Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • A photoresist copolymer, a photoresist composition, their preparing methods and a photoresist pattern forming method

A photoresist copolymer, a photoresist composition, their preparing methods and a photoresist pattern forming method

Номер патента: TW464788B
Опубликовано: 21-11-2001
Автор(ы): Cheol-Kyu Bok, Jae-Chang Jung, Ki-Ho Baik
Принадлежит: Hyundai Electronics Ind
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Method and photoresist using a photoresist copolymer

Номер патента: US6143463A. Автор: Jae Chang Jung,Cheol Kyu Bok,Ki Ho Baik. Владелец: Hyundai Electronics Industries Co Ltd. Дата публикации: 2000-11-07.

Method and photoresist using a photoresist copolymer

Номер патента: GB9727095D0. Автор: . Владелец: Hyundai Electronics Industries Co Ltd. Дата публикации: 1998-02-25.

Polymer mixture for a photoresist composition

Номер патента: GB2336591A. Автор: Sang-jun Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 1999-10-27.

Reflection-inhibiting resinn used in process for forming photoresist pattern

Номер патента: US20030018150A1. Автор: Hyeong Kim,Sung Eun Hong,Jae Jung,Min Jung,Ki Baik. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2003-01-23.

Resist pattern forming method, resist pattern, crosslinkable negative chemical amplification resist composition for organic solvent development, resist film and resist-coated mask blanks

Номер патента: US20140030640A1. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Tadateru Yatsuo,Toru Tsuchihashi,Koutarou Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-01-30.

Resist pattern forming method, resist pattern, crosslinkable negative chemical amplification resist composition for organic solvent development, resist film and resist-coated mask blanks

Номер патента: EP2689292A1. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Tadateru Yatsuo,Toru Tsuchihashi,Koutarou Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-01-29.

Polymers for photoresist and photoresist compositions including the same

Номер патента: US20230123035A1. Автор: Hyunwoo Kim,Juhyeon Park,Su Min Kim,Suk Koo Hong,Yechan KIM,Jicheol PARK,Honggu IM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-04-20.

Photosensitive compound and photoresist composition including the same

Номер патента: US20090081587A1. Автор: Jae-Woo Lee,Jae-Hyun Kim,Min-Ja Yoo,Young-Bae Lim,Jun-Gyeong Lee. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-03-26.

Photoresist polymer and photoresist composition including the same

Номер патента: US20230194987A1. Автор: Hyunwoo Kim,Juhyeon Park,Hyunji SONG,Sumin KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-22.

Alkylsulfonium salts and photoresist compositions containing the same

Номер патента: US5635332A. Автор: Shigeyuki Iwasa,Etsuo Hasegawa,Katsumi Maeda,Kaichiro Nakano. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1997-06-03.

Polymer for photoresist, photoresist composition containing the same, and preparation method thereof

Номер патента: MY118218A. Автор: Sang-jun Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2004-09-30.

Fine pattern forming method and stamper

Номер патента: US20090017266A1. Автор: Kyosuke Deguchi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-01-15.

Photosensitive polymer compound and photoresist composition containing the same

Номер патента: GB2316085A. Автор: Sang-jun Choi,Young-bum Koh,Chun-Geun Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 1998-02-18.

Photoresist polymer and photoresist composition containing the same

Номер патента: US20060022297A1. Автор: Min Son. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2006-02-02.

Antireflective film including a photoresist material containing a polymer compound having an aromatic group, method of producing antireflective film, and eyeglass type display

Номер патента: US11762127B2. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Materials for photoresist, photoresist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20080081281A1. Автор: Daiju Shiono,Kyoko Kojima,Hideo Hada. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2008-04-03.

Materials for photoresist, photoresist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US7910284B2. Автор: Daiju Shiono,Kyoko Kojima,Hideo Hada. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2011-03-22.

Polymer for photoresist, photoresist composition containing the same, and preparation method thereof

Номер патента: TW460747B. Автор: Sang-jun Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2001-10-21.

Josephson junction preparation method and production line device

Номер патента: EP4301119A1. Автор: Dengfeng Li,Wenlong Zhang,Kunliang BU. Владелец: Tencent Technology Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-03.

Photoresist composition and method of forming photoresist pattern

Номер патента: US11971659B2. Автор: Ching-Yu Chang,Chin-Hsiang Lin,Chun-Chih Ho. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-04-30.

Organic salt, photoresist composition including the same, and pattern formation method using the same

Номер патента: US20240201588A1. Автор: Yoonhyun Kwak,Kyuhyun IM,Hana Kim,Beomseok Kim,Hyeran Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-20.

Photoresist composition and method of manufacturing a display substrate using the same

Номер патента: US20110097835A1. Автор: Jeong-Min Park,Jung-Soo Lee,Eun-Sang Lee,In-Ho Yu,Seong-Hyeon Kim,Won-Young Chang. Владелец: Dongwoo Fine Chem Co Ltd. Дата публикации: 2011-04-28.

Photoresist composition and method of forming photoresist pattern

Номер патента: US20230393464A1. Автор: Ching-Yu Chang,Li-Po YANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Photoresist compositions comprising acetals and ketals as solvents

Номер патента: WO2003085455A3. Автор: Joseph E Oberlander,Douglas McKenzie,Stanley F Wanat,Robert R Plass. Владелец: Clariant Int Ltd. Дата публикации: 2004-05-21.

Photoresist compositions comprising acetals and ketals as solvents

Номер патента: EP1497697A2. Автор: Joseph E. Oberlander,Douglas McKenzie,Stanley F. Wanat,Robert R. Plass. Владелец: AZ Electronic Materials USA Corp. Дата публикации: 2005-01-19.

Photoresist compositions comprising acetals and ketals as solvents

Номер патента: WO2003085455A2. Автор: Joseph E. Oberlander,Douglas McKenzie,Stanley F. Wanat,Robert R. Plass. Владелец: CLARIANT INTERNATIONAL LTD. Дата публикации: 2003-10-16.

Photoresist composition and photoresist film using the same

Номер патента: US20200033727A1. Автор: Min Young Lim,Yongsik AHN,Yongmi KIM. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2020-01-30.

Photoresist compositions

Номер патента: US20030180657A1. Автор: James Cameron,James Thackeray,Gary Teng. Владелец: Shipley Co LLC. Дата публикации: 2003-09-25.

Polymer comprising repeat units with photoacid-generating functionality and base-solubility-enhancing functionality, and associated photoresist composition and electronic device forming method

Номер патента: US09606434B2. Автор: James W. Thackeray,James F. Cameron,Amy M. Kwok,Paul J. LaBeaume,Suzanne M. Coley,David A. Valeri,Vipul Jain. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2017-03-28.

Photoacid-generating copolymer and associated photoresist composition, coated substrate, and method of forming an electronic device

Номер патента: US09581901B2. Автор: James W. Thackeray,Owendi Ongayi,James F. Cameron,Vipul Jain. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2017-02-28.

Composition for forming fine resist pattern and pattern forming method using same

Номер патента: US09448485B2. Автор: Masahiro Ishii,Takashi Sekito,Tetsuo Okayasu. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2016-09-20.

Photoresist compositions and method of preparing the same

Номер патента: US9657123B2. Автор: JI Li,Yungjui LEE. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Pattern-forming method

Номер патента: US20140255854A1. Автор: Koji Ito,Hirokazu Sakakibara,Hiromu Miyata,Taiichi Furukawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-09-11.

Nanocomposite photoresist composition for imaging thick films

Номер патента: WO2006109185A2. Автор: Mark Neisser,Ping-Hung Lu,Chunwei Chen,Hong Zhuang. Владелец: AZ ELECTRONIC MATERIALS USA CORP.. Дата публикации: 2006-10-19.

Nanocomposite photoresist composition for imaging thick films

Номер патента: WO2006109185A3. Автор: Mark Neisser,Ping-Hung Lu,Chunwei Chen,Hong Zhuang. Владелец: Az Electronic Materials Usa. Дата публикации: 2007-04-12.

Polymerizable oligomer and photoresist composition comprising the same

Номер патента: US20160137758A1. Автор: LIN Li,Wenwen SUN. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2016-05-19.

Acid-labile hyperbranched copolymer and associated photoresist composition and method of forming an electronic device

Номер патента: US09758610B2. Автор: John W. Kramer. Владелец: Dow Global Technologies LLC. Дата публикации: 2017-09-12.

Polymerizable oligomer and photoresist composition comprising the same

Номер патента: US09512242B2. Автор: LIN Li,Wenwen SUN. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2016-12-06.

Organic anti-reflective coating composition and pattern forming method using the same

Номер патента: US20050014094A1. Автор: Sam Kim,Geun Lee. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2005-01-20.

Nanocomposite photoresist composition for imaging thick films

Номер патента: MY140476A. Автор: LU Ping-Hung,CHEN Chunwei,ZHUANG Hong,Mark Neisser. Владелец: Az Electronic Materials Usa. Дата публикации: 2009-12-31.

Monomers, photoresist resins, photoresist resin compositions, and pattern forming method

Номер патента: US20200089115A1. Автор: Kazuhiro Uehara,Takashi Maruyama,Akira Eguchi. Владелец: Daicel Corp. Дата публикации: 2020-03-19.

Photoresist composition comprising a copolymer having a di-t-butyl fumarate

Номер патента: US5346803A. Автор: James V. Crivello,Sang-Yeon Shim. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1994-09-13.

Photoresist compositions and pattern formation methods

Номер патента: US11940730B2. Автор: Mingqi Li,Mitsuru Haga. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2024-03-26.

Photoresist polymer and photoresist composition containing the same

Номер патента: US20050026070A1. Автор: Sang Lee,Jae Kim,Jung Kim,Geun Lee,Ki Shin,Cheol Bok,Seung Moon,Jae Kang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-02-03.

Negative-acting chemically amplified photoresist composition

Номер патента: EP1297386A1. Автор: Ping-Hung Lu,Ralph R. Dammel,Pingyong Xu. Владелец: Clariant Finance BVI Ltd. Дата публикации: 2003-04-02.

Photoresist composition

Номер патента: US6861199B2. Автор: Geun Su Lee. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2005-03-01.

Photoacid-generating monomer, polymer derived therefrom, photoresist composition including the polymer, and method of forming a photoresist relief image using the photoresist composition

Номер патента: US20230212112A1. Автор: James W. Thackeray,Emad Aqad,James F. Cameron. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2023-07-06.

Photoacid-generating monomer, polymer derived therefrom, photoresist composition including the polymer, and method of forming a photoresist relief image using the photoresist composition

Номер патента: US11947258B2. Автор: James W. Thackeray,Emad Aqad,James F. Cameron. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2024-04-02.

Process for preparing stable photoresist compositions

Номер патента: US7741429B2. Автор: William Richard Russell,John Anthony Schultz. Владелец: DuPont Electronic Polymers LP. Дата публикации: 2010-06-22.

Photoresist composition

Номер патента: US20130316287A1. Автор: Koji Ito,Hirokazu Sakakibara,Hiromu Miyata,Taiichi Furukawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-11-28.

Copolymers and photoresist compositions comprising copolymer resin binder component

Номер патента: US5861231A. Автор: James W. Thackeray,Hiroshi Ito,George G. Barclay,Michael F. Cronin,Ronald A. Dellaguardia,Greg Breyta. Владелец: Shipley Co LLC. Дата публикации: 1999-01-19.

Photoresist composition and method of forming a pattern using same

Номер патента: US20050266342A1. Автор: Young-Ho Kim,Jae-ho Kim,Boo-Deuk Kim,Kyoung-Mi Kim,Youn-Kyung Wang,Yeu-Young Youn. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2005-12-01.

Brush polymer, photoresist composition including the same, and method of manufacturing integrated circuit device

Номер патента: US20230194985A1. Автор: Hyunwoo Kim,Juyoung Kim,Sumin KIM,Suk Koo Hong,Yechan KIM,Jicheol PARK,JinJoo Kim,Giyoung Song. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-22.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film using the same, pattern forming method, manufacturing method of electronic device, electronic device and resin

Номер патента: WO2013081184A1. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-06-06.

Polymers blends and their use in photoresist compositions for microlithography

Номер патента: WO2002044811A3. Автор: Larry L Berger,Frank L Schadt Iii. Владелец: Frank L Schadt Iii. Дата публикации: 2004-09-23.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US12038689B2. Автор: Kazunari Yagi,Takashi Kawashima,Akihiro Kaneko,Akiyoshi Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-07-16.

Actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern formation method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US12044967B2. Автор: Hironori Oka,Michihiro Shirakawa,Akiyoshi Goto,Daisuke Asakawa,Kyohei Sakita. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-07-23.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20240272553A1. Автор: Michihiro Shirakawa,Hideyuki Ishihara,Yuma Kurumisawa,Ahiyoshi Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-08-15.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern forming method, and method for producing electronic device

Номер патента: US20240053679A1. Автор: Takamitsu Tomiga,Hideaki Tsubaki,Sou Kamimura,Yoichi Nishida. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-02-15.

Resist composition, pattern forming method, and method of manufacturing electronic device

Номер патента: US20190219922A1. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Takashi Kawashima,Akihiro Kaneko,Wataru Nihashi,Michihiro OGAWA,Hajime Furutani,Kyohei Sakita. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-07-18.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern forming method, and method for producing electronic device

Номер патента: US20240241443A1. Автор: Shuhei Yamaguchi,Eiji Fukuzaki,Tomoaki Yoshioka,Taro MIYOSHI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern forming method, and method for producing electronic device

Номер патента: US20240329531A1. Автор: Takamitsu Tomiga,Hideaki Tsubaki,Asahi Takaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-10-03.

Photoresist composition and method of forming photoresist pattern

Номер патента: US20230324796A1. Автор: Ching-Yu Chang,Wei-Han Lai,Li-Po YANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Pattern-forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using them and electronic device

Номер патента: EP2761373A1. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Naoki Inoue. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-08-06.

Pattern forming method, electron beam- or extreme ultraviolet-sensitive resin composition, resist film using the same, method of manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US20150370170A1. Автор: Shuji Hirano,Hiroo Takizawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-12-24.

Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: WO2013081168A1. Автор: Sou Kamimura,Keita Kato,Hidenori Takahashi,Michihiro Shirakawa. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-06-06.

Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US9128376B2. Автор: Sou Kamimura,Keita Kato,Hidenori Takahashi,Michihiro Shirakawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-09-08.

Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using the same and electronic device

Номер патента: US20140349224A1. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Hiroo Takizawa,Takeshi Kawabata,Takuya TSURUTA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-11-27.

Pattern forming method, composition kit and resist film, and method for producing electronic device using them, and electronic device

Номер патента: US09915870B2. Автор: Kaoru Iwato,Hiroo Takizawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using the same and electronic device

Номер патента: US09557643B2. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Hiroo Takizawa,Takeshi Kawabata,Takuya TSURUTA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-01-31.

Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device and electronic device

Номер патента: US09482947B2. Автор: Hidenori Takahashi,Shuhei Yamaguchi,Shohei Kataoka,Michihiro Shirakawa,Shoichi Saitoh,Fumihiro Yoshino. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-11-01.

Pattern-forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using them and electronic device

Номер патента: US09470980B2. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Naoki Inoue. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, method for manufacturing actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, resin, and method for manufacturing resin

Номер патента: US20240248398A1. Автор: Tsutomu Yoshimura,Akiyoshi Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-07-25.

Chemically amplified photoresist composition, photoresist laminated product, manufacturing method for photoresist composition, manufacturing method for photoresist pattern, and manufacturing method for connection element

Номер патента: EP2202579A2. Автор: Koji Saito,Yasushi Washio. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2010-06-30.

Stabilized photoresist composition

Номер патента: US3776736A. Автор: E Davidson. Владелец: RCA Corp. Дата публикации: 1973-12-04.

Diazo-resin, photoresist composition and method of preparing same

Номер патента: US20160334704A1. Автор: Jianguo Wang. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-17.

Process for producing a photoresist composition having a reduced tendency to produce particles

Номер патента: MY121042A. Автор: Joseph E Oberlander,M Dalil Rahman,William C Nelson,Michelle M Cook. Владелец: Az Electronic Materials Japan. Дата публикации: 2005-12-30.

Photosensitive composition for euv light, pattern formation method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: EP3783434A1. Автор: Hironori Oka,Michihiro Shirakawa,Hajime Furutani. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-02-24.

Photosensitive composition for euv light, pattern formation method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: EP3783434A8. Автор: Hironori Oka,Michihiro Shirakawa,Hajime Furutani. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-04-14.

Pattern-forming method and composition

Номер патента: US09921474B2. Автор: Kanako FUKAMI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2018-03-20.

Photosensitive composition for euv light, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20210011377A1. Автор: Hironori Oka,Michihiro Shirakawa,Hajime Furutani. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-01-14.

Pattern forming method

Номер патента: US20160060410A1. Автор: Hitoshi Kubota,Katsutoshi Kobayashi,Yusuke KASAHARA,Ayako KAWANISHI,Hiroki YONEMITSU. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-03-03.

Birefringent interlayer for attenuating standing wave photoexposure of a photoresist layer formed over a reflective layer

Номер патента: US5945255A. Автор: Mingchu King. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 1999-08-31.

Methods of forming resist pattern, forming electrode pattern, and manufacturing surface acoustic wave device

Номер патента: US6821712B2. Автор: Kenji Sakaguchi,Yoshihiro Koshido,Toshiyuki Fuyutsume. Владелец: Murata Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2004-11-23.

Carboxylate salt, photoresist composition including the same, and method of forming pattern by using the photoresist composition

Номер патента: US20240094633A1. Автор: Yoonhyun Kwak,Kyuhyun IM,Youngmin Nam,Minsang Kim,Haengdeog Koh,Hana Kim,Jungha Chae,Hyeran Kim,Changheon Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-21.

Photoresist composition, system comprising a photoresist composition, method for producing a three-dimensional structure, and use of a photoresist composition in 3d-printing

Номер патента: WO2023073034A1. Автор: Martin Wegener,Vincent Hahn,Tobias Messer. Владелец: KARLSRUHER INSTITUT FUR TECHNOLOGIE. Дата публикации: 2023-05-04.

Resist methods and materials for uv and electron-beam lithography with reduced outgassing

Номер патента: WO2002031598A3. Автор: Theodore H Fedynyshyn. Владелец: Massachusetts Inst Technology. Дата публикации: 2002-09-19.

Resist methods and materials for uv and electron-beam lithography with reduced outgassing

Номер патента: WO2002031598A2. Автор: Theodore H. Fedynyshyn. Владелец: MASSACHUSETTS INSTITUTE OF TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2002-04-18.

Photo-decomposable compound, photoresist composition including the same, and method of manufacturing integrated circuit device

Номер патента: US20230120542A1. Автор: Songse YI,Hyunwoo Kim,Juyoung Kim,Juhyeon Park,Hyunji SONG,Sumin KIM,Yechan KIM,JinJoo Kim,Sukkoo Hong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-04-20.

Acrylic acid ester derivative and method for producing same, intermediate and method for producing same, high-molecular-weight compound, and photoresist composition

Номер патента: US09395625B2. Автор: Osamu Nakayama,Takashi Fukumoto,Akinobu Takeda. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 2016-07-19.

Photoresist composition

Номер патента: US3690890A. Автор: Akio Iwaki,Hiroyoshi Yamaguchi,Hirosi Tokura. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 1972-09-12.

Positive-acting photoresist composition

Номер патента: US4247616A. Автор: John P. Vikesland,Richard M. Presley. Владелец: Minnesota Mining and Manufacturing Co. Дата публикации: 1981-01-27.

Photosensitizing compound, photoresist composition including the same, and method of manufacturing integrated circuit device

Номер патента: US20230060954A1. Автор: Hyun-Ji SONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-02.

Photo-decomposable compound, photoresist composition including the same, and method of manufacturing integrated circuit device

Номер патента: US20230131429A1. Автор: Hyun-Ji SONG,Hyunwoo Kim,Juyoung Kim,SungHwan Park,JinJoo Kim,Giyoung Song,Jiyup KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-04-27.

Photoresist material comprising an o-quinone diazide photosensitizer, an alkali soluble polymer and a rosinous material

Номер патента: CA1115586A. Автор: Michael J. Oddi. Владелец: Shipley Co Inc. Дата публикации: 1982-01-05.

Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US09513547B2. Автор: Sou Kamimura,Keita Kato,Hidenori Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-12-06.

Pattern formation methods and photoresist pattern overcoat compositions

Номер патента: US11796916B2. Автор: Cong Liu,Irvinder Kaur,Xisen Hou. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2023-10-24.

Pattern formation methods and photoresist pattern overcoat compositions

Номер патента: US20180314155A1. Автор: Cong Liu,Irvinder Kaur,Xisen Hou. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2018-11-01.

Photothermographic material and image forming method

Номер патента: US20060035178A1. Автор: Takayoshi Mori. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-02-16.

Photoresist composition including photosensitive polymer and method of manufacturing integrated circuit device

Номер патента: US20240302742A1. Автор: Songse YI,Yoonhyun Kwak,Sung Hwan Park,Juhyeon Park,Sungwon Choi,Jeong Ho MUN,Hogeun Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-12.

Photoresist compositions, methods for forming pattern using the same, and methods for fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20220128905A1. Автор: Jung Min Lee,Jong Hoon Kim,Suk Koo Hong,Eun Shoo Han,Sung An Do,Hong Joon Lee,Seung Chul Kwon,Sin Hae Do. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-04-28.

Photoresist compositions and methods of manufacturing integrated circuit device using the same

Номер патента: US20220252976A1. Автор: Hyun-Ji SONG,Hyunwoo Kim,Sukkoo Hong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-08-11.

Resin, photoresist composition, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12085855B2. Автор: Ching-Yu Chang,Chin-Hsiang Lin,Siao-Shan Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Resin, photoresist composition, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12135502B2. Автор: Ching-Yu Chang,Chin-Hsiang Lin,Siao-Shan Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-11-05.

Polymer, photoresist composition including the same, and method of forming pattern using the photoresist composition

Номер патента: US20240043592A1. Автор: Yoonhyun Kwak,Minsang Kim,Haengdeog Koh,Chanjae Ahn,Jungha Chae,Sungwon Choi,Minyoung HA. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-08.

Resin, and arf dry photoresist composition comprising same and application

Номер патента: US20240302749A1. Автор: Su Wang,Sen Xu,Yiming Lin,Shunong Fang. Владелец: China Advanced Lithographic Material Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Process for producing film forming resins for photoresist compositions

Номер патента: MY122854A. Автор: Kudo Takanori,Padmanaban Munirathna,MCKENZIE Douglas,Dalil Rahman M. Владелец: Az Electronic Mat Japan K K. Дата публикации: 2006-05-31.

Photoresist composition and resist pattern-forming method

Номер патента: US20130089817A1. Автор: Hiromitsu Nakashima,Masafumi Yoshida,Hiromu Miyata. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-04-11.

Method and apparatus for printing patterns on substrates

Номер патента: US20020118345A1. Автор: Oz Cabiri,Hai Benron. Владелец: Kodak IL Ltd. Дата публикации: 2002-08-29.

Modified epoxy acrylate, photoresist composition and method for producing the same, transparent photoresist

Номер патента: US9772553B2. Автор: Xuelan WANG,Haifeng Zhou. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-26.

Resin, photoresist composition, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20230393467A1. Автор: Ching-Yu Chang,Chin-Hsiang Lin,Siao-Shan Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Photoacid-generating compound and associated polymer, photoresist composition, and method of forming a photoresist relief image

Номер патента: US20180095363A1. Автор: Emad Aqad. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2018-04-05.

Isolation of novolak resin without high temperature distillation and photoresist composition therefrom

Номер патента: US6090533A. Автор: Ping-Hung Lu,M. Dalil Rahman. Владелец: Clariant Finance BVI Ltd. Дата публикации: 2000-07-18.

Fractionated novolak resin from cresol-formaldehyde reaction mixture and photoresist composition therefrom

Номер патента: WO1998027129A1. Автор: Ping-Hung Lu,M. Dalil Rahman,Michelle Cook. Владелец: CLARIANT INTERNATIONAL LTD.. Дата публикации: 1998-06-25.

Organic anti-reflective coating polymer, organic anti-reflective coating composition and method for forming photoresist pattern

Номер патента: US20070099110A1. Автор: Jae Jung. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2007-05-03.

Photoresist composition, coated substrate, and method of forming electronic device

Номер патента: US20150021289A1. Автор: Matthias S. Ober,John B. Etienne,Vipul Jain. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2015-01-22.

Acetal-based compound, acetal-based prepolymer, acetal-based polymer, and photoresist composition comprising the same

Номер патента: US20230174471A1. Автор: Yoonhyun Kwak,Myungwoong Kim,Chanjae Ahn,Sol AN. Владелец: Inha University Research and Business Foundation. Дата публикации: 2023-06-08.

Acetal-based compound, acetal-based prepolymer, acetal-based polymer, and photoresist composition comprising the same

Номер патента: EP4194438A1. Автор: Yoonhyun Kwak,Myungwoong Kim,Chanjae Ahn,Sol AN. Владелец: Inha University Research and Business Foundation. Дата публикации: 2023-06-14.

Positive tone resist composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20220382153A1. Автор: Kazunari Yagi,Akira Takada,Kazuhiro Marumo,Michihiro Shirakawa,Akiyoshi Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-12-01.

Active-light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US09996003B2. Автор: Keita Kato,Michihiro Shirakawa,Akiyoshi Goto,Masafumi KOJIMA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-06-12.

Method of ion implantation through a photoresist mask

Номер патента: CA1043667A. Автор: San-Mei Ku,Claude Johnson (Jr.),Edward S. Pan,Harold V. Lillja. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1978-12-05.

Fractionation of resins using a static mixer and a liquid-liquid centrifuge

Номер патента: EP1326906A2. Автор: ZHONG Xiang,M. Dalil Rahman,Stanley F. Wanat. Владелец: Clariant Finance BVI Ltd. Дата публикации: 2003-07-16.

Fractionation of resins using a static mixer and a liquid-liquid centrifuge.

Номер патента: MY117790A. Автор: ZHONG Xiang,Stanley F Wanat,Dalil M Rahman. Владелец: Clariant Int Ltd. Дата публикации: 2004-08-30.

Pattern forming method and resist laminate for organic solvent development

Номер патента: US20210200098A1. Автор: Michihiro Shirakawa,Wataru Nihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-07-01.

Pattern forming method using resist underlayer film

Номер патента: US09793131B2. Автор: Shigeo Kimura,Hiroto Ogata,Yuki Usui,Tomoya Ohashi. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2017-10-17.

Pattern forming method, laminate, and resist composition for organic solvent development

Номер патента: US20180120706A1. Автор: Keita Kato,Takashi Yakushiji,Tadashi Omatsu,Michihiro Shirakawa,Akiyoshi Goto,Naoya HATAKEYAMA,Keiyu OU. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-05-03.

Pattern forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet-sensitive composition, resist film, manufacturing method of electronic device, and electronic device

Номер патента: US20130084438A1. Автор: Kaoru Iwato,Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2013-04-04.

Resin composition, resist film using same, resist-coated mask blank, resist pattern forming method, and photo mask

Номер патента: US09798234B2. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Shuhei Yamaguchi,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-10-24.

Pattern forming method, active light sensitive or radiation sensitive resin composition, resist film, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US09651863B2. Автор: Shuji Hirano,Hiroo Takizawa,Wataru Nihashi,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-05-16.

Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US09523913B2. Автор: Keita Kato,Hidenori Takahashi,Michihiro Shirakawa,Shoichi Saitoh,Fumihiro Yoshino. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-12-20.

Pattern forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet ray-sensitive resin composition, resist film, and method for manufacturing electronic device, and electronic device using the same

Номер патента: US09423690B2. Автор: Shuji Hirano,Hiroo Takizawa,Wataru Nihashi,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-08-23.

Novel organotin silicate compounds, preparation methods thereof and photoresist composition containing the same

Номер патента: US20240228518A1. Автор: Hyun Tae Jung,Hyun Dam Jeong,Seung Hwan KANG,Ji Young Bang,Yu Sun WON. Владелец: JSI SILICONE CO. Дата публикации: 2024-07-11.

Carboxylate salt, photoresist composition including the same, and method of forming pattern using the photoresist composition

Номер патента: US20240199540A1. Автор: Yoonhyun Kwak,Kyuhyun IM,Haengdeog Koh,Hana Kim,Hyeran Kim,Changheon Lee,Hoyoon PARK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-20.

Photoacid generator, photoresist composition and method for forming photoresist pattern using the same

Номер патента: US20240337929A1. Автор: Jeong Sik Kim,Jaehyun Kim,Hyung Kun Lee,Jeongmin Ha,Myoung Hyun HUR,Min Ja Yoo,Chanhyuk JI,Gyeonghun JANG. Владелец: Dongjin Semichem Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Novel photoacid generator, photoresist composition, and photoresist pattern formation method

Номер патента: EP4451061A1. Автор: Jeong Sik Kim,Jaehyun Kim,Hyung Kun Lee,Jeongmin Ha,Myoung Hyun HUR,Min Ja Yoo,Chanhyuk JI,Gyeonghun JANG. Владелец: Dongjin Semichem Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-23.

Photoresist composition, compound and process of producing photoresist pattern

Номер патента: US09563123B2. Автор: Koji Ichikawa,Shingo Fujita,Tatsuro MASUYAMA. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-07.

Photoresist composition, resist pattern-forming method, acid diffusion control agent, and compound

Номер патента: US09557641B2. Автор: Hayato Namai. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-01-31.

Semiconductor photoresist composition and method of forming patterns using the composition

Номер патента: US20240134273A1. Автор: Young Keun Kim,Dong Wan RYU,Kyungsoo MOON. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-25.

Photoresist composition and method for producing photoresist pattern

Номер патента: US09575408B2. Автор: Koji Ichikawa,Mitsuyoshi OCHIAI. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-21.

Photoresist composition for forming an insulation film, insulation film for organic electroluminescence devices and process for producing the insulation film

Номер патента: US7008883B2. Автор: Motofumi Kashiwagi,Noriyuki Mitao. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2006-03-07.

Photoresist composition for forming insulation film, insulation film for organic electroluminescence element and method for its formation

Номер патента: EP1321821A4. Автор: Motofumi Kashiwagi,Noriyuki Mitao. Владелец: Nippon Zeon Co Ltd. Дата публикации: 2004-06-23.

Method of manufacturing integrated circuit device using a metal-containing photoresist composition

Номер патента: US12112948B2. Автор: Kumagai Tomoya,Tsunehiro Nishi,Brian Cardineau,SooYoung CHOI,Chawon KOH,Soyeon Yoo,Kwangsub Yoon. Владелец: Inpria Corp. Дата публикации: 2024-10-08.

Carboxylate salt, photoresist composition including the same, and method of forming pattern by using the photoresist composition

Номер патента: EP4332083A1. Автор: Yoonhyun Kwak,Kyuhyun IM,Youngmin Nam,Minsang Kim,Haengdeog Koh,Hana Kim,Jungha Chae,Hyeran Kim,Changheon Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-06.

Photoresist pattern trimming compositions and methods

Номер патента: US09696629B2. Автор: Cong Liu,Irvinder Kaur,Kevin ROWELL. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2017-07-04.

Undercoating layer material for lithography and wiring forming method using the same

Номер патента: US20050112383A1. Автор: Takeshi Tanaka,Yoshio Hagiwara. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2005-05-26.

Photoresist composition and method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20240231222A1. Автор: Yoonhyun Kwak,Haeng Deog Koh,Jaemyoung Kim,Sunghyun HAN,Sukkoo Hong,Kyungoh KIM,Moo Hyun KOH. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-11.

Organic salt, photoresist composition including the same, and method of forming pattern by using the same

Номер патента: US20240255847A1. Автор: Sunyoung Lee,Yoonhyun Kwak,Hana Kim,Beomseok Kim,Hyeran Kim,Hoyoon PARK,Minyoung HA. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-01.

Photoresist composition, compound, and production method thereof

Номер патента: US09477149B2. Автор: Norihiko Ikeda,Hayato Namai,Takanori Kawakami. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-10-25.

Photoresist composition and method for producing photoresist pattern

Номер патента: US20160195809A1. Автор: Koji Ichikawa,Mitsuyoshi OCHIAI. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-07-07.

Salt compound and quencher, photoresist composition comprising the same

Номер патента: US20240337930A1. Автор: Jeong Sik Kim,Jaehyun Kim,Hyung Kun Lee,Myoung Hyun HUR,Min Ja Yoo. Владелец: Dongjin Semichem Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Salt compound, and quencher and photoresist composition comprising same

Номер патента: EP4450486A1. Автор: Jeong Sik Kim,Jaehyun Kim,Hyung Kun Lee,Myoung Hyun HUR,Min Ja Yoo. Владелец: Dongjin Semichem Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-23.

Fluorenyl β-oxime ester compounds, photopolymerization initiator and photoresist composition containing the same

Номер патента: US09873663B2. Автор: Min-Sun Lee,Yong-Il Cho,Sang-Oh Lee,Kun Jun,Jong-Il SHIN,Chun-Rim Oh,Won-Jung LEE,Seung-Rim SHIN. Владелец: Samyang Corp. Дата публикации: 2018-01-23.

Photoacid generator and photoresist composition including the same

Номер патента: US20230130998A1. Автор: Hyunwoo Kim,Yechan KIM,Jicheol PARK,Honggu IM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-04-27.

Zinc-based metal organic nanoparticle, preparation method therefor, and photoresist

Номер патента: US20240077801A1. Автор: HONG XU,Hao Cui,Xiangming He. Владелец: Beijing Vfortune New Energy Power Technology Development Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-07.

Photoresist composition

Номер патента: US20240255845A1. Автор: Tsunehiro Nishi,Jiyoung Park,Wonjoon SON,Seungyeol Baek,Chawon KOH. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-01.

Photoresist topcoat compositions and methods of processing photoresist compositions

Номер патента: US20160333212A1. Автор: Deyan Wang,Mingqi Li,Cong Liu,Cheng-Bai Xu,Irvinder Kaur,Doris H. KANG. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2016-11-17.

Novel naphthalimide sulfonate derivative, and photoacid generator and photoresist composition each comprising same

Номер патента: US20240085786A1. Автор: Min Jung Kim,Won Jung Lee,Chun Rim Oh,Ji Eun Choi,Ki Tae Kang,Dae Hyuk Choi,Deuk Rak LEE,Chi Wan LEE,Yu Na CHOI. Владелец: Samyang Corp. Дата публикации: 2024-03-14.

Novel naphthalimide sulfonate derivative, and photoacid generator and photoresist composition which comprise same

Номер патента: US20230331680A1. Автор: Min Jung Kim,Won Jung Lee,Chun Rim Oh,Ji Eun Choi,Dae Hyuk Choi,Deuk Rak LEE,Yu Na CHOI. Владелец: Samyang Corp. Дата публикации: 2023-10-19.

Photoresist compositions

Номер патента: US20210380612A1. Автор: Tsunehiro Nishi,Seung Han,Kunwoo BAEK,Jaehyun Kim,Moonil Jung,Mijeong Song,Chawon KOH. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2021-12-09.

A composition for coating over a photoresist pattern

Номер патента: EP2598589A1. Автор: MENG Li,Jian Yin,Hengpeng Wu,Yi Cao,Sung-Eun Hong,Dongkwan Lee,Margareta Paunescu. Владелец: AZ Electronic Materials USA Corp. Дата публикации: 2013-06-05.

Photoresist composition including a chrysene compound, method of forming a pattern using the same, and method of fabricating 6-nitrochrysene

Номер патента: US20230357123A1. Автор: Juhee Kim,Young Gyu Kim,Hong Won Lee,Jonghoon Kim,Sunah Lee,Suk Koo Hong,Gumhye Jeon,Hae Min Yang,Jooyoung Song,Ahhyun LEE. Владелец: SEOUL NATIONAL UNIVERSITY R&DB FOUNDATION. Дата публикации: 2023-11-09.

Underlayer film-forming composition and pattern forming process

Номер патента: US09620363B2. Автор: Tsutomu Ogihara,Jun Hatakeyama,Daisuke Kori. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-11.

Pattern forming method, resist composition for multiple development used in the pattern forming method, developer for negative development used in the pattern forming method, and rinsing solution for negative development used in the pattern forming method

Номер патента: US09465298B2. Автор: Hideaki Tsubaki,Shinichi Kanna. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-10-11.

Pattern forming method, resist composition for multiple development used in the pattern forming method, developer for negative development used in the pattern forming method, and rinsing solution for negative development used in the pattern forming method

Номер патента: US09291904B2. Автор: Hideaki Tsubaki,Shinichi Kanna. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-03-22.

Graft pattern forming method and conductive pattern forming method

Номер патента: MY142216A. Автор: Koichi Kawamura,Yasuaki Matsushita. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2010-11-15.

Polyonium salt photoacid generator for arf light source dry lithography, preparation method therefor and application thereof

Номер патента: US20240351979A1. Автор: Su Wang,Shunong Fang,Zhiyue GENG. Владелец: China Advanced Lithographic Material Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Compound and photoresist composition containing the same

Номер патента: US8475999B2. Автор: Mitsuhiro Hata,Tatsuro MASUYAMA. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2013-07-02.

Salt and photoresist composition containing the same

Номер патента: US20100304294A1. Автор: Koji Ichikawa,Tatsuro MASUYAMA,Masako Sugihara. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2010-12-02.

Novel fluorine-containing monomeric ester compound for base resin in photoresist composition

Номер патента: US20020115883A1. Автор: Hiroshi Komano,Toshiyuki Ogata,Kotaro Endo. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2002-08-22.

Photoacid generator and photoresist composition including the same

Номер патента: US20180031967A1. Автор: Hyo-Sung Lee,Suk-Koo Hong,Gum-hye JEON,Kyoung-Yong Cho,Mi-yeong KANG,Gun-Woo Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-02-01.

Method and system for tuning photoresist adhesion layer properties

Номер патента: US20240170282A1. Автор: Yiting Sun,Fanyong Ran,Jérôme Samuel Nicolas,João Ricardo Antunes Afonso. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-05-23.

Apparatus with a check function for controlling a flow resistance of a photoresist solution

Номер патента: US20010042565A1. Автор: Chia-Wen Cheng,Li-Chung Lee,Chung-Hsien Kao,Ying-Ming Cheng. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-11-22.

Pattern forming method, graft pattern material, conductive pattern forming method and conductive pattern material

Номер патента: US20050214693A1. Автор: Koichi Kawamura,Takeyoshi Kano. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2005-09-29.

Photoacid generator, photoresist composition including the same, and method of preparing the photoacid generator

Номер патента: US20230324791A1. Автор: Sunyoung Lee,Hyunwoo Kim,Yoonhyun Kwak,Eunkyung LEE,Aram JEON,Juhyeon Park,Youngmin Nam,Byunghee SOHN,Sungwon Choi,Sumin KIM,Giyoung Song,Sukkoo Hong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-10-12.

Photoacid generator, photoresist composition including the same, and method of preparing the photoacid generator

Номер патента: US11693315B2. Автор: Sunyoung Lee,Hyunwoo Kim,Yoonhyun Kwak,Eunkyung LEE,Aram JEON,Juhyeon Park,Youngmin Nam,Byunghee SOHN,Sungwon Choi,Sumin KIM,Giyoung Song,Sukkoo Hong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-04.

Photoacid generator, photoresist composition including the same, and method of preparing the photoacid generator

Номер патента: US11982940B2. Автор: Sunyoung Lee,Hyunwoo Kim,Yoonhyun Kwak,Eunkyung LEE,Aram JEON,Juhyeon Park,Youngmin Nam,Byunghee SOHN,Sungwon Choi,Sumin KIM,Giyoung Song,Sukkoo Hong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-14.

Photosensitive resin composition, production method therefor, resist film, pattern formation method, and method for producing electronic device

Номер патента: EP3757676A1. Автор: Kei Yamamoto,Hidenori Takahashi,Naohiro Tango,Yasufumi OISHI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2020-12-30.

Pattern forming method capable of minimizing deviation of an inversion pattern

Номер патента: US09887099B2. Автор: Hiroyuki Nagai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Chemically amplified positive type photoresist composition and pattern forming method using the same

Номер патента: US20190339614A1. Автор: Masato Suzuki,Shunji Kawato,Tetsumasa TAKAICHI,Kazumichi Akashi. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2019-11-07.

Chemically amplified positive type photoresist composition and pattern forming method using the same

Номер патента: PH12019501406A1. Автор: Masato Suzuki,Shunji Kawato,Tetsumasa TAKAICHI,Kazumichi Akashi. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2020-06-08.

Chemically amplified positive type photoresist composition and pattern forming method using the same

Номер патента: EP3566098A1. Автор: Masato Suzuki,Shunji Kawato,Tetsumasa TAKAICHI,Kazumichi Akashi. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2019-11-13.

Radiation-sensitive composition, pattern-forming method and radiation-sensitive acid generating agent

Номер патента: US20180267406A1. Автор: Tomoki Nagai,Hisashi Nakagawa,Ken Maruyama,Takehiko Naruoka,Motohiro SHIRATANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2018-09-20.

Radiation-sensitive composition, pattern-forming method and radiation-sensitive acid generating agent

Номер патента: US20200041902A9. Автор: Tomoki Nagai,Hisashi Nakagawa,Ken Maruyama,Takehiko Naruoka,Motohiro SHIRATANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-02-06.

Electroforming mold manufacturing method and photomask

Номер патента: EP4317535A1. Автор: Yousuke SASAKI. Владелец: Citizen Watch Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-07.

Compound, photoresist composition comprising same, photoresist pattern comprising same, and method for manufacturing photoresist pattern

Номер патента: US11834419B2. Автор: Minyoung Lim,Junhyun AN. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2023-12-05.

Polymer comprising repeat units with photoacid-generating functionality and base-solubility-enhancing functionality, and associated photoresist composition and electronic device forming method

Номер патента: US09527936B2. Автор: James W. Thackeray,James F. Cameron,Amy M. Kwok,Paul J. LaBeaume,Suzanne M. Coley,David A. Valeri,Vipul Jain. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2016-12-27.

Block copolymer and associated photoresist composition and method of forming an electronic device

Номер патента: US09815930B2. Автор: James W. Thackeray,Peter Trefonas, III,Ke Du,Idriss Blakey,Andrew Keith WHITTAKER. Владелец: University of Queensland UQ. Дата публикации: 2017-11-14.

Photoresist composition and associated method of forming an electronic device

Номер патента: US20160103391A1. Автор: James W. Thackeray,James F. Cameron,Amy M. Kwok,Paul J. LaBeaume,Suzanne M. Coley,David A. Valeri,Vipul Jain. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2016-04-14.

Photoresist composition and associated method of forming an electronic device

Номер патента: US09557642B2. Автор: James W. Thackeray,James F. Cameron,Amy M. Kwok,Paul J. LaBeaume,Suzanne M. Coley,David A. Valeri,Vipul Jain. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2017-01-31.

Photoresist composition and associated method of forming an electronic device

Номер патента: US09551930B2. Автор: James W. Thackeray,James F. Cameron,Amy M. Kwok,Paul J. LaBeaume,Suzanne M. Coley,David A. Valeri,Vipul Jain. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2017-01-24.

Polymer comprising repeat units with photoacid-generating functionality and base-solubility-enhancing functionality, and associated photoresist composition and electronic device forming method

Номер патента: US20160102157A1. Автор: James W. Thackeray,James F. Cameron,Amy M. Kwok,Paul J. LaBeaume,Suzanne M. Coley,David A. Valeri,Vipul Jain. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2016-04-14.

Photoresist compositions and pattern formation methods

Номер патента: US11809077B2. Автор: Chunyi Wu,Mingqi Li,Cong Liu,Gregory P. Prokopowicz,Thomas Cardolaccia,Tomas MARANGONI,Jason A. DeSISTO,Choong-Bong LEE. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2023-11-07.

Apparatus for coating a semiconductor wafer with a photoresist

Номер патента: US6019843A. Автор: Sung-il Kim,Sung-hyeon Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2000-02-01.

Composition for forming upper layer film, pattern forming method using the same, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20170351179A1. Автор: Kei Yamamoto,Naoki Inoue,Michihiro Shirakawa,Naohiro Tango,Akiyoshi Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-12-07.

Photoresist composition and associated method of forming an electronic device

Номер патента: US20160103392A1. Автор: James W. Thackeray,James F. Cameron,Amy M. Kwok,Paul J. LaBeaume,Suzanne M. Coley,David A. Valeri,Vipul Jain. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2016-04-14.

Treatment liquid and pattern forming method

Номер патента: US20190258168A1. Автор: Tetsuya Kamimura,Michihiro Shirakawa,Tadashi OOMATSU. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-08-22.

Photoresist compositions and methods of forming photolithographic patterns

Номер патента: US09482948B2. Автор: Deyan Wang,Rosemary Bell,Young Cheol Bae,Thomas Cardolaccia,Seokho KANG. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2016-11-01.

Method for forming photoresist pattern and manufacturing method of magnetoresistive effect thin-film magnetic head

Номер патента: US20020055264A1. Автор: Noriyuki Ito,Koichi Terunuma,Satoshi Tsukiyama. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2002-05-09.

Photoresist composition and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US20230408918A1. Автор: Chien-Chih Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Composition for pattern formation, pattern-forming method, and block copolymer

Номер патента: US09738746B2. Автор: Tomoki Nagai,Hiroyuki Komatsu,Takehiko Naruoka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Photocurable composition for imprints, pattern forming method, and method for manufacturing device

Номер патента: US20170285468A1. Автор: Hirotaka Kitagawa,Yuichiro Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-10-05.

Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device, electronic device and compound

Номер патента: US09523912B2. Автор: Toshiaki Fukuhara,Akinori Shibuya,Shohei Kataoka,Michihiro Shirakawa,Hajime Furutani. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-12-20.

Method for film formation, and pattern-forming method

Номер патента: US09958781B2. Автор: Naoya Nosaka,Yoshio Takimoto,Tsubasa Abe,Yuushi Matsumura,Goji Wakamatsu. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2018-05-01.

Pattern-forming method

Номер патента: US09487868B2. Автор: Kaori Sakai,Tomoki Nagai,Hiroyuki Komatsu,Takehiko Naruoka,Shinya Minegishi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-11-08.

Chemically amplified photoresist composition, process for preparation of a photoresist, and use of said chemically amplified photoresist composition

Номер патента: TWI272451B. Автор: Masaki Ohwa,Hitoshi Yamato,Toshikage Asakura,Akira Matsumoto. Владелец: Ciba SC Holding AG. Дата публикации: 2007-02-01.

Method for manufacturing a photoresist-coated glass board, method for manufacturing a stamper and method for manufacturing a recording medium

Номер патента: EP1505588A3. Автор: Hisaji c/o TDK Corporation Oyake. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2006-04-26.

Pattern forming method and developing solution for use in the pattern forming method

Номер патента: KR101719664B1. Автор: 소우 카미무라,유이치로 에노모토,신지 타루타니,카오루 이와토,케이타 카토,카나 후지이. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2017-03-24.

Method and apparatus for template surface treatment, and pattern forming method

Номер патента: CN102208335A. Автор: 林秀和,伊藤信一,河村嘉久,小林克稔,富田宽. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2011-10-05.

Method and apparatus for template surface treatment, and pattern forming method

Номер патента: CN102208335B. Автор: 林秀和,伊藤信一,河村嘉久,小林克稔,富田宽. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2013-09-18.

Fused ring aromatic hydrocarbon derivative, preparation method therefor, and use thereof in lithography

Номер патента: US20240184202A1. Автор: Rui Hu,Xudong GUO,Guoqiang Yang,Xue CONG,Shuangqing Wang. Владелец: Institute of Chemistry CAS. Дата публикации: 2024-06-06.

PHOTORESIST COMPOSITION, OPTICAL FILM THEREOF, AND PREPARING METHOD OF THE OPTICAL FILM

Номер патента: US20220276556A1. Автор: Huang Hao Lun,Wu Yi Sheng. Владелец: . Дата публикации: 2022-09-01.

Positive photoresist composition with high residual film rate, synthetic method and cured film thereof

Номер патента: CN113671795B. Автор: 康威,康凯,陈旺. Владелец: Shenzhen Didao Microelectronics Technology Co ltd. Дата публикации: 2022-05-24.

Fine resist pattern-forming composition and pattern forming method using same

Номер патента: US09921481B2. Автор: Yoshihiro Miyamoto,Takashi Sekito,Tatsuro Nagahara,Kazuma Yamamoto. Владелец: AZ Electronic Materials Luxembourg SARL. Дата публикации: 2018-03-20.

Substrate bonding method and laminated body production method

Номер патента: US20210283893A1. Автор: Tomoyuki Ando,Ryuma Mizusawa. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2021-09-16.

Cleaning composition for photolithography and method of forming photoresist pattern using the same

Номер патента: US09829797B2. Автор: Seung Hyun Lee,Seung Hun Lee,Sang Woong YOON,Gyeong Guk Ham. Владелец: Youngchang Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-28.

Thermal acid generators and photoresist pattern trimming compositions and methods

Номер патента: US20170123313A1. Автор: Mingqi Li,Cong Liu,Gerhard Pohlers,Irvinder Kaur,Kevin ROWELL. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2017-05-04.

Polypetide, photoresist composition including the same, and method of forming pattern using the same

Номер патента: US12024540B2. Автор: Jieun Kim,Joonsong Park,Jinha Kim,Ginam Kim,Soonchun Chung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-02.

Porous membrane apparatus, method, and applications

Номер патента: US09821309B2. Автор: Mandy B. ESCH. Владелец: CORNELL UNIVERSITY. Дата публикации: 2017-11-21.

Method of manufacturing semiconductor structure and photoresist composition

Номер патента: US20230236507A1. Автор: Ching-Yu Chang,Chen-Yu Liu,Tzu-Yang Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-07-27.

Photoresist composition, coated substrate including the photoresist composition, and method of forming electronic device

Номер патента: US11960206B2. Автор: Emad Aqad,William Williams, III,James F. Cameron. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2024-04-16.

Pattern forming method and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20240295822A1. Автор: Tetsuya Kamimura,Satoru Murayama,Tetsuya Shimizu. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-09-05.

Acryl-silicone hybrid modifying agents with impact viscosity, method for their preparing and composition containing thereof based on vinyl chloride resin

Номер патента: RU2289595C2. Автор: Дзеонг-хеон АХН,Кванг-дзин ЛИ,Хие-киунг ЛИ. Владелец: Эл Джи Кем. Лтд.. Дата публикации: 2006-12-20.

Photoresist stripping solution and a method of stripping photoresists using the same

Номер патента: US20070004933A1. Автор: Shigeru Yokoi,Kazumasa Wakiya. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-01-04.

Photoresist stripping solution and a method of stripping photoresists using the same

Номер патента: US20080241758A1. Автор: Shigeru Yokoi,Kazumasa Wakiya. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-10-02.

Pattern forming method and phase shift mask manufacturing method

Номер патента: US20070187361A1. Автор: Hideki Suda. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2007-08-16.

Composition for removing a photoresist and method of manufacturing semiconductor device using the composition

Номер патента: US20110245128A1. Автор: Dong-Min Kang,Myungkook Park,Baiksoon Choi,Seunghyun Ahn,Dongchan Bae,KyooChul Cho,Goun Kim. Владелец: Cheil Industries Inc. Дата публикации: 2011-10-06.

Modified repair solution, preparation method thereof, and method for repairing color resist

Номер патента: US20210126111A1. Автор: Can PENG. Владелец: TCL China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-29.

Modified repair solution, preparation method thereof, and method for repairing color resist

Номер патента: US11271093B2. Автор: Can PENG. Владелец: TCL China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-08.

Pattern forming method

Номер патента: US09891526B2. Автор: Toru Kimura,Yoshio Takimoto,Kazunori Takanashi,Shunsuke Kurita. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2018-02-13.

Resin composition for forming protective film, protective film, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US09601706B2. Автор: Atsushi Nakamura,Masafumi Yoshida,Yu Iwai,Yoshitaka Kamochi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-03-21.

Plasma etching method and method for manufacturing semiconductor element

Номер патента: US20240038546A1. Автор: Kazuma Matsui,Yuki Oka. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2024-02-01.

Photoresist stripper and a method of removing a photoresist

Номер патента: MY130894A. Автор: Takashi Takeda,Akio Arano. Владелец: Az Electronic Materials Japan. Дата публикации: 2007-07-31.

Polymer dispersion in organic reaction medium, preparation method and use

Номер патента: RU2414478C2. Автор: Патрик МУАРО,Жерар РИЕСС,Кристелль ДЕЛЭТ,Камаль АРИРИ. Владелец: Сэн-Гобэн Ветротекс Франс С.А.. Дата публикации: 2011-03-20.

Deposition method and a deposition apparatus of fine particles, a forming method and a forming apparatus of carbon nanotubes, and a semiconductor device and a manufacturing method of the same

Номер патента: US20150207074A1. Автор: Noriyoshi Shimizu,Yuji Awano. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2015-07-23.

Deposition method and a deposition apparatus of fine particles, a forming method and a forming apparatus of carbon nanotubes, and a semiconductor device and a manufacturing method of the same

Номер патента: US20130109170A1. Автор: Noriyoshi Shimizu,Shintaro Sato,Yuji Awano. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2013-05-02.

Hollow white composite quantum dot preparation method, display panel and display device

Номер патента: US09530978B2. Автор: Qi Yao,Feng Zhang,Chen Tang,Zhanfeng CAO,Jingxia Gu. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2016-12-27.

Hollow white composite quantum dot preparation method, display panel and display device

Номер патента: US20160276613A1. Автор: Qi Yao,Feng Zhang,Chen Tang,Zhanfeng CAO,Jingxia Gu. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-22.

Resist pattern-forming method, substrate-processing method, and photoresist composition

Номер патента: US09417527B2. Автор: Motoyuki Shima,Ryu Matsumoto,Yuji Yada,Yuichiro KATSURA,Ken Nakakura. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-08-16.

Resist pattern-forming method, substrate-processing method, and photoresist composition

Номер патента: US20160266489A1. Автор: Motoyuki Shima,Ryu Matsumoto,Yuji Yada,Yuichiro KATSURA,Ken Nakakura. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-09-15.

Resist pattern-forming method, substrate-processing method, and photoresist composition

Номер патента: US09817311B2. Автор: Motoyuki Shima,Ryu Matsumoto,Yuji Yada,Yuichiro KATSURA,Ken Nakakura. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-11-14.

Pattern forming method, pattern forming apparatus, and non-transitory computer-readable storage medium

Номер патента: US09530645B2. Автор: Makoto Muramatsu,Takahiro Kitano,Tadatoshi Tomita,Keiji Tanouchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-27.

A photoresist image-forming process using double patterning

Номер патента: WO2009122275A1. Автор: Munirathna Padmanaban,David J. Abdallah,Ralph R. Dammel,Eric Alemy. Владелец: AZ ELECTRONIC MATERIALS USA CORP.. Дата публикации: 2009-10-08.

Photoresist composition and method for forming a metal pattern

Номер патента: US20140183162A1. Автор: Hoon Kang,Jae-Sung Kim,Ki-hyun Cho,Dong-Min Kim,Eun Jeagal,Seung-Ki Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2014-07-03.

Water-soluble negative photoresist polymer, composition containing the same, and method of forming a photoresist pattern

Номер патента: US7270934B2. Автор: Geun Su Lee. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2007-09-18.

Organic salt, photoresist composition including the same and method of forming pattern by using the photoresist pattern

Номер патента: US20240337928A1. Автор: Songse YI,Aram JEON,Youngmin Nam,Haengdeog Koh,Hana Kim,Jungha Chae,Hyeran Kim,Giyoung Song,Sukkoo Hong,Changheon Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-10-10.

Photomask designing method, a photomask designing apparatus, a computer readable storage medium, a photomask, a photoresist, photosensitive resin, a base plate, a microlens, and an optical element

Номер патента: US6519761B1. Автор: Yasuhiro Satoh. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2003-02-11.

Multiple-pattern forming methods

Номер патента: US09753370B2. Автор: Phillip D. Hustad,Shintaro Yamada,Cong Liu,Cheng-Bai Xu,James C. Taylor,Jung Woo Kim,Choong-Bong LEE,Chang-Young Hong,Lori Anne Joesten. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd. Дата публикации: 2017-09-05.

A process for shrinking dimensions between photoresist pattern comprising a pattern hardening step

Номер патента: WO2009122276A1. Автор: David J. Abdallah,Ralph R. Dammel,Victor Monreal. Владелец: AZ ELECTRONIC MATERIALS USA CORP.. Дата публикации: 2009-10-08.

Photoresist layer surface treatment, cap layer, and method of forming photoresist pattern

Номер патента: US12057315B2. Автор: Ching-Yu Chang,Chi-Ming Yang,Yen-Yu Chen,Tze-Liang Lee,Yi-Chen Kuo,Chih-Cheng Liu,Ming-Hui Weng,Jr-Hung Li,Yahru CHENG,Jia-Lin WEI. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Photoresist layer surface treatment, cap layer, and method of forming photoresist pattern

Номер патента: US20240355623A1. Автор: Ching-Yu Chang,Chi-Ming Yang,Yen-Yu Chen,Tze-Liang Lee,Yi-Chen Kuo,Chih-Cheng Liu,Ming-Hui Weng,Jr-Hung Li,Yahru CHENG,Jia-Lin WEI. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Photoresist composition and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20170199456A1. Автор: Jin Park,Hyun Woo Kim,Jin Kyu Han. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-07-13.

Photoresist composition and method for producing photoresist pattern

Номер патента: US09740102B2. Автор: Koji Ichikawa,Shingo Fujita,Tatsuro MASUYAMA. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-22.

Photoresist composition and method of forming photoresist pattern

Номер патента: US11934101B2. Автор: Ching-Yu Chang,An-Ren Zi. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-03-19.

Photoresist under-layer and method of forming photoresist pattern

Номер патента: US20230384679A1. Автор: Ching-Yu Chang,Chin-Hsiang Lin,An-Ren Zi. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Photoresist composition and method of forming photoresist pattern

Номер патента: US20230384670A1. Автор: Ching-Yu Chang,An-Ren Zi. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Method and system for manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US20240295810A1. Автор: Yao-Hwan Kao,Wei-Han Huang,Hao Yuan Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Photoresist composition and method of forming a metal pattern using the same

Номер патента: US20140076847A1. Автор: Tae-gyun Kim,Jeong-Won Kim,Chul-Won PARK,Jin-Ho Ju,Dong-Min Kim,Eun Jeagal,Min Kang,Hyun-Joo Lee,Won-Young Lee,Bong-Yeon Kim,Jun-Hyuk WOO,Joo-Kyoung Park. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2014-03-20.

Photoresist, developer, and method of forming photoresist pattern

Номер патента: US20200073238A1. Автор: Ching-Yu Chang,Chin-Hsiang Lin,An-Ren Zi. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-03-05.

Chip preparation method and system, and chip

Номер патента: US20240334843A1. Автор: Dengfeng Li,Shengyu ZHANG,Shuoming AN,Wenlong Zhang,Maochun DAI,Jingjing HU. Владелец: Tencent Technology Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Photoresist composition, method for preparing the same, and patterning method

Номер патента: US11762290B2. Автор: Teng ZHANG,Kejun LU,Daeyoun Park,Fanhua HU. Владелец: Beijing Asahi Electronic Materials Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Photoresist composition, method for preparing the same, and patterning method

Номер патента: US20210096463A1. Автор: Teng ZHANG,Kejun LU,Daeyoun Park,Fanhua HU. Владелец: Beijing Asahi Electronic Materials Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-01.

Photoresist composition and method of forming photoresist pattern

Номер патента: US20190146342A1. Автор: Joy Cheng,Ching-Yu Chang,Chin-Hsiang Lin,An-Ren Zi. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2019-05-16.

Photoresist and manufacturing method of photoresist patterns

Номер патента: US20200150536A1. Автор: Ming Liu,Yueping Zuo,Chunyang WANG,Fei Fang,Qiuhua Meng. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2020-05-14.

Photoresist composition

Номер патента: US09726975B2. Автор: Xuelan WANG. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-08.

Photoresist composition having a high heat resistance

Номер патента: US20040253541A1. Автор: Jin-Ho Ju,Dong-Ki Lee,Sung-Chul Kang,You-Kyoung Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2004-12-16.

Photoresist composition having a high heat resistance

Номер патента: US7144662B2. Автор: Jin-Ho Ju,Dong-Ki Lee,Sung-Chul Kang,You-Kyoung Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2006-12-05.

Photoresist composition having a high heat resistance

Номер патента: WO2003034151A1. Автор: Jin-Ho Ju,Dong-Ki Lee,Sung-Chul Kang,You-Kyoung Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2003-04-24.

Method of forming a pattern using a photoresist without exposing the photoresist and silicidation method incorporating the same

Номер патента: US20020119403A1. Автор: Jae-Han Lee,Suk-joo Lee,Dae-Youp Lee,Ji-yong Yoo,Jeung-woo Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2002-08-29.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US20170329228A1. Автор: Hiromitsu Nakashima,Tomohiko Sakurai,Sousuke OOSAWA,Kousuke TERAYAMA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-11-16.

Pattern forming method and developer

Номер патента: US20200401043A1. Автор: Makoto Shimizu,Ryo Kawajiri,Noboru Ootsuka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-12-24.

Critical dimension inspection method and semiconductor device manufacturing method using the same

Номер патента: US20240045342A1. Автор: Woo Jin Jung,Sang-Ho Yun,Su Bin KONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-08.

Copolymer with acid-labile group, photoresist composition, coated substrate, and method of forming an electronic device

Номер патента: US20150177614A1. Автор: James W. Thackeray,Owendi Ongayi,Suzanne Coley,James F. Cameron,Vipul Jain. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2015-06-25.

Photoresist compositions and methods for fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20230130025A1. Автор: Tsunehiro Nishi,Ji Young Park,Min Young Lee,Chang Soo Woo,Cha Won Koh,Hyun Jae Lee,Dong Il Shin. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-27.

Polymer dye and method for preparing the same, photoresist composition and display device

Номер патента: US09581903B2. Автор: Wei Deng,Xiaoxiong TIAN,Zhuo Zhang. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Photomask designing method, a photomask designing apparatus, a computer readable storage medium, a photomask, a photoresist, photosensitive resin, a base plate, a microlens, and an optical element

Номер патента: US6782526B2. Автор: Yasuhiro Satoh. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2004-08-24.

Photoresist composition and use thereof

Номер патента: US20240280901A1. Автор: Dongxu Yang,XIAN Peng,Ping Gao,Xiangang Luo,Zeyu ZHAO,Changtao WANG,Kaixin SU. Владелец: Institute of Optics and Electronics of CAS. Дата публикации: 2024-08-22.

Photoresist composition for deep ultraviolet lithography

Номер патента: US20070172762A1. Автор: Ralph Dammel,Raj Sakamuri,Francis Houlihan. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-07-26.

Composition for coating photoresist pattern and method for forming fine pattern using the same

Номер патента: US20170102619A1. Автор: Keun Kyu Kong,Sung Jae Lee,Jae Hee SIM,Jeong Hoon AN,Yun Seop Oh. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2017-04-13.

Photoresist layer surface treatment, cap layer, and method of forming photoresist pattern

Номер патента: US20230326754A1. Автор: Ching-Yu Chang,Chi-Ming Yang,Yen-Yu Chen,Tze-Liang Lee,Yi-Chen Kuo,Chih-Cheng Liu,Ming-Hui Weng,Jr-Hung Li,Yahru CHENG,Jia-Lin WEI. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Photoresist compositions, methods of forming patterns and methods of manufacturing semiconductor devices

Номер патента: US20170176859A1. Автор: Boo-Deuk Kim,Jung-Hoon Lee,Youn-Soo Kim,Soo-Young Kim,Jae-Hee Choi,Joon-Je LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-06-22.

Photoresist composition for forming a color filter and method of manufacturing a substrate for a display device

Номер патента: US8883377B2. Автор: Yun-Ho LEE,Sang-Hun Lee,Sun-Young Chang,Yui-Ku Lee. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2014-11-11.

Photoresist compositions and methods for fabricating semiconductor devices using the same

Номер патента: US20200348594A1. Автор: Soo Young Choi,Tsunehiro Nishi,Brian Cardineau,Sangyoon Woo,Chawon KOH,Jason Stowers. Владелец: Inpria Corp. Дата публикации: 2020-11-05.

Duv photolithography electrode fabrication method and electrode produced using the method

Номер патента: WO2024127225A1. Автор: Tobias Kippenberg,Zihan LI. Владелец: ECOLE POLYTECHNIQUE FEDERALE DE LAUSANNE (EPFL). Дата публикации: 2024-06-20.

Method of forming photoresist pattern

Номер патента: US20240077802A1. Автор: Ching-Yu Chang,Yu-Chung Su,Tsung-Han Ko. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-03-07.

Photoresist composition and process of producing photoresist pattern

Номер патента: US10168616B2. Автор: Koji Ichikawa,Tatsuro MASUYAMA. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2019-01-01.

Photoresist composition and method of manufacturing integrated circuit device by using the same

Номер патента: US20240241438A1. Автор: Hyun-Ji SONG,Sung Hwan Park,Juhyeon Park,Sungmin KO,Sounghyun Jun. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-18.

Photoacid generators in photoresist compositions for microlithography

Номер патента: WO2002039186A3. Автор: Viacheslav Alexandrovic Petrov,Iii Frank L Schadt. Владелец: Iii Frank L Schadt. Дата публикации: 2002-11-21.

Photoresist composition and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US20240280903A1. Автор: Ching-Yu Chang,Chin-Hsiang Lin,Tzu-Yang Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Photoresist compositions and pattern formation methods

Номер патента: US12085854B2. Автор: Mingqi Li,Cong Liu,Sheng Liu,James F. Cameron,Jong Keun Park,Tsutomu Asazuma. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2024-09-10.

Photoresist composition and method of manufacturing integrated circuit device using the same

Номер патента: US20240310724A1. Автор: Jaeyeon Kim,Juyoung Kim,Yechan KIM,Jicheol PARK,Honggu IM,Yonghoon MOON. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-19.

Photoresist composition, method for forming resist pattern, method for manufacturing semiconductor device, and substrate processing device

Номер патента: US20240288768A1. Автор: Makoto Muramatsu,Seiji Nagahara,Congque DINH. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Photoresist composition and method of manufacturing substrate for display device by using the same

Номер патента: US09851635B2. Автор: CHANGHOON Kim,Hoon Kang,Wooyong Sung,JaeHyuk Chang,Younsuk Kim,Sanghyun Yun,Jungin Park,Chadong Kim,Kibeom Lee,Hikuk Lee,Deokman Kang,Saetae Oh. Владелец: AZ Electronic Materials Luxembourg SARL. Дата публикации: 2017-12-26.

Photoresist polymers and photoresist compositions

Номер патента: US09810982B2. Автор: Jin Park,Jin-Kyu Han,Hyun-Woo Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-11-07.

Photoresist composition and method of manufacturing black matrix using the same

Номер патента: US09746767B2. Автор: Hyun-seok Kim,Jae Hyuk Chang,Ki Beom Lee,Hi Kuk Lee. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-29.

Photoresist composition

Номер патента: US09507259B2. Автор: Mingqi Li,Shintaro Yamada,Cong Liu,Cheng-Bai Xu,Emad Aqad,Ching-Lung Chen,Joseph Mattia. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2016-11-29.

Photoresist polymers and photoresist compositions

Номер патента: US20170184966A1. Автор: Jin Park,Jin-Kyu Han,Hyun-Woo Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-06-29.

Photoacid generators in photoresist compositions for microlithography

Номер патента: EP1332406A2. Автор: Viacheslav Alexandrovich Petrov,Iii Frank L. Schadt. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2003-08-06.

Electric/magnetic field guided acid profile control in a photoresist layer

Номер патента: US09366966B2. Автор: Peng XIE,Ludovic Godet. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-06-14.

Chemically amplified positive photoresist composition for improving pattern profile

Номер патента: US20210216013A1. Автор: Seung Hyun Lee,Su Jin Lee,Seung Hun Lee,Young Cheol Choi. Владелец: Youngchang Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-07-15.

Method of manufacturing a semiconductor device and photoresist composition

Номер патента: US20240126170A1. Автор: Ching-Yu Chang,Chin-Hsiang Lin,Chun-Chih Ho. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-04-18.

Chemically amplified positive photoresist composition for improving pattern profile

Номер патента: US11906900B2. Автор: Seung Hyun Lee,Su Jin Lee,Seung Hun Lee,Young Cheol Choi. Владелец: Youngchang Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-20.

Method and system for manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US12019370B2. Автор: Yao-Hwan Kao,Wei-Han Huang,Hao Yuan Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Method for manufacturing a photoresist-coated glass board, method for manufacturing a stamper and method for manufacturing a recording medium

Номер патента: US20050064345A1. Автор: Hisaji Oyake. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2005-03-24.

Method for structuring a photoresist layer

Номер патента: US20020160317A1. Автор: Michael Sebald,Ernst-Christian Richter. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2002-10-31.

A photoresist composition, a method for manufacturing a photoresist coating, etched photoresist coating, and etched si containing layer(s), and manufacturing a device using thereof

Номер патента: US20210263414A1. Автор: Taku Hirayama,Shunji Kawato,Hiroshi Yanagita,Yusuke Hama,Takayuki Sao. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2021-08-26.

Film structure for electric field guided photoresist patterning process

Номер патента: US11880137B2. Автор: Srinivas D. Nemani,Huixiong Dai,Mangesh Ashok BANGAR,Christopher S. Ngai,Ellie Y. Yieh,Steven Hiloong WELCH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-23.

Photoresist Composition, its Manufacturing Method, and Manufacturing Methods of Metal Pattern and Array Substrate

Номер патента: US20210333710A1. Автор: Wei Li,Jun Cheng,Bin Zhou,Guangcai Yuan,Dongfang Wang,Tongshang Su,Yingbin HU,Jingjing XIA. Владелец: Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-10-28.

A photoresist composition, a method for manufacturing a photoresist coating, etched photoresist coating, and etched si containing layer(s), and manufacturing a device using thereof

Номер патента: EP3811152A1. Автор: Taku Hirayama,Shunji Kawato,Hiroshi Yanagita,Yusuke Hama,Takayuki Sao. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2021-04-28.

Metallic photoresist patterning and defect improvement

Номер патента: US20230393475A1. Автор: Chien-Chih Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Methods and techniques to use with photosensitized chemically amplified resist chemicals and processes

Номер патента: US09618848B2. Автор: Michael A. Carcasi,Benjamen M. Rathsack,Joshua S. Hooge,Seiji Nagahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-11.

Photoresist composition for multi-micro nozzle head coater

Номер патента: US20040144753A1. Автор: Jin-Ho Ju,Dong-Ki Lee,Sung-Chul Kang,Hyo-Youl Kim,You-Kyoung Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2004-07-29.

Photoresist composition

Номер патента: US20240168374A1. Автор: Ching-Yu Chang,An-Ren Zi. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Photoresist composition with novel solvent

Номер патента: US20230341773A1. Автор: Ching-Yu Chang,An-Ren Zi. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-26.

Method for dual wavelength overlay measurement with focus at a photoresist top surface and apparatus for using same

Номер патента: US20240079341A1. Автор: Katsuya Kato. Владелец: SanDisk Technologies LLC. Дата публикации: 2024-03-07.

Method for manufacturing a photoresist pattern defining a small opening and method for manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: MY118901A. Автор: Sang-jun Choi,Si-hyeung Lee,Joo-tae Moon,Yool Kang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2005-02-28.

Multilayer elements containing photoresist compositions and their use in microlithography

Номер патента: WO2002044815A3. Автор: Larry L Berger,Frank L Schadt Iii. Владелец: Frank L Schadt Iii. Дата публикации: 2003-08-14.

1,2 quinone diazide photosensitive resin composition containing select additive and method for forming a photoresist pattern

Номер патента: US5698362A. Автор: Makoto Ikemoto,Yasuhiro Kawase,Koji Nakano,Tadashi Kusumoto,Mineo Nishi. Владелец: Mitsubishi Chemical Corp. Дата публикации: 1997-12-16.

Photoresist composition, pixel definition layer, display substrate and method for preparing the same, and display device

Номер патента: US20200035765A1. Автор: Wei Li,Wei Song,Jun Cheng,Bin Zhou,Guangyao LI,Biao Luo,Yingbin HU,Jingjing XIA. Владелец: Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-01-30.

Photoresist composition, pixel definition layer, display substrate and method for preparing the same, and display device

Номер патента: US11322561B2. Автор: Wei Li,Wei Song,Jun Cheng,Bin Zhou,Guangyao LI,Biao Luo,Yingbin HU,Jingjing XIA. Владелец: Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-03.

Photoresist composition for extreme ultraviolet, and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20240168381A1. Автор: Naery YU,Juyoung Kim,Juhyeon Park,Honggu IM,Jincheol PARK,Seonghyeon Ahn,Sungmin KO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-23.

Method and device for curing at least in part a photoresist applied to a substrate.

Номер патента: NL2014642A. Автор: Fakhr Omar,Toennies Dietrich. Владелец: SUSS MICROTEC LITHOGRAPHY GMBH. Дата публикации: 2016-10-19.

Methods and systems for reducing bubbles in layers of photoresist material

Номер патента: US20140370439A1. Автор: Kurt Hollis,Michael Van Tassel. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2014-12-18.

Manufacturing method of semiconductor device, reticle correcting method, and reticle pattern data correcting method

Номер патента: US20070218673A1. Автор: Hiroko Nakamura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-09-20.

Pattern forming method, template manufacturing method, and photomask manufacturing method

Номер патента: US20220091499A1. Автор: Yoshinori Kagawa. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2022-03-24.

Backplane unit and its manufacturing method and display device

Номер патента: US20210318617A1. Автор: Wei Huang. Владелец: TCL China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-10-14.

Methods and compositions for improved patterning of photoresist

Номер патента: US20230146910A1. Автор: Ching-Yu Chang,Ya-Lun CHEN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-05-11.

Photoresist composition for forming a color filter and method of manufacturing a substrate for a display device

Номер патента: US20130295495A1. Автор: Yun-Ho LEE,Sang-Hun Lee,Sun-Young Chang,Yui-Ku Lee. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2013-11-07.

Semiconductor device manufacturing method and pattern forming method

Номер патента: US09685331B1. Автор: Yusuke KASAHARA,Ayako KAWANISHI,Hiroki YONEMITSU. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-06-20.

Photoresist composition

Номер патента: GB2314846A. Автор: Jae Chang Jung,Cha Won Koh. Владелец: Hyundai Electronics Industries Co Ltd. Дата публикации: 1998-01-14.

Apparatus for and method of manufacturing an article using photolithography and a photoresist

Номер патента: WO2018169416A1. Автор: Andrea Jocelyn Bubendorfer,Andrew David Best. Владелец: CALLAGHAN INNOVATION. Дата публикации: 2018-09-20.

Photoresist composition and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US20230341780A1. Автор: Ching-Yu Chang,Chin-Hsiang Lin,Tzu-Yang Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-26.

Photoresist composition comprising amide compound and pattern formation methods using the same

Номер патента: US11874603B2. Автор: Won Seok Lee,Hae-Jin Lim,Kwang Mo Choi,Philjae Kang,Yoo Jung Yoon. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd. Дата публикации: 2024-01-16.

Photoresist compositions and pattern formation methods

Номер патента: US11852972B2. Автор: James W. Thackeray,Emad Aqad,James F. Cameron,Tomas MARANGONI,Xisen Hou,ChoongBong Lee. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-26.

Photoresist composition and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US11966162B2. Автор: Ching-Yu Chang,Chin-Hsiang Lin,Tzu-Yang Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-04-23.

Photoresist composition and method of manufacturing substrate for display device by using the same

Номер патента: US20160018731A1. Автор: CHANGHOON Kim,Hoon Kang,Wooyong Sung,JaeHyuk Chang,Younsuk Kim,Sanghyun Yun,Jungin Park,Chadong Kim,Kibeom Lee,Hikuk Lee,Deokman Kang,Saetae Oh. Владелец: AZ Electronic Materials Luxembourg SARL. Дата публикации: 2016-01-21.

Apparatus for and method of manufacturing an article using photolithography and a photoresist

Номер патента: EP3596548A1. Автор: Andrea Jocelyn Bubendorfer,Andrew David Best. Владелец: Callaghan Innovation Research Ltd. Дата публикации: 2020-01-22.

Photoresist composition and method of manufacturing integrated circuit device by using the same

Номер патента: US20230176477A1. Автор: Hyun-Ji SONG,Yechan KIM,Sukkoo Hong,Moohyun KOH,Sungan DO,Kyungoh KIM,Kyunghwan NOH. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-08.

Photoresist composition and method of fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20220197139A1. Автор: Ji Eun Kim,Jae Hee SIM,Chung Hyeon BAN. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2022-06-23.

Pattern forming method and template manufacturing method

Номер патента: US20210088906A1. Автор: Hideaki Sakurai,Noriko Sakurai,Takeharu Motokawa,Ryu Komatsu. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2021-03-25.

Pattern forming method, photo mask manufacturing method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US10488755B2. Автор: Shuji Hirano,Akira Takada,Hidehiro Mochizuki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-11-26.

Pattern forming method, photo mask manufacturing method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20180017865A1. Автор: Shuji Hirano,Akira Takada,Hidehiro Mochizuki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-01-18.

Negative tone photosensitive composition for EUV light, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US11573491B2. Автор: Michihiro Shirakawa,Wataru Nihashi,Michihiro OGAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-02-07.

Lateral diffusion confirming pattern and a method of measuring a lateral diffusion

Номер патента: US5853925A. Автор: Hoon Huh. Владелец: LG Semicon Co Ltd. Дата публикации: 1998-12-29.

Pattern forming method, and, electronic device producing method and electronic device, each using the same

Номер патента: US09885956B2. Автор: Kei Yamamoto,Tsukasa Yamanaka,Naoya Iguchi,Ryosuke Ueba. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-02-06.

Methods of forming a photoresist-comprising pattern on a substrate

Номер патента: WO2010024988A3. Автор: Anton Devilliers,Hongbin Zhu,Alex Schrinsky,Zishu Zhang. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2010-04-29.

Pattern forming method, template manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20230420291A1. Автор: Masatoshi Terayama. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-12-28.

Resist pattern-forming method, and radiation-sensitive composition and production method thereof

Номер патента: US20200333707A1. Автор: Ken Maruyama,Miki TAMADA,Sousuke OOSAWA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-10-22.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and, resist film, pattern forming method, electronic device manufacturing method, and electronic device, each using the composition

Номер патента: US20140287363A1. Автор: Kaoru Iwato,Akinori Shibuya. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-09-25.

Pattern forming method and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US09897918B2. Автор: Shinichi Ito,Hirokazu Kato,Tomoyuki Takeishi. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2018-02-20.

Pattern forming method and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US09601331B2. Автор: Shinichi Ito,Hirokazu Kato,Tomoyuki Takeishi. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-03-21.

Method for manufacturing a stamper for optical disc production, a stamper obtained by the method, and an optical disc obtained with such stamper

Номер патента: WO2002095499A1. Автор: Hugo De Haan,Rob Wouters,Hamid El Majdoubi. Владелец: Optical Measuring-Equipment & Projects Bv. Дата публикации: 2002-11-28.

Pattern forming method and device

Номер патента: US20190176376A1. Автор: Akihiro Ishikawa,Michiru Kuromiya. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2019-06-13.

Pattern forming method and manufacturing method for semiconductor device

Номер патента: US09627218B2. Автор: Kazunori HORIGUCHI. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-04-18.

Processing method and manufacturing method for optical component

Номер патента: US8574469B2. Автор: Yoshihisa Usami. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2013-11-05.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern forming method, and photo mask

Номер патента: US12061418B2. Автор: Toshiya Takahashi,Hideyuki Ishihara. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-08-13.

Pattern forming method and pattern forming apparatus

Номер патента: US20140300018A1. Автор: Ikuo Yoneda. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2014-10-09.

Pattern forming method and pattern forming apparatus

Номер патента: US20160318234A1. Автор: Ikuo Yoneda. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-11-03.

Method of constructing a hologram on a photoresist detector

Номер патента: US4343874A. Автор: Kenneth A. Haines. Владелец: Eidetic Images Inc. Дата публикации: 1982-08-10.

Method for forming photoresist pattern

Номер патента: US6132939A. Автор: Katsuyoshi Ina. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2000-10-17.

Pattern forming method

Номер патента: US9437477B1. Автор: Makoto Aida. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-09-06.

Resist pattern-forming method and substrate-treating method

Номер патента: US20200218161A1. Автор: Ryuichi Serizawa,Tomoaki Seko,Nozomi SATOU,Yuusuke OOTSUBO,Tomoya TAJI,Souta NISHIMURA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-07-09.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern forming method, and method for producing electronic device

Номер патента: US20240353753A1. Автор: Takamitsu Tomiga,Hideaki Tsubaki,Asahi Takaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-10-24.

Pattern-forming method for forming a conductive circuit pattern

Номер патента: US09980393B2. Автор: Kwang-Seong Choi,Hyun-Cheol Bae,Yong Sung Eom,Jong Tae Moon,Jung Hyun Noh. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute ETRI. Дата публикации: 2018-05-22.

Imprint apparatus, imprint method, and device manufacturing method

Номер патента: US09645514B2. Автор: Hironori Maeda,Ken Minoda,Kazuhiko Mishima,Seiya Miura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-05-09.

Mask element for selective sandblasting and a method

Номер патента: US4587186A. Автор: Shohei Nakamura,Yoshimasa Tuji. Владелец: Asahi Kasei Kogyo KK. Дата публикации: 1986-05-06.

Methods of making a bonded assembly and a re-entrant structure, and method of transfer printing a masking layer

Номер патента: US20200026184A1. Автор: Seok Kim,Jun Kyu Park,Hohyun Keum. Владелец: University of Illinois. Дата публикации: 2020-01-23.

Methods of making a bonded assembly and a re-entrant structure, and method of transfer printing a masking layer

Номер патента: US12025913B2. Автор: Seok Kim,Jun Kyu Park,Hohyun Keum. Владелец: University of Illinois. Дата публикации: 2024-07-02.

Kind of light-heat dual curing anisotropic conductive adhesive anisotropic conductive film and their preparation methods

Номер патента: US20140193599A1. Автор: Ren-Liang Xiao,Chang-Hou Zhao,Cheng-Cui Liu,Xian-Fei Wan,Chang-Wu Yang,Hua-Guo Yin. Владелец: SHENZHEN FISHER INDUSTRIAL CO LTD. Дата публикации: 2014-07-10.

Pattern forming method

Номер патента: US20170068162A1. Автор: Yusuke KASAHARA. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-03-09.

Pattern forming method, combined processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US20230089980A1. Автор: Noriko Sakurai,Kosuke TAKAI. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-03-23.

Lithography apparatus, pattern forming method, and method for manufacturing product

Номер патента: US20170075229A1. Автор: Masanori Yamada. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-03-16.

Pattern forming method

Номер патента: US09696628B2. Автор: Hideki Kanai,Yusuke KASAHARA. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-07-04.

Pattern forming method, pattern forming apparatus, and computer readable storage medium

Номер патента: US09618849B2. Автор: Makoto Muramatsu,Takahiro Kitano,Tadatoshi Tomita,Keiji Tanouchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-11.

Imprinting method and process for producing a member in which a mold contacts a pattern forming layer

Номер патента: US09573319B2. Автор: Junichi Seki,Nobuhito Suehira,Kazuyuki Kasumi,Shingo Okushima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-02-21.

Near-field exposure mask, resist pattern forming method, device manufacturing method, near-field exposure method, pattern forming method, near-field optical lithography member, and near-field nanoimprint method

Номер патента: US09550322B2. Автор: Yasuyuki Hotta,Naomi Shida,Tsukasa Tada,Ikuo Yoneda,Ko Yamada,Kenji Todori,Hiroyuki Kashiwagi,Shigehiko Mori,Masakazu YAMAGIWA,Reiko Yoshimura. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-01-24.

Photoresist compositions and methods of forming photolithographic patterns

Номер патента: US09482945B2. Автор: Deyan Wang,Cecily Andes,Jong Keun Park,Christopher Nam LEE. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2016-11-01.

Pattern forming method

Номер патента: US20100021850A1. Автор: Hiroko Nakamura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-01-28.

Lacquer Pattern Production Method, Lacquer Pattern Formed By Using The Method, And Lacquer Pattern Display Method

Номер патента: US20110154701A1. Автор: Kazuko Ohori. Владелец: DUCO CO Ltd. Дата публикации: 2011-06-30.

Imprint lithography method, method for manufacturing master template using the method and master template manufactured by the method

Номер патента: US09989845B2. Автор: Gug-Rae Jo,Dae-Young Lee,Jung-Gun NAM,Seung-Won Park,Min-Uk Kim,Dae-Hwan JANG. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Pattern-forming method

Номер патента: US09847232B1. Автор: Kristin Schmidt,Chi-chun Liu,Hitoshi Osaki. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-12-19.

Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, manufacturing method of electronic device, and electronic device

Номер патента: US09383645B2. Автор: Kei Yamamoto,Hidenori Takahashi,Shuhei Yamaguchi,Fumihiro Yoshino. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-07-05.

Pattern forming method

Номер патента: US20170184958A1. Автор: Koji Matsuo,Daisuke Kawamura,Masanobu Baba,Taishi ISHIKURA,Tatsuro SHINOZAKI. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-06-29.

Positive resist composition and pattern forming method using the same

Номер патента: US7338744B2. Автор: Hideaki Tsubaki,Shinji Tarutani. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2008-03-04.

Chemical liquid, chemical liquid storage body, and pattern forming method

Номер патента: US20190346764A1. Автор: Tetsuya Kamimura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-11-14.

Gap filling composition and pattern forming method using composition containing polymer

Номер патента: US20200319556A1. Автор: Tatsuro Nagahara,Xiaowei Wang. Владелец: AZ Electronic Materials SARL. Дата публикации: 2020-10-08.

Imprint pattern forming method

Номер патента: US8444889B2. Автор: Ikuo Yoneda,Ryoichi Inanami,Hiroshi Tokue. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2013-05-21.

Photosensitive resin composition, pattern forming method, cured film, laminate, and device

Номер патента: US12078929B2. Автор: Toshihide Aoshima,Kenta Yamazaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-09-03.

Pattern forming method

Номер патента: US20140231380A1. Автор: Yuriko Seino,Hiroki YONEMITSU. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2014-08-21.

Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US09952509B2. Автор: Keita Kato,Michihiro Shirakawa,Akiyoshi Goto,Masafumi KOJIMA,Keiyu OU. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-04-24.

Patterning method and method of manufacturing wire grid polarizer using the same

Номер патента: US09952366B2. Автор: LEI Xie,Moon Gyu LEE,Min Hyuck KANG,Eun Ae KWAK,Hyeong Gyu JANG. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Pattern forming method

Номер патента: US09880464B2. Автор: Koji Matsuo,Daisuke Kawamura,Masanobu Baba,Taishi ISHIKURA,Tatsuro SHINOZAKI. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2018-01-30.

Lithography pattern forming method using self-organizing block copolymer

Номер патента: US09816004B2. Автор: Yusuke KASAHARA,Ayako KAWANISHI,Hiroki YONEMITSU. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2017-11-14.

Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, method of manufacturing electronic device using the same, and electronic device

Номер патента: US09766547B2. Автор: Shuji Hirano,Hiroo Takizawa,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-09-19.

Pattern forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet-sensitive composition, resist film, method for manufacturing electronic device using the same, and electronic device

Номер патента: US09411230B2. Автор: Kaoru Iwato,Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-08-09.

Photoresist patterning process

Номер патента: US12085858B2. Автор: Srinivas D. Nemani,Huixiong Dai,Mangesh Ashok BANGAR,Ellie Y. Yieh,Steven Hiloong WELCH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-10.

Photoresist removal method and photoresist removal device

Номер патента: US20230069533A1. Автор: Ning Xi,Wen Gu. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2023-03-02.

Photoresist stripping solution, stripping solution recycling system and operating method, and method for recycling stripping solution

Номер патента: SG194145A1. Автор: Koji Shimizu,Norio Yamaguchi,Masahiko Aikou,Shinichirou Fuchigami,Hiroyoshi Takezawa. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2013-11-29.

Method and apparatus for dimension measurement of a pattern formed by lithographic exposure tools

Номер патента: US20020180990A1. Автор: Eric Johnson,Ilya Grodnensky,Steve Slonaker. Владелец: Nikon Precision Inc. Дата публикации: 2002-12-05.

Resist pattern forming method based on near-field exposure, and substrate processing method and device manufacturing method using the resist pattern forming method

Номер патента: US20060014108A1. Автор: Toshiki Ito,Takako Yamaguchi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-01-19.

Novel nitrogenous macrocyclic ligands, their preparation method, polymetallic complexes, and a diagnostic and therapeutical composition

Номер патента: WO1992012978A1. Автор: Dominique Meyer,Anne Bouillot,Olivier Rousseaux,Michel Schaefer. Владелец: Guerbet S.A.. Дата публикации: 1992-08-06.

Method and apparatus for dimension measurement of a pattern formed by lithographic exposure tools

Номер патента: TW578247B. Автор: Ilya Grodnensky,Eric R Johnson,Steve Slonaker. Владелец: Nikon Prec Inc. Дата публикации: 2004-03-01.

Method and Apparatus For Measuring Dimension Of Circuit Pattern Formed On Substrate By Using Scanning Electron Microscope

Номер патента: US20110127429A1. Автор: Atsushi Miyamoto,Tomofumi Nishiura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-06-02.

Thin film transistor array panels for a liquid crystal display and a method for manufacturing the same

Номер патента: US20070126005A1. Автор: Mun-Pyo Hong,Jang-Soo Kim,Sung-Wook Huh,Jong-Soo Yoon,Bum-Ki Baek,Doug-Gyu Kim. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-06-07.

Method and apparatus of fabricating liquid crystal display device

Номер патента: US20070004108A1. Автор: Oh Kwon,Soon Yoo,Seung Nam,Heung Cho. Владелец: LG Philips LCD Co Ltd. Дата публикации: 2007-01-04.

Etching pattern forming method in semiconductor manufacturing process

Номер патента: US12094719B2. Автор: Seung Hyun Lee,Su Jin Lee,Seung Hun Lee,Gi Hong Kim. Владелец: Youngchang Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Photolithography methods and structures that reduce stochastic defects

Номер патента: US20200004155A1. Автор: Yongan Xu,Lei Sun,Yong Liang,Craig D. Higgins. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2020-01-02.

Pattern forming method using contrast enhanced material

Номер патента: US4849323A. Автор: Kazufumi Ogawa,Masayuki Endo,Masaru Sasago. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1989-07-18.

Method of forming photoresist pattern and projection exposure apparatus

Номер патента: US20230185201A1. Автор: Kanyu Cao. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2023-06-15.

Polyether compound, method for preparing same and photoresist composition

Номер патента: US09541833B2. Автор: Xuelan WANG. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Method for forming a photoresist pattern on a semiconductor substrate

Номер патента: US20030232283A1. Автор: Ming-Chuan Wang,Chen-Cheng Yung,Chang-Hao Yang. Владелец: SILICON INTEGRATED SYSTEMS CORP. Дата публикации: 2003-12-18.

Resistance welding dry film photoresist as well as preparation method use thereof

Номер патента: NL2032627B1. Автор: Yang Yang,Zhang Weiguo,Peng Wei,Li Zhixin,Du Yongjie,Deng Xiaoming. Владелец: Zhuhai Nengdong Tech Optical Industry Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-10.

Pattern forming method with selective silylation utilizing lithographic double-coated patterning plate with undercoat levelling layer

Номер патента: US5599653A. Автор: Hiroyuki Yamazaki,Masato Saito,Taku Nakao,Toshimasa Nakayama,Nobuo Tokutake,Hidekatsu Kohara. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 1997-02-04.

Composition which forms an electrically conductive resist layer and a method for patterning a photoresist using the resist layer

Номер патента: US20050250041A1. Автор: Klaus Elian,Rafael Abargues. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2005-11-10.

Composition for forming underlayer film, resist pattern forming method, and manufacturing method of electronic device

Номер патента: US20220252985A1. Автор: Sou Kamimura,Toshiaki Fukuhara,Takeshi Kawabata. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-08-11.

Process of imaging a photoresist with multiple antireflective coatings

Номер патента: US20060177772A1. Автор: Mark Neisser,Ralph Dammel,Georg Pawlowski,David Abdallah,John Biafore,Andrew Romano. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-08-10.

Method of forming a photoresist absorber layer and structure including same

Номер патента: US20230091094A1. Автор: Michael Givens,David De Roest,Hannu Huotari,Charles DEZELAH,Arpita Saha,Daniele Piumi,Yoann Tomczak,Ivan Zyulkov,Monica Thukkaram,Jerome Innocent. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-03-23.

Method for forming thin film heads using a tri-layer anti-reflection coating for photolithographic applications and a structure thereof

Номер патента: US20030203237A1. Автор: Howard Zolla,Patrick Webb. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2003-10-30.

Method of creating an image in a photoresist laminate

Номер патента: EP2225611A1. Автор: Mark Sheldon,John Ganjei,Steven Abbott,Daniel J. Hart. Владелец: MacDermid Inc. Дата публикации: 2010-09-08.

Piezoelectric vibrator manufacturing method, and piezoelectric vibrator, oscillator, electronic apparatus, and radio clock

Номер патента: US20100237739A1. Автор: Keiichi Ouchi,Yuki Hoshi. Владелец: Seiko Instruments Inc. Дата публикации: 2010-09-23.

Method for forming a pattern of a photoresist

Номер патента: US5098816A. Автор: Jeffrey D. Gelorme,Jane M. Shaw,Kevin J. Stewart,Michael Hatzakis,Edward D. Babich,David F. Witman. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1992-03-24.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US20150050600A9. Автор: Hiromitsu Tanaka,Hirokazu Sakakibara,Takashi Mori,Kazunori Takanashi,Yusuke Anno,Taiichi Furukawa,Shin-ya MINEGISHI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2015-02-19.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US20170322492A1. Автор: Hiromitsu Tanaka,Hirokazu Sakakibara,Takashi Mori,Kazunori Takanashi,Yusuke Anno,Taiichi Furukawa,Shin-ya MINEGISHI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-11-09.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US20140134544A1. Автор: Hiromitsu Tanaka,Hirokazu Sakakibara,Takashi Mori,Kazunori Takanashi,Yusuke Anno,Taiichi Furukawa,Shin-ya MINEGISHI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-05-15.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US20160320705A1. Автор: Hiromitsu Tanaka,Hirokazu Sakakibara,Takashi Mori,Kazunori Takanashi,Yusuke Anno,Taiichi Furukawa,Shin-ya MINEGISHI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-11-03.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US20160097978A1. Автор: Hiromitsu Tanaka,Hirokazu Sakakibara,Takashi Mori,Kazunori Takanashi,Yusuke Anno,Taiichi Furukawa,Shin-ya MINEGISHI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-04-07.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US20150160556A1. Автор: Hiromitsu Tanaka,Hirokazu Sakakibara,Takashi Mori,Kazunori Takanashi,Yusuke Anno,Taiichi Furukawa,Shin-ya MINEGISHI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2015-06-11.

Pattern forming method, multi-layered resist pattern, multi-layered film for organic solvent development, resist composition, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US09417528B2. Автор: Atsushi Nakamura,Kaoru Iwato,Keita Kato,Hidenori Takahashi,Michihiro Shirakawa,Tadahiro ODANI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-08-16.

Pattern-forming method

Номер патента: US09971247B2. Автор: Tomoki Nagai,Akihiro Oshima,Hisashi Nakagawa,Takehiko Naruoka,Seiji Nagahara,Seiichi Tagawa. Владелец: Osaka University NUC. Дата публикации: 2018-05-15.

Porous materials with embedded nanoparticles, preparation methods and use thereof

Номер патента: RU2410402C2. Автор: Александр Метталинович Тишин,Самед Вейсалкара Оглы Халилов. Владелец: Самед Вейсалкара Оглы Халилов. Дата публикации: 2011-01-27.

New 2-alkylthio-4,6-diamino-s-triazines and their preparation and herbicidal methods and preparations using them

Номер патента: IL31848A0. Автор: . Владелец: Agripat Sa. Дата публикации: 1969-05-28.

Ox40-targeted antibody, and preparation method therefor and application thereof

Номер патента: US20230295324A1. Автор: Jian Wang,Lei Shi,Bing Huang,Xingxing JIA. Владелец: Harbour Biomed Shanghai Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Toner for developing electrostatic image, manufacturing method and manufacturing apparatus, developer, toner container, process cartridge, image forming method, and image forming apparatus

Номер патента: JP4896000B2. Автор: 信一 倉本,伸二 大谷,義浩 法兼. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2012-03-14.

Photoresist composition and method of forming a photoresist pattern with a controlled remnant ratio

Номер патента: US20030049565A1. Автор: Jeong-lim Nam,Dae-Youp Lee,Do-yul Yoo,Jeung-woo Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2003-03-13.

Photoresist composition containing a protected hydroxyl group for negative development and pattern forming method using thereof

Номер патента: US20130288178A1. Автор: Kuang-Jung Chen,Wu-Song Huang,Wai-Kin Li. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2013-10-31.

Photoresist pattern trimming compositions and methods

Номер патента: US09448486B2. Автор: Shintaro Yamada,Cong Liu,Cheng-Bai Xu,Gerhard Pohlers,Seung-Hyun Lee,Kevin ROWELL,Wenyan YIN,Thomas A. Estelle. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2016-09-20.

Photoreactive polymer compound, photoresist composition comprising the same, and method of forming pattern by using the photoresist compound

Номер патента: US20240319595A1. Автор: Yoonhyun Kwak,Kyuhyun IM,Minsang Kim,Haengdeog Koh,Hana Kim,Chanjae Ahn,Sungwon Choi,Beomseok Kim,Hyeran Kim,Hoyoon PARK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-26.

Pattern-forming method

Номер патента: WO2013061601A1. Автор: Hiroki Nakagawa,Kentaro Harada,Hayato Namai,Takehiko Naruoka. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2013-05-02.

Method and composition for improving LWR in patterning step using negative tone photoresist

Номер патента: US11187985B2. Автор: Seung Hyun Lee,Su Jin Lee,Seung Hun Lee,Gi Hong Kim. Владелец: Youngchang Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-30.

Formation method and photoresist composition for phosphor screens of color picture tubes

Номер патента: US4954418A. Автор: Norio Koike. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1990-09-04.

Fluorine-containing organic chain grafted polyoxometalate cluster and derivative thereof, and their preparation method and use

Номер патента: US20240218096A1. Автор: Haibo He,Haolong LI. Владелец: Jilin University. Дата публикации: 2024-07-04.

Positive photoresist composition

Номер патента: US6773858B2. Автор: Tomoyoshi Furihata,Kyoko Soga,Hideto Kato. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2004-08-10.

Highly alkali-stable cationic polymers and their preparation methods and applications

Номер патента: US20240317902A1. Автор: Ming Xu,Tao Wang,Yunsheng DING,Haibing WEI,Hongfang ZHU,Yatao LIANG,Duoying Chen. Владелец: Anqing Polyrocks Technology Research Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Compressed products on the basis of pyrogenically prepared oxides and method of their preparation

Номер патента: RU2119451C1. Автор: Деллер Клаус,Краузе Хельмфрид,Бурмайстер Роланд. Владелец: Дегусса Аг. Дата публикации: 1998-09-27.

Process of forming a negative pattern in a photoresist layer

Номер патента: CA1275846C. Автор: Bruno Roland,August Vrancken. Владелец: U C B ELECTRONICS SA. Дата публикации: 1990-11-06.

Overlay correction method and semiconductor fabrication method including the same

Номер патента: US20210116803A1. Автор: Jeongjin Lee,Chan Hwang,Woo-Yong Jung,Seungyoon LEE,Jinsun KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-04-22.

Method of removing a photoresist pattern, method of forming a dual polysilicon layer using the removing method and method of manufacturing a semiconductor device using the removing

Номер патента: US20070298596A1. Автор: Keum-Joo Lee,Kyoung-Chul Kim,Byoung-Yong Gwak. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-12-27.

Method for fabricating photoresist pattern, color filter and display device

Номер патента: US09971187B2. Автор: Yuan Liang,Zhiyong Zhang,Yulong KANG,Qingde LONG,Liwei FAN. Владелец: Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

Method and apparatus for imaging with fiber optic arrays on non-flat surfaces

Номер патента: US20020192602A1. Автор: Derek Harris,Leo Kriksunov,John Mattson. Владелец: BMC Industries Inc. Дата публикации: 2002-12-19.

Method and apparatus for imaging with fiber optic arrays on non-flat surfaces

Номер патента: WO2002103455A3. Автор: Leo B Kriksunov,Derek Harris,John Mattson. Владелец: Bmc Ind Inc. Дата публикации: 2003-11-20.

Method and apparatus for imaging with fiber optic arrays on non-flat surfaces

Номер патента: WO2002103455A2. Автор: Leo B. Kriksunov,Derek Harris,John Mattson. Владелец: Bmc Industries, Inc.. Дата публикации: 2002-12-27.

Pattern forming method, semiconductor device manufacturing method and phase shift photomask having dummy gate patterns

Номер патента: US20100255423A1. Автор: Masashi Fujimoto. Владелец: NEC Electronics Corp. Дата публикации: 2010-10-07.

Method of forming photoresist pattern and method of manufacturing perpendicular magnetic recording head

Номер патента: US8021829B2. Автор: Akifumi Kamijima. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2011-09-20.

Method of forming photoresist pattern and method of manufacturing perpendicular magnetic recording head

Номер патента: US20070155188A1. Автор: Akifumi Kamijima. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2007-07-05.

Pattern forming method, semiconductor device manufacturing method and phase shift photomask having dummy gate patterns

Номер патента: US20060210889A1. Автор: Masashi Fujimoto. Владелец: NEC Electronics Corp. Дата публикации: 2006-09-21.

Photoresist pattern trimming methods

Номер патента: US09583344B2. Автор: Cheng-Bai Xu. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2017-02-28.

Catalyst for pyrolysis of 1,2-dichloroethane (dce) to prepare vinyl chloride (vc) and preparation method, use, and regeneration method thereof

Номер патента: US20230001393A1. Автор: Wei Huang,Zhongmin Liu,Yunpeng Xu,Guangye LIU,Shiying LI,Yanan Liu,Danhua YUAN,Changmin BAI,Zhaoan CHEN. Владелец: Dalian Institute of Chemical Physics of CAS. Дата публикации: 2023-01-05.

Method for inspecting photoresist pattern

Номер патента: US20100297791A1. Автор: Yi-Chung Sheng,Sheng-Yuan Hsueh,Chia-Chen Sun. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2010-11-25.

Photoresist pattern trimming methods

Номер патента: US09996008B2. Автор: Cheng-Bai Xu. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2018-06-12.

Methods of manufacturing photomasks, methods of forming photoresist patterns and methods of manufacturing semiconductor devices

Номер патента: US20160202611A1. Автор: Sang-Hyun Kim,Dong-gun Lee,Chan-uk Jeon,Byung-gook Kim,Byoung-Hun PARK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-07-14.

Optical system for providing a hexapole illumination and method of forming a photoresist pattern on a substrate using the same

Номер патента: US20050105072A1. Автор: Chan Hwang,Dong-Seok Nam,Young-Seog Kang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2005-05-19.

Methods of manufacturing photomasks, methods of forming photoresist patterns and methods of manufacturing semiconductor devices

Номер патента: US09798241B2. Автор: Sang-Hyun Kim,Dong-gun Lee,Chan-uk Jeon,Byung-gook Kim,Byoung-Hun PARK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-10-24.

Chip preparation method and system, and chip

Номер патента: EP4395168A1. Автор: Dengfeng Li,Shengyu ZHANG,Shuoming AN,Wenlong Zhang,Maochun DAI,Jingjing HU. Владелец: Tencent Technology Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-03.

Patterns forming method

Номер патента: US09929019B2. Автор: Kuo-Yao Chou. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2018-03-27.

Method and device for patterning thick layers

Номер патента: US20200135841A1. Автор: Byron Lovell Williams,Jeffrey Alan West,John Britton Robbins. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2020-04-30.

Hydrophilic Photoresist, Patterning Method of Quantum Dot Layer and Quantum Dot Light-Emitting Diode

Номер патента: US20170176863A1. Автор: Wei Zhang,Feng Zhang,Tingting Zhou,Bin Zhang,Jincheng GAO. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-22.

Photoresist composition and color filter manufacturing method

Номер патента: US09880465B2. Автор: Yueyan Zhang. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-30.

Method and apparatus for forming patterned photoresist layer

Номер патента: US20050181571A1. Автор: Jack Lin,Calvin Wu,George Huang. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2005-08-18.

Process of forming a photoresist pattern and apparatus for correcting the pattern

Номер патента: US4623607A. Автор: Kozo Hosogai. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 1986-11-18.

Method for forming photoresist pattern and method for forming pattern on a substrate

Номер патента: US20230386841A1. Автор: Seungkyo Lee,Woojin Jung,Soonmok Ha,Gyeyoung KIM,Junsik Yu. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-30.

Photoresist pattern trimming methods

Номер патента: US20170045822A1. Автор: Cheng-Bai Xu. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2017-02-16.

Method for manufacturing semiconductor device and forming photoresist pattern

Номер патента: US20240153755A1. Автор: Jieun Lee,Jieun SONG,Woojin Jung,Jinpyoung Kim,Janghoon Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-09.

Method and apparatus for forming patterned photoresist layer

Номер патента: US20050250225A1. Автор: Jack Lin,Calvin Wu,George Huang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-11-10.

Multiple pass write method and reticle

Номер патента: US20030031941A1. Автор: Eugene DeLaRosa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-02-13.

Ashing apparatus, ashing methods, and methods for manufacturing semiconductor devices

Номер патента: US20030073322A1. Автор: Takumi Shibata. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2003-04-17.

Multiple pass write method and reticle

Номер патента: US20020071998A1. Автор: Eugene DeLaRosa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-06-13.

Method of manufacturing semiconductor device and photoresist composition

Номер патента: US20240288769A1. Автор: Ching-Yu Chang,Tzu-Yang Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Method of removing a photoresist pattern and method of manufacturing a semiconductor device using the same

Номер патента: US20060270241A1. Автор: In-seak Hwang,Keum-Joo Lee,Se-Ho Cha,Kyoung-Chul Kim,Dae-Keun Kang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2006-11-30.

Photoresist coating failure sensing methods and detection devices

Номер патента: US20040266012A1. Автор: Ook Kim. Владелец: DongbuAnam Semiconductor Inc. Дата публикации: 2004-12-30.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240242985A1. Автор: Kuntack Lee,Jihwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-18.

Method and tool of lithography

Номер патента: US09651870B2. Автор: Tsung-Pao Chen,Sheng-Min CHUANG,Teng-Kuei CHUANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-05-16.

Method for forming a photoresist pattern and apparatus applicable therewith

Номер патента: US4935334A. Автор: Ulrich C. Boettiger,Bernhard Hafner. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1990-06-19.

Method for forming a photoresist pattern and apparatus applicable therewith

Номер патента: US5111240A. Автор: Ulrich C. Boettiger,Bernhard Hafner. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1992-05-05.

Plasma etching method and plasma etching device

Номер патента: US20240096596A1. Автор: Hee Ju Kim,Ji Eun Kang,Jong Woo HONG,Geun Young Yeom,Wonjun CHANG,Soo NAM GOONG. Владелец: Sungkyunkwan University Research and Business Foundation. Дата публикации: 2024-03-21.

Methods and apparatus to reduce extreme ultraviolet light for photolithography

Номер патента: US20240241446A1. Автор: Charles H. Wallace,Leonard GULER,Elliot N. Tan,Shengsi LIU,Marvin Paik,Vivek Vishwakarma,Izabela Samek,Mohammadreza Soleymaniha. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Method and apparatus for diffractive transfer of a mask grating

Номер патента: EP1430348A2. Автор: Per Eld Ibsen,Poul-Erik Hansen. Владелец: Ibsen Photonics AS. Дата публикации: 2004-06-23.

Microfluidic device and method for manufacturing the same, and method and system for detecting the number of biomolecules

Номер патента: US11992836B2. Автор: Tuo Sun. Владелец: Beijing BOE Technology Development Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-28.

High-speed nanopatterning method and apparatus of two-color super-resolution photolithography

Номер патента: US20240061343A1. Автор: Dong-Ryoung LEE. Владелец: FOUNDATION OF SOONGSIL UNIVERSITY INDUSTRY COOPERATION. Дата публикации: 2024-02-22.

Method and evaporating solution for rinsing a developed photoresist layer

Номер патента: EP1368824A1. Автор: Carl P. Babcock. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2003-12-10.

Photoresist composition and method of manufacturing a thin film transistor substrate

Номер патента: US09448476B2. Автор: Ki-hyun Cho,Ji-Hyun Kim,Byung-Uk Kim,Jeong-Min Park,Hyoc-Min Youn,Jun Chun,Jin-Sun Kim,Jung-Soo Lee,Sung-Kyun Park,Tai-Hoon YEO. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Process for coating a photoresist composition onto a substrate

Номер патента: WO1990011837A1. Автор: Ivan S. Daraktchiev. Владелец: Olin Hunt Specialty Products Inc.. Дата публикации: 1990-10-18.

Method and evaporating solution for rinsing a developed photoresist layer

Номер патента: WO2002073677A1. Автор: Carl P. Babcock. Владелец: Advanced Micro Devices, Inc.. Дата публикации: 2002-09-19.

Forming method of etching mask, control program and program storage medium

Номер патента: WO2009054131A1. Автор: Eiichi Nishimura,Koichi Yatsuda. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2009-04-30.

Exposure method, mask data producing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US8142960B2. Автор: Satoshi Nagai,Kazuya Fukuhara. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2012-03-27.

Optical method and apparatus for quickly realizing precise calibration of lithography system

Номер патента: US20240345488A1. Автор: Yayi Wei,Dandan Han. Владелец: Institute of Microelectronics of CAS. Дата публикации: 2024-10-17.

Optical proximity correction method and method of fabricating a semiconductor device using the same

Номер патента: US20220179301A1. Автор: Bong-Soo Kang,Sooyong Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-06-09.

Optical proximity correction method and method of fabricating a semiconductor device using the same

Номер патента: US11921419B2. Автор: Bong-Soo Kang,Sooyong Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-05.

Photoresist patterning on silicon nitride

Номер патента: GB2579525A. Автор: Guo Jing,Liu Chi-chun,Meli Thompson Luciana,CHI Cheng,Seshadri Indira,Anuja De Silva Ekmini. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2020-06-24.

Overlay measuring pattern, photomask, and overlay measuring method and apparatus

Номер патента: US20030203288A1. Автор: Tetsuya Kitagawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-10-30.

Method of coating a photoresist and apparatus for performing the same

Номер патента: US20230119739A1. Автор: Ho-Young Kim,Sungjin Kim,Sunghwan Kim,Jae Hong Lee,Junyoung Lee,Dongwook Kim,Seok Heo,Chaehung LIM,Jaekyung PARK. Владелец: SEOUL NATIONAL UNIVERSITY R&DB FOUNDATION. Дата публикации: 2023-04-20.

Pattern forming apparatus

Номер патента: US4480910A. Автор: Yoshio Kawamura,Sumio Hosaka,Masamoto Akeyama,Shinji Kuniyoshi,Akihiro Takanashi,Tatsuo Harada,Yataro Kondo,Toshiei Kurosaki. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1984-11-06.

Pattern forming apparatus

Номер патента: CA1159160A. Автор: Yoshio Kawamura,Sumio Hosaka,Masamoto Akeyama,Shinji Kuniyoshi,Akihiro Takanashi,Tatsuo Harada,Yataro Kondo,Toshiei Kurosaki. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1983-12-20.

Lithography process window enhancement for photoresist patterning

Номер патента: US11914299B2. Автор: Srinivas D. Nemani,Huixiong Dai,Mangesh Ashok BANGAR,Christopher S. Ngai,Ellie Y. Yieh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-27.

Optical proximity correction method and method of fabricating a semiconductor device using the same

Номер патента: US20220179323A1. Автор: Sanghun Kim,Sangwook Kim,Pilsoo Kang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-06-09.

Method and system for manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US20230369060A1. Автор: Yao-Hwan Kao,Ching-Hai Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Method of providing planarity of a photoresist

Номер патента: US6541347B2. Автор: Hui Min Mao,Tzu Ching Tsai,Han Chih Lin. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2003-04-01.

Patterns forming method

Номер патента: US20170294317A1. Автор: Kuo-Yao Chou. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2017-10-12.

Method and apparatus of wafer print simulation using hybrid model with mask optical images

Номер патента: WO2004079632A3. Автор: Linyong Pang. Владелец: Numerical Tech Inc. Дата публикации: 2004-10-21.

Methods for detecting the endpoint of a photoresist stripping process

Номер патента: US20020148811A1. Автор: Tuqiang Ni,Wenli Collision. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-10-17.

Method of controlling removal of photoresist in openings of a photoresist mask

Номер патента: US20050032004A1. Автор: Arkady Nikitin,Dmitriy Yeremin. Владелец: General Phosphorix LLC. Дата публикации: 2005-02-10.

Resist pattern forming method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20230082514A1. Автор: Kentaro Matsunaga,Satomi Abe,Issui Aiba. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-03-16.

Methods and apparatuses for coating photoresist

Номер патента: US20200233306A1. Автор: Xiong Li,Ping Gao,Xiangang Luo,Zeyu ZHAO,Yanqin WANG,Xiaoliang Ma,Yinghui Guo,Mingbo PU. Владелец: Institute of Optics and Electronics of CAS. Дата публикации: 2020-07-23.

Semiconductor device manufacturing method and resist pattern forming method

Номер патента: US9437637B2. Автор: MASAHIKO KONDO,Nobutaka Ukigaya,Koji Hara,Satoshi Yoshizaki,Atsushi Kanome. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-09-06.

Photoresist characteristics analysis method and characteristics analysis device

Номер патента: EP4071461A1. Автор: Akira Watanabe,Tadashi Okuno,Takeji Ueda. Владелец: Femto Deployments Inc. Дата публикации: 2022-10-12.

Photoresist characteristics analysis method and characteristics analysis device

Номер патента: US20240102927A1. Автор: Akira Watanabe,Tadashi Okuno,Takeji Ueda. Владелец: Femto Deployments Inc. Дата публикации: 2024-03-28.

Photolithography method and system based on high step slope

Номер патента: US9939724B2. Автор: Jiale SU. Владелец: CSMC Technologies Fab1 Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Photolithography method and system based on high step slope

Номер патента: US20150227048A1. Автор: Jiale SU. Владелец: CSMC Technologies Fab1 Co Ltd. Дата публикации: 2015-08-13.

Exposure mask, method of designing and manufacturing the same, exposure method and apparatus, pattern forming method, and device manufacturing method

Номер патента: EP1642171A1. Автор: Takako Yamaguchi,Yasuhisa Inao. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-04-05.

Corner rounding method of opc pattern based on deep learning, and opc method and mask manufacturing method including the corner rounding method

Номер патента: US20230280646A1. Автор: Kyungsoo Kim,Hyeok Lee,Jaewon Yang,Sangchul Yeo,Sooryong Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-09-07.

Tooling configuration for electric/magnetic field guided acid profile control in a photoresist layer

Номер патента: US20160109813A1. Автор: Peng XIE,Qiwei Liang,Ludovic Godet,Sang Ki Nam. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-04-21.

Tooling configuration for electric/magnetic field guided acid profile control in a photoresist layer

Номер патента: WO2016060759A1. Автор: Peng XIE,Qiwei Liang,Ludovic Godet,Sang Ki Nam. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2016-04-21.

Method of designing an exposure mask, exposure method, pattern forming method and device manufacturing method

Номер патента: EP1642171B1. Автор: Takako Yamaguchi,Yasuhisa Inao. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2011-06-15.

Photomask and method of structuring a photoresist by double exposure with imaging auxiliary structures and different exposure tools

Номер патента: US20030143470A1. Автор: Armin Semmler,Gunther Czech,Christoph Nolscher. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2003-07-31.

Exposure pattern forming method and exposure pattern

Номер патента: US20050174557A1. Автор: Kazuhisa Ogawa,Hidetoshi Ohnuma. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2005-08-11.

Method of forming a photoresist layer

Номер патента: US09875892B2. Автор: Chih-Chien Wang,Hung-Chang Hsieh,Chun-Wei Chang,Wang-Pen Mo. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-01-23.

Tooling configuration for electric/magnetic field guided acid profile control in a photoresist layer

Номер патента: US09733579B2. Автор: Peng XIE,Qiwei Liang,Ludovic Godet,Sang Ki Nam. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-08-15.

Photoresist coating method and apparatus for performing same

Номер патента: US20060278160A1. Автор: Yu-Huang Su,Shih-Jen Chen,Chen-Nan Chou. Владелец: Quanta Display Inc. Дата публикации: 2006-12-14.

Method and apparatus for calibrating sub-nanometer critical dimension using pitch offset

Номер патента: SG144790A1. Автор: Shinn-Sheng Yu,Tsai-Sheng Gau,Chih-Ming Ke,Yu-Hsi Wang,Kuo-Chen Huang,Jacky Huang Te-Chih Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2008-08-28.

Developing solution for a photoresist and a method for developing the photoresist

Номер патента: US20020132193A1. Автор: Kenichi Nakamura,Keiichi Iwata,Kazushi Gouroku. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2002-09-19.

Developing solution for a photoresist and a method for developing the photoresist

Номер патента: US6602654B2. Автор: Kenichi Nakamura,Keiichi Iwata,Kazushi Gouroku. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2003-08-05.

Method and apparatus for reducing color conflicts during trim generation for phase shifters

Номер патента: US20020164533A1. Автор: Shao-Po Wu,Seonghun Cho. Владелец: Numerical Technologies Inc. Дата публикации: 2002-11-07.

Method and system for modeling, calibration, and simulation of multi-stage series photoresist characterization network

Номер патента: US20240046006A1. Автор: Haiqing Wei,Xianhua Ke. Владелец: Wuhan Yuwei Optical Software Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Method and Apparatus of Patterning a Semiconductor Device

Номер патента: US20200064740A1. Автор: Ching-Yu Chang,An-Ren Zi. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-02-27.

Method and apparatus for detecting the endpoint of a photoresist stripping process

Номер патента: EP1247295A2. Автор: Tuqiang Ni,Wenli Collison. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2002-10-09.

Method and apparatus for producing rectangular contact holes utilizing side lobe formation

Номер патента: EP1150164A3. Автор: Uwe Paul Schroeder. Владелец: Infineon Technologies North America Corp. Дата публикации: 2003-10-08.

Photoresist patterning on silicon nitride

Номер патента: WO2019064172A1. Автор: CHENG Chi,Jing Guo,Ekmini Anuja De Silva,Chi-chun Liu,Indira Seshadri,Luciana Meli Thompson. Владелец: Ibm (China) Investment Company Limited. Дата публикации: 2019-04-04.

Patterning Method and Method for Manufacturing Array Substrate

Номер патента: US20210200090A1. Автор: Wei Li,Yang Zhang,Jun Liu,Ning Liu,Bin Zhou,Yingbin HU. Владелец: Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-07-01.

Photolithography method and system based on high step slope

Номер патента: US20180188652A1. Автор: Jiale SU. Владелец: CSMC Technologies Fab1 Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-05.

Plate pattern forming method and its inspecting method

Номер патента: US20020006562A1. Автор: Satoshi Akutagawa,Koujiro Suzuki. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2002-01-17.

Scanning wedge method for determining characteristics of a photoresist

Номер патента: US4618233A. Автор: Walter G. Hertlein. Владелец: Shipley Co Inc. Дата публикации: 1986-10-21.

Method and structures for personalizing lithography

Номер патента: US11067895B2. Автор: John B. DeForge,Kirk D. Peterson,Terence B. Hook,Bassem M. Hamieh,Theresa A. Newton. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2021-07-20.

Secondary imaging optical lithography method and apparatus

Номер патента: US11693320B2. Автор: Ping Gao,Xiangang Luo,Zeyu ZHAO,Yanqin WANG,Changtao WANG,Weijie KONG. Владелец: Institute of Optics and Electronics of CAS. Дата публикации: 2023-07-04.

Secondary imaging optical lithography method and apparatus

Номер патента: US20200150538A1. Автор: Ping Gao,Xiangang Luo,Zeyu ZHAO,Yanqin WANG,Changtao WANG,Weijie KONG. Владелец: Institute of Optics and Electronics of CAS. Дата публикации: 2020-05-14.

Method and system for controlling critical dimension and roughness in resist features

Номер патента: US20130135598A1. Автор: Ludovic Godet,Patrick M. Martin,Joseph C. Olson,Christopher J. Leavitt. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2013-05-30.

Exposure pattern forming method and exposure pattern

Номер патента: US20050204330A1. Автор: Kazuhisa Ogawa,Hidetoshi Ohnuma. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2005-09-15.

Method for controlling a process for patterning a feature in a photoresist

Номер патента: US6248485B1. Автор: John David Cuthbert. Владелец: Lucent Technologies Inc. Дата публикации: 2001-06-19.

Method and apparatus for scanning exposure having thickness measurements of a film surface

Номер патента: US5744814A. Автор: Takayuki Uchiyama. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1998-04-28.

Method and master for making a color selection mask for a color cathode ray tube

Номер патента: CA1074171A. Автор: Howard G. Lange. Владелец: Zenith Radio Corp. Дата публикации: 1980-03-25.

Method of forming a photoresist underlayer and structure including same

Номер патента: US20230420256A1. Автор: Michael Eugene Givens,David Kurt De Roest,Zecheng Liu,BokHeon Kim,Daniele Piumi,Tatiana Ivanova,Perttu Sippola,Yoann Tomczak,Ivan Zyulkov. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-12-28.

Method and apparatus of patterning a semiconductor device

Номер патента: US11762296B2. Автор: Ching-Yu Chang,An-Ren Zi. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Method and mask for enhancing the resolution of patterning 2-row holes

Номер патента: WO2012138557A2. Автор: Chun-Ming Wang,Masaaki Higashitani,Chenche Huang. Владелец: SANDISK TECHNOLOGIES INC.. Дата публикации: 2012-10-11.

Method and appliance for predicting the imaging result obtained with a mask when a lithography process is carried out

Номер патента: US20190107776A1. Автор: Holger Seitz,Ute Buttgereit,Thomas Thaler,Thomas Trautzsch,Christoph HUSEMANN,Mame Kouna Top-Dial-Lo. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-04-11.

Method and mask for enhancing the resolution of patterning 2-row holes

Номер патента: US20120258387A1. Автор: Chun-Ming Wang,Masaaki Higashitani,Chenche Huang. Владелец: SanDisk Corp. Дата публикации: 2012-10-11.

Method of improving planarity of a photoresist

Номер патента: US20020048895A1. Автор: Han Lin,Hui Mao,Tzu Tsai. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2002-04-25.

Pattern-forming method and resist underlayer film-forming composition

Номер патента: US09607849B2. Автор: Toru Kimura,Takashi Mori,Yoshio Takimoto,Shinya Minegishi,Kyoyu Yasuda,Shinya NAKAFUJI,Kazuhiko KOUMURA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Method of manufacturing a semiconductor device whereby photomasks comprising partial patterns are projected onto a photoresist layer so as to merge into one another

Номер патента: US5792591A. Автор: Albert J.P. Theuwissen. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 1998-08-11.

Overlay measuring pattern, photomask, and overlay measuring method and apparatus

Номер патента: US20010036582A1. Автор: Tetsuya Kitagawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-11-01.

Method of laminating a photoresist sheet to a substrate

Номер патента: EP1307784A2. Автор: Bret Walczynski. Владелец: Chromaline Corp. Дата публикации: 2003-05-07.

Method of laminating a photoresist sheet to a substrate

Номер патента: WO2002012960A2. Автор: Bret Walczynski. Владелец: The Chromaline Corporation. Дата публикации: 2002-02-14.

Patterning method and structures resulting therefrom

Номер патента: US20240063060A1. Автор: Ming-Hsi Yeh,Jian-Jou LIAN,Chun-Neng LIN,Chieh-Wei Chen,Tzu-Ang Chiang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-02-22.

Patterning method and structures resulting therefrom

Номер патента: EP3937255A3. Автор: Ming-Hsi Yeh,Jian-Jou LIAN,Chun-Neng LIN,Chieh-Wei Chen,Tzu-Ang Chiang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-03-23.

Digital ultraviolet lithography method and apparatus

Номер патента: US20240210837A1. Автор: Han Wang,Aping Zhang,Zuoqin DING,Taige LI. Владелец: Hong Kong Polytechnic University HKPU. Дата публикации: 2024-06-27.

Overlay measurement device and method and method of forming overlay pattern

Номер патента: US20160025484A1. Автор: Kwang-sub Yoon,Tae-Sun Kim,Jae-Kyung Seo,Bum-Joon Youn,Ki-Man Lee,Bi-Zheng WANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-01-28.

Method for dose calculation of photolithography projection printers through bleaching of photo-active compound in a photoresist

Номер патента: US4474864A. Автор: Ming-Fea Chow,Christopher F. Lyons,Robert C. McIntosh,Alexander D. Lopata,Anthony F. Scaduto. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1984-10-02.

Method of forming a photoresist layer

Номер патента: US20150243500A1. Автор: Chih-Chien Wang,Hung-Chang Hsieh,Chun-Wei Chang,Wang-Pen Mo. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-08-27.

Patterning method and structures resulting therefrom

Номер патента: US11848239B2. Автор: Ming-Hsi Yeh,Jian-Jou LIAN,Chun-Neng LIN,Chieh-Wei Chen,Tzu-Ang Chiang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-19.

Method and apparatus of wafer print simulation using hybrid model with mask optical images

Номер патента: WO2004079632A2. Автор: Linyong Pang. Владелец: Numerical Technologies Inc.. Дата публикации: 2004-09-16.

Method of improving astigmatism of a photoresist layer

Номер патента: US20020160314A1. Автор: Shun-Li Lin,Wei-Hua Hsu. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2002-10-31.

System for exposure of ultra-violet light to a photoresist developer solution

Номер патента: US20240210835A1. Автор: Joseph Bloxham. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Method for fabricating a resist pattern, a method for patterning a thin film and a method for manufacturing a micro device

Номер патента: US20020042029A1. Автор: Hisayoshi Watanabe,Akifumi Kamijima. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2002-04-11.

Semiconductor device and a method for producing semiconductor device

Номер патента: US8778779B2. Автор: Mitsufumi Naoe. Владелец: Fujitsu Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2014-07-15.

Pattern forming method for forming a pattern

Номер патента: US10317797B2. Автор: Takehiro Seshimo,Kenichi Oyama,Hidetami Yaegashi,Yoshitaka Komuro,Katsumi Ohmori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-06-11.

Exposure method and tool

Номер патента: EP1894062A1. Автор: Neil Sykes,Richard Allott. Владелец: Exitech Ltd. Дата публикации: 2008-03-05.

Methods and apparatus for forming dual polarized images

Номер патента: US20180314061A1. Автор: W. Dennis Slafer,Christine Higgins. Владелец: MicroContinuum Inc. Дата публикации: 2018-11-01.

Identification information acquisition method, pattern forming method, semiconductor manufacturing facility operation method, processing apparatus, and pattern forming apparatus

Номер патента: US20240213176A1. Автор: Yoshihito Tada. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

Method and apparatus for performing a double shift print on a substrate

Номер патента: US6163368A. Автор: Bernie B. Hu. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2000-12-19.

Method and/or system for coating a substrate

Номер патента: US20200164402A1. Автор: Gary Hillman,Victoria Rocha. Владелец: Service Support Specialties Inc. Дата публикации: 2020-05-28.

Semiconductor device manufacturing method and semiconductor device manufacturing system

Номер патента: US20050196706A1. Автор: Kouichi Nagai. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2005-09-08.

Simulation method and semiconductor device fabrication method

Номер патента: US20070198965A1. Автор: Hiroki Futatsuya. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2007-08-23.

Method of predicting photoresist patterns defined by photomask patterns

Номер патента: US20090138236A1. Автор: Shih-Lung Tsai. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2009-05-28.

Method and apparatus for measuring dimension of photomask pattern

Номер патента: US20070201044A1. Автор: Takeshi Yamane. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-08-30.

Method and apparatus for making an adhesive cleaning sheet

Номер патента: WO2006023278A1. Автор: Ronald E. Bergsten,Kim C. Sachs,Thomas E. Haskett,Randy L. Moseng. Владелец: 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY. Дата публикации: 2006-03-02.

Pattern transfer method and pattern transfer apparatus

Номер патента: US20070212488A1. Автор: Kenichi Murooka. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-09-13.

Electroless plating method and ceramic substrate

Номер патента: US09949374B2. Автор: Hiromi Yamanaka,Shiro Sekino,Yohei Takemoto,Yuta Kaihatsu. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2018-04-17.

Pattern forming method

Номер патента: US09659816B2. Автор: Koji Asakawa,Atsushi Hieno. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-05-23.

Mineral composition based on calcium and magnesium carbonates mixed solid phase, preparation method and use thereof

Номер патента: RU2599758C2. Автор: Марион Лоргуйу,Марк Пеллетье,Тьерри Шопэн,Роберт Себастиан ГАРТНЕР. Владелец: С.А. Луаст Решерш Э Девелопман. Дата публикации: 2016-10-10.

Pattern layout and the forming method thereof

Номер патента: US20240040764A1. Автор: Yifei Yan. Владелец: Fujian Jinhua Integrated Circuit Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-01.

Copolymer, a process for producing the same, a gas separation membrane comprising the copolymer, and a composite membrane comprising the gas separation membrane

Номер патента: KR102164259B1. Автор: 김종학,박민수. Владелец: 연세대학교 산학협력단. Дата публикации: 2020-10-12.

Method and apparatus for forming flexible film, and solution film forming method

Номер патента: KR101945537B1. Автор: 노부요시 스즈키,나오키 나카무라. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2019-02-07.

Auricularia heimuer Oligosaccharide for Protecting Hepatocytes from Oxidative Damage, Preparation Method Thereof and Use Thereof

Номер патента: NL2027683A. Автор: Zhang Qian,WANG Qi,Su Ling,DONG LIRAN,Mei Heriban. Владелец: Univ Jilin Agricultural. Дата публикации: 2022-02-17.

Auricularia heimuer Oligosaccharide for Protecting Hepatocytes from Oxidative Damage, Preparation Method Thereof and Use Thereof

Номер патента: NL2027683B1. Автор: Zhang Qian,WANG Qi,Su Ling,DONG LIRAN,Mei Heriban. Владелец: Univ Jilin Agricultural. Дата публикации: 2023-10-11.

Methods of detecting printing defects on photoresist patterns

Номер патента: US20200142297A1. Автор: Jun Taek Park. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2020-05-07.

Methods of detecting printing defects on photoresist patterns

Номер патента: US20200409256A1. Автор: Jun Taek Park. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2020-12-31.

Polypeptide, photoresist composition including the same, and method of forming pattern using the same

Номер патента: EP4194488A1. Автор: Jieun Kim,Joonsong Park,Jinha Kim,Soonchun Chung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-14.

Processing method and system for color film substrate

Номер патента: US20210018785A1. Автор: Huailiang He. Владелец: HKC Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-21.

Method and system for metastasis diagnosis and prognosis

Номер патента: US20200393439A1. Автор: Mohammad ABDOLAHAD,Mahsa Faramarzpour Darzini,Mohammad Saeid Nik Shoar. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-12-17.

Methods of detecting printing defects on photoresist patterns

Номер патента: US11187976B2. Автор: Jun Taek Park. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2021-11-30.

Optical proximity correction method and method of fabricating a semiconductor device using the same

Номер патента: US20220057707A1. Автор: Noyoung CHUNG,Gyeong Seop KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-02-24.

Optical proximity correction method and method of fabricating a semiconductor device using the same

Номер патента: US11733604B2. Автор: Noyoung CHUNG,Gyeong Seop KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-08-22.

Chiral amino acid-based deep eutectic solvents and their preparation method and application

Номер патента: NL2036964B1. Автор: MA Xiaofei,Cai Liangliang,Huang Rongrong. Владелец: Affiliated Hospital Of Nantong Univ. Дата публикации: 2024-07-26.

Method and system for metastasis diagnosis and prognosis

Номер патента: US11874268B2. Автор: Mohammad ABDOLAHAD,Mahsa Faramarzpour Darzini,Mohammad Saeid Nik Shoar. Владелец: Nanohesgarsazan Salamat Arya Ncubation Center For Equipment And Devices. Дата публикации: 2024-01-16.

Image Forming Apparatus, Image Forming Method, and Image Forming Program

Номер патента: US20210405564A1. Автор: Kazuya Kitamura. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2021-12-30.

Powder pasting device, image forming apparatus, powder pasting method, and image forming method

Номер патента: US20200192239A1. Автор: Atsuto Hirai. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2020-06-18.

Substrate processing method and control apparatus

Номер патента: US09798317B2. Автор: Katsuhiko Komori,Yuichi Takenaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Pattern forming method, method for manufacturing color filter, and color filter manufactured thereby

Номер патента: US09352520B2. Автор: Yasuo Sugishima,Mitsuji Yoshibayashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-05-31.

Method of identification of ligands, method of antibody preparing, method of selection of nucleic acid, method of nucleic acids mixture preparing, mixture of nucleic acids, nucleic acid ligand no occurring in nature

Номер патента: RU2198931C2. Автор: Ларри ГОУЛД,Крейг ТЬЮРК. Владелец: Нексстар Фармасьютикалс Инк.. Дата публикации: 2003-02-20.

Color resist material, filter, and preparation method thereof

Номер патента: US11732137B2. Автор: Hsiaohsien Chen,Lin Al. Владелец: TCL China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-22.

Color resist material, filter, and preparation method thereof

Номер патента: US20220119643A1. Автор: Hsiaohsien Chen,Lin Ai. Владелец: TCL China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2022-04-21.

Quality prediction method, preparation method and system of high resistance gallium oxide based on deep learning and Czochralski method

Номер патента: US12031230B2. Автор: Qinglin SAI,Hongji QI,Duanyang Chen. Владелец: Hangzhou Fujia Gallium Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Light-mediated method and apparatus for the regional analysis of biologic material

Номер патента: US6159681A. Автор: John A. Zebala. Владелец: Syntrix Biochip Inc. Дата публикации: 2000-12-12.

Image forming apparatus using a pre-processing liquid and a post-processing liquid, and an image forming method using a pre-processing liquid and a post-processing liquid

Номер патента: US20130293645A1. Автор: Yoshinari Suzuki,Kazuki Yasu,Yukihito NIINO. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2013-11-07.

Method for measuring the concentration of a photoresist in a stripping liquid

Номер патента: US9797828B2. Автор: LI Wang. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Photoresist composition for colour filter and preparation method of liquid crystal display colour filter using the same

Номер патента: KR101119818B1. Автор: 박찬석,박춘호,김경아,나종호. Владелец: 주식회사 동진쎄미켐. Дата публикации: 2012-03-06.

Image forming method and apparatus and mobile terminal

Номер патента: US20210294471A1. Автор: Chu-Hsin CHENG. Владелец: Sony Mobile Communications Inc. Дата публикации: 2021-09-23.

A series of pyrrole derivatives and their preparation method and therapeutic use

Номер патента: US20240327423A1. Автор: Yingfu Li,Zhiquan SONG,Chenguang Yuan,Shenghong Huang,Renchong YAO,Shoubing YI. Владелец: Shenzhen Sungening Biological Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Novel phosphoneamides, method for their preparing and their using

Номер патента: RU2314314C2. Автор: Йосиказу МАКИОКА,Теруюки ХАЯСИ,Масато ТАНАКА,Ли-биао ХАН. Владелец: Джапан Сайенс Энд Текнолоджи Эйдженси. Дата публикации: 2008-01-10.

Substituted beta-carbolines, method for their preparing

Номер патента: RU2277095C2. Автор: Олаф РИТЦЕЛЕР,Джулиан АДАМС,Луи ГРЕНЬЕ,Хормоз Маздиясни,Альфредо КАСТРО,Франсуа СУСИ,Уэйн В. ХЭНКОК,Вито ПАЛОМБЕЛЛА. Владелец: Санофи-Авентис Дойчланд Гмбх. Дата публикации: 2006-05-27.

Catalysts for oxidation of ethane to acetic acid and methods for their preparing and using

Номер патента: RU2234368C2. Автор: Халид КАРИМ,Мохаммад Х. АЛЬ-ХАЗМИ,Асад Ахмад ХАН,Сейед Иршад ЗАХЕЕР. Владелец: Сауди Бейсик Индастриз Корпорейшн. Дата публикации: 2004-08-20.

Novel compounds as cathepsin inhibitors, pharmaceutical composition based on thereof, their using and method for their preparing

Номер патента: RU2316546C2. Автор: Джеймс Т. ПАЛМЕР,Майкл Грауп,Дэвид Дж. ЭЛДОС,Сукантини ТУРАЙРАТНАМ. Владелец: Эксис Фармасьютикалз, Инк.. Дата публикации: 2008-02-10.

Compounds, method for their preparing, methods of treatment

Номер патента: RU2296121C2. Автор: Милан Радое УСКОКОВИЦ. Владелец: Ф.Хоффманн-Ля Рош Аг. Дата публикации: 2007-03-27.

Preparation method of pilocarpine and its intermediate compounds

Номер патента: US20240228425A1. Автор: Zhiguo Zheng,Lirong Zhang,Jiajia Guo,Guanneng Yu,Chunguang DAI,Shengkang ZHANG. Владелец: Zhejiang Ausun Pharmaceutical Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

DERIVATIVES OF SUBSTITUTED PHENYLPROPIONIC ACID AS AGONISTS OF HUMAN ALPHA-RECEPTOR (PPARα) ACTIVATED BY PEROXISOME PROLIFERATORS, METHOD AND INTERMEDIATE COMPOUNDS FOR THEIR PREPARING, PHARMACEUTICAL COMPOSITION BASED ON THEREOF, THEIR USING AND METHODS FOR DYSLIPIDEMIA TREATMENT AND TYPE 2 DIABETES MELLITUS

Номер патента: RU2300517C2. Автор: Ланна ЛИ,ЛИНДСТЕДТ Эва-Лотте АЛЬСТЕРМАРК,Анна Кристина ОЛЬССОН,Ланна ЛИ (SE),ЛИНДСТЕДТ Эва-Лотте АЛЬСТЕРМАРК (SE),Анна Кристина ОЛЬССОН (SE). Владелец: Астразенека Аб. Дата публикации: 2007-06-10.

Derivatives of chroman and methods for their preparing

Номер патента: RU2233277C2. Автор: Кристоф МЮРМАНН,Хайнц-Герман БОКЕЛЬ,Петер МАККЕРТ,Норберт ШВАЙККЕРТ. Владелец: Мерк Патент Гмбх. Дата публикации: 2004-07-27.

DERIVATIVES OF SUBSTITUTED PHENYLPROPIONIC ACID AS AGONISTS OF HUMAN ALPHA-RECEPTORS ACTIVATED BY PEROXISOME PROLIFERATOR (PPARα), METHOD AND INTERMEDIATE COMPOUNDS FOR THEIR PREPARING, PHARMACEUTICAL COMPOSITION BASED ON THEREOF, THEIR USING AND METHODS FOR TREATMENT OF DYSLIPIDEMIA IN DIABETES MELLITUS TYPE 2

Номер патента: RU2303031C2. Автор: Ланна ЛИ,ЛИНДСТЕДТ Эва-Лотте АЛЬСТЕРМАРК,Анна Кристина ОЛЬССОН,Ланна ЛИ (SE),ЛИНДСТЕДТ Эва-Лотте АЛЬСТЕРМАРК (SE),Анна Кристина ОЛЬССОН (SE). Владелец: Астра Зенека АБ. Дата публикации: 2007-07-20.

Derivatives of benzazepinon-n-acetic acid substituted with phosphonic acid, method for their preparing and medicinal agents containing these compounds

Номер патента: RU2211219C2. Автор: Харальд ВАЛЬДЕК,Йорг МАЙЛЬ,Дирк ТОРМЕЛЕН,Михель ВУРЛЬ. Владелец: Солвей Фармасьютикалс Гмбх. Дата публикации: 2003-08-27.

Bis(fluorosulfonyl)imide salts and preparation method thereof

Номер патента: US20240228283A9. Автор: Byeong-Ki Kim,Olivier Buisine,Yeon-Joon Kim. Владелец: SOLVAY SA. Дата публикации: 2024-07-11.

PREPARATION METHOD FOR GROWING GERMANIUM SULFIDE (GeS2) SINGLE-CRYSTAL THIN FILM ON SiO2 SUBSTRATE

Номер патента: US20240120431A1. Автор: SHENG Chen,Guoqiang Li,Wenliang Wang,Jixing CHAI. Владелец: South China University of Technology SCUT. Дата публикации: 2024-04-11.

Nickel/titanium oxide-silicon oxide catalyst for synthesizing terpinene-4-ol, preparation method thereof, and method of synthesizing terpinene-4-ol using the same

Номер патента: US11596930B2. Автор: Jie Liu,Dan Wu,Jingjing Chen,Huidong Zheng,Naixin Wu. Владелец: FUZHOU UNIVERSITY. Дата публикации: 2023-03-07.

Multifunctional composite phase change material supported by nickel-plated foam and mxene collaboratively, and preparation method thereof

Номер патента: NL2033966A. Автор: XUE Bai,Cheng Ziling. Владелец: Univ Guizhou. Дата публикации: 2023-03-07.

Multifunctional composite phase change material supported by nickel-plated foam and mxene collaboratively, and preparation method thereof

Номер патента: NL2033966B1. Автор: XUE Bai,Cheng Ziling. Владелец: Univ Guizhou. Дата публикации: 2023-07-28.

Alumina catalyst preparation method, alumina catalyst prepared thereby, and propylene preparation method using same

Номер патента: EP3944892A1. Автор: designation of the inventor has not yet been filed The. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2022-02-02.

Antifreezing and high-ductility cement-based material, and preparation method, use and use method thereof

Номер патента: GB2613913A. Автор: Wang Xiaoxiao,Jing Lei,LIU Shuguang,Zhang Ju,Yin Liqiang,Yan Changwang,Li Danqing. Владелец: Inner Mongolia University of Technology. Дата публикации: 2023-06-21.

Water-based composition for abrasive slurry, preparation methods and use thereof

Номер патента: RU2412974C2. Автор: Джейсон А. ШЕРЛОК,Абхайя К. БАКШИ. Владелец: Сэнт-Гобэн Керамикс Энд Пластикс, Инк.. Дата публикации: 2011-02-27.

N-type double-sided solar cell preparation method

Номер патента: EP4365964A1. Автор: Qian Yao,Guoqiang Xing,Wenzhou XU. Владелец: Tongwei Solar Meishan Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-08.

Method and apparatus for exposing photoresist by using an electron beam and controlling its voltage and charge

Номер патента: CA1226075A. Автор: Arnold Reisman. Владелец: MCNC. Дата публикации: 1987-08-25.

Copolymers for prevention of deposits in water-bearing systems, their preparing and using

Номер патента: RU2315060C2. Автор: Йорг ИССБЕРНЕР,Райнер ПЕШМАНН,Кристиан ФЛОКЕН. Владелец: Штокхаузен ГмбХ. Дата публикации: 2008-01-20.

Aromatic compounds bearing at least one phosphonate or phosphinate group, preparation method and uses thereof

Номер патента: WO2012083559A1. Автор: Tao Zhang,Floryan De Campo,Changkai ZHOU. Владелец: Rhodia (China) Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-06-28.

Preparation method for amphiphilic nanosheet

Номер патента: US20240270884A1. Автор: Jian Zhang,Gang Wu,Xinliang Li,Yinan Xu,Ming DUAN,Yuhan Wu,Shenwen FANG,Mengyuan NIE. Владелец: SOUTHWEST PETROLEUM UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-08-15.

Preparation method for amphiphilic nanosheet

Номер патента: US12098225B2. Автор: Jian Zhang,Gang Wu,Xinliang Li,Yinan Xu,Ming DUAN,Yuhan Wu,Shenwen FANG,Mengyuan NIE. Владелец: SOUTHWEST PETROLEUM UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-09-24.

Corrosion-resistant and aging-resistant color-coated steel plate coating, color-coated steel plate containing same and their preparation methods

Номер патента: AU2021202213B1. Автор: Biao Zheng. Владелец: Leasen Steel International Pty Ltd. Дата публикации: 2022-06-09.

Polyolefins and method for their preparing

Номер патента: RU2243976C2. Автор: Фернан ГОТИ. Владелец: Солвей (Сосьете Аноним). Дата публикации: 2005-01-10.

Method for manufacturing a photoconverter on a germanium soldered substrate and a device for its implementation

Номер патента: RU2703840C1. Автор: Борис Николаевич Самсоненко. Владелец: Публичное акционерное общество "Сатурн" (ПАО "Сатурн"). Дата публикации: 2019-10-22.

4-methoxy-2,6-diamino-s-triazines,their preparation,and herbicidal methods and preparations using them

Номер патента: IL31847A. Автор: . Владелец: Agripat Sa. Дата публикации: 1972-05-30.

New 4-methoxy-2,6-diamino-s-triazines,their preparation,and herbicidal methods and preparations using them

Номер патента: IL31847A0. Автор: . Владелец: Agripat Sa. Дата публикации: 1969-05-28.

Film-forming material, film-forming composition, film-forming method using film-forming material and film-forming composition, and semiconductor device fabricated using film-forming method

Номер патента: US20240240318A1. Автор: Jong Moon Kim,Chang Bong Yeon,Jae Sun Jung,Kok Chew TAN. Владелец: Soulbrain Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Mercaptoacetylamide derivatives, a process for their preparation, pharmaceutical composition based thereon and a process for preparation of intermediate compound

Номер патента: UA75647C2. Автор: Garya Flynn,Roger Koehl,Ann Anderson. Владелец: Sanofi Aventis Deutschland. Дата публикации: 2006-05-15.

Substituted pyrimidin-2-ones, the salts thereof, processes for their preparation, pharmaceutical compositions containing them and a method therefor

Номер патента: CA1159830A. Автор: Christopher Williamson,Gordon H. Phillipps,Brian M. Bain,Ian P. Steeples,Raymond A. Borella. Владелец: Glaxo Group Ltd. Дата публикации: 1984-01-03.

Preparation method of mogroside and processing device therefor

Номер патента: US20240180224A1. Автор: Jian Wei,Xiaoyan Liang,Wude Mao,Rongjun TANG,Haiyuan LIN. Владелец: Guilin Sanleng Biotech Co ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Reduced titanium dioxide and preparing method of the same

Номер патента: US10195586B2. Автор: Youngmin Kim,Hyoyoung Lee,Luyang Wang. Владелец: SUNGKYUNKWAN UNIVERSITY. Дата публикации: 2019-02-05.

Polysubstituted pyridine compound, preparation method, use and pharmaceutical composition

Номер патента: US09902709B2. Автор: Jing Tao,Heng Xu,Songwen LIN,Fangbin HAN,Chongqin YI. Владелец: PKUCare Pharmaceutical R&D Center. Дата публикации: 2018-02-27.

DEPOSITION METHOD AND A DEPOSITION APPARATUS OF FINE PARTICLES, A FORMING METHOD AND A FORMING APPARATUS OF CARBON NANOTUBES, AND A SEMICONDUCTOR DEVICE AND A MANUFACTURING METHOD OF THE SAME

Номер патента: US20150207074A1. Автор: Awano Yuji,Shimizu Noriyoshi. Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2015-07-23.

Heterocyclic-substituted anilide derivatives, a process for their preparation, herbicidal compositions containing them and a method of controlling undesired plant growth using them.

Номер патента: ES476632A1. Автор: . Владелец: Shell Internationale Research Maatschappij BV. Дата публикации: 1979-06-01.

Heterocyclic-substituted anilide derivatives, a process for their preparation, herbicidal compositions containing them and a method of controlling undesired plant growth using them

Номер патента: EP0003619A2. Автор: Kurt Hans Gerhard Pilgram. Владелец: Shell Internationale Research Maatschappij BV. Дата публикации: 1979-08-22.

Hexahydro-1h-quino£4,3,2-eph|£1,4|benzoxazepines and -thiazepines, process of their preparation , intermediates of the process and a medicament containing thereof

Номер патента: CZ588790A3. Автор: Gregory Michael Shutske,Kevin James Kapples,John Dick Tomer. Владелец: Hoechst Marion Roussel, Inc.. Дата публикации: 1998-02-18.

BENZOILPIRAZOL COMPOUNDS, PROCESS FOR THEIR PREPARATION, HERBICIDES THAT CONTAIN THEM AND A METHOD OF CONTROL OF INDESATED PLANTS THAT USE THEM.

Номер патента: AR063787A1. Автор: . Владелец: Ishihara Sangyo Kaisha. Дата публикации: 2009-02-18.

Sulfonamides, processes for their preparation, compositions containing said sulfonamides and a method for controlling the growth of vegetation

Номер патента: EP0007687B1. Автор: George Levitt. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 1983-03-30.

5-halo-pyrimid-2-ones,the salts thereof,processes for their preparation,pharmaceutical compositions containing them and a method therefor

Номер патента: IE50765B1. Автор: . Владелец: Nyegaard & Co As. Дата публикации: 1986-07-09.

Battery, apparatus, and preparation method and preparation apparatus of battery

Номер патента: US20230070894A1. Автор: Chengdu Liang,Xia Hu,Qian Liu,Haizu Jin,Yonghuang YE,Quanguo LI. Владелец: Contemporary Amperex Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-09.

Battery, apparatus, and preparation method and preparation apparatus of battery

Номер патента: US12002984B2. Автор: Chengdu Liang,Xia Hu,Qian Liu,Haizu Jin,Yonghuang YE,Quanguo LI. Владелец: Contemporary Amperex Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-04.

Film forming apparatus, substrate processing apparatus, film forming method, and recording medium recording program for executing this film forming method

Номер патента: JP5276387B2. Автор: 寿 加藤,学 本間. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-08-28.

A kind of preparation method of catalyst and a kind of preparation method of monoethanolamine

Номер патента: CN105536858B. Автор: 杨振,宫飞祥. Владелец: Shaanxi Yanchang Petroleum Group Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Fused ring pyrimidine compound, intermediate, and preparation method, composition and use thereof

Номер патента: CA2993096A1. Автор: Yuguang Wang,Nong Zhang,Zusheng XU,Qingrui SUN,Tinghan WANG. Владелец: Guangzhou Maxinovel Pharmaceuticals Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-26.

Polysubstituted pyridine compound, preparation method, use and pharmaceutical composition

Номер патента: EP3130588A1. Автор: Jing Tao,Heng Xu,Songwen LIN,Fangbin HAN,Chongqin YI. Владелец: PKUCare Pharmaceutical R&D Center. Дата публикации: 2017-02-15.

Fused ring pyrimidine compound, intermediate, and preparation method, composition and use thereof

Номер патента: NZ739940B2. Автор: Yuguang Wang,Nong Zhang,Zusheng XU,Qingrui SUN,Tinghan WANG. Владелец: Guangzhou Maxinovel Pharmaceuticals Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Corrosion-resistant nickel alloy, preparation method therefor and use thereof

Номер патента: US11866806B2. Автор: Wenchao Ma,Sixuan ZENG,Terrence Wenga. Владелец: TIANJIN UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-01-09.

Corrosion-resistant nickel alloy, preparation method therefor and use thereof

Номер патента: US20230212715A1. Автор: Wenchao Ma,Sixuan ZENG,Terrence Wenga. Владелец: TIANJIN UNIVERSITY. Дата публикации: 2023-07-06.

Fused ring pyrimidine compound, intermediate, and preparation method, composition and use thereof

Номер патента: NZ739940A. Автор: Yuguang Wang,Nong Zhang,Zusheng XU,Qingrui SUN,Tinghan WANG. Владелец: Guangzhou Maxinovel Pharmaceuticals Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-29.

Surface-crosslinked modified winnofil of sesbania gum organic titanium and preparation method thereof, using and a kind of paper

Номер патента: CN106800802B. Автор: 刘振华,谢玮. Владелец: Wuzhou University. Дата публикации: 2018-09-28.

Embossed photoresist release-type film material having exhaust function, preparation method therefor, and application thereof

Номер патента: EP4446368A1. Автор: Shuyu Li,Shufeng Li,Shumang LI. Владелец: Jinwanzheng Guangdong New Material Co ltd. Дата публикации: 2024-10-16.

Metal ion-directed carboxylic acid functionalized polyoxometalate hybrid compounds and their preparation method and applications for catalyzing the degradation of chemical warfare agent simulants

Номер патента: US20200254430A1. Автор: Haiyan An,Yujiao HOU. Владелец: Dalian University of Technology. Дата публикации: 2020-08-13.

Pattern forming method and plasma processing method

Номер патента: US20240318014A1. Автор: Tatsuya Yamaguchi,Yoshiaki Shoji,Shin Oowada,Takanori Fukushima,Ryuichi Asako,Takashi Kajitani,Hibiki OGIWARA. Владелец: Tokyo Institute of Technology NUC. Дата публикации: 2024-09-26.

Methods and appartus to prevent contamination of a photoresist layer on a substrate

Номер патента: US20090317628A1. Автор: Li-Qun Xia,Mehul Naik,Huixiong Dai,Michael Armacost,Keisuke Mizuuchi. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2009-12-24.

Bituminous compositions comprising an amine additive and a hydroxide, their preparation process and applications

Номер патента: EP3622020A1. Автор: Soenke Schroeder,Stefan OEST,Thomas Andresen. Владелец: Total Marketing Services SA. Дата публикации: 2020-03-18.

Bituminous compositions comprising an amine additive and a hydroxide, their preparation process and applications

Номер патента: US12060491B2. Автор: Soenke Schroeder,Stefan OEST,Thomas Andresen. Владелец: TotalEnergies Onetech SAS. Дата публикации: 2024-08-13.

Polymethylidenemalonate-base new microspheres, methods for their preparing and pharmaceutical compositions containing thereof

Номер патента: RU2227018C2. Автор: Николь БРЮ-МАНЬЕ,Паскаль БРЕТОН,ВИЗАЖ Катрин ЛЕ,Элиа ФАТТАЛЬ,Патрик КУВРЕР. Владелец: Вирсоль. Дата публикации: 2004-04-20.

Anthracene-functionalized dual cross-linked glycan-based hydrogel with reversible crosslinking and a method for their preparation

Номер патента: US20230167248A1. Автор: Afsun SAHIN,Seda Kizilel,Muhammad Anwaar NAZEER,Syeda Rubab BATOOL. Владелец: KOC Universitesi. Дата публикации: 2023-06-01.

Scarf with pattern, method and weaving machine for manufacturing the same

Номер патента: RU2247521C2. Автор: Франсиско ШПАЙХ,Кристиан КУОНИ. Владелец: Бревитекс Этаблиссман Пур Л`Эксплутасьон Де-Бревет Текстиль. Дата публикации: 2005-03-10.

Composite powders of sulfonated complex polyester and silver nanoparticles coated with styrene-based polymer and their preparation methods

Номер патента: RU2761454C2. Автор: Валери М. ФАРРУДЖИА,Баркев КЕОШКЕРИАН,Мишель Н. КРЭТЬЕН. Владелец: Зирокс Корпорейшн. Дата публикации: 2021-12-08.

Coating material, preparation method and use thereof to obtain adhesion coatings with colouring and/or decorative effects

Номер патента: RU2412209C2. Автор: Доминик КАУФФЕР,Максиме АЛЛАРД. Владелец: БАСФ Коатингс ГмбХ. Дата публикации: 2011-02-20.

Novel chitosan-containing liquid compositions and methods for their preparation and use

Номер патента: EP1100344A1. Автор: Nicholas Hardinge-Lyme. Владелец: e-nutriceuticals Inc. Дата публикации: 2001-05-23.

Novel chitosan-containing liquid compositions and methods for their preparation and use

Номер патента: AU5324999A. Автор: Nicholas Hardinge-Lyme. Владелец: e-nutriceuticals Inc. Дата публикации: 2000-02-21.

Alkyl ether substituted cyclotrisiloxanes and preparation method thereof

Номер патента: US20190315780A1. Автор: Barry C. Arkles,Jonathan D. GOFF. Владелец: Gelest Technologies Inc. Дата публикации: 2019-10-17.

Anthracene-functionalized dual cross-linked glycan-based hydrogel with reversible crosslinking and a method for their preparation

Номер патента: WO2021201790A1. Автор: Afsun SAHIN,Seda Kizilel,Muhammad Anwaar NAZEER,Syeda Rubab BATOOL. Владелец: KOC Universitesi. Дата публикации: 2021-10-07.

Corrosion-resistant and heat-insulating stainless steel plate coating, stainless steel plate containing same and their preparation methods

Номер патента: AU2021104181A4. Автор: Biao Zheng. Владелец: Leasen Steel International Pty Ltd. Дата публикации: 2021-09-09.

Pattern forming method, device, and device manufacturing method

Номер патента: US09455074B2. Автор: Nobuhiro Hayakawa,daisuke Uematsu,Yuri Saito,Kentarou Mori,Ryouma Nakayama. Владелец: NGK Spark Plug Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-27.

Ceramic filled fluoropolymer compositions, methods and applications thereof

Номер патента: US09455064B2. Автор: Ratheesh RAVENDRAN,Rajesh SURENDRAN,Murali Kodakkattumana PURUSHOTHAMAN. Владелец: Secretary Department of Electronics and IT Govt of India. Дата публикации: 2016-09-27.

Surface member forming method and surface member

Номер патента: RU2296674C2. Автор: Раймо ТИККА. Владелец: Тикка-Систем Ой. Дата публикации: 2007-04-10.

Surface coating forming method and device and composition for the surface coating formation

Номер патента: RU2682344C1. Автор: Мартин БОЛЛ,Кристиан РАЙМЕР. Владелец: РИКОХ КОМПАНИ, ЛТД.. Дата публикации: 2019-03-19.

Aqueous agent for applying coating, preparation method and use thereof

Номер патента: RU2419644C2. Автор: Рольф ГЕРТЦМАНН,Кристоф ИРЛЕ,Рольф РОШУ,Рольф ГЕРТЦМАНН (DE),Кристоф ИРЛЕ (ES),Рольф РОШУ (ES). Владелец: Байер Матириальсайенс Аг. Дата публикации: 2011-05-27.

Particles of basic aluminium salt containing anion of organic acid, preparation method and application thereof

Номер патента: RU2360900C2. Автор: Син Дун ВАН,Акира ОКАДА. Владелец: Киова Кемикал Индастри Ко., Лтд.. Дата публикации: 2009-07-10.

Starch-based fluffy particle, preparation method and use thereof

Номер патента: AU2021385100B2. Автор: Aijun Guo,Jianjin WANG,Shunqing Tang. Владелец: Honest Medical China Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

Surface forming method for electronic component

Номер патента: US20160027453A1. Автор: Jian Hui Huang,Hong Tao Ma,Natsuo Nishijima,Huan Chao Liang. Владелец: SAE Magnetics HK Ltd. Дата публикации: 2016-01-28.

Rock sample preparation method by using focused ion beam for minimizing curtain effect

Номер патента: WO2018152308A1. Автор: Mohammed Al-Otaibi,Dong kyu Cha,Ali Abdallah Al-Yousef,Sultan Enezi. Владелец: Aramco Services Company. Дата публикации: 2018-08-23.

Rock sample preparation method by using focused ion beam for minimizing curtain effect

Номер патента: US20190234889A1. Автор: Dong kyu Cha,Ali Abdallah Al-Yousef,Sultan Enezi,Mohammed Al Otaibi. Владелец: Saudi Arabian Oil Co. Дата публикации: 2019-08-01.

Rock sample preparation method by using focused ion beam for minimizing curtain effect

Номер патента: CA3050924C. Автор: Mohammed Al-Otaibi,Dong kyu Cha,Ali Abdallah Al-Yousef,Sultan Enezi. Владелец: Saudi Arabian Oil Co. Дата публикации: 2023-01-31.

Rock sample preparation method by using focused ion beam for minimizing curtain effect

Номер патента: EP3583410A1. Автор: Mohammed Al-Otaibi,Dong kyu Cha,Ali Abdallah Al-Yousef,Sultan Enezi. Владелец: Saudi Arabian Oil Co. Дата публикации: 2019-12-25.

Display device including a COA substrate having a photoresist plug on an ITO film

Номер патента: US09726956B2. Автор: Yue Wu. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-08.

A manufacturing method of a microchemical chip made of a resin and a microchemical chip made of a resin by the method

Номер патента: CA2504080C. Автор: Mitsuru Saito,Kenji Obara,Yoshiyuki Ikegami. Владелец: Nippon Filcon Co Ltd. Дата публикации: 2014-06-03.

Preparation method and system for josephson junction

Номер патента: EP4329464A1. Автор: Dengfeng Li,Wenlong Zhang,Maochun DAI,Kunliang BU. Владелец: Tencent Technology Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-28.

Stamper and optical disk with specific dimensions, surface roughness, and a land and a groove provided in a non-signal recording area

Номер патента: US7154843B2. Автор: Yuji Akiyama,Jun Nakano,Shin Masuhara. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2006-12-26.

Biological test chip and a manufacturing method thereof

Номер патента: US20100219073A1. Автор: Chiu-Hui LIN. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-09-02.

Methods and systems for determining a dose-to-clear of a photoresist

Номер патента: US9275449B2. Автор: Lei Sun,II Obert Reeves Wood. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2016-03-01.

Defect removal device, defect removal method, pattern forming method, and method of manufacturing electronic device

Номер патента: US20230395366A1. Автор: Ryo Saito,Masahiro Yoshidome,Akihiko Ohtsu,Yukihisa KAWADA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-12-07.

Method and apparatus for exposing optical disk master

Номер патента: US20030058755A1. Автор: Eiichi Ito,Shinya Abe,Shuji Sato,Morio Tomiyama,Masahiko Tsukuda. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2003-03-27.

Method and system for preparing josephson junction

Номер патента: US20230422634A1. Автор: Dengfeng Li,Wenlong Zhang,Maochun DAI,Kunliang BU. Владелец: Tencent Technology Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Methods and systems for determining a dose-to-clear of a photoresist

Номер патента: US20150023583A1. Автор: Lei Sun,Obert Reeves Wood, III. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2015-01-22.

Method and system for metastasis diagnosis and prognosis

Номер патента: WO2022043740A1. Автор: Mohammad ABDOLAHAD,Mahsa Faramarzpour Darzini,Mohammad Saeid Nik Shoar. Владелец: Mahsa Faramarzpour Darzini. Дата публикации: 2022-03-03.

A gold nanostar with silver satellites, preparation method and use

Номер патента: EP4285106A1. Автор: Matthew Ellis,Chris Elliot,Cuong Cao,James Tate,Natasha LOGAN,Simon HAUGHEY,Javier Lou FRANCO. Владелец: Queens University of Belfast. Дата публикации: 2023-12-06.

Method for detecting distance deviations to a photoresist surface in an optical printer

Номер патента: US4498775A. Автор: Lawrence K. White. Владелец: RCA Corp. Дата публикации: 1985-02-12.

Pattern forming method, mold and data processing method

Номер патента: US8722535B2. Автор: Masafumi Asano. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2014-05-13.

Method and apparatus for improving display contrast

Номер патента: US20200341338A1. Автор: Lixuan Chen,Xulin Lin,Yuanyang MA. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-10-29.

Thin film transistor substrate comprising a photoresist layer formed between a first dielectric layer and an amorphous silicon layer

Номер патента: US09780221B2. Автор: Qibiao LV. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-03.

Method and device for highly efficient compression of large-volume multimedia information based on the criteria of its value for storing in data storage systems

Номер патента: RU2654126C2. Автор: Владимир Александрович Свириденко. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Спирит Корп". Дата публикации: 2018-05-16.

Method and system for providing a bottom arc layer that can act as a write gap or seed layer for a write head

Номер патента: US20010022704A1. Автор: Liubo Hong. Владелец: Read Rite Corp. Дата публикации: 2001-09-20.

Microbead analysis method and microbead analyzer

Номер патента: US20110136263A1. Автор: Takuya Kishimoto,Noriyuki Kishii,Mari Ichimura,Kazumine Ito,Naohisa Sakamoto,Kenzo Machida. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2011-06-09.

Pattern forming method

Номер патента: US20150079794A1. Автор: Hiroki Tanaka,Naoko Kihara,Ryosuke Yamamoto. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2015-03-19.

Image forming method and device

Номер патента: RU2713859C1. Автор: Вэй ГО. Владелец: Алибаба Груп Холдинг Лимитед. Дата публикации: 2020-02-07.

Preparation method, apparatus, and device for coplanar waveguide structure, and superconducting device

Номер патента: US12095134B2. Автор: Chengchun Tang. Владелец: Alibaba China Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Rifaximine polymorphous forms, methods for their preparing and their using in medicinal preparations

Номер патента: RU2270200C2. Автор: Мануэла КАМПАНА,Дарио БРАГА,Джузеппе К. ВИСКОМИ,Винченцо КАННАТА,Донателла КОФОРТИНИ,Денис СЕВЕРИНИ,Паоло РИГИ,Гоффредо РОСИНИ. Владелец: Альфа Вассерман С.п.А.. Дата публикации: 2006-02-20.

Preparation methods of quantum dot light emitting device and quantum dot display panel using stacked sacrificial layer and photoresist layer

Номер патента: US12127464B2. Автор: Haowei Wang,Zhenqi Zhang,Xiaoyuan Zhang,Wenhai MEI,Aidi ZHANG. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

DERIVATIVES OF 8-PHENYL-6,9=DIHYDRO[1,24]TRIAZOLO[3,4-i]PURINE-5-ONE, METHODS FOR THEIR PREPARING, INTERMEDIATE COMPOUNDS, PHARMACEUTICAL COMPOSITION AND TREATMENT METHOD

Номер патента: RU2258705C2. Автор: ФЕРРЕР Хорди ГРАСИА,ГРАС Хоан ФЕЙКСАС,СОТО Хосе Мануэль ПРЬЕТО,НОВЕРОЛА Армандо ВЕГА,ХУАН Бернат ВИДАЛЬ. Владелец: Алмираль Продесфарма С.А.. Дата публикации: 2005-08-20.

Perfluorinated cycle-containing tertiary amines as base of gas-transferring emulsions (variants) and method for their preparing

Номер патента: RU2263662C2. Автор: К.Н. Макаров,Е.И. Маевский,Г.Р. Иваницкий,С.Ю. Пушкин,Л.Л. Гервиц,И.А. Масленников. Владелец: Открытое акционерное общество Научно-производственная фирма "Перфторан". Дата публикации: 2005-11-10.

(r)-2-arylpropionamides useful in inhibition of il-8-induced chemotaxis of neutrophiles, method and intermediate compounds for their preparing, pharmaceutical composition inhibiting interleukin-8-induced chemotaxis of neutrophiles

Номер патента: RU2273630C2. Автор: Марчелло АЛЛЕГРЕТТИ,Мария Кандида ЧЕСТА,Риккардо БЕРТИНИ,Франческо КОЛОТТА,Чинция БИЦЦАРРИ,Джанфранко КАЗЕЛЛИ,Кармело ГАНДОЛЬФИ,Вильма САББАТИНИ,Марчелло АЛЛЕГРЕТТИ (IT),Риккардо БЕРТИНИ (IT),Франческо КОЛОТТА (IT),Мари Кандида ЧЕСТА (IT),Чинци БИЦЦАРРИ (IT),Вильма САББАТИНИ (IT),Джанфранко КАЗЕЛЛИ (IT),Кармело ГАНДОЛЬФИ (IT). Владелец: Домпе С.П.А.. Дата публикации: 2006-04-10.

Benzazepine ketone compounds as glycogen phosphorylase inhibitor, preparation method therefor, and medical uses

Номер патента: US09868735B2. Автор: Liying Zhang. Владелец: Chengde Medical University. Дата публикации: 2018-01-16.

Flexible display panel fabrication method and fexible display panel

Номер патента: US20190058140A1. Автор: Wen Shi. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-02-21.

Epothilone Compounds, Preparation Method and Use Thereof

Номер патента: US20120322838A1. Автор: LI TANG,Rongguo Qiu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-12-20.

Crystal forms of an antitumor agent and their preparation methods

Номер патента: US11111267B2. Автор: Xianchang Gong. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-09-07.

Crystal forms of an antitumor agent and their preparation methods

Номер патента: US20210047362A1. Автор: Xianchang Gong. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-02-18.

Lung-targeting nanobodies against pulmonary surfactant protein A and their preparation

Номер патента: US09908934B2. Автор: Huiping Li,Shanmei Wang. Владелец: Tongji University School Of Medicine. Дата публикации: 2018-03-06.

Preparation method, apparatus, and device for coplanar waveguide structure, and superconducting device

Номер патента: US20220285819A1. Автор: Chengchun Tang. Владелец: Alibaba China Co Ltd. Дата публикации: 2022-09-08.

Artemisinin (qinghaosu) derivatives, their preparation methods and their use, and pharmaceutical compositions containing the same

Номер патента: US7910750B2. Автор: YU Zhou,Ying Li,Yu Zhang,Junxia Wang,Wenliang Zhou,Jianping Zuo,Yi Sui,Jinming Wu,Zhongshun Yang. Владелец: Shanghai Institute of Materia Medica of CAS. Дата публикации: 2011-03-22.

Anti-obesity microbiota compositions and preparation methods and uses thereof

Номер патента: US20190076485A1. Автор: Cheng-Yuan KAO,Jhen-Wei RUAN. Владелец: National Health Research Institutes. Дата публикации: 2019-03-14.

Anti-obesity microbiota compositions and preparation methods and uses thereof

Номер патента: EP3442546A1. Автор: Cheng-Yuan KAO,Jhen-Wei RUAN. Владелец: Kao Cheng Yuan. Дата публикации: 2019-02-20.

Sesquiterpene derivative and pharmaceutical composition thereof, and their preparation methods and use

Номер патента: US20240317772A1. Автор: Cheng Yang,Guang Yang,Honggang Zhou. Владелец: Tianjin Jikun Medical Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Acid-additive salts of terbinafine and malic acid, method for their preparing and pharmaceutical composition for treatment of fungal infection

Номер патента: RU2289570C2. Автор: Штефан ХИРШ,Даньель ЖИРОН,Жан-Луи РЕБЕ. Владелец: НОВАРТИС АГ. Дата публикации: 2006-12-20.

Phenyl-substituted heterocyclic 1,3-ketoenols, method for their preparing, herbicide agent based on thereof and method for control of weed growth

Номер патента: RU2269537C2. Автор: Томас МЭТЦКЕ,Зебастиан Вендеборн,Андре СТОЛЛЕ,Анри ЩЕПАНСКИЙ. Владелец: Зингента Партисипейшнс Аг. Дата публикации: 2006-02-10.

Derivatives of aryl carboxylic acids, methods for their preparing, pharmaceutical composition based on thereof, methods for treatment and prophylaxis of different diseases, intermediate compounds and methods for their preparing

Номер патента: RU2247722C2. Автор: Раджагопалан РАМАНУДЖАМ,Ранджан ЧАКРАБАРТИ,Брадж Бхушан Лохрей,Видиа Бхушан ЛОХРЕЙ,Ашок Чаннавеераппа БАДЖИ,Шиварамаййа КАЛЧАР,Брадж Бхушан ЛОХРЕЙ (IN),Видиа Бхушан ЛОХРЕЙ (IN),Ашок Чаннавеераппа БАДЖИ (IN),Шиварамаййа КАЛЧАР (IN),Раджагопалан РАМАНУДЖАМ (IN),Ранджан ЧАКРАБАРТИ (IN). Владелец: Др. Редди`З Лабораториз Лимитед. Дата публикации: 2005-03-10.

Cyclipostins, method for their preparing, pharmaceutical composition based on thereof, method for its preparing and strain streptomyces as producer of cyclipostins

Номер патента: RU2266911C2. Автор: Михель КУРЦ,Ласло ВЕРТЕШИ,Йоахим ВИНК,Клаус ЭРЛИХ. Владелец: Авентис Фарма Дойчланд Гмбх. Дата публикации: 2005-12-27.

5-methyltetrahydrofolic acid crystalline alkaline-earth salts (variants), method for their preparing and composition for pharmaceutical agents and nutrition supplements

Номер патента: RU2265605C2. Автор: Рудольф МОЗЕР,Ханс Рудольф МЮЛЛЕР,Томас ЭГГЕР. Владелец: Эпрова АГ. Дата публикации: 2005-12-10.

Derivatives of taxane, methods for their preparing and pharmaceutical composition

Номер патента: RU2245882C2. Автор: Эцио БОМБАРДЕЛЛИ,Алессандро ПОНТИРОЛИ,Бруно ГАБЕТТА. Владелец: Индена С.П.А.. Дата публикации: 2005-02-10.

Analogs of fatty acids, method for their preparing, method for treatment of diseases, pharmaceutical composition and nutrient composition comprising analogs thereof and method for providing body mass loss

Номер патента: RU2288215C2. Автор: Рольф БЕРГЕ,Лейв К. СЮДНЕС,Йон СОНГСТАД. Владелец: Тиа Медика Ас. Дата публикации: 2006-11-27.

Quantum Dot Light Emitting Device and Preparation Method Thereof, Preparation Method of Quantum Dot Display Panel

Номер патента: US20220310983A1. Автор: Haowei Wang,Zhenqi Zhang,Xiaoyuan Zhang,Wenhai MEI,Aidi ZHANG. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2022-09-29.

Small molecule compounds targeting srsf6 protein and their preparation methods and applications

Номер патента: US20240300893A1. Автор: Tong Wang,Cong Li,Zhiyu Li,Wenying Yu,Maode LAI,Honghe ZHANG. Владелец: CHINA PHARMACEUTICAL UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-09-12.

Pentacyclic triterpenoid compound with modified structure and preparation method and use thereof

Номер патента: US09725482B2. Автор: Honglin Wang. Владелец: Suzhou Botany Biomedical Co ltd. Дата публикации: 2017-08-08.

(r)-2-arylpropionic acid omega-aminoalkylamides as inhibitors of polymorphonuclear and mononuclear cell hemotaxis, method for their preparing and pharmaceutical composition based on thereof

Номер патента: RU2272024C2. Автор: Валерио БЕРДИНИ,ЧОЧЧО Вито ДИ,Марчелло АЛЛЕГРЕТТИ,Мария Кандида ЧЕСТА,Риккардо БЕРТИНИ,Мари Кандида ЧЕСТА,Франческо КОЛОТТА,Чинция БИЦЦАРРИ,Джанфранко КАЗЕЛЛИ,Чинци БИЦЦАРРИ,Кармело ГАНДОЛЬФИ. Владелец: Домпе С.П.А.. Дата публикации: 2006-03-20.

Derivatives of quinoline, method for their preparing and their using, medicinal agent and method for inhibition of tumor cell proliferation

Номер патента: RU2265602C2. Автор: Юрген ШМИДТ,Экхард ГЮНТЕР,Петер ЭМИГ,Бернгард Кучер,Бернд НИКЕЛЬ. Владелец: Центарис Гмбх. Дата публикации: 2005-12-10.

Quinazoline derivatives, method for their preparing and pharmaceutical composition

Номер патента: RU2267489C2. Автор: Лоран Франсуа Андре ЭННЕКЭН,Патрик ПЛЕ,Кристин Мари Поль ЛАМБЕР. Владелец: Астразенека Аб. Дата публикации: 2006-01-10.

4-aminopiperidine derivatives, methods for their preparing, compounds, pharmaceutical composition

Номер патента: RU2266282C2. Автор: Кристоф ТЮРЬО,Кристоф МУАНЕ,Жером ГОНЗАЛЕС. Владелец: Сосьете Де Консей Де Решерш Э Д`Аппликасьон Сьентифик (С.К.Р.А.С.). Дата публикации: 2005-12-20.

Amide derivatives of carboxylic acid, method for their preparing and pharmaceutical compositions based on thereof

Номер патента: RU2271361C2. Автор: Дьёрдь Домань,Шандор Фаркаш,Чилла ХОРВАТ,Иштван БОРЗА,ЧАЛАИ Гизела БАРТАНЕ,Йозеф НАДЬ,Шандор КОЛОК. Владелец: Рихтер Гедеон Ведьесети Дьяр Рт.. Дата публикации: 2006-03-10.

Derivatives of phenylglycine, method for their preparing, intermediate compounds, pharmaceutical composition and method for treatment

Номер патента: RU2268257C2. Автор: Хольгер КЮНЕ,Катрин ГРЕБКЕ-ЦБИНДЕН,Ульрике ОБСТ,Ханс Петер ВЕССЕЛЬ,Лео АЛИГ,Курт ХИЛЬПЕРТ. Владелец: Ф.Хоффманн-Ля Рош Аг. Дата публикации: 2006-01-20.

Conjugates of 4-benzylaminoquinolines with bile acid and their heteroanalogs, method for their preparing and drugs based on these compounds

Номер патента: RU2247125C2. Автор: Мартин БИККЕЛЬ,Армин ХОФМАЙСТЕР,Ханс-Вилли ЯНСЕН,Ойген ФАЛЬК,Хайнц-Вернер КЛЕЕМАН. Владелец: Авентис Фарма Дойчланд Гмбх. Дата публикации: 2005-02-27.

Memnopeptides, method for their preparing and their applying

Номер патента: RU2261254C2. Автор: Ласло ВЕРТЕШИ,Херберт КОГЛЕР,Астрид МАРКУС,Маттиас ШИЛЛ. Владелец: Авентис Фарма Дойчланд Гмбх. Дата публикации: 2005-09-27.

Indole compound, and preparation method therefor and use thereof

Номер патента: EP4397653A1. Автор: Yao Ma,Xiaokai Wang,Xiaoqiang Xu,Xianbin ZHONG. Владелец: Shenzen 01 Life Science And Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-10.

Thienopyrimidines, method for their preparing, pharmaceutical composition eliciting effect of inhibitors of phosphodiesterase v

Номер патента: RU2217431C2. Автор: Рохус ЙОНАС,Пьер ШЕЛЛИНГ,Франц-Вернер КЛУКСЕН,Мария Кристадлер. Владелец: Мерк Патент Гмбх. Дата публикации: 2003-11-27.

Sulfonylaminocarboxylic acid sulfur-substituted n-arylamides, method for their preparing (variants), pharmaceutical composition and method for treatment

Номер патента: RU2234497C2. Автор: Карл ШЕНАФИНГЕР,Хартмут ШТРОБЕЛЬ,Урзула ШИНДЛЕР. Владелец: Авентис Фарма Дойчланд Гмбх. Дата публикации: 2004-08-20.

Intermediate compounds for cetp inhibitors and methods for their preparing

Номер патента: RU2265010C2. Автор: Дэвид Бернс ДЭМОН,Роберт Уэйн ДАГГЕР,Роберт Уилль м СКОТТ,Роберт Уилльям СКОТТ. Владелец: Пфайзер Продактс Инк.. Дата публикации: 2005-11-27.

New phenylethanolamine compounds as agonists of beta2-receptor and method for their preparing

Номер патента: RU2264382C1. Автор: Ли ЧЖАН,Маошэн ЧЭН,Ли ПАНЬ,Лэй ЦЗИ,Цз ньмин ШЭНЬ,Цзяньмин ШЭНЬ,Гуйлань СУН,Чжицин ЛИ. Владелец: Цзиньчжоу Цзютай Фармасьютикал Ко., Лтд. Чайна. Дата публикации: 2005-11-20.

Derivatives of imidazopyridine, methods for their preparing and intermediate compounds, pharmaceutical preparation based on thereof (variants), method for inhibition of gastric acid secretion, method for treatment of gastrointestinal inflammatory diseases and method for treatment of states associated with helicobacter pylori infection

Номер патента: RU2238271C2. Автор: Ингемар Старке,Косрат АМИН,Микаэль ДАЛЬСТРЁМ,Петер НОРДБЕРГ. Владелец: Астразенека Аб. Дата публикации: 2004-10-20.

9a-n-[n'-(phenylsulfonyl)carbamoyl]-derivatives of 9-deoxo-9-dihydro-9a-aza-9a-homoerythromycin a and 5-desosaminyl-9-deoxo-9-dihydro-9a-aza-9a-homoerythronolide a, method for their preparing and pharmaceutical composition based on thereof

Номер патента: RU2270836C2. Автор: Неделько КУЮНДЖИЧ,КРАЯЧИЧ Мир на БУКВИЧ,КРАЯЧИЧ Миряна БУКВИЧ,Миленко ДУМИЧ,Андреа ХАСЕНОХРЛ. Владелец: Плива Д.Д.. Дата публикации: 2006-02-27.

Crystals of taxane derivatives and method for their preparing

Номер патента: RU2284328C2. Автор: Макото ОНО,Ёсихиро ТАКАЯНАГИ,Сейсиро УТИДА. Владелец: Дайити Фармасьютикал Ко., Лтд.. Дата публикации: 2006-09-27.

Unsaturated 14,15-cyclopropanoandrostanes, method for their preparing, compounds, pharmaceutical composition

Номер патента: RU2244718C2. Автор: Эльгер Вальтер,Кауфманн Гюнтер,Ринг Свен. Владелец: Шеринг Аг. Дата публикации: 2005-01-20.

Derivatives of adamantane, method for their preparing, pharmaceutical composition and method for preparing pharmaceutical composition

Номер патента: RU2214997C2. Автор: Майкл МОРТИМОР,Эндрю БЭКСТЕР,Томас МАКИНАЛЛИ,Дэвид КЛЭДИНГБОЭЛЬ. Владелец: АСТРАЗЕНЕКА Ю Кей ЛИМИТЕД. Дата публикации: 2003-10-27.

1,3-disubstituted ureas as inhibitors of cholesterol acyltransferase and method for their preparing

Номер патента: RU2216536C2. Автор: Марьян Земанек,Владимир ОРЕМУС,Венделин ШМАХОВСКИ,Вера ФАБЕРОВА,Иван КАКАЛИК,Людмила ШМИДТОВА. Владелец: Словакофарма А.С.. Дата публикации: 2003-11-20.

Catalyst for oxidising carbon monoxide and preparation method thereof

Номер патента: RU2411993C1. Автор: Олег Николаевич Ефимов,Николай Николаевич Вершинин,Владимир Андреевич Бакаев. Владелец: Закрытое акционерное общество "ВЕАЛ Сенсор" (ЗАО "ВЕАЛ Сенсор"). Дата публикации: 2011-02-20.

Amide compounds, their pharmaceutical compositions, their preparation method and their uses

Номер патента: US20110251192A1. Автор: Li Chen,Xing Fan,Renhai Chen,Yaqiu Long,Dongzhi Feng. Владелец: SHANGHAI TARGETDRUG CO Ltd. Дата публикации: 2011-10-13.

Amide compounds, their pharmaceutical compositions, their preparation method and their uses

Номер патента: US8410094B2. Автор: Li Chen,Xing Fan,Renhai Chen,Yaqiu Long,Dongzhi Feng. Владелец: SHANGHAI TARGETDRUG CO Ltd. Дата публикации: 2013-04-02.

Derivatives of piperidine, method for their preparing and pharmaceutical composition based on thereof

Номер патента: RU2279425C2. Автор: Тэренс Д. БАТТЭРС,Реймонд А. ДУЭК,Джордж ФЛИТ,Майкл Глен ОРЧАРД,Фрэнсис Мэри ПЛЭТТ. Владелец: Дзе Ченсэллер, Мастэрс Энд Сколарс Оф Дзе Юниверсити Оф Оксфорд. Дата публикации: 2006-07-10.

Derivatives of quinoline, method for their preparing (variants), pharmaceutical composition and method of treatment with their using

Номер патента: RU2213733C2. Автор: Стиг ЙЕНССОН,Андерс БЬЁРК,Гуннар ХЕДЛУНД,Томас Фекс. Владелец: Эктив Байотек Аб. Дата публикации: 2003-10-10.

New derivatives of amidines, their preparing and using as medicinal agents

Номер патента: RU2272807C2. Автор: ДЕ ЛАССОНЬЕР Пьер-Этьенн ШАБРИЕ,Джеремиа ХАРНЕТТ. Владелец: Сосьете Де Консей Де Решерш Э Д`Аппликасьон Сьентифик (С.К.Р.А.С.). Дата публикации: 2006-03-27.

Benzothieno[3,2-c]pyridines, method for their preparing (variants), pharmaceutical composition and method for its preparing

Номер патента: RU2222542C2. Автор: Франсуа Поль Бишофф,Серж Мария Алоисиус Питерс,Людо Эдмон Жозефин КЕННИС,Серж Мари Алоисиус ПИТЕРС. Владелец: Янссен Фармацевтика Н.В.. Дата публикации: 2004-01-27.

Metal complexes with bicyclic polyamino acids, method for their preparing and their application in medicine for image preparing

Номер патента: RU2232763C2. Автор: Марк ПОР. Владелец: Гербе. Дата публикации: 2004-07-20.

Benzoyl guanidines, method for their preparing, medicinal agent comprising thereof and method for treatment and prophylaxis of diseases

Номер патента: RU2267486C2. Автор: Хайнц-Вернер КЛЕЕМАНН,Ханс-Йохен ЛАНГ,Ханс-Вилли ЯНСЕН,Андреас ВАЙХЕРТ,Удо АЛЬБУС,Андреас ВАЙХЕРТ (DE) ВАЙХЕРТ Андреас,Удо АЛЬБУС (DE) АЛЬБУС Удо,Ханс-Вилли ЯНСЕН (DE) ЯНСЕН Ханс-Вилли,Хайнц-Вернер КЛЕЕМАНН (DE) КЛЕЕМАНН Хайнц-Вернер,Ханс-Йохен ЛАНГ (DE) ЛАНГ Ханс-Йохен. Владелец: Авентис Фарма Дойчланд Гмбх. Дата публикации: 2006-01-10.

Derivatives of 2,3-benzodiazepine, methods for their preparing, pharmaceutical composition based on thereof and method for treatment

Номер патента: RU2243228C2. Автор: Дьюла ШИМИГ,Йожеф Баркоци,Андраш Эдьед,Карой Тиханьи,Золтан РАТКАИ,Золтан ГРЕФФ,Геза САБО,Габор ГИГЛЕР,Дьёрдь ЛЕВАИ,Аннамари ШИМО,Аннамария Шимо,Габор БЛАЖКО,МАРКО Бернадетт МАРТОННЕ. Владелец: Эгиш Дьедьсердьяр Рт.. Дата публикации: 2004-12-27.

Derivatives of benzopyrane substituted with secondary amines comprising tetrazole, method for their preparing and pharmaceutical compositions comprising thereof

Номер патента: RU2283312C2. Автор: Хонг ЛИМ,Донг-Ха ЛИ,Сун-Ок КИМ,Ин-Йоунг ЧОЙ,Сунг-Еун ЙОО,Кийу-Янг ЙИ,Сун-Кийунг ЛИ,Дзи-Хи СУХ,Нак-Дзеонг КИМ,Бийунг-Хо ЛИ,Хо-Вон СЕО,Хва-Суп ШИН,Хонг ЛИМ (KR),Донг-Ха ЛИ (KR),Сун-Ок КИМ (KR),Ин-Йоунг ЧОЙ (KR),Сунг-Еун ЙОО (KR),Кийу-Янг ЙИ (KR),Сун-Кийунг ЛИ (KR),Дзи-Хи СУХ (KR),Нак-Дзеонг КИМ (KR),Бийунг-Хо ЛИ (KR),Хо-Вон СЕО (KR),Хва-Суп ШИН (KR). Владелец: Донгбу Ханнонг Кемикал Ко., Лтд.. Дата публикации: 2006-09-10.

Method and system for manufacturing flexible transparent conductive film with embedded metal material

Номер патента: US20230345641A1. Автор: Quan Xu,Zhenghao Li,Jiawei ZHAO,Hongke Li,Xiaoyang Zhu,Hongbo Lan,Ximeng QI. Владелец: Qingdao 5D Intelligent Additive Manufacturing Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-26.

Tricyclic compounds, preparation methods, and their uses

Номер патента: US20140378487A1. Автор: Xiaomin Zhang,Zehong Wan,Kai Long,Eric Steven Manas,Zhaolong Tong,Krista Beaver Goodman,Saiah E. Dowdell. Владелец: Glaxo Group Ltd. Дата публикации: 2014-12-25.

Derivatives of benzothiadiazoles, benzoxadiazoles and benzodiazines, method for their preparing and pharmaceutical composition

Номер патента: RU2219177C2. Автор: Бернхард Петер НОЙМАНН. Владелец: НОВАРТИС АГ. Дата публикации: 2003-12-20.

Derivatives of nitrogen-containing heterocyclic compounds, methods for their preparing, pharmaceutical composition based on thereof and methods for treatment of inflammatory diseases and respiratory ways diseases

Номер патента: RU2265011C2. Автор: Томас Эрикссон,Петер ХАНСЕН,Томас КЛИНГСТЕДТ,Майкл БОДКИН,Мартин ХЕММЕРЛИНГ,Кристер ХЕНРИКССОН,Ларс ПЕТТЕРССОН,Томас ЭРИКССОН (SE),Майкл БОДКИН (GB),Петер ХАНСЕН (SE),Мартин ХЕММЕРЛИНГ (SE),Кристер ХЕНРИКССОН (SE),Томас КЛИНГСТЕДТ (SE),Ларс ПЕТТЕРССОН (SE). Владелец: Астразенека Аб. Дата публикации: 2005-11-27.

Diphenylazethidinones substituted with acidic groups, method for their preparing, medicinal agent comprising thereof and their using

Номер патента: RU2287522C2. Автор: Хайнер ГЛОМБИК,Вернер КРАМЕР,Штефани ФЛОР,Венделин ФРИК,Хуберт ХОЙЕР,Герхард ЙЕНЕ,Андреас ЛИНДЕНШМИДТ,Ханс-Людвиг ШЕФЕР. Владелец: Санофи-Авентис Дойчланд Гмбх. Дата публикации: 2006-11-20.

Biphenylsulfonylcyanamides, method for their preparing and their applying as drugs

Номер патента: RU2247111C2. Автор: Штефан ПЕТРИ,Хайнц-Вернер КЛЕЕМАНН,Ханс-Йохен ЛАНГ,Ян-Роберт ШВАРК,Ханс-Вилли ЯНСЕН,Андреас ВАЙХЕРТ,Сабине ФАБЕР. Владелец: Авентис Фарма Дойчланд Гмбх. Дата публикации: 2005-02-27.

Substituted derivatives of 2-pyridincyclohexane-1,4-diamine, method for their preparing and medicinal agent based on thereof

Номер патента: RU2287523C2. Автор: Хельмут БУШМАНН,Бернд ЗУНДЕРМАНН,Коринна МАУЛЬ,Барбара ХЕЛЛЕР. Владелец: Грюненталь Гмбх. Дата публикации: 2006-11-20.

Derivatives of quinuclidine, method for their preparing and pharmaceutical composition based on thereof

Номер патента: RU2282629C2. Автор: КИНЬОНЕС Мари ПРАТ,Киньонес Мария Прат,ФОРНЕР Мари Долорс ФЕРНАНДЕС,Форнер Мария Долорс Фернандес,АЛЬБЕРО Мари Антони БУИЛ,Альберо Мария Антония Буил. Владелец: Альмиралль Продесфарма Аг. Дата публикации: 2006-08-27.

New derivatives of lipoic acid, method for their preparing (variants), pharmaceutical composition

Номер патента: RU2233840C2. Автор: ДЕ ЛАССОНЬЕР Пьер-Этьенн ШАБРИЕ,Мишель ОГЕ,Джеремай ХАРНЕТ,Джеремайя ХАРНЕТ. Владелец: Сосьете Де Консей Де Решерш Э Д`Аппликасьон Сьентифик (С.К.Р.А.С.). Дата публикации: 2004-08-10.

Tricyclic compounds, methods for their preparing, pharmaceutical composition and treatment method

Номер патента: RU2213094C2. Автор: Юджин Джон ТРИБУЛЬСКИ,Альберт Джон МОЛИНАРИ,Марк Энтони ЭШВЕЛЛ,Джон Пол ДУЖА,Питер Синчун ЧЭН,Джей Дональд Олбрайт,Джехэн Фрэмроз БЭГЛИ,Амедео Артуро ФЭЙЛЛИ,Томас Джозеф КАДЖЯНО. Владелец: Американ Хоум Продактс Корпорейшн. Дата публикации: 2003-09-27.

Tricyclic δ piperidines, methods for their preparing and pharmaceutical composition based on thereof

Номер патента: RU2226194C2. Автор: Йозефус Каролус Мертенс,Мириелль БРАКЕН,Людо Эдмон Жозефин КЕННИС. Владелец: Янссен Фармацевтика Н.В.. Дата публикации: 2004-03-27.

Derivatives of azetidine, methods for their preparing, pharmaceutical composition and medicinal agent based on thereof

Номер патента: RU2230739C2. Автор: Эрве БУШАР,Серж МИНЬЯНИ,Жан-Люк МАЛЛЕРОН,Даниель Ашар,Жан Букерель,Серж Гризони,Огюстен ИТТЕНЖЕР,Марк КАПЕ. Владелец: Авентис Фарма С.А.. Дата публикации: 2004-06-20.

Fused polypeptide able for binding with vegf polypeptide and nucleic acid molecule encoding thereof, their preparing and using

Номер патента: RU2265661C2. Автор: Николас Дж. ПАПАДОПОУЛОС,Сэмюель ДЭВИС,Джордж Д. ЯНКОПОУЛОС. Владелец: Ридженерон Фармасьютикалз, Инк.. Дата публикации: 2005-12-10.

Tetrahydrofuran derivatives having cis substituent, their intermediates, and their preparation method

Номер патента: US7388101B1. Автор: Hyunah Choo,Ae Nim Pae,Kyung Il Choi,Yong Seo Cho,Joo Hwan Cha,Satish N. Chavre. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2008-06-17.

Substituted isoxazolines, method for their preparing, agent for protecting cereals against damaging effect of some herbicides as derivatives of phenoxypropionic acid and method for protecting cereals against phytotoxic adverse effect of some herbicides of phenoxypropionic acid, sulfonulurea, benzoylcyclohexanedione and benzoylisoxazole

Номер патента: RU2241705C2. Автор: Херманн БИРИНГЕР,Лотар ВИЛЬМС,Клаус БАУЕР. Владелец: Хехст Шеринг Агрево ГмбХ. Дата публикации: 2004-12-10.

Derivatives of 11-acetyl-12,13-dioxabicyclo[8,2,1]- tridecenone, method for their preparing and medicinal agent comprising these compounds

Номер патента: RU2218346C2. Автор: Ульф ПРОЙШОФФ,Даниель Жассеран,Кристиан Эккхаут. Владелец: Солвей Фармасьютикалс Гмбх. Дата публикации: 2003-12-10.

Piperazine derivatives, method for their preparing and composition comprising thereof

Номер патента: RU2208610C2. Автор: Жерар Муане,Доминик МАРИА,Дидье МЕСАНЖУ,Лиль на ДУАРЕ,Лильяна ДУАРЕ,Мишлина КЕРГОА. Владелец: Мерк Патент Гмбх. Дата публикации: 2003-07-20.

Purified dna polymerase, recombinant dna polymerase, methods for their preparing, isolated dna sequence and set for polymerase chain reaction

Номер патента: RU2221866C2. Автор: Вальтрауд АНКЕНБАУЕР,Урсула МАРКАУ,Кристине Эбенбихлер,Гунтар АХХАММЕР. Владелец: Роше Диагностикс Гмбх. Дата публикации: 2004-01-20.

Phenoxy(or phenylthio)-cyclohexane(or cyclopentane)carboxylic acid derivatives and their preparation

Номер патента: IL46790A. Автор: . Владелец: Sparamedica Ag. Дата публикации: 1976-05-31.

Compound that inhibits programmed cell necrosis, and preparation method therefor

Номер патента: EP4403557A1. Автор: Zhaoyin Wang,Zhimin ZHAO,Shuailong YANG. Владелец: Shanghai Institute of Organic Chemistry of CAS. Дата публикации: 2024-07-24.

Trichlorosilyl groups containing organochlorosilanes and their preparation methods by the double-silylation of olefins with trichlorosilane

Номер патента: US20040082803A1. Автор: Il Jung,Seung-Hyun Kang,Joon HAN,Bok Yoo. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2004-04-29.

Immunogenic polypeptide inducing protective immune response against bacillus anthracis (variants), method for its preparing, nucleic acid encoding thereof, expression vector (variants), method and vaccine for prophylaxis of infection caused by bacillus anthracis

Номер патента: RU2270865C2. Автор: Ричард Вилль м ТИТБОЛЛ,Ричард Вилльям ТИТБОЛЛ,Этел Дайан УИЛЛЬЯМСОН,Джули МИЛЛЕР,Никола Джейн УОЛКЕР,Лесли Вилль м Джеймс БЭЙЛЛИ,Лесли Вилльям Джеймс БЭЙЛЛИ,Паула Томсон ХОЛДЕН,Хелен Клэйр ФЛИК-СМИТ,Хелен Лайза БАЛЛИФЕНТ,Эндрю Вилль м ТОППИНГ,Эндрю Вилльям ТОППИНГ. Владелец: Дзе Секретэри Оф Стейт Фор Дефенс Дстл. Дата публикации: 2006-02-27.

New derivatives of n-(iminomethyl)amines, their preparing, their using as medicinal agents and pharmaceutical compositions containing thereof

Номер патента: RU2230742C2. Автор: Денни БИГГ,Серж ОВЭН,ДЕ ЛЯСОНЬЕР Пьер-Этьенн ШАБРИЕ,Жеремиа АРНЕТ,Жерар ЮЛИБАРРИ. Владелец: Сосьете Де Консей Де Решерш Э Д'Аппликасьон Сьентифик (С.К.Р.А.С.). Дата публикации: 2004-06-20.

Derivatives of piperidine, methods for their preparing, pharmaceutical composition based on thereof and intermediate substances

Номер патента: RU2220956C2. Автор: Ксавье ЭМОНД-АЛЬ,Патрик ГЮЭЛЬ,Жан Филипп ДЮКУ,Винченцо ПРОЕТТО. Владелец: Санофи-Синтелябо. Дата публикации: 2004-01-10.

Glucopyranosyloxypyrazole derivatives, pharmaceutical compositions containing these derivatives and intermediate compounds for their preparing

Номер патента: RU2232767C2. Автор: Хидеки ФУДЗИКУРА,Масахиро ХИРАТОТИ,Тосихиро НИСИМУРА,Кендзи КАЦУНО,Масаюки ИСАДЗИ,Акира ИЙОБЕ,Минору ФУДЗИОКА. Владелец: Киссеи Фармасьютикал Ко., Лтд.. Дата публикации: 2004-07-20.

Heterocyclic compound nitrate salts, method for their preparing and pharmaceutical composition based on thereof

Номер патента: RU2228331C2. Автор: СОЛДАТО Пьер ДЕЛ. Владелец: Никокс С.А.. Дата публикации: 2004-05-10.

Methods and compositions for preventing transmission of hiv infection

Номер патента: RU2594249C2. Автор: Грант Томас РОУЛИН,Дэмиан Фрэнсис Джон ПУРЦЕЛЛ,Роберт Джон СЕНТЕР,Марит КРАМСКИ,Рой Майкл РОБИНС-БРАУНИ,Готфрид ЛИХТИ. Владелец: Иммурон Лимитед. Дата публикации: 2016-08-10.

Method of preparing catalyst precursor, catalyst preparation method, and a process for production of hydrocarbons using thus prepared catalyst

Номер патента: RU2282500C2. Автор: Герардус Петрус Ламбертус НИСЕН,ВЛАНДЕРЕН Йоханнес Якобус Мария ВАН,Ханс Мишель ХЕЙСМАН,Герардус Петрус Ламбертус НИСЕН (NL),ВЛАНДЕРЕН Йоханнес Якобус Мари ВАН (NL),Ханс Мишель ХЕЙСМАН (NL). Владелец: Шелл Интернэшнл Рисерч Маатсхаппий Б.В.. Дата публикации: 2006-08-27.

Arylpiperazines, methods for their preparing, pharmaceutical composition

Номер патента: RU2220967C2. Автор: Дэвид УОТЕРСОН,Хауард ТАКЕР,Бернар Кристоф БАРЛААМ,Николас Джон НЬЮКОМ. Владелец: Астразенека Аб. Дата публикации: 2004-01-10.

Powdered lime composition, preparation method and use thereof

Номер патента: RU2425000C2. Автор: Ален Лоде,Амандин ГАМБЭН. Владелец: С.А. Луаст Решерш Э Девелопмен. Дата публикации: 2011-07-27.

Copper-substituted chromium oxide compositions, their preparation, and their use as catalysts and catalyst precursors

Номер патента: WO2007019356A3. Автор: Allen C Sievert,Velliyur Nott Mallikarjuna Rao,Shekhar Subramoney,H David Rosenfeld. Владелец: H David Rosenfeld. Дата публикации: 2007-04-05.

Five-membered non aromatic ring-pyrimidine hiv-1 reverse transcriptase inhibitor, preparation method therefor, and uses thereof

Номер патента: US20200361954A1. Автор: Peng Zhan,Zhao Wang,Xinyong LIU,Dongwei KANG,Gaoshan WU. Владелец: Shandong University. Дата публикации: 2020-11-19.

Ligands of Estrogen Receptors alpha and beta, Method of Their Preparation, and Pharmaceuticals Comprising Them

Номер патента: US20110118225A1. Автор: Petr Novak,Martin Kotora,Petr Bartunek,David Sedlak. Владелец: USTAV UORGANICKE CHEMIE A BIOCHEMIE AV CR VVI. Дата публикации: 2011-05-19.

LIGANDS OF ESTROGEN RECEPTORS α AND β, METHOD OF THEIR PREPARATION AND PHARMACEUTICALS COMPRISING THEM

Номер патента: WO2009135449A1. Автор: Petr Novak,Martin Kotora,Petr Bartunek,David Sedlak. Владелец: Prirodovedecka Fakulta Uk. Дата публикации: 2009-11-12.

Ligands of estrogen receptors and , method of their preparation and pharmaceuticals comprising them

Номер патента: EP2274316A1. Автор: Petr Novak,Martin Kotora,Petr Bartunek,David Sedlak. Владелец: Prirodovedecka fakulta Univezita Karlova Albertov 6. Дата публикации: 2011-01-19.

Vascularized islet and preparation method thereof

Номер патента: US20240228974A9. Автор: Zhuangzhuang YANG,Deling Kong,Hongmeng MA. Владелец: Nankai University. Дата публикации: 2024-07-11.

Vascularized islet and preparation method thereof

Номер патента: US20240132850A1. Автор: Zhuangzhuang YANG,Deling Kong,Hongmeng MA. Владелец: Nankai University. Дата публикации: 2024-04-25.

Preparation method for wear-resistant super-hydrophobic coating on surface of sampling needle

Номер патента: EP4088829A1. Автор: Lidong SUN,Kaiqi ZHAO. Владелец: Chongqing University. Дата публикации: 2022-11-16.

Aqueous formulation of oil-soluble corrosion inhibitor, and preparation method and regeneration method thereof

Номер патента: CA3196516A1. Автор: JUN Cao,WEN Chen,Jing Yan,Jingjing Jiang,Lihua Huang,Yishan HE,Yongfan TANG. Владелец: Petrochina Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-09.

Bis(silylpropyl)arenes and their preparation methods

Номер патента: US5523444A. Автор: Il N. Jung,Mi-Yeon Suk,Bong W. Lee,Sang K. Park. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 1996-06-04.

Intermediate of lycopene and preparation method of intermediate thereof

Номер патента: US20140005434A1. Автор: Xiaoyue Jiang,Weidong Ye,Luo LIU,Xuejun Lao,Runpu Shen,Xiaohua Song,Chunlei Wu,Chunlei LV. Владелец: Zhejiang Medicine Co Ltd Xinchang Pharmaceutical Factory. Дата публикации: 2014-01-02.

Aromatization catalyst, preparation method, regeneration method thereof, and aromatization method

Номер патента: US20210060540A1. Автор: Liang Zhao,Chunming Xu,Xiaoqin Wang,Jinsen Gao,Xiaoyu Wu,Tianzhen HAO,Di Gao,Lixia Dong,Liyuan CAO. Владелец: China University of Petroleum Beijing. Дата публикации: 2021-03-04.

Metal pattern forming method

Номер патента: US20090087570A1. Автор: Seiichi Inoue,Yasuhiko Maeda,Ken Kawata. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-04-02.

Surface treatment method and casting roll manufactured by the same

Номер патента: US20170129004A1. Автор: Sung Jin Park,Man Jin HA,Suk Kyun HWANG. Владелец: Posco Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-11.

Mask for vapor deposition apparatus, vapor deposition apparatus, vapor deposition method, and method for producing organic electroluminescence element

Номер патента: US09845530B2. Автор: Satoshi Inoue,Takashi Ochi,Masahiro Ichihara,Eiichi Matsumoto,Katsuhiro Kikuchi,Yuhki Kobayashi,Shinichi Kawato,Kazuki Matsunaga. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2017-12-19.

Vortioxetine salt and crystal thereof, their preparation method, pharmaceutical compositions and usage

Номер патента: US09562024B2. Автор: Xiaohong Sheng,Xiaoxia Sheng,Xiaoye Song. Владелец: Hangzhou Pushai Pharmaceutical Technology Co ltd. Дата публикации: 2017-02-07.

4-benzyl-1-phenethyl-piperazine-2,6-dione preparation method, and intermediate and preparation method thereof

Номер патента: US09527804B2. Автор: Hu Pan,Weiwei Xu,Fuli Zhang,Zhezhou YANG,Rusheng Bao,Dongming Jiang,Pengcheng Qiu,Linyong Jin,Linyu Pan. Владелец: Zhejiang Hisun Pharmaceutical Co Ltd. Дата публикации: 2016-12-27.

Gypsum compositions and methods for their preparing

Номер патента: RU2263644C2. Автор: Сринивас Веерамасунени,Квианг Ю,Фредерик Томас ДЖОУНС. Владелец: Юнайтед Стейтс Джипсум Компани. Дата публикации: 2005-11-10.

Cobalt based fisher-tropsh synthesis catalyst, its production method and its use

Номер патента: RU2661897C1. Автор: Дэчэн СУН,Сяодун ЧЖАНЬ,Цяньцянь ЛЮ,Шаша РАО,Голян ХАИ,Дашань ВАН,Чаньгиуань ЛИ. Владелец: Ухань Кайди Инджиниринг Текнолоджи Рисерч Инститьют Ко., Лтд.. Дата публикации: 2018-07-23.

Five-membered heterocyclic pyridine compounds and preparation method and use thereof

Номер патента: RU2668074C2. Автор: Цзинкан ШЭНЬ,Тао МЭН,Ланьпин МА,Цзянь ДИН,Ся ПЭН,Цзин Ай,Мэйюй ГЭН,Бин СЮ,Юйчи МА,Сю ВАН,Юэлэй ЧЭНЬ,Даньци ЧЭНЬ,Иньчунь ЦЗИ. Владелец: Шанхай Хайхе Фармасьютикал Ко., Лтд.. Дата публикации: 2018-09-26.

Taxanic compound, as well as preparation method and use thereof

Номер патента: RU2686459C1. Автор: Гочэн ВАН,Вэй ЧЖОУ,Юнфэн ВАН,Юньжун ЦЗИН. Владелец: Цзянсу Тасли Дии Фармасьютикал Ко., Лтд.. Дата публикации: 2019-04-26.

HETEROARYL[4,3-c]PYRIMIDINE-5-AMINE DERIVATIVE, ITS PREPARATION METHOD AND ITS MEDICAL APPLICATIONS

Номер патента: RU2764655C2. Автор: Вэйкан ТАО,Фэн Хэ,Шэнлань ВАН,Бяо ЛУ,Сяодун ШЭНЬ. Владелец: Цзянсу Хэнжуй Медицин Ко., Лтд.. Дата публикации: 2022-01-19.

Cobalt-based catalyst precursor preparation method and fischer-tropsch catalyst preparation method

Номер патента: RU2259234C2. Автор: БЕРГ Питер Джэйкобас ВАН,ДЕ ЛУСДРЕХТ Йен ВАН,Джэйкобас Лукас ВИСЭДЖИ. Владелец: Сэсол Текнолоджи (Проприетери) Лимитед. Дата публикации: 2005-08-27.

Method and apparatus to treat semiconductor substrate

Номер патента: US20200058487A1. Автор: Chung-Hao Chang,Chitong Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-02-20.

Methods and apparatus for controlling photoresist line width roughness with enhanced electron spin control

Номер патента: US09911582B2. Автор: AJAY Kumar,Kartik Ramaswamy,Banqiu Wu,Omkaram Nalamasu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-03-06.

Methods and apparatus for controlling photoresist line width roughness with enhanced electron spin control

Номер патента: US20160064197A1. Автор: AJAY Kumar,Kartik Ramaswamy,Banqiu Wu,Omkaram Nalamasu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-03-03.

Cold Forming Method for Forming Power Pins and Power Pin Formed Thereof

Номер патента: US20160336675A1. Автор: Manzhi Zhou,Guangdong Song. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-11-17.

Cold forming method for forming power pins and power pin formed thereof

Номер патента: US09634419B2. Автор: Manzhi Zhou,Guangdong Song. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-04-25.

Transferring method and apparatus for plate-shaped object and pattern-forming apparatus

Номер патента: TWI545027B. Автор: 川越理史,上野博之,正司和大,芝藤弥生,上野美佳,増市幹雄. Владелец: 斯克林集團公司. Дата публикации: 2016-08-11.

Quantum bit assembly, quantum bit assembly preparation method, chip, and device

Номер патента: EP4191693A1. Автор: HUI Wang,Chenji ZOU,Yarui ZHENG. Владелец: Tencent Technology Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-07.

Neodymium-iron-boron magnet material and preparation method therefor and use thereof, and motor

Номер патента: EP4421829A1. Автор: Chen Wang,Gang Fu,Deqin XU,Weiguo MOU,Zhigao Huang. Владелец: Fujian Golden Dragon Rare Earth Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-28.

DEPOSITION METHOD AND A DEPOSITION APPARATUS OF FINE PARTICLES, A FORMING METHOD AND A FORMING APPARATUS OF CARBON NANOTUBES, AND A SEMICONDUCTOR DEVICE AND A MANUFACTURING METHOD OF THE SAME

Номер патента: US20130109170A1. Автор: Awano Yuji,Shimizu Noriyoshi,Sato Shintaro. Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2013-05-02.

Method and device for adaptive antenna array beam pattern forming

Номер патента: KR100474707B1. Автор: 윤순영,천병진,알렉산드르브이.가르모노브,앤드류유.사빈코브,이고르브이.카유코브,블라디미르비.마넬리스. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2005-03-10.

Method and apparatus for stretching polymer film and solution film-forming method

Номер патента: KR101566202B1. Автор: 켄타로 타니무라. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2015-11-05.

Forming method and the teeth portion component manufactured according to the forming method

Номер патента: CN104582874B. Автор: S.吕施,L.韦特劳. Владелец: VOLKSWAGEN AG. Дата публикации: 2017-08-11.

IMAGE FORMING APPARATUS USING A PRE-PROCESSING LIQUID AND A POST-PROCESSING LIQUID, AND AN IMAGE FORMING METHOD USING A PRE-PROCESSING LIQUID AND A POST-PROCESSING LIQUID

Номер патента: US20130293645A1. Автор: SUZUKI Yoshinari,NIINO Yukihito,YASU Kazuki. Владелец: . Дата публикации: 2013-11-07.

Image forming apparatus using a pre-processing liquid and a post-processing liquid, and an image forming method using a pre-processing liquid and a post-processing liquid

Номер патента: US9840092B2. Автор: Seiya Murata,Yoshinari Suzuki,Kazuki Yasu,Yukihito NIINO. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-12.

Pattern forming method, semiconductor memory device, and method of manufacturing the same

Номер патента: US20240266170A1. Автор: Donghwan Lee,Wonchul Lee,Kanguk KIM,Seokhyun Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-08.

Field effect transistor, preparation method thereof, and electronic circuit

Номер патента: US20240213322A1. Автор: Hui Sun,Hongsheng YI,Biao Gao,Haolin Hu. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Forming method for floating contact hole, and semiconductor device

Номер патента: EP4401119A1. Автор: Song Zhang,Wenming Zhu,Qun Liu,Yaohui ZHOU,Dejin Wang. Владелец: CSMC Technologies Fab2 Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-17.

Forming method for floating contact hole, and semiconductor device

Номер патента: US20240290846A1. Автор: Song Zhang,Wenming Zhu,Qun Liu,Yaohui ZHOU,Dejin Wang. Владелец: CSMC Technologies Fab2 Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Silicon carbide trench schottky barrier diode using polysilicon and a method of manufacturing the same

Номер патента: US20200098936A1. Автор: Hyoung Woo Kim,Sang Cheol Kim,In Ho Kang,Jeong Hyun Moon,O Gyun Seok,Moon Kyong Na,Wook Bang. Владелец: Korea Electrotechnology Research Institute KERI. Дата публикации: 2020-03-26.

Silicon carbide trench schottky barrier diode using polysilicon and a method of manufacturing the same

Номер патента: US11121265B2. Автор: Hyoung Woo Kim,Sang Cheol Kim,In Ho Kang,Jeong Hyun Moon,O Gyun Seok,Moon Kyong Na,Wook Bang. Владелец: Korea Electrotechnology Research Institute KERI. Дата публикации: 2021-09-14.

Conductor pattern forming method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US09466485B2. Автор: Keita Torii. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-10-11.

Apparatus for hard baking photoresist pattern

Номер патента: US20020030046A1. Автор: Se-Jin Jang. Владелец: Hyundai Electronics Industries Co Ltd. Дата публикации: 2002-03-14.

Preparation method of poly-silicon TFT array substrate and array substrate thereof

Номер патента: US09653496B2. Автор: Jing NIU,Zhijun LV,Fangzhen Zhang,Shuang Sun. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-16.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20160268140A1. Автор: Shunichi Mikami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-15.

Hole pattern forming method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20090093120A1. Автор: Toshiyuki Hirota. Владелец: Elpida Memory Inc. Дата публикации: 2009-04-09.

Method and structure for improving the gate resistance of a closed cell trench power mosfet

Номер патента: WO2005024903A3. Автор: Ali Salih,John E Amato,Badredin Fatemizadeh,Shamsul A Khan. Владелец: Shamsul A Khan. Дата публикации: 2005-09-01.

Method and structure for improving the gate resistance of a closed cell trench power mosfet

Номер патента: WO2005024903A2. Автор: John E. Amato,Ali Salih,Badredin Fatemizadeh,Shamsul A. Khan. Владелец: Power-One Limited. Дата публикации: 2005-03-17.

Methods and Structures Involving Terminal Connections

Номер патента: US20120168210A1. Автор: Terence B. Hook,Vidhya Ramachandran. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2012-07-05.

Methods and apparatus for alignment marks

Номер патента: US09899334B1. Автор: Fuchao Wang,Dongping Zhang,Billy Alan WOFFORD,Prakash Dalpatbhai Dev,Dina Rodriguez. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2018-02-20.

Complementary thin film transistor driving back plate and preparing method thereof, and display device

Номер патента: US09647014B2. Автор: Gang Wang,Xiaodi LIU. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-09.

Preparation method of patterned film, display substrate and display device

Номер патента: US09445506B2. Автор: LIN Li,SHAN CHANG,Chen Tang,Yangyang Xin. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-13.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US09524876B2. Автор: Masanobu Honda,Toru Hisamatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-20.

Improved methods and apparatus for controlled partial ashing in a variable-gap plasma processing chamber

Номер патента: WO1998042014A1. Автор: David M. Bullock. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 1998-09-24.

Substrate preparation method for a mems fabrication process

Номер патента: US20080053954A1. Автор: Kia Silverbrook. Владелец: SILVERBROOK RESEARCH PTY LTD. Дата публикации: 2008-03-06.

Method and system for providing electrical insulation for local interconnect in a logic circuit

Номер патента: US20010014527A1. Автор: Fei Wang,Sunil Mehta,Stewart Logie,William George En. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-08-16.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20150206715A1. Автор: Takayuki Ishii,Ryoichi Yoshida,Ken Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-07-23.

Semiconductor device and manufacturing method and testing method of the same

Номер патента: US20030062623A1. Автор: Akio Inohara,Hirokazu Yoshida,Atsushi Ono,Makoto Kanda,Motoji Shiota,Yasunori Chikawa,Satoru Tone,Norimitsu Nie. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2003-04-03.

Preparation method for power diode

Номер патента: US09502534B2. Автор: Shengrong Zhong,Dongfei Zhou,Xiaoshe Deng,Genyi Wang. Владелец: CSMC Technologies Fab1 Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-22.

Method and apparatus for producing grating, and DFB solid-state dye laser based on the grating

Номер патента: US20080165820A1. Автор: Makoto Fukuda. Владелец: Minebea Co Ltd. Дата публикации: 2008-07-10.

Method and system for making and cleaning semiconductor device

Номер патента: US8673764B1. Автор: Zhugen Yuan. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Corp. Дата публикации: 2014-03-18.

Thin-film transistor substrate manufacturing method and thin-film transistor substrate manufactured with same

Номер патента: US20170256421A1. Автор: Yang Liu. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-07.

Thin-film transistor substrate manufacturing method and thin-film transistor substrate manufactured with same

Номер патента: US9881811B2. Автор: Yang Liu. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-30.

Tea composition comprising cyclocarya paliurus and preparation method and uses thereof

Номер патента: US20170173101A1. Автор: Xia Zheng,Zhen Luo,Chung Wah MA,Xiaolei Guo. Владелец: Infinitus China Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-22.

A method of manufacturing a silicon bipolar junction transistor, and a bjt

Номер патента: EP4398310A1. Автор: Patrick SEBEL,Jay Paul John,James Albert Kirchgessner. Владелец: NXP BV. Дата публикации: 2024-07-10.

Methods and systems for controlling critical dimensions in track lithography tools

Номер патента: US20090275149A1. Автор: Nikolaos Bekiaris,Timothy Michaelson. Владелец: Screen Semiconductor Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2009-11-05.

Method of manufacturing a silicon bipolar junction transistor, and a bjt

Номер патента: US20240234552A1. Автор: Patrick SEBEL,Jay Paul John,James Albert Kirchgessner. Владелец: NXP BV. Дата публикации: 2024-07-11.

Pattern forming method and semiconductor device manufacturing method using the same

Номер патента: US09941285B2. Автор: Jae-Houb CHUN,Jeong-Sub LIM. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2018-04-10.

Semiconductor device and a method of manufacturing the same

Номер патента: US09899316B2. Автор: Katsuhiko Hotta,Kyoko Sasahara. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2018-02-20.

Method and compositions for hardening photoresist in etching processes

Номер патента: US20040079727A1. Автор: Chris Lee,Yousun Taylor,Wendy Nguyen. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2004-04-29.

Oxide film removing method, oxide film removing apparatus, contact forming method, and contact forming system

Номер патента: US09984892B2. Автор: Takashi Kobayashi,Seishi Murakami,Takashi Sakuma,Akitaka Shimizu,Einosuke Tsuda,Masahiko Tomita,Takamichi Kikuchi,Takayuki Kamaishi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-29.

Photoresist removal method and patterning process utilizing the same

Номер патента: US20130210237A1. Автор: Yuan-Chi Pai,Hung-Yi Wu,Yu-Wei Cheng,Chang-Mao Wang. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2013-08-15.

Pattern forming method and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20220084833A1. Автор: Hironobu Sato,Yoshihiro Naka. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2022-03-17.

Pattern forming method and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11024510B2. Автор: Tsubasa IMAMURA. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2021-06-01.

Selective Etching Method and Method for Forming an Isolation Structure of a Memory Device

Номер патента: US20100167494A1. Автор: Dae Jin Park. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2010-07-01.

Manufacturing method of semiconductor structure including planarizing a polysilicon layer over an array area and a periphery area

Номер патента: US09754788B2. Автор: Boon-Tiong Neo,Han-Chuan Fang,Ji-Gang PAN. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-09-05.

Methods for fabricating capacitor structures using a photoresist layer

Номер патента: US5879984A. Автор: Jong-Jin Lee,Yun-Seung Shin. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 1999-03-09.

Method and structure for improving the gate resistance of a closed cell trench power MOSFET

Номер патента: US20050040459A1. Автор: Ali Salih,John Amato,Badredin Fatemizadeh,Shamsul Khan. Владелец: POWER-ONE Ltd. Дата публикации: 2005-02-24.

Image forming apparatus, image forming method, pattern forming method and recording medium

Номер патента: US8628165B2. Автор: Takayuki Ito. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2014-01-14.

Radioactive chitosan complex having an improved stabilized gelatin in administering them to the body and their preparation method

Номер патента: WO2006059879A1. Автор: Kyung-bae Park,Dong-Hyuk Shin,Jei-Man Ryu,Seung-Kyoo Seong,Hee-Bog Yang,Eun-Jung Bae,Young-Jun Song,Byung-Chul Shin. Владелец: Dong Wha Pharm. Ind. Co., Ltd.. Дата публикации: 2006-06-08.

Cover for a Photoresist Container

Номер патента: US20100078434A1. Автор: Te-San Chen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-04-01.

Radionuclide-Chitosan Complex Having an Improved Stablilized Gelatin in Administering Them to the Body and Their Preparation Method

Номер патента: US20080166297A1. Автор: Kyung-bae Park,Dong-Hyuk Shin,Jei-Man Ryu,Seung-Kyoo Seong,Hee-Bog Yang,Eun-Jung Bae,Young-Jun Song,Byung-Chul Shin. Владелец: Dong Wha Pharm Ind Co Ltd. Дата публикации: 2008-07-10.

Hard mask composition, carbon nanotube layer structure, pattern forming method, and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US09892915B2. Автор: Seung Hyun Lee,Yool Kang,Yun Seok Choi,Seung Yun Yang,Yi Seul Kim,Kyoung Sil PARK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-02-13.

Tablets for resolution and method for their preparing

Номер патента: RU2321389C2. Автор: ФЕРРАН Хавьер СЕГАДО. Владелец: Вита Сьентифика, С.Л.. Дата публикации: 2008-04-10.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20150332929A1. Автор: Masanobu Honda,Toru Hisamatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-11-19.

Sublimation-dried aerated milk or milk-substituting compositions and their preparation methods

Номер патента: RU2491823C2. Автор: Скотт Питерсон,Фрэнк Вэлч,Томас Буркхолдер,Норман ДЖЕЙДЖЕР,Джованна ОЛМАН. Владелец: НЕСТЕК С.А.. Дата публикации: 2013-09-10.

Forming an oxide piezoelectric element(s) and upper electrode layer(s) of an inkjet printhead microactuator using a photoresist film(s) and etching process

Номер патента: GB2345884A. Автор: Il Kim. Владелец: Samsung Electro Mechanics Co Ltd. Дата публикации: 2000-07-26.

Complementary silicon-insulator-semiconductor field effect transis tor integrated circuit and a method for its manufacture

Номер патента: GB1363581A. Автор: . Владелец: Hughes Aircraft Co. Дата публикации: 1974-08-14.

Device for removing a stopper of a photoresist bottle

Номер патента: US20100071513A1. Автор: Ming Chou Wang. Владелец: Inotera Memories Inc. Дата публикации: 2010-03-25.

Method and apparatus to fabricate an on-chip decoupling capacitor

Номер патента: US20040061197A1. Автор: Christopher Thomas,Bruce Block. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2004-04-01.

Liquid dairy products enriched with milk minerals and their preparation methods

Номер патента: RU2759755C2. Автор: Брюс Эдвард КЭМПБЕЛЛ,Лиза Энн ДИРБАХ,Тимоти Дэвид НАЙТ,Энтони Уильям КРИЗИС,Дженнифер Луиз КИММЕЛЬ,Джозеф Майкл ШУЕРМАН. Владелец: Конинклейке Дауве Эгбертс Б.В.. Дата публикации: 2021-11-17.

Multistructured ready for consumption grain flakes and their preparation method

Номер патента: RU2488281C2. Автор: Джеймс УИТМЭН,Вольфганг ДЕМЕЛТ,Пол НЬЮМАНН,Бринда ГОВИНДАРАДЖАН,Висвас М. ГХОРПАДЕ,Тамила УИЛЬЯМС. Владелец: Келлог Компэни. Дата публикации: 2013-07-27.

Method and system for providing electrical insulation for local interconnect in a logic circuit

Номер патента: US5956610A. Автор: Fei Wang,Sunil Mehta,William George En,Stewart Gordon Logie. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 1999-09-21.

Decolourized preparations containing formed elements of blood, process for their preparation as well as food- and feed-additives containing the same and processes for preparation of the latter

Номер патента: WO1986005361A1. Автор: Eva Somfai,Laszlo Almasi,Istvan Hutas,Arpad Fazekas,Sandor Harmath. Владелец: Fazekas Arpad. Дата публикации: 1986-09-25.

Colloidal microcrystalline cellulose compositions, their preparation and products

Номер патента: US20180369394A1. Автор: HONG Yang,Toh Mei Yan Joyce,Kevin Stokes,Simon EUSTACE,Jeremy ONDOV,Aaron Chip Venables. Владелец: DuPont Nutrition USA Inc. Дата публикации: 2018-12-27.

New conjugates of polysaccharide with protein and their preparation method

Номер патента: RU2758090C2. Автор: Ракеш РАНА,Джунед ДАЛАЛ,Манодж Кумар ЧХИКАРА,Девиндер Джилл. Владелец: Мсд Уэлком Траст Хиллеман Лабораторис Пвт. Лтд.. Дата публикации: 2021-10-26.

Method and apparatus for providing interconnection between metallization layers on semiconductors devices

Номер патента: US4963510A. Автор: Bobby A. Roane. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1990-10-16.

Pesticidal compositions, their preparation and their use

Номер патента: IE48020B1. Автор: . Владелец: Shell Int Research. Дата публикации: 1984-09-05.

Tubers treatment method and device for its implementation

Номер патента: RU2605342C2. Автор: Андрей Сергеевич Иванов,Олег Анатольевич Морозов,Николай Иванович Смолин,Андрей Николаевич Верещагин. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Государственный аграрный университет Северного Зауралья". Дата публикации: 2016-12-20.

Stable polyphenol-based solution compositions, and methods and systems for their preparation

Номер патента: CA2619193A1. Автор: John E. Kulesza. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-07-31.

Oligosaccharide compositions for use as food ingredients and their preparation methods

Номер патента: RU2767077C2. Автор: Джон М. ДЖЕРЕМИЯ,Раффи МАРДИРОСЯН,Майкл Дж. ГИДДИНГ. Владелец: Кадена Байо, Инк.. Дата публикации: 2022-03-16.

Pattern forming method, electronic wiring substrate, and optical device

Номер патента: US09596758B2. Автор: Takeichi Tatsuta. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-03-14.

Liquid dispersion polymeric compositions, their preparing and using

Номер патента: RU2233150C2. Автор: Михаэл ГРИН,Элеанор Бернис РИДЛЕЙ,Двейн Эрик ГЕВИН. Владелец: Циба Спешиалти Кемикалз Холдинг Инк.. Дата публикации: 2004-07-27.

Suspension microstructure and a fabrication method for the same

Номер патента: US20090243084A1. Автор: Siew-Seong Tan. Владелец: MEMSMART Semiconductor Corp. Дата публикации: 2009-10-01.

Semiconductor device manufacturing method and design support apparatus

Номер патента: US20100190327A1. Автор: Yuji Setta. Владелец: Fujitsu Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2010-07-29.

Pattern forming method, semiconductor device manufacturing apparatus and storage medium

Номер патента: US20090176374A1. Автор: Teruyuki Hayashi,Akitake Tamura,Kaoru Fujihara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-07-09.

Metal pattern forming method

Номер патента: US20230028779A1. Автор: Kenji Ichikawa,Eijiro Iwase. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-01-26.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: EP4421850A1. Автор: Takayoshi Tanaka,Tomoya Tanaka,Masayuki Otsuji,Akihisa Iwasaki,Ryuta Tsukahara. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-28.

Semiconductor device having hard mask structure and fine pattern and forming method thereof

Номер патента: US09437444B2. Автор: Sung-Kwon Lee,Ho-Jin Jung,Jun-Hyeub Sun,Chun-Hee Lee. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2016-09-06.

Cellulose fibres splitting method and device, fibrous mass treatment method in production of paper, paper drying method and paper product containing split fibres

Номер патента: RU2618470C2. Автор: Реййо К. САЛМИНЕН. Владелец: Реййо К. САЛМИНЕН. Дата публикации: 2017-05-03.

Method and device for gas-dynamic acceleration of massive bodies to high speed

Номер патента: RU2689056C1. Автор: Валерий Иванович Звегинцев,Сергей Михайлович Фролов,Владислав Сергеевич Иванов,Сергей Александрович Набатников,Егор Яковлевич Брагунцов. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Новые физические принципы". Дата публикации: 2019-05-23.

Fermentation starter preparation method

Номер патента: RU2698979C1. Автор: Лидия Александровна Мирошниченко,Ольга Сергеевна Корнеева,Галина Павловна Шуваева. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Русская Олива" (ООО "Русская Олива"). Дата публикации: 2019-09-02.

Granules for pharmaceutical preparations, methods and apparatus for production thereof

Номер патента: RU2584349C2. Автор: Криллес Каспер ЛАРСЕН,Карстен ХОАЙ-МОЛЛЕР,Йорген ВИТТЕНДОРФ,Брижит НИССЕН,Кеннет Манби ПЕДЕРСЕН,Туе ХАНСЕН,Хелле ПОУЛЬСЕН. Владелец: Ферринг Б.В.. Дата публикации: 2016-05-20.

Radio terminal, radio base station, channel signal forming method and channel signal receiving method

Номер патента: RU2521089C2. Автор: Акихико НИСИО,Даити ИМАМУРА,Сейго НАКАО. Владелец: ПАНАСОНИК КОРПОРЭЙШН. Дата публикации: 2014-06-27.

Preparation method of double-t-shaped gate based on double-layer passivation accurate etching

Номер патента: US20230378280A1. Автор: Guoqiang Li,Wenliang Wang,Shanjie LI,Zhiheng XING,Nengtao WU. Владелец: South China University of Technology SCUT. Дата публикации: 2023-11-23.

Parallel-type membrane emulsification method and device for preparing biodegradable polymer microspheres, and injection formulation preparation method using same

Номер патента: EP4393482A1. Автор: Minwook JEONG. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-07-03.

Composition for degradable joint balloon and use thereof, and degradable joint balloon and preparation method therefor

Номер патента: EP4368216A1. Автор: Wenxing Dong,Yuanyuan QU. Владелец: Star Sports Medicine Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-15.

Substrate treating method and substrate treating apparatus

Номер патента: US11133175B2. Автор: Yuta Sasaki,Yosuke Hanawa,Dai Ueda. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2021-09-28.

A chewable tablet with calcium and vitamin D and preparation method thereof

Номер патента: AU2021104464A4. Автор: Yue Wu. Владелец: Super Foods New Zealand Ltd. Дата публикации: 2021-09-16.

Oxygen cocktail preparation method and device

Номер патента: RU2723185C1. Автор: Евгений Анатольевич Кондрашкин. Владелец: Евгений Анатольевич Кондрашкин. Дата публикации: 2020-06-09.

Oxygen cocktail preparation method and device

Номер патента: RU2739598C1. Автор: Евгений Анатольевич Кондрашкин. Владелец: Евгений Анатольевич Кондрашкин. Дата публикации: 2020-12-28.

Whey protein composition, methods and application

Номер патента: RU2477612C2. Автор: Мари-Луиза МАТЕУС,Паскалин ХЁБЛЕР,Николя ОРИУ,Петер ФРАНКХАУЗЕР. Владелец: НЕСТЕК С.А.. Дата публикации: 2013-03-20.

Etching Method and Apparatus

Номер патента: US20130072013A1. Автор: Ying Zhang,Chien-An Chen,Shih-Hung Chen,Ying Xiao. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2013-03-21.

METHOD AND SYSTEM FOR A PHOTORESIST-BASED IMMUNOISOLATIVE MICROCONTAINER WITH NANOSLOTS DEFINED BY NANOIMPRINT LITHOGRAPHY

Номер патента: US20120148654A1. Автор: Gimi Barjor,Hu Wenchuang,Lee Jeong-Bong. Владелец: . Дата публикации: 2012-06-14.

New thrombin inhibitors, their preparing and applying

Номер патента: RU2262508C2. Автор: Давид ГУСТАФССОН,Ян-Эрик НЮСТРЁМ. Владелец: Астразенека Аб. Дата публикации: 2005-10-20.

Improved method and means forthe colouring of plastics in patterned form

Номер патента: AU246945B2. Автор: Enterprises Limited Photostatic. Владелец: Individual. Дата публикации: 1960-10-13.

Improved method and means forthe colouring of plastics in patterned form

Номер патента: AU4768959A. Автор: Enterprises Limited Photostatic. Владелец: Individual. Дата публикации: 1960-10-13.

A positive photosensitive composition, a polymer compound used in the positive photosensitive composition, a method for producing the polymer compound, a compound used in the production of the polymer compound, and a positive photosensitive composition thereof Pattern forming method used

Номер патента: JP5183133B2. Автор: 貴之 加藤,明規 渋谷. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2013-04-17.

Thiol esters, process for their preparation, pharmaceutical compositions containing them and a process for preparing cephalosporin compounds using the same

Номер патента: DE2962491D1. Автор: Takumi Sano,Kunihiko Ishii,Torao Ishida,Mitsuru Shibukawa,Chisei Shibuya. Владелец: Asahi Kasei Kogyo KK. Дата публикации: 1982-05-27.

Method and equipment used for data processing in pattern forming device

Номер патента: JPS6381571A. Автор: Kunihiko Tsuboi,坪井　邦彦. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1988-04-12.

Different impedance series immunological micro ball and preparing method, method and device for detecting the same

Номер патента: CN1312477C. Автор: 李国辉,杨莉萍,王占科,胡新勇,祝仲珍,柴长春,冯青青,雷万生. Владелец: 王占科. Дата публикации: 2007-04-25.

Toner for developing electrostatic image, manufacturing method and manufacturing apparatus, developer, toner container, process cartridge, image forming method, and image forming apparatus

Номер патента: JP5060090B2. Автор: 千秋 田中,信一 倉本,伸二 大谷,竜太 井上,雅之 石井,義浩 法兼. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2012-10-31.

Slot forming method and method of supporting earth retaining body in slot forming method

Номер патента: JP3154962B2. Автор: 孝夫 種田. Владелец: 北日本建材リース株式会社. Дата публикации: 2001-04-09.

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING MATERIAL, AND PHOTOSENSITIVE FILM, PATTERN FORMING METHOD, PATTERN FILM, LOW REFRACTIVE INDEX FILM, OPTICAL DEVICE AND SOLID-STATE IMAGING DEVICE EACH USING THE SAME

Номер патента: US20120003436A1. Автор: . Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20120003590A1. Автор: . Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING MATERIAL AND PHOTOSENSITIVE FILM USING THE SAME, PATTERN FORMING METHOD, PATTERN FILM, ANTIREFLECTION FILM, INSULATING FILM, OPTICAL DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE

Номер патента: US20120003437A1. Автор: Kodama Kunihiko,WADA Kenji,OHTA Masaki. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM FOR REPAIRING FLAT PANEL DISPLAY

Номер патента: US20120002155A1. Автор: . Владелец: INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR IMPROVING GATE CONTACT

Номер патента: US20120001259A1. Автор: ZHU Ming,Young Bao-Ru,Chuang Harry Hak-Lay,Wu Wei Cheng,Chung Sheng-Chen,Ng Jin-Aun,YOU Kai-Shyang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

The polymorph forms of 4-anilinoquinazoline derivatives, the preparation methods and uses thereof

Номер патента: US20120004249A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION

Номер патента: US20120003583A1. Автор: TSUBAKI Hideaki,Tsuchimura Tomotaka,TAKAHASHI Toshiya. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

Method for etching a photoresist layer

Номер патента: RU2318231C2. Автор: Тагир Абдурашидович Исмаилов,Бийке Алиевна Шангереева,Айшат Расуловна Шахмаева. Владелец: Государственное Образовательное Учреждение Высшего Профессионального Образования "Дагестанский Государственный Технический Университет" (Дгту). Дата публикации: 2008-02-27.

Derivatives of pyrazine or their salts, pharmaceutical composition containing these compounds and intermediate compounds for their preparing

Номер патента: RU2297414C2. Автор: Йоусуке ФУРУТА,Кендзи ЙОНЕЗАВА,Дзун СУГИТА,Хироюки ЕГАВА,Саюри УЕХАРА,Соити ХАМАМОТО,Кендзи ЙОНЕЗАВА (JP),Хироюки ЕГАВА (JP),Йоусуке ФУРУТА (JP),Дзун СУГИТА (JP),Саюри УЕХАРА (JP),Соити ХАМАМОТО (JP). Владелец: Тояма Кемикал Ко., Лтд.. Дата публикации: 2007-04-20.

Carbon nanostructure preparation method

Номер патента: RU2319663C1. Автор: Алексей Викторович Нащекин,Владимир Викторович Шнитов,Валерий Михайлович Микушкин,Юрий Сергеевич Гордеев,Владимир Николаевич Неведомский. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Петротип". Дата публикации: 2008-03-20.

Physiologically active composition, substituted 1-oxo-1,2-dihydro[2,7]naphthyridines, method for their preparing, using and set

Номер патента: RU2267491C1. Автор: Александр Васильевич Иващенко,Сергей Евгеньевич Ткаченко,Иль Матусович Окунь,Илья Матусович Окунь,Юрий Владимирович Иванов,Владимир Михайлович Кисель,Александр Викторович Хват,Владимир Юрьевич Введенский. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Исследовательский Институт Химического Разнообразия" (ООО "Исследовательский Институт Химического Разнообразия"). Дата публикации: 2006-01-10.

Inclusion complexes of butylphthalide with cyclodextrin or its derivatives, method for their preparing and their using

Номер патента: RU2285696C2. Автор: Чао ЛЮ,Чжань-ци НЮ,Кай ЧЖАО,Вэнь-цзюань ЛЮ,Гуй-жун ЧЖОУ,Жун-дуань ВАН,Хун-чжун ЮАНЬ,Вэнь-минь ГО,Суй-чао ЯНЬ,Минь БАЙ. Владелец: Шицзячжуан Фарма, Груп Чжунци Фармасьютикал Текнолоджи (Шицзячжуан) Ко., Лтд.. Дата публикации: 2006-10-20.

Complexes of pectin biopolymer with dicarboxylic acids and method for their preparing

Номер патента: RU2268267C1. Автор: Владимир Федорович Миронов,Наталь Константиновна Романова,Наталья Константиновна Романова,Надежда Николаевна Симонова,Лариса Алексеевна Костина,Алла Николаевна Карасева,Салима Тахиатулловна Минзанова,Антон Зуфарович Миндубаев,Василий Федорович Карлин. Владелец: Институт органической и физической химии им. А.Е. Арбузова Казанского научного центра РАН (ИОФХ КНЦ РАН). Дата публикации: 2006-01-20.

Derivatives of 3-aminomethylquinolone-2 as inhibitors of no-synthetase and method for their preparing, biologically active compounds and pharmaceutical composition based on thereof

Номер патента: RU2267485C2. Автор: Александр Николаевич Соловьев,Валерий Сергеевич Кочубей,Дмитрий Владимирович Генис,Михаил Алексеевич Кирпиченок,Олег Геннадьевич Родин,Владимир Николаевич Саеков. Владелец: Общество С Ограниченной Ответственностью "Асинэкс Медхим". Дата публикации: 2006-01-10.

IMAGE FORMING APPARATUS AND IMAGE FORMING METHOD

Номер патента: US20120002982A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE FORMING APPARATUS AND IMAGE FORMING METHOD

Номер патента: US20120002990A1. Автор: TAKEUCHI Toshifumi. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM USING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD

Номер патента: US20120003586A1. Автор: . Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

Derivatives of platinum tetrachloride and method for their preparing

Номер патента: RU2245328C1. Автор: Б.С. Федоров,М.А. Фадеев,Н.П. Коновалова,Г.И. Козуб,Л.М. Волкова,Б.С. Федоров (RU),Г.И. Козуб (RU),Н.П. Коновалова (RU),Л.М. Волкова (RU),М.А. Фадеев (RU). Владелец: Институт проблем химической физики Российской академии наук (ИПХФ РАН). Дата публикации: 2005-01-27.

Substituted 1-(pyridinyl-)-2-phenoxyethanols-1, method for their preparing and fungicide composition based on thereof

Номер патента: RU2248351C1. Автор: В.В. Захарычев,А.В. Кузенков. Владелец: Российский химико-технологический университет им. Д.И. Менделеева. Дата публикации: 2005-03-20.

1,2,3-tris-{[aminopoly(ethyleneamino)ethylammonio]-methylcarbonyloxypoly(alkyleneoxy)]}propane trichlorides possessing fungicide activity, property of emulsifier of cationic bitumen emulsion, capacity to enhance adhesion of bitumen to mineral materials and method for their preparing

Номер патента: RU2284317C1. Автор: Геннадий Васильевич Романов,Аркадий Васильевич Иванов,Павел Сагитович Фахретдинов,Алексей Константинович Чулков,Ильдар Мухаматнурович Нуриев,Валентина Степановна Угрюмова,Абдулхамит Зарипович Равилов. Владелец: Всероссийский научный исследовательский ветеринарный институт (ВНИВИ). Дата публикации: 2006-09-27.

1,2-dihydropyridine compounds, method for their preparing and their using

Номер патента: RU2265015C2. Автор: Синдзи Хатакеяма,Йосихико НОРИМИНЕ,Коки КАВАНО,Коити ИТО,Сатоси НАГАТО,Йосио УРАВА,Хироюки НАКА,Кохси УЕНО,Такахиса ХАНАДА,Хироюки АМИНО,Макото ОГО,Масатака УЕНО,Энтони Джон ГРУМ,Лианн РИВЕРЗ,Теренс СМИТ. Владелец: Эйсай Ко., Лтд.. Дата публикации: 2005-11-27.

Derivatives of platinum tetrachloride and method for their preparing

Номер патента: RU2241713C1. Автор: Б.С. Федоров,М.А. Фадеев,Н.П. Коновалова,Г.И. Козуб,Л.М. Волкова. Владелец: Институт проблем химической физики РАН. Дата публикации: 2004-12-10.

N,n-dimethyl-n-benzyl-n-[alkoxypoly(ethylene-oxy)carbonylmethyl]ammonium chlorides eliciting bactericidal activity and method for their preparing

Номер патента: RU2223261C2. Автор: Г.В. Романов,А.З. Равилов,П.С. Фахретдинов,В.С. Угрюмова,И.Р. Мизипов,М.Н. Мукминов,И.Г. Гатиатуллин,Л.С. Хуснутдинова,Е.Л. Матвеева,М.Р. Зарипов. Владелец: Институт органической и физической химии им. А.Е. Арбузова КНЦ РАН. Дата публикации: 2004-02-10.

"sichenik fish cutlets ukrainian-style" preserve preparation method

Номер патента: RU2348279C1. Автор: Олег Иванович Квасенков. Владелец: Олег Иванович Квасенков. Дата публикации: 2009-03-10.

α- OR β-CRYSTALLINE MODIFICATIONS OF 5'-DESOXY-N4-CARBOPENTYLOXY-5-FLUOROCYTIDINE, PREPARATION METHOD THEREOF AND PHARMACEUTICAL COMPOSITIONS BASED ON SAID COMPOUNDS

Номер патента: RU2393164C1. Автор: Андрей Сергеевич Иванов,Владимир Егорович Федоров,Сергей Владимирович Перминов,Юрий Владимирович Скорняков,Анатолий Геннадьевич Смирнов,Мисак Каренович Карапетян. Владелец: ЗАО "Фарм-Синтез". Дата публикации: 2010-06-27.

LOCAL EXPOSURE APPARATUS, LOCAL EXPOSURE METHOD AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120002183A1. Автор: Tanaka Shigeki,Matsumura Yuki,Ota Yoshiharu,MORIYAMA Shigeru. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

OPTICAL BEAM SPLITTER FOR USE IN AN OPTOELECTRONIC MODULE, AND A METHOD FOR PERFORMING OPTICAL BEAM SPLITTING IN AN OPTOELECTRONIC MODULE

Номер патента: US20120002284A1. Автор: Wen Pengyue,McColloch Laurence R.. Владелец: AVAGO TECHNOLOGIES FIBER IP (SINGAPORE) PTE. LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR INSPECTING PATTERNS FORMED ON A SUBSTRATE

Номер патента: US20120002860A1. Автор: Sakai Kaoru,Shibuya Hisae,Maeda Shunji,Nishiyama Hidetoshi. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Apparatus For Inspecting Defect Of Pattern Formed On Semiconductor Device

Номер патента: US20120002861A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR SELECTING AND ARRANGING PROGRAM REPRESENTATIVES AND A COOKING DEVICE THEREFOR

Номер патента: US20120003364A1. Автор: Kling Judith,Greiner Michael,Wiedemann Peter,Juergens-Heinersdorff Andre,Seemueller Simon,Klimm Karin. Владелец: Rational AG. Дата публикации: 2012-01-05.

Agent for prophylaxis and treatment of urogenital system based on forgotten french honey-suckle roots and/or tea french honey-suckle roots (variants) and method for their preparing

Номер патента: RU2238747C2. Автор: Л.А. Прокопьева,Л.Г. Калачикова,О.Е. Некрасова,А.К. Виноградов. Владелец: Закрытое акционерное общество "Эвалар". Дата публикации: 2004-10-27.

Super-branched polyimides and 4,5-bis-(3-aminophenoxy)phthalic acid for their preparing

Номер патента: RU2260016C1. Автор: А.В. Смирнов,А.А. Кузнецов,И.Г. Абрамов,П.В. Бузин,М.Ю. Яблокова,А.В. Смирнов (RU),А.А. Кузнецов (RU),П.В. Бузин (RU),М.Ю. Яблокова (RU),И.Г. Абрамов (RU). Владелец: Ярославский государственный технический университет (ЯрГТУ). Дата публикации: 2005-09-10.

Hydrazides in range of bacteriochlorophyll a eliciting photodynamic activity and method for their preparing

Номер патента: RU2223274C1. Автор: Р.И. Якубовская,Р.И. Якубовска,К.В. Головин,А.Ф. Миронов,М.А. Грин,А.Г. Ципровский,Д.В. Дзарданов,А.В. Феофанов,Т.А. Кармакова. Владелец: ООО "Фотогем". Дата публикации: 2004-02-10.

Impression pattern forming method in functional layer of article by multi-pass planing in nc machine tools and planing cutter for performing the same

Номер патента: RU2296036C1. Автор: Аркадий Владимирович Трачук,Андрей Валерьевич Чеглаков,Александр Георгиевич Писарев,Александр Игоревич Мочалов,Валерий Анатольевич Чеглаков,Дмитрий Николаевич Грачев,Алексей Владимирович Греков,Владимир Васильевич Павлов,залов Сергей Юрьевич В,Сергей Юрьевич Вязалов,Александр Васильевич Курочкин,Евгений Михайлович Метельский,Виктор Сергеевич Солдатченков,Яков Михайлович Ашкиназий,Виктор Афанасьевич Чекмарев,Алексей Иванович Климов,Сергей Геннадьевич Зарубин. Владелец: Федеральное Государственное Унитарное Предприятие "Гознак" (Фгуп "Гознак"). Дата публикации: 2007-03-27.

N-[alkoxycarbonylethyl]-n-[alkylphenoxypoly- (ethyleneoxy)carbonylmethyl]ammonium chlorides eliciting addition agent property regulating vasoelastic property of associated multicomponent petroleum system and method for their preparing

Номер патента: RU2221772C2. Автор: В.Н. Хлебников,Г.В. Романов,Л.Г. Кириллова,П.С. Фахретдинов,И.М. Нуриев,И.Р. Мизипов,Т.Н. Юсупова. Владелец: Институт органической и физической химии им. А.Е. Арбузова КНЦ РАН. Дата публикации: 2004-01-20.

Alumina-base ceramic material, article made of ceramic material (variants) and method for their preparing

Номер патента: RU2224548C2. Автор: С.Л. Кабаргин,Л.П. Иванова,В.Б. Огородников. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственный центр медицинской керамики". Дата публикации: 2004-02-27.

N-[alkylphenoxypoly(ethyleneoxy)carbonylmethyl]heterilonium chlorides eliciting property of corrosion inhibitors and also bactericidal, virucidal and fungicide activity and method for their preparing

Номер патента: RU2220957C1. Автор: В.Н. Хлебников,О.В. Угрюмов,О.А. Варнавска,О.А. Варнавская,Г.В. Романов,Н.А. Лебедев,А.З. Равилов,П.С. Фахретдинов,В.С. Угрюмова,Г.Р. Юсупова,А.А. Шишко,Ю.Н. Камзина,И.Г. Гатиатуллин. Владелец: Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт по нефтепромысловой химии". Дата публикации: 2004-01-10.

6-aryl-5-quinoxalyl-2h-1,3-oxazine-4-ones eliciting fluorescent property and method for their preparing

Номер патента: RU2240320C1. Автор: А.Н. Масливец,Н.Ю. Лисовенко. Владелец: Пермский государственный университет. Дата публикации: 2004-11-20.

Substituted 1-(pyridinyl-3)-2-azolylethanols, method for their preparing and fungicide composition based on thereof

Номер патента: RU2240315C1. Автор: В.В. Захарычев,А.В. Кузенков. Владелец: Российский химико-технологический университет им. Д.И. Менделеева. Дата публикации: 2004-11-20.

N-[alkylphenoxypoly(ethyleneoxy)carbonylmethyl]ammonium chlorides eliciting addition agent property regulating vasoelastic property of associated multicomponent petroleum system and method for their preparing

Номер патента: RU2221777C2. Автор: В.Н. Хлебников,Г.В. Романов,Л.Г. Кириллова,П.С. Фахретдинов,И.Р. Мизипов,Т.Н. Юсупова. Владелец: Институт органической и физической химии им. А.Е.Арбузова КНЦ РАН. Дата публикации: 2004-01-20.

CRYSTALLINE CERIUM OXIDE AND PREPARATION METHOD OF THE SAME

Номер патента: US20120000137A1. Автор: CHOI Sang-Soon,CHO Seung-Beom,HA Hyun-Chul,KWAK Ick-Soon,CHO Jun-Yeon. Владелец: LG CHEM, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURE METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120001344A1. Автор: IDANI Naoki,TAKESAKO Satoshi. Владелец: FUJITSU SEMICONDUCTOR LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

FEATURE POINT GENERATION SYSTEM, FEATURE POINT GENERATION METHOD, AND FEATURE POINT GENERATION PROGRAM

Номер патента: US20120002867A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

MODIFIED SODIUM-MONTMORILLONITE, PREPARATION METHOD AND USES THEREOF

Номер патента: US20120003328A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE FORMING METHOD

Номер патента: US20120003580A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

SAMPLE PREPARATION FOR IN SITU NUCLEIC ACID ANALYSIS, METHODS AND COMPOSITIONS THEREFOR

Номер патента: US20120003656A1. Автор: . Владелец: LIFE TECHNOLOGIES CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE FORMING APPARATUS TO ADD SPECIFIC DATA TO IMAGE, AND IMAGE FORMING METHOD OF ADDING THE SPECIFIC DATA TO THE IMAGE

Номер патента: US20120002224A1. Автор: KIMOTO Taizo. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and device for metering visual analyser contrast sensation (visocontrastometry) in scotopic, mesopic and photopic lighting conditions

Номер патента: RU2401051C1. Автор: Альберт Баудинович Тырин,Нина Юрьевна Кушнаревич. Владелец: Альберт Баудинович Тырин. Дата публикации: 2010-10-10.

Method and device for feeding antennas of circular phased transmitting antenna array

Номер патента: RU2315400C2. Автор: Валентин Михайлович Жуков,Александр Федорович Харин,Михаил Вячеславович Горковенко,Александр Борисович Беседин,Виктор Михайлович Нестеров. Владелец: Виктор Михайлович Нестеров. Дата публикации: 2008-01-20.

Biocatalyst preparation method and a biocatalyst for detoxification of organophosphorus neurotoxic compounds in continuous-flow systems

Номер патента: RU2315103C1. Автор: Елена Николаевна Ефременко,Илья Владимирович Лягин,Сергей Дмитриевич Варфоломеев,Игорь Юрьевич Галаев,Фатима Магометовна Плиева,Бо МАТТИАССОН. Владелец: Елена Николаевна Ефременко. Дата публикации: 2008-01-20.

"sichenik fish cutlets ukrainian-style" preserve preparation method

Номер патента: RU2351228C1. Автор: Олег Иванович Квасенков. Владелец: Олег Иванович Квасенков. Дата публикации: 2009-04-10.

Cheese preparation method

Номер патента: RU2445778C1. Автор: Сергей Игоревич Перминов,Сергей Николаевич Князев,Денис Владимирович Степанченко. Владелец: Открытое акционерное общество "Вимм-Билль-Данн". Дата публикации: 2012-03-27.

Preparation method of waffles (versions)

Номер патента: RU2391007C1. Автор: Олег Иванович Квасенков. Владелец: Олег Иванович Квасенков. Дата публикации: 2010-06-10.

Preparation method of waffles (versions)

Номер патента: RU2391005C1. Автор: Олег Иванович Квасенков. Владелец: Олег Иванович Квасенков. Дата публикации: 2010-06-10.

Preparation method of waffles (versions)

Номер патента: RU2391006C1. Автор: Олег Иванович Квасенков. Владелец: Олег Иванович Квасенков. Дата публикации: 2010-06-10.

Preparation method of two-component plugging composition in well

Номер патента: RU2386785C1. Автор: Владимир Александрович Андреев,Александр Сергеевич Жиркеев,Рамзис Рахимович Кадыров,Владимир Михайлович Акуляшин,Ирек Ильгизарович Валеев. Владелец: Открытое акционерное общество "Татнефть" им. В.Д. Шашина. Дата публикации: 2010-04-20.

"sichenik fish cutlets ukrainian-style" preserve preparation method

Номер патента: RU2356337C1. Автор: Олег Иванович Квасенков. Владелец: Олег Иванович Квасенков. Дата публикации: 2009-05-27.

Method and apparatus for contour mapping with moire patterns

Номер патента: CA1042244A. Автор: Gordon D. Heuser,Rolla J. Pennell. Владелец: Individual. Дата публикации: 1978-11-14.

A chewable tablet with calcium and vitamin D and preparation method thereof

Номер патента: NZ778421A. Автор: Wu Yue. Владелец: Super Foods New Zealand Limited. Дата публикации: 2021-07-30.

Cutlet, its preparation method and equipment for method implementation

Номер патента: RU2450548C1. Автор: Андрей Павлович Сульдин. Владелец: Андрей Павлович Сульдин. Дата публикации: 2012-05-20.

Diabetic waffles preparation method (versions)

Номер патента: RU2391010C1. Автор: Олег Иванович Квасенков. Владелец: Олег Иванович Квасенков. Дата публикации: 2010-06-10.

Preparation method and launching of carrier rockets from above-ground launcher and above-ground launcher for its implementation

Номер патента: RU2328417C1. Автор: Анатолий Николаевич Баранов,В чеслав Петрович Колпаков,Вячеслав Петрович Колпаков,Игорь Владимирович Бармин,Сергей Михайлович Михальченко,Алексей Егорович Зверев,Анатолий Матвеевич Павливкер,Валерий Николаевич Неустроев. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Конструкторское бюро общего машиностроения им. В.П. Бармина". Дата публикации: 2008-07-10.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.