Reticle for fabricating a semiconductor device and exposure method using the same
Номер патента: KR100552805B1
Опубликовано: 22-02-2006
Автор(ы): 김홍래
Принадлежит: 동부아남반도체 주식회사
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 22-02-2006
Автор(ы): 김홍래
Принадлежит: 동부아남반도체 주식회사
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Exposure method and apparatus using the same
Номер патента: KR0150851B1. Автор: 요시하루 카라오카,하루나 카와시마,유이찌 야마다. Владелец: 미타라이 하지메. Дата публикации: 1998-12-01.