Semiconductor Substrate including plural insulating regions in the substrate, semiconductor device using thereof and manufacturing method the same
Номер патента: KR100834742B1
Опубликовано: 05-06-2008
Автор(ы): 이원창
Принадлежит: 삼성전자주식회사
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 05-06-2008
Автор(ы): 이원창
Принадлежит: 삼성전자주식회사
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Semiconductor device of the silicon on insulator type and corresponding manufacturing method
Номер патента: US20230387119A1. Автор: Olivier Weber,Franck Arnaud. Владелец: STMicroelectronics Crolles 2 SAS. Дата публикации: 2023-11-30.