Substrate treating apparatus, substrate support unit, and substrate treating method
Номер патента: US11056320B2
Опубликовано: 06-07-2021
Автор(ы): Kang Rae HA, Sang-Kee Lee
Принадлежит: Semes Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 06-07-2021
Автор(ы): Kang Rae HA, Sang-Kee Lee
Принадлежит: Semes Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Internal pressure control apparatus and substrate processing apparatus including the same
Номер патента: US20240304427A1. Автор: Tae-hyun Kim,Sang Ki Nam,Sung Ho Jang,Seul Gi Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-12.