METHODS OF FABRICATING A SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING A VIA STRUCTURE AND AN INTERCONNECTION STRUCTURE
Номер патента: US20180102285A1
Опубликовано: 12-04-2018
Автор(ы): PARK Seongho, SIEW YONGKONG
Принадлежит: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 12-04-2018
Автор(ы): PARK Seongho, SIEW YONGKONG
Принадлежит: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method of forming inter-level dielectric structures on semiconductor devices
Номер патента: US20160307791A1. Автор: Mehul D. Shroff,Douglas M. Reber. Владелец: NXP BV. Дата публикации: 2016-10-20.