Semiconductor device manufacturing method
Номер патента: US09385103B2
Опубликовано: 05-07-2016
Автор(ы): Shinji Sano, Tatsuo Nishizawa
Принадлежит: Fuji Electric Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 05-07-2016
Автор(ы): Shinji Sano, Tatsuo Nishizawa
Принадлежит: Fuji Electric Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
ZnO based semiconductor device and its manufacture method
Номер патента: EP2093810A3. Автор: Hiroyuki Kato,Akio Ogawa,Hiroshi Kotani,Michihiro Sano,Naochika Horio,Tomofumi Yamamuro. Владелец: Stanley Electric Co Ltd. Дата публикации: 2013-10-16.