Semiconductor device manufacturing method capable of reliable inspection for hole opening and semiconductor devices manufactured by the method
Номер патента: TW527677B
Опубликовано: 11-04-2003
Автор(ы): Kenichi Watanabe
Принадлежит: Fujitsu Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 11-04-2003
Автор(ы): Kenichi Watanabe
Принадлежит: Fujitsu Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Semiconductor structure and manufacturing method thereof
Номер патента: US20240355733A1. Автор: Yu-Yun Peng,Keng-Chu Lin,Wei-Ting YEH,Zheng-Yong Liang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.