Method for forming a semiconductor device having a structure of a single crystal scandium oxide film formed on a silicon substrate
Номер патента: US7235467B2
Опубликовано: 26-06-2007
Автор(ы): Chih-Ping Chen, Jueinai Kwo, Ming-Hwei Hong, Shiang-Pi Chang, Wei-Chin Lee
Принадлежит: National Tsing Hua University NTHU
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 26-06-2007
Автор(ы): Chih-Ping Chen, Jueinai Kwo, Ming-Hwei Hong, Shiang-Pi Chang, Wei-Chin Lee
Принадлежит: National Tsing Hua University NTHU
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method for forming gate oxide layer in semiconductor device
Номер патента: US20050142770A1. Автор: Yong Choi. Владелец: DongbuAnam Semiconductor Inc. Дата публикации: 2005-06-30.