Semiconductor devices having air-gap
Номер патента: US11855178B2
Опубликовано: 26-12-2023
Автор(ы): Chia-Hao Chang, Chih-Chao CHOU, Chih-Hao Wang, Chun-Hsiung Lin, Pei-Hsun Wang
Принадлежит: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 26-12-2023
Автор(ы): Chia-Hao Chang, Chih-Chao CHOU, Chih-Hao Wang, Chun-Hsiung Lin, Pei-Hsun Wang
Принадлежит: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Methods of fabricating semiconductor devices having air-gap spacers
Номер патента: US10811515B2. Автор: Chih-Hao Wang,Chia-Hao Chang,Chun-Hsiung Lin,Pei-Hsun Wang,Chih-Chao CHOU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-10-20.