Conditioner device for conditioning polishing pad and chemical mechanical polishing apparatus including the same
Номер патента: US20070167117A1
Опубликовано: 19-07-2007
Автор(ы): Bong-su Ahn, Dong-jun Lee, Kyoung-Moon Kang, Nam-Soo Kim, Sung-Taek Moon
Принадлежит: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 19-07-2007
Автор(ы): Bong-su Ahn, Dong-jun Lee, Kyoung-Moon Kang, Nam-Soo Kim, Sung-Taek Moon
Принадлежит: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Polishing pad conditioner for semiconductor polishing apparatus and method of monitoring the same
Номер патента: US20030013394A1. Автор: Jae Choi,Bong Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2003-01-16.