Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • Optical etendue matching methods for extreme ultraviolet metrology

Optical etendue matching methods for extreme ultraviolet metrology

Номер патента: US11968772B2
Опубликовано: 23-04-2024
Автор(ы): Daniel C. Wack, Larissa Juschkin, Zefram Marks
Принадлежит: KLA Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Extreme ultraviolet light generating apparatus and control method for centroid of extreme ultraviolet light

Номер патента: US10251254B2. Автор: Yuichi Nishimura,Takayuki Yabu. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2019-04-02.

System and method for rejuvenating an imaging sensor degraded by exposure to extreme ultraviolet or deep ultraviolet light

Номер патента: EP2837174A1. Автор: Gary Janik,Gildardo DELGADO. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2015-02-18.

System and method for rejuvenating an imaging sensor degraded by exposure to extreme ultraviolet or deep ultraviolet light

Номер патента: WO2013155391A1. Автор: Gary Janik,Gildardo DELGADO. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2013-10-17.

System and Method for Generation of Extreme Ultraviolet Light

Номер патента: US20150076359A1. Автор: Hale Layton,Khodykin Oleg,Chilese Frank,Wack Daniel C.,Bykanov Alexander,Tsigutkin Konstantin,Walsh Joseph. Владелец: . Дата публикации: 2015-03-19.

MATERIALS, COMPONENTS, AND METHODS FOR USE WITH EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION IN LITHOGRAPHY AND OTHER APPLICATIONS

Номер патента: US20160085003A1. Автор: Jaiswal Supriya. Владелец: . Дата публикации: 2016-03-24.

System and method for generation of extreme ultraviolet light

Номер патента: JP2016531316A. Автор: アレクサンダー ビカノフ,オレク ホディキン,ダニエル ワック,コンスタンティン ツィグツキン,レイトン ヘイル,ジョーセフ ウォルシュ,フランク チレセ. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2016-10-06.

System and method for generation of extreme ultraviolet light

Номер патента: EP3025565A4. Автор: Alexander Bykanov,Joseph Walsh,Konstantin Tsigutkin,Oleg KHODYKIN,Layton Hale,Daniel Wack,Frank Chilese. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2017-05-24.

Particle image velocimetry of extreme ultraviolet lithography systems

Номер патента: US20210294220A1. Автор: Chi Yang,Shang-Chieh Chien,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,En Hao Lai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-09-23.

Particle image velocimetry of extreme ultraviolet lithography systems

Номер патента: US20230296642A1. Автор: Chi Yang,Shang-Chieh Chien,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,En Hao Lai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Particle image velocimetry of extreme ultraviolet lithography systems

Номер патента: US12085585B2. Автор: Chi Yang,Shang-Chieh Chien,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,En Hao Lai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Particle image velocimetry of extreme ultraviolet lithography systems

Номер патента: US20240361350A1. Автор: Chi Yang,Shang-Chieh Chien,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,En Hao Lai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATING APPARATUS AND CONTROL METHOD FOR CENTROID OF EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT

Номер патента: US20180343729A1. Автор: YABU Takayuki,NISHIMURA Yuichi. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2018-11-29.

Counterflow gas nozzle for contamination mitigation in extreme ultraviolet inspection systems

Номер патента: EP4285099A1. Автор: Michael Lang,Rudy Garcia,Ravichandra Jagannath. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2023-12-06.

Variable Radius Mirror Dichroic Beam Splitter Module for Extreme Ultraviolet Source

Номер патента: US20160174351A1. Автор: Robert J. Rafac,Michael Purvis,Alexander Schafgans,Kevin W. Zhang. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-06-16.

Monitoring system for manufacturing semiconductor device and monitoring method for manufacturing the semiconductor device using the same

Номер патента: US20240272559A1. Автор: Jeong-Gil Kim,Hyuck Shin,Dong-Hyub LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-15.

Dispositioning defects detected on extreme ultraviolet photomasks

Номер патента: WO2020061241A1. Автор: Masaki Satake,Weston Sousa,Vikram Tolani. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2020-03-26.

Inspection system for extreme ultraviolet (euv) light source

Номер патента: US20230142835A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Sheng-Kang Yu,Chiao-Hua Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-05-11.

Structure electron beam inspection system for inspecting extreme ultraviolet mask and structure for discharging extreme ultraviolet mask

Номер патента: US09572237B2. Автор: You-Jin Wang,Chiyan Kuan,Chung-Shih Pan. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2017-02-14.

System and method for return beam metrology with optical switch

Номер патента: WO2015019187A2. Автор: Steven Chang,Matthew R. Graham,Robert A. Bergstedt. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2015-02-12.

System and method for detecting debris in a photolithography system

Номер патента: US12085865B2. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH,Shih-Yu Tu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Structure electron beam inspection system for inspecting extreme ultraviolet mask and structure for discharging extreme ultraviolet mask

Номер патента: US20150305131A1. Автор: You-Jin Wang,Chiyan Kuan,Chung-Shih Pan. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2015-10-22.

Structure for discharging extreme ultraviolet mask

Номер патента: US20120292509A1. Автор: You-Jin Wang,Chiyan Kuan,Chung-Shih Pan. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2012-11-22.

Structure for discharging extreme ultraviolet mask

Номер патента: US20140027634A1. Автор: You-Jin Wang,Chiyan Kuan,Chung-Shih Pan. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2014-01-30.

System and method for detecting debris in a photolithography system

Номер патента: US20230296992A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH,Shih-Yu Tu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Materials, components, and methods for use with extreme ultraviolet radiation in lithography and other applications

Номер патента: WO2013109986A1. Автор: Supriya JAISWAL. Владелец: Jaiswal Supriya. Дата публикации: 2013-07-25.

Extreme ultraviolet light generation system, laser beam size controlling method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2025490B9. Автор: YABU Takayuki,NISHIMURA Yuichi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-07-14.

Extreme ultraviolet light generation system, laser beam size controlling method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20200393687A1. Автор: Yuichi Nishimura,Takayuki Yabu. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-12-17.

Extreme ultraviolet light generation system, laser beam size controlling method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2025490B1. Автор: YABU Takayuki,NISHIMURA Yuichi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-01-25.

Light source and extreme ultraviolet light source system using the same

Номер патента: US11828952B2. Автор: Dohyung Kim,Motoshi Sakai,Jungchul Lee,Seungkoo Lee,Seongchul HONG,Kyungsik KANG,Kyungbin Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-28.

Target control in extreme ultraviolet lithography systems using aberration of reflection image

Номер патента: US11860544B2. Автор: Li-Jui Chen,Yen-Shuo Su,Han-Lung Chang,Ting-Ya CHENG,Shi-Han SHANN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-01-02.

Target control in extreme ultraviolet lithography systems using aberration of reflection image

Номер патента: US20240085797A1. Автор: Li-Jui Chen,Yen-Shuo Su,Han-Lung Chang,Ting-Ya CHENG,Shi-Han SHANN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Shock wave visualization for extreme ultraviolet plasma optimization

Номер патента: US12114412B2. Автор: Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Yen-Shuo Su,Chun-Lin Chang,Han-Lung Chang,Ting-Ya CHENG,Jen-Hao Yeh,Jhan-Hong YEH,Henry Yee Shian Tong. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-08.

Droplet splash control for extreme ultraviolet photolithography

Номер патента: US20240231241A1. Автор: Chi-Hung Liao,Po-Ming SHIH. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Shock wave visualization for extreme ultraviolet plasma optimization

Номер патента: US11800626B2. Автор: Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Yen-Shuo Su,Chun-Lin Chang,Han-Lung Chang,Ting-Ya CHENG,Jen-Hao Yeh,Jhan-Hong YEH,Henry Yee Shian Tong. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-24.

Shock wave visualization for extreme ultraviolet plasma optimization

Номер патента: US20230380044A1. Автор: Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Yen-Shuo Su,Chun-Lin Chang,Han-Lung Chang,Ting-Ya CHENG,Jen-Hao Yeh,Jhan-Hong YEH,Henry Yee Shian Tong. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Droplet splash control for extreme ultra violet photolithography

Номер патента: US11940738B2. Автор: Chi-Hung Liao,Po-Ming SHIH. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-03-26.

System and method for monitoring and controlling extreme ultraviolet photolithography processes

Номер патента: US12085860B2. Автор: Heng-Hsin Liu,Tai-Yu Chen,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Extreme ultraviolet light source device

Номер патента: US09867267B2. Автор: Jin-Hong Park,In-sung Kim,Seung-Koo Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-01-09.

Extreme ultraviolet light sensor unit and extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US11125613B2. Автор: Kotaro Miyashita. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-09-21.

Extreme ultraviolet light sensor unit and extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US20200064184A1. Автор: Kotaro Miyashita. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-02-27.

Target material supply apparatus for an extreme ultraviolet light source

Номер патента: US09632418B2. Автор: Norbert Bowering,Georgiy O. Vaschenko,Peter Baumgart,Silvia De Dea. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-04-25.

Extreme ultraviolet radiation in genomic sequencing and other applications

Номер патента: EP3411692A1. Автор: Supriya JAISWAL. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-12-12.

Extreme Ultraviolet Radiation in Genomic Sequencing and Other Applications

Номер патента: US20200140941A1. Автор: Supriya JAISWAL. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-05-07.

Extreme ultraviolet radiation in genomic sequencing and other applications

Номер патента: US11718871B2. Автор: Supriya JAISWAL. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-08-08.

Method for lithography process

Номер патента: US12066756B2. Автор: Chi-Hung Liao,Yueh-Lin Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Hybrid extreme ultraviolet imaging spectrometer

Номер патента: US20170062198A1. Автор: Norman A. Sanford,Ann Chiaramonti Debay,Brian P. Gorman,David R. Diercks. Владелец: US Department of Commerce. Дата публикации: 2017-03-02.

Hybrid extreme ultraviolet imaging spectrometer

Номер патента: US09899197B2. Автор: Norman A. Sanford,Ann Chiaramonti Debay,Brian P. Gorman,David R. Diercks. Владелец: US Department of Commerce. Дата публикации: 2018-02-20.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US8629417B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Takanobu Ishihara,Shinji Nagai,Tamotsu Abe. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2014-01-14.

Extreme ultraviolet radiation in genomic sequencing and other applications

Номер патента: CA3012825C. Автор: Supriya JAISWAL. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-02-13.

Method for determining suitability of a resist in semiconductor wafer fabrication

Номер патента: US20090011524A1. Автор: Thomas Wallow,Bruno M. LaFontaine. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2009-01-08.

Extreme ultraviolet chamber apparatus, extreme ultraviolet light generation system, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20200312479A1. Автор: Atsushi Ueda,Georg Soumagne,Gota Niimi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-10-01.

Extreme ultraviolet chamber apparatus, extreme ultraviolet light generation system, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: NL2025184B1. Автор: UEDA Atsushi,NIIMI Gota,SAUMAGNE Georg. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-12-11.

Apparatus and method for generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: US12133319B2. Автор: Li-Jui Chen,Chun-Lin Chang,Han-Lung Chang,Ting-Ya CHENG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Extreme ultraviolet light condensation mirror, extreme ultraviolet light condensation mirror manufacturing method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210193344A1. Автор: Masahiko Ando. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-06-24.

Extreme ultraviolet light source device

Номер патента: US20240121877A1. Автор: Injae Lee,SungHyup KIM,Daegeun YOON,Yebin Nam. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-11.

Extreme ultraviolet light condenser mirror, extreme ultraviolet light condenser mirror manufacturing method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2026727A. Автор: ANDO Masahiko. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-08-11.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2032453A. Автор: Miyashita Koutaro. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-03-14.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2032453B1. Автор: Miyashita Koutaro. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-06-10.

Multilayer Mirror for Reflecting EUV Radiation and Method for Producing the Same

Номер патента: US20190235141A1. Автор: Norbert Kaiser,Sergiy Yulin,Philipp Naujok. Владелец: Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV. Дата публикации: 2019-08-01.

Multilayer mirror for reflecting EUV radiation and method for producing the same

Номер патента: US11500137B2. Автор: Norbert Kaiser,Sergiy Yulin,Philipp Naujok. Владелец: Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV. Дата публикации: 2022-11-15.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US20200077501A1. Автор: Yoshiyuki Honda,Shinji Nagai,Hiroaki Tomuro. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-03-05.

Spectral purity filter, lithographic apparatus, and method for manufacturing a spectral purity filter

Номер патента: EP2443517A1. Автор: Wouter Soer,Ronald Dekker,Martin Jak. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2012-04-25.

Extreme ultraviolet chamber apparatus, extreme ultraviolet light generation system, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: NL2025184A. Автор: UEDA Atsushi,NIIMI Gota,SAUMAGNE Georg. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-10-06.

Extreme ultraviolet light condensation mirror, extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US11409027B2. Автор: Masayuki Morita. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-08-09.

Extreme ultraviolet light condenser mirror, extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2026305B1. Автор: Morita Masayuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-02-21.

Extreme ultraviolet light condenser mirror, extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2026305A. Автор: Morita Masayuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-05-31.

Extreme ultraviolet light condensation mirror, extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210109262A1. Автор: Masayuki Morita. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-04-15.

Extreme ultraviolet light condenser mirror, extreme ultraviolet light condenser mirror manufacturing method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2026727B1. Автор: ANDO Masahiko. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-09-29.

Collector mirror and apparatus for creating extreme ultraviolet light including the same

Номер патента: US20230071131A1. Автор: Injae Lee,SungHyup KIM,Jeonggil KIM,Hoseok SONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-09.

Extreme ultraviolet reflective element with multilayer stack and method of manufacturing thereof

Номер патента: US09581890B2. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-02-28.

Apparatus and method for generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: US20200075190A1. Автор: Li-Jui Chen,Chun-Lin Chang,Han-Lung Chang,Ting-Ya CHENG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-03-05.

Apparatus for generating extreme ultraviolet (euv), method of manufacturing the same, and euv system

Номер патента: US20220167492A1. Автор: Jihoon Na,Mun Ja KIM,Byungchul YOO,Jaewhan Sung,Hyunjune Cho,Jibeom Yoo,Hakseok Lee,Myeongjin Jeong. Владелец: Sungkyunkwan University Research and Business Foundation. Дата публикации: 2022-05-26.

Systems and methods for actinic mask inspection and review in vacuum

Номер патента: US20240003827A1. Автор: Chih-Chiang Tu,Danping Peng,Hsin-fu Tseng,Chien-Lin Chen,Chih-Wei Wen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Collector mirror and apparatus for creating extreme ultraviolet light including the same

Номер патента: US11698590B2. Автор: Injae Lee,SungHyup KIM,Jeonggil KIM,Hoseok SONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-11.

Apparatus for generating extreme ultraviolet (EUV), method of manufacturing the same, and EUV system

Номер патента: US11729896B2. Автор: Jihoon Na,Mun Ja KIM,Byungchul YOO,Jaewhan Sung,Hyunjune Cho,Jibeom Yoo,Hakseok Lee,Myeongjin Jeong. Владелец: Sungkyunkwan University Research and Business Foundation. Дата публикации: 2023-08-15.

Collector mirror and apparatus for creating extreme ultraviolet light including the same

Номер патента: EP4145223A1. Автор: Injae Lee,SungHyup KIM,Jeonggil KIM,Hoseok SONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-08.

Extreme ultraviolet reflective element with amorphous layers and method of manufacturing thereof

Номер патента: US09690016B2. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-06-27.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US10820400B2. Автор: Yoshiyuki Honda,Shinji Nagai,Hiroaki Tomuro. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-10-27.

Viewport assembly for an extreme ultraviolet light source

Номер патента: WO2023241885A1. Автор: Christopher Liu,Lam Nguyen,Dustin Michael URONE,Paul Alexander MCKENZIE,Gregory THERIAULT,Mark Joseph Mitry. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2023-12-21.

Extreme ultraviolet reflective element with multilayer stack and method of manufacturing thereof

Номер патента: EP3167474A1. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-05-17.

Extreme ultraviolet reflective element with amorphous layers and method of manufacturing thereof

Номер патента: US20160011345A1. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-01-14.

Laser apparatus, extreme ultraviolet light generation system, method for controlling the laser apparatus, and method for generating the extreme ultraviolet light

Номер патента: EP2673856A2. Автор: Osamu Wakabayashi,Krzysztof Nowak. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2013-12-18.

Systems and methods for stabilization of droplet-plasma interaction via laser energy modulation

Номер патента: US09832854B2. Автор: Robert Jay Rafac,Daniel Jason Riggs. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-11-28.

Systems and methods for stabilization of droplet-plasma interaction via laser energy modulation

Номер патента: US20170048959A1. Автор: Robert Jay Rafac,Daniel Jason Riggs. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-02-16.

Radiation source apparatus and method for using the same

Номер патента: US20220304131A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Cheng-Hsuan Wu,Cheng-Hao Lai,Sheng-Kang Yu,Yu-Huan Chen,Yu-Kuang SUN,Ming-Hsun Tsai,Wei-Shin CHENG,Hsin-Feng Chen,Chiao-Hua Cheng,Yu-Fa LO. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-09-22.

Method for using radiation source apparatus

Номер патента: US20230164901A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Cheng-Hsuan Wu,Cheng-Hao Lai,Sheng-Kang Yu,Yu-Huan Chen,Yu-Kuang SUN,Ming-Hsun Tsai,Wei-Shin CHENG,Hsin-Feng Chen,Chiao-Hua Cheng,Yu-Fa LO. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-05-25.

Method for using radiation source apparatus

Номер патента: US12096543B2. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Cheng-Hsuan Wu,Cheng-Hao Lai,Sheng-Kang Yu,Yu-Huan Chen,Yu-Kuang SUN,Ming-Hsun Tsai,Wei-Shin CHENG,Hsin-Feng Chen,Chiao-Hua Cheng,Yu-Fa LO. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

OPC(Optical Proximity Correction) method reflecting slit effect and method for fabricating EUV(Extreme Ultraviolet) mask and semiconductor device using the OPC method

Номер патента: KR102193687B1. Автор: 이상화,장성훈. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2020-12-21.

Optical module for extreme ultraviolet light source

Номер патента: EP4405732A1. Автор: Jaden Robert BANKHEAD,Paul Alexander MCKENZIE,Erik Fernando HUERTA,Moonseob Jin. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-07-31.

Four-mirror extreme ultraviolet (EUV) lithography projection system

Номер патента: US6142641A. Автор: David R Shafer,Simon J Cohen,Hwan J Jeong. Владелец: Ultratech Inc. Дата публикации: 2000-11-07.

Extreme ultraviolet light sensor unit and extreme ultraviolet light generation device

Номер патента: US20190021159A1. Автор: Takuya Ishii,Hiroshi Someya,Hisashi Nara. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2019-01-17.

Optical system and method for a radiation source

Номер патента: WO2023111364A8. Автор: Alexander Matthijs Struycken,Andrey Sergeevich Tychkov. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2023-09-14.

Extreme ultraviolet light source, exposure apparatus, and integrated rotary structure fabricating method

Номер патента: US09927601B2. Автор: Qiang Wu,Liwan Yue. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2018-03-27.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2028934A. Автор: YABU Takayuki,TAKASHIMA Yuta. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-05-09.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US11924954B2. Автор: Takayuki Yabu,Yuta TAKASHIMA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-03-05.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2028934B1. Автор: YABU Takayuki,TAKASHIMA Yuta. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-06-12.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2034729A. Автор: YABU Takayuki,TAKASHIMA Yuta. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-06-15.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2034729B1. Автор: YABU Takayuki,TAKASHIMA Yuta. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-01-25.

A beam line for a source of extreme ultraviolet (euv) radiation

Номер патента: WO2011116897A1. Автор: Franz Dieterich,Reza Abhari,Andrea Giovannini. Владелец: ETH Zurich. Дата публикации: 2011-09-29.

Optical system and method for a radiation source

Номер патента: WO2023111364A1. Автор: Alexander Matthijs Struycken,Andrey Sergeevich Tychkov. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2023-06-22.

Beam transport system for extreme ultraviolet light source

Номер патента: WO2011075346A1. Автор: William N. Partlo,Nam-Hyong Kim,Robert N. Bergstedt,Lgor V. Fomenkov. Владелец: CYMER, INC.. Дата публикации: 2011-06-23.

Plasma-based debris mitigation for extreme ultraviolet (EUV) light source

Номер патента: US7652272B2. Автор: David Ruzic,Robert Bristol,Bryan J. Rice. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2010-01-26.

Method of generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: EP1502485B1. Автор: Günther Hans c/o Philips IP & Standards GmbH DERRA,Ulrich c/o Philips IP & Standards GmbH NIEMANN. Владелец: Philips Intellectual Property and Standards GmbH. Дата публикации: 2011-11-02.

Method and apparatus for controlling droplet in extreme ultraviolet light source

Номер патента: US20240160106A1. Автор: Chi-Hung Liao,Yueh-Lin Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Method and apparatus for controlling droplet in extreme ultraviolet light source

Номер патента: US20220155690A1. Автор: Chi-Hung Liao,Yueh-Lin Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-05-19.

Euv generator, euv lithography apparatus including the same, and method for fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20230046424A1. Автор: Sang Hoon Lee,In Jae Lee,Hyeon Jin Kim,Jeong-Gil Kim,Sung Hyup Kim,Jong Gu Lee,Jeong Du Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-02-16.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20220035249A1. Автор: Yoshiyuki Honda,Hirokazu HOSODA,Takanari KOBAYASHI. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-02-03.

Method of generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: EP1502485A1. Автор: Günther Hans c/o Philips IP & Standards DERRA,Ulrich c/o Philips IP & Standards NIEMANN. Владелец: Philips Intellectual Property and Standards GmbH. Дата публикации: 2005-02-02.

Extreme ultraviolet light generating apparatus

Номер патента: US20180240562A1. Автор: Tamotsu Abe,Takayuki Yabu,Tooru Abe,Kenichi Miyao. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-08-23.

Extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: US09980360B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Tatsuya Yanagida. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-05-22.

Collector mirror assembly and extreme ultraviolet light source device using said collector mirror assembly

Номер патента: US9029815B2. Автор: Hiroto Sato. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2015-05-12.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2029356A. Автор: UEDA Atsushi,KOGE Koichiro,OSANAI Takayuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-06-27.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2029356B1. Автор: UEDA Atsushi,KOGE Koichiro,OSANAI Takayuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-09-11.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20220146943A1. Автор: Atsushi Ueda,Koichiro KOGE,Takayuki OSANAI. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-05-12.

Extreme ultraviolet light generation apparatus, extreme ultraviolet light generation system, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2027449B1. Автор: UEDA Atsushi,Ishida Yuki,Yoshida Yoshiaki,KOGE Koichiro,OSANAI Takayuki,OHSAWA Akihiro,SHINTANI Toshiya,Takada Yosuke. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-10-27.

Extreme ultraviolet light source apparatus and plasma position adjusting method

Номер патента: US20210327701A1. Автор: Noritaka Ashizawa. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2021-10-21.

Extreme ultraviolet light source apparatus and plasma position adjusting method

Номер патента: US11631579B2. Автор: Noritaka Ashizawa. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2023-04-18.

Extreme ultraviolet light generation apparatus, extreme ultraviolet light generation system, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2027449A. Автор: UEDA Atsushi,Ishida Yuki,Yoshida Yoshiaki,KOGE Koichiro,OSANAI Takayuki,OHSAWA Akihiro,SHINTANI Toshiya,Takada Yosuke. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-10-20.

Extreme ultraviolet light generation apparatus, extreme ultraviolet light generation system, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210298160A1. Автор: Yoshiaki Yoshida,Atsushi Ueda,Toshiya Shintani,Akihiro Ohsawa,Yuki Ishida,Yosuke Takada,Koichiro KOGE,Takayuki OSANAI. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-09-23.

Impedance matching method and apparatus for electret microphone, and communication device

Номер патента: US20170289680A1. Автор: Wei Wang,Feng Zhang. Владелец: ZTE Corp. Дата публикации: 2017-10-05.

Current pattern matching method for non-intrusive power load monitoring and disaggregation

Номер патента: US09658261B2. Автор: BO LIU,Bing Wang,Yixin Yu. Владелец: TIANJIN UNIVERSITY. Дата публикации: 2017-05-23.

Method and apparatus for controlling droplet in extreme ultraviolet light source

Номер патента: US11914302B2. Автор: Chi-Hung Liao,Yueh-Lin Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-02-27.

Location reporting for extremely high frequency (ehf) devices

Номер патента: WO2016115087A1. Автор: Amichai Sanderovich,Xiaoxin Zhang,Carlos Horacio ALDANA. Владелец: QUALCOMM INCORPORATED. Дата публикации: 2016-07-21.

Extreme ultraviolet light generation device

Номер патента: US10990016B2. Автор: Atsushi Ueda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-04-27.

Location reporting for extremely high frequency (ehf) devices

Номер патента: EP3245824A1. Автор: Amichai Sanderovich,Xiaoxin Zhang,Carlos Horacio ALDANA. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2017-11-22.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2028521A. Автор: Honda Yoshiyuki,HOSODA Hirokazu,KOBAYASHI Takanari. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-03-21.

Location reporting for extremely high frequency (ehf) devices

Номер патента: EP4002929A1. Автор: Amichai Sanderovich,Xiaoxin Zhang,Carlos Horacio ALDANA. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2022-05-25.

Method for Forming an Extreme Ultraviolet Lithography Pellicle

Номер патента: US20210191255A1. Автор: Ivan Pollentier,Cedric Huyghebaert,Emily Gallagher,Marina Timmermans,Elie Schapmans. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2021-06-24.

Method for forming an extreme ultraviolet lithography pellicle

Номер патента: US11599019B2. Автор: Ivan Pollentier,Cedric Huyghebaert,Emily Gallagher,Marina Timmermans,Elie Schapmans. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2023-03-07.

Measurement tool and method for lithography masks

Номер патента: US12032298B2. Автор: Yoshihiro Tezuka,Adam Seeger,Ping Qu. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-07-09.

Measurement tool and method for lithography masks

Номер патента: EP4405753A1. Автор: Yoshihiro Tezuka,Adam Seeger,Ping Qu. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-07-31.

Extreme ultraviolet (euv) substrate inspection system with simplified optics and method of manufacturing thereof

Номер патента: WO2015095621A1. Автор: Christopher Dennis Bencher,Christopher G. Talbot,Majeed A. Foad,John Christopher Moran. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2015-06-25.

Apparatus and method for measuring phase of extreme ultraviolet (EUV) mask and method of fabricating EUV mask including the method

Номер патента: US11852583B2. Автор: Jongju Park,Raewon Yi,Hakseung Han,Seongsue Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-12-26.

Extreme ultraviolet (EUV) substrate inspection system with simplified optics and method of manufacturing thereof

Номер патента: US09915621B2. Автор: Christopher Dennis Bencher,Christopher G. Talbot,Majeed A. Foad,John Christopher Moran. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-03-13.

Methods and apparatus for use with extreme ultraviolet light having contamination protection

Номер патента: EP2956714A1. Автор: Michail A. Gallis,Gildardo R. Delgado,Rudy Garcia,Frank Chilese,Leonard E. Klebanoff,John R. Torczynski,Anthony S. Geller,Daniel S. RADER. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2015-12-23.

Methods and apparatus for use with extreme ultraviolet light having contamination protection

Номер патента: WO2014126915A1. Автор: Michail A. Gallis,Gildardo R. Delgado,Rudy Garcia,Frank Chilese,Leonard E. Klebanoff,John R. Torczynski,Anthony S. Geller,Daniel S. RADER. Владелец: Sandia Corporation. Дата публикации: 2014-08-21.

MATERIALS, COMPONENTS, AND METHODS FOR USE WITH EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION IN LITHOGRAPHY AND OTHER APPLICATIONS

Номер патента: US20190049634A1. Автор: Jaiswal Supriya. Владелец: . Дата публикации: 2019-02-14.

Materials, component, and methods for use with extreme ultraviolet radiation in lithography and other applications

Номер патента: EP3665513A1. Автор: Supriya JAISWAL. Владелец: Jaiswal, Supriya. Дата публикации: 2020-06-17.

Photomask for extreme ultraviolet lithography and method for fabricating the same

Номер патента: US8158305B2. Автор: Sung Hyun Oh. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2012-04-17.

Method for reducing contamination in extreme ultraviolet lithography light source

Номер патента: US09665017B2. Автор: Emily Shu. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2017-05-30.

Methods for extreme ultraviolet mask defect mitigation by multi-patterning

Номер патента: US09673111B2. Автор: Tan Soon Yoeng,Gek Soon Chua. Владелец: GLOBALFOUNDRIES SINGAPORE PTE LTD. Дата публикации: 2017-06-06.

Mask absorber layers for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US20240312783A1. Автор: Daniel Staaks. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2024-09-19.

Mask for extreme ultraviolet lithography and method for manufacturing same

Номер патента: US20210397078A1. Автор: Jung Sik Kim,Jinho Ahn,Dong Min Jeong. Владелец: Industry University Cooperation Foundation IUCF HYU. Дата публикации: 2021-12-23.

Wafer chamber having a gas curtain for extreme-uv lithography

Номер патента: EP1127294A1. Автор: Michael P. Kanouff,Avijit K. Ray-Chaudhuri. Владелец: EUV LLC. Дата публикации: 2001-08-29.

Apparatus for extreme UV lithography comprising a wafer chamber and gas curtain

Номер патента: EP1127294B1. Автор: Michael P. Kanouff,Avijit K. Ray-Chaudhuri. Владелец: EUV LLC. Дата публикации: 2006-09-20.

Mount, extreme ultraviolet light generation system, and device manufacturing method

Номер патента: US20200363733A1. Автор: Toshihiro Nishisaka. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-11-19.

Plasma position control for extreme ultraviolet lithography light sources

Номер патента: US12130556B2. Автор: Chi Yang,Li-Jui Chen,Hsin-Feng Chen,Ssu-Yu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Target for extreme ultraviolet light source

Номер патента: US9155179B2. Автор: Igor V. Fomenkov,Daniel J. W. Brown,Yezheng Tao,Robert J. Rafac,Daniel J. Golich. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2015-10-06.

Target for extreme ultraviolet light source

Номер патента: US8912514B2. Автор: Igor V. Fomenkov,Daniel J. W. Brown,Yezheng Tao,Robert J. Rafac,Daniel J. Golich. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2014-12-16.

Plasma position control for extreme ultraviolet lithography light sources

Номер патента: US20210389678A1. Автор: Chi Yang,Li-Jui Chen,Hsin-Feng Chen,Ssu-Yu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-12-16.

Approach to lowering extreme ultraviolet exposure dose for inorganic hardmasks for extreme ultraviolet patterning

Номер патента: US20180348636A1. Автор: Karen E. Petrillo,Ekmini A. De Silva,Indira P. Seshadri. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-12-06.

Method for creating extreme ultraviolet irradiation and source of such irradiation used in lithography

Номер патента: RU2249926C2. Автор: Даниель БАБОНО,Реми МАРМОРЕ,Лоранс БОННЕ. Владелец: Коммиссариат А Л`Энержи Атомик. Дата публикации: 2005-04-10.

Supporting frame for pellicle, pellicle, method for manufacturing same, exposure master using same, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: EP3779594A1. Автор: Akira Ishikawa,Atsushi Okubo,Yosuke Ono,Kazuo Kohmura. Владелец: Mitsui Chemicals Inc. Дата публикации: 2021-02-17.

Method for Forming a Pellicle

Номер патента: US20180329291A1. Автор: Ivan Pollentier,Cedric Huyghebaert,Hanns Christoph ADELMANN,Jae Uk Lee,Emily Gallagher,Marina Timmermans. Владелец: Imec USA Nanoelectronics Design Center Inc. Дата публикации: 2018-11-15.

Apparatus and method for removing a single particulate from a substrate

Номер патента: US20240295833A1. Автор: Christof Baur,Klaus Edinger,Tilo Sielaff,Christian Felix Hermanns,Jens Oster,Maksym Kompaniiets. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-09-05.

Methods for Extreme Ultraviolet (EUV) Resist Patterning Development

Номер патента: US20230341781A1. Автор: Alok Ranjan,Peter Ventzek,Yun Han. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-26.

Methods for extreme ultraviolet (euv) resist patterning development

Номер патента: WO2022103949A1. Автор: Alok Ranjan,Peter Ventzek,Yun Han. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2022-05-19.

Plasma position control for extreme ultraviolet lithography light sources

Номер патента: US20230273526A1. Автор: Chi Yang,Li-Jui Chen,Hsin-Feng Chen,Ssu-Yu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-31.

Reticle in an apparatus for extreme ultraviolet exposure

Номер патента: US11835850B2. Автор: Sanghyun Kim,Jinho Jeon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-12-05.

Target debris collection device and extreme ultraviolet light source apparatus including the same

Номер патента: US11852984B2. Автор: Minseok Choi,Ho Yu,SungHyup KIM,Jeonggil KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-12-26.

Photoresist composition for extreme ultraviolet, and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20240168381A1. Автор: Naery YU,Juyoung Kim,Juhyeon Park,Honggu IM,Jincheol PARK,Seonghyeon Ahn,Sungmin KO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-23.

Blankmask and photomask for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US20210132487A1. Автор: Jong-Hwa Lee,Cheol Shin,Chul-Kyu Yang,Gil-Woo KONG,Gyeong-Won SEO. Владелец: S&S Tech Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-06.

Gas jet nozzle for extreme ultraviolet light source

Номер патента: EP1150169A3. Автор: Charles W. Clendening, Jr.,Roy D. McGregor. Владелец: TRW Inc. Дата публикации: 2002-04-03.

Reflective mask for extreme ultraviolet lithography and a method of fabricating a semiconductor device using the same

Номер патента: US20240219824A1. Автор: Akio Misaka,Noyoung CHUNG,Seokyun Jeong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-04.

DEVICE FOR RECEIVING DIRECTIONAL EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION WITH WAVELENGTH OF 11,2 nm ±1% FOR HIGH-RESOLUTION PROJECTIVE LITHOGRAPHY

Номер патента: RU2633726C1. Автор: Сергей Владимирович Голубев,Николай Николаевич Салащенко,Николай Иванович Чхало,Александр Григорьевич Литвак,Иван Владимирович Изотов,Сергей Владимирович Разин,Александр Васильевич Сидоров,Вадим Александрович Скалыга,Александр Валентинович Водопьянов,Дмитрий Анатольевич Мансфельд,Михаил Юрьевич Глявин,Алексей Григорьевич Лучинин,Андрей Николаевич Нечай. Владелец: Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Федеральный исследовательский центр Институт прикладной физики Российской академии наук" (ИПФ РАН). Дата публикации: 2017-10-17.

Supporting frame for pellicle, pellicle, method for manufacturing same, exposure master using same, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20210011372A1. Автор: Akira Ishikawa,Atsushi Okubo,Yosuke Ono,Kazuo Kohmura. Владелец: Mitsui Chemicals Inc. Дата публикации: 2021-01-14.

Apparatus and method for removing a single particulate from a substrate

Номер патента: US11886126B2. Автор: Christof Baur,Klaus Edinger,Tilo Sielaff,Christian Felix Hermanns,Jens Oster,Maksym Kompaniiets. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-01-30.

Method for manufacturing a membrane assembly

Номер патента: CA3225142A1. Автор: Johan Hendrik Klootwijk,Wilhelmus Theodorus Anthonius Johannes Van Den Einden. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-01-26.

Switchable substrate for extreme ultraviolet or e-beam metallic resist

Номер патента: US20240210822A1. Автор: Ching-Yu Chang,An-Ren Zi. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2033907A. Автор: UEDA Atsushi,KOGE Koichiro. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-08-25.

Extreme Ultraviolet Lithography System, Device, and Method for Printing Low Pattern Density Features

Номер патента: US20200319545A1. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-10-08.

Extreme ultraviolet lithography system, device, and method for printing low pattern density features

Номер патента: US20180173089A1. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-06-21.

Methods for forming extreme ultraviolet mask comprising magnetic material

Номер патента: US12092952B2. Автор: Hsin-Chang Lee,Pei-Cheng Hsu,Ta-Cheng Lien,Tzu-Yi Wang,Kevin TANADY. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Methods for optical proximity correction in the design and fabrication of integrated circuits using extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US09651855B2. Автор: Lei Sun,Wenhui Wang,Ryan Ryoung-Han Kim. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-05-16.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2032043B1. Автор: Miyashita Koutaro. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-05-17.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210235571A1. Автор: Shinji Nagai,Atsushi Ueda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-07-29.

Extreme ultraviolet light source systems

Номер патента: US20220104336A1. Автор: SANGHOON Lee,Injae Lee,SungHyup KIM,Yebin Nam,Myeongjun Gil. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-03-31.

Extreme ultraviolet light source device and protection method for receiving plate member

Номер патента: US20230324815A1. Автор: Nobuaki Miyagawa,Hironobu Yabuta. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2023-10-12.

System and method for adjusting seed laser pulse width to control euv output energy

Номер патента: WO2014126667A2. Автор: Robert J. Rafac,Matthew R. Graham,James H. Crouch. Владелец: CYMER, LLC. Дата публикации: 2014-08-21.

Methods for depositing layers of materials on substrates and structures formed accordingly

Номер патента: US20240302748A1. Автор: Paul Chatelain,Kishan Ashokbhai Patel,Fatemeh Davodi,João Antunes Afonso,Steaphan Mark Wallace. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-09-12.

Extreme ultraviolet light condenser mirror, extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2026306A. Автор: TOIDA Tomoyoshi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-07-07.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2028171B1. Автор: UENO Yoshifumi,YABU Takayuki,TAKASHIMA Yuta,NISHIMURA Yuichi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-03-04.

Extreme ultraviolet light generation chamber device and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2036152A. Автор: UEDA Atsushi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-06-14.

Extreme ultraviolet (euv) exposure system and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20180031978A1. Автор: Chang-min Park,Ji-Sun LEE,Myung-soo HWANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-02-01.

Extreme ultraviolet generation apparatus

Номер патента: US20210092825A1. Автор: In Ho Choi,In Jae Lee,Jeong-Gil Kim,Sung Ho Jang,Min Seok Choi,Hyuck Shin. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-03-25.

Extreme ultraviolet light generation chamber device and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240196505A1. Автор: Atsushi Ueda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-06-13.

Electron beam-based extreme ultraviolet light source device

Номер патента: EP4401513A1. Автор: Kyu Chang Park,Sung Tae Yoo. Владелец: Industry Academic Cooperation Foundation of Kyung Hee University. Дата публикации: 2024-07-17.

Extreme ultraviolet light source device

Номер патента: EP4152097A1. Автор: Shunichi Morimoto,Hideyuki URAKAMI. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2023-03-22.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US20160192470A1. Автор: Yutaka Shiraishi,Fumio Iwamoto,Takuya Ishii,Tsukasa Hori. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2016-06-30.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: WO2012133720A1. Автор: Yukio Watanabe,Masato Moriya,Miwa Igarashi,Hiroaki Nakarai. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2012-10-04.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: EP2692212A1. Автор: Yukio Watanabe,Masato Moriya,Miwa Igarashi,Hiroaki Nakarai. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2014-02-05.

Methods and apparatus to reduce extreme ultraviolet light for photolithography

Номер патента: US20240241446A1. Автор: Charles H. Wallace,Leonard GULER,Elliot N. Tan,Shengsi LIU,Marvin Paik,Vivek Vishwakarma,Izabela Samek,Mohammadreza Soleymaniha. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Extreme ultraviolet light generating apparatus

Номер патента: US20180224747A1. Автор: Yoshifumi Ueno. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-08-09.

Extreme ultraviolet (EUV) exposure system and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US09996009B2. Автор: Chang-min Park,Ji-Sun LEE,Myung-soo HWANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-06-12.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US09986629B2. Автор: Toru Suzuki,Osamu Wakabayashi,Tamotsu Abe,Tatsuya Yanagida. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-05-29.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US09894744B2. Автор: Yutaka Shiraishi,Fumio Iwamoto,Takuya Ishii,Tsukasa Hori. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-02-13.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US09894743B2. Автор: Yukio Watanabe,Masato Moriya,Miwa Igarashi,Hiroaki Nakarai. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-02-13.

System and method for performing extreme ultraviolet photolithography processes

Номер патента: US11768437B2. Автор: Heng-Hsin Liu,Tai-Yu Chen,Zhiqiang Wu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH,Sagar Deepak KHIVSARA,Kai Tak Lam,Chung-Wei Wu,Kuo-An Liu,Gwan-Sin Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-26.

System and method for performing extreme ultraviolet photolithography processes

Номер патента: US20210349396A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Tai-Yu Chen,Zhiqiang Wu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH,Sagar Deepak KHIVSARA,Kai Tak Lam,Chung-Wei Wu,Kuo-An Liu,Gwan-Sin Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-11-11.

Extreme ultraviolet light generation chamber device and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240160107A1. Автор: Yoshiyuki Honda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-05-16.

System and method for performing extreme ultraviolet photolithography processes

Номер патента: US20230367225A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Tai-Yu Chen,Zhiqiang Wu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH,Sagar Deepak KHIVSARA,Kai Tak Lam,Chung-Wei Wu,Kuo-An Liu,Gwan-Sin Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210410262A1. Автор: Yoshifumi Ueno,Yuichi Nishimura,Takayuki Yabu,Yuta TAKASHIMA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-12-30.

Extreme ultraviolet light condenser mirror, extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2026306B1. Автор: TOIDA Tomoyoshi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-03-04.

Extreme ultraviolet light generation chamber device and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2035896A. Автор: Honda Yoshiyuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-05-28.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US11219116B1. Автор: Yoshifumi Ueno,Yuichi Nishimura,Takayuki Yabu,Yuta TAKASHIMA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-01-04.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2028171A. Автор: UENO Yoshifumi,YABU Takayuki,TAKASHIMA Yuta,NISHIMURA Yuichi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-02-17.

Quantum-limited extreme ultraviolet coherent diffraction imaging

Номер патента: US12085520B2. Автор: Bin Wang,Margaret Murnane,Henry C. Kapteyn,Chen-Ting Liao. Владелец: University of Colorado. Дата публикации: 2024-09-10.

Module and method for producing extreme ultraviolet radiation

Номер патента: US8901521B2. Автор: Tjarko Adriaan Rudolf Van Empel,Erik Roelof Loopstra,Johannes Hubertus Josephina Moors,Vadim Yevgenyevich Banine,Yuri Johannes Gabriel Van De Vijver,Jan Bernard Plechelmus Van Schoot,Gerardus Hubertus Petrus Maria Swinkels,Hendrikus Gijsbertus Schimmel,Dzmitry Labetski,Vladimir Vitalevich Ivanov. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2014-12-02.

Pattern forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet ray-sensitive resin composition, resist film, and method for manufacturing electronic device, and electronic device using the same

Номер патента: WO2014030723A1. Автор: Shuji Hirano,Hiroo Takizawa,Wataru Nihashi,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2014-02-27.

Extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: EP2548080A1. Автор: Yukio Watanabe,Osamu Wakabayashi,Tamotsu Abe,Toshihiro Nishisaka. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2013-01-23.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2029171A. Автор: UENO Yoshifumi,YABU Takayuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-06-01.

System and method for performing extreme ultraviolet photolithography processes

Номер патента: US20220350257A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Tai-Yu Chen,Zhiqiang Wu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH,Sagar Deepak KHIVSARA,Kai Tak Lam,Chung-Wei Wu,Kuo-An Liu,Gwan-Sin Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-11-03.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20220110205A1. Автор: Yoshifumi Ueno,Takayuki Yabu. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-04-07.

Electrode insulator materials for use in extreme ultraviolet electric discharge sources

Номер патента: US20040140439A1. Автор: Bryan Rice,Melissa Shell. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2004-07-22.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20230284365A1. Автор: Yuichi Nishimura,Shogo KITASAKA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-09-07.

Extreme ultraviolet light generating device

Номер патента: US20180224746A1. Автор: Takayuki Yabu. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-08-09.

Extreme ultraviolet light generating apparatus

Номер патента: US20200133137A1. Автор: Katsuhiko Sugisawa. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-04-30.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and method of designing the same

Номер патента: US10001706B2. Автор: Shinji Nagai,Atsushi Ueda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-06-19.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and maintenance method

Номер патента: US20200142311A1. Автор: Katsuhiko Wakana. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-05-07.

Extreme ultraviolet light generating apparatus, extreme ultraviolet light generating method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210072646A1. Автор: Kengo Hayashi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-03-11.

Extreme ultraviolet light generating apparatus, extreme ultraviolet light generating method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US11307501B2. Автор: Kengo Hayashi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-04-19.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and method of designing the same

Номер патента: US20170315446A1. Автор: Shinji Nagai,Atsushi Ueda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-11-02.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2034100A. Автор: NISHIMURA Yuichi,Kitasaka Shogo. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-09-11.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2025678A. Автор: TAKASHIMA Yuta. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-02-15.

Arrangement for the generation of extreme ultraviolet radiation by means of electric discharge at electrodes which can be regenerated

Номер патента: US7649187B2. Автор: Christian Ziener,Guido Hergenhan,Frank Flohrer. Владелец: XTREME technologies GmbH. Дата публикации: 2010-01-19.

Collector in an extreme ultraviolet lithography system with optimal air curtain protection

Номер патента: US09869934B2. Автор: Tsung-Yu Chen,Shinn-Sheng Yu,Chia-Chen Chen,Chia-Hao Hsu,Chia-Ching HUANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Extreme ultraviolet mask blank defect reduction methods

Номер патента: WO2021081289A1. Автор: Wen Xiao,Sanjay Bhat,Vibhu Jindal,Azeddine Zerrade,Shuwei Liu,Herng Yau Yoong. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-04-29.

Extreme ultraviolet mask blank defect reduction methods

Номер патента: WO2021081291A1. Автор: Wen Xiao,SHIYU Liu,Sanjay Bhat,Vibhu Jindal,Azeddine Zerrade,Binni VARGHESE. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-04-29.

Method for Patterning a Substrate Using Extreme Ultraviolet Lithography

Номер патента: US20170090290A1. Автор: Anton J. deVilliers. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-30.

Extreme ultraviolet light concentrating mirror and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2027952A. Автор: Honda Yoshiyuki,Morita Masayuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-02-17.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2036213A. Автор: UENO Yoshifumi,MIYASHITA Kotaro,NISHIMURA Yuichi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-06-11.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2025678B1. Автор: TAKASHIMA Yuta. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-02-23.

Extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2027481A. Автор: UEDA Atsushi,KOGE Koichiro,OSANAI Takayuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-10-20.

Extreme ultraviolet light source device

Номер патента: US20230213865A1. Автор: Hironobu Yabuta,Hajime Kikuiri. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2023-07-06.

Collector in an Extreme Ultraviolet Lithography System with Optimal Air Curtain Protection

Номер патента: US20160306282A1. Автор: Tsung-Yu Chen,Shinn-Sheng Yu,Chia-Chen Chen,Chia-Hao Hsu,Chia-Ching HUANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-10-20.

Extreme ultraviolet light generation chamber device and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240241448A1. Автор: Atsushi Ueda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-07-18.

Methods of manufacturing semiconductor devices, method sof performing extreme ultraviolet ray exposure, and methods of performing optical proximity correction

Номер патента: US20200064728A1. Автор: Ki-Soo Kim,No-Young Chung,Akio Misaka. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-02-27.

Methods and apparatus for ruthenium oxide reduction on extreme ultraviolet photomasks

Номер патента: US20240118603A1. Автор: Banqiu Wu,Khalid Makhamreh,Eliyahu Shlomo DAGAN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-11.

Replacement method for droplet generator

Номер патента: US20210298161A1. Автор: Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Han-Lung Chang,Hsiao-Lun CHANG,Shih-Yu Tu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-09-23.

Extreme ultraviolet light generation chamber device and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2036440A. Автор: UEDA Atsushi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-07-22.

Extreme ultraviolet control system

Номер патента: US20230030134A1. Автор: Shang-Chieh Chien,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH,Jen-Yang Chung. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-02-02.

System and method to optimize extreme ultraviolet light generation

Номер патента: WO2013180884A2. Автор: Steven Chang,Matthew R. Graham,Wayne J. Dunstan,Daniel J. Riggs,Paul A. FRIHAUF. Владелец: Cymer, Llc.. Дата публикации: 2013-12-05.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US20190364654A1. Автор: Atsushi Ueda,Akihiro Takayama. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2019-11-28.

System and method for omnidirectional real time detection of photolithography characteristics

Номер патента: US12078933B2. Автор: Heng-Hsin Liu,Tai-Yu Chen,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Sheng-Kang Yu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

System and method for cleaning an EUV mask

Номер патента: US12099310B2. Автор: Tzung-Chi Fu,Yen-Hui Li,Cheng-Han Yeh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-24.

Extreme ultraviolet control system

Номер патента: US12044975B2. Автор: Shang-Chieh Chien,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH,Jen-Yang Chung. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

System and method for omnidirectional real time detection of photolithography characteristics

Номер патента: US20240369937A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Tai-Yu Chen,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Sheng-Kang Yu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-11-07.

Optical proximity correction method and method of manufacturing extreme ultraviolet mask by using the optical proximity correction method

Номер патента: US09715170B2. Автор: Sang-hwa Lee,Sung-Hoon Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-07-25.

Extreme ultraviolet lithography collector contamination reduction

Номер патента: US09625824B2. Автор: YEN-CHENG Lu,Jeng-Horng Chen,Tzu-Hsiang Chen,Shun-Der Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20230007763A1. Автор: Koutaro MIYASHITA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-01-05.

Apparatus and method for generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: US20220260922A1. Автор: BO-TSUN Liu,Kuan-Hung Chen,Shang-Chieh Chien,Chun-Chia Hsu,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-08-18.

Extreme ultraviolet light generation device and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2026231A. Автор: SAUMAGNE Georg. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-05-17.

Extreme ultraviolet lithography patterning method

Номер патента: US11915931B2. Автор: Yoshihiro Kato,Choong-Man Lee,Toshio Hasegawa,Soo Doo Chae,Angelique RALEY,Qiaowei Lou. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-27.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US20180146536A1. Автор: Toru Suzuki,Osamu Wakabayashi,Tamotsu Abe,Tatsuya Yanagida. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-05-24.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US11789374B2. Автор: Yukio Watanabe,Atsushi Ueda,Toshihiro Nishisaka,Gouta NIIMI,Yusuke Hoshino,Koichiro KOGE,Takayuki OSANAI. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-10-17.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20230309211A1. Автор: Yoshiyuki Honda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-09-28.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20200236769A1. Автор: Yoshifumi Ueno,Yuta TAKASHIMA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-07-23.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US11924955B2. Автор: Yoshiyuki Honda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-03-05.

Extreme Ultraviolet Mask Blank Defect Reduction

Номер патента: US20200012183A1. Автор: KE CHANG,Vibhu Jindal,Shuwei Liu,Sai Abhinand,Hui Ni Grace Fong. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-01-09.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2033425B1. Автор: Honda Yoshiyuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-09-11.

Extreme ultraviolet lithography patterning method

Номер патента: US20240153773A1. Автор: Yoshihiro Kato,Choong-Man Lee,Toshio Hasegawa,Soo Doo Chae,Angelique RALEY,Qiaowei Lou. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Extreme ultraviolet lithography patterning method

Номер патента: WO2023023258A1. Автор: Yoshihiro Kato,Toshio Hasegawa,Soo Doo Chae,Angelique RALEY,Qiaowei Lou,Choongman LEE. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2023-02-23.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2032486A. Автор: UEDA Atsushi,NISHISAKA Toshihiro,WATANABE Yukio,KOGE Koichiro,OSANAI Takayuki,Hoshino Yusuke,NIIMI Gouta. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-08-05.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2028940B1. Автор: UEDA Atsushi,NISHISAKA Toshihiro,WATANABE Yukio,KOGE Koichiro,OSANAI Takayuki,Hoshino Yusuke,NIIMI Gouta. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-07-26.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2032486B1. Автор: UEDA Atsushi,NISHISAKA Toshihiro,WATANABE Yukio,KOGE Koichiro,OSANAI Takayuki,Hoshino Yusuke,NIIMI Gouta. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-08-14.

Extreme ultraviolet light concentrating mirror and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2027952B1. Автор: Honda Yoshiyuki,Morita Masayuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-05-25.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2034127A. Автор: Honda Yoshiyuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-10-03.

Extreme ultraviolet light concentrating mirror and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210407700A1. Автор: Yoshiyuki Honda,Masayuki Morita. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-12-30.

Extreme ultraviolet light source apparatus

Номер патента: US20230164899A1. Автор: Shunichi Morimoto,Hideyuki URAKAMI. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2023-05-25.

Extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210307150A1. Автор: Atsushi Ueda,Koichiro KOGE,Takayuki OSANAI. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-09-30.

Extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: US20200045802A1. Автор: Kengo Hayashi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-02-06.

Extreme ultraviolet light generation apparatus, target control method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210349400A1. Автор: Toru Abe. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-11-11.

Protection system for an extreme ultraviolet light source

Номер патента: WO2020225347A1. Автор: Henricus Gerardus Tegenbosch,Silvia De Dea,René Wilhelmus Johannes Maria VAN DEN BOOMEN. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2020-11-12.

Apparatus for decontaminating extreme ultraviolet source

Номер патента: TW201925929A. Автор: 陳鑫封,陳立銳,劉柏村,張漢龍. Владелец: 台灣積體電路製造股份有限公司. Дата публикации: 2019-07-01.

Critical dimension variation correction in extreme ultraviolet lithography

Номер патента: IL239577B. Автор: Sergey Oshemkov,Vladimir Kruglyakov,Frederik Blumrich,Yuval PERETS. Владелец: Yuval PERETS. Дата публикации: 2020-10-29.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210333718A1. Автор: Yuichi Nishimura,Tsukasa Hori,Takayuki Yabu. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-10-28.

Extreme ultraviolet exposure apparatus and method, and method of manufacturing semiconductor device by using the exposure method

Номер патента: US10969691B2. Автор: Seung-Yoon Lee,Doo-gyu LEE,Chan-sam Chang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-04-06.

Apparatus for generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: TW202021427A. Автор: 陳冠宏,陳立銳,劉柏村,許峻嘉,謝劼,簡上傑,鄭博中. Владелец: 台灣積體電路製造股份有限公司. Дата публикации: 2020-06-01.

Methods and apparatus for ruthenium oxide reduction on extreme ultraviolet photomasks

Номер патента: EP4298479A1. Автор: Banqiu Wu,Khalid Makhamreh,Eliyahu Shlomo DAGAN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-03.

Extreme ultraviolet light source apparatus

Номер патента: US20230288821A1. Автор: Noritaka Ashizawa,Hironobu Yabuta. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2023-09-14.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240126185A1. Автор: Yoshifumi Ueno,Yuichi Nishimura,Shogo KITASAKA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-04-18.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240049378A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Masaki Nakano. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-02-08.

Graded hardmask interlayer for enhanced extreme ultraviolet performance

Номер патента: US20200152460A1. Автор: Ekmini A. De Silva,Dario Goldfarb,Jennifer Church. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2020-05-14.

Extreme ultraviolet mask with alloy based absorbers

Номер патента: US20230375921A1. Автор: Hsin-Chang Lee,Pei-Cheng Hsu,Ta-Cheng Lien,Ping-Hsun LIN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Extreme ultraviolet lithography mask blank manufacturing system and method of operation therefor

Номер патента: WO2014165300A1. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-10-09.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2029105B1. Автор: IWAMOTO Fumio. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-09-11.

Device and method to remove debris from an extreme ultraviolet (EUV) lithography system

Номер патента: US11841625B2. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH,Chun-Han Lin,Sheng-Kang Yu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-12.

Method and apparatus for controlling exhaust pressure for an extreme ultraviolet generation chamber

Номер патента: US20200132300A1. Автор: Ming-Hsun Tsai,Ping-Cheng Li,Yen-Hsun Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-04-30.

Method and apparatus for controlling exhaust pressure for an extreme ultraviolet generation chamber

Номер патента: US20200003414A1. Автор: Ming-Hsun Tsai,Ping-Cheng Li,Yen-Hsun Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-01-02.

Method and apparatus for controlling exhaust pressure for an extreme ultraviolet generation chamber

Номер патента: US10684009B2. Автор: Ming-Hsun Tsai,Ping-Cheng Li,Yen-Hsun Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-06-16.

Transport system for an extreme ultraviolet light source

Номер патента: US20150282287A1. Автор: Gregory Wilson,Alexander I. Ershov,Silvia De Dea,Bruno M. La Fontaine,Brandon Verhoff. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2015-10-01.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2035291A. Автор: Wakabayashi Osamu,Nakano Masaki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-02-07.

Extreme ultraviolet mask with capping layer

Номер патента: US20230116213A1. Автор: Hsin-Chang Lee,Pei-Cheng Hsu,Wei-Hao Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-04-13.

Method and apparatus for controlling extreme ultraviolet light

Номер патента: US20210364931A1. Автор: Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Ssu-Yu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-11-25.

Dose control in an extreme ultraviolet light source

Номер патента: WO2024046835A1. Автор: Merlin HUANG. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-03-07.

Alignment of extreme ultraviolet light source

Номер патента: WO2021239357A1. Автор: John Tom STEWART IV,Alexander Anthony Schafgans. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2021-12-02.

Method of forming a pattern of semiconductor device of a semiconductor device on a semiconductor substrate by using an extreme ultraviolet mask

Номер патента: US20230106148A1. Автор: Kisung Kim,Sangoh PARK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-04-06.

Extreme ultraviolet (euv) photomask and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20220100077A1. Автор: Jeongjin Lee,Seung Yoon Lee,Moosong Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-03-31.

Extreme ultraviolet (EUV) photomask and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US11927879B2. Автор: Jeongjin Lee,Seung Yoon Lee,Moosong Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-12.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210033981A1. Автор: Yuta TAKASHIMA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-02-04.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2035745A. Автор: UENO Yoshifumi,NISHIMURA Yuichi,Kitasaka Shogo. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-05-02.

Extreme ultraviolet light generation device

Номер патента: US20180314161A1. Автор: Toru Suzuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-11-01.

Extreme ultraviolet light source device

Номер патента: US11774856B2. Автор: Hironobu Yabuta,Hajime Kikuiri. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2023-10-03.

Device and method to remove debris from an extreme ultraviolet (euv) lithography system

Номер патента: US20230375950A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH,Chun-Han Lin,Sheng-Kang Yu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2027481B1. Автор: UEDA Atsushi,KOGE Koichiro,OSANAI Takayuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-06-01.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20220110204A1. Автор: Fumio Iwamoto. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-04-07.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2029105A. Автор: IWAMOTO Fumio. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-06-01.

Droplet generator and method of sevicing extreme ultraviolet radiation source apparatus

Номер патента: US20200004168A1. Автор: Chia-Chen Chen,Li-Jui Chen,Shao-Hua Wang,Han-Lung Chang,Ming-Hsun Tsai,Yen-Hsun Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-01-02.

Collector in an Extreme Ultraviolet Lithography System with Optimal Air Curtain Protection

Номер патента: US20150261094A1. Автор: Tsung-Yu Chen,Shinn-Sheng Yu,Chia-Chen Chen,Chia-Hao Hsu,Chia-Ching HUANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-09-17.

Extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: US10842011B2. Автор: Kengo Hayashi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-11-17.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240184220A1. Автор: Yoshifumi Ueno,Yuichi Nishimura,Kotaro Miyashita. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-06-06.

Method of manufacturing extreme ultraviolet (euv) photomask and method and apparatus for correcting euv photomask

Номер патента: US20220113619A1. Автор: Jongju Park,Sanguk Park,Jongkeun OH,Gyeongcheon JO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-04-14.

Extreme ultraviolet light generation apparatus, target control method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2027803A. Автор: Abe Toru. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-11-23.

Extreme ultraviolet light generation apparatus, target control method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2027803B1. Автор: Abe Toru. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-06-15.

Extreme ultraviolet (euv) lithography using an intervening layer or a multi-layer stack with varying mean free paths for secondary electron generation

Номер патента: WO2020232329A1. Автор: Akhil Singhal,Andrew Liang,Gregory BLACHUT,Arpan Pravin Mahorowala,Dustin Zachary Austin,Jr. Nader SHAMMA,Rich Wise. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2020-11-19.

Extreme ultraviolet (euv) lithography using an intervening layer or a multi-layer stack with varying mean free paths for secondary electron generation

Номер патента: US20220197147A1. Автор: Nader Shamma,Akhil Singhal,Andrew Liang,Gregory BLACHUT,Arpan Pravin Mahorowala,Dustin Zachary Austin,Rich Wise. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2022-06-23.

Reflective mask and method for manufacturing same

Номер патента: US20140170536A1. Автор: Kazuaki Matsui,Norihito Fukugami,Yo Sakata,Genta Watanabe. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2014-06-19.

Metal Oxide Resists for EUV Patterning and Methods for Developing the Same

Номер патента: US20240045337A1. Автор: Akiteru Ko,Hamed Hajibabaeinajafabadi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Metal oxide resists for euv patterning and methods for developing the same

Номер патента: WO2024030275A1. Автор: Akiteru Ko,Hamad HAJIBABAEI. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2024-02-08.

Methods for fabricating semiconductor devices

Номер патента: US20180033637A1. Автор: SEOK-WON CHO,Nam-Gun Kim,Sangmin Lee,Kon Ha,Sinhae DO,Taeseop CHOI. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-02-01.

Compositions for reducing resist consumption of extreme ultraviolet metallic type resist

Номер патента: US20220404705A1. Автор: Ching-Yu Chang,An-Ren Zi,Ming-Hui Weng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-12-22.

Pellicle for euv exposure and method for manufacturing the same

Номер патента: US20230408905A1. Автор: Ki Bong Nam,Changyoung Jeong,Mun Ja KIM,Byungchul YOO,Ji Beom YOO,Jin Ho Yeo. Владелец: Research & Business Foundationsungkyunkwan University. Дата публикации: 2023-12-21.

Extreme ultraviolet photolithography method with developer composition

Номер патента: US20240045327A1. Автор: Joy Cheng,Ching-Yu Chang,Chin-Hsiang Lin,An-Ren Zi. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Extreme ultraviolet patterning process with resist hardening

Номер патента: US20200273704A1. Автор: Kangguo Cheng,ChoongHyun Lee,Ruilong Xie,Chanro Park. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2020-08-27.

Euv lithography system and method for decreasing debris in euv lithography system

Номер патента: US20210223708A1. Автор: BO-TSUN Liu,Chi Yang,Shang-Chieh Chien,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH,Tzung-Chi Fu,Ssu-Yu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-07-22.

System and method for cleaning an euv mask

Номер патента: US20230280666A1. Автор: Tzung-Chi Fu,Yen-Hui Li,Cheng-Han Yeh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Extreme ultraviolet photolithography method with developer composition

Номер патента: US11822238B2. Автор: Joy Cheng,Ching-Yu Chang,Chin-Hsiang Lin,An-Ren Zi. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-21.

System and method for omnidirectional real time detection of photolithography characteristics

Номер патента: US20220269182A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Tai-Yu Chen,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Sheng-Kang Yu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-08-25.

Extreme Ultraviolet Photoresist and Method

Номер патента: US20180341175A1. Автор: Chin-Hsiang Lin,Yen-Hao Chen,Chien-Wei Wang,Wei-Han Lai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-11-29.

Replacement and refill method for droplet generator

Номер патента: US11997778B2. Автор: Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Han-Lung Chang,Hsiao-Lun CHANG,Shih-Yu Tu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-05-28.

Extreme ultraviolet reflectometer with rotating grating monochrometer

Номер патента: WO2006080909A1. Автор: James H. Underwood,Rupert C. C. Perrera,Phillip J. Batson. Владелец: Batson Phillip J. Дата публикации: 2006-08-03.

Methods for performing chemical assays using fluorescence and photon counting

Номер патента: US4231750A. Автор: Robert M. Dowben,James R. Bunting. Владелец: Diagnostic Reagents Inc. Дата публикации: 1980-11-04.

MATERIALS, COMPONENTS, AND METHODS FOR USE WITH EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION IN LITHOGRAPHY AND OTHER APPLICATIONS

Номер патента: US20130188245A1. Автор: Jaiswal Supriya. Владелец: . Дата публикации: 2013-07-25.

MATERIALS, COMPONENTS, AND METHODS FOR USE WITH EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION IN LITHOGRAPHY AND OTHER APPLICATIONS

Номер патента: US20160238755A1. Автор: Jaiswal Supriya. Владелец: . Дата публикации: 2016-08-18.

Materials, components, and methods for use with extreme ultraviolet radiation in lithography and other applications

Номер патента: EP3224657B1. Автор: Supriya JAISWAL. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-04-10.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US20170215267A1. Автор: Takashi Saito,Yoshifumi Ueno,Tamotsu Abe,Hirokazu HOSODA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-07-27.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US09942973B2. Автор: Takashi Saito,Yoshifumi Ueno,Tamotsu Abe,Hirokazu HOSODA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-04-10.

Extreme ultraviolet light generation device

Номер патента: US09872372B2. Автор: Yoshifumi Ueno,Shinji Nagai,Tamotsu Abe,Atsushi Ueda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-01-16.

Multifunctional composite structure for extreme conditions

Номер патента: RU2735149C2. Автор: Цзянь ДУН,Навид Моайед ХУССЕЙН. Владелец: Зе Боинг Компани. Дата публикации: 2020-10-28.

System and method for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: EP2721907A2. Автор: Osamu Wakabayashi,Kouji Kakizaki,Tatsuya Yanagida,Tsukasa Hori. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2014-04-23.

System and method for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: WO2012173166A2. Автор: Osamu Wakabayashi,Kouji Kakizaki,Tatsuya Yanagida,Tsukasa Hori. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2012-12-20.

Method of manufacturing extreme ultraviolet (euv) mask for forming semiconductor memory device

Номер патента: US20240152043A1. Автор: Chan Hwang,Sangho Yun,Janghoon Kim,Minseung SONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-09.

System and method for stereoscopic photography

Номер патента: US09538161B2. Автор: Hung-Chang Tsai,Ling-Wei Liu. Владелец: Lips Corp. Дата публикации: 2017-01-03.

Stereo particle tracking method for velocity measurement

Номер патента: LU502375B1. Автор: Chong Pan,Jianyu Dou. Владелец: Univ Beihang. Дата публикации: 2024-01-11.

Beam position control for an extreme ultraviolet light source

Номер патента: US20150257246A1. Автор: Igor V. Fomenkov,Vladimir B. Fleurov. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2015-09-10.

Wave-front aberration metrology of extreme ultraviolet mask inspection systems

Номер патента: EP3973355A1. Автор: Rui-Fang Shi,Qiang Zhang,Dmitriy ZUSIN. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2022-03-30.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: WO2013110968A1. Автор: Yukio Watanabe,Osamu Wakabayashi,Miwa Igarashi,Norio Iwai,Kouji ASHIKAWA. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2013-08-01.

Extreme ultraviolet mask absorber and processes for manufacture

Номер патента: WO2020132391A1. Автор: Wen Xiao,CHANG Ke,Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-06-25.

Spectral filter for splitting a beam with electromagnetic radiation having wavelengths in the extreme ultraviolet (euv) or soft x-ray (soft x) and the infrared (ir) wavelength range

Номер патента: WO2012023853A1. Автор: Frederik Bijkerk,Frederik Albert Van Goor,Robert Van Der Meer,Antonius Johannes Ronald Van Den Boogaard. Владелец: UNIVERSITEIT TWENTE. Дата публикации: 2012-02-23.

Extreme ultraviolet lithography projection optics system and associated methods.

Номер патента: NL2013719B1. Автор: Lu Yen-Cheng,Yu Shinn-Sheng,Yen Anthony. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg Co Ltd. Дата публикации: 2016-04-04.

Reflective optical element and method for operating an euv lithography apparatus

Номер патента: EP2483746A1. Автор: Dirk Heinrich Ehm,Gisela von Blanckenhagen,Axel Dochnahl. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-08-08.

Correcting apparatus of extreme ultraviolet (euv) photomask and correcting method of euv photomask

Номер патента: US20220283512A1. Автор: Yongwoo Kim,Jongju Park,Sanguk Park,Jongkeun OH,Youngchang SEO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-09-08.

Spectral purity filter, lithographic apparatus, and method for manufacturing a spectral purity filter.

Номер патента: NL2004787A. Автор: Wouter Soer,Martin Jak. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2011-01-04.

System and method for cleaning optical surfaces of an extreme ultraviolet optical system

Номер патента: EP2969272A1. Автор: Rudy Garcia,Mohammed Tahmassebpur,Gildardo DELGADO,Francis C. Chilese,Salam Harb. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2016-01-20.

System and method for cleaning optical surfaces of an extreme ultraviolet optical system

Номер патента: WO2014152067A1. Автор: Rudy Garcia,Mohammed Tahmassebpur,Gildardo DELGADO,Francis C. Chilese,Salam Harb. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2014-09-25.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2036212A. Автор: UENO Yoshifumi,MIYASHITA Kotaro,NISHIMURA Yuichi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-06-11.

Extreme ultraviolet capping layer and method of manufacturing and lithography thereof

Номер патента: US09739913B2. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Cara Beasley,Rudy Beckstrom, III. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-08-22.

Process for producing a reflective optical element for the extreme ultraviolet wavelength range and reflective optical element

Номер патента: EP4308981A1. Автор: Thomas Schicketanz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-01-24.

Process for producing a reflective optical element for the extreme ultraviolet wavelength range and reflective optical element

Номер патента: US20230417961A1. Автор: Thomas Schicketanz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-12-28.

Extreme ultraviolet lithography device and method of operating extreme ultraviolet lithography device

Номер патента: US11960212B2. Автор: Chan Hwang,HyungJong BAE,Hoduk CHO,SeongBo Shim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-16.

Extreme ultraviolet lithography device and method of operating extreme ultraviolet lithography device

Номер патента: EP4286942A3. Автор: Chan Hwang,HyungJong BAE,Hoduk CHO,SeongBo Shim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-12-13.

Extreme ultraviolet lithography device and method of operating extreme ultraviolet lithography device

Номер патента: EP4286942A2. Автор: Chan Hwang,HyungJong BAE,Hoduk CHO,SeongBo Shim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-12-06.

Extreme ultraviolet lithography device and method of operating extreme ultraviolet lithography device

Номер патента: US20230393484A1. Автор: Chan Hwang,HyungJong BAE,Hoduk CHO,SeongBo Shim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-12-07.

Extreme ultraviolet capping layer and method of manufacturing and lithography thereof

Номер патента: MY182792A. Автор: Ralf Hofmann,Cara Beasley,Majeed A Foad,Iii Rudy Beckstrom. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-02-05.

Extreme ultraviolet capping layer and method of manufacturing and lithography thereof

Номер патента: EP3167472A1. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Cara Beasley,Rudy BECKSTROM III. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-05-17.

Extreme ultraviolet capping layer and method of manufacturing and lithography thereof

Номер патента: WO2016007394A1. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Cara Beasley,Rudy BECKSTROM III. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2016-01-14.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240184211A1. Автор: Yoshifumi Ueno,Yuichi Nishimura,Kotaro Miyashita. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-06-06.

Mask for extreme ultraviolet photolithography

Номер патента: US20210341829A1. Автор: Hsin-Chang Lee,Ta-Cheng Lien,Wen-Chang Hsueh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-11-04.

Mask for extreme ultraviolet photolithography

Номер патента: US11815805B2. Автор: Hsin-Chang Lee,Ta-Cheng Lien,Wen-Chang Hsueh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-14.

Method for measuring parameters of hinged fork groove

Номер патента: RU2748863C9. Автор: Анатолий Павлович Архаров. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Тверской государственный технический университет". Дата публикации: 2021-07-09.

Interpretable deep learning model for extreme climate prediction

Номер патента: LU504816B1. Автор: Lizhi Tao. Владелец: Univ Jiangxi Normal. Дата публикации: 2024-02-01.

Optical finger navigation module for extreme temperature operation and method for increasing life time of OFN module

Номер патента: US09778786B1. Автор: Vincent Wai HUNG,Ka Lap Tong. Владелец: SAE Magnetics HK Ltd. Дата публикации: 2017-10-03.

Receiver and decoder for extreme low power, unterminated, multi-drop serdes

Номер патента: US20200097245A1. Автор: Lior Amarilio,Jason Gonzalez,Puxuan DONG. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2020-03-26.

Mimo sensor, method for determining direction-of-arrival approximation degree, and target information matching method

Номер патента: US20240230840A9. Автор: Yan Zhu,Ran TANG,Yanqun Zhang. Владелец: Calterah Semiconductor Technology Shanghai Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Mimo sensor, method for determining direction-of-arrival approximation degree, and target information matching method

Номер патента: US20240134006A1. Автор: Yan Zhu,Ran TANG,Yanqun Zhang. Владелец: Calterah Semiconductor Technology Shanghai Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-25.

Efficient map matching method for global positioning system (gps) trajectory

Номер патента: US20240302172A1. Автор: Yabin Sun,Sen Wei,Minghui Xie,Yuanqing Wang,Yaxiang Li,Zhouhao Wu,Shuxin Jin. Владелец: Changan University. Дата публикации: 2024-09-12.

Color-matching apparatus and color-matching method for repair paint

Номер патента: US09964445B1. Автор: Makoto Ueno. Владелец: Car Conveni Club Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Impedance Matching Method for CLC Branch of Low-Frequency Resonance Suppression Device

Номер патента: US20230409796A1. Автор: Jun Li,Pengfei Wang,Jing Lu,Yanan Wu,Zhiwei Mao,Huafeng MAO,Liuwei XU,Yunxiang TIAN. Владелец: Hefei Institutes of Physical Science of CAS. Дата публикации: 2023-12-21.

Extreme ultraviolet masks having annealed light-absorptive borders and associated fabrication methods

Номер патента: US20130029253A1. Автор: Lei Sun,Pawitter Mangat,Oleg Kritsun. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2013-01-31.

Optical sensor for extreme environments

Номер патента: US8035822B2. Автор: Frank Perez,Nabeel Agha Riza. Владелец: Nusensors Inc. Дата публикации: 2011-10-11.

Matching method of wireless charging mouse

Номер патента: US09946364B2. Автор: Yuan-Jung Chang. Владелец: Dexin Electronic Ltd. Дата публикации: 2018-04-17.

Concealed data matching device, concealed data matching program, and concealed data matching method

Номер патента: US09870458B2. Автор: Yuka Jo. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Method for Forming an Extreme Ultraviolet Lithography Pellicle

Номер патента: US20210191255A1. Автор: Huyghebaert Cedric,Gallagher Emily,Pollentier Ivan,Timmermans Marina,Schapmans Elie. Владелец: . Дата публикации: 2021-06-24.

Thermally stable multilayer mirror for extreme ultraviolet spectral range

Номер патента: RU2410732C2. Автор: Норберт КАЙЗЕР,Николя БЕНУА,Торстен ФАЙГЛЬ,Сергий ЮЛИН. Владелец: Фраунхофер-Гезелльшафт Цур Фердерунг Дер Ангевандтен Форшунг Е.Ф.. Дата публикации: 2011-01-27.

Matching method and apparatus for manufacturing liquid crystal display device, and system and medium thereof

Номер патента: US20230333524A1. Автор: Jun Hong,Fei Xu,Xinyu Wang,Yanbin Wang,Wenhong Tian,JIngyong Li. Владелец: Hefei BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-19.

Process solution composition for extreme ultraviolet lithography, and method for forming pattern by using same

Номер патента: US20210214649A1. Автор: Seung Hyun Lee,Su Jin Lee,Seung Hun Lee. Владелец: Youngchang Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-07-15.

Positive resist composition for extreme ultraviolet lithography and resist pattern formation kit for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US20230324797A1. Автор: Manabu Hoshino. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2023-10-12.

Mask for Extreme-Ultraviolet (Extreme-UV) Lithography and Method for Manufacturing the Same

Номер патента: US20190155138A1. Автор: Jae Uk Lee,Ryan Ryoung Han Kim. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2019-05-23.

Multilayer graphene direct growth method and method for manufacturing pellicle for extreme ultraviolet lithography using the same

Номер патента: EP4002007A1. Автор: Hyeong Keun Kim,Seul Gi Kim,Hye Young Kim,Hyun Mi Kim. Владелец: KOREA ELECTRONICS TECHNOLOGY INSTITUTE. Дата публикации: 2022-05-25.

Method of reducing undesired light influence in extreme ultraviolet exposure

Номер патента: US20240295820A1. Автор: BO-TSUN Liu,Chih-Tsung Shih,Yahru CHENG,Tsung Chuan LEE,Chen-Ming Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Extreme ultraviolet lithography mask blank and manufacturing method therefor

Номер патента: US6117597A. Автор: Kathleen R. Early. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2000-09-12.

Extreme ultraviolet (EUV) multilayer defect compensation and EUV masks

Номер патента: US9052617B2. Автор: Alfred Wagner,Gregory R. McIntyre,Emily E. Gallagher. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2015-06-09.

Nanotube-based pellicle for extreme ultraviolet lithography and related manufacturing method

Номер патента: US20240280893A1. Автор: Hyeong Keun Kim,Seul Gi Kim. Владелец: KOREA ELECTRONICS TECHNOLOGY INSTITUTE. Дата публикации: 2024-08-22.

Phase shift mask for extreme ultraviolet lithography and a method of manufacturing a semiconductor device using the same

Номер патента: US12099293B2. Автор: Seongsue Kim,Changyoung Jeong,Hwanseok SEO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-24.

Extreme ultraviolet lithography method using robust, high transmission pellicle

Номер патента: US12055855B2. Автор: Yun-Yue Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Pellicle for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: EP4075195A1. Автор: Hyeong Keun Kim,Seul Gi Kim,Hyun Mi Kim,Jin Woo Cho,Ki Hun Seong. Владелец: KOREA ELECTRONICS TECHNOLOGY INSTITUTE. Дата публикации: 2022-10-19.

Method for manufacturing pellicle for extreme ultraviolet lithography having graphene defect healing layer

Номер патента: US11789359B2. Автор: Hyeong Keun Kim,Seul Gi Kim,Hyun Mi Kim,Jin Woo Cho,Jun Hyeok JEON. Владелец: KOREA ELECTRONICS TECHNOLOGY INSTITUTE. Дата публикации: 2023-10-17.

Phase shift mask for EUV lithography and manufacturing method for the phase shift mask

Номер патента: US12025912B2. Автор: Tae Joong Ha. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2024-07-02.

Phase shift mask for euv lithography and manufacturing method for the phase shift mask

Номер патента: US20240310717A1. Автор: Tae Joong Ha. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2024-09-19.

Method of reducing undesired light influence in extreme ultraviolet exposure

Номер патента: US12013641B2. Автор: BO-TSUN Liu,Chih-Tsung Shih,Yahru CHENG,Tsung Chuan LEE,Chen-Ming Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-18.

Developer composition for forming fine pattern of photosensitive resist for extreme ultraviolet light source

Номер патента: CN111656285A. Автор: 李昇勋,李秀珍,金起洪. Владелец: Youngchang Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-09-11.

Pellicle for extreme ultraviolet lithography based on yttrium carbide

Номер патента: US11927881B2. Автор: Hyeong Keun Kim,Seul Gi Kim,Hyun Mi Kim,Jin Woo Cho,Ki Hun Seong. Владелец: KOREA ELECTRONICS TECHNOLOGY INSTITUTE. Дата публикации: 2024-03-12.

Phase-shift mask for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US20180143527A1. Автор: Roman Chalykh,Taehoon Lee,Seongsue Kim,Hwanseok SEO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-05-24.

Extreme ultraviolet (euv) multilayer defect compensation and euv masks

Номер патента: US20140272687A1. Автор: Alfred Wagner,Gregory R. McIntyre,Emily E. Gallagher. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2014-09-18.

Phase shift masks for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US11774846B2. Автор: Dongwan Kim,Seongsue Kim,Hwanseok SEO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-10-03.

Robust, high transmission pellicle for extreme ultraviolet lithography systems

Номер патента: US20210132490A1. Автор: Yun-Yue Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-05-06.

Photomask for extreme ultraviolet

Номер патента: US20230305382A1. Автор: Tae Young Kim,Inkyun Shin,Sung Hoon Son,Min Gyo Jeong,GeonGon LEE,Seong Yoon Kim. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Extreme ultraviolet lithography method using robust, high transmission pellicle

Номер патента: US20230251566A1. Автор: Yun-Yue Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Phase shift masks for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US20230018819A1. Автор: Dongwan Kim,Seongsue Kim,Hwanseok SEO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-01-19.

Pellicle film including graphite-containing thin film for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US20180259847A1. Автор: Seul-Gi Kim,Sang-Jin Cho,Mun Ja KIM,Ji-Beom Yoo,Myung-shik CHANG,Jang-dong You. Владелец: Fine Semitech Corp. Дата публикации: 2018-09-13.

Method for light exposure

Номер патента: US6677108B2. Автор: Nobuyuki Matsuzawa,Shigeo Irie. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2004-01-13.

Method for light exposure

Номер патента: US20020119401A1. Автор: Nobuyuki Matsuzawa,Shigeo Irie. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2002-08-29.

Methods for controlling defects for extreme ultraviolet lithography (euvl) photomask substrate

Номер патента: WO2014028192A1. Автор: AJAY Kumar,Banqiu Wu,Omkaram Nalamasu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-02-20.

Methods for controlling defects for extreme ultraviolet lithography (euvl) photomask substrate

Номер патента: US20140045103A1. Автор: AJAY Kumar,Banqiu Wu,Omkaram Nalamasu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2014-02-13.

Crosslinkable photoresist for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US20230350295A1. Автор: Ching-Yu Chang,Wei-Han Lai,Li-Po YANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

Extreme ultraviolet (euv) mask absorber and method for forming the same

Номер патента: US20190227427A1. Автор: Jed H. Rankin,Lei Zhuang,Amr Y. Abdo. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2019-07-25.

Extreme ultraviolet lithography system that utilizes pattern stitching

Номер патента: US20190235393A1. Автор: David M. Williamson,Michael B. Binnard,Daniel Gene Smith. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2019-08-01.

Extreme ultraviolet photolithography method with infiltration for enhanced sensitivity and etch resistance

Номер патента: US12111576B2. Автор: Christine Y OUYANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-08.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20230161262A1. Автор: Kotaro Miyashita,Gouta NIIMI. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-05-25.

Extreme ultraviolet lithography system that utilizes pattern stitching

Номер патента: US20170336720A1. Автор: David M. Williamson,Michael B. Binnard,Daniel Gene Smith. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-11-23.

Method of cleaning extreme ultraviolet lithography collector

Номер патента: US20200073250A1. Автор: Ching-Yu Chang,Chin-Hsiang Lin,An-Ren Zi. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-03-05.

Extreme ultraviolet mask absorber materials

Номер патента: WO2020236883A1. Автор: Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-11-26.

Reticle-masking structure, extreme ultraviolet apparatus, and method of forming the same

Номер патента: US20220214620A1. Автор: Ching-Hsiang Hsu,Feng Yuan Hsu,James Jeng-Jyi Hwang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-07-07.

Extreme ultraviolet/soft x-ray laser nano-scale patterning using the demagnified talbot effect

Номер патента: US20150251441A1. Автор: Mario C. Marconi,Jorge J. Rocca,Artak Isoyan,Lukasz Urbanski. Владелец: Synopsys Inc. Дата публикации: 2015-09-10.

Reticle-masking structure, extreme ultraviolet apparatus, and method of forming the same

Номер патента: US20210096469A1. Автор: Ching-Hsiang Hsu,Feng Yuan Hsu,James Jeng-Jyi Hwang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-04-01.

Reticle-masking structure, extreme ultraviolet apparatus, and method of forming the same

Номер патента: US11287745B2. Автор: Ching-Hsiang Hsu,Feng Yuan Hsu,James Jeng-Jyi Hwang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-03-29.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2033232A. Автор: MIYASHITA Kotaro,NIIMI Gouta. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-06-12.

Extreme ultraviolet mask blank with multilayer absorber and method of manufacture

Номер патента: US11754917B2. Автор: Vibhu Jindal. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-12.

Extreme ultraviolet mask absorber materials

Номер патента: WO2020236886A1. Автор: Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-11-26.

Extreme Ultraviolet Mask Blank Structure

Номер патента: US20220252971A1. Автор: SHIYU Liu,Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-08-11.

Extreme ultraviolet/soft X-ray laser nano-scale patterning using the demagnified Talbot effect

Номер патента: US9216590B2. Автор: Mario C. Marconi,Jorge J. Rocca,Artak Isoyan,Lukasz Urbanski. Владелец: Synopsys Inc. Дата публикации: 2015-12-22.

Semiconductor device manufacturing method and extreme ultraviolet mask manufacturing method

Номер патента: US12092961B2. Автор: Dongwon Kang,Sang Chul YEO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-17.

Pattern forming method, composition kit and resist film, and method for producing electronic device using them, and electronic device

Номер патента: US09915870B2. Автор: Kaoru Iwato,Hiroo Takizawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Pattern-forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using them and electronic device

Номер патента: EP2761373A1. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Naoki Inoue. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-08-06.

Dense line extreme ultraviolet lithography system with distortion matching

Номер патента: US20190212663A1. Автор: Michael B. Binnard. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2019-07-11.

Pattern forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet-sensitive composition, resist film, manufacturing method of electronic device, and electronic device

Номер патента: US20130084438A1. Автор: Kaoru Iwato,Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2013-04-04.

Method for forming a high resolution resist pattern on a semiconductor wafer

Номер патента: US20080233494A1. Автор: Thomas Wallow,Harry J. Levinson,Uzodinma Okoroanyanwu,Ryoung Han Kim. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2008-09-25.

Extreme ultraviolet pellicle storage and method of preserving extreme ultraviolet pellicle properties thereof

Номер патента: US20240337922A1. Автор: Marcio D. Lima,Sergey Li,Hooman RAHMANI. Владелец: Lintec of America Inc. Дата публикации: 2024-10-10.

Amorphous layer extreme ultraviolet lithography blank, and manufacturing and lithography systems therefor

Номер патента: US20140268081A1. Автор: Kevin Moraes,Ralf Hofmann. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2014-09-18.

Method for producing a high resolution resist pattern on a semiconductor wafer

Номер патента: US20080292996A1. Автор: Thomas Wallow,Uzodinma Okoroanyanwu. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2008-11-27.

Amplification method for photoresist exposure in semiconductor chip manufacturing

Номер патента: US09709898B2. Автор: Richard S. Wise,Daniel A. Corliss. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-07-18.

Extreme ultraviolet light source apparatus and method of adjusting the same

Номер патента: US20100193712A1. Автор: Kazuo Tawarayama. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-08-05.

Method for examining photolithographic masks and mask metrology apparatus for performing the method

Номер патента: US20190079381A1. Автор: Dirk Hellweg,Markus Koch,Renzo Capelli. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-03-14.

Amorphous layer extreme ultraviolet lithography blank, and manufacturing and lithography systems therefor

Номер патента: WO2014165298A1. Автор: Kevin Moraes,Ralf Hofmann. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-10-09.

Pattern forming method, electron beam- or extreme ultraviolet-sensitive resin composition, resist film using the same, method of manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US20150370170A1. Автор: Shuji Hirano,Hiroo Takizawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-12-24.

Composition and method for manufacturing device using same

Номер патента: US20200048191A1. Автор: Yusuke Suga,Satoshi Enomoto. Владелец: Toyo Gosei Co Ltd. Дата публикации: 2020-02-13.

Extreme ultraviolet lithography method, extreme ultraviolet mask and formation method thereof

Номер патента: US12072633B2. Автор: BO-TSUN Liu,Chih-Tsung Shih,Yu-Hsun Wu,Tsung-Chuan LEE. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

Extreme ultraviolet lithography process and mask

Номер патента: US09996013B2. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

Drying an extreme ultraviolet (EUV) pellicle

Номер патента: US09950349B2. Автор: Dario L. Goldfarb. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-04-24.

Extreme ultraviolet lithography process and mask

Номер патента: US09829785B2. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-11-28.

Extreme ultraviolet lithography process

Номер патента: US09760015B2. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-09-12.

Method of making an extreme ultraviolet pellicle

Номер патента: US09664999B2. Автор: Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen,Chih-Tsung Shih,Shang-Chieh Chien,Chia-Jen Chen,Tien-Hsi Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Method for forming resist pattern by using extreme ultraviolet light and method for forming pattern by using the resist pattern as mask

Номер патента: US20240045336A1. Автор: Chan Hwang,Sookyung Kim,Jonghyun JUNG,Moosong Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-08.

Positive tone resist composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20220382153A1. Автор: Kazunari Yagi,Akira Takada,Kazuhiro Marumo,Michihiro Shirakawa,Akiyoshi Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-12-01.

Mechanical isolation control for an extreme ultraviolet (EUV) pellicle

Номер патента: US09915867B2. Автор: Dario L. Goldfarb. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Ligand-capped main group nanoparticles as high absorption extreme ultraviolet lithography resists

Номер патента: US11874600B2. Автор: Florian Gstrein,James M. Blackwell,Robert L. Bristol,Marie KRYSAK. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-01-16.

Pattern forming method, method for selecting heating temperature in pattern forming method, extreme ultraviolet-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using the same, and electronic device

Номер патента: US20150017576A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Naoki Inoue. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-01-15.

Ligand-capped main group nanoparticles as high absorption extreme ultraviolet lithography resists

Номер патента: US20190302615A1. Автор: Florian Gstrein,James M. Blackwell,Robert L. Bristol,Marie KRYSAK. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2019-10-03.

Pellicle and method for manufacturing the same

Номер патента: US09864270B2. Автор: Chi-Ming Yang,Tsiao-Chen Wu,Yun-Yue Lin,Chih-Cheng Lin,Chyi Shyuan Chern,Jeng-Shin Ma. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Pattern-forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using them and electronic device

Номер патента: EP2761372A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Takeshi Kawabata. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-08-06.

Pattern-forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using them and electronic device

Номер патента: WO2013047092A1. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Naoki Inoue. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-04-04.

Extreme ultraviolet exposure apparatus including a mask stage

Номер патента: US20240219848A1. Автор: Jinhong Park,Dohyung Kim,Sanghwan Lee,Seongchul HONG,Hachul Shin. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-04.

Extreme ultraviolet pellicles and method of manufacturing

Номер патента: US20240248391A1. Автор: Feng Q. Liu,Jeffrey W. Anthis,Mark Saly,Lakmal C. Kalutarage,Thomas Joseph Knisley,Nasrin Kazem. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-25.

Multilayer extreme ultraviolet reflectors

Номер патента: US11762278B2. Автор: Wen Xiao,Vibhu Jindal,Herng Yau Yoong. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-19.

Multiple Exposures in Extreme Ultraviolet Lithography

Номер патента: US20140272720A1. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2014-09-18.

Method providing for asymmetric pupil configuration for an extreme ultraviolet lithography process

Номер патента: US09886543B2. Автор: Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen,Norman Chen,Chih-Tsung Shih,Chia-Chun Chung. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Extreme ultraviolet mask blank defect reduction

Номер патента: US11789358B2. Автор: Wen Xiao,Sanjay Bhat,Weimin Li,Vibhu Jindal,Azeddine Zerrade. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-17.

Optical device, and method for preventing contamination of optical device

Номер патента: US11353802B2. Автор: Haruhiko Kusunose,Tsunehito KOHYAMA. Владелец: Lasertec Corp. Дата публикации: 2022-06-07.

Extreme Ultraviolet Photolithography Method with Infiltration for Enhanced Sensitivity and Etch Resistance

Номер патента: US20210080832A1. Автор: Christine Y OUYANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-03-18.

Extreme Ultraviolet Lithography System

Номер патента: US20200019070A1. Автор: Ching-Yu Chang,Chin-Hsiang Lin,Cheng-Han Wu,Ming-Hui Weng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-01-16.

System and method for detecting debris in a photolithography system

Номер патента: US20230375944A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Cheng Hung Tsai,Wei-Shin CHENG,Tzu-Jung PAN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Damascene extreme ultraviolet lithography (euvl) photomask and method of making

Номер патента: EP1412817A2. Автор: Pei-Yang Yan. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2004-04-28.

Extreme ultraviolet lithography system

Номер патента: US12055865B2. Автор: Chi Yang,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Che-Chang Hsu,Ssu-Yu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Damascene extreme ultraviolet lithography (euvl) photomask and method of making

Номер патента: WO2003012546A3. Автор: Pei-Yang Yan. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2003-12-18.

High Heat Load Optics with Vibration Isolated Hoses in an Extreme Ultraviolet Lithography System

Номер патента: US20130323649A1. Автор: Douglas C. Watson,Travis BOW. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2013-12-05.

Inspection tool for an extreme ultraviolet radiation source to observe tin residual

Номер патента: US12066761B2. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Cheng-Hsuan Wu,Cheng-Hao Lai,Sheng-Kang Yu,Yu-Huan Chen,Wei-Chun YEN,Yu-Kuang SUN,Ming-Hsun Tsai,Wei-Shin CHENG,Chiao-Hua Cheng,Yu-Fa LO. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Extreme ultraviolet pellicles and method of manufacturing

Номер патента: WO2024155654A1. Автор: Feng Q. Liu,Jeffrey W. Anthis,Mark Saly,Lakmal C. Kalutarage,Thomas Joseph Knisley,Nasrin Kazem. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-07-25.

Extreme ultraviolet mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US20240280889A1. Автор: SunPyo LEE,Minchang KIM,Yoontaek Han. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Novel design of an inspection tool for an extreme ultraviolet radiation source to observe tin residual

Номер патента: US20240361701A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Cheng-Hsuan Wu,Cheng-Hao Lai,Sheng-Kang Yu,Yu-Huan Chen,Wei-Chun YEN,Yu-Kuang SUN,Ming-Hsun Tsai,Wei-Shin CHENG,Chiao-Hua Cheng,Yu-Fa LO. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Extreme ultraviolet lithography system

Номер патента: US20240353766A1. Автор: Chi Yang,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Che-Chang Hsu,Ssu-Yu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Extreme ultraviolet lithography photomasks

Номер патента: US09946152B2. Автор: Jed H. Rankin,Zhengqing John QI,Christina A. Turley. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2018-04-17.

Extreme ultraviolet light (EUV) photomasks, and fabrication methods thereof

Номер патента: US09869928B2. Автор: Anthony Yen,Chih-Tsung Shih,Hsin-Chang Lee,Chia-Jen Chen,Tao-Min HUANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Extreme ultraviolet lithography process and mask

Номер патента: US09690186B2. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Foil trap and extreme ultraviolet light source device using the foil trap

Номер патента: EP1972999A3. Автор: Takahiro Inoue,Takahiro Shirai. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2009-07-15.

Extreme ultraviolet mask absorber materials

Номер патента: WO2020236887A1. Автор: Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-11-26.

Extreme ultraviolet mask absorber materials

Номер патента: WO2021150556A1. Автор: Wen Xiao,Vibhu Jindal,Azeddine Zerrade,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-07-29.

Debris handling apparatus and method for an extreme ultraviolet light source

Номер патента: WO2024033020A1. Автор: Adam CROCKER,Kyle John SCAFFIDI,Gary Dwayne Mandrusiak,Esteban Joseph Sandoval JOHNSON,Liza EASO,Bryce Collin CAPUTO. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-02-15.

Extreme ultraviolet photomask and method for fabricating the same

Номер патента: US20180284596A1. Автор: Yu-Cheng Tung,En-Chiuan Liou. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2018-10-04.

Extreme ultraviolet mask absorber materials

Номер патента: US11860533B2. Автор: SHIYU Liu,Vibhu Jindal,Azeddine Zerrade,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-02.

Extreme ultraviolet mask blank structure

Номер патента: WO2022173777A1. Автор: SHIYU Liu,Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-08-18.

Extreme ultraviolet photomask and method for fabricating the same

Номер патента: US10571796B2. Автор: Yu-Cheng Tung,En-Chiuan Liou. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2020-02-25.

Pattern forming method, electron beam- or extreme ultraviolet-sensitive resin composition, resist film using the same, method of manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US9612535B2. Автор: Shuji Hirano,Hiroo Takizawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-04-04.

Extreme ultraviolet lithography method, extreme ultraviolet mask and formation method thereof

Номер патента: US20230324804A1. Автор: BO-TSUN Liu,Chih-Tsung Shih,Yu-Hsun Wu,Tsung-Chuan LEE. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Extreme ultraviolet mask absorber materials

Номер патента: US20220236634A1. Автор: SHIYU Liu,Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-07-28.

Extreme ultraviolet mask absorber materials

Номер патента: WO2020236888A1. Автор: Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-11-26.

Extreme ultraviolet mask absorber materials

Номер патента: US20200249559A1. Автор: Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-08-06.

Extreme ultraviolet pellicle with enhanced extreme ultraviolet transmission and method of producing thereof

Номер патента: WO2024072508A2. Автор: Takahiro Ueda,Marcio D. Lima,Sergey Li,Hooman RAHMANI. Владелец: Lintec Of America, Inc.. Дата публикации: 2024-04-04.

Extreme ultraviolet lithography process and mask

Номер патента: US20160306272A1. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-10-20.

Pellicle for exposure to extreme ultraviolet light, photomask assembly, and method of manufacturing the pellicle

Номер патента: US20180284599A1. Автор: Chang-Young Jeong,Hee-Bom Kim,Mun Ja KIM,Hwan-Chul Jeon,Sung-won Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-10-04.

Extreme ultraviolet mask blank production system with thin absorber and manufacturing system therefor

Номер патента: EP3167473A1. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-05-17.

Extreme Ultraviolet Mask Blank Production System With Thin Absorber And Manufacturing System Therefor

Номер патента: US20200058213A9. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-02-20.

Extreme ultraviolet mask blank production system with thin absorber and manufacturing system therefor

Номер патента: WO2016007610A1. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2016-01-14.

Extreme Ultraviolet Lithography Process and Mask

Номер патента: US20150098069A1. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-04-09.

Extreme Ultraviolet Mask Absorber Materials

Номер патента: US20220221783A1. Автор: SHIYU Liu,Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-07-14.

Optical device, and method for preventing contamination of optical device

Номер патента: US20210373447A1. Автор: Haruhiko Kusunose,Tsunehito KOHYAMA. Владелец: Lasertec Corp. Дата публикации: 2021-12-02.

Extreme ultraviolet mask with backside coating

Номер патента: WO2020086932A1. Автор: Vikash Banthia,Madhavi R. Chandrachood,Vibhu Jindal. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-04-30.

Extreme ultraviolet pellicle with enhanced extreme ultraviolet transmission and method of producing thereof

Номер патента: WO2024072508A3. Автор: Takahiro Ueda,Marcio D. Lima,Sergey Li,Hooman RAHMANI. Владелец: Lintec Of America, Inc.. Дата публикации: 2024-05-16.

Extreme ultraviolet light shield protection film structure body and its manufacturing method

Номер патента: CN108604057A. Автор: 金正植,金廷桓,安镇浩,禹东坤,张镛铸. Владелец: Hanyang Hak Won Co Ltd. Дата публикации: 2018-09-28.

Multilayer extreme ultraviolet reflector materials

Номер патента: US11815803B2. Автор: Wen Xiao,Vibhu Jindal,Binni VARGHESE. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-14.

Integration system and the method for operating the same

Номер патента: US20070026322A1. Автор: Chin-Cheng Yang. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2007-02-01.

An extreme ultraviolet lithography process

Номер патента: KR101485669B1. Автор: 옌-쳉 루,쉰-쉥 유,앤소니 옌. Владелец: 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드. Дата публикации: 2015-01-22.

Illumination system for shaping extreme ultraviolet radiation used in a lithographic projection apparatus

Номер патента: US6498351B1. Автор: Borgert Kruizinga,Isabel Escudero Sanz. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2002-12-24.

Extreme ultraviolet mask with capping layer

Номер патента: KR20230076087A. Автор: 신-창 리,타-쳉 리엔,핑-순 린,페이-쳉 수,웨이-하오 리,칭-팡 유. Владелец: 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드. Дата публикации: 2023-05-31.

Extreme Ultraviolet Lithography Process and Mask

Номер патента: US20140272679A1. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2014-09-18.

Extreme Ultraviolet Lithography Process and Mask

Номер патента: US20150346596A1. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-12-03.

Multilayer extreme ultraviolet reflectors

Номер патента: WO2023038840A1. Автор: Wen Xiao,Vibhu Jindal,Herng Yau Yoong. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-03-16.

Extreme ultraviolet mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US11774844B2. Автор: BO-TSUN Liu,Shih-Chi Fu,Chih-Tsung Shih,Tsung-Chih Chien,Tsung Chuan LEE,Chi-Hua FU,Kuotang CHENG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Extreme ultraviolet mask with tantalum base alloy absorber

Номер патента: US11852965B2. Автор: Hsin-Chang Lee,Pei-Cheng Hsu,Ta-Cheng Lien. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Extreme ultraviolet mask with capping layer

Номер патента: US20230161241A1. Автор: Ching-Fang Yu,Hsin-Chang Lee,Pei-Cheng Hsu,Ta-Cheng Lien,Ping-Hsun LIN,Wei-Hao Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-05-25.

Extreme Ultraviolet Lithography Process and Mask

Номер патента: US20140268091A1. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2014-09-18.

Multilayer extreme ultraviolet reflectors

Номер патента: US11782337B2. Автор: Wen Xiao,Vibhu Jindal,Herng Yau Yoong. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-10.

Extreme ultraviolet mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US20230359115A1. Автор: Yun-Yue Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-09.

Extreme ultraviolet mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US11789355B2. Автор: Yun-Yue Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Extreme ultraviolet (euv) mask for lithography and associated methods

Номер патента: US20190163048A1. Автор: No-Young Chung,Woon-hyuk CHOI. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-05-30.

Extreme ultraviolet mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US20230367195A1. Автор: BO-TSUN Liu,Shih-Chi Fu,Chih-Tsung Shih,Tsung-Chih Chien,Tsung Chuan LEE,Chi-Hua FU,Kuotang CHENG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Extreme ultraviolet lithography photomasks

Номер патента: US20170315438A1. Автор: Jed H. Rankin,Zhengqing John QI,Christina A. Turley. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-11-02.

Extreme ultraviolet lithography system

Номер патента: US20210033983A1. Автор: Chi Yang,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Che-Chang Hsu,Ssu-Yu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-02-04.

Extreme ultraviolet (euv) mask and manufacturing method thereof

Номер патента: US20240126161A1. Автор: SunPyo LEE,Euihan Jung,Sungwoo JANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-18.

Extreme ultraviolet (euv) photomask

Номер патента: US20230400758A1. Автор: Jeonghyun Kim,Sangjin Kim,Jihun Lee,Yigwon Kim,Jinhee Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-12-14.

Multilayer extreme ultraviolet reflectors

Номер патента: WO2022266057A1. Автор: Wen Xiao,Vibhu Jindal,Herng Yau Yoong. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-12-22.

Extreme ultraviolet mask with tantalum base alloy absorber

Номер патента: US20240192581A1. Автор: Hsin-Chang Lee,Pei-Cheng Hsu,Ta-Cheng Lien. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Damascene extreme ultraviolet lithography (euvl) photomask and method of making

Номер патента: WO2003012546A2. Автор: Pei-Yang Yan. Владелец: Intel Corporation (A Delaware Corporation). Дата публикации: 2003-02-13.

Amplification method for photoresist exposure in semiconductor chip manufacturing

Номер патента: US20150042972A1. Автор: Richard S. Wise,Daniel A. Corliss. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2015-02-12.

Filter for retaining a substance originating from a radiation source and method for the manufacture of the same

Номер патента: EP1656591A1. Автор: Rolf Theo Anton c/o Philips Intellectual APETZ,Jeroen c/o Philips Intellectual JONKERS. Владелец: Philips Intellectual Property and Standards GmbH. Дата публикации: 2006-05-17.

Method for making a reflection lithographic mask and mask obtained by said method

Номер патента: US7923177B2. Автор: Christelle Charpin-Nicolle. Владелец: Commissariat a lEnergie Atomique CEA. Дата публикации: 2011-04-12.

Metal-containing onium salt compound, photodegradable base, resist composition, and method for manufacturing device using said resist composition

Номер патента: US11347147B2. Автор: Yoshiyuki Utsumi,Masamichi Hayakawa,Michiya NAITO. Владелец: Toyo Gosei Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-31.

Metal-containing onium salt compound, photodegradable base, resist composition, and method for manufacturing device using said resist composition

Номер патента: US20190243243A1. Автор: Yoshiyuki Utsumi,Masamichi Hayakawa,Michiya NAITO. Владелец: Toyo Gosei Co Ltd. Дата публикации: 2019-08-08.

Precursors and methods for producing tin-based photoresist

Номер патента: US20240201586A1. Автор: Michael Robinson,Scott B. Clendenning,Marie KRYSAK,James Blackwell,John J. Plombon,Patrick THEOFANIS,Eric Mattson,Lauren Elizabeth DOYLE,Scott Semproni,Charles Cameron Mokhtarzadeh,Paul Meza-Morales. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Pellicle and method for manufacturing the same

Номер патента: TW201734631A. Автор: 林志誠,楊棋銘,林雲躍,馬正鑫,吳小真,陳其賢. Владелец: 台灣積體電路製造股份有限公司. Дата публикации: 2017-10-01.

EUV pellicle structure, and method for manufacturing same

Номер патента: KR101726125B1. Автор: 홍성철,김정환,김지은,정성훈,안진호. Владелец: 한양대학교 산학협력단. Дата публикации: 2017-04-13.

Reflective photomask blank, and method for manufacturing reflective photomask

Номер патента: EP4276532A1. Автор: Takeshi Ishii,Keisuke Sakurai,Shohei Mimura. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-15.

Reflective photomask blank, method for manufacturing reflective photomask, and reflective photomask

Номер патента: US20230333460A1. Автор: Takeshi Ishii,Keisuke Sakurai,Shohei Mimura. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-19.

Extreme Ultraviolet Light (EUV) Photomasks, and Fabrication Methods Thereof

Номер патента: US20160223900A1. Автор: Anthony Yen,Chih-Tsung Shih,Hsin-Chang Lee,Chia-Jen Chen,Tao-Min HUANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-08-04.

Extreme ultraviolet light (euv) photomasks, and fabrication methods thereof

Номер патента: US20120045712A1. Автор: Ru-Gun Liu,Wen-Chun Huang,Hung-Chun Wang,Ching-Hsu Chang,Boren Luo. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2012-02-23.

Reflective photomask blank, method for manufacturing reflective photomask, and reflective photomask

Номер патента: EP4261614A1. Автор: Takeshi Ishii,Keisuke Sakurai,Shohei Mimura. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-18.

Reflective Photomask Blank, and Method for Manufacturing Reflective Photomask

Номер патента: US20230367199A1. Автор: Takeshi Ishii,Keisuke Sakurai,Shohei Mimura. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Method for fabricating euv mask and photomask using the euv mask

Номер патента: US20240176226A1. Автор: Sang Ho Lee,Chang Moon Lim,Chan Ha Park,Suk Won Park,Tae Kwon JEE. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2024-05-30.

A Wind Power Forecasting Method, System and Medium for Extremely Windy Weather

Номер патента: NL2033883A. Автор: SUN JIAN,Wang Lu,ZHANG Yuanfeng,Zhang Xu,Guo Kai,Sun Jianhua,Shen Weicheng,ZHANG JIANMEI,Han Zifen,He Chang'an,Fu Jiayu,Ma Liancai. Владелец: Gansu Tongxing Intelligent Tech Development Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-10.

Method for extreme class imbalance within fraud detection

Номер патента: US20230316281A1. Автор: Danny BUTVINIK,Amir Shachar,Michal Einhorn-Cohen. Владелец: Actimize Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

A Wind Power Forecasting Method, System and Medium for Extremely Windy Weather

Номер патента: NL2033883B1. Автор: SUN JIAN,Wang Lu,ZHANG Yuanfeng,Zhang Xu,Guo Kai,Sun Jianhua,Shen Weicheng,ZHANG JIANMEI,Han Zifen,He Chang'an,Fu Jiayu,Ma Liancai. Владелец: Gansu Tongxing Intelligent Tech Development Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Apparatus and methods for inspecting extreme ultra violet reticles

Номер патента: US09679372B2. Автор: Stanley E. Stokowski,Mehdi Vaez-Iravani,Mehran Nasser-Ghodsi. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2017-06-13.

System and method for autonomous vehicle and method for swapping autonomous vehicle during operation

Номер патента: US12094348B1. Автор: Travis Kunkel. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-09-17.

Method for Enhanced Nuclear Reactions

Номер патента: US20200090822A1. Автор: Shui Yin Lo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-03-19.

Method for enhanced nuclear reactions

Номер патента: WO2020205294A3. Автор: Shui Yin Lo. Владелец: Shui Yin Lo. Дата публикации: 2020-11-12.

Method for enhanced nuclear reactions

Номер патента: WO2020205294A2. Автор: Shui Yin Lo. Владелец: Shui Yin Lo. Дата публикации: 2020-10-08.

Computerized-system and method for generating a reduced size superior labeled training dataset for a high-accuracy machine learning classification model for extreme class imbalance of instances

Номер патента: US20210264318A1. Автор: Danny BUTVINIK,Yoav Avneon. Владелец: Actimize Ltd. Дата публикации: 2021-08-26.

Systems and methods for queueing in dynamic transportation networks

Номер патента: US20200005206A1. Автор: Christopher Sholley,Jianzhe Luo,Garrett van Ryzin,Jeremy Alexander Karp,Adam Greenhall. Владелец: Lyft Inc. Дата публикации: 2020-01-02.

A method for estimating the pose of tank filler cap of automatic refueling robot

Номер патента: AU2021106134A4. Автор: XIN Wang,Hongbin Ma,Junyong CHEN. Владелец: Beijing Institute of Technology BIT. Дата публикации: 2021-10-28.

Systems and methods for queueing in dynamic transportation networks

Номер патента: US20220277236A1. Автор: Christopher Sholley,Jianzhe Luo,Garrett van Ryzin,Jeremy Alexander Karp,Adam Greenhall. Владелец: Lyft Inc. Дата публикации: 2022-09-01.

Difference analysis method for 3D cad models based on key-point matching

Номер патента: US12118278B1. Автор: Jin Cheng,Zhenyu Liu,Hao LV,Jianrong TAN. Владелец: Zhejiang University ZJU. Дата публикации: 2024-10-15.

System and method for retina template matching in teleophthalmology

Номер патента: US12029487B2. Автор: Chen Gong,Brian T. Schowengerdt,Eric J. Seibel,Nils Benjamin ERICHSON,Laura TRUTOIU,Steven L Brunton. Владелец: Magic Leap Inc. Дата публикации: 2024-07-09.

System and method for retina template matching in teleophthalmology

Номер патента: US20240315553A1. Автор: Chen Gong,Brian T. Schowengerdt,Eric J. Seibel,Steven L. BRUNTON,Nils Benjamin ERICHSON,Laura TRUTOIU. Владелец: Magic Leap Inc. Дата публикации: 2024-09-26.

Difference analysis method for 3d cad models based on key-point matching

Номер патента: US20240338501A1. Автор: Jin Cheng,Zhenyu Liu,Hao LV,Jianrong TAN. Владелец: Zhejiang University ZJU. Дата публикации: 2024-10-10.

Performance-based multi-mode task dispatching in a multi-processor core system for extreme temperature avoidance

Номер патента: US09753773B1. Автор: Lokesh M. Gupta,Matthew G. Borlick,Trung N. NGUYEN. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-09-05.

Method for inpainting highlight region of vegetation image captured by unmanned aerial vehicle, device, medium, and product

Номер патента: US12118698B1. Автор: Jing He,Gang Liu,Yifu CHEN,Weile Li. Владелец: Chengdu Univeristy of Technology. Дата публикации: 2024-10-15.

Extreme ultraviolet microscope

Номер патента: US20080266654A1. Автор: Arno Jan Bleeker,Vadim Yevgenyevich Banine,Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen,Frank Jeroen Pieter Schuurmans,Vladimir Vitalevich Ivanov,Vladimir Mihailòvitch Krivtsun,Konstantin Nikolaevich Koshelev. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2008-10-30.

Adaptive fingerprint matching method and apparatus

Номер патента: EP1836649A2. Автор: Peter Z. Lo,Behnam Bavarian. Владелец: Motorola Inc. Дата публикации: 2007-09-26.

System and method for autonomous vehicle and method for swapping autonomous vehicle during operation

Номер патента: US11869363B1. Автор: Travis Kunkel. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-01-09.

Matching methods and apparatus using landmark points in a print

Номер патента: WO2007133852A3. Автор: Behnam Bavarian,Sam M Daniel,Peter Z Lo,Harshawardhan M Wabgaonkar. Владелец: Harshawardhan M Wabgaonkar. Дата публикации: 2008-11-13.

Matching methods and apparatus using landmark points in a print

Номер патента: WO2007133852A2. Автор: Behnam Bavarian,Sam M. Daniel,Peter Z. Lo,Harshawardhan M. Wabgaonkar. Владелец: MOTOROLA, INC.. Дата публикации: 2007-11-22.

Matching methods and apparatus using landmark points in a print

Номер патента: EP2024904A2. Автор: Behnam Bavarian,Sam M. Daniel,Peter Z. Lo,Harshawardhan M. Wabgaonkar. Владелец: Motorola Inc. Дата публикации: 2009-02-18.

Systems and methods for training and using a machine learning model for matching objects

Номер патента: CA3170178A1. Автор: Roni GURVICH,Shaked Dunay,Adam Malloul. Владелец: Donde Mobile R&d Ltd. Дата публикации: 2023-08-16.

Dance matching method and system

Номер патента: US20240233378A1. Автор: Ki Bong KOOK. Владелец: Sidewalk Entertainment Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Integrated circuit dynamic capacitance matching method, simulation equipment, and storage medium

Номер патента: US20240311539A1. Автор: Zhoujie Wu,Zhong Guan. Владелец: Zhuhai Chipoly Technology Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Dance matching method and system

Номер патента: US12125280B2. Автор: Ki Bong KOOK. Владелец: Sidewalk Entertainment Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

LASER APPARATUS, EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM, METHOD FOR CONTROLLING THE LASER APPARATUS, AND METHOD FOR GENERATING THE EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT

Номер патента: US20130148674A1. Автор: Wakabayashi Osamu,Nowak Krzysztof. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2013-06-13.

Apparatus and method for production of extreme ultraviolet (EUV) radiation

Номер патента: EP1691588A2. Автор: Jürgen Dr. Kleinschmidt,Kai Dr. Gäbel. Владелец: XTREME technologies GmbH. Дата публикации: 2006-08-16.

Extreme ultraviolet light generation device and method for controlling extreme ultraviolet light generation device

Номер патента: US20190045616A1. Автор: Yoshifumi Ueno,Yuta TAKASHIMA,Go SHIROZU. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2019-02-07.

System and method for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US20150351209A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Kouji Kakizaki,Tatsuya Yanagida,Tsukasa Hori. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2015-12-03.

System and method for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US09877378B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Kouji Kakizaki,Tatsuya Yanagida,Tsukasa Hori,Hakaru Mizoguchi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-01-23.

Extreme ultraviolet light source device

Номер патента: US09826617B2. Автор: Takuma Yokoyama. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2017-11-21.

Method for generating extreme ultraviolet light and device for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US20150189730A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Masato Moriya,Hideyuki Hayashi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2015-07-02.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US20140034852A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Kouji Kakizaki,Tooru Abe. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2014-02-06.

System and method for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US20170019983A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Kouji Kakizaki,Tatsuya Yanagida,Tsukasa Hori,Hakaru Mizoguchi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-01-19.

System and method for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US20180110116A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Kouji Kakizaki,Tatsuya Yanagida,Tsukasa Hori,Hakaru Mizoguchi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-04-19.

System and method for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US20190037677A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Kouji Kakizaki,Tatsuya Yanagida,Tsukasa Hori,Hakaru Mizoguchi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2019-01-31.

Extreme ultraviolet light source device

Номер патента: US20170094766A1. Автор: Takuma Yokoyama. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2017-03-30.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US11778721B2. Автор: Yuichi Nishimura,Takayuki Yabu,Hiroaki Nakarai. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-10-03.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2030088B1. Автор: YABU Takayuki,NISHIMURA Yuichi,NAKARAI Hiroaki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-01-04.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20230387644A1. Автор: Takashi Suganuma. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-11-30.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2034367A. Автор: SUGANUMA Takashi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-12-05.

Extreme ultraviolet source with rotary electrodes and method for producing extreme ultraviolet radiation from gas-discharge plasma

Номер патента: RU2278483C2. Автор: Владимир Михайлович Борисов,Олег Борисович Христофоров,Валентин Александрович Мищенко,Александр Сергеевич Иванов,Юрий Борисович Кирюхин,Александр Юрьевич Виноходов,Александр Васильевич Прокофьев. Владелец: Александр Васильевич Прокофьев. Дата публикации: 2006-06-20.

Rotating target for extreme ultraviolet source with liquid metal

Номер патента: US12133318B2. Автор: Rui-Fang Shi,Alexander Bykanov. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-10-29.

Rotating target for extreme ultraviolet source with liquid metal

Номер патента: US20230403778A1. Автор: Rui-Fang Shi,Alexander Bykanov. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2023-12-14.

Rotating target for extreme ultraviolet source with liquid metal

Номер патента: WO2023239563A1. Автор: Rui-Fang Shi,Alexander Bykanov. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2023-12-14.

Extreme ultraviolet light and plasma combined atomic-scale processing method

Номер патента: EP4197966A1. Автор: Fengzhou Fang. Владелец: TIANJIN UNIVERSITY. Дата публикации: 2023-06-21.

Apparatus and method for generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: US12114411B2. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Yu-Chih Huang,Yu-Huan Chen,Ming-Hsun Tsai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-08.

Method for forming surface oxide layer on amorphous silicon

Номер патента: US09646819B2. Автор: Tianming DAI. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-09.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US20130161540A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Shinji Nagai. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2013-06-27.

Extreme ultraviolet light generation method, extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2032877A. Автор: Honda Yoshiyuki,HOSODA Hirokazu,KOUGE Kouichiro. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-05-19.

Extreme ultraviolet light generation method, extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2032877B1. Автор: Honda Yoshiyuki,HOSODA Hirokazu,KOUGE Kouichiro. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-07-08.

Method for improving fluid flow characteristics, heat exchanger, distillation apparatus and deodorizing apparatus with the same applied thereto, and expanded metal used for the same

Номер патента: US09939212B2. Автор: Takahiro Agata. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-04-10.

Pulsed discharge extreme ultraviolet source with magnetic shield

Номер патента: US20120146510A1. Автор: Malcolm W. McGeoch. Владелец: PLEX LLC. Дата публикации: 2012-06-14.

Atomic-scale processing method by combining extreme ultraviolet light and plasma

Номер патента: US20220336189A1. Автор: Fengzhou Fang. Владелец: TIANJIN UNIVERSITY. Дата публикации: 2022-10-20.

Extreme ultraviolet light generation device

Номер патента: US09961755B2. Автор: Hiroshi Umeda,Kazukiyo KAMIKANNA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-05-01.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US09854658B2. Автор: Masaki Nakano,Fumio Iwamoto,Tsukasa Hori. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-12-26.

System and Method for Extreme Performance Die Attach

Номер патента: US20210202433A1. Автор: Nathan P. Lower,Ross K. Wilcoxon,Pete SAHAYDA,Haley M. Steffen,David L. Westergren,Brian K. Otis. Владелец: ROCKWELL COLLINS INC. Дата публикации: 2021-07-01.

Stabilizing EUV light power in an extreme ultraviolet light source

Номер патента: US09713240B2. Автор: Robert Jay Rafac,Daniel Jason Riggs. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-07-18.

Extreme ultraviolet light generation apparatus with a gas supply toward a trajectory of a target

Номер патента: US09661730B2. Автор: Takashi Saito,Osamu Wakabayashi,Atsushi Ueda,Takayuki Yabu,Georg Soumagne. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-05-23.

Apparatus and method for generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: US20230363074A1. Автор: Chi Yang,Shang-Chieh Chien,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Wei-Chih Lai,Han-Lung Chang,Bo--Tsun LIU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-09.

Apparatus and method for generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: US11792909B2. Автор: BO-TSUN Liu,Chi Yang,Shang-Chieh Chien,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Wei-Chih Lai,Han-Lung Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Apparatus and method for generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: US20230060625A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Yu-Chih Huang,Yu-Huan Chen,Ming-Hsun Tsai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-03-02.

Apparatus and method for generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: US20230225039A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Yu-Chih Huang,Yu-Huan Chen,Ming-Hsun Tsai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-07-13.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20230300966A1. Автор: Shogo KITASAKA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-09-21.

Silicon carbide-based lateral PN junction extreme ultraviolet detector based on selective-area ion implantation, and preparation method thereof

Номер патента: US12080821B2. Автор: Dong Zhou,Hai Lu,Weizong Xu. Владелец: NANJING UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-09-03.

Method of timing laser beam pulses to regulate extreme ultraviolet light dosing

Номер патента: WO2014109876A1. Автор: Steven Chang,Andrew Liu,Matthew R. Graham,Alexander A. Schafgans,Robert N. Jacques,James H. Crouch,Wayne J. Dunstan,Paul A. FRIHAUF. Владелец: CYMER, LLC. Дата публикации: 2014-07-17.

Induction heated buffer gas heat pipe for use in an extreme ultraviolet source

Номер патента: US20130153568A1. Автор: Malcolm W. McGeoch. Владелец: PLEX LLC. Дата публикации: 2013-06-20.

Electrode-less discharge extreme ultraviolet light source

Номер патента: WO2006015125A3. Автор: Bruno Bauer. Владелец: Univ & Community College Syste. Дата публикации: 2006-03-23.

Systems and methods for controlling EUV energy generation using pulse intensity

Номер патента: US09980359B2. Автор: Robert Jay Rafac,Daniel Jason Riggs. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-05-22.

Target supply apparatus, extreme ultraviolet light generating apparatus, and target supply method

Номер патента: US09860967B2. Автор: Tsukasa Hori,Hirokazu HOSODA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-01-02.

Target expansion rate control in an extreme ultraviolet light source

Номер патента: US09820368B2. Автор: Robert Jay Rafac,Daniel Jason Riggs. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-11-14.

Light source device and method for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US8698115B1. Автор: Masashi Onishi,Waheed Hugrass. Владелец: KANSAI UNIVERSITY. Дата публикации: 2014-04-15.

Wafer matching methods for use in assembling micromirror array devices

Номер патента: US20050287694A1. Автор: Anoop Singhal,Y. Dan Rubinstein. Владелец: Venture Lending and Leasing IV Inc. Дата публикации: 2005-12-29.

Extreme ultraviolet light generation apparatus including target droplet joining apparatus

Номер патента: US9699877B2. Автор: Fumio Iwamoto,Hiroshi Umeda,Tsukasa Hori. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-07-04.

Device for emitting extreme ultraviolet light

Номер патента: US10143075B2. Автор: Yusuke Teramoto,Akihisa NAGANO,Hideyuki URAKAMI. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2018-11-27.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US20160255707A1. Автор: Takashi Saito,Osamu Wakabayashi,Atsushi Ueda,Takayuki Yabu,Georg Soumagne. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2016-09-01.

Extreme ultraviolet light source obscuration bar and methods

Номер патента: WO2024094431A1. Автор: Yue Ma,Armin Bernhard Ridinger,Liza EASO,Mohsen Benjamin BATTOEI,Jonathan Anthony WALKER. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-05-10.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2034072A. Автор: Kitasaka Shogo. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-09-21.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2034072B1. Автор: Kitasaka Shogo. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-03-19.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US8710474B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Takeshi Kodama. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2014-04-29.

Target expansion rate control in an extreme ultraviolet light source

Номер патента: US20200260564A1. Автор: Robert Jay Rafac,Daniel Jason Riggs. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-08-13.

Device for emitting extreme ultraviolet light

Номер патента: US20160295674A1. Автор: Yusuke Teramoto,Akihisa NAGANO,Hideyuki URAKAMI. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2016-10-06.

Novel silicon carbide-based lateral pn junction extreme ultraviolet detector based on selective-area ion implantation, and preparation method thereof

Номер патента: US20240204126A1. Автор: Dong Zhou,Hai Lu,Weizong Xu. Владелец: NANJING UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-06-20.

System and method for controlling source laser firing in an LPP EUV light source

Номер патента: US9426872B1. Автор: Robert Jay Rafac,Daniel Jason Riggs. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-08-23.

Method for manufacturing integrated circuit

Номер патента: CN107305862A. Автор: 赖志明,刘如淦,吴佳典,陈志良,陈顺利,林天禄,彭士玮,杨超源,曾健庭,杨惠婷,萧锦涛,庄正吉. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Apparatus and method for extremely high throughput (eht) medium reservation

Номер патента: US20210345403A1. Автор: Qi Wang,Yong Liu,Tianyu Wu,Su Khiong Yong,Lochan VERMA,Jinjing Jiang,Jarkko L. KNECKT. Владелец: Apple Inc. Дата публикации: 2021-11-04.

System and method for providing low latency high throughput communications between mobile cranes

Номер патента: WO2024077070A1. Автор: Steven Hill,Matthew Hunter,Greg DUNNELL,Matt GRETZ. Владелец: Buckeye Mountain, Inc.. Дата публикации: 2024-04-11.

Apparatus and method for compensating for varying adjacent channel conditions

Номер патента: EP1751969A1. Автор: Rodger Anthony Diemer. Владелец: Thomson Licensing SAS. Дата публикации: 2007-02-14.

Speed matching methods for ldpc-codes

Номер патента: RU2730434C1. Автор: Маттиас Андерссон,Юфэй БЛАНКЕНШИП,Сара САНДБЕРГ. Владелец: ТЕЛЕФОНАКТИЕБОЛАГЕТ Л М ЭРИКССОН (ПАБЛ). Дата публикации: 2020-08-21.

Remotely powered reconfigurable receiver for extreme sensing platforms

Номер патента: US09735612B2. Автор: Douglas J. Sheldon. Владелец: California Institute of Technology CalTech. Дата публикации: 2017-08-15.

Method for data rate matching

Номер патента: WO2008156341A3. Автор: So Yeon Kim,Seung Hyun Kang,Min Seok Oh,Ji Ae Seok,Ji Wook Chung,Young Seob Lee. Владелец: Young Seob Lee. Дата публикации: 2009-02-05.

Link adaptation for extremely high throughput systems

Номер патента: EP4393213A1. Автор: Yan Xin,Jung Hoon SUH,Osama Aboul-Magd,Kwok Shum Au. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-03.

Link adaptation for extremely high throughput systems

Номер патента: WO2023040898A1. Автор: Yan Xin,Jung Hoon SUH,Osama Aboul-Magd,Kwok Shum Au. Владелец: Huawei Technologies Co., Ltd.. Дата публикации: 2023-03-23.

Link adaptation control for extremely high throughput systems

Номер патента: EP4402885A1. Автор: Yan Xin,Jung Hoon SUH,Osama Aboul-Magd,Kwok Shum Au. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-24.

Adaptation of spatial reuse for extremely high throughput

Номер патента: EP4434248A1. Автор: Laurent Cariou. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-09-25.

Capability matching method, device and system

Номер патента: RU2650499C2. Автор: Чжэньсин ХУ,Вэй ЦЮАНЬ,Цзянь Чжан,Сяодун Ян,Юнцян ГАО. Владелец: Хуавей Текнолоджиз Ко., Лтд.. Дата публикации: 2018-04-16.

Routing and forwarding method for multi-homed network based on programmable network technology

Номер патента: AU2017441267A1. Автор: Jinlin Wang,Gang Cheng,Lingfang Wang,Jiali You,Xiaozhou Ye,Pufang MA. Владелец: Institute of Acoustics CAS. Дата публикации: 2020-05-14.

Adaptation of spatial reuse for extremely high throughput

Номер патента: WO2023086188A1. Автор: Laurent Cariou. Владелец: Intel Corporation. Дата публикации: 2023-05-19.

Link adaptation control for extremely high throughput systems

Номер патента: US11764836B2. Автор: Yan Xin,Jung Hoon SUH,Osama Aboul-Magd,Kwok Shum Au. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Link adaptation control for extremely high throughput systems

Номер патента: US20230370125A1. Автор: Yan Xin,Jung Hoon SUH,Osama Aboul-Magd,Kwok Shum Au. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Link adaptation control for extremely high throughput systems

Номер патента: CA3235661A1. Автор: Yan Xin,Jung Hoon SUH,Osama Aboul-Magd,Kwok Shum Au. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-27.

Link adaptation control for extremely high throughput systems

Номер патента: WO2023066228A1. Автор: Yan Xin,Jung Hoon SUH,Osama Aboul-Magd,Kwok Shum Au. Владелец: Huawei Technologies Co., Ltd.. Дата публикации: 2023-04-27.

Link adaptation control for extremely high throughput systems

Номер патента: AU2022373575A1. Автор: Yan Xin,Jung Hoon SUH,Osama Aboul-Magd,Kwok Shum Au. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Method and apparatus for extremely high throughput null data packet support using ranging null data packet announcement

Номер патента: WO2024041355A1. Автор: Yan Xin,Jung Hoon SUH,Osama Aboul-Magd,Kwok Shum Au. Владелец: Huawei Technologies Co., Ltd.. Дата публикации: 2024-02-29.

Method and apparatus for extremely high throughput null data packet support using ranging null data packet announcement

Номер патента: US20240072863A1. Автор: Yan Xin,Jung Hoon SUH,Osama Aboul-Magd,Kwok Shum Au. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-29.

System and method for providing low latency high throughput communications between mobile cranes

Номер патента: US20240114395A1. Автор: Steven Hill,Greg DUNNELL. Владелец: Buckeye Mountain Inc. Дата публикации: 2024-04-04.

Integrated wire and wireless network packet broker and method for gtp correlation assigning method of the same

Номер патента: US20200344156A1. Автор: Seung Yong Park,Seok Hwan Kong,Dipjyoti SAIKIA. Владелец: KULCLOUD. Дата публикации: 2020-10-29.

Compounds and processes for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US20240002412A1. Автор: Thomas M. Cameron,David M. ERMERT. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-01-04.

Compounds and processes for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: WO2024006453A1. Автор: Thomas M. Cameron,David M. ERMERT. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2024-01-04.

Reduced striae low expansion glass and elements, and a method for making same

Номер патента: WO2007143069A3. Автор: John E Maxon,William R Rosch. Владелец: William R Rosch. Дата публикации: 2008-01-31.

System and method for online community management

Номер патента: US09901831B2. Автор: Dan Conti,Evan Michaels,Pablo Aguilar Fruto. Владелец: Take Two Interactive Software Inc. Дата публикации: 2018-02-27.

System and method for online community management

Номер патента: US09839838B1. Автор: Daniel Conti,Evan Michaels,Pablo Aguilar Fruto. Владелец: Take Two Interactive Software Inc. Дата публикации: 2017-12-12.

Receiving socket of prostyhesis for extremity stump, equipped with inbuilt fixing device for sealing element

Номер патента: RU2463019C2. Автор: Христоф КУРТ. Владелец: Меди Гмбх & Ко. Кг. Дата публикации: 2012-10-10.

Regenerator material for extremely low temperatures and regenerator for extremely low temperatures using the same

Номер патента: US6042657A. Автор: Naoyuki Sori,Masami Okamura. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2000-03-28.

Method for determining anisotropy permeability of rocks

Номер патента: RU2752913C1. Автор: Дмитрий Александрович Мартюшев. Владелец: федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Пермский национальный исследовательский политехнический университет". Дата публикации: 2021-08-11.

Sprayable thin and robust carbon nanofiber composite coating for extreme jumping dropwise condensation performance

Номер патента: US20230286016A1. Автор: Dimos Poulikakos,Athanasios MILIONIS,Chander SHARMA,Matteo Donati,Cheuk Wing Edmond LAM,Abinash Tripathy. Владелец: Eidgenoessische Technische Hochschule Zurich ETHZ. Дата публикации: 2023-09-14.

Sprayable thin and robust carbon nanofiber composite coating for extreme jumping dropwise condensation performance

Номер патента: EP4188618A1. Автор: Dimos Poulikakos,Athanasios MILIONIS,Chander SHARMA,Matteo Donati,Cheuk Wing Edmond LAM,Abinash Tripathy. Владелец: Eidgenoessische Technische Hochschule Zurich ETHZ. Дата публикации: 2023-06-07.

Sprayable thin and robust carbon nanofiber composite coating for extreme jumping dropwise condensation performance

Номер патента: WO2022023239A1. Автор: Dimos Poulikakos,Athanasios MILIONIS,Chander SHARMA,Matteo Donati,Cheuk Wing Edmond LAM,Abinash Tripathy. Владелец: ETH Zurich. Дата публикации: 2022-02-03.

Sprayable thin and robust carbon nanofiber composite coating for extreme jumping dropwise condensation performance

Номер патента: EP3944903A1. Автор: Dimos Poulikakos,Athanasios MILIONIS,Chander SHARMA,Matteo Donati,Cheuk Wing Edmond LAM,Abinash Tripathy. Владелец: Eidgenoessische Technische Hochschule Zurich ETHZ. Дата публикации: 2022-02-02.

Dual Phase High Entropy Boride-Carbide Composites for Extreme Environments

Номер патента: US20240287657A1. Автор: Ramasis Goswami,Alex E. Moser. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 2024-08-29.

Method for cleaning earth surface of oil and oil products during winter period

Номер патента: RU2317161C2. Автор: Александр Борисович Курченко. Владелец: Специализированное профессиональное аварийно-спасательное формирование МЧС России Общество с ограниченной ответственностью "ПРИРОДА". Дата публикации: 2008-02-20.

Cold accumulating material for extremely low temperature cold, refrigerator using the same and heat shielding member

Номер патента: US6003320A. Автор: Keisuke Hashimoto,Masami Okamura,Hideki Nakagome,Tomohisa Arai,Rohana Chandrtilleke. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1999-12-21.

Recombinant DNA and methods for producing thermostable enzymes

Номер патента: US6350591B1. Автор: J. Mark Weber,David C. Demirjian,Malcolm J. Casadaban,Veronika Vonstein,Nikos C. Pagratis. Владелец: Thermogen Inc. Дата публикации: 2002-02-26.

Real-time impedance matching method for high frequency treatment device

Номер патента: EP4368245A1. Автор: Ki Hang Kim. Владелец: Tentech Inc. Дата публикации: 2024-05-15.

Doubly prestressed roof-ceiling construction with grid flat-soffit for extremely large spans

Номер патента: LV13201B. Автор: Milovan Skendzic,Branko Smrcek. Владелец: Mara Inst Doo. Дата публикации: 2004-11-20.

Random amplification methods for extremely low input nucleic acids

Номер патента: US11814674B2. Автор: Fei Fan NG. Владелец: US Department of Health and Human Services. Дата публикации: 2023-11-14.

Disposable irrigation basin for extremity procedures

Номер патента: US20210162113A1. Автор: Francis Derk. Владелец: Mdm Wound Ventures Inc. Дата публикации: 2021-06-03.

Color Management Method for Color Representation with Self-Luminous Color Primaries

Номер патента: US20110273468A1. Автор: Hugh Fairman,Patrick Tak Fu Chong. Владелец: Columbia Insurance Co. Дата публикации: 2011-11-10.

Structure for extreme thermal cycling

Номер патента: CA2581842C. Автор: Steve M. Cihlar,Dale A. Swanson,Randy L. Eberly. Владелец: Chicago Bridge and Iron Co. Дата публикации: 2014-12-09.

Method of making silica-titania extreme ultraviolet elements

Номер патента: US20030226377A1. Автор: Bradley Bowden,Claude Davis,Kenneth Hrdina,Michael Robinson,W. Barrett,John Wight,Michael Wasilewski. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2003-12-11.

Protective composition and method for manufacture the same

Номер патента: US20030236044A1. Автор: Lilya Nissim,Yelena Shifman. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-12-25.

Storage-stable aqueous solutions of chlorine dioxide and methods for preparing and using them

Номер патента: CA2629888C. Автор: Peter Kazlas,Madhu Anand,Thomas Mcwhorter,Aaron Rosenblatt,Robert Shay,Barzin Keramati,Peter Hobbs. Владелец: CDG Environmental LLC. Дата публикации: 2017-02-14.

Ocular membrane and method for preparation thereof

Номер патента: CA1097958A. Автор: William S. Covington. Владелец: Danker Laboratories Inc. Дата публикации: 1981-03-24.

Device and method for (extreme-high-speed) laser cladding

Номер патента: CA3103859A1. Автор: Oliver Schulte. Владелец: Ponticon GmbH. Дата публикации: 2019-12-26.

CHAMBER APPARATUS, EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM, AND METHOD FOR CONTROLLING THE EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM

Номер патента: US20130026393A1. Автор: Wakabayashi Osamu,ABE Tooru. Владелец: . Дата публикации: 2013-01-31.

Agent for extreme performance stimulation, method for preparing and using it

Номер патента: RU2503459C2. Автор: Владислав Николаевич Каркищенко,Николай Николаевич Каркищенко. Владелец: Николай Николаевич Каркищенко. Дата публикации: 2014-01-10.

Individual respiratory versatile training device idut-p2 and method for using it (versions)

Номер патента: RU2471515C2. Автор: Лаврентий Лаврентьевич Краснов,Владислав Лаврентьевич Краснов. Владелец: Владислав Лаврентьевич Краснов. Дата публикации: 2013-01-10.

METHOD FOR FAST SCENE MATCHING

Номер патента: US20120002868A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method for rehabilitation of patients with infantile cerebral paralysis in form of spastic displegia

Номер патента: RU2571528C2. Автор: Евгений Федорович Левицкий,Артем Валерьевич Рогов,Роман Зотович Барабаш,Сергей Дмитриевич Коршунов,Вячеслав Константинович Пашков,Елена Иннокентьевна Нечаева,Татьяна Геннадьевна Дорошева,Андрей Юрьевич Власов. Владелец: Андрей Юрьевич Власов. Дата публикации: 2015-12-20.

Refrigerating unit using cold outer air for extreme northern regions

Номер патента: RU2285391C2. Автор: Алексей Федорович Абрамов,Семен Сергеевич Зверев. Владелец: Государственное научное учреждение Якутский научно-исследовательский институт сельского хозяйства Сибирского отделения РАСХН. Дата публикации: 2006-10-20.

Agent for extreme performance stimulation

Номер патента: RU2503457C2. Автор: Владислав Николаевич Каркищенко,Николай Николаевич Каркищенко,Станислав Людвигович Люблинский. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение "Научный центр биомедицинских технологий" Российской академии медицинских наук. Дата публикации: 2014-01-10.

Method for matching laboratory methods for predicting the development of post-traumatic purulent-inflammatory complications in the field of orthopedics and traumatology

Номер патента: RU2305285C2. Автор: Николай Михайлович Зайцев,Николай Михайлович Водянов,Светлана Лоренсовна Гольвидис,Геннадий Ионович Чеченин,Алексей Дмитриевич Замулин,Николай Михайлович Зайцев (RU),Светлана Лоренсовна Гольвидис (RU),Геннадий Ионович Чеченин (RU),нов Николай Михайлович Вод (RU),Алексей Дмитриевич Замулин (RU). Владелец: Государственное образовательное учреждение дополнительного профессионального образования Министерства здравоохранения Российской Федерации Новокузнецкий государственный институт усовершенствования врачей. Дата публикации: 2007-08-27.

Method for defining stratum permeability anisotropy

Номер патента: RU2374442C2. Автор: Сумбат Набиевич Закиров,Илья Михайлович Индрупский,Тимур Николаевич Цаган-Манджиев. Владелец: Тимур Николаевич Цаган-Манджиев. Дата публикации: 2009-11-27.

Polymer composition for extremely severe operating conditions, sealing device for flexible and fixed joints, diaphragm and method of making polymer articles for pneumatic braking systems of railway vehicles

Номер патента: RU2413741C2. Автор: Сергей Иванович Афанасьев,Ольга Александровна Власова,Сергей Николаевич Архиреев,Валерий Сергеевич Гамаюнов. Владелец: Закрытое акционерное общество "Тульский завод резиновых технических изделий". Дата публикации: 2011-03-10.

GLOVE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME

Номер патента: US20120000005A1. Автор: KISHIHARA Hidetoshi,II Yasuyuki. Владелец: SHOWA GLOVE CO.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method for Making Internally Overlapped Conditioners

Номер патента: US20120000045A1. Автор: Anthony William M.,Anthony David,Anthony Anthony. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR MANUFACTURING PASTE-TYPE ELECTRODE OF LEAD-ACID BATTERY AND APPARATUS THEREFOR

Номер патента: US20120000070A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Excavating Device for Excavating Ground Under Water, and Method for Excavating Ground

Номер патента: US20120000098A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method for Operating a Motor-Drive Device for a Home Automation Installation Comprising a Shutter Provided with Two Leaves

Номер патента: US20120000133A1. Автор: Rohee Clément. Владелец: Somfy SAS. Дата публикации: 2012-01-05.

Machine and Method for Installing Curved Hardwood Flooring

Номер патента: US20120000159A1. Автор: Young Julius. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEM AND METHOD FOR PARTICULATE MATTER FILTER REGENERATION USING A CATALYTIC CONVERTER AS A COMBUSTOR

Номер патента: US20120000180A1. Автор: JR. Michael J.,Gonze Eugene V.,Paratore,Santoso Halim G.. Владелец: GM GLOBAL TECHNOLOGY OPERATIONS, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR DETECTING ABNORMALITY IN REDUCING AGENT

Номер патента: US20120000185A1. Автор: Narita Hironori. Владелец: HINO MOTORS ,LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR GENERATING ENERGY BY MEANS OF THERMAL CYCLES WITH HIGH PRESSURE AND MODERATE TEMPERATURE STEAM

Номер патента: US20120000202A1. Автор: Menéndez Salcedo José María,Angulo Aramburu Jerónimo. Владелец: SENER GRUPO DE INGENIERIA, S.A.. Дата публикации: 2012-01-05.

Device and Method for Controlling Compressor of Vehicles

Номер патента: US20120000210A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

DEVICE AND METHOD FOR CONTROLLING COMPRESSOR OF VEHICLES

Номер патента: US20120000211A1. Автор: Kwon Choon Gyu,KIM Jae Woong,LEE Chang Won. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR CONTROLLING FREEZING CAPACITY OF A FIXED-FREQUENCY FREEZING AC ICE-WATER SYSTEM

Номер патента: US20120000214A1. Автор: CHEN PIN-CHUAN,Chen Shyang-Yih,Wang Yu-Huan,Hsu Chen-Kun,Pan Ming-Hsien,Yang Ya-Ru,Lin Yan-Shao. Владелец: CHUNGHWA TELECOM CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR CONTROLLING FREEZING CAPACITY OF A VARIABLE-FREQUENCY FREEZING AC ICE-WATER SYSTEM

Номер патента: US20120000215A1. Автор: CHEN PIN-CHUAN,Chen Shyang-Yih,Wang Yu-Huan,Hsu Chen-Kun,Pan Ming-Hsien,Yang Ya-Ru,Lin Yan-Shao. Владелец: CHUNGHWA TELECOM CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Adsorption Cooling System And Adsorption Cooling Method For An Aircraft

Номер патента: US20120000220A1. Автор: Altay Mehmet. Владелец: AIRBUS OPERATIONS GMBH. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR PRODUCING OPTICAL FIBER PREFORM

Номер патента: US20120000249A1. Автор: HAMADA Takahiro. Владелец: FUJIKURA LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR MANUFACTURING AMINO ACID LIQUID FERTILIZER USING LIVESTOCK BLOOD AND AMINO ACID LIQUID FERTILIZER MANUFACTURED THEREBY

Номер патента: US20120000260A1. Автор: Oh Jin Yeol. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR MANUFACTURING GRAIN-ORIENTED SILICON STEEL WITH SINGLE COLD ROLLING

Номер патента: US20120000262A1. Автор: Jin Weizhong,Shen Kanyi,Li Guobao,Zhang Pijun,Yang Yongjie,Hu Zhuochao,Wu Peiwen,Jiang Quanli. Владелец: BAOSHAN IRON & STEEL CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR PROVIDING AT LEAST ONE WORK ROLL FOR ROLLING ROLLING STOCK

Номер патента: US20120000263A1. Автор: . Владелец: SMS SIEMAG AKTIENGESELLSCHAFT. Дата публикации: 2012-01-05.

AUTOMATIC HEAT TREATMENT METHOD FOR METAL RING

Номер патента: US20120000265A1. Автор: Watabe Yoshiharu,Saruyama Masaomi,Tsuyuzaki Hiroyuki. Владелец: HONDA MOTOR CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

EXPANSION TOOL AND METHOD FOR COLD EXPANSION OF HOLES

Номер патента: US20120000266A1. Автор: Wölcken Piet,Reese Eggert D.,Jones Timothy G.B.. Владелец: AIRBUS OPERATIONS SAS. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR DETECTING ABNORMALITY IN REDUCING AGENT

Номер патента: US20120000270A1. Автор: Narita Hironori. Владелец: HINO MOTORS, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR ISOLATING A VIEWPORT

Номер патента: US20120000301A1. Автор: LITTLE Edwin Jackson,PAVOL Mark J.. Владелец: PRIMESTAR SOLAR. Дата публикации: 2012-01-05.

COMPOSITE GEAR BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME

Номер патента: US20120000307A1. Автор: Oolderink Rob,Nizzoli Ermanno,Vandenbruaene Hendrik. Владелец: QUADRANT EPP AG. Дата публикации: 2012-01-05.

ACCESSORIES FOR A BICYCLE AND THE LIKE, AND METHOD FOR ACCESSING ARTICLES FROM A MOVING BICYCLE AND THE LIKE

Номер патента: US20120000313A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUSES AND METHODS FOR CUTTING POROUS SUBSTRATES

Номер патента: US20120000330A1. Автор: Griffin Weston Blaine. Владелец: GENERAL ELECTRIC COMPANY. Дата публикации: 2012-01-05.

DEVICE AND METHOD FOR SEPARATING SURFACE LAYERS IN PRODUCTS OF THE FOOD INDUSTRY

Номер патента: US20120000331A9. Автор: Grabau Thomas. Владелец: NORDISCHER MASCHINENBAU RUD. BAADER GMBH + CO. KG. Дата публикации: 2012-01-05.

Apparatus and Method for Biogas Purification

Номер патента: US20120000357A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

STRUCTURE PROVIDED WITH ZEOLITE SEPARATION MEMBRANE, METHOD FOR PRODUCING SAME, METHOD FOR SEPARATING MIXED FLUIDS AND DEVICE FOR SEPARATING MIXED FLUIDS

Номер патента: US20120000358A1. Автор: MORI Nobuhiko,KAWAI Masaaki,SATOH Aya,TOMITA Toshihiro. Владелец: NGK Insulators, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

Composition and method for dust suppression wetting agent

Номер патента: US20120000361A1. Автор: Weatherman Greg,Cash Marcia. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR PRODUCING METAL THIN FILM

Номер патента: US20120000382A1. Автор: . Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

SUSPENSION OF CELLULOSE FIBERS AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME

Номер патента: US20120000392A1. Автор: Isogai Akira,Mukai Kenta,Kumamoto Yoshiaki. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Tricalcium Phosphate Coarse Particle Compositions and Methods for Making the Same

Номер патента: US20120000394A1. Автор: Delaney David C.,Jalota Sahil,Yetkinler Duran N.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR MANUFACTURING NATURAL FIBER STRIPE-QUILTED FABRIC HAVING PROTRUDED WRINKLE PATTERNS ON ITS SURFACE

Номер патента: US20120000406A1. Автор: RYU Kwang Yeol. Владелец: DONG JIN BEDDING CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Large Area Nitride Crystal and Method for Making It

Номер патента: US20120000415A1. Автор: Speck James S.,"DEvelyn Mark P.". Владелец: Soraa, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUSES AND METHODS FOR ATOMIC LAYER DEPOSITION

Номер патента: US20120000422A1. Автор: Zheng Bo,Ai Hua,YU SANG HO,UMOTOY Salvador P.,Lam Hyman,Jackson Michael,Yuan Xiaoxiong (John),Wang Hou Gong. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

MILKING PARLOUR AND METHOD FOR OPERATING THE SAME

Номер патента: US20120000427A1. Автор: . Владелец: DELAVAL HOLDING AB. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHODS FOR ADMINISTRATION OF POSITIVE AIRWAY PRESSURE THERAPIES

Номер патента: US20120000463A1. Автор: Bordewick Steven S.,Bowman Bruce,Baser Joseph A.. Владелец: SOMNETICS GLOBAL PTE. LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS FOR ENHANCED PROCESSING CHAMBER CLEANING

Номер патента: US20120000490A1. Автор: . Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEM FOR TREATING AND/OR PROCESSING LIQUID PRODUCTS AND METHOD FOR CLEANING COMPONENTS OF SUCH SYSTEMS

Номер патента: US20120000492A1. Автор: Katzenbächer Hans-Jürgen,Bidinger Anne,Breil Michael. Владелец: KHS GmbH. Дата публикации: 2012-01-05.

Solar Cell And Method For Manufacturing Solar Cell

Номер патента: US20120000512A1. Автор: HASHIMOTO Masanori,SAITO Kazuya,SHIMIZU Miho. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

TRANSPARENT ELECTRICALLY CONDUCTIVE LAYER AND METHOD FOR FORMING SAME

Номер патента: US20120000519A1. Автор: FREY Jonathan Mack. Владелец: PRIMESTAR SOLAR. Дата публикации: 2012-01-05.

THIN FILM ARTICLE AND METHOD FOR FORMING A REDUCED CONDUCTIVE AREA IN TRANSPARENT CONDUCTIVE FILMS FOR PHOTOVOLTAIC MODULES

Номер патента: US20120000520A1. Автор: Feldman-Peabody Scott Daniel,FREY Jonathan Mack. Владелец: PRIMESTAR SOLAR. Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEM AND ASSOCIATED METHOD FOR PREVENTING OVERFILLING IN A DISHWASHER

Номер патента: US20120000535A1. Автор: Poyner Dennis A.,Mitchell Glen,Duckworth Jason,DeFilippi John,Francisco Virgil J.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method for Collecting and Storing Rain and Snow and For Irrigating, and Apparatus Therefor

Номер патента: US20120000537A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Systems and Methods for the Collection, Retention, and Redistribution of Rainwater and Methods of Construction of the Same

Номер патента: US20120000546A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS, SYSTEMS AND METHOD FOR COLLECTING AND RECLAIMING ANAESTHETIC AGENTS AND FOR REMOVING NITROUS OXIDE FROM EXHAUST GASES

Номер патента: US20120000549A1. Автор: Hunt Barry W.,Jarrett Todd Eric,Thorne Damian Ross,Ahchong Katrina Marie,Carr Dean Paul,Vazquez Cesar Laurentino Martinez. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEMS AND METHODS FOR REDUCING DEAD VOLUME IN COMPRESSED-GAS ENERGY STORAGE SYSTEMS

Номер патента: US20120000557A1. Автор: McBride Troy O.,Bollinger Benjamin,Cook Robert,Doyle Lee,Shang Andrew,Scott Michael Neil. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

HOLDING DEVICES AND METHODS FOR USING THE SAME

Номер патента: US20120000570A1. Автор: Foscarota Valentino. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

HOLDING DEVICES AND METHODS FOR USING THE SAME

Номер патента: US20120000571A1. Автор: Foscarota Valentino. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method for the beta annealing of a workpiece produced from a Ti alloy

Номер патента: US20120000581A1. Автор: Buscher Markus,Witulski Thomas. Владелец: OTTO FUCHS KG. Дата публикации: 2012-01-05.

Method for Corrosion Protection Treatment

Номер патента: US20120000591A1. Автор: . Владелец: TESA SE. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR MANUFACTURING A DROPLET DISCHARGE HEAD

Номер патента: US20120000595A1. Автор: Mase Atsushi,Shimizu Hideki,TANAKA Hidehiko. Владелец: NGK Insulators, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

Device and Method for Fixing a Component in Position on a Component Carrier

Номер патента: US20120000601A1. Автор: Fessler-Knobel Martin,Huttner Roland. Владелец: MTU AERO ENGINES GMBH. Дата публикации: 2012-01-05.

DEVICE AND METHOD FOR STRIPPING A WAFER FROM A CARRIER

Номер патента: US20120000613A1. Автор: Thallner Erich. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

ARRANGEMENT, SYSTEM AND METHOD FOR TREATMENT OF CELLULOSE PULP

Номер патента: US20120000619A1. Автор: ENGELFELDT Andreas,Ernerfeldt Bertil,Lindkvist David. Владелец: METSO PAPER, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR STABILIZATION OF MINE VOIDS USING WASTE MATERIAL AND A BINDING AGENT

Номер патента: US20120000654A1. Автор: Justice Charles Russell. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Acoustically Controlled Subsea Latching and Sealing System and Method for an Oilfield Device

Номер патента: US20120000664A1. Автор: Bailey Thomas F.,Gray Kevin L.,NAS Stephanus Wilhelmus Maria,Anderson Waybourn "Bo" J.. Владелец: WEATHERFORD/LAMB, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

WELL TEMPLATE AND METHOD FOR USE THEREOF

Номер патента: US20120000665A1. Автор: OMVIK Sigvard. Владелец: AKER SUBSEA AS. Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEM AND METHOD FOR PRODUCING HYDROCARBONS FROM A WELL

Номер патента: US20120000668A1. Автор: . Владелец: Chevron U.S.A. INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

DEVICE AND METHOD FOR IMPROVING LIQUID REMOVAL FROM GAS, CONDENSATE & OIL WELLS WHEN USING A MULTI-CHANNEL SYSTEM

Номер патента: US20120000670A1. Автор: Kenworthy Michael W.,Ganelin Boris. Владелец: TECHNOLOGY COMMERCIALIZATION CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

System and Method for Soil Saturation and Digging

Номер патента: US20120000710A1. Автор: Gomez Randy Christopher. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

WEIGHING APPARATUS AND METHOD FOR WEIGHING VEHICLES

Номер патента: US20120000715A1. Автор: Saigh Fathi. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

BIOLOGICAL GRAFT TRANSFERRING INSTRUMENT AND METHOD FOR TRANSFERRING BIOLOGICAL GRAFT

Номер патента: US20120000745A1. Автор: Nozaki Yusuke. Владелец: TERUMO KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

FEEDING APPARATUS AND METHOD FOR A PYROLYTIC REACTOR

Номер патента: US20120000761A1. Автор: Bronshtein Alexander P.,Skop Menachem L.,Weiss Moshe,Jakobowitch David Shalom. Владелец: T.D.E. RECOVERY TECHNOLOGIES LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS FOR SPUTTERING A RESISTIVE TRANSPARENT BUFFER THIN FILM FOR USE IN CADMIUM TELLURIDE BASED PHOTOVOLTAIC DEVICES

Номер патента: US20120000768A1. Автор: . Владелец: PRIMESTAR SOLAR, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

DEVICES AND METHODS FOR FORMING DOUBLE EMULSION DROPLET COMPOSITIONS AND POLYMER PARTICLES

Номер патента: US20120000777A1. Автор: Garrell Robin L.,Tucker-Schwartz Alexander K.,Shepherd Heather,Chatterjee Debalina. Владелец: The Regents of the University of California. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS FOR REDUCING THE RISK OF AN ADVERSE DRONEDARONE / BETA-BLOCKERS INTERACTION IN A PATIENT SUFFERING FROM ATRIAL FIBRILATION

Номер патента: US20120000806A1. Автор: Radzik Davide. Владелец: SANOFI. Дата публикации: 2012-01-05.

Methods for Manufacturing a Vacuum Chamber and Components Thereof, and Improved Vacuum Chambers and Components Thereof

Номер патента: US20120000811A1. Автор: . Владелец: Kurt J. Lesker Company. Дата публикации: 2012-01-05.

System and Method for Casualty Treatment and Evacuation in Response to an Emergency Situation

Номер патента: US20120000813A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

HYDROPROCESSING CATALYSTS AND METHODS FOR MAKING THEREOF

Номер патента: US20120000821A1. Автор: Yang Shuwu,Reynolds Bruce Edward,Chabot Julie,Kou Bo. Владелец: CHEVRON CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS FOR SEPARATING A FEED MATERIAL DERIVED FROM A PROCESS FOR RECOVERING BITUMEN FROM OIL SANDS

Номер патента: US20120000831A1. Автор: Moran Kevin,Doiron Jacques. Владелец: Titanium Corporation Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

NANOPOROUS FILMS AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120000845A1. Автор: Park Han Oh,Kim Jae Ha,JIN Myung Kuk. Владелец: BIONEER CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR DISINFECTING WATER

Номер патента: US20120000862A1. Автор: Belluati Mario,Colombi Giorgio,Danesi Enrico,Donnini Nicola,Petrucci Giuseppe,Rosellini Massimiliano,Giuseppina Peri. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

ELECTRODE WIRE FOR WIRE ELECTRICAL DISCHARGE MACHINING, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND METHOD FOR ELECTRICAL DISCHARGE MACHINING USING THE SAME

Номер патента: US20120000889A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR REPAIRING GAS TURBINE BLADES AND GAS TURBINE BLADE

Номер патента: US20120000890A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

ELECTRICALLY EXTENSIVELY HEATABLE, TRANSPARENT OBJECT, METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF, AND USE THEREOF

Номер патента: US20120000896A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

CONNECTING MATERIAL, METHOD FOR MANUFACTURING CONNECTING MATERIAL AND SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120000965A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method for Pulsed Operation of a Light Barrier, and a Light Barrier

Номер патента: US20120001062A1. Автор: Ottleben Bernd,Ottleben Petra,Mock Bernward. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

System and method for grouping precursor and fragment ions using selected ion chromatograms

Номер патента: US20120001066A1. Автор: Geromanos Scott J.,Silva Jeffrey Cruz,GORENSTEIN Marc Victor,LI Guo-Zhong. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHODS FOR USE IN FLASH DETECTION

Номер патента: US20120001071A1. Автор: SNIDER Robin Terry,MCGEE Jeffrey Dykes,PERRY Michael Dale. Владелец: General Atomics. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR EXTRACTION OR ADDITION OF SUBSTANCES FROM OR TO A BODY OF LIQUID

Номер патента: US20120001112A1. Автор: Alkemade Patrick William,Shellcot Brent. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

FLEXIBLE SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME

Номер патента: US20120001173A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Semiconductor Device and Method for Manufacturing the Same

Номер патента: US20120001180A1. Автор: Yoshizumi Kensuke,YOKOI Tomokazu. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

LAYER HAVING FUNCTIONALITY, METHOD FOR FORMING FLEXIBLE SUBSTRATE HAVING THE SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120001181A1. Автор: AOKI Tomoyuki,Tsurume Takuya. Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

ISOLATION REGION, SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHODS FOR FORMING THE SAME

Номер патента: US20120001198A1. Автор: Zhu Huilong,Yin Haizhou,Luo Zhijiong. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Semiconductor Device and Method for Forming the Same

Номер патента: US20120001229A1. Автор: Zhu Huilong,Liang Qingqing. Владелец: INSTITUTE OF MICROELECTRONICS, CHINESE ACADEMY OF SCIENCES. Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEM AND METHOD FOR INPUT PIN ESD PROTECTION WITH FLOATING AND/OR BIASED POLYSILICON REGIONS

Номер патента: US20120001261A1. Автор: Su Ting Chieh,Jeng Min Chie,Liao Chin Chang,Huang Jun Cheng. Владелец: Semiconductor Manufacturing International (Shanghai) Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS INTEGRATING MICROELECTROMECHANICAL SYSTEM DEVICE WITH CIRCUIT CHIP AND METHODS FOR FABRICATING THE SAME

Номер патента: US20120001276A1. Автор: . Владелец: INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE SENSOR AND METHOD FOR MANUFACTURING AN IMAGE SENSOR

Номер патента: US20120001287A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR PRODUCING SOLID STATE IMAGING DEVICE AND SOLID-STATE IMAGING DEVICE

Номер патента: US20120001292A1. Автор: . Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

Method for manufacturing thin film capacitor and thin film capacitor obtained by the same

Номер патента: US20120001298A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

ANNEALED WAFER, METHOD FOR PRODUCING ANNEALED WAFER AND METHOD FOR FABRICATING DEVICE

Номер патента: US20120001301A1. Автор: Ebara Koji,KIKUCHI Hiroyasu,Hayamizu Yoshinori. Владелец: SHIN-ETSU HANDOTAI CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING OF SAME

Номер патента: US20120001321A1. Автор: IMAMURA Tomomi,Natsuda Tetsuo,Nishijo Yoshinosuke. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME

Номер патента: US20120001331A1. Автор: . Владелец: KABUSHI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

DRYING METHOD FOR CERAMIC GREENWARE

Номер патента: US20120001358A1. Автор: "OBrien James J.",Clark Terence J.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR PRODUCING POLYIMIDE FILM

Номер патента: US20120001367A1. Автор: . Владелец: KANEKA CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR PRODUCING ANISOPTROPIC BULK MATERIALS

Номер патента: US20120001368A1. Автор: Filippov Andrey V.,Milia Charlotte Diane. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method for Producing a Ceramic Filter Element

Номер патента: US20120001371A1. Автор: Linhart Jochen,Lichtenwalter Kathrin,FISCHER KATHRIN,Otterbach Sabine. Владелец: MANN+HUMMEL GMBH. Дата публикации: 2012-01-05.

Fitting for Thick-Walled Pipes and Method for Its Production

Номер патента: US20120001414A1. Автор: . Владелец: VIEGA GMBH & CO. KG. Дата публикации: 2012-01-05.

POWER DISTRIBUTION DEVICE FOR DISTRIBUTING POWER AND A METHOD FOR THE DISTRIBUTION OF POWER

Номер патента: US20120001481A1. Автор: Thiel Sebastian,Koeppen Carsten. Владелец: AIRBUS OPERATIONS GMBH. Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEM AND METHOD FOR CONTROLLING AN ENERGY STORAGE PACK

Номер патента: US20120001483A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Failure Detection System and Method for LED Lighting Equipment

Номер патента: US20120001552A1. Автор: WEN Yung-Chuan,TSAI Kun-Cheng. Владелец: INSTITUTE FOR INFORMATION INDUSTRY. Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEM AND METHOD FOR DETECTING FAULT IN AN AC MACHINE

Номер патента: US20120001580A1. Автор: Lu Bin,Zhang Pinjia,Habetler Thomas G.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

CONTROL APPARATUS AND CONTROL METHOD FOR AC ELECTRIC MOTOR

Номер патента: US20120001581A1. Автор: Maeda Daisuke,Tobari Kazuaki,NOTOHARA Yasuo,SUMITA Satoshi. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SURFACE-MOUNTABLE MAGNETIC FIELD SENSOR HAVING A SEMICONDUCTOR CHIP AND METHOD FOR PRODUCING A CIRCUIT BOARD HAVING A MAGNETIC FIELD SENSOR

Номер патента: US20120001627A1. Автор: STEGER Jürgen,Flock Stefan,Krella Uwe. Владелец: Conti Temic Microeletronic GMBH. Дата публикации: 2012-01-05.

Apparatus, System, and Method for Direct Phase Probing and Mapping of Electromagnetic Signals

Номер патента: US20120001656A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR IMPROVED EDGE TRIGGERING IN A TEST AND MEASUREMENT INSTRUMENT

Номер патента: US20120001657A1. Автор: SULLIVAN Stevens K.,BEALE Terrance R.,VEITH Kristie L.. Владелец: TEKTRONIX, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Systems and Methods for Minimizing Static Leakage of an Integrated Circuit

Номер патента: US20120001684A1. Автор: Caplan Randy J.,Schwake Steven J.. Владелец: MOSAID TECHNOLOGIES INCORPORATED. Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEM AND METHOD FOR EXTENDING VCO OUTPUT VOLTAGE SWING

Номер патента: US20120001699A1. Автор: . Владелец: QUINTIC HOLDINGS. Дата публикации: 2012-01-05.

DUST CORE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120001719A1. Автор: Oshima Yasuo,Handa Susumu,Akaiwa Kota. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEM AND METHOD FOR OPERATING RFID DEVICES ON SINGLE-USE CONNECTORS

Номер патента: US20120001731A1. Автор: . Владелец: GE HEALTHCARE BIOSCIENCE BIOPROCESS CORP.. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR DETECTING RADIATION

Номер патента: US20120001761A1. Автор: Voutilainen Martti,Pasanen Pirjo. Владелец: Nokia Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

INTERACTIVE SYSTEM AND METHOD FOR SENSING MOVEMENT

Номер патента: US20120001766A1. Автор: Van Den Broek Egidius Leon,WESTERINK Joanne Henriëtte Desirée Monique,Bialoskorski Leticia Sofia Susanna. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V.. Дата публикации: 2012-01-05.

COMPUTER BASED SYSTEM AND METHOD FOR PROVIDING A DRIVER ASSIST INFORMATION

Номер патента: US20120001771A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEMS AND METHODS FOR COMPRESSING DATA AND CONTROLLING DATA COMPRESSION IN BOREHOLE COMMUNICATION

Номер патента: US20120001776A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

DEVICE AND METHOD FOR DIGITIZING A SIGNAL

Номер патента: US20120001783A1. Автор: Eklund Jan-Erik,Rosenbaum Linnéa. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method for Estimating an Object Motion Characteristic From a Radar Signal, a Computer System and a Computer Program Product

Номер патента: US20120001787A1. Автор: van Dorp Philip. Владелец: Nederlandse Organisatie voor toegepast- natuurwetenschappelijk onderzoek TNO. Дата публикации: 2012-01-05.

Radar System Having Arrangements and Methods for the Decoupling of Transmitting and Receiving Signals and for the Suppression of Interference Radiation

Номер патента: US20120001791A1. Автор: Wintermantel Markus. Владелец: Conti Temic Microelectronic GmbH. Дата публикации: 2012-01-05.

ELECTRONIC DEVICE CASE HAVING ANTENNA PATTERN EMBEDDED THEREIN, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, MOLD FOR MANUFACTURING ANTENNA PATTERN FRAME, AND ELECTRONIC DEVICE

Номер патента: US20120001807A1. Автор: HONG Ha Ryong,Lee Dae Kyu,An Chan Gwang,Chang Ki Won,Cho Sung Eun,SUNG Jae Suk. Владелец: SAMSUNG ELECTRO-MECHANICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Multiband Antenna and Method for an Antenna to be Capable of Multiband Operation

Номер патента: US20120001815A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

ACTIVE MATRIX SUBSTRATE, METHOD FOR PRODUCING ACTIVE MATRIX SUBSTRATE, LIQUID CRYSTAL PANEL, METHOD FOR PRODUCING LIQUID CRYSTAL PANEL, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE, LIQUID CRYSTAL DISPLAY UNIT, AND TELEVISION RECEIVER

Номер патента: US20120001838A1. Автор: Tsubata Toshihide. Владелец: SHARP KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

Remote Control Systems and Methods for Activating Buttons of Digital Electronic Display Devices

Номер патента: US20120001844A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

System and Method for Virtual Touch Sensing

Номер патента: US20120001845A1. Автор: LEE Chi Ching. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

INTERACTIVE POINTING DEVICE CAPABLE OF SWITCHING CAPTURE RANGES AND METHOD FOR SWITCHING CAPTURE RANGES FOR USE IN INTERACTIVE POINTING DEVICE

Номер патента: US20120001848A1. Автор: CHEN Hsin Chia,HSU En Feng,KAO Ming Tsan,HUANG Chao Chien,Lu Chih Hung,Chien Shih Chi,Lin Cho Yi. Владелец: PIXART IMAGING INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEM AND METHOD FOR DISTINGUISHING INPUT OBJECTS

Номер патента: US20120001855A1. Автор: TRENT,JR. Raymond Alexander,Palsan Carmen. Владелец: SYNAPTICS INCORPORATED. Дата публикации: 2012-01-05.

DETECTION SYSTEM AND METHOD FOR DETECTING MOVEMENTS OF A MOVABLE OBJECT

Номер патента: US20120001860A1. Автор: Phan Le Kim. Владелец: NXP B.V.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR DRIVING LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE

Номер патента: US20120001878A1. Автор: . Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Switchable 3-Dimensional Conversion Device, Method for Manufacturing the Same and Stereoscopic Image Display Device Using the Same

Номер патента: US20120001890A1. Автор: Im Hee-Jin,Kim Chul-Ho,KOOK Yun-Ho,Yoo Soon-Sung. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEM AND METHOD FOR SWITCHING TWO-DIMENSIONAL (2D) AND THREE-DIMENSIONAL (3D) DISPLAY MODES

Номер патента: US20120001899A1. Автор: HONG XU. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR PROVIDING 3D AUGMENTED REALITY

Номер патента: US20120001901A1. Автор: PARK Sun-Hyung. Владелец: Pantech Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

Apparatus and method for bidirectionally inpainting occlusion area based on predicted volume

Номер патента: US20120001902A1. Автор: Lim Hwa Sup,Lee Kee Chang,Lee Seung Kyu,Kim Do Kyoon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEMS AND METHODS FOR DISPLAYING FIXED-SCALE CONTENT ON MOBILE DEVICES

Номер патента: US20120001914A1. Автор: Pan Wayne,HAMOUI Omar. Владелец: GOOGLE INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEM AND METHOD FOR CREATING, MANAGING, SHARING AND DISPLAYING PERSONALIZED FONTS ON A CLIENT-SERVER ARCHITECTURE

Номер патента: US20120001921A1. Автор: Escher Marc,Hoffman Franz. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEMS AND METHODS FOR ASSISTING VISUALLY-IMPAIRED USERS TO VIEW VISUAL CONTENT

Номер патента: US20120001932A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

DEVICE AND METHOD FOR DRIVING LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE

Номер патента: US20120001946A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR DRIVING LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE

Номер патента: US20120001953A1. Автор: Yamazaki Shunpei,Hirakata Yoshiharu. Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE FORMING APPARATUS AND METHOD FOR MAINTAINING HEAD

Номер патента: US20120001976A1. Автор: . Владелец: RICOH COMPANY, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Nozzle plate and method for manufacturing the nozzle plate, and inkjet printer head with the nozzle plate

Номер патента: US20120001986A1. Автор: Kim Young Jae. Владелец: SAMSUNG ELECTRO-MECHANICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR CHANGING A CAMERA CONFIGURATION IN RESPONSE TO SWITCHING BETWEEN MODES OF OPERATION

Номер патента: US20120001999A1. Автор: . Владелец: TANDBERG TELECOM AS. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE DISPLAY APPARATUS AND METHOD FOR OPERATING THE SAME

Номер патента: US20120002024A1. Автор: Sung Jaewon,Jeon Byeongmoon,KIM Dongseok,HWANG Junghwan,CHOI Tacksung,YOON Sungyong,LEE HYUNKOOK. Владелец: LG ELECTRONICS INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR DETECTING A VIEWING APPARATUS

Номер патента: US20120002025A1. Автор: Bedingfield,SR. James Carlton. Владелец: AT&T Intellectual Property I, L. P.. Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEM AND METHOD FOR SWEEPING MIRROR ENHANCED IMAGING FLOW CYTOMETRY

Номер патента: US20120002029A1. Автор: Sieracki Christian K.,Ellis Scott N.,Peterson Kent A.. Владелец: FLUID IMAGING TECHNOLOGIES, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

MICROSCOPE AND METHOD FOR THE MICROSCOPIC DETECTION OF LIGHT OF A SAMPLE

Номер патента: US20120002030A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

MULTI-SPECTRAL SYSTEM AND METHOD FOR GENERATING MULTI-DIMENSIONAL TEMPERATURE DATA

Номер патента: US20120002035A1. Автор: Nirmalan Nirm Velumylum,Li Hejie. Владелец: GENERAL ELECTRIC COMPANY. Дата публикации: 2012-01-05.

System and Method for Ground Material Characterization in a Grinding System

Номер патента: US20120002037A1. Автор: Dübendorfer Urs,Heine Martin,Pierri Dario. Владелец: Buhler AG. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR ACTIVELY TRACKING MULTIPLE MOVING OBJECTS USING A MONITORING CAMERA

Номер патента: US20120002056A1. Автор: HONG Sang-Jin,NAM Yun-Young,CHO Shung-Han,KIM Yang-Weon,CHO We-Duke,HWANG Yong-Hyeon. Владелец: Ajou University Industry-Academic Corporation Foundation. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR ADJUSTING PHOTOSENSITIVENESS OF DIGITAL CAMERA

Номер патента: US20120002081A1. Автор: Chou Chan Min,Lu Tsung Pin. Владелец: ALTEK CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEMS, APPARATUS, AND METHODS FOR DIGITAL IMAGE CAPTURE WITH VARIABLE DENSITY DISPLAY AND HIGH RESOLUTION ELECTRONIC ZOOM

Номер патента: US20120002084A1. Автор: . Владелец: TRUE VISION SYSTEMS, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEM AND METHOD FOR USING PARTIAL INTERPOLATION TO UNDERTAKE 3D GAMMA ADJUSTMENT OF MICRODISPLAY HAVING DYNAMIC IRIS CONTROL

Номер патента: US20120002114A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

DISPLAY DEVICE, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY DEVICE

Номер патента: US20120002128A1. Автор: NAKAGAWA Hidetoshi. Владелец: SHARP KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR DRIVING LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE

Номер патента: US20120002133A1. Автор: Yamazaki Shunpei,KOYAMA Jun,Hirakata Yoshiharu. Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR FABRICATING THE SAME

Номер патента: US20120002142A1. Автор: Fujiwara Sayuri,Satoh Eiji,Asaoka Yasushi,Deguchi Kazuhiro,Tanimoto Kazunori,MATSUDA TAKAFUMI,MIKUMO KATSUHIRO. Владелец: SHARP KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR CUTTING A PATCH TO BE APPLIED ONTO A CURVED SUBSTRATE

Номер патента: US20120002162A1. Автор: Ladous Agnès,Begon Cedric,Allione Pascal,Lavillonniere Nicolas. Владелец: Essilor International (Compagnie Generale D'Optique). Дата публикации: 2012-01-05.

OPTICAL IMAGE ACQUISITION APPARATUS HAVING ADAPTIVE OPTICS AND CONTROL METHOD FOR THE SAME

Номер патента: US20120002165A1. Автор: Saito Kenichi. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISH. Дата публикации: 2012-01-05.

ARRANGEMENT AND A METHOD FOR CONTROLLING A MEASUREMENT HEAD OF AN OPTICAL MEASUREMENT INSTRUMENT

Номер патента: US20120002190A1. Автор: Ojala Markku,Laitinen Jyrki,Isaksson Christer,Sarmaala Jarkko. Владелец: WALLAC OY. Дата публикации: 2012-01-05.

Apparatus, System, and Method for Increasing Measurement Accuracy in a Particle Imaging Device

Номер патента: US20120002194A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Means and Methods for Rapid Droplet, Aerosols and Swab Infection Analysis

Номер патента: US20120002199A1. Автор: Ben-David Moshe,Eruv Tomer,Gannot Gallya. Владелец: OPTICUL DIAGNOSTICS LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Spectral Device and Method for Controlling Same

Номер патента: US20120002201A1. Автор: Ishii Hiroyasu,Sawada Kazuaki,Nakazawa Hirokazu. Владелец: National University Corporation TOYOHASHI UNIVERSITY OF TECHNOLOGY. Дата публикации: 2012-01-05.

Method for Determining an Analyte in a Sample

Номер патента: US20120002207A1. Автор: Lagae Liesbet,De Vlaminck Iwijn,Van Dorpe Pol. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEM AND METHOD FOR ACQUIRING DOCUMENT SERVICES

Номер патента: US20120002241A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

System and Method for Storing and Retrieving Digital Content with Physical File Systems

Номер патента: US20120002244A1. Автор: ROTHSCHILD LEIGH M.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

HOLOGRAM RECORDING MEDIUM AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, HOLOGRAM REPRODUCTION APPARATUS, AND HOLOGRAM REPRODUCTION METHOD

Номер патента: US20120002257A1. Автор: Shirakura Akira,Baba Shigeyuki,Arai Toshiyuki,Higashihara Teruaki. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

DEVICE FOR INCREASING THE SPECTRAL BANDWIDTH OF OPTICAL PULSES AS WELL AS AN ARRANGEMENT AND A METHOD FOR REDUCING THE DURATION OF OPTICAL PULSES WITH THE USE OF SUCH A DEVICE

Номер патента: US20120002269A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

OPTICAL FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, ANTIGLARE FILM, POLARIZER WITH OPTICAL LAYER, AND DISPLAY APPARATUS

Номер патента: US20120002282A1. Автор: Suzuki Ryo,Haga Yumi,Nagahama Tsutomu,Matsumura Shinichi. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

OPTICAL BEAM SPLITTER FOR USE IN AN OPTOELECTRONIC MODULE, AND A METHOD FOR PERFORMING OPTICAL BEAM SPLITTING IN AN OPTOELECTRONIC MODULE

Номер патента: US20120002284A1. Автор: Wen Pengyue,McColloch Laurence R.. Владелец: AVAGO TECHNOLOGIES FIBER IP (SINGAPORE) PTE. LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

OPTICAL ELEMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120002285A1. Автор: Matsuda Manabu. Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

MAGNETIC DISK DRIVE AND REFRESH METHOD FOR THE SAME

Номер патента: US20120002315A1. Автор: Inoue Hiroaki. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR INSPECTION OF MAGNETIC RECORDING MEDIUM, MAGNETIC RECORDING MEDIUM, AND MAGNETIC RECORDING/REPRODUCING DEVICE

Номер патента: US20120002323A1. Автор: Kato Junya,Maruyama Yoshihiko. Владелец: SHOWA DENKO K.K.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method for current conditioning, in particular on a fault current limiter

Номер патента: US20120002336A1. Автор: Usoskin Alexander,Klein Hans-Udo. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SUSPENSION SUBSTRATE, SUSPENSION, HEAD SUSPENSION, HARD DISK DRIVE, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SUSPENSION

Номер патента: US20120002366A1. Автор: OHNUKI Masao,YAMAZAKI Tsuyoshi. Владелец: Dai Nippon Printing Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

DISPLAY DEVICE FOR A VEHICLE AND METHOD FOR PRODUCING THE DISPLAY DEVICE

Номер патента: US20120002442A1. Автор: . Владелец: GM GLOBAL TECHNOLOGY OPERATIONS LLC. Дата публикации: 2012-01-05.

OPERATION METHODS FOR MEMORY CELL AND ARRAY FOR REDUCING PUNCH THROUGH LEAKAGE

Номер патента: US20120002484A1. Автор: Tsai Wen-Jer,HUANG JYUN-SIANG,OU TIEN-FAN,CHONG LIT-HO. Владелец: MACRONIX INTERNATIONAL CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

NONVOLATILE MEMORY APPARATUS AND METHOD FOR PROCESSING CONFIGURATION INFORMATION THEREOF

Номер патента: US20120002486A1. Автор: . Владелец: HYNIX SEMICONDUCTOR INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

NONVOLATILE MEMORY APPARATUS AND METHOD FOR PROCESSING CONFIGURATION INFORMATION THEREOF

Номер патента: US20120002487A1. Автор: . Владелец: HYNIX SEMICONDUCTOR INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Methods for gathering marine geophysical data

Номер патента: US20120002502A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR DETERMINING DIFFERENCE IN DISTANCE

Номер патента: US20120002507A1. Автор: Skjold-Larsen Henning. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Adjusting Method For Recording Condition And Optical Disc Device

Номер патента: US20120002527A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR QOS AUTHORIZATION

Номер патента: US20120002540A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method for Self Organizing Network Operation

Номер патента: US20120002557A1. Автор: Likar Bojan,SEDLAR Urban,MALI Luka,KOS Andrej,STERLE Janez,POSEL Robert,JAVORNIK Tomaz,KANDUS Gorazd,KALAGASIDIS Andreas,BESTER Janez. Владелец: 4G NEURON, D.O.O.. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR DETECTING TRANSMISSION POWER OF TERMINAL HAVING HETEROGENEROUS MODEM CHIPS

Номер патента: US20120002559A1. Автор: KIM Pilsang. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR SELECTING AP IN CONSIDERATION OF NETWORK PERFORMANCE

Номер патента: US20120002560A1. Автор: . Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute. Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEM AND METHOD FOR PROVIDING MOBILITY MANAGEMENT AND OUT-OF-COVERAGE INDICATION IN A CONVENTIONAL LAND MOBILE RADIO SYSTEM

Номер патента: US20120002588A1. Автор: . Владелец: E.F. Johnson Company. Дата публикации: 2012-01-05.

DATA TRANSMISSION METHOD FOR WIRELESS COMMUNICATION SYSTEM INVOLVING RELAY

Номер патента: US20120002591A1. Автор: NOH Tae Gyun,AHN Jae Young,LEE Hee Soo,LEE Kyoung Seok. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR TRANSMITTING CONTROL SIGNAL TO RELAY NODE AT BASE STATION IN MIMO WIRELESS COMMUNICATION SYSTEM AND APPARATUS THEREFOR

Номер патента: US20120002596A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEM FOR DATA COMMUNICATIONS, ROUTER, AND METHOD FOR DATA TRANSMISSION AND MOBILITY MANAGEMENT

Номер патента: US20120002600A1. Автор: ZHANG Gong,He Cheng,Xiang Yanping. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEM AND METHOD FOR SWITCHING MOBILE STATION IDENTIFICATION IN WIRELESS COMMUNICATION SYSTEM

Номер патента: US20120002604A1. Автор: . Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO. LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR COMMUNICATING IN A MIMO NETWORK

Номер патента: US20120002612A1. Автор: Baker Matthew Peter John,Moulsley Timothy James,Tesanovic Milos. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

System and Method for Controlling Communications in an AD HOC Mobile Network

Номер патента: US20120002615A1. Автор: . Владелец: THALES. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR SIGNAL SPACE PARTITION AND ASSIGNMENT AND APPARATUS USING THE SAME

Номер патента: US20120002622A1. Автор: MAHADEVAPPA Ravishankar H.,ULN Kiran,PARE,JR. Thomas E.. Владелец: Ralink Technology (Singapore) Corporation PTE. LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEM AND METHOD FOR HANDOFF BETWEEN DIFFERENT TYPES OF NETWORKS

Номер патента: US20120002638A1. Автор: Huh Jun. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR TRANSMITTING A SIGNAL AND COMMUNICATIONS APPARATUS

Номер патента: US20120002660A1. Автор: Lv Yongxia,HOU Yunzhe,Wan Lei,Ren Xiaotao. Владелец: Huawei Technologies Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

PROVIDING A BUFFERLESS TRANSPORT METHOD FOR MULTI-DIMENSIONAL MESH TOPOLOGY

Номер патента: US20120002675A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEM AND METHOD FOR PROVIDING A SAFETY MECHANISM FOR A LASER-EMITTING DEVICE

Номер патента: US20120002691A1. Автор: TAO XIAO WEI. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

NITRIDE COMPOUND SEMICONDUCTOR ELEMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME

Номер патента: US20120002693A1. Автор: . Владелец: Panasonic Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEMS AND METHODS FOR INDOOR POSITIONING

Номер патента: US20120002702A1. Автор: . Владелец: TENSORCOM INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

VIDEO ENCODER WITH NON-SYNTAX REUSE AND METHOD FOR USE THEREWITH

Номер патента: US20120002719A1. Автор: Wang Limin,Zhao Xu Gang. Владелец: VIXS SYSTEMS, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

VIDEO ENCODER WITH VIDEO DECODER REUSE AND METHOD FOR USE THEREWITH

Номер патента: US20120002720A1. Автор: . Владелец: VIXS SYSTEMS, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEM AND METHOD FOR TRANSCODING BETWEEN SCALABLE AND NON-SCALABLE VIDEO CODECS

Номер патента: US20120002728A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR PERFORMING CONTENT SYNCHRONIZATION FOR DOWNLINK SERVICE DATA IN COLLABORATIVE MIMO AND APPARATUS THEREOF

Номер патента: US20120002741A1. Автор: Wang He,Hu Zhongji,Zhang Bijun. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEM AND METHOD FOR THE COOPERATION AMONG BASE STATIONS

Номер патента: US20120002745A1. Автор: Ko Eun Seok,Kim Eun Yong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method for Encoding Data Symbols with Implicitly Embedded Pilot Symbols in Resource Blocks for Wireless Networks

Номер патента: US20120002753A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

DEMODULATION METHOD FOR MIMO SYSTEMS

Номер патента: US20120002759A1. Автор: Ng Boon Loong,Lin Tao,SIVAHUMARAN Thirukkumaran. Владелец: NEC Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

Wireless Communication Method For Magnetic Field Communication Network and Demodulation Device of Coordinator

Номер патента: US20120002761A1. Автор: Kim Sun-Hee,Won Yun-jae,Lim Seung-ok. Владелец: KOREA ELECTRONICS TECHNOLOGY INSTITUTE. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR DETERMINING INTENSITY OF GAMMA RADIATION EMISSION OF A RADIOELEMENT

Номер патента: US20120002774A1. Автор: Leconte Pierre. Владелец: Commissariat A L'Energie Atomique Et Aux Energies Alternatives. Дата публикации: 2012-01-05.

ASSEMBLY AND METHOD FOR DETECTING AND MEASURING THE FOULING RATEOF FLOW HOLES IN A SECONDARY CIRCUIT OF A PRESSURIZED WATER NUCLEAR REACTOR

Номер патента: US20120002775A1. Автор: . Владелец: AREVA NP. Дата публикации: 2012-01-05.

Method for determining the quantitative composition of a powder sample

Номер патента: US20120002787A1. Автор: Kern Arnt. Владелец: Bruker AXS GmbH. Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEM AND METHOD FOR VOICEMAIL TO TEXT CONVERSION

Номер патента: US20120002794A1. Автор: Zubas Michael,Jackson Jacqueline. Владелец: AT&T Mobility II LLC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Interleaving and deinterleaving method for preventing periodic position interference

Номер патента: US20120002808A1. Автор: Wang Ruixun. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

DEVICE AND METHOD FOR DETECTING MOVEMENT OF OBJECT

Номер патента: US20120002842A1. Автор: MURASHITA Kimitaka,WATANABE Yuri,Fujimura Koichi. Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEMS AND METHODS FOR ONLINE IDENTITY VERIFICATION

Номер патента: US20120002847A1. Автор: Geosimonian Armen. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEM AND METHOD FOR PROCESSING DATA SIGNALS

Номер патента: US20120002854A1. Автор: Hardy Christopher Judson,Khare Kedar Bhalchandra,King Kevin Franklin,Marinelli Luca. Владелец: GENERAL ELECTRIC COMPANY. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR GENERATING DEPTH SIGNAL

Номер патента: US20120002862A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR PERFORMING AUTOMATIC CLASSIFICATION OF IMAGE INFORMATION

Номер патента: US20120002865A1. Автор: . Владелец: CHOROS COGNITION AB. Дата публикации: 2012-01-05.

System and method for detection of multi-view/multi-pose objects

Номер патента: US20120002869A1. Автор: Kumar Rakesh,Han Feng,SAWHNEY HARPREET SINGH,Shan Ying. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR SHIFT INVARIANT DIFFERENTIAL (SID) IMAGE DATA INTERPOLATION IN FULLY POPULATED SHIFT INVARIANT MATRIX

Номер патента: US20120002874A1. Автор: Dosluoglu Taner. Владелец: YOULIZA, GEHTS B.V. LIMITED LIABILITY COMPANY. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR PROVIDING REAL-TIME SERVICE OF HUGE AND HIGH QUALITY DIGITAL IMAGE ON INTERNET

Номер патента: US20120002893A1. Автор: KIM Sung-Min. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEM AND METHOD FOR REDUCING NOISE IN AN IMAGE

Номер патента: US20120002896A1. Автор: Kim Yeong-Taeg,Lertrattanapanich Surapong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

DEVICE AND METHOD FOR SPLICING OPTICAL FIBERS, AND USE OF AN END PIECE IN A DEVICE FOR SPLICING

Номер патента: US20120002929A1. Автор: . Владелец: DIAMOND SA. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR DECODING DATA FOR PROVIDING BROWSABLE SLIDE SHOW, AND DATA STORAGE MEDIUM THEREFOR

Номер патента: US20120002942A1. Автор: . Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR RECORDING AND PLAYING A MEDIA FILE, AND A RECORDING MEDIUM THEREFOR

Номер патента: US20120002947A1. Автор: RHYU Sung-Ryeul,HWANG Seo-Young,SONG Jae-Yeon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEM AND METHOD FOR CHANNEL-ADAPTIVE ERROR-RESILIENT BURST MODE TRANSMISSION

Номер патента: US20120002961A1. Автор: de Lind van Wijngaarden Adriaan J.. Владелец: Alcatel-Lucent USA Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR DATA TRANSMISSION IN AN OPTICAL TRANSPORT NETWORK

Номер патента: US20120002965A1. Автор: Bellato Alberto,Grandi Pietro Vittorio,Gumier Matteo,Belotti Sergio,Trowbridge Stephen John. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEM AND METHODS FOR QUANTUM KEY DISTRIBUTION OVER WDM LINKS

Номер патента: US20120002968A1. Автор: LUO Yuhui,Chan Kam Tai. Владелец: The Chinese University of Hong Kong. Дата публикации: 2012-01-05.

ILLUMINATION DEVICE AND METHOD FOR EMBEDDING DATA SYMBOLS IN A LUMINANCE OUTPUT

Номер патента: US20120002974A1. Автор: Wendt Matthias,Radermacher Harald Josef Günther,SCHENK Tim Corneel Wilhelmus,Kuppen Johan Wilhelmus Hermanus. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V.. Дата публикации: 2012-01-05.

FILLET WELD JOINT AND METHOD FOR GAS SHIELDED ARC WELDING

Номер патента: US20120003035A1. Автор: Suzuki Reiichi,Kinefuchi Masao,KASAI RYU. Владелец: Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho (Kobe Steel, Ltd.). Дата публикации: 2012-01-05.

DEVICES AND METHOD FOR EQUIPMENT FOUNDATION IN THE SEA BED

Номер патента: US20120003048A1. Автор: Hosøy Øyvind,Lien Eldar. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

TAP WITH DRILL AND METHOD FOR CUTTING INTERNAL THREAD

Номер патента: US20120003054A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

MACHINE TOOL AND METHOD FOR PRODUCING GEARING

Номер патента: US20120003058A1. Автор: Hummel Erhard,Hutter Wolfgang. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

LOADLOCK DESIGNS AND METHODS FOR USING SAME

Номер патента: US20120003063A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

CASTING METHOD FOR MANUFACTURING A WORK PIECE

Номер патента: US20120003101A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR MANUFACTURING POWER STORAGE DEVICE

Номер патента: US20120003139A1. Автор: Kawakami Takahiro,Miwa Takuya. Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR IMPROVING GYPSUM/PHOSPHORIC ACID SLURRY FILTRATION USING CARBOXYMETHYL CELLULOSE

Номер патента: US20120003140A1. Автор: Irwin Louis. Владелец: ARR-MAZ CUSTOM CHEMICALS, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR EARLY IMAGING OF ATHEROSCLEROSIS

Номер патента: US20120003151A1. Автор: . Владелец: PURDUE RESEARCH FOUNDATION. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR DEDIFFERENTIATING ADIPOSE TISSUE STROMAL CELLS

Номер патента: US20120003186A1. Автор: . Владелец: SNU R&DB FOUNDATION. Дата публикации: 2012-01-05.

VALPROIC ACID, DERIVATIVES, ANALOGUES, AND COMPOSITIONS INCLUDING SAME AND METHODS FOR THEIR THERAPEUTIC USE

Номер патента: US20120003191A1. Автор: Burkin Dean J.,Gurpur Praveen B.,Kaufman Stephen J.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Compositions and Methods for Treating S. Pneumoniae Infection

Номер патента: US20120003203A1. Автор: Mizrachi-Nebenzahl Yaffa,Dagan Ron. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

COMPOSITIONS AND METHODS FOR MODULATING VASCULAR DEVELOPMENT

Номер патента: US20120003208A1. Автор: Ye Weilan,Parker,Schmidt Maike,Filvaroff Ellen,IV Leon H.,Hongo Jo-Anne S.. Владелец: Genentech, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS FOR TREATING OR PREVENTING IL-1BETA RELATED DISEASES

Номер патента: US20120003226A1. Автор: Scannon Patrick J.,Solinger Alan M.,Bauer Robert J.. Владелец: XOMA TECHNOLOGY LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS FOR PREDICTING AUTOIMMUNE DISEASE RISK

Номер патента: US20120003228A1. Автор: Smith Ken,Lyons Paul,McKinney Eoin. Владелец: Cambridge Enterprise Limited. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS FOR APCDD1 MEDIATED REGULATION OF HAIR GROWTH AND PIGMENTATION AND MUTANTS THEREOF

Номер патента: US20120003244A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Novel composition and methods for the treatment of psoriasis

Номер патента: US20120003246A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Compositions and Methods for the Treatment of Ophthalmic Disease

Номер патента: US20120003275A1. Автор: Donello John E.,Schweighoffer Fabien J.,Rodrigues Gerard A.,McLaughlin Anne P.,Mahé Florence. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

COSMETIC METHOD FOR TREATING HUMAN PERSPIRATION USING PARTICLES OF AN EXPANDED AMORPHOUS MINERAL MATERIAL; COMPOSITIONS

Номер патента: US20120003284A1. Автор: JALENQUES Xavier,Arnaud Laurence,Ribery Delphine,Cassier Matthieu,Refregier Jean-Louis. Владелец: L'OREAL. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR MANUFACTURING CAPSULE SERIES, AND RELATED CAPSULE SERIES

Номер патента: US20120003285A1. Автор: Bibette Jérôme,Chu Liang-yin,Santanach Carreras Enric,Royere Audrey,Bremond Nicolas. Владелец: CAPSUM. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR REDUCING PAIN

Номер патента: US20120003290A1. Автор: Ellis David J.,Miljanich George P.,Shields David E.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

COMPOSITIONS AND METHODS FOR TREATING LYMPHOMA

Номер патента: US20120003297A1. Автор: Goldie James H.,SARRIS Andreas,CABANILLAS Fernando,LOGAN Patricia M.,BURGE Clive T.R.,WEBB Murray S.. Владелец: Talon Therapeutics, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS FOR INDUCING AN IMMUNE RESPONSE

Номер патента: US20120003298A1. Автор: Maj Roberto,Pattarino Franco,Mura Emanuela,Barberis Alcide. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

TISSUE MARKINGS AND METHODS FOR REVERSIBLY MARKING TISSUE EMPLOYING THE SAME

Номер патента: US20120003301A1. Автор: Agrawal Satish,Boggs Roger. Владелец: PERFORMANCE INDICATOR LLC. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR CONTROLLED RELEASE OF AN ACID-UNSTABLE PHYSIOLOGICALLY ACTIVE SUBSTANCE

Номер патента: US20120003311A9. Автор: Mizuno Mitsuru,Aoki Shigeru,Yoshitake Takashi,Moroshima Kenji. Владелец: Eisai R&D Management Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

Compositions and Methods for Stimulation MAGP-1 to Improve the Appearance of Skin

Номер патента: US20120003332A1. Автор: Lyga John W.,Zheng Qian,Chen Siming W.,Santhanam Uma. Владелец: AVON PRODUCTS, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

COMPOSITIONS AND METHODS FOR CONTROLLING BLOOD GLUCOSE LEVELS

Номер патента: US20120003339A1. Автор: MINACAPELLI Pompeo. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR PRODUCING A SOLUBLE COCOA PRODUCT FROM COCOA POWDER

Номер патента: US20120003355A1. Автор: . Владелец: BARRY CALLEBAUT AG. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR SELECTING AND ARRANGING PROGRAM REPRESENTATIVES AND A COOKING DEVICE THEREFOR

Номер патента: US20120003364A1. Автор: Kling Judith,Greiner Michael,Wiedemann Peter,Juergens-Heinersdorff Andre,Seemueller Simon,Klimm Karin. Владелец: Rational AG. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR PRODUCING AMORPHOUS METAL ORGANIC MACROMOLECULES, MATERIAL OBTAINED BY SAID METHOD, AND USE THEREOF

Номер патента: US20120003386A1. Автор: . Владелец: FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V.. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR ATOMIC LAYER DEPOSITION

Номер патента: US20120003396A1. Автор: . Владелец: Nederlandse Organisatie voor toegepast-natuurweten schappelijk onderzoek TNO. Дата публикации: 2012-01-05.

LAMINATE OPTICAL BODY, OPTICAL FILM, LIQUID CRYSTAL DISPLAY APPARATUS USING SAID OPTICAL FILM, AND METHOD FOR PRODUCING LAMINATE OPTICAL BODY

Номер патента: US20120003400A1. Автор: Takeda Kentarou,Kitagawa Takeharu,Nishimura Akinori,Inagaki Junichi,Yaginuma Hironori,YOSHIMI Hiroyuki,Kinoshita Ryoji. Владелец: NITTO DENKO CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

BELTS FOR ELECTROSTATOGRAPHIC APPARATUS AND METHODS FOR MAKING THE SAME

Номер патента: US20120003415A1. Автор: FROMM Paul M.. Владелец: XEROX CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

DECORATION DEVICE AND METHOD FOR FABRICATING DECORATION DEVICE

Номер патента: US20120003426A1. Автор: . Владелец: SIPIX CHEMICAL INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

DECORATION FILM, DECORATION DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING DECORATION DEVICE

Номер патента: US20120003433A1. Автор: . Владелец: SIPIX CHEMICAL INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

DECORATION FILM, DECORATION DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING DECORATION DEVICE

Номер патента: US20120003441A1. Автор: CHEN CHIA-FU. Владелец: SIPIX CHEMICAL INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

NITRIDE CRYSTAL AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME

Номер патента: US20120003446A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

FLAME-RETARDANT POLY LACTIC ACID-CONTAINING FILM OR SHEET, AND METHOD FOR MANUFACTURING THEREOF

Номер патента: US20120003459A1. Автор: . Владелец: NITTO DENKO CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

Stretched Thermoplastic Resin for Gluing Metal Parts to Plastics, Glass and Metals, and Method for the Production Thereof

Номер патента: US20120003468A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR REDUCING VOLATILE ORGANIC COMPOUNDS IN COMPOSITE RESIN PARTICLES, AND COMPOSITE RESIN PARTICLES

Номер патента: US20120003478A1. Автор: . Владелец: SEKISUI PLASTICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Organometallic films, methods for applying organometallic films to substrates and substrates coated with such films

Номер патента: US20120003481A1. Автор: Hanson Eric L.. Владелец: Aculon, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

HOLLOW MEMBER AND AN APPARATUS AND METHOD FOR ITS MANUFACTURE

Номер патента: US20120003496A1. Автор: Tomizawa Atsushi,Kubota Hiroaki. Владелец: Sumitomo Metal Industries, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

ELECTRODE MATERIAL AND METHOD FOR FORMING ELECTRODE MATERIAL

Номер патента: US20120003529A1. Автор: . Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

ENERGY STORAGE DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120003535A1. Автор: Yamazaki Shunpei. Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR MANUFACTURING ULTRA SMALL PARTICLE, POSITIVE ELECTRODE ACTIVE MATERIAL OF SECOND BATTERY USING THE METHOD FOR MANUFACTURING ULTRA SMALL PARTICLE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND SECONDARY BATTERY USING THE POSITIVE ELECTRODE ACTIVE MATERIAL AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120003539A1. Автор: MIKAMI Mayumi,Nara Koji. Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

ELECTRODE STRUCTURE, CAPACITOR, BATTERY, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRODE STRUCTURE

Номер патента: US20120003544A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRODE HAVING POROUS COATING LAYER, ELECTRODE MANUFACTURED THEREFROM, AND ELECTROCHEMICAL DEVICE COMPRISING THE SAME

Номер патента: US20120003545A1. Автор: Kim Jong-Hun,LEE Joo Sung,Hong Jang-Hyuk,Yoon Su-Jin,PARK Pil-kyu,Shin Byoung-Jin,Cho Byeong-Gyu,Jin Sun-Mi,Kim In-Chul. Владелец: LG CHEM, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR IMPROVING THE EFFICIENCY AND DURABILITY OF ELECTRICAL ENERGY STORAGE USING SOLID OXIDE ELECTROLYSIS CELL

Номер патента: US20120003552A1. Автор: Wilson James R.,Barnett Scott A.,Blerschank David M.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method for Anti-Corrosion Treatment

Номер патента: US20120003598A1. Автор: . Владелец: TESA SE. Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEM AND METHOD FOR ADJUSTING TIDAL VOLUME OF A SELF-VENTILATION SUBJECT

Номер патента: US20120003620A1. Автор: . Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR INTERACTIVE LEARNING AND TRAINING

Номер патента: US20120003622A1. Автор: . Владелец: DRANE ASSOCIATES, LP. Дата публикации: 2012-01-05.

Methods for Diagnosing Pervasive Development Disorders, Dysautonomia and Other Neurological Conditions

Номер патента: US20120003628A1. Автор: Fallon Joan M.. Владелец: Curemark LLC. Дата публикации: 2012-01-05.

MEANS AND METHODS FOR INVESTIGATING NUCLEIC ACID SEQUENCES

Номер патента: US20120003633A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

OLIGONUCLEOTIDES AND METHODS FOR DETERMINING SUSCEPTIBILITY TO SOFT TISSUE INJURIES

Номер патента: US20120003642A1. Автор: Collins Malcolm Robert,Schwellnus Martin Peter,Raleigh Stuart Martin,Ribbans William J.,Smith Roger K. W.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS FOR ASSESSING RISK OF ALZHEIMER'S DISEASE IN A PATIENT

Номер патента: US20120003649A1. Автор: Atwood Craig S.. Владелец: WISCONSIN ALUMNI RESEARCH FOUNDATION. Дата публикации: 2012-01-05.

COMPOSITIONS AND METHODS FOR DETECTING MUTATIONS IN JAK2 NUCLEIC ACID

Номер патента: US20120003653A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR EVALUATING PRE-TREATMENT

Номер патента: US20120003664A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS FOR ANTIBODY ENGINEERING

Номер патента: US20120003671A1. Автор: Yu Guo-Liang,Couto Fernando Jose Rebelo do,Hendricks Kristin B.,Wallace S. Ellen. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IN VITRO-METHOD FOR THE DIAGNOSIS, PROGNOSIS, MONITORING AND THERAPY FOLLOW-UP OF DISORDERS ASSOCIATED WITH THE METABOLIC SYNDROME, A CARDIOVASCULAR DISEASE AND/OR INSULIN RESISTANCE

Номер патента: US20120003672A1. Автор: Bergmann Andreas. Владелец: B.R.A.H.M.S GmbH. Дата публикации: 2012-01-05.

Method for Preparing Small Volume Reaction Containers

Номер патента: US20120003675A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SENSOR MODULE, TISSUE PROCESSOR, AND METHOD FOR OPERATING A TISSUE PROCESSOR

Номер патента: US20120003679A1. Автор: HABERKORN Claus. Владелец: LEICA BIOSYSTEMS NUSSLOCH GMBH. Дата публикации: 2012-01-05.

EX VIVO METHOD FOR DETERMINING POTENTIAL GLP-2 RECEPTOR MODULATIONS

Номер патента: US20120003681A1. Автор: . Владелец: NPS PHARMACEUTICALS, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS FOR COUNTING CELLS

Номер патента: US20120003687A1. Автор: Liu Yi-Shao,Toner Mehmet,Bashir Rashid,Cheng Xuanhong,Irimia Daniel,Zamir Lee,Demirci Utkan,Rodriguez William R.,Yang Liju. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

COMPOSITIONS AND METHODS FOR USING NADH OXIDASES

Номер патента: US20120003688A1. Автор: Bommarius Bettina,Bommarius Andreas,Hirano Jun-Ichiro,Thangavel Vaijayanthi,Park Jonathan Taejoo. Владелец: GEORGIA TECH RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR PRODUCING ALPHA-L-ASPARTYL-L-PHENYLALANINE-BETA-ESTER AND METHOD FOR PRODUCING ALPHA-L-ASPARTYL-L-PHENYLALANINE-ALPHA-METHYL ESTER

Номер патента: US20120003692A1. Автор: . Владелец: AJINOMOTO CO., INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

DIAGNOSTIC METHODS FOR DISEASES BY SCREENING FOR HEPCIDIN IN HUMAN OR ANIMAL TISSUES, BLOOD OR BODY FLUIDS, MONOCLONAL ANTIBODIES SPECIFIC TO HUMAN HEPCIDIN AND ASSOCIATED USES THEREFOR

Номер патента: US20120003696A1. Автор: . Владелец: DRG INTERNATIONAL, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR PREPARING A SITE-SPECIFIC PHYSIOLOGICALLY ACTIVE POLYPEPTIDE CONJUGATE

Номер патента: US20120003712A1. Автор: . Владелец: HANMI HOLDINGS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Polymerase Enhancing Factor (PEF) Extracts PEF Protein Complexes Isolated PEF Proteins and Methods for Purifying and Identifying

Номер патента: US20120003713A1. Автор: . Владелец: AGILENT TECHNOLOGIES, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR PRODUCING LIPASE, TRANSFORMED YARROWIA LIPOLYTICA CELL CAPABLE OF PRODUCING SAID LIPASE AND THEIR USES

Номер патента: US20120003716A1. Автор: Leblond Yves,Mouz Nicolas,Marty Alain,Uribelarrea Jean-Louis. Владелец: LABORATOIRES MAYOLY SPINDLER. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR MAKING LACTIC ACID BACTERIA COMPOSITION

Номер патента: US20120003721A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

ANALYZER AND METHOD FOR WASHING DISPENSER PROBE

Номер патента: US20120003731A1. Автор: . Владелец: Beckman Coulter, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

Methods for Improving Viability and Productivity in Cell Culture

Номер патента: US20120003735A1. Автор: Dorai Haimanti,Ly Celia,Sauerwald McClain Tina M.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS FOR CULTURING UNDIFFERENTIATED CELLS USING SUSTAINED RELEASE COMPOSITIONS

Номер патента: US20120003736A1. Автор: . Владелец: REGENERATIVE RESEARCH FOUNDATION. Дата публикации: 2012-01-05.

Method For Amplification And Functional Enhancment Of Blood Derived Progenitor Cells Using A Closed Culture System

Номер патента: US20120003738A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

NUCLEIC ACID MOLECULE CAPABLE OF BINDING TO 2,4,6-TRINITROPHENYL SKELETON, METHOD FOR DETECTING COMPOUND HAVING 2,4,6-TRINITROPHENYL SKELETON USING THE NUCLEIC ACID MOLECULE, AND USE OF THE NUCLEIC ACID MOLECULE

Номер патента: US20120003749A1. Автор: . Владелец: NEC SOFT, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

CHEMILUMINESCENT COMPOSITIONS, ENHANCING REAGENTS FOR CHEMILUMINESCENCE AND METHODS FOR THE PREPARATION AND USE THEREOF

Номер патента: US20120003753A1. Автор: ZHANG Yuping,Qian Chungen. Владелец: SHENZHEN MINDRAY BIO-MEDICAL ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

OPTICAL MODULATOR AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME

Номер патента: US20120003767A1. Автор: . Владелец: NEC Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR FORMING EPITAXIAL WAFER AND METHOD FOR FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120003770A1. Автор: Fujiwara Shinsuke,Akita Katsushi,Nakahata Hideaki,MOTOKI Kensaku,Hashimoto Shin. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method for Producing Thermoelectric Module

Номер патента: US20120003771A1. Автор: Uchiyama Naoki,Nishio Toshiyuki,Kubo Kazuya,Mikami Masashi,Kobayashi Keizo. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE SENSOR AND MANUFACTURING METHOD FOR SAME

Номер патента: US20120003776A1. Автор: Park Sang Hyuk. Владелец: Intellectual Ventures II LLC. Дата публикации: 2012-01-05.

MANUFACTURING METHOD FOR SOLID-STATE IMAGING DEVICE

Номер патента: US20120003778A1. Автор: OOTAKE Hajime. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR FORMING IMAGE SENSOR WITH SHIELD STRUCTURES

Номер патента: US20120003782A1. Автор: Byun Jeong Soo,Korobov Vladimir,Pohland Oliver. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.