CRITICAL DIMENSION AND PATTERN RECOGNITION STRUCTURES FOR DEVICES MANUFACTURED USING DOUBLE PATTERNING TECHNIQUES
Номер патента: US20150050811A1
Опубликовано: 19-02-2015
Автор(ы): Chauhan Vikrant, Chen Tong Qing, Kelling Mark, Labelle Catherine, Mehta Sohan, Srivastava Ravi
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 19-02-2015
Автор(ы): Chauhan Vikrant, Chen Tong Qing, Kelling Mark, Labelle Catherine, Mehta Sohan, Srivastava Ravi
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method for directed self-assembly and pattern curing
Номер патента: US09478435B2. Автор: Nihar Mohanty. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-10-25.