Memory device with high dielectric constant gate dielectrics and metal floating gates
Номер патента: US7102191B2
Опубликовано: 05-09-2006
Автор(ы): Leonard Forbes
Принадлежит: Micron Technology Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 05-09-2006
Автор(ы): Leonard Forbes
Принадлежит: Micron Technology Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Nonvolatile storage with gap in inter-gate dielectric
Номер патента: WO2016186910A1. Автор: Takashi Kashimura,Sayako Nagamine. Владелец: SanDisk Technologies LLC. Дата публикации: 2016-11-24.