Enhanced base die heat path using through-silicon vias
27-04-2023 дата публикации
Номер:
US20230128903A1
Автор: Aaron MCCANN, Kyle Arrington, Nicholas Neal, Shankar Devasenathipathy, Weston Bertrand, Zhimin Wan
Принадлежит: Intel Corp
Контакты:
Номер заявки:
Дата заявки: