЗИ. Владелец: Ппг Индастриз Огайо, Инк.. Дата публикации: 2016-05-10.

System and method used in dentistry comprising no optical connectors on panel, and also nozzle assembly for given system

Номер патента: RU2501533C2. Автор: Андрей Вячеславович Беликов,Григорий Борисович Альтшулер,Феликс Исакович ФЕЛЬДШТЕЙН. Владелец: Лазер Абразив Текноложес, Ллс. Дата публикации: 2013-12-20.

Apparatus and method for manufacturing a cured photocurable resin composition

Номер патента: CA2931079C. Автор: Kazuo Ashikaga,Kiyoko Kawamura,Teruo Orikasa. Владелец: Heraeus KK. Дата публикации: 2019-07-23.

METHOD FOR FORMING CVD-SiC LAYER AND CVD-SiC LAYER FORMED BY THE METHOD

Номер патента: WO2017070877A1. Автор: Song Zhang,Takashi Goto,Mingxu Han,Rong TU. Владелец: Wuhan University of Technology. Дата публикации: 2017-05-04.

Panel structure and pallet utilizing same

Номер патента: WO1994014667A1. Автор: Lyle H. Shuert. Владелец: Shuert Lyle H. Дата публикации: 1994-07-07.

Vehicular resin panel structure

Номер патента: US20160137143A1. Автор: Yoshiyuki Adachi. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2016-05-19.

Polyolefin resin composition, molding, and polyolefin resin film

Номер патента: US20170253733A1. Автор: Masahiro Suzuki,Nobutaka Fujimoto,Kiyoshi Nishioka,Koh-Hei Nitta,Makiko NAKAHARA,Miho MAE. Владелец: Kanazawa University NUC. Дата публикации: 2017-09-07.

Liquid repellent layer-forming resin composition, and liquid repellent film, liquid repellent laminate, packaging material, and container using same

Номер патента: EP3854846A1. Автор: Kentaro Kimura,Ryo Tanaka,Kosuke Kinoshita,Hitomi FUKUTAKE,Aki Nagai. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2021-07-28.

Liquid-repellent layer forming resin composition, and liquid-repellent film, liquid- repellent laminate, packaging material, and container using same

Номер патента: US12065557B2. Автор: Kentaro Kimura,Ryo Tanaka,Kosuke Kinoshita,Aki Nagai. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Vehicular resin panel structure

Номер патента: US09889804B2. Автор: Yoshiyuki Adachi. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2018-02-13.

Polyphenylene sulfide resin composition, production method of the same and molded product

Номер патента: US09441109B2. Автор: Hideki Matsumoto,Kei Saitoh,Hiroyuki Isago. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2016-09-13.

Migration control resin compositions and methods of using the same on porous materials

Номер патента: US3930073A. Автор: Arthur H Drelich,George J Lukacs. Владелец: Johnson and Johnson. Дата публикации: 1975-12-30.

Polypropylene Resin Composition and the Use of the Same

Номер патента: CA2128165A1. Автор: Mamoru Kioka,Tetsunori Shinozaki,Masaya Yamada,Michio Toriumi,Yasuo Futami. Владелец: Mitsui Petrochemical Industries Ltd. Дата публикации: 1995-01-17.

Process for Coating a Cellulosic Substrate with a Film-Forming Resin Composition

Номер патента: GB1165222A. Автор: . Владелец: Weyerhaeuser Co. Дата публикации: 1969-09-24.

Resin composition capable of relaxing anisotropy by fusing and resin molded article comprising the same

Номер патента: US11781009B2. Автор: Gosuke Washino. Владелец: Eneos Corp. Дата публикации: 2023-10-10.

Golf ball and resin composition for cover or topcoat therefor

Номер патента: US12023552B2. Автор: Hirotaka Shinohara. Владелец: Bridgestone Sports Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-02.

Acrylic resin composition and moldings in which said composition is used

Номер патента: US20130309502A1. Автор: Noriyoshi Ogawa,Masahiko Minemura,Tatsuya Kanagawa. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2013-11-21.

Rubber Modified Vinyl-Based Graft Copolymer, and Thermoplastic Resin Composition Containing Same

Номер патента: US20180298184A1. Автор: Kwang Soo Park,Jeong Tae Kim,Joo Hyun JANG,Yu Jin Jung,Ki Bo CHANG. Владелец: Lotte Advanced Materials Co Ltd. Дата публикации: 2018-10-18.

Polyolefin resin modifier, polyolefin resin composition, modified polyolefin resin film, and laminated film

Номер патента: EP3632977A1. Автор: Yusuke Nishi. Владелец: Takemoto Oil and Fat Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-08.

Resin composition for adhesive, adhesive, and adhesion structure

Номер патента: US20230227703A1. Автор: Kazuya Kimura,Kenichi Takahashi,Kazuaki MUTO. Владелец: Dainichiseika Color and Chemicals Mfg Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-20.

Silica-coated deposit layer formed by plating

Номер патента: EP3741559A1. Автор: Takashi Kato,Kazuyuki Okano,Taro Konuma,Yasushi Arimitsu,Katsumasa Shimahashi. Владелец: TAIYO Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2020-11-25.

Improving shelf life and color profile of resin compositions with silver nanoparticles

Номер патента: US20160255839A1. Автор: Kyumin Whang. Владелец: University of Texas System. Дата публикации: 2016-09-08.

Prepreg, molded article and epoxy resin composition

Номер патента: US20230295389A1. Автор: Yuji Misumi,Yasuhiro Fukuhara,Nao Kawamura. Владелец: Mitsubishi Chemical Corp. Дата публикации: 2023-09-21.

Resin composition and cured resin composition

Номер патента: US20200165481A1. Автор: Tien-Shou Shieh,Pei-Hsin CHIEN. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2020-05-28.

Aqueous heat-sealable resin composition and laminate

Номер патента: US20240101818A1. Автор: Keisuke Okada,Teruaki Sato,Mayu MATSUMOTO. Владелец: Arakawa Chemical Industries Ltd. Дата публикации: 2024-03-28.

Graft Copolymer, Curable Resin Composition, and Adhesive Composition

Номер патента: US20240287303A1. Автор: Ki Hyun Yoo,Sang Hoon Han,Sung Eun Park,Min Ah Jeong. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Preparing method for branched vegetable oil-based photosensitive resin and UV curing glass ink

Номер патента: US12104065B2. Автор: Qiwen Yong,Zhihui Xie,Yuzi Yang. Владелец: CHINA WEST NORMAL UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-10-01.

Polybutylene terephthalate resin composition and molded article

Номер патента: US09957388B2. Автор: Yasushi Yamanaka,Souki Yoshida. Владелец: Mitsubishi Engineering Plastics Corp. Дата публикации: 2018-05-01.

Polyorganosiloxane-containing graft copolymer, thermoplastic resin composition, and molded product

Номер патента: US09834673B2. Автор: Ayaka WAKITA. Владелец: Mitsubishi Chemical Corp. Дата публикации: 2017-12-05.

Graft copolymer containing polyorganosiloxane, resin composition, molded article, slidability-improving agent, and sliding member

Номер патента: US09765170B2. Автор: Shinji Matsuoka,Hiroaki Otonari,Sohei UEKI. Владелец: Mitsubishi Chemical Corp. Дата публикации: 2017-09-19.

Resin composition and coating material using the same

Номер патента: US09695333B2. Автор: Wei-Cheng Tang,Yi-Che Su,Su-Mei Chen Wei,Yi-Tzu PENG,Ya-I Hsu. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2017-07-04.

Metal composite and method of preparing the same, metal-resin composite and method of preparing the same

Номер патента: US20150079384A1. Автор: LIANG Chen,Qiang Guo,Xiao Zhang,Yun Cheng,Lili Tang. Владелец: BYD Co Ltd. Дата публикации: 2015-03-19.

Metal-coated flake glass, resin composition including same, and method for producing same

Номер патента: US20120296026A1. Автор: Kazuya Fujimoto,Yoshiki Hashizume,Takayuki Nakao,Shuichi Takenaka. Владелец: Toyo Aluminum KK. Дата публикации: 2012-11-22.

Polyurethane-based photosensitive resin, preparation method and use thereof in 3d printing

Номер патента: NL2025977A. Автор: Chi Hong,Li Tianduo. Владелец: Univ Qilu Technology. Дата публикации: 2021-08-11.

Polyurethane-based photosensitive resin, preparation method and use thereof in 3d printing

Номер патента: NL2025977B1. Автор: Chi Hong,Li Tianduo. Владелец: Univ Qilu Technology. Дата публикации: 2022-05-16.

Different materials panel structure

Номер патента: US09751571B2. Автор: Yoshihaya Imamura,Tetsu Iwase. Владелец: Kobe Steel Ltd. Дата публикации: 2017-09-05.

Easter compound, a plasticizer composition comprising this compound, a method for producing the plasticizer composition and a resin composition containing the plasticizer composition

Номер патента: RU2670621C2. Автор: Хюн Кю КИМ,Ми Ён ЛИ,Джо Хо КИМ,Сок Хо ДЖОНГ,Джеонг Джу МУН. Владелец: ЭлДжи КЕМ, ЛТД.. Дата публикации: 2018-10-24.

Thermal conductive polymer and resin compositions for its production

Номер патента: RU2673289C1. Автор: Йохен ФРАНК. Владелец: Др. Найдлингер Холдинг Гмбх. Дата публикации: 2018-11-23.

Polyester resin composition and fiber

Номер патента: AU6368199A. Автор: Jinichiro Kato,Tetsuko Takahashi. Владелец: Asahi Kasei Kogyo KK. Дата публикации: 2000-05-22.

Epoxy resin composition, prepreg and composite material reinforced with carbon fiber

Номер патента: RU2736820C2. Автор: Хироаки САКАТА,Ацухито АРАИ,Кодзи ФУРУКАВА,Такаси ОТИ,Дзунити АОКИ,Киоко ТАМАРУ. Владелец: Торэй Индастриз, Инк.. Дата публикации: 2020-11-20.

Adhesion reinforcing resin compositions and coating compositions containing adhesion reinforcing resin compositions

Номер патента: RU2598439C2. Автор: Гари ПОМПИГНАНО,Дэвид Джон ДАЙЕР,Стюарт ХИГГС. Владелец: Акцо Нобель Коатингс Интернэшнл Б.В.. Дата публикации: 2016-09-27.

Water-soluble resin composition

Номер патента: RU2485142C2. Автор: Кристоф Прок,Хенрикус В.Г. ВАН-ХЕРВЕЙНЕН. Владелец: Дюнеа Ои. Дата публикации: 2013-06-20.

Process for preparing high impact resinous composition

Номер патента: GB1023890A. Автор: . Владелец: Phillips Petroleum Co. Дата публикации: 1966-03-30.

Two-layered olefin-based resin pellets for insecticidal resin composition

Номер патента: US7541050B2. Автор: Hiroyuki Mori,Sumio Hamada,Takeshi Okuno. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2009-06-02.

Method of manufacturing a seamless cylindrical stencil and a small-mesh stencil obtained by applying this method

Номер патента: US4107003A. Автор: Lodewijk Anselrode. Владелец: Stork Brabant BV. Дата публикации: 1978-08-15.

Acrylic rubber graft copolymer and thermoplastic resin composition

Номер патента: CA2829059C. Автор: Takahiro Nakamura,Kazuhiko Maeda,Hironori Matsuyama. Владелец: UMG ABS Ltd. Дата публикации: 2016-05-31.

Adhesive resin composition, method for bonding adherends, and adhesive resin film

Номер патента: US11939492B2. Автор: Hirokazu Iizuka,Kunihiro Takei,Yuki Sato,Yuiko Maruyama. Владелец: Fujimori Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-26.

Forming die and microlens formed by using the same

Номер патента: US20090306322A1. Автор: Ryusuke Naitou. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2009-12-10.

Piping member formed by using propylene resin composition

Номер патента: EP2110409A4. Автор: Takanori Inoue,Hidehiro Kourogi. Владелец: Asahi Organic Chemicals Industry Co Ltd. Дата публикации: 2010-01-20.

Process for making up keratin materials by applying a covering coat formed by interaction of a polyphenol with a hydrogen bonding compound and a makeup coat

Номер патента: US20240082115A1. Автор: Philippe Ilekti,Gregory Plos. Владелец: LOreal SA. Дата публикации: 2024-03-14.

Piping member formed by using propylene resin composition

Номер патента: EP2110409B1. Автор: Takanori Inoue,Hidehiro Kourogi. Владелец: Asahi Organic Chemicals Industry Co Ltd. Дата публикации: 2010-10-13.

Photocurable resin composition for forming support regions

Номер патента: US20170001382A1. Автор: Tsuneo Hagiwara,Jan-Michael STEPPER. Владелец: I-Squared GmbH. Дата публикации: 2017-01-05.

Resin composition and article made therefrom

Номер патента: US20240182702A1. Автор: Rongtao WANG,Chenyu SHEN,Yiqiang GE. Владелец: Elite Electronic Material Kunshan Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Resin composition and article made therefrom

Номер патента: US20240182703A1. Автор: Rongtao WANG,Chenyu SHEN,Yiqiang GE. Владелец: Elite Electronic Material Kunshan Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Thermoplastic resin composition comprising a fluororesin and a crosslinked fluoroelastomer and method for producing the same

Номер патента: US11999842B2. Автор: Akinori Ueda,Tsuyoshi Ono,Katsusada Tokuhira. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2024-06-04.

Curable resin composition, composite member, and production method therefor

Номер патента: US12012532B2. Автор: Toshiaki Nakamura,Mitsuteru Mutsuda,Yasufumi Nakajima,Hirofumi Iguchi,Nao Sato,Mutsuo Tezuka. Владелец: Daicel Evonik Ltd. Дата публикации: 2024-06-18.

Golf ball and resin composition for cover or topcoat thereof

Номер патента: US11541281B2. Автор: Hirotaka Shinohara. Владелец: Bridgestone Sports Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-03.

Golf ball and resin composition for cover or topcoat thereof

Номер патента: US20220193500A1. Автор: Hirotaka Shinohara. Владелец: Bridgestone Sports Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-23.

Corona-resistant resin composition, method for developing corona resistance of resin composition, and corona-resistant member

Номер патента: US20160280917A1. Автор: Hiroki ARAI. Владелец: Polyplastics Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-29.

Coating composition and article including coating formed by the coating composition

Номер патента: US20240010787A1. Автор: Song Niu,Hongbin Chen. Владелец: Guangdong Huarun Paints Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

Composite panel structure and method of manufacturing

Номер патента: US20220161914A1. Автор: Akio Kawamata,Yoichi Nakamura. Владелец: Kawasaki Jukogyo KK. Дата публикации: 2022-05-26.

Panel structure made of composite material and method for manufacturing same

Номер патента: EP3950292A1. Автор: Akio Kawamata,Yoichi Nakamura. Владелец: Kawasaki Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2022-02-09.

Aqueous Soft Touch Coating Composition and Wear-Resisting Coating Formed by Same

Номер патента: US20240181495A1. Автор: Haifeng Liu,Zhengsong LUO,Siqi GAO,Shengzhi Xu. Владелец: PPG Coatings Tianjin Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Epoxy resin composition for fiber-reinforced composite material, prepreg, and fiber-reinforced composite material

Номер патента: US09834670B2. Автор: Hiroshi Taiko,Hiroaki Sakata,Nobuyuki Tomioka,Yuko Goto,Maki Mizuki. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2017-12-05.

Thermoplastic resin composition, a method for production thereof and a molded body

Номер патента: RU2714058C1. Автор: Кейсуке КАТО. Владелец: Тойота Босоку Кабусики Кайся. Дата публикации: 2020-02-11.

Copolymerised polyamide resin, method for production thereof, resin composition and moulded article made from copolymerised polyamide resin or resin composition

Номер патента: RU2565069C2. Автор: Минору КИКУТИ,Кацуми СИНОХАРА,Томомити КАНДА,Хидеюки КУРОСЕ. Владелец: Мицубиси Гэс Кемикал Компани, Инк.. Дата публикации: 2015-10-20.

Fibre-reinforced resin composition and method of making said composition

Номер патента: RU2717054C1. Автор: Такаюки НАГАИ,Такаюки ХИРАИ,Кэндзо ФУКУМОРИ,Тэцуя ОДА. Владелец: Тойота Дзидося Кабусики Кайся. Дата публикации: 2020-03-17.

Matrix resin composition for fiber-reinforced plastic and a method for manufacturing fiber-reinforced plastic

Номер патента: RU2276674C2. Автор: Сунити ХАЯСИ,Нория ХАЯСИ,Нори ХАЯСИ,Норио МИВА,Тосикацу НОХАРА. Владелец: Мицубиси Хеви Индастриз, Лтд.. Дата публикации: 2006-05-20.

Curable resin composition

Номер патента: RU2477291C2. Автор: Джианайн Ай. ЗЕЛЛЕР-ПЕНДРЕЙ. Владелец: 3М Инновейтив Пропертиз Компани. Дата публикации: 2013-03-10.

Method of adjusting dispersion diameter and a thermoplastic resin composition

Номер патента: RU2727188C2. Автор: Масаюки КИТО,Горо ТАКАХАСИ,Тосихиро СУДЗУКИ,Мицутака САКО. Владелец: Тойота Босоку Кабусики Кайся. Дата публикации: 2020-07-21.

Masterbatch and method for obtaining polyamide resin composition with masterbatch application

Номер патента: RU2573394C2. Автор: Такаси Ямамото. Владелец: Мицубиси Гэс Кемикал Компани, Инк.. Дата публикации: 2016-01-20.

Profiled and coated metallic material, composite product, obtained by connection of profiled metal-coated material with moulded product of thermoplastic resin composition, and method of composite product obtaining

Номер патента: RU2559455C1. Автор: Масая ЯМАМОТО,Тадаси НАКАНО,Сигеясу МОРИКАВА. Владелец: Ниссин Стил Ко., Лтд.. Дата публикации: 2015-08-10.

Emulsifiable resin compositions

Номер патента: CA1260182A. Автор: Richard W. Greiner. Владелец: HERCULES LLC. Дата публикации: 1989-09-26.

Sucker rod connection with improved fatigue resistance, formed by applying diametrical interference to reduce axial interference

Номер патента: CA2573555C. Автор: Rita Genoveva Toscano,Nicolas Hector Mario Di Toro. Владелец: Siderca SAIC. Дата публикации: 2014-06-17.

Polyamide resin composition

Номер патента: RU2565691C2. Автор: Дзун МИТАДЕРА,Томонори КАТО,Риодзи ОТАКИ,Такаси Ямамото. Владелец: Мицубиси Гэс Кемикал Компани, Инк.. Дата публикации: 2015-10-20.

Resin composition for production of high-gloss laminar panels

Номер патента: RU2567888C2. Автор: Роберт ВАГНЕР,Адиса ЧОКОВИЧ,Харальд ТРАКСЛЕР,Карин ЛЕПЕДАТ. Владелец: Метадинеа Аустриа Гмбх. Дата публикации: 2015-11-10.

Resin composition and moulded article

Номер патента: RU2713173C1. Автор: Масаси ЯМАМОТО,Хироюки Итино,Ясухиро Кусаносе. Владелец: Асахи Касеи Кабусики Кайся. Дата публикации: 2020-02-04.

Acrylic resin composition, organosiloxane resin composition and laminate comprising the same

Номер патента: CA2460387C. Автор: Yoshihiko Imanaka,Toshio Kita,Shunsuke Kajiwara,Ryou Niimi,Takehiro Suga,Tatsuya Ekinaka,Isao Sogou. Владелец: Teijin Chemicals Ltd. Дата публикации: 2010-09-28.

Resin composition containing a polyacrylic acid-polyacrylamide copolymer and method of using the same to control resin composition

Номер патента: US3647507A. Автор: Charles Ray Ashcraft. Владелец: Johnson and Johnson. Дата публикации: 1972-03-07.

Epoxide Resin Compositions

Номер патента: GB1169613A. Автор: Barry James Hayes,Panchanan Mitra. Владелец: Ciba ARL Ltd. Дата публикации: 1969-11-05.

Polyarylene sulfide resin composition, molded article, and methods for producing polyarylene sulfide resin composition and molded article

Номер патента: EP4159812A1. Автор: Fumiaki Abe,Saori Nara,Yuto TSUKAKOSHI,Kiichi Asano. Владелец: DIC Corp. Дата публикации: 2023-04-05.

Resin composition and molding method thereof

Номер патента: US11767382B2. Автор: Kenichi Sato,Seiji Morita,Jin Nasukawa,Laksmi Kusumawardhani. Владелец: Hemicellulose Ltd. Дата публикации: 2023-09-26.

Roof Panel Structure

Номер патента: AU2022202077A1. Автор: Ming-Shun Yang. Владелец: Formosa Saint Jose Corp. Дата публикации: 2023-01-19.

Resin composition for resin composite, resin composite, and refrigeration device comprising the said resin composite

Номер патента: US11214668B2. Автор: Hung-Jui Kuo,Chen-Pao Huang,Jui-Hsi Hsu. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2022-01-04.

Metal resin composite-molded article and method for manufacturing same

Номер патента: US20200223113A1. Автор: Hidemi Kondo. Владелец: YAMASE ELECTRIC CO Ltd. Дата публикации: 2020-07-16.

Thermoplastic resin composition and molded article thereof

Номер патента: EP4317309A1. Автор: Ichiro Kamata,Yoshiaki Shinohara,Kentaro Hiraishi. Владелец: Techno UMG Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-07.

Method of Manufacturing Moisture-Cure Resin Composition

Номер патента: GB2624050A. Автор: Barthel Bernard. Владелец: Spider Resin Ltd. Дата публикации: 2024-05-08.

Thermoplastic resin composition and molded article of same

Номер патента: US20240092961A1. Автор: Ichiro Kamata,Yoshiaki Shinohara,Kentaro Hiraishi. Владелец: Techno UMG Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Resin composition for resin composite, resin composite, and refrigeration device comprising the said resin composite

Номер патента: US20200123348A1. Автор: Hung-Jui Kuo,Chen-Pao Huang,Jui-Hsi Hsu. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2020-04-23.

Thermoplastic resin composition and molded article thereof

Номер патента: CA3213003A1. Автор: Ichiro Kamata,Yoshiaki Shinohara,Kentaro Hiraishi. Владелец: Techno UMG Co Ltd. Дата публикации: 2022-10-06.

Thermoplastic resin composition and molded article of same

Номер патента: US12030973B2. Автор: Ichiro Kamata,Yoshiaki Shinohara,Kentaro Hiraishi. Владелец: Techno UMG Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Roof Panel Structure

Номер патента: AU2022202077B2. Автор: Ming-Shun Yang. Владелец: Formosa Saint Jose Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Vinyl chloride resin composition and molded article

Номер патента: EP4083099A1. Автор: Tomohiro Ono,Makoto Akai,Moe Kawahara. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-02.

Acrylic resin compositions

Номер патента: CA3241283A1. Автор: Qi Zheng,Kenneth T. Phelps,Susan F. Donaldson,Allison Gamble CONDIE,Jr. Theodore F. NOVITSKY,Jamie Andrew NOWALK. Владелец: PPG Architectural Finishes Inc. Дата публикации: 2023-07-06.

Resin composition, resin composition production method, cellulose fiber composition, reinforcing material, and molded article

Номер патента: EP3960806A1. Автор: Hironobu Takizawa,Yoko Takeuchi,Yutaka Takezawa,Ryuzaburo Nakagiri,Yuya Terao. Владелец: DIC Corp. Дата публикации: 2022-03-02.

Thermosetting epoxy resin composition, molded article of same, fiber-reinforced composite material, molding material for fiber-reinforced composite materials, and method for producing fiber-reinforced composite material

Номер патента: US20230416448A1. Автор: Daisuke Konishi,Nobuyuki Tomioka,Hiroya Tsuchida. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2023-12-28.

Multimodal polyethylene composition, resin composition comprising the multimodal polyethylene composition and a post-consumer resin, a method for preparing the same and an article comprising the same

Номер патента: WO2024083967A1. Автор: Watcharee Cheevasrirungruang,Chatdao SUK-EM,Kunthalee Phutthasattha,Piyawat Supphasrirongjaroen,Pornthip Tangchareetsakull. Владелец: Thai Polyethylene Co., Ltd.. Дата публикации: 2024-04-25.

Thermoplastic resin composition, method for manufacturing same, and molded article comprising same

Номер патента: EP4400543A1. Автор: Tae Hoon Kim,Chun Ho Park,Yong Hee An,Ho Hoon Kim,Yun Kyoung Cho,Jeongmin JANG,Hyeok Jun Yoon. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2024-07-17.

Aldehyde inhibitor composition and polyacetal resin composition

Номер патента: EP1683838A4. Автор: Hatsuhiko Harashina. Владелец: Polyplastics Co Ltd. Дата публикации: 2008-08-13.

Hybrid olefinic compositions comprising resin compositions polymerizable by addition or condensation polymerization reactions

Номер патента: EP4405317A1. Автор: Wenliang Patrick Yang,Madhura PADE. Владелец: Materia Inc. Дата публикации: 2024-07-31.

Acrylic resin compositions

Номер патента: AU2022425455A1. Автор: Qi Zheng,Kenneth T. Phelps,Susan F. Donaldson,Allison Gamble CONDIE,Jr. Theodore F. NOVITSKY,Jamie Andrew NOWALK. Владелец: PPG Architectural Finishes Inc. Дата публикации: 2024-07-25.

Flame retardant composition, flame-retardant resin composition and molded product and fiber made of flame-retardant resin composition

Номер патента: US20100331467A1. Автор: Shoichi Wakatake,Kazuhiko Kosuge. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-12-30.

Flame retardant composition, flame-retardant resin composition and molded product and fiber made of flame-retardant resin composition

Номер патента: US20090230366A1. Автор: Shoichi Wakatake,Kazuhiko Kosuge. Владелец: Du Pont Toray Co Ltd. Дата публикации: 2009-09-17.

Composite resin composition with excellent dimensional stability

Номер патента: US20220025177A1. Автор: Dong Hyun Kim,Jae Han Park,Han Sol Lee,Hyung Joo Lee,In Seok Kang,Sang Sun Park,Kyeong Bae Seo,Wan Ki Noh,Min Sik SEO,Seung Soo Hong,Dong Chang Lee,Hea Lin Kim,Hyeung Min Lee. Владелец: Hyundai Advanced Materials Co Ltd. Дата публикации: 2022-01-27.

Heat-resistant silicone resin composition and heat-resistant silicone resin composite material

Номер патента: US20210403717A1. Автор: Yuji Nakajima,Makoto Iwai,Katsuyuki Suzumura. Владелец: Fuji Polymer Industries Co Ltd. Дата публикации: 2021-12-30.

Plasticizer composition, resin composition, and preparation methods therefor

Номер патента: EP4242254A2. Автор: Hyun Kyu Kim,Mi Yeon Lee,Seok Ho Jeong,Jeong Ju Moon,Joo Ho Kim. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2023-09-13.

Dental resin composite material, method of producing dental resin composite material, and polyaryletherketone resin for producing dental resin composite material

Номер патента: US20190274931A1. Автор: Junichiro Yamagawa,Tomonao SHIMIZU,Yuko Nagasawa,Anna UEHARA. Владелец: Tokuyama Dental Corp. Дата публикации: 2019-09-12.

Thermoplastic styrenic resin composition

Номер патента: US20040054079A1. Автор: Wen-Yi Su. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2004-03-18.

Epoxy resin composition, molding material, and fiber-reinforced composite material

Номер патента: US20240026097A1. Автор: Norikazu Ishikawa,Tatsuya Takamoto,Nobuyuki Tomioka. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2024-01-25.

Compound, polymer, photostabilizer composition, resin composition, coating material composition, article, sealing material, molded article, method for producing weather-resistant resin composition, and method for improving weather resistance of synthetic resin

Номер патента: EP4428120A1. Автор: Shogo MASAI,Kazuya Ishizuki. Владелец: Adeka Corp. Дата публикации: 2024-09-11.

Epoxy resin composition for fiber-reinforced composite material, fiber-reinforced composite material, and production method thereof

Номер патента: US12091479B2. Автор: Nobuyuki Tomioka,Kazunori Hondo. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2024-09-17.

Composite resin composition for automotive interior materials and automotive interior material including the same

Номер патента: US20240309203A1. Автор: Hyun Seok Lee,Gun KO,Sun Mo Son,Seonho KONG. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Epoxy resin composition, molding material, and fiber-reinforced composite material

Номер патента: EP4212568A1. Автор: Norikazu Ishikawa,Tatsuya Takamoto,Nobuyuki Tomioka. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2023-07-19.

Nucleating agent composition, resin composition, molded article thereof, and method for manufacturing resin composition

Номер патента: US20240308109A1. Автор: Naoto Ueda,Yuji Matsumoto,Shogo MASAI. Владелец: Adeka Corp. Дата публикации: 2024-09-19.

Processes for forming epoxy resin compositions and separation processes

Номер патента: US20240336723A1. Автор: Jimmy Antonius Van Rijn,Nicola Majella BOYLE,Maria SANTANA MARTIN. Владелец: Westlake Epoxy Inc. Дата публикации: 2024-10-10.

Excellent heat-dissipating black resin composition, method for treating a zinc coated steel sheet using the same and steel sheet treated thereby

Номер патента: EP2104703A1. Автор: Jin Tae Kim,Jae Ryung Lee,Du Hwan Jo,Sang Geol No,Hee Gwan Lee. Владелец: Posco Co Ltd. Дата публикации: 2009-09-30.

Processes for forming epoxy resin compositions and separation processes

Номер патента: US20240336722A1. Автор: Jimmy Antonius Van Rijn,Nicola Majella BOYLE,Maria SANTANA MARTIN. Владелец: Westlake Epoxy Inc. Дата публикации: 2024-10-10.

Marine biodegradable polyol, marine biodegradable polymer compound, and marine biodegradable resin composition

Номер патента: EP4442729A1. Автор: Toshifumi Hashiba,Kazutoshi Hayakawa,Erina Matsuzaka,Naohiro Uemura. Владелец: Nisshinbo Holdings Inc. Дата публикации: 2024-10-09.

Rapid curing epoxy-resin composition for fiber-matrix semifinished products

Номер патента: US20240327582A1. Автор: Miran Yu,Michael Henningsen,Lionel Gehringer,Joachim Zwecker. Владелец: Polynt Composites Norway AS. Дата публикации: 2024-10-03.

Resin composition, molded article, composite, and metal/resin composite

Номер патента: EP4442764A1. Автор: Takayuki Suzuki,Tatsuya Kuroda,Hidekazu Shoji,Yuki HIWATASHI,Rina Kobayashi. Владелец: Mitsubishi Chemical Corp. Дата публикации: 2024-10-09.

Processes for forming epoxy resin compositions and separation processes

Номер патента: WO2024211145A1. Автор: Jimmy Antonius Van Rijn,Nicola Majella BOYLE,Maria SANTANA MARTIN. Владелец: Westlake Epoxy Inc.. Дата публикации: 2024-10-10.

Processes for forming epoxy resin compositions and separation processes

Номер патента: WO2024211144A1. Автор: Jimmy Antonius Van Rijn,Nicola Majella BOYLE,Maria SANTANA MARTIN. Владелец: Westlake Epoxy Inc.. Дата публикации: 2024-10-10.

Poly(arylene sulfide) resin composition, molded article, composite molded article, and methods respectively for producing said products

Номер патента: US12054591B2. Автор: Yuki Deguchi. Владелец: DIC Corp. Дата публикации: 2024-08-06.

Pbat resin composition, and preparation method therefor and use thereof

Номер патента: EP4410891A1. Автор: YUAN Li,Lei Wang,Yulong Wang,Yan Liu,Wenjuan FANG,Jianglin HU,Qingmei JIANG,Jianxu Chen,Mengyun GAO,Yuntao WEI,Ximeng WANG. Владелец: Wanhua Chemical Group Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-07.

Curing compositions for epoxy resin compositions

Номер патента: EP4441117A1. Автор: Dmitry Chernyshov. Владелец: MOMENTIVE PERFORMANCE MATERIALS GMBH. Дата публикации: 2024-10-09.

Resin composition, molded article, composite, and metal-resin composite

Номер патента: US20240327670A1. Автор: Takayuki Suzuki,Tatsuya Kuroda,Hidekazu Shoji,Yuki HIWATASHI,Rina Kobayashi. Владелец: Mitsubishi Chemical Corp. Дата публикации: 2024-10-03.

Benzoxazine resin composition, prepreg, and fiber-reinforced composite material

Номер патента: US09777155B2. Автор: Kenichi Yoshioka,Atsuhito Arai,Hiroaki Sakata,Jeffrey A Satterwhite,Johnathan C Hughes. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2017-10-03.

Resin composition, prepreg using the same, and fiber-reinforced composite material

Номер патента: US09701815B2. Автор: Manabu Kaneko,Kazutami Mitani,Yukihiro Harada,Tomoo Sano. Владелец: Mitsubishi Rayon Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-11.

Epoxy resin composition, prepreg, and carbon-fiber-reinforced composite material

Номер патента: US09683072B2. Автор: Nobuyuki Arai,Hiroshi Taiko,Jun Misumi,Shizue UENO. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2017-06-20.

Epoxy resin composition, prepreg and fiber-reinforced composite material

Номер патента: US09676937B2. Автор: Hiroshi Kobayashi,Hiroshi Takezaki,Nobuyuki Tomioka,Takahiko OTSUBO. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2017-06-13.

Epoxy resin compositions

Номер патента: US09598572B2. Автор: Charles R. Hoppin,Charles Moses,Narmandakh TAYLOR,Ahmed Khan,Shari W. Axelrad. Владелец: Solvay Specialty Polymers USA LLC. Дата публикации: 2017-03-21.

Resin composition and bonded composite

Номер патента: US09555604B2. Автор: Shuichi Maeda,Yuma Irisa. Владелец: UBE Industries Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Storage stable adhesion promoter compositions for cyclic olefin resin compositions

Номер патента: US09527982B2. Автор: Michael A. Giardello,Christopher J. Cruce,Brian Edgecombe,Paul W. BOOTHE. Владелец: Materia Inc. Дата публикации: 2016-12-27.

Epoxy resin composition for use in a carbon-fiber-reinforced composite material, prepreg, and carbon-fiber-reinforced composite material

Номер патента: US09434811B2. Автор: Hidetoshi Kato,Michiya Ishikawa,Hiroshi Taiko,Atsuhito Arai,Hiroaki Sakata,Jiro Nakatani. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2016-09-06.

Fabric and molded article formed by molding the same

Номер патента: RU2658274C2. Автор: Дзун МИТАДЕРА,Нобухико МАЦУМОТО. Владелец: Мицубиси Гэс Кемикал Компани, Инк.. Дата публикации: 2018-06-19.

Panel structure for inner lining of aircraft passenger cabin

Номер патента: RU2387575C2. Автор: Райнер МЮЛЛЕР,Петер ТУРАНСКИ,Вилько ЭСТЕРАЙХ,Торстен РАЙНЕЛЬТ. Владелец: Эйрбас Дойчланд Гмбх. Дата публикации: 2010-04-27.

Downhole tool equipped with a downhole tool element containing a chemically active metal and a downhole tool element containing a degradable resin composition, and a well drilling method

Номер патента: RU2707212C2. Автор: Синя ТАКАХАСИ,Такэо ТАКАХАСИ,Масаюки ОКУРА. Владелец: Куреха Корпорейшн. Дата публикации: 2019-11-25.

Method of obtaining resin composition

Номер патента: RU2342410C1. Автор: Казуеси КАНЕКО,Тосиюки ХИРОСЕ,Казуеси КАНЕКО (JP),Тосиюки ХИРОСЕ (JP). Владелец: Мицуи Кемикалз, Инк.. Дата публикации: 2008-12-27.

Vinyl chloride resin composition

Номер патента: RU2258073C2. Автор: Нобумаса НАКАДЗИМА,Хироказу ИГУТИ,Кодзи ЮИ,Мамору КАДОКУРА. Владелец: Канека Корпорейшн. Дата публикации: 2005-08-10.

Vehicle bonnet top panel structure

Номер патента: RU2521133C1. Автор: Хидеки ТАКЕУТИ,Юкико ИКУИНЕ. Владелец: Мицубиси Дзидося Когио Кабусики Кайся. Дата публикации: 2014-06-27.

Polyamide resin composition

Номер патента: RU2418017C2. Автор: Минору КИКУТИ,Казуми ТАНАКА,Казуми ТАНАКА (JP),Минору КИКУТИ (JP). Владелец: Мицубиси Гэс Кемикал Компани, Инк.. Дата публикации: 2011-05-10.

Method for materials surface upclassing by applying predominantly transparent coatings based on polymethacrylates

Номер патента: RU2337117C2. Автор: Михаэль ВИКЕР,Ахим НОЙХОЙЗЕР,Гюнтер ДИКХАУТ-БАЙЕР,Кристоф КРОМЕР,Уве НУМРИХ. Владелец: Рем Гмбх Унд Ко. Кг. Дата публикации: 2008-10-27.

Thermoplastic resin composition

Номер патента: US6657005B1. Автор: Masahito Tada,Naomitsu Nishihata,Shiro Arai,Chikau Onodera. Владелец: Kureha Corp. Дата публикации: 2003-12-02.

Polyamide resin composition

Номер патента: RU2441043C2. Автор: Дзун МИТАДЕРА,Томонори КАТО,Риодзи ОТАКИ,Томомити КАНДА. Владелец: Мицубиси Гэс Кемикал Компани, Инк.. Дата публикации: 2012-01-27.

Curing agent composition based on diaminomethylcyclohexane and 1,3-cyclohexanebis(methylamine) for an epoxy resin composition, epoxy resin composition, and multi-component epoxy resin system

Номер патента: CA3168894A1. Автор: Nicole Behrens,Georg NICKERL. Владелец: Hilti AG. Дата публикации: 2021-09-23.

Thermoplastic resin composition with low lustre and soft surface touch and article moulded therefrom

Номер патента: RU2471828C2. Автор: Джэ Кын ХОН,Хван Сек ПАРК,Бйеон До ЛИ,Иун Суб ДЖИН,Хо Рён СУН,Сун Кван КИМ,Иун Дон ИУ. Владелец: Чейл Индастриз Инк.. Дата публикации: 2013-01-10.

Powderable reactive resin compositions

Номер патента: CA2236806C. Автор: Peter Drummond Boys White. Владелец: Vantico GmbH. Дата публикации: 2006-03-14.

Curable b-stage epoxide resin compositions

Номер патента: GB1017699A. Автор: Malcolm Paul Rainton. Владелец: Ciba ARL Ltd. Дата публикации: 1966-01-19.

Thermoplastic resin composition and process for producing the same

Номер патента: US5013773A. Автор: Manabu Nomura,Kaoru Wada. Владелец: Idemitsu Petrochemical Co Ltd. Дата публикации: 1991-05-07.

Thermoplastic resin compositions having excellent impact resistance, weather resistance and moldability, and process for preparing the same

Номер патента: CA1270586A. Автор: Kazuo Kishida,Yutaka Toyooka,Haruyoshi Kitahara. Владелец: Mitsubishi Rayon Co Ltd. Дата публикации: 1990-06-19.

Polyorganosiloxane-containing graft copolymer, thermoplastic resin composition, and molded article

Номер патента: EP3636683A1. Автор: Shinji Matsuoka,Ayaka WAKITA,Mitsufumi Nodono,Naotaka SUENAGA,Kenta Takemasu. Владелец: Mitsubishi Chemical Corp. Дата публикации: 2020-04-15.

Stabilized red phosphorus for use as flame-retardant, in particular for compositions on the basis of polymers

Номер патента: US4698215A. Автор: Giancarlo Albanesi,Gianfranco Rinaldi. Владелец: Saffa Spa. Дата публикации: 1987-10-06.

Adhesive resin composition and multilayer structure using same

Номер патента: EP2690150A1. Автор: Takashi Sakuma,Shinya OMASA. Владелец: Mitsui Chemicals Inc. Дата публикации: 2014-01-29.

Thermosetting resin composition, thermosetting resin molding compound and cured product thereof

Номер патента: US7541410B2. Автор: Yukio Tokunaga,Shigeyoshi Furuhara,Masayasu Horie. Владелец: Sumitomo Bakelite Co Ltd. Дата публикации: 2009-06-02.

Composition, and threaded connection for pipes or tubes including lubricant coating layer formed from the composition

Номер патента: CA3078599C. Автор: Kunio Goto. Владелец: Vallourec Oil and Gas France SAS. Дата публикации: 2021-11-30.

Sliding bearing having sintered layer formed of sintered segments

Номер патента: US20080310777A1. Автор: Won Ho Choi,Seong Hee Kim. Владелец: S O B Co Ltd. Дата публикации: 2008-12-18.

Lubricating composition on pocket-sized support, suitable to be smeared on sliding surfaces

Номер патента: US4923624A. Автор: Giancarlo Albanesi. Владелец: Brico Srl. Дата публикации: 1990-05-08.

Phenolic resin compositions as binders in refractory articles

Номер патента: US20230303821A1. Автор: Lisa M. Arthur,Shekhar L. Pendalwar,James T. Wright,Darren A. Riedlinger,Yusuf Celikbag,Tomasz Ventz. Владелец: HarbisonWalker International Holdings Inc. Дата публикации: 2023-09-28.

Thermoplastic Resin Composition with Improved Cloudy White Phenomenon at Low Temperatures

Номер патента: US20130281603A1. Автор: Jun Hong Park,Chang Do Jung,Sung Hun JIN,Bang Duk Kim. Владелец: Cheil Industries Inc. Дата публикации: 2013-10-24.

Method for producing resin composite material, and resin composite material

Номер патента: US20240124659A1. Автор: Takashi Ohno. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-04-18.

Acrylic resin composition and laminate formed by laminating same

Номер патента: US20170342259A1. Автор: Naoto Ueda,Kazukiyo Nomura. Владелец: Adeka Corp. Дата публикации: 2017-11-30.

Thermoplastic resin composition

Номер патента: US12006428B2. Автор: Dae San Jung,Seong Lyong Kim,Seung Cheol Ryoo,Jun Ho CHOE. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2024-06-11.

Vehicle roof panel structure

Номер патента: CA3099489C. Автор: Mingshun YANG. Владелец: Formosa Saint Jose Corp. Дата публикации: 2024-05-21.

Dual-cure resin composition comprising uretdione-containing compound and its use in 3d printing

Номер патента: EP4380990A1. Автор: Rui Ding,Zhi Zhong CAI,Yue Wang. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2024-06-12.

Apparatus for maintaining freshness by applying displacement current

Номер патента: US20080089815A1. Автор: Jae Chan Park,Min Sun KIM,Jeong Je Park,Kyung Il Cho,Yun Woo NAM,Soo Bong Heo,Wan Taek Han. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2008-04-17.

Resin composition, pellet and molded article

Номер патента: US20240218162A1. Автор: Takayuki Suzuki,Hiroyuki Arita,Shoichi Takashima,Fumihiro Muto,Ryo SASAKA. Владелец: Shinryo Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

Method for producing carbon resin composite material and composite structure for production of carbon resin composite material

Номер патента: EP3804935A1. Автор: Shigeto OKUJI,Yoshiaki Hagihara. Владелец: Lintec Corp. Дата публикации: 2021-04-14.

Polyacetal Resin Composition and Method for Manufacturing Same

Номер патента: US20240182689A1. Автор: Sara Kusumoto. Владелец: Asahi Kasei Corp. Дата публикации: 2024-06-06.

Polyacetal resin composition and molded product thereof

Номер патента: US20190106565A1. Автор: Masato Hirooka,Daisuke Sunaga. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2019-04-11.

Lithium salt / polyacrylonitrile / thermosetting resin composites and preparation method thereof

Номер патента: US10626228B2. Автор: Li Yuan,Sheng Sun,Guozheng LIANG,Aijuan GU. Владелец: SUZHOU UNIVERSITY. Дата публикации: 2020-04-21.

Light curable (meth)acrylate resin composition for thermoplastic elastomers bonding

Номер патента: US12024574B2. Автор: Heqiang ZHANG,Chongjian SONG,Zuohe WANG,Chongyang SUN. Владелец: Henkel AG and Co KGaA. Дата публикации: 2024-07-02.

Resin composition suitable for printing and printing methods

Номер патента: US12024580B2. Автор: Thomas Griesser,Matthias EDLER,Delara Gabriela HARTMANN,Andreas Bernhard OESTERREICHER. Владелец: MONTANUNIVERSITAET LEOBEN. Дата публикации: 2024-07-02.

Resin composition for model materials, resin composition for support materials, optically shaped article and method for producing optically shaped articleshaped article and mehtod for producing optocally shaped article

Номер патента: EP3696202A1. Автор: Taeko Izumo,Katsuyuki KITOU. Владелец: Maxell Holdings Ltd. Дата публикации: 2020-08-19.

Polyamide resin composition

Номер патента: US20240117146A1. Автор: Dong Jun Lee,Soo Yeon Park,Gi Bong Chung. Владелец: Kolon Plastics Inc. Дата публикации: 2024-04-11.

Aqueous resin composition and use as binder in fibre-based products

Номер патента: NZ792859B2. Автор: Thomas Rosenau,Herwijnen Hendrikus W G Van,Wolfgang Kantner,Arianna Lucia. Владелец: Metadynea Austria GmbH. Дата публикации: 2024-04-30.

Resin additive composition, thermoplastic resin composition, and molded article thereof

Номер патента: US11999838B2. Автор: Takahiro Horikoshi,Hiroaki Mizushima,Yuri OKAMOTO. Владелец: Adeka Corp. Дата публикации: 2024-06-04.

Resin additive composition, thermoplastic resin composition, and molded article thereof

Номер патента: EP4372042A2. Автор: Takahiro Horikoshi,Hiroaki Mizushima,Yuri OKAMOTO. Владелец: Adeka Corp. Дата публикации: 2024-05-22.

Resin composition, coating material, and coated article

Номер патента: EP4353758A1. Автор: Alejandro Gran Martinez,Atsushi Miyagaki,Goran VASIC,Chongthom THITINAN. Владелец: DIC Corp. Дата публикации: 2024-04-17.

Water-borne resin composition and electrocoating composition

Номер патента: US7541404B2. Автор: Hiroyuki Sakamoto,Noriyuki Nakazawa,Ichiro Kawakami,Takayuki Kokubun. Владелец: Nippon Paint Co Ltd. Дата публикации: 2009-06-02.

Resin composition for back-surface layer and heat-sensitive transfer recording material

Номер патента: US20240092109A1. Автор: Takeshi Kawaguchi,Mikiyoshi NAMURA,Motoaki Umezu. Владелец: Dainichiseika Color and Chemicals Mfg Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Two-component curable resin composition and cured product thereof

Номер патента: US20240166862A1. Автор: Tetsunori SOGA,Eiji SHIMOKAWA. Владелец: ThreeBond Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Resin composition and molded article

Номер патента: EP4397716A1. Автор: Takafumi Oda,Masaki Yamanaka. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2024-07-10.

Recycled resin composition

Номер патента: ZA202210163B. Автор: Das Sandip,Ajay Gadgeel Arjit,Sesha Kuruganti Thejaswi,Tejrao Mhaske Shashank. Владелец: Unilever Global IP Ltd. Дата публикации: 2024-01-31.

Benzoxazine based polyurethane resin composition

Номер патента: US12024609B2. Автор: Yuefan Zhang,Fan Xie. Владелец: Huntsman International LLC. Дата публикации: 2024-07-02.

Method and apparatus for decomposing and recycling thermosetting resin composite material and composition utilized therefor

Номер патента: US20240199839A1. Автор: Jinho Jeong,Jongil Kim. Владелец: Catackh Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Polyamide resin composition, polyamide resin composition for rotational molding and rotational molded article using

Номер патента: US20220325102A1. Автор: Masayoshi Baba,Tetsuro Hiroki,Yuya MIKI. Владелец: Ube Corp. Дата публикации: 2022-10-13.

Resin composition and articles molded therefrom

Номер патента: US20030013836A1. Автор: Keijiro Takanishi,Takuya Kumagai,Ryouichi Ishinabe. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2003-01-16.

Recycled polypropylene composite resin composition and washing machine comprising the same

Номер патента: US20240093013A1. Автор: Kwangjoo KIM,Youngdeog KOH,Nohcheol PARK,Jooseong SOHN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-21.

Solvent-free acrylic resin composition, solvent-free acrylic adhesive using same, adhesive sheet, and production method for solvent-free acrylic resin composition

Номер патента: US20200239749A1. Автор: Tetsuya Asano,Takahiro NAKASHIMA,Kazuki NOHARA. Владелец: Mitsubishi Chemical Corp. Дата публикации: 2020-07-30.

Fluorescent Resin Composition, Molded Object and Medical Device, and Method for Producing Fluorescent Resin Composition

Номер патента: US20190144594A1. Автор: Koji Hirai,Teruo Hashimoto,Jiro Maegawa. Владелец: TRS Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-16.

Resin composition for low-dielectric material, film for multilayer substrate, multilayer substrate, method for producing resin composition for low-dielectric material, method for producing film for multilayer substrate, and method for producing multilayer substrate

Номер патента: US20240209148A1. Автор: Yoshiyuki Oishi,Yuji Shibasaki,Tadashi Tsukamoto. Владелец: Iwate University NUC. Дата публикации: 2024-06-27.

Thermosetting resin composition, prepreg, fiber reinforced composite material, and high-pressure gas container

Номер патента: US20240166816A1. Автор: Nobuhiko Matsumoto,Nobuyoshi OHNISHI,Kousuke IKEUCHI,Daiki WAKAHARA. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2024-05-23.

High transparency and long-release dental resin composition containing core-shell porous structured nanoparticles and method for preparing the same

Номер патента: US20240173212A1. Автор: Kisu Park,Youngseok JEON,Hyoungki Park,Geonyeong Lee. Владелец: MimeticsCo Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Liquid cobalt resinate compositions and methods of preparing the same

Номер патента: CA3241099A1. Автор: Carl VERCAEMST,Rob De Vreese,Jan DECAT. Владелец: Umicore Specialty Materials Brugge. Дата публикации: 2023-06-08.

Resin composition and method for producing same

Номер патента: EP4353782A1. Автор: Koichi Ueno. Владелец: Asahi Chemical Industry Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-17.

Polyester resin composition, aqueous dispersion, coating composition, and coating film

Номер патента: EP4289906A1. Автор: Katsuya Shimeno,Tadahiko Mikami,Hiroyuki Mieda. Владелец: Toyobo MC Corp. Дата публикации: 2023-12-13.

SUBSTRATE PROCESSING INCLUDING A MASKING LAYER

Номер патента: US20120001320A1. Автор: Kumar Nitin,Duong Anh,Lang Chi-I,Chiang Tony P.,BOUSSIE Thomas R.,Malhotra Sandra G.,Fresco Zachary,Tong Jinhong. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

ORGANIC SOLVENT DISPERSION, RESIN COMPOSITION, AND OPTICAL DEVICE

Номер патента: US20120003502A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM USING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD

Номер патента: US20120003586A1. Автор: . Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

Sophisticated Metallization Systems in Semiconductors Formed by Removing Damaged Dielectric Surface Layers After Forming the Metal Features

Номер патента: US20120001343A1. Автор: Feustel Frank,Huisinga Torsten,Grillberger Michael. Владелец: GLOBALFOUNDRIES INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

POLYAMIDE RESIN COMPOSITION, FILM COMPRISING THE SAME AND POLYAMIDE-BASED LAMINATE FILM

Номер патента: US20120003361A1. Автор: . Владелец: UBE INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION

Номер патента: US20120003583A1. Автор: TSUBAKI Hideaki,Tsuchimura Tomotaka,TAKAHASHI Toshiya. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION

Номер патента: US20120003585A1. Автор: TSUBAKI Hideaki,Tsuchimura Tomotaka,Yatsuo Tadateru,TSUCHIHASHI Toru,SHIRAKAWA Koji. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

RESIN COMPOSITION FOR CLEANING PLASTICS-PROCESSING MACHINE

Номер патента: US20120000489A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Methods and systems for imaging a mask layer

Номер патента: WO2024194260A1. Автор: Dirk Ludo Julien DE RAUW. Владелец: XSYS Prepress NV. Дата публикации: 2024-09-26.

Positive photosensitive resin composition

Номер патента: MY122883A. Автор: Hirano Takashi,Makabe Hiroaki,Banba Toshio. Владелец: Sumitomo Bakelite Co. Дата публикации: 2006-05-31.

RESIN COMPOSITION FOR ENCAPSULATING SEMICONDUCTOR AND SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120001350A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method of forming of mask masking layer

Номер патента: RU2017191C1. Автор: Леонид Михайлович Трейгер,Артем Алексеевич Попов. Владелец: Артем Алексеевич Попов. Дата публикации: 1994-07-30.

RESIN COMPOSITION FOR SOLAR CELL ENCAPSULANT, SOLAR CELL ENCAPSULANT AND SOLAR CELL MODULE USING THE SAME

Номер патента: US20120000514A1. Автор: Amamiya Takahiro,Onaka Tamami. Владелец: JAPAN POLYETHYLENE CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

Oxygen-absorbable Solvent-soluble Resin and Oxygen-absorbable Adhesive Resin Composition

Номер патента: US20120001121A1. Автор: . Владелец: TOYO SEIKAN KAISHA, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20120003590A1. Автор: . Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

Process for the production of an electrical connection of high conductivity between a layer formed of a metal compound and a conductor

Номер патента: GB305171A. Автор: . Владелец: Siemens Schuckertwerke AG. Дата публикации: 1930-02-13.

Photosensitive resin composition and photosensitive resin laminate

Номер патента: MY187337A. Автор: FUJIWARA Akira,MATSUDA TAKAYUKI,Nishimoto Hideaki. Владелец: Asahi Chemical Ind. Дата публикации: 2021-09-22.

Photosensitive compounds, photosensitive resin compositions and pattern formation method making use of the compounds or compositions

Номер патента: MY114971A. Автор: Toru Shibuya,Noriaki Tochizawa,Jian Rong Xie. Владелец: Toyo Gosei Kogyo Kk. Дата публикации: 2003-02-28.

Method for restoring single-rooted premolars by applying reinforcing beam-and-net structure

Номер патента: RU2262904C1. Автор: н М.Л. Мелик,М.Л. Меликян,н Г.М. Мелик,Г.М. Меликян,н К.М. Мелик,К.М. Меликян. Владелец: Меликян Карине Меликсетовна. Дата публикации: 2005-10-27.

Method to manufacture decorative coating on panel surface

Номер патента: RU2544155C1. Автор: Александр Владимирович Брыгида. Владелец: Александр Владимирович Брыгида. Дата публикации: 2015-03-10.

Method for correction of vertical position of buildings and structures on panel-wall foundation

Номер патента: RU2352723C1. Автор: Леонид Викторович Нуждин,Матвей Леонидович Нуждин. Владелец: Матвей Леонидович Нуждин. Дата публикации: 2009-04-20.

Epoxy resin composition, curing agent, and curing accelerator

Номер патента: US20120004349A1. Автор: Ono Kazuo,KANEKO Masami,AMANOKURA Natsuki,Kamegaya Naoyuki. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method for training epicranial and temporal muscle by applying exercises on stretching and concurrently stimulating active points of the muscles

Номер патента: RU2246290C2. Автор: Н.В. Зайцева. Владелец: Зайцева Наталия Викторовна. Дата публикации: 2005-02-20.

Resin composition for cable plasticate

Номер патента: RU2251559C1. Автор: Ю.К. Дмитриев,Р.Я. Дебердеев,Р.Н. Загидуллин,М.М. Муратов,Г.В. Скоков,Л.А. Мазина,Р.Ф. Нафикова. Владелец: Закрытое акционерное общество "Каустик", г. Стерлитамак. Дата публикации: 2005-05-10.

Natural fibers reinforced polyester resin composites and method of formation thereof

Номер патента: MY169424A. Автор: Bin Mohd Yunus Rosli,Maksudur Rahman Khan Md,Dalour Hossen Beg Mohammad,Forhad Mina Md,K M Moshiul Alam A. Владелец: Univ Malaysia Pahang. Дата публикации: 2019-04-04.

Method for treating the cases of intervertebral disk hernia and lumbosacral vertebral column segment hernia by applying complex stage-by-stage approach

Номер патента: RU2278708C1. Автор: Дамир Ахметович Еникеев,Ли Тул ковна Идрисова,Лия Туляковна Идрисова. Владелец: Лия Туляковна Идрисова. Дата публикации: 2006-06-27.

Method for diagnosing cardiac ischemia cases by applying load test

Номер патента: RU2270599C2. Автор: ков Анатолий Иванович Кор,Анатолий Иванович Коряков. Владелец: Анатолий Иванович Коряков. Дата публикации: 2006-02-27.

Thermosetting resin composition and method making protective coating for semiconductor devices

Номер патента: RU2391361C2. Автор: Алексей Петрович Крысин,Олег Иосифович Яковлев,Татьяна Федоровна Жаркова,Татьяна Васильевна Волосская,Людмила Ивановна Почуева. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Новосибирский завод полупроводниковых приборов с ОКБ" (ФГУП НЗПП с ОКБ). Дата публикации: 2010-06-10.

Method for treating trepanation cavity disease by applying ultrasonic therapy

Номер патента: RU2294185C2. Автор: Ирина Николаевна Путалова,Юрий Александрович Кротов,Евгений Геннадьевич Буданов. Владелец: ГОУ ВПО Омская государственная Медицинская академия. Дата публикации: 2007-02-27.

Oil-resin composition

Номер патента: RU2409596C1. Автор: Владимир Григорьевич Бондалетов,Людмила Ивановна Бондалетова,Олег Владимирович Бондалетов,Татьяна Валерьевна Кушнярева,Алексей Алексеевич Ляпков. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Томский политехнический университет". Дата публикации: 2011-01-20.

Method for treating the cases of vertebral column pain syndrome by applying reflexotherapy in acute period

Номер патента: RU2273468C1. Автор: Алексей Андри нович Лаптев,Алексей Андриянович Лаптев. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "УРАЛЬСКИЙ ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКИЙ КОМБИНАТ". Дата публикации: 2006-04-10.

Method for treating children for perinatal central nervous system injuries by applying pulsating reversing magnetic therapy approach

Номер патента: RU2315637C1. Автор: Лилия Михайловна Бабина,Наталия Юрьевна Гурова. Владелец: Федеральное государственное учреждение "Пятигорский государственный научно-исследовательский институт курортологии Федерального агентства по здравоохранению и социальному развитию" (ФГУ "Пятигорский ГНИИК Росздрава"). Дата публикации: 2008-01-27.

Method of production of foam plastic from foaming and resinous composition and plant for its embodiment

Номер патента: RU2139191C1. Автор: Олег Александрович Власов. Владелец: Олег Александрович Власов. Дата публикации: 1999-10-10.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.