Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • Euv 리소그래피용 반사형 마스크 블랭크, 및 euv 리소그래피용 반사형 마스크

Euv 리소그래피용 반사형 마스크 블랭크, 및 euv 리소그래피용 반사형 마스크

Номер патента: KR20130088075A
Опубликовано: 07-08-2013
Автор(ы): 가즈유키 하야시
Принадлежит: 아사히 가라스 가부시키가이샤
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Reflective mask and fabricating method thereof

Номер патента: US20200133113A1. Автор: Tsiao-Chen Wu,Pei-Cheng Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-04-30.

Euv lithography flare calculation and compensation

Номер патента: EP2705526A2. Автор: HUA Song,James SHIELY. Владелец: Synopsys Inc. Дата публикации: 2014-03-12.

Euv lithography flare calculation and compensation

Номер патента: WO2012151167A2. Автор: HUA Song,James SHIELY. Владелец: SYNOPSYS INC.. Дата публикации: 2012-11-08.

Reflective mask blank for EUV lithography and process for its production

Номер патента: US09423684B2. Автор: Kazunobu Maeshige,Masaki Mikami. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-23.

Reflective mask blank for euv lithography

Номер патента: US20110171566A1. Автор: Kazuyuki Hayashi. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2011-07-14.

Reflective mask blank for euv lithography

Номер патента: US20140356770A1. Автор: Kazuyuki Hayashi. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2014-12-04.

Reflective mask blank for euv lithography, and process for its production

Номер патента: US20140186752A1. Автор: Kazuyuki Hayashi,Masaki Mikami,Takeru Kinoshita. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2014-07-03.

Mask blank for reflection-type exposure, and mask for reflection-type exposure

Номер патента: US09442364B2. Автор: Masato Kon,Yo Sakata,Yutaka Kodera. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-13.

Reflective mask blank, reflective mask and manufacturing method thereof, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US12111566B2. Автор: Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-10-08.

Mask blank substrate, substrate with multilayer reflective film, reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing mask blank substrate, method of manufacturing substrate with reflective film and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09581895B2. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Junichi Horikawa,Tsutomu Shoki,Toshihiko Orihara. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-02-28.

Reflection-type mask blank, reflection-type mask, method for manufacturing reflection-type mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240160095A1. Автор: Masanori Nakagawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-05-16.

Method of manufacturing substrate with a multilayer reflective film, method of manufacturing a reflective mask blank, substrate with a multilayer reflective film, reflective mask blank, reflective mask and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US09507254B2. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Junichi Horikawa,Tsutomu Shoki,Toshihiko Orihara,Hirofumi Kozakai. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-11-29.

Mask blank substrate, substrate with multilayer reflection film, transmissive mask blank, reflective mask blank, transmissive mask, reflective mask, and semiconductor device fabrication method

Номер патента: US09897909B2. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Junichi Horikawa,Tsutomu Shoki,Toshihiko Orihara,Hirofumi Kozakai,Youichi Usui. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2018-02-20.

Substrate equipped with multi-layer reflection film, reflection-type mask blank, reflection-type mask, and semiconductor device manufacturing process

Номер патента: US20200310239A1. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2020-10-01.

Reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing reflective mask and semiconductor device

Номер патента: US12019366B2. Автор: Masanori Nakagawa,Tsutomu Shoki. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-06-25.

Reflective mask blank, reflective mask and manufacturing method thereof, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US11815806B2. Автор: Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2023-11-14.

Reflective mask blank, reflective mask and manufacturing method thereof, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20240036457A1. Автор: Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-02-01.

Reflective mask blank, reflective mask and manufacturing method thereof, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20230168575A1. Автор: Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2023-06-01.

Reflective mask blank, reflective mask, method for manufacturing reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240142866A1. Автор: Masanori Nakagawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-05-02.

Reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240027891A1. Автор: Kazuhiro Hamamoto. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-01-25.

Multilayer reflective film-equipped substrate, reflective mask blank, reflective mask, and method for producing semiconductor device

Номер патента: US20230418148A1. Автор: Masanori Nakagawa,Kota Suzuki,Ikuya FUKASAWA. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2023-12-28.

Substrate with multilayer reflective film, reflective mask blank, reflective mask, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20200249558A1. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Tsutomu Shoki. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2020-08-06.

Method for manufacturing reflective mask and apparatus for manufacturing reflective mask

Номер патента: US09513557B2. Автор: Katsuhiro Yamazaki,Kensuke Demura. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2016-12-06.

Method for manufacturing reflective mask and apparatus for manufacturing reflective mask

Номер патента: US20130260292A1. Автор: Katsuhiro Yamazaki,Kensuke Demura. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2013-10-03.

Reflective mask and method for manufacturing same

Номер патента: US20140170536A1. Автор: Kazuaki Matsui,Norihito Fukugami,Yo Sakata,Genta Watanabe. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2014-06-19.

System, method and reticle for improved pattern quality in extreme ultraviolet (EUV) lithography and method for forming the reticle

Номер патента: US09558944B2. Автор: Chia-Chen Chen,Shang-Chieh Chien,Jui-Ching Wu,Chia-Hao Hsu,Chia-Jen Chen,Chia-Ching HUANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Reflective mask and method for manufacturing a semiconductor device using the same

Номер патента: US11768432B2. Автор: Donghoon Lee,Soo Kyung Kim,Soonmok Ha,Sang-Ho Yun,Jaikyun PARK,Rankyung Jung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-09-26.

Mask blank glass substrate, multilayer reflective film coated substrate, mask blank, mask, and methods of manufacturing the same

Номер патента: US09488904B2. Автор: Akihiro Kawahara,Tsutomu Shoki,Toshihiko Orihara. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-11-08.

A pellicle for EUV

Номер патента: EP2703888A3. Автор: Motoyuki Yamada,Shoji Akiyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-27.

Reflective type blankmask for euv, and method for manufacturing the same

Номер патента: US20220066311A1. Автор: Chul-Kyu Yang,Gil-Woo KONG. Владелец: S&S Tech Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Reflective type blankmask and photomask for EUV

Номер патента: US11815801B2. Автор: Jong-Hwa Lee,Cheol Shin,Chul-Kyu Yang,Gil-Woo KONG. Владелец: S & S Tech Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-14.

A multilayer reflective film substrate, a reflection type mask substrate for EUV micrographs, a manufacturing method of a reflective type mask for EUV micrograph, and a method for manufacturing a semiconductor device

Номер патента: TWI587078B. Автор: Takahiro Onoue,Toshihiko Orihara. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-06-11.

Method of manufacturing a mask for radiation lithography

Номер патента: US4946751A. Автор: Margret Harms,Holger Luthje,Waldemar Gotze,Angelika Bruns. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 1990-08-07.

Pellicle for EUV lithography

Номер патента: US09958770B2. Автор: Seungmin Lee,Junghwan Kim,JungSik Kim,Seongchul HONG,Jinho Ahn,Kilbock LEE,Jaeuk LEE. Владелец: Industry University Cooperation Foundation IUCF HYU. Дата публикации: 2018-05-01.

Mask blank substrate set and mask blank set

Номер патента: US8318387B2. Автор: Masaru Tanabe. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2012-11-27.

Mask blank substrate set and mask blank set

Номер патента: US20110256473A1. Автор: Masaru Tanabe. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2011-10-20.

Mask blank, mask blank manufacturing method, transfer mask, and transfer mask manufacturing method

Номер патента: US20110183240A1. Автор: Hiroshi Shirotori,Masahiro Hashimoto,Yuusuke Honma,Mitsuhiro Shirakura. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2011-07-28.

Pellicle for reflective mask

Номер патента: US20210116802A1. Автор: Jinhwan Lee,SungHyup KIM,Jeonggil KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-04-22.

Mask blank, mask blank manufacturing method, transfer mask, and transfer mask manufacturing method

Номер патента: US8404407B2. Автор: Hiroshi Shirotori,Masahiro Hashimoto,Yuusuke Honma,Mitsuhiro Shirakura. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2013-03-26.

Phase shift mask and phase shift mask blank

Номер патента: US20010014425A1. Автор: Masaru Mitsui,Hideki Suda,Kimihiro Okada. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2001-08-16.

Phase shift mask and phase shift mask blank

Номер патента: US6475681B2. Автор: Masaru Mitsui,Hideki Suda,Kimihiro Okada. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2002-11-05.

Mask blank, mask blank with negative resist film, phase shift mask, and method for producing pattern formed body using same

Номер патента: US09874808B2. Автор: Hiroshi Watanabe,Katsuya Hayano,Takashi Adachi,Ayako Tani,Hideyoshi Takamizawa,Youichi Miura,Youhei Ohkawa. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2018-01-23.

Extreme ultra-violet (euv) lithography processes for patterning photoresist and photolithography masks used therein

Номер патента: US20230230834A1. Автор: Hyun Jae Lee,Hee Seung Ahn,In Seong PARK,Yun-Ju Han. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-20.

Euv lithography system comprising a gas-binding component in the form of a foil

Номер патента: US20240201604A1. Автор: Ralf Wichard. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-06-20.

Mask blank, method of manufacturing mask blank and method of manufacturing transfer mask

Номер патента: US20160161844A1. Автор: Masahiro Hashimoto,Takahiro Hiromatsu. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-06-09.

Mask blank, method of manufacturing mask blank and method of manufacturing transfer mask

Номер патента: US09927697B2. Автор: Masahiro Hashimoto,Takahiro Hiromatsu. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2018-03-27.

Mask blank, transfer mask, method of manufacturing a transfer mask, and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US09354509B2. Автор: Osamu Nozawa,Noriyuki Sakaya. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-05-31.

Method of manufacturing a mask blank substrate, method of manufacturing a mask blank, method of manufacturing a transfer mask, and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US8785085B2. Автор: Masaru Tanabe. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2014-07-22.

Mask blank, method of manufacturing the same, and transfer mask

Номер патента: US20130177841A1. Автор: Masahiro Hashimoto,Kazuya Sakai,Takeyuki Yamada. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2013-07-11.

Mask blank, transfer mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11314162B2. Автор: Hiroaki Shishido,Kazutake Taniguchi. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2022-04-26.

Mask blank, transfer mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20210141305A1. Автор: Hiroaki Shishido,Kazutake Taniguchi. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2021-05-13.

Mask blank, transfer mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20220206381A1. Автор: Hiroaki Shishido,Kazutake Taniguchi. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2022-06-30.

Mask blank, transfer mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: SG11201908105VA. Автор: Hiroaki Shishido,Kazutake Taniguchi. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2019-10-30.

Halftone phase shift mask blank, halftone phase shift mask, and pattern exposure method

Номер патента: US9927695B2. Автор: Yukio Inazuki,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Mask blank, method of manufacturing transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20200166833A1. Автор: Masahiro Hashimoto,Mariko Uchida. Владелец: Hoya Electronics Singapore Pte Ltd. Дата публикации: 2020-05-28.

Mask blank and phase shift mask using same

Номер патента: US10444619B2. Автор: Hwan Seok Seo,Hye Kyoung Lee,Il Yong JANG,Byung Gook Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-10-15.

Mask blank and phase shift mask using same

Номер патента: US20180033612A1. Автор: Hwan Seok Seo,Hye Kyoung Lee,Il Yong JANG,Byung Gook Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-02-01.

Mask blank, transfer mask, method of manufacturing transfer mask and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US9029048B2. Автор: Toshiyuki Suzuki,Osamu Nozawa,Kazuya Sakai,Ryo Ohkubo. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2015-05-12.

Lithography apparatus, method for lithography and stage system

Номер патента: US09632437B2. Автор: Chang-min Park,Jin-Hong Park,Joo-On Park,Jeong-Ho Yeo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-04-25.

Method of simultaneous lithography and etch correction flow

Номер патента: US9910348B2. Автор: Donald J. Samuels,Scott M. Mansfield,Ramya Viswanathan,Geng Han,Dominique Nguyen-Ngoc. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2018-03-06.

Mask for X-Ray Lithography and Metrology

Номер патента: US20240112913A1. Автор: Yanwei Liu,Anne Sakdinawat. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-04-04.

Method of fabricating an exposure mask for semiconductor manufacture

Номер патента: US20030044694A1. Автор: Sang Kang. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2003-03-06.

Method of fabricating a mask for a semiconductor device

Номер патента: US20080280213A1. Автор: Sung Hyun Oh. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2008-11-13.

Test method of mask for electron-beam exposure and method of electron-beam exposure

Номер патента: US20010054697A1. Автор: Hiroshi Yamashita. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2001-12-27.

Pattern formation method using a photo mask for manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US20200004137A1. Автор: Lai Chien Wen,Chin-Hsiang Lin,Ru-Gun Liu,Chih-Ming Lai,Shih-Ming Chang,Yuan-Te Hou,Ken-Hsien Hsieh,Cheng-I Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-01-02.

Reflective mask blank for EUV lithography, substrate with funtion film for the mask blank, and methods for their production

Номер патента: US09618836B2. Автор: Kazuyuki Hayashi,Junichi Kageyama. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-11.

Reflective mask blank for EUV lithography, mask blank for EUV lithography, and manufacturing methods thereof

Номер патента: US11822229B2. Автор: Kenichi Sasaki,Toshiyuki Uno,Ichiro Ishikawa,Hirotomo Kawahara,Daijiro AKAGI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-21.

Reflective mask blank for euv lithography, mask blank for euv lithography, and manufacturing methods thereof

Номер патента: US20240045319A1. Автор: Toshiyuki Uno,Ichiro Ishikawa,Hirotomo Kawahara,Daijiro AKAGI,Kenichi Sakaki. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Reflective mask blank, method of manufacturing reflective mask blank, reflective mask and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09720315B2. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Tsutomu Shoki,Tatsuo ASAKAWA. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-08-01.

Reflective mask blank for euvl, reflective mask for euvl, and method of manufacturing reflective mask for euvl

Номер патента: US20220187699A1. Автор: Hiroyoshi Tanabe. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-16.

Substrate with Film for Reflective Mask Blank, and Reflective Mask Blank

Номер патента: US20240248388A1. Автор: Hideo Kaneko,Tsuneo Terasawa,Yukio Inazuki,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Mask blank substrate, mask blank, reflective mask blank, transfer mask, reflective mask, and methods of manufacturing the same

Номер патента: US09400421B2. Автор: Tatsuya Sasaki,Takahito Nishimura. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-07-26.

Mask for EUV lithography, EUV lithography system and method for optimising the imaging of a mask

Номер патента: US09535332B2. Автор: Johannes Ruoff,Daniel Kraehmer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-01-03.

Substrate with conductive film, substrate with multilayer reflective film, reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20210103209A1. Автор: Masanori Nakagawa,Tsutomu Shoki. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2021-04-08.

Mask blanks and methods for depositing layers on mask blank

Номер патента: US20210200078A1. Автор: Hsin-Chang Lee,Pei-Cheng Hsu,Ta-Cheng Lien,Wen-Chang Hsueh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-07-01.

Reflective mask for extreme ultraviolet lithography and a method of fabricating a semiconductor device using the same

Номер патента: US20240219824A1. Автор: Akio Misaka,Noyoung CHUNG,Seokyun Jeong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-04.

Reflective mask

Номер патента: US20210072634A1. Автор: Eishi Shiobara. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2021-03-11.

Mask blank, transfer mask, method of manufacturing a transfer mask, and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US20150227039A1. Автор: Masahiro Hashimoto,Osamu Nozawa,Atsushi Kominato. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2015-08-13.

Mask blank, transfer mask, method of manufacturing a transfer mask, and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US9256122B2. Автор: Masahiro Hashimoto,Osamu Nozawa,Atsushi Kominato. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-02-09.

Mask blank, transfer mask, method of manufacturing a transfer mask, and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US8501372B2. Автор: Masahiro Hashimoto,Osamu Nozawa,Atsushi Kominato. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2013-08-06.

Mask blank, transfer mask, method of manufacturing a transfer mask, and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US09612527B2. Автор: Masahiro Hashimoto,Osamu Nozawa,Atsushi Kominato. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-04-04.

Low roughness EUV lithography

Номер патента: US09922839B2. Автор: Nader Shamma,Richard Wise. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-03-20.

Projection exposure apparatus for euv microlithography and method for microlithographic exposure

Номер патента: WO2012041720A2. Автор: Aksel GÖHNERMEIER,Heiko Feldmann,Johannes Ruoff,Oliver Natt,Marc Bienert. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-04-05.

Mask blank, transfer mask, and method for manufacturing transfer mask

Номер патента: US09726972B2. Автор: Hiroaki Shishido,Osamu Nozawa,Ryo Ohkubo. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-08-08.

Mask blank, phase-shift mask, and method for manufacturing the same

Номер патента: US09625806B2. Автор: Hiroaki Shishido,Osamu Nozawa,Kazuya Sakai. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-04-18.

Mask blank and method of manufacturing an imprint mold

Номер патента: US8273505B2. Автор: Takashi Sato,Mitsuhiro Kureishi. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2012-09-25.

EUV lithography system with 3D sensing and tunning modules

Номер патента: US11852978B2. Автор: Heng-Hsin Liu,Tai-Yu Chen,Kuan-Hung Chen,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Sheng-Kang Yu,Tzu-Jung PAN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Euv lithography system with 3d sensing and tunning modules

Номер патента: US20230280657A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Tai-Yu Chen,Kuan-Hung Chen,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Sheng-Kang Yu,Tzu-Jung PAN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

EUV Lithography System With 3D Sensing and Tunning Modules

Номер патента: US20240103378A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Tai-Yu Chen,Kuan-Hung Chen,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Sheng-Kang Yu,Tzu-Jung PAN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-03-28.

Mask blank, phase shift mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20190018312A1. Автор: Hiroaki Shishido,Osamu Nozawa,Takenori Kajiwara. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2019-01-17.

Glass substrate-holding tool and method for producing an euv mask blank by employing the same

Номер патента: SG186550A1. Автор: MITSUMORI Takahiro,Kinoshita Takeru,Ise Hirotoshi. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2013-01-30.

Lithographic Mask for EUV Lithography

Номер патента: US20180059529A1. Автор: Rik Jonckheere,Koen D'Have. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2018-03-01.

Mask blank and mask and fabrication method thereof

Номер патента: US09921467B2. Автор: Chih-Chiang Tu,Chun-Lang Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-03-20.

Phase shift mask blank, method for producing phase shift mask, and phase shift mask

Номер патента: US20220082929A1. Автор: Shohei Mimura,Naoki Matsuhashi,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-17.

Phase shift mask blank, method for producing phase shift mask, and phase shift mask

Номер патента: EP3971645A1. Автор: Shohei Mimura,Naoki Matsuhashi,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-23.

Mask blank, phase-shift mask, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20210208497A1. Автор: Masahiro Hashimoto,Hiroaki Shishido,Hitoshi Maeda. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2021-07-08.

Reflective mask, method of monitoring the same, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20140242733A1. Автор: Takashi Koike. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2014-08-28.

Mask for extreme ultraviolet lithography and method for manufacturing same

Номер патента: US20210397078A1. Автор: Jung Sik Kim,Jinho Ahn,Dong Min Jeong. Владелец: Industry University Cooperation Foundation IUCF HYU. Дата публикации: 2021-12-23.

Masks for se'iconductor device manufacture

Номер патента: GB1356881A. Автор: . Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1974-06-19.

Mask blank substrate, mask blank, photomask, and methods of manufacturing the same

Номер патента: US20100035028A1. Автор: Masaru Tanabe. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2010-02-11.

Mask blank substrate, mask blank, photomask, and methods of manufacturing the same

Номер патента: US20120015286A1. Автор: Masaru Tanabe. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2012-01-19.

Mask blank, phase shift mask, method of manufacturing phase shift mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20220128898A1. Автор: Hiroaki Shishido,Hitoshi Maeda,Osamu Nozawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2022-04-28.

Mask for beam exposure having membrane structure and stencil structure and method for manufacturing the same

Номер патента: US20020045109A1. Автор: Yasuhisa Yamada. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2002-04-18.

Reflective mask blank, method of manufacturing reflective mask and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20190265585A1. Автор: Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2019-08-29.

Apparatus for cleaning pot-shaped hollow bodies, in particular transport containers for semiconductor wafers or for euv lithography masks

Номер патента: US20230402298A1. Автор: Günter Haas,Frank Schienle,Jürgen Gutekunst. Владелец: Gsec German Semiconductor Equipment Co GmbH. Дата публикации: 2023-12-14.

Hybrid optical and euv lithography

Номер патента: US20200159105A1. Автор: Lei Sun,Guillaume Bouche,Geng Han,Jia ZENG. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2020-05-21.

Semiconductor mask blanks with a compatible stop layer

Номер патента: US20130193565A1. Автор: Chih-Chiang Tu,Chun-Lang Chen,Tran-Hui Shen,Boming Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2013-08-01.

Semiconductor mask blanks with a compatible stop layer

Номер патента: US9142423B2. Автор: Chih-Chiang Tu,Chun-Lang Chen,Tran-Hui Shen,Boming Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-09-22.

Semiconductor Mask Blanks with a Compatible Stop Layer

Номер патента: US20140199787A1. Автор: Chih-Chiang Tu,Chun-Lang Chen,Tran-Hui Shen,Boming Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2014-07-17.

Semiconductor mask blanks with a compatible stop layer

Номер патента: US09953833B2. Автор: Chih-Chiang Tu,Chun-Lang Chen,Tran-Hui Shen,Boming Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Method for manufacturing mask blank and coating apparatus

Номер патента: MY150671A. Автор: Keishi Asakawa,Ryoji Miyata. Владелец: Hoya Electronics Malaysia Sendirian Berhad. Дата публикации: 2014-02-28.

Mask blank, method for manufacturing transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09864268B2. Автор: Hiroaki Shishido,Osamu Nozawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2018-01-09.

Mask blank, method of manufacturing the same, transfer mask, and method of manufacturing the same

Номер патента: US9535320B2. Автор: Masahiro Hashimoto,Kazuya Sakai. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-01-03.

Semiconductor Mask Blanks with a Compatible Stop Layer

Номер патента: US20160013058A1. Автор: Chih-Chiang Tu,Chun-Lang Chen,Tran-Hui Shen,Boming Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-01-14.

Mask blank, transfer mask, method for manufacturing transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20190317394A1. Автор: Hiroaki Shishido,Yasutaka HORIGOME. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2019-10-17.

Semiconductor Mask Blanks with a Compatible Stop Layer

Номер патента: US20180240668A1. Автор: Chih-Chiang Tu,Chun-Lang Chen,Tran-Hui Shen,Boming Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-08-23.

Semiconductor mask blanks with a compatible stop layer

Номер патента: US10678126B2. Автор: Chih-Chiang Tu,Chun-Lang Chen,Tran-Hui Shen,Boming Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-06-09.

Mask for soft X-rays and method of manufacture

Номер патента: US4198263A. Автор: Takashi Matsuda. Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd. Дата публикации: 1980-04-15.

Reflection-type mask blank for euv lithography, reflection-type mask for euv lithography, and manufacturing methods therefor

Номер патента: US20230288794A1. Автор: Kenichi Sasaki,Toshiyuki Uno,Ichiro Ishikawa,Hirotomo Kawahara,Daijiro AKAGI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-14.

Reflective mask blank for euv lithography

Номер патента: US20240201576A1. Автор: Toshiyuki Uno,Hiroshi HANEKAWA,Hirotomo Kawahara,Masafumi AKITA. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Reflective mask blank for EUV lithography

Номер патента: US11982935B2. Автор: Toshiyuki Uno,Hiroshi HANEKAWA,Hirotomo Kawahara,Masafumi AKITA. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-14.

Multilayer reflective film-attached substrate, reflective mask blank, reflective mask, and method for producing semiconductor device

Номер патента: US20220269161A1. Автор: Kota Suzuki,Kayo CHAEN. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2022-08-25.

Substrate with multilayer reflective film, reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12105411B2. Автор: Kota Suzuki,Kayo CHAEN. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

Reflective mask blank, reflective mask, reflective mask manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20240069428A1. Автор: Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-02-29.

Method of manufacturing reflective mask blank, and reflective mask blank

Номер патента: US11789357B2. Автор: Tsuneo Terasawa,Yukio Inazuki,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Reflective mask blank, reflective mask and method for producing semiconductor device

Номер патента: US20220107557A1. Автор: Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2022-04-07.

Mask blank substrate, mask blank, transfer mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09690189B2. Автор: Masaru Tanabe. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-06-27.

Photoresist compositions for euv and methods for manufacturing semiconductor devices using the same

Номер патента: US20230229083A1. Автор: Hyunwoo Kim,Sung Hwan Park,Juhyeon Park,JinJoo Kim,Ji Yup KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-20.

Mask blank substrate, mask blank, transfer mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20160109797A1. Автор: Masaru Tanabe. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-04-21.

Mask blank substrate, mask blank, transfer mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20170248841A1. Автор: Masaru Tanabe. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-08-31.

Mask blank, phase shift mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20200409252A1. Автор: Hitoshi Maeda,Ryo Ohkubo,Kazutake Taniguchi. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2020-12-31.

Mask blank and method of manufacturing an imprinting mold

Номер патента: US8883022B2. Автор: Masahiro Hashimoto,Osamu Nozawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2014-11-11.

Mask blank and method of manufacturing an imprinting mold

Номер патента: US20130105441A1. Автор: Masahiro Hashimoto,Osamu Nozawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2013-05-02.

Extreme Ultraviolet Mask Blank Defect Reduction

Номер патента: US20200012183A1. Автор: KE CHANG,Vibhu Jindal,Shuwei Liu,Sai Abhinand,Hui Ni Grace Fong. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-01-09.

Cleaning liquid for lithography and method for forming wiring

Номер патента: US09920286B2. Автор: Tomoya Kumagai,Takahiro Eto. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-20.

Method of forming mask for lithography, method of forming mask data for lithography, method of manufacturing back-illuminated solid-state imaging device, back-illuminated solid-state imaging device and electronic device

Номер патента: US20110248373A1. Автор: Keiji Mabuchi. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2011-10-13.

Method of forming mask for lithography, method of forming mask data for lithography, method of manufacturing back-illuminated solid-state imaging device, back-illuminated solid-state imaging device and electronic device

Номер патента: US8338212B2. Автор: Keiji Mabuchi. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2012-12-25.

Method of forming mask for lithography, method of forming mask data for lithography, method of manufacturing back-illuminated solid-state imaging device, back-illuminated solid-state imaging device and electronic device

Номер патента: US7989253B2. Автор: Keiji Mabuchi. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2011-08-02.

Mask for laser irradiation and apparatus for laser crystallization using the same

Номер патента: US20040096754A1. Автор: Yun-Ho Jung. Владелец: LG Philips LCD Co Ltd. Дата публикации: 2004-05-20.

Mask blank substrate, substrate with multilayer reflection film, transmissive mask blank, reflective mask, and semiconductor device fabrication method

Номер патента: US09494851B2. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Junichi Horikawa,Tsutomu Shoki,Toshihiko Orihara,Hirofumi Kozakai,Youichi Usui. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-11-15.

Resist overlayer film forming composition for lithography and method for manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US09494864B2. Автор: Rikimaru Sakamoto,Bangching Ho,Ryuji Ohnishi. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2016-11-15.

Field facet mirror for use in an illumination optics of a projection exposure apparatus for euv microlithography

Номер патента: WO2010037453A1. Автор: Martin Endres,Adrian Staicu. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2010-04-08.

Field facet mirror for use in an illumination optics of a projection exposure apparatus for euv microlithography

Номер патента: WO2010037453A8. Автор: Martin Endres,Adrian Staicu. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2010-09-16.

Method for preparing halftone phase shift mask blank, halftone phase shift mask blank, halftone phase shift mask, and thin film forming apparatus

Номер патента: US20180059532A1. Автор: Yukio Inazuki. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-01.

Method of manufacturing a substrate for a mask blank, method of manufacturing a mask blank, and method of manufacturing a mask

Номер патента: MY146813A. Автор: Hiroyuki Akagawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2012-09-28.

Extreme ultraviolet mask blank defect reduction methods

Номер патента: WO2021081289A1. Автор: Wen Xiao,Sanjay Bhat,Vibhu Jindal,Azeddine Zerrade,Shuwei Liu,Herng Yau Yoong. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-04-29.

Extreme ultraviolet mask blank defect reduction methods

Номер патента: WO2021081291A1. Автор: Wen Xiao,SHIYU Liu,Sanjay Bhat,Vibhu Jindal,Azeddine Zerrade,Binni VARGHESE. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-04-29.

Method for preparing halftone phase shift mask blank, halftone phase shift mask blank, halftone phase shift mask, and thin film forming apparatus

Номер патента: US20200026180A1. Автор: Yukio Inazuki. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-01-23.

Method for preparing halftone phase shift mask blank, halftone phase shift mask blank, halftone phase shift mask, and thin film forming apparatus

Номер патента: US10466582B2. Автор: Yukio Inazuki. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-05.

Method and master for making a color selection mask for a color cathode ray tube

Номер патента: CA1074171A. Автор: Howard G. Lange. Владелец: Zenith Radio Corp. Дата публикации: 1980-03-25.

Alignment and registration targets for multiple-column charged particle beam lithography and inspection

Номер патента: US09478395B1. Автор: Michael C. Smayling,Kevin M. Monahan,Theodore A. Prescop,David K. Lam. Владелец: Multibeam Corp. Дата публикации: 2016-10-25.

Composition for forming resist protection film for lithography and method for forming pattern of semiconductor device using the same

Номер патента: US09423692B2. Автор: Jae Hyun Kim,Hyun Jin Kim,Man Ho Han,Jong Kyoung Park. Владелец: Dongjin Semichem Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-23.

Substrate for electronic high-resolution lithography and relevant lithography method

Номер патента: RU2632581C2. Автор: Жан-Луи ЭМБЕР,Кристоф КОНСТАНСИА. Владелец: Коммиссариат А Л'Энержи Атомик Э О Энержи Альтернатив. Дата публикации: 2017-10-06.

Blank for nanoimprint mold, nanoimprint mold, and methods for producing said blank and said nanoimprint mold

Номер патента: US20140335215A1. Автор: Kazuyuki Hayashi,Yasutomi Iwahashi,Kazunobu Maeshige. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2014-11-13.

Erosion lithography and nozzle

Номер патента: CA1109677A. Автор: David W. Oliver. Владелец: US Department of Army. Дата публикации: 1981-09-29.

Manufacturing method of mask for electron beam proximity exposure and mask

Номер патента: US20020071994A1. Автор: Nobuo Shimazu,Takao Utsumi. Владелец: LEEPL Corp. Дата публикации: 2002-06-13.

Reflective-type mask blank for exposure, method of producing the same, and reflective-type mask for exposure

Номер патента: US20030162005A1. Автор: Tsutomu Shoki. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2003-08-28.

Photo-masks for lithography

Номер патента: US09411222B2. Автор: Marc Tricard. Владелец: Zygo Corp. Дата публикации: 2016-08-09.

Configurations, materials and wavelengths for EUV lithium plasma discharge lamps

Номер патента: US5963616A. Автор: William T. Silfvast,Marc A. Klosner. Владелец: UNIVERSITY OF CENTRAL FLORIDA. Дата публикации: 1999-10-05.

Mask for euv lithography and method of manufacturing the same

Номер патента: US20210033962A1. Автор: Yun-Yue Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-02-04.

Mask for euv lithography and method of manufacturing the same

Номер патента: US20200096858A1. Автор: Yun-Yue Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-03-26.

Phase-shift mask for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US20180143527A1. Автор: Roman Chalykh,Taehoon Lee,Seongsue Kim,Hwanseok SEO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-05-24.

Reflective mask blank for euv lithography, and process for its inspection and process for its production

Номер патента: US20160109384A1. Автор: Hiroshi Nakanishi,Junichi Kageyama,Yoshiaki Ikuta. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2016-04-21.

Reflective mask blank for EUV lithography, and process for its inspection and process for its production

Номер патента: US09739722B2. Автор: Hiroshi Nakanishi,Junichi Kageyama,Yoshiaki Ikuta. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-22.

Reflective mask blank for euv lithography and process for its production, as well as substrate with reflective layer for such mask blank and process for its production

Номер патента: US20160109792A1. Автор: Masaki Mikami. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2016-04-21.

REFLECTIVE MASK BLANK FOR EUV LITHOGRAPHY, METHOD OF MANUFACTURING THEREOF, REFLECTIVE MASK FOR EUV LITHOGRAPHY AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF

Номер патента: US20150198874A1. Автор: Ikuta Yoshiaki. Владелец: Asahi Glass Company, Limited. Дата публикации: 2015-07-16.

Lithography and etching process

Номер патента: US20020009865A1. Автор: Jain-Hon Chen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-01-24.

Reflective mask blank, and method for manufacturing reflective mask

Номер патента: EP4105718A3. Автор: Hideo Kaneko,Yukio Inazuki,Takuro Kosaka,Taiga OGOSE. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-28.

METHOD FOR MANUFACTURING MULTILAYERED-REFLECTIVE-FILM-PROVIDED SUBSTRATE, REFLECTIVE MASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING REFLECTIVE MASK

Номер патента: US20220308438A1. Автор: HAMAMOTO Kazuhiro,IWAMOTO Kentaro. Владелец: HOYA CORPORATION. Дата публикации: 2022-09-29.

Low-expansion glass substrate for a reflective mask and reflective mask

Номер патента: US20070009812A1. Автор: Masabumi Ito,Hitoshi Mishiro. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2007-01-11.

Light reflecting mask, exposure apparatus, and measuring method

Номер патента: US20110286002A1. Автор: Kosuke TAKAI. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2011-11-24.

Light reflecting mask, exposure apparatus, and measuring method

Номер патента: US20090273772A1. Автор: Kosuke TAKAI. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-11-05.

Mask blank for use in EUV-lithography and its process of manufacture

Номер патента: EP1475663A2. Автор: Lutz Aschke,Markus Dipl.-Phys. Renno,Mario Dipl.-Ing. Schiffler,Frank Dr. Sobel,Hans Dr. Becker. Владелец: Schott Glaswerke AG. Дата публикации: 2004-11-10.

Mask blank for use in EUV-lithography and its process of manufacture

Номер патента: EP1475663A3. Автор: Lutz Aschke,Markus Dipl.-Phys. Renno,Mario Dipl.-Ing. Schiffler,Frank Dr. Sobel,Hans Dr. Becker. Владелец: SCHOTT AG. Дата публикации: 2005-11-23.

Pellicle film with BN nano structure layer for EUV(extreme ultraviolet) lithography and method for fabricating the same

Номер патента: KR102482650B1. Автор: 김경수,최재혁,서경원,문성용,조상진,우란,이소윤,김청. Владелец: (주)에프에스티. Дата публикации: 2022-12-29.

Pellicle for EUV(extreme ultraviolet) lithography and method for fabricating the same

Номер патента: KR102514745B1. Автор: 김경수,서경원,문성용,조상진,우란,김지강. Владелец: 주식회사 에프에스티. Дата публикации: 2023-03-29.

Pellicle film with Carbyne layer for EUV(extreme ultraviolet) lithography and method for fabricating the same

Номер патента: KR102349295B1. Автор: 김경수,최재혁,서경원,문성용,조상진,우란,이소윤,김청. Владелец: 주식회사 에프에스티. Дата публикации: 2022-01-10.

Pellicle for EUV(extreme ultraviolet) lithography and method for fabricating the same

Номер патента: KR20220046216A. Автор: 김경수,서경원,문성용,조상진,우란,김지강. Владелец: 주식회사 에프에스티. Дата публикации: 2022-04-14.

Reflective-type mask blank for exposure, method of producing the same, and reflective-type mask for exposure

Номер патента: US20030162104A1. Автор: Tsutomu Shoki. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2003-08-28.

Sn vapor EUV LLP source system for EUV lithography

Номер патента: US09585236B2. Автор: Natale M. Ceglio,Daniel Stearns,Richard Levesque. Владелец: Media Lario SRL. Дата публикации: 2017-02-28.

Source-collector modules for euv lithography employing a gic mirror and a lpp source.

Номер патента: NL2010274C2. Автор: Fabio Zocchi,Jacques Kools,Natale M Ceglio,Daniel Stearns,Giuseppe Valsecchi,Riccardo Binda. Владелец: Media Lario SRL. Дата публикации: 2015-02-26.

Light source, euv lithography system, and method for generating euv radiation

Номер патента: US20210055664A1. Автор: BO-TSUN Liu,Chi Yang,Shang-Chieh Chien,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH,Tzung-Chi Fu,Ssu-Yu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-02-25.

Light source, euv lithography system, and method for performing circuit layout patterning process

Номер патента: US20220276574A1. Автор: BO-TSUN Liu,Chi Yang,Shang-Chieh Chien,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH,Tzung-Chi Fu,Ssu-Yu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-09-01.

Droplet catcher, droplet catcher system of euv lithography apparatus, and maintenance method of the euv lithography apparatus

Номер патента: US20210286273A1. Автор: Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Han-Lung Chang,Hsiao-Lun CHANG,Shih-Yu Tu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-09-16.

Euv lithography system and method for decreasing debris in euv lithography system

Номер патента: US20210223708A1. Автор: BO-TSUN Liu,Chi Yang,Shang-Chieh Chien,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH,Tzung-Chi Fu,Ssu-Yu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-07-22.

Gas discharge source, in particular for euv radiation

Номер патента: EP1886542B1. Автор: Jakob Willi Neff,Ralf Pruemmer. Владелец: Philips Intellectual Property and Standards GmbH. Дата публикации: 2010-04-14.

Gas Discharge Source, in Particular for Euv Radiation

Номер патента: US20080187105A1. Автор: Jakob Willi Neff,Ralf Pruemmer. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2008-08-07.

Device and method to remove debris from an extreme ultraviolet (EUV) lithography system

Номер патента: US11841625B2. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH,Chun-Han Lin,Sheng-Kang Yu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-12.

Device and method to remove debris from an extreme ultraviolet (euv) lithography system

Номер патента: US20230375950A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH,Chun-Han Lin,Sheng-Kang Yu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Droplet catcher, droplet catcher system of EUV lithography apparatus, and maintenance method of the EUV lithography apparatus

Номер патента: US11599030B2. Автор: Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Han-Lung Chang,Hsiao-Lun CHANG,Shih-Yu Tu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-03-07.

Gas discharge source, in particular for euv radiation

Номер патента: WO2006123270A3. Автор: Jakob Willi Neff,Ralf Pruemmer. Владелец: Ralf Pruemmer. Дата публикации: 2007-03-08.

Gas discharge source, in particular for euv radiation

Номер патента: EP1886542A2. Автор: Jakob Willi Neff,Ralf Pruemmer. Владелец: Philips Intellectual Property and Standards GmbH. Дата публикации: 2008-02-13.

Mask for selectively transmitting therethrough a desired light radiant energy

Номер патента: US4282314A. Автор: Donald Dinella,Ching-Ping Wong. Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1981-08-04.

Process for preparing a mask for sandblasting

Номер патента: US4456680A. Автор: Shohei Nakamura,Yoshimasa Tuji. Владелец: Asahi Kasei Kogyo KK. Дата публикации: 1984-06-26.

Mask for crystallizing silicon, apparatus having the mask and method of crystallizing with the mask

Номер патента: US20110003484A1. Автор: Hyun-dae Kim,Han-Na Jo. Владелец: Kim Hyun-Dae. Дата публикации: 2011-01-06.

Fixed position mask for workpiece edge treatment

Номер патента: US20180342413A1. Автор: Fletcher Ian Potter,Philip Layne,Keith A. Fernlund,Michael Swears,Richard Allen Sprenkle. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2018-11-29.

Etch mask for hybrid laser scribing and plasma etch wafer singulation process

Номер патента: SG11201809012PA. Автор: AJAY Kumar,James S Papanu,Brad Eaton,Prabhat Kumar,Wenguang Li,Alexander N Lerner,Ramesh Krishnamurthy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-11-29.

Mask for crystallizing silicon, apparatus having the mask and method of crystallizing with the mask

Номер патента: US20070141482A1. Автор: Hyun-dae Kim,Han-Na Jo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-06-21.

Mask for crystallizing silicon, apparatus having the mask and method of crystallizing with the mask

Номер патента: US7811721B2. Автор: Hyun-dae Kim,Han-Na Jo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2010-10-12.

Pellicle for euv lithography masks and methods of manufacturing thereof

Номер патента: US20230259021A1. Автор: Han Wang,Ming-Yang Li,Tzu-Ang Chao. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Mask for EUV lithography, EUV lithography apparatus and method for determining a contrast proportion caused by DUV radiation

Номер патента: US10156782B2. Автор: Peter Huber. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-12-18.

Reflective structure, reflective mask blank, reflective mask and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12025911B2. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Tsutomu Shoki. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-07-02.

Mask for EUV Lithography, EUV Lithography Apparatus and Method for Determining a Contrast Proportion Caused by DUV Radiation

Номер патента: US20170219920A1. Автор: Peter Huber. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-08-03.

Phase shift blankmask and photomask for euv lithography

Номер патента: US20240126163A1. Автор: Yong-Dae Kim,Chul-Kyu Yang,Mi-Kyung Woo. Владелец: S&S Tech Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-18.

Blankmask for euv lithography with absorbing film, and photomask fabricated with the same

Номер патента: EP4443234A1. Автор: Min-Kyu Park,Chul-Kyu Yang,Min-Kwang Park,Mi-Kyung Woo. Владелец: S&S Tech Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-09.

Blankmask for euv lithography with absorbing film, and photomask fabricated with the same

Номер патента: US20240329515A1. Автор: Min-Kyu Park,Chul-Kyu Yang,Min-Kwang Park,Mi-Kyung Woo. Владелец: S&S Tech Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate with multilayer reflection film for EUV mask blank, manufacturing method thereof, and EUV mask blank

Номер патента: US11860529B2. Автор: Kazuhiro Nishikawa,Hideo Kaneko,Tsuneo Terasawa,Yukio Inazuki,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-02.

Reflective mask and fabricating method thereof

Номер патента: US20220146924A1. Автор: Tsiao-Chen Wu,Pei-Cheng Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-05-12.

Reflective mask and fabricating method thereof

Номер патента: US20230229072A1. Автор: Tsiao-Chen Wu,Pei-Cheng Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-07-20.

Reflective mask and fabricating method thereof

Номер патента: US12038684B2. Автор: Tsiao-Chen Wu,Pei-Cheng Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Reflective mask and method of designing anti-reflection pattern of the same

Номер патента: US20240027890A1. Автор: Chan Hwang,HyungJong BAE,Heebom Kim,Woo-Yong Jung,Seungyoon LEE,Seong-Bo Shim,Hyun Jung Hwang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-01-25.

Method and apparatus to anneal euv mask blank

Номер патента: US20220187697A1. Автор: Wen Xiao,Sanjay Bhat,Ribhu GAUTAM,Vibhu Jindal,Herng Yau Yoong. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-06-16.

Reflective type blankmask and photomask for euv

Номер патента: US20210208496A1. Автор: Jong-Hwa Lee,Cheol Shin,Chul-Kyu Yang,Gil-Woo KONG. Владелец: S&S Tech Co Ltd. Дата публикации: 2021-07-08.

Maske für die euv-lithographie, euv-lithographieanlage und verfahren zum bestimmen eines durch duv-strahlung hervorgerufenen kontrastanteils

Номер патента: WO2016023737A1. Автор: Peter Huber. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-02-18.

Glass substrate for mask blank, mask blank and photomask

Номер патента: US10599031B2. Автор: Yuzo OKAMURA. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2020-03-24.

Substrate for use as mask blank, and mask blank

Номер патента: US20170277034A1. Автор: Yusuke Hirabayashi,Nobuhiko IKENOYA. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-28.

Glass substrate for mask blank, mask blank and photomask

Номер патента: US20180217492A1. Автор: Yuzo OKAMURA. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2018-08-02.

Substrate for mask blanks and method for manufacturing the same

Номер патента: US20230418149A1. Автор: Harunobu Matsui,Daijitsu Harada,Masaki Takeuchi,Tomoaki Sugiyama,Naoki YARITA. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Substrate for mask blanks and method for manufacturing the same

Номер патента: EP4296777A1. Автор: Harunobu Matsui,Daijitsu Harada,Masaki Takeuchi,Tomoaki Sugiyama,Naoki YARITA. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-27.

Mask for Extreme-Ultraviolet (Extreme-UV) Lithography and Method for Manufacturing the Same

Номер патента: US20190155138A1. Автор: Jae Uk Lee,Ryan Ryoung Han Kim. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2019-05-23.

Extreme ultraviolet (euv) mask for lithography and associated methods

Номер патента: US20190163048A1. Автор: No-Young Chung,Woon-hyuk CHOI. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-05-30.

Phase shift masks for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US11774846B2. Автор: Dongwan Kim,Seongsue Kim,Hwanseok SEO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-10-03.

EUV high throughput inspection system for defect detection on patterned EUV masks, mask blanks, and wafers

Номер патента: US9377414B2. Автор: David R. Shafer,David L. Brown,Yung-ho Chuang,Bin-Ming Benjamin Tsai,Richard W. Solarz. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2016-06-28.

Aluminum alloy disc blank for magnetic disc and magnetic disc

Номер патента: US20240018633A1. Автор: Hideyuki Hatakeyama,Ryo Sakamoto,Kotaro Kitawaki,Wataru Kumagai. Владелец: UACJ Corp. Дата публикации: 2024-01-18.

Beam pattern and reflecting surface antenna system control device

Номер патента: RU2725514C1. Автор: Степан Михайлович Слободян,Дмитрий Анатольевич Барчуков,Роман Викторович Вавилов,Роман Игоревич Якимюк. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Тверской государственный технический университет". Дата публикации: 2020-07-02.

Method for spatial compensation of direct and reflected signals when a reflected signal from an air target is detected by a bistatic radar system

Номер патента: RU2739938C1. Автор: Владислав Викторович Кирюшкин,Виктор Григорьевич Маркин,Владимир Андреевич Шуваев,Евгений Михайлович Красов. Владелец: Акционерное общество научно-внедренческое предприятие "ПРОТЕК". Дата публикации: 2020-12-30.

Reflective mask blank for EUV lithography and process for its production, as well as substrate with reflective layer for such mask blank and process for its production

Номер патента: US09720316B2. Автор: Masaki Mikami. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Reflective mask blank for EUV lithography, or reflective layer-coated substrate for EUV lithography, and process for its production

Номер патента: US09448469B2. Автор: Masaki Mikami. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Substrate with multilayer reflective film, reflective mask blank for EUV lithography, reflective mask for EUV lithography, and method of manufacturing the same, and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US09740091B2. Автор: Takahiro Onoue,Hirofumi Kozakai. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Substrate with a multilayer reflective film, reflective mask blank for EUV lithography, reflective mask for EUV lithography and method of manufacturing the same, and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US09720317B2. Автор: Takahiro Onoue. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-08-01.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask blank, and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US20240272541A1. Автор: Kenichi Sasaki,Ichiro Ishikawa,Wataru Nishida,Hiroaki IWAOKA,Daijiro AKAGI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Reflective mask blank for EUV lithography

Номер патента: US12038685B2. Автор: Toshiyuki Uno,Hiroyoshi Tanabe,Hiroshi HANEKAWA,Hirotomo Kawahara,Daijiro AKAGI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask blank, and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US12105412B2. Автор: Kenichi Sasaki,Ichiro Ishikawa,Wataru Nishida,Hiroaki IWAOKA,Daijiro AKAGI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-01.

Reflective mask blank for euv lithography, reflective mask for euv lithography, and method for manufacturing same

Номер патента: US20240210814A1. Автор: Keishi Tsukiyama,Toshiyuki Uno,Michinori Suehara,Hiroaki IWAOKA,Hirotomo Kawahara,Daijiro AKAGI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Reflective mask blank for euv lithography

Номер патента: US20080199787A1. Автор: Kazuyuki Hayashi,Takashi Sugiyama,Kazuo Kadowaki. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2008-08-21.

Reflective mask blank for euv lithography, reflective mask for euv lithography, and method for manufacturing same

Номер патента: US20230324785A1. Автор: Keishi Tsukiyama,Toshiyuki Uno,Michinori Suehara,Hiroaki IWAOKA,Hirotomo Kawahara,Daijiro AKAGI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Reflective mask blank for EUV lithography, reflective mask for EUV lithography, and method for manufacturing same

Номер патента: US11953822B2. Автор: Keishi Tsukiyama,Toshiyuki Uno,Michinori Suehara,Hiroaki IWAOKA,Hirotomo Kawahara,Daijiro AKAGI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-09.

Method for depositing multi-layer film of mask blank for EUV lithography and method for producing mask blank for EUV lithography

Номер патента: US20070077499A1. Автор: Yoshiaki Ikuta,David Krick,Hsing Ma. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2007-04-05.

Reflective mask blank for euv lithography

Номер патента: US20230305383A1. Автор: Toshiyuki Uno,Hiroyoshi Tanabe,Hiroshi HANEKAWA,Hirotomo Kawahara,Daijiro AKAGI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Reflective mask blank for euv lithography and substrate with conductive film

Номер патента: US20240184191A1. Автор: Yusuke Ono,Hiroshi HANEKAWA,Hirotomo Kawahara. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Reflective mask blank for euv lithography and substrate with conductive film

Номер патента: US20230350284A1. Автор: Yusuke Ono,Hiroshi HANEKAWA,Hirotomo Kawahara. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

Reflective mask blank for EUV lithography and substrate with conductive film

Номер патента: US11934093B2. Автор: Yusuke Ono,Hiroshi HANEKAWA,Hirotomo Kawahara. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-19.

Reflective mask blank, method of manufacturing thereof, and reflective mask

Номер патента: US12050396B2. Автор: Takuro Yamamoto,Shohei Mimura,Yukio Inazuki,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing reflective mask and semiconductor device

Номер патента: US12072619B2. Автор: Masanori Nakagawa,Tsutomu Shoki. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Reflective mask blank

Номер патента: EP4390537A3. Автор: Takuro Kosaka,Taiga OGOSE. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-10.

Reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240319578A1. Автор: Masanori Nakagawa,Tsutomu Shoki. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Reflective mask blank

Номер патента: EP4390537A2. Автор: Takuro Kosaka,Taiga OGOSE. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-26.

Reflective mask blank

Номер патента: US20240210812A1. Автор: Takuro Kosaka,Taiga OGOSE. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Reflective mask blank and reflective mask

Номер патента: EP4152093A1. Автор: Hideaki Nakano,Ayumi Goda,Kenjiro ICHIKAWA. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2023-03-22.

Reflective mask blank, method of manufacturing same, reflective mask and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09726969B2. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Tsutomu Shoki,Tatsuo ASAKAWA. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-08-08.

Reflective mask blank for EUV exposure, and reflective mask

Номер патента: US11835852B2. Автор: Hiroyoshi Tanabe. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-05.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12105413B2. Автор: Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask blank, and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US20240280890A1. Автор: Takuma Kato,Yusuke Ono,Takeshi Okato,Daijiro AKAGI,Ryusuke OISHI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Reflective mask blank and method for manufacturing same, method for manufacturing reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09535318B2. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Osamu Maruyama,Tsutomu Shoki,Tatsuo ASAKAWA. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-01-03.

Reflective mask blank and method for manufacturing same, method for manufacturing reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20150301441A1. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Osamu Maruyama,Tsutomu Shoki,Tatsuo ASAKAWA. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2015-10-22.

Reflective mask blank and method for manufacturing same, method for manufacturing reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20160282711A1. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Osamu Maruyama,Tsutomu Shoki,Tatsuo ASAKAWA. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-09-29.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask blank, and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US20240295807A1. Автор: Kenichi Sasaki,Yuya Nagata,Hiroaki IWAOKA,Daijiro AKAGI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09864267B2. Автор: Takahiro Onoue,Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2018-01-09.

Reflective mask blank, reflective mask and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US9075315B2. Автор: Toshiyuki Suzuki,Osamu Nozawa,Kazuya Sakai,Ryo Ohkubo. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2015-07-07.

Reflective mask blank, reflective mask and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US09625805B2. Автор: Toshiyuki Suzuki,Osamu Nozawa,Kazuya Sakai,Ryo Ohkubo. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-04-18.

Substrate with multilayer reflective film, reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240231214A9. Автор: Teiichiro Umezawa,Kota Suzuki. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Reflective mask blank, reflective mask and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20180329285A1. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2018-11-15.

Reflective mask blank, reflective mask and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20190339608A1. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2019-11-07.

Substrate with film for reflective mask blank, reflective mask blank, and method for manufacturing reflective mask

Номер патента: EP4160311A1. Автор: Takuro Kosaka,Taiga OGOSE. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-05.

Substrate with film for reflective mask blank, reflective mask blank, and method for manufacturing reflective mask

Номер патента: US12124162B2. Автор: Takuro Kosaka,Taiga OGOSE. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Reflective mask blank and process for producing the reflective mask blank

Номер патента: US09927693B2. Автор: Kazuyuki Hayashi,Junichi Kageyama,Hiroshi HANEKAWA. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Reflective mask blank, reflective mask, and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US20240319577A1. Автор: Hitoshi Maeda,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing reflective mask

Номер патента: US12032280B2. Автор: Yusuke Ono,Hiroshi HANEKAWA,Shunya TAKI,Taiga FUDETANI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Mask blanks and methods for depositing layers on mask blank

Номер патента: US12019367B2. Автор: Hsin-Chang Lee,Pei-Cheng Hsu,Ta-Cheng Lien,Wen-Chang Hsueh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Reflective mask blank and reflective mask

Номер патента: US12124164B2. Автор: Takuma Kato,Keishi Tsukiyama,Yukihiro Iwata,Toshiyuki Uno,Hiroshi HANEKAWA,Sadatatsu IKEDA,Daijiro AKAGI,Ryusuke OISHI,Chikako HANZAWA. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Method for manufacturing reflective mask blank, reflective mask blank, method for manufacturing reflective mask, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11852964B2. Автор: Takahiro Onoue,Tsutomu Shoki. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2023-12-26.

Reflective mask blank, reflective mask, and manufacturing method thereof

Номер патента: EP4390536A3. Автор: Yukio Inazuki,Takuro Kosaka,Taiga OGOSE. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-17.

Reflective mask blank and reflective mask

Номер патента: US20240241433A1. Автор: Takuma Kato,Keishi Tsukiyama,Yukihiro Iwata,Toshiyuki Uno,Hiroshi HANEKAWA,Sadatatsu IKEDA,Daijiro AKAGI,Ryusuke OISHI,Chikako HANZAWA. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Euv exposure mask blanks and their fabrication process, and euv exposure mask

Номер патента: US20070015065A1. Автор: Tsukasa Abe,Shiho Sasaki. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2007-01-18.

Reflective mask blank, and manufacturing method of reflective mask

Номер патента: US20240337916A1. Автор: Shohei Mimura,Yukio Inazuki,Takuro Kosaka,Taiga OGOSE. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Reflective mask blank, and manufacturing method of reflective mask

Номер патента: EP4443235A2. Автор: Shohei Mimura,Yukio Inazuki,Takuro Kosaka,Taiga OGOSE. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-09.

Reflective mask, reflective mask blank and manufacturing method therefor

Номер патента: US09921465B2. Автор: Norihito Fukugami,Shinpei Kondo. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-20.

Reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20230333459A1. Автор: Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2023-10-19.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11815807B2. Автор: Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2023-11-14.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240036458A1. Автор: Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-02-01.

Reflective mask blank, reflective mask, reflective mask manufacturing method, and reflective mask correction method

Номер патента: EP4080283A1. Автор: Kazuaki Matsui,Yosuke Kojima. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2022-10-26.

Reflective mask blank, reflective mask and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11880130B2. Автор: Takahiro Onoue,Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE,Hirofumi Kozakai. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-01-23.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask blank, and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US20240160096A1. Автор: Kenichi Sasaki,Yuya Nagata,Hiroaki IWAOKA,Daijiro AKAGI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask blank, and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US20230350285A1. Автор: Takuma Kato,Kenichi Sasaki,Ichiro Ishikawa,Daijiro AKAGI,Shunya TAKI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask blank, and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US11914284B2. Автор: Takuma Kato,Kenichi Sasaki,Ichiro Ishikawa,Daijiro AKAGI,Shunya TAKI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-27.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask blank, and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US20240094622A1. Автор: Kenichi Sasaki,Yuya Nagata,Hiroaki IWAOKA,Daijiro AKAGI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask blank, and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US20240176224A1. Автор: Takuma Kato,Kenichi Sasaki,Ichiro Ishikawa,Daijiro AKAGI,Shunya TAKI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask blank, and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US20240045320A1. Автор: Takuma Kato,Yusuke Ono,Takeshi Okato,Daijiro AKAGI,Ryusuke OISHI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask blank, and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US12001133B2. Автор: Takuma Kato,Yusuke Ono,Takeshi Okato,Daijiro AKAGI,Ryusuke OISHI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-04.

Reflection type mask blank and method for manufacturing same

Номер патента: US20240231215A9. Автор: Masaru Hori,Takayoshi Tsutsumi,Wataru Nishida. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Reflective mask blank, reflective mask and method of manufacturing the same, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11892768B2. Автор: Yohei IKEBE,Mizuki KATAOKA. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-02-06.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask blank, and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US11829065B2. Автор: Ichiro Ishikawa,Hiroaki IWAOKA,Daijiro AKAGI,Shunya TAKI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-28.

Reflective mask blank, reflective mask and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20230244135A1. Автор: Takahiro Onoue,Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE,Hirofumi Kozakai. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2023-08-03.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask blank, and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US12001134B2. Автор: Kenichi Sasaki,Yuya Nagata,Hiroaki IWAOKA,Daijiro AKAGI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-04.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask blank, and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US20240168370A1. Автор: Ichiro Ishikawa,Hiroaki IWAOKA,Daijiro AKAGI,Shunya TAKI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Mask for EUV Lithography and Method for Exposure Using the Same

Номер патента: US20100323280A1. Автор: Goo Min Jeong. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2010-12-23.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask blank, and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US20240152044A1. Автор: Kenichi Sasaki,Toshiyuki Uno,Ichiro Ishikawa,Hiroaki IWAOKA,Daijiro AKAGI,Shunya TAKI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask blank, and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US20230251564A1. Автор: Ichiro Ishikawa,Hiroaki IWAOKA,Daijiro AKAGI,Shunya TAKI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Mask blank, reflective mask, and method for producing semiconductor devices

Номер патента: US20240231216A1. Автор: Takuro Ono,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Multilayer reflective film-equipped substrate, reflective mask blank, reflective mask manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20230314928A1. Автор: Masanori Nakagawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2023-10-05.

Reflective mask blank, reflective mask and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US20150261083A1. Автор: Toshiyuki Suzuki,Osamu Nozawa,Kazuya Sakai,Ryo Ohkubo. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2015-09-17.

Substrate with multilayer reflective film, reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240134265A1. Автор: Teiichiro Umezawa,Kota Suzuki. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-04-25.

Reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing reflective mask

Номер патента: US20240160097A1. Автор: Yusuke Ono,Hiroshi HANEKAWA,Shunya TAKI,Taiga FUDETANI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11914281B2. Автор: Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-02-27.

Reflection type mask blank and production method therefor, and reflective layer-including substrate for said mask blank

Номер патента: US20240053671A1. Автор: Takahiro Kikuchi,Ryusuke OISHI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Reflective mask blank and reflective mask

Номер патента: US20240103354A1. Автор: Takahiro Onoue,Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE,Hirofumi Kozakai. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-03-28.

Reflective mask blank, reflective mask and method for manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US20240103355A1. Автор: Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-03-28.

Mask blanks and methods for depositing layers on mask blank

Номер патента: US20230121303A1. Автор: Hsin-Chang Lee,Pei-Cheng Hsu,Ta-Cheng Lien,Wen-Chang Hsueh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-04-20.

Reflective mask blank and reflective mask

Номер патента: US20240176225A1. Автор: Toshiyuki Uno,Hiroyoshi Tanabe,Hiroshi HANEKAWA. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Reflective mask blank and reflective mask

Номер патента: US11914283B2. Автор: Toshiyuki Uno,Hiroyoshi Tanabe,Hiroshi HANEKAWA. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-27.

Reflective mask blank, reflective mask, and manufacturing method thereof

Номер патента: EP4390536A2. Автор: Yukio Inazuki,Takuro Kosaka,Taiga OGOSE. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-26.

Reflective Mask Blank, Reflective Mask, and Manufacturing Method Thereof

Номер патента: US20240210813A1. Автор: Yukio Inazuki,Takuro Kosaka,Taiga OGOSE. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Reflective mask blank, and reflective mask

Номер патента: EP4184245A1. Автор: Takuro Kosaka,Taiga OGOSE. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-24.

Reflective mask blank and method for manufacturing reflective mask

Номер патента: EP4332676A2. Автор: Takuro Kosaka,Taiga OGOSE. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-06.

Reflective mask blank and method for manufacturing reflective mask

Номер патента: US20240077797A1. Автор: Takuro Kosaka,Taiga OGOSE. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-07.

Reflective mask blank and method for manufacturing reflective mask

Номер патента: EP4332676A3. Автор: Takuro Kosaka,Taiga OGOSE. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-13.

Mask blank, reflective mask, and method for producing semiconductor device

Номер патента: US20240184193A1. Автор: Takashi Uchida,Yohei IKEBE. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-06-06.

Ultra-thin, ultra-low density films for EUV lithography

Номер патента: US12085844B2. Автор: Takahiro Ueda,Marcio D. Lima. Владелец: Lintec of America Inc. Дата публикации: 2024-09-10.

Reflection type mask blank and method for manufacturing same

Номер патента: US20240134267A1. Автор: Masaru Hori,Takayoshi Tsutsumi,Wataru Nishida. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-25.

Reflective mask blank, and method for manufacturing thereof

Номер патента: EP4053632A1. Автор: Hideo Kaneko,Tsuneo Terasawa,Shohei Mimura. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-09-07.

Mask blank and reflective mask

Номер патента: US20240094621A1. Автор: Kazutake Taniguchi. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

Phase shift mask for euv lithography and manufacturing method for the phase shift mask

Номер патента: US20240310717A1. Автор: Tae Joong Ha. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2024-09-19.

Pellicle for euv lithography and method of fabricating the same

Номер патента: US20180259845A1. Автор: Ju-hee Hong,Chang-hun Lee,Kee-Soo Nam,Chul-Kyun PARK. Владелец: S&S Tech Co Ltd. Дата публикации: 2018-09-13.

Phase shift mask for EUV lithography and manufacturing method for the phase shift mask

Номер патента: US12025912B2. Автор: Tae Joong Ha. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2024-07-02.

Reflective mask and method for producing reflective mask

Номер патента: EP4231094A1. Автор: Hideaki Nakano,Ayumi Goda,Kenjiro ICHIKAWA,Yuto YAMAGATA. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2023-08-23.

System and method for inspecting a mask for euv lithography

Номер патента: US20230020107A1. Автор: Renzo Capelli. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-01-19.

Phase shift blankmask and photomask for euv lithography

Номер патента: US20240329516A1. Автор: Yong-Dae Kim,Min-Kyu Park,Chul-Kyu Yang,Min-Kwang Park,Mi-Kyung Woo. Владелец: S&S Tech Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Phase shift blankmask and photomask for euv lithography

Номер патента: EP4443233A1. Автор: Yong-Dae Kim,Min-Kyu Park,Chul-Kyu Yang,Min-Kwang Park,Mi-Kyung Woo. Владелец: S&S Tech Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-09.

Reflective masks for use in extreme ultraviolet lithography apparatus and methods of manufacturing the same

Номер патента: US09645484B2. Автор: Seong-Sue Kim,In-sung Kim,Tae-Geun Kim,Hwan-Seok Seo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-05-09.

Ultra-thin, ultra-low density films for EUV lithography

Номер патента: US11740548B2. Автор: Takahiro Ueda,Marcio D. Lima. Владелец: Lintec of America Inc. Дата публикации: 2023-08-29.

Reflective mask and method of fabricating the same

Номер патента: US09612524B2. Автор: Sun Young Koo,Jin Soo Kim,In Hwan Lee,Tae Joong Ha,Yong Dae Kim,Seo Min Kim,Chang Moon Lim,Byung Hoon Lee,Mi Jeong LIM,Yoon Suk Hyun. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2017-04-04.

Ultra-thin, ultra-low density films for euv lithography

Номер патента: WO2022060877A1. Автор: Takahiro Ueda,Marcio D. Lima. Владелец: Lintec Of America, Inc.. Дата публикации: 2022-03-24.

Ultra-thin, ultra-low density films for euv lithography

Номер патента: US20230393456A1. Автор: Takahiro Ueda,Marcio D. Lima. Владелец: Lintec of America Inc. Дата публикации: 2023-12-07.

Ultra-thin, ultra-low density films for euv lithography

Номер патента: US20230095318A1. Автор: Takahiro Ueda,Marcio D. Lima. Владелец: Lintec of America Inc. Дата публикации: 2023-03-30.

Method for manufacturing reflective mask and apparatus for manufacturing reflective mask

Номер патента: US20140186754A1. Автор: Takeharu Motokawa,Kosuke TAKAI,Tomoaki Yoshimori,Yoshihisa Kase,Makoto Karyu. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2014-07-03.

Substrate with multilayer reflection film for euv mask blank, manufacturing method thereof, and euv mask blank

Номер патента: EP3968087A1. Автор: Kazuhiro Nishikawa,Hideo Kaneko,Tsuneo Terasawa,Yukio Inazuki,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-16.

Method for manufacturing reflective mask and apparatus for manufacturing reflective mask

Номер патента: US9507251B2. Автор: Takeharu Motokawa,Kosuke TAKAI,Tomoaki Yoshimori,Yoshihisa Kase,Makoto Karyu. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2016-11-29.

Reflecting mask, apparatus for fixing the reflecting mask and method of fixing the reflecting mask

Номер патента: US20080057412A1. Автор: Suk-Ho Lee,Sung-min Huh. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2008-03-06.

Substrate with multilayer reflection film for EUV mask blank, manufacturing method thereof, and EUV mask blank

Номер патента: US11835851B2. Автор: Kazuhiro Nishikawa,Hideo Kaneko,Tsuneo Terasawa,Yukio Inazuki,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-05.

Reflective mask and method for manufacturing reflective mask

Номер патента: US09977323B2. Автор: Takashi Kamo. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2018-05-22.

Phase shift blankmask and photomask for EUV lithography

Номер патента: US11940725B2. Автор: Yong-Dae Kim,Jong-Hwa Lee,Cheol Shin,Chul-Kyu Yang,Min-Kwang Park,Mi-Kyung Woo. Владелец: S&S Tech Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-26.

A pellicle for euv lithography

Номер патента: WO2020099072A1. Автор: Markus Gerardus Martinus Maria Van Kraaij,Pieter-Jan VAN ZWOL,Evgenia KURGANOVA,Johan Hendrik Klootwijk,Arnoud Willem Notenboom,Adrianus Johannes Maria GIESBERS,Zomer Silvester HOUWELING,Ties Wouter VAN DER WOORD,Alexander Ludwig KLEIN,Inci DONMEZ,Fai Tong SI. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2020-05-22.

Reflective mask and method for producing reflective mask

Номер патента: US20240019776A1. Автор: Hideaki Nakano,Ayumi Goda,Kenjiro ICHIKAWA,Yuto YAMAGATA. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2024-01-18.

Phase shift blankmask and photomask for euv lithography

Номер патента: US20240126162A1. Автор: Yong-Dae Kim,Jong-Hwa Lee,Chul-Kyu Yang. Владелец: S&S Tech Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-18.

Reflective mask and method for manufacturing the same

Номер патента: US20120141927A1. Автор: Takashi Kamo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-06-07.

Reflective mask

Номер патента: US20240302731A1. Автор: Hsin-Chang Lee,Pei-Cheng Hsu,Ta-Cheng Lien. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Reflection mask and pattern formation method

Номер патента: US20170336721A1. Автор: Masaru Suzuki,Hiroyuki Mizuno,Kazuyuki Yoshimochi. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2017-11-23.

Reflection mask for X ray

Номер патента: US5399448A. Автор: Katsuhiko Murakami,Hiroshi Nakamura,Hiroshi Nagata. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1995-03-21.

Reflective element for mask blank and process for producing reflective element for mask blank

Номер патента: US20170235218A1. Автор: Toshiyuki Uno. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-17.

Extreme Ultraviolet Mask Blank Structure

Номер патента: US20220252971A1. Автор: SHIYU Liu,Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-08-11.

Extreme ultraviolet mask blank with multilayer absorber and method of manufacture

Номер патента: US11754917B2. Автор: Vibhu Jindal. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-12.

Method and apparatus to improve euv mask blank flatness

Номер патента: US20220187698A1. Автор: Wen Xiao,Sanjay Bhat,Vibhu Jindal,Vinodh RAMACHANDRAN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-06-16.

Apparatus and methods for fabricating a photomask substrate for euv applications

Номер патента: US20140255830A1. Автор: AJAY Kumar,Banqiu Wu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2014-09-11.

Extreme ultraviolet mask blank structure

Номер патента: WO2022173777A1. Автор: SHIYU Liu,Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-08-18.

X-ray mask blank and method of manufacturing the same

Номер патента: US5958627A. Автор: Tsutomu Shoki. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 1999-09-28.

X-ray mask blank and manufacturing method for the same, and manufacturing method for X-ray mask

Номер патента: US5999590A. Автор: Takamitsu Kawahara,Tsutomu Shoki. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 1999-12-07.

Extreme ultraviolet mask blank defect reduction

Номер патента: US11789358B2. Автор: Wen Xiao,Sanjay Bhat,Weimin Li,Vibhu Jindal,Azeddine Zerrade. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-17.

Fabrication of ultra-low expansion silicon mask blanks

Номер патента: WO2001075522A1. Автор: Gregory F. Cardinale. Владелец: Euv Limited Liability Corporation. Дата публикации: 2001-10-11.

Mask blank, transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20230097280A1. Автор: Osamu Nozawa,Keishi AKIYAMA,Hok Tak Lim,Tham Hui Jun. Владелец: Hoya Electronics Singapore Pte Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Method for modifying a chip layout to minimize within-die CD variations caused by flare variations in EUV lithography

Номер патента: US20030149956A1. Автор: Francisco Leon,Vivek Singh,John Bjorkholm. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2003-08-07.

Mask for ion, electron or X-ray lithography and method of making it

Номер патента: US4855197A. Автор: Jurgen Kempf,Werner Zapka,Joachim Keyser,Karl Asch. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1989-08-08.

Mask for x-ray lithography and method of manufacturing the same

Номер патента: US5132186A. Автор: Susumu Takeuchi,Nobuyuki Yoshioka. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1992-07-21.

Reflecting photo mask for x-ray exposure and method for manufacturing the same

Номер патента: US5572564A. Автор: Katsuhiko Murakami. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1996-11-05.

Thin film mask for use in an x-ray lithographic process and its method of manufacture by forming opaque pattern of ions in a diamond layer

Номер патента: US5314768A. Автор: Rakesh B. Sethi. Владелец: National Semiconductor Corp. Дата публикации: 1994-05-24.

Reflective photomask blank, method for manufacturing reflective photomask, and reflective photomask

Номер патента: US20230333460A1. Автор: Takeshi Ishii,Keisuke Sakurai,Shohei Mimura. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-19.

Reflective photomask blank, method for manufacturing reflective photomask, and reflective photomask

Номер патента: EP4261614A1. Автор: Takeshi Ishii,Keisuke Sakurai,Shohei Mimura. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-18.

Mask blank, phase-shift mask and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09933698B2. Автор: Atsushi Matsumoto,Takashi Uchida,Hiroaki Shishido. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Method of manufacturing mask for electron beam lithography and mask blank for electron beam lithography

Номер патента: US7029801B2. Автор: Mitsuhiro Yuasa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-04-18.

PSM blank for enhancing small size CD resolution

Номер патента: US09829786B2. Автор: Chun-Lang Chen,Tzung-Shiun LIU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-11-28.

Phase shift mask blank, phase shift mask, and method for manufacturing phase shift mask

Номер патента: US20240302732A1. Автор: Kyoko Kuroki,Kazuaki Matsui,Yosuke Kojima. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2024-09-12.

Mask blank and method of fabricating phase shift mask from the same

Номер патента: US20030194620A1. Автор: Yong-Hoon Kim. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-10-16.

Mask blank and method of manufacturing phase shift mask

Номер патента: US09494852B2. Автор: Yasushi Okubo,Ryo Ohkubo. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-11-15.

Mask blank, phase shift mask, and method for producing semiconductor device

Номер патента: US20240337919A1. Автор: Hitoshi Maeda,Osamu Nozawa,Ryo Ohkubo,Kenta Tsukagoshi. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-10-10.

Manufacturing method and apparatus of phase shift mask blank

Номер патента: US7282121B2. Автор: Hideaki Mitsui,Osamu Nozawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2007-10-16.

Phase-shift mask blank, phase-shift mask, method of manufacturing phase-shift mask, and method of modifying phase-shift mask

Номер патента: EP4307047A1. Автор: Kyoko Kuroki,Kazuaki Matsui,Yosuke Kojima. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2024-01-17.

Phase shift mask blank, phase shift mask, and method for manufacturing phase shift mask

Номер патента: US20230333461A1. Автор: Kyoko Kuroki,Kazuaki Matsui,Yosuke Kojima. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2023-10-19.

Phase shift mask blank, phase shift mask, and method for manufacturing phase shift mask

Номер патента: EP4310591A1. Автор: Kyoko Kuroki,Kazuaki Matsui,Yosuke Kojima. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2024-01-24.

Phase shift mask blank, phase shift mask, method for manufacturing phase shift mask, and method for modifying phase shift mask

Номер патента: US20240152045A1. Автор: Kyoko Kuroki,Kazuaki Matsui,Yosuke Kojima. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2024-05-09.

Phase shift mask blank, phase shift mask, and method for manufacturing phase shift mask

Номер патента: EP4212956A1. Автор: Kyoko Kuroki,Kazuaki Matsui,Yosuke Kojima. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2023-07-19.

Mask blank having resist layer, method for manufacturing mask blank having resist layer, and method for manufacturing transfer mask

Номер патента: US20180335693A1. Автор: Hiroaki Shishido,Seishi SHIBAYAMA,Takahiro Hiromatsu. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2018-11-22.

Mask blank, and transfer mask

Номер патента: US09952498B2. Автор: Toshiyuki Suzuki,Shigenori Ishihara. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2018-04-24.

Phase-shift mask blank and process for the production thereof comprising a semi transparent film with silicon and nitrogen

Номер патента: US5955223A. Автор: Kenji Matsumoto,Hideaki Mitsui,Yoichi Yamaguchi. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 1999-09-21.

Mask blank, method for manufacturing transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20230259015A1. Автор: Hiroaki Shishido,Osamu Nozawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2023-08-17.

Mask blank, transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12013631B2. Автор: Hiroaki Shishido. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-06-18.

Preparation of halftone phase shift mask blank

Номер патента: US7425390B2. Автор: Hiroki Yoshikawa,Satoshi Okazaki. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2008-09-16.

Mask blank, transfer mask, and methods of manufacturing the same

Номер патента: US9470970B2. Автор: Toshiyuki Suzuki,Shigenori Ishihara. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

Mask blank, method for manufacturing transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240053672A1. Автор: Hiroaki Shishido,Osamu Nozawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-02-15.

Mask blank, phase shift mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20230314929A1. Автор: Hitoshi Maeda,Osamu Nozawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2023-10-05.

Halftone phase shift mask blank and halftone phase shift mask

Номер патента: US20180088457A1. Автор: Hideo Kaneko,Yukio Inazuki,Kouhei Sasamoto,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-29.

Phase shift mask blank, manufacturing method of phase shift mask, and phase shift mask

Номер патента: EP3992712A1. Автор: Shohei Mimura,Naoki Matsuhashi,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-04.

Phase shift mask blank, manufacturing method of phase shift mask, and phase shift mask

Номер патента: US20220137502A1. Автор: Shohei Mimura,Naoki Matsuhashi,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-05.

Phase shift mask blank, manufacturing method thereof, and phase shift mask

Номер патента: US20200310240A1. Автор: Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-10-01.

Phase shift mask blank, manufacturing method thereof, and phase shift mask

Номер патента: US20220236638A1. Автор: Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-07-28.

Phase shift mask blank, manufacturing method thereof, and phase shift mask

Номер патента: EP3719574A1. Автор: Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-10-07.

Halftone phase shift mask blank and halftone phase shift mask

Номер патента: US20200026181A1. Автор: Hideo Kaneko,Yukio Inazuki,Kouhei Sasamoto,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-01-23.

Phase shift mask blank and phase shift mask

Номер патента: EP3719575A1. Автор: Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-10-07.

Phase shift mask blank and phase shift mask

Номер патента: US20200310241A1. Автор: Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-10-01.

Phase shift mask for extreme ultraviolet lithography and a method of manufacturing a semiconductor device using the same

Номер патента: US12099293B2. Автор: Seongsue Kim,Changyoung Jeong,Hwanseok SEO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-24.

Mask for structuring surface areas, and method of making it

Номер патента: US4342817A. Автор: Johann Greschner,Harald Bohlen,Helmut Engelke,Peter Nehmiz. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1982-08-03.

Mask for projection system using charged particle beam

Номер патента: US5728492A. Автор: Shintaro Kawata. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1998-03-17.

Device and method for handling pot-shaped hollow bodies, more particularly transport containers for semiconductor wafers or euv lithography masks

Номер патента: US20230411195A1. Автор: Günter Haas,Frank Schienle,Jürgen Gutekunst. Владелец: Gsec German Semiconductor Equipment Co GmbH. Дата публикации: 2023-12-21.

Method for using disposable hard mask for gate critical dimension control

Номер патента: US5670423A. Автор: Chue-San Yoo. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 1997-09-23.

Coated mask for photolithographic construction of electric circuits

Номер патента: US4803110A. Автор: Kie Y. Ahn,Charles A. Cortellino,Joseph E. Levine,Stephen B. Brodsky,Saryadevara Basavaiah. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1989-02-07.

Reflective optical element for euv lithography and method of manufacturing a reflective optical element

Номер патента: EP2929398A1. Автор: Boris Bittner,Norbert Wabra,Martin von Hodenberg,Olaf Conradi,Hartmut Enkisch,Stephan Müllender. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2015-10-14.

Reflective Optical Element for EUV Lithography and Method of Manufacturing a Reflective Optical Element

Номер патента: US20150316851A1. Автор: Stephan Muellender,Boris Bittner,Norbert Wabra,Martin von Hodenberg,Olaf Conradi,Hartmut Enkisch. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2015-11-05.

Reflective optical element for EUV lithography and method of manufacturing a reflective optical element

Номер патента: US09606446B2. Автор: Stephan Muellender,Boris Bittner,Norbert Wabra,Martin von Hodenberg,Olaf Conradi,Hartmut Enkisch. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-03-28.

Objective for EUV microscopy, EUV lithography, and x-ray imaging

Номер патента: US9329487B2. Автор: Kenneth W. Hill,Philip Efthimion,Manfred Bitter. Владелец: PRINCETON UNIVERSITY. Дата публикации: 2016-05-03.

Novel Objective for EUV Microscopy, EUV Lithography, and X-Ray Imaging

Номер патента: US20150055755A1. Автор: Kenneth W. Hill,Philip Efthimion,Manfred Bitter. Владелец: PRINCETON UNIVERSITY. Дата публикации: 2015-02-26.

Apparatus for euv lithography and method of measuring focus

Номер патента: US20190101836A1. Автор: Ming-Jhih Kuo,Yuan-Yen Lo,Yi-Lun LIU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2019-04-04.

Apparatus for euv lithography and method of measuring focus

Номер патента: US20200117102A1. Автор: Ming-Jhih Kuo,Yuan-Yen Lo,Yi-Lun LIU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-04-16.

Tin(ii) amide/alkoxide precursors for euv-patternable films

Номер патента: US20230126125A1. Автор: David M. ERMERT,Tom M. Cameron. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2023-04-27.

Tin(ii) amide/alkoxide precursors for euv-patternable films

Номер патента: WO2023034296A1. Автор: David M. ERMERT,Tom M. Cameron. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2023-03-09.

Tin(ii) amide/alkoxide precursors for euv-patternable films

Номер патента: EP4396631A1. Автор: David M. ERMERT,Tom M. Cameron. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-07-10.

Euv active films for euv lithography

Номер патента: WO2023086299A1. Автор: Robert Clark. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2023-05-19.

Chain scission resist compositions for euv lithography applications

Номер патента: US20210200085A1. Автор: Marie KRYSAK,James Blackwell,Eungnak Han,Patrick THEOFANIS,Lauren DOYLE. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2021-07-01.

Highly efficient automatic particle cleaner method for euv systems

Номер патента: US20230099309A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Li-Jui Chen,Shao-Hua Wang,Chueh-Chi KUO,Yen-Hao Liu,Shih-Yu Tu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Optical arrangement for euv lithography

Номер патента: WO2019179861A1. Автор: Anastasia Gonchar. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-09-26.

Reflective optical element and optical system for EUV lithography

Номер патента: US09996005B2. Автор: Dirk Heinrich Ehm,Stephan Muellender,Peter Huber,Gisela von Blanckenhagen. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-06-12.

Illumination system for EUV lithography

Номер патента: US09671608B2. Автор: Martin Endres,Jens Ossmann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-06-06.

Enhanced ultra-thin, ultra-low density films for euv lithography and method of producing thereof

Номер патента: WO2023055739A1. Автор: Takahiro Ueda,Marcio D. Lima. Владелец: Lintec Of America, Inc.. Дата публикации: 2023-04-06.

Positive resist composition for EUV lithography and method of forming resist pattern

Номер патента: US11988964B2. Автор: Manabu Hoshino. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2024-05-21.

Optical arrangement for euv lithography and method of regenerating a gas-binding component

Номер патента: WO2022258459A1. Автор: Joachim Hartjes. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2022-12-15.

Zirconium-coated ultra-thin, ultra-low density films for euv lithography

Номер патента: WO2023055729A1. Автор: Takahiro Ueda,Marcio D. Lima,Mary Viola GRAHAM. Владелец: Lintec Of America, Inc.. Дата публикации: 2023-04-06.

Mems device for euv mask-less lithography

Номер патента: WO2023184517A1. Автор: Philippe Muller,Yijian Chen. Владелец: Huawei Technologies CO.,Ltd.. Дата публикации: 2023-10-05.

Membrane for euv lithography

Номер патента: US20240004283A1. Автор: Paul JANSSEN,Egbert Lenderink,Marcus Adrianus Van De Kerkhof,Andrey Nikipelov,Pieter-Jan VAN ZWOL,Gijsbert RISPENS,David Ferdinand VLES,Arnoud Willem Notenboom,Antonius Willem Verburg,Maxim Aleksandrovich Nasalevich,Erik Achilles Abegg,Nirupam BANERJEE,Michiel Alexander Blauw,Derk Servatius Gertruda Brouns,Matthias Kruizinga,Nicolae MAXIM,Claudia PILIEGO,Maria Peter,Nadja Schuh,Willem Joan Van Der Zande,Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen,Willem-Pieter VOORTHUIJZEN,Aleksandar Nikolov Zdravkov. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-01-04.

Reflective optical element and optical system for euv lithography

Номер патента: EP2710415A1. Автор: Dirk Heinrich Ehm,Stephan Muellender,Peter Huber,Gisela von Blanckenhagen. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-03-26.

A membrane for euv lithography

Номер патента: CA3021916A1. Автор: Paul JANSSEN,Egbert Lenderink,Marcus Adrianus Van De Kerkhof,Andrey Nikipelov,Pieter-Jan VAN ZWOL,Gijsbert RISPENS,David Ferdinand VLES,Arnoud Willem Notenboom,Antonius Willem Verburg,Maxim Aleksandrovich Nasalevich,Erik Achilles Abegg,Nirupam BANERJEE,Michiel Alexander Blauw,Derk Servatius Gertruda Brouns,Matthias Kruizinga,Nicolae MAXIM,Claudia PILIEGO,Maria Peter,Nadja Schuh,Willem Joan Van Der Zande,Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen,Willem-Pieter VOORTHUIJZEN,Aleksandar Nikolov Zdravkov. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-11-02.

Optical arrangement, in particular projection exposure apparatus for EUV lithography, as well as reflective optical element with reduced contamination

Номер патента: US8585224B2. Автор: Dirk Heinrich Ehm,Stephan Muellender,Thomas Stein,Johannes Hubertus Josephina Moors,Bastiaan Theodoor Wolschrijn,Dieter Kraus,Richard Versluis,Marcus Gerhardus Hendrikus Meijerink. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2013-11-19.

Optical system, in particular for euv lithography

Номер патента: WO2022179766A1. Автор: Toralf Gruner,Joachim Hartjes,Markus Schwab,Thomas Schicketanz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2022-09-01.

Pellicle for euv lithography

Номер патента: WO2023193995A1. Автор: Volker Dirk Hildenbrand,Inci DONMEZ NOYAN,Paul Alexander VERMEULEN. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2023-10-12.

Pellicle for euv lithography

Номер патента: NL2025186A. Автор: BIJKERK Frederik,Shavikof Airat,Schurink Bart,Marinus Sturm Jacobus,Wilhelmus Elisabeth Van De Kruijs Robbert. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-10-15.

Highly efficient automatic particle cleaner method for EUV systems

Номер патента: US11953839B2. Автор: Heng-Hsin Liu,Li-Jui Chen,Shao-Hua Wang,Chueh-Chi KUO,Yen-Hao Liu,Shih-Yu Tu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-04-09.

Optical arrangement for euv lithography

Номер патента: US20210003926A1. Автор: Anastasia Gonchar. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2021-01-07.

Positive resist composition for extreme ultraviolet lithography and resist pattern formation kit for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US20230324797A1. Автор: Manabu Hoshino. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2023-10-12.

Blank of titanium-doped glass with a high silica content for a mirror substrate for use in EUV lithography and method for the production thereof

Номер патента: US09416040B2. Автор: Bodo Kuehn. Владелец: Heraeus Quarzglas GmbH and Co KG. Дата публикации: 2016-08-16.

Nanotube-based pellicle for extreme ultraviolet lithography and related manufacturing method

Номер патента: US20240280893A1. Автор: Hyeong Keun Kim,Seul Gi Kim. Владелец: KOREA ELECTRONICS TECHNOLOGY INSTITUTE. Дата публикации: 2024-08-22.

Illumination system for EUV projection lithography

Номер патента: US09958783B2. Автор: Michael Patra,Ralf Mueller. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-05-01.

Mask blank, transfer mask, method of manufacturing a mask blank, method of manufacturing a transfer mask and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US09625807B2. Автор: Hiroaki Shishido,Osamu Nozawa,Toshiharu Kikuchi,Atsushi Kominato. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-04-18.

Mask blank, transfer mask, method of manufacturing mask blank, method of manufacturing transfer mask and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20150293441A1. Автор: Hiroaki Shishido,Osamu Nozawa,Toshiharu Kikuchi,Atsushi Kominato. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2015-10-15.

Blank of TiO2-SiO2 glass for a mirror substrate for use in EUV lithography and method for the production thereof

Номер патента: US09522840B2. Автор: Stefan Ochs,Klaus Becker,Stephan Thomas. Владелец: Heraeus Quarzglas GmbH and Co KG. Дата публикации: 2016-12-20.

Photosensitive composition for euv light, pattern formation method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: EP3783434A1. Автор: Hironori Oka,Michihiro Shirakawa,Hajime Furutani. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-02-24.

Photosensitive composition for euv light, pattern formation method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: EP3783434A8. Автор: Hironori Oka,Michihiro Shirakawa,Hajime Furutani. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-04-14.

Modeling euv lithography shadowing effect

Номер патента: WO2012125409A3. Автор: HUA Song,James P. Shiely,Lena Zavyalova. Владелец: Synopsys, Inc.. Дата публикации: 2013-01-10.

Modeling euv lithography shadowing effect

Номер патента: WO2012125409A2. Автор: HUA Song,James P. Shiely,Lena Zavyalova. Владелец: Synopsys, Inc.. Дата публикации: 2012-09-20.

Photosensitive composition for euv light, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20210011377A1. Автор: Hironori Oka,Michihiro Shirakawa,Hajime Furutani. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-01-14.

Mask blank, transfer mask, methods of manufacturing the same and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US20110244375A1. Автор: Toshiyuki Suzuki,Hiroaki Shishido,Osamu Nozawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2011-10-06.

EUV lithography system and method with optimized throughput and stability

Номер патента: US09678431B2. Автор: YEN-CHENG Lu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen,Shun-Der Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-06-13.

Method for producing an euv module, euv module and euv lithography system

Номер патента: WO2016180609A1. Автор: Andreas Schmehl. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-11-17.

Apparatus and method for determining physical properties of a mask blank

Номер патента: US7289231B2. Автор: Tarek Lutz,Markus Menath. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2007-10-30.

Apparatus and method for determining physical properties of a mask blank

Номер патента: US20040194039A1. Автор: Tarek Lutz,Markus Menath. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2004-09-30.

Method for depositing a cover layer, euv lithography system and optical element

Номер патента: US20240302756A1. Автор: Stefan Schmidt,Moritz Becker,Dirk Ehm. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-09-12.

Reflective optical element and method for operating an euv lithography apparatus

Номер патента: EP2483746A1. Автор: Dirk Heinrich Ehm,Gisela von Blanckenhagen,Axel Dochnahl. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-08-08.

Negative tone photosensitive composition for EUV light, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US11573491B2. Автор: Michihiro Shirakawa,Wataru Nihashi,Michihiro OGAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-02-07.

Illumination system for an euv lithography device and facet mirror therefor

Номер патента: WO2014128025A1. Автор: Joerg Zimmermann,Johannes Ruoff,Daniel Kraehmer,Frank Schlesener,Christoph Hennerkes,Ingo Saenger. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-08-28.

Grating for euv-radiation, method for manufacturing the grating and wavefront measurement system

Номер патента: US20100284064A1. Автор: Borgert Kruizinga,Martijn Gerard Dominique Wehrens,Michiel David Nijkerk,Kornelis Frits FEENSTRA. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2010-11-11.

Grating for euv-radiation, method for manufacturing the grating and wavefront measurement system

Номер патента: WO2009082224A1. Автор: Borgert Kruizinga,Martijn Gerard Dominique Wehrens,Michiel David Nijkerk,Kornelis Frits FEENSTRA. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2009-07-02.

Illumination optical unit for EUV projection lithography

Номер патента: US09983484B2. Автор: Martin Endres,Stig Bieling,Ralf Mueller. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-05-29.

Method for producing a capping layer composed of silicon oxide on an EUV mirror, EUV mirror, and EUV lithography apparatus

Номер патента: US09880476B2. Автор: Dirk Heinrich Ehm,Gisela von Blanckenhagen. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-01-30.

Illumination optical unit for EUV projection lithography

Номер патента: US09841683B2. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-12-12.

Illumination system for an EUV lithography device and facet mirror therefor

Номер патента: US09551941B2. Автор: Joerg Zimmermann,Johannes Ruoff,Daniel Kraehmer,Frank Schlesener,Christoph Hennerkes,Ingo Saenger. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-01-24.

EUV Lithography System with Diffraction Optics

Номер патента: US20220107568A1. Автор: Kenneth Carlisle Johnson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-04-07.

Cleaning device for an euv lithography system, euv lithography system with such a device and cleaning method

Номер патента: WO2016142370A1. Автор: Thomas Bischoff,Moritz Becker,Andreas Königer,Ralf Wichard. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-09-15.

Method for producing an euv module, euv module and euv lithography system

Номер патента: EP3295248A1. Автор: Andreas Schmehl. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-03-21.

Substrate for mask blanks, mask blank, transfer mask, and method of manufacturing them

Номер патента: US09778209B2. Автор: Kazuki Aoyama,Takahito Nishimura. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-10-03.

Mask blank, transfer mask, method of manufacturing a transfer mask, and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US09372393B2. Автор: Masahiro Hashimoto,Hiroyuki Iwashita,Osamu Nozawa,Atsushi Kominato. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-06-21.

Optical arrangement for EUV radiation with a shield for protection against the etching effect of a plasma

Номер патента: US11137687B2. Автор: Joachim Hartjes,Moritz Becker,Kerstin Hild,Bjoern LIEBAUG,Simon Haas. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2021-10-05.

Negative-type photosensitive composition for euv light, pattern forming method, and manufacturing method of electronic device

Номер патента: EP3779596A1. Автор: Michihiro Shirakawa,Wataru Nihashi,Michihiro OGAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-02-17.

Negative tone photosensitive composition for euv light, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20210011380A1. Автор: Michihiro Shirakawa,Wataru Nihashi,Michihiro OGAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-01-14.

Modeling euv lithography shadowing effect

Номер патента: US20120240086A1. Автор: HUA Song,James P. Shiely,Lena Zavyalova. Владелец: Synopsys Inc. Дата публикации: 2012-09-20.

Mask blank glass substrate manufacturing method, mask blank manufacturing method, mask manufacturing method, mask blank glass substrate, mask blank, and mask

Номер патента: US20110059390A1. Автор: Yasushi Okubo,Akinori Kurikawa,Hisashi Kasahara. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2011-03-10.

Vacuum system, in particular euv lithography system, and optical element

Номер патента: WO2016023802A1. Автор: Matthias Roos,Eugen Foca. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-02-18.

Imaging optical unit for EUV projection lithography

Номер патента: US09625827B2. Автор: Johannes Ruoff,Josef Rapp. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-04-18.

Monitor system for determining orientations of mirror elements and EUV lithography system

Номер патента: US09563129B2. Автор: Johannes Wangler,Markus Deguenther,Johannes Eisenmenger,Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-02-07.

Apparatus and methods for measurement of critical dimensions of features and detection of defects in uv, vuv, and euv lithography masks

Номер патента: WO2005108914A3. Автор: Henry Allen Hill. Владелец: Zetetic Inst. Дата публикации: 2006-12-14.

Lithography and method of fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20230055365A1. Автор: Wooseok Kim,Noyoung CHUNG,Byung Je JUNG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-02-23.

Vacuum system, in particular euv lithography system, and optical element

Номер патента: US20190196344A1. Автор: Matthias Roos,Eugen Foca. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-06-27.

Vacuum System, in Particular EUV Lithography System, and Optical Element

Номер патента: US20170168402A1. Автор: Matthias Roos,Eugen Foca. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-06-15.

Lithography mask blank

Номер патента: US20050250018A1. Автор: Osamu Suzuki,Megumi Takeuchi,Minoru Sakamoto,Masao Ushida. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2005-11-10.

Mask blank and method for manufacturing transfer mask

Номер патента: US20090233190A1. Автор: Masahiro Hashimoto. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2009-09-17.

Mask blank and phase shift mask

Номер патента: US20240361683A1. Автор: Hiroaki Shishido,Yasutaka HORIGOME,Keishi AKIYAMA. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-10-31.

Mask blank, phase shift mask, and production method thereof

Номер патента: US09971238B2. Автор: Hiroshi Watanabe,Katsuya Hayano,Takashi Adachi,Ayako Tani,Yoichi Miura,Hideyoshi Takamizawa,Youhei Ohkawa. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2018-05-15.

Imaging optical unit for EUV projection lithography

Номер патента: US09835953B2. Автор: Johannes Ruoff,Josef Rapp. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-12-05.

Method and cooling system for cooling an optical element for EUV applications

Номер патента: US09671584B2. Автор: Joachim Hartjes,Guenther Dengel. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-06-06.

Mask blank, transfer mask and method of manufacturing transfer mask

Номер патента: US09651859B2. Автор: Masahiro Hashimoto,Hiroyuki Iwashita,Osamu Nozawa,Atsushi Kominato. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-05-16.

Method for determining the phase angle and/or the thickness of a contamination layer at an optical element and EUV lithography apparatus

Номер патента: US09618387B2. Автор: Michael Gerhard. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-04-11.

Extreme ultraviolet mask blank production system with thin absorber and manufacturing system therefor

Номер патента: US09612522B2. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-04-04.

EUV lithography system

Номер патента: US09448490B2. Автор: Markus Deguenther,Markus Hauf,Igor Gurevich,Udo Dinger,Lars Wischmeier,Stephan Kellner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-09-20.

Illumination optical unit for EUV projection lithography

Номер патента: US9280061B2. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-03-08.

Exposure mask manufacturing method, drawing apparatus, semiconductor device manufacturing method, and mask blanks product

Номер патента: US20090227112A1. Автор: Masamitsu Itoh. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2009-09-10.

Mask blank substrate manufacturing method, mask blank manufacturing method, mask manufacturing method, and mask blank substrate

Номер патента: US20100081069A1. Автор: Yasushi Okubo. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2010-04-01.

Mask blank and making method

Номер патента: US20160266485A1. Автор: Hideo Kaneko,Yukio Inazuki. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-15.

Photolithography method, photolithography mask blanks, and method of making

Номер патента: EP1240556A1. Автор: Daniel R. Sempolinski,Richard S. Priestley,Chunzhe C. Yu. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2002-09-18.

Reflective optical element and EUV lithography appliance

Номер патента: US8537460B2. Автор: Udo Nothelfer,Hans-Jürgen Mann,Johann Trenkler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-09-17.

Four-mirror extreme ultraviolet (EUV) lithography projection system

Номер патента: US6142641A. Автор: David R Shafer,Simon J Cohen,Hwan J Jeong. Владелец: Ultratech Inc. Дата публикации: 2000-11-07.

Method for determining the phase angle and/or the thickness of a contamination layer at an optical element and euv lithography apparatus

Номер патента: US20160025554A1. Автор: Michael Gerhard. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-01-28.

Process for deposition of an outer layer, reflective optical element for the euv wavelength range and euv lithography system

Номер патента: US20240111216A1. Автор: Stefan Schmidt,Dirk Ehm,Fred Roozeboom,Alfredo Mameli. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-04-04.

Euv lithography apparatus and operating method for mitigating contamination

Номер патента: US20230324814A1. Автор: Tung-Li Wu,Yung-Cheng Chen,I-Hsiung Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

High-transmittance attenuated phase-shift mask blank

Номер патента: US20070082274A1. Автор: Fu-Der Lai. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-04-12.

Mask blank glass substrate

Номер патента: EP3923071A1. Автор: Daijitsu Harada,Masaki Takeuchi,Naoki YARITA. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-12-15.

Mask blank glass substrate

Номер патента: US12117724B2. Автор: Daijitsu Harada,Masaki Takeuchi,Naoki YARITA. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-15.

Glass substrate for mask blank

Номер патента: US09904164B2. Автор: Hiroshi Nakanishi. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-27.

Substrate with multilayer reflective film, mask blank, transfer mask and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09798050B2. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Toshihiko Orihara. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-10-24.

Mask blank and transfer mask

Номер патента: US09746764B2. Автор: Yasushi Sakaida,Rikimaru Sakamoto,Masahiro Hashimoto,Ryuta Mizuochi,Masaki Nagai,Takahiro Hiromatsu. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-08-29.

Glass substrate for mask blank, and method for producing the same

Номер патента: US09684232B2. Автор: Yusuke Hirabayashi. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-20.

Method of manufacturing mask blank and method of manufacturing transfer mask

Номер патента: US09664997B2. Автор: Hiroaki Shishido,Osamu Nozawa,Atsushi Kominato. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-05-30.

Halftone phase shifting mask blank, halftone phase shifting mask, and pattern transfer method

Номер патента: EP1582920A2. Автор: Hiroki c/o Shin-Etsu Chem. Co. Ltd. Yoshikawa,Toshinobu c/o Shin-Etsu Chem. Co. Ltd. Ishihara,Satoshi c/o Shin-Etsu Chem. Co. Ltd. Okazaki,Yukio c/o Shin-Etsu Chem. Co. Ltd. Inazuki,Tadashi Toppan Printing Co. Ltd. Saga,Kimihiro Toppan Printing Co. Ltd. Okada,Masahide Toppan Printing Co. Ltd. Iwakata,Takashi Toppan Printing Co. Ltd. Haraguchi,Mikio Toppan Printing Co. Ltd. Takagi,Yuichi Toppan Printing Co. Ltd. Fukushima. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2005-10-05.

Mask blank and photomask

Номер патента: US20140106266A1. Автор: Isao Hattori. Владелец: Clean Surface Technology Co. Дата публикации: 2014-04-17.

Lithography mask blank and method of manufacturing the same

Номер патента: US20020098422A1. Автор: Osamu Nozawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2002-07-25.

Phase shift mask blank, phase shift mask, and method for manufacturing the same

Номер патента: US20020061452A1. Автор: Hideaki Mitsui,Osamu Nozawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2002-05-23.

Mask blank, phase shift mask, and method for producing semiconductor device

Номер патента: US20230393457A1. Автор: Hitoshi Maeda,Osamu Nozawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2023-12-07.

Extreme ultraviolet mask blank production system with thin absorber and manufacturing system therefor

Номер патента: EP3167473A1. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-05-17.

Extreme Ultraviolet Mask Blank Production System With Thin Absorber And Manufacturing System Therefor

Номер патента: US20200058213A9. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-02-20.

Extreme ultraviolet mask blank production system with thin absorber and manufacturing system therefor

Номер патента: WO2016007610A1. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2016-01-14.

Mask blank for lithography and method of manufacturing the same

Номер патента: US20210232055A1. Автор: Ming-Wei Chen,Hsin-Chang Lee,Ping-Hsun LIN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-07-29.

Mask blank for lithography and method of manufacturing the same

Номер патента: US20200103769A1. Автор: Ming-Wei Chen,Hsin-Chang Lee,Ping-Hsun LIN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-04-02.

Mask Blank Glass Substrate

Номер патента: US20240053675A1. Автор: Daijitsu Harada,Masaki Takeuchi,Naoki YARITA. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Mask blank and transfer mask

Номер патента: US20160274457A1. Автор: Yasushi Sakaida,Rikimaru Sakamoto,Masahiro Hashimoto,Ryuta Mizuochi,Masaki Nagai,Takahiro Hiromatsu. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-09-22.

Mask blank glass substrate

Номер патента: US11835853B2. Автор: Daijitsu Harada,Masaki Takeuchi,Naoki YARITA. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-05.

Glass substrate for mask blank, and method for producing the same

Номер патента: US20160041461A1. Автор: Yusuke Hirabayashi. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2016-02-11.

Polymer, Chemically Amplified Positive Resist Composition, Resist Patterning Process, And Mask Blank

Номер патента: US20240134280A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake,yuta Matsuzawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-25.

Polymer, chemically amplified positive resist composition, resist patterning process, and mask blank

Номер патента: EP4343433A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake,yuta Matsuzawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-27.

Mask blank, phase shift mask, and method for producing semiconductor device

Номер патента: US20240184194A1. Автор: Hitoshi Maeda,Osamu Nozawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-06-06.

Mask blank with resist film and method for manufacturing the same and method for manufacturing transfer mask

Номер патента: US20170168382A1. Автор: Toru Fukui. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-06-15.

Method and structure for fabricating dark-periphery mask for the manufacture of semiconductor wafers

Номер патента: US20110207033A1. Автор: Guang Yea (Simon) Tarng. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2011-08-25.

Inverse lithography and machine learning for mask synthesis

Номер патента: US11762283B2. Автор: Thomas Christopher Cecil,Amyn A. Poonawala,Jason Jiale SHU. Владелец: Synopsys Inc. Дата публикации: 2023-09-19.

Mask for near-field lithography and its manufacture

Номер патента: RU2544280C2. Автор: Борис КОБРИН. Владелец: Ролит, Инк.. Дата публикации: 2015-03-20.

Stamp for imprint lithography and method of its production and use

Номер патента: RU2745059C2. Автор: Маркус Антониус ВЕРСХЮИРЕН. Владелец: КОНИНКЛЕЙКЕ ФИЛИПС Н.В.. Дата публикации: 2021-03-18.

Positive-type resist composition for liquid immersion lithography and method for forming resist pattern

Номер патента: US20070190448A1. Автор: Kotaro Endo,Keita Ishiduka. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2007-08-16.

Inspection device for masks for semiconductor lithography and method

Номер патента: US11867642B2. Автор: Heiko Feldmann,Holger Seitz,Thomas Zeuner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-01-09.

Inspection device for masks for semiconductor lithography and method

Номер патента: US20210156809A1. Автор: Heiko Feldmann,Holger Seitz,Thomas Zeuner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2021-05-27.

Mold for nanoimprint lithography and method for forming the same

Номер патента: US20120308680A1. Автор: Naoko Inoue. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2012-12-06.

Inverse lithography and machine learning for mask synthesis

Номер патента: US20230375916A1. Автор: Amyn A. Poonawala,Jason Jiale SHU,Thomas Chrisptopher CECIL. Владелец: Synopsys Inc. Дата публикации: 2023-11-23.

Inverse lithography and machine learning for mask synthesis

Номер патента: EP4062230A1. Автор: Thomas Christopher Cecil,Amyn A. Poonawala,Jason Jiale SHU. Владелец: Synopsys Inc. Дата публикации: 2022-09-28.

Improved masking for patterns on light-emitting devices

Номер патента: RU2603434C2. Автор: Хольгер ШВАБ,Рейнхолд Антониус ФЛЕЙГЕ. Владелец: КОНИНКЛЕЙКЕ ФИЛИПС Н.В.. Дата публикации: 2016-11-27.

Method and device for fabrication of mask for laser unit for production of microstructures

Номер патента: RU2580901C2. Автор: Шарль БОЭГЛИ,Стеффен ВАЙССМАНТЕЛЬ,Гюнтер РАЙСС,Энди ЭНГЕЛ,Рене БОЭТТЧЕР,Вернер СТЕФФЕН. Владелец: БОЭГЛИ-ГРАВЮР С.А.. Дата публикации: 2016-04-10.

Spherical solar power generator with multiple refraction and reflection of rays in concentrator

Номер патента: RU2616741C2. Автор: Тагир Абдурашидович Исмаилов,Хаджимурат Магомедович Гаджиев,Залина Асамутдиновна Исмаилова,Саврина Казимовна Акимова,Кистаман Мудуновна Давыдова. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Дагестанский государственный технический университет". Дата публикации: 2017-04-18.

Photographic masks for tonal correction

Номер патента: CA1310853C. Автор: Gerhard Fritz Dusdieker. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 1992-12-01.

Mask for optical exposure

Номер патента: CA1070855A. Автор: Yasuaki Nakane,Iwao Mori,Tadayoshi Mifune. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1980-01-29.

Focus test mask for projection exposure system, focus monitoring system using the same, and focus monitoring method

Номер патента: US6088113A. Автор: Young-Chang Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2000-07-11.

Attenuating phase shift mask for photolithography

Номер патента: US20030044695A1. Автор: Vladimir Liberman,Mordechai Rothschild. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2003-03-06.

Lithography masks for improved line-end patterning

Номер патента: US20080318137A1. Автор: Richard Schenker,Swaminathan Sivakumar,Paul Nyhus,Sven Henrichs. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2008-12-25.

Method for generating masks for manufacturing of a semiconductor structure

Номер патента: US20190250503A1. Автор: Yung-Feng Cheng,Chia-Wei Huang,Tsung-Yeh Wu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2019-08-15.

Devices and methods including an led and reflective die attach material

Номер патента: US20160056353A1. Автор: Tao Tong,Hongtao Ma,Qifeng Shan. Владелец: Luminus Inc. Дата публикации: 2016-02-25.

Method and device for characterizing a mask for microlithography

Номер патента: US11188000B2. Автор: Markus Koch,Tobias Mueller,Michael Kamp-Froese. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2021-11-30.

Mask for partial plating, and method for producing insulated circuit board and partial plating method using the mask

Номер патента: EP3995606A1. Автор: Satoru Ideguchi,Masaaki HIGO. Владелец: Dowa Metaltech Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-11.

Mask for deposition, method of manufacturing mask, and method of manufacturing display device

Номер патента: US20180151803A1. Автор: Youngmin Moon,Minho Moon,Jeongkuk Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-31.

Attenuating phase shift mask for photolithography

Номер патента: WO2003023522A1. Автор: Vladimir Liberman,Mordechai Rothschild. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2003-03-20.

Mask for thin film deposition, and fabrication method thereof

Номер патента: US11075340B2. Автор: Shinil Choi,Hongsick PARK,Sanggab Kim,Hyuneok Shin,Sangwoo SOHN,Sangwon Shin. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2021-07-27.

Method and structure for fabricating a halftone mask for the manufacture of semiconductor wafers

Номер патента: US20050142892A1. Автор: Cong LU. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2005-06-30.

Mask for oled thin-film encapsulation

Номер патента: US20190198821A1. Автор: Wei Yu. Владелец: Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-06-27.

Implementing ir reflective mask to minimize cte mismatch between laminate and pth copper

Номер патента: US20190364670A1. Автор: Joseph Kuczynski,Kevin O'Connell,Timothy Tofil,Mark Plucinski. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2019-11-28.

Device for measuring complex transmission and reflection coefficients of microwave devices with frequency conversion

Номер патента: RU2649861C1. Автор: Константин Станиславович Коротков,Аким Алексеевич Бабенко,Даниил Русланович Фролов,Антон Сергеевич Левченко. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Кубанский государственный университет" (ФГБОУ ВО "КубГУ"). Дата публикации: 2018-04-10.

Methods of patterning and making masks for three-dimensional substrates

Номер патента: RU2668664C2. Автор: Адам ТОНЕР,Джеймс Дэниел РАЙЕЛЛ,Джеффри Миллер,Правин ПАНДОДЖИРАО-СУНКОДЖИРАО. Владелец: Джонсон Энд Джонсон Вижн Кэа, Инк.. Дата публикации: 2018-10-02.

Device for measuring complex transmission and reflection coefficients of microwave devices with frequency conversion up

Номер патента: RU2646948C1. Автор: Константин Станиславович Коротков,Аким Алексеевич Бабенко,Даниил Русланович Фролов,Антон Сергеевич Левченко,Александр Викторович Гноевой,Николай Андреевич Яковенко. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Кубанский государственный университет" (ФГБОУ ВО "КубГУ"). Дата публикации: 2018-03-12.

Phase modulator system, having beam splitter and linear polarisation phase modulator, and method of splitting light beam incident on said phase modulator and reflected therefrom

Номер патента: RU2451313C2. Автор: Пал КОППА,Аттила БАРОЧИ,Габор ЭРДЕЙ,Эмеке ЛЕРИНЦ,Юдит РЕМЕНЬИ,Ференц УЙХЕЛЬИ. Владелец: Байер Инновейшн Гмбх. Дата публикации: 2012-05-20.

Method for determining a solar mask for an installation and method for checking the compatibility of a motorized drive device

Номер патента: US11887333B2. Автор: Fabien Rousseau. Владелец: SOMFY ACTIVITES SA. Дата публикации: 2024-01-30.

Determining cryptographic operation masks for improving resistance to external monitoring attacks

Номер патента: US20200364377A1. Автор: Jeremy Samuel COOPER. Владелец: Cryptography Research Inc. Дата публикации: 2020-11-19.

Determining cryptographic operation masks for improving resistance to external monitoring attacks

Номер патента: EP3241150A1. Автор: Jeremy Samuel COOPER. Владелец: Cryptography Research Inc. Дата публикации: 2017-11-08.

Apparatus, method, and system for a privacy mask for video streams

Номер патента: EP4325445A1. Автор: Ming Lu,Gurudutt Hosangadi. Владелец: NOKIA TECHNOLOGIES OY. Дата публикации: 2024-02-21.

Configurable low resource subsample image mask for merging in a distorted image space

Номер патента: US11979679B2. Автор: Michael A. Ropers,Brent Hansen. Владелец: ROCKWELL COLLINS INC. Дата публикации: 2024-05-07.

Metallic material deposition mask for oled pixel deposition, and method for producing same

Номер патента: EP4339322A2. Автор: Jee Heum Paik,Su Hyeon Cho,Hae Sik Kim,Yeong Deuk Jo,Hyo Won Son,Sang Yu Lee. Владелец: LG Innotek Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-20.

Masking for mitigating visual contrast of a camera region of a display

Номер патента: GB2597583A. Автор: Dao Kevin. Владелец: MOTOROLA MOBILITY LLC. Дата публикации: 2022-02-02.

Underlayer and methods for euv lithography

Номер патента: US20240280905A1. Автор: SI Li,Xue Wang,Ming Luo,Xinlin Lu,Yichen LIANG,Kelsey Brakensiek,Ruimeng Zhang,Pengtao Lu. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2024-08-22.

Underlayer and methods for euv lithography

Номер патента: WO2024173437A1. Автор: SI Li,Xue Wang,Ming Luo,Xinlin Lu,Yichen LIANG,Kelsey Brakensiek,Ruimeng Zhang,Pengtao Lu. Владелец: Brewer Science, Inc.. Дата публикации: 2024-08-22.

Method and apparatus for compensating defects of a mask blank

Номер патента: WO2019021154A1. Автор: Joachim Welte. Владелец: CARL ZEISS SMS LTD.. Дата публикации: 2019-01-31.

Maskless, microlens euv lithography system

Номер патента: WO2000042618A1. Автор: Kenneth C. Johnson. Владелец: Johnson Kenneth C. Дата публикации: 2000-07-20.

Blank for a conduit arrangement

Номер патента: US12134130B2. Автор: Thomas Weckerling,Rolf Cremerius,Ümit Aydin,Galina Ermakova. Владелец: GKN DRIVELINE INTERNATIONAL GMBH. Дата публикации: 2024-11-05.

Source blank for stainless steel three-ply clad sheet, production methods of clad steel plate and sheet for solid polymer type fuel cell separator, and solid polymer type fuel cell separator

Номер патента: CA2622776C. Автор: Akira Seki,Hideaki Yamamoto,Kunihiko Ushio,Motomichi Kanbe,Takeo Yazawa,Yoshio Tarutani. Владелец: Sumitomo Metal Industries Ltd. Дата публикации: 2012-04-17.

Method for substantially eliminating residual magnetism in pipe-blanks for welded steel pipe longitudinally seam-welded from the inside

Номер патента: CA1083228A. Автор: Itaru Watanabe,Takashi Nagamine,Osamu Hirano,Motoaki Suzuki,Jinkichi Tanaka,Toshifumi Kojima,Hiroyoshi Matsubara,Kenji Takeshige,Fusao Koshiga,Tatsumi Osuka. Владелец: Nippon Kokan Ltd. Дата публикации: 1980-08-05.

Electrophotographic photosensitive material suitable for offset printing and lithography and process for production thereof

Номер патента: CA1102168A. Автор: Yoshiaki Kato,Yasuo Ueda,Akira Fushida,Tatsuo Aizawa,Yasusuke Tohi. Владелец: Mita Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1981-06-02.

Blank for producing a long nb3 sn-based superconducting wire

Номер патента: EP3961658A1. Автор: Ildar Mansurovich ABDYUKHANOV,Maxim Viktorovich ALEKSEEV,Alexander Gennadievich SILAEV,Viktor Ivanovich PANTSYRNY,Konstantin Alekseevich MAREEV,Mariia Vladimirovna KRYLOVA,Anastasiia Sergeevna TSAPLEVA,Pavel Vladimirovich KONOVALOV,Sergei Mihailovich ZERNOV. Владелец: Tvel JSC. Дата публикации: 2022-03-02.

Shadow masks for use in colour picture tubes

Номер патента: GB1323620A. Автор: . Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1973-07-18.

Electron-emitting device and reflecting panel comprising such device

Номер патента: RU2432636C2. Автор: Наофуми АОКИ,Содзи НИСИДА. Владелец: Кэнон Кабусики Кайся. Дата публикации: 2011-10-27.

Method of fixing to frame electrode or shadow mask for color image receiving tube

Номер патента: US5681197A. Автор: Hideo Suzuki,Takashi Ichiyanagi,Masaru Nagaike,Norihiko Egami,Manabu Kakino. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1997-10-28.

Shadow mask for a color CRT

Номер патента: GB2336467A. Автор: No Jin Park,Sang Mun Kim,Myung Hoon Oh. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 1999-10-20.

Film mount and mask for a pair of panoramic stereoscopic images

Номер патента: US3723904A. Автор: R Bernier. Владелец: TRW Inc. Дата публикации: 1973-03-27.

Controlling the production of plate electrodes such as shadow masks for colour television tubes

Номер патента: GB1331814A. Автор: . Владелец: Zenith Radio Corp. Дата публикации: 1973-09-26.

Mask for preventing undesired light from entering lens of a camera

Номер патента: US20030113112A1. Автор: Chin-Yu Lin,Chih-Po Yang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-06-19.

Method of making a shadow mask for a cathode ray tube

Номер патента: US6491831B1. Автор: Nobumitsu Aibara. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2002-12-10.

Grounding of conductive mask for deposition processes

Номер патента: WO2016195943A1. Автор: Soo Young Choi,Jae Jung Kim,Jin Man Ha,Yong Kyun Jeong,Chung Hee Park. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2016-12-08.

A tension mask for a cathode-ray tube with improved vibration damping

Номер патента: WO2002071436A3. Автор: Gary Lee Diven,Joseph Arthur Reed. Владелец: Joseph Arthur Reed. Дата публикации: 2003-02-20.

A tension mask for a cathode-ray tube with improved vibration damping

Номер патента: MY157273A. Автор: Gary Lee Diven,Joseph Arthur Reed. Владелец: Thomson Licensing Sa. Дата публикации: 2016-05-31.

A tension mask for a cathode-ray tube with improved vibration damping

Номер патента: EP1364383A2. Автор: Gary Lee Diven,Joseph Arthur Reed. Владелец: Thomson Licensing SAS. Дата публикации: 2003-11-26.

A tension mask for a cathode-ray tube with improved vibration damping

Номер патента: WO2002071436A2. Автор: Gary Lee Diven,Joseph Arthur Reed. Владелец: THOMSON LICENSING S.A.. Дата публикации: 2002-09-12.

Shadow mask for cathode ray tube and manufacturing method thereof

Номер патента: US20050035702A1. Автор: SUNG Kim,Dong Kim,Sang Kim. Владелец: LG Philips Displays Korea Co Ltd. Дата публикации: 2005-02-17.

High-density mask for 3d substrates and method of its making

Номер патента: RU2573127C2. Автор: Адам ТОНЕР,Джеймс Дэниел РАЙЕЛЛ,Правин ПАНДОДЖИРАО-С. Владелец: Джонсон Энд Джонсон Вижн Кэа, Инк.. Дата публикации: 2016-01-20.

Methods and apparatus for measuring stress of membrane regions of segmented microlithographic mask blanks

Номер патента: US20020112544A1. Автор: Masashi Okada. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-08-22.

Blank for drawer of electric cabinet

Номер патента: RU2557804C2. Автор: Якобус ЭВЕРИНК. Владелец: Итон Индастриз (Незерлэндс) Б.В.. Дата публикации: 2015-07-27.

Aluminum alloy disc blank for magnetic disc and magnetic disc

Номер патента: US12087342B2. Автор: Hideyuki Hatakeyama,Toshihiro Nakamura,Ryo Sakamoto,Ryohei Yamada,Kotaro Kitawaki,Shinpei Todo,Wataru Kumagai. Владелец: UACJ Corp. Дата публикации: 2024-09-10.

Printed object and blank for producing same

Номер патента: EP1237730A1. Автор: Britta Lindqvist. Владелец: Bröderna Ljungberg Tryckeri Ab. Дата публикации: 2002-09-11.

Handling Transmit and Receive Blanking for Multi-RAT and DSDA Capable Wireless Devices

Номер патента: US20240172104A1. Автор: QIANG Miao,Ying Zhang,Zhiwei Wang,Wen Zhao,Wenping LOU,Deepankar Bhattacharjee,Lijie Zhang,Junzhen Qin,Lele CUI,Kexin Ma,Alex Yee Kit Ho. Владелец: Apple Inc. Дата публикации: 2024-05-23.

Method of producing data carrier printed by means of laser, data carrier produced by the method and blank for the carrier

Номер патента: RU2267406C2. Автор: Экхард БРАУН. Владелец: Гизеке Унд Девриент Гмбх. Дата публикации: 2006-01-10.

Blank for eyeglass lenses and means for selecting a suitable blank

Номер патента: CA1248376A. Автор: Hans Lahres,Hubert Bammert,Egon Mosch. Владелец: CARL ZEISS AG. Дата публикации: 1989-01-10.

Handling transmit and receive blanking for multi-rat and dsda capable wireless devices

Номер патента: EP4152640A3. Автор: QIANG Miao,Ying Zhang,Zhiwei Wang,Wen Zhao,Wenping LOU,Deepankar Bhattacharjee,Lijie Zhang,Junzhen Qin,Lele CUI,Kexin Ma,Alex Yee Kit Ho. Владелец: Apple Inc. Дата публикации: 2023-05-24.

Aluminum alloy disc blank for magnetic disc and magnetic disc

Номер патента: US20230335161A1. Автор: Ryo Sakamoto,Kotaro Kitawaki,Wataru Kumagai. Владелец: UACJ Corp. Дата публикации: 2023-10-19.

Printed object and blank for producing same

Номер патента: WO2001039989A1. Автор: Britta Lindqvist. Владелец: Bröderna Ljungberg Tryckeri Ab. Дата публикации: 2001-06-07.

Blank for producing a dental prosthesis

Номер патента: US20230301761A1. Автор: Christian Frei,Ronny Watzke. Владелец: IVOCLAR VIVADENT AG. Дата публикации: 2023-09-28.

Semi-finished blank for varifocal lens, varifocal lens made from this blank, and varifocal eyeglasses featuring this lens

Номер патента: US20120287397A1. Автор: Satoko Machida,Kouji SONE,Tsugumasa Hitomi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-11-15.

Semi-finished blank for varifocal lens, varifocal lens, and varifocal eyeglasses

Номер патента: US20120154741A1. Автор: Akihiro Muramatsu,Satoko Machida,Kouji SONE,Shunsuke Nishihara. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2012-06-21.

Device for measuring complex transfer coefficients and reflection of microwave devices with frequency conversion

Номер патента: RU2687980C1. Автор: Константин Станиславович Коротков,Аким Алексеевич Бабенко,Даниил Русланович Фролов,Дмитрий Викторович Нереуцкий,Антон Сергеевич Левченко. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Кубанский государственный университет" (ФГБОУ ВО "КубГУ"). Дата публикации: 2019-05-17.

Method for calibrating two-channel superheterodyne receiver in meter of complex transmission and reflection coefficients of microwave devices with frequency conversion

Номер патента: RU2673781C1. Автор: Константин Станиславович Коротков,Аким Алексеевич Бабенко,Даниил Русланович Фролов,Антон Сергеевич Левченко. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Кубанский государственный университет" (ФГБОУ ВО "КубГУ"). Дата публикации: 2018-11-29.

Device for compensating for direct and reflected from stationary object of radar signals of radio transmitter in bistatic radar system receiver

Номер патента: RU2734233C1. Автор: Владислав Викторович Кирюшкин,Виктор Григорьевич Маркин,Владимир Андреевич Шуваев,Евгений Михайлович Красов,Сергей Иванович Бабусенко,Александр Викторович Журавлев. Владелец: Акционерное общество научно-внедренческое предприятие "ПРОТЕК". Дата публикации: 2020-10-13.

Device for measuring complex transmission and reflection coefficients of microwave devices with frequency conversion

Номер патента: RU2682079C1. Автор: Константин Станиславович Коротков,Аким Алексеевич Бабенко,Даниил Русланович Фролов,Антон Сергеевич Левченко. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Кубанский государственный университет" (ФГБОУ ВО "КубГУ"). Дата публикации: 2019-03-14.

Method of forming colour security image within sheet material visible in transmitted light and reflected on front and back surfaces of said material by set of coaxial entry holes and sheet material therefor

Номер патента: RU2555500C1. Автор: Григорий Аврамович Радуцкий,Сергей Николаевич Максимовский. Владелец: Сергей Николаевич Максимовский. Дата публикации: 2015-07-10.

System having darkening light filter, method of controlling system with darkening filter and protective mask for darkening light filter

Номер патента: RU2407045C2. Автор: Бенгт ГАРБЕРГС,Маркус ВИДЕРКЕХР,Бенгт ГАРБЕРГС (SE),Маркус ВИДЕРКЕХР (SE). Владелец: ЗМ Инновейтив Пропертиз Компани. Дата публикации: 2010-12-20.

Method of power supply of an aircraft with the use of solar batteries using diffused and reflected light from the underlying surface and an aircraft for implementing this method

Номер патента: RU2672310C1. Автор: Михаил Валерьевич Лифшиц. Владелец: Акционерное общество "РОТЕК" (АО "РОТЕК"). Дата публикации: 2018-11-13.

Frame for glasses, masks for professional or sports use, and the like

Номер патента: CA2806409C. Автор: Mario Polegato Moretti. Владелец: Geox SpA. Дата публикации: 2018-09-04.

A1n masking for selective etching of sapphire

Номер патента: CA1065746A. Автор: Richard F. Rutz. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1979-11-06.

Mask for magnetic tape cassettes

Номер патента: CA1300258C. Автор: Abramo Bordignon. Владелец: ATB SpA. Дата публикации: 1992-05-05.

Mask for patterning electrode structures in thin film el devices

Номер патента: CA1247256A. Автор: Robert A. Boudreau. Владелец: GTE Products Corp. Дата публикации: 1988-12-20.

Face mask for filtering air and air monitoring system

Номер патента: US11241594B2. Автор: Jason Tyler Griffin,Steven Henry Fyke,Richard Devin SZASZ,Brandon James LEONARD,Peter Lionel WHITBY,Michael Joseph Defazio. Владелец: O2 Industries Inc. Дата публикации: 2022-02-08.

Mask for wave soldering machine

Номер патента: CA1276507C. Автор: Dennis W. Grummett. Владелец: NCR Corp. Дата публикации: 1990-11-20.

Improved optical devices and reflection control techniques

Номер патента: WO1994012899A1. Автор: Peter W. J. Jones. Владелец: Tenebraex Corporation. Дата публикации: 1994-06-09.

Determining a mask for explaining a classification

Номер патента: EP3862925A1. Автор: Andres Mauricio Munoz Delgado. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2021-08-11.

Reflectivity and resolution x-ray dispersive and reflective structures and method of making the structures

Номер патента: CA1223090A. Автор: Stanford R. Ovshinsky,John E. Keem,James L. Wood,Keith L. Hart,Steven A. Flessa,Lennard Sztaba. Владелец: Ovonic Synthetic Materials Co Inc. Дата публикации: 1987-06-16.

Semi-reflective film and reflective film for optical information recording medium optical information recordi medium and sputtering target

Номер патента: SG118417A1. Автор: Nakai Junichi,TAUCHI Yuuki,Takagi Katsutoshi. Владелец: Kobe Steel Ltd. Дата публикации: 2006-01-27.

Acoustic room with absorption and reflection (diffusion/scattering) balancing system

Номер патента: WO2023187487A1. Автор: Roshan GEORGE THOMAS. Владелец: George Thomas Roshan. Дата публикации: 2023-10-05.

Mask for deposition of metallic material for depositing oled pixels and manufacturing method thereof

Номер патента: EP3678204A2. Автор: Jee Heum Paik,Hae Sik Kim. Владелец: LG Innotek Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-08.

Methods, precursors, and abrasive blasting masks for manufacturing noise attenuating devices

Номер патента: US11911873B2. Автор: Tony MILLAR,Derek SIMPSON. Владелец: SHORT BROTHERS PLC. Дата публикации: 2024-02-27.

Data masking for memory

Номер патента: US20230350582A1. Автор: Daniele Vimercati,Jahanshir Javanifard,Angelo Visconti. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2023-11-02.

Detection and Estimation of Direct and Reflected Navigation Satellite Signal Parameters in a Multipath Environment

Номер патента: US20230350075A1. Автор: Emre Tapucu,Dmitry Kuznetsov. Владелец: Avago Technologies International Sales Pte Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

Print masks for multiple pass print modes

Номер патента: WO2014037040A1. Автор: Utpal Kumar Sarkar,Jaime Fernandez,Ynqvar ROSSOW SETHNE. Владелец: Hewlett-Packard Development Company, L.P.. Дата публикации: 2014-03-13.

Image-based detection of surfaces that provide specular reflections and reflection modification

Номер патента: US11900569B2. Автор: Peter Meier,Daniel Kurz,Mohamed Selim Ben Himane,Brian Chris Clark. Владелец: Apple Inc. Дата публикации: 2024-02-13.

System and method for nanostructure apodization mask for transmitter signal suppression in a duplex telescope

Номер патента: US20140061453A1. Автор: James J. Butler,John G. Hagopian,Jeffrey A. Livas,Shahram R. Shiri,Stephanie A. Getty,June L. Tveekrem. Владелец: National Aeronautics and Space Administration NASA. Дата публикации: 2014-03-06.

Apparatuses and methods for input receiver circuits and receiver masks for same

Номер патента: EP3861549A1. Автор: John D. Porter,Dean D. Gans. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2021-08-11.

Apparatuses and methods for input receiver circuits and receiver masks for same

Номер патента: US20200111522A1. Автор: John D. Porter,Dean D. Gans. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2020-04-09.

Apparatuses and methods for input receiver circuits and receiver masks for same

Номер патента: WO2020072389A1. Автор: John D. Porter,Dean D. Gans. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2020-04-09.

Apparatuses and methods for input receiver circuits and receiver masks for same

Номер патента: US20230420032A1. Автор: John D. Porter,Dean D. Gans. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2023-12-28.

Windshield, display system, and reflective polarizer

Номер патента: US20240027757A1. Автор: Matthew B. Johnson,Adam D. Haag,Brianna N. Wheeler. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2024-01-25.

Eye protection mask for practicing winter sports

Номер патента: US20240036356A1. Автор: Roberto Righi,Federico RIGHI. Владелец: Out Of Srl. Дата публикации: 2024-02-01.

Flexible time masks for listen-before-talk based channel access

Номер патента: US11849485B2. Автор: Muhammad Kazmi,Imadur Rahman,Christian Bergljung. Владелец: Telefonaktiebolaget LM Ericsson AB. Дата публикации: 2023-12-19.

Mask for laser induced thermal imaging and method of fabricating organic electro-luminescence display device using the same

Номер патента: US20110195352A1. Автор: Do-Young Kim,Dae-Hoon Kim,Min-chul Suh,Young-Gil Kwon,Seung-Mook Lee,Sun-Hoe KIM. Владелец: Samsung Mobile Display Co Ltd. Дата публикации: 2011-08-11.

3d microgeometry and reflectance modeling

Номер патента: WO2022259110A1. Автор: CHEN Fu,Mohammad Gharavi-Alkhansari. Владелец: SONY CORPORATION OF AMERICA. Дата публикации: 2022-12-15.

Apparatuses and methods for input receiver circuits and receiver masks for same

Номер патента: US11955162B2. Автор: John D. Porter,Dean D. Gans. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2024-04-09.

Adversarial masks for scene-customized false detection removal

Номер патента: US11978247B2. Автор: Gang Qian,Allison Beach,Eduardo Romera Carmena. Владелец: Objectvideo Labs LLC. Дата публикации: 2024-05-07.

System and method for object recognition utilizing separate detection of luminescence and reflectance

Номер патента: WO2023198580A1. Автор: Matthew Ian CHILDERS,Yunus Emre Kurtoglu. Владелец: BASF COATINGS GMBH. Дата публикации: 2023-10-19.

Multi-Modal System for Fluorescence and Reflectance Imaging

Номер патента: US20240008736A1. Автор: Noah Bareket,James Ogg,Richard Graham,Manish D Kulkarni. Владелец: Netra Systems Inc USA. Дата публикации: 2024-01-11.

Image-based detection of surfaces that provide specular reflections and reflection modification

Номер патента: US20240062346A1. Автор: Peter Meier,Daniel Kurz,Mohamed Selim Ben Himane,Brian Chris Clark. Владелец: Apple Inc. Дата публикации: 2024-02-22.

Blocker having light transmission and reflection device

Номер патента: US11768390B2. Автор: Hyun Chul Lee,Dong Kun Oh. Владелец: Huvitz Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-26.

Method for manufacturing a correction mask for an image intensifier tube of the proximity-focus type having an oblong cathode and anode, and also a method for correcting an image intensifier tube

Номер патента: US5368513A. Автор: Netty E. Vlasbloem-van den Boezem. Владелец: Optische Industrie de Oude Delft NV. Дата публикации: 1994-11-29.

Mask for depositing a thin film and a thin film deposition method using the same

Номер патента: US20160236222A1. Автор: Woong-Sik Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-18.

AI-based region-of-interest masks for improved data reconstruction

Номер патента: US11983798B2. Автор: Gopal B. Avinash,Tao Tan,Dejun Wang,Buer QI,Lehel Ferenczi,Gireesha Chinthamani Rao,German Guillermo Vera Gonzalez. Владелец: GE Precision Healthcare LLC. Дата публикации: 2024-05-14.

Chemical and biological detection method and device based on measurements of fluorescence and reflectivity

Номер патента: EP2212678A1. Автор: Andrew David Pris,Eugene Barash. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2010-08-04.

Mask for depositing emission layer, method of manufacturing the mask, and display apparatus manufactured using the mask

Номер патента: EP4280851A1. Автор: Sangshin Lee,Jongsung Park,Seungjin LEE,Sanghoon Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-22.

Mask for depositing a thin film and a thin film deposition method using the same

Номер патента: US9931661B2. Автор: Woong-Sik Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-03.

Low-cost device and method for measuring radar transmission and reflectance of coated articles

Номер патента: US11768162B2. Автор: Neil Richard Murphy. Владелец: AXALTA COATING SYSTEMS IP CO LLC. Дата публикации: 2023-09-26.

Backlight Including Wide-Web Turning Film and Reflective Polarizer with Quarter-Wave Retarder

Номер патента: US20210278586A1. Автор: Gary T. Boyd,Matthew B. Johnson,Kenneth A. Epstein,Quinn D. Sanford. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2021-09-09.

Low-cost device and method for measuring radar transmission and reflectance of coated articles

Номер патента: US11585763B2. Автор: Neil Richard Murphy. Владелец: AXALTA COATING SYSTEMS IP CO LLC. Дата публикации: 2023-02-21.

System and method for generating a mask for object instances in an image

Номер патента: WO2020147957A1. Автор: Luc Van Gool,Wim Abbeloos,Marc PROESMANS,Davy NEVEN,Bert DE BRABANDERE. Владелец: TOYOTA MOTOR EUROPE. Дата публикации: 2020-07-23.

Detection and estimation of direct and reflected navigation satellite signal parameters in a multipath environment

Номер патента: EP4270059A1. Автор: Emre Tapucu,Dmitry Kuznetsov. Владелец: Avago Technologies International Sales Pte Ltd. Дата публикации: 2023-11-01.

A method to avoid striae in euv lithography mirrors

Номер патента: EP1324857A1. Автор: Claude L. Davis, Jr.,Gregory L. Murray,Michael E. Best,Mary J. CORNING INCORPORATED EDWARDS,Thomas W. CORNING INCORPORATED HOBBS. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2003-07-09.

Blank for manufacturing test system for express diagnostics of helicobacter pylori infection by urease activity of biopsy material and method for manufacturing test system

Номер патента: RU2630651C9. Автор: Евгений Матвеевич Аксенов,Вадим Сергеевич Дмитриенко,Андрей Игоревич Киреев. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Ассоциация Медицины и Аналитики" (ООО "АМА"). Дата публикации: 2017-10-30.

Blank for manufacturing test system for express diagnostics of helicobacter pylori infection by urease activity of biopsy material and method for manufacturing test system

Номер патента: RU2630651C1. Автор: Евгений Матвеевич Аксенов,Вадим Сергеевич Дмитриенко,Андрей Игоревич Киреев. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Ассоциация Медицины и Аналитики" (ООО "АМА"). Дата публикации: 2017-09-11.

Can holder, cardboard blank for can holder and method of assembling said cardboard blank

Номер патента: RU2287465C2. Автор: Кеннет КАРЛЬССОН. Владелец: Смурфит Мункше Пэкеджинг Аб. Дата публикации: 2006-11-20.

Box and blank for it

Номер патента: RU2497736C2. Автор: Ален СОЛА. Владелец: МИДВЕСТВАКО ПЭКЭДЖИНГ СИСТЕМЗ, ЭлЭлСи. Дата публикации: 2013-11-10.

Method and device for producing blanks for collars of packets for cigarettes

Номер патента: RU2661844C2. Автор: Корвин ЗОММЕР,Кристоф ШНАЙДЕР,Мартин ШТИЛЛЕР. Владелец: Фокке Унд Ко. (Гмбх Унд Ко. Кг). Дата публикации: 2018-07-19.

Seamless geogrid with cellular structure to reinforce soil and blank for its production

Номер патента: RU2601642C1. Автор: Михаил Михайлович Азарх,Александр Владимирович Одиноков. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Мики". Дата публикации: 2016-11-10.

Sheet cardboard blank for tray intended for packaging different in diameter bottles or cans, a tray made of this blank (variants)

Номер патента: RU2654191C1. Автор: Николай Павлович Боков,Роман Валерьевич Шибанов. Владелец: АО "Управляющая компания группы предприятий "ГОТЭК" (АО "УК ГП "ГОТЭК")". Дата публикации: 2018-05-16.

Method of processing a polymer blank for use in a joint prosthesis

Номер патента: RU2695170C1. Автор: Хельмут Д. ЛИНК,Карстен ШЕТТЛЕР. Владелец: Вальдемар Линк Гмбх Унд Ко. Кг. Дата публикации: 2019-07-22.

Blank for manufacturing elastic elements of a titanium-based alloy

Номер патента: RU2706916C2. Автор: Сергей Владимирович Алтынбаев,Алексей Рассказов,Олег Александрович Митяшкин,Джонатон Уолтер Томас Уэлст. Владелец: Хермит Эдванст Технолоджиз ГмбХ. Дата публикации: 2019-11-21.

Package and sheet blank for packing

Номер патента: RU2704030C1. Автор: Дмитрий Игоревич Лесников,Николай Павлович Боков. Владелец: АО "Управляющая компания группы предприятий "ГОТЭК" (АО "УК ГП "ГОТЭК"). Дата публикации: 2019-10-23.

Welded sheet blank for hot forming, hot-formed element and method for production thereof

Номер патента: RU2594766C2. Автор: Каору КАВАСАКИ,Ясунобу МИЯДЗАКИ,Ясуаки НАИТО,Такахиро ЙОСИНАГА. Владелец: Ниппон Стил Энд Сумитомо Метал Корпорейшн. Дата публикации: 2016-08-20.

Method of producing packaging blanks for consumer goods

Номер патента: RU2649947C2. Автор: Матиас БЮТЛЕР. Владелец: ФИЛИП МОРРИС ПРОДАКТС С.А.. Дата публикации: 2018-04-05.

Guide system of device designed to produce fibrous blanks for composite elements using tfp-technology

Номер патента: RU2406606C2. Автор: Ульрих ЭБЕРТ,Пауль ЙОРН. Владелец: Эйрбас Дойчланд Гмбх. Дата публикации: 2010-12-20.

Blank for package of, in fact, flat articles, method and device for producing said blank

Номер патента: RU2419579C2. Автор: Андреа ТОРО,Андреа ТОРО (IT). Владелец: Систем С.п.А.. Дата публикации: 2011-05-27.

Mill blank for dentures, cut member for front tooth, and production method for dentures

Номер патента: EP4424276A1. Автор: Tatsuya Yamazaki,Masaki Kinoshita,Mana TOYODA. Владелец: Tokuyama Dental Corp. Дата публикации: 2024-09-04.

Zirconia mill blank for dental cutting and machining and preparing method thereof, and transparency improving liquid for zirconia mill blank for dental cutting and machining and using method thereof

Номер патента: US20240315816A1. Автор: Shuhei Takahashi,Seiji Ban,Toshio Kitamura,Rieko AIBA. Владелец: Shofu Inc. Дата публикации: 2024-09-26.

Zirconia mill blank for dental cutting and machining and preparing method thereof, and transparency improving liquid for zirconia mill blank for dental cutting and machining and using method thereof

Номер патента: US20240315815A1. Автор: Shuhei Takahashi,Seiji Ban,Toshio Kitamura,Rieko AIBA. Владелец: Shofu Inc. Дата публикации: 2024-09-26.

Apparatus for forming a blank for finish forging for a forged crankshaft for a three-cylinder engine and method for manufacturing a forged crankshaft for a three-cylinder engine using the same

Номер патента: US09707618B2. Автор: Kenji Tamura,Tadashi Matsui,Tomihiko Fukuyasu,Junichi Okubo,Kunihiro YOSHIDA,Nobutaka TANIMOTO. Владелец: Nippon Steel and Sumitomo Metal Corp. Дата публикации: 2017-07-18.

Method for producing key blanks for cylinder locks

Номер патента: EP2598273A1. Автор: Gianni Tocchet. Владелец: Silca SpA. Дата публикации: 2013-06-05.

An improved method of preparing a lens blank for an operation of surfacing thereof

Номер патента: WO2019072742A1. Автор: Alain Mathieu,Jerome Moine,Xavier Bultez,Sebastien Piraube,Fred ADOLOFO. Владелец: Essilor International. Дата публикации: 2019-04-18.

Material blank for a container support, bundle of multiple containers, and method for producing a bundle of multiple containers

Номер патента: US20230406591A1. Автор: Manfred Van Triel,Thomas JÖHREN. Владелец: KHS GmbH. Дата публикации: 2023-12-21.

Methods and systems for preparing blanks for forming carriers for containers

Номер патента: EP4405170A1. Автор: David F. Warner,Colin P. Ford,Jason C. ANDERSON. Владелец: Graphic Packaging International LLC. Дата публикации: 2024-07-31.

Blank for a packaging shell of a cup packaging, method for producing a blank, cup packaging having a packaging shell, and method for separating the cup packaging and the packaging shell

Номер патента: WO2024146886A1. Автор: Krzysztof DROBEK,Yves CAUNEGRE. Владелец: Paccor Packaging GmbH. Дата публикации: 2024-07-11.

Blank for hot stamping, method for manufacturing the same, hot stamping component, and method for manufacturing the same

Номер патента: US12054844B2. Автор: Jin Ho Lee,Hye Jin Kim,Kyu Yeon Hwang,Hyun Yeong Jung,Seung Pill Jung. Владелец: Hyundai Steel Co. Дата публикации: 2024-08-06.

Cage blank for a free wheel, free wheel cage formed from such a blank, free wheel comprising such a cage and method for assembling such a free wheel

Номер патента: US20150144450A1. Автор: Samuel Viault,Charles Chambonneau. Владелец: SKF AB. Дата публикации: 2015-05-28.

Hybrid resin-based blank for dental cutting, and method for manufacturing crown

Номер патента: EP4427723A1. Автор: Yuukou Nagasawa,Shintaro Yamane. Владелец: Tokuyama Dental Corp. Дата публикации: 2024-09-11.

A method for realising a blank for boxing one or more articles from a cardboard sheet for packaging, and a relative machine

Номер патента: US20240317434A1. Автор: Lorenzo PONTI. Владелец: CMC SpA. Дата публикации: 2024-09-26.

Chain link and conveyor chain comprising chain links, blank for a chain link and method of manufacturing a blank for a chain link

Номер патента: EP3908541A1. Автор: Cornelis Hendrik Mijndert Menke,Franciscus Maria Bal. Владелец: Rexnord Flattop Europe Bv. Дата публикации: 2021-11-17.

Chain link and conveyor chain comprising chain links, blank for a chain link and method of manufacturing a blank for a chain link

Номер патента: WO2020145824A1. Автор: Cornelis Hendrik Mijndert Menke,Franciscus Maria Bal. Владелец: Rexnord Flattop Europe B.V.. Дата публикации: 2020-07-16.

Process for realising blanks for boxes to measure

Номер патента: US09931805B2. Автор: Andrea Toro. Владелец: System SpA. Дата публикации: 2018-04-03.

Glass lens blank for polishing, manufacturing method therefore, and optical lens manufacturing method

Номер патента: US09868661B2. Автор: Mikio Ikenishi,Isao Tanaka,Yoshitake TANNO,Akihiro Shoji. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2018-01-16.

Pre-sintered blank for dental purposes

Номер патента: RU2611809C2. Автор: Кристиан РИТЦБЕРГЕР,Фолькер РАЙНБЕРГЕР,Харальд БЮРКЕ,Марсель ШВАЙГЕР. Владелец: Ивоклар Вивадент Аг. Дата публикации: 2017-03-01.

A tamper-evident container, a blank for the container, a method of packing a product, a method of securing at least one product to a container, and a packaging machine for skin packing a product

Номер патента: EP1417138A1. Автор: Willem Schalk Scholtz,Otto Carl MÜLLER. Владелец: Warthog Trust. Дата публикации: 2004-05-12.

Method for optimizing the length of the blank for an open-type clamp and clamp made with the use of this method

Номер патента: EP1468214A2. Автор: Paul M. Craig, Jr.. Владелец: Hans Oetiker AG Maschinen und Apparatefabrik. Дата публикации: 2004-10-20.

Method for optimizing the length of the blank for an open-type clamp and clamp made with the use of this method

Номер патента: EP1468214A4. Автор: Paul M Craig Jr. Владелец: Hans Oetiker AG Maschinen und Apparatefabrik. Дата публикации: 2009-11-25.

Method for optimizing the length of the blank for an open-type clamp and clamp made with the use of this method

Номер патента: EP1468214B1. Автор: Paul M. Craig, Jr.. Владелец: Hans Oetiker AG Maschinen und Apparatefabrik. Дата публикации: 2010-09-29.

Station for heating thermoplastic sheet-like blanks for thermoforming lines

Номер патента: US20200001517A1. Автор: Filippo Furlotti. Владелец: IMA Industria Macchine Automatiche SpA. Дата публикации: 2020-01-02.

Sleeve for a container or the like and blank for constructing the same

Номер патента: CA3026097A1. Автор: Leslie Goldberg,Adam Jackson Goldberg. Владелец: GOLDRICH PRINTPAK Inc. Дата публикации: 2020-05-30.

Method for optimizing the length of the blank for an open-type clamp and clamp made with the use of this method

Номер патента: WO2003060365A2. Автор: Paul M. Craig, Jr.. Владелец: HANS OETIKER AG MASCHINEN- UND APPARATEFABRIK. Дата публикации: 2003-07-24.

Method and system for preparing blanks for forming cartons

Номер патента: EP4228880A1. Автор: Jeffrey T. Sloat,Joseph C. Walsh. Владелец: Graphic Packaging International LLC. Дата публикации: 2023-08-23.

Ceramic mill blank for dental cutting and machining

Номер патента: US20240252292A1. Автор: Shuhei Takahashi,Satoshi Fujiwara,Munehira TAKENAKA. Владелец: Shofu Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Method and machine for separating blanks for cardboard boxes

Номер патента: EP1129843A8. Автор: Pieter Theel. Владелец: Serco BV. Дата публикации: 2002-01-16.

Mill blank for dental cutting and machining

Номер патента: EP4427722A1. Автор: Keita KAWATA,Takahiro FUKAMI. Владелец: Shofu Inc. Дата публикации: 2024-09-11.

Apparatus for holding blank for incremental forming

Номер патента: US12042838B2. Автор: Jul Ki HAN,Yang Hwan JEON. Владелец: Kia Motors Corp. Дата публикации: 2024-07-23.

Blank for dental cutting and method for producing same

Номер патента: US12102494B2. Автор: Hironobu Akizumi,Takuma Matsuo,Anna Soshi,Yuukou Nagasawa. Владелец: Tokuyama Dental Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

Apparatus for forming a blank for finish forging for a forged crankshaft

Номер патента: US09630239B2. Автор: Kenji Tamura,Tadashi Matsui,Tomihiko Fukuyasu,Junichi Okubo,Kunihiro YOSHIDA,Nobutaka TANIMOTO. Владелец: Nippon Steel and Sumitomo Metal Corp. Дата публикации: 2017-04-25.

Blank for forming an insert

Номер патента: SE1951151A1. Автор: Pär MAGNUSSON. Владелец: STORA ENSO OYJ. Дата публикации: 2021-04-11.

Housing blank and activation member blank for a medicament delivery device, a kit comprising such blanks, and a medicament delivery device

Номер патента: EP3074063A1. Автор: Anders Holmqvist. Владелец: CAREBAY EUROPE LTD. Дата публикации: 2016-10-05.

Blank for forming an insert

Номер патента: EP4041645A1. Автор: Pär MAGNUSSON. Владелец: STORA ENSO OYJ. Дата публикации: 2022-08-17.

Automated sealant application to assembled hvac duct components and blanks for forming assembled hvac duct components

Номер патента: US20220333813A1. Автор: William R. Gray. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-10-20.

Preparation method of large-scale die blank for vacuum isothermal forging

Номер патента: US20240263290A1. Автор: Hao Yang,Yuewen Zhai,Leyu Zhou,Xiaomao He. Владелец: Beijing Research Institute Of Mechanical&electrical Technology Co LtdCam. Дата публикации: 2024-08-08.

Blank for an ovenable container and/or ovenable containers

Номер патента: GB2626353A. Автор: William Page Roland. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-07-24.

Automated sealant application to assembled hvac duct components and blanks for forming assembled hvac duct components

Номер патента: US20190145651A1. Автор: William R. Gray. Владелец: Individual. Дата публикации: 2019-05-16.

Preparation method of large-scale die blank for vacuum isothermal forging

Номер патента: US12116659B2. Автор: Hao Yang,Yuewen Zhai,Leyu Zhou,Xiaomao He. Владелец: Beijing Research Institute Of Mehcnaical & Electrical Technology Co LtdCam. Дата публикации: 2024-10-15.

Tailored blank for hot stamping, hot stamped member, and methods for manufacturing same

Номер патента: US09901969B2. Автор: Kaoru Kawasaki,Yasunobu Miyazaki,Yasuaki Naito,Takahiro Yoshinaga. Владелец: Nippon Steel and Sumitomo Metal Corp. Дата публикации: 2018-02-27.

Blanks for display package containing cartomizer blister pack and methods of forming display package for cartomizer blister pack

Номер патента: US09862161B2. Автор: Scott A. Fath. Владелец: Altria Client Services LLC. Дата публикации: 2018-01-09.

Shipping and display tray and blank for forming the same

Номер патента: US09828131B2. Автор: Jeffrey Scott James,Matthew Kiev Swenson. Владелец: WestRock Shared Services LLC. Дата публикации: 2017-11-28.

Polygonal container having reinforced corner structures and blank for forming same

Номер патента: US09796501B2. Автор: Kenneth Charles Smith,Jeffrey Scott James. Владелец: WestRock Shared Services LLC. Дата публикации: 2017-10-24.

Leak-resistant foldable boxes and blanks for making same

Номер патента: CA3153843A1. Автор: Aubrey Bailey Morgan Wyatt. Владелец: Autom River Inc. Дата публикации: 2023-09-30.

Blank for forming a tray with reinforced tabs and corresponding tray

Номер патента: WO2024147935A1. Автор: Michael McLeod,David G. Couture. Владелец: WestRock Shared Services, LLC. Дата публикации: 2024-07-11.

Screw-nut blank for producing a securing nut

Номер патента: US20240269731A1. Автор: Hartmut Flaig. Владелец: Sf Handels und Besitzgesellschaft Mbh. Дата публикации: 2024-08-15.

Blank for forming an article carrier

Номер патента: EP4417536A2. Автор: David W. Miller,Bradford J. Walling,Matthew E. Zacherle,Linh L. Kooc,Wayne A. CAMERON,Stephen G. Simmons,Casey P. GREY,Meredith W. ALLIN. Владелец: WestRock Packaging Systems LLC. Дата публикации: 2024-08-21.

Blank for a heat-transfer device and method to produce a heat-transfer device

Номер патента: US12066255B2. Автор: Bruno Agostini,Daniele Torresin,Andrey Petrov. Владелец: ABB Schweiz AG. Дата публикации: 2024-08-20.

Container with overlapping flap system and container blank for making the same

Номер патента: US09731859B1. Автор: Wolfgang Volkmann. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-08-15.

Tray having raised edges and rounded centering devices, and blank for producing such a tray

Номер патента: US09718580B2. Автор: Jean-Claude Moreau,Quentin Serre De Lourtioux. Владелец: Otor Sa. Дата публикации: 2017-08-01.

Wrapper for cigarette piles (variants) and blank for its production (variants)

Номер патента: RU2246434C2. Автор: Хайнц ФОКЕ,Ханс ШЕНБЕРГЕР,Хенри БУСЕ. Владелец: Фоке унд Ко. (ГмбХ унд Ко.). Дата публикации: 2005-02-20.

Method for preparation of blank for screw rolling

Номер патента: RU2630158C1. Автор: Борис Владимирович Карпов,Илья Борисович Карпов,Михаил Николаевич Скрипаленко,Михаил Михайлович Скрипаленко,Павел Владимирович Патрин. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский технологический университет "МИСиС". Дата публикации: 2017-09-05.

Cigarette package and blank for manufacture of such package

Номер патента: RU2489332C2. Автор: Ирмин ШТАЙНКАМП,Гисберт ЭНГЕЛЬ,Виктор ХАЙН. Владелец: Фокке Унд Ко. (Гмбх Унд Ко. Кг). Дата публикации: 2013-08-10.

Packet with lip cover for rod-like tobacco articles and blank for such packet

Номер патента: RU2299846C2. Автор: Макото Сендо. Владелец: Джапан Тобакко Инк.. Дата публикации: 2007-05-27.

Packet with hinge cover for rod-like tobacco articles and blank for such packet

Номер патента: RU2295485C2. Автор: Тацу ИТО,Тацуя ИТО. Владелец: Джапан Тобакко Инк.. Дата публикации: 2007-03-20.

Blank for cellular bulk non-welded seamless geogrid

Номер патента: RU2664556C1. Автор: Сергей Юрьевич Никонов. Владелец: Сергей Юрьевич Никонов. Дата публикации: 2018-08-21.

Blank for cellular bulk non-welded seamless geogrid

Номер патента: RU2664555C1. Автор: Сергей Юрьевич Никонов. Владелец: Сергей Юрьевич Никонов. Дата публикации: 2018-08-21.

Method for profiling of back end of cylindrical pipe blank for rolling in three-wave roll mills

Номер патента: RU2659559C1. Автор: Александр Александрович Богатов,Дмитрий Андреевич Павлов. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Уральский федеральный университет имени первого Президента России Б.Н. Ельцина" (УрФУ). Дата публикации: 2018-07-02.

Method for producing steel core blank for armor-piercing incendiary bullet

Номер патента: RU2744402C1. Автор: Евгений Юрьевич Ремшев,Виталий Владимирович Игнатенко,Константин Михайлович Иванов,Петр Михайлович Винник,Василий Александрович Лобов,Екатерина Владимировна Затеруха. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования Балтийский государственный технический университет "ВОЕНМЕХ" им. Д.Ф. Устинова (БГТУ "ВОЕНМЕХ"). Дата публикации: 2021-03-09.

High-strength corrosion-resistant aluminum alloys for application as blank for plates and methods for production thereof

Номер патента: RU2681090C1. Автор: Джёти КАДАЛИ,Эйдер Альберто СИМЬЕЛЛИ. Владелец: Новелис Инк.. Дата публикации: 2019-03-04.

Tube blank for production of flexible parts

Номер патента: RU2638262C2. Автор: Юрий Юрьевич Кувшинов. Владелец: Юрий Юрьевич Кувшинов. Дата публикации: 2017-12-12.

Method for producing titanium alloy blank for gas turbine engine parts

Номер патента: RU2635989C2. Автор: Руслан Зуфарович Валиев,Иван Валерьевич Смирнов,Роман Русланович Валиев,Юлия Михайловна Модина. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский государственный университет" (СПбГУ). Дата публикации: 2017-11-17.

Installation of surface modification of blanks for cutting inserts

Номер патента: RU2762426C1. Автор: Сергей Николаевич Кульков,Алесь Сергеевич Буяков,Владимир Игоревич Румянцев,Александр Геннадьевич Бурлаченко,Юрий Александрович Мировой. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Вириал" (ООО "Вириал"). Дата публикации: 2021-12-21.

Blank for rigid package having hinged lid adapted to pack tobacco goods and package production method

Номер патента: RU2277503C2. Автор: Роберто ПОЛЛОНИ,Фьоренцо ДРАГЕТТИ,Сильвано БОРИАНИ. Владелец: Г.Д С.П.А.. Дата публикации: 2006-06-10.

Method and device for producing brick blanks for masonry bricks, in particular sand-lime bricks, having adjustable mould walls

Номер патента: RU2681711C2. Автор: Лотар БАУЭРЗАХС. Владелец: Лангенштайн И Шеманн Гмбх. Дата публикации: 2019-03-12.

Package with hinge cover for rod-like smoking goods and blank for it

Номер патента: RU2330802C2. Автор: Хитоси ТАМБО. Владелец: Джапан Тобакко Инк.. Дата публикации: 2008-08-10.

Installation for forming blanks for cutting plates

Номер патента: RU2764451C1. Автор: Сергей Николаевич Кульков,Алесь Сергеевич Буяков,Владимир Игоревич Румянцев,Александр Геннадьевич Бурлаченко,Юрий Александрович Мировой. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью «Вириал» (ООО "Вириал"). Дата публикации: 2022-01-17.

Package with flap cover for rod-like smoking goods, and also blank for its manufacturing

Номер патента: RU2330801C2. Автор: Хитоси ТАМБО,Хитоси ТАМБО (JP). Владелец: Джапан Тобакко Инк.. Дата публикации: 2008-08-10.

Method and drum for building and shaping blanks for radial-ply tires

Номер патента: US3929540A. Автор: Gerhard Held,Walter Balle. Владелец: Rheinstahl AG. Дата публикации: 1975-12-30.

Pouch for a cigarette paper booklet, cigarette paper dispenser, blank for manufacturing a pouch and method of manufacturing a pouch

Номер патента: WO2017029185A1. Автор: Bjorn Urban. Владелец: Reemtsma Cigarettenfabriken GmbH. Дата публикации: 2017-02-23.

Methods and systems for preparing blanks for forming carriers for containers

Номер патента: AU2022350668A1. Автор: David F. Warner,Colin P. Ford,Jason C. ANDERSON. Владелец: Graphic Packaging International LLC. Дата публикации: 2024-02-22.

Methods and systems for preparing blanks for forming carriers for containers

Номер патента: CA3228727A1. Автор: David F. Warner,Colin P. Ford,Jason C. ANDERSON. Владелец: Graphic Packaging International LLC. Дата публикации: 2023-03-30.

Multiple Mold For Production Of At Least Two Glass-Ceramic Blanks For Dental Purposes, Use Of A Multiple Mold, Compression Apparatus And Continuous System

Номер патента: US20240150213A1. Автор: Walter Entner,Lars Arnold. Владелец: IVOCLAR VIVADENT AG. Дата публикации: 2024-05-09.

Method for obtaining image blank by water-soluble paints and blank for creating pattern by water-soluble paints

Номер патента: RU2664813C1. Автор: Светлана Александровна Гудым. Владелец: Светлана Александровна Гудым. Дата публикации: 2018-08-22.

Method of producing wooden glued board and blank for its fabrication

Номер патента: RU2424112C2. Автор: Матти ПЕЛТОЛА. Владелец: Упм-Кюммене Ой. Дата публикации: 2011-07-20.

Composite blank for hot strain

Номер патента: RU2220850C2. Автор: В.Г. Смирнов,В.В. Тетюхин,П.С. Альтман,С.Н. Полянский,нский С.Н. Пол. Владелец: ОАО Верхнесалдинское металлургическое производственное объединение. Дата публикации: 2004-01-10.

Device for piling-up flat workpieces, especially blanks for folding boxes

Номер патента: CA1138485A. Автор: Hermann Schweingruber. Владелец: Bobst SA. Дата публикации: 1982-12-28.

Blank for a container, and a container having a closing and opening system

Номер патента: CA2205625C. Автор: Glenn R. Fletcher,Donna L. Schnuck,Roland A. Foubert. Владелец: Linear Products Inc. Дата публикации: 2005-12-06.

Blank for a bottle cap

Номер патента: US4256233A. Автор: Sune Harding. Владелец: Wicanders Korkfabriker AB. Дата публикации: 1981-03-17.

Container and blank for constructing same

Номер патента: CA1229829A. Автор: Robert E. Lisiecki. Владелец: Ex-Cell-O Corp. Дата публикации: 1987-12-01.

A carrier for cans, a cardboard blank for a carrier for cans and a method to assemble a cardboard blank

Номер патента: CA2452601A1. Автор: Kenneth Karlsson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-01-16.

Carton and blank for making same

Номер патента: US4054203A. Автор: Melville T. Farquhar. Владелец: Reynolds Metals Co. Дата публикации: 1977-10-18.

Improvements in and relating to non-metallic gears or blanks for gears

Номер патента: GB260616A. Автор: . Владелец: British Thomson Houston Co Ltd. Дата публикации: 1927-03-31.

Milling blank for producing an indirect dental restoration, corresponding uses and methods

Номер патента: CA2998254A1. Автор: Manfred Thomas Plaumann,Nils Fontein,Daniel Oldenburger,Reinhard Maletz. Владелец: VOCO GmbH. Дата публикации: 2018-09-17.

Packaging container and a blank for producing the same

Номер патента: US5938107A. Автор: Tommy Bo Göran LJUNGSTRÖM,Mauro Morandi,David Anchor. Владелец: Tetra Laval Holdings and Finance SA. Дата публикации: 1999-08-17.

Gable-top type carton and blank for forming the same

Номер патента: CA2088310C. Автор: Marlene Ann Parish. Владелец: James River Corp of Virginia. Дата публикации: 1996-10-22.

Tailored blank for hot stamping, hot stamped member, and methods for manufacturing same

Номер патента: CA2866466C. Автор: Kaoru Kawasaki,Yasunobu Miyazaki,Yasuaki Naito,Takahiro Yoshinaga. Владелец: Nippon Steel and Sumitomo Metal Corp. Дата публикации: 2016-10-25.

Container and blank for constructing same

Номер патента: CA1173008A. Автор: Robert E. Lisiecki. Владелец: Ex-Cell-O Corp. Дата публикации: 1984-08-21.

A blank for a container and a container made from said blank

Номер патента: CA2548355C. Автор: Gianfranco D'amato. Владелец: Seda SpA. Дата публикации: 2010-01-26.

Polygonal container having reinforced corner structures and blank for forming same

Номер патента: CA2858823C. Автор: Kenneth Charles Smith,Jeffrey Scott James. Владелец: Rock Tenn Shared Services LLC. Дата публикации: 2020-08-18.

Container and blank for constructing same

Номер патента: CA1175399A. Автор: Robert E. Lisiecki. Владелец: Ex-Cell-O Corp. Дата публикации: 1984-10-02.

Method and device for the manufacture of helical rotor blanks for helical gear machines

Номер патента: US4287743A. Автор: Gunther Hantschk. Владелец: Netzsch Pumpen and Systeme GmbH. Дата публикации: 1981-09-08.

Blank for milling or grinding a dental article

Номер патента: WO2020182884A1. Автор: Stefan Fecher,Markus Vollmann,Andreas Gebhardt,Lothar Völkl. Владелец: DeguDent GmbH. Дата публикации: 2020-09-17.

A process for realizing blanks for boxes to measure

Номер патента: CA2813129C. Автор: Andrea Toro. Владелец: System SpA. Дата публикации: 2018-06-12.

Flat top container and blank for constructing same

Номер патента: CA1308084C. Автор: Robert E. Lisiecki. Владелец: Ex-Cell-O Corp. Дата публикации: 1992-09-29.

Carton and insert and blank for forming the same

Номер патента: CA2454630C. Автор: Jean-Michel Auclair,Jean-Yves Daniel. Владелец: Meadwestvaco Packaging Systems LLC. Дата публикации: 2008-01-08.

Package and blank for making the same

Номер патента: CA2212112A1. Автор: Claude Richard. Владелец: Atlantic Promotions Inc. Дата публикации: 1999-02-18.

Improvements in a blank for forming a collapsible receptacle

Номер патента: GB677520A. Автор: . Владелец: FRANK D PALMER Inc. Дата публикации: 1952-08-20.

Adhesive-bonded blank for a packaging capsule, method for producing this blank, and use of an adhesive-bonded blank erected to form a filled packaging capsule

Номер патента: EP1345813A1. Автор: Fredrik Konstenius,Per Hagelqvist. Владелец: A&R Carton AB. Дата публикации: 2003-09-24.

Improvements in Process of and Machine for Producing Blanks for Nails and the like.

Номер патента: GB191321850A. Автор: Johan Hilmer Dahlgren. Владелец: Individual. Дата публикации: 1914-04-23.

Container for holding tubs and a blank for making the same

Номер патента: CA3030160A1. Автор: Kenneth C. Smith. Владелец: WestRock Shared Services LLC. Дата публикации: 2019-07-16.

Carton with cells and blank for forming same

Номер патента: US4318470A. Автор: James Montealegre. Владелец: Champion International Corp. Дата публикации: 1982-03-09.

Method for producing beam blank for universal beam

Номер патента: CA1179171A. Автор: Yoshiaki Kusaba,Chihiro Hayashi. Владелец: Sumitomo Metal Industries Ltd. Дата публикации: 1984-12-11.

Method for longitudinally seam-welding pipe-blank for welded steel pipe from the inside along a groove

Номер патента: US4110589A. Автор: Itaru Watanabe,Takashi Nagamine,Osamu Hirano,Motoaki Suzuki,Jinkichi Tanaka,Toshifumi Kojima,Hiroyoshi Matsubara,Kenji Takeshige,Fusao Koshiga,Tatsumi Osuka. Владелец: Nippon Kokan Ltd. Дата публикации: 1978-08-29.

Method for longitudinally welding pipe-blank for welded steel pipe from the inside

Номер патента: CA1080812A. Автор: Itaru Watanabe,Takashi Nagamine,Osamu Hirano,Motoaki Suzuki,Jinkichi Tanaka,Toshifumi Kojima,Hiroyoshi Matsubara,Kenji Takeshige,Fusao Koshiga,Tatsumi Osuka. Владелец: Nippon Kokan Ltd. Дата публикации: 1980-07-01.

Improvements in blanks for cardboard boxes

Номер патента: GB388314A. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 1933-02-23.

Tray for supporting containers and a blank for making the same

Номер патента: CA2775454C. Автор: Dave Wayne Bahr. Владелец: Rock Tenn Shared Services LLC. Дата публикации: 2020-06-30.

Carton with suspension support and blank for forming same

Номер патента: US4407409A. Автор: Daniel P. Dutcher. Владелец: Champion International Corp. Дата публикации: 1983-10-04.

Blank for gunbarrel, method for producing said gunbarrel and gunbarrel

Номер патента: CA2361014C. Автор: Per Billgren. Владелец: Damasteel AB. Дата публикации: 2008-12-02.

Milling blank for the production of medical-technical molded parts

Номер патента: US11591431B2. Автор: Martin Klare,Frank Gischer. Владелец: Pr03dure Medical GmbH. Дата публикации: 2023-02-28.

Packaging container and blank for producing the same

Номер патента: US5531375A. Автор: Lars-Erik Palm. Владелец: Tetra Laval Holdings and Finance SA. Дата публикации: 1996-07-02.

Method of manufacturing microneedle structures using soft lithography and photolithography

Номер патента: CA2436207C. Автор: Faiz Feisal Sherman,Grover David Owens,Francisco Arias. Владелец: Corium International Inc. Дата публикации: 2008-12-02.

Flat top container and blank for constructing same

Номер патента: CA1318299C. Автор: Robert Edward Lisiecki,Richard Andrew Miller,David Michael Majewski. Владелец: Elopak Systems AG. Дата публикации: 1993-05-25.

Method for producing beam blank for large size h-beam from flat slab

Номер патента: CA1114658A. Автор: Osamu Koshida,Katsuichi Nakayama,Koichi Itoh. Владелец: Sumitomo Metal Industries Ltd. Дата публикации: 1981-12-22.

Preparing method of zirconia mill blank for dental cutting and machining using precipitate

Номер патента: US20210401553A1. Автор: Shuhei Takahashi,Kazumichi NONAKA. Владелец: Shofu Inc. Дата публикации: 2021-12-30.

Ceramic mill blank for dental cutting and machining

Номер патента: EP4324425A1. Автор: Shuhei Takahashi,Satoshi Fujiwara,Munehira TAKENAKA. Владелец: Shofu Inc. Дата публикации: 2024-02-21.

Device and method for shaping a blank for the formation of a structural thermoplastic part

Номер патента: US11840027B2. Автор: Pierre Magnin. Владелец: Airbus Atlantic SAS. Дата публикации: 2023-12-12.

Zirconia mill blank for dental cutting and machining and preparing method thereof

Номер патента: EP3636621A2. Автор: Shuhei Takahashi,Kazumichi NONAKA. Владелец: Shofu Inc. Дата публикации: 2020-04-15.

Fence post support and method and blank for making same

Номер патента: US20210140190A1. Автор: Truett Ramsey Thompson,Luke Travis Thompson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-05-13.

Mill blank for dental CAD/CAM with cutout portion for positioning

Номер патента: US11806202B2. Автор: Yusei Kadobayashi,Masako Shigezawa. Владелец: Shofu Inc. Дата публикации: 2023-11-07.

Blank for forming an insert, a package insert and a package

Номер патента: SE545060C2. Автор: Martin MALMQVIST,Daniel AXELSSON. Владелец: STORA ENSO OYJ. Дата публикации: 2023-03-14.

An improved method of preparing a lens blank for an operation of surfacing thereof

Номер патента: US20200276684A1. Автор: Alain Mathieu,Jerome Moine,Xavier Bultez,Sebastien Piraube,Fred ADOLOFO. Владелец: Essilor International Compagnie Generale dOptique SA. Дата публикации: 2020-09-03.

Method for producing key blanks for cylinder locks

Номер патента: WO2012013475A1. Автор: Gianni Tocchet. Владелец: SILCA S.P.A.. Дата публикации: 2012-02-02.

Blank for fabricating wear member for a ground-engaging tool

Номер патента: US20230323642A1. Автор: Phillip J. Kunz,Adam Michael Dean. Владелец: Caterpillar Inc. Дата публикации: 2023-10-12.

Blank For Forming a Shipping Carton With An Integrated Display Tray

Номер патента: US20230125770A1. Автор: James L. Einstein,Michael R. Drummond,Sandra R. Perkins. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-04-27.

A blank for making footwear inserts having a foot-fitted shape

Номер патента: EP1284611A1. Автор: Torsten Balkefors. Владелец: Balkefors Support AB. Дата публикации: 2003-02-26.

Glass lens blank for polishing, manufacturing method therefore, and optical lens manufacturing method

Номер патента: US20160039703A1. Автор: Mikio Ikenishi,Isao Tanaka,Yoshitake TANNO,Akihiro Shoji. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-02-11.

Zirconia mill blank for dental cutting and machining and preparing method thereof

Номер патента: US11986362B2. Автор: Shuhei Takahashi,Kazumichi NONAKA. Владелец: Shofu Inc. Дата публикации: 2024-05-21.

Blank for conversion into a perforated stencil by spark erosion

Номер патента: US4188880A. Автор: Murray Figov,Iain E. Whitlam. Владелец: Vickers Ltd. Дата публикации: 1980-02-19.

Blank for forming an insert, a package insert and a package

Номер патента: WO2023281358A1. Автор: Martin MALMQVIST,Daniel AXELSSON. Владелец: STORA ENSO OYJ. Дата публикации: 2023-01-12.

Zirconia mill blank for dental cutting and machining and preparing method thereof

Номер патента: US20240164868A1. Автор: Shuhei Takahashi,Kazumichi NONAKA. Владелец: Shofu Inc. Дата публикации: 2024-05-23.

Carton and blank for forming the same

Номер патента: WO1998002357A1. Автор: Tina GRÜNFELD,Magnus Ny. Владелец: Astra Aktiebolag. Дата публикации: 1998-01-22.

Channel-selective blanking for a medical device system

Номер патента: EP1578487A4. Автор: Ivan Osorio,Mark G Frei,Randy M Jensen,David L Carlson,Nina M Graves,Mark T Rise,Jonathon E Giftakis. Владелец: MEDTRONIC INC. Дата публикации: 2008-10-08.

Blank for forming an insert, a package insert and a package

Номер патента: EP4367041A1. Автор: Martin MALMQVIST,Daniel AXELSSON. Владелец: STORA ENSO OYJ. Дата публикации: 2024-05-15.

Blank for forming an insert, a package insert and a package

Номер патента: SE2150894A1. Автор: Martin MALMQVIST,Daniel AXELSSON. Владелец: STORA ENSO OYJ. Дата публикации: 2023-01-08.

Carton and blank for forming the same

Номер патента: AU3563197A. Автор: Tina GRÜNFELD,Magnus Ny. Владелец: Astra AB. Дата публикации: 1998-02-09.

Carton and blank for forming the same

Номер патента: AU715470B2. Автор: Tina GRÜNFELD,Magnus Ny. Владелец: Astra AB. Дата публикации: 2000-02-03.

Method for producing blanks for sintered glass bodies for glass seals

Номер патента: US20170029312A1. Автор: Katja NICOLAI,Wolf-Joachim HUMMEL. Владелец: IL Metronic Sensortechnik GmbH. Дата публикации: 2017-02-02.

A milling blank for a dental product

Номер патента: AU2023251453A1. Автор: Lippo Lassila,Sufyan Garoushi,Pekka Vallittu,Eija SÄILYNOJA,Timo Koski. Владелец: Stick Tech Oy. Дата публикации: 2024-05-16.

Carton for food products and carton blank for such a carton

Номер патента: US20020014522A1. Автор: Luigi Tettamanti,John Heeley,Alain Kowalewski. Владелец: Kraft Foods R&D Inc USA. Дата публикации: 2002-02-07.

Station for heating thermoplastic sheet-like blanks for thermoforming lines

Номер патента: EP3580039A1. Автор: Filippo Furlotti. Владелец: IMA Industria Macchine Automatiche SpA. Дата публикации: 2019-12-18.

Blank for fan blade

Номер патента: US3951611A. Автор: Wayne J. Morrill. Владелец: Individual. Дата публикации: 1976-04-20.

Package comprising a sleeve and insert and a blank for forming said package

Номер патента: CA2586270C. Автор: Lars Sandberg,Marcus Dehlin,Antje Rosentreter. Владелец: Stora Enso Ab. Дата публикации: 2008-12-23.

Rimmed simplex carton with tucked ends and blank for forming same

Номер патента: US4258881A. Автор: Duane Mode,Daniel P. Dutcher. Владелец: Champion International Corp. Дата публикации: 1981-03-31.

Tire blank for a vehicle tire with tire bead ply means and improved vehicle tire formed therefrom

Номер патента: US4029138A. Автор: Erich Kresta. Владелец: Semperit AG Holding. Дата публикации: 1977-06-14.

Carton and blank for producing various cartons and methods of using such cartons

Номер патента: CA2962094A1. Автор: Zsolt Toth. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-03-31.

Blank for an unlined container

Номер патента: GB2063221A. Автор: . Владелец: Esseltepac AB. Дата публикации: 1981-06-03.

Corrugated thermoplastic blank for a container

Номер патента: AU4579093A. Автор: Ronald Grobler,Malcolm Robin Mackinnon. Владелец: Korpak Ltd. Дата публикации: 1994-02-14.

Container and blank for constructing same

Номер патента: CA1199897A. Автор: Robert E. Lisiecki. Владелец: Ex-Cell-O Corp. Дата публикации: 1986-01-28.

Cathode starting blanks for metal deposition

Номер патента: US4040914A. Автор: Vittorio De Nora,Placido M. Spaziante,Antonio Nidola. Владелец: Diamond Shamrock Technologies SA. Дата публикации: 1977-08-09.

Collapsible paperboard container and a blank for constructing the same

Номер патента: CA2686610C. Автор: Robert G. Dickie. Владелец: 2224568 ONTARIO Inc. Дата публикации: 2017-08-29.

Blank for forming a packaging container and a packaging container

Номер патента: US11691780B2. Автор: David Sheldon. Владелец: Mars Inc. Дата публикации: 2023-07-04.

Blank for the transmission of information having improved preglued sealing areas

Номер патента: US4342418A. Автор: Luciano Meschi. Владелец: Individual. Дата публикации: 1982-08-03.

Blank for a container having a rolled rim, and method of making the same

Номер патента: CA2696182C. Автор: Jeffery J. Hernandez. Владелец: PACTIV LLC. Дата публикации: 2017-07-11.

Blank for a damascus patterned article

Номер патента: WO2019231379A1. Автор: Per JARBELIUS. Владелец: Damasteel AB. Дата публикации: 2019-12-05.

Blank for constructing solid forms

Номер патента: US3666607A. Автор: Joel J Weissman. Владелец: Joel J Weissman. Дата публикации: 1972-05-30.

Blank for forming a container tray

Номер патента: CA3146478A1. Автор: John Valencia. Владелец: WestRock Shared Services LLC. Дата публикации: 2022-01-20.

Blank for a container

Номер патента: US4079852A. Автор: Fritz Gunter Stoffregen. Владелец: Viscount Plastic Products Pty Ltd. Дата публикации: 1978-03-21.

Blank for compartmentalized tray

Номер патента: CA1085790A. Автор: George L. Meyers,Donald R. Kuehl. Владелец: American Can Co. Дата публикации: 1980-09-16.

Blank for a packaging container

Номер патента: CA1331749C. Автор: Paul Traegaardh. Владелец: Tetra Pak AB. Дата публикации: 1994-08-30.

Piston blank for a forged piston

Номер патента: US4910093A. Автор: Rutger Berchem,Volkhard Schnitzler,Friedhelm Stahlschmidt. Владелец: Berchem and Schaberg GmbH. Дата публикации: 1990-03-20.

Container and blank for constructing same

Номер патента: CA1102763A. Автор: Robert E. Lisiecki. Владелец: Ex-Cell-O Corp. Дата публикации: 1981-06-09.

Container with overlapping flap system and container blank for making the same

Номер патента: CA2936284C. Автор: Wolfgang Volkmann. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-09-04.

A cardboard blank for making framed pictures or posters

Номер патента: GB965390A. Автор: . Владелец: Agfa AG. Дата публикации: 1964-07-29.

Container and blank for constructing same

Номер патента: US4281787A. Автор: Warren R. Hensey. Владелец: Ex-Cell-O Corp. Дата публикации: 1981-08-04.

A blank for a rack

Номер патента: CA2644623A1. Автор: Teddy Kristensen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-09-20.

Corner structure and blank for a tray

Номер патента: CA1316157C. Автор: Prentice J. Wood. Владелец: Mead Corp. Дата публикации: 1993-04-13.

Blank for a pizza box

Номер патента: WO2024007050A1. Автор: Brendan Hughes,Andrew FRANGISKOS. Владелец: VISY R & D PTY LTD. Дата публикации: 2024-01-11.

Plastic film bottom bag and use thereof as well as blank for a plastic film bottom bag

Номер патента: US11958659B2. Автор: Georg Donner. Владелец: Mettler Packaging Pty Ltd. Дата публикации: 2024-04-16.

Blank for forming a container tray

Номер патента: US11801984B2. Автор: John Valencia. Владелец: WestRock Shared Services LLC. Дата публикации: 2023-10-31.

A blank for a rotary metal cutting tool

Номер патента: EP4360801A1. Автор: Siegfried ROGALLA,Hendrik Hisge. Владелец: WALTER AG. Дата публикации: 2024-05-01.

Plastic film bottom bag and use thereof as well as blank for a plastic film bottom bag

Номер патента: AU2021200743A1. Автор: Georg Donner. Владелец: Mettler Packaging Pty Ltd. Дата публикации: 2021-09-23.

Carton and blank for carton with corner indent wall

Номер патента: EP2155566A1. Автор: Tommy Ljungstrom,Peter Kortsmit. Владелец: Tetra Laval Holdings and Finance SA. Дата публикации: 2010-02-24.

A blank for a rotary metal cutting tool

Номер патента: WO2024088707A1. Автор: Siegfried ROGALLA,Hendrik Hisge. Владелец: WALTER AG. Дата публикации: 2024-05-02.

Blank for folding to form a spoon or a fork

Номер патента: US20240190101A1. Автор: Kar Yin LEE. Владелец: Geniiq Pte Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Blank for forming a package and a package

Номер патента: SE546121C2. Автор: Pär MAGNUSSON. Владелец: STORA ENSO OYJ. Дата публикации: 2024-05-28.

Plastic film bag, such as a tamper-proof plastic film bag, blank for a plastic film bag and use of the plastic film bag as transport and/or packaging container

Номер патента: US20240067410A1. Автор: Patrick Eberhard,Rene Donner. Владелец: Mettler Packaging Pty Ltd. Дата публикации: 2024-02-29.

Blank for a packaging, and box obtained making use of such a blank

Номер патента: EP2322438A3. Автор: Ann-Sofie Denoo,An Masschelein. Владелец: SCA Packaging Belgium NV. Дата публикации: 2014-01-22.

Cosmetic mask for face skin care

Номер патента: RU2629336C1. Автор: Евгения Владимировна Мартовщук,Василий Евгеньевич Тарасов,Сергей Васильевич Тарасов,Сабина Афшановна Мамедова,Анна Александровна Чумак. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Кубанский государственный технологический университет" (ФГБОУ ВО "КубГТУ"). Дата публикации: 2017-08-28.

Method and system for entering reserve wire for the nose in the production line of masks for the face

Номер патента: RU2643427C1. Автор: Эджей Й. ХОУД,Дэвид Ламар ХАРРИНГТОН,Марк Томас ПАМПЕРИН,Натан Крейг ХАРРИС,Джозеф П. ВЕБЕР. Владелец: Авент, Инк.. Дата публикации: 2018-02-01.

Mask for underwater swimming, having a body equipped with an exhaled air removal device, comprising a check valve

Номер патента: RU2724570C1. Автор: Кентен СОРИГ,Жонатан ВАНДАМ. Владелец: Декатлон. Дата публикации: 2020-06-23.

Creams and masks for face and body (options)

Номер патента: RU2680966C1. Автор: Константин Владимирович Волков. Владелец: Талагаева Елена Владимировна. Дата публикации: 2019-03-01.

Clay masks for face and body

Номер патента: RU2686082C1. Автор: Константин Владимирович Волков. Владелец: Талагаева Елена Владимировна. Дата публикации: 2019-04-24.

Light-scattering and reflecting coatings

Номер патента: RU2706063C1. Автор: Чжэнсун ЛО,Вэй Ван,Веньфу ЯН,Гехун ЧЖАН,Джон Роберт ШНАЙДЕР. Владелец: Ппг Коутингз (Тяньцзинь) Ко., Лтд.. Дата публикации: 2019-11-13.

Preventive facial mask for antimicrobial protection in the airborne upper respiratory tract diseases

Номер патента: RU2644316C1. Автор: Анатолий Алексеевич Хабаров,Елена Вячеславовна Будко,Леонид Михайлович Ямпольский,Евгений Олегович Федоров,Алексей Владимирович Барчуков,Оксана Игоревна Еремина. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Курский государственный медицинский университет" Министерства здравоохранения Российской Федерации. Дата публикации: 2018-02-08.

Clay masks for face and body

Номер патента: RU2694831C1. Автор: Константин Владимирович Волков. Владелец: Талагаева Елена Владимировна. Дата публикации: 2019-07-17.

Device with light-transmitting and reflecting properties

Номер патента: RU2258946C2. Автор: Ричард В. КЛАЙКМЭН,Нейл Д. ЛУБАРТ,Чарльз Р. МЭЙФИЛД. Владелец: Тривиум Текнолоджиз, Инк.. Дата публикации: 2005-08-20.

Cosmetic mask for skin application and a method of its application

Номер патента: RU2658046C1. Автор: Василий Николаевич Звездин,Татьяна Игоревна АКАФЬЕВА,Иван Аркадьевич Касаткин. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "БЛОМ РУС" (ООО "БЛОМ РУС"). Дата публикации: 2018-06-19.

Method and mask for making watermarked paper, method for making resulting watermarked paper mask, and method for authenticating watermarked paper

Номер патента: RU2748464C2. Автор: Иван ТЬЕРРИ,Стефан МАЛЛОЛЬ. Владелец: Обертюр Фидюсьер Сас. Дата публикации: 2021-05-25.

Face mask for patient breathing

Номер патента: US5921239A. Автор: Allan R. Jones, Jr.,Shawn R. McCall,Daniel E. Kimble. Владелец: Sunrise Medical HHG Inc. Дата публикации: 1999-07-13.

Half mask for protection of human respiratory organs from cold

Номер патента: RU2674279C1. Автор: Андрей Владимирович Михалев,Александр Сергеевич Омельянович. Владелец: Александр Сергеевич Омельянович. Дата публикации: 2018-12-06.

Adhesion-stimulating temporary mask for coated surfaces

Номер патента: RU2526885C2. Автор: Джонатон З. ЧЖАО,Роберт ФАЛОТИКО,Теодор Л. ПАРКЕР,Вайпул ДЭЙВ,Чэнсюэ ЛИ,Тай М. НГУЙЕН. Владелец: Кордис Корпорейшн. Дата публикации: 2014-08-27.

Cosmetic face mask for skin care

Номер патента: RU2696879C1. Автор: Наталья Витальевна Леснова. Владелец: Наталья Витальевна Леснова. Дата публикации: 2019-08-07.

Method of anti-corrosion protection of cathodic-polarizable underground metal structures with bitumen-polymeric layer of mastic in insulated coating and bitumen-polymer mask for insulating coating of cathodic-polarizable underground metal structures

Номер патента: RU2666917C1. Автор: Сергей Николаевич Макаров,Николай Николаевич Петров,Сергей Баянович Фахретдинов,Марат Константинович Тен. Владелец: Акционерное общество "Делан". Дата публикации: 2018-09-13.

Mask for skin and muscles of face

Номер патента: RU2724587C1. Автор: Кира Александровна Сорокина. Владелец: Кира Александровна Сорокина. Дата публикации: 2020-06-25.

Full face mask for electrically driven air-purifying respirator (papr)

Номер патента: RU2566910C2. Автор: Оливер КЛОКСЕТ. Владелец: Фейскавэр Свиден Аб. Дата публикации: 2015-10-27.

Light mask for instrument cluster

Номер патента: GB2247807A. Автор: Simon Peter Breen,Nigel Ian Barrett,David Dickson. Владелец: Delco Electronics Overseas Corp. Дата публикации: 1992-03-11.

Face mask for the protection against biological agents

Номер патента: CA2555847C. Автор: Stefano Cerbini. Владелец: CL com Srl. Дата публикации: 2010-09-14.

Masking for engine blocks for thermally sprayed coatings and method of masking same

Номер патента: US6589605B2. Автор: Oludele Olusegun Popoola,Keith Raymond Bartle,Barry Edwin Shepley,Patrick John Hilton,Robert Edward DeJack. Владелец: FORD GLOBAL TECHNOLOGIES LLC. Дата публикации: 2003-07-08.

Mask for artificial pulmonary ventilation

Номер патента: RU2708449C1. Автор: Владимир Викторович Михайлов. Владелец: Владимир Викторович Михайлов. Дата публикации: 2019-12-06.

Holding device for protection face-mask for connecting it with protection helmet

Номер патента: RU2301694C2. Автор: Клаус ШМИДТКЕ,Танги СЕВ,Филипп ФИТУССИ,Вильфрид ХОФФМАНН. Владелец: МСА АУЭР ГмбХ. Дата публикации: 2007-06-27.

Glazing possessing selective transmission and reflection spectra

Номер патента: US4348453A. Автор: Sabatino Cohen. Владелец: Saint Gobain Vitrage SA. Дата публикации: 1982-09-07.

Mask for adminstering an anesthetic gas to a patient

Номер патента: US5018519A. Автор: Glenn E. Brown. Владелец: Individual. Дата публикации: 1991-05-28.

Reflecting membrane production method and reflecting membrane produced under such method

Номер патента: RU2422062C2. Автор: Габриэле Беате ВИТТМАНН,ДЕ ВЕН Хенрикус Йоаннес Мария ВАН. Владелец: Симпатекс Текнолоджиз Гмбх. Дата публикации: 2011-06-27.

Heated and reflecting automobile glazing

Номер патента: US5075535A. Автор: Alfred Hans,Gunther Termath. Владелец: Saint Gobain Vitrage International SA. Дата публикации: 1991-12-24.

Clay masks for face and body

Номер патента: RU2680832C1. Автор: Константин Владимирович Волков. Владелец: Талагаева Елена Владимировна. Дата публикации: 2019-02-28.

Mask for administering gas to a patient

Номер патента: GB1516494A. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 1978-07-05.

Painting mask for use when painting a rim that is secured to a tire

Номер патента: US5667590A. Автор: Andrew E. Simons, Sr.. Владелец: Individual. Дата публикации: 1997-09-16.

Method and mask for forming thin film

Номер патента: US4704306A. Автор: Takeshi Nakamura. Владелец: Murata Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 1987-11-03.

Method of shaping a flex mask for use in uniform optical coating by ion beam sputtering

Номер патента: CA2348147C. Автор: Dhirubhai Patel,Leo Lam,William Debley,Radhakrishna Mandyam. Владелец: Litton Systems Inc. Дата публикации: 2008-08-19.

Ultraviolet (uv) light face mask for infection protection

Номер патента: WO2021222331A1. Автор: Scott Miles,Mark Rolfe JOHNSON,Robert L. Bishop. Владелец: Uvertek, Inc.. Дата публикации: 2021-11-04.

Mask for preventing permeation of foreign material

Номер патента: US6145504A. Автор: Kaoru Miyake. Владелец: San M Packaging Co Ltd. Дата публикации: 2000-11-14.

Mask for use in fire accidents

Номер патента: US5392465A. Автор: Lee W. Shou. Владелец: MULTIPLE INTERNATIONAL DEVELOPMENT Co Ltd. Дата публикации: 1995-02-28.

Face mask for diving

Номер патента: US20060162055A1. Автор: Yuji Kuroda. Владелец: Tabata Co Ltd. Дата публикации: 2006-07-27.

Nebulizer mask for delivery of aerosolized and nebulized medications

Номер патента: CA2610334C. Автор: Lee Mcdonald,Julius Hajgato. Владелец: Southmedic Inc. Дата публикации: 2012-01-24.

Welder{3 s mask for use with respirator

Номер патента: US3914796A. Автор: Raymond D Barta. Владелец: Airco Inc. Дата публикации: 1975-10-28.

Fiber product including reflective treads, and reflective implement provided by using said fiber product including reflective threads

Номер патента: US5804275A. Автор: Yoshihiko Tsunefuji. Владелец: Tsunefuji and Co Ltd. Дата публикации: 1998-09-08.

Mask for vapor deposition

Номер патента: WO2006020469A3. Автор: Tsutomu Miura,Nobuyuki Mori. Владелец: Nobuyuki Mori. Дата публикации: 2006-05-04.

Mask for a horse

Номер патента: GB2461887A. Автор: Clare Gillian Hobsley. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-01-20.

Mask for administration of inhaled medication

Номер патента: CA2853506C. Автор: K. Mosaddeq Hossain,Michael Newhouse,Vijay Shukla,Asaf Halamish,Paresh VASANDANI,Israel Amirav. Владелец: NOSTRUM TECHNOLOGIES LLC. Дата публикации: 2019-09-24.

Customizable face or nose mask for the noninvasive ventilation of patients in general

Номер патента: US20030075181A1. Автор: Massimo Fini,Paolo Bergamaschi. Владелец: Paolo Bergamaschi. Дата публикации: 2003-04-24.

Glazing possessing selective transmission and reflection spectra

Номер патента: CA1169722A. Автор: Sabatino Cohen. Владелец: Saint Gobain Vitrage International SA. Дата публикации: 1984-06-26.

Ventilated mask for outdoor use

Номер патента: US7055521B1. Автор: Ronald A. JOHNSON. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-06-06.

Paper sheet material with a glittering and reflective surface appearance

Номер патента: WO2023222572A1. Автор: Luca Monacelli. Владелец: Gruppo Cordenons S.P.A.. Дата публикации: 2023-11-23.

Anti-fog mask for blocking exhaled breath

Номер патента: US20240081437A1. Автор: Justin Taekwon KONG. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-03-14.

Yeast-based masks for improved skin, hair and scalp health

Номер патента: US20230381088A1. Автор: Sean Farmer,Ken Alibek. Владелец: Locus Solutions IPCO LLC. Дата публикации: 2023-11-30.

Method of manufacturing a full-face mask for an air purifying respirator and such a mask

Номер патента: WO2023247520A1. Автор: Mikael Klockseth. Владелец: Tiki Safety Ab. Дата публикации: 2023-12-28.

Mask for evaporation

Номер патента: US20230167536A1. Автор: Yan Huang,Jianbo Li,Yi Ma,Fengli JI,Chang Luo,Guomeng Zhang. Владелец: Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-01.

Reflective prismatic fiber and reflective material incorporating said reflective prismatic fibers

Номер патента: WO2023215631A1. Автор: Don Chernoff. Владелец: Chernoff Don. Дата публикации: 2023-11-09.

Foldable and flexible ultrasonic vibration mask for teeth cleaning

Номер патента: US9492254B2. Автор: Jium Ming Lin. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-11-15.

Foldable and flexible ultrasonic vibration mask for teeth cleaning

Номер патента: US20160030143A1. Автор: Jium Ming Lin. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-02-04.

Oxygen-capnography mask for continuous CO2 monitoring

Номер патента: US11850363B2. Автор: Michael KERTSER,Konstantin Goulitski. Владелец: Oridion Medical 1987 Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Eyecup, headband, and eye mask for sleeping

Номер патента: US20230062643A1. Автор: Benjamin Schwarz,Mark Zhang. Владелец: Manta Sleep LLC. Дата публикации: 2023-03-02.

Uv-mask for crosslinking treatment of keratoconus

Номер патента: WO2021248100A1. Автор: Robert Epstein. Владелец: Robert Epstein. Дата публикации: 2021-12-09.

Fracturable mask for treating presbyopia

Номер патента: EP3220859A1. Автор: R. Kyle Webb,Daniel David SIEMS. Владелец: Acufocus Inc. Дата публикации: 2017-09-27.

Drug delivery mask for animals

Номер патента: US20070000452A1. Автор: Brian Barney,Esther Perea-Borobio. Владелец: Norton Healthcare Ltd. Дата публикации: 2007-01-04.

Training mask for training the respiratory muscles and/or snorkeling mask with improved air routing

Номер патента: US11760452B2. Автор: Thierry Lucas. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-09-19.

Method and mask for reducing inhalation of microorganisms

Номер патента: US11801403B2. Автор: Lei Yao,Xiao Liao,Yongli Wang,Siyu Lin. Владелец: Hong Kong Research Institute of Textiles and Apparel Ltd. Дата публикации: 2023-10-31.

Mask for administration of inhaled medication

Номер патента: US20200254196A1. Автор: K. Mosaddeq Hossain,Michael Newhouse,Vijay Shukla,Asaf Halamish,Paresh VASANDANI,Israel Amirav. Владелец: Nostrum Tech LLC. Дата публикации: 2020-08-13.

Mask for administration of inhaled medication

Номер патента: US20190275266A1. Автор: K. Mosaddeq Hossain,Michael Newhouse,Vijay Shukla,Asaf Halamish,Paresh VASANDANI,Israel Amirav. Владелец: Nostrum Tech LLC. Дата публикации: 2019-09-12.

Mask for administration of inhaled medication

Номер патента: CA3051326A1. Автор: K. Mosaddeq Hossain,Michael Newhouse,Vijay Shukla,Asaf Halamish,Paresh VASANDANI,Israel Amirav. Владелец: NOSTRUM TECHNOLOGIES LLC. Дата публикации: 2012-12-20.

Systems, methods, and devices for characterizing ear canal acoustic impedance, admittance, and reflectance by pole-zero fitting

Номер патента: US20150265189A1. Автор: Sarah Robinson,Jont B Allen. Владелец: Mimosa Acoustics Inc. Дата публикации: 2015-09-24.

Breathable mask for snorkeling

Номер патента: US20230415866A1. Автор: Chih-Cheng Shiue. Владелец: QBAS Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

LED traffic signal with anti-reflection mask

Номер патента: NZ510592A. Автор: Keith James Aldridge,Raj Nath Bhat. Владелец: ALDRIDGE TRAFFIC SYSTEMS. Дата публикации: 2001-06-29.

Spectral cleaning filter for euv-nanolithograph and method of its fabrication

Номер патента: RU2510641C2. Автор: Юрий Михайлович Задиранов,Рубен Павлович Сейсян,Наталия Дмитриевна Ильинская. Владелец: Рубен Павлович Сейсян. Дата публикации: 2014-04-10.

Method for electroslag production of die blanks for pressing-rolling line for production of railway wheels

Номер патента: RU2320735C2. Автор: Игорь Иванович Рекун,Владимир Николаевич Шуклин,Лариса Васильевна Панфилова. Владелец: Общество С Ограниченной Ответственностью "Предприятие Урал". Дата публикации: 2008-03-27.

Steel hot-rolled blank for shaping and method of rolling

Номер патента: RU2344181C2. Автор: Вадим Григорьевич Антипанов,Владимир Леонидович Корнилов,Валерий Петрович Торохтий,Глеб Александрович Куницын. Владелец: Открытое акционерное общество "Магнитогорский металлургический комбинат". Дата публикации: 2009-01-20.

Method for manufacture of parts from materials with disordered structure (versions) and die mold for axial pressing of bottom and butt of blank for parts such as long-length revolution body with axial hole from materials with disordered structure (versions)

Номер патента: RU2343036C2. Автор: кин Юрий Михайлович Кор,Юрий Михайлович Корякин,Петр Иванович Голубев. Владелец: Российская Федерация, от имени которой выступает государственный заказчик-Федеральное агентство по атомной энергии. Дата публикации: 2009-01-10.

Method for making titanium reference samples for ultrasonic flaw detection with flat-bottom deflector by diffusion welding and blank for performing the method

Номер патента: RU2263566C1. Автор: В.В. Пешков,Л.В. Усачева,В.Ф. Селиванов,В.Р. Петренко. Владелец: Воронежский государственный технический университет. Дата публикации: 2005-11-10.

Planar blank for forming of rigid pack

Номер патента: RU2275157C2. Автор: Марко БРИЦЦИ. Владелец: Г.Д Сочиета` Пер Ациони. Дата публикации: 2006-04-27.

Method for producing conversion tube blank for rolling cold rolled large- and mean-diameter tubes of titanium base alloys

Номер патента: RU2288054C2. Автор: Леонид Игнатьевич Лапин,Анатолий Васильевич Сафьянов,Владимир Григорьевич Смирнов,Кирилл Николаевич Никитин,Валентин Иреклеевич Тазетдинов,Александр Юрьевич Матюшин,Владимир Валентинович Зайцев,Валерий Александрович Головинов,Сергей Васильевич Ненахов,Николай Григорьевич Дановский,Борис Семёнович Литвак,Исаак Иосифович Вольберг,Игорь Александрович Романцов,Виктор Васильевич Исаенко,нов Анатолий Васильевич Сафь (RU),Валентин Иреклеевич Тазетдинов (RU),Исаак Иосифович Вольберг (RU),Леонид Игнатьевич Лапин (RU),Сергей Васильевич Ненахов (RU),Игорь Александрович Романцов (RU),Валерий Александрович Головинов (RU),Кирилл Николаевич Никитин (RU),Владимир Григорьевич Смирнов (RU),Николай Григорьевич Дановский (RU),Борис Семенович Литвак (RU),Александр Юрьевич Матюшин (RU),Виктор Васильевич Исаенко (RU),Владимир Валентинович Зайцев (RU). Владелец: ОАО "Челябинский трубопрокатный завод". Дата публикации: 2006-11-27.

Method to obtain blank for pipeline lock

Номер патента: RU2516330C2. Автор: Александр Сергеевич Пушкин. Владелец: Открытое акционерное общество "Приволжские магистральные нефтепроводы" (ОАО Приволжскнефтепровод"). Дата публикации: 2014-05-20.

ESR BLANK-INGOT FOR PIERCING AND ROLLING-OFF AT TWO-ROLL SCREW ROLLING MILL TO REROLLED SLEEVES-BLANKS FOR PRODUCTION OF MACHINED 610×36,53×3200-3550 mm PIPES FROM "08X18H10T"-GRADE STEEL FOR NUCLEAR POWER ENGINEERING STRUCTURES

Номер патента: RU2530430C1. Автор: Александр Анатольевич Федоров,Виктор Николаевич Еремин,Анатолий Васильевич Сафьянов,Валентин Иреклеевич Тазетдинов,Владимир Яковлевич Осадчий,Александр Юрьевич Матюшин,Николай Петрович Климов,Константин Эдуардович Бубнов,Валерий Александрович Головинов,Александр Анатольевич Сафьянов,Владимир Сергеевич Баричко,Николай Григорьевич Дановский,Борис Семёнович Литвак,Константин Александрович Усанов,Борис Пентелеевич Картушов. Владелец: Открытое акционерное общество "Челябинский трубопрокатный завод". Дата публикации: 2014-10-10.

Anti-friction alloy and method of manufacture of bimetal blanks for bearings from this alloy

Номер патента: RU2284364C2. Автор: Александр Евгеньевич Миронов,Владимир Алексеевич Гридасов,Николай Александрович Буше,Татьяна Федоровна Маркова,Юрий Владимирович Плужников,Алексей Васильевич Колмаков,Тать на Иосифовна Майорова,Татьяна Иосифовна Майорова,Тать на Федоровна Маркова. Владелец: Оао "Завод Подшипников Скольжения". Дата публикации: 2006-09-27.

Method of forming blank for making end tool

Номер патента: RU2275988C2. Автор: Николай Иванович Борисенко,Владимир Ильич Калмыков,Виктор Павлович Балков,Татьяна Михайловна Петровская,Иван Васильевич Кобицкой,Тать на Михайловна Петровска,Владимир Михайлович Калакин,Евгений Михайлович Шереметьев. Владелец: Евгений Михайлович Шереметьев. Дата публикации: 2006-05-10.

Blank for a liquid container

Номер патента: CA175901S. Автор: . Владелец: GD SpA. Дата публикации: 2018-02-06.

Method of making tubular blanks for forming hexahedral cover tubes of low- ductile nickel- free boron-containing steel

Номер патента: RU2226133C2. Автор: В.П. Борисов,А.В. Сафьянов,нов А.В. Сафь,А.А. Фёдоров,Л.И. Лапин,И.А. Романцов,С.В. Ненахов,В.В. Игнатьев,В.А. Логовиков,Н.И. Воробьев,Г.А. Братко. Владелец: ОАО "Челябинский трубопрокатный завод". Дата публикации: 2004-03-27.

Rolling method at creating preset stressed state along cross section of blank and blank for performing the same

Номер патента: RU2311974C2. Автор: Павел Борисович Белявский,Игорь Николаевич Лебединский,Валерий Георгиевич Кнохин,Александр Владимирович Рамзаев,вский Павел Борисович Бел,Александр Петрович Огрызков. Владелец: Закрытое акционерное общество "Волгоградский металлургический завод "Красный Октябрь" ЗАО "ВМЗ "Красный Октябрь". Дата публикации: 2007-12-10.

Method of producing blanks for enamelling

Номер патента: RU2092583C1. Автор: Р.И. Черкасский,З.М. Шварцман,Э.Д. Немкина,А.В. Губчевский,О.А. Преображенская. Владелец: Акционерное общество открытого типа "Магнитогорский металлургический комбинат". Дата публикации: 1997-10-10.

Blank for diffusion welding of heterogeneous metals

Номер патента: RU2243872C1. Автор: В.П. Гордо,В.Н. Елкин. Владелец: Федеральное Государственное Унитарное Предприятие "Научно-Исследовательский И Конструкторский Институт Энерготехники Имени Н.А. Доллежаля". Дата публикации: 2005-01-10.

Method of making welded blank for forming car body parts

Номер патента: RU2500514C2. Автор: Тимур Вахитович Хайруллин. Владелец: Открытое акционерное общество "АВТОВАЗ". Дата публикации: 2013-12-10.

Method of manufacture of large-sized blanks for quartz light conduits

Номер патента: RU2281260C1. Автор: Михаил Артемьевич Ероньян,н Михаил Артемьевич Еронь,Петр Андреевич Злобин. Владелец: Михаил Артемьевич Ероньян. Дата публикации: 2006-08-10.

Improvements in Machines for Infolding the Edges of Blanks for Collars, Cuffs and the like.

Номер патента: GB190226464A. Автор: Sydney Elliott Page. Владелец: Individual. Дата публикации: 1903-06-18.

Method of application by spraying of aluminum gas-thermal coating to blanks for their heating for rolling and method versions

Номер патента: RU2089652C1. Автор: Б.Ю. Зеличенок,В.Ф. Бойко,П.Ф. Жоров,А.Г. Радюк,А.Е. Титлянов,Ю.Н. Коберник. Владелец: Оскольский электрометаллургический комбинат. Дата публикации: 1997-09-10.

Cutting of blanks for moulding of lathe-sized panels from low-carbon thin-sheet steel reel

Номер патента: RU2567967C2. Автор: Игорь Юрьевич Ананченко,Валерий Алексеевич Жарков. Владелец: Открытое акционерное общество "АВТОВАЗ". Дата публикации: 2015-11-10.

Method of manufacture of blanks for friction articles

Номер патента: RU2281928C1. Автор: Валерий Васильевич Кулаков,Евгений Иванович Крамаренко,Владимир Петрович Фокин,Анатолий Михайлович Кенигфест,Геннадий Николаевич Гусаков,Владимир Петрович Фокин (RU),Евгений Иванович Крамаренко (RU),Валерий Васильевич Кулаков (RU),Анатолий Михайлович Кенигфест (RU),Геннадий Николаевич Гусаков (RU). Владелец: Открытое акционерное общество "Авиационная корпорация "Рубин". Дата публикации: 2006-08-20.

Blanks for Making Sound Records for Phonographs, Gramophones and similar Apparatus, and Method for Manufacturing the same.

Номер патента: GB190217163A. Автор: Carl Hugo Krieger,George Henry Burt. Владелец: Individual. Дата публикации: 1903-06-25.

A blank for a cover for a refuse receptacle

Номер патента: AU318622S. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2008-04-01.

Blank for magnetic disks and manufacturing method thereof

Номер патента: MY149819A. Автор: Masanobu Onishi,Takashi Mori. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 2013-10-14.

Aluminium-base bearing alloy and method of manufacture of bimetallic blank for bearings from this alloy

Номер патента: RU2087577C1. Автор: Александр Евгеньевич Миронов,Владимир Алексеевич Гридасов,Николай Александрович Буше,Татьяна Федоровна Маркова,Валерий Васильевич Копытько,Анатолий Егорович Чернышов,Виктор Иосифович Петровский,Виталий Михайлович Калентьев. Владелец: Виталий Михайлович Калентьев. Дата публикации: 1997-08-20.

Carton for pizza and like products and blank for forming same

Номер патента: AU332338S. Автор: . Владелец: Visy R&D Pty Ltd. Дата публикации: 2010-08-20.

Improvements in the Manufacture of Recording-blanks for Talking Machines.

Номер патента: GB191219068A. Автор: Erwin Kramer. Владелец: Individual. Дата публикации: 1913-08-07.

Improvements in the Manufacture of Wrought Iron or Steel Blanks for the Spokes of the Wheels of Railway Carriages, Wagons and other Railway Vehicles.

Номер патента: GB190222742A. Автор: Edward Holden,Jabez Lones. Владелец: Individual. Дата публикации: 1903-10-15.

Blank for paperboard chock

Номер патента: CA183392S. Автор: . Владелец: International Paper Co. Дата публикации: 2019-09-23.

Improvements in and relating to Blanks for Business Forms.

Номер патента: GB190713777A. Автор: John William Comer. Владелец: Individual. Дата публикации: 1907-11-28.

Improvements in or relating to a Box Covering Blank for Extension Edge or Extension Bottom Boxes.

Номер патента: GB190609237A. Автор: William Fairburn-Hart. Владелец: Individual. Дата публикации: 1906-09-20.

Method of making laminate sheet blank for drawing

Номер патента: RU2086333C1. Автор: А.Ф. Осипов,Н.А. Данилов,И.Ю. Ананченко,В.В. Гайдук,В.И. Фалкон,А.М. Мендель. Владелец: Акционерное общество "АвтоВАЗ". Дата публикации: 1997-08-10.

Blank for drawing cylindrical semifinished product

Номер патента: RU2056199C1. Автор: С.С. Яковлев,В.А. Коротков. Владелец: Тульский государственный технический университет. Дата публикации: 1996-03-20.

Blank for forming a container

Номер патента: AU201817887S. Автор: . Владелец: Visy R&D Pty Ltd. Дата публикации: 2019-02-05.

Improvements in the Manufacture of Wrought Iron or Steel Blanks for the Spokes of the Wheels of Railway Carriages and Wagons and in Machinery to be used in the said Manufacture.

Номер патента: GB189817015A. Автор: Edward Holden,Jabez Lones. Владелец: Individual. Дата публикации: 1899-04-29.

Blank for forming a seat

Номер патента: AU341057S. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-02-20.

Blank for angled downpipes

Номер патента: AU335937S. Автор: . Владелец: BlueScope Steel Ltd. Дата публикации: 2011-04-08.

A blank for a box divider

Номер патента: AU201715391S. Автор: . Владелец: Visy R&D Pty Ltd. Дата публикации: 2017-11-02.

Stackable tray and blank for forming same

Номер патента: AU329673S. Автор: . Владелец: CARDBOARD PALLET Co Pty Ltd. Дата публикации: 2010-02-19.

Improvements in or relating to Methods of Forming Blanks for Covering Eyelets or like Articles.

Номер патента: GB190815204A. Автор: Alfred Julius Boult. Владелец: Individual. Дата публикации: 1909-08-17.

Blank for a pet bed

Номер патента: AU345267S. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-10-31.

A CD wallet and blank for a CD wallet

Номер патента: AU306323S. Автор: . Владелец: Media Mail Technology Pty Ltd. Дата публикации: 2006-04-07.

A foldable blank for a postcard

Номер патента: AU313042S. Автор: . Владелец: Perceptionz Ltd. Дата публикации: 2007-02-20.

A blank for a box divider

Номер патента: AU367500S. Автор: . Владелец: Visy R&D Pty Ltd. Дата публикации: 2016-03-03.

Method of Treating or Manipulating Paper and like Material in the Preparation of Covering Blanks for Boxes.

Номер патента: GB190716568A. Автор: William Righter Comings. Владелец: Individual. Дата публикации: 1908-08-19.

Blank for a wine cask

Номер патента: AU301814S. Автор: . Владелец: Beringer Blass Wine Estates Co. Дата публикации: 2005-06-03.

Blank for saw webs or saw bands

Номер патента: RU2264893C2. Автор: Герхард ТИХЛЕР,Грегор ИННИТЦЕР. Владелец: Белер-Уддехольм Прецизион Штрип Гмбх Унд Ко Кг. Дата публикации: 2005-11-27.

Method for manufacture of litographic mask for liga-technology

Номер патента: RU2350996C1. Автор: Екатерина Владимировна Петрова,Владимир Иванович Кондратьев,Александр Николаевич Генцелев,Борис Григорьевич Гольденберг. Владелец: Институт ядерной физики СО РАН. Дата публикации: 2009-03-27.

Method for producing round blanks for sheet forming

Номер патента: RU2288064C1. Автор: Алексей Михайлович Володин,Виктор Андреевич ЛАЗОРКИН,Василий Васильевич Никитин,Анна Михайловна Гутенева. Владелец: Открытое Акционерное Общество "Тяжпрессмаш". Дата публикации: 2006-11-27.

Method and device for packaging portioned products in blank for package

Номер патента: RU2507132C2. Автор: Карл Йозеф РЮТТЕР. Владелец: ОЙСТАР Бенхил ГмбХ. Дата публикации: 2014-02-20.

COMPOSITION OF CARBON BLANK FOR OBTAINING SiC/C/Si CERAMICS AND METHOD FOR OBTAINING SiC/C/Si PRODUCTS

Номер патента: RU2573146C1. Автор: Владимир Николаевич Курлов,Ирина Алексеевна Шикунова,Сергей Леонидович Шикунов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики твердого тела Российской академии наук (ИФТТ РАН). Дата публикации: 2016-01-20.

Cutting of blanks for moulding of lathe-sized panels from low-carbon thin-sheet steel reel (versions)

Номер патента: RU2573464C2. Автор: Игорь Юрьевич Ананченко,Александр Анатольевич Кирюшин,Валерий Алексеевич Жарков. Владелец: Открытое акционерное общество "АВТОВАЗ". Дата публикации: 2016-01-20.

Method for making head of annular type nut wrench and method for making blank for performing it

Номер патента: RU2204458C2. Автор: ров А.М. Тавли,А.М. Тавлияров,А.М. Жильцов,Б.А. Мыльников. Владелец: Мыльников Борис Александрович. Дата публикации: 2003-05-20.

Intermediate blank for identification or the like and method

Номер патента: CA1334986C. Автор: Eric Schmidt. Владелец: Wallace Computer Services Inc. Дата публикации: 1995-03-28.

Blank for boxes

Номер патента: CA164256S. Автор: . Владелец: Elopak AS. Дата публикации: 2020-07-06.

Blank for forming a lid for a container

Номер патента: AU201614575S. Автор: . Владелец: Visy R&D Pty Ltd. Дата публикации: 2016-09-27.

Improvements in the Manufacture of Wrought Iron or Steel Blanks for the Spokes of the Wheels of Railway Carriages, Wagons and other Railway Vehicles.

Номер патента: GB190202860A. Автор: Edward Holden,Jabez Lones. Владелец: Individual. Дата публикации: 1902-11-27.

Blank for forming parts of п-shaped cross section with use of electric contact heating

Номер патента: RU2060092C1. Автор: Б.Н. Марьин,А.М. Петров,К.А. Макаров,П.В. Фролов. Владелец: Комсомольское-на-Амуре авиационное производственное объединение. Дата публикации: 1996-05-20.

Sintered blanks for rolling and forging and method of producing same

Номер патента: CA1055732A. Автор: Akira Nakatani,Tatsuro Hamai,Yuuya Tanaka,Yoshihiko Hamai. Владелец: Hamai Seisakusho KK. Дата публикации: 1979-06-05.

A method and a blank for the production of horseshoes

Номер патента: CA2189261C. Автор: Clemens Backman. Владелец: MCL i Avesta AB. Дата публикации: 2005-11-22.

A blank for a packaging partition

Номер патента: AU366634S. Автор: . Владелец: Visy R&D Pty Ltd. Дата публикации: 2016-01-19.

Blank for forming a container

Номер патента: AU201612485S. Автор: . Владелец: Visy R&D Pty Ltd. Дата публикации: 2016-08-02.

Blank for forming a container

Номер патента: AU201813017S. Автор: . Владелец: Visy R&D Pty Ltd. Дата публикации: 2018-08-09.

Blank for forming a container

Номер патента: AU201616988S. Автор: . Владелец: Visy R&D Pty Ltd. Дата публикации: 2017-01-25.

Blank for forming a container

Номер патента: AU201817044S. Автор: . Владелец: Visy R&D Pty Ltd. Дата публикации: 2019-01-17.

Blank for forming a container

Номер патента: AU201712118S. Автор: . Владелец: Visy R&D Pty Ltd. Дата публикации: 2017-06-21.

Blank for forming a carton

Номер патента: AU201615836S. Автор: . Владелец: Visy R&D Pty Ltd. Дата публикации: 2017-04-13.

Improvements relating to the Construction of Sheet Metal Spoke Blanks for Pulleys.

Номер патента: GB190100281A. Автор: Edward Gowen Budd. Владелец: Individual. Дата публикации: 1901-06-15.

Blank for a lid of a container

Номер патента: AU201715096S. Автор: . Владелец: Visy R&D Pty Ltd. Дата публикации: 2017-10-04.

Blank for forming a container

Номер патента: AU201712842S. Автор: . Владелец: Visy R&D Pty Ltd. Дата публикации: 2017-06-07.

Blank for a CD/DVD mailer wallet

Номер патента: AU324967S. Автор: . Владелец: Media Mail Pty Ltd As Trustee Of Media Mail Trust. Дата публикации: 2009-02-27.

Method for calibration of inherent s-parameters of devices for measuring complex coefficients of transmission and reflection of microwave four-terminal devices

Номер патента: RU2482504C2. Автор: Константин Станиславович Коротков,Антон Сергеевич Левченко,Дмитрий Николаевич Мильченко,Игорь Николаевич Шевченко. Владелец: ОТКРЫТОЕ АКЦИОНЕРНОЕ ОБЩЕСТВО "НАУЧНО-ПРОИЗВОДСТВЕННАЯ КОМПАНИЯ "РИТМ" (ОАО "Компания "Ритм"). Дата публикации: 2013-05-20.

Method to determine amplitude-phase error of microwave mixer in metre of complex coefficients of transmission and reflection of microwave quadripoles

Номер патента: RU2499272C1. Автор: Константин Станиславович Коротков,Даниил Русланович Фролов,Денис Николаевич Перечнев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Кубанский государственный университет" (ФГБОУ ВПО "КубГУ"). Дата публикации: 2013-11-20.

Method of certification of amplitude-phase error of devices for measurement of complex coefficients of transmitting and reflecting of four-pole shf

Номер патента: RU2377591C1. Автор: Константин Станиславович Коротков,Дмитрий Николаевич Мильченко,Игорь Николаевич Шевченко,Юрий Георгиевич Астафьев. Владелец: Открытое акционерное общество "Научно-производственная компания "Ритм". Дата публикации: 2009-12-27.

Cream-mask for dehydrated skin

Номер патента: RU2216314C1. Автор: И.В. Анчевский,М.В. Глинская. Владелец: Закрытое акционерное общество "Косметический центр "ЛАКРИМА". Дата публикации: 2003-11-20.

Filtering half-mask for protection against aerosols and dust

Номер патента: RU2550329C2. Автор: Геннадий Николаевич Колесников,Александр Александрович Атрошенко,Анатолий Александрович Скобцов,Владимир Дмитриевич Горбушкин,Валерий Павлович Зародов. Владелец: Валерий Павлович Зародов. Дата публикации: 2015-05-10.

Device for measuring complex coefficients of transmission and reflection of microwave four terminal networks

Номер патента: RU2377583C1. Автор: Константин Станиславович Коротков,Дмитрий Николаевич Мильченко,Игорь Николаевич Шевченко,Юрий Георгиевич Астафьев. Владелец: Открытое акционерное общество "Научно-производственная компания "Ритм". Дата публикации: 2009-12-27.

Device for measuring absolute complex transmission and reflection coefficients of microwave devices with frequency conversion

Номер патента: RU2524049C1. Автор: Константин Станиславович Коротков,Даниил Русланович Фролов,Антон Сергеевич Левченко,Дмитрий Николаевич Мильченко. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Кубанский государственный университет" (ФГБОУ ВПО "КубГУ"). Дата публикации: 2014-07-27.

Device to measure complex coefficients of transmission and reflection of microwave quadripoles

Номер патента: RU2499271C1. Автор: Константин Станиславович Коротков,Даниил Русланович Фролов,Денис Николаевич Перечнев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Кубанский государственный университет" (ФГБОУ ВПО "КубГУ"). Дата публикации: 2013-11-20.

Method of manufacturing resistive masks for nanolithography

Номер патента: RU2510632C1. Автор: Владимир Васильевич Сычев,Илья Викторович Тайдаков,Алексей Григорьевич Витухновский,Дмитрий Анатольевич Глубоков. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Физический институт им. П.Н. Лебедева Российской академии наук (ФИАН). Дата публикации: 2014-04-10.

Method of measuring local energy frequency spectra and reflection factor of radio wave-absorbing material

Номер патента: RU2321007C1. Автор: Андрей Александрович Гаврилов,Виктор Васильевич Бондаренко,Валерий Евгеньевич Забалуев. Владелец: Федеральное государственное учреждение "Федеральный государственный научно-исследовательский испытательный центр радиоэлектронной борьбы и оценки снижения заметности" Министерства обороны Российской Федерации. Дата публикации: 2008-03-27.

Device for splitting and recording of direct and reflected microwave power in quasi-optical pathway

Номер патента: RU2548392C1. Автор: Намик Гусейнага оглы Гусейн-заде,Леонид Викторович Колик,Евгений Михайлович Кончеков,Владимир Дмитриевич Степахин,Николай Константинович Харчев,Елена Николаевна Тараканова,Герман Михайлович Батанов,Валентин Дмитриевич Борзосеков. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт общей физики им. А.М. Прохорова Российской академии наук (ИОФ РАН). Дата публикации: 2015-04-20.

Fabrication of amplitude diffraction optical elements and masks for production of phase structures

Номер патента: RU2556313C2. Автор: Николай Львович Казанский,Олег Юрьевич Моисеев,Алексей Васильевич Волков,Сергей Дмитриевич Полетаев. Владелец: Российская академия наук Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт систем обработки изображений Российской академии наук (ИСОИ РАН). Дата публикации: 2015-07-10.

Mask for facial treatment

Номер патента: RU2519150C1. Автор: Ольга Ивановна Жигачёва. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Волгоградский государственный университет". Дата публикации: 2014-06-10.

Cosmetic mask for face skin care

Номер патента: RU2429817C1. Автор: Василий Евгеньевич Тарасов,Игорь Викторович Губин,Людмила Николаевна Василенко,Юрий Иванович Федченко,Василий Яковлевич Одарченко,Наталия Викторовна Лосева,Татьяна Владимировна Пелипенко,Анна Юрьевна Анопка. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Кубанский государственный технологический университет" (ГОУ ВПО "КубГТУ"). Дата публикации: 2011-09-27.

Transmitted and reflected light microscope

Номер патента: RU2419114C2. Автор: Михаил Наумович Сокольский,Наталия Богдановна Скобелева,Сергей Николаевич Натаровский,Елена Викторовна Лобачева. Владелец: Открытое акционерное общество "ЛОМО". Дата публикации: 2011-05-20.

Mask for skin care

Номер патента: RU2164131C2. Автор: В.В. Денисов,С.Л. Левин,А.Н. Петров,Н.В. Денисов. Владелец: Денисов Виктор Васильевич. Дата публикации: 2001-03-20.

Mask for respirator

Номер патента: CA137093S. Автор: . Владелец: Teijin Pharma Ltd. Дата публикации: 2011-04-28.

Mask for a respirator

Номер патента: CA155549S. Автор: . Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2015-04-09.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.