Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

Mask for stitching exposure

Номер патента: EP4414782A1
Опубликовано: 14-08-2024
Автор(ы): Chang Hee Han, Hui Jae CHO, Jae-Sub OH, Jungchul SONG, Kwang Hee Kim, Min Jun PARK
Принадлежит: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Pattern formation method using a photo mask for manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US20200004137A1. Автор: Lai Chien Wen,Chin-Hsiang Lin,Ru-Gun Liu,Chih-Ming Lai,Shih-Ming Chang,Yuan-Te Hou,Ken-Hsien Hsieh,Cheng-I Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-01-02.

Mask for stitching exposure

Номер патента: US20230367201A1. Автор: Chang Hee Han,Kwang Hee Kim,Jungchul SONG,Jae-Sub OH,Min Jun PARK,Hui Jae CHO. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2023-11-16.

Mask for EUV lithography, EUV lithography system and method for optimising the imaging of a mask

Номер патента: US09535332B2. Автор: Johannes Ruoff,Daniel Kraehmer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-01-03.

Mask for extreme ultraviolet lithography and method for manufacturing same

Номер патента: US20210397078A1. Автор: Jung Sik Kim,Jinho Ahn,Dong Min Jeong. Владелец: Industry University Cooperation Foundation IUCF HYU. Дата публикации: 2021-12-23.

Localized masking for semiconductor structure development

Номер патента: US20060006448A1. Автор: Donald Yates,Garry Mercaldi. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2006-01-12.

Mask blank, mask for transfer, method of manufacturing mask for transfer, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: KR101286428B1. Автор: 마사히로 하시모또,오사무 노자와,아쯔시 고미나또. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2013-07-19.

Mask for forming organic layer pattern, forming method of organic layer pattern, and manufacturing method of organic light emitting diode display using the same

Номер патента: US09583709B2. Автор: Joon Gu LEE,Yeon Hwa LEE,Ji Young CHOUNG,Jin Baek CHOI,Hyun Sung Bang,Young Woo Song,Kyu Hwan Hwang,Jae Sik KIM. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Substrate with multilayer reflective film, reflective mask blank for euv lithography, reflective mask for euv lithography, method for producing reflective mask for euv lithography, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: KR102239726B1. Автор: 다까히로 오노우에. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2021-04-12.

Method and master for making a color selection mask for a color cathode ray tube

Номер патента: CA1074171A. Автор: Howard G. Lange. Владелец: Zenith Radio Corp. Дата публикации: 1980-03-25.

Lithographic Mask for EUV Lithography

Номер патента: US20180059529A1. Автор: Rik Jonckheere,Koen D'Have. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2018-03-01.

Method of fabricating an exposure mask for semiconductor manufacture

Номер патента: US20030044694A1. Автор: Sang Kang. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2003-03-06.

Mask for fabricating semiconductor device and method of fabricating the mask

Номер патента: US20140302428A1. Автор: Byunggook Kim,So-Eun Shin,Jihyeon Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2014-10-09.

Test method of mask for electron-beam exposure and method of electron-beam exposure

Номер патента: US20010054697A1. Автор: Hiroshi Yamashita. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2001-12-27.

Method of fabricating a mask for a semiconductor device

Номер патента: US20080280213A1. Автор: Sung Hyun Oh. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2008-11-13.

Method and apparatus for examining an element of a photolithographic mask for the euv range

Номер патента: US20180164207A1. Автор: Johannes Ruoff,Jörg Frederik Blumrich. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-06-14.

Exposure system, test mask for monitoring polarization, and method for monitoring polarization

Номер патента: US20060098183A1. Автор: Takashi Sato,Keita Asanuma,Kazuya Fukuhara. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-05-11.

Method of manufacturing a mask for radiation lithography

Номер патента: US4946751A. Автор: Margret Harms,Holger Luthje,Waldemar Gotze,Angelika Bruns. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 1990-08-07.

Masks for se'iconductor device manufacture

Номер патента: GB1356881A. Автор: . Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1974-06-19.

Mask for photolithography, method for fabricating the same and method for manufacturing semiconductor device using the mask

Номер патента: US09470972B2. Автор: Suk-joo Lee,Se-Jin Park,Jong-Doo Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-10-18.

Mask for soft X-rays and method of manufacture

Номер патента: US4198263A. Автор: Takashi Matsuda. Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd. Дата публикации: 1980-04-15.

Mask manufacturing apparatus and, manufacturing method of mask and, mask for lithography

Номер патента: US20180348651A1. Автор: In Ki Kim,Jun Suk RHO,Heon Yeong JEONG. Владелец: Academy Industry Foundation of POSTECH. Дата публикации: 2018-12-06.

Method of forming mask for lithography, method of forming mask data for lithography, method of manufacturing back-illuminated solid-state imaging device, back-illuminated solid-state imaging device and electronic device

Номер патента: US20110248373A1. Автор: Keiji Mabuchi. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2011-10-13.

Method of forming mask for lithography, method of forming mask data for lithography, method of manufacturing back-illuminated solid-state imaging device, back-illuminated solid-state imaging device and electronic device

Номер патента: US8338212B2. Автор: Keiji Mabuchi. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2012-12-25.

Method of forming mask for lithography, method of forming mask data for lithography, method of manufacturing back-illuminated solid-state imaging device, back-illuminated solid-state imaging device and electronic device

Номер патента: US7989253B2. Автор: Keiji Mabuchi. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2011-08-02.

Tft, mask for manufacturing the tft, array substrate and display device

Номер патента: US20140054702A1. Автор: Seungjin Choi,Youngsuk Song,Seongyeol Yoo. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2014-02-27.

Electron beam masks for compressive sensors

Номер патента: US20160276050A1. Автор: Libor Kovarik,Andrew J. Stevens,Andrey V. Liyu,Nigel D. Browning. Владелец: Battelle Memorial Institute Inc. Дата публикации: 2016-09-22.

Intelligent uniform masks for semiconductor fabrication

Номер патента: US20160161843A1. Автор: Tammy DongLei ZHENG. Владелец: Broadcom Corp. Дата публикации: 2016-06-09.

Mask blank for reflection-type exposure, and mask for reflection-type exposure

Номер патента: US09442364B2. Автор: Masato Kon,Yo Sakata,Yutaka Kodera. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-13.

Method of forming a mask for substrate patterning

Номер патента: US09646845B2. Автор: Anton J. deVilliers. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-09.

Methods of forming etch masks for sub-resolution substrate patterning

Номер патента: US09818611B2. Автор: Anton J. deVilliers. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-14.

Manufacturing method of mask for electron beam proximity exposure and mask

Номер патента: US20020071994A1. Автор: Nobuo Shimazu,Takao Utsumi. Владелец: LEEPL Corp. Дата публикации: 2002-06-13.

Mask for manufacturing semiconductor devices and method of manufacture thereof

Номер патента: US5352550A. Автор: Yoshihiko Okamoto. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1994-10-04.

Method for manufacturing mask blank, method for manufacturing mask for transfer, mask blank and mask for transfer

Номер патента: KR101742325B1. Автор: 마사히로 하시모또,가즈야 사까이. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2017-06-01.

Mask for X-Ray Lithography and Metrology

Номер патента: US20240112913A1. Автор: Yanwei Liu,Anne Sakdinawat. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-04-04.

Mask for electron beam exposure, manufacturing method for the same, and manufacturing method for semiconductor device

Номер патента: TW425492B. Автор: Hiroshi Yamashita. Владелец: Nippon Electric Co. Дата публикации: 2001-03-11.

Mask for beam exposure having membrane structure and stencil structure and method for manufacturing the same

Номер патента: US20020045109A1. Автор: Yasuhisa Yamada. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2002-04-18.

Method for forming photo mask for use in fabricating semiconductor device

Номер патента: US5679499A. Автор: Atsushi Yamamori. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1997-10-21.

Mask for the selective growth of a solid, a manufacturing method for the mask, and a method for selectively growing a solid using the mask

Номер патента: US6596186B2. Автор: Kazunobu Tanaka,Satoshi Yamasaki,Doo-Sup Hwang,Tetsuji Yasuda,Kazuyuki Ikuta. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2003-07-22.

Reflective mask for extreme ultraviolet lithography and a method of fabricating a semiconductor device using the same

Номер патента: US20240219824A1. Автор: Akio Misaka,Noyoung CHUNG,Seokyun Jeong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-04.

Single field zero mask for increased alignment accuracy in field stitching

Номер патента: US20130236835A1. Автор: Arthur Lam. Владелец: Micrel Inc. Дата публикации: 2013-09-12.

Mask for laser irradiation and apparatus for laser crystallization using the same

Номер патента: US20040096754A1. Автор: Yun-Ho Jung. Владелец: LG Philips LCD Co Ltd. Дата публикации: 2004-05-20.

Mask for forming a thin-film transistor, thin-film transistor substrate manufactured using the same and method of manufacturing a thin-film transistor substrate using the same

Номер патента: US20080073718A1. Автор: Young-Wook Lee,Woo-Geun Lee,Youn-Hee Cha,Jung-In Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2008-03-27.

Reflective mask blank for euvl, reflective mask for euvl, and method of manufacturing reflective mask for euvl

Номер патента: US20220187699A1. Автор: Hiroyoshi Tanabe. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-16.

Mask for forming contact hole

Номер патента: US20080035980A1. Автор: Young-Doo Jeon. Владелец: Dongbu HitekCo Ltd. Дата публикации: 2008-02-14.

Flash memory device and mask for fabricating the same

Номер патента: TW201104842A. Автор: Mi-Hye Kim,Dong-Sook Chang. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2011-02-01.

A stencil mask for ion implantation

Номер патента: TW200500511A. Автор: Hitoshi Noguchi. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2005-01-01.

Photo-masks for lithography

Номер патента: US09411222B2. Автор: Marc Tricard. Владелец: Zygo Corp. Дата публикации: 2016-08-09.

Process for preparing a mask for sandblasting

Номер патента: US4456680A. Автор: Shohei Nakamura,Yoshimasa Tuji. Владелец: Asahi Kasei Kogyo KK. Дата публикации: 1984-06-26.

Mask for selectively transmitting therethrough a desired light radiant energy

Номер патента: US4282314A. Автор: Donald Dinella,Ching-Ping Wong. Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1981-08-04.

Image Stitching Method for Stitching Product

Номер патента: US20230161939A1. Автор: Yu Zhang,Xiaolong Wang,Lijun Chen,Xiaobin Zhu,Haichang Zheng. Владелец: Shanghai Huali Microelectronics Corp. Дата публикации: 2023-05-25.

Method of preparing a photo-mask for imaging three-dimensional objects

Номер патента: US5141829A. Автор: Donald F. Foust,William V. Dumas,Bradley R. Karas,James W. Rose. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1992-08-25.

Mask for manufacturing tft, tft, and manufacturing thereof

Номер патента: US20080296665A1. Автор: Zhilong PENG. Владелец: Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2008-12-04.

Mask for manufacturing TFT, TFT, and manufacturing thereof

Номер патента: US8062811B2. Автор: Zhilong PENG. Владелец: Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2011-11-22.

Reflection-type mask blank for euv lithography, reflection-type mask for euv lithography, and manufacturing methods therefor

Номер патента: US20230288794A1. Автор: Kenichi Sasaki,Toshiyuki Uno,Ichiro Ishikawa,Hirotomo Kawahara,Daijiro AKAGI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-14.

MASK MANUFACTURING APPARATUS AND, MANUFACTURING METHOD OF MASK AND, MASK FOR LITHOGRAPHY

Номер патента: US20180348651A1. Автор: KIM In Ki,RHO Jun Suk,Jeong Heon Yeong. Владелец: POSTECH ACADEMY-INDUSTRY FOUNDATION. Дата публикации: 2018-12-06.

Thin film transistor, photo mask for defining thin film transistor, and method of making thin film transistor

Номер патента: TW201100948A. Автор: Chia-Ming Chang,Hsiang-Chih Hsiao. Владелец: AU OPTRONICS CORP. Дата публикации: 2011-01-01.

Composite Hard Masks For Ultra-Thin Magnetic Sensors

Номер патента: US20230258747A1. Автор: Min Li,Ruhang DING,Tom Zhong,Richard Zhou,Hiroshi Omine,Minghui Yu,Yewhee Chye,Qingjun Qin,Yunqing Cai. Владелец: Headway Technologies Inc. Дата публикации: 2023-08-17.

Mask blank for charged particle beam exposure, method of forming mask blank and mask for charged particle beam exposure

Номер патента: US7588815B2. Автор: Kenichi Morimoto. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2009-09-15.

Mask blank for charged particle beam exposure, method of forming mask blank and mask for charged particle beam exposure

Номер патента: US7479233B2. Автор: Kenichi Morimoto. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2009-01-20.

Method and program product for designing source and mask for lithography

Номер патента: US09857676B2. Автор: Masaharu Sakamoto,Alan E. Rosenbluth,David O. Melville,Tadanobu Inoue,Kehan Tian. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-01-02.

Mask for microlithography and scanning projection exposure method utilizing the mask

Номер патента: US09423686B2. Автор: Markus Deguenther,Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-08-23.

Method for the qualification of a mask for microlithography

Номер патента: US20200285158A1. Автор: Dirk Hellweg. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2020-09-10.

Method of hologram exposure, mask for hologram exposure, semiconductor device, and electronic equipment

Номер патента: US20050063030A1. Автор: Chiharu Iriguchi. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2005-03-24.

Anti-resonance mask for off-axis photolithography

Номер патента: US20030059687A1. Автор: El-Badawy El-Sharawy. Владелец: National Scientific Corp. Дата публикации: 2003-03-27.

Mask for high resolution optical lithography

Номер патента: EP1116071A1. Автор: Juan R. Maldonado. Владелец: Etec Systems Inc. Дата публикации: 2001-07-18.

Mask for high resolution optical lithography

Номер патента: WO2001007968A1. Автор: Juan R. Maldonado. Владелец: Etec Systems, Inc.. Дата публикации: 2001-02-01.

Extreme ultraviolet (euv) mask for lithography and associated methods

Номер патента: US20190163048A1. Автор: No-Young Chung,Woon-hyuk CHOI. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-05-30.

Method and program product for designing source and mask for lithography

Номер патента: US20160103389A1. Автор: Masaharu Sakamoto,Alan E. Rosenbluth,David O. Melville,Tadanobu Inoue,Kehan Tian. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2016-04-14.

Reflecting photo mask for x-ray exposure and method for manufacturing the same

Номер патента: US5572564A. Автор: Katsuhiko Murakami. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1996-11-05.

Inspection device for masks for semiconductor lithography and method

Номер патента: US11867642B2. Автор: Heiko Feldmann,Holger Seitz,Thomas Zeuner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-01-09.

Inspection device for masks for semiconductor lithography and method

Номер патента: US20210156809A1. Автор: Heiko Feldmann,Holger Seitz,Thomas Zeuner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2021-05-27.

Mask for ion, electron or X-ray lithography and method of making it

Номер патента: US4855197A. Автор: Jurgen Kempf,Werner Zapka,Joachim Keyser,Karl Asch. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1989-08-08.

Method for generating masks for manufacturing of a semiconductor structure

Номер патента: US20190250503A1. Автор: Yung-Feng Cheng,Chia-Wei Huang,Tsung-Yeh Wu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2019-08-15.

Method and device for characterizing a mask for microlithography

Номер патента: US11188000B2. Автор: Markus Koch,Tobias Mueller,Michael Kamp-Froese. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2021-11-30.

Method and device for characterizing a mask for microlithography

Номер патента: US20200363737A1. Автор: Markus Koch,Tobias Mueller,Michael Kamp-Froese. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2020-11-19.

Mask for near-field lithography and its manufacture

Номер патента: RU2544280C2. Автор: Борис КОБРИН. Владелец: Ролит, Инк.. Дата публикации: 2015-03-20.

Focus test mask for projection exposure system, focus monitoring system using the same, and focus monitoring method

Номер патента: US6088113A. Автор: Young-Chang Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2000-07-11.

Phase-shift mask for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US20180143527A1. Автор: Roman Chalykh,Taehoon Lee,Seongsue Kim,Hwanseok SEO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-05-24.

Single Field Zero Mask For Increased Alignment Accuracy in Field Stitching

Номер патента: US20120202138A1. Автор: Arthur Lam. Владелец: Micrel Inc. Дата публикации: 2012-08-09.

Liquid masks for microfabrication processes

Номер патента: EP3552027A1. Автор: Chad A. Mirkin,David A. Walker,James L. Hedrick. Владелец: Northwestern University. Дата публикации: 2019-10-16.

Liquid masks for microfabrication processes

Номер патента: US20190384161A1. Автор: Chad A. Mirkin,David A. Walker,James L. Hedrick, III. Владелец: Northwestern University. Дата публикации: 2019-12-19.

Curable composition for imprinting, cured product, pattern forming method, lithography method, pattern, mask for lithography, and polymerizable composition for imprinting

Номер патента: US20200157267A1. Автор: Akinori Shibuya,Yuichiro Goto,Naoya SHIMOJU. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2020-05-21.

Curable composition for imprinting, cured product, pattern forming method, lithography method, pattern, mask for lithography, and polymerizable composition for imprinting

Номер патента: US11401361B2. Автор: Akinori Shibuya,Yuichiro Goto,Naoya SHIMOJU. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-08-02.

System and Method for Producing an Optical Mask for Surface Treatment, and Surface Treatment Plant and Method

Номер патента: MY196362A. Автор: Yves Jourlin,Laurent Dubost,Maxime BICHOTTE. Владелец: Univ Jean Monnet Saint Etienne. Дата публикации: 2023-03-26.

Method of imaging a mask pattern on a substrate by means of EUV radiation, and apparatus and mask for performing the method

Номер патента: US6280906B1. Автор: Josephus J. M. Braat,Jan Verhoeven. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 2001-08-28.

Solid ink composition for printing masks for printed circuit boards

Номер патента: EP2287665B1. Автор: Eric J. Shrader,Francisco E. Torres,Norine Chang,C Wayne Jaeger. Владелец: Palo Alto Research Center Inc. Дата публикации: 2014-07-30.

Method of manufacturing extreme ultraviolet (euv) mask for forming semiconductor memory device

Номер патента: US20240152043A1. Автор: Chan Hwang,Sangho Yun,Janghoon Kim,Minseung SONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-09.

Masks for microlithography and methods of making and using such masks

Номер патента: US20130130163A1. Автор: Zhong Shi,William A. Stanton,Byron N. Burgess. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2013-05-23.

Masks for microlithography and methods of making and using such masks

Номер патента: WO2009023479A1. Автор: Zhong Shi,William A. Stanton,Byron N. Burgess. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2009-02-19.

Masks for microlithography and methods of making and using such masks

Номер патента: US20110256644A1. Автор: Zhong Shi,William A. Stanton,Byron N. Burgess. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2011-10-20.

Method and apparatus for qualifying a mask for use in lithography

Номер патента: US20240085779A1. Автор: Markus Koch,Renzo Capelli,Sandro Hoffmann,Thomas Niederhausen,Grizelda Kersteen,Tim Helbig,Andreas Verch. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-03-14.

Modified mask for photolithography of a wafer with recess, method for producing such a mask and method for photolithography of a wafer with recess

Номер патента: US20130260291A1. Автор: Florian Bieck,Sven Spiller. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2013-10-03.

Phase shift mask for EUV lithography and manufacturing method for the phase shift mask

Номер патента: US12025912B2. Автор: Tae Joong Ha. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2024-07-02.

Phase shift mask for euv lithography and manufacturing method for the phase shift mask

Номер патента: US20240310717A1. Автор: Tae Joong Ha. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2024-09-19.

Modified mask for photolithography of a wafer with recess

Номер патента: WO2012020382A2. Автор: Florian Bieck. Владелец: Doublecheck Semiconductors Gmbh. Дата публикации: 2012-02-16.

Mask for forming color filter layer, method for fabricating color filter substrate, and color filter substrate

Номер патента: US09891463B2. Автор: Min Li,Yu Xiao,Jingjing Jiang,Hongjiang Wu. Владелец: Beijing BOE Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-13.

System and method for inspecting a mask for euv lithography

Номер патента: US20230020107A1. Автор: Renzo Capelli. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-01-19.

Optical mask for forming pattern

Номер патента: US20140162177A1. Автор: Jeong Won KIM,Hyun Joo Lee,Min Kang,Bong-Yeon Kim,Jin Ho JU,Jun Hyuk Woo. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2014-06-12.

Mask for euv lithography and method of manufacturing the same

Номер патента: US20210033962A1. Автор: Yun-Yue Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-02-04.

Optical mask for forming pattern

Номер патента: US8691479B1. Автор: Jeong Won KIM,Hyun Joo Lee,Min Kang,Bong-Yeon Kim,Jin Ho JU,Jun Hyuk Woo. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2014-04-08.

Method and apparatus for repairing defects of a photolithographic mask for the EUV range

Номер патента: US11774848B2. Автор: Renzo Capelli,Hendrik Steigerwald. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-10-03.

Mask for euv lithography and method of manufacturing the same

Номер патента: US20200096858A1. Автор: Yun-Yue Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-03-26.

Mask for EUV Lithography and Method for Exposure Using the Same

Номер патента: US20100323280A1. Автор: Goo Min Jeong. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2010-12-23.

Method and device for fabrication of mask for laser unit for production of microstructures

Номер патента: RU2580901C2. Автор: Шарль БОЭГЛИ,Стеффен ВАЙССМАНТЕЛЬ,Гюнтер РАЙСС,Энди ЭНГЕЛ,Рене БОЭТТЧЕР,Вернер СТЕФФЕН. Владелец: БОЭГЛИ-ГРАВЮР С.А.. Дата публикации: 2016-04-10.

Display panel, mask for manufacturing same, and display device

Номер патента: US20200292873A1. Автор: Zhongnian Liu. Владелец: HKC Co Ltd. Дата публикации: 2020-09-17.

Phase shift mask for extreme ultraviolet lithography and a method of manufacturing a semiconductor device using the same

Номер патента: US12099293B2. Автор: Seongsue Kim,Changyoung Jeong,Hwanseok SEO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-24.

Mask for photolithography, method of manufacturing the same and method of manufacturing substrate using the same

Номер патента: US09778558B2. Автор: Jin-Ho Ju,Min Kang,Hyang-Shik Kong,Yong Son,Kyoung-Sik Kim,Hyun-Joo Lee,Bong-Yeon Kim,Seung-Hwa Baek. Владелец: Industry Academic Cooperation Foundation of Yonsei University. Дата публикации: 2017-10-03.

Mask for Extreme-Ultraviolet (Extreme-UV) Lithography and Method for Manufacturing the Same

Номер патента: US20190155138A1. Автор: Jae Uk Lee,Ryan Ryoung Han Kim. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2019-05-23.

Method of manufacturing mask for electron beam lithography and mask blank for electron beam lithography

Номер патента: US7029801B2. Автор: Mitsuhiro Yuasa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-04-18.

Mask for structuring surface areas, and method of making it

Номер патента: US4342817A. Автор: Johann Greschner,Harald Bohlen,Helmut Engelke,Peter Nehmiz. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1982-08-03.

Masks for double patterning photolithography

Номер патента: US20140047398A1. Автор: Carlos R. Castro-Pareja,Allan Xiao Yu Gu. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2014-02-13.

Mask for projection system using charged particle beam

Номер патента: US5728492A. Автор: Shintaro Kawata. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1998-03-17.

Method and structure for fabricating a halftone mask for the manufacture of semiconductor wafers

Номер патента: US20050142892A1. Автор: Cong LU. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2005-06-30.

Photographic masks for tonal correction

Номер патента: CA1310853C. Автор: Gerhard Fritz Dusdieker. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 1992-12-01.

Thin film mask for use in an x-ray lithographic process and its method of manufacture by forming opaque pattern of ions in a diamond layer

Номер патента: US5314768A. Автор: Rakesh B. Sethi. Владелец: National Semiconductor Corp. Дата публикации: 1994-05-24.

Mask for curing frame sealant and liquid crystal display panel manufacturing method

Номер патента: US20130344767A1. Автор: Chung Yi Chiu. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2013-12-26.

Lithography masks for improved line-end patterning

Номер патента: US20080318137A1. Автор: Richard Schenker,Swaminathan Sivakumar,Paul Nyhus,Sven Henrichs. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2008-12-25.

Mask for lithographic apparatus and methods of inspection

Номер патента: WO2013156328A3. Автор: Pedro Julian Rizo Diago. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2013-12-19.

Reflection mask for X ray

Номер патента: US5399448A. Автор: Katsuhiko Murakami,Hiroshi Nakamura,Hiroshi Nagata. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1995-03-21.

Mask for x-ray lithography and method of manufacturing the same

Номер патента: US5132186A. Автор: Susumu Takeuchi,Nobuyuki Yoshioka. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1992-07-21.

Mask for optical exposure

Номер патента: CA1070855A. Автор: Yasuaki Nakane,Iwao Mori,Tadayoshi Mifune. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1980-01-29.

Attenuating phase shift mask for photolithography

Номер патента: US20030044695A1. Автор: Vladimir Liberman,Mordechai Rothschild. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2003-03-06.

Attenuating phase shift mask for photolithography

Номер патента: WO2003023522A1. Автор: Vladimir Liberman,Mordechai Rothschild. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2003-03-20.

Phase shift masks for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US11774846B2. Автор: Dongwan Kim,Seongsue Kim,Hwanseok SEO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-10-03.

Photo mask for patterning a lightning rod

Номер патента: US20020086219A1. Автор: Yong Kim,Seong Lee,Soon Yoo,Dong Kwak. Владелец: LG Philips LCD Co Ltd. Дата публикации: 2002-07-04.

Phase shift masks for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US20230018819A1. Автор: Dongwan Kim,Seongsue Kim,Hwanseok SEO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-01-19.

Method and apparatus for tensioning a shadow mask for thin film deposition

Номер патента: US09507273B2. Автор: Brian Arthur BUCCI. Владелец: Advantech Global Ltd. Дата публикации: 2016-11-29.

Substrate with multilayer reflective film, reflective mask blank for EUV lithography, reflective mask for EUV lithography, and method of manufacturing the same, and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US09740091B2. Автор: Takahiro Onoue,Hirofumi Kozakai. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Substrate with a multilayer reflective film, reflective mask blank for EUV lithography, reflective mask for EUV lithography and method of manufacturing the same, and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US09720317B2. Автор: Takahiro Onoue. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-08-01.

Technique for preparing a photo-mask for imaging three-dimensional objects

Номер патента: US5178976A. Автор: Bradley R. Karas,James W. Rose,Lubomry S. Onyshkevych. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1993-01-12.

Mask for generating features in a microwell plate

Номер патента: WO2019103970A3. Автор: Curtis Tom,Andrew Kelly,Kolin Hribar. Владелец: Cypre, Inc.. Дата публикации: 2019-08-08.

Mask for generating features in a microwell plate

Номер патента: US20190155146A1. Автор: Curtis Tom,Andrew Kelly,Kolin Hribar. Владелец: Cypre Inc. Дата публикации: 2019-05-23.

Flexible photo-pattern mask for organic light-emitting display with high resolution, and method for manufacturing same

Номер патента: EP4071843A4. Автор: Hyuk Jin CHA,Mi Sun Ryu. Владелец: HUNETPLUS Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-03.

Colored masking for forming transparent structures

Номер патента: EP2018596A2. Автор: Mark Edward Irving,David Howard Levy,Lyn Marie Irving. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2009-01-28.

Colored masking for forming transparent structures

Номер патента: WO2007136656A2. Автор: Mark Edward Irving,David Howard Levy,Lyn Marie Irving. Владелец: EASTMAN KODAK COMPANY. Дата публикации: 2007-11-29.

Outer suspension type lens shielding mask for projection apparatus

Номер патента: US20070070306A1. Автор: Hua FAN,Chih Yang,Hsi Sun. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-03-29.

Outer suspension type lens shielding mask for projection apparatus

Номер патента: US20060232752A1. Автор: Hua FAN,Chih Yang,Hsi Sun. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2006-10-19.

Outer suspension type lens shielding mask for projection apparatus

Номер патента: US7204597B2. Автор: Chih Chung Yang,His Chih Sun,Hua Wen Fan. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2007-04-17.

Film mount and mask for a pair of panoramic stereoscopic images

Номер патента: US3723904A. Автор: R Bernier. Владелец: TRW Inc. Дата публикации: 1973-03-27.

Mask for preventing undesired light from entering lens of a camera

Номер патента: US20030113112A1. Автор: Chin-Yu Lin,Chih-Po Yang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-06-19.

Outer suspension type lens shielding mask for projection apparatus

Номер патента: US20050259230A1. Автор: Hua FAN,Chih Yang,Hsi Sun. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2005-11-24.

Mask for crystallizing and method of crystallizing amorphous silicon using the same

Номер патента: US20030219936A1. Автор: Sang-Hyun Kim. Владелец: LG Philips LCD Co Ltd. Дата публикации: 2003-11-27.

X-ray mask for x-ray lithography and method of producing same

Номер патента: KR100229262B1. Автор: 다꾸야 요시하라,세쓰 고쓰지. Владелец: 닛뽕덴끼 가부시끼가이샤. Дата публикации: 1999-12-01.

Manganese oxide hard mask for etching dielectric materials

Номер патента: US09472457B2. Автор: Wei Lin,Tuan A. Vo,Spyridon Skordas. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

Method of manufacturing mask for deposition

Номер патента: US09543520B1. Автор: Youngmin Moon,Minho Moon,Sungsoon Im. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Etch mask for hybrid laser scribing and plasma etch wafer singulation process

Номер патента: US09793132B1. Автор: AJAY Kumar,James S. Papanu,Brad Eaton,Alexander N. Lerner,Prabhat Kumar,Wenguang Li,Ramesh Krishnamurthy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-10-17.

Method and system for providing a continuous motion sequential lateral solidification for reducing or eliminating artifacts, and a mask for facilitating such artifact reduction/elimination

Номер патента: WO2005029546A3. Автор: James S Im. Владелец: James S Im. Дата публикации: 2009-06-18.

Method for forming a hard mask for gate electrode patterning and corresponding device

Номер патента: US20060081917A1. Автор: Chien-Hao Chen,Tze-Liang Lee,Shih-Chang Chen,Chao-Cheng Chen,Chia-Jen Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2006-04-20.

Mask for crystallizing a semiconductor layer and method of crystallizing a semiconductor layer using the same

Номер патента: US20090203230A1. Автор: Cheol-Ho Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2009-08-13.

Mask for crystallizing a semiconductor layer and method of crystallizing a semiconductor layer using the same

Номер патента: US8163444B2. Автор: Cheol-Ho Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2012-04-24.

Etch mask for hybrid laser scribing and plasma etch wafer singulation process

Номер патента: SG11201809012PA. Автор: AJAY Kumar,James S Papanu,Brad Eaton,Prabhat Kumar,Wenguang Li,Alexander N Lerner,Ramesh Krishnamurthy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-11-29.

Fixed position mask for workpiece edge treatment

Номер патента: US20180342413A1. Автор: Fletcher Ian Potter,Philip Layne,Keith A. Fernlund,Michael Swears,Richard Allen Sprenkle. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2018-11-29.

Mask for crystallizing silicon, apparatus having the mask and method of crystallizing with the mask

Номер патента: US20110003484A1. Автор: Hyun-dae Kim,Han-Na Jo. Владелец: Kim Hyun-Dae. Дата публикации: 2011-01-06.

Mask for crystallizing silicon, apparatus having the mask and method of crystallizing with the mask

Номер патента: US20070141482A1. Автор: Hyun-dae Kim,Han-Na Jo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-06-21.

Mask for crystallizing silicon, apparatus having the mask and method of crystallizing with the mask

Номер патента: US7811721B2. Автор: Hyun-dae Kim,Han-Na Jo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2010-10-12.

High temperature ultra-fast annealed soft mask for semiconductor devices

Номер патента: US20190259616A1. Автор: Oleg Gluschenkov,Ekmini Anuja De Silva,Indira Seshadri,Mona Ebrish. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2019-08-22.

Mask for deposition and deposition apparatus including the same

Номер патента: US20130186330A1. Автор: Jungmin Lee,Choongho Lee. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2013-07-25.

Mask for deposition and deposition apparatus including the same

Номер патента: US9221072B2. Автор: Jungmin Lee,Choongho Lee. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2015-12-29.

Face mask for facilitating conversations

Номер патента: US20210319777A1. Автор: Song WANG,Hong XIONG,Jatinder Kumar,Mengnan WANG. Владелец: Lenovo PC International Ltd. Дата публикации: 2021-10-14.

Configurable low resource subsample image mask for merging in a distorted image space

Номер патента: EP4125032A1. Автор: Michael A. Ropers,Brent Hansen. Владелец: ROCKWELL COLLINS INC. Дата публикации: 2023-02-01.

Generating masks for formats including masking restrictions

Номер патента: US20220405099A1. Автор: Ariel Farkash,Micha Gideon Moffie. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2022-12-22.

Methods of patterning and making masks for three-dimensional substrates

Номер патента: US09995951B2. Автор: Jeffrey Miller,Adam Toner,James D. Riall,Praveen Pandojirao. Владелец: Johnson and Johnson Vision Care Inc. Дата публикации: 2018-06-12.

Metallic material deposition mask for oled pixel deposition, and method for producing same

Номер патента: EP3680949A2. Автор: Jee Heum Paik,Su Hyeon Cho,Hae Sik Kim,Yeong Deuk Jo,Hyo Won Son,Sang Yu Lee. Владелец: LG Innotek Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-15.

Determining cryptographic operation masks for improving resistance to external monitoring attacks

Номер патента: US20200364377A1. Автор: Jeremy Samuel COOPER. Владелец: Cryptography Research Inc. Дата публикации: 2020-11-19.

Determining cryptographic operation masks for improving resistance to external monitoring attacks

Номер патента: EP3241150A1. Автор: Jeremy Samuel COOPER. Владелец: Cryptography Research Inc. Дата публикации: 2017-11-08.

Systems and methods for stitching advertisements in streaming content

Номер патента: US09743156B1. Автор: Stuart L. Mclean,Thomas Hamilton Link. Владелец: Sniffercat Inc. Дата публикации: 2017-08-22.

Method and apparatus for stitching dual-camera images and electronic device

Номер патента: US20220101542A1. Автор: CHEN ZHOU,Qian Yu,Jian Yang,XI Yang,Qian Zhang,Ge Zhou,Xiaofei Wang,Jianhua LV,Guode YING,Jiandong SI,Huang ZHANG,Huanghao YING,Wizhong CHEN,Dongqi LU,Jieli BAO,Huiyong QIU. Владелец: Taizhou Economic Development Zone Trasportation Inspection Branch Of Taizhou. Дата публикации: 2022-03-31.

Method and apparatus for stitching dual-camera images and electronic device

Номер патента: US12112490B2. Автор: CHEN ZHOU,Qian Yu,Jian Yang,XI Yang,Qian Zhang,Ge Zhou,Xiaofei Wang,Weizhong Chen,Jianhua LV,Guode YING,Jiandong SI,Huang ZHANG,Huanghao YING,Dongqi LU,Jieli BAO,Huiyong QIU. Владелец: Taizhou Economic Development Zone Transportation Inspection Branch Of Taizhou Hongda Electric Power Construction Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-08.

Systems and methods for stitching advertisements in streaming content

Номер патента: US09723372B1. Автор: Stuart L. Mclean,Thomas Hamilton Link. Владелец: Sniffercat Inc. Дата публикации: 2017-08-01.

Methods of patterning and making masks for three-dimensional substrates

Номер патента: RU2668664C2. Автор: Адам ТОНЕР,Джеймс Дэниел РАЙЕЛЛ,Джеффри Миллер,Правин ПАНДОДЖИРАО-СУНКОДЖИРАО. Владелец: Джонсон Энд Джонсон Вижн Кэа, Инк.. Дата публикации: 2018-10-02.

Apparatus, method, and system for a privacy mask for video streams

Номер патента: EP4325445A1. Автор: Ming Lu,Gurudutt Hosangadi. Владелец: NOKIA TECHNOLOGIES OY. Дата публикации: 2024-02-21.

Apparatus, method, and system for a privacy mask for video streams

Номер патента: US20240064266A1. Автор: Ming Lu,Gurudutt Hosangadi. Владелец: NOKIA TECHNOLOGIES OY. Дата публикации: 2024-02-22.

Masking for mitigating visual contrast of a camera region of a display

Номер патента: GB2597583A. Автор: Dao Kevin. Владелец: MOTOROLA MOBILITY LLC. Дата публикации: 2022-02-02.

Configurable low resource subsample image mask for merging in a distorted image space

Номер патента: US11979679B2. Автор: Michael A. Ropers,Brent Hansen. Владелец: ROCKWELL COLLINS INC. Дата публикации: 2024-05-07.

Apparatus and method for stitching together multiple images

Номер патента: WO2018234817A1. Автор: Stephen John Barlow,James Andrew Hutchinson,Thomas Oscar MILLER,Jack Stuart HAUGHTON. Владелец: Argon Design Ltd. Дата публикации: 2018-12-27.

Image calibrating method for stitching images and related camera and image processing system with image calibrating function

Номер патента: US20160189379A1. Автор: Szu-Han Chen,Pei-Hsien Lin. Владелец: Vivotek Inc. Дата публикации: 2016-06-30.

Image calibrating method for stitching images and related camera and image processing system with image calibrating function

Номер патента: US09716880B2. Автор: Szu-Han Chen,Pei-Hsien Lin. Владелец: Vivotek Inc. Дата публикации: 2017-07-25.

Method for determining a solar mask for an installation and method for checking the compatibility of a motorized drive device

Номер патента: US11887333B2. Автор: Fabien Rousseau. Владелец: SOMFY ACTIVITES SA. Дата публикации: 2024-01-30.

Device for stitched-wiring of long-time memory means

Номер патента: US3681833A. Автор: Jury Ivanovich Kasatkin,Alexandr Vasilievich Filimonov,Nikolai Sergeevich Erlykov,Sergei Ivanovich Chikirda,Vadim Konstantinov Strashinsky,Vladimir Pinsokhovich Zeldin. Владелец: Individual. Дата публикации: 1972-08-08.

Metallic material deposition mask for oled pixel deposition, and method for producing same

Номер патента: EP4339322A2. Автор: Jee Heum Paik,Su Hyeon Cho,Hae Sik Kim,Yeong Deuk Jo,Hyo Won Son,Sang Yu Lee. Владелец: LG Innotek Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-20.

Metallic material deposition mask for oled pixel deposition, and method for producing same

Номер патента: EP4339322A3. Автор: Jee Heum Paik,Su Hyeon Cho,Hae Sik Kim,Yeong Deuk Jo,Hyo Won Son,Sang Yu Lee. Владелец: LG Innotek Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-12.

A mask for fabricating a semiconductor device and method thereof

Номер патента: GB2332534B. Автор: Seung-Seok Yoo. Владелец: LG Semicon Co Ltd. Дата публикации: 1999-11-03.

A mask for fabricating a semiconductor device and method thereof

Номер патента: GB9824540D0. Автор: . Владелец: LG Semicon Co Ltd. Дата публикации: 1999-01-06.

Mask for EUV lithography, EUV lithography apparatus and method for determining a contrast proportion caused by DUV radiation

Номер патента: US10156782B2. Автор: Peter Huber. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-12-18.

Multiply spin-coated ultra-thick hybrid hard mask for sub 60nm MRAM devices

Номер патента: US12108679B2. Автор: Yi Yang,Yu-Jen Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-01.

Lithography and Mask for Resolution Enhancement

Номер патента: US20140268087A1. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2014-09-18.

Flare correction method, method for manufacturing mask for lithography, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20110065027A1. Автор: Suigen Kyoh,Ryoichi Inanami. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-03-17.

Stitched circuitry region boundary indentification for stitched ic chip layout

Номер патента: US20090276748A1. Автор: Jeanne-Tania Sucharitaves,Richard J. Rassel,Robert K. Leidy,Kevin N. Ogg. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-11-05.

Tri-tone attenuated phase shift trim mask for double exposure alternating phase shift mask process

Номер патента: US20040074868A1. Автор: Chung-Hsing Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2004-04-22.

Particle removing assembly and method of cleaning mask for lithography

Номер патента: US12085866B2. Автор: Hsin-Chang Lee,Chia-Jen Chen,Kuan-Wen Lin,Chen-Yang Lin,Da-wei Yu,Li-Hsin Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Attenuated phase shift mask for talbot lithography

Номер патента: US20240094623A1. Автор: Cheng Xu,Daniel Albert Corliss. Владелец: Meta Platforms Inc. Дата публикации: 2024-03-21.

Set of masks for projection of structure patterns on each mask to photosensitive layer on semiconductor wafer as trim or correction mask in lithographic process in manufacture of integrated circuits

Номер патента: DE10310136A1. Автор: Rainer Dr. Pforr,Mario Hennig,Jörg Dr. Thiele,Wolfgang Dr. Dettmann,Roderick Dr. Köhle,Markus Hofsäß. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2004-09-16.

Multiply Spin-Coated Ultra-Thick Hybrid Hard Mask for Sub 60nm MRAM Devices

Номер патента: US20190259938A1. Автор: Yi Yang,Yu-Jen Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2019-08-22.

Multiply Spin-Coated Ultra-Thick Hybrid Hard Mask for Sub 60nm MRAM Devices

Номер патента: US20200136030A1. Автор: Yi Yang,Yu-Jen Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-04-30.

Method and mask for enhancing the resolution of patterning 2-row holes

Номер патента: WO2012138557A2. Автор: Chun-Ming Wang,Masaaki Higashitani,Chenche Huang. Владелец: SANDISK TECHNOLOGIES INC.. Дата публикации: 2012-10-11.

Method and mask for enhancing the resolution of patterning 2-row holes

Номер патента: US20120258387A1. Автор: Chun-Ming Wang,Masaaki Higashitani,Chenche Huang. Владелец: SanDisk Corp. Дата публикации: 2012-10-11.

Test mask for determining alignment of an automatic IC mask testing apparatus

Номер патента: US4710440A. Автор: Paul J. Del Priore. Владелец: RCA Corp. Дата публикации: 1987-12-01.

Method for characterizing a mask for microlithography

Номер патента: DE102017115262B9. Автор: Thomas Frank,Markus DEGÜNTHER,Holger Seitz,Ute Buttgereit,Thomas Thaler,Ulrich Matejka,Robert Birkner,Dominik Grau. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2021-05-27.

Method of producing phase mask for processing optical fiber and optical fiber with bragg diffraction grating fabricated by using the optical fiber-processing phase mask

Номер патента: CA2370911C. Автор: Masataka Nakazawa,Masaaki Kurihara,Toshikazu Segawa,Tetsuro Komukai. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2010-04-27.

Mask for attracting charged particles and method for using the same

Номер патента: US20220382173A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Yen-An Chen,Li-Jui Chen,Tzung-Chi Fu,Han-Lung Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-12-01.

Optical mask for blending overlapping tiled images

Номер патента: US20140098348A1. Автор: Nicholas Richard Coates,Jack Langley,Martin Howe,Craig Maddock. Владелец: Electrosonic Ltd. Дата публикации: 2014-04-10.

Optical mask for blending overlapping tiled images

Номер патента: WO2012076706A1. Автор: Nicholas Richard Coates,Jack Langley,Martin Howe,Craig Maddock. Владелец: Global Immersion Limited. Дата публикации: 2012-06-14.

Mask for EUV Lithography, EUV Lithography Apparatus and Method for Determining a Contrast Proportion Caused by DUV Radiation

Номер патента: US20170219920A1. Автор: Peter Huber. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-08-03.

Method for generating a reference image when characterizing a mask for microlithography

Номер патента: DE102016013260B4. Автор: Michael Himmelhaus,Carsten Schmidt. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2020-07-23.

Particle removing assembly and method of cleaning mask for lithography

Номер патента: US11698592B2. Автор: Hsin-Chang Lee,Chia-Jen Chen,Kuan-Wen Lin,Chen-Yang Lin,Da-wei Yu,Li-Hsin Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-07-11.

Method for producing a mask for the extreme ultraviolet wavelength range, mask and device

Номер патента: WO2016037851A1. Автор: Jan-Hendrik PETERS,Frederik Blumrich,Anthony Garetto,Renzo Capelli. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-03-17.

Set of at least two masks for the projection of structural patterns each formed on the masks and coordinated with one another and method for producing the masks

Номер патента: DE10310137A1. Автор: Mario Hennig,Rainer Dr.rer.nat. Pforr,Jörg Dr. Thiele,Wolfgang Dr. Dettmann,Karsten Zeiler. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2004-10-07.

Protective mask for reflection masks and method for using a protected reflection mask

Номер патента: DE10246788B4. Автор: Frank-Michael Dr. Kamm,Christof Matthias Dr. Schilz. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2007-08-30.

Mask for use in measuring flare, method of manufacturing the mask, method of identifying flare-affected region on wafer, and method of designing new mask to correct for flare

Номер патента: US7393615B2. Автор: Woo-Sung Han,Jung-Min Sohn,Seong-Woon Choi,Won-tai Ki,Shun-Yong Zinn,Tae-Moon Jeong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2008-07-01.

Mask for use in measuring flare, method of manufacturing the mask, method of identifying flare-affected region on wafer, and method of designing new mask to correct for flare

Номер патента: US20050083518A1. Автор: Woo-Sung Han,Jung-Min Sohn,Seong-Woon Choi,Won-tai Ki,Shun-Yong Zinn,Tae-Moon Jeong. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-04-21.

A method for preparing masks for use in the manufacture of a semi-conductor IC wafer,and a combination of masks

Номер патента: GB9818216D0. Автор: . Владелец: Analog Research and Development Ltd. Дата публикации: 1998-10-14.

Protective mask for pellicle

Номер патента: WO1996009571A1. Автор: Ching-Bore Wang. Владелец: Micro Lithography, Inc.. Дата публикации: 1996-03-28.

A method for preparing masks for use in the manufacture of a semi-conductor IC wafer,and a combination of masks

Номер патента: GB2328761B. Автор: James Thompson. Владелец: Analog Research and Development Ltd. Дата публикации: 2002-01-30.

Programmable mask for fabricating biomolecule array or polymer array, apparatus for fabricating biomolecule array or polymer array including the programmable mask, and method of fabricating biomolecule array or polymer array using the programmable mask

Номер патента: AU2006249246A1. Автор: Moon Youn Jung,Chi Hoon Jun,Se Ho Park,Dong Ho Shin,Hyeon Bong Pyo. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute ETRI. Дата публикации: 2007-06-28.

High power phase masks for imaging systems

Номер патента: US5328785A. Автор: Robert O. Hunter, Jr.,Adlai H. Smith. Владелец: Litel Instruments Inc. Дата публикации: 1994-07-12.

The making method a metal-mask for oled full-color, and the metal-mask make by this method

Номер патента: KR20050091506A. Автор: 김태식,박호영. Владелец: 풍원정밀(주). Дата публикации: 2005-09-15.

Particle removing assembly and method of cleaning mask for lithography

Номер патента: US20230314963A1. Автор: Hsin-Chang Lee,Chia-Jen Chen,Kuan-Wen Lin,Chen-Yang Lin,Da-wei Yu,Li-Hsin Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Scanning apparatus, particularly to be used in producing masks for micro circuits

Номер патента: CA1060124A. Автор: Gerhard Westerberg. Владелец: Individual. Дата публикации: 1979-08-07.

Illumination system with curved 1d-patterned mask for use in euv-exposure tool

Номер патента: US20200073251A1. Автор: David M. Williamson,Michael B. Binnard,Daniel Gene Smith,Donis G. Flagello. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2020-03-05.

Flat display comprising a frontal mask for the spatial, stereoscopic and/or holographic representation of information

Номер патента: HK1069946A1. Автор: Armin Schwerdtner. Владелец: Seereal Technologies Gmbh. Дата публикации: 2005-06-03.

Method for using disposable hard mask for gate critical dimension control

Номер патента: US5670423A. Автор: Chue-San Yoo. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 1997-09-23.

Coated mask for photolithographic construction of electric circuits

Номер патента: US4803110A. Автор: Kie Y. Ahn,Charles A. Cortellino,Joseph E. Levine,Stephen B. Brodsky,Saryadevara Basavaiah. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1989-02-07.

Mask for sequential lateral solidification and sequential lateral solidification apparatus having the same

Номер патента: US20110220904A1. Автор: Cheol-Ho Park,Jae-Beom Choi,In-do Chung,Kwon-Hyung Lee. Владелец: Samsung Mobile Display Co Ltd. Дата публикации: 2011-09-15.

Stencil mask for high - and ultrahigh-energy implantation

Номер патента: US20020182517A1. Автор: Michael Rueb. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2002-12-05.

Method and structure of pattern mask for dry etching

Номер патента: SG143176A1. Автор: Wen-Kun Yang,Jui-Hsien Chang,Chi-Chen Lee. Владелец: Advanced Chip Eng Tech Inc. Дата публикации: 2008-06-27.

Mask for vapor deposition apparatus, vapor deposition apparatus, vapor deposition method, and method for producing organic electroluminescence element

Номер патента: US09845530B2. Автор: Satoshi Inoue,Takashi Ochi,Masahiro Ichihara,Eiichi Matsumoto,Katsuhiro Kikuchi,Yuhki Kobayashi,Shinichi Kawato,Kazuki Matsunaga. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2017-12-19.

Surface processing method, mask for surface processing, and optical device

Номер патента: US20110117323A1. Автор: Kimio Ichikawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2011-05-19.

Mask for deposition, mask assembly including the same and method of forming the mask assembly

Номер патента: US09583708B2. Автор: Jung-Woo Ko. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Mask for thin film deposition and method of manufacturing OLED using the same

Номер патента: US09441288B2. Автор: Dong-Young Sung,Hong-Ryul Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-13.

Mask for deposition

Номер патента: US09666837B2. Автор: Sang Yun Lee. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Improved masking for patterns on light-emitting devices

Номер патента: RU2603434C2. Автор: Хольгер ШВАБ,Рейнхолд Антониус ФЛЕЙГЕ. Владелец: КОНИНКЛЕЙКЕ ФИЛИПС Н.В.. Дата публикации: 2016-11-27.

Mask for deposition, method of manufacturing mask, and method of manufacturing display device

Номер патента: US20180151803A1. Автор: Youngmin Moon,Minho Moon,Jeongkuk Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-31.

Mask for partial plating, and method for producing insulated circuit board and partial plating method using the mask

Номер патента: EP3995606A1. Автор: Satoru Ideguchi,Masaaki HIGO. Владелец: Dowa Metaltech Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-11.

Mask for thin film deposition, and fabrication method thereof

Номер патента: US11075340B2. Автор: Shinil Choi,Hongsick PARK,Sanggab Kim,Hyuneok Shin,Sangwoo SOHN,Sangwon Shin. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2021-07-27.

Mask for oled thin-film encapsulation

Номер патента: US20190198821A1. Автор: Wei Yu. Владелец: Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-06-27.

Receiver with a light collector array and a mask for improving detection resolution during a scanning procedure of an optical sensing system

Номер патента: US20230184903A1. Автор: Yue Lu,Youmin Wang. Владелец: Beijing Voyager Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-15.

Magnetic tunnel junction element with ru hard mask for use in magnetic random-access memory

Номер патента: US20200343298A1. Автор: Mustafa Pinarbasi,Jacob Anthony HERNANDEZ,Cheng Wei Chiu. Владелец: Spin Memory Inc. Дата публикации: 2020-10-29.

Mask for four-shot sequential lateral solidification

Номер патента: GB2410125A. Автор: Jaesung You. Владелец: LG Philips LCD Co Ltd. Дата публикации: 2005-07-20.

Protective mask for an optical receiver

Номер патента: WO2022256543A1. Автор: Stephen L. Mielke,Roger S. Cannon. Владелец: Luminar, Llc. Дата публикации: 2022-12-08.

Protective mask for an optical receiver

Номер патента: US11953722B2. Автор: Stephen L. Mielke,Roger S. Cannon. Владелец: Luminar Technologies Inc. Дата публикации: 2024-04-09.

Protective mask for an optical receiver

Номер патента: EP4348717A1. Автор: Stephen L. Mielke,Roger S. Cannon. Владелец: Luminar Technologies Inc. Дата публикации: 2024-04-10.

Display device and mask for manufacturing display device

Номер патента: US20170315411A1. Автор: Cheol Shin,Chang Il TAE,Hak Sun Chang. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-02.

Mask for spectrophotometer diode array

Номер патента: SG89592G. Автор: . Владелец: Hewlett Packard Co. Дата публикации: 1992-12-04.

Mask for spectrophotometer diode array

Номер патента: HK4293A. Автор: George William Hopkins. Владелец: Hewlett Packard Co. Дата публикации: 1993-01-29.

Shadow mask for flat cathode lay tube

Номер патента: US20010045795A1. Автор: Sung Ko. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2001-11-29.

Shadow mask for cathode ray tube

Номер патента: US20040027044A1. Автор: Akira Makita,Toshihiro Hatori,Hirofumi Hideshima. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2004-02-12.

Shadow mask for flat cathode-ray tube

Номер патента: US20020014820A1. Автор: Jin-Uk Jung. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2002-02-07.

Mask for color picture tube

Номер патента: US20020005688A1. Автор: Nozomu Arimoto,Chul-han Bae. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2002-01-17.

Tension mask for color cathode-ray tube and tension mask frame assembly

Номер патента: US20030048061A1. Автор: Sang-Ho Jeon,Jong-Han Rhee,Kun-Moo Lee. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2003-03-13.

Shadow mask for cathode ray tube

Номер патента: US20060226755A1. Автор: Chang-Mog Jo,Do-hun Pyun,Jae-Kwang Ryu,Soon-Dong Jeong. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2006-10-12.

Controlling the production of plate electrodes such as shadow masks for colour television tubes

Номер патента: GB1331814A. Автор: . Владелец: Zenith Radio Corp. Дата публикации: 1973-09-26.

Method of fixing to frame electrode or shadow mask for color image receiving tube

Номер патента: US5681197A. Автор: Hideo Suzuki,Takashi Ichiyanagi,Masaru Nagaike,Norihiko Egami,Manabu Kakino. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1997-10-28.

Shadow mask for cathode ray tube and manufacturing method thereof

Номер патента: US20050035702A1. Автор: SUNG Kim,Dong Kim,Sang Kim. Владелец: LG Philips Displays Korea Co Ltd. Дата публикации: 2005-02-17.

Method of making a shadow mask for a cathode ray tube

Номер патента: US6491831B1. Автор: Nobumitsu Aibara. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2002-12-10.

A tension mask for a cathode-ray tube with improved vibration damping

Номер патента: WO2002071436A3. Автор: Gary Lee Diven,Joseph Arthur Reed. Владелец: Joseph Arthur Reed. Дата публикации: 2003-02-20.

A tension mask for a cathode-ray tube with improved vibration damping

Номер патента: MY157273A. Автор: Gary Lee Diven,Joseph Arthur Reed. Владелец: Thomson Licensing Sa. Дата публикации: 2016-05-31.

A tension mask for a cathode-ray tube with improved vibration damping

Номер патента: EP1364383A2. Автор: Gary Lee Diven,Joseph Arthur Reed. Владелец: Thomson Licensing SAS. Дата публикации: 2003-11-26.

A tension mask for a cathode-ray tube with improved vibration damping

Номер патента: WO2002071436A2. Автор: Gary Lee Diven,Joseph Arthur Reed. Владелец: THOMSON LICENSING S.A.. Дата публикации: 2002-09-12.

Method for making a shadow mask for an apposed discharge plasm display panel

Номер патента: US20070117241A1. Автор: Hsu-Pin Kao,Sheng-Wen Hsu,Hsu-Chia Kao,Jang-Jeng Liang. Владелец: Marketech International Corp. Дата публикации: 2007-05-24.

Shadow masks for use in colour picture tubes

Номер патента: GB1323620A. Автор: . Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1973-07-18.

Grounding of conductive mask for deposition processes

Номер патента: WO2016195943A1. Автор: Soo Young Choi,Jae Jung Kim,Jin Man Ha,Yong Kyun Jeong,Chung Hee Park. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2016-12-08.

Shadow mask for a color CRT

Номер патента: GB2336467A. Автор: No Jin Park,Sang Mun Kim,Myung Hoon Oh. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 1999-10-20.

Mask rule checking for curvilinear masks for electronic circuits

Номер патента: US11748553B2. Автор: Thomas Christopher Cecil. Владелец: Synopsys Inc. Дата публикации: 2023-09-05.

Method of manufacturing a device by means of a mask and phase-shifting mask for use in said method

Номер патента: EP1185903A1. Автор: Peter Dirksen,Casparus A. H. Juffermans. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2002-03-13.

Mask for charged particle beam exposure, and method of forming the same

Номер патента: US20050008946A1. Автор: Kenichi Morimoto,Yoshinori Kinase,Yuki Aritsuka. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2005-01-13.

Method and structure for fabricating dark-periphery mask for the manufacture of semiconductor wafers

Номер патента: US20110207033A1. Автор: Guang Yea (Simon) Tarng. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2011-08-25.

Method and Structure for Fabricating Dark-Periphery Mask for the Manufacture of Semicondutor Wafers

Номер патента: US20090325080A1. Автор: Guang Yea (Simon) Tarng. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2009-12-31.

Charged particle microscope scan masking for three-dimensional reconstruction

Номер патента: US11741730B2. Автор: Pavel Potocek,Bert Henning Freitag,Maurice PEEMEN. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2023-08-29.

Phase mask for projection lithography and method for the manufacture thereof comprising a selectively etchable phase shift layer directly on substrate

Номер патента: US5284724A. Автор: Christoph Noelscher,Leonhard Mader. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1994-02-08.

Reflective masks for use in extreme ultraviolet lithography apparatus and methods of manufacturing the same

Номер патента: US09645484B2. Автор: Seong-Sue Kim,In-sung Kim,Tae-Geun Kim,Hwan-Seok Seo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-05-09.

Phase-shifting mask for equal line/space dense line patterns

Номер патента: US20060240333A1. Автор: Yuan-Hsun Wu,Yung-Long Hung. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2006-10-26.

Chromeless phase-shifting mask for equal line/space dense line patterns

Номер патента: US20060240332A1. Автор: Yuan-Hsun Wu,Yung-Long Hung,Chia-Tsung Hung. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2006-10-26.

Phase-shifting mask for projection photolithography and method for producing it

Номер патента: IE911163A1. Автор: Christoph Noelscher,Leonhard Mader. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1991-10-09.

Isolation mask for fine line display

Номер патента: WO2009070257A1. Автор: Kirk Wegner Christiansen. Владелец: WORLD PROPERTIES, INC.. Дата публикации: 2009-06-04.

Half-tone phase shift mask for fabrication of poly line

Номер патента: US6312856B1. Автор: Chin-Lung Lin. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2001-11-06.

Mask for Use in Lithography

Номер патента: US20140113222A1. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2014-04-24.

Modified mask for photolithography of a wafer with recess, method for producing such a mask and method for photolithography of a wafer with recess

Номер патента: EP2603835B1. Автор: Florian Bieck. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2021-03-10.

Pattern correcting method of mask for manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US20080212869A1. Автор: Koji Hashimoto,Satoshi Usui,Kei Yoshikawa. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2008-09-04.

Mask for extreme ultraviolet photolithography

Номер патента: US20210341829A1. Автор: Hsin-Chang Lee,Ta-Cheng Lien,Wen-Chang Hsueh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-11-04.

Phase shift mask for avoiding phase conflict

Номер патента: US20080213676A1. Автор: Chih-Li Chen,Tsan Lu. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2008-09-04.

Method and device for producing masks for a laser installation

Номер патента: US9939725B2. Автор: Werner Steffen,Charles Boegli,Steffen Weissmantel,Günter Reisse,Andy Engel,Rene Boettcher. Владелец: Boegli Gravures SA. Дата публикации: 2018-04-10.

Mask for extreme ultraviolet lithography and method of fabricating same

Номер патента: US9442365B2. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-09-13.

Method and device for producing masks for a laser installation for the production of microstructures

Номер патента: CA2784623C. Автор: Werner Steffen,Charles Boegli,Steffen Weissmantel,Andy Engel,Rene Boettcher,Guenter Reisse. Владелец: Boegli Gravures SA. Дата публикации: 2018-04-24.

Mask rule checking for curvilinear masks for electronic circuits

Номер патента: US20220277130A1. Автор: Thomas Christopher Cecil. Владелец: Synopsys Inc. Дата публикации: 2022-09-01.

Mask rule checking for curvilinear masks for electronic circuits

Номер патента: US20230129457A1. Автор: Thomas Christopher Cecil. Владелец: Synopsys Inc. Дата публикации: 2023-04-27.

Mask rule checking for curvilinear masks for electronic circuits

Номер патента: WO2020247655A1. Автор: Thomas Christopher Cecil. Владелец: Synopsys, Inc.. Дата публикации: 2020-12-10.

Mask rule checking for curvilinear masks for electronic circuits

Номер патента: EP3980966A1. Автор: Thomas Christopher Cecil. Владелец: Synopsys Inc. Дата публикации: 2022-04-13.

Masks for microlithography and methods of making and using such masks

Номер патента: TW200916945A. Автор: Zhong Shi,William A Stanton,Byron N Burgess. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2009-04-16.

Method of manufacturing a device by means of a mask and phase-shifting mask for use in said method

Номер патента: TW530332B. Автор: Peter Dirksen,Casparus Anthonius Juffermans. Владелец: Koninkl Philips Electronics Nv. Дата публикации: 2003-05-01.

Tri-tone trim mask for alternating phase-shift photolithography

Номер патента: WO2006060504A3. Автор: Thomas J Aton. Владелец: Thomas J Aton. Дата публикации: 2009-05-07.

Phase Shift Mask for Extreme Ultraviolet Lithography and Method of Fabricating Same

Номер патента: US20140038086A1. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Anthony Yen,Tsiao-Chen Wu,Chih-Tsung Shih,Hsin-Chang Lee,Shu-Hao Chang,Chia-Jen Chen,Pei-Cheng Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2014-02-06.

Mask rule checking for curvilinear masks for electronic circuits

Номер патента: US20200387660A1. Автор: Thomas Christopher Cecil. Владелец: Synopsys Inc. Дата публикации: 2020-12-10.

Inspecting method for mask for producing semiconductor device

Номер патента: US4586822A. Автор: Akikazu Tanimoto. Владелец: Nippon Kogaku KK. Дата публикации: 1986-05-06.

Laser processing apparatus, mask for laser processing, and method for making the mask

Номер патента: US6906282B2. Автор: Shiro Hamada. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2005-06-14.

Two-sided mask for patterning of materials with electromagnetic radiation

Номер патента: US5387484A. Автор: Fuad E. Doany,Douglas S. Goodman. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1995-02-07.

Phase shift masking for "double-T" intersecting lines

Номер патента: US20020197546A1. Автор: Christophe Pierrat. Владелец: Numerical Technologies Inc. Дата публикации: 2002-12-26.

REFLECTIVE MASK BLANK FOR EUV LITHOGRAPHY, REFLECTIVE MASK FOR EUV LITHOGRAPHY, AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANK AND MASK

Номер патента: US20220299862A1. Автор: KAWAHARA Hirotomo,TANABE Hiroyoshi,Uno Toshiyuki,AKAGI Daijiro. Владелец: AGC Inc.. Дата публикации: 2022-09-22.

Exact transmission balanced alternating phase-shifting mask for photolithography

Номер патента: US5932377A. Автор: Scott M. Mansfield,Lars W. Liebmann,Richard A. Ferguson,David S. O'Grady,Alfred K. Wong. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1999-08-03.

Scratch-resistant mask for photolithographic processing

Номер патента: US4049347A. Автор: Carlyle F. Smith, Jr.. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1977-09-20.

Method of making a scratch-resistant mask for photolithographic processing

Номер патента: US4081314A. Автор: Carlyle F. Smith, Jr.. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1978-03-28.

Method of fabricating wave-shaped mask for photolithography and exposure method of fabricating nano-scaled structure using the wave-shaped mask

Номер патента: US8748061B2. Автор: Si-Chen Lee,Yu-Wei Jiang,Fang-Tzu Chuang. Владелец: National Taiwan University NTU. Дата публикации: 2014-06-10.

OPTICAL MASK FOR USE IN A PHOTOLITHOGRAPHY PROCESS, A METHOD FOR FABRICATING THE OPTICAL MASK AND A METHOD FOR FABRICATING AN ARRAY OF PATTERNS ON A SUBSTRATE USING THE OPTICAL MASK

Номер патента: US20190064656A1. Автор: SHU Lei,Fang Ming,Ho Johnny Chung Yin. Владелец: . Дата публикации: 2019-02-28.

Reflective-type mask blank for exposure, method of producing the same, and reflective-type mask for exposure

Номер патента: US20030162005A1. Автор: Tsutomu Shoki. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2003-08-28.

Method for manufacturing mask blank, method for manufacturing mask for transfer, and method for manufacturing reflective mask

Номер патента: WO2011030521A1. Автор: 野澤　順. Владелец: Hoya株式会社. Дата публикации: 2011-03-17.

Reflective mask blank for euv lithography, reflective mask for euv lithography, and method for manufacturing same

Номер патента: US20230324785A1. Автор: Keishi Tsukiyama,Toshiyuki Uno,Michinori Suehara,Hiroaki IWAOKA,Hirotomo Kawahara,Daijiro AKAGI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Reflective mask blank for EUV lithography, reflective mask for EUV lithography, and method for manufacturing same

Номер патента: US11953822B2. Автор: Keishi Tsukiyama,Toshiyuki Uno,Michinori Suehara,Hiroaki IWAOKA,Hirotomo Kawahara,Daijiro AKAGI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-09.

Mask for exposure and method of fabricating substrate using said mask

Номер патента: US20130122403A1. Автор: Jong Kwang Lee,Min Kang,Bong-Yeon Kim,Jin Ho JU. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2013-05-16.

Reflective mask blank for euv lithography, reflective mask for euv lithography, and method for manufacturing same

Номер патента: US20240210814A1. Автор: Keishi Tsukiyama,Toshiyuki Uno,Michinori Suehara,Hiroaki IWAOKA,Hirotomo Kawahara,Daijiro AKAGI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Mask for decreasing the fabrication cost and method for design the same

Номер патента: TW200604725A. Автор: San-De Tzu. Владелец: Remarkable Ltd. Дата публикации: 2006-02-01.

Radiation mask for producing structural configurations in photo-sensitive resists by X-ray exposure

Номер патента: US4268563A. Автор: Dietrich Widmann. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1981-05-19.

Tension mask for color picture tube and method of manufacturing the same and exposure mask for making the tension mask

Номер патента: KR20010097161A. Автор: 이종한,전상호,임영빈,최덕현. Владелец: 김순택. Дата публикации: 2001-11-08.

Method of making grayscale mask for grayscale doe production by using an absorber layer

Номер патента: WO2006011977A2. Автор: Xinbing Liu. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co. Ltd.. Дата публикации: 2006-02-02.

Masks for charged-particle beam microlithography

Номер патента: US5798194A. Автор: Mamoru Nakasuji,Shintaro Kawata. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1998-08-25.

Photolithography mask for use during manufacturing of semiconductor devices, has mask substrate provided with three-dimensional pattern, and wafer arranged on inverted three-dimensional pattern and mask

Номер патента: DE102013111192A1. Автор: Rainer Leuschner,Josef Campidell,Gottfried Seebacher. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2014-04-17.

Mask for producing three-dimensional laminated objects, mask-producing method ans mask-employing method

Номер патента: EP0874280A2. Автор: Motoaki Ozaki,Yukio Otsuka. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 1998-10-28.

Keyboard mask for general-purpose calculator

Номер патента: US4119839A. Автор: Edmund Osterland,Uwe L. Beckmann. Владелец: W&G Instruments Inc. Дата публикации: 1978-10-10.

Mask for exposure of semiconductor

Номер патента: JPS57173939A. Автор: Tadashi Ozawa. Владелец: Nippon Electric Co Ltd. Дата публикации: 1982-10-26.

Mask for charged particle exposure

Номер патента: TW200424758A. Автор: Akira Yoshida. Владелец: LEEPL Corp. Дата публикации: 2004-11-16.

Isolation mask for fine line display

Номер патента: GB201009760D0. Автор: . Владелец: World Properties Inc. Дата публикации: 2010-07-21.

Phase shift mask for avoiding phase conflict

Номер патента: TW200837490A. Автор: Chih-Li Chen,Tsan Lu. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2008-09-16.

Lithographic fabrication of phase mask for fiber bragg gratings

Номер патента: AU2002246944A1. Автор: Joshua E. Rothenberg,Yunlong Sheng. Владелец: Phaethon Communications Inc. Дата публикации: 2002-08-12.

High-density mask for 3d substrates and method of its making

Номер патента: RU2573127C2. Автор: Адам ТОНЕР,Джеймс Дэниел РАЙЕЛЛ,Правин ПАНДОДЖИРАО-С. Владелец: Джонсон Энд Джонсон Вижн Кэа, Инк.. Дата публикации: 2016-01-20.

Data Masking for Pulse Amplitude Modulation

Номер патента: US20240361914A1. Автор: Keun Soo Song. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2024-10-31.

Data masking for pulse amplitude modulation

Номер патента: US12073084B2. Автор: Keun Soo Song. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2024-08-27.

Generating an image mask for a digital image by utilizing a multi-branch masking pipeline with neural networks

Номер патента: US20230281763A1. Автор: He Zhang,Zijun WEI,Brian Price,Yilin Wang,Jianming Zhang,Salil TAMBE,Seyed Morteza Safdarnejad. Владелец: Adobe Inc. Дата публикации: 2023-09-07.

Apparatuses and methods for input receiver circuits and receiver masks for same

Номер патента: US20240221818A1. Автор: John D. Porter,Dean D. Gans. Владелец: Lodestar Licensing Group LLC. Дата публикации: 2024-07-04.

Data masking for memory

Номер патента: US12050784B2. Автор: Daniele Vimercati,Jahanshir Javanifard,Angelo Visconti. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2024-07-30.

Dynamic data masking for graphical and textual content in robotic process automation

Номер патента: US20240241500A1. Автор: Xiaohui Xue,Alexandre Fortin,Nathan BIENFAIT,Kevin Le Fur,Soufia Maherzi,Nadia Zvorykin. Владелец: SAP SE. Дата публикации: 2024-07-18.

System and a method for stitching images using non-linear optimization and multi-constraint cost function minimization

Номер патента: EP3726458A1. Автор: Arindam Saha,Brojeshwar Bhowmick,Soumyadip MAITY. Владелец: Tata Consultancy Services Ltd. Дата публикации: 2020-10-21.

Adversarial masks for scene-customized false detection removal

Номер патента: US20240242496A1. Автор: Gang Qian,Allison Beach,Eduardo Romera Carmena. Владелец: Objectvideo Labs LLC. Дата публикации: 2024-07-18.

System and method for enablement of data masking for web documents

Номер патента: US09767086B2. Автор: Manish Shukla,Kumar Mansukhlal Vidhani,Vijayanand Mahadeo Banahatti,Sachin Premsukh Lodha,Arun Kumar JINDAL,Gangadhara Reddy Sirigireddy. Владелец: Tata Consultancy Services Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

System and method for stitching images using non-linear optimization and multi-constraint cost function minimization

Номер патента: US11288769B2. Автор: Arindam Saha,Brojeshwar Bhowmick,Soumyadip MAITY. Владелец: Tata Consultancy Services Ltd. Дата публикации: 2022-03-29.

System having darkening light filter, method of controlling system with darkening filter and protective mask for darkening light filter

Номер патента: RU2407045C2. Автор: Бенгт ГАРБЕРГС,Маркус ВИДЕРКЕХР,Бенгт ГАРБЕРГС (SE),Маркус ВИДЕРКЕХР (SE). Владелец: ЗМ Инновейтив Пропертиз Компани. Дата публикации: 2010-12-20.

Efficiently generating selection masks for row selections within indexed address spaces

Номер патента: WO2017030761A1. Автор: David Paul Hoff,Benjamin John Bowers,Milind Ram KULKARNI. Владелец: QUALCOMM INCORPORATED. Дата публикации: 2017-02-23.

Protective eye mask for the practice of winter sports

Номер патента: US12048652B2. Автор: Roberto Righi,Federico RIGHI. Владелец: Out Of Srl. Дата публикации: 2024-07-30.

Efficiently generating selection masks for row selections within indexed address spaces

Номер патента: US09852080B2. Автор: David Paul Hoff,Benjamin John Bowers,Milind Ram KULKARNI. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2017-12-26.

System and method for stitching images using non-linear optimization and multi-constraint cost function minimization

Номер патента: US20200327642A1. Автор: Arindam Saha,Brojeshwar Bhowmick,Soumyadip MAITY. Владелец: Tata Consultancy Services Ltd. Дата публикации: 2020-10-15.

Determining a mask for explaining a classification

Номер патента: EP3862925A1. Автор: Andres Mauricio Munoz Delgado. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2021-08-11.

Data masking for memory

Номер патента: US20230350582A1. Автор: Daniele Vimercati,Jahanshir Javanifard,Angelo Visconti. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2023-11-02.

Print masks for multiple pass print modes

Номер патента: WO2014037040A1. Автор: Utpal Kumar Sarkar,Jaime Fernandez,Ynqvar ROSSOW SETHNE. Владелец: Hewlett-Packard Development Company, L.P.. Дата публикации: 2014-03-13.

Apparatuses and methods for input receiver circuits and receiver masks for same

Номер патента: EP3861549A1. Автор: John D. Porter,Dean D. Gans. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2021-08-11.

Apparatuses and methods for input receiver circuits and receiver masks for same

Номер патента: US20200111522A1. Автор: John D. Porter,Dean D. Gans. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2020-04-09.

Apparatuses and methods for input receiver circuits and receiver masks for same

Номер патента: WO2020072389A1. Автор: John D. Porter,Dean D. Gans. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2020-04-09.

Apparatuses and methods for input receiver circuits and receiver masks for same

Номер патента: US20230420032A1. Автор: John D. Porter,Dean D. Gans. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2023-12-28.

Apparatuses and methods for input receiver circuits and receiver masks for same

Номер патента: US11955162B2. Автор: John D. Porter,Dean D. Gans. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2024-04-09.

Print masks for multiple pass print modes

Номер патента: US20150273908A1. Автор: Utpal Kumar Sarkar,Jamie Fernandez,Ynqvar Rossow. Владелец: Hewlett Packard Development Co LP. Дата публикации: 2015-10-01.

Method for obtaining facial metrics of a person and identifying a mask for the person from such metrics

Номер патента: WO2019121595A1. Автор: Richard Thomas Haibach,Robert William BAIKO,Daniel STEED. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS N.V.. Дата публикации: 2019-06-27.

System and method for nanostructure apodization mask for transmitter signal suppression in a duplex telescope

Номер патента: US20140061453A1. Автор: James J. Butler,John G. Hagopian,Jeffrey A. Livas,Shahram R. Shiri,Stephanie A. Getty,June L. Tveekrem. Владелец: National Aeronautics and Space Administration NASA. Дата публикации: 2014-03-06.

Method and device for stitching wind turbine blade images, and storage medium

Номер патента: US20200166019A1. Автор: Yan Ke,Wenfeng LIN,Xun Liu,George Christopher Yan. Владелец: Shanghai Clobotics Technology Co ltd. Дата публикации: 2020-05-28.

Method for stitching images of capsule endoscope, electronic device and readable storage medium

Номер патента: US11847805B2. Автор: HAO Zhang,Hui Liu,Hang Zhang,Zhiwei Huang,Wenjin YUAN. Владелец: ANX IP Holding Pte Ltd. Дата публикации: 2023-12-19.

AI-based region-of-interest masks for improved data reconstruction

Номер патента: US11983798B2. Автор: Gopal B. Avinash,Tao Tan,Dejun Wang,Buer QI,Lehel Ferenczi,Gireesha Chinthamani Rao,German Guillermo Vera Gonzalez. Владелец: GE Precision Healthcare LLC. Дата публикации: 2024-05-14.

System and method for generating a mask for object instances in an image

Номер патента: WO2020147957A1. Автор: Luc Van Gool,Wim Abbeloos,Marc PROESMANS,Davy NEVEN,Bert DE BRABANDERE. Владелец: TOYOTA MOTOR EUROPE. Дата публикации: 2020-07-23.

Local tile-based registration and global placement for stitching

Номер патента: US11769223B2. Автор: Anindya SARKAR,Jim Martin. Владелец: Ventana Medical Systems Inc. Дата публикации: 2023-09-26.

Adversarial masks for scene-customized false detection removal

Номер патента: US11978247B2. Автор: Gang Qian,Allison Beach,Eduardo Romera Carmena. Владелец: Objectvideo Labs LLC. Дата публикации: 2024-05-07.

A1n masking for selective etching of sapphire

Номер патента: CA1065746A. Автор: Richard F. Rutz. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1979-11-06.

Eye protection mask for practicing winter sports

Номер патента: US20240036356A1. Автор: Roberto Righi,Federico RIGHI. Владелец: Out Of Srl. Дата публикации: 2024-02-01.

Methods, precursors, and abrasive blasting masks for manufacturing noise attenuating devices

Номер патента: US11911873B2. Автор: Tony MILLAR,Derek SIMPSON. Владелец: SHORT BROTHERS PLC. Дата публикации: 2024-02-27.

Efficiently generating selection masks for row selections within indexed address spaces

Номер патента: US20170052900A1. Автор: David Paul Hoff,Benjamin John Bowers,Milind Ram KULKARNI. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2017-02-23.

Face mask for filtering air and air monitoring system

Номер патента: US11241594B2. Автор: Jason Tyler Griffin,Steven Henry Fyke,Richard Devin SZASZ,Brandon James LEONARD,Peter Lionel WHITBY,Michael Joseph Defazio. Владелец: O2 Industries Inc. Дата публикации: 2022-02-08.

Frame for glasses, masks for professional or sports use, and the like

Номер патента: CA2806409C. Автор: Mario Polegato Moretti. Владелец: Geox SpA. Дата публикации: 2018-09-04.

Mask for magnetic tape cassettes

Номер патента: CA1300258C. Автор: Abramo Bordignon. Владелец: ATB SpA. Дата публикации: 1992-05-05.

Mask for vacuum deposition and organic EL display panel manufactured by using the same

Номер патента: US20050098110A1. Автор: Hirosi Abiko. Владелец: Tohoku Pioneer Corp. Дата публикации: 2005-05-12.

Table masking for resistance to power analysis attacks

Номер патента: US20110033043A1. Автор: Catherine Helen Gebotys. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-02-10.

Method for producing metal mask for screen printing

Номер патента: US20090032507A1. Автор: Shozo Ishibashi,Keiji Mase. Владелец: Fuji Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2009-02-05.

Mask for deposition of metallic material for depositing oled pixels and manufacturing method thereof

Номер патента: EP4234759A2. Автор: Jee Heum Paik,Hae Sik Kim. Владелец: LG Innotek Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-30.

Mask for deposition of metallic material for depositing oled pixels and manufacturing method thereof

Номер патента: EP4234759A3. Автор: Jee Heum Paik,Hae Sik Kim. Владелец: LG Innotek Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-04.

Method and a generating module for determining filter masks for relevance testing of identifiers

Номер патента: US20020147562A1. Автор: Horst Wettstein,Helmut Schelling. Владелец: Vector Informatik GmbH. Дата публикации: 2002-10-10.

Metal plate and deposition mask for oled pixel deposition including same

Номер патента: EP4451833A1. Автор: Woo Young Chang. Владелец: LG Innotek Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-23.

Mask for patterning electrode structures in thin film el devices

Номер патента: CA1247256A. Автор: Robert A. Boudreau. Владелец: GTE Products Corp. Дата публикации: 1988-12-20.

Replacement conductive hard mask for multi-step magnetic tunnel junction (mtj) etch

Номер патента: EP3127174A1. Автор: Yu Lu,Wei-Chuan Chen,Chando Park. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2017-02-08.

Mask for laser induced thermal imaging and method of fabricating organic electro-luminescence display device using the same

Номер патента: US20110195352A1. Автор: Do-Young Kim,Dae-Hoon Kim,Min-chul Suh,Young-Gil Kwon,Seung-Mook Lee,Sun-Hoe KIM. Владелец: Samsung Mobile Display Co Ltd. Дата публикации: 2011-08-11.

Mask for wave soldering machine

Номер патента: CA1276507C. Автор: Dennis W. Grummett. Владелец: NCR Corp. Дата публикации: 1990-11-20.

Mask for depositing emission layer, method of manufacturing the mask, and display apparatus manufactured using the mask

Номер патента: EP4280851A1. Автор: Sangshin Lee,Jongsung Park,Seungjin LEE,Sanghoon Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-22.

Flexible time masks for listen-before-talk based channel access

Номер патента: US11849485B2. Автор: Muhammad Kazmi,Imadur Rahman,Christian Bergljung. Владелец: Telefonaktiebolaget LM Ericsson AB. Дата публикации: 2023-12-19.

Flexible time masks for listen-before-talk based channel access

Номер патента: US20240080889A1. Автор: Muhammad Ali Kazmi,Imadur Rahman,Christian Bergljung. Владелец: Telefonaktiebolaget LM Ericsson AB. Дата публикации: 2024-03-07.

Mask for depositing a thin film and a thin film deposition method using the same

Номер патента: US20160236222A1. Автор: Woong-Sik Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-18.

Mask for depositing a thin film and a thin film deposition method using the same

Номер патента: US9931661B2. Автор: Woong-Sik Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-03.

Mask for depositing a thin film and a thin film deposition method using the same

Номер патента: US20140370196A1. Автор: Woong-Sik Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2014-12-18.

Mask for deposition of metallic material for depositing oled pixels and manufacturing method thereof

Номер патента: EP3678204A2. Автор: Jee Heum Paik,Hae Sik Kim. Владелец: LG Innotek Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-08.

Method for manufacturing a correction mask for an image intensifier tube of the proximity-focus type having an oblong cathode and anode, and also a method for correcting an image intensifier tube

Номер патента: US5368513A. Автор: Netty E. Vlasbloem-van den Boezem. Владелец: Optische Industrie de Oude Delft NV. Дата публикации: 1994-11-29.

Method of making a mask for sealing a glass package

Номер патента: EP2118030A1. Автор: Stephan L Logunov. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2009-11-18.

Foldable mask for camera viewfinder

Номер патента: WO2001075518A3. Автор: Yeung Chi Ping. Владелец: Concord Camera Corp. Дата публикации: 2002-05-23.

Foldable mask for camera viewfinder

Номер патента: EP1269254A2. Автор: Yeung Chi Ping. Владелец: Concord Camera Corp. Дата публикации: 2003-01-02.

Foldable mask for camera viewfinder

Номер патента: WO2001075518A2. Автор: Yeung Chi Ping. Владелец: Concord Camera Corp.. Дата публикации: 2001-10-11.

Camera, such as an aps camera, having a single-piece, rotatable viewfinder and light-pipe mask for format selection

Номер патента: EP1175640A1. Автор: Yeung Chi Ping. Владелец: Concord Camera Corp. Дата публикации: 2002-01-30.

Camera, such as an aps camera, having a single-piece, rotatable viewfinder and light-pipe mask for format selection

Номер патента: WO2000062124A1. Автор: Yeung Chi Ping. Владелец: Concord Camera Corp.. Дата публикации: 2000-10-19.

Camera, such as an aps camera, having a single-piece, rotatable viewfinder and light-pipe mask for format selection

Номер патента: NZ514627A. Автор: Yeung Chi Ping. Владелец: Concord Camera Corp. Дата публикации: 2003-07-25.

Viewfinder mask for a photographic camera, viewfinder, and camera

Номер патента: US5933667A. Автор: Michael N. Freund. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1999-08-03.

Diamond-shaped mask for making multiple exposure holograms

Номер патента: US4923771A. Автор: Lane W. Cosner. Владелец: Hughes Aircraft Co. Дата публикации: 1990-05-08.

Mask for surveillance camera

Номер патента: US3720147A. Автор: W Bemis. Владелец: SETRONICS CORP. Дата публикации: 1973-03-13.

Lens mask for cameras and photographic method

Номер патента: US4291962A. Автор: THOMAS Jackson. Владелец: Individual. Дата публикации: 1981-09-29.

Staggered stepped apertured mask for copying machine

Номер патента: CA1066936A. Автор: Hans A. Massengeil. Владелец: Agfa Gevaert AG. Дата публикации: 1979-11-27.

Variable mask for camera lens - has three concentric, rotary rings, one serving to couple mask to camera and remaining two for mask motion

Номер патента: DE3000675A1. Автор: Pasquale Columpsi. Владелец: Individual. Дата публикации: 1980-09-11.

Camera, such as an aps camera, having a single-piece, rotatable viewfinder and light-pipe mask for format selection

Номер патента: AU4031800A. Автор: Yeung Chi Ping. Владелец: Concord Camera Corp. Дата публикации: 2000-11-14.

Camera, such as an aps camera, having a single-piece, rotatable viewfinder and light-pipe mask for format selection

Номер патента: EP1175640A4. Автор: Yeung Chi Ping. Владелец: Concord Camera Corp. Дата публикации: 2002-08-07.

Outer suspension type lens shielding mask for a projection apparatus

Номер патента: TW200538845A. Автор: Chih-Chung Yang,Hua-Wen Fan,Hsi-Chih Suen. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2005-12-01.

Metal hard mask for precise tuning of mandrels

Номер патента: US20240038535A1. Автор: Koichi Motoyama,Christopher J. Penny,Yann Mignot,Joe Lee. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2024-02-01.

Metal hard mask for precise tuning of mandrels

Номер патента: WO2024022857A1. Автор: Koichi Motoyama,Christopher Penny,Yann Mignot,Joe Lee. Владелец: Ibm United Kingdom Limited. Дата публикации: 2024-02-01.

Shadow Mask for Patterned Deposition on Substrates

Номер патента: US20150031148A1. Автор: Kurt Weiner,Indranil De. Владелец: Intermolecular Inc. Дата публикации: 2015-01-29.

Improved Mask For Protecting A Semiconductor Material For Localized Etching Applications

Номер патента: US20200211855A1. Автор: Jean-Luc Pelouard,Anne-Marie Goncalves,Arnaud Etcheberry,Mathieu Fregnaux,Anais Loubat. Владелец: CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE CNRS. Дата публикации: 2020-07-02.

Hard mask for mtj patterning

Номер патента: US20240260277A1. Автор: Chern-Yow Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Hybrid mask for deep etching

Номер патента: US20190385861A1. Автор: Mohamed Tarek GHONEIM. Владелец: King Abdullah University of Science and Technology KAUST. Дата публикации: 2019-12-19.

Low-cost method of making a hard mask for high resolution and low dimensional variations for the fabrication and manufacturing of micro- and nano-devices and -systems

Номер патента: US11990344B2. Автор: Michael A. Huff. Владелец: Corp for National Research Initiatives. Дата публикации: 2024-05-21.

Zinc oxide-based mask for selective reactive ion etching

Номер патента: US10134601B2. Автор: Yun Seog Lee,Devendra K. Sadana,Joel P. de Souza. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-11-20.

Zinc Oxide-Based Mask For Selective Reactive Ion Etching

Номер патента: US20180294163A1. Автор: Yun Seog Lee,Devendra K Sadana,Joel P De Souza. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-10-11.

Self aligned block masks for implantation control

Номер патента: US20210005459A1. Автор: Brent A. Anderson,Junli Wang,Ardasheir Rahman,Liying Jiang,Romain LALLEMENT. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2021-01-07.

Molecular layer deposition carbon masks for direct selective deposition of silicon-containing materials

Номер патента: US20240105499A1. Автор: XIANG Ji,Abhijit Basu Mallick,Susmit Singha Roy,Praket Prakash JHA,Zeqing Shen,Xinke WANG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-28.

Molecular layer deposition carbon masks for direct selective deposition of silicon-containing materials

Номер патента: WO2024073272A1. Автор: XIANG Ji,Abhijit Basu Mallick,Susmit Singha Roy,Praket Prakash JHA,Zeqing Shen,Xinke WANG. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-04-04.

Masking For High Temperature Implants

Номер патента: US20170025277A1. Автор: Andrew M. Waite,Naushad Variam. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2017-01-26.

A method for forming a hard mask for gate electrode patterning and corresponding device

Номер патента: SG121928A1. Автор: Chen Chia-Jen,Lee Tze-Liang,CHEN SHIH-CHANG,Chen Chao-Cheng,Chen Chien-Hao. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2006-05-26.

Self-aligned hard mask for epitaxy protection

Номер патента: US20160365287A1. Автор: Effendi Leobandung. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2016-12-15.

Sacrificial amorphous silicon hard mask for BEOL

Номер патента: US09741610B2. Автор: Jiehui SHU,Qiang Fang,Zhiguo Sun. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-08-22.

Highly physical etch resistive photoresist mask to define large height sub 30nm via and metal hard mask for MRAM devices

Номер патента: US11930715B2. Автор: Yi Yang,Yu-Jen Wang,Dongna Shen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-03-12.

Thin resist with nitride hard mask for via etch application

Номер патента: US6127070A. Автор: Fei Wang,Christopher F. Lyons,Scott A. Bell,Harry J. Levinson,Khanh B. Nguyen,Chih Yuh Yang. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2000-10-03.

Anodic aluminum oxide as hard mask for plasma etching

Номер патента: WO2019240909A1. Автор: Chanyuan Liu,Shih-Ked Lee. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2019-12-19.

Method of designing mask for self-scanning light emitting devices

Номер патента: TW457735B. Автор: Seiji Ono,Yukihisa Kusuda,Shunsuke Otsuka. Владелец: Nippon Sheet Glass Co Ltd. Дата публикации: 2001-10-01.

Seamless data masking for PaaS based applications

Номер патента: US09858431B2. Автор: Ariel Farkash,Abigail Goldsteen,Igor Gokhman,Micha Moffie. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-01-02.

Method and system for facilitating generation of background replacement masks for improved labeled image dataset collection

Номер патента: US20240249476A1. Автор: Robert R. Price,Matthew A. Shreve. Владелец: Palo Alto Research Center Inc. Дата публикации: 2024-07-25.

Systems and method of contextual data masking for private and secure data linkage

Номер патента: US20240330510A1. Автор: II James B. Cushman,Upwan Chachra,Satyender GOEL. Владелец: Collibra Belgium BV. Дата публикации: 2024-10-03.

Deterministic local key masking for high-speed encryption with key reuse

Номер патента: US20240313948A1. Автор: Matthew McGregor,Nicolas Thaddee COURTOIS. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2024-09-19.

Texture masking for video quality measurement

Номер патента: US09672636B2. Автор: Fan Zhang,Zhibo Chen,Kai Xie,Wenfei JIANG. Владелец: Thomson Licensing SAS. Дата публикации: 2017-06-06.

Reception of affine-invariant spatial mask for active depth sensing

Номер патента: US09448064B2. Автор: Sergiu Radu Goma,Kalin Mitkov Atanassov,Vikas Ramachandra,James Wilson Nash. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2016-09-20.

Generating an evaluation-mask for multi-factor authentication

Номер патента: US12126616B2. Автор: Suman Sedai,Jorge Andres Moros Ortiz,Bruno De Assis Marques. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2024-10-22.

Method and apparatus for stitching frames of image comprising moving objects

Номер патента: WO2024090674A1. Автор: Shubham Kumar,Vikas Kumar,Himanshu Sharma,Gopal Kumar. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2024-05-02.

Noise masks for virtual reality headset cooling fans

Номер патента: US20230402027A1. Автор: Travis Shih,Kuanlin Li. Владелец: Hewlett Packard Development Co LP. Дата публикации: 2023-12-14.

Self-similar reference masks for persistency in a video stream

Номер патента: US20190052891A1. Автор: Yaron Sella,Michal Devir,Harel Cain. Владелец: Cisco Technology Inc. Дата публикации: 2019-02-14.

Systems and methods for stitching sequential images of an object field of technology

Номер патента: EP3828810A1. Автор: Xiangyun Ye,James A. Negro,Ahmed EL-BARKOUKY. Владелец: Cognex Corp. Дата публикации: 2021-06-02.

Systems and methods for stitching sequential images of an object

Номер патента: US20190333259A1. Автор: Xiangyun Ye,James A. Negro,Ahmed EL-BARKOUKY. Владелец: Cognex Corp. Дата публикации: 2019-10-31.

Systems and Methods for Stitching Sequential Images of an Object

Номер патента: US20240177382A1. Автор: Xiangyun Ye,James A. Negro,Ahmed EL-BARKOUKY. Владелец: Cognex Corp. Дата публикации: 2024-05-30.

Using simple masks for online expression

Номер патента: US20240331296A1. Автор: Robert Marchant,Henry John Holland,David Matthew Jones,Benjamin Guy Alexander Pawle,George Joseph RICKERBY,Michael COLVILLE,Tríona Eidín BUTLER. Владелец: Google LLC. Дата публикации: 2024-10-03.

Selective content masking for collaborative computing

Номер патента: EP4272456A1. Автор: Dhandapani Shanmugam,Sreenivas Makam. Владелец: Google LLC. Дата публикации: 2023-11-08.

Selective Content Masking for Collaborative Computing

Номер патента: US20240089537A1. Автор: Dhandapani Shanmugam,Sreenivas Makam. Владелец: Google LLC. Дата публикации: 2024-03-14.

Seamless data masking for paas based applications

Номер патента: US20170124341A1. Автор: Ariel Farkash,Abigail Goldsteen,Igor Gokhman,Micha Moffie. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-05-04.

Selective content masking for collaborative computing

Номер патента: WO2022256539A1. Автор: Dhandapani Shanmugam,Sreenivas Makam. Владелец: Google LLC. Дата публикации: 2022-12-08.

Using simple masks for online expression

Номер патента: EP4352950A2. Автор: Robert Marchant,Henry John Holland,David Matthew Jones,Benjamin Guy Alexander Pawle,George Joseph RICKERBY,Michael COLVILLE,Tríona Eidín BUTLER. Владелец: Google LLC. Дата публикации: 2024-04-17.

Using simple masks for online expression

Номер патента: WO2023003575A3. Автор: Robert Marchant,Henry John Holland,David Matthew Jones,Benjamin Guy Alexander Pawle,George Joseph RICKERBY,Michael COLVILLE,Tríona Eidín BUTLER. Владелец: Google LLC. Дата публикации: 2023-11-23.

Systems and method of contextual data masking for private and secure data linkage

Номер патента: US20210232701A1. Автор: II James B. Cushman,Upwan Chachra,Satyender GOEL. Владелец: Collibra NV. Дата публикации: 2021-07-29.

Systems and method of contextual data masking for private and secure data linkage

Номер патента: US20230334174A1. Автор: II James B. Cushman,Upwan Chachra,Satyender GOEL. Владелец: Collibra Belgium BV. Дата публикации: 2023-10-19.

Systems and method of contextual data masking for private and secure data linkage

Номер патента: CA3166490A1. Автор: Upwan Chachra,James B. Cushman Ii,Satyender GOEL. Владелец: Collibra NV. Дата публикации: 2021-08-05.

Systems and method of contextual data masking for private and secure data linkage

Номер патента: EP4097617A1. Автор: Upwan Chachra,James B. Cushman Ii,Satyender GOEL. Владелец: Collibra NV. Дата публикации: 2022-12-07.

Systems and method of contextual data masking for private and secure data linkage

Номер патента: WO2021152542A1. Автор: Upwan Chachra,James B. Cushman Ii,Satyender GOEL. Владелец: Collibra NV. Дата публикации: 2021-08-05.

Systems and method of contextual data masking for private and secure data linkage

Номер патента: US12008137B2. Автор: II James B. Cushman,Upwan Chachra,Satyender GOEL. Владелец: Collibra Belgium BV. Дата публикации: 2024-06-11.

Systems and method of contextual data masking for private and secure data linkage

Номер патента: AU2021214982A1. Автор: Upwan Chachra,James B. Cushman Ii,Satyender GOEL. Владелец: Collibra Belgium BV. Дата публикации: 2022-07-28.

Generating evaluation-mask for multi-factor authentication

Номер патента: GB2616774A. Автор: Sedai Suman,de Assis Marques Bruno,Andres Moros Ortiz Jorge. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2023-09-20.

Generating an evaluation-mask for multi-factor authentication

Номер патента: US20220353258A1. Автор: Suman Sedai,Jorge Andres Moros Ortiz,Bruno De Assis Marques. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2022-11-03.

Multiplicative masking for cryptographic operations

Номер патента: US20230379133A1. Автор: Michael Tunstall,Francois DURVAUX. Владелец: Cryptography Research Inc. Дата публикации: 2023-11-23.

Metal plate for use in vapor deposition mask for organic EL display device, metal plate for use in vapor deposition mask for organic EL display device, and method for producing the same

Номер патента: TWI671411B. Автор: 初田千秋,池永知加雄,中山浩明,池田和成,大內詩子. Владелец: 日商大日本印刷股份有限公司. Дата публикации: 2019-09-11.

Metal hard mask for ild rie processing of semiconductor memory devices to prevent oxidation of conductive lines

Номер патента: US20020098676A1. Автор: Xian Ning,Joachim Nuetzel. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-07-25.

Using a same mask for direct print and self-aligned double patterning of nanosheets

Номер патента: US12080559B2. Автор: Eric Miller,Daniel James Dechene,Stuart Sieg. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2024-09-03.

Buried hard mask for embedded semiconductor device patterning

Номер патента: US09673206B2. Автор: Simon S. Chan,Scott A. Bell,Angela Tai Hui. Владелец: Cypress Semiconductor Corp. Дата публикации: 2017-06-06.

Use of a shadow mask and a soft mask for aligned implants in solar cells

Номер патента: WO2013003282A2. Автор: Atul Gupta,Nicholas P.T. Bateman,Benjamin B. Riordon. Владелец: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.. Дата публикации: 2013-01-03.

Directed self-assembly material etch mask for forming vertical nanowires

Номер патента: US09865682B2. Автор: Ajey Poovannummoottil Jacob,Gerard Schmid,Richard A. Farrell,Steven Bentley. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2018-01-09.

Method of forming a gate mask for fabricating a structure of gate lines

Номер патента: US09514942B1. Автор: Thorsten Kammler,Andreas Hellmich,Elliot John Smith,Carsten Grass. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2016-12-06.

Bi-layer hard mask for robust metallization profile

Номер патента: US09385086B2. Автор: Ching-Hua Hsieh,Shing-Chyang Pan,Hong-Hui Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-07-05.

Directed self-assembly material growth mask for forming vertical nanowires

Номер патента: US09698025B2. Автор: Ajey Poovannummoottil Jacob,Gerard Schmid,Richard A. Farrell,Steven Bentley. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-07-04.

Method and composite hard mask for forming deep trenches in a semiconductor substrate

Номер патента: US20050215061A1. Автор: Yinan Chen,Chang-Rong Wu,Tuz-Ching Tsai. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2005-09-29.

Self-aligned mask for ion implantation

Номер патента: US09780250B2. Автор: Prerna Goradia,Timothy J. Miller,Tapash Chakraborty,Robert J. Visser,Vikram M. Bhosle. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2017-10-03.

Alignment method using a block-out mask for a bipolar transistor

Номер патента: WO1999052137A1. Автор: David Neil Casey. Владелец: Zetex PLC. Дата публикации: 1999-10-14.

Mask for surface processing, method of forming the mask, surface processing method, particle-containing film, and method of forming the film

Номер патента: TW201013778A. Автор: Kimio Ichikawa,Shotaro Ogawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2010-04-01.

Hard mask for copper plasma etch

Номер патента: US20010035582A1. Автор: Peter D. Nunan,Mark Richard Tesauro. Владелец: STMicroelectronics lnc USA. Дата публикации: 2001-11-01.

Method of making a three-dimensional memory device using composite hard masks for formation of deep via openings

Номер патента: US20230343641A1. Автор: Raghuveer S. Makala,Senaka Kanakamedala,Kartik SONDHI,Roshan Jayakhar TIRUKKONDA. Владелец: Inc Western Digital Technologies. Дата публикации: 2023-10-26.

Mask for a substrate, substrate support, substrate processing apparatus, method for layer deposition on a substrate and method of manufacturing one or more devices

Номер патента: WO2024074202A1. Автор: Wolfgang Klein,Markus Hanika,Simon Lau,Avinash JAGADISH. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-04-11.

Directed self-assembly material growth mask for forming vertical nanowires

Номер патента: US20160071845A1. Автор: Ajey Poovannummoottil Jacob,Gerard Schmid,Richard A. Farrell,Steven Bentley. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2016-03-10.

Self-aligned hard mask for epitaxy protection

Номер патента: US20180040517A1. Автор: Effendi Leobandung. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-02-08.

Film carrier tape for mounting electronic part and screen mask for solder resist coating

Номер патента: TW200405530A. Автор: Akihiro Terada,Keisuke Yamashita. Владелец: Mitsui Mining & Smelting Co. Дата публикации: 2004-04-01.

Self-aligned hard mask for epitaxy protection

Номер патента: US09905475B2. Автор: Effendi Leobandung. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-02-27.

Method of making a three-dimensional memory device using composite hard masks for formation of deep via openings

Номер патента: US20230354609A1. Автор: Raghuveer S. Makala,Rahul Sharangpani,Senaka Kanakamedala,Kartik SONDHI,Roshan Jayakhar TIRUKKONDA. Владелец: SanDisk Technologies LLC. Дата публикации: 2023-11-02.

Silicon carbide oxide hard mask for reducing dishing effects

Номер патента: US20220149180A1. Автор: Yi-Lun Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-05-12.

Hard mask for low-k interlayer dielectric patterning

Номер патента: US7649264B2. Автор: Magdy S. Abdelrahman,Tony V. Mule. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2010-01-19.

Silicon carbide oxide hard mask for reducing dishing effects

Номер патента: US20210193817A1. Автор: Yi-Lun Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-06-24.

Silicon carbide oxide hard mask for reducing dishing effects

Номер патента: US11935942B2. Автор: Yi-Lun Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-03-19.

Silicon carbide oxide hard mask for reducing dishing effects

Номер патента: US20240170557A1. Автор: Yi-Lun Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Memory masking for periphery salicidation of active regions

Номер патента: US20030190781A1. Автор: Loi Nguyen,Robert Hodges. Владелец: SGS Thomson Microelectronics Inc. Дата публикации: 2003-10-09.

Direct ims (injection molded solder) wihtout a mask for formaing solder bumps on substrates

Номер патента: GB201214867D0. Автор: . Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2012-10-03.

Measurement of superposition accuracy of mask for integrated circuit

Номер патента: JPS57132327A. Автор: Yoshio Tanaka,Kosuke Uchiho,Yasuro Tosaka. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 1982-08-16.

Method and mask for making watermarked paper, method for making resulting watermarked paper mask, and method for authenticating watermarked paper

Номер патента: RU2748464C2. Автор: Иван ТЬЕРРИ,Стефан МАЛЛОЛЬ. Владелец: Обертюр Фидюсьер Сас. Дата публикации: 2021-05-25.

Full face mask for electrically driven air-purifying respirator (papr)

Номер патента: RU2566910C2. Автор: Оливер КЛОКСЕТ. Владелец: Фейскавэр Свиден Аб. Дата публикации: 2015-10-27.

Holding device for protection face-mask for connecting it with protection helmet

Номер патента: RU2301694C2. Автор: Клаус ШМИДТКЕ,Танги СЕВ,Филипп ФИТУССИ,Вильфрид ХОФФМАНН. Владелец: МСА АУЭР ГмбХ. Дата публикации: 2007-06-27.

Half mask for protection of human respiratory organs from cold

Номер патента: RU2674279C1. Автор: Андрей Владимирович Михалев,Александр Сергеевич Омельянович. Владелец: Александр Сергеевич Омельянович. Дата публикации: 2018-12-06.

Mask for skin and muscles of face

Номер патента: RU2724587C1. Автор: Кира Александровна Сорокина. Владелец: Кира Александровна Сорокина. Дата публикации: 2020-06-25.

Mask for artificial pulmonary ventilation

Номер патента: RU2708449C1. Автор: Владимир Викторович Михайлов. Владелец: Владимир Викторович Михайлов. Дата публикации: 2019-12-06.

Clay masks for face and body

Номер патента: RU2680832C1. Автор: Константин Владимирович Волков. Владелец: Талагаева Елена Владимировна. Дата публикации: 2019-02-28.

Cosmetic face mask for skin care

Номер патента: RU2696879C1. Автор: Наталья Витальевна Леснова. Владелец: Наталья Витальевна Леснова. Дата публикации: 2019-08-07.

Fracturable mask for treating presbyopia

Номер патента: US09943403B2. Автор: R. Kyle Webb,Daniel David SIEMS. Владелец: Acufocus Inc. Дата публикации: 2018-04-17.

Method and system for entering reserve wire for the nose in the production line of masks for the face

Номер патента: RU2643427C1. Автор: Эджей Й. ХОУД,Дэвид Ламар ХАРРИНГТОН,Марк Томас ПАМПЕРИН,Натан Крейг ХАРРИС,Джозеф П. ВЕБЕР. Владелец: Авент, Инк.. Дата публикации: 2018-02-01.

Combination mask for face and eyes

Номер патента: WO2024163487A1. Автор: James Allen HUTCHERSON. Владелец: Hutcherson James Allen. Дата публикации: 2024-08-08.

Electrode mask for electrowinning a metal

Номер патента: WO2014031855A1. Автор: Thomas Valentine. Владелец: Thomas Valentine. Дата публикации: 2014-02-27.

Mask for preventing water from entering tracheal stoma

Номер патента: US20230338685A1. Автор: Li-An Lu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-10-26.

Adhesion-stimulating temporary mask for coated surfaces

Номер патента: RU2526885C2. Автор: Джонатон З. ЧЖАО,Роберт ФАЛОТИКО,Теодор Л. ПАРКЕР,Вайпул ДЭЙВ,Чэнсюэ ЛИ,Тай М. НГУЙЕН. Владелец: Кордис Корпорейшн. Дата публикации: 2014-08-27.

Yeast-based masks for improved skin, hair and scalp health

Номер патента: US11759414B2. Автор: Sean Farmer,Ken Alibek. Владелец: Locus Solutions IPCO LLC. Дата публикации: 2023-09-19.

Mask for radiation dosimetry

Номер патента: EP3223905A1. Автор: Emiliano D'Agostino,Luana DE FREITAS NASCIMENTO,Filip VANHAVERE,Clarita SALDARRIAGA VARGAS,Marijke DE SAINT-HUBERT. Владелец: SCK CEN. Дата публикации: 2017-10-04.

Improved-seal mask for the respiratory therapy

Номер патента: CA2923357C. Автор: Maurizio Borsari. Владелец: Dimar Srl. Дата публикации: 2023-03-28.

Seal mask for the respiratory therapy

Номер патента: US20160263337A1. Автор: Maurizio Borsari. Владелец: Dimar Srl. Дата публикации: 2016-09-15.

Ribbon mask for impact dot matrix printed

Номер патента: US5785438A. Автор: Hiroshi Ishida,Naoto Yamaguchi,Masayuki Kumazaki,Kazuhiko Yamaguchi,Yukihiro Uchiyama. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 1998-07-28.

Method and machine for stitching a shoe upper to a related sole

Номер патента: EP1002150A2. Автор: Mario Ciucani. Владелец: Individual. Дата публикации: 2000-05-24.

Bead-apex stitching device and method for stitching an apex to a bead

Номер патента: US12122112B2. Автор: Timen Anton VAN WERVEN,Willem Marinus VAN BEEK. Владелец: VMI Holland BV. Дата публикации: 2024-10-22.

Stitcher and method for stitching together strips of rubber material

Номер патента: US09533459B2. Автор: Marco Johan Put,Cornelis Wouteres Janszen. Владелец: VMI Holland BV. Дата публикации: 2017-01-03.

Method of fabricating mask for forming wood grain patterns

Номер патента: US20090155482A1. Автор: Min Su Kim,Jong Seo Park. Владелец: Moltex Yangsan Co Ltd. Дата публикации: 2009-06-18.

Lithographic masking for spatially localized biochemical stimulus delivery

Номер патента: US20220348859A1. Автор: Keith E. Whitener,Woo-Kyung Lee,Dhanya Haridas,Jillian N. Lanese. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 2022-11-03.

Mouth mask for cunnilingus

Номер патента: US20240245150A1. Автор: Stanley Sotnikov. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-07-25.

Mask for caring for keratin material

Номер патента: WO2024197432A1. Автор: Lixuan KE,Wenyan Xu. Владелец: L'oreal. Дата публикации: 2024-10-03.

Universal mask for roller blinds

Номер патента: WO2015038017A1. Автор: Marek Wójkiewicz. Владелец: DECORA SPÓLKA AKCYJNA. Дата публикации: 2015-03-19.

Method for stitching printed products with a stitching machine and a stitching machine for implementing the method

Номер патента: US20110198795A1. Автор: Daniel GRABER,Lukas DYSLI,Andreas FLÜCK. Владелец: Mueller Martini Holding AG. Дата публикации: 2011-08-18.

Stitching roller for stitching a strip

Номер патента: WO2021086173A1. Автор: MULDER Gerben,Henrick Theodoor POSTHUMUS. Владелец: VMI HOLLAND B.V.. Дата публикации: 2021-05-06.

Stitching roller for stitching a strip

Номер патента: EP4051492A1. Автор: Gerben MULDER,Henrick Theodoor POSTHUMUS. Владелец: VMI Holland BV. Дата публикации: 2022-09-07.

Methods and apparatus for stitching tire patches

Номер патента: EP2254750A1. Автор: Adib Tony Chebli,Metodi Lubenov Ikonomov. Владелец: Michelin Recherche et Technique SA Switzerland. Дата публикации: 2010-12-01.

Full face mask for a PAPR

Номер патента: US09827723B2. Автор: Oliver Klockseth. Владелец: FACECOVER SWEDEN AB. Дата публикации: 2017-11-28.

Stitching roller for stitching a strip

Номер патента: US11993042B2. Автор: Gerben MULDER,Henrick Theodoor POSTHUMUS. Владелец: VMI Holland BV. Дата публикации: 2024-05-28.

Removable mask for a turbomachine blade or distributor sector platform

Номер патента: US09657405B2. Автор: Frederic Lagrange,Pascal Etuve,Pascal Sainz,Patrick Marquereau. Владелец: SNECMA SAS. Дата публикации: 2017-05-23.

Bead-apex stitching device and method for stitching an apex to a bead

Номер патента: CA3213196A1. Автор: Timen Anton VAN WERVEN,Willem Marinus VAN BEEK. Владелец: VMI Holland BV. Дата публикации: 2022-10-06.

Bead-apex stitching device and method for stitching an apex to a bead

Номер патента: US20240190094A1. Автор: Timen Anton VAN WERVEN,Willem Marinus VAN BEEK. Владелец: VMI Holland BV. Дата публикации: 2024-06-13.

Bead-apex stitching device and method for stitching an apex to a bead

Номер патента: EP4313573A1. Автор: Timen Anton VAN WERVEN,Willem Marinus VAN BEEK. Владелец: VMI Holland BV. Дата публикации: 2024-02-07.

Mask for Surface Snorkeling

Номер патента: US20200189701A1. Автор: Carlos Alberto Godoy. Владелец: Cressi Sub SpA. Дата публикации: 2020-06-18.

Spray Masking for Rotors

Номер патента: US20150231665A1. Автор: Steven G. Lemay,Christopher W. STROCK,Charles R. Beaudoin,Robert D. Richard. Владелец: United Technologies Corp. Дата публикации: 2015-08-20.

Spray Masking for Rotors

Номер патента: US20180161805A1. Автор: Steven G. Lemay,Christopher W. STROCK,Charles R. Beaudoin,Robert D. Richard. Владелец: United Technologies Corp. Дата публикации: 2018-06-14.

Spray masking for rotors

Номер патента: US09956580B2. Автор: Steven G. Lemay,Christopher W. STROCK,Charles R. Beaudoin,Robert D. Richard. Владелец: United Technologies Corp. Дата публикации: 2018-05-01.

Method of anti-corrosion protection of cathodic-polarizable underground metal structures with bitumen-polymeric layer of mastic in insulated coating and bitumen-polymer mask for insulating coating of cathodic-polarizable underground metal structures

Номер патента: RU2666917C1. Автор: Сергей Николаевич Макаров,Николай Николаевич Петров,Сергей Баянович Фахретдинов,Марат Константинович Тен. Владелец: Акционерное общество "Делан". Дата публикации: 2018-09-13.

Mask for caring for keratin materials

Номер патента: EP4391988A1. Автор: Liang Zhang,Libing CAI,Zhenxi LEE. Владелец: LOreal SA. Дата публикации: 2024-07-03.

Stitcher, tire building machine comprising said stitcher and method for stitching a tire component

Номер патента: EP4405167A1. Автор: Martin De Graaf,René SMIT,Herman Sebastiaan SCHERPENHUIZEN. Владелец: VMI Holland BV. Дата публикации: 2024-07-31.

Breathable mask for snorkeling and breathing tube thereof

Номер патента: US20240278887A1. Автор: Chih-Cheng Shiue. Владелец: QBAS Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Stitcher, tire building machine comprising said stitcher and method for stitching a tire component

Номер патента: CA3228523A1. Автор: Martin De Graaf,René SMIT,Herman Sebastiaan SCHERPENHUIZEN. Владелец: VMI Holland BV. Дата публикации: 2023-03-30.

A drive chain for stitch formation members of a circular knitting machine and a circular knitting machine comprising such drive chain

Номер патента: EP4413192A1. Автор: Stefano RIZZI,Andrea Lonati,Marco ANDREOLI. Владелец: Santoni SpA. Дата публикации: 2024-08-14.

Fixing thread for stitching of reinforcing fibers

Номер патента: RU2386534C2. Автор: Ульрих ЭБЕРТ,Пауль ЙОРН. Владелец: Эйрбас Дойчланд Гмбх. Дата публикации: 2010-04-20.

Stitching roller for stitching a strip

Номер патента: US20230166470A1. Автор: Gerben MULDER,Henrick Theodoor POSTHUMUS. Владелец: VMI Holland BV. Дата публикации: 2023-06-01.

Mask forming system for protecting a structure and a method of forming a mask for the same

Номер патента: US20240082865A1. Автор: Guerin Thomas Hollingsworth,Bryce Kenneth Hoch,Robert Frederick Rivers, Jr.,Michael Saul Zelinsky,Shelly J. Collinson,Benjamin David Haygood,Jason Anson Dill. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2024-03-14.

Cosmetic mask for skin application and a method of its application

Номер патента: RU2658046C1. Автор: Василий Николаевич Звездин,Татьяна Игоревна АКАФЬЕВА,Иван Аркадьевич Касаткин. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "БЛОМ РУС" (ООО "БЛОМ РУС"). Дата публикации: 2018-06-19.

Face mask for patient breathing

Номер патента: US5921239A. Автор: Allan R. Jones, Jr.,Shawn R. McCall,Daniel E. Kimble. Владелец: Sunrise Medical HHG Inc. Дата публикации: 1999-07-13.

Eyecup, headband, and eye mask for sleeping

Номер патента: US12016800B2. Автор: Benjamin Schwarz,Mark Zhang. Владелец: Manta Sleep LLC. Дата публикации: 2024-06-25.

Polishing mask for intraocular lens

Номер патента: US20030114093A1. Автор: Richard Wrue. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-06-19.

Eyecup, headband, and eye mask for sleeping

Номер патента: AU2022203743A1. Автор: Benjamin Schwarz,Mark Zhang. Владелец: Manta Sleep LLC. Дата публикации: 2023-03-16.

Eyecup, headband, and eye mask for sleeping

Номер патента: AU2022203743B2. Автор: Benjamin Schwarz,Mark Zhang. Владелец: Manta Sleep LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Polishing mask for intraocular lens

Номер патента: WO2003051576A1. Автор: Richard J. Wrue. Владелец: Bausch & Lomb Incorporated. Дата публикации: 2003-06-26.

Gas mask for normal pressure operation and overpressure operation

Номер патента: US7575004B2. Автор: Thomas Grassl,Manfred Gdulla,Rudiger Muller,Siegbert Tolk,Olaf Balke,Rüdiger Weich. Владелец: Draeger Safety AG and Co KGaA. Дата публикации: 2009-08-18.

Mask for delivery of respiratory therapy to a patient and a lotion dispenser therefor

Номер патента: US09566405B2. Автор: Lee James VELISS,Philip Rodney Kwok,Eva Ng,Rupert Christian Scheiner,Steven John Lubke,Andrew Martin Price. Владелец: ResMed Pty Ltd. Дата публикации: 2017-02-14.

Preventive facial mask for antimicrobial protection in the airborne upper respiratory tract diseases

Номер патента: RU2644316C1. Автор: Анатолий Алексеевич Хабаров,Елена Вячеславовна Будко,Леонид Михайлович Ямпольский,Евгений Олегович Федоров,Алексей Владимирович Барчуков,Оксана Игоревна Еремина. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Курский государственный медицинский университет" Министерства здравоохранения Российской Федерации. Дата публикации: 2018-02-08.

A drive chain for stitch formation members of a circular knitting machine and a circular knitting machine comprising such drive chain

Номер патента: EP4413191A1. Автор: Stefano RIZZI,Andrea Lonati,Marco ANDREOLI. Владелец: Santoni SpA. Дата публикации: 2024-08-14.

Mask for underwater swimming, having a body equipped with an exhaled air removal device, comprising a check valve

Номер патента: RU2724570C1. Автор: Кентен СОРИГ,Жонатан ВАНДАМ. Владелец: Декатлон. Дата публикации: 2020-06-23.

Improved method and apparatus for stitching up wool bales and like fabric containers

Номер патента: GB530700A. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 1940-12-18.

Anti-fog mask for blocking exhaled breath

Номер патента: US20240081437A1. Автор: Justin Taekwon KONG. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-03-14.

Cord placing mechanism for stitching and similar machines

Номер патента: WO1995028514A1. Автор: Miltiadis Vassiliadis. Владелец: Gunold, Friedrich, Ekkehard. Дата публикации: 1995-10-26.

Light mask for instrument cluster

Номер патента: GB2247807A. Автор: Simon Peter Breen,Nigel Ian Barrett,David Dickson. Владелец: Delco Electronics Overseas Corp. Дата публикации: 1992-03-11.

Method of shaping a flex mask for use in uniform optical coating by ion beam sputtering

Номер патента: CA2348147C. Автор: Dhirubhai Patel,Leo Lam,William Debley,Radhakrishna Mandyam. Владелец: Litton Systems Inc. Дата публикации: 2008-08-19.

Mask for administration of inhaled medication

Номер патента: CA2853506C. Автор: K. Mosaddeq Hossain,Michael Newhouse,Vijay Shukla,Asaf Halamish,Paresh VASANDANI,Israel Amirav. Владелец: NOSTRUM TECHNOLOGIES LLC. Дата публикации: 2019-09-24.

Fracturable mask for treating presbyopia

Номер патента: EP3220859A1. Автор: R. Kyle Webb,Daniel David SIEMS. Владелец: Acufocus Inc. Дата публикации: 2017-09-27.

Mask for administration of inhaled medication

Номер патента: US20200254196A1. Автор: K. Mosaddeq Hossain,Michael Newhouse,Vijay Shukla,Asaf Halamish,Paresh VASANDANI,Israel Amirav. Владелец: Nostrum Tech LLC. Дата публикации: 2020-08-13.

Mask for administration of inhaled medication

Номер патента: US20190275266A1. Автор: K. Mosaddeq Hossain,Michael Newhouse,Vijay Shukla,Asaf Halamish,Paresh VASANDANI,Israel Amirav. Владелец: Nostrum Tech LLC. Дата публикации: 2019-09-12.

Cosmetic mask for face skin care

Номер патента: RU2629336C1. Автор: Евгения Владимировна Мартовщук,Василий Евгеньевич Тарасов,Сергей Васильевич Тарасов,Сабина Афшановна Мамедова,Анна Александровна Чумак. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Кубанский государственный технологический университет" (ФГБОУ ВО "КубГТУ"). Дата публикации: 2017-08-28.

Clay masks for face and body

Номер патента: RU2686082C1. Автор: Константин Владимирович Волков. Владелец: Талагаева Елена Владимировна. Дата публикации: 2019-04-24.

Clay masks for face and body

Номер патента: RU2694831C1. Автор: Константин Владимирович Волков. Владелец: Талагаева Елена Владимировна. Дата публикации: 2019-07-17.

Ultraviolet (uv) light face mask for infection protection

Номер патента: WO2021222331A1. Автор: Scott Miles,Mark Rolfe JOHNSON,Robert L. Bishop. Владелец: Uvertek, Inc.. Дата публикации: 2021-11-04.

Mask for administration of inhaled medication

Номер патента: CA3051326A1. Автор: K. Mosaddeq Hossain,Michael Newhouse,Vijay Shukla,Asaf Halamish,Paresh VASANDANI,Israel Amirav. Владелец: NOSTRUM TECHNOLOGIES LLC. Дата публикации: 2012-12-20.

Method for stitching a multi-layer garment lining

Номер патента: CA3073971A1. Автор: Emily Steed EWELL. Владелец: EC BRAND COM IMP EXP DE VEST EM GERAL LTDA. Дата публикации: 2019-03-07.

Stitcher, tire building machine comprising said stitcher and method for stitching a tire component

Номер патента: WO2023048560A1. Автор: Martin De Graaf,René SMIT,Herman Sebastiaan SCHERPENHUIZEN. Владелец: Vmi Holland B.V. Дата публикации: 2023-03-30.

Masking for engine blocks for thermally sprayed coatings and method of masking same

Номер патента: US6589605B2. Автор: Oludele Olusegun Popoola,Keith Raymond Bartle,Barry Edwin Shepley,Patrick John Hilton,Robert Edward DeJack. Владелец: FORD GLOBAL TECHNOLOGIES LLC. Дата публикации: 2003-07-08.

Nebulizer mask for delivery of aerosolized and nebulized medications

Номер патента: CA2610334C. Автор: Lee Mcdonald,Julius Hajgato. Владелец: Southmedic Inc. Дата публикации: 2012-01-24.

Welder{3 s mask for use with respirator

Номер патента: US3914796A. Автор: Raymond D Barta. Владелец: Airco Inc. Дата публикации: 1975-10-28.

Ventilated mask for outdoor use

Номер патента: US7055521B1. Автор: Ronald A. JOHNSON. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-06-06.

Uv-mask for crosslinking treatment of keratoconus

Номер патента: WO2021248100A1. Автор: Robert Epstein. Владелец: Robert Epstein. Дата публикации: 2021-12-09.

Training mask for training the respiratory muscles and/or snorkeling mask with improved air routing

Номер патента: US11760452B2. Автор: Thierry Lucas. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-09-19.

Yeast-based masks for improved skin, hair and scalp health

Номер патента: US20230381088A1. Автор: Sean Farmer,Ken Alibek. Владелец: Locus Solutions IPCO LLC. Дата публикации: 2023-11-30.

Method and mask for reducing inhalation of microorganisms

Номер патента: US11801403B2. Автор: Lei Yao,Xiao Liao,Yongli Wang,Siyu Lin. Владелец: Hong Kong Research Institute of Textiles and Apparel Ltd. Дата публикации: 2023-10-31.

Improvements in or relating to Sewing Machines for Stitching and Padding Collars for Garments.

Номер патента: GB191415917A. Автор: Harry Benson Cranage. Владелец: Individual. Дата публикации: 1915-04-29.

Apparatus for stitching vehicle interior components

Номер патента: EP3027798A1. Автор: Edward J. Wenzel,Ramez M. Habhab. Владелец: Inteva Products LLC. Дата публикации: 2016-06-08.

Apparatus for stitching vehicle interior components

Номер патента: WO2015017319A1. Автор: Edward J. Wenzel,Ramez M. Habhab. Владелец: Inteva Products Llc.. Дата публикации: 2015-02-05.

Method of manufacturing a full-face mask for an air purifying respirator and such a mask

Номер патента: WO2023247520A1. Автор: Mikael Klockseth. Владелец: Tiki Safety Ab. Дата публикации: 2023-12-28.

Drug delivery mask for animals

Номер патента: US20070000452A1. Автор: Brian Barney,Esther Perea-Borobio. Владелец: Norton Healthcare Ltd. Дата публикации: 2007-01-04.

Method, apparatus, and computer-readable medium for stitching

Номер патента: US09840797B2. Автор: Neal A. Schwarzberger,William E. Schnaufer. Владелец: ABM International Inc. Дата публикации: 2017-12-12.

Face mask for the protection against biological agents

Номер патента: CA2555847C. Автор: Stefano Cerbini. Владелец: CL com Srl. Дата публикации: 2010-09-14.

Mask for administering gas to a patient

Номер патента: GB1516494A. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 1978-07-05.

Method and mask for forming thin film

Номер патента: US4704306A. Автор: Takeshi Nakamura. Владелец: Murata Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 1987-11-03.

Mask for evaporation

Номер патента: US20230167536A1. Автор: Yan Huang,Jianbo Li,Yi Ma,Fengli JI,Chang Luo,Guomeng Zhang. Владелец: Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-01.

Mask for use in fire accidents

Номер патента: US5392465A. Автор: Lee W. Shou. Владелец: MULTIPLE INTERNATIONAL DEVELOPMENT Co Ltd. Дата публикации: 1995-02-28.

Customizable face or nose mask for the noninvasive ventilation of patients in general

Номер патента: US20030075181A1. Автор: Massimo Fini,Paolo Bergamaschi. Владелец: Paolo Bergamaschi. Дата публикации: 2003-04-24.

Mask for adminstering an anesthetic gas to a patient

Номер патента: US5018519A. Автор: Glenn E. Brown. Владелец: Individual. Дата публикации: 1991-05-28.

Mask for preventing permeation of foreign material

Номер патента: US6145504A. Автор: Kaoru Miyake. Владелец: San M Packaging Co Ltd. Дата публикации: 2000-11-14.

Mask for a horse

Номер патента: GB2461887A. Автор: Clare Gillian Hobsley. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-01-20.

Oxygen-capnography mask for continuous CO2 monitoring

Номер патента: US11850363B2. Автор: Michael KERTSER,Konstantin Goulitski. Владелец: Oridion Medical 1987 Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Method, apparatus, and computer-readable medium for stitching

Номер патента: US10100449B2. Автор: Neal A. Schwarzberger,William E. Schnaufer. Владелец: ABM International Inc. Дата публикации: 2018-10-16.

Apparatus for stitching vehicle interior components

Номер патента: US20160222564A1. Автор: Edward J. Wenzel,Ramez M. Habhab. Владелец: Inteva Products LLC. Дата публикации: 2016-08-04.

Method, Apparatus, And Computer-Readable Medium For Stitching

Номер патента: US20190153644A1. Автор: Neal A. Schwarzberger,William E. Schnaufer. Владелец: ABM International Inc. Дата публикации: 2019-05-23.

Method, Apparatus, And Computer-Readable Medium For Stitching

Номер патента: US20180051406A1. Автор: Neal A. Schwarzberger,William E. Schnaufer. Владелец: ABM International Inc. Дата публикации: 2018-02-22.

Method, Apparatus, And Computer-Readable Medium For Stitching

Номер патента: US20150259838A1. Автор: Neal A. Schwarzberger,William E. Schnaufer. Владелец: ABM International Inc. Дата публикации: 2015-09-17.

Method, Apparatus, And Computer-Readable Medium For Stitching

Номер патента: US20180340279A1. Автор: Neal A. Schwarzberger,William E. Schnaufer. Владелец: ABM International Inc. Дата публикации: 2018-11-29.

Creams and masks for face and body (options)

Номер патента: RU2680966C1. Автор: Константин Владимирович Волков. Владелец: Талагаева Елена Владимировна. Дата публикации: 2019-03-01.

Painting mask for use when painting a rim that is secured to a tire

Номер патента: US5667590A. Автор: Andrew E. Simons, Sr.. Владелец: Individual. Дата публикации: 1997-09-16.

Mask for vapor deposition

Номер патента: WO2006020469A3. Автор: Tsutomu Miura,Nobuyuki Mori. Владелец: Nobuyuki Mori. Дата публикации: 2006-05-04.

Breathable mask for snorkeling

Номер патента: US20230415866A1. Автор: Chih-Cheng Shiue. Владелец: QBAS Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Virtual visualization, occupant supports, vortex fire, and masks for viral control

Номер патента: EP4208389A1. Автор: Arjuna Indraeswaran Rajasinham. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-07-12.

Passenger Oxygen Mask for Use in an Aircraft, Emergency Oxygen System, and Aircraft

Номер патента: US20220331622A1. Автор: Detlev Degenhardt. Владелец: BE Aerospace Systems GmbH. Дата публикации: 2022-10-20.

Face mask for diving

Номер патента: US20060162055A1. Автор: Yuji Kuroda. Владелец: Tabata Co Ltd. Дата публикации: 2006-07-27.

Foldable and flexible ultrasonic vibration mask for teeth cleaning

Номер патента: US9492254B2. Автор: Jium Ming Lin. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-11-15.

Foldable and flexible ultrasonic vibration mask for teeth cleaning

Номер патента: US20160030143A1. Автор: Jium Ming Lin. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-02-04.

Eyecup, headband, and eye mask for sleeping

Номер патента: US20230062643A1. Автор: Benjamin Schwarz,Mark Zhang. Владелец: Manta Sleep LLC. Дата публикации: 2023-03-02.

Mask for deposition, apparatus for manufacturing display apparatus having the same, and method of manufacturing display apparatus with manufacturing display apparatus having mask for deposition

Номер патента: US20180358389A1. Автор: Sanghoon Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2018-12-13.

Masking for light emitting device patterns

Номер патента: US09806297B2. Автор: Holger Schwab,Reinhold Antonius Fleige. Владелец: Koninklijke Philips NV. Дата публикации: 2017-10-31.

Molded contrast mask for display module

Номер патента: US20200357776A1. Автор: Ryan Joseph NIELSEN,Gregory Lynn RAUEN,Matthew Craig BUISKER. Владелец: Daktronics Inc. Дата публикации: 2020-11-12.

Molded contrast mask for display module

Номер патента: US20230343762A1. Автор: Ryan Joseph NIELSEN,Gregory Lynn RAUEN,Matthew Craig BUISKER. Владелец: Daktronics Inc. Дата публикации: 2023-10-26.

Capillary for stitch bond

Номер патента: US20240250060A1. Автор: Tingting Yu,Ye Zhuang,Huo Yun Duan,Xiao Lin Kang,Xiaoling Kang,Zi Qi Wang. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2024-07-25.

Masks for use in applying protective coatings to electronic assemblies, masked electronic assemblies and associated methods

Номер патента: EP2803083A1. Автор: Max Sorenson,Blake Stevens,Sidney Edward Martin, Iii. Владелец: HZO Inc. Дата публикации: 2014-11-19.

METHOD FOR PRODUCING BASE FOR METAL MASKS, METHOD FOR PRODUCING METAL MASK FOR VAPOR DEPOSITION, BASE FOR METAL MASKS, AND METAL MASK FOR VAPOR DEPOSITION

Номер патента: US20180065162A1. Автор: NISHITSUJI Kiyoaki,Nishi Takehiro,TERADA Reiji,MIKAMI Naoko,KURATA Masashi,FUJITO Daisei,TAMURA Sumika. Владелец: . Дата публикации: 2018-03-08.

METHOD FOR PRODUCING BASE FOR METAL MASKS, METHOD FOR PRODUCING METAL MASK FOR VAPOR DEPOSITION, BASE FOR METAL MASKS, AND METAL MASK FOR VAPOR DEPOSITION

Номер патента: US20210355586A1. Автор: NISHITSUJI Kiyoaki,Nishi Takehiro,TERADA Reiji,MIKAMI Naoko,KURATA Masashi,FUJITO Daisei,TAMURA Sumika. Владелец: . Дата публикации: 2021-11-18.

METAL MASK SUBSTRATE FOR VAPOR DEPOSITION, METAL MASK FOR VAPOR DEPOSITION, PRODUCTION METHOD FOR METAL MASK SUBSTRATE FOR VAPOR DEPOSITION, AND PRODUCTION METHOD FOR METAL MASK FOR VAPOR DEPOSITION

Номер патента: US20200399770A1. Автор: SHINNO Mikio,NISHITSUJI Kiyoaki,Nishi Takehiro,MIKAMI Naoko,FUJITO Daisei,TAMURA Sumika. Владелец: . Дата публикации: 2020-12-24.

Method for producing base for metal masks, method for producing metal mask for vapor deposition, base for metal masks, and metal mask for vapor deposition

Номер патента: KR102388829B1. Автор: 레이지 데라다,나오코 미카미,마사시 구라타,기요아키 니시츠지,다이세이 후지토,다케히로 니시,스미카 다무라. Владелец: 도판 인사츠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2022-04-21.

Method for producing base for metal masks, method for producing metal mask for vapor deposition, base for metal masks, and metal mask for vapor deposition

Номер патента: KR20220053686A. Автор: 레이지 데라다,나오코 미카미,마사시 구라타,기요아키 니시츠지,다이세이 후지토,다케히로 니시,스미카 다무라. Владелец: 도판 인사츠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2022-04-29.

Double interconnects for stitched dies

Номер патента: US20240222272A1. Автор: Tahir Ghani,Anand S. Murthy,Wilfred Gomes,Christopher M. PELTO,Abhishek Anil Sharma. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

Plate through mask for generating alignment marks of mim capacitors

Номер патента: WO2004049407A2. Автор: Xian J. Ning,Kwong Hon Wong. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2004-06-10.

Shadow mask for oled evaporation and manufacturing method therefor, and oled panel manufacturing method

Номер патента: US20200044010A1. Автор: Tieer Gu,Jie Kong,Yuhan Ju. Владелец: Shanghai Seeo Optronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-02-06.

Molded contrast mask for display module

Номер патента: EP3966862A2. Автор: Ryan Joseph NIELSEN,Gregory Lynn RAUEN,Matthew Craig BUISKER. Владелец: Daktronics Inc. Дата публикации: 2022-03-16.

A patterned pad to create a virtual solder mask for wafer-level chip-scale packages

Номер патента: TW201614746A. Автор: Bora Baloglu,Christopher J Berry,Glenn Rinne. Владелец: Amkor Technology Inc. Дата публикации: 2016-04-16.

Spacer etch mask for sonos memory

Номер патента: AU2002230969A1. Автор: Mark T. Ramsbey,Ravi Sunkavalli,Tuan Pham,Mark Randolph,Angela Hui,Janet Wang,Narbeh Derhacobian. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2003-01-08.

Color cathode ray tube and method for manufacturing a shadow mask for a color cathode ray tube

Номер патента: US20010020815A1. Автор: Katsumi Mitsuda,Hiroo Terada. Владелец: Matsushita Electronics Corp. Дата публикации: 2001-09-13.

Magnetized substrate carrier apparatus with shadow mask for deposition

Номер патента: US20200211769A1. Автор: Roey Shaviv,Alexander Lerner,Daniel Lee Diehl. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-07-02.

Shadow mask for color CRT

Номер патента: US20020153821A1. Автор: SUNG Kim,Hyeon Hong. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2002-10-24.

Magnetic masks for an ion implant apparatus

Номер патента: WO2014093562A2. Автор: Robert B. Vopat,Christopher N. GRANT. Владелец: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.. Дата публикации: 2014-06-19.

Material for shadow mask for color image receiving tube, method for production thereof, shadow mask, and image receiving tube

Номер патента: AU4432500A. Автор: Takahiko Miyazaki,Tsuneyuki Ide,Yasuo Tahara,Susumu Shigemasa. Владелец: Toyo Kohan Co Ltd. Дата публикации: 2000-12-05.

Shadow mask for color CRT and method for forming same

Номер патента: US5990607A. Автор: Wen-Chi Chen,Kuo-Cheng Chen,Ching-Hsiang Tseng. Владелец: Chunghwa Picture Tubes Ltd. Дата публикации: 1999-11-23.

Flat mask for cathode ray tube

Номер патента: US20020190629A1. Автор: Dong-Hwan Kim,Sang-Ho Jeon,Jong-Han Rhee,Hyang-Jin Koh,Jun-Jong Lee. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2002-12-19.

Shadow mask for cathode ray tube

Номер патента: US20040061424A1. Автор: Dong-Hwan Kim,Hyung-Seok Oh. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2004-04-01.

Method and device for stitching or vulcanization of elongated element

Номер патента: RU2611727C2. Автор: Эса КАРВОНЕН. Владелец: Майфер С.А.. Дата публикации: 2017-02-28.

Color display tube, method of manufacturing such a display tube having a shadow mask, and reproduction mask for use in such a method

Номер патента: US4159177A. Автор: Leonardus A. M. Elshof,Herman F. van Heek. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 1979-06-26.

Method for manufacturing a correction mask for an image intensifier tube of the proximity-focus type having an oblong cathode and anode, and also a method for correcting an image intensifier tube

Номер патента: AU637411B2. Автор: Hugo Vlasbloem. Владелец: Optische Industrie de Oude Delft NV. Дата публикации: 1993-05-27.

Method for manufacturing a correction mask for an image intensifier tube of the proximity-focus type having an oblong cathode and anode,and also a method for correcting an image intensifier tube

Номер патента: IL95833A0. Автор: . Владелец: Optische Ind De Oude Delft Nv. Дата публикации: 1991-06-30.

Method for manufacturing a correction mask for an image intensifier tube of the proximity-focus type having an oblong cathode and anode, and also a method for correcting an image intensifier tube

Номер патента: AU6415490A. Автор: Hugo Vlasbloem. Владелец: Optische Industrie de Oude Delft NV. Дата публикации: 1991-04-28.

Method for manufacturing a correction mask for an image intensifier tube of the proximity-focus type having an oblong cathode and anode, and also a method for correcting an image intensifier tube

Номер патента: IL95833A. Автор: . Владелец: Optische Ind De Oude Delft Nv. Дата публикации: 1994-01-25.

Shadow mask for a color picture tube for character display

Номер патента: GB2081500A. Автор: . Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1982-02-17.

Method for coating a pattern mask for a color crt screen

Номер патента: CA1011389A. Автор: Kenneth Speigel. Владелец: GTE Sylvania Inc. Дата публикации: 1977-05-31.

Stretched mask for color picture tube and material for the mask

Номер патента: GB2334140A. Автор: Yutaka Matsumoto,Akira Makita,Yoshikazu Watanabe,Taizo Sato. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 1999-08-11.

Skin care device providing micro current to a mask for promoting production of collagen and elastin

Номер патента: US20220370799A1. Автор: Kwang Suk Hwang. Владелец: N&b Lab Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-24.

Aperture mask for a color television tube, color television tube comprising such a mask and method for obtaining the mask

Номер патента: DE3175329D1. Автор: Roland Thoms. Владелец: BMC Industries Inc. Дата публикации: 1986-10-23.

Modulation mask for an image display device

Номер патента: US4001619A. Автор: Carmen Anthony Catanese,John Guiry Endriz. Владелец: RCA Corp. Дата публикации: 1977-01-04.

Selective growth mask for a semiconductor laser

Номер патента: GB2300516A. Автор: Yutaka Mihashi,Takushi Itagaki,Akira Takemoto,Tohru Takiguchi. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1996-11-06.

Shadow mask for high luminance color image receiving tube and color image receiving tube

Номер патента: AU4948300A. Автор: Takahiko Miyazaki,Tsuneyuki Ide,Yasuo Tahara,Susumu Shigemasa. Владелец: Toyo Kohan Co Ltd. Дата публикации: 2000-12-12.

Shadow mask for color crt and method of fabricating the same

Номер патента: GB9908673D0. Автор: . Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 1999-06-09.

Method for optically evaluating an operating accuracy of a digital microscope, method for controlling a movable table of a digital microscope, and photo mask for optically evaluating an operating accuracy of a digital microscope

Номер патента: WO2022229323A3. Автор: Fritz Müller,Johannes Müller,Josef Bauer. Владелец: Precipoint GmbH. Дата публикации: 2022-12-08.

Method for optically evaluating an operating accuracy of a digital microscope, method for controlling a movable table of a digital microscope, and photo mask for optically evaluating an operating accuracy of a digital microscope

Номер патента: EP4083684A1. Автор: Fritz Müller,Johannes Müller,Josef Bauer. Владелец: Precipoint GmbH. Дата публикации: 2022-11-02.

Method for optically evaluating an operating accuracy of a digital microscope, method for controlling a movable table of a digital microscope, and photo mask for optically evaluating an operating accuracy of a digital microscope

Номер патента: WO2022229323A2. Автор: Fritz Müller,Johannes Müller,Josef Bauer. Владелец: Precipoint GmbH. Дата публикации: 2022-11-03.

Method for optically evaluating an operating accuracy of a digital microscope, method for controlling a movable table of a digital microscope, and photo mask for optically evaluating an operating accuracy of a digital microscop

Номер патента: CA3217108A1. Автор: Fritz Müller,Johannes Müller,Josef Bauer. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-11-03.

X-Masking for In-System Deterministic Test

Номер патента: US20240337693A1. Автор: Jerzy Tyszer,Grzegorz Mrugalski,Janusz Rajski,Bartosz Wlodarczak. Владелец: Siemens Industry Software Inc. Дата публикации: 2024-10-10.

X-masking for in-system deterministic test

Номер патента: EP4427060A1. Автор: Jerzy Tyszer,Grzegorz Mrugalski,Janusz Rajski,Bartosz Wlodarczak. Владелец: Siemens Industry Software Inc. Дата публикации: 2024-09-11.

System and Method with Masking for Certified Defense Against Adversarial Patch Attacks

Номер патента: US20240096120A1. Автор: Wan-Yi Lin,Chaithanya Kumar Mummadi,Shuhua Yu,Aniruddha Saha. Владелец: Bosch Automotive Service Solutions LLC. Дата публикации: 2024-03-21.

Correction mask for finite element methods

Номер патента: US20220164195A1. Автор: Eugeny Sosnovsky. Владелец: Silver Fir Software, Inc.. Дата публикации: 2022-05-26.

Generating segmentation masks for objects in digital videos using pose tracking data

Номер патента: GB2613925A. Автор: Lee Joon-Young,Wug Oh Seoung,Heo Miran. Владелец: Adobe Inc. Дата публикации: 2023-06-21.

Correction mask for finite element methods

Номер патента: EP4006766A1. Автор: Eugeny Sosnovsky. Владелец: Silver Fir Software Inc. Дата публикации: 2022-06-01.

Participant-tuned filtering using deep neural network dynamic spectral masking for conversation isolation and security in noisy environments

Номер патента: GB2606296A. Автор: Linton Jeb,Sreenivas Satya,Samn Jonathan,Bikki Poojitha,Lee Minsik. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2022-11-02.

Blue Noise Mask for Video Sampling

Номер патента: US20220092744A1. Автор: Anjul Patney,Todd GOODALL,Anton S Kaplanyan,Jamorn Sriwasansak,Thomas Sebastian LEIMKUHLER. Владелец: Meta Platforms Technologies LLC. Дата публикации: 2022-03-24.

3d-printed mask for lysing at a location on a tissue section

Номер патента: EP4427017A1. Автор: Philipp Ott,Patrick Kinney,Adrian Sager. Владелец: TECAN TRADING AG. Дата публикации: 2024-09-11.

Hadamard mask for improving detection resolution during a scanning procedure of an optical sensing system

Номер патента: US12055708B2. Автор: Yue Lu,Youmin Wang. Владелец: Beijing Voyager Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Face mask for capturing speech produced by a wearer

Номер патента: EP4457801A1. Автор: Konstantinos Vandikas,Sandhya BASKARAN,Kristijonas CYRAS. Владелец: Telefonaktiebolaget LM Ericsson AB. Дата публикации: 2024-11-06.

Mask for satellite image data

Номер патента: WO2023136904A1. Автор: Ranveer Chandra,Peder Andreas Olsen,Krishna Kant Chintalapudi,Shadi ABDOLLAHIAN NOGHABI. Владелец: Microsoft Technology Licensing, LLC.. Дата публикации: 2023-07-20.

X-ray fluorescence system with apertured sample mask for analyzing patterned surfaces

Номер патента: WO2005015189A2. Автор: Zewu Chen,Shinichi Terada. Владелец: Technos Co., Ltd. Дата публикации: 2005-02-17.

Parallax compensating color filter and black mask for display apparatus

Номер патента: US7542124B2. Автор: Gary A. Freeman. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-06-02.

Parallax compensating color filter and black mask for display apparatus

Номер патента: WO2004034133A2. Автор: Gary A. Freeman. Владелец: Viztec, Inc.. Дата публикации: 2004-04-22.

Color mask for embedded contact lenses

Номер патента: WO2024180471A1. Автор: Ya-Wen Chang,Joseph Michael Lindacher,Newton T. Samuel,Ethan Leveillee,David Borja,Ying Pi. Владелец: ALCON INC.. Дата публикации: 2024-09-06.

Color mask for embedded contact lenses

Номер патента: US20240288713A1. Автор: Ya-Wen Chang,Joseph Michael Lindacher,Newton T. Samuel,Ethan Leveillee,David Borja,Ying Pi. Владелец: Alcon Inc. Дата публикации: 2024-08-29.

Method for stitching pattern

Номер патента: CA1208499A. Автор: Shirley R. Colonel. Владелец: Individual. Дата публикации: 1986-07-29.

Method and apparatus for stitching images

Номер патента: US11875490B2. Автор: Byeongkeun KANG,Yeejin Lee,Seongyeop Yang,TaeHa KIM. Владелец: Foundation for Research and Business of Seoul National University of Science and Technology. Дата публикации: 2024-01-16.

Estimating an optimized mask for processing acquired sound data

Номер патента: US20240212701A1. Автор: Alexandre Guerin,Henrique TOMAZ-AMORIM. Владелец: ORANGE SA. Дата публикации: 2024-06-27.

Method of producing masks for rom type optical recording cards and method of inspecting masks

Номер патента: CA1330837C. Автор: Minoru Fujita,Yuji Kakinuma,Yoichi Fukushima. Владелец: Kyodo Printing Co Ltd. Дата публикации: 1994-07-19.

Automated design-to-lithography and design checking for stitched integrated circuit design

Номер патента: US20240220697A1. Автор: Dongbing Shao,April Carniol,Jyotica Patel,Michael Justin Beckley,James R. Brancaccio. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

Mask for the manufacture of corrosion sensor

Номер патента: EP3218693A1. Автор: Mark David Balmond. Владелец: BAE SYSTEMS plc. Дата публикации: 2017-09-20.

Constrained masking for sparsification in machine learning

Номер патента: US20240095504A1. Автор: Jamie Menjay Lin,Debasmit DAS. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2024-03-21.

Constrained masking for sparsification in machine learning

Номер патента: WO2024059365A1. Автор: Jamie Menjay Lin,Debasmit DAS. Владелец: QUALCOMM INCORPORATED. Дата публикации: 2024-03-21.

Diving mask for underwater and air vision

Номер патента: EP2274199A1. Автор: David Jafrancesco,Luca Mercatelli,Paola Sansoni,Daniela Fontani,Franco Francini. Владелец: Consiglio Nazionale Delle Ricerche - Istituto Nazionale Ottica Applicata. Дата публикации: 2011-01-19.

Improved combination of reticle and mask for producing interrupted beams of optical radiation

Номер патента: GB898205A. Автор: . Владелец: Barnes Engineering Co. Дата публикации: 1962-06-06.

Partial fingerprint masking for pattern searching

Номер патента: US20230169120A1. Автор: Ranjna Garg Goyal,Niraj Radhakrishnan Kunnumma. Владелец: Automation Anywhere Inc. Дата публикации: 2023-06-01.

Device for measuring feature widths on masks for the semiconductor industry

Номер патента: DE10343876B4. Автор: Gerd Scheuring,Frank Dr. Hillmann,Hans-Jürgen Brück,Wolfgang Dr. Vollrath. Владелец: MueTec Automatisierte Mikroskopie und Messtechnik GmbH. Дата публикации: 2011-01-13.

Dynamic data masking for immutable datastores

Номер патента: US11941151B2. Автор: Pradeep P. Mansey,Alfredo V. Mendoza,John Edward Martin,Ana Maria Giordano. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2024-03-26.

Installation with distribution mask for vapor deposition of a coating on optical articles on a rotary support

Номер патента: US11821072B2. Автор: Vicente ESTEVEZ RODRIGUEZ. Владелец: BNL Eurolens SAS. Дата публикации: 2023-11-21.

Adversarial masks for false detection removal

Номер патента: US11967139B2. Автор: Gang Qian,Allison Beach,Eduardo Romera Carmena. Владелец: Objectvideo Labs LLC. Дата публикации: 2024-04-23.

Participant-Tuned Filtering Using Deep Neural Network Dynamic Spectral Masking for Conversation Isolation and Security in Noisy Environments

Номер патента: US20210166714A1. Автор: Jeb R. Linton,Jonathan Samn,Poojitha Bikki,Minsik Lee,Satya Sreenivas. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2021-06-03.

Status alarm mask for welding and method of operating status alarm mask

Номер патента: US11931831B2. Автор: Moon Young Huh. Владелец: Otos Wing Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-19.

Supervised learning and occlusion masking for optical flow estimation

Номер патента: US12039742B2. Автор: Jamie Menjay Lin,Fatih Murat PORIKLI,Jisoo JEONG. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2024-07-16.

Apparatus and method for combining thread warps with compatible execution masks for simultaneous execution and increased lane utilization

Номер патента: US09851977B2. Автор: Nicolas Brunie,Sylvain COLLANGE. Владелец: Kalray SA. Дата публикации: 2017-12-26.

Audio output masking for improved automatic speech recognition

Номер патента: US09704478B1. Автор: Amit Singh Chhetri,Rohit Prasad,Shiv Naga Prasad Vitaladevuni,Phillip Ryan Hilmes. Владелец: Amazon Technologies Inc. Дата публикации: 2017-07-11.

Metadata recordation and navigation for stitched content

Номер патента: US20180122426A1. Автор: Virendra Singh,Lakshmi Arunkumar,Veerabadhran Gopalakrishnan,S. Subbarayan,Rajasekhar Babburi. Владелец: ARRIS Enterprises LLC. Дата публикации: 2018-05-03.

Receiver with a Hadamard mask for improving detection resolution during a scanning procedure of an optical sensing system

Номер патента: US11906358B2. Автор: Yue Lu,Youmin Wang. Владелец: Beijing Voyager Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-20.

Systems and methods for stitching metallographic and stereoscopic images

Номер патента: US09721371B2. Автор: Sam Martin. Владелец: Caterpillar Inc. Дата публикации: 2017-08-01.

Write data masking for higher speed drams

Номер патента: US20020196700A1. Автор: Wen Li,Kevin Ryan,Christopher Morzano. Владелец: Morzano Christopher K.. Дата публикации: 2002-12-26.

Graphics memory load mask for graphics processing

Номер патента: EP2926321A1. Автор: Christopher Paul Frascati,Avinash Seetharamaiah. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2015-10-07.

Mask for sputtering

Номер патента: US20020011406A1. Автор: Akira Shishido,Atsutoshi Yamada. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2002-01-31.

Write data masking for higher speed drams

Номер патента: US20020196675A1. Автор: Wen Li,Kevin Ryan,Christopher Morzano. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-12-26.

Face mask for capturing speech produced by a wearer

Номер патента: WO2023128847A1. Автор: Konstantinos Vandikas,Sandhya BASKARAN,Kristijonas CYRAS. Владелец: Telefonaktiebolaget lM Ericsson (publ). Дата публикации: 2023-07-06.

Structured graph convolutional networks with stochastic masks for network embeddings

Номер патента: US11966832B2. Автор: Hao Yang,Huiyuan Chen,Fei Wang,Lan Wang,Michael Yeh,Yu-San Lin. Владелец: VISA INTERNATIONAL SERVICE ASSOCIATION. Дата публикации: 2024-04-23.

Radiation mask for two dimensional ct detector

Номер патента: EP1648304A1. Автор: Rodney A. Mattson,William C. Brunnett. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2006-04-26.

Magnetic resonance method and apparatus using atlas-based masking for quantitative susceptibility mapping

Номер патента: US20190302200A1. Автор: Markus Barth,Bénédicte Maréchal,Kieran O'brien,Steffen Bollmann. Владелец: Siemens Healthcare GmbH. Дата публикации: 2019-10-03.

Structured graph convolutional networks with stochastic masks for network embeddings

Номер патента: US20240046075A1. Автор: Hao Yang,Huiyuan Chen,Fei Wang,Lan Wang,Michael Yeh,Yu-San Lin. Владелец: VISA INTERNATIONAL SERVICE ASSOCIATION. Дата публикации: 2024-02-08.

Graphics memory load mask for graphics processing

Номер патента: WO2014085004A1. Автор: Christopher Paul Frascati,Avinash Seetharamaiah. Владелец: QUALCOMM INCORPORATED. Дата публикации: 2014-06-05.

Control of ag ink flow via inkjet removable mask for ar devices

Номер патента: WO2024118506A1. Автор: Yingdong Luo,Ludovic Godet,Marco Galiazzo,Daihua Zhang,Rami HOURANI,Xiaopei Deng,Zhengping Yao. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-06-06.

Eye mask for measurement of distortion in optical transmission systems

Номер патента: CA2177525C. Автор: Maurice Stephen O'sullivan,Rongqing Hui,Jingyu Zhou. Владелец: Nortel Networks Corp. Дата публикации: 2002-01-29.

Anatomy masking for mri

Номер патента: EP4339879A1. Автор: Lars Dr. Lauer,Daniel Rinck,Andreas Dr. Greiser,Carmel Dr. Hayes,Gunnar Dr. Krüger,Johannes Dr. ULRICI,Kim BURZAN. Владелец: Dentsply Sirona Inc. Дата публикации: 2024-03-20.

Anatomy Masking for MRI

Номер патента: US20240090791A1. Автор: Andreas Greiser,Johannes Ulrici,Lars Lauer,Daniel Rinck,Gunnar Krüger,Carmel Hayes,Kim BURZAN. Владелец: Dentsply Sirona Inc. Дата публикации: 2024-03-21.

Active mask for speeding up randomized patchmatch

Номер патента: AU2016225944B2. Автор: Elya Shechtman,Daniel Goldman,Sohrab Amirghodsi,Aliakbar Darabi. Владелец: Adobe Inc. Дата публикации: 2021-04-01.

Shielding mask for scattered ionizing radiation and method for production thereof

Номер патента: US20230268092A1. Автор: Kevin Tabor,Oliver Sohr,Philipp Treis,Sebastian Leugner,Michael Dargie. Владелец: Schott North America Inc. Дата публикации: 2023-08-24.

Self-Aligned Mask for Humidity Barrier Patterning

Номер патента: US20240160009A1. Автор: Wyatt Owen Davis,Seungwoo Lee,Di SUN,Xiao Chuan Ong. Владелец: Microsoft Technology Licensing LLC. Дата публикации: 2024-05-16.

Self-aligned mask for humidity barrier patterning

Номер патента: WO2024102210A1. Автор: Wyatt Owen Davis,Seungwoo Lee,Di SUN,Xiao Chuan Ong. Владелец: Microsoft Technology Licensing, LLC. Дата публикации: 2024-05-16.

Displaying sensor data and supplemental data as a mask for autonomous vehicles

Номер патента: US12051328B1. Автор: Nirmal Patel,Maria Moon,Peter Crandall. Владелец: Waymo LLC. Дата публикации: 2024-07-30.

A shadow mask for an X-ray detector, computer tomography device, comprising a shadow mask and method for adjusting a shadow mask

Номер патента: DE102005009817A1. Автор: Claus Pohan,Karl Dr. Stierstorfer,Mario Reinwand. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2006-09-14.

Sample well comb mask for photopolymerized electrophoretic gels

Номер патента: WO2023220530A1. Автор: Paul Sydlowski,Kurt E. Greenizen,Gerard LIBBY,Trisha BAILEY,Ryan Amara,Mayra Jimenez. Владелец: EMD MILLIPORE CORPORATION. Дата публикации: 2023-11-16.

Semiconductor wafer processing mask set mask inspection procedure overlays registered structure patterns in successive images of different masks for comparison with stored reference

Номер патента: DE10360536A1. Автор: Henning Haffner,Andreas Frangen. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2005-05-12.

High efficiency full face mask for tritium protection

Номер патента: CA2546718C. Автор: Kil-Oung Choi,Hee-Geun Kim. Владелец: Korea Electric Power Corp. Дата публикации: 2009-10-20.

Photometric masks for self-supervised depth learning

Номер патента: US20240217538A1. Автор: Vitor Guizilini. Владелец: Toyota Research Institute Inc. Дата публикации: 2024-07-04.

Method for producing base for metal masks, method for producing metal mask for vapor deposition, base for metal masks, and metal mask for vapor deposition

Номер патента: US11746423B2. Автор: Takehiro Nishi,Naoko Mikami,Masashi Kurata,Daisei FUJITO,Kiyoaki NISHITSUJI,Reiji TERADA,Sumika TAMURA. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-05.

System and Method for Selectable Mask for LDSL

Номер патента: US20080080601A1. Автор: Patrick Duvaut,Ehud Langberg. Владелец: Conexant Systems LLC. Дата публикации: 2008-04-03.

System and Method for Selectable Mask for LDSL

Номер патента: US20090219979A1. Автор: Patrick Duvaut,Ehud Langberg. Владелец: Conexant Systems LLC. Дата публикации: 2009-09-03.

Low-entropy masking for cryptography

Номер патента: US20240356748A1. Автор: Joost Roland Renes,Björn FAY. Владелец: NXP BV. Дата публикации: 2024-10-24.

Crosstalk masking for digital subscriber loops

Номер патента: WO2003087986A9. Автор: Scott Mcclennon,Andre Paquette. Владелец: Andre Paquette. Дата публикации: 2004-08-05.

Adjustable bit mask for high-speed native load balancing on a switch

Номер патента: US20240356869A1. Автор: Mouli Vytla,Samar Sharma,Rajendra Kumar Thirumurthi. Владелец: Cisco Technology Inc. Дата публикации: 2024-10-24.

Adjustable bit mask for high-speed native load balancing on a switch

Номер патента: US12107776B2. Автор: Mouli Vytla,Samar Sharma,Rajendra Kumar Thirumurthi. Владелец: Cisco Technology Inc. Дата публикации: 2024-10-01.

Simplified masking for signed cryptography operations

Номер патента: US20240137216A1. Автор: Bharat S. Pillilli,Mojtaba Bisheh Niasar,Emre Karabulut. Владелец: Microsoft Technology Licensing LLC. Дата публикации: 2024-04-25.

Mask for deposition

Номер патента: US12103024B2. Автор: Ji-Hee Son,Duck Jung Lee,Sung Soon Im. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-01.

Spectral masks for subchannel puncturing in EHT networks

Номер патента: US11962406B2. Автор: Xiaogang Chen,Qinghua Li,Thomas J. Kenney,Assaf Gurevitz,Avishay Friedman. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-04-16.

Mask for deposition

Номер патента: US20230036369A1. Автор: Ji-Hee Son,Duck Jung Lee,Sung Soon Im. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-02.

Method and apparatus of generating weighting masks for integer-slope split directions in inter prediction

Номер патента: US12132897B2. Автор: Vasily Alexeevich RUFITSKIY,Elena Alexandrovna ALSHINA,Alexey Konstantinovich FILIPPOV,Semih Esenlik,Han GAO. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Method for setting masks for message filtering

Номер патента: US20040057432A1. Автор: William Allen. Владелец: Caterpillar Inc. Дата публикации: 2004-03-25.

Process integration flow for embedded memory with multi-pocket masks for decoupling processing of memory areas from non-memory areas

Номер патента: US11792998B1. Автор: Sasikanth Manipatruni,Noriyuki Sato,Niloy Mukherjee,Rajeev Kumar Dokania,Amrita MATHURIYA,Tanay GOSAVI. Владелец: Kepler Computing Inc. Дата публикации: 2023-10-17.

Method of making a three-dimensional memory device using composite hard masks for formation of deep via openings

Номер патента: US12010841B2. Автор: Raghuveer S. Makala,Rahul Sharangpani,Senaka Kanakamedala,Yao-Sheng Lee,Monica TITUS. Владелец: SanDisk Technologies LLC. Дата публикации: 2024-06-11.

Improved apparatus for supporting and tensioning a stencil or mask for use in applying solder paste to circuit boards and a mounting support means therefor

Номер патента: GB9514927D0. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 1995-09-20.

Method for producing base for metal masks, method for producing metal mask for vapor deposition, base for metal masks, and metal mask for vapor deposition

Номер патента: KR102509663B1. Автор: 레이지 데라다,나오코 미카미,마사시 구라타,기요아키 니시츠지,다이세이 후지토,다케히로 니시,스미카 다무라. Владелец: 도판 인사츠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2023-03-14.

Method and terminal for applying on/off power time mask for v2x communication

Номер патента: US20190141650A1. Автор: Sangwook Lee,Suhwan Lim,Manyoung Jung,Yoonoh Yang,Jinyup Hwang. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2019-05-09.

Systems and methods for stitching separately encoded nal units into a stream

Номер патента: US20180343478A1. Автор: Michal Devir,Harel Cain,David Atias,Gitty ZINGER. Владелец: Triton Us Vp Acquisition Co. Дата публикации: 2018-11-29.

Component mask for printed circuit boards and method of use thereof

Номер патента: US4373655A. Автор: Joseph A. McKenzie, Jr.. Владелец: Individual. Дата публикации: 1983-02-15.

Masking for presenting differing display formats for media streams

Номер патента: EP1656623A2. Автор: Michael A. Malcolm,Lawrence Kesteloot,Paul Rechsteiner. Владелец: Kaleidescape Inc. Дата публикации: 2006-05-17.

Stencil mask for paste screening

Номер патента: EP1072433A1. Автор: Thomas Comino,Richard M. Schroedl. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2001-01-31.

Surface complementary dielectric mask for printed circuits, methods of fabrication and uses thereof

Номер патента: US20220232705A1. Автор: Aviram Iancovici,Omer Goldstein. Владелец: Nano Dimension Technologies, LTD. Дата публикации: 2022-07-21.

Surface-complementary dielectric mask for additive manufactured electronics, methods of fabrication and uses thereof

Номер патента: WO2021007174A1. Автор: Aviram Iancovici,Omer Goldstein. Владелец: Nano-Dimension Technologies, Ltd.. Дата публикации: 2021-01-14.

Surface-complementary dielectric mask for additive manufactured electronics, methods of fabrication and uses thereof

Номер патента: CA3146131A1. Автор: Aviram Iancovici,Omer Goldstein. Владелец: Nano Dimension Technologies Ltd. Дата публикации: 2021-01-14.

Surface-complementary dielectric mask for additive manufactured electronics, methods of fabrication and uses thereof

Номер патента: EP3994964A1. Автор: Aviram Iancovici,Omer Goldstein. Владелец: Nano Dimension Technologies Ltd. Дата публикации: 2022-05-11.

Mask for forming oled picture element and template for supporting mask and producing method of mask integrated frame

Номер патента: KR102501250B1. Автор: 이유진. Владелец: 주식회사 오럼머티리얼. Дата публикации: 2023-02-21.

Using Enhanced Signal Spectral TX Mask for Improved Multi-User Grouping and Increased Spectral Efficiency

Номер патента: US20210203458A1. Автор: Shimon SHILO,Doron Ezri,Genadiy Tsodik,Oded Redlich,Avi WEITZMAN. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2021-07-01.

Using enhanced signal spectral TX mask for improved multi-user grouping and increased spectral efficiency

Номер патента: US11991101B2. Автор: Shimon SHILO,Doron Ezri,Genadiy Tsodik,Oded Redlich,Avi WEITZMAN. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-21.

Hard mask for patterning magnetic tunnel junctions

Номер патента: WO2016195946A1. Автор: Lin Xue,Mahendra Pakala,Jaesoo AHN,Ha CHEN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2016-12-08.

Improved stencil or mask for printing fluid material

Номер патента: AU8992998A. Автор: David Godfrey Williams. Владелец: Micro Metallic Ltd. Дата публикации: 1999-03-29.

Scanner mask for providing light source with draft penetration preview

Номер патента: TWM263701U. Автор: Harn-Jou Yeh. Владелец: Microtek Int Inc. Дата публикации: 2005-05-01.

Ear mask for earphone

Номер патента: TW496641U. Автор: Shi-Guang Ma. Владелец: Chen Chuen Ling. Дата публикации: 2002-07-21.

Mask for cathode-ray tubes

Номер патента: US2531537A. Автор: Jr John O Simpkiss. Владелец: RCA Corp. Дата публикации: 1950-11-28.

Anti-glare, anti-static, anti-radiation mask for crt display

Номер патента: GB2236462A. Автор: Chin-Fu Lee. Владелец: Individual. Дата публикации: 1991-04-03.

Improved stencil or mask for printing fluid material

Номер патента: GB9724534D0. Автор: . Владелец: Micro Metallic Ltd. Дата публикации: 1998-01-21.

Crosstalk masking for digital subscriber loops

Номер патента: AU2003221667A8. Автор: Scott Mcclennon,Andre Paquette. Владелец: Catena Networks Inc. Дата публикации: 2003-10-27.

Crosstalk masking for digital subscriber loops

Номер патента: AU2003221667A1. Автор: Scott Mcclennon,Andre Paquette. Владелец: Catena Networks Inc. Дата публикации: 2003-10-27.

Mask for diving, in particular of the full face type with assisted breathing

Номер патента: CA3084537A1. Автор: Gabriele Cucchia,Sergio Gamberini. Владелец: MESTEL SAFETY Srl. Дата публикации: 2020-12-24.

Flexible face mask for various dental and medical uses

Номер патента: US12022898B2. Автор: Boaz Barry Groman. Владелец: Groman Inc. Дата публикации: 2024-07-02.

Mask for underwater use, in particular of granfacial type with assisted breathing

Номер патента: US20200398955A1. Автор: Gabriele Cucchia,Danilo ACETO. Владелец: MESTEL SAFETY Srl. Дата публикации: 2020-12-24.

Tunable masks for uniformity management of pvd coating thickness

Номер патента: US20190169732A1. Автор: Shiping Cheng. Владелец: Individual. Дата публикации: 2019-06-06.

Magnetic means for mounting masks on a wearer and masks for performing same

Номер патента: US20240198031A1. Автор: Yueh-Ju Liao,wei-fang Wang,Keng-Ren LIN,Wan-Ru TSAI,Chia-Chi Chiang,Chien-Fang Su. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-06-20.

Apparatus for continuous masking for selective electroplating and method

Номер патента: WO1999017933A1. Автор: William J. Copping,Paul M. Bronschidle,Richard J. Zimmermann. Владелец: Precious Plate Inc.. Дата публикации: 1999-04-15.

Removable mask for coating a substrate

Номер патента: US09790598B2. Автор: Robert Guillemette,John Bartalotta,Linda Fabian,Gregory C. Papachristos. Владелец: Sikorsky Aircraft Corp. Дата публикации: 2017-10-17.

Machine for stitching a shoe upper to an insole

Номер патента: EP1069225A3. Автор: Mario Ciucani. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-03-20.

Automated wet masking for diffusion coatings

Номер патента: SG188063A1. Автор: Nicholas Shawn Woodard,Albert Dean King. Владелец: Gen Electric. Дата публикации: 2013-03-28.

Stencil masks for making conformable electromagnetic device structures

Номер патента: US09656290B1. Автор: Bae-Ian Wu,Isaac M. Ehrenberg,Sanjay Emani Sarma. Владелец: US Air Force. Дата публикации: 2017-05-23.

Face mask for gas monitoring during supplemental oxygen delivery

Номер патента: EP1425069A2. Автор: Leslie E. Mace,David Rich,Michael J. R. Polson,Anthony T. Pierry,John A. Triunfo, Jr.,Randall J. Terry. Владелец: Respironics Inc. Дата публикации: 2004-06-09.

Mask for sputtering film formation and sputtering device

Номер патента: US20180209027A1. Автор: LEI XIAO,Jie Wu,Yimin Chen,Zhongpeng Tian,Xuewei Gao. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-26.

Cantilevered mask for openings in additively manufactured part

Номер патента: US20210308944A1. Автор: Glenn Curtis Taxacher,Jonathan Matthew Lomas,Christopher Donald Porter,Brad Wilson Vantassel,Travis J Packer. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2021-10-07.

Cantilevered mask for openings in additively manufactured part

Номер патента: US20210308945A1. Автор: Glenn Curtis Taxacher. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2021-10-07.

Airfoil External Masking For Internal Aluminization

Номер патента: US20240344192A1. Автор: Alex C. Freedman,Daniel M. Franklin. Владелец: Raytheon Technologies Corp. Дата публикации: 2024-10-17.

Rigid mask for protecting selective portions of a chip, and use of the rigid mask

Номер патента: US09802195B2. Автор: Alessandro Paolo Bramanti. Владелец: STMICROELECTRONICS SRL. Дата публикации: 2017-10-31.

Dive mask for underwater communication

Номер патента: US12145702B2. Автор: Juliette Laroche. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-11-19.

Mask for applying hatch perimeter sealant

Номер патента: US09623438B2. Автор: Heath Moore. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-04-18.

Reusable face mask for cannulas

Номер патента: US20240115828A1. Автор: Terry W. Lilly,Laura Bruno Lilly,Michelle Lilly Solorio. Владелец: Di Ciao LLC. Дата публикации: 2024-04-11.

Method for stitching vehicle interior components and components formed from the method

Номер патента: US09889802B2. Автор: Joseph A. Massetti,Edward J. Wenzel. Владелец: Inteva Products LLC. Дата публикации: 2018-02-13.

Mask for analyzed mammals

Номер патента: US09820675B2. Автор: Uri Rapoport,Itzchak RABINOVITZ. Владелец: Aspect Imaging Ltd. Дата публикации: 2017-11-21.

Device for stitching printed matter consisting of several parts with wire

Номер патента: RU2070518C1. Автор: Ch],Майер Жак. Владелец: Фераг Аг. Дата публикации: 1996-12-20.

Protective face mask for attachment to protective eye-ware

Номер патента: US12041988B2. Автор: Mark Lamoncha. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-07-23.

Mask for shielding impellers and blisks during automated welding

Номер патента: US20070095797A1. Автор: Andrew MacDonald,William Beeson,Christopher Horton. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2007-05-03.

Face mask for diving

Номер патента: US20040078874A1. Автор: Hiromasa Sato. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-04-29.

Reusable face mask for cannulas

Номер патента: CA3215761A1. Автор: Terry W. Lilly,Laura Bruno Lilly,Michelle Lilly Solorio. Владелец: Di Ciao LLC. Дата публикации: 2024-04-10.

Method for stitching vehicle interior components and components formed from the method

Номер патента: US09790627B2. Автор: Patrick Eckhout,Edward J. Wenzel,Ramez Habhab. Владелец: Inteva Products LLC. Дата публикации: 2017-10-17.

METHOD AND MASK FOR MANUFACTURING PAPER WITH WATERBANK, METHOD FOR MANUFACTURING THE OBTAINED MASK OF PAPER WITH WATERBANK AND METHOD FOR ESTABLISHING AUTHENTICITY OF PAPER WITH WATERBANK

Номер патента: RU2019115980A. Автор: Иван ТЬЕРРИ,Стефан МАЛЛОЛЬ. Владелец: Обертюр Фидюсьер Сас. Дата публикации: 2021-01-11.

Seam for stitched articles

Номер патента: GB633270A. Автор: . Владелец: Singer Co. Дата публикации: 1949-12-12.

Cosmetic mask for improving appearance of skin

Номер патента: ZA202300970B. Автор: Meng Sheng,Jayavant Kulkarni Aditi,Waskar Princika. Владелец: Unilever Global IP Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Method for stitching vehicle interior components and components formed from the method

Номер патента: WO2013009634A3. Автор: Edward J. Wenzel,Joseph Anthony Massetti. Владелец: Inteva Products Llc.. Дата публикации: 2013-03-14.

Mask for the protection of the respiratory tract and method for assembling thereof

Номер патента: EP3895568A1. Автор: Filippo Banchini. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-10-20.

Apparatus and methods for stitching vehicle interior components and components formed from the methods

Номер патента: US09869044B2. Автор: Patrick Eckhout,Edward J. Wenzel,Ramez M. Habhab. Владелец: Inteva Products LLC. Дата публикации: 2018-01-16.

Method for stitching vehicle interior components and components formed from the method

Номер патента: US09809176B2. Автор: Joseph A. Massetti,Edward J. Wenzel. Владелец: Inteva Products LLC. Дата публикации: 2017-11-07.

Machine for stitching shoes

Номер патента: GB455884A. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 1936-10-29.

Disposable mask for a vehicle wheel

Номер патента: US20030137187A1. Автор: Curtis Williams. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-07-24.

Method for stitching vehicle interior components and components formed from the method

Номер патента: US09873966B2. Автор: Joseph A. Massetti,Edward J. Wenzel. Владелец: Inteva Products LLC. Дата публикации: 2018-01-23.

High g oxygen mask for aircrew

Номер патента: CA2440431C. Автор: Joseph Anthony Griffiths. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-08-23.

Cosmetic Sheet Masks For Improved Product Delivery

Номер патента: US20230279590A1. Автор: Sezen BUELL,Sushil Iyer,Peter John TSOLIS,Jill Marie VILLACCI. Владелец: ELC Management LLC. Дата публикации: 2023-09-07.

Cosmetic sheet masks for improved product delivery

Номер патента: AU2023227515A1. Автор: Sezen BUELL,Sushil Iyer,Peter John TSOLIS,Jill Marie VILLACCI. Владелец: ELC Management LLC. Дата публикации: 2024-09-19.

Face mask for under-water breathing

Номер патента: GB764111A. Автор: . Владелец: Svenska AB Gasaccumulator. Дата публикации: 1956-12-19.

Thermal conductivity mask for producing patterns

Номер патента: WO2006001854A3. Автор: . Владелец: Ghislain Lucien P. Дата публикации: 2007-11-15.

Thermal conductivity mask for producing patterns

Номер патента: US20050274263A1. Автор: Lucien Ghislain. Владелец: Lithoware Inc. Дата публикации: 2005-12-15.

Mask for use in evaporation coating device

Номер патента: US20130104801A1. Автор: shao-kai Pei. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2013-05-02.

Method for stitching vehicle interior components and components formed from the method

Номер патента: US09937877B2. Автор: Joseph A. Massetti,Edward J. Wenzel. Владелец: Inteva Products LLC. Дата публикации: 2018-04-10.

Improvements in and relating to nasal masks for respiratory appliances

Номер патента: GB551609A. Автор: . Владелец: WILLIAM RANDOLPH LOVELACE. Дата публикации: 1943-03-03.

Novel Masks for Disease Prevention and Methods for Producing the Same

Номер патента: US20210244977A1. Автор: Chris C. Yu,Xuedong Du. Владелец: Anpac Bio Medical Science Co Ltd. Дата публикации: 2021-08-12.

Thermal conductivity mask for producing patterns

Номер патента: WO2006001854A2. Автор: . Владелец: Ghislain, Lucien, P.. Дата публикации: 2006-01-05.

Self-sealing mask for delivering intermittent positive pressure ventilation

Номер патента: US5074297A. Автор: Jose G. Venegas. Владелец: General Hospital Corp. Дата публикации: 1991-12-24.

Insert mask for masking ceiling or wall fixtures

Номер патента: US20030186017A1. Автор: Everett Stockton. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-10-02.

Method for stitching vehicle interior components and components formed from the method

Номер патента: US20160369440A1. Автор: Patrick Eckhout,Edward J. Wenzel,Ramez Habhab. Владелец: Inteva Products LLC. Дата публикации: 2016-12-22.

Method for stitching vehicle interior components and components formed from the method

Номер патента: US20150042117A1. Автор: Patrick Eckhout,Edward J. Wenzel,Ramez M. Habhab. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-02-12.

Apparatus and method for stitching vehicle interior components and components formed from the method

Номер патента: WO2016022477A1. Автор: Patrick Eckhout,Joseph A. Massetti,Edward J. Wenzel,Ramez Habhab. Владелец: Inteva Products, Llc. Дата публикации: 2016-02-11.

Method and apparatus for stitching a three dimensional formed component and components formed from the method

Номер патента: US20230313430A1. Автор: Edward J. Wenzel,Ramez M. Habhab. Владелец: Inteva Products LLC. Дата публикации: 2023-10-05.

Eye mask for amelioration or prevention of dry eye and the like

Номер патента: US20150012073A1. Автор: John Devine. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-01-08.

Multilayered hemp face mask for humans and animals

Номер патента: US20210378327A1. Автор: Keith Ray Elam. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-12-09.

Apparatus and method for stitching vehicle interior components and components formed from the method

Номер патента: EP3177762A1. Автор: Patrick Eckhout,Joseph A. Massetti,Edward J. Wenzel,Ramez Habhab. Владелец: Inteva Products LLC. Дата публикации: 2017-06-14.

Apparatus and method for stitching vehicle interior components and components formed from the method

Номер патента: EP3177761A1. Автор: Patrick Eckhout,Joseph A. Massetti,Edward J. Wenzel,Ramez Habhab. Владелец: Inteva Products LLC. Дата публикации: 2017-06-14.

Apparatus and methods for stitching vehicle interior components

Номер патента: EP3209825A1. Автор: Patrick Eckhout,Edward J. Wenzel,Ramez M. Habhab. Владелец: Inteva Products LLC. Дата публикации: 2017-08-30.

Eye mask for amelioration or prevention of dry eye and the like

Номер патента: EP3019129A1. Автор: John Devine. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-05-18.

Eyecup, headband, and eye mask for sleeping

Номер патента: CA3160824A1. Автор: Benjamin Schwarz,Mark Zhang. Владелец: Manta Sleep LLC. Дата публикации: 2023-03-01.

Protective wheel mask for automotive tire cleaning

Номер патента: US6068345A. Автор: Joe L. Bressie. Владелец: Individual. Дата публикации: 2000-05-30.

Method for making face masks for reconstructive surgical patients

Номер патента: US20020117776A1. Автор: Stanley Jacobs. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-08-29.

Device for stitching parts of a sewn article along a curved contour

Номер патента: GB1323726A. Автор: . Владелец: TSNII SHVEIONI PROMY. Дата публикации: 1973-07-18.

Apparatus for continuous masking for selective electroplating and method

Номер патента: US6143145A. Автор: William J. Copping,Paul M. Bronschidle,Richard J. Zimmermann. Владелец: Precious Plate Inc. Дата публикации: 2000-11-07.

Method for orienting an airfoil for processing and for forming a mask for the airfoil

Номер патента: SG74752A1. Автор: Stanley J Funk,Gordon M Reed,Kenneth M Boucher,James F Dolan,William A Nehez Sr,Christopher P Jordan. Владелец: United Technologies Corp. Дата публикации: 2000-08-22.

METAL MASK SUBSTRATE FOR VAPOR DEPOSITION, METAL MASK FOR VAPOR DEPOSITION, PRODUCTION METHOD FOR METAL MASK SUBSTRATE FOR VAPOR DEPOSITION, AND PRODUCTION METHOD FOR METAL MASK FOR VAPOR DEPOSITION

Номер патента: US20180038002A1. Автор: SHINNO Mikio,NISHITSUJI Kiyoaki,Nishi Takehiro,MIKAMI Naoko,FUJITO Daisei,TAMURA Sumika. Владелец: . Дата публикации: 2018-02-08.

Ludic head mask e.g. party mask, for user e.g. child, has ludic mask covering user face after assembly of mask on headband, where two sides of ludic mask are extended by connection parts, each pivotably connected to ludic mask

Номер патента: FR2876881A3. Автор: Chia Ching Yeh. Владелец: Chia Ching Yeh. Дата публикации: 2006-04-28.

Quick release face mask for use with contact sports helmets

Номер патента: US4885807A. Автор: Paul D. Snow, Jr.. Владелец: Individual. Дата публикации: 1989-12-12.

Diver's helmet and face mask for use therewith

Номер патента: US4250877A. Автор: Jack H. Owens,John E. Slavin. Владелец: MORSE DIVING EQUIPMENT CO Inc. Дата публикации: 1981-02-17.

Method and apparatus for stitching a three dimensional formed component

Номер патента: EP3204546A1. Автор: Edward J. Wenzel,Ramez M. Habhab. Владелец: Inteva Products LLC. Дата публикации: 2017-08-16.

Method and apparatus for stitching a three dimensional formed component and components formed from the method

Номер патента: US20190359149A1. Автор: Edward J. Wenzel,Ramez M. Hadhab. Владелец: Inteva Products LLC. Дата публикации: 2019-11-28.

Hygienic mask for aircraft crewmember and a mask assembly comprising the hygienic mask

Номер патента: EP2490769A1. Автор: Christophe Barreau,Guillaume Euvrard,Yannick Chevalier,Séverine THENAULT-AUBONNET. Владелец: Intertechnique SA. Дата публикации: 2012-08-29.

Stitched reinforcing-fiber base material, preform material, fiber-reinforced composite material, and production method for stitched reinforcing-fiber base material, preform material, and fiber-reinforced composite material

Номер патента: EP4130371B1. Автор: Toru Kaneko,Tetsuya Akamatsu,Kohei OSAKI. Владелец: Teijin Ltd. Дата публикации: 2024-07-31.

Breathing mask for feeding a breathing gas to a mask user and discharge device for discharging breathing gas

Номер патента: US8371301B2. Автор: Achim Biener,Bernd Christoph Lang. Владелец: ResMed R&D Germany GmbH. Дата публикации: 2013-02-12.

Facial masks for assisted respiration or CPAP

Номер патента: US6123071A. Автор: Michael Berthon-Jones,Michel Calluaud,Christopher Edward Lynch,Kenneth Frederick Hely. Владелец: ResMed Pty Ltd. Дата публикации: 2000-09-26.

Stitched reinforcing-fiber base material, preform material, fiber-reinforced composite material, and production method for stitched reinforcing-fiber base material, preform material, and fiber-reinforced composite material

Номер патента: EP4130371A4. Автор: Toru Kaneko,Tetsuya Akamatsu,Kohei OSAKI. Владелец: Teijin Ltd. Дата публикации: 2023-08-16.

Wire stitching machine for stitching corrugated cardboard cartons or the like

Номер патента: US1976285A. Автор: Kleinschmit Oscar. Владелец: BRCHMER GEB. Дата публикации: 1934-10-09.

Method for determining partial pressure of a gaseous constituent and regulator of breathing mask for aircraft occupant

Номер патента: US09808655B2. Автор: Matthieu Fromage. Владелец: Zodiac Aerotechnics SAS. Дата публикации: 2017-11-07.

Selective coating removal or masking for ground path

Номер патента: US09422821B2. Автор: Carl Brian Klinetob,Thomas B. Hyatt. Владелец: United Technologies Corp. Дата публикации: 2016-08-23.

Improved face mask for use in dust-laden or other contaminated conditions

Номер патента: GB735197A. Автор: . Владелец: RICHARD JOHN RICHARDSON. Дата публикации: 1955-08-17.

Mask for filtering air containing fine particles such as dust

Номер патента: GB740208A. Автор: . Владелец: PLASTIQUES SOC D EXPL DES. Дата публикации: 1955-11-09.

Mask for treating cold

Номер патента: CA2246629A1. Автор: Saburo Yasuda. Владелец: Individual. Дата публикации: 1996-10-17.

Face masks for use in pressurized drug delivery systems

Номер патента: CA2447591C. Автор: Gerald C. Smaldone. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-10-27.

Alignment method, alignment method of liquid-jet head unit, and alignment mask for liquid-jet head

Номер патента: US20080068420A1. Автор: Isao Yanagisawa,Kazutoshi Goto,Yasuo Inaoka,Takuma Okamuro. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2008-03-20.

Rigid mask for protecting selective portions of a chip, and use of the rigid mask

Номер патента: US20160167046A1. Автор: Alessandro Paolo Bramanti. Владелец: STMICROELECTRONICS SRL. Дата публикации: 2016-06-16.

Automated wet masking for diffusion coatings

Номер патента: EP2564936A3. Автор: Nicholas Shawn Woodard,Albert Dean King. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2018-01-17.

Surface treatment method and device for micro tas substrate, and mask for surface treatment of micro tas substrate

Номер патента: TW201143886A. Автор: Shinji Suzuki,Kyohei Seki,Hideki Fujitsugu. Владелец: Ushio Electric Inc. Дата публикации: 2011-12-16.

Extraoral mask for the treatment of oral mucositis

Номер патента: AU2019271293B2. Автор: Samuel J. Shelnutt,Vedang KOTHARI,Jason D. LAZZARA,Jordan W. OJA. Владелец: Lumitex Inc. Дата публикации: 2024-08-15.

Extraoral mask for the treatment of oral mucositis

Номер патента: US12121741B2. Автор: Samuel J. Shelnutt,Vedang KOTHARI,Jason D. LAZZARA,Jordan W. OJA. Владелец: Mureva Phototherapy Inc. Дата публикации: 2024-10-22.

Mask for diffusion coating

Номер патента: GB2348439A. Автор: Edward Hugh Shaw,David Arthur Goddard,Bryan Anthony Hardy. Владелец: Wade Ceramics Ltd. Дата публикации: 2000-10-04.

A fan assembly comprising a nozzle with a Coanda surface and masks for directing air flow

Номер патента: GB2484696A. Автор: Timothy Nicholas Stickney. Владелец: Dyson Technology Ltd. Дата публикации: 2012-04-25.

Device for masking an area of a surface of a component that is not to be coated in a coating process, comprises a mask for covering the area, and a magnet arrangement for holding the mask on the surface of the component

Номер патента: DE102009014098A1. Автор: Herbert Fischer,Andreas Jakimov,Manuel Dr. Hertter,Daniel Nonnenmacher. Владелец: MTU AERO ENGINES GMBH. Дата публикации: 2010-09-23.

Face or nose mask for non-invasive ventilation of patients in general

Номер патента: EP1183075A1. Автор: Massimo Fini,Paolo Bergamaschi,Stefano Nava. Владелец: Mallinckrodt Inc. Дата публикации: 2002-03-06.

Mask for kinetic cold gas compacting

Номер патента: EP2344281A1. Автор: Andreas Jakimov,Stefan Schneiderbanger,Manuel Hertter. Владелец: MTU AERO ENGINES GMBH. Дата публикации: 2011-07-20.

BREATHING MASK FOR AIRCRAFT AND METHOD FOR FOLDING A BREATHING MASK FOR STORING THE BREATHING MASK IN A STORAGE UNIT

Номер патента: BR102018071251B1. Автор: Didier Lamourette,Laura Canet. Владелец: Safran Aerotechnics SAS. Дата публикации: 2023-04-25.

mask for releasing a medical gas under positive pressure, method for holding a mask against the user's face, and mask for releasing a medical gas

Номер патента: BR112017003752A2. Автор: Ritz Deborah,Ritz Gavin. Владелец: Int Health Group Pty Ltd. Дата публикации: 2017-12-05.

Taste masking for unpalatable formulations

Номер патента: AU5816298A. Автор: Thomas P. Callahan. Владелец: Bayer Corp. Дата публикации: 1998-08-07.

Thermal massager mask for migraine relief

Номер патента: WO2018127878A3. Автор: Nadia Angelica ORTIZ QUEZADA,Sandra Isabel GUERRA ALVAREZ,Mayra Victoria RAMOS,Muhammad Hamzah HAJI HAJEE. Владелец: Instituto Panameño De Derecho Y Nuevas Tecnologías (Ipandetec). Дата публикации: 2018-09-20.

Drilling mask for implanting a transpedicular screw

Номер патента: EP2693958A2. Автор: Vincenzo Ferrari,Sara CONDINO,Michele Lisanti,Paolo Parchi. Владелец: UNIVERSITÀ DI PISA. Дата публикации: 2014-02-12.

Dual layered nanoparticle coated masks for efficient and cost-effective filtration of air pollutants and viruses

Номер патента: US20230405371A1. Автор: Ishika Nag. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-12-21.

Face mask for a sports helmet

Номер патента: CA3127134A1. Автор: Jean-Francois Beland,Pierre Paiement,Pierre-Luc Beauchamp,Simon-Pierre Germain,Marie-Jeanne HANDFIELD,François-Olivier DAGNEAU,Ryan BROWNRIDGE,Marc-André ELEMENT. Владелец: Sport Maska Inc. Дата публикации: 2022-02-11.

Taste masking for unpalatable formulations

Номер патента: EP1017363A1. Автор: Thomas P. Callahan,Harish B. Pandya. Владелец: Bayer Corp. Дата публикации: 2000-07-12.

Face mask for a sports helmet

Номер патента: US11937658B2. Автор: Jean-Francois Beland,Pierre Paiement,Pierre-Luc Beauchamp,Simon-Pierre Germain,Marie-Jeanne HANDFIELD,François-Olivier DAGNEAU,Ryan BROWNRIDGE,Marc-André ELEMENT. Владелец: Sport Maska Inc. Дата публикации: 2024-03-26.

Nasal mask for CPAP having ballooning/moulding seal with wearer's nose and facial contours

Номер патента: US5243971A. Автор: Colin E. Sullivan,Jakob W. Bruderer. Владелец: UNIVERSITY OF SYDNEY. Дата публикации: 1993-09-14.

Method for manufacturing masks for fancy dresses or the like

Номер патента: US4937023A. Автор: Alfredo B. Garcia. Владелец: Individual. Дата публикации: 1990-06-26.

Mask for use by a person conducting a surgical procedure, surgical mask to facilitate breathing, and process for building a mask

Номер патента: BR9708080A. Автор: Edward Q Yavitz. Владелец: Edward Q Yavitz. Дата публикации: 2000-01-04.

Device for detecting leakage of air in respiratory mask, has case comprising fixation opening that is formed at end of respiratory mask for fixing detecting device on respiratory mask

Номер патента: FR2960790A1. Автор: Jean Luc Trapani,Guy Gravet. Владелец: BJL LABORATOIRES. Дата публикации: 2011-12-09.

Face mask for athletes and long-term wear

Номер патента: US20240049814A1. Автор: Stephon Jon Mitson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-02-15.

Devices, systems, and masks for cpap, non-invasive ventilation, and oxygen

Номер патента: US20230263981A1. Автор: Jeremy Elliot ORR,Graham Jaffe ORR. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2023-08-24.

Bead for stitching and apparatus for stitching internal organ using the same

Номер патента: KR100551740B1. Автор: 이규백,조문기,홍대희,전훈재,이창양. Владелец: 학교법인고려중앙학원. Дата публикации: 2006-02-13.

Sewing machine for stitching the curved edge of a work-piece - has adjusting device for moving edge transversely of the line of stitching

Номер патента: FR2252008A5. Автор: . Владелец: Institut Textile de France. Дата публикации: 1975-06-13.

Stitched reinforcing-fiber base material, preform material, fiber-reinforced composite material, and production method for stitched reinforcing-fiber base material, preform material, and fiber-reinforced composite material

Номер патента: AU2021242887A1. Автор: Toru Kaneko,Tetsuya Akamatsu,Kohei OSAKI. Владелец: Teijin Ltd. Дата публикации: 2022-11-17.

Method and apparatus for stitch-machining deep cavities in metal workpieces

Номер патента: US4847961A. Автор: David A. Donovan,Nathaniel Field. Владелец: Ford Motor Co. Дата публикации: 1989-07-18.

Bead-apex stitching device and method for stitching an apex to a bead

Номер патента: WO2022211615A1. Автор: Timen Anton VAN WERVEN,Willem Marinus VAN BEEK. Владелец: VMI HOLLAND B.V.. Дата публикации: 2022-10-06.

MASK FOR DEPOSITION, MASK ASSEMBLY INCLUDING THE SAME AND METHOD OF FORMING THE MASK ASSEMBLY

Номер патента: US20150034005A1. Автор: Ko Jung-Woo. Владелец: Samsung Display Co., Ltd.. Дата публикации: 2015-02-05.

STITCHING SYSTEM AND METHOD FOR STITCH STOP EMBELLISHMENTS

Номер патента: US20140216318A1. Автор: Brindzik Barbara. Владелец: VSM GROUP AB. Дата публикации: 2014-08-07.

Shape facial mask for iontophoresis piece and the facial mask component using the facial mask

Номер патента: CN105435367B. Автор: 全永三,朴日周,金泓禛,辛武炅,金明煥. Владелец: INSUNG INFORMATION CO Ltd. Дата публикации: 2018-03-06.

Stitching device and method for stitching printed products

Номер патента: CN100577540C. Автор: 乔尔·温·李. Владелец: Goss International Americas LLC. Дата публикации: 2010-01-06.

Stitching device and method for stitching printed products

Номер патента: EP1761398B1. Автор: Joel Winn Lee. Владелец: Goss International Americas LLC. Дата публикации: 2014-02-12.

METHOD AND APPARATUS FOR STITCHING STITCHING OF WORKPIECES FROM BANDED MATERIAL

Номер патента: FR2647390A1. Автор: Jean-Jacques Kautt. Владелец: Ferco International Usine de Ferrures de Batiment. Дата публикации: 1990-11-30.

Holders or masks for displaying membership badges issued by motoring or cycling associations or clubs

Номер патента: GB244262A. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 1925-12-17.

Bypass clincher for stitching machine

Номер патента: CA1267501A. Автор: Casper W. Hagemann. Владелец: Interlake Inc. Дата публикации: 1990-04-10.

Stitching machine - using a single yarn for stitching rope soles of casual shoes

Номер патента: FR2162710A5. Автор: . Владелец: Dufau Paul. Дата публикации: 1973-07-20.

Eyecup, headband, and eye mask for sleeping

Номер патента: GB2610445A8. Автор: Schwarz Benjamin,Zhang Mark. Владелец: Manta Sleep LLC. Дата публикации: 2024-02-07.

Remote phosphor masks for retrofitting luminaires

Номер патента: US20220268406A1. Автор: Barry Goldman,Craig Eugene Marquardt,Qi Ai. Владелец: ABL IP HOLDING LLC. Дата публикации: 2022-08-25.

Novel methods for stitching latex and similar compounds

Номер патента: US20230399781A1. Автор: Jessica M. Walsh. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-12-14.

Stitching roller for stitching a strip

Номер патента: EP4051492B1. Автор: Gerben MULDER,Henrick Theodoor POSTHUMUS. Владелец: VMI Holland BV. Дата публикации: 2023-10-18.

Remote phosphor masks for retrofitting luminaires

Номер патента: US12000548B2. Автор: Barry Goldman,Craig Eugene Marquardt,Qi Ai. Владелец: ABL IP HOLDING LLC. Дата публикации: 2024-06-04.

Machine for stitching shoe parts to a related sole

Номер патента: WO2012017413A3. Автор: Massimo Centanni Fiorini. Владелец: Ciucani Mocassino Machinery S.R.L.. Дата публикации: 2012-03-29.

Machine for stitching shoe parts to a related sole

Номер патента: EP2601336A2. Автор: Massimo Centanni Fiorini. Владелец: Ciucani Mocassino Machinery SRL. Дата публикации: 2013-06-12.

Stitching roller for stitching a strip

Номер патента: EP4051492C0. Автор: Gerben MULDER,Henrick Theodoor POSTHUMUS. Владелец: VMI Holland BV. Дата публикации: 2023-10-18.

Face mask for diving

Номер патента: US20030066124A1. Автор: Taro Fujima. Владелец: Tabata Co Ltd. Дата публикации: 2003-04-10.

MASK FOR PROTECTION AGAINST BACTERIAL DISEASES

Номер патента: RU2006133324A. Автор: Стефано ЧЕРБИНИ,Стефано ЧЕРБИНИ (IT). Владелец: Кл. Ком С.Р.Л. (It). Дата публикации: 2008-03-27.

AEROSOL INHALER AND MASK FOR INHALATION SOLUTION

Номер патента: RU2015145182A. Автор: Георг НАОУМ. Владелец: Георг НАОУМ. Дата публикации: 2017-04-25.

Inflatable frameless mask for the ventilation of patients

Номер патента: WO2018116040A1. Автор: Paolo Rossi. Владелец: Intersurgical S.P.A.. Дата публикации: 2018-06-28.

Protective mask for medical procedures

Номер патента: IL274446B. Автор: Moshe Ernst Maurice. Владелец: Moshe Ernst Maurice. Дата публикации: 2020-10-29.

Protecting mask for boxing pupils

Номер патента: US1432471A. Автор: Lacrotte Nazaire. Владелец: Individual. Дата публикации: 1922-10-17.

Mask for fowls

Номер патента: US1962395A. Автор: Jones Jacob. Владелец: Individual. Дата публикации: 1934-06-12.

Face mask for swimmers

Номер патента: US3302213A. Автор: Samuel M Davison. Владелец: Dacor Corp. Дата публикации: 1967-02-07.

Mask for automobile lamps.

Номер патента: US929627A. Автор: H D Penney. Владелец: Individual. Дата публикации: 1909-07-27.

Flexible face mask for various dental and medical uses

Номер патента: EP4153089A4. Автор: Boaz Barry Groman. Владелец: Groman Inc. Дата публикации: 2024-07-10.

Collar of a transparent screen at a mask for protecting respiratory organs

Номер патента: YU144878A. Автор: H Schurig,W Goerner,S Zemelka. Владелец: MEDIZIN LABORTECHNIK VEB K. Дата публикации: 1983-01-21.

Breathing mask for normal-pressure and over-pressure operation

Номер патента: GB2419654B. Автор: Thomas Grassl,Manfred Gdulla,Siegbert Tolk,Olaf Balke,Ruediger Mueller,Ruediger Weich. Владелец: Draeger Safety AG and Co KGaA. Дата публикации: 2006-10-25.

Headgear appliance with integrated chinstrap apparatus and mask for breating disorders

Номер патента: AU2003287269A1. Автор: Antonio R. Ruiz,Sherrie E. Ruiz. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-06-07.

Breathing-mask for emergency use during fires

Номер патента: GB8803494D0. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 1988-03-16.

Cosmetic mask for eyes

Номер патента: EP4000451B1. Автор: Iwao Yamazaki. Владелец: Ya Man Ltd. Дата публикации: 2024-07-24.

Mask for breathing apparatus

Номер патента: GB201311164D0. Автор: . Владелец: Scott Health and Safety Ltd. Дата публикации: 2013-08-07.

Mask for fowls

Номер патента: USRE19562E. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 1935-05-07.

Mask for electric-light bulbs

Номер патента: US1642646A. Автор: Earl G Chase. Владелец: Individual. Дата публикации: 1927-09-13.

Face mask for pack

Номер патента: HK1100891A1. Автор: Susumu Omoto. Владелец: Nichiei Co Ltd. Дата публикации: 2007-10-05.

Body of a complete mask for protecting respiratory organs

Номер патента: YU99178A. Автор: R Mueller,C Krueger,W Goerner,S Zemelka,Schuringh,F Foertsch. Владелец: MEDIZIN LABORTECHNIK VEB K. Дата публикации: 1982-06-30.

Body of a complete mask for protecting respiratory organs

Номер патента: YU41096B. Автор: Müller Rudolf,Rudolf Müller,Claus Kruger,Horst Schuring,Walter Gorner,Gorner Walter,Schuring Horst,Zemlka Stefan,Stefan Zemlka,Kruger Claus,Fortsch Fritz,Fritz Fortsch. Владелец: MEDIZIN LABORTECHNIK VEB K. Дата публикации: 1986-12-31.

Mask for radiation dosimetry

Номер патента: EP3223905B1. Автор: Emiliano D'Agostino,Luana DE FREITAS NASCIMENTO,Filip VANHAVERE,Clarita SALDARRIAGA VARGAS,Marijke DE SAINT-HUBERT. Владелец: SCK CEN. Дата публикации: 2019-06-12.

Metal mask for sandblast

Номер патента: JPS57156169A. Автор: Kosaku Momotake. Владелец: Nippon Columbia Co Ltd. Дата публикации: 1982-09-27.

On/Off time mask for short TTI.

Номер патента: OA20331A. Автор: Muhammad Kazmi,Imadur Rahman,Christian Bergljung. Владелец: TELEFONAKTIEBOLAGET LM ERICSSON. Дата публикации: 2022-06-02.

Cosmetic mask for face skin care

Номер патента: RU2429817C1. Автор: Василий Евгеньевич Тарасов,Игорь Викторович Губин,Людмила Николаевна Василенко,Юрий Иванович Федченко,Василий Яковлевич Одарченко,Наталия Викторовна Лосева,Татьяна Владимировна Пелипенко,Анна Юрьевна Анопка. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Кубанский государственный технологический университет" (ГОУ ВПО "КубГТУ"). Дата публикации: 2011-09-27.

Fabrication of amplitude diffraction optical elements and masks for production of phase structures

Номер патента: RU2556313C2. Автор: Николай Львович Казанский,Олег Юрьевич Моисеев,Алексей Васильевич Волков,Сергей Дмитриевич Полетаев. Владелец: Российская академия наук Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт систем обработки изображений Российской академии наук (ИСОИ РАН). Дата публикации: 2015-07-10.

Mask for facial treatment

Номер патента: RU2519150C1. Автор: Ольга Ивановна Жигачёва. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Волгоградский государственный университет". Дата публикации: 2014-06-10.

Surgical instrument for stitching organs with the aid of metal staples

Номер патента: CA1045930A. Автор: Ernest M. Akopov,Petr M. Postolov. Владелец: VSESOJUZNY NAUCHNO-ISSLEDOVATELSKY I ISPYTATELNY INSTITUT MEDITSINSKOI T EKHNIKI. Дата публикации: 1979-01-09.

Mask for a respirator

Номер патента: CA155507S. Автор: . Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2015-04-09.

Mask for skin care

Номер патента: RU2164131C2. Автор: В.В. Денисов,С.Л. Левин,А.Н. Петров,Н.В. Денисов. Владелец: Денисов Виктор Васильевич. Дата публикации: 2001-03-20.

Method for manufacture of litographic mask for liga-technology

Номер патента: RU2350996C1. Автор: Екатерина Владимировна Петрова,Владимир Иванович Кондратьев,Александр Николаевич Генцелев,Борис Григорьевич Гольденберг. Владелец: Институт ядерной физики СО РАН. Дата публикации: 2009-03-27.

Filtering half-mask for protection against aerosols and dust

Номер патента: RU2550329C2. Автор: Геннадий Николаевич Колесников,Александр Александрович Атрошенко,Анатолий Александрович Скобцов,Владимир Дмитриевич Горбушкин,Валерий Павлович Зародов. Владелец: Валерий Павлович Зародов. Дата публикации: 2015-05-10.

Method of manufacturing resistive masks for nanolithography

Номер патента: RU2510632C1. Автор: Владимир Васильевич Сычев,Илья Викторович Тайдаков,Алексей Григорьевич Витухновский,Дмитрий Анатольевич Глубоков. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Физический институт им. П.Н. Лебедева Российской академии наук (ФИАН). Дата публикации: 2014-04-10.

An Improved Mask for the use of Motorists, and others.

Номер патента: GB190609962A. Автор: Albert Edward Salt,Oscar Bruster. Владелец: Individual. Дата публикации: 1907-03-21.

Cream-mask for dehydrated skin

Номер патента: RU2216314C1. Автор: И.В. Анчевский,М.В. Глинская. Владелец: Закрытое акционерное общество "Косметический центр "ЛАКРИМА". Дата публикации: 2003-11-20.

Improvements in Sewing Machines for Stitching Leather and like Goods.

Номер патента: GB190816422A. Автор: . Владелец: Singer Co. Дата публикации: 1909-04-08.

Mask for respirator

Номер патента: CA137093S. Автор: . Владелец: Teijin Pharma Ltd. Дата публикации: 2011-04-28.

Mask for a respirator

Номер патента: CA155549S. Автор: . Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2015-04-09.

Mask for a respirator

Номер патента: CA155665S. Автор: . Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2015-04-09.

Improvements relating to Gauges and Masks for use in Photographic Printing.

Номер патента: GB190413774A. Автор: Frederick Charles White. Владелец: Individual. Дата публикации: 1904-08-25.

Improvements in Masks for Anæsthetic Purposes.

Номер патента: GB190311916A. Автор: Frederick Field Robinson. Владелец: Individual. Дата публикации: 1903-10-15.

Improvements in and relating to Masks for use in Photographic Printing.

Номер патента: GB190317171A. Автор: Albert Nixon,Walter Charles Grubb. Владелец: Individual. Дата публикации: 1904-06-16.

Cosmetic cleansing mask for face skin care "leda-plyus"

Номер патента: RU2120273C1. Автор: А.Н. Децина. Владелец: Товарищество с ограниченной ответственностью "Биокосметическая фабрика". Дата публикации: 1998-10-20.

Improvements in Printing Masks for Photographic purposes.

Номер патента: GB190512310A. Автор: William Hahne,Richard Hoh. Владелец: Individual. Дата публикации: 1905-10-26.

Cleaning cosmetic mask for face skin care

Номер патента: RU2110985C1. Автор: А.Н. Децина. Владелец: Закрытое акционерное общество Научно-производственный центр "Сибирская природная косметика". Дата публикации: 1998-05-20.

Hard mask for grey-tone (gt) photoresist thickness control

Номер патента: WO2024211339A1. Автор: JIN Xu,Ludovic Godet,Yongan Xu,Wenhui Wang,Jhenghan YANG. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-10-10.

Energetic cosmetic mask for facial skin

Номер патента: RU2218910C2. Автор: Е.Ю. Рослякова,кова Е.Ю. Росл,Людмила Михайловна Калацка,Людмила Михайловна Калацкая,Натали Петровна Лысоковска,Наталия Петровна Лысоковская. Владелец: Фирма "Комитэкс" ООО. Дата публикации: 2003-12-20.

Improved Mask for use in Administering Anaesthetics and the like.

Номер патента: GB190408098A. Автор: Alexander Bernhard Draeger,Johann Heinrich Draeger. Владелец: Individual. Дата публикации: 1905-01-19.

A New or Improved Device for Stitching or Securing together Pieces of Flexible and other Material.

Номер патента: GB189724370A. Автор: Rosalie Caroline Chichester. Владелец: Individual. Дата публикации: 1898-04-30.

Multipurpose photopolymerizing composition of soldering mask for printed circuit boards with raised operating characteristic

Номер патента: RU2192661C1. Автор: А.А. Белов,Ю.В. Лебедев,В.С. Михлин,О.Р. Харин,В.П. Беззубаев,М.Э. Дергунова,А.И. Цофина. Владелец: Открытое акционерное общество "Компания Славич". Дата публикации: 2002-11-10.

Mask for mask ROM process

Номер патента: TW471025B. Автор: Jin-Lung Chen,Jeng-Guei Tzeng. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2002-01-01.

Alternating phase shift masking for multiple levels of masking resolution

Номер патента: AU2001240111A1. Автор: Shao-Po Wu. Владелец: Numerical Technologies Inc. Дата публикации: 2002-09-24.

Device for stitching and dissecting stomach wall

Номер патента: RU2056798C1. Автор: Олег Ксенофонтович Скобелкин. Владелец: Олег Ксенофонтович Скобелкин. Дата публикации: 1996-03-27.

Needle plate, for a twin-needle chain stitch sewing machine, has a structured stitching tongue with a projecting folding rib for stitching a seam similar to a trimming seam

Номер патента: AT409502B. Автор: . Владелец: Sahl Johannes. Дата публикации: 2002-09-25.

Mask for enhancing effectiveness of active ingredients on the skin

Номер патента: IL125657A. Автор: . Владелец: Ehud Barr. Дата публикации: 2002-12-01.

Cutting pattern for stitching sleeves of dress enabling direct stitching according to ordered size

Номер патента: JPS5288437A. Автор: Hiroshi Nakanishi,Tadao Hasegawa. Владелец: TAKOU BOUSEKI KK. Дата публикации: 1977-07-23.

Improvement of needle used for stitching rubber plate or the like and tip of internal unit pattern for zigzag stitch sewing machine

Номер патента: JPS5220165A. Автор: Katsuji Akagi. Владелец: Individual. Дата публикации: 1977-02-15.

Individual deforming mask for movable object

Номер патента: RU2217683C1. Автор: Н.Г. Шахворостов,Е.В. Гольцман,Я.Я. Хаджиева,И.Е. Прокофьев,О.Д. Войлошников,М.Э. Казанцев,С.М. Лепешкин,Е.В. Исаева,С.И. Поддубный,В.С. Строчков,А.В. Строчков. Владелец: ООО Научно-технический центр "Версия". Дата публикации: 2003-11-27.

Sputtering apparatus for manufacturing mask blank, method for manufacturing mask blank for display apparatus, and method for manufacturing mask for display apparatus

Номер патента: JP5975653B2. Автор: 禎一郎 梅澤,石山　雅史,雅史 石山. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-08-23.

Cushion for mask for CPAP therapy

Номер патента: AU201812599S. Автор: . Владелец: Koninklijke Philips NV. Дата публикации: 2018-06-04.

Mask for a display unit and display unit for an electronic display board

Номер патента: USD526360S1. Автор: Akiko Yamamoto,Tuyoshi Yasuoka. Владелец: Nichia Corp. Дата публикации: 2006-08-08.

Design for a mask for typewriting machines

Номер патента: USD80881S. Автор: Bernard J. Dowd. Владелец: Royal Typewriter Company. Дата публикации: 1930-04-08.

Method for forming solder mask for circuit board

Номер патента: TWI253886B. Автор: Ching-Wen Hsueh. Владелец: Advanced Semiconductor Eng. Дата публикации: 2006-04-21.

A safety valve for facial masks for assisted respiration or CPAP treatment

Номер патента: AU4837197A. Автор: Michael Berthon-Jones,Michel Calluaud,Christopher Edward Lynch,Kenneth Frederick Hely. Владелец: ResMed Pty Ltd. Дата публикации: 1998-03-26.

Method for forming solder mask for circuit board

Номер патента: TW200601914A. Автор: Ching-Wen Hsueh. Владелец: Advanced Semiconductor Eng. Дата публикации: 2006-01-01.

Fabrication method for parallel wiring of focus mask for field emission display, and the structure thereof

Номер патента: TW200539215A. Автор: Yao-Zong Chen,zhen-zai Yang. Владелец: Teco Nanotech Co Ltd. Дата публикации: 2005-12-01.

Structure of mobile mask for net room for agricultural cultivation

Номер патента: TW423267U. Автор: Ming-Yu Jou. Владелец: Jou Ming Yu. Дата публикации: 2001-02-21.

A method for the production of translucent (transparent) masks for photomasks

Номер патента: UA67942A. Автор: Stepan Petrovych Novosiadlyi,Volodymyr Mykhail Berezhanskyi. Владелец: Vasyl Stefanyk Prykarpatskyi U. Дата публикации: 2004-07-15.

Cream-mask for face skin

Номер патента: RU2195261C1. Автор: н М.О. Даниел,М.О. Даниелян,н Д.О. Даниел,Д.О. Даниелян. Владелец: Даниелян Даниел Оганесович. Дата публикации: 2002-12-27.

Manufacturing method of glass substrate for mask blank, manufacturing method of mask blank, manufacturing method of mask for exposure, and manufacturing method of glass member for lithography

Номер патента: JP4859436B2. Автор: 勝 田辺. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2012-01-25.

Hard mask for production of shadow mask and its production, and production of shadow mask using hard mask

Номер патента: JPH11133587A. Автор: Yasuhisa Otake,光明 山崎,Masaru Nikaido,勝 二階堂,康久 大竹,Mitsuaki Yamazaki,Masao Takashima,Hitoshi Shiozawa,Yoshihiro Tajima,義浩 田島,仁志 塩沢,真穂 高島. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1999-05-21.

Device for stitching-on trim simultaneously with stitching-in edges in sewn garments

Номер патента: SU1377314A1. Автор: Михаил Шимонович Вайнблат,Михаил Ицекович Сандлер,Геннадий Юрьевич Ивашкевич. Владелец: Ростовский Филиал Центрального Научно-Исследовательского Института Швейной Промышленности. Дата публикации: 1988-02-28.

HYGIENIC MASK FOR AIRCRAFT CREWMEMBER AND A MASK ASSEMBLY COMPRISING THE HYGIENIC MASK

Номер патента: US20120199130A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-08-09.

MASKS FOR USE IN LITHOGRAPHY INCLUDING IMAGE REVERSAL ASSIST FEATURES, LITHOGRAPHY SYSTEMS INCLUDING SUCH MASKS, AND METHODS OF FORMING SUCH MASKS

Номер патента: US20130010274A1. Автор: Yang Ming-Chuan. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2013-01-10.

Cream-mask for face skin

Номер патента: RU2162320C1. Автор: И.Н. Козловска,И.Н. Козловская. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "НПЛ Шарм Клео Косметик". Дата публикации: 2001-01-27.

Sewing machine for stitching and chain stitches

Номер патента: SU506663A1. Автор: Владимир Александрович Иванченко. Владелец: Московский Технологический Институт Министерства Бытового Обслуживания Населения Рсфср. Дата публикации: 1976-03-15.

Chain stitching unit for stitch sewing machine

Номер патента: JPS52128736A. Автор: Hiromitsu Shimizu. Владелец: Hirose Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 1977-10-28.

Method and machine for stitching belts, etc. cheese tnyh stitches

Номер патента: SU51778A1. Автор: В.И. Ретинский. Владелец: В.И. Ретинский. Дата публикации: 1936-11-30.

Sewing machine for stitching with a hidden (blind) stitch, for example, for sewing sports shoes

Номер патента: SU49766A1. Автор: В.И. Морозов. Владелец: В.И. Морозов. Дата публикации: 1936-08-31.

Stitch type lower yarn bobbin eliminating unit for stitch sewing machine

Номер патента: JPS52154449A. Автор: Kiyoshi Okazaki. Владелец: Individual. Дата публикации: 1977-12-22.

Headlight mask for a motorcycle

Номер патента: CA224008S. Автор: . Владелец: KTM AG. Дата публикации: 2024-04-08.

Snorkel structure of mask for snorkel diving

Номер патента: TW509203U. Автор: Wen-He Liou. Владелец: Wen-He Liou. Дата публикации: 2002-11-01.

Face mask for a helmet

Номер патента: USD198717S. Автор: Russell S. Colley. Владелец: by mesne assignments. Дата публикации: 1964-07-21.

Mask for horses

Номер патента: USD1021282S1. Автор: Xuejun Li. Владелец: Shenzhen Tongtu Leather Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-02.

Eye Mask for Under Eye Compression

Номер патента: AU2010903740A0. Автор: Paul Zenith. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-09-09.

Mask for typewriting machines

Номер патента: USD134682S. Автор: Lewis C. Myers. Владелец: Royal Typewriter Company. Дата публикации: 1942-12-29.

Circular inward-winding type mask for fully covered safety helmet

Номер патента: TW444537U. Автор: Chiou-Dung Chen. Владелец: Chen Chiou Dung. Дата публикации: 2001-07-01.

Face mask for sport helmet

Номер патента: USD449902S1. Автор: Martin Pernicka. Владелец: Leader Industries Inc Canada. Дата публикации: 2001-10-30.

Mask for keeping food temperature

Номер патента: TWM388896U. Автор: Cheng-Yu Lin. Владелец: WONSON TAIWAN Inc. Дата публикации: 2010-09-21.

Mask for coating jig and coating apparatus thereof

Номер патента: TW200610581A. Автор: Szu-Hsien Lee,Chen-Yuan Hsu,Ming-Hua Chen. Владелец: Prodisc Technology Inc. Дата публикации: 2006-04-01.

BiCMOS process utilizing emitter poly-silicon etching mask for contact implantation

Номер патента: TW200507075A. Автор: Fu-Chih Yang,Guan-Jie Shen,Yong-Yan Xie. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg Co Ltd. Дата публикации: 2005-02-16.

Smoke collecting mask for air inlet hole of range hood

Номер патента: TWM264457U. Автор: Huei-Ling Chen. Владелец: Huei-Ling Chen. Дата публикации: 2005-05-11.

Manufacturing method of shadow mask for quadr-pole field emission displays

Номер патента: TWI242386B. Автор: Kuei-Wen Jeng,Shie-Heng Li. Владелец: Teco Nanotech Co Ltd. Дата публикации: 2005-10-21.

Mask for a typewriting machine

Номер патента: CA12271S. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 1939-03-27.

Highly durable metal mask for sputtering process

Номер патента: TW525630U. Автор: Jiun-Jr Chen,Yu-Feng Rau,Shian-Liang Jou,Yung-Jie Jian. Владелец: Sintek Photronic Corp. Дата публикации: 2003-03-21.

Gage face dial mask for vehicle

Номер патента: USD450283S1. Автор: Neal S. Rayburn. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-11-13.

Reflective mask for a preheating area of wave soldering furnace

Номер патента: TW540960U. Автор: Peng-Wei Wang,Chun-Hsiung Chiu,Ming-Jer Lee. Владелец: Asustek Comp Inc. Дата публикации: 2003-07-01.

Mask for arc welding

Номер патента: CA193352A. Автор: Claude J. Holslag. Владелец: Individual. Дата публикации: 1919-10-21.

Face mask for a helmet

Номер патента: USD198718S. Автор: Russell S. Colley. Владелец: . Дата публикации: 1964-07-21.

Improved structure of mask for mouth, nose and ears

Номер патента: TW507577U. Автор: Ying-Wen Tzeng. Владелец: Ying-Wen Tzeng. Дата публикации: 2002-10-21.

Protective mask for electrowelder

Номер патента: BG46170A1. Автор: Vasilij T Dzjubenko,Lev S Omeljanov,Fedor Kh Bijtsev,Viktor I Koshkalda,Sergej M Sangovich,Oleg N Denisenko,Jurij P Gubanov. Владелец: Jurij P Gubanov. Дата публикации: 1989-11-15.

Mask for diving or underwater use

Номер патента: AU5242559A. Автор: Beuchat Paul. Владелец: Individual. Дата публикации: 1960-03-03.

Mask for diving or underwater use

Номер патента: AU234038B2. Автор: Beuchat Paul. Владелец: Individual. Дата публикации: 1960-03-03.

Bumper with protective mask for tractors and similar vehicles

Номер патента: YU54985A. Автор: Devcic Nikola,Nikola Devcic. Владелец: Nikola Devcic. Дата публикации: 1988-10-31.

Polychromic digital radiography detector with patterned mask for single-exposure energy-sensitive X-ray imaging

Номер патента: ZA200703817B. Автор: Joseph Heanue,Gary R Cantu,Brian P Wilfley. Владелец: Eklin Medical Systems Inc. Дата публикации: 2009-12-30.

Goggles (protective mask) for use in welding works

Номер патента: GR2001771Y. Автор: Georgios Tovstiadis. Владелец: Georgios Tovstiadis. Дата публикации: 1996-04-23.

Waterproof mask for motorbike

Номер патента: TW535744U. Автор: Mu-Tian Jang,Chuen-Rung He. Владелец: Chuen-Rung He. Дата публикации: 2003-06-01.

Facial mask for use in electro-therapy

Номер патента: USD140667S. Автор: Paul Meminger. Владелец: . Дата публикации: 1945-03-27.

Mask for chemical mechanical polishing device

Номер патента: TW455526B. Автор: Yu-Sheng Shen,Jung-Yang Lin,Yung-Wang Luo,Chung-Yi Jeng. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2001-09-21.

Improved structure of arcuate component of mask for industrial safety helmet

Номер патента: TWM250563U. Автор: Jen-San Jeng. Владелец: Polison Corp. Дата публикации: 2004-11-21.

Mask for vacuum deposition and organic EL display manufactured by using the same

Номер патента: TWI236314B. Автор: Akira Takahashi,Hirosi Abiko. Владелец: Pioneer Tohoku Corp. Дата публикации: 2005-07-11.

Mask for protection against dust

Номер патента: KR890003342Y1. Автор: Bong-Kil Kim. Владелец: Kim Bong Kil. Дата публикации: 1989-05-20.

Mask for filtration of inhaled air

Номер патента: GB202003951D0. Автор: . Владелец: Bdi Design Ltd. Дата публикации: 2020-05-06.

Mask for color discrimination in picture image to co

Номер патента: MXPA99003993A. Автор: MATSUMOTO Yutaka,AOKI Takahito,Kanayama Nobuaki. Владелец: * Dai Nippon Printing Co Ltd. Дата публикации: 2000-08-01.

Mask for preventing snoring

Номер патента: HRP990010B1. Автор: Ceno Tomov. Владелец: Ceno Tomov. Дата публикации: 2003-06-30.

Mask for eyes

Номер патента: TWI280121B. Автор: Hidehiro Kitayama. Владелец: Nawari Co Ltd. Дата публикации: 2007-05-01.

A mask for use with a patient undergoing a sedated endocscopic procedure

Номер патента: AU2010900118A0. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-01-28.

Face mask for a helmet

Номер патента: USD444920S1. Автор: John H. Hicks, Jr.. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-07-10.

Improved stencil or mask for printing fluid material

Номер патента: GB9721833D0. Автор: . Владелец: Micro Metallic Ltd. Дата публикации: 1997-12-17.

Improved stencil or mask for printing fluid material

Номер патента: GB9719299D0. Автор: . Владелец: Micro Metallic Ltd. Дата публикации: 1997-11-12.

One dimensional unsharp masking for electro-optical system

Номер патента: CA532366A. Автор: C. Hall Vincent,A. C. Yule John. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1956-10-30.

Protecting mask for welding

Номер патента: JPS54125147A. Автор: Morisu Ruisu,An Morisu Roisu. Владелец: Individual. Дата публикации: 1979-09-28.

Masks for welders

Номер патента: GR61540B. Автор: M Zervos. Владелец: M Zervos. Дата публикации: 1978-11-23.

Protective mask for sports

Номер патента: TWI645886B. Автор: 許世煌. Владелец: 金凱富體育器材有限公司. Дата публикации: 2019-01-01.

Oil smoke mask for range hood

Номер патента: TWM361613U. Автор: Ming-Guo Wu. Владелец: Lien Yah Entpr Co Ltd. Дата публикации: 2009-07-21.

Face mask for cold protection

Номер патента: USD309962S. Автор: Olavi Ebeling. Владелец: Suomen Jonas Oy. Дата публикации: 1990-08-14.

Mask for gasproof

Номер патента: KR870000197Y1. Автор: Myong-Ki Kim. Владелец: Kim Myong Ki. Дата публикации: 1987-02-10.

Mask for head and neck

Номер патента: TWM382138U. Автор: guan-zhou Su,Guan-Han Su. Владелец: Su yan dai. Дата публикации: 2010-06-11.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.