Method for Manufacturing Indium Gallium Aluminium Nitride Thin Film on Silicon Substrate
Номер патента: US20080248633A1
Опубликовано: 09-10-2008
Автор(ы): Fengyi Jiang, LI Wang, Wenqing Fang
Принадлежит: Lattice Power Jiangxi Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 09-10-2008
Автор(ы): Fengyi Jiang, LI Wang, Wenqing Fang
Принадлежит: Lattice Power Jiangxi Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method for manufacturing light emitting diode with InGaN/GaN superlattice
Номер патента: US09991416B2. Автор: Jinyoung Park,Kwangjae Lee,Taeksoo JI,Jinhong LEE,Wangki KIM,Jaesam SHIM. Владелец: INDUSTRY FOUNDATION OF CHONNAM NATIONAL UNIVERSITY. Дата публикации: 2018-06-05.