Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

Tunable uniformity in a plasma processing system

Номер патента: US8635971B2
Опубликовано: 28-01-2014
Автор(ы): Eric Hudson
Принадлежит: Lam Research Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Improved methods and apparatus for controlled partial ashing in a variable-gap plasma processing chamber

Номер патента: WO1998042014A1. Автор: David M. Bullock. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 1998-09-24.

Learning based tuning in a radio frequency plasma processing chamber

Номер патента: WO2024123375A1. Автор: Yang Yang,Kartik Ramaswamy,Yue Guo. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-06-13.

Scanning impedance measurement in a radio frequency plasma processing chamber

Номер патента: US20240079212A1. Автор: Yang Yang,Kartik Ramaswamy,Yue Guo,Nicolas J. Bright,A N M Wasekul AZAD. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-07.

Hardware switch on main feed line in a radio frequency plasma processing chamber

Номер патента: US11823868B2. Автор: Yang Yang,Kartik Ramaswamy,Yue Guo. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-21.

Distortion current mitigation in a radio frequency plasma processing chamber

Номер патента: US12106938B2. Автор: Yang Yang,Kartik Ramaswamy,Yue Guo. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-01.

Learning based tuning in a radio frequency plasma processing chamber

Номер патента: US20240194447A1. Автор: Yang Yang,Kartik Ramaswamy,Yue Guo. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-13.

System, method and apparatus for RF power compensation in a plasma processing system

Номер патента: US09508529B2. Автор: Henry Povolny,John C. Valcore, JR.. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-11-29.

Method and apparatus for monitoring a plasma in a material processing system

Номер патента: EP1579470A2. Автор: James E. Klekotka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2005-09-28.

Methods and apparatuses for controlling phase difference in plasma processing systems

Номер патента: IL126393A. Автор: . Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2002-03-10.

Methods and apparatuses for controlling phase difference in plasma processing systems

Номер патента: AU2532797A. Автор: Robert D. Dible,Stephen G. Bradley,Seved Jafar Jafarian-Tehrani. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 1997-10-22.

Method and device for attenuating harmonics in semiconductor plasma processing systems

Номер патента: EP1264328A1. Автор: Andrej S. Mitrovic,Wayne L. Johnson,Thomas H. Windhorn. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2002-12-11.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09859101B2. Автор: Shinji Kubota. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-02.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12014903B2. Автор: Kohei Sato,Motohiro Tanaka,Takahiro Sakuragi,Tetsuo Kawanabe. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-18.

Plasma processing system

Номер патента: US20020144980A1. Автор: Shinya Hasegawa,Yoshimi Watabe,Yukito Nakagawa,Yoichiro Numasawa. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 2002-10-10.

Method for surface treatment of upper electrode, plasma processing apparatus and upper electrode

Номер патента: US20160307741A1. Автор: Yusuke Aoki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-10-20.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12087552B2. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2024-09-10.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240242936A1. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Table for use in plasma processing system and plasma processing system

Номер патента: US20080038162A1. Автор: Akira Koshiishi,Shinji Himori,Shoichiro Matsuyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-02-14.

System for Coordinating Pressure Pulses and RF Modulation in a Small Volume Confined Process Reactor

Номер патента: US20160042921A1. Автор: Rajinder Dhindsa,Harmeet Singh. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-02-11.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240242934A1. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

System, Method and Apparatus for Coordinating Pressure Pulses and RF Modulation in a Small Volume Confined Process Reactor

Номер патента: US20150060404A1. Автор: Rajinder Dhindsa,Harmeet Singh. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2015-03-05.

Methods and apparatus for the optimization of etch resistance in a plasma processing system

Номер патента: WO2006011996A2. Автор: George Stojakovic,Yoko Yamaguchi Adams,Alan Miller. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2006-02-02.

Spatial monitoring and control of plasma processing environments

Номер патента: US20210241996A1. Автор: Kevin Fairbairn,Victor Brouk,Daniel Carter,Denis Shaw. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2021-08-05.

Method and apparatus for the detection of arc events during the plasma processing of a wafer, surface of substrate

Номер патента: US09842726B2. Автор: Paul Maguire,Stephen Daniels,Shane Glynn,Felipe Soberon. Владелец: Verity Instruments Inc. Дата публикации: 2017-12-12.

Methods for removing contamination from surfaces in substrate processing systems

Номер патента: US09805914B2. Автор: Chun Yan,Xinyu Bao,Adam Lane,Zhenwen Ding,Teng-Fang Kuo,Jim Zhongyi He. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-10-31.

Methods and apparatuses for controlling phase difference in plasma processing systems

Номер патента: US5824606A. Автор: Seyed Jafar Jafarian-Tehrani,Robert D. Dible,Stephen G. Bradley. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 1998-10-20.

Method and device for attenuating harmonics in semiconductor plasma processing systems

Номер патента: WO2001061727A1. Автор: Andrej S. Mitrovic,Wayne L. Johnson,Thomas H. Windhorn. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2001-08-23.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US5891252A. Автор: Shinichi Tachi,Masahito Mori,Keizo Suzuki,Kazunori Tsujimoto,Tetsuo Ono,Naoshi Itabashi,Ken'etsu Yokogawa. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1999-04-06.

Plasma processing system and plasma processing method

Номер патента: US20220336197A1. Автор: Hiroshi Shirouzu. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2022-10-20.

Plasma processing system and plasma processing method

Номер патента: US12009190B2. Автор: Hiroshi Shirouzu. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-11.

Tunable focus ring for plasma processing

Номер патента: WO2002025695A3. Автор: Wayne L Johnson. Владелец: Wayne L Johnson. Дата публикации: 2002-06-13.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20220384146A1. Автор: Hiroyuki Hayashi,Hiroki EHARA,Jun NAKAGOMI,Syouji YAMAGISHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-01.

Plasma Processing Apparatus And Method For Controlling The Same

Номер патента: US20070210032A1. Автор: Ryoji Nishio. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-09-13.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240355584A1. Автор: Masahiro Inoue,Chishio Koshimizu,Gen Tamamushi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12057294B2. Автор: Masahiro Inoue,Chishio Koshimizu,Gen Tamamushi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Plasma processing device

Номер патента: US09922803B2. Автор: Chien Chou,Chi-Hsien Huang,Chao-Sung Lai,Chu-Fa Chan. Владелец: Chang Gung University CGU. Дата публикации: 2018-03-20.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20070235426A1. Автор: SATOSHI Tanaka,Hidetoshi Hanaoka,Naoki Matsumoto,Manabu Iwata,Chishio Koshimizu,Yoshinobu Hayakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-10-11.

Inert-dominant pulsing in plasma processing systems

Номер патента: US09583316B2. Автор: Keren Jacobs Kanarik. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-02-28.

Method for tool matching and troubleshooting a plasma processing system

Номер патента: IL167674A. Автор: . Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2009-06-15.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11854772B2. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2023-12-26.

Plasma processing apparatus with reduced parasitic capacity and loss in RF power

Номер патента: US20040238126A1. Автор: Akihiro Kojima,Kazuhiro Tomioka,Hisataka Hayashi,Itsuko Sakai,Tokuhisa Ohiwa. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2004-12-02.

Plasma processing apparatus for producing plasma at low electron temperatures

Номер патента: US5936352A. Автор: Kibatsu Shinohara,Seiji Samukawa,Hiroyuki Ueyama,Tsutomu Tsukada,Hirofumi Matsumoto,Yukito Nakagawa. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 1999-08-10.

Techniques for reducing arcing-related damage in a clamping ring of a plasma processing system

Номер патента: US20030198753A1. Автор: Eric Lenz,Jose Tong. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2003-10-23.

Methods and apparatus for controlling plasma in a plasma processing system

Номер патента: US20240021408A1. Автор: John C. Valcore, JR.,Bradford J. Lyndaker. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-01-18.

Methods and apparatus for controlling plasma in a plasma processing system

Номер патента: US11798784B2. Автор: John C. Valcore, JR.,Bradford J. Lyndaker. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-10-24.

Apparatus for treating a gas in a conduit

Номер патента: US09767990B2. Автор: Rongping Wang,Brian T. West,Manoj A. Gajendra,Jibing Zeng. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-09-19.

Apparatus for treating a gas in a conduit

Номер патента: US09378928B2. Автор: Rongping Wang,Brian T. West,Manoj A. Gajendra,Jibing Zeng. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-06-28.

Techniques for forming trenches in a silicon layer of a substrate in a high density plasma processing system

Номер патента: KR100574141B1. Автор: 마크에이. 케나드. Владелец: 램 리서치 코포레이션. Дата публикации: 2006-04-25.

Upper electrode and plasma processing apparatus

Номер патента: US20230298864A1. Автор: Shinya Yamanaka,Takashi Kitazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

SHOWERHEAD ELECTRODE ASSEMBLY IN A CAPACITIVELY COUPLED PLASMA PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20150194291A1. Автор: Dhindsa Rajinder,Nam Sang Ki,Bise Ryan. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2015-07-09.

Hardware switch on main feed line in a radio frequency plasma processing chamber

Номер патента: WO2022260835A1. Автор: Yang Yang,Kartik Ramaswamy,Yue Guo. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-12-15.

Improved application of modulating supplies in a plasma processing system

Номер патента: EP3711082A1. Автор: Kevin Fairbairn,Gideon van Zyl,Denis Shaw. Владелец: Aes Global Holdings Pte Ltd. Дата публикации: 2020-09-23.

Application of modulating supplies in a plasma processing system

Номер патента: US20210074513A1. Автор: Kevin Fairbairn,Gideon van Zyl,Denis Shaw. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2021-03-11.

Method for machine learning a detection of at least one irregularity in a plasma system

Номер патента: EP4242904A2. Автор: Thomas Fink,Nikolai Schwerg,André Grede,Daniel Gruner,Anton Labanc,Manuel vor dem Brocke,Roland Schlierf. Владелец: Comet AG. Дата публикации: 2023-09-13.

Method for Machine Learning a Detection of at Least One Irregularity in a Plasma System

Номер патента: US20240355598A1. Автор: Thomas Fink,Nikolai Schwerg,André Grede,Daniel Gruner,Anton Labanc,Manuel vor dem Brocke,Roland Schlierf. Владелец: Comet AG. Дата публикации: 2024-10-24.

Automated electrode replacement apparatus for a plasma processing system

Номер патента: WO2002009141A2. Автор: John E. Cronin,Murray D. Sirkis,Eric J. Strang,Yu Wang Bibby. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2002-01-31.

Automated electrode replacement apparatus for a plasma processing system

Номер патента: WO2002009141A3. Автор: John E Cronin,Yu Wang Bibby,Eric J Strang,Murray D Sirkis. Владелец: Murray D Sirkis. Дата публикации: 2002-06-20.

Plasma processing system

Номер патента: US12112920B2. Автор: Jaewon Jeong,Juho Lee,Junghyun Cho,Daebeom Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-10-08.

Electrode orientation and parallelism adjustment mechanism for plasma processing systems

Номер патента: US20120291954A1. Автор: James E. Tappan. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2012-11-22.

Electrode orientation and parallelism adjustment mechanism for plasma processing systems

Номер патента: WO2009100288A2. Автор: James E. Tappan. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2009-08-13.

Controlling ion energy distribution in plasma processing systems

Номер патента: US09887069B2. Автор: Eric Hudson,Andreas Fischer. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-02-06.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09627181B2. Автор: Yohei Yamazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Materials and gas chemistries for processing systems

Номер патента: EP1230664A1. Автор: Andrew D. Bailey, III,Alan M. Schoepp,David J. Hemker,Mark H. Wilcoxson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2002-08-14.

Substrate processing system including rf matching circuit for multi-frequency, multi-level, multi-state pulsing

Номер патента: US20240355588A1. Автор: Seyed Jafar Jafarian-Tehrani. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-10-24.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20110240599A1. Автор: Masanobu Honda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-10-06.

Method for reducing topography dependent charging effects in a plasma enhanced semiconductor wafer processing system

Номер патента: EP1041172A3. Автор: Peter Loewenhardt,Kenlin Huang,John M. Yamartino,Diana Xiaobing Ma. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2001-07-04.

Computer-implemented data presentation techniques for a plasma processing system

Номер патента: WO2006036893B1. Автор: Andrew D Bailey Iii,Puneet Yadav. Владелец: Puneet Yadav. Дата публикации: 2006-06-01.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20010008122A1. Автор: Makoto Ando,Naohisa Goto,Nobuo Ishii. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-07-19.

Multi-range voltage sensor and method for a voltage controlled interface of a plasma processing system

Номер патента: US09741543B2. Автор: Gary M. Lemson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09484180B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Manabu Iwata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-01.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20060027324A1. Автор: Takashi Kaneko,Akitaka Makino,Koichi Mishima,Toyoharu Okumoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2006-02-09.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20060021700A1. Автор: Hideo Kitagawa,Nobumasa Suzuki,Shinzo Uchiyama,Yusuke Fukuchi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-02-02.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and storage medium

Номер патента: US9299540B2. Автор: Tatsuya Ogi,Kimihiro Fukasawa,Kazuhiro Kanaya,Wataru Ozawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-03-29.

Atmospheric pressure plasma generating method, plasma processing method and component mounting method using same, and device using these methods

Номер патента: WO2007142166A2. Автор: Kazuhiro Inoue,Hiroyuki Tsuji. Владелец: Panasonic Corporation. Дата публикации: 2007-12-13.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20090001052A1. Автор: Takashi Kaneko,Akitaka Makino,Koichi Mishima,Toyoharu Okumoto. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-01-01.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and storage medium

Номер патента: US8864934B2. Автор: Tatsuya Ogi,Kimihiro Fukasawa,Kazuhiro Kanaya,Wataru Ozawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-10-21.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20090275209A1. Автор: Hideo Kitagawa,Nobumasa Suzuki,Shinzo Uchiyama,Yusuke Fukuchi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-11-05.

Plasma Measuring Method and Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20240290589A1. Автор: Mitsutoshi ASHIDA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Plasma processing device, plasma processing method and manufacturing method of electronic device

Номер патента: US09978593B2. Автор: Tomohiro Okumura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-22.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12033832B2. Автор: Shinji Kubota,Shinji Himori,Kazuya Nagaseki,Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Method of controlling plasma processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240055229A1. Автор: Jung Hwan Lee,Min Keun Bae,Aixian Zhang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Method and device for the reduction of contaminants in a plasma reactor, especially contamination by lubricants

Номер патента: US20210183640A1. Автор: Edward Reszke,Grzegorz Binkiewicz,Ihar Yelkin. Владелец: Plasma Investment Sp Z OO. Дата публикации: 2021-06-17.

Plasma processing device and method of monitoring plasma discharge state in plasma processing device

Номер патента: US20100176085A1. Автор: Kiyoshi Arita,Masaru Nonomura,Tatsuhiro Mizukami. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2010-07-15.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20060081559A1. Автор: Tetsuji Sato,Koji Miyata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-04-20.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220028665A1. Автор: Koji Maruyama,Kazunobu Fujiwara,Shinji Himori,Kazuya Nagaseki,Koichi Nagami,Takashi Dokan,Tatsuro Ohshita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-01-27.

Systems and Methods for Extracting Process Control Information from Radiofrequency Supply System of Plasma Processing System

Номер патента: US20230298857A1. Автор: Alexei Marakhtanov,John Holland,Felix Leib Kozakevich,Ranadeep BHOWMICK. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-09-21.

Plasma measurement method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240274417A1. Автор: Mitsutoshi ASHIDA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Systems and methods for extracting process control information from radiofrequency supply system of plasma processing system

Номер патента: US12131886B2. Автор: Alexei Marakhtanov,John Holland,Felix Leib Kozakevich,Ranadeep BHOWMICK. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-10-29.

Plasma processing system and method using radio frequency and microwave power

Номер патента: US12131887B2. Автор: Yunho Kim,Yanxiang Shi,Mingmei Wang. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09831096B2. Автор: Tsutomu Iida,Yuuzou Oohirabaru,Hiromitsu TERAUCHI. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-11-28.

Plasma processing device and plasma processing method

Номер патента: US09691593B2. Автор: Tomohiro Okumura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240234113A1. Автор: Jun Tamura,Takari YAMAMOTO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Method and device for the reduction of contaminants in a plasma reactor, especially contamination by lubricants

Номер патента: EP3841604A1. Автор: Edward Reszke,Grzegorz Binkiewicz,Ihar Yelkin. Владелец: Plasma Investment Sp Z OO. Дата публикации: 2021-06-30.

Compensation of impedance modulation in a plasma generator by frequency sweep

Номер патента: WO2024137944A1. Автор: Masahiro Watanabe. Владелец: ADVANCED ENERGY INDUSTRIES, INC.. Дата публикации: 2024-06-27.

Inductively coupled plasma processing apparatus

Номер патента: US09543121B2. Автор: Kazuo Sasaki,Toshihiro Tojo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20090151638A1. Автор: Masaki Sugiyama,Toshiki Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-06-18.

Plasma process system for multi-station

Номер патента: EP4283655A1. Автор: Jin Huh,Sae Hoon Uhm,Se Hong PARK,Dong Jegal,Yeonghoon SOHN,Gyueng Hyuen CHOE. Владелец: En2Core Technology Inc. Дата публикации: 2023-11-29.

Plasma process system for multi-station

Номер патента: US20240162006A1. Автор: Jin Huh,Sae Hoon Uhm,Se Hong PARK,Dong Jegal,Yeonghoon SOHN,Gyueng Hyuen CHOE. Владелец: En2Core Technology Inc. Дата публикации: 2024-05-16.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20190088453A1. Автор: Koichi Yamamoto,Motohiro Tanaka,Naoki Yasui,Yasushi Sonoda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-03-21.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240321562A1. Автор: Yoshihide Kihara,Nobuyuki Fukui,Maju TOMURA,Koki MUKAIYAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Plasma processing devices having multi-port valve assemblies

Номер патента: US12100575B2. Автор: Michael C. Kellogg,Allan K. Ronne,James E. Tappan,Daniel A. Brown,Leonard J. Sharpless. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-09-24.

Plasma processing method

Номер патента: US09953811B2. Автор: Yohei Yamazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Erosion resistant plasma processing chamber components

Номер патента: US20230317424A1. Автор: LIN Xu,Harmeet Singh,Justin Charles CANNIFF,Robin Koshy,Simon Gosselin,Adrian Radocea. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-10-05.

High density plasma processing apparatus

Номер патента: WO2020039185A1. Автор: Michael Thwaites,Peter HOCKLEY. Владелец: Dyson Technology Limited. Дата публикации: 2020-02-27.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09589771B2. Автор: Mitsunori Ohata,Yuki Hosaka,Naokazu FURUYA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-07.

Plasma processing method

Номер патента: US09455153B2. Автор: Genki Koguchi,Akio Morisaki,Yukinori Hanada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-27.

Plasma processing system and method of processing substrate

Номер патента: US12020898B2. Автор: Akihiro Yokota. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20200402809A1. Автор: Yasushi Sonoda. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-12-24.

Apparatus and method for plasma processing high-speed semiconductor circuits with increased yield

Номер патента: US20020127858A1. Автор: Kazue Takahashi,Ken Yoshioka,Saburou Kanai,Yutaka Ohmoto,Hironobu Kawahara. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-09-12.

Method for processing workpiece, plasma processing apparatus and semiconductor device

Номер патента: US12009220B2. Автор: FEI Yu,Junliang Li,Mengyang Xin. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-11.

High frequency antenna and plasma processing device

Номер патента: EP3896717A1. Автор: Akinori Ebe,Hajime Tsuda,Hideki Moriuchi. Владелец: EMD Corp. Дата публикации: 2021-10-20.

Acoustic energy utilization in plasma processing

Номер патента: WO2013151898A1. Автор: Ian J. Kenworthy,Daniel A. Brown,Cliff E. LA CROIX,Josh A. CORMIER. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2013-10-10.

Method for processing workpiece, plasma processing apparatus and semiconductor device

Номер патента: US20240355634A1. Автор: FEI Yu,Junliang Li,Mengyang Xin. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Plasma processing method

Номер патента: US09960016B2. Автор: Kumiko Ono,Koichi Nagami,Hiroshi Tsujimoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-01.

Antenna for plasma generation and plasma processing device having the same

Номер патента: US09947511B2. Автор: Yasunori Ando,Dongwei Li. Владелец: Nissin Electric Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-17.

Method for surface treatment of upper electrode, plasma processing apparatus and upper electrode

Номер патента: US09741540B2. Автор: Yusuke Aoki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-08-22.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09734992B2. Автор: Norikazu Yamada,Koichi Nagami,Koji Itadani,Toshifumi Tachikawa,Satoru Hamaishi. Владелец: Daihen Corp. Дата публикации: 2017-08-15.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09566821B2. Автор: Ryoji Nishio,Takamasa ICHINO,Shinji OBAMA. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-02-14.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11990316B2. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2024-05-21.

Plasma processing apparatus and plasma processing coil

Номер патента: US20220108871A1. Автор: Naoki Fujiwara,Yohei Yamazawa,Takehisa SAITO,Daisuke Kurashina,Kaori Fujiwara,Yuki Hosaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-04-07.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240242937A1. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Method and apparatus for preventing arcing at ports exposed to a plasma in plasma processing chambers

Номер патента: SG144071A1. Автор: Daniel John Hoffman. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2008-07-29.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09574270B2. Автор: Jun Yoshikawa,Michitaka AITA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-21.

Bias voltage frequency controlled angular ion distribution in plasma processing

Номер патента: US09520267B2. Автор: Jun Xue,Ludovic Godet,Prashanth Kothnur,Umesh M. Kelkar,Matthew D. Scotney-Castle. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-12-13.

Guard aperture to control ion angular distribution in plasma processing

Номер патента: US09514918B2. Автор: Ludovic Godet,Sang Ki Nam. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-12-06.

Filter circuit and plasma processing apparatus

Номер патента: US12033833B2. Автор: Koji Yamagishi,Koichi Nagami,Yuji AOTA,Kota ISHIHARADA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Antenna assembly and plasma processing equipment including same

Номер патента: US20230197409A1. Автор: GALSTYAN OGSEN,Hyun Jin Kim,Jung Hwan Lee,Dong Jun Park,Sang Hyeok Ahn. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-22.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20240212992A1. Автор: Kiho Lee,Junghyun Cho,Sangho Lee,Sangheun LEE,Sangki NAM,Seoyeon CHOI,Kuihyun YOON,Changheon Lee,Jaemin Rhee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-27.

Cooling mechanism utlized in a plasma reactor with enhanced temperature regulation

Номер патента: US20150279634A1. Автор: Aniruddha Pal,Valentin N. Todorow,Martin Jeffrey Salinas,Victor Calderon. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2015-10-01.

Plasma processing apparatus and waveform correction method

Номер патента: US09934947B2. Автор: Shinji Kubota. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-03.

Symmetric plasma process chamber

Номер патента: US09741546B2. Автор: Shahid Rauf,Kartik Ramaswamy,Kenneth S. Collins,Andrew Nguyen,Ajit Balakrishna,Douglas A. Buchberger, Jr.,James D. Carducci,Zhigang Chen,Hamid Tavassoli. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-08-22.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09502215B2. Автор: Hitoshi Kato,Chishio Koshimizu,Yohei Yamazawa,Shigehiro Miura,Jun Yamawaku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-22.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20190088454A1. Автор: Yuichi KUWAHARA,Ryou Son,Ryouhei SATOU,Syuntaro TAWARAYA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-03-21.

Method and apparatus for predicting plasma-process surface profiles

Номер патента: EP1060501A1. Автор: Richard A. Gottscho,Vahid Vahedi,Maria E. Barone. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2000-12-20.

Method and apparatus for predicting plasma-process surface profiles

Номер патента: EP1060501B1. Автор: Richard A. Gottscho,Vahid Vahedi,Maria E. Barone. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2005-04-20.

Methods for real-time pulse measurement and pulse timing adjustment to control plasma process performance

Номер патента: US12057293B2. Автор: Merritt Funk,Alok Ranjan,Peter Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Plasma processing systems and methods for chemical processing a substrate

Номер патента: WO2022046461A1. Автор: Alok Ranjan,Peter Ventzek,Mitsunori Ohata. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2022-03-03.

Apparatus and method for tuning a plasma profile using a tuning electrode in a processing chamber

Номер патента: US09865431B2. Автор: Jian J. Chen,Mohamad A. Ayoub,Amit Kumar BANSAL. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-01-09.

Wafer chucking system for advanced plasma ion energy processing systems

Номер патента: US09435029B2. Автор: Daniel J. Hoffman,Victor Brouk. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2016-09-06.

Plasma processing system with direct outlet toroidal plasma source

Номер патента: WO2016094047A1. Автор: Dmitry Lubomirsky. Владелец: APPLIED MATERIALS, INC. Дата публикации: 2016-06-16.

Impedance control of local areas of a substrate during plasma deposition thereon in a large pecvd chamber

Номер патента: US20240234105A9. Автор: Andrew C. Lam,Suhail Anwar,Jianhua Zhou,Zheng John Ye,Zeqiong ZHAO,Hshiang AN,Yoshitake NAKAJIMA,Fu-Ting Chang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Impedance control of local areas of a substrate during plasma deposition thereon in a large pecvd chamber

Номер патента: US20240136160A1. Автор: Andrew C. Lam,Suhail Anwar,Jianhua Zhou,Zheng John Ye,Zeqiong ZHAO,Hshiang AN,Yoshitake NAKAJIMA,Fu-Ting Chang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-25.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20180294137A1. Автор: SATOSHI Tanaka,Naoki Matsumoto,Toru Ito,Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-10-11.

Apparatus and method for radio frequency de-coupling and bias voltage control in a plasma reactor

Номер патента: EP1399944A1. Автор: Andreas Fischer. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2004-03-24.

Systems for real-time pulse measurement and pulse timing adjustment to control plasma process performance

Номер патента: US20240347319A1. Автор: Merritt Funk,Alok Ranjan,Peter Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Apparatus and methods for plasma processing

Номер патента: WO2024210967A1. Автор: Qi Wang,Sergey Voronin,Andrew Metz,Hamed Hajibabaeinajafabadi. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2024-10-10.

Apparatus and Methods for Plasma Processing

Номер патента: US20240331979A1. Автор: Qi Wang,Sergey Voronin,Andrew Metz,Hamed Hajibabaeinajafabadi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09663858B2. Автор: Koichi Nagami,Koji Itadani,Tsuyoshi Komoda. Владелец: Daihen Corp. Дата публикации: 2017-05-30.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240222096A1. Автор: Takashi Uemura,Shengnan Yu,Shunsuke Tashiro. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

Plasma processing apparatus and microwave radiation source

Номер патента: US20230178339A1. Автор: Kenta Kato,Taro Ikeda,Isao Gunji. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-08.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20160155613A1. Автор: Yohei Yamazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-06-02.

Plasma Processing Method

Номер патента: US20080216865A1. Автор: Masamichi Sakaguchi,Yasuhiro Nishimori,Satoshi Une,Yutaka Kudou,Masunori Ishihara. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2008-09-11.

Dielectric window, plasma processing system including the window, and method of fabricating semiconductor device using the system

Номер патента: US09812293B2. Автор: Dong-Wook Kim,Jung-hwan UM,Sung-moon PARK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-11-07.

Methods and arrangement for the reduction of byproduct deposition in a plasma processing system

Номер патента: WO2006081004B1. Автор: Andrew D Bailey Iii,Shrikant P Lohokare. Владелец: Shrikant P Lohokare. Дата публикации: 2008-10-30.

Plasma processing system, method of controlling plasma in the plasma processing system, and method of manufacturing semiconductor device by using the method of controlling the plasma

Номер патента: US20210351011A1. Автор: Jaewon Jeong,Juho Lee,Junghyun Cho,Daebeom Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-11-11.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20220068604A1. Автор: Shinji Kubota. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Plasma processing system and edge ring replacement method

Номер патента: US20240234102A9. Автор: Kenichi Kato,Shin Matsuura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Plasma processing with independent temperature control

Номер патента: US20240304422A1. Автор: WEI Liu,Lily Huang,Sandip Niyogi,Dileep Venkata Sai VADLADI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-12.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240290581A1. Автор: Kohei Sato,Takashi Uemura,Shengnan Yu. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-08-29.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09831064B2. Автор: Takashi SHIMOMOTO,Hiroo Konno. Владелец: Daihen Corp. Дата публикации: 2017-11-28.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09807862B2. Автор: Hachishiro Iizuka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Plasma processing apparatus, information processing apparatus, plasma processing method, and correction method

Номер патента: US20240194451A1. Автор: Taro Hayakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Plasma processing apparatus and plasma processing method using the same

Номер патента: US20230124857A1. Автор: Jong Won Park,Yoon Seok Choi,Sang Jeong Lee,Soon Cheon Cho,Hyun Woo Jo. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-20.

Plasma generating method, plasma generating apparatus, and plasma processing apparatus

Номер патента: US20070193512A1. Автор: Kenji Kato,Hitoshi Yoneda,Akinori Ebe,Hiroshige Deguchi,Yuichi Setsuhara. Владелец: Nissin Electric Co Ltd. Дата публикации: 2007-08-23.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09691591B2. Автор: Masahide Iwasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09660182B2. Автор: Takashi Sone,Eiichi Nishimura,Fumiko Yamashita,Masato Kushibiki,Daisuke Urayama,Nao Koizumi,Wataru Kume. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Plasma processing system, plasma processing method, plasma film deposition system, and plasma film deposition method

Номер патента: EP1515362B1. Автор: Ryuichi MATSUDA,Tadashi SHIMAZU,Masahiko Inoue. Владелец: Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2012-07-04.

Method for machine learning a detection of at least one irregularity in a plasma system

Номер патента: EP4242904A3. Автор: Thomas Fink,Nikolai Schwerg,André Grede,Daniel Gruner,Anton Labanc,Manuel vor dem Brocke,Roland Schlierf. Владелец: Comet AG. Дата публикации: 2023-11-01.

Pulsed voltage plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20240145215A1. Автор: Shreeram Jyoti DASH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-02.

Pulsed voltage plasma processing apparatus and method

Номер патента: WO2024091280A1. Автор: Shreeram Jyoti DASH. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-05-02.

Signal processing system and power supply device having a signal processing system

Номер патента: US20240105431A1. Автор: Florian A. Maier. Владелец: Trumpf Huettinger GmbH and Co KG. Дата публикации: 2024-03-28.

Apparatus and method for delivering a plurality of waveform signals during plasma processing

Номер патента: US20230298856A1. Автор: James Rogers,Katsumasa Kawasaki. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-21.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09761418B2. Автор: Takashi Suzuki,Masahiko Konno,Taizo Okada,Naoki Matsumoto,Hideo Kato,Masayuki SHINTAKU,Michitaka AITA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-12.

Microwave plasma processing apparatus

Номер патента: US5520771A. Автор: Saburo Kanai,Yoshinao Kawasaki,Seiichi Watanabe,Makoto Nawata,Kazuaki Ichihashi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1996-05-28.

Faraday cleaning device and plasma processing system

Номер патента: US11735400B2. Автор: NA Li,Haiyang Liu,Xiaobo Liu,Zhihao WU,Song Guo,Dongdong HU,Shiran CHENG,Kaidong Xu. Владелец: Jiangsu Leuven Instruments Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-22.

Method and apparatus for predicting plasma-process surface profiles

Номер патента: WO1999045567A1. Автор: Richard A. Gottscho,Vahid Vahedi,Maria E. Barone. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 1999-09-10.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240249922A1. Автор: Ryota Sakane. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Rotatable faraday cleaning apparatus and plasma processing system

Номер патента: US20220297168A1. Автор: NA Li,Haiyang Liu,Xiaobo Liu,Zhihao WU,Song Guo,Dongdong HU,Shiran CHENG,Kaidong Xu. Владелец: Jiangsu Leuven Instruments Co Ltd. Дата публикации: 2022-09-22.

Spatial and temporal control of ion bias voltage for plasma processing

Номер патента: EP4376061A3. Автор: Kevin Fairbairn,Daniel Carter,Denis Shaw. Владелец: Aes Global Holdings Pte Ltd. Дата публикации: 2024-08-21.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240266201A1. Автор: Shogo Okita,Minghui Zhao,Toshiyuki TAKASAKI. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Inductively coupled plasma process chamber with shield electrode interposed between antenna and dielectric window

Номер патента: EP1238407A1. Автор: Robert E. Ryan,Arthur Sato,Zhiwen Sun,Xueyu Qian,Valentin N. Todorov,Jin-Yuan Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2002-09-11.

Plasma processing systems with matching network and methods

Номер патента: US20240339297A1. Автор: Qiang Wang,Mitsunori Ohata,Peter Lowell George Ventzek,Shyam Sridhar. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Plasma processing method

Номер патента: US09818582B2. Автор: Shigeru Senzaki,Hiroshi Tsujimoto,Keigo TOYODA,Nobutaka Sasaki,Takanori BANSE,Hiraku MURAKAMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-14.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09659754B2. Автор: Yoshio SUSA,Naoki Matsumoto,Jun Yoshikawa,Peter L. G. Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Antenna for plasma generation, plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09552966B2. Автор: Shigeru Kasai,Taro Ikeda,Tomohito Komatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-24.

Two stage ion current measurement in a device for analysis of plasma processes

Номер патента: US20230143487A1. Автор: James Doyle,Paul Scullin,David Gahan,Jj Lennon. Владелец: IMPEDANS LTD. Дата публикации: 2023-05-11.

Apparatus and method for plasma processing high-speed semiconductor circuits with increased yield

Номер патента: US20020025686A1. Автор: Kazue Takahashi,Ken Yoshioka,Saburou Kanai,Yutaka Ohmoto,Hironobu Kawahara. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2002-02-28.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240087849A1. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Biasing system for a plasma processing apparatus

Номер патента: US20140106571A1. Автор: Richard M. White,Bon-Woong Koo. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2014-04-17.

Apparatus and method for plasma processing high-speed semiconductor circuits with increased yield

Номер патента: US20020023716A1. Автор: Kazue Takahashi,Ken Yoshioka,Saburou Kanai,Yutaka Ohmoto,Hironobu Kawahara. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-02-28.

Rotatable faraday cleaning apparatus and plasma processing system

Номер патента: US12009188B2. Автор: NA Li,Haiyang Liu,Xiaobo Liu,Zhihao WU,Song Guo,Dongdong HU,Shiran CHENG,Kaidong Xu. Владелец: Jiangsu Leuven Instruments Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-11.

Plasma processing apparatus, control method, power supply system, and storage medium

Номер патента: US20240304418A1. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12094690B2. Автор: Koki HIDAKA,Hiroya Ogawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12125685B2. Автор: Yoshihisa Hirano,Jae Hoon Kim,Young Jin Noh,Jun Soo Lee,Sung Moon Park,Hyung Kyu Choi,Seung Kyu Lim,Kyeong Seok Jeong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-10-22.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09805916B2. Автор: Hiroo Konno,Shunsuke Kadooka. Владелец: Daihen Corp. Дата публикации: 2017-10-31.

Plasma processing apparatus and operational method thereof

Номер патента: US09767997B2. Автор: Masahito Togami,Satomi Inoue,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto,Kosa Hirota. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-09-19.

Method for impedance matching of plasma processing apparatus

Номер патента: US09736921B2. Автор: Norikazu Yamada,Koichi Nagami,Naoyuki Umehara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-08-15.

Method of detecting arc discharge in a plasma process

Номер патента: US09484189B2. Автор: Markus Winterhalter,Peter Wiedemuth. Владелец: Trumpf Huettinger GmbH and Co KG. Дата публикации: 2016-11-01.

Lower electrode assembly of plasma processing chamber

Номер патента: US09412555B2. Автор: Brett C. Richardson,Harmeet Singh,Jason Augustino,Quan Chau,Keith William Gaff,Hanh Tuong Ha. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-08-09.

Plasma processing system and baffle assembly for use in plasma processing system

Номер патента: WO2006076253A3. Автор: Steven Fink. Владелец: Steven Fink. Дата публикации: 2007-11-15.

Stackable plasma source for plasma processing

Номер патента: WO2023244676A1. Автор: Rene George,Vladimir Nagorny. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-12-21.

Stackable plasma source for plasma processing

Номер патента: US20230411121A1. Автор: Rene George,Vladimir Nagorny. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-21.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240186113A1. Автор: Hiroshi Kondo,Satoru Kawakami,Eiki Kamata,Kazushi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Spark plasma sintered component for cryo-plasma processing chamber

Номер патента: WO2023183330A1. Автор: LIN Xu,John Daugherty,Harmeet Singh,Satish Srinivasan,Pankaj HAZARIKA. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2023-09-28.

Plasma processing apparatus and plasma control method

Номер патента: US20240203692A1. Автор: Osamu Sakai,Satoru Kawakami,Eiki Kamata,Taro Ikeda,Shin Oowada,Kazushi Kaneko,Masaaki Matsukuma. Владелец: University of Shiga Prefecture. Дата публикации: 2024-06-20.

Closed loop process control of plasma processed materials

Номер патента: US20120328771A1. Автор: George Papasouliotis,Deven Raj,Harold Persing. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2012-12-27.

Substrate processing system including dual ion filter for downstream plasma

Номер патента: US20240266147A1. Автор: Mark Kawaguchi,Stephen Whitten,Dan Zhang,Himanshu CHOKSHI,Shih-Chung Kon,Gnanamani Amburose,Chih-Hsun Hsu,Andrew Stratton Bravo,Serge Kosche. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-08.

Plasma Processing Methods Using Multiphase Multifrequency Bias Pulses

Номер патента: US20230411116A1. Автор: Alok Ranjan,Shyam Sridhar,Ya-Ming Chen,Peter Lowwell George Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Closed loop process control of plasma processed materials

Номер патента: WO2012178175A1. Автор: George D. Papasouliotis,Deven Raj,Harold Persing. Владелец: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.. Дата публикации: 2012-12-27.

Multi-electrode source assembly for plasma processing

Номер патента: US20240355587A1. Автор: James Rogers,Rajinder Dhindsa,Linying CUI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-24.

Multi-electrode source assembly for plasma processing

Номер патента: US20240355586A1. Автор: James Rogers,Rajinder Dhindsa,Linying CUI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-24.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09966233B2. Автор: Hidetoshi Hanaoka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Plasma processing apparatus and upper electrode assembly

Номер патента: US09941101B2. Автор: Shin Matsuura,Jun Young Chung. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Plasma process apparatus

Номер патента: US09887068B2. Автор: Masahide Iwasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09870898B2. Автор: Koichi Nagami,Masafumi Urakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09478387B2. Автор: Akira Tanabe,Yoshinobu Ooya,Yoshinori Yasuta. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-10-25.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US8404050B2. Автор: Hiroyuki Nakayama,Tsuyoshi Moriya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-03-26.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20090134121A1. Автор: Hiroyuki Nakayama,Tsuyoshi Moriya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-05-28.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US8231800B2. Автор: Hiroyuki Nakayama,Tsuyoshi Moriya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-07-31.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20120285623A1. Автор: Hiroyuki Nakayama,Tsuyoshi Moriya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-11-15.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20230230815A1. Автор: Minsung Kim,Sungyeol KIM,Hosun Yoo,Jinyeong Yun,Jang-Yeob LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-20.

Plasma processing improvement

Номер патента: US20240266146A1. Автор: Rene George,Christopher S. Olsen,Victor Calderon. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-08.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20200161090A1. Автор: Jun Yoshikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-21.

Electron density measurement and plasma process control system using a microwave oscillator locked to an open resonator containing the plasma

Номер патента: EP1212692A4. Автор: Wayne L Johnson,Joseph T Verdeyen,Murray D Sirkis. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2002-11-27.

Electron density measurement and plasma process control system using a microwave oscillator locked to an open resonator containing the plasma

Номер патента: EP1212692A1. Автор: Murray D. Sirkis,Wayne L. Johnson,Joseph T. Verdeyen. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2002-06-12.

Apparatus for indirect atmospheric pressure plasma processing

Номер патента: US12080525B2. Автор: Erwin Van Hoof,Annick Vanhulsel,Jan Cools. Владелец: VITO NV. Дата публикации: 2024-09-03.

Plasma processing apparatus and liner assembly for tuning electrical skews

Номер патента: WO2012012200A1. Автор: Shahid Rauf,Kenneth S. Collins,James D. Carducci,Zhigang Chen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-26.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20040159639A1. Автор: Hideyuki Yamamoto,Tetsuo Ono,Katsumi Setoguchi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-08-19.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09805915B2. Автор: Ryoji Nishio,Masaharu Gushiken,Megumu Saitou. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-10-31.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09583313B2. Автор: Tomohiro Okumura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Plasma processing system including a symmetrical remote plasma source for minimal ion energy

Номер патента: US09449796B2. Автор: Ajit Balakrishna,Rajinder Dhindsa,Ankur Agarwal. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-09-20.

Plasma processing apparatus, plasma processing method and high frequency generator

Номер патента: US09418822B2. Автор: Naoki Matsumoto,Hideo Kato,Koji Koyama,Kiyotaka Ishibashi,Kazushi Kaneko,Kazunori Funazaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-08-16.

Plasma processing apparatus comprising a compensating-process-gas supply means in synchronism with a rotating magnetic field

Номер патента: US5980687A. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 1999-11-09.

Confinement ring for use in a plasma processing system

Номер патента: US11791140B2. Автор: Akira Koshiishi,Rajinder Dhindsa,Alexei Marakhatanov. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-10-17.

System, method, and apparatus for controlling ion energy distribution in plasma processing systems

Номер патента: US20240071721A1. Автор: Daniel J. Hoffman,Victor Brouk,Daniel Carter. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2024-02-29.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20220359166A1. Автор: Masahiro Nagatani,Masahiro Sumiya,Kosa Hirota,Nanako TAMARI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-11-10.

Device for hybrid plasma processing

Номер патента: EP1236381A1. Автор: Ladislav Bardos,Hana Barankova. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-09-04.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220230848A1. Автор: Yoshiyuki Kondo,Eiki Kamata,Taro Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-07-21.

Monitor of plasma processes with multivariate statistical analysis of plasma emission spectra

Номер патента: WO1999021210A1. Автор: Herbert H. Sawin,Minh Le,Taber H. Smith,Duane S. Boning,Kuang Han Chen. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 1999-04-29.

Method and device for compensating wafer bias in a plasma processing chamber

Номер патента: WO2000021127A1. Автор: Michael S. Barnes,Christopher H. Olson,Alan M. Schoepp,Robert E. Knop,Tuan M. Ngo. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2000-04-13.

Plasma processing apparatus and assembly method of resonator array structure

Номер патента: US20240186114A1. Автор: Hiroshi Kondo,Satoru Kawakami,Eiki Kamata,Shin Oowada,Kazushi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Temperature controlling method and apparatus for a plasma processing chamber

Номер патента: AU3079597A. Автор: Neil Benjamin,William S. Kennedy,Joel M. Cook,Thomas E. Wicker,Robert A. Maraschin. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 1998-01-05.

Temperature measuring method and plasma processing system

Номер патента: US20150221482A1. Автор: Takahiro Senda,Naoki Matsumoto,Yusuke Yoshida,Masayuki Kohno,Ryou Son. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-08-06.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20190393058A1. Автор: Tsutomu Nakamura,Hiroho Kitada,Hideki Kihara,Masatoshi Kawakami,Hironori Kusumoto,Hidenobu Tanimura. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-12-26.

Voltage waveform generator for ion energy control in plasma processing

Номер патента: NL2033565B1. Автор: Lemmen Erik,YU Qihao,Joannes Daniël Vermulst Bastiaan. Владелец: Prodrive Tech Innovation Services B V. Дата публикации: 2024-05-30.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12094697B2. Автор: Kazuki Takahashi,Toshimasa Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Plasma generating apparatus, plasma processing apparatus, and plasma processing method

Номер патента: US12131889B2. Автор: Takeshi Kobayashi,Takeshi Ando,Yuki Tanaka,Kiwamu Ito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12136535B2. Автор: Koichi Nagami,Tatsuro Ohshita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-11-05.

Plasma Processing Apparatus and Plasma Control Method

Номер патента: US20240339304A1. Автор: Satoru Kawakami,Kazushi Kaneko,Yuki Osada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09640368B2. Автор: Shunichi Ito,Ryuji Ohtani,Naoyuki Umehara,Kazutaka Sei,Tomomasa Nishida. Владелец: Daihen Corp. Дата публикации: 2017-05-02.

Antenna, dielectric window, plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09595425B2. Автор: Naoki Matsumoto,Jun Yoshikawa,Osamu Morita,Kiyotaka Ishibashi,Kazuki Moyama,Wataru Yoshikawa,Takehiro Tanikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-14.

Temperature measuring method and plasma processing system

Номер патента: US09412565B2. Автор: Takahiro Senda,Naoki Matsumoto,Yusuke Yoshida,Masayuki Kohno,Ryou Son. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-08-09.

Processing apparatus and method for plasma processing

Номер патента: US5134965A. Автор: Toru Otsubo,Yasuhiro Yamaguchi,Mitsuo Tokuda,Junzou Azuma,Ichirou Sasaki. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1992-08-04.

Plasma processing systems with mechanisms for controlling temperatures of components

Номер патента: US8900404B2. Автор: James Tappan. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2014-12-02.

Microwave plasma processing apparatus and microwave plasma processing method

Номер патента: US5985091A. Автор: Nobumasa Suzuki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1999-11-16.

Plasma processing method

Номер патента: US20060249481A1. Автор: Takashi Fuse. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-11-09.

Plasma monitoring and plasma density measurement in plasma processing systems

Номер патента: WO2024020024A1. Автор: Sang-Il Kim,Hak-Sung Kim,Dong-Woon Park,Heon-Su Kim,Jindoo CHOI,Fabio RIGHETTI. Владелец: Hanyang University. Дата публикации: 2024-01-25.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11923177B2. Автор: Kazumasa Igarashi,Kazuo Yabe,Yamato Tonegawa,Keiji Tabuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-05.

Improved deposition shield in a plasma processing system,and methods of manufacture of such shield

Номер патента: WO2004030426A2. Автор: Kouji Mitsuhashi,Hiroyuki Nakayama,Taira Takase,Hidehito Saigusa. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2004-04-08.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US11961718B2. Автор: Tetsuji Sato,Shojiro Yahata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-16.

Plasma processing method and plasma ashing apparatus

Номер патента: US20130019894A1. Автор: Shin Hiyama,Yutaka Kudou. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2013-01-24.

Scanning impedance measurement in a radio frequency plasma pocessing chamber

Номер патента: WO2024054223A1. Автор: Yang Yang,Kartik Ramaswamy,Yue Guo,Nicolas J. Bright,A N M Wasekul AZAD. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-03-14.

Plasma processing apparatus with tunable electrical characteristic

Номер патента: WO2022256407A1. Автор: Alok Ranjan,Peter Ventzek,Yun Han,Mitsunori Ohata. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2022-12-08.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20110273094A1. Автор: Hiroshi Haji,Kiyoshi Arita,Masaru Nonomura. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2011-11-10.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US8450933B2. Автор: Hiroshi Haji,Kiyoshi Arita,Masaru Nonomura. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2013-05-28.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20200279719A1. Автор: Norihiko Ikeda,Koichi Yamamoto,Isao Mori,Kazuya Yamada,Naoki Yasui. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-09-03.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20190088452A1. Автор: Norihiko Ikeda,Koichi Yamamoto,Isao Mori,Kazuya Yamada,Naoki Yasui. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-03-21.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US10699884B2. Автор: Norihiko Ikeda,Koichi Yamamoto,Isao Mori,Kazuya Yamada,Naoki Yasui. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-06-30.

Plasma processing apparatus, electrostatic chuck, and plasma processing method

Номер патента: US20240258078A1. Автор: Takahiko Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Plasma process simulation method and semiconductor device manufacturing method including the same

Номер патента: US20240274416A1. Автор: Seungmin Lee,Inkook Jang,Suntaek LIM,Dongig OH,Jaesik An,Joohyun JEON,Thanh Cuong Nguyen. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-15.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US09490105B2. Автор: Masashi Saito,Manabu Sato,Masaru Sugimoto,Hidetoshi Hanaoka,Naoki Matsumoto,Akira Koshiishi,Noriyuki Kobayashi,Manabu Iwata,Hiroki Yamazaki,Chishio Koshimizu,Kazuo Kibi,Daisuke Yano,Yohei Yamazawa,Toshihiro Hayami,Kunihiko Hinata,Ryuji Ohtani,Yoshinobu Ohya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-08.

System and method for managing a plasma process and method for manufacturing an electronic device

Номер патента: US20070062802A1. Автор: Takashi Shimizu,Shinji Mori,Katsuyuki Sekine. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-03-22.

Plasma processing apparatus for generating uniform strip-shaped plasma by propagating microwave through rectangular slit

Номер патента: US5315212A. Автор: Akira Ishii,Michio Taniguchi,Syoichiro Minomo,Masato Sugiyo. Владелец: Daihen Corp. Дата публикации: 1994-05-24.

Cleaning method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20230402269A1. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240006154A1. Автор: Shinji Himori,Chishio Koshimizu,Koichi Nagami,Takenobu Ikeda,Shin Hirotsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210159049A1. Автор: Shinji Kubota,Shinji Himori,Kazuya Nagaseki,Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-27.

Plasma processing device

Номер патента: US20190080935A1. Автор: Takashi Ohashi. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-03-14.

Cleaning method and plasma processing apparatus

Номер патента: US11804368B2. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-31.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11842885B2. Автор: Kenetsu Yokogawa,Masaru Izawa,Tooru Aramaki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-12-12.

Fast neutral generation for plasma processing

Номер патента: US11915910B2. Автор: Alok Ranjan,Peter Ventzek,Mitsunori Ohata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-27.

Workpiece processing apparatus with plasma and thermal processing systems

Номер патента: US11837447B2. Автор: Joseph Cibere,Michael Yang,Dixit Desai,Rolf Bremensdorfer,Dieter HEZLER,Alex Wansidler,Pete LEMBESIS. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-05.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US11764034B2. Автор: Shinji Himori,Chishio Koshimizu,Koichi Nagami,Takenobu Ikeda,Shin Hirotsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Plasma processing device, plasma processing method and manufacturing method of electronic device

Номер патента: US20170287712A1. Автор: Tomohiro Okumura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-05.

Methods and apparatus for determining an etch endpoint in a plasma processing system

Номер патента: EP1118113A1. Автор: Eric A. Hudson,Jaroslaw W. Winniczek,Mark Wiepking,M. J. François Chandrasekar DASSAPA. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2001-07-25.

Method and apparatus for tuning an rf matching network in a plasma enhanced semiconductor wafer processing system

Номер патента: WO2003090351A2. Автор: John Holland,Nicolas Gani,Valentin Todorow. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2003-10-30.

Apparatus and methods for removing contaminant particles in a plasma process

Номер патента: US11120976B2. Автор: Ganesh Balasubramanian,Sidharth Bhatia,Anup Kumar Singh,Bhaskar Kumar,Vivek Bharat SHAH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-09-14.

Plasma processing apparatus and coil holder for holding plasma excitation antenna

Номер патента: US20240105422A1. Автор: Masaki Tsunoda,Masato Ozawa,Chanseong AHN. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-28.

Methods and apparatus for determining an etch endpoint in a plasma processing system

Номер патента: WO2000019520A1. Автор: Eric A. Hudson,Jaroslaw W. Winniczek,Mark Wiepking,M. J. François Chandrasekar DASSAPA. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2000-04-06.

Plasma processing method

Номер патента: US20240194461A1. Автор: Tatsuya Hayashi,Takanori Nakatsuka,Yuta Takagi,Kenta TAMARU. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20210074530A1. Автор: Hidehito Azumano. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2021-03-11.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240186115A1. Автор: Satoru Kawakami,Eiki Kamata,Kazushi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240321559A1. Автор: Satoshi Taga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09583314B2. Автор: Hitoshi Tamura. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-02-28.

Feedforward temperature control for plasma processing apparatus

Номер патента: US09338871B2. Автор: Kartik Ramaswamy,Douglas A. Buchberger, Jr.,Sergio Fukuda Shoji,Hamid Noorbakhsh,Chunlei Zhang,Shane C. NEVIL,Walter R. Merry,Duy D. Nguyen,Brad L. MAYS,Chetan MAHADESWARASWAMY,Fernando M. SILVEIRA,Yashaswini B. PATTAR,Tina TSONG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-05-10.

Method and apparatus for eliminating displacement current from current measurements in a plasma processing system

Номер патента: WO2001031681A1. Автор: Matthew J. Goeckner,Charles E. Van Wagoner. Владелец: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.. Дата публикации: 2001-05-03.

Plasma processing system and method using radio frequency (RF) and microwave power

Номер патента: US11887815B2. Автор: Yunho Kim,Yanxiang Shi,Mingmei Wang. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-30.

Plasma processing apparatus and control method

Номер патента: US20200211823A1. Автор: Chishio Koshimizu,Michishige Saito,Ryuji HISATOMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-07-02.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20130333617A1. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Tetsuya Suzuki,Hisanori Matsumoto,Hideyuki Nagaishi,Mayui NOBORISAKA. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2013-12-19.

Workpiece Processing Apparatus with Thermal Processing Systems

Номер патента: US20240055242A1. Автор: Joseph Cibere,Michael Yang,Dixit Desai,Rolf Bremensdorfer,Dieter HEZLER,Alex Wansidler,Pete LEMBESIS. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Broadband plasma processing systems and methods

Номер патента: US11830709B2. Автор: Peter Ventzek,Jianping Zhao. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-28.

Member and plasma processing apparatus

Номер патента: US11037763B2. Автор: Yuki Sugawara,Masafumi Urakawa,Masanori ASAHARA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-06-15.

Method and apparatus for inspecting process performance for use in a plasma processing apparatus

Номер патента: US20080174324A1. Автор: Yohei Yamazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-07-24.

Member and plasma processing apparatus

Номер патента: US20180350567A1. Автор: Yuki Sugawara,Masafumi Urakawa,Masanori ASAHARA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-12-06.

Apparatus and methods for removing contaminant particles in a plasma process

Номер патента: US20200350146A1. Автор: Ganesh Balasubramanian,Sidharth Bhatia,Anup Kumar Singh,Bhaskar Kumar,Vivek Bharat SHAH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-11-05.

Plasma processing apparatus and wear amount measurement method

Номер патента: US12033838B2. Автор: Takehito Watanabe,Joji TAKAYOSHI,Ryuta Akimoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Plasma processing device capable of plasma shaping through magnetic field control

Номер патента: US9728377B2. Автор: Ki Woong Whang,Hee Woon Cheong. Владелец: SEOUL NATIONAL UNIVERSITY R&DB FOUNDATION. Дата публикации: 2017-08-08.

Method of adjusting the output power of a power supply supplying electrical power to a plasma, plasma apparatus and power supply

Номер патента: EP3987079A1. Автор: Krzysztof Ruda,Jakub SWIATNICKI,Mateusz WIOSNA,Grzegorz TOCZYLOWSKI,Jialei Chen. Владелец: Trumpf Huettinger Sp zoo. Дата публикации: 2022-04-27.

Plasma Processing Device Capable of Plasma Shaping through Magnetic Field Control

Номер патента: US20160300697A1. Автор: Ki Woong Whang,Hee Woon Cheong. Владелец: SEOUL NATIONAL UNIVERSITY R&DB FOUNDATION. Дата публикации: 2016-10-13.

Frequency tuning for pulsed radio frequency plasma processing

Номер патента: US20150382442A1. Автор: Michael Mueller,Sam Choi. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2015-12-31.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20240212997A1. Автор: Pei-Yu Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

System, method and apparatus for ion milling in a plasma etch chamber

Номер патента: US09899227B2. Автор: Joydeep Guha,Aaron Eppler,Jun Hee Han,Butsurin JINNAI. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-02-20.

Frequency tuning for pulsed radio frequency plasma processing

Номер патента: US09852890B2. Автор: Michael Mueller,Myeong Yeol Choi. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2017-12-26.

Method for implementing low dose implant in a plasma system

Номер патента: US09783884B2. Автор: Jun Lee,Aseem K. Srivastava,Ilwoong Koo. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2017-10-10.

Frequency tuning for pulsed radio frequency plasma processing

Номер патента: US09711331B2. Автор: Michael Mueller,Myeong Yeol Choi. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2017-07-18.

Determining a malfunctioning device in a plasma system

Номер патента: US09620337B2. Автор: Arthur Sato,John C. Valcore, JR.,Bradford J. Lyndaker. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-04-11.

Frequency tuning for pulsed radio frequency plasma processing

Номер патента: US09544987B2. Автор: Michael Mueller,Myeong Yeol Choi. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2017-01-10.

Particle removal apparatus and method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20050039773A1. Автор: Tsuyoshi Moriya,Hiroshi Nagaike. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2005-02-24.

Window for microwave plasma processing device

Номер патента: WO1992022085A1. Автор: Takashi Inoue,Masahiko Tanaka,Shunji Miyahara,Ching-Hwa Chen,David Pirkle. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 1992-12-10.

Plasma processing tools dual-source plasma etchers, dual-source plasma etching methods, and methods of forming planar coil dual-source plasma etchers

Номер патента: US6136720A. Автор: Guy T. Blalock,Kevin G. Donohoe. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-10-24.

Plasma processing system and plasma processing method

Номер патента: US20240006153A1. Автор: Atsuki KUSUNOKI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Plasma processing with radio frequency (rf) source and bias signal waveforms

Номер патента: WO2023064031A1. Автор: Alok Ranjan,Peter Ventzek,Yun Han,Barton Lane,Zhiying Chen. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2023-04-20.

Plasma processing device and semiconductor device production method

Номер патента: US20200075296A1. Автор: Takashi Ohashi. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2020-03-05.

Coil and window for plasma processing system

Номер патента: WO2020154076A1. Автор: SHEN Peng,Dan Marohl,Ming-Te Lin,Andras Kuthi,Ambarish CHHATRE. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2020-07-30.

Compensation of impedance modulation in a plasma generator by frequency sweep

Номер патента: US20240212983A1. Автор: Masahiro Watanabe. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

Monitoring method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240006163A1. Автор: Takeshi Kobayashi,Jun Sato,Takashi Chiba. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Components for a plasma processing apparatus

Номер патента: SG175637A1. Автор: La Llera Anthony De,Saurabh J Ullal. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2011-11-28.

Restoration apparatus and restoration method for plasma processing apparatus

Номер патента: US20190385818A1. Автор: Hiroyuki Mizuno. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-12-19.

Method and system for plasma processing arc suppression

Номер патента: US20230141067A1. Автор: Anthony Oliveti. Владелец: Comet Technologies USA Inc. Дата публикации: 2023-05-11.

Method and apparatus for control of deposit build-up on an inner surface of a plasma processing chamber

Номер патента: WO1998044535A1. Автор: William S. Kennedy,Thomas E. Wicker,Robert A. Maraschin,Albert J. Lamm. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 1998-10-08.

Plasma processing apparatus and monitoring device

Номер патента: US12106948B2. Автор: Hiroki Endo,Ken Hirano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-01.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12125676B2. Автор: Ken Kobayashi,Takahiro Takeuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09991097B2. Автор: Yutaka Fujino,Shigenori Ozaki,Tomohito Komatsu,Jun NAKAGOMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Plasma processing member, deposition apparatus including the same, and depositing method using the same

Номер патента: US09963783B2. Автор: Se Yong Kim,Hyun Kyu Cho,Jin Su Lee,Ki Jong Kim. Владелец: Genitech Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Replaceable upper chamber section of plasma processing apparatus

Номер патента: US09613834B2. Автор: Michael S. Kang,Harmeet Singh,Leonard J. Sharpless. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-04-04.

Plasma processing apparatus with a rotating electromagnetic field

Номер патента: US5554223A. Автор: Issei Imahashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 1996-09-10.

Apparatus for measuring a set of electrical characteristics in a plasma

Номер патента: MY142150A. Автор: Marakhtanov Alexei,Hudson Eric,Kimball Christopher,KEIL DOUGLAS. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2010-09-30.

Plasma processing apparatus, calculation method, and calculation program

Номер патента: US11862438B2. Автор: Shinsuke Oka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-02.

Plasma processing apparatus and processing method

Номер патента: US11581170B2. Автор: Shinji Kubota,Chishio Koshimizu,Yuji AOTA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-02-14.

Plasma processing apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240112891A1. Автор: Masaru ISAGO,Ryoya Abe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-04.

Plasma processing apparatus, calculation method, and calculation program

Номер патента: US20240087855A1. Автор: Shinsuke Oka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Plasma processing with preionized and predissociated tuning gases and associated systems and methods

Номер патента: US20150287571A1. Автор: Mark Kiehlbauch. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2015-10-08.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US11948776B2. Автор: Hitoshi Tamura,Chen Pin Hsu. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-04-02.

System and method for detecting excursion in plasma processing

Номер патента: US20230352284A1. Автор: Terry R. Turner,Jerome R. Cannon. Владелец: Forth Rite Technologies LLC. Дата публикации: 2023-11-02.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240030008A1. Автор: Taro Hayakawa,Eiki Kamata,Taro Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Methods and apparatus for supplying process gas in a plasma processing system

Номер патента: US20130255883A1. Автор: Mark Taskar,Iqbal A. Shareef,Evangelos Spyropoulos. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-10-03.

Methods and apparatus for supplying process gas in a plasma processing system

Номер патента: WO2013148475A1. Автор: Iqbal Shareef,Mark Taskar,Evangelos Spyropoulos. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2013-10-03.

Method for controlling cleaning and plasma processing apparatus

Номер патента: US12009189B2. Автор: Takashi TSUTO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-11.

Method for controlling cleaning and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220384162A1. Автор: Takashi TSUTO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-01.

Plasma processing apparatus and processing method

Номер патента: US20210066040A1. Автор: Shinji Kubota,Chishio Koshimizu,Yuji AOTA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12020899B2. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Focus ring for a plasma-based semiconductor processing tool

Номер патента: US20230386799A1. Автор: Jr-Sheng Chen,Sheng-Chieh Huang,Chih-Hsien Hsu,Chung-Hsiu Cheng,Chun Yan Chen,Chang Kuang TSO,Chou Feng LEE,Chin-Tai HUNG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Plasma-processing apparatus

Номер патента: US20040245935A1. Автор: Tadahiro Ogawa,Masaaki Takayama. Владелец: NEC Electronics Corp. Дата публикации: 2004-12-09.

Thermal management of dielectric components in a plasma discharge device

Номер патента: WO2006044791A2. Автор: Justin Mauck,Juan Jose Gonzalez,Andrew Shabalin,Steve Dillon. Владелец: ADVANCED ENERGY INDUSTRIES, INC.. Дата публикации: 2006-04-27.

Particle contamination control in a plasma afterglow

Номер патента: WO2024091357A9. Автор: John Goree,Neeraj CHAUBEY. Владелец: UNIVERSITY OF IOWA RESEARCH FOUNDATION. Дата публикации: 2024-08-08.

Plasma processing apparatus, control method thereof and program for performing same

Номер патента: US7585385B2. Автор: Satoshi Yamazaki,Taira Takase. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-09-08.

System and method of improving implant quality in a plasma-based implant system

Номер патента: US09441290B2. Автор: Timothy J. Miller,Bon-Woong Koo,Yong-Tae Kim,Min-Sung Jeon. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2016-09-13.

Method of detecting an arc occurring during the power supply of a plasma process, control unit for a plasma power supply, and plasma power supply

Номер патента: WO2016096900A1. Автор: Adam Grabowski,Cezary GAPIÑSKI,Andrzej Gieraltowski,Piotr Lach,Marcin Zelechowski. Владелец: Trumpf Huettinger Sp. Z O. O.. Дата публикации: 2016-06-23.

Method of detecting an arc occurring during the power supply of a plasma process, control unit for a plasma power supply, and plasma power supply

Номер патента: EP3234980A1. Автор: Adam Grabowski,Cezary GAPIÑSKI,Andrzej Gieraltowski,Piotr Lach,Marcin Zelechowski. Владелец: Trumpf Huettinger Sp zoo. Дата публикации: 2017-10-25.

Seasoning method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240030014A1. Автор: Naoki Matsumoto,Satoru Nakamura,Yusuke Shimizu,Toshihisa Ozu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Method for processing workpiece, plasma processing apparatus and semiconductor device

Номер патента: US20230005752A1. Автор: FEI Yu,Junliang Li,Mengyang Xin. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-05.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20230352273A1. Автор: Hitoshi Tamura,Chen Pin Hsu. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-11-02.

Plasma processing apparatus and power supply control method

Номер патента: US20230411128A1. Автор: Koichi Nagami,Tatsuro Ohshita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Plasma processing apparatus and control method

Номер патента: US11830704B2. Автор: Chishio Koshimizu,Shin Hirotsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-28.

Plasma processing apparatus and method for processing object

Номер патента: US20150245460A1. Автор: Ryoichi Yoshida,Nobutaka Sasaki,Hiraku MURAKAMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-08-27.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20210358722A1. Автор: Masahiro Sumiya,Anil PANDEY,Yoshito Kamaji. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-11-18.

Pressure control and plasma confinement in a plasma processing chamber

Номер патента: WO2005119735A1. Автор: Steven T. Fink. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2005-12-15.

Plasma processing apparatus and control method

Номер патента: US20200273670A1. Автор: Chishio Koshimizu,Shin Hirotsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-08-27.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240030003A1. Автор: Yuzuru Sakai,Kazuki Oshima,Takehiro Tanikawa,Torai Iwasa,Masaya Herai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20090253246A1. Автор: KATSUSHI Kishimoto,Yusuke Fukuoka. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-10-08.

Plasma processing apparatus and power supply control method

Номер патента: US11776795B2. Автор: Koichi Nagami,Tatsuro Ohshita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20080203925A1. Автор: Masaru Izawa,Ken'etsu Yokogawa,Takumi Tandou. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2008-08-28.

Methods for optimizing a plasma process

Номер патента: US20130052757A1. Автор: Kye Hyun Baek,Sangwuk PARK,Kyoungsub Shin,Brad H. LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2013-02-28.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240112892A1. Автор: Pei Ye. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-04.

Particle contamination control in a plasma afterglow

Номер патента: WO2024091357A2. Автор: John Goree,Neeraj CHAUBEY. Владелец: UNIVERSITY OF IOWA RESEARCH FOUNDATION. Дата публикации: 2024-05-02.

Particle trap for a plasma source

Номер патента: WO2009158249A2. Автор: XING Chen,Ali Shajii,Andrew Cowe,Shouqian Shao,David Burtner,William Robert Entley. Владелец: MKS Instruments, Inc.. Дата публикации: 2009-12-30.

Particle trap for a plasma source

Номер патента: EP2308075A2. Автор: XING Chen,Ali Shajii,Andrew Cowe,Shouqian Shao,David Burtner,William Robert Entley. Владелец: MKS Instruments Inc. Дата публикации: 2011-04-13.

Method and apparatus of providing power to ignite and sustain a plasma in a reactive gas generator

Номер патента: SG173883A1. Автор: XING Chen,Jesse E Ambrosina,Ali Shajii,Souheil Benzerrouk,Andrew Cowe,Ken Tran,Siddharth P Nagarkatti. Владелец: Mks Instr Inc. Дата публикации: 2011-09-29.

Plasma processing apparatus, control method thereof and program for performing same

Номер патента: US20060005927A1. Автор: Satoshi Yamazaki,Taira Takase. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-01-12.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240297020A1. Автор: Hiroyuki Miyashita,Taro Ikeda,Yuki Osada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20230178340A1. Автор: Hiroyuki Miyashita,Isao Gunji. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-08.

Plasma processing assemblies including hinge assemblies

Номер патента: WO2013078003A1. Автор: Greg Sexton. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2013-05-30.

Plasma generator, plasma treatment device, and method for providing electric power in a pulsed manner

Номер патента: US12087544B2. Автор: Sebastian Hubertus Schulz,Thomas Pernau,Florian Nachbauer,Felix Walk. Владелец: Centrotherm International AG. Дата публикации: 2024-09-10.

Method and apparatus for processing a workpiece with a plasma

Номер патента: US20040219737A1. Автор: Bill Quon. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2004-11-04.

Operating a Plasma Process

Номер патента: US20090289034A1. Автор: Moritz Nitschke. Владелец: Huettinger Elektronik GmbH and Co KG. Дата публикации: 2009-11-26.

Plasma processing system and method and electrode plate of plasma processing system

Номер патента: EP1569268A1. Автор: Akira c/o TOKYO ELECTRON AT LIMITED KOSHIISHI,Jun c/o TOKYO ELECTRON AT LIMITED HIROSE,M. c/o TOKYO ELECTRON AT LIMITED OGASAWARA,Taichi c/o TOKYO ELECTRON AT LIMITED HIRANO,Hiromitsu c/o TOKYO ELECTRON AT LIMITED SASAKI,Tetsuo c/o TOKYO ELECTRON AT LIMITED YOSHIDA,Michishige c/o TOKYO ELECTRON AT LIMITED SAITO,Hiroyuki c/o TOKYO ELECTRON AT LIMITED ISHIHARA,Jun c/o TOKYO ELECTRON AT LIMITED OOYABU,Kohji c/o TOKYO ELECTRON AT LIMITED NUMATA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2005-08-31.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US5810963A. Автор: Kazuhiro Tomioka. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1998-09-22.

Method of cleaning plasma processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240063000A1. Автор: Nobuaki Shindo,Yasutaka HAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-22.

Method of cleaning plasma processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US11887824B2. Автор: Nobuaki Shindo,Yasutaka HAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-30.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11887817B2. Автор: Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-30.

Three-phase pulsing systems and methods for plasma processing

Номер патента: US11817295B2. Автор: Alok Ranjan,Peter Ventzek,Mitsunori Ohata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-14.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240145218A1. Автор: Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-02.

Filter circuit and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220246400A1. Автор: Koji Yamagishi,Koichi Nagami,Yuji AOTA,Kota ISHIHARADA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-08-04.

In situ real-time sensing and compensation of non-uniformities in substrate processing systems

Номер патента: WO2021016223A1. Автор: Slobodan Mitrovic,Benny Wu,Oleksandr MIKHNENKO,Changyou Jing. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2021-01-28.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20170018405A1. Автор: Kenji Maeda,Hiroyuki Kobayashi,Masaru Izawa,Satoshi Sakai,Nobuya MIYOSHI,Kazunori Shinoda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-01-19.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20200266034A1. Автор: Toshiki Nakajima,Yoshihiro Umezawa,Yuki Hosaka,Mayo UDA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-08-20.

Plasma processing apparatus for vapor phase etching and cleaning

Номер патента: US20150059979A1. Автор: Sung Yong Kang,Gyoo Dong KIM,Woo Gon SHIN. Владелец: Gen Co Ltd. Дата публикации: 2015-03-05.

Auxiliary plasma source for robust ignition and restrikes in a plasma chamber

Номер патента: WO2023114022A1. Автор: Yang Yang,Kartik Ramaswamy,Yue Guo,Nicolas J. Bright,Kostiantyn ACHKASOV,Fernando M. SILVEIRA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-06-22.

Wafer bias drive for a plasma source

Номер патента: WO2002099839A3. Автор: Richard Parsons,Maolin Long,Wayne L Johnson. Владелец: Wayne L Johnson. Дата публикации: 2003-05-22.

Reaction enhancing gas feed for injecting gas into a plasma chamber

Номер патента: WO2004070744A3. Автор: Fernando Gustavo Tomasel,Juan Jose Gonzalez,Andrew Shabalin. Владелец: Advanced Energy Ind Inc. Дата публикации: 2004-12-16.

Reaction enhancing gas feed for injecting gas into a plasma chamber

Номер патента: WO2004070744A2. Автор: Fernando Gustavo Tomasel,Juan Jose Gonzalez,Andrew Shabalin. Владелец: ADVANCED ENERGY INDUSTRIES, INC.. Дата публикации: 2004-08-19.

Ring structures and systems for use in a plasma chamber

Номер патента: US20240266151A1. Автор: Alexei Marakhtanov,John Holland,Alexander Matyushkin,Zhigang Chen,Felix Kozakevich,Michael C. Kellogg,Adam Mace. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-08.

Plasma processing with broadband rf waveforms

Номер патента: US20240312766A1. Автор: John Carroll,Jianping Zhao,Charles Schlechte,Peter Lowell George Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Microwave plasma processing apparatus

Номер патента: US5024748A. Автор: Shuzo Fujimura. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1991-06-18.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US5470426A. Автор: Kazuyoshi Yoshida. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1995-11-28.

Apparatus and method for uniform microwave plasma processing using TE1101 modes

Номер патента: US5302803A. Автор: Joseph L. Cecchi,James E. Stevens. Владелец: Consortium for Surface Processing Inc. Дата публикации: 1994-04-12.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US5529657A. Автор: Nobuo Ishii. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 1996-06-25.

Method of manufacturing electrode plate for plasma processing device and electrode plate for plasma processing device

Номер патента: US20230077433A1. Автор: Koji Higashi. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2023-03-16.

System and method for detecting endpoint in plasma processing

Номер патента: US20230352283A1. Автор: Terry R. Turner,Jerome R. Cannon. Владелец: Forth Rite Technologies LLC. Дата публикации: 2023-11-02.

The plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20190006153A1. Автор: Hitoshi Tamura,Naoki Yasui,Nanako TAMARI. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-01-03.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240014005A1. Автор: Hiroyuki Matsuura,Taro Ikeda,Nobuo Matsuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

Method of operating a plasma process system and a plasma process system

Номер патента: EP4442853A1. Автор: designation of the inventor has not yet been filed The. Владелец: Trumpf Huettinger Sp zoo. Дата публикации: 2024-10-09.

Method of operating a plasma process system and a plasma process system

Номер патента: WO2024208908A1. Автор: Wojciech Gajewski,Anna Oniszczuk,Piotr Różański,Cezary KAMINSKI. Владелец: Trumpf Huettinger Sp. Z O. O.. Дата публикации: 2024-10-10.

Method and apparatus for reducing arcing in plasma processing chambers

Номер патента: WO1996014653A3. Автор: Bhola N De,Charles N Vannutt,Jonathan Ishii. Владелец: Materials Research Corp. Дата публикации: 1996-08-29.

Method and apparatus for reducing arcing in plasma processing chambers

Номер патента: WO1996014653A2. Автор: Jonathan Ishii,Charles N. Vannutt,Bhola N. De. Владелец: Materials Research Corporation. Дата публикации: 1996-05-17.

Generating a highly ionized plasma in a plasma chamber

Номер патента: US09840770B2. Автор: Andrzej Klimczak,Rafal Bugyi,Pawel Ozimek. Владелец: Trumpf Huettinger Sp zoo. Дата публикации: 2017-12-12.

Microwave applicator, plasma processing apparatus having same, and plasma processing method

Номер патента: US6870123B2. Автор: Nobumasa Suzuki,Shigenobu Yokoshima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2005-03-22.

Showerhead electrode assembly in a capacitively coupled plasma processing apparatus

Номер патента: US20150194291A1. Автор: Sang Ki Nam,Rajinder Dhindsa,Ryan Bise. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2015-07-09.

Method and apparatus for time-division plasma chopping in a multi-channel plasma processing equipment

Номер патента: US5405492A. Автор: Mehrdad M. Moslehi. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1995-04-11.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210143017A1. Автор: Takahiro Yokoyama,Yoshihide Kihara,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.

Upper electrode structure and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240249907A1. Автор: Tetsuji Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Method for determining amount of wear of edge ring, plasma processing apparatus, and substrate processing system

Номер патента: US20240212979A1. Автор: Atsushi TERASAWA,Ikko Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Methods and apparatus for treating exhaust gas in a processing system

Номер патента: US09597634B2. Автор: Daniel O. Clark,Colin John Dickinson,Mehran Moalem. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-03-21.

DC Bias in Plasma Process

Номер патента: US20190267211A1. Автор: Syun-Ming Jang,Jyu-Horng Shieh,Sheng-Liang Pan,Bing-Hung Chen,Shu-Huei Suen,Chia-Yang Hung,Jack Kuo-Ping Kuo. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2019-08-29.

Apparatus for treating an exhaust gas in a foreline

Номер патента: US09867238B2. Автор: Colin John Dickinson,Michael S. Cox. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-01-09.

Apparatus for treating an exhaust gas in a foreline

Номер патента: WO2013162932A1. Автор: Colin John Dickinson,Michael S. Cox. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2013-10-31.

Methods and apparatuses for controlling gas flow conductance in a capacitively-coupled plasma processing chamber

Номер патента: TWI416620B. Автор: Rajinder Dhindsa,Jerrel K Antolik,Scott Stevenot. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2013-11-21.

Methods and apparatuses for controlling gas flow conductance in a capacitively-coupled plasma processing chamber

Номер патента: US8784948B2. Автор: Rajinder Dhindsa,Scott Stevenot,Jerrel K. Antolik. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2014-07-22.

Arrangement for plasma processing system control based on RF voltage

Номер патента: US09911577B2. Автор: John C. Valcore, JR.,Henry S. Povolny. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-03-06.

Arrangement for plasma processing system control based on RF voltage

Номер патента: US09455126B2. Автор: John C. Valcore, JR.,Henry S. Povolny. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-09-27.

Method and apparatus for the compensation of edge ring wear in a plasma processing chamber

Номер патента: IL167491A. Автор: Robert J Steger. Владелец: Robert J Steger. Дата публикации: 2009-08-03.

A method and apparatus for the compensation of edge ring wear in a plasma processing chamber

Номер патента: EP1540695A2. Автор: Robert J. Steger. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2005-06-15.

A method and apparatus for the compensation of edge ring wear in a plasma processing chamber

Номер патента: EP1540695B1. Автор: Robert J. Steger. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2010-03-03.

Plasma processing method and plasma processing system

Номер патента: US20230127467A1. Автор: Yoshihide Kihara,Kae Takahashi,Maju TOMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-04-27.

Apparatus for ion energy analysis of plasma processes

Номер патента: US12136542B2. Автор: James Doyle,Tigran Poghosyan,Paul Scullin,David Gahan,J J Lennon. Владелец: IMPEDANS LTD. Дата публикации: 2024-11-05.

Movable grounding arrangements in a plasma processing chamber and methods therefor

Номер патента: WO2013081844A2. Автор: Rajinder Dhindsa,Alexei Marakhtanov,Anthony de la Llera,Michael C. KELLOG. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2013-06-06.

Plasma-enhanced etching in an augmented plasma processing system

Номер патента: US09418859B2. Автор: Andrew D. Bailey, III,Rajinder Dhindsa,Eric A. Hudson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-08-16.

RF choke for gas delivery to an RF driven electrode in a plasma processing apparatus

Номер патента: US09761365B2. Автор: John M. White,Jozef Kudela,Carl A. Sorensen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-09-12.

Plasma processing device and plasma processing method

Номер патента: US09984906B2. Автор: Naoki Matsumoto,Yugo Tomita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-29.

Plasma processing systems including side coils and methods related to the plasma processing systems

Номер патента: US09336996B2. Автор: Alex Paterson,Maolin Long. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-05-10.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20140141532A1. Автор: Takashi Sone,Eiichi Nishimura,Tadashi Kotsugi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-05-22.

Plasma processing system and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240297025A1. Автор: Kota Seno,Fumiaki ARIYOSHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Plasma processing method and plasma processing apparatus including applying a voltage to a lower electrode in a substrate support with a gas supplied into a chamber

Номер патента: US20240222085A1. Автор: Koichiro Nakamura,Norihisa Kiyofuji. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11776792B2. Автор: Takashi Uemura,Masahiro Nagatani,Yasushi Sonoda,Kiyohiko Sato,Shengnan Yu,Shunsuke Tashiro. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-03.

Structure and method for solving parasitic plasma in plasma processing apparatus

Номер патента: US20240321554A1. Автор: CHEN CHEN,Dengzhi WANG,Fengming WANG,Qingyuan QU,Xueyong HE,Wangjun LI. Владелец: Suzhou Maizheng Technology Co ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Plasma processing device, plasma processing method and method of manufacturing electronic devices

Номер патента: US09627183B2. Автор: Tomohiro Okumura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Method for producing plasma flow, method for plasma processing, apparatus for producing plasma, and apparatus for plasma processing

Номер патента: US09426875B2. Автор: Yoshifumi Noguchi,Keisuke Sagisaka. Владелец: Ferrotec Corp. Дата публикации: 2016-08-23.

Plasma generating apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US20110068004A1. Автор: Yuichi Shiina. Владелец: Ferrotec Corp. Дата публикации: 2011-03-24.

Plasma generating apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US8562800B2. Автор: Yuichi Shiina. Владелец: Ferrotec Corp. Дата публикации: 2013-10-22.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20040173309A1. Автор: Toshio Masuda,Junichi Tanaka,Hiroyuki Kitsunai,Hideyuki Yamamoto,Go Miya. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-09-09.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09960031B2. Автор: Motohiro Tanaka,Masahiro Sumiya. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-05-01.

Plasma processing method

Номер патента: US09673062B1. Автор: Tomohiro Okumura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-06.

Plasma processing apparatus and method for monitoring plasma processing apparatus

Номер патента: US09666417B2. Автор: Atsushi Shoji,Masahiko Orimoto. Владелец: Sakai Display Products Corp. Дата публикации: 2017-05-30.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09496147B2. Автор: Motohiro Tanaka,Masahiro Sumiya. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-11-15.

Plasma processing method

Номер патента: US09349603B2. Автор: Masaki Fujii,Tetsuo Ono,Yoshiharu Inoue,Masakazu Miyaji,Michikazu Morimoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-05-24.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20130045547A1. Автор: Kenji Nakata,Atsushi Itou,Kouichi Yamamoto,Masaru Izawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2013-02-21.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12125672B2. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: EP4428898A2. Автор: Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-11.

Plasma processing device, and plasma processing method

Номер патента: US20240331977A1. Автор: Satoru Kawakami,Tsuyoshi Moriya,Hiroyuki Onoda,Jun Yamawaku,Tatsuo Matsudo,Munehito Kagaya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Methods for preventing plasma un-confinement events in a plasma processing chamber

Номер патента: US09928995B2. Автор: Andreas Fischer,Rajinder Dhindsa. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-03-27.

Diagnosis device, diagnosis method, plasma processing apparatus, and semiconductor device manufacturing system

Номер патента: US20240213003A1. Автор: Kenji Tamaki,Shota Umeda,Masahiro Sumiya,Yoshito Kamaji. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Diagnosis apparatus, plasma processing apparatus and diagnosis method

Номер патента: US12040167B2. Автор: Kenji Tamaki,Masaki Ishiguro,Shota Umeda,Masahiro Sumiya. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-16.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20190189403A1. Автор: Takashi Uemura,Junya Sasaki,Yasushi Sonoda,Tomoyoshi Ichimaru,Luke Joseph HIMBELE. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-06-20.

Focus ring replacement method and plasma processing system

Номер патента: US20230282460A1. Автор: Shigeru Ishizawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Focus ring replacement method and plasma processing system

Номер патента: US20230282461A1. Автор: Shigeru Ishizawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Focus ring replacement method and plasma processing system

Номер патента: US12094696B2. Автор: Shigeru Ishizawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Plasma processing method

Номер патента: US09972776B2. Автор: Naohiro Yamamoto,Masato Ishimaru,Makoto Suyama,Hidenori TOYOOKA,Norihiro HOSAKA. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-05-15.

Plasma processing method

Номер патента: US09941098B2. Автор: Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09941097B2. Автор: Masashi Saito,Chishio Koshimizu,Yohei Yamazawa,Kazuki Denpoh,Jun Yamawaku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Plasma processing apparatus and operating method of plasma processing apparatus

Номер патента: US09934946B2. Автор: Yohei Kawaguchi,Masahito Togami,Satomi Inoue,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09899191B2. Автор: Masashi Saito,Chishio Koshimizu,Yohei Yamazawa,Kazuki Denpoh,Jun Yamawaku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09741579B2. Автор: Naoki Yasui,Michikazu Morimoto,Nanako TAMARI. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Hollow cathode device and method for using the device to control the uniformity of a plasma process

Номер патента: US09455133B2. Автор: LIN Xu,Lee Chen,Kazuki Denpoh,Peter L G Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-27.

Cleaning method of film layer in the plasma processing apparatus

Номер патента: US20240203708A1. Автор: Kazuhiro Ueda,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Plasma Processing Method

Номер патента: US20210142982A1. Автор: Tsuyoshi Moriya,Toshio Hasegawa,Shinya Iwashita,Naotaka Noro,Takamichi Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.

Method and apparatus for performing plasma process on particles

Номер патента: US20020148812A1. Автор: Naoki Tamitani. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-10-17.

Plasma processing apparatus and control method

Номер патента: US12068208B2. Автор: Taro Ikeda,Yuki Osada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12074076B2. Автор: Soichiro Eto. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Plasma etching method, plasma etching device, plasma processing method, and plasma processing device

Номер патента: US09837251B2. Автор: Naoki Moriguchi. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2017-12-05.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09805940B2. Автор: Satomi Inoue,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto,Kousuke Fukuchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-10-31.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09741629B2. Автор: Satomi Inoue,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto,Kousuke Fukuchi,Kosa Hirota. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Component of a plasma processing apparatus having a protective in situ formed layer on a plasma exposed surface

Номер патента: US09449797B2. Автор: Harmeet Singh,Thorsten Lill. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-09-20.

Apparatus for monitoring a plasma process

Номер патента: US20230317439A1. Автор: Minsung Kim,Sungyeol KIM,Hosun Yoo,Taekjin Kim,Meehyun Lim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-10-05.

Plasma processing method and plasma processing system

Номер патента: US20230307245A1. Автор: Atsushi Takahashi,Yoshihide Kihara,Takatoshi ORUI,Maju TOMURA,Koki MUKAIYAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Method for monitoring process conditions of, and method for controlling, a plasma pvd process

Номер патента: WO2021206609A1. Автор: Daniel Lundin,Ulf Helmersson. Владелец: Ionautics AB. Дата публикации: 2021-10-14.

Plasma processing method and plasma processing system

Номер патента: US20230268190A1. Автор: Yoshimitsu Kon,Atsuki Hashimoto,Sho SAITOH. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-24.

Shower plate, plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12051564B2. Автор: Satoru Kawakami,Masaki Hirayama,Taro Ikeda. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2024-07-30.

Method for monitoring process conditions of, and method for controlling, a plasma pvd process

Номер патента: SE2030116A1. Автор: Daniel Lundin,Ulf Helmersson. Владелец: Ionautics AB. Дата публикации: 2021-10-07.

Method for monitoring process conditions of, and method for controlling, a plasma pvd process

Номер патента: EP4133118A1. Автор: Daniel Lundin,Ulf Helmersson. Владелец: Ionautics AB. Дата публикации: 2023-02-15.

Method for monitoring process conditions of, and method for controlling, a plasma pvd process

Номер патента: US20230151476A1. Автор: Daniel Lundin,Ulf Helmersson. Владелец: Ionautics AB. Дата публикации: 2023-05-18.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09941132B2. Автор: Noriyuki Matsubara,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Plasma processing method

Номер патента: US09852922B2. Автор: Masanobu Honda,Hikaru Watanabe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-12-26.

Plasma processing method

Номер патента: US09842750B2. Автор: Tetsuhiro Iwai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-12.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US09653334B2. Автор: Noriyuki Matsubara,Atsushi Harikai,Mitsuru Hiroshima. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-16.

Plasma processing method

Номер патента: US09502219B2. Автор: Yoshihide Kihara,Toshio Haga,Masaya Kawamata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-22.

Plasma processing device, and plasma processing method

Номер патента: US20240170260A1. Автор: Eiki Kamata,Taro Ikeda,Mitsutoshi ASHIDA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Method For Processing Workpiece, Plasma Processing Apparatus And Semiconductor Device

Номер патента: US20230005739A1. Автор: FEI Yu,Junliang Li,Mengyang Xin. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-05.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09911638B2. Автор: Noriyuki Matsubara,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-06.

Processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20190393031A1. Автор: Toru Hisamatsu,Masahiro Tabata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-12-26.

Plasma processing method

Номер патента: US12074033B2. Автор: Hitoshi Kobayashi,Masahito Mori,Ryota Takahashi,Chaomei Liu. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Guard aperture to control ion angular distribution in plasma processing

Номер патента: US20160093409A1. Автор: Ludovic Godet,Sang Ki Nam. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-03-31.

Ignition method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12080517B2. Автор: Takeshi Kobayashi,Kazumasa Igarashi,Takeshi Ando. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240347325A1. Автор: Yuki Onodera,Takamitsu Takayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09704731B2. Автор: Masaru Izawa,Go Miya,Takumi Tandou. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-07-11.

Movable chamber liner plasma confinement screen combination for plasma processing apparatuses

Номер патента: US09490135B2. Автор: Leonard Sharpless,Danny Brown. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-11-08.

Methods and apparatus for correcting for non-uniformity in a plasma processing system

Номер патента: WO2013142173A1. Автор: Sang Ki Nam. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2013-09-26.

Plasma processing system

Номер патента: US20200219707A1. Автор: Woohyun Jeong. Владелец: Xia Tai Xin Semiconductor Qing Dao Ltd. Дата публикации: 2020-07-09.

Plasma processing apparatus and plasma control method using magnetic field

Номер патента: US20230317427A1. Автор: Hyung Joon Kim,Duk Hyun SON,Dong Mok Lee. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Microwave plasma source and plasma processing apparatus

Номер патента: US20160358757A1. Автор: Taro Ikeda,Tomohito Komatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-08.

Method of cleaning stage in plasma processing apparatus, and the plasma processing apparatus

Номер патента: US12090529B2. Автор: Junichi Sasaki,Takamitsu Takayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Measurement system to measure a thickness of an adjustable edge ring for a substrate processing system

Номер патента: US12123709B2. Автор: Hossein SADEGHI. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-10-22.

Method and apparatus for controlling the temperature of a gas distribution plate in a process reactor

Номер патента: US20020155644A1. Автор: Guy Blalock,Kevin Donohoe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-10-24.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12068139B2. Автор: Shin Matsuura,Jun Hirose. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Plasma processing method

Номер патента: US09805917B2. Автор: Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Method for processing a carrier, a method for operating a plasma processing chamber, and a method for processing a semiconductor wafer

Номер патента: US09543157B2. Автор: Michael Renner,Lothar Brencher. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2017-01-10.

Method and apparatus for realtime wafer potential measurement in a plasma processing chamber

Номер патента: WO2023096730A1. Автор: Yang Yang,Kartik Ramaswamy,Yue Guo. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-06-01.

Plasma processing apparatus and substrate support of plasma processing apparatus

Номер патента: US11972933B2. Автор: Masahiro DOGOME. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-30.

Plasma processing apparatus, and temperature control method

Номер патента: US12063717B2. Автор: Shinsuke Oka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20080280451A1. Автор: Tsunehiko Tsubone,Ken Yoshioka,Mamoru Yakushiji,Yutaka Kouzuma,Yutaka Ohmoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2008-11-13.

Adjustment method for filter unit and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200126772A1. Автор: Nozomu Nagashima,Ryuichi Yui. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-23.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09953862B2. Автор: Shigeru Yoneda,Yen-Ting Lin,Akitoshi Harada,Chih-Hsuan CHEN,Ju-Chia Hsieh. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09570272B2. Автор: Noriyuki Matsubara,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-14.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09460896B2. Автор: Akitoshi Harada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-10-04.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20160358758A1. Автор: Toshihiko Iwao,Takahiro Hirano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-08.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20170092513A1. Автор: Toshiki Nakajima,Yoshihiro Umezawa,Yuki Hosaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-30.

Plasma processing method

Номер патента: US09824866B2. Автор: Akira Kagoshima,Daisuke Shiraishi,Yuji Nagatani. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09601318B2. Автор: Hitoshi Kato,Jun Sato,Hiroyuki Kikuchi,Shigehiro Miura,Toshiyuki Nakatsubo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Plasma processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230402256A1. Автор: Takeshi Kobayashi,Jun Sato,Takashi Chiba. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Method for operation instability detection in a surface wave plasma source

Номер патента: US20180005805A1. Автор: Alok Ranjan,Sergey Voronin,Jason MARION. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-04.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20170350014A1. Автор: Toshihiko Iwao,Satoru Kawakami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-12-07.

Parasitic plasma prevention in plasma processing chambers

Номер патента: US09728429B2. Автор: Saurabh Ullal,Anthony Ricci,Larry Martinez. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-08-08.

Gas injection system for plasma processing

Номер патента: US6013155A. Автор: Michael Barnes,Brian McMillin,Huong Nguyen,Tom Ni. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2000-01-11.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20220020574A1. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2022-01-20.

Heat transfer plate for a showerhead electrode assembly of a capacitively coupled plasma processing apparatus

Номер патента: US20160079041A1. Автор: Sang Ki Nam,Rajinder Dhindsa,Ryan Bise. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-03-17.

Etching method and plasma processing system

Номер патента: US20230402289A1. Автор: Yoshihide Kihara,Kae Takahashi,Maju TOMURA,Noriyoshi ARIMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20140238301A1. Автор: Shinya Akano. Владелец: Chugai Ro Co Ltd. Дата публикации: 2014-08-28.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12051595B2. Автор: Masahiro Tabata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Image-based digital control of plasma processing

Номер патента: WO2022164661A1. Автор: Vladimir Nagorny. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-08-04.

Method and apparatus for plasma processing

Номер патента: US8969211B2. Автор: Tetsuo Ono,Satoru Muto,Yasuo Ohgoshi,Hirofumi Eitoku. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-03-03.

Synchronized pulsing of plasma processing source and substrate bias

Номер патента: EP4231328A1. Автор: Kevin Fairbairn,Daniel Carter,Denis Shaw. Владелец: Aes Global Holdings Pte Ltd. Дата публикации: 2023-08-23.

Plasma processing apparatus and prediction method of the condition of plasma processing apparatus

Номер патента: US12080529B2. Автор: Masahiro Sumiya,Yoshito Kamaji. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-03.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12131964B2. Автор: Soichiro Eto,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto,Kousuke Fukuchi,Ryoji ASAKURA,Tsubasa Okamoto. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-10-29.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09799495B2. Автор: Tomohiro Okumura,Shogo Okita,Bunji MIIZUNO. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Heat transfer plate for a showerhead electrode assembly of a capacitively coupled plasma processing apparatus

Номер патента: US09396910B2. Автор: Sang Ki Nam,Rajinder Dhindsa,Ryan Bise. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-07-19.

A controller for a matching unit of a plasma processing system

Номер патента: US20220404785A1. Автор: Peter Daly,Paul Scullin,David Gahan,Jj Lennon,Ian OLIVIERI. Владелец: IMPEDANS LTD. Дата публикации: 2022-12-22.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20180158650A1. Автор: Hideyuki Kobayashi,Ryota Sakane,Hiroshi Nagahata,Jungwoo Na. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-07.

Plasma processing apparatus, substrate bonding system including the same, and substrate bonding method using the same

Номер патента: US20230215698A1. Автор: Ho Kim,Youngho Kim,SeungDae SEOK,Yongin LEE,Se-Hoon Jang,Donggap Shin,Siwoong Woo,Inhwa Baek. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-06.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240297027A1. Автор: Soichiro Eto,Shigeru Nakamoto,Kosuke Fukuchi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-05.

Method of producing processing condition of plasma processing apparatus, and plasma processing apparatus

Номер патента: US09870901B2. Автор: Takashi Dokan. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Plasma processing apparatus, analysis apparatus, plasma processing method, analysis method, and storage medium

Номер патента: US20240371603A1. Автор: Kazushi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-11-07.

Plasma-processing apparatus with upper electrode plate and method for performing plasma treatment process

Номер патента: US09431221B2. Автор: Chih-ching Cheng,Po-Ju Chen,Xiao-Meng Chen,Hsin-Yi Tsai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-08-30.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US5439524A. Автор: John L. Cain,Michael P. Relue,Michael E. Costabile,William P. Marsh. Владелец: VLSI Technology Inc. Дата публикации: 1995-08-08.

Radio frequency (rf) power filters and plasma processing systems including rf power filters

Номер патента: WO2012018670A2. Автор: Thomas Anderson,Maolin Long,Seyed Jafar Jafarian-Tehrani,Fred Egley,Ralph Lu,Michael Giarratano. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2012-02-09.

Near-substrate supplemental plasma density generation with low bias voltage within inductively coupled plasma processing chamber

Номер патента: WO2018136121A1. Автор: Qing Xu,Qian Fu,Yiting Zhang,Saravanapriyan Sriraman,Alex Paterson,Ying Wu,Zhongkui Tan. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2018-07-26.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and recording medium

Номер патента: US9583318B2. Автор: Takeshi Kobayashi,Shigehiro Miura,Naohide Ito,Katsuaki Sugawara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12094687B2. Автор: Tetsuo Ono,Naoki Yasui,Masayuki SHIINA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-17.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09997337B2. Автор: Masahito Mori,Naoshi Itabashi,Naoyuki Kofuji. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-06-12.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09997332B2. Автор: Masashi Saito,Chishio Koshimizu,Yohei Yamazawa,Kazuki Denpoh,Jun Yamawaku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

Plasma processing method

Номер патента: US09922841B2. Автор: Ryosuke NIITSUMA,Haruto Kanamori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-20.

Plasma processing apparatus and shower plate

Номер патента: US09663856B2. Автор: Shigeru Kasai,Taro Ikeda,Yutaka Fujino. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and recording medium

Номер патента: US09583318B2. Автор: Takeshi Kobayashi,Shigehiro Miura,Naohide Ito,Katsuaki Sugawara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Plasma processing apparatus and plasma generation antenna

Номер патента: US09543123B2. Автор: Shigeru Kasai,Taro Ikeda,Tomohito Komatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09502220B2. Автор: Tomohiro Okumura,Bunji Mizuno,Shogo Okita. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-22.

Method and system for control of processing conditions in plasma processing systems

Номер патента: US20050220984A1. Автор: Sheng Sun,Kam Law,Cecilia Mak. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2005-10-06.

Controlling etch rate drift and particles during plasma processing

Номер патента: US20180138016A1. Автор: Jianping Zhao. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-17.

Radio frequency (rf) power filters and plasma processing systems including rf power filters

Номер патента: WO2012018670A3. Автор: Thomas Anderson,Maolin Long,Seyed Jafar Jafarian-Tehrani,Fred Egley,Ralph Lu,Michael Giarratano. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2012-04-19.

Electrode plate for plasma processing apparatus and method for regenerating electrode plate for plasma processing apparatus

Номер патента: US20200043707A1. Автор: Satoshi Nomura,Syuji Fujimori. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2020-02-06.

Inspection method of plasma processing apparatus

Номер патента: US12046456B2. Автор: Masahiro Nagatani,Yusuke TAKEGAWA,Kota Kakimoto. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-23.

Member for plasma processing device and plasma processing device provided with same

Номер патента: US12065727B2. Автор: Shuichi Saito,Kazuhiro Ishikawa,Takashi Hino. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2024-08-20.

Plasma processing apparatus and method of cleaning the apparatus

Номер патента: US20010001185A1. Автор: Hajime Murakami,Eiji Setoyama,Kouji Ishiguro,Hirofumi Seki. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2001-05-17.

Plasma processing apparatus and system

Номер патента: US12087591B2. Автор: Kazuya Nagaseki,Gen Tamamushi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate support and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200365380A1. Автор: Takehiro Ueda,Jun Hirose. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-11-19.

Electrostatic Chuck and Method of Operation for Plasma Processing

Номер патента: US20240355593A1. Автор: Melvin VERBAAS,Einosuke Tsuda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Electrostatic chuck and method of operation for plasma processing

Номер патента: WO2024220139A1. Автор: Melvin VERBAAS,Einosuke Tsuda. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2024-10-24.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09711375B2. Автор: Koichi Yamamoto,Tsutomu Iida,Hiromitsu TERAUCHI. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-07-18.

Method for cleaning plasma processing chamber and substrate

Номер патента: US09595448B2. Автор: Yu-Cheng Liu,Shih-Ping Hong. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-03-14.

Apparatus for ion energy analysis of plasma processes

Номер патента: US11908668B2. Автор: James Doyle,Tigran Poghosyan,Paul Scullin,David Gahan,Jj Lennon. Владелец: IMPEDANS LTD. Дата публикации: 2024-02-20.

Plasma Processing Method and Plasma Processing System

Номер патента: US20230178343A1. Автор: Yoshihide Kihara,Kae Takahashi,Maju TOMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-08.

Forming method of component and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240234099A1. Автор: Kazuya Nagaseki,Michishige Saito,Shota Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12051566B2. Автор: Hitoshi Kato,Yuji Sawada,Hiroyuki Kikuchi,Shinji Asari. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Plasma processing device

Номер патента: US20220277932A1. Автор: Jun Yamawaku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-01.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12087556B2. Автор: Akio Ui,Yosuke Sato,Hisataka Hayashi. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-09-10.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240331974A1. Автор: Norihiko Ikeda,Masaru Izawa,Isao Mori,Kazuya Yamada,Naoki Yasui. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-10-03.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12071687B2. Автор: Masanobu Honda,Yoshihide Kihara,Toru Hisamatsu,Shinya Ishikawa,Sho Kumakura,Michiko Nakaya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

Methods for atomic level resolution and plasma processing control

Номер патента: US09978606B2. Автор: Ankur Agarwal. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-05-22.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09805959B2. Автор: Naoki Matsumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Plasma processing apparatus and method for manufacturing electronic component

Номер патента: US09786472B2. Автор: Tetsuhiro Iwai,Shogo Okita,Syouzou Watanabe. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-10.

Plasma processing apparatus and upper electrode assembly

Номер патента: US09773647B2. Автор: Shin Matsuura,Jun Young Chung,Keita KAMBARA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-26.

Plasma processing device, and plasma processing method

Номер патента: US09601330B2. Автор: Tomohiro Okumura,Hiroshi Kawaura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Plasma treatment process for in-situ chamber cleaning efficiency enhancement in plasma processing chamber

Номер патента: US10002745B2. Автор: LIN Zhang,Xuesong Lu,Andrew V. Le,Jang Seok Oh,Xinhai Han. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-06-19.

Broadband Plasma Processing Systems and Methods

Номер патента: US20210082667A1. Автор: Peter Ventzek,Jianping Zhao. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-18.

Movable grounding arrangements in a plasma processing chamber and methods therefor

Номер патента: WO2013081844A3. Автор: Rajinder Dhindsa,Alexei Marakhtanov,Anthony de la Llera,Michael C. KELLOG. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2015-06-25.

Plasma processing apparatus and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20230065586A1. Автор: Nobuhiko Hori. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-03-02.

Component for plasma processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US11948779B2. Автор: Shuichi Saito,Kazuhiro Ishikawa,Takashi Hino. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2024-04-02.

Capacitive coupling plasma processing apparatus

Номер патента: US9412562B2. Автор: Shinji Himori,Tatsuo Matsudo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-08-09.

Capacitive coupling plasma processing apparatus

Номер патента: US9038566B2. Автор: Shinji Himori,Tatsuo Matsudo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-05-26.

Capacitive coupling plasma processing apparatus

Номер патента: US8070911B2. Автор: Shinji Himori,Tatsuo Matsudo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-12-06.

Plasma processing method and resist pattern modifying method

Номер патента: US20100055911A1. Автор: Jin Fujihara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2010-03-04.

Plasma processing method

Номер патента: US20240203751A1. Автор: Tatsuya Hayashi,Mineaki Kodama,Masashi Kawabata,Tomoyoshi Ichimaru,Yujiro YONEDA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Arc Lamp With Forming Gas For Thermal Processing Systems

Номер патента: US20230352294A1. Автор: Yun Yang,Michael X. Yang,Joseph Cibere,Shawming Ma,Rolf Bremensdorfer,Dieter HEZLER,Dave Camm. Владелец: Mattson Thermal Products Gmbh. Дата публикации: 2023-11-02.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12112925B2. Автор: Tomoyuki Tamura,Shigeru Shirayone,Masaki Ishiguro,Masahiro Sumiya,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-10-08.

Arc lamp with forming gas for thermal processing systems

Номер патента: US12119216B2. Автор: Yun Yang,Michael X. Yang,Joseph Cibere,Shawming Ma,Rolf Bremensdorfer,Dieter HEZLER,Dave Camm. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-15.

Plasma processing chamber with a grounded electrode assembly

Номер патента: US09905402B2. Автор: Arnold Kholodenko,Anwar Husain. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-02-27.

Plasma processing apparatus and measurement method

Номер патента: US09658106B2. Автор: Kohei Yamashita,Hirokazu Ueda,Yuuki Kobayashi,Peter L. G. Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Method for Producing Plasma Flow, Method for Plasma Processing, Apparatus for Producing Plasma, and Apparatus for Plasma Processing

Номер патента: US20130034668A1. Автор: Yoshifumi Noguchi,Keisuke Sagisaka. Владелец: Ferrotec Corp. Дата публикации: 2013-02-07.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20130029492A1. Автор: Masaki Fujii,Tetsuo Ono,Yoshiharu Inoue,Masakazu Miyaji,Michikazu Morimoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2013-01-31.

Plasma processing system and method of supporting plasma ignition

Номер патента: US11923174B2. Автор: Yuji Kitamura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-05.

Methods and apparatus for optimal temperature control in a plasma processing system

Номер патента: WO2006012021A2. Автор: Miguel A. Saldana,John E. Daugherty,Leonard J. Sharpless. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2006-02-02.

Plasma processing apparatus, wafer to wafer bonding system and wafer to wafer bonding method

Номер патента: US20240038536A1. Автор: Wooyoung Kim,Jiwon Moon,SeungDae SEOK,Yongin LEE,Donggap Shin,Bumki Moon,Siwoong Woo,Sehoon JANG,Inhwa Baek. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-01.

Plasma processing method

Номер патента: US20200294777A1. Автор: Satomi Inoue,Masahiro Sumiya,Shigeru Nakamoto,Kosa Hirota,Nanako TAMARI,Koichi Nakaune. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-09-17.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200303169A1. Автор: Hisanori Sakai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-09-24.

Plasma processing system and plasma processing method

Номер патента: US20240170258A1. Автор: Gen Tamamushi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Substrate processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220068658A1. Автор: Yasutaka HAMA,Shu Kino,Motoki NORO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Plasma processing apparatus and method for using plasma processing apparatus

Номер патента: US20230167553A1. Автор: Tetsuhiro Iwai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-01.

Plasma processing apparatus, electrostatic attraction method, and electrostatic attraction program

Номер патента: US11764038B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Shoichiro Matsuyama,Naoki Tamaru. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Precleaning chamber and plasma processing apparatus

Номер патента: US20170330769A1. Автор: Peng Chen,Peijun Ding,Kui Xu,Mengxin Zhao,qing She,Guodong Bian. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-16.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09779936B2. Автор: Toshio Nakanishi,Minoru Honda,Daisuke Katayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-03.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09653317B2. Автор: Tsutomu Ito,Shinichi Kozuka,Masaru Nishino,Ryosuke NIITSUMA,Takao FUNAKUBO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-16.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US10297489B2. Автор: Akihiro Itou,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-21.

Actively-cooled distribution plate for reducing reactive gas temperature in a plasma processing system

Номер патента: EP1150330A2. Автор: David William Kinnard,Daniel Brian Richardson. Владелец: Axcelis Technologies Inc. Дата публикации: 2001-10-31.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20210375588A1. Автор: Satoru Kawakami,Masaki Hirayama,Taro Ikeda. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2021-12-02.

Detection method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240030012A1. Автор: Naoki Matsumoto,Satoru Nakamura,Yusuke Shimizu,Toshihisa Ozu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Plasma processing method, plasma processing apparatus, and control apparatus

Номер патента: US11901158B2. Автор: Takeshi Kobayashi,Hiroyuki Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-13.

Plasma processing method

Номер патента: US11830758B2. Автор: Akihiro Itou,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-28.

Plasma processing device, plasma processing method and method of manufacturing electronic devices

Номер патента: US20150118867A1. Автор: Tomohiro Okumura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2015-04-30.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20160225587A1. Автор: Masaki Fujii,Tetsuo Ono,Yoshiharu Inoue,Masakazu Miyaji,Michikazu Morimoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-08-04.

Structure and method for dealing with parasitic plasma in plasma processing device

Номер патента: EP4353865A1. Автор: CHEN CHEN,Dengzhi WANG,Fengming WANG,Qingyuan QU,Xueyong HE,Wangjun LI. Владелец: Suzhou Maizheng Technology Co ltd. Дата публикации: 2024-04-17.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US9941133B2. Автор: Tomoyuki Tamura,Shigeru Shirayone,Masaki Ishiguro,Masahiro Sumiya,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-04-10.

Plasma processing method, plasma processing apparatus, and control apparatus

Номер патента: US20210351010A1. Автор: Takeshi Kobayashi,Hiroyuki Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-11-11.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11996268B2. Автор: Toshihiko Iwao. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-28.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20180190502A1. Автор: Tomoyuki Tamura,Shigeru Shirayone,Masaki Ishiguro,Masahiro Sumiya,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-07-05.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20190333772A1. Автор: Tomoyuki Tamura,Shigeru Shirayone,Masaki Ishiguro,Masahiro Sumiya,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-10-31.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240213002A1. Автор: Ikko Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Plasma processing apparatus and temperature control method

Номер патента: US20190376185A1. Автор: Koji Maruyama,Akihiro Yokota,Kazuki Moyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-12-12.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20230420228A1. Автор: Akihiro Yokota,Ryo Terashima,Takaharu SAINO,Tomo MURAKAMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Method and apparatus for controlling the temperature of a gas distribution plate in a process reactor

Номер патента: US20020026983A1. Автор: Guy Blalock,Kevin Donohoe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-03-07.

Plasma processing apparatus and substrate support body

Номер патента: US20240266154A1. Автор: Shinya Ishikawa,Daiki HARIU,Haruka ENDO,Miyuki AOYAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240290625A1. Автор: Masanori Hosoya,Mitsuhiro Iwano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Plasma cell for providing VUV filtering in a laser-sustained plasma light source

Номер патента: US09927094B2. Автор: Rudolf Brunner,Jincheng Wang,Ilya Bezel,Matthew Derstine,Anatoly Shchemelinin,Eugene Shifrin,Anant Chimmalgi,Matthew Panzer,Rajeev Patil. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2018-03-27.

Plasma processing device

Номер патента: US09670584B2. Автор: Kiyotaka Ishibashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-06-06.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09583355B2. Автор: Tetsuhiro Iwai,Nobuhiro Nishizaki,Atsushi Harikai,Mitsuru Hiroshima. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Plasma processing method

Номер патента: US5858258A. Автор: Hiroshi Kojima,Izumi Arai,Yoshifumi Tahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 1999-01-12.

Plasma process system and method

Номер патента: US5494522A. Автор: Susumu Tanaka,Satoru Kawakami,Shuji Moriya,Jun Yashiro,Masahiro Ogasawara,Yoshifumi Tahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 1996-02-27.

Plasma processing method and apparatus

Номер патента: CA1299773C. Автор: Hiroshi Nishimura,Seitaro Matsuo,Mikiho Kiuchi. Владелец: Nippon Telegraph and Telephone Corp. Дата публикации: 1992-04-28.

Plasma processing method

Номер патента: US11915951B2. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Kenetsu Yokogawa,Tomoyuki Watanabe,Masaru Izawa,Satoshi Sakai,Naoyuki Kofuji,Nobuya MIYOSHI,Kazunori Shinoda,Yutaka Kouzuma,Tatehito Usui. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-02-27.

Plasma processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20150371832A1. Автор: Yukinori Aburatani,Shin Hiyama,Hidehiro Yanai,Toshiya Shimada. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2015-12-24.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11875978B2. Автор: Atsushi Sekiguchi,Miyako Matsui,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto,Tsubasa Okamoto,Naohiro Kawamoto. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-01-16.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220285169A1. Автор: Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-08.

Plasma processing method

Номер патента: US20170178925A1. Автор: Tomohiro Okumura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-22.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US11871503B2. Автор: Shinji Kubota,Chishio Koshimizu,Takashi Dokan. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-09.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20170298514A1. Автор: Toshihiko Iwao,Takaaki Kato,Takahiro Hirano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-19.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US11967511B2. Автор: Akira Ishikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-23.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20230360882A1. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-09.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20210142988A1. Автор: Hiroyuki Matsuura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.

Plasma sensing device, plasma monitoring system and method of controlling plasma processes

Номер патента: US20200083030A1. Автор: Won-Don JOO,Hun-Yong Park,Sang-Woo BAE,Seul-Gi Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-03-12.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20160079043A1. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Makoto Nawata,Tomoyuki Tamura,Shigeru Shirayone,Masaki Ishiguro,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-03-17.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US9607874B2. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Makoto Nawata,Tomoyuki Tamura,Shigeru Shirayone,Masaki Ishiguro,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11688585B2. Автор: Hiroyuki Matsuura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-27.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200402805A1. Автор: Jun Abe,Kazunobu Fujiwara,Yusuke Aoki,Koichi Nagami,Shinya Morikita,Toshikatsu Tobana,Fumiya TAKATA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-12-24.

Plasma processing apparatus and plasma processing system

Номер патента: US12014909B2. Автор: Akira Kagoshima,Daisuke Shiraishi,Satomi Inoue,Shota Umeda,Ryoji ASAKURA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-18.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US9165780B2. Автор: Akira Shimizu,Yu WAMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-10-20.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20150110974A1. Автор: Yong-Suk Lee,Myung-Soo Huh,Suk-Won Jung,Mi-Ra An. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2015-04-23.

Determining an optimal ion energy for plasma processing of a dielectric substrate

Номер патента: EP4038656A1. Автор: Bastiaan Joannes Daniël VERMULST,Erik Lemmen,Qihao YU. Владелец: Prodrive Technologies Innovation Services BV. Дата публикации: 2022-08-10.

Determining an optimal ion energy for plasma processing of a dielectric substrate

Номер патента: WO2021064110A1. Автор: Bastiaan Joannes Daniël VERMULST,Erik Lemmen,Qihao YU. Владелец: PRODRIVE TECHNOLOGIES B.V.. Дата публикации: 2021-04-08.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240240320A1. Автор: Yong-Suk Lee,Myung-Soo Huh,Suk-Won Jung,Mi-Ra An. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Method and apparatus for forming a plasma resistant coating, component, and plasma processing apparatus

Номер патента: US12123089B2. Автор: Xiang Sun,Sheng Guo,Xingjian CHEN,Jiao DUAN. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc. Дата публикации: 2024-10-22.

Method and system for generating a light-sustained plasma in a flanged transmission element

Номер патента: US09775226B1. Автор: Ilya Bezel,Matthew Derstine,Anatoly Shchemelinin. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2017-09-26.

Methods for etching through-wafer vias in a wafer

Номер патента: US09711364B2. Автор: Elena Becerra Woodard,Daniel Kwadwo Amponsah Berkoh,Dean G. Scott. Владелец: Skyworks Solutions Inc. Дата публикации: 2017-07-18.

Plasma processing method and apparatus

Номер патента: US09431263B2. Автор: Noriyuki Matsubara,Atsushi Harikai,Mitsuru Hiroshima. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-30.

High-density plasma-processing tool with toroidal magnetic field

Номер патента: US5505780A. Автор: Satoshi Hamaguchi,Manoj Dalvie. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1996-04-09.

Plasma processing method

Номер патента: US9824864B2. Автор: Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-21.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240120187A1. Автор: Sho Kumakura,Hironari SASAGAWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-11.

Plasma process monitoring device and plasma processing apparatus including the same

Номер патента: US11862442B2. Автор: Il Gu Yun. Владелец: Industry Academic Cooperation Foundation of Yonsei University. Дата публикации: 2024-01-02.

Method of processing substrate, device manufacturing method, and plasma processing apparatus

Номер патента: US11081351B2. Автор: Satoru Nakamura,Yusuke Aoki,Shinya Morikita,Toshikatsu Tobana. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-08-03.

Delayed pulsing for plasma processing of wafers

Номер патента: US20240047195A1. Автор: Rajinder Dhindsa,Jason KENNEY,Vinay Shankar VIDYARTHI,Daksh Agarwal,Akhil MEHROTRA,Samaneh Sadighi. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-08.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20180122665A1. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Kenetsu Yokogawa,Tomoyuki Watanabe,Masaru Izawa,Satoshi Sakai,Naoyuki Kofuji,Nobuya MIYOSHI,Kazunori Shinoda,Yutaka Kouzuma,Tatehito Usui. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-05-03.

Plasma processing method

Номер патента: US20140080311A1. Автор: Naoki Matsumoto,Masaru Sasaki,Jun Yoshikawa,Tetsuya Nishizuka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-03-20.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20080217295A1. Автор: Seiichi Watanabe,Akitaka Makino,Naoki Yasui,Susumu Tauchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2008-09-11.

Plasma processing method

Номер патента: US20170278677A1. Автор: Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-28.

Focus ring replacement method and plasma processing system

Номер патента: US11990323B2. Автор: Shigeru Ishizawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-21.

Etching method and plasma processing system

Номер патента: US20230307243A1. Автор: Yoshihide Kihara,Maju TOMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US11862441B2. Автор: Sho Kumakura,Hironari SASAGAWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-02.

Plasma processing system, plasma processing apparatus, and etching method

Номер патента: US20240112918A1. Автор: Atsushi Takahashi,Noboru Saito,Shinya Ishikawa,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida,Yuta NAKANE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-04.

Method of processing substrate, device manufacturing method, and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210057212A1. Автор: Satoru Nakamura,Yusuke Aoki,Shinya Morikita,Toshikatsu Tobana. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-02-25.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20190096640A1. Автор: Noriyuki Kato. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2019-03-28.

Method and device for etching a substrate by means of a plasma

Номер патента: WO2008007962A1. Автор: Freddy Roozeboom,Wilhelmus Mathijs Marie Kessels,Michiel Alexander Blauw,Mauritius Cornelis Maria Van De Sanden. Владелец: Technische Universiteit Eindhoven. Дата публикации: 2008-01-17.

Systems and methods for electrical and magnetic uniformity and skew tuning in plasma processing reactors

Номер патента: WO2016014442A1. Автор: HAITAO Wang,Jie Zhou,Chunlei Zhang,S. M. Reza Sadjadi,Tza-Jing Gung,Fernando M. SILVEIRA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2016-01-28.

Plasma processing apparatus, power system, control method, and storage medium

Номер патента: US20240347320A1. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Methods of plasma processing using a pulsed electron beam

Номер патента: WO2021141651A1. Автор: Alok Ranjan,Peter Ventzek. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2021-07-15.

System and method for spectrometry of a sample in a plasma

Номер патента: EP4453988A1. Автор: Sean Kellogg,Hans-Juergen Schlueter,Patrick LANCUBA. Владелец: Thermo Fisher Scientific Ecublens SARL. Дата публикации: 2024-10-30.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09631274B2. Автор: Toshihisa Nozawa,Shinji Komoto,Masahide Iwasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-25.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09574267B2. Автор: Toshihisa Nozawa,Shinji Komoto,Masahide Iwasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-21.

Dense oxide coated component of a plasma processing chamber and method of manufacture thereof

Номер патента: US09546432B2. Автор: Tom Stevenson,LIN Xu,Hong Shih,Sivakami Ramanathan,John Daugherty,Robert G. O'Neill,John Michael Kerns,William Charles,Russell Ormond. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-01-17.

Methods and apparatus for changing area ratio in a plasma processing system

Номер патента: WO2009100289A3. Автор: Rajinder Dhindsa. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2009-10-15.

Methods and apparatus for optimizing a substrate in a plasma processing system

Номер патента: EP1680810A2. Автор: Roger Patrick,Norman Williams,Brett Richardson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2006-07-19.

Spark plasma sintered component for plasma processing chamber

Номер патента: US20230331633A1. Автор: LIN Xu,Harmeet Singh,Satish Srinivasan,Robin Koshy,Pankaj HAZARIKA. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-10-19.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US11908663B2. Автор: Taro Ikeda,Toshifumi KITAHARA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-20.

Plasma processing method

Номер патента: US20160300739A1. Автор: Tetsuhiro Iwai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-13.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US8513097B2. Автор: Tetsuhiro Iwai. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2013-08-20.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20200402822A1. Автор: Tetsuhiro Iwai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-24.

Plasma processing method

Номер патента: US20170278676A1. Автор: Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-28.

Plasma processing method and plasma processing system

Номер патента: US20240006188A1. Автор: Takahiro Yonezawa,Kenta Ono. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Plasma processing method and plasma processing device

Номер патента: US20220199369A1. Автор: Mikio Sato,Nobuhiko Yamamoto,Eiki Kamata,Taro Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-06-23.

Delayed pulsing for plasma processing of wafers

Номер патента: US11817312B2. Автор: Rajinder Dhindsa,Jason KENNEY,Vinay Shankar VIDYARTHI,Daksh Agarwal,Akhil MEHROTRA,Samaneh Sadighi. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-14.

Etching method and plasma processing system

Номер патента: US20230377850A1. Автор: Masahito Yamaguchi,Takatoshi ORUI,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200227241A1. Автор: Seiji Yokoyama,Shunichi Kawasaki,Taichi Okano,Sho Oikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-07-16.

Method for performing plasma process on particles

Номер патента: US6649076B2. Автор: Naoki Tamitani. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2003-11-18.

Plasma processing method and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20240194487A1. Автор: Yu Zhao,Makoto Satake. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

Plasma processing system

Номер патента: US20210125813A1. Автор: Woohyun Jeong. Владелец: Xia Tai Xin Semiconductor Qing Dao Ltd. Дата публикации: 2021-04-29.

Magnet holding structures for plasma processing applications

Номер патента: WO2022086709A1. Автор: Canfeng Lai,Andrew Nguyen,Kallol Bera,Sathya Swaroop GANTA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-04-28.

Plasma processing apparatus and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20240203707A1. Автор: Seiwa NISHIO. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Multi-zone heating apparatus, bottom electrode assembly, plasma processing apparatus, and temperature adjusting method

Номер патента: US12046458B2. Автор: Jie Du,Sha Rin. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc. Дата публикации: 2024-07-23.

Method for manufacturing electrode plate for plasma processing device

Номер патента: US5961361A. Автор: Shosuke Endoh,Masaaki Mitsuno. Владелец: Tokai Carbon Co Ltd. Дата публикации: 1999-10-05.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, program, and memory medium

Номер патента: EP4425529A2. Автор: Tadashi Inoue,Masaharu Tanabe,Atsushi Takeda,Tatsunori SATO,Kazunari Sekiya,Hiroshi Sasamoto,Nobuaki Tsuchiya. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2024-09-04.

Magnetic holding structures for plasma processing applications

Номер патента: US20240297059A1. Автор: Canfeng Lai,Andrew Nguyen,Kallol Bera,Sathya Swaroop GANTA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-05.

Component for plasma processing apparatus and method for manufacturing component for plasma processing apparatus

Номер патента: US09988702B2. Автор: Michio Sato,Takashi Hino,Masashi Nakatani. Владелец: Toshiba Materials Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Plasma thruster and method for generating a plasma propulsion thrust

Номер патента: US09591741B2. Автор: Serge Larigaldie. Владелец: Office National dEtudes et de Recherches Aerospatiales ONERA. Дата публикации: 2017-03-07.

Plasma processing equipment and gas distribution apparatus thereof

Номер патента: US09540732B2. Автор: Liqiang Yao. Владелец: Beijing NMC Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Plasma processing method

Номер патента: US09384992B2. Автор: Manabu Sato,Takanori Sato,Kazuki Narishige. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-07-05.

Plasma processing chamber with dual axial gas injection and exhaust

Номер патента: US9793128B2. Автор: Andrew D. Bailey, III,Rajinder Dhindsa,Alexei Marakhtanov. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-10-17.

Arrangements for manipulating plasma confinement within a plasma processing system and methods thereof

Номер патента: US9275838B2. Автор: Yunsang Kim,Andrew Bailey,Neungho Shin,Eller Y. Juco. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-03-01.

Plasma etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20130267094A1. Автор: Takayuki Katsunuma,Masanobu Honda,Hironobu Ichikawa,Jin KUDO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-10-10.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20160293469A1. Автор: Noriyuki Matsubara,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-06.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20160293456A1. Автор: Noriyuki Matsubara,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-06.

Plasma processing-apparatus processing object support platform, plasma processing apparatus, and plasma processing method

Номер патента: US20190096731A1. Автор: Hideo Eto. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-03-28.

Temperature controlled plasma processing chamber component with zone dependent thermal efficiencies

Номер патента: US20110303641A1. Автор: Kallol Bera,Larry D. Elizaga,Chetan MAHADESWARASWAMY. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2011-12-15.

Plasma processing apparatus and ceiling wall

Номер патента: US20230343561A1. Автор: Satoshi Itoh,Eiki Kamata,Taro Ikeda,Shigenori Ozaki,Soudai EMORI,Masashi Imanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-26.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20220122847A1. Автор: Yuzuru Sakai,Ryo Terashima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-04-21.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11817321B2. Автор: Yuzuru Sakai,Ryo Terashima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-14.

Adjustable electrode assembly for use in processing substrates of differing widths in a plasma processing system

Номер патента: SG131038A1. Автор: Thomas V Bolden Ii. Владелец: Nordson Corp. Дата публикации: 2007-04-26.

Plasma processing system and plasma processing method

Номер патента: US11107663B2. Автор: Kazuya Nagaseki,Kazuki Moyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-08-31.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20230298898A1. Автор: Shingo Takahashi,Shogo Yamaya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Temperature controller, temperature measurer, and plasma processing apparatus including the same

Номер патента: US20190385813A1. Автор: Hak-Young Kim,Bi-Ah SHIN,Bo-Ra YOON,Jun-Ho IM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-12-19.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US9324542B2. Автор: Takahiro Senda,Kazuki Takahashi,Naoki Matsumoto,Jun Yoshikawa,Kazuyuki Kato,Kenji Sudou,Yoshiyasu Sato,Naoki Mihara,Michitaka AITA,Yugo Tomita,Hitoshi Mizusugi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-04-26.

Low ceiling temperature process for a plasma reactor with heated source of a polymer-hardening precursor material

Номер патента: WO1999036931A2. Автор: Jian Ding. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 1999-07-22.

Plasma source for a plasma CVD apparatus and a manufacturing method of an article using the plasma source

Номер патента: US09922805B2. Автор: Kazunobu Maeshige,Yuki Aoshima,Nobutaka Aomine,Hiroshi HANEKAWA,Hirotomo Kawahara. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-20.

Method and system for controlling convective flow in a light-sustained plasma

Номер патента: US09887076B2. Автор: Wei Zhao,David W. Shortt,Kenneth P. Gross,Jincheng Wang,Ilya Bezel,Matthew Derstine,Anatoly Shchemelinin,Anant Chimmalgi. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2018-02-06.

Identifying components associated with a fault in a plasma system

Номер патента: US09851389B2. Автор: Seyed Jafar Jafarian-Tehrani. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-12-26.

Adjustment of VUV emission of a plasma via collisional resonant energy transfer to an energy absorber gas

Номер патента: US09609730B2. Автор: Andreas Fischer,Thorsten Lill. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Batch-type remote plasma processing apparatus

Номер патента: US09373499B2. Автор: Kazuyuki Toyoda,Yasuhiro Inokuchi,Motonari Takebayashi,Nobuo Ishimaru,Tadashi Kontani. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-06-21.

Ignition method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220293394A1. Автор: Takeshi Kobayashi,Kazumasa Igarashi,Takeshi Ando. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-15.

Plasma processing method, plasma processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device using the apparatus

Номер патента: US20210202276A1. Автор: Jin-Young Park,Chan-hoon Park,Je-woo Han,Jong-Woo Sun,Seung-Yoon Song,Jung-Mo Sung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-07-01.

Device for radical diagnostic in plasma processing chamber, radical diagnostic system having the same, and operating method thereof

Номер патента: US20230197423A1. Автор: Kyungmin Lee,SeungBo SHIM,Youngdo Kim,Sungyeol KIM,Sangki NAM,Sungyong LIM,Chansoo KANG,Namkyun Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-22.

Systems and methods for determining residual compounds in plasma process

Номер патента: US20220093429A1. Автор: HUNG-WEN Chen,Jer-Shien Yang,I-Ling Kuo,Chen-Tai Chen,Jing-Ran LIN,Yu-Hsun CHIANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-03-24.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240018660A1. Автор: Hiroyuki Matsuura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-18.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20190287770A1. Автор: Kenetsu Yokogawa,Tsutomu Tetsuka,Taku Iwase. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-09-19.

Device for radical diagnostic in plasma processing chamber, radical diagnostic system having the same, and operating method thereof

Номер патента: US11996275B2. Автор: Kyungmin Lee,SeungBo SHIM,Youngdo Kim,Sungyeol KIM,Sangki NAM,Sungyong LIM,Chansoo KANG,Namkyun Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-28.

Plasma monitoring apparatus and plasma processing system

Номер патента: US20200066499A1. Автор: Dong-Kyu Kim,Jong-Woo Sun,Hyung-Joo Lee,Kyeong-Hun KIM,Jeong-Il MUN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-02-27.

Plasma processing apparatus and electrostatic chuck including a dielectric structure and an electrostatic claim electrode inside the dielectric structure

Номер патента: US20240222092A1. Автор: Takahiko Sato,Tetsuo Yoshida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20110088849A1. Автор: KATSUSHI Kishimoto,Yusuke Fukuoka. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2011-04-21.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12046453B2. Автор: Atsushi Kubo,Nobuhiko Yamamoto,Eiki Kamata,Taro Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Plasma processing method

Номер патента: US20040157447A1. Автор: Tomohiro Okumura,Mitsuo Saitoh. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-08-12.

Bottom electrode assembly, plasma processing apparatus, and method of replacing focus ring

Номер патента: US12094693B2. Автор: Zengdi LIAN,Rason Zuo,Dee Wu,Jiangtao PEI. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc. Дата публикации: 2024-09-17.

Plasma processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US12106945B2. Автор: Takafumi Noguchi,SIQING Lu,Cheonkyu Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-10-01.

Systems and methods for using electrical asymmetry effect to control plasma process space in semiconductor fabrication

Номер патента: US09941113B2. Автор: Adrien Lavoie,Ishtak Karim,Douglas Keil,Karl Leeser,Edward Augustyniak,Yukinori Sakiyama,Chunhai Ji,Yaswanth Rangineni. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-04-10.

Systems and methods for using electrical asymmetry effect to control plasma process space in semiconductor fabrication

Номер патента: US09644271B1. Автор: Adrien Lavoie,Ishtak Karim,Douglas Keil,Karl Leeser,Edward Augustyniak,Yukinori Sakiyama,Chunhai Ji,Yaswanth Rangineni. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-05-09.

System, method, and program for predicting processing shape by plasma process

Номер патента: US09620338B2. Автор: Seiji Samukawa,Kohei Ono,Takuya Iwasaki. Владелец: Mizuho Information and Research Institute Inc. Дата публикации: 2017-04-11.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US7819082B2. Автор: Tadahiro Ohmi,Masaki Hirayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2010-10-26.

Pulsed plasma processing method and apparatus

Номер патента: US20020160125A1. Автор: Wayne Johnson,Eric Strang. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2002-10-31.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US6155201A. Автор: Takashi Ohtsuka,Hitoshi Murayama,Kazuyoshi Akiyama,Kazuto Hosoi,Toshiyasu Shirasuna,Ryuji Okamura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2000-12-05.

Method of cleaning stage in plasma processing apparatus, and the plasma processing apparatus

Номер патента: US11865591B2. Автор: Junichi Sasaki,Takamitsu Takayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-09.

Plasma processing device and plasma processing method

Номер патента: US20210043495A1. Автор: Daichi KAWASAKI. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2021-02-11.

Control method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20230377843A1. Автор: Koji Maruyama,Shinji Kubota,Taichi Hirano,Chishio Koshimizu,Toru HAYASAKA,Takashi Dokan. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20190019653A1. Автор: Yohei Yamazawa,Atsuki Furuya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-01-17.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US10916410B2. Автор: Yohei Yamazawa,Atsuki Furuya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-02-09.

Plasma processing apparatus, impedance matching method, and plasma processing method

Номер патента: US20200203129A1. Автор: Shinji Kubota,Chishio Koshimizu,Takashi Dokan. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-06-25.

Plasma processing device and plasma discharge state monitoring device

Номер патента: WO2009025393A8. Автор: Kiyoshi Arita,Masaru Nonomura,Tatsuhiro Mizukami. Владелец: Tatsuhiro Mizukami. Дата публикации: 2009-04-23.

Sealant coating for plasma processing chamber components

Номер патента: WO2020252020A1. Автор: John Daugherty,Slobodan Mitrovic,Darrell EHRLICH,Robin Koshy,Benjamin Philip HEINE. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2020-12-17.

Plasma processing method

Номер патента: US20100029024A1. Автор: Kenji Maeda,Masatoshi Miyake,Kenetsu Yokogawa,Masaru Izawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2010-02-04.

Plasma processing device, and plasma processing method

Номер патента: US12020900B2. Автор: Satoru Kawakami,Tsuyoshi Moriya,Hiroyuki Onoda,Jun Yamawaku,Tatsuo Matsudo,Munehito Kagaya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Etching method and plasma processing system

Номер патента: US20230251567A1. Автор: Yoshihide Kihara,Jaeyoung Park,Maju TOMURA,Taiki Miura,Ryutaro Suda,Yusuke FUKUNAGA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Plasma processing apparatus utilizing a microwave window having a thinner inner area

Номер патента: US6091045A. Автор: Tomomi Murakami,Hiroshi Mabuchi,Katsuo Katayama,Toshihiro Hayami,Junya Tsuyuguchi,Hideo Ida,Naohiko Takeda. Владелец: Sumitomo Metal Industries Ltd. Дата публикации: 2000-07-18.

Resin surface hydrophilization method, plasma processing device, laminate body, and laminate body manufacturing methodresin surface hydrophilization method, plasma processing device, laminate body, an laminate body manufacturing method

Номер патента: US20230365769A1. Автор: Hiroyoshi Kubo,Haruo HASHIGUCHI. Владелец: Komiyama Electron Corp. Дата публикации: 2023-11-16.

Plasma processing method

Номер патента: US20170207068A1. Автор: Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-07-20.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20230245870A1. Автор: Satoru Kawakami,Hiroyuki Matsuura,Taro Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

Method, computer program product and apparatus for scheduling maintenance actions in a substrate processing system

Номер патента: US20050033463A1. Автор: Wim Tel,Harm Rossing,Suzan Auer-Jongepier. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2005-02-10.

Substrate processing system, substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20240355644A1. Автор: Naoki Shibata,Shinsuke TAKAKI,Yoji SAKATA,Tomoya ONITSUKA,Hiroki Tadatomo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Prevention of contamination of substrates during pressure changes in processing systems

Номер патента: EP4388581A1. Автор: Ashley M. Okada,Dean C. Hruzek,Kenneth Le,Changgong WANG,Yuanhong Guo,Atilla KILICARSLAN,Raechel Chu-Hui Tan,Robert A. Medure,Sai Padhy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-26.

Carrier for use in a vacuum chamber, a system for testing a transfer arrangement in a vacuum chamber, a vacuum processing system, and a method for testing a transfer arrangement in a vacuum chamber

Номер патента: KR102253018B1. Автор: 클라우스 첸겔,시몬 라우,한스 요아힘 핸트,요아힘 손넨샤인,마르코 게르하르트,알렌 오스만리치,하우케 한젠,원 준 최. Владелец: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2021-05-17.

Method and apparatus for ordering wafers in a multi-chamber semiconductor wafer processing system

Номер патента: JP2002506285A. Автор: チュー ヌグイェン，,マイカル ラヴィ，. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2002-02-26.

Gas supply for a plasma arc material processing system

Номер патента: WO2024178171A1. Автор: John Sobr,Soumya Mitra,Jon Lindsay. Владелец: Hypertherm, Inc.. Дата публикации: 2024-08-29.

Gas supply for a plasma arc material processing system

Номер патента: US20240284582A1. Автор: John Sobr,Soumya Mitra,Jon Lindsay. Владелец: Hypertherm Inc. Дата публикации: 2024-08-22.

Techniques for improving the ability of an invitee to fully participate in a meeting via a data processing system

Номер патента: US20170116579A1. Автор: Karthikeyan Ramamoorthy,Andrew J. Lavery,Nnaemeka I. Emejulu,Mario A. Maldari. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-04-27.

Architecture for general purpose programmable semiconductor processing system and methods therefor

Номер патента: EP1642341A2. Автор: Roger Patrick,Vincent Wong,Chung Ho Huang. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2006-04-05.

Architecture for general purpose programmable semiconductor processing system and methods therefor

Номер патента: WO2005001893A3. Автор: Roger Patrick,Vincent Wong,Chung Ho Huang. Владелец: Chung Ho Huang. Дата публикации: 2006-07-27.

Methods for the optimization of substrate etching in a plasma processing system

Номер патента: WO2005091974A9. Автор: Jisoo Kim,Bi-Ming Yen,Peter K Loewenhardt,Binet Worsham. Владелец: Binet Worsham. Дата публикации: 2005-11-24.

Methods for the optimization of substrate etching in a plasma processing system

Номер патента: WO2005091974A2. Автор: Jisoo Kim,Peter K. Loewenhardt,Bi-Ming Yen,Binet Worsham. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2005-10-06.

Modifying work function of a metal film with a plasma process

Номер патента: US20180218911A1. Автор: WEI Liu,Johanes S. Swenberg,Houda Graoui,Steven C. H. Hung. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-08-02.

Methods and apparatus for integrating and controlling a plasma processing system

Номер патента: US20120138085A1. Автор: Chung-Ho Huang,Cheng-Chieh Lin. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-06-07.

Plasma processing method

Номер патента: US20240321583A1. Автор: Miyako Matsui,Kenichi Kuwahara. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Method of outgassing a mask material deposited over a workpiece in a process tool

Номер патента: US20160049313A1. Автор: AJAY Kumar,James S. Papanu,Martin S. Wohlert,Wei-Sheng Lei,Brad Eaton,Prabhat Kumar. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2016-02-18.

Method of outgassing a mask material deposited over a workpiece in a process tool

Номер патента: US09412619B2. Автор: AJAY Kumar,James S. Papanu,Martin S. Wohlert,Wei-Sheng Lei,Brad Eaton,Prabhat Kumar. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-08-09.

Method of generating and using a plasma processing control program

Номер патента: EP1877878A1. Автор: Andrew Leonard Goodyear,Philip Douglas Rossbrook. Владелец: Oxford Instruments Plasma Technology Ltd. Дата публикации: 2008-01-16.

Plasma confinement ring assembly for plasma processing chambers

Номер патента: WO2012039744A3. Автор: Travis R. Taylor,Anthony de la Llera,David Carman,Harmeet Singh,Saurabh J. Ullal. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2012-08-23.

Plasma confinement ring assembly for plasma processing chambers

Номер патента: SG188600A1. Автор: David Carman,Harmeet Singh,La Llera Anthony De,Travis R Taylor,Saurabh J Ullal. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2013-04-30.

Plasma confinement ring assembly for plasma processing chambers

Номер патента: WO2012039744A2. Автор: Travis R. Taylor,Anthony de la Llera,David Carman,Harmeet Singh,Saurabh J. Ullal. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2012-03-29.

Method of adsorbing target object on mounting table and plasma processing apparatus

Номер патента: US09953854B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Akihito FUSHIMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

High selective ratio and high and uniform plasma processing method and system

Номер патента: US20030183599A1. Автор: Toshio Hayashi,Masashi Kikuchi,Hitoshi Ikeda,Kiyoshi Kuwahara,Takaei Sasaki,Noriyuki Harashima. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-10-02.

High selective ratio and high and uniform plasma processing method and system

Номер патента: US20060124245A1. Автор: Toshio Hayashi,Masashi Kikuchi,Hitoshi Ikeda,Kiyoshi Kuwahara,Takaei Sasaki,Noriyuki Harashima. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-06-15.

Image-based digital control of plasma processing

Номер патента: US12027426B2. Автор: Vladimir Nagorny. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-02.

Plasma processing method and apparatus

Номер патента: US20050037629A1. Автор: Ichiro Nakayama,Yoshihiro Yanagi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-02-17.

Method for fabricating electronic component module using a plasma processing method

Номер патента: MY137638A. Автор: Masaru Nonomura,Tatsuhiro Mizukami. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2009-02-27.

Methods for etching metal films using plasma processing

Номер патента: US12057322B2. Автор: Qingyun Yang,Nathan P. Marchack,Devi Koty,Sebastian Ulrich Engelmann,Nicholas Joy. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Plasma processing method

Номер патента: US20020173161A1. Автор: Kiyoshi Arita,Tetsuhiro Iwai. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2002-11-21.

Methods and apparatus for detecting pattern dependent charging on a workpiece in a plasma processing system

Номер патента: US5869877A. Автор: Roger Patrick,Phillip Jones. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 1999-02-09.

Plasma processing method

Номер патента: US09506154B2. Автор: Takahiro Abe,Takeshi Shimada,Masato Ishimaru,Makoto Suyama. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-11-29.

Radical deactivation component, plasma processing apparatus using the same and radical deactivation method

Номер патента: US20190362939A1. Автор: Koji Yamagishi,Shinji Maekawa,Shota SASAKI,Daisuke Yoshikoshi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-11-28.

Plasma processing apparatus and lamination system for secondary battery comprising same

Номер патента: EP4428972A1. Автор: Sang-kyun Lee,Yong-Tae Lee,Hun-Hyeong Lee,Man-Woong HAN. Владелец: LG Energy Solution Ltd. Дата публикации: 2024-09-11.

De-chuck control method and control device for plasma processing apparatus

Номер патента: US09466519B2. Автор: Atsushi Kawabata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-10-11.

Atmospheric pressure plasma processing of polymeric materials utilizing close proximity indirect exposure

Номер патента: US09447205B2. Автор: Felix L. Paulauskas,Truman Bonds. Владелец: REMAXCO TECHNOLOGIES. Дата публикации: 2016-09-20.

Plasma processing method

Номер патента: US6723651B2. Автор: Kiyoshi Arita,Shoji Sakemi,Tetsuhiro Iwai. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2004-04-20.

Atmospheric pressure plasma processing of polymeric materials utilizing close proximity indirect exposure

Номер патента: US20140142255A1. Автор: Felix L. Paulauskas,Truman Bonds. Владелец: UT Battelle LLC. Дата публикации: 2014-05-22.

Oxide formation in a plasma process

Номер патента: US09406574B1. Автор: Krishnaswamy Ramkumar,Jeong Soo Byun. Владелец: Cypress Semiconductor Corp. Дата публикации: 2016-08-02.

Plasma oxidizing method, plasma processing apparatus, and storage medium

Номер патента: US20100015815A1. Автор: Takashi Kobayashi,Nobuhiko Yamamoto,Junichi Kitagawa,Yoshiro Kabe,Hikaru Adachi,Toshihiko Shiozawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2010-01-21.

Systems and methods for calibrating end effector alignment in a plasma processing system

Номер патента: US8751047B2. Автор: Christine Allen-Blanchette,Matt Rodnick. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2014-06-10.

Methods for minimizing mask undercuts and notches for plasma processing system

Номер патента: WO2008005630A2. Автор: Alferd Cofer,Tamarak Pandhumsoporn,William Bosch. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2008-01-10.

De-chuck control method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09966291B2. Автор: Junichi Sasaki,Masaaki Miyagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Plasma processing method

Номер патента: US9018075B2. Автор: Toru Ito,Hayato Watanabe,Hiroaki Ishimura,Akito Kouchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-04-28.

Plasma device for depositing functional composite film comprising crystallized particles embedded in a matrix and method of deposition thereof

Номер патента: EP3655563A1. Автор: Nicolas Boscher,Patrick Choquet,Simon Bulou,Jean-Baptiste CHEMIN. Владелец: Luxembourg Institute of Science and Technology LIST. Дата публикации: 2020-05-27.

Plasma processing device

Номер патента: US4978412A. Автор: Makoto Aoki,Izumi Arai,Yoshifumi Tahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 1990-12-18.

Manufacturing method of using hydrogen plasma processing on a semiconductor wafer

Номер патента: US9559141B2. Автор: Kotaro Horikoshi,Tatsunori Murata. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2017-01-31.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US5759334A. Автор: Kenichi Kojima,Tokihiro Ayabe,Takehiko Senoo,Yukio Soejima,Kishichi Haga. Владелец: Plasma System Corp. Дата публикации: 1998-06-02.

Methods and apparatus for detecting the confinement state of plasma in a plasma processing system

Номер патента: WO2012061711A1. Автор: Mark I. Wagner,Iqbal A. Shareef,Robert McAndrew,Ronda K. Nixon,Tony Ray Kroeker. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2012-05-10.

Metal and metal silicide nitridization in a high density, low pressure plasma reactor

Номер патента: EP1016130A1. Автор: Ching-Hwa Chen,Yun-Yen Jack Yang,Yea-Jer Arthur Chen. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2000-07-05.

Processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20190378730A1. Автор: Toru Hisamatsu,Masahiro Tabata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-12-12.

Plasma processing method

Номер патента: US9653321B2. Автор: Shunichi Mikami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-16.

Plasma activated fluid processing system

Номер патента: US20220159821A1. Автор: Pieter Polo VAN OOIJ,Frank Jozef Cornelis Marie Beckers. Владелец: Vitalfluid BV. Дата публикации: 2022-05-19.

Plasma activated fluid processing system

Номер патента: CA3136590A1. Автор: Pieter Polo VAN OOIJ,Frank Jozef Cornelis Marie Beckers. Владелец: Vitalfluid BV. Дата публикации: 2020-10-15.

Plasma activated fluid processing system

Номер патента: AU2020273106A1. Автор: Pieter Polo VAN OOIJ,Frank Jozef Cornelis Marie Beckers. Владелец: Vitalfluid BV. Дата публикации: 2021-11-04.

Plasma activated fluid processing system

Номер патента: EP3954181A1. Автор: Pieter Polo VAN OOIJ,Frank Jozef Cornelis Marie Beckers. Владелец: Vitalfluid BV. Дата публикации: 2022-02-16.

Plasma activated fluid processing system

Номер патента: WO2020209723A1. Автор: Pieter Polo VAN OOIJ,Frank Jozef Cornelis Marie Beckers. Владелец: VitalFluid B.V.. Дата публикации: 2020-10-15.

Processing method and processing system for processing measurements acquired in a power grid, and system comprising a power grid

Номер патента: EP4429059A1. Автор: Mats Larsson,Kai Yuan,Dmitry SHCHETININ. Владелец: Hitachi Energy Ltd. Дата публикации: 2024-09-11.

Processing method and processing system for processing measurements acquired in a power grid, and system comprising a power grid

Номер патента: WO2024184284A1. Автор: Mats Larsson,Kai Yuan,Dmitry SHCHETININ. Владелец: Hitachi Energy Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Caching item information in a cloud-based point of sale system

Номер патента: US09916568B2. Автор: Andrew D. Vodopia. Владелец: Toshiba Global Commerce Solutions Holdings Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Information processing system and information processing method

Номер патента: US12087090B2. Автор: Masahiro Terada,Kenji Makino,Daisuke Hayashi,Shunta Ego. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-09-10.

Data processing system

Номер патента: US20170041512A1. Автор: Takayuki Suzuki. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2017-02-09.

Processing method and processing system for processing measurements acquired in a power grid, and system comprising a power grid

Номер патента: EP4429060A1. Автор: Mats Larsson,Kai Yuan,Dmitry SHCHETININ. Владелец: Hitachi Energy Ltd. Дата публикации: 2024-09-11.

Processing method and processing system for processing measurements acquired in a power grid, and system comprising a power grid

Номер патента: WO2024184285A1. Автор: Mats Larsson,Kai Yuan,Dmitry SHCHETININ. Владелец: Hitachi Energy Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Data processing system

Номер патента: US09742966B2. Автор: Takayuki Suzuki. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Graphics processing system

Номер патента: US12033234B2. Автор: Daren Croxford,Guy Larri,Julian Katenbrink. Владелец: ARM LTD. Дата публикации: 2024-07-09.

Image processing system, image processing method, and computer-readable medium

Номер патента: US09420175B2. Автор: Eiji Furukawa. Владелец: Olympus Corp. Дата публикации: 2016-08-16.

Dynamically balancing inbound traffic in a multi-network interface-enabled processing system

Номер патента: CA3171984A1. Автор: Michael Jon Fox,Grant Mericle,Benjamin Thomas Rau. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2021-10-14.

Dynamically balancing inbound traffic in a multi-network interface-enabled processing system

Номер патента: AU2021251464A1. Автор: Michael Jon Fox,Grant Mericle,Benjamin Thomas Rau. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2022-09-22.

Apparatuses and methods for reducing latency in a conveyance of data in networks

Номер патента: US20230030657A1. Автор: Thai Lam,Peter Chou,Jeffrey Han,Peni-Taito Payne. Владелец: AT&T INTELLECTUAL PROPERTY I LP. Дата публикации: 2023-02-02.

Methods and systems for selecting drive routes for testing RF coverage in a radiotelephone system

Номер патента: US6052583A. Автор: Charles Bernardin. Владелец: Northern Telecom Ltd. Дата публикации: 2000-04-18.

Information processing system, information processing method, and program

Номер патента: US20240077941A1. Автор: Shunichi Homma. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2024-03-07.

Dynamically balancing inbound traffic in a multi-network interface-enabled processing system

Номер патента: GB202216530D0. Автор: . Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2022-12-21.

Dynamically balancing inbound traffic in a multi-network interface-enabled processing system

Номер патента: IL295890A. Автор: MERICLE Grant,Jon Fox Michael,Thomas Rau Benjamin. Владелец: Thomas Rau Benjamin. Дата публикации: 2022-10-01.

Image processing system and method

Номер патента: US4894727A. Автор: Tomio Sasaki. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 1990-01-16.

Data processing system

Номер патента: US20120301121A1. Автор: Takayuki Suzuki. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2012-11-29.

Data processing system

Номер патента: US8923682B2. Автор: Takayuki Suzuki. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2014-12-30.

Information processing system and information processing method

Номер патента: US20200076908A1. Автор: Yasushi Miyajima. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2020-03-05.

Information processing system and information processing method

Номер патента: US10965764B2. Автор: Yasushi Miyajima. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2021-03-30.

Virtual reality resource scheduling of processes in a cloud-based virtual reality processing system

Номер патента: US11051081B2. Автор: Arthur Van Hoff,Anatoly D. ADAMOV,Christopher P. REDMANN,Aleksandr O. Ryzhov. Владелец: VERIZON PATENT AND LICENSING INC. Дата публикации: 2021-06-29.

Dynamic balancing of inbound traffic in multi-network interface-capable processing systems

Номер патента: KR20220147620A. Автор: 그랜트 메리클,마이클 존 폭스,벤자민 토마스 라우. Владелец: 인터내셔널 비지네스 머신즈 코포레이션. Дата публикации: 2022-11-03.

Dynamically balancing inbound traffic in a multi-network interface-enabled processing system

Номер патента: AU2021251464B2. Автор: Michael Jon Fox,Grant Mericle,Benjamin Thomas Rau. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2024-01-11.

VIRTUAL REALITY RESOURCE SCHEDULING OF PROCESSES IN A CLOUD-BASED VIRTUAL REALITY PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20200014987A1. Автор: van Hoff Arthur,ADAMOV Anatoly D.,REDMANN Christopher P.,RYZHOV Aleksandr O.. Владелец: . Дата публикации: 2020-01-09.

INSTANTANEOUS POWER ESTIMATION IN A CONTINUOUS TIME DIGITAL SIGNAL PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20210257908A1. Автор: Cathelin Philippe,Kaiser Andreas,GONZALEZ SANTOS Angel de Dios,FRAPPE Antoine,LARRAS Benoit. Владелец: . Дата публикации: 2021-08-19.

DYNAMICALLY BALANCING INBOUND TRAFFIC IN A MULTI-NETWORK INTERFACE-ENABLED PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20210320868A1. Автор: MERICLE Grant,Fox Michael Jon,Rau Benjamin Thomas. Владелец: . Дата публикации: 2021-10-14.

VIRTUAL REALITY RESOURCE SCHEDULING OF PROCESSES IN A CLOUD-BASED VIRTUAL REALITY PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20170330365A1. Автор: van Hoff Arthur,ADAMOV Anatoly D.,REDMANN Christopher P.,RYZHOV Aleksandr O.. Владелец: JAUNT INC.. Дата публикации: 2017-11-16.

Electrostatic acoustic transducer utilized in a hearing aid or audio processing system

Номер патента: US20180367921A1. Автор: Vladimir Bulovic,Jeffrey H. Lang,Apoorva Murarka. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2018-12-20.

METHOD FOR AUTOMATIC TIME SETTING OF STATIONS IN A MULTIPLEX TRANSMISSION AND DATA PROCESSING SYSTEM

Номер патента: FR2526250B1. Автор: Jean-Pierre Arragon. Владелец: Laboratoires dElectronique et de Physique Appliquee. Дата публикации: 1988-05-13.

METHOD FOR AUTOMATICALLY TIMING STATIONS IN A MULTIPLEX TRANSMISSION AND DATA PROCESSING SYSTEM

Номер патента: FR2526250A1. Автор: Jean-Pierre Arragon. Владелец: Laboratoires dElectronique et de Physique Appliquee. Дата публикации: 1983-11-04.

Method of processing luminance levels in a composite image and image processing system applying this method

Номер патента: EP0650299B1. Автор: Pierre Lelong,Raoul Florent. Владелец: Laboratoires dElectronique Philips SAS. Дата публикации: 1998-07-22.

Method for managing remotely accessible resources in a multi-node distributed data processing system

Номер патента: JP4721195B2. Автор: ミュング・エム・ビー,ラメンドラ・ケイ・サフー. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2011-07-13.

Remote power control in a multi-node, partitioned data processing system via network interface cards

Номер патента: US20040268111A1. Автор: David Rhoades,Richard Dayan,Gregory Pruett. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2004-12-30.

Remote power control in a multi-node, partitioned data processing system via network interface cards

Номер патента: KR100554824B1. Автор: 다얀리차드알란,프루엣그레고리브라이언,로즈데이비드비. Владелец: 인터내셔널 비지네스 머신즈 코포레이션. Дата публикации: 2006-02-22.

Directory management in a network for distributed data processing systems.

Номер патента: DE3853727D1. Автор: Donavon William Johnson,Todd Allen Smith,Amal Ahmed Shaheen-Gouda. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1995-06-14.

Method of and apparatus for dynamically and adaptively controlling system control parameters in a digital image capture and processing system

Номер патента: WO2007124116A3. Автор: Anatoly Kotlarsky,Xiaoxun Zhu,Michael Veksland,Ka Man Au,Timothy Good,Mark Meagher,Richard Hou,Daniel Hu. Владелец: Daniel Hu. Дата публикации: 2008-11-27.

Data deduplication in a travel and transportation data processing system

Номер патента: US20200081997A1. Автор: Sol Rashidi,Arya Eskamani,Mallori Harrell,Carlos Merida. Владелец: Royal Caribbean Cruises Ltd. Дата публикации: 2020-03-12.

Method and system in a distributed shared-memory data processing system for determining utilization of a shared-memory included within nodes by a designated application

Номер патента: IL131032A. Автор: . Владелец: Ibm. Дата публикации: 2004-01-04.

Simplified method to generate BTAGs in a decode unit of a processing system

Номер патента: US6304959B1. Автор: John Edward Derrick,Brian R. Konigsburg,David Stephen Levitan. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2001-10-16.

Conveyor oven usable as pre-bake oven in a print plate imaging and processing system and method of using same

Номер патента: US5964044A. Автор: David A. Strand,Duane H. Lauersdorf. Владелец: Wisconsin Oven Corp. Дата публикации: 1999-10-12.

Method and means for storing and accessing information in a shared access multiprogrammed data processing system

Номер патента: US4300192A. Автор: John F. Couleur,Robert F. Montee. Владелец: Honeywell Information Systems Inc. Дата публикации: 1981-11-10.

Operating plasma arc processing systems at reduced current and gas pressure levels and related systems and methods

Номер патента: WO2018039580A4. Автор: Zheng Duan,Shreyansh Patel,Junsong Mao,Qinghua Liu,Richard Pavlik,Bruce ALTOBELLI. Владелец: Hypertherm, Inc.. Дата публикации: 2018-05-03.

Operating plasma arc processing systems at reduced current and gas pressure levels and related systems and methods

Номер патента: WO2018039580A1. Автор: Zheng Duan,Shreyansh Patel,Junsong Mao,Qinghua Liu,Richard Pavlik,Bruce ALTOBELLI. Владелец: Hypertherm, Inc.. Дата публикации: 2018-03-01.

Operating plasma arc processing systems at reduced current and gas pressure levels and related systems and methods

Номер патента: EP3504023A1. Автор: Zheng Duan,Shreyansh Patel,Junsong Mao,Qinghua Liu,Richard Pavlik,Bruce ALTOBELLI. Владелец: Hypertherm Inc. Дата публикации: 2019-07-03.

Atmospheric Pressure Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20120291706A1. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Kiyoshi Yasutake,Hiroaki Kakiuchi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2012-11-22.

Plasma generating device, plasma processing device, and plasma etching device for seamless roller mold

Номер патента: US20240260165A1. Автор: Kohei Murakami,Tsuneharu TANAKA,Akira NAGAYASU. Владелец: Shinko Seiki Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Automatically sensing consumable components in thermal processing systems

Номер патента: US09737954B2. Автор: E. Michael Shipulski,Michael Hoffa,Nicholas A. Sanders. Владелец: Hypertherm Inc. Дата публикации: 2017-08-22.

Processing system and processing method for blocked microreactor

Номер патента: US11951450B2. Автор: Ziyi Zhang,Lichen RUI,Liangliang LIN. Владелец: JIANGNAN UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-04-09.

Processing system and processing method for blocked microreactor

Номер патента: US20230134983A1. Автор: Ziyi Zhang,Lichen RUI,Liangliang LIN. Владелец: JIANGNAN UNIVERSITY. Дата публикации: 2023-05-04.

Apparatus for plasma-processing flexible printed circuit boards

Номер патента: US20080308042A1. Автор: Chih-Yi Tu,Ze Long,Szu-Min Huang. Владелец: Foxconn Advanced Technology Inc. Дата публикации: 2008-12-18.

Systems and methods for stabilizing plasma gas flow in a plasma arc torch

Номер патента: US09820371B1. Автор: Adam CHEVALIER. Владелец: Hypertherm Inc. Дата публикации: 2017-11-14.

Systems, methods, and device for pyrolysis of methane in a microwave plasma for hydrogen and structured carbon powder production

Номер патента: US20240199427A1. Автор: Jared Majcher. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2024-06-20.

Improved process and apparatus for reducing electrode wear in a plasma arc torch

Номер патента: WO1991016165A1. Автор: Lifeng Luo,Nicholas A. Sanders,Richard W. Couch, Jr.. Владелец: Hypertherm, Inc.. Дата публикации: 1991-10-31.

Consumables for a plasma arc torch for bevel cutting

Номер патента: US09497845B2. Автор: Carey Chen,Peter Twarog. Владелец: Hypertherm Inc. Дата публикации: 2016-11-15.

Systems and methods for determining characteristics of a workpiece in a plasma arc processing system

Номер патента: US11890693B2. Автор: John Peters,Brett A. Hansen,Norman LeBlanc,Jeff Ortakales,Mirko Milaneschi,Dana Labrecque,Richard Glen Robinson,Georgios E. Gkatzimas. Владелец: Hypertherm Inc. Дата публикации: 2024-02-06.

Process for manufacturing a plasma source, and plasma source obtained from this manufacturing process

Номер патента: WO2012101472A1. Автор: Peter Choi. Владелец: Nano-Uv. Дата публикации: 2012-08-02.

Cooling plate assembly for plasma windows positioned in a beam accelerator system

Номер патента: WO2024064345A3. Автор: Tye Gribb,Preston Barrows. Владелец: Shine Technologies, Llc. Дата публикации: 2024-07-18.

Plasma filter facility, electrode facility and method for operating a plasma filter facility

Номер патента: US20240173667A1. Автор: Lambert Feher,Martin Seifert,Volker MODEL,Philipp Hoecht,Florian Meise. Владелец: Siemens Healthcare GmbH. Дата публикации: 2024-05-30.

Method for pyrolysis of methane in a microwave plasma for hydrogen and structured carbon powder production

Номер патента: WO2024129261A1. Автор: Jared Majcher. Владелец: 6K Inc.. Дата публикации: 2024-06-20.

Connector in a plasma arc torch system

Номер патента: US12114413B2. Автор: Jing Wu,Jesse A. Roberts. Владелец: Hypertherm Inc. Дата публикации: 2024-10-08.

Failure event detection in a plasma arc torch

Номер патента: EP2594119A1. Автор: Zhang Yu,Zheng Duan,Qinghua Liu. Владелец: Hypertherm Inc. Дата публикации: 2013-05-22.

Chemical heat augmentation of a plasma process

Номер патента: CA2811707A1. Автор: James Charles Juranitch,Thomas Robert Juranitch. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-03-29.

Managing long-lived resource locks in a multi-system mail infrastructure

Номер патента: US20060020911A1. Автор: Peter Lyons. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2006-01-26.

Managing long-lived resource locks in a multi-system mail infrastructure

Номер патента: US7966302B2. Автор: Peter K. Lyons. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2011-06-21.

Managing multiple systems in a computer device

Номер патента: US09529627B2. Автор: Raphael Collado,Shivachitta S. Walishetty,Ling Yu Cheng. Владелец: STMicroelectronics Grenoble 2 SAS. Дата публикации: 2016-12-27.

Systolic array and processing system

Номер патента: US20200285605A1. Автор: Ji-Hoon NAM. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2020-09-10.

Information processing system, information processing method, and program

Номер патента: US09943284B2. Автор: Toshikazu Tamura,Akiya Nakayama. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-04-17.

Computer architecture for offline node remapping in a cloud-based correlithm object processing system

Номер патента: US20190332716A1. Автор: Patrick N. Lawrence. Владелец: Bank of America Corp. Дата публикации: 2019-10-31.

System and method for using cached data at a local node after re-opening a file at a remote node in a distributed networking environment

Номер патента: US4897781A. Автор: Grover H. Neuman,Amal A. Shaheen-Gouda,Todd A. Smith,Albert Chang. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1990-01-30.

Information processing system, information processing method, program, and cluster system

Номер патента: US20240160467A1. Автор: Kenji Ogawa,Tomoya Fujita. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2024-05-16.

Cache memory store in a processor of a data processing system

Номер патента: CA1023056A. Автор: Ronald E. Lange,Phillip C. Ishmael,Matthew A. Diethelm. Владелец: Honeywell Information Systems Inc. Дата публикации: 1977-12-20.

Self testing data processing system with processor independent test program

Номер патента: US4633466A. Автор: Keith E. Diefendorff,Gerald E. Laws. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1986-12-30.

Information processing system, information processing apparatus, storage medium, and game processing method

Номер патента: US20230173386A1. Автор: Yuji Ohashi,Shingo Matsushita,Kouhei MAEDA. Владелец: Nintendo Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-08.

Managing multiple systems in a computer device

Номер патента: US20170069298A1. Автор: Raphael Collado,Shivachitta S. Walishetty,Ling Yu Cheng. Владелец: STMicroelectronics Grenoble 2 SAS. Дата публикации: 2017-03-09.

Data processing system for hub and spoke financial services configuration

Номер патента: US5193056A. Автор: R. Todd Boes. Владелец: Signature Financial Group Inc. Дата публикации: 1993-03-09.

Triplicated processing systems

Номер патента: GB1419673A. Автор: . Владелец: Marconi Co Ltd. Дата публикации: 1975-12-31.

Information processing system and information processing method

Номер патента: US20240126369A1. Автор: Nao Fujita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-04-18.

Transformed Geometry Data Cache for Graphics Processing Systems

Номер патента: US20200202484A1. Автор: Xile Yang,John W. Howson,Robert Brigg. Владелец: Imagination Technologies Ltd. Дата публикации: 2020-06-25.

Transformed Geometry Data Cache for Graphics Processing Systems

Номер патента: US20210383598A1. Автор: Xile Yang,John W. Howson,Robert Brigg. Владелец: Imagination Technologies Ltd. Дата публикации: 2021-12-09.

Shift register-based XOR accumulator engine for generating parity in a data processing system

Номер патента: US5896406A. Автор: Randy M. Arnott,Stephen W. Berry. Владелец: Adaptec Inc. Дата публикации: 1999-04-20.

Method and graphics processing system for rendering one or more fragments having shader-dependent properties

Номер патента: EP4231139A1. Автор: Xile Yang,Christopher Plant. Владелец: Imagination Technologies Ltd. Дата публикации: 2023-08-23.

Information processing system, recording medium, and information processing method

Номер патента: US20200388142A1. Автор: Yoshiki Takeoka,Manabu Kii,Yasuhide Hosoda. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2020-12-10.

Information processing system, recording medium, and information processing method

Номер патента: US10796556B2. Автор: Yoshiki Takeoka,Manabu Kii,Yasuhide Hosoda. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2020-10-06.

Information processing system, information processing device, information processing method, and storage medium for calculating degree of happiness in an area

Номер патента: US11138282B2. Автор: Masamichi Asukai. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2021-10-05.

Storage medium, information processing system, and game processing method

Номер патента: US20230390643A1. Автор: Yuya Sato,Corey Michael BUNNELL. Владелец: Nintendo Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Transformed geometry data cache for graphics processing systems

Номер патента: US11915363B2. Автор: Xile Yang,John W. Howson,Robert Brigg. Владелец: Imagination Technologies Ltd. Дата публикации: 2024-02-27.

Transformed Geometry Data Cache for Graphics Processing Systems

Номер патента: US20230298262A1. Автор: Xile Yang,John W. Howson,Robert Brigg. Владелец: Imagination Technologies Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Database identifier generation in transaction processing systems

Номер патента: US20190087451A1. Автор: Liam S. Harpur,Martin A. Flint,Peter McGrath,Sean K. Dunne. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2019-03-21.

Method and system in a distributed shared-memory data processing system for determining utilization of a shared-memory included within nodes by a designated application

Номер патента: IL131032A0. Автор: . Владелец: Ibm. Дата публикации: 2001-01-28.

Method and system in a distributed shared-memory data processing system for determining utilization of shared-memory included within nodes by a designated application

Номер патента: IL130025A0. Автор: . Владелец: Ibm. Дата публикации: 2000-02-29.

Method and system for energy management in a simultaneous multi-threaded (SMT) processing system including per-thread device usage monitoring

Номер патента: US7197652B2. Автор: Thomas Walter Keller, Jr.,Eric Van Hensbergen. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2007-03-27.

A method of storing data in a memory of a data processing system

Номер патента: EP0061804B1. Автор: John Bicknell. Владелец: Philips Electronics UK Ltd. Дата публикации: 1987-10-14.

A SEARCH CONTROL DEVICE IN A PROCESSOR OF A DATA PROCESSING SYSTEM.

Номер патента: ES518824A0. Автор: . Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1984-02-01.

TECHNIQUES FOR IMPROVING THE ABILITY OF AN INVITEE TO FULLY PARTICIPATE IN A MEETING VIA A DATA PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20170116579A1. Автор: Emejulu Nnaemeka I.,Lavery Andrew J.,Maldari Mario A.,RAMAMOORTHY KARTHIKEYAN. Владелец: . Дата публикации: 2017-04-27.

PARITY CONTROL DEVICE TO DETECT WORD LINES FAILURES IN A MEMORY OF A DATA PROCESSING SYSTEM

Номер патента: FR2374690A1. Автор: Frederick J Aichelmann Jr,Nino M Dipilato,Thomas P Fehn,George J Rudy. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1978-07-13.

DATA DEDUPLICATION IN A TRAVEL AND TRANSPORTATION DATA PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20200081997A1. Автор: Rashidi Sol,Eskamani Arya,Harrell Mallori,Merida Carlos. Владелец: . Дата публикации: 2020-03-12.

FLOW CELL FOR USE IN A FLUID MANAGEMENT AND/OR PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20210325212A1. Автор: LAMPORT Kevin A.,KELLY Natasha J.. Владелец: . Дата публикации: 2021-10-21.

COMPUTER ARCHITECTURE FOR ONLINE NODE REMAPPING IN A CLOUD-BASED CORRELITHM OBJECT PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20190332715A1. Автор: Lawrence Patrick N.. Владелец: . Дата публикации: 2019-10-31.

COMPUTER ARCHITECTURE FOR OFFLINE NODE REMAPPING IN A CLOUD-BASED CORRELITHM OBJECT PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20190332716A1. Автор: Lawrence Patrick N.. Владелец: . Дата публикации: 2019-10-31.

COMPUTER ARCHITECTURE FOR COMMUNICATIONS IN A CLOUD-BASED CORRELITHM OBJECT PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20190332887A1. Автор: Lawrence Patrick N.. Владелец: . Дата публикации: 2019-10-31.

Method of detection and resolution thread-combined-deadlock in a thread pool based transaction processing system

Номер патента: KR100319763B1. Автор: 김원영,최완. Владелец: 오길록. Дата публикации: 2002-01-05.

DEVICE FOR REDUCING THE ACCESS TIME TO INFORMATION CONTAINED IN A MEMORY OF AN INFORMATION PROCESSING SYSTEM

Номер патента: FR2443723A1. Автор: Paul Girard. Владелец: Bull SA. Дата публикации: 1980-07-04.

Method and apparatus for processing task in a multi-core digital signal processing system

Номер патента: WO2017070900A1. Автор: 李海龙,周卫荣,范冰. Владелец: 华为技术有限公司. Дата публикации: 2017-05-04.

Computer architecture for online node remapping in a cloud-based correlithm object processing system

Номер патента: US10599685B2. Автор: Patrick N. Lawrence. Владелец: Bank of America Corp. Дата публикации: 2020-03-24.

Minimizing corrosion in a methanol-to-olefin effluent processing system

Номер патента: US7208648B2. Автор: David R. Lumgair, Jr.,Jeffrey A. Kabin. Владелец: ExxonMobil Chemical Patents Inc. Дата публикации: 2007-04-24.

Transparent hypervisor pinning of critical memory areas in a shared memory partition data processing system

Номер патента: US8127086B2. Автор: David A. Larson,Naresh Nayar,Stuart Z. Jacobs,Wade B. Ouren. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2012-02-28.

Dynamic control of partition memory affinity in a shared memory partition data processing system

Номер патента: US8312230B2. Автор: David A. Larson,Stuart Z. Jacobs,Wade B. Ouren,Kenneth C. Vossen,Edward C. Prosser. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2012-11-13.

Flow cell for use in a fluid management and/or processing system

Номер патента: SG10202103456RA. Автор: Kevin Ashley LAMPORT,Natasha Jayne KELLY. Владелец: Pall Corp. Дата публикации: 2021-11-29.

Plasma processing system and method

Номер патента: WO2004048942A1. Автор: Andrej S. Mitrovic. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2004-06-10.

Method for reducing the amount of perfluorocompound gas contained in exhaust emissions from plasma processing

Номер патента: EP1124622A1. Автор: Calvin Todd Gabriel. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2001-08-22.

Spatially resolved optical emission spectroscopy (OES) in plasma processing

Номер патента: US09970818B2. Автор: Zheng Yan,Yan Chen,Hanyou Chu,Junwei Bao,Holger Tuitje,Ching-Ling Meng,Mihail Mihaylov,Haixing Zou. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

Microwave plasma processing of spheroidized copper or other metallic powders

Номер патента: CA3212927A1. Автор: Sunil Bhalchandra Badwe. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2022-10-06.

Microwave plasma processing of spheroidized copper or other metallic powders

Номер патента: AU2022252181A1. Автор: Sunil Bhalchandra Badwe. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2023-10-05.

Microwave plasma processing of spheroidized copper or other metallic powders

Номер патента: WO2022212192A1. Автор: Sunil Bhalchandra Badwe. Владелец: 6K Inc.. Дата публикации: 2022-10-06.

Plasma Processing Apparatus and Method for Venting the Same to Atmosphere

Номер патента: US20090183683A1. Автор: Kenji Maeda,Hiroyuki Kobayashi,Kenetsu Yokogawa,Masaru Izawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2009-07-23.

Method for plasma processing of metal products

Номер патента: RU2754915C1. Автор: Юрий Дмитриевич Щицын,Владислав Юрьевич Щицын,Сергей Дмитриевич Неулыбин,Роман Германович Никулин. Владелец: федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Пермский национальный исследовательский политехнический университет". Дата публикации: 2021-09-08.

Plasma processing method and apparatus

Номер патента: EP1282908A2. Автор: Michael Lee Fraim,Rick B. Spielman,Robert R. Schiewe. Владелец: Essox Research and Development Inc. Дата публикации: 2003-02-12.

Plasma processing method and apparatus

Номер патента: CA2409747A1. Автор: Michael Lee Fraim,Rick B. Spielman,Robert R. Schiewe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-11-15.

Method of plasmapheresis in a single-needle extracorporeal circuit for animals, including with low body weight, and the device for its implementation

Номер патента: RU2651073C2. Автор: Алексей Юрьевич Новосельцев. Владелец: Алексей Юрьевич Новосельцев. Дата публикации: 2018-04-18.

Plasma processing system component analysis software and methods and systems for creating the same

Номер патента: WO2008019256A3. Автор: Gean Hsu,Theresa Moriguchi. Владелец: Theresa Moriguchi. Дата публикации: 2008-11-06.

Plasma processing system component analysis software and methods and systems for creating the same

Номер патента: EP2049989A2. Автор: Gean Hsu,Theresa Moriguchi. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2009-04-22.

Plasma processing system component analysis software and methods and systems for creating the same

Номер патента: WO2008019256B1. Автор: Gean Hsu,Theresa Moriguchi. Владелец: Theresa Moriguchi. Дата публикации: 2008-12-18.

Plasma processing system component analysis software and methods and systems for creating the same

Номер патента: WO2008019256A2. Автор: Gean Hsu,Theresa Moriguchi. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2008-02-14.

Laser-supported plasma processing

Номер патента: US09849545B2. Автор: Andreas Popp,Tim Hesse,Tobias Kaiser. Владелец: Trumpf Werkzeugmaschinen SE and Co KG. Дата публикации: 2017-12-26.

Method for plasma-cutting a workpiece by means of a plasma-cutting system and pulsating current

Номер патента: US09731375B2. Автор: Volker KRINK,Gerhard Irrgang,Jens Friedel,Jens Ollmann. Владелец: Kjellberg Finsterwalde Plasma Und Maschinen GMBH. Дата публикации: 2017-08-15.

Systems and methods for integrated plasma processing of waste

Номер патента: US20120198847A1. Автор: Michael S. Smith,Louis J. Circeo,Robert C Martin, JR.,Kevin C. Caravati. Владелец: Applied Plasma Arc Tech LLC. Дата публикации: 2012-08-09.

Method for operation of a plasma torch in a chemical reactor

Номер патента: WO2022219342A1. Автор: Ate WIEKAMP. Владелец: HiiROC-X Developments Limited. Дата публикации: 2022-10-20.

Automotive coating surface enhancement using a plasma treatment technique

Номер патента: EP2349592A2. Автор: Donald H. Campbell,John E. Boisseau,Patrick J. Mormile,Paul Deskovitz. Владелец: BASF COATINGS GMBH. Дата публикации: 2011-08-03.

Automotive coating surface enhancement using a plasma treatment technique

Номер патента: WO2010048367A2. Автор: Donald H. Campbell,John E. Boisseau,Patrick J. Mormile,Paul Deskovitz. Владелец: BASF CORPORATION. Дата публикации: 2010-04-29.

Plasma doping in a plasma-based optical emission gas detector

Номер патента: EP4435393A2. Автор: Yves Gamache. Владелец: MÉCANIQUE ANALYTIQUE INC. Дата публикации: 2024-09-25.

Plasma processes for producing silanes and derivatives thereof

Номер патента: CA2733354A1. Автор: Richard M. Laine,Dean Richard Massey,Peter Young Peterson. Владелец: ELECTRODYNAMIC APPLICATIONS Inc. Дата публикации: 2010-02-11.

Microwave plasma processing of spheroidized copper or other metallic powders

Номер патента: EP4313447A1. Автор: Sunil Bhalchandra Badwe. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2024-02-07.

Blood processing systems which monitor optical densities

Номер патента: EP1229978A4. Автор: Richard I Brown,John T Foley,Timothy J Patno. Владелец: Baxter International Inc. Дата публикации: 2005-12-14.

Blood processing systems which monitor optical densities

Номер патента: AU1081001A. Автор: Richard I. Brown,John T Foley,Timothy J Patno. Владелец: Fenwal Inc. Дата публикации: 2001-04-30.

Blood processing systems which monitor optical densities

Номер патента: EP1229978A1. Автор: Richard I. Brown,Timothy J. Patno,John T. Foley. Владелец: Baxter International Inc. Дата публикации: 2002-08-14.

Blood processing systems which monitor optical densities

Номер патента: AU768997B2. Автор: Richard I. Brown,John T Foley,Timothy J Patno. Владелец: Baxter International Inc. Дата публикации: 2004-01-15.

Blood processing systems which monitor optical densities

Номер патента: WO2001028652A1. Автор: Richard I. Brown,Timothy J. Patno,John T. Foley. Владелец: BAXTER INTERNATIONAL INC.. Дата публикации: 2001-04-26.

Plasma display apparatus including an address electrode being electrically floated in a sustain period

Номер патента: US8253658B2. Автор: Yunkwon Jung,Sangyoon Soh,Mukhee Kim. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2012-08-28.

Method and apparatus for proportional valve actuation in a plasma cutter

Номер патента: US20130220980A1. Автор: David P. Marcusen,Brian J. Bornemann,Anthony V. Salsich,Nick William Buettner. Владелец: ILLINOIS TOOL WORKS INC. Дата публикации: 2013-08-29.

Method and apparatus for diagnosing status of parts in real time in plasma processing equipment

Номер патента: US09541514B2. Автор: Roger Patrick. Владелец: I Am Research Corp. Дата публикации: 2017-01-10.

Method and apparatus for monitoring plasma processing operations

Номер патента: US6132577A. Автор: Michael Lane Smith, Jr.,Joel O'Don Stevenson,Pamela Peardon Denise Ward. Владелец: Sandia Corp. Дата публикации: 2000-10-17.

Processing of waste using a plasma processing unit

Номер патента: WO2009156761A3. Автор: Leonid Rusnac. Владелец: Horizon Ventures Limited. Дата публикации: 2010-04-01.

Method and Structure for Ameliorating Side-Effects of Performing in Situ Fenestration Using a Plasma RF Catheter

Номер патента: US20090234348A1. Автор: Trevor Greenan,Walter Bruszewski. Владелец: Medtronic Vascular Inc. Дата публикации: 2009-09-17.

A method of forming a controllable cut by a plasma arc torch

Номер патента: WO2011109257A1. Автор: Joseph V. Warren,Robert L. Smallwood. Владелец: THE ESAB GROUP, INC.. Дата публикации: 2011-09-09.

A method of addressing a plasma display panel

Номер патента: WO2003009270A3. Автор: Velzen Jeroen Van. Владелец: Koninkl Philips Electronics Nv. Дата публикации: 2003-11-27.

MOVABLE GROUND RING FOR A PLASMA PROCESSING CHAMBER

Номер патента: US20120003836A1. Автор: . Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

CONSUMABLE ISOLATION RING FOR MOVABLE SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY OF A PLASMA PROCESSING CHAMBER

Номер патента: US20120000605A1. Автор: Dhindsa Rajinder,Kellogg Michael C.,Marakhtanov Alexei. Владелец: Lam Research Corporation.. Дата публикации: 2012-01-05.

C-SHAPED CONFINEMENT RING FOR A PLASMA PROCESSING CHAMBER

Номер патента: US20120000608A1. Автор: Dhindsa Rajinder,Kellogg Michael C.,Marakhtanov Alexei. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING SYSTEM AND STORAGE MEDIUM IN WHICH IMAGE PROCESSING PROGRAM IS STORED

Номер патента: US20120002936A1. Автор: TAKASUGI Atsushi. Владелец: OKI SEMICONDUCTOR CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and means for storing and accessing information in a shared access multiprogrammed data processing system

Номер патента: CA1022686A. Автор: John F. Couleur,Robert F. Montee. Владелец: Honeywell Information Systems Inc. Дата публикации: 1977-12-13.

METHODS AND APPARATUSES FOR CONTROLLING GAS FLOW CONDUCTANCE IN A CAPACITIVELY-COUPLED PLASMA PROCESSING CHAMBER

Номер патента: US20120028379A1. Автор: . Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2012-02-02.

SHOWERHEAD ELECTRODE ASSEMBLY IN A CAPACITIVELY COUPLED PLASMA PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20140087488A1. Автор: Dhindsa Rajinder,Nam Sang Ki,Bise Ryan. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2014-03-27.

TRANSPARENT HYPERVISOR PINNING OF CRITICAL MEMORY AREAS IN A SHARED MEMORY PARTITION DATA PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20120110273A1. Автор: Jacobs Stuart Z.,Larson David A.,Ouren Wade B.,NAYAR NARESH. Владелец: INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION. Дата публикации: 2012-05-03.

HYPERVISOR PAGE FAULT PROCESSING IN A SHARED MEMORY PARTITION DATA PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20120131260A1. Автор: Larson David A.,Vossen Kenneth C.,PROSSER Edward C.. Владелец: INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION. Дата публикации: 2012-05-24.

AUTOMATED PAGING DEVICE MANAGEMENT IN A SHARED MEMORY PARTITION DATA PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20120137103A1. Автор: . Владелец: INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION. Дата публикации: 2012-05-31.

DYNAMIC CONTROL OF PARTITION MEMORY AFFINITY IN A SHARED MEMORY PARTITION DATA PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20120311274A1. Автор: Jacobs Stuart Z.,Larson David A.,Ouren Wade B.,Vossen Kenneth C.,PROSSER Edward C.. Владелец: INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION. Дата публикации: 2012-12-06.

Method and apparatus for determining particle parameter and processor performance in a coal and/or mineral processing system

Номер патента: AU2003902667A0. Автор: . Владелец: BM Alliance Coal Operations Pty Ltd. Дата публикации: 2003-06-12.

SUBSTRATE STAGE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20120000612A1. Автор: Muraki Yusuke,ODAGIRI Masaya,FUJIHARA Jin. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND APPARATUS FOR RADIO FREQUENCY (RF) PLASMA PROCESSING

Номер патента: US20120000888A1. Автор: . Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20120000774A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Microwave Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20120000610A1. Автор: . Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE SUPPORT TABLE OF PLASMA PROCESSING DEVICE

Номер патента: US20120002345A1. Автор: . Владелец: MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

MASS FLOW CONTROL SYSTEM, PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND FLOW CONTROL METHOD

Номер патента: US20120000607A1. Автор: ETO Hideo,Ito Atsushi. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

A multi-electrode source assembly for plasma processing

Номер патента: WO2024226135A1. Автор: James Rogers,Rajinder Dhindsa,Linying CUI. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-10-31.

APPARATUS AND METHODS OF FORMING A CONDUCTIVE TRANSPARENT OXIDE FILM LAYER FOR USE IN A CADMIUM TELLURIDE BASED THIN FILM PHOTOVOLTAIC DEVICE

Номер патента: US20120003772A1. Автор: . Владелец: PRIMESTAR SOLAR, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS OF FORMING A CONDUCTIVE TRANSPARENT OXIDE FILM LAYER FOR USE IN A CADMIUM TELLURIDE BASED THIN FILM PHOTOVOLTAIC DEVICE

Номер патента: US20120003784A1. Автор: . Владелец: PRIMESTAR SOLAR, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and apparatus for plasma processing

Номер патента: CA2207273A1. Автор: Jesse N. Matossian,Ronghua R. Wei,Peter Mikula,Deborah Clark. Владелец: Individual. Дата публикации: 1997-04-17.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.