Insulating gate separation structure for transistor devices
Номер патента: US20200135473A1
Опубликовано: 30-04-2020
Автор(ы): Andre Labonte, Chanro Park, Hui Zang, Laertis Economikos, Ruilong Xie
Принадлежит: Globalfoundries Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 30-04-2020
Автор(ы): Andre Labonte, Chanro Park, Hui Zang, Laertis Economikos, Ruilong Xie
Принадлежит: Globalfoundries Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Semiconductor device including gate structure and separation structure
Номер патента: US12113112B2. Автор: Dongseok Lee,Yongho JEON,Sekoo Kang,Keunhee Bai. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-10-08.