Semiconductor device having a planarizing film formed in a region of a step portion
Номер патента: US8188564B2
Опубликовано: 29-05-2012
Автор(ы): Kazuhide Tomiyasu, Kazuo Nakagawa, Yasumori Fukushima, Yutaka Takafuji
Принадлежит: Sharp Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 29-05-2012
Автор(ы): Kazuhide Tomiyasu, Kazuo Nakagawa, Yasumori Fukushima, Yutaka Takafuji
Принадлежит: Sharp Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Semiconductor device and manufacturing method thereof.
Номер патента: MY128437A. Автор: Shunpei Yamazaki,Hideomi Suzawa,Koji Ono,Jun Koyama,Yoshihiro Kusuyama. Владелец: Semiconductor Energy Lab. Дата публикации: 2007-02-28.