Process monitoring for gate cut mask
Номер патента: US09685336B1
Опубликовано: 20-06-2017
Автор(ы): Elliot John Smith, Nigel Chan
Принадлежит: Globalfoundries Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 20-06-2017
Автор(ы): Elliot John Smith, Nigel Chan
Принадлежит: Globalfoundries Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Gate cut critical dimension shrink and active gate defect healing using selective deposition
Номер патента: US20200135575A1. Автор: Marc Bergendahl,Andrew Greene,Yann Mignot,Ekmini A. De Silva,Gangadhara Raja MUTHINTI,Alex Joseph Varghese,Dallas Lea,Matthew T. Shoudy. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2020-04-30.