Verfahren zur Charakterisierung einer Maske für die Mikrolithographie
Номер патента: DE102017115262B9
Опубликовано: 27-05-2021
Автор(ы): Dominik Grau, Holger Seitz, Markus DEGÜNTHER, Robert Birkner, Thomas Frank, Thomas Thaler, Ulrich Matejka, Ute Buttgereit
Принадлежит: CARL ZEISS SMT GMBH
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 27-05-2021
Автор(ы): Dominik Grau, Holger Seitz, Markus DEGÜNTHER, Robert Birkner, Thomas Frank, Thomas Thaler, Ulrich Matejka, Ute Buttgereit
Принадлежит: CARL ZEISS SMT GMBH
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method and apparatus for characterizing a microlithographic mask
Номер патента: US20220075272A1. Автор: Thomas Frank,Holger Seitz,Ulrich Matejka,Asad Rasool. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2022-03-10.