有機膜形成材料、有機膜の形成方法、パターン形成方法および化合物
Номер патента: JP2021105654A
Опубликовано: 26-07-2021
Автор(ы): Daisuke Koori, Kazumi Noda, Takayoshi Nakahara, Yusuke Biyajima, 和美 野田, 大佑 郡, 祐介 美谷島, 貴佳 中原
Принадлежит: Shin Etsu Chemical Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 26-07-2021
Автор(ы): Daisuke Koori, Kazumi Noda, Takayoshi Nakahara, Yusuke Biyajima, 和美 野田, 大佑 郡, 祐介 美谷島, 貴佳 中原
Принадлежит: Shin Etsu Chemical Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
MATERIAL FOR FORMING FILM FOR LITHOGRAPHY, COMPOSITION FOR FORMING FILM FOR LITHOGRAPHY, FILM FOR LITHOGRAPHY, PATTERN FORMING METHOD AND PURIFICATION METHOD
Номер патента: US20170144954A1. Автор: ECHIGO Masatoshi,MAKINOSHIMA Takashi. Владелец: . Дата публикации: 2017-05-25.