Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

Multilayer extreme ultraviolet reflectors

Номер патента: WO2022266057A1
Опубликовано: 22-12-2022
Автор(ы): Herng Yau Yoong, Vibhu Jindal, Wen Xiao
Принадлежит: Applied Materials, Inc.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Multilayer extreme ultraviolet reflectors

Номер патента: US11762278B2. Автор: Wen Xiao,Vibhu Jindal,Herng Yau Yoong. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-19.

Extreme ultraviolet mask absorber materials

Номер патента: WO2020236886A1. Автор: Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-11-26.

Multilayer extreme ultraviolet reflectors

Номер патента: WO2023038840A1. Автор: Wen Xiao,Vibhu Jindal,Herng Yau Yoong. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-03-16.

Multilayer extreme ultraviolet reflectors

Номер патента: US11782337B2. Автор: Wen Xiao,Vibhu Jindal,Herng Yau Yoong. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-10.

Extreme ultraviolet lithography process

Номер патента: US09760015B2. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-09-12.

Extreme ultraviolet lithography process

Номер патента: US09442387B2. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-09-13.

An extreme ultraviolet lithography process

Номер патента: KR101485669B1. Автор: 옌-쳉 루,쉰-쉥 유,앤소니 옌. Владелец: 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드. Дата публикации: 2015-01-22.

Wave-front aberration metrology of extreme ultraviolet mask inspection systems

Номер патента: EP3973355A1. Автор: Rui-Fang Shi,Qiang Zhang,Dmitriy ZUSIN. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2022-03-30.

Extreme ultraviolet lithography mask blank and manufacturing method therefor

Номер патента: US6117597A. Автор: Kathleen R. Early. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2000-09-12.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2033907A. Автор: UEDA Atsushi,KOGE Koichiro. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-08-25.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2029171A. Автор: UENO Yoshifumi,YABU Takayuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-06-01.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20220110205A1. Автор: Yoshifumi Ueno,Takayuki Yabu. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-04-07.

Extreme ultraviolet mask absorber and processes for manufacture

Номер патента: WO2020132391A1. Автор: Wen Xiao,CHANG Ke,Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-06-25.

Extreme Ultraviolet Mask Blank Defect Reduction

Номер патента: US20200012183A1. Автор: Jindal Vibhu,CHANG Ke,Liu Shuwei,Abhinand Sai,Fong Hui Ni Grace. Владелец: . Дата публикации: 2020-01-09.

System and method for monitoring and controlling extreme ultraviolet photolithography processes

Номер патента: US12085860B2. Автор: Heng-Hsin Liu,Tai-Yu Chen,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210235571A1. Автор: Shinji Nagai,Atsushi Ueda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-07-29.

Extreme ultraviolet light condenser mirror, extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2026306A. Автор: TOIDA Tomoyoshi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-07-07.

Extreme ultraviolet light generating apparatus

Номер патента: US20180224747A1. Автор: Yoshifumi Ueno. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-08-09.

Apparatus for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US09635749B2. Автор: Sung-Joo Kim,Jin-Seok Heo,Jae-Pil Lee,Do-Hyun Seo,Da-Hae Lee,Sung-Jo Hwang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-04-25.

Extreme ultraviolet light generation chamber device and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240160107A1. Автор: Yoshiyuki Honda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-05-16.

Extreme ultraviolet light condenser mirror, extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2026306B1. Автор: TOIDA Tomoyoshi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-03-04.

Extreme ultraviolet light generation chamber device and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2035896A. Автор: Honda Yoshiyuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-05-28.

MIRROR FOR EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATING APPARATUS

Номер патента: US20200209755A1. Автор: Wakabayashi Osamu,Honda Yoshiyuki. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2020-07-02.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATING APPARATUS, METHOD OF GENERATING EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT, CONCENTRATED PULSED LASER LIGHT BEAM MEASURING APPARATUS, AND METHOD OF MEASURING CONCENTRATED PULSED LASER LIGHT BEAM

Номер патента: US20150351211A1. Автор: Wakabayashi Osamu,MIZOGUCHI Hakaru,KAWASUJI Yasufumi. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2015-12-03.

Extreme ultraviolet light generating apparatus, method of generating extreme ultraviolet light, concentrated pulsed laser light beam measuring apparatus, and method of measuring concentrated pulsed laser light beam

Номер патента: US9510434B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Hakaru Mizoguchi,Yasufumi Kawasuji. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2016-11-29.

Extreme ultraviolet light generating device

Номер патента: US20180224746A1. Автор: Takayuki Yabu. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-08-09.

Extreme ultraviolet light generating apparatus

Номер патента: US20180240562A1. Автор: Tamotsu Abe,Takayuki Yabu,Tooru Abe,Kenichi Miyao. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-08-23.

Mount, extreme ultraviolet light generation system, and device manufacturing method

Номер патента: US20200363733A1. Автор: Toshihiro Nishisaka. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-11-19.

Extreme ultraviolet light concentrating mirror and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2027952A. Автор: Honda Yoshiyuki,Morita Masayuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-02-17.

Spectral filter for splitting a beam with electromagnetic radiation having wavelengths in the extreme ultraviolet (euv) or soft x-ray (soft x) and the infrared (ir) wavelength range

Номер патента: WO2012023853A1. Автор: Frederik Bijkerk,Frederik Albert Van Goor,Robert Van Der Meer,Antonius Johannes Ronald Van Den Boogaard. Владелец: UNIVERSITEIT TWENTE. Дата публикации: 2012-02-23.

Process for producing a reflective optical element for the extreme ultraviolet wavelength range and reflective optical element

Номер патента: EP4308981A1. Автор: Thomas Schicketanz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-01-24.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2029356A. Автор: UEDA Atsushi,KOGE Koichiro,OSANAI Takayuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-06-27.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2029356B1. Автор: UEDA Atsushi,KOGE Koichiro,OSANAI Takayuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-09-11.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20220146943A1. Автор: Atsushi Ueda,Koichiro KOGE,Takayuki OSANAI. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-05-12.

Process for producing a reflective optical element for the extreme ultraviolet wavelength range and reflective optical element

Номер патента: US20230417961A1. Автор: Thomas Schicketanz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-12-28.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US11924955B2. Автор: Yoshiyuki Honda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-03-05.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2033425B1. Автор: Honda Yoshiyuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-09-11.

Extreme ultraviolet light concentrating mirror and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2027952B1. Автор: Honda Yoshiyuki,Morita Masayuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-05-25.

Extreme ultraviolet light concentrating mirror and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210407700A1. Автор: Yoshiyuki Honda,Masayuki Morita. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-12-30.

Mirror, mirror device, laser apparatus, and extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: WO2012046133A2. Автор: Osamu Wakabayashi,Hidenobu Kameda. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2012-04-12.

Mirror, mirror device, laser apparatus, and extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: EP2625559A2. Автор: Osamu Wakabayashi,Hidenobu Kameda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2013-08-14.

Chamber device, extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210289611A1. Автор: Atsushi Ueda,Koichiro KOGE,Takayuki OSANAI. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-09-16.

Superconductor-based modulator for extreme ultraviolet (EUV)

Номер патента: US20070076283A1. Автор: David Williams,Michael Goldstein. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2007-04-05.

Target debris collection device and extreme ultraviolet light source apparatus including the same

Номер патента: US11852984B2. Автор: Minseok Choi,Ho Yu,SungHyup KIM,Jeonggil KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-12-26.

Optical collector collecting extreme ultraviolet radiation, method for operating such an optical collector, and euv source with such a collector

Номер патента: US20130003167A1. Автор: Franz Dieterich,Reza Abhari,Andrea Giovannini,Vipluv Aga. Владелец: Eidgenoessische Technische Hochschule Zurich ETHZ. Дата публикации: 2013-01-03.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION DEVICE

Номер патента: US20200033739A1. Автор: HORI Tsukasa,HOSODA Hirokazu. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2020-01-30.

TARGET DEBRIS COLLECTION DEVICE AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE APPARATUS INCLUDING THE SAME

Номер патента: US20210059035A1. Автор: Choi Minseok,YU Ho,KIM SUNGHYUP,Kim Jeonggil. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2021-02-25.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS

Номер патента: US20170055336A1. Автор: Wakabayashi Osamu,NAGAI Shinji,ABE Tamotsu,NAGANO Hitoshi. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2017-02-23.

EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION SOURCE

Номер патента: US20200057181A1. Автор: Lin Sheng-Ta,CHEN Li-Jui,YANG Chi,CHIEN Shang-Chieh,CHENG Po-Chung,CHUNG Jen-Yang. Владелец: . Дата публикации: 2020-02-20.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS

Номер патента: US20170064800A1. Автор: Wakabayashi Osamu,NAGAI Shinji,ABE Tamotsu,NAGANO Hitoshi. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2017-03-02.

Thermally stable multilayer mirror for extreme ultraviolet spectral range

Номер патента: RU2410732C2. Автор: Норберт КАЙЗЕР,Николя БЕНУА,Торстен ФАЙГЛЬ,Сергий ЮЛИН. Владелец: Фраунхофер-Гезелльшафт Цур Фердерунг Дер Ангевандтен Форшунг Е.Ф.. Дата публикации: 2011-01-27.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US09942973B2. Автор: Takashi Saito,Yoshifumi Ueno,Tamotsu Abe,Hirokazu HOSODA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-04-10.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US20170215267A1. Автор: Takashi Saito,Yoshifumi Ueno,Tamotsu Abe,Hirokazu HOSODA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-07-27.

Extreme ultraviolet light generation device

Номер патента: US09872372B2. Автор: Yoshifumi Ueno,Shinji Nagai,Tamotsu Abe,Atsushi Ueda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-01-16.

Extreme ultraviolet light condensation mirror, extreme ultraviolet light condensation mirror manufacturing method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210193344A1. Автор: Masahiko Ando. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-06-24.

Extreme ultraviolet light condenser mirror, extreme ultraviolet light condenser mirror manufacturing method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2026727A. Автор: ANDO Masahiko. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-08-11.

Extreme ultraviolet light source device

Номер патента: US20240121877A1. Автор: Injae Lee,SungHyup KIM,Daegeun YOON,Yebin Nam. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-11.

Coatings for extreme ultraviolet and soft x-ray optics

Номер патента: US20170003419A1. Автор: Supriya JAISWAL. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-01-05.

Extreme ultraviolet chamber apparatus, extreme ultraviolet light generation system, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20200312479A1. Автор: Atsushi Ueda,Georg Soumagne,Gota Niimi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-10-01.

Extreme ultraviolet chamber apparatus, extreme ultraviolet light generation system, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: NL2025184B1. Автор: UEDA Atsushi,NIIMI Gota,SAUMAGNE Georg. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-12-11.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US20200077501A1. Автор: Yoshiyuki Honda,Shinji Nagai,Hiroaki Tomuro. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-03-05.

Extreme ultraviolet light condensation mirror, extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US11409027B2. Автор: Masayuki Morita. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-08-09.

Extreme ultraviolet light condenser mirror, extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2026305B1. Автор: Morita Masayuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-02-21.

Extreme ultraviolet light condenser mirror, extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2026305A. Автор: Morita Masayuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-05-31.

Extreme ultraviolet light condensation mirror, extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210109262A1. Автор: Masayuki Morita. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-04-15.

Extreme ultraviolet light condenser mirror, extreme ultraviolet light condenser mirror manufacturing method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2026727B1. Автор: ANDO Masahiko. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-09-29.

Extreme ultraviolet capping layer and method of manufacturing and lithography thereof

Номер патента: US09739913B2. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Cara Beasley,Rudy Beckstrom, III. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-08-22.

Target material supply apparatus for an extreme ultraviolet light source

Номер патента: US09632418B2. Автор: Norbert Bowering,Georgiy O. Vaschenko,Peter Baumgart,Silvia De Dea. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-04-25.

Apparatus and system for generating extreme ultraviolet light and method of using the same

Номер патента: US09544985B2. Автор: Jin-Hong Park,Jin-Seok Heo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-01-10.

Target material supply apparatus for an extreme ultraviolet light source

Номер патента: US09392678B2. Автор: Norbert Bowering,Georgiy O. Vaschenko,Peter Baumgart,Silvia De Dea. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-07-12.

Collector mirror assembly and extreme ultraviolet light source device using said collector mirror assembly

Номер патента: US9029815B2. Автор: Hiroto Sato. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2015-05-12.

Extreme ultraviolet chamber apparatus, extreme ultraviolet light generation system, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: NL2025184A. Автор: UEDA Atsushi,NIIMI Gota,SAUMAGNE Georg. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-10-06.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US10820400B2. Автор: Yoshiyuki Honda,Shinji Nagai,Hiroaki Tomuro. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-10-27.

Extreme ultraviolet mask blank defect reduction methods

Номер патента: WO2021081291A1. Автор: Wen Xiao,SHIYU Liu,Sanjay Bhat,Vibhu Jindal,Azeddine Zerrade,Binni VARGHESE. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-04-29.

Extreme ultraviolet capping layer and method of manufacturing and lithography thereof

Номер патента: MY182792A. Автор: Ralf Hofmann,Cara Beasley,Majeed A Foad,Iii Rudy Beckstrom. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-02-05.

Extreme Ultraviolet Mask Blank Defect Reduction

Номер патента: US20200012183A1. Автор: KE CHANG,Vibhu Jindal,Shuwei Liu,Sai Abhinand,Hui Ni Grace Fong. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-01-09.

Extreme ultraviolet capping layer and method of manufacturing and lithography thereof

Номер патента: EP3167472A1. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Cara Beasley,Rudy BECKSTROM III. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-05-17.

Extreme ultraviolet capping layer and method of manufacturing and lithography thereof

Номер патента: WO2016007394A1. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Cara Beasley,Rudy BECKSTROM III. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2016-01-14.

Apparatus and method for generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: US20200075190A1. Автор: Li-Jui Chen,Chun-Lin Chang,Han-Lung Chang,Ting-Ya CHENG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-03-05.

Multilayer extreme ultraviolet reflector materials

Номер патента: US11815803B2. Автор: Wen Xiao,Vibhu Jindal,Binni VARGHESE. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-14.

Extreme ultraviolet lithography method, extreme ultraviolet mask and formation method thereof

Номер патента: US12072633B2. Автор: BO-TSUN Liu,Chih-Tsung Shih,Yu-Hsun Wu,Tsung-Chuan LEE. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

Mask for extreme ultraviolet photolithography

Номер патента: US20210341829A1. Автор: Hsin-Chang Lee,Ta-Cheng Lien,Wen-Chang Hsueh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-11-04.

Extreme ultraviolet mask blank with multilayer absorber and method of manufacture

Номер патента: US11754917B2. Автор: Vibhu Jindal. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-12.

Extreme ultraviolet lithography method, extreme ultraviolet mask and formation method thereof

Номер патента: US20230324804A1. Автор: BO-TSUN Liu,Chih-Tsung Shih,Yu-Hsun Wu,Tsung-Chuan LEE. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Mask for extreme ultraviolet photolithography

Номер патента: US11815805B2. Автор: Hsin-Chang Lee,Ta-Cheng Lien,Wen-Chang Hsueh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-14.

Extreme ultraviolet photomask and method for fabricating the same

Номер патента: US20180284596A1. Автор: Yu-Cheng Tung,En-Chiuan Liou. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2018-10-04.

Extreme ultraviolet photomask and method for fabricating the same

Номер патента: US10571796B2. Автор: Yu-Cheng Tung,En-Chiuan Liou. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2020-02-25.

Extreme ultraviolet mask absorber materials

Номер патента: US20200249559A1. Автор: Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-08-06.

Extreme ultraviolet light source device

Номер патента: US09867267B2. Автор: Jin-Hong Park,In-sung Kim,Seung-Koo Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-01-09.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US09510433B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Shinji Nagai,Tamotsu Abe,Hitoshi Nagano. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2016-11-29.

Extreme ultraviolet reflective element with multilayer stack and method of manufacturing thereof

Номер патента: US09581890B2. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-02-28.

Apparatus for generating extreme ultraviolet (euv), method of manufacturing the same, and euv system

Номер патента: US20220167492A1. Автор: Jihoon Na,Mun Ja KIM,Byungchul YOO,Jaewhan Sung,Hyunjune Cho,Jibeom Yoo,Hakseok Lee,Myeongjin Jeong. Владелец: Sungkyunkwan University Research and Business Foundation. Дата публикации: 2022-05-26.

Apparatus for generating extreme ultraviolet (EUV), method of manufacturing the same, and EUV system

Номер патента: US11729896B2. Автор: Jihoon Na,Mun Ja KIM,Byungchul YOO,Jaewhan Sung,Hyunjune Cho,Jibeom Yoo,Hakseok Lee,Myeongjin Jeong. Владелец: Sungkyunkwan University Research and Business Foundation. Дата публикации: 2023-08-15.

Extreme ultraviolet reflective element with amorphous layers and method of manufacturing thereof

Номер патента: US09690016B2. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-06-27.

Extreme ultraviolet reflective element with multilayer stack and method of manufacturing thereof

Номер патента: EP3167474A1. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-05-17.

Extreme ultraviolet reflective element with amorphous layers and method of manufacturing thereof

Номер патента: US20160011345A1. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-01-14.

Extreme ultraviolet (euv) mask absorber and method for forming the same

Номер патента: US20190227427A1. Автор: Jed H. Rankin,Lei Zhuang,Amr Y. Abdo. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2019-07-25.

Extreme ultraviolet mask absorber materials

Номер патента: WO2020236887A1. Автор: Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-11-26.

Extreme ultraviolet mask absorber materials

Номер патента: WO2021150556A1. Автор: Wen Xiao,Vibhu Jindal,Azeddine Zerrade,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-07-29.

Extreme ultraviolet mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US11774844B2. Автор: BO-TSUN Liu,Shih-Chi Fu,Chih-Tsung Shih,Tsung-Chih Chien,Tsung Chuan LEE,Chi-Hua FU,Kuotang CHENG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Extreme ultraviolet mask with tantalum base alloy absorber

Номер патента: US11852965B2. Автор: Hsin-Chang Lee,Pei-Cheng Hsu,Ta-Cheng Lien. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Extreme ultraviolet mask absorber materials

Номер патента: US11860533B2. Автор: SHIYU Liu,Vibhu Jindal,Azeddine Zerrade,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-02.

Extreme ultraviolet mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US20230359115A1. Автор: Yun-Yue Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-09.

Extreme ultraviolet mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US11789355B2. Автор: Yun-Yue Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Extreme ultraviolet mask absorber materials

Номер патента: US20220236634A1. Автор: SHIYU Liu,Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-07-28.

Phase shift masks for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US11774846B2. Автор: Dongwan Kim,Seongsue Kim,Hwanseok SEO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-10-03.

Photomask for extreme ultraviolet

Номер патента: US20230305382A1. Автор: Tae Young Kim,Inkyun Shin,Sung Hoon Son,Min Gyo Jeong,GeonGon LEE,Seong Yoon Kim. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Extreme ultraviolet mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US20230367195A1. Автор: BO-TSUN Liu,Shih-Chi Fu,Chih-Tsung Shih,Tsung-Chih Chien,Tsung Chuan LEE,Chi-Hua FU,Kuotang CHENG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Extreme ultraviolet mask with tantalum base alloy absorber

Номер патента: US20240192581A1. Автор: Hsin-Chang Lee,Pei-Cheng Hsu,Ta-Cheng Lien. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Phase shift masks for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US20230018819A1. Автор: Dongwan Kim,Seongsue Kim,Hwanseok SEO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-01-19.

Extreme ultraviolet lithography process and mask

Номер патента: US09448491B2. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Photomask for extreme ultraviolet lithography and method for fabricating the same

Номер патента: US8158305B2. Автор: Sung Hyun Oh. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2012-04-17.

Extreme ultraviolet lithography process and mask

Номер патента: US09996013B2. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

Planarized extreme ultraviolet lithography blank with absorber and manufacturing system therefor

Номер патента: US09581889B2. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-02-28.

Mask absorber layers for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US20240312783A1. Автор: Daniel Staaks. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2024-09-19.

Extreme ultraviolet mask absorber materials

Номер патента: WO2020236883A1. Автор: Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-11-26.

Extreme ultraviolet (EUV) multilayer defect compensation and EUV masks

Номер патента: US9052617B2. Автор: Alfred Wagner,Gregory R. McIntyre,Emily E. Gallagher. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2015-06-09.

Methods and apparatus for ruthenium oxide reduction on extreme ultraviolet photomasks

Номер патента: US20240118603A1. Автор: Banqiu Wu,Khalid Makhamreh,Eliyahu Shlomo DAGAN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-11.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2036212A. Автор: UENO Yoshifumi,MIYASHITA Kotaro,NISHIMURA Yuichi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-06-11.

Extreme Ultraviolet Mask Blank Structure

Номер патента: US20220252971A1. Автор: SHIYU Liu,Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-08-11.

Extreme ultraviolet mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US20240280889A1. Автор: SunPyo LEE,Minchang KIM,Yoontaek Han. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Phase shift mask for extreme ultraviolet lithography and a method of manufacturing a semiconductor device using the same

Номер патента: US12099293B2. Автор: Seongsue Kim,Changyoung Jeong,Hwanseok SEO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-24.

Methods for forming extreme ultraviolet mask comprising magnetic material

Номер патента: US12092952B2. Автор: Hsin-Chang Lee,Pei-Cheng Hsu,Ta-Cheng Lien,Tzu-Yi Wang,Kevin TANADY. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Extreme ultraviolet lithography method using robust, high transmission pellicle

Номер патента: US12055855B2. Автор: Yun-Yue Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Extreme ultraviolet control system

Номер патента: US12044975B2. Автор: Shang-Chieh Chien,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH,Jen-Yang Chung. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Extreme ultraviolet lithography photomasks

Номер патента: US09946152B2. Автор: Jed H. Rankin,Zhengqing John QI,Christina A. Turley. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2018-04-17.

Method providing for asymmetric pupil configuration for an extreme ultraviolet lithography process

Номер патента: US09886543B2. Автор: Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen,Norman Chen,Chih-Tsung Shih,Chia-Chun Chung. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Extreme ultraviolet lithography process to print low pattern density features

Номер патента: US09535334B2. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-01-03.

Damascene extreme ultraviolet lithography (euvl) photomask and method of making

Номер патента: EP1412817A2. Автор: Pei-Yang Yan. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2004-04-28.

Damascene extreme ultraviolet lithography (euvl) photomask and method of making

Номер патента: WO2003012546A3. Автор: Pei-Yang Yan. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2003-12-18.

Extreme ultraviolet control system

Номер патента: US20230030134A1. Автор: Shang-Chieh Chien,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH,Jen-Yang Chung. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-02-02.

Semiconductor device manufacturing method and extreme ultraviolet mask manufacturing method

Номер патента: US12092961B2. Автор: Dongwon Kang,Sang Chul YEO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-17.

System, method and reticle for improved pattern quality in extreme ultraviolet (EUV) lithography and method for forming the reticle

Номер патента: US09558944B2. Автор: Chia-Chen Chen,Shang-Chieh Chien,Jui-Ching Wu,Chia-Hao Hsu,Chia-Jen Chen,Chia-Ching HUANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Extreme ultraviolet lithography process and mask

Номер патента: US09529249B2. Автор: Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen,Chih-Tsung Shih. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-12-27.

Extreme ultraviolet lithography process and mask

Номер патента: US20160306272A1. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-10-20.

Pellicle for exposure to extreme ultraviolet light, photomask assembly, and method of manufacturing the pellicle

Номер патента: US20180284599A1. Автор: Chang-Young Jeong,Hee-Bom Kim,Mun Ja KIM,Hwan-Chul Jeon,Sung-won Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-10-04.

Extreme Ultraviolet Lithography Process and Mask

Номер патента: US20150098069A1. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-04-09.

Mask for extreme ultraviolet lithography and method for manufacturing same

Номер патента: US20210397078A1. Автор: Jung Sik Kim,Jinho Ahn,Dong Min Jeong. Владелец: Industry University Cooperation Foundation IUCF HYU. Дата публикации: 2021-12-23.

Extreme ultraviolet (euv) multilayer defect compensation and euv masks

Номер патента: US20140272687A1. Автор: Alfred Wagner,Gregory R. McIntyre,Emily E. Gallagher. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2014-09-18.

Extreme ultraviolet mask with capping layer

Номер патента: KR20230076087A. Автор: 신-창 리,타-쳉 리엔,핑-순 린,페이-쳉 수,웨이-하오 리,칭-팡 유. Владелец: 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드. Дата публикации: 2023-05-31.

Methods and apparatus for ruthenium oxide reduction on extreme ultraviolet photomasks

Номер патента: EP4298479A1. Автор: Banqiu Wu,Khalid Makhamreh,Eliyahu Shlomo DAGAN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-03.

Extreme ultraviolet mask blank defect reduction

Номер патента: US11789358B2. Автор: Wen Xiao,Sanjay Bhat,Weimin Li,Vibhu Jindal,Azeddine Zerrade. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-17.

Reticle in an apparatus for extreme ultraviolet exposure

Номер патента: US11835850B2. Автор: Sanghyun Kim,Jinho Jeon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-12-05.

Extreme ultraviolet mask with alloy based absorbers

Номер патента: US20230375921A1. Автор: Hsin-Chang Lee,Pei-Cheng Hsu,Ta-Cheng Lien,Ping-Hsun LIN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Phase-shift mask for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US20180143527A1. Автор: Roman Chalykh,Taehoon Lee,Seongsue Kim,Hwanseok SEO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-05-24.

Extreme ultraviolet mask blank structure

Номер патента: WO2022173777A1. Автор: SHIYU Liu,Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-08-18.

Extreme ultraviolet mask with capping layer

Номер патента: US20230161241A1. Автор: Ching-Fang Yu,Hsin-Chang Lee,Pei-Cheng Hsu,Ta-Cheng Lien,Ping-Hsun LIN,Wei-Hao Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-05-25.

Extreme ultraviolet mask with capping layer

Номер патента: US20230116213A1. Автор: Hsin-Chang Lee,Pei-Cheng Hsu,Wei-Hao Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-04-13.

Apparatus and method for measuring phase of extreme ultraviolet (EUV) mask and method of fabricating EUV mask including the method

Номер патента: US11852583B2. Автор: Jongju Park,Raewon Yi,Hakseung Han,Seongsue Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-12-26.

Extreme ultraviolet mask absorber materials

Номер патента: WO2020236888A1. Автор: Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-11-26.

Extreme ultraviolet (euv) mask for lithography and associated methods

Номер патента: US20190163048A1. Автор: No-Young Chung,Woon-hyuk CHOI. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-05-30.

Robust, high transmission pellicle for extreme ultraviolet lithography systems

Номер патента: US20210132490A1. Автор: Yun-Yue Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-05-06.

Blankmask and photomask for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US20210132487A1. Автор: Jong-Hwa Lee,Cheol Shin,Chul-Kyu Yang,Gil-Woo KONG,Gyeong-Won SEO. Владелец: S&S Tech Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-06.

Extreme ultraviolet lithography method using robust, high transmission pellicle

Номер патента: US20230251566A1. Автор: Yun-Yue Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Extreme ultraviolet lithography photomasks

Номер патента: US20170315438A1. Автор: Jed H. Rankin,Zhengqing John QI,Christina A. Turley. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-11-02.

Extreme ultraviolet (euv) mask and manufacturing method thereof

Номер патента: US20240126161A1. Автор: SunPyo LEE,Euihan Jung,Sungwoo JANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-18.

Extreme ultraviolet (euv) photomask

Номер патента: US20230400758A1. Автор: Jeonghyun Kim,Sangjin Kim,Jihun Lee,Yigwon Kim,Jinhee Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-12-14.

Damascene extreme ultraviolet lithography (euvl) photomask and method of making

Номер патента: WO2003012546A2. Автор: Pei-Yang Yan. Владелец: Intel Corporation (A Delaware Corporation). Дата публикации: 2003-02-13.

Mask for Extreme-Ultraviolet (Extreme-UV) Lithography and Method for Manufacturing the Same

Номер патента: US20190155138A1. Автор: Jae Uk Lee,Ryan Ryoung Han Kim. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2019-05-23.

Method of manufacturing extreme ultraviolet (euv) photomask and method and apparatus for correcting euv photomask

Номер патента: US20220113619A1. Автор: Jongju Park,Sanguk Park,Jongkeun OH,Gyeongcheon JO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-04-14.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240184211A1. Автор: Yoshifumi Ueno,Yuichi Nishimura,Kotaro Miyashita. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-06-06.

Extreme ultraviolet mask with backside coating

Номер патента: WO2020086932A1. Автор: Vikash Banthia,Madhavi R. Chandrachood,Vibhu Jindal. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-04-30.

Extreme ultraviolet light source device and method for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: JP2010080940A. Автор: Yoshifumi Ueno,Hiroshi Komori,Akira Endo,彰 遠藤,明 住谷,司 堀,浩 小森,Akira Sumiya,Tatsuya Yanagida,Tsukasa Hori,能史 植野,達哉 柳田. Владелец: KOMATSU LTD. Дата публикации: 2010-04-08.

Mirror for extreme ultraviolet light and extreme ultraviolet light generating apparatus

Номер патента: US20200209759A1. Автор: Yoshiyuki Honda,Osamu Wakabayashi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-07-02.

Extreme ultraviolet light source device and method for producing extreme ultraviolet light

Номер патента: US20110101863A1. Автор: Yoshifumi Ueno,Hiroshi Komori,Akira Endo,Tatsuya Yanagida,Akira Sumitani,Tsukasa Hori. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2011-05-05.

Extreme ultraviolet light source device and method for producing extreme ultraviolet light

Номер патента: US8471226B2. Автор: Yoshifumi Ueno,Hiroshi Komori,Akira Endo,Tatsuya Yanagida,Akira Sumitani,Tsukasa Hori. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2013-06-25.

Extreme ultraviolet mirror arrangement for optical system for extreme ultraviolet microlithography, comprises multiple mirror elements that are arranged side by side, such that mirror elements form mirror surface

Номер патента: DE102011005940A1. Автор: Dr. Dinger Udo,Prof. Dr. Bijkerk Frederik,Muharrem Bayraktar. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-09-27.

Extreme ultraviolet light exposure apparatus and extreme ultraviolet light source device

Номер патента: KR100930779B1. Автор: 교헤이 세키. Владелец: 우시오덴키 가부시키가이샤. Дата публикации: 2009-12-09.

Extreme ultraviolet light exposure device and extreme ultraviolet light source device

Номер патента: JP4710406B2. Автор: 匡平 関. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2011-06-29.

Mirror and extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: EP2550665A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Masato Moriya,Hidenobu Kameda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2013-01-30.

Extreme ultraviolet light source apparatus

Номер патента: US20120119116A1. Автор: Shinji Nagai,Kouji Kakizaki,Tatsuya Yanagida. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2012-05-17.

COLLECTOR MIRROR ASSEMBLY AND METHOD FOR PRODUCING EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION

Номер патента: US20130088697A1. Автор: Loopstra Erik Roelof,Labetski Dzmitry,Kempen Antonius Theodorus Wilhelmus. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2013-04-11.

SYSTEM AND METHOD FOR REDUCING CONTAMINATION IN EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY LIGHT SOURCE

Номер патента: US20150034844A1. Автор: SHU EMILY. Владелец: Semiconductor Manufacturing International (Shanghai) Corporation. Дата публикации: 2015-02-05.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20220082927A1. Автор: UEDA Atsushi,NISHISAKA Toshihiro,WATANABE Yukio,KOGE Koichiro,OSANAI Takayuki,Hoshino Yusuke,NIIMI Gouta. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2022-03-17.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20220146943A1. Автор: Atsushi Ueda,Koichiro KOGE,Takayuki OSANAI. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-05-12.

Extreme ultraviolet light sensor unit and extreme ultraviolet light generation device

Номер патента: US20190021159A1. Автор: Takuya Ishii,Hiroshi Someya,Hisashi Nara. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2019-01-17.

Target for extreme ultraviolet light source

Номер патента: US9155179B2. Автор: Igor V. Fomenkov,Daniel J. W. Brown,Yezheng Tao,Robert J. Rafac,Daniel J. Golich. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2015-10-06.

Target for extreme ultraviolet light source

Номер патента: US8912514B2. Автор: Igor V. Fomenkov,Daniel J. W. Brown,Yezheng Tao,Robert J. Rafac,Daniel J. Golich. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2014-12-16.

Extreme ultraviolet microscope

Номер патента: US20080266654A1. Автор: Arno Jan Bleeker,Vadim Yevgenyevich Banine,Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen,Frank Jeroen Pieter Schuurmans,Vladimir Vitalevich Ivanov,Vladimir Mihailòvitch Krivtsun,Konstantin Nikolaevich Koshelev. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2008-10-30.

Beam position control for an extreme ultraviolet light source

Номер патента: US20150257246A1. Автор: Igor V. Fomenkov,Vladimir B. Fleurov. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2015-09-10.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: WO2013110968A1. Автор: Yukio Watanabe,Osamu Wakabayashi,Miwa Igarashi,Norio Iwai,Kouji ASHIKAWA. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2013-08-01.

System and method for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: EP2721907A2. Автор: Osamu Wakabayashi,Kouji Kakizaki,Tatsuya Yanagida,Tsukasa Hori. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2014-04-23.

System and method for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: WO2012173166A2. Автор: Osamu Wakabayashi,Kouji Kakizaki,Tatsuya Yanagida,Tsukasa Hori. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2012-12-20.

Extreme ultraviolet lithography process and mask

Номер патента: US09529272B2. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-12-27.

Extreme ultraviolet lithography process and mask

Номер патента: US09829785B2. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-11-28.

Extreme ultraviolet (euv) substrate inspection system with simplified optics and method of manufacturing thereof

Номер патента: WO2015095621A1. Автор: Christopher Dennis Bencher,Christopher G. Talbot,Majeed A. Foad,John Christopher Moran. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2015-06-25.

Reticle-masking structure, extreme ultraviolet apparatus, and method of forming the same

Номер патента: US20220214620A1. Автор: Ching-Hsiang Hsu,Feng Yuan Hsu,James Jeng-Jyi Hwang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-07-07.

Reticle-masking structure, extreme ultraviolet apparatus, and method of forming the same

Номер патента: US20210096469A1. Автор: Ching-Hsiang Hsu,Feng Yuan Hsu,James Jeng-Jyi Hwang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-04-01.

Multiple Exposures in Extreme Ultraviolet Lithography

Номер патента: US20140272720A1. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2014-09-18.

Extreme ultraviolet lithography process and mask

Номер патента: US09690186B2. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Reticle-masking structure, extreme ultraviolet apparatus, and method of forming the same

Номер патента: US11287745B2. Автор: Ching-Hsiang Hsu,Feng Yuan Hsu,James Jeng-Jyi Hwang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-03-29.

Extreme ultraviolet (EUV) substrate inspection system with simplified optics and method of manufacturing thereof

Номер патента: US09915621B2. Автор: Christopher Dennis Bencher,Christopher G. Talbot,Majeed A. Foad,John Christopher Moran. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-03-13.

Pellicle for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: EP4075195A1. Автор: Hyeong Keun Kim,Seul Gi Kim,Hyun Mi Kim,Jin Woo Cho,Ki Hun Seong. Владелец: KOREA ELECTRONICS TECHNOLOGY INSTITUTE. Дата публикации: 2022-10-19.

Method of manufacturing extreme ultraviolet (euv) mask for forming semiconductor memory device

Номер патента: US20240152043A1. Автор: Chan Hwang,Sangho Yun,Janghoon Kim,Minseung SONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-09.

Extreme ultraviolet light shield protection film structure body and its manufacturing method

Номер патента: CN108604057A. Автор: 金正植,金廷桓,安镇浩,禹东坤,张镛铸. Владелец: Hanyang Hak Won Co Ltd. Дата публикации: 2018-09-28.

Pellicle for extreme ultraviolet lithography based on yttrium carbide

Номер патента: US11927881B2. Автор: Hyeong Keun Kim,Seul Gi Kim,Hyun Mi Kim,Jin Woo Cho,Ki Hun Seong. Владелец: KOREA ELECTRONICS TECHNOLOGY INSTITUTE. Дата публикации: 2024-03-12.

Extreme Ultraviolet Lithography Process and Mask

Номер патента: US20140272679A1. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2014-09-18.

Extreme Ultraviolet Lithography Process and Mask

Номер патента: US20150346596A1. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-12-03.

Extreme ultraviolet masks having annealed light-absorptive borders and associated fabrication methods

Номер патента: US20130029253A1. Автор: Lei Sun,Pawitter Mangat,Oleg Kritsun. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2013-01-31.

Extreme Ultraviolet Lithography Process and Mask

Номер патента: US20140268091A1. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2014-09-18.

Pellicle film including graphite-containing thin film for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US20180259847A1. Автор: Seul-Gi Kim,Sang-Jin Cho,Mun Ja KIM,Ji-Beom Yoo,Myung-shik CHANG,Jang-dong You. Владелец: Fine Semitech Corp. Дата публикации: 2018-09-13.

DEVICE FOR RECEIVING DIRECTIONAL EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION WITH WAVELENGTH OF 11,2 nm ±1% FOR HIGH-RESOLUTION PROJECTIVE LITHOGRAPHY

Номер патента: RU2633726C1. Автор: Сергей Владимирович Голубев,Николай Николаевич Салащенко,Николай Иванович Чхало,Александр Григорьевич Литвак,Иван Владимирович Изотов,Сергей Владимирович Разин,Александр Васильевич Сидоров,Вадим Александрович Скалыга,Александр Валентинович Водопьянов,Дмитрий Анатольевич Мансфельд,Михаил Юрьевич Глявин,Алексей Григорьевич Лучинин,Андрей Николаевич Нечай. Владелец: Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Федеральный исследовательский центр Институт прикладной физики Российской академии наук" (ИПФ РАН). Дата публикации: 2017-10-17.

Amorphous layer extreme ultraviolet lithography blank, and manufacturing and lithography systems therefor

Номер патента: US09612521B2. Автор: Kevin Moraes,Ralf Hofmann. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-04-04.

Method for creating extreme ultraviolet irradiation and source of such irradiation used in lithography

Номер патента: RU2249926C2. Автор: Даниель БАБОНО,Реми МАРМОРЕ,Лоранс БОННЕ. Владелец: Коммиссариат А Л`Энержи Атомик. Дата публикации: 2005-04-10.

Extreme ultraviolet light generating apparatus and control method for centroid of extreme ultraviolet light

Номер патента: US10251254B2. Автор: Yuichi Nishimura,Takayuki Yabu. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2019-04-02.

Extreme ultraviolet lithography system that utilizes pattern stitching

Номер патента: US20190235393A1. Автор: David M. Williamson,Michael B. Binnard,Daniel Gene Smith. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2019-08-01.

Extreme ultraviolet lithography system that utilizes pattern stitching

Номер патента: US20170336720A1. Автор: David M. Williamson,Michael B. Binnard,Daniel Gene Smith. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-11-23.

Pattern forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet-sensitive composition, resist film, method for manufacturing electronic device using the same, and electronic device

Номер патента: US09411230B2. Автор: Kaoru Iwato,Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-08-09.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20230161262A1. Автор: Kotaro Miyashita,Gouta NIIMI. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-05-25.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2033232A. Автор: MIYASHITA Kotaro,NIIMI Gouta. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-06-12.

Method of cleaning extreme ultraviolet lithography collector

Номер патента: US20200073250A1. Автор: Ching-Yu Chang,Chin-Hsiang Lin,An-Ren Zi. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-03-05.

Shock wave visualization for extreme ultraviolet plasma optimization

Номер патента: US12114412B2. Автор: Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Yen-Shuo Su,Chun-Lin Chang,Han-Lung Chang,Ting-Ya CHENG,Jen-Hao Yeh,Jhan-Hong YEH,Henry Yee Shian Tong. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-08.

Pattern-forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using them and electronic device

Номер патента: EP2761373A1. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Naoki Inoue. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-08-06.

Dense line extreme ultraviolet lithography system with distortion matching

Номер патента: US20190212663A1. Автор: Michael B. Binnard. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2019-07-11.

Particle image velocimetry of extreme ultraviolet lithography systems

Номер патента: US20230296642A1. Автор: Chi Yang,Shang-Chieh Chien,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,En Hao Lai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2032453B1. Автор: Miyashita Koutaro. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-06-10.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2032043B1. Автор: Miyashita Koutaro. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-05-17.

Droplet splash control for extreme ultraviolet photolithography

Номер патента: US20240231241A1. Автор: Chi-Hung Liao,Po-Ming SHIH. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Particle image velocimetry of extreme ultraviolet lithography systems

Номер патента: US20210294220A1. Автор: Chi Yang,Shang-Chieh Chien,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,En Hao Lai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-09-23.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2032453A. Автор: Miyashita Koutaro. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-03-14.

Pattern forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet-sensitive composition, resist film, manufacturing method of electronic device, and electronic device

Номер патента: US20130084438A1. Автор: Kaoru Iwato,Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2013-04-04.

Extreme ultraviolet light source systems

Номер патента: US20220104336A1. Автор: SANGHOON Lee,Injae Lee,SungHyup KIM,Yebin Nam,Myeongjun Gil. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-03-31.

Particle image velocimetry of extreme ultraviolet lithography systems

Номер патента: US12085585B2. Автор: Chi Yang,Shang-Chieh Chien,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,En Hao Lai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Extreme ultraviolet pellicle storage and method of preserving extreme ultraviolet pellicle properties thereof

Номер патента: US20240337922A1. Автор: Marcio D. Lima,Sergey Li,Hooman RAHMANI. Владелец: Lintec of America Inc. Дата публикации: 2024-10-10.

Pattern-forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using them and electronic device

Номер патента: US09470980B2. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Naoki Inoue. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

Amorphous layer extreme ultraviolet lithography blank, and manufacturing and lithography systems therefor

Номер патента: US20140268081A1. Автор: Kevin Moraes,Ralf Hofmann. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2014-09-18.

Amorphous layer extreme ultraviolet lithography blank, and manufacturing and lithography systems therefor

Номер патента: WO2014165298A1. Автор: Kevin Moraes,Ralf Hofmann. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-10-09.

Electron beam-based extreme ultraviolet light source device

Номер патента: EP4401513A1. Автор: Kyu Chang Park,Sung Tae Yoo. Владелец: Industry Academic Cooperation Foundation of Kyung Hee University. Дата публикации: 2024-07-17.

Methods and apparatus to reduce extreme ultraviolet light for photolithography

Номер патента: US20240241446A1. Автор: Charles H. Wallace,Leonard GULER,Elliot N. Tan,Shengsi LIU,Marvin Paik,Vivek Vishwakarma,Izabela Samek,Mohammadreza Soleymaniha. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Extreme ultraviolet light source apparatus and method of adjusting the same

Номер патента: US20100193712A1. Автор: Kazuo Tawarayama. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-08-05.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2028171B1. Автор: UENO Yoshifumi,YABU Takayuki,TAKASHIMA Yuta,NISHIMURA Yuichi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-03-04.

Positive resist composition for extreme ultraviolet lithography and resist pattern formation kit for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US20230324797A1. Автор: Manabu Hoshino. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2023-10-12.

Extreme ultraviolet light generation chamber device and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2036152A. Автор: UEDA Atsushi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-06-14.

Extreme ultraviolet (euv) exposure system and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20180031978A1. Автор: Chang-min Park,Ji-Sun LEE,Myung-soo HWANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-02-01.

Extreme ultraviolet generation apparatus

Номер патента: US20210092825A1. Автор: In Ho Choi,In Jae Lee,Jeong-Gil Kim,Sung Ho Jang,Min Seok Choi,Hyuck Shin. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-03-25.

Extreme ultraviolet light generation chamber device and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240196505A1. Автор: Atsushi Ueda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-06-13.

Process solution composition for extreme ultraviolet lithography, and method for forming pattern by using same

Номер патента: US20210214649A1. Автор: Seung Hyun Lee,Su Jin Lee,Seung Hun Lee. Владелец: Youngchang Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-07-15.

Extreme ultraviolet lithography projection optics system and associated methods.

Номер патента: NL2013719B1. Автор: Lu Yen-Cheng,Yu Shinn-Sheng,Yen Anthony. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg Co Ltd. Дата публикации: 2016-04-04.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: WO2012133720A1. Автор: Yukio Watanabe,Masato Moriya,Miwa Igarashi,Hiroaki Nakarai. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2012-10-04.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: EP2692212A1. Автор: Yukio Watanabe,Masato Moriya,Miwa Igarashi,Hiroaki Nakarai. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2014-02-05.

Method of reducing undesired light influence in extreme ultraviolet exposure

Номер патента: US20240295820A1. Автор: BO-TSUN Liu,Chih-Tsung Shih,Yahru CHENG,Tsung Chuan LEE,Chen-Ming Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Extreme ultraviolet (EUV) exposure system and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US09996009B2. Автор: Chang-min Park,Ji-Sun LEE,Myung-soo HWANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-06-12.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US09986629B2. Автор: Toru Suzuki,Osamu Wakabayashi,Tamotsu Abe,Tatsuya Yanagida. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-05-29.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US09894744B2. Автор: Yutaka Shiraishi,Fumio Iwamoto,Takuya Ishii,Tsukasa Hori. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-02-13.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US09894743B2. Автор: Yukio Watanabe,Masato Moriya,Miwa Igarashi,Hiroaki Nakarai. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-02-13.

Method of making an extreme ultraviolet pellicle

Номер патента: US09664999B2. Автор: Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen,Chih-Tsung Shih,Shang-Chieh Chien,Chia-Jen Chen,Tien-Hsi Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Extreme ultraviolet mask blank production system with thin absorber and manufacturing system therefor

Номер патента: US09612522B2. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-04-04.

Extreme ultraviolet light generating system

Номер патента: US09439276B2. Автор: Takashi Saito,Osamu Wakabayashi,Takayuki Yabu. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2016-09-06.

Pattern forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet ray-sensitive resin composition, resist film, and method for manufacturing electronic device, and electronic device using the same

Номер патента: US09423690B2. Автор: Shuji Hirano,Hiroo Takizawa,Wataru Nihashi,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-08-23.

Extreme ultraviolet light sensor unit and extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US11125613B2. Автор: Kotaro Miyashita. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-09-21.

Extreme ultraviolet light sensor unit and extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US20200064184A1. Автор: Kotaro Miyashita. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-02-27.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210410262A1. Автор: Yoshifumi Ueno,Yuichi Nishimura,Takayuki Yabu,Yuta TAKASHIMA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-12-30.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US11219116B1. Автор: Yoshifumi Ueno,Yuichi Nishimura,Takayuki Yabu,Yuta TAKASHIMA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-01-04.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2028171A. Автор: UENO Yoshifumi,YABU Takayuki,TAKASHIMA Yuta,NISHIMURA Yuichi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-02-17.

Pattern forming method, electron beam- or extreme ultraviolet-sensitive resin composition, resist film using the same, method of manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US20150370170A1. Автор: Shuji Hirano,Hiroo Takizawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-12-24.

Extreme ultraviolet light source device

Номер патента: EP4152097A1. Автор: Shunichi Morimoto,Hideyuki URAKAMI. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2023-03-22.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US20160192470A1. Автор: Yutaka Shiraishi,Fumio Iwamoto,Takuya Ishii,Tsukasa Hori. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2016-06-30.

Particle image velocimetry of extreme ultraviolet lithography systems

Номер патента: US20240361350A1. Автор: Chi Yang,Shang-Chieh Chien,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,En Hao Lai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Shock wave visualization for extreme ultraviolet plasma optimization

Номер патента: US11800626B2. Автор: Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Yen-Shuo Su,Chun-Lin Chang,Han-Lung Chang,Ting-Ya CHENG,Jen-Hao Yeh,Jhan-Hong YEH,Henry Yee Shian Tong. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-24.

Shock wave visualization for extreme ultraviolet plasma optimization

Номер патента: US20230380044A1. Автор: Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Yen-Shuo Su,Chun-Lin Chang,Han-Lung Chang,Ting-Ya CHENG,Jen-Hao Yeh,Jhan-Hong YEH,Henry Yee Shian Tong. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Ligand-capped main group nanoparticles as high absorption extreme ultraviolet lithography resists

Номер патента: US11874600B2. Автор: Florian Gstrein,James M. Blackwell,Robert L. Bristol,Marie KRYSAK. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-01-16.

Extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: EP2548080A1. Автор: Yukio Watanabe,Osamu Wakabayashi,Tamotsu Abe,Toshihiro Nishisaka. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2013-01-23.

Ligand-capped main group nanoparticles as high absorption extreme ultraviolet lithography resists

Номер патента: US20190302615A1. Автор: Florian Gstrein,James M. Blackwell,Robert L. Bristol,Marie KRYSAK. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2019-10-03.

Electrode insulator materials for use in extreme ultraviolet electric discharge sources

Номер патента: US20040140439A1. Автор: Bryan Rice,Melissa Shell. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2004-07-22.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20230284365A1. Автор: Yuichi Nishimura,Shogo KITASAKA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-09-07.

Extreme ultraviolet light generating apparatus

Номер патента: US20200133137A1. Автор: Katsuhiko Sugisawa. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-04-30.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and method of designing the same

Номер патента: US10001706B2. Автор: Shinji Nagai,Atsushi Ueda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-06-19.

Extreme ultraviolet light source device and protection method for receiving plate member

Номер патента: US20230324815A1. Автор: Nobuaki Miyagawa,Hironobu Yabuta. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2023-10-12.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and maintenance method

Номер патента: US20200142311A1. Автор: Katsuhiko Wakana. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-05-07.

Beam transport system for extreme ultraviolet light source

Номер патента: WO2011075346A1. Автор: William N. Partlo,Nam-Hyong Kim,Robert N. Bergstedt,Lgor V. Fomenkov. Владелец: CYMER, INC.. Дата публикации: 2011-06-23.

Extreme ultraviolet light generating apparatus, extreme ultraviolet light generating method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210072646A1. Автор: Kengo Hayashi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-03-11.

Extreme ultraviolet light generating apparatus, extreme ultraviolet light generating method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US11307501B2. Автор: Kengo Hayashi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-04-19.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and method of designing the same

Номер патента: US20170315446A1. Автор: Shinji Nagai,Atsushi Ueda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-11-02.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2034100A. Автор: NISHIMURA Yuichi,Kitasaka Shogo. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-09-11.

Pattern-forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using them and electronic device

Номер патента: WO2013047092A1. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Naoki Inoue. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-04-04.

System and method for rejuvenating an imaging sensor degraded by exposure to extreme ultraviolet or deep ultraviolet light

Номер патента: EP2837174A1. Автор: Gary Janik,Gildardo DELGADO. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2015-02-18.

System and method for rejuvenating an imaging sensor degraded by exposure to extreme ultraviolet or deep ultraviolet light

Номер патента: WO2013155391A1. Автор: Gary Janik,Gildardo DELGADO. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2013-10-17.

Extreme ultraviolet exposure apparatus including a mask stage

Номер патента: US20240219848A1. Автор: Jinhong Park,Dohyung Kim,Sanghwan Lee,Seongchul HONG,Hachul Shin. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-04.

Pattern-forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using them and electronic device

Номер патента: EP2761372A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Takeshi Kawabata. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-08-06.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2025678A. Автор: TAKASHIMA Yuta. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-02-15.

Extreme Ultraviolet Lithography System

Номер патента: US20200019070A1. Автор: Ching-Yu Chang,Chin-Hsiang Lin,Cheng-Han Wu,Ming-Hui Weng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-01-16.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2036213A. Автор: UENO Yoshifumi,MIYASHITA Kotaro,NISHIMURA Yuichi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-06-11.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2025678B1. Автор: TAKASHIMA Yuta. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-02-23.

Extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2027481A. Автор: UEDA Atsushi,KOGE Koichiro,OSANAI Takayuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-10-20.

Extreme ultraviolet light source device

Номер патента: US20230213865A1. Автор: Hironobu Yabuta,Hajime Kikuiri. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2023-07-06.

Collector in an Extreme Ultraviolet Lithography System with Optimal Air Curtain Protection

Номер патента: US20160306282A1. Автор: Tsung-Yu Chen,Shinn-Sheng Yu,Chia-Chen Chen,Chia-Hao Hsu,Chia-Ching HUANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-10-20.

Dispositioning defects detected on extreme ultraviolet photomasks

Номер патента: WO2020061241A1. Автор: Masaki Satake,Weston Sousa,Vikram Tolani. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2020-03-26.

Methods of manufacturing semiconductor devices, method sof performing extreme ultraviolet ray exposure, and methods of performing optical proximity correction

Номер патента: US20200064728A1. Автор: Ki-Soo Kim,No-Young Chung,Akio Misaka. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-02-27.

Method and apparatus for controlling droplet in extreme ultraviolet light source

Номер патента: US20240160106A1. Автор: Chi-Hung Liao,Yueh-Lin Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Method and apparatus for controlling droplet in extreme ultraviolet light source

Номер патента: US20220155690A1. Автор: Chi-Hung Liao,Yueh-Lin Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-05-19.

Extreme ultraviolet pellicles and method of manufacturing

Номер патента: US20240248391A1. Автор: Feng Q. Liu,Jeffrey W. Anthis,Mark Saly,Lakmal C. Kalutarage,Thomas Joseph Knisley,Nasrin Kazem. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-25.

Collector mirror and apparatus for creating extreme ultraviolet light including the same

Номер патента: US11698590B2. Автор: Injae Lee,SungHyup KIM,Jeonggil KIM,Hoseok SONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-11.

Extreme ultraviolet lithography system

Номер патента: US12055865B2. Автор: Chi Yang,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Che-Chang Hsu,Ssu-Yu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Correcting apparatus of extreme ultraviolet (euv) photomask and correcting method of euv photomask

Номер патента: US20220283512A1. Автор: Yongwoo Kim,Jongju Park,Sanguk Park,Jongkeun OH,Youngchang SEO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-09-08.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20220035249A1. Автор: Yoshiyuki Honda,Hirokazu HOSODA,Takanari KOBAYASHI. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-02-03.

Extreme ultraviolet light generation chamber device and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2036440A. Автор: UEDA Atsushi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-07-22.

Nanotube-based pellicle for extreme ultraviolet lithography and related manufacturing method

Номер патента: US20240280893A1. Автор: Hyeong Keun Kim,Seul Gi Kim. Владелец: KOREA ELECTRONICS TECHNOLOGY INSTITUTE. Дата публикации: 2024-08-22.

Method of generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: EP1502485A1. Автор: Günther Hans c/o Philips IP & Standards DERRA,Ulrich c/o Philips IP & Standards NIEMANN. Владелец: Philips Intellectual Property and Standards GmbH. Дата публикации: 2005-02-02.

Method of generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: EP1502485B1. Автор: Günther Hans c/o Philips IP & Standards GmbH DERRA,Ulrich c/o Philips IP & Standards GmbH NIEMANN. Владелец: Philips Intellectual Property and Standards GmbH. Дата публикации: 2011-11-02.

Extreme ultraviolet/soft x-ray laser nano-scale patterning using the demagnified talbot effect

Номер патента: US20150251441A1. Автор: Mario C. Marconi,Jorge J. Rocca,Artak Isoyan,Lukasz Urbanski. Владелец: Synopsys Inc. Дата публикации: 2015-09-10.

System and method to optimize extreme ultraviolet light generation

Номер патента: WO2013180884A2. Автор: Steven Chang,Matthew R. Graham,Wayne J. Dunstan,Daniel J. Riggs,Paul A. FRIHAUF. Владелец: Cymer, Llc.. Дата публикации: 2013-12-05.

High Heat Load Optics with Vibration Isolated Hoses in an Extreme Ultraviolet Lithography System

Номер патента: US20130323649A1. Автор: Douglas C. Watson,Travis BOW. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2013-12-05.

Arrangement for the generation of extreme ultraviolet radiation by means of electric discharge at electrodes which can be regenerated

Номер патента: US7649187B2. Автор: Christian Ziener,Guido Hergenhan,Frank Flohrer. Владелец: XTREME technologies GmbH. Дата публикации: 2010-01-19.

Inspection tool for an extreme ultraviolet radiation source to observe tin residual

Номер патента: US12066761B2. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Cheng-Hsuan Wu,Cheng-Hao Lai,Sheng-Kang Yu,Yu-Huan Chen,Wei-Chun YEN,Yu-Kuang SUN,Ming-Hsun Tsai,Wei-Shin CHENG,Chiao-Hua Cheng,Yu-Fa LO. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US20190364654A1. Автор: Atsushi Ueda,Akihiro Takayama. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2019-11-28.

Collector mirror and apparatus for creating extreme ultraviolet light including the same

Номер патента: EP4145223A1. Автор: Injae Lee,SungHyup KIM,Jeonggil KIM,Hoseok SONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-08.

Collector mirror and apparatus for creating extreme ultraviolet light including the same

Номер патента: US20230071131A1. Автор: Injae Lee,SungHyup KIM,Jeonggil KIM,Hoseok SONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-09.

Extreme ultraviolet/soft X-ray laser nano-scale patterning using the demagnified Talbot effect

Номер патента: US9216590B2. Автор: Mario C. Marconi,Jorge J. Rocca,Artak Isoyan,Lukasz Urbanski. Владелец: Synopsys Inc. Дата публикации: 2015-12-22.

Apparatus and method for generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: US12133319B2. Автор: Li-Jui Chen,Chun-Lin Chang,Han-Lung Chang,Ting-Ya CHENG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Novel design of an inspection tool for an extreme ultraviolet radiation source to observe tin residual

Номер патента: US20240361701A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Cheng-Hsuan Wu,Cheng-Hao Lai,Sheng-Kang Yu,Yu-Huan Chen,Wei-Chun YEN,Yu-Kuang SUN,Ming-Hsun Tsai,Wei-Shin CHENG,Chiao-Hua Cheng,Yu-Fa LO. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Extreme ultraviolet photolithography method with infiltration for enhanced sensitivity and etch resistance

Номер патента: US12111576B2. Автор: Christine Y OUYANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-08.

Extreme ultraviolet lithography system

Номер патента: US20240353766A1. Автор: Chi Yang,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Che-Chang Hsu,Ssu-Yu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Plasma position control for extreme ultraviolet lithography light sources

Номер патента: US12130556B2. Автор: Chi Yang,Li-Jui Chen,Hsin-Feng Chen,Ssu-Yu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Collector in an extreme ultraviolet lithography system with optimal air curtain protection

Номер патента: US09869934B2. Автор: Tsung-Yu Chen,Shinn-Sheng Yu,Chia-Chen Chen,Chia-Hao Hsu,Chia-Ching HUANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Optical proximity correction method and method of manufacturing extreme ultraviolet mask by using the optical proximity correction method

Номер патента: US09715170B2. Автор: Sang-hwa Lee,Sung-Hoon Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-07-25.

Methods for extreme ultraviolet mask defect mitigation by multi-patterning

Номер патента: US09673111B2. Автор: Tan Soon Yoeng,Gek Soon Chua. Владелец: GLOBALFOUNDRIES SINGAPORE PTE LTD. Дата публикации: 2017-06-06.

Methods for optical proximity correction in the design and fabrication of integrated circuits using extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US09651855B2. Автор: Lei Sun,Wenhui Wang,Ryan Ryoung-Han Kim. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-05-16.

Extreme ultraviolet lithography collector contamination reduction

Номер патента: US09625824B2. Автор: YEN-CHENG Lu,Jeng-Horng Chen,Tzu-Hsiang Chen,Shun-Der Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

System and method to adaptively pre-compensate for target material push-out to optimize extreme ultraviolet light production

Номер патента: US09588430B2. Автор: Matthew R. Graham,Charles Kinney,Wayne J. Dunstan,Jeroen van der Burgt. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-03-07.

Transport system for an extreme ultraviolet light source

Номер патента: US09557650B2. Автор: Gregory Wilson,Alexander I. Ershov,Silvia De Dea,Bruno M. La Fontaine,Brandon Verhoff. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-01-31.

Sub-wavelength extreme ultraviolet metal transmission grating and manufacturing method thereof

Номер патента: US09442230B2. Автор: Ming Liu,Xiaoli Zhu,Dongmei Li,Changqing Xie,Hailiang Li,Lina Shi. Владелец: Institute of Microelectronics of CAS. Дата публикации: 2016-09-13.

System and method for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US09439275B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Masato Moriya. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2016-09-06.

Method for forming resist pattern by using extreme ultraviolet light and method for forming pattern by using the resist pattern as mask

Номер патента: US20240045336A1. Автор: Chan Hwang,Sookyung Kim,Jonghyun JUNG,Moosong Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-08.

Method of reducing undesired light influence in extreme ultraviolet exposure

Номер патента: US12013641B2. Автор: BO-TSUN Liu,Chih-Tsung Shih,Yahru CHENG,Tsung Chuan LEE,Chen-Ming Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-18.

Extreme ultraviolet light generation chamber device and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240241448A1. Автор: Atsushi Ueda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-07-18.

Extreme ultraviolet pellicles and method of manufacturing

Номер патента: WO2024155654A1. Автор: Feng Q. Liu,Jeffrey W. Anthis,Mark Saly,Lakmal C. Kalutarage,Thomas Joseph Knisley,Nasrin Kazem. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-07-25.

Extreme Ultraviolet Lithography System, Device, and Method for Printing Low Pattern Density Features

Номер патента: US20200319545A1. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-10-08.

Extreme ultraviolet lithography system, device, and method for printing low pattern density features

Номер патента: US20180173089A1. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-06-21.

Extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: US09980360B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Tatsuya Yanagida. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-05-22.

Method for reducing contamination in extreme ultraviolet lithography light source

Номер патента: US09665017B2. Автор: Emily Shu. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2017-05-30.

Apparatus and method for generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: US20240381515A1. Автор: Li-Jui Chen,Chun-Lin Chang,Han-Lung Chang,Ting-Ya CHENG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-11-14.

Extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: US09497841B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Tatsuya Yanagida. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2016-11-15.

Module and method for producing extreme ultraviolet radiation

Номер патента: US8901521B2. Автор: Tjarko Adriaan Rudolf Van Empel,Erik Roelof Loopstra,Johannes Hubertus Josephina Moors,Vadim Yevgenyevich Banine,Yuri Johannes Gabriel Van De Vijver,Jan Bernard Plechelmus Van Schoot,Gerardus Hubertus Petrus Maria Swinkels,Hendrikus Gijsbertus Schimmel,Dzmitry Labetski,Vladimir Vitalevich Ivanov. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2014-12-02.

Foil trap and extreme ultraviolet light source device using the foil trap

Номер патента: EP1972999A3. Автор: Takahiro Inoue,Takahiro Shirai. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2009-07-15.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20230007763A1. Автор: Koutaro MIYASHITA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-01-05.

Extreme ultraviolet light generation device and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2026231A. Автор: SAUMAGNE Georg. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-05-17.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US20180146536A1. Автор: Toru Suzuki,Osamu Wakabayashi,Tamotsu Abe,Tatsuya Yanagida. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-05-24.

Pattern forming method, method for selecting heating temperature in pattern forming method, extreme ultraviolet-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using the same, and electronic device

Номер патента: US20150017576A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Naoki Inoue. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-01-15.

Pattern forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet ray-sensitive resin composition, resist film, and method for manufacturing electronic device, and electronic device using the same

Номер патента: WO2014030723A1. Автор: Shuji Hirano,Hiroo Takizawa,Wataru Nihashi,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2014-02-27.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US11789374B2. Автор: Yukio Watanabe,Atsushi Ueda,Toshihiro Nishisaka,Gouta NIIMI,Yusuke Hoshino,Koichiro KOGE,Takayuki OSANAI. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-10-17.

Plasma position control for extreme ultraviolet lithography light sources

Номер патента: US20210389678A1. Автор: Chi Yang,Li-Jui Chen,Hsin-Feng Chen,Ssu-Yu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-12-16.

System and method for performing extreme ultraviolet photolithography processes

Номер патента: US11768437B2. Автор: Heng-Hsin Liu,Tai-Yu Chen,Zhiqiang Wu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH,Sagar Deepak KHIVSARA,Kai Tak Lam,Chung-Wei Wu,Kuo-An Liu,Gwan-Sin Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-26.

System and method for performing extreme ultraviolet photolithography processes

Номер патента: US20210349396A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Tai-Yu Chen,Zhiqiang Wu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH,Sagar Deepak KHIVSARA,Kai Tak Lam,Chung-Wei Wu,Kuo-An Liu,Gwan-Sin Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-11-11.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20230309211A1. Автор: Yoshiyuki Honda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-09-28.

Pattern forming method, electron beam- or extreme ultraviolet-sensitive resin composition, resist film using the same, method of manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US9612535B2. Автор: Shuji Hirano,Hiroo Takizawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-04-04.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20200236769A1. Автор: Yoshifumi Ueno,Yuta TAKASHIMA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-07-23.

Extreme ultraviolet lithography device and method of operating extreme ultraviolet lithography device

Номер патента: US11960212B2. Автор: Chan Hwang,HyungJong BAE,Hoduk CHO,SeongBo Shim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-16.

Approach to lowering extreme ultraviolet exposure dose for inorganic hardmasks for extreme ultraviolet patterning

Номер патента: US20180348636A1. Автор: Karen E. Petrillo,Ekmini A. De Silva,Indira P. Seshadri. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-12-06.

System and method for performing extreme ultraviolet photolithography processes

Номер патента: US20220350257A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Tai-Yu Chen,Zhiqiang Wu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH,Sagar Deepak KHIVSARA,Kai Tak Lam,Chung-Wei Wu,Kuo-An Liu,Gwan-Sin Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-11-03.

Extreme ultraviolet pellicle with enhanced extreme ultraviolet transmission and method of producing thereof

Номер патента: WO2024072508A2. Автор: Takahiro Ueda,Marcio D. Lima,Sergey Li,Hooman RAHMANI. Владелец: Lintec Of America, Inc.. Дата публикации: 2024-04-04.

Extreme ultraviolet lithography device and method of operating extreme ultraviolet lithography device

Номер патента: EP4286942A3. Автор: Chan Hwang,HyungJong BAE,Hoduk CHO,SeongBo Shim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-12-13.

Multilayer graphene direct growth method and method for manufacturing pellicle for extreme ultraviolet lithography using the same

Номер патента: EP4002007A1. Автор: Hyeong Keun Kim,Seul Gi Kim,Hye Young Kim,Hyun Mi Kim. Владелец: KOREA ELECTRONICS TECHNOLOGY INSTITUTE. Дата публикации: 2022-05-25.

Extreme ultraviolet light generation apparatus, extreme ultraviolet light generation system, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2027449B1. Автор: UEDA Atsushi,Ishida Yuki,Yoshida Yoshiaki,KOGE Koichiro,OSANAI Takayuki,OHSAWA Akihiro,SHINTANI Toshiya,Takada Yosuke. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-10-27.

Extreme ultraviolet lithography device and method of operating extreme ultraviolet lithography device

Номер патента: EP4286942A2. Автор: Chan Hwang,HyungJong BAE,Hoduk CHO,SeongBo Shim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-12-06.

Extreme ultraviolet lithography device and method of operating extreme ultraviolet lithography device

Номер патента: US20230393484A1. Автор: Chan Hwang,HyungJong BAE,Hoduk CHO,SeongBo Shim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-12-07.

Extreme ultraviolet mask blank production system with thin absorber and manufacturing system therefor

Номер патента: EP3167473A1. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-05-17.

Extreme Ultraviolet Mask Blank Production System With Thin Absorber And Manufacturing System Therefor

Номер патента: US20200058213A9. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-02-20.

Extreme ultraviolet mask blank production system with thin absorber and manufacturing system therefor

Номер патента: WO2016007610A1. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2016-01-14.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2032486A. Автор: UEDA Atsushi,NISHISAKA Toshihiro,WATANABE Yukio,KOGE Koichiro,OSANAI Takayuki,Hoshino Yusuke,NIIMI Gouta. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-08-05.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2028940B1. Автор: UEDA Atsushi,NISHISAKA Toshihiro,WATANABE Yukio,KOGE Koichiro,OSANAI Takayuki,Hoshino Yusuke,NIIMI Gouta. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-07-26.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2032486B1. Автор: UEDA Atsushi,NISHISAKA Toshihiro,WATANABE Yukio,KOGE Koichiro,OSANAI Takayuki,Hoshino Yusuke,NIIMI Gouta. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-08-14.

Extreme ultraviolet light source apparatus and plasma position adjusting method

Номер патента: US20210327701A1. Автор: Noritaka Ashizawa. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2021-10-21.

Extreme ultraviolet light source apparatus and plasma position adjusting method

Номер патента: US11631579B2. Автор: Noritaka Ashizawa. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2023-04-18.

Extreme ultraviolet light generation apparatus, extreme ultraviolet light generation system, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2027449A. Автор: UEDA Atsushi,Ishida Yuki,Yoshida Yoshiaki,KOGE Koichiro,OSANAI Takayuki,OHSAWA Akihiro,SHINTANI Toshiya,Takada Yosuke. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-10-20.

Extreme ultraviolet light generation apparatus, extreme ultraviolet light generation system, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210298160A1. Автор: Yoshiaki Yoshida,Atsushi Ueda,Toshiya Shintani,Akihiro Ohsawa,Yuki Ishida,Yosuke Takada,Koichiro KOGE,Takayuki OSANAI. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-09-23.

System and method for performing extreme ultraviolet photolithography processes

Номер патента: US20230367225A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Tai-Yu Chen,Zhiqiang Wu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH,Sagar Deepak KHIVSARA,Kai Tak Lam,Chung-Wei Wu,Kuo-An Liu,Gwan-Sin Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2034127A. Автор: Honda Yoshiyuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-10-03.

Extreme ultraviolet light source apparatus

Номер патента: US20230164899A1. Автор: Shunichi Morimoto,Hideyuki URAKAMI. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2023-05-25.

Extreme ultraviolet pellicle with enhanced extreme ultraviolet transmission and method of producing thereof

Номер патента: WO2024072508A3. Автор: Takahiro Ueda,Marcio D. Lima,Sergey Li,Hooman RAHMANI. Владелец: Lintec Of America, Inc.. Дата публикации: 2024-05-16.

Methods and apparatus for use with extreme ultraviolet light having contamination protection

Номер патента: EP2956714A1. Автор: Michail A. Gallis,Gildardo R. Delgado,Rudy Garcia,Frank Chilese,Leonard E. Klebanoff,John R. Torczynski,Anthony S. Geller,Daniel S. RADER. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2015-12-23.

Extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210307150A1. Автор: Atsushi Ueda,Koichiro KOGE,Takayuki OSANAI. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-09-30.

Extreme Ultraviolet Mask Absorber Materials

Номер патента: US20220221783A1. Автор: SHIYU Liu,Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-07-14.

Extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: US20200045802A1. Автор: Kengo Hayashi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-02-06.

Extreme ultraviolet light generation apparatus, target control method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210349400A1. Автор: Toru Abe. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-11-11.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US8629417B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Takanobu Ishihara,Shinji Nagai,Tamotsu Abe. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2014-01-14.

A beam line for a source of extreme ultraviolet (euv) radiation

Номер патента: WO2011116897A1. Автор: Franz Dieterich,Reza Abhari,Andrea Giovannini. Владелец: ETH Zurich. Дата публикации: 2011-09-29.

Plasma-based debris mitigation for extreme ultraviolet (EUV) light source

Номер патента: US7652272B2. Автор: David Ruzic,Robert Bristol,Bryan J. Rice. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2010-01-26.

Protection system for an extreme ultraviolet light source

Номер патента: WO2020225347A1. Автор: Henricus Gerardus Tegenbosch,Silvia De Dea,René Wilhelmus Johannes Maria VAN DEN BOOMEN. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2020-11-12.

Developer composition for forming fine pattern of photosensitive resist for extreme ultraviolet light source

Номер патента: CN111656285A. Автор: 李昇勋,李秀珍,金起洪. Владелец: Youngchang Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-09-11.

Apparatus for decontaminating extreme ultraviolet source

Номер патента: TW201925929A. Автор: 陳鑫封,陳立銳,劉柏村,張漢龍. Владелец: 台灣積體電路製造股份有限公司. Дата публикации: 2019-07-01.

Critical dimension variation correction in extreme ultraviolet lithography

Номер патента: IL239577B. Автор: Sergey Oshemkov,Vladimir Kruglyakov,Frederik Blumrich,Yuval PERETS. Владелец: Yuval PERETS. Дата публикации: 2020-10-29.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210333718A1. Автор: Yuichi Nishimura,Tsukasa Hori,Takayuki Yabu. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-10-28.

Four-mirror extreme ultraviolet (EUV) lithography projection system

Номер патента: US6142641A. Автор: David R Shafer,Simon J Cohen,Hwan J Jeong. Владелец: Ultratech Inc. Дата публикации: 2000-11-07.

Apparatus and method for generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: US20220260922A1. Автор: BO-TSUN Liu,Kuan-Hung Chen,Shang-Chieh Chien,Chun-Chia Hsu,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-08-18.

Extreme ultraviolet exposure apparatus and method, and method of manufacturing semiconductor device by using the exposure method

Номер патента: US10969691B2. Автор: Seung-Yoon Lee,Doo-gyu LEE,Chan-sam Chang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-04-06.

Illumination system for shaping extreme ultraviolet radiation used in a lithographic projection apparatus

Номер патента: US6498351B1. Автор: Borgert Kruizinga,Isabel Escudero Sanz. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2002-12-24.

Apparatus for generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: TW202021427A. Автор: 陳冠宏,陳立銳,劉柏村,許峻嘉,謝劼,簡上傑,鄭博中. Владелец: 台灣積體電路製造股份有限公司. Дата публикации: 2020-06-01.

Plasma position control for extreme ultraviolet lithography light sources

Номер патента: US20230273526A1. Автор: Chi Yang,Li-Jui Chen,Hsin-Feng Chen,Ssu-Yu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-31.

Method and apparatus for controlling droplet in extreme ultraviolet light source

Номер патента: US11914302B2. Автор: Chi-Hung Liao,Yueh-Lin Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-02-27.

Extreme ultraviolet light source apparatus

Номер патента: US20230288821A1. Автор: Noritaka Ashizawa,Hironobu Yabuta. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2023-09-14.

Extreme ultraviolet lithography patterning method

Номер патента: US11915931B2. Автор: Yoshihiro Kato,Choong-Man Lee,Toshio Hasegawa,Soo Doo Chae,Angelique RALEY,Qiaowei Lou. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-27.

Light source and extreme ultraviolet light source system using the same

Номер патента: US11828952B2. Автор: Dohyung Kim,Motoshi Sakai,Jungchul Lee,Seungkoo Lee,Seongchul HONG,Kyungsik KANG,Kyungbin Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-28.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240126185A1. Автор: Yoshifumi Ueno,Yuichi Nishimura,Shogo KITASAKA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-04-18.

Debris handling apparatus and method for an extreme ultraviolet light source

Номер патента: WO2024033020A1. Автор: Adam CROCKER,Kyle John SCAFFIDI,Gary Dwayne Mandrusiak,Esteban Joseph Sandoval JOHNSON,Liza EASO,Bryce Collin CAPUTO. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-02-15.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240049378A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Masaki Nakano. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-02-08.

Viewport assembly for an extreme ultraviolet light source

Номер патента: WO2023241885A1. Автор: Christopher Liu,Lam Nguyen,Dustin Michael URONE,Paul Alexander MCKENZIE,Gregory THERIAULT,Mark Joseph Mitry. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2023-12-21.

Graded hardmask interlayer for enhanced extreme ultraviolet performance

Номер патента: US20200152460A1. Автор: Ekmini A. De Silva,Dario Goldfarb,Jennifer Church. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2020-05-14.

System and method for cleaning optical surfaces of an extreme ultraviolet optical system

Номер патента: EP2969272A1. Автор: Rudy Garcia,Mohammed Tahmassebpur,Gildardo DELGADO,Francis C. Chilese,Salam Harb. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2016-01-20.

System and method for cleaning optical surfaces of an extreme ultraviolet optical system

Номер патента: WO2014152067A1. Автор: Rudy Garcia,Mohammed Tahmassebpur,Gildardo DELGADO,Francis C. Chilese,Salam Harb. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2014-09-25.

Extreme ultraviolet mask blank defect reduction methods

Номер патента: WO2021081289A1. Автор: Wen Xiao,Sanjay Bhat,Vibhu Jindal,Azeddine Zerrade,Shuwei Liu,Herng Yau Yoong. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-04-29.

Extreme ultraviolet lithography mask blank manufacturing system and method of operation therefor

Номер патента: WO2014165300A1. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-10-09.

Method for manufacturing pellicle for extreme ultraviolet lithography having graphene defect healing layer

Номер патента: US11789359B2. Автор: Hyeong Keun Kim,Seul Gi Kim,Hyun Mi Kim,Jin Woo Cho,Jun Hyeok JEON. Владелец: KOREA ELECTRONICS TECHNOLOGY INSTITUTE. Дата публикации: 2023-10-17.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2029105B1. Автор: IWAMOTO Fumio. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-09-11.

Target control in extreme ultraviolet lithography systems using aberration of reflection image

Номер патента: US11860544B2. Автор: Li-Jui Chen,Yen-Shuo Su,Han-Lung Chang,Ting-Ya CHENG,Shi-Han SHANN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-01-02.

Device and method to remove debris from an extreme ultraviolet (EUV) lithography system

Номер патента: US11841625B2. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH,Chun-Han Lin,Sheng-Kang Yu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-12.

Method and apparatus for controlling exhaust pressure for an extreme ultraviolet generation chamber

Номер патента: US20200132300A1. Автор: Ming-Hsun Tsai,Ping-Cheng Li,Yen-Hsun Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-04-30.

Method and apparatus for controlling exhaust pressure for an extreme ultraviolet generation chamber

Номер патента: US20200003414A1. Автор: Ming-Hsun Tsai,Ping-Cheng Li,Yen-Hsun Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-01-02.

Method and apparatus for controlling exhaust pressure for an extreme ultraviolet generation chamber

Номер патента: US10684009B2. Автор: Ming-Hsun Tsai,Ping-Cheng Li,Yen-Hsun Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-06-16.

Methods for Extreme Ultraviolet (EUV) Resist Patterning Development

Номер патента: US20230341781A1. Автор: Alok Ranjan,Peter Ventzek,Yun Han. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-26.

Transport system for an extreme ultraviolet light source

Номер патента: US20150282287A1. Автор: Gregory Wilson,Alexander I. Ershov,Silvia De Dea,Bruno M. La Fontaine,Brandon Verhoff. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2015-10-01.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2035291A. Автор: Wakabayashi Osamu,Nakano Masaki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-02-07.

Extreme ultraviolet light generation device

Номер патента: US10990016B2. Автор: Atsushi Ueda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-04-27.

Method and apparatus for controlling extreme ultraviolet light

Номер патента: US20210364931A1. Автор: Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Ssu-Yu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-11-25.

Target control in extreme ultraviolet lithography systems using aberration of reflection image

Номер патента: US20240085797A1. Автор: Li-Jui Chen,Yen-Shuo Su,Han-Lung Chang,Ting-Ya CHENG,Shi-Han SHANN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Methods for extreme ultraviolet (euv) resist patterning development

Номер патента: WO2022103949A1. Автор: Alok Ranjan,Peter Ventzek,Yun Han. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2022-05-19.

Dose control in an extreme ultraviolet light source

Номер патента: WO2024046835A1. Автор: Merlin HUANG. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-03-07.

Alignment of extreme ultraviolet light source

Номер патента: WO2021239357A1. Автор: John Tom STEWART IV,Alexander Anthony Schafgans. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2021-12-02.

Method of forming a pattern of semiconductor device of a semiconductor device on a semiconductor substrate by using an extreme ultraviolet mask

Номер патента: US20230106148A1. Автор: Kisung Kim,Sangoh PARK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-04-06.

Extreme ultraviolet (euv) photomask and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20220100077A1. Автор: Jeongjin Lee,Seung Yoon Lee,Moosong Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-03-31.

Extreme ultraviolet (EUV) photomask and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US11927879B2. Автор: Jeongjin Lee,Seung Yoon Lee,Moosong Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-12.

Photoresist composition for extreme ultraviolet, and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20240168381A1. Автор: Naery YU,Juyoung Kim,Juhyeon Park,Honggu IM,Jincheol PARK,Seonghyeon Ahn,Sungmin KO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-23.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2028521A. Автор: Honda Yoshiyuki,HOSODA Hirokazu,KOBAYASHI Takanari. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-03-21.

Method for Patterning a Substrate Using Extreme Ultraviolet Lithography

Номер патента: US20170090290A1. Автор: Anton J. deVilliers. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-30.

Methods and apparatus for use with extreme ultraviolet light having contamination protection

Номер патента: WO2014126915A1. Автор: Michail A. Gallis,Gildardo R. Delgado,Rudy Garcia,Frank Chilese,Leonard E. Klebanoff,John R. Torczynski,Anthony S. Geller,Daniel S. RADER. Владелец: Sandia Corporation. Дата публикации: 2014-08-21.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210033981A1. Автор: Yuta TAKASHIMA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-02-04.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2035745A. Автор: UENO Yoshifumi,NISHIMURA Yuichi,Kitasaka Shogo. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-05-02.

Extreme ultraviolet light generation device

Номер патента: US20180314161A1. Автор: Toru Suzuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-11-01.

Extreme ultraviolet lithography patterning method

Номер патента: US20240153773A1. Автор: Yoshihiro Kato,Choong-Man Lee,Toshio Hasegawa,Soo Doo Chae,Angelique RALEY,Qiaowei Lou. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Extreme ultraviolet lithography patterning method

Номер патента: WO2023023258A1. Автор: Yoshihiro Kato,Toshio Hasegawa,Soo Doo Chae,Angelique RALEY,Qiaowei Lou,Choongman LEE. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2023-02-23.

Extreme ultraviolet light source device

Номер патента: US11774856B2. Автор: Hironobu Yabuta,Hajime Kikuiri. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2023-10-03.

Extreme ultraviolet lithography system

Номер патента: US20210033983A1. Автор: Chi Yang,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Che-Chang Hsu,Ssu-Yu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-02-04.

Device and method to remove debris from an extreme ultraviolet (euv) lithography system

Номер патента: US20230375950A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH,Chun-Han Lin,Sheng-Kang Yu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2027481B1. Автор: UEDA Atsushi,KOGE Koichiro,OSANAI Takayuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-06-01.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20220110204A1. Автор: Fumio Iwamoto. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-04-07.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2029105A. Автор: IWAMOTO Fumio. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-06-01.

Droplet generator and method of sevicing extreme ultraviolet radiation source apparatus

Номер патента: US20200004168A1. Автор: Chia-Chen Chen,Li-Jui Chen,Shao-Hua Wang,Han-Lung Chang,Ming-Hsun Tsai,Yen-Hsun Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-01-02.

Collector in an Extreme Ultraviolet Lithography System with Optimal Air Curtain Protection

Номер патента: US20150261094A1. Автор: Tsung-Yu Chen,Shinn-Sheng Yu,Chia-Chen Chen,Chia-Hao Hsu,Chia-Ching HUANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-09-17.

Gas jet nozzle for extreme ultraviolet light source

Номер патента: EP1150169A3. Автор: Charles W. Clendening, Jr.,Roy D. McGregor. Владелец: TRW Inc. Дата публикации: 2002-04-03.

Extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: US10842011B2. Автор: Kengo Hayashi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-11-17.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240184220A1. Автор: Yoshifumi Ueno,Yuichi Nishimura,Kotaro Miyashita. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-06-06.

Extreme Ultraviolet Photolithography Method with Infiltration for Enhanced Sensitivity and Etch Resistance

Номер патента: US20210080832A1. Автор: Christine Y OUYANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-03-18.

Extreme ultraviolet light generation apparatus, target control method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2027803A. Автор: Abe Toru. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-11-23.

Extreme ultraviolet light generation apparatus, target control method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2027803B1. Автор: Abe Toru. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-06-15.

Reflective mask for extreme ultraviolet lithography and a method of fabricating a semiconductor device using the same

Номер патента: US20240219824A1. Автор: Akio Misaka,Noyoung CHUNG,Seokyun Jeong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-04.

Ultraviolet reflector with coolant gas holes and method

Номер патента: WO2010048237A2. Автор: Tuan Anh Nguyen,Thomas Nowak,Andrzej Kaszuba,Sanjeev Baluja,Yao-Hung Yang,Dustin W. Ho,Juan Carlos Rocha. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2010-04-29.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS

Номер патента: US20150008345A1. Автор: Wakabayashi Osamu,NAGAI Shinji,ABE Tamotsu,NAGANO Hitoshi. Владелец: . Дата публикации: 2015-01-08.

APPARATUS AND METHOD FOR PREVENTION OF CONTAMINATION ON COLLECTOR OF EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE

Номер патента: US20200041783A1. Автор: Wu Zhiqiang,Wu Chung-Cheng,Liu Kuo-An,CHEN Li-Jui,YU Sheng-Kang,CHANG Gwan-Sin,PULICHERLA Bharath Kumar. Владелец: . Дата публикации: 2020-02-06.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS

Номер патента: US20200068697A1. Автор: FUKUDA Osamu. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2020-02-27.

APPARATUS AND METHOD FOR GENERATING EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION

Номер патента: US20200075190A1. Автор: Chang Chun-Lin,CHANG Han-Lung,CHEN Li-Jui,CHENG Ting-Ya. Владелец: . Дата публикации: 2020-03-05.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION DEVICE

Номер патента: US20170094767A1. Автор: UEDA Atsushi,UENO Yoshifumi,NAGAI Shinji,ABE Tamotsu. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2017-03-30.

System and method for generating extreme ultraviolet light, and laser apparatus

Номер патента: US09509115B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Tatsuya Yanagida. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2016-11-29.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT CONDENSATION MIRROR, EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT CONDENSATION MIRROR MANUFACTURING METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20210193344A1. Автор: ANDO Masahiko. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2021-06-24.

Extreme ultraviolet chamber apparatus, extreme ultraviolet light generation system, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20200312479A1. Автор: Atsushi Ueda,Georg Soumagne,Gota Niimi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-10-01.

An extreme ultraviolet light system and a method of generating an extreme ultraviolet light

Номер патента: TWI599269B. Автор: 威廉Ｎ 派特洛,伊克爾Ｖ 佛門哥,亞歷山大Ｉ 艾瑟夫,查理斯Ｃ 查羅巴克,詹姆斯Ｈ 克羅奇. Владелец: Ａｓｍｌ荷蘭公司. Дата публикации: 2017-09-11.

Mirror for extreme ultraviolet light and extreme ultraviolet light generating apparatus

Номер патента: US11614572B2. Автор: Yoshiyuki Honda,Osamu Wakabayashi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-03-28.

Defect detection system for extreme ultraviolet lithography mask

Номер патента: US09546964B2. Автор: Ming Liu,Xiaoli Zhu,Dongmei Li,Changqing Xie,Hailiang Li,Lina Shi,Jiebin Niu. Владелец: Institute of Microelectronics of CAS. Дата публикации: 2017-01-17.

Extreme ultraviolet light generation system, laser beam size controlling method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2025490B9. Автор: YABU Takayuki,NISHIMURA Yuichi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-07-14.

Inspection system for extreme ultraviolet (euv) light source

Номер патента: US20230142835A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Sheng-Kang Yu,Chiao-Hua Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-05-11.

Extreme ultraviolet light generation system, laser beam size controlling method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20200393687A1. Автор: Yuichi Nishimura,Takayuki Yabu. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-12-17.

Extreme ultraviolet light generation system, laser beam size controlling method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2025490B1. Автор: YABU Takayuki,NISHIMURA Yuichi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-01-25.

Multilayer extreme ultraviolet reflector materials

Номер патента: US20230067566A1. Автор: Wen Xiao,Vibhu Jindal,Binni VARGHESE. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-03-02.

Extreme ultraviolet mask blank with alloy absorber, method of manufacturing extreme ultraviolet mask blank, and extreme ultraviolet mask blank production system

Номер патента: TW202232225A. Автор: 維胡 吉達. Владелец: 美商應用材料股份有限公司. Дата публикации: 2022-08-16.

MIRROR FOR EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATING APPARATUS

Номер патента: US20200209444A1. Автор: Wakabayashi Osamu,Honda Yoshiyuki. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2020-07-02.

Extreme ultraviolet lithography method, extreme ultraviolet mask and formation method thereof

Номер патента: US11392022B2. Автор: BO-TSUN Liu,Chih-Tsung Shih,Yu-Hsun Wu,Tsung-Chuan LEE. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-07-19.

Extreme ultraviolet lithography mask and multilayer deposition method for fabricating same

Номер патента: US09557636B2. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Extreme ultraviolet light (EUV) photomasks and fabrication methods thereof

Номер патента: US09588419B2. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen,Chih-Tsung Shih. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-03-07.

Extreme Ultraviolet Mask Blank With Multilayer Absorber And Method Of Manufacture

Номер патента: US20180031964A1. Автор: Jindal Vibhu. Владелец: . Дата публикации: 2018-02-01.

Extreme Ultraviolet Mask Blank With Alloy Absorber And Method Of Manufacture

Номер патента: US20180031965A1. Автор: Jindal Vibhu. Владелец: . Дата публикации: 2018-02-01.

Extreme Ultraviolet Mask Blank With Alloy Absorber And Method Of Manufacture

Номер патента: US20210124256A1. Автор: Jindal Vibhu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-04-29.

METHOD FOR GENERATING EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION AND AN EXTREME ULTRAVIOLET (EUV) RADIATION SOURCE

Номер патента: US20200105431A1. Автор: LIN CHUNG-HUNG,WEN Chih-wei,LIU TZU HAN. Владелец: . Дата публикации: 2020-04-02.

Method for generating extreme ultraviolet radiation and an extreme ultraviolet (EUV) radiation source

Номер патента: US11239001B2. Автор: Chung-Hung Lin,Chih-Wei Wen,Tzu Han Liu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-02-01.

Extreme ultraviolet reflective element with multilayer stack and method of manufacturing thereof

Номер патента: EP3167474A4. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-04-18.

System and method for generation of extreme ultraviolet light

Номер патента: US09544984B2. Автор: Alexander Bykanov,Daniel C. Wack,Joseph Walsh,Konstantin Tsigutkin,Oleg KHODYKIN,Layton Hale,Rudy F. Garcia,Frank Chilese,Brian Ahr. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2017-01-10.

Extreme ultraviolet reflective element with multilayer stack and method of manufacturing thereof

Номер патента: US20160011502A1. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-01-14.

LASER APPARATUS FOR GENERATING EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT

Номер патента: US20200068695A1. Автор: Wakabayashi Osamu,YANAGIDA Tatsuya,NAGANO Hitoshi,WADA Yasunori. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2020-02-27.

Extreme Ultraviolet Mask Blank With Multilayer Absorber And Method Of Manufacture

Номер патента: US20220082925A1. Автор: Jindal Vibhu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-03-17.

EXTREME ULTRAVIOLET (EUV) LITHOGRAPHY MASK

Номер патента: US20190113836A1. Автор: Wood,Sun Lei,Beique Genevieve,Verduijn Erik,Chen Yulu,Goodwin Francis,II Obert R.. Владелец: . Дата публикации: 2019-04-18.

Extreme ultraviolet mask and method for forming the same

Номер патента: US20220269163A1. Автор: Yun-Yue Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-08-25.

Extreme ultraviolet photomask and methods and apparatuses for manufacturing the extreme ultraviolet photomask

Номер патента: CN101750874B. Автор: 张日容,禹相均,许圣民. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2013-06-12.

Method of manufacturing an extreme ultraviolet (euv) mask and the mask manufactured therefrom

Номер патента: US20160161838A1. Автор: Ming-Yun Chen,Chia-Hao Yu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-06-09.

Extreme ultraviolet source temperature monitoring using confocal sensor

Номер патента: US20240201581A1. Автор: Patrick Tae,Caijun Su. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Method Of Manufacturing An Extreme Ultraviolet (EUV) Mask And The Mask Manufactured Therefrom

Номер патента: US20150030970A1. Автор: Yuan-Chih Chu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-01-29.

Extreme ultraviolet mask with backside coating

Номер патента: SG11202103168TA. Автор: Vikash Banthia,Madhavi R Chandrachood,Vibhu Jindal. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-05-28.

Method of manufacturing an extreme ultraviolet (EUV) mask and the mask manufactured therefrom

Номер патента: US09817307B2. Автор: Ming-Yun Chen,Chia-Hao Yu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-11-14.

Method of manufacturing an extreme ultraviolet (EUV) mask and the mask manufactured therefrom

Номер патента: US9664995B2. Автор: Yuan-Chih Chu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

High Durability Extreme Ultraviolet Photomask

Номер патента: US20180373138A1. Автор: Jeng-Horng Chen,Chih-Tsung Shih,Chia-Hao Yu,Chi-Lun Lu,Ching-Wei Shen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-12-27.

Method of manufacturing an extreme ultraviolet (euv) mask and the mask manufactured therefrom

Номер патента: US20160223897A1. Автор: Yuan-Chih Chu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-08-04.

Extreme ultraviolet source temperature monitoring using confocal sensor

Номер патента: WO2024130057A1. Автор: Patrick Tae,Caijun Su. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2024-06-20.

Methods and Systems for Evaluating Extreme Ultraviolet Mask Flatness

Номер патента: US20120075604A1. Автор: Sang Lee,Gian Francesco Lorusso. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2012-03-29.

Method to fabricate extreme ultraviolet lithography masks

Номер патента: US20020012855A1. Автор: Pei-Yang Yan,Mark Tran. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-01-31.

Extreme ultraviolet mask with reduced wafer neighboring effect

Номер патента: US12130548B2. Автор: Hsin-Chang Lee,Chia-Jen Chen,Wen-Chang Hsueh,Huan-Ling Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Extreme ultraviolet light (EUV) photomasks, and fabrication methods thereof

Номер патента: US09869928B2. Автор: Anthony Yen,Chih-Tsung Shih,Hsin-Chang Lee,Chia-Jen Chen,Tao-Min HUANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Reflective masks for use in extreme ultraviolet lithography apparatus and methods of manufacturing the same

Номер патента: US09645484B2. Автор: Seong-Sue Kim,In-sung Kim,Tae-Geun Kim,Hwan-Seok Seo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-05-09.

Extreme ultraviolet lithography process and mask with reduced shadow effect and enhanced intensity

Номер патента: US09488905B2. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-11-08.

EXTREME ULTRAVIOLET MASK AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20130071778A1. Автор: Moon Jae In. Владелец: HYNIX SEMICONDUCTOR INC.. Дата публикации: 2013-03-21.

REFLECTIVE EXTREME ULTRAVIOLET MASK AND METHOD OF FORMING A PATTERN USING THE SAME

Номер патента: US20130288166A1. Автор: Lee Dong-gun,KIM Seong-Sue,KIM Tae-Geun. Владелец: . Дата публикации: 2013-10-31.

CRITICAL DIMENSION VARIATION CORRECTION IN EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY

Номер патента: US20190004417A1. Автор: Oshemkov Sergey,Kruglyakov Vladimir,PERETS Yuval,Blumrich Frederik. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-01-03.

EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY MASK

Номер патента: US20150009482A1. Автор: Lu Yen-Cheng,Yu Shinn-Sheng,Yen Anthony. Владелец: . Дата публикации: 2015-01-08.

Extreme Ultraviolet Mask Absorber Materials

Номер патента: US20200026178A1. Автор: RASTEGAR Abbas,Jindal Vibhu,Liu Shuwei,Varghese Binni,Fong Hui Ni Grace. Владелец: . Дата публикации: 2020-01-23.

NOVEL METHOD AND APPARATUS FOR FABRICATION OF VERY LARGE SCALE INTEGRATION PATTERN FEATURES VIA ELECTROLESS DEPOSITION ON EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY PHOTOMASKS

Номер патента: US20210026234A1. Автор: Cao Yang,MAGANA John,ZHANG Guojing. Владелец: . Дата публикации: 2021-01-28.

Method Of Manufacturing An Extreme Ultraviolet (EUV) Mask And The Mask Manufactured Therefrom

Номер патента: US20150030970A1. Автор: CHU Yuan-Chih. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd.. Дата публикации: 2015-01-29.

EXTREME ULTRAVIOLET MASK AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20200041892A1. Автор: Chou Shuo-Yen,CHEN Minfeng. Владелец: . Дата публикации: 2020-02-06.

Extreme Ultraviolet Lithography Process and Mask

Номер патента: US20160048071A1. Автор: Chen Jeng-Horng,Lu Yen-Cheng,Yu Shinn-Sheng,Yen Anthony. Владелец: . Дата публикации: 2016-02-18.

EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY PROCESS AND MASK WITH REDUCED SHADOW EFFECT AND ENHANCED INTENSITY

Номер патента: US20170052441A1. Автор: Chen Jeng-Horng,Lu Yen-Cheng,Yu Shinn-Sheng,Yen Anthony. Владелец: . Дата публикации: 2017-02-23.

Extreme Ultraviolet (Euv) Mask And Method Of Fabricating The Euv Mask

Номер патента: US20150064611A1. Автор: Chen Jeng-Horng,Yu Shinn-Sheng,Yen Anthony,Lee Chung-Ju,Shih Chih-Tsung,Yao Hsin-Chieh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd.. Дата публикации: 2015-03-05.

EXTREME ULTRAVIOLET MASK AND METHOD FOR FORMING THE SAME

Номер патента: US20210063865A1. Автор: Lin Yun-Yue. Владелец: . Дата публикации: 2021-03-04.

Extreme Ultraviolet Lithography Process And Mask

Номер патента: US20150085268A1. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-03-26.

EXTREME ULTRAVIOLET MASK WITH TANTALUM BASE ALLOY ABSORBER

Номер патента: US20220137499A1. Автор: Lee Hsin-Chang,Hsu Pei-Cheng,Lien Ta-Cheng. Владелец: . Дата публикации: 2022-05-05.

Extreme Ultraviolet Lithography Process and Mask

Номер патента: US20150098069A1. Автор: Chen Jeng-Horng,Lu Yen-Cheng,Yu Shinn-Sheng,Yen Anthony. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.. Дата публикации: 2015-04-09.

Extreme Ultraviolet Lithography Process and Mask

Номер патента: US20150104734A1. Автор: Chen Jeng-Horng,Yu Shinn-Sheng,Yen Anthony,Shih Chih-Tsung. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.. Дата публикации: 2015-04-16.

EXTREME ULTRAVIOLET MASK AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20190101817A1. Автор: Lin Yun-Yue. Владелец: . Дата публикации: 2019-04-04.

EXTREME ULTRAVIOLET CONTROL SYSTEM

Номер патента: US20190101831A1. Автор: CHEN Li-Jui,CHIEN Shang-Chieh,CHENG Po-Chung,CHUNG Jen-Yang,HSIEH Chieh. Владелец: . Дата публикации: 2019-04-04.

EXTREME ULTRAVIOLET MASK BLANK DEFECT REDUCTION METHODS

Номер патента: US20210124253A1. Автор: Jindal Vibhu,Xiao Wen,Bhat Sanjay,Liu Shuwei,Zerrade Azeddine,Yoong Herng Yau. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-04-29.

APPARATUS AND METHOD FOR MONITORING REFLECTIVITY OF THE COLLECTOR FOR EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION SOURCE

Номер патента: US20200103746A1. Автор: CHEN Li-Jui,YANG Chi,CHENG Po-Chung,HSU Che-Chang,HUANG YU-CHIH. Владелец: . Дата публикации: 2020-04-02.

REFLECTIVE MASKS FOR USE IN EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY APPARATUS AND METHODS OF MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20160116835A1. Автор: SEO Hwan-seok,KIM Seong-Sue,KIM Tae-Geun,KIM In-Sung. Владелец: . Дата публикации: 2016-04-28.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE APPARATUS AND METHOD OF GENERATING ULTRAVIOLET LIGHT

Номер патента: US20130256568A1. Автор: Wakabayashi Osamu,UENO Yoshifumi,ENDO Akira,SASAKI Youichi. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2013-10-03.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE DEVICE AND METHOD FOR GENERATING EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT

Номер патента: US20130284949A1. Автор: HORI Tsukasa,YANAGIDA Tatsuya,KOMORI Hiroshi,UENO Yoshifumi,SUMITANI Akira,ENDO Akira. Владелец: . Дата публикации: 2013-10-31.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION METHOD

Номер патента: US20130320232A1. Автор: Wakabayashi Osamu,HORI Tsukasa,FUJIMOTO Junichi. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2013-12-05.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SENSOR UNIT AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION DEVICE

Номер патента: US20190021159A1. Автор: ISHII Takuya,NARA Hisashi,SOMEYA Hiroshi. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2019-01-17.

Extreme-ultraviolet light source device and method for generating extreme-ultraviolet light

Номер патента: WO2011102277A1. Автор: 弘司 柿崎,若林　理,司 堀,柳田　達哉. Владелец: ギガフォトン株式会社. Дата публикации: 2011-08-25.

Target supply device, extreme ultraviolet light generation apparatus, and method for supplying target

Номер патента: US20130221246A1. Автор: Hideo Hoshino,Tatsuya Yanagida,Tsukasa Hori. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2013-08-29.

Extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: EP2721908A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Tatsuya Yanagida. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2014-04-23.

Target supply device, extreme ultraviolet light generation apparatus, and method for supplying target

Номер патента: US8742380B2. Автор: Hideo Hoshino,Tatsuya Yanagida,Tsukasa Hori. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2014-06-03.

LASER DEVICE, LASER APPARATUS, AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM

Номер патента: US20130092849A1. Автор: Wakabayashi Osamu,Nowak Krzysztof. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2013-04-18.

TARGET SUPPLY DEVICE, EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS, AND METHOD FOR SUPPLYING TARGET

Номер патента: US20130221246A1. Автор: HORI Tsukasa,YANAGIDA Tatsuya,HOSHINO Hideo. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2013-08-29.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE APPARATUS

Номер патента: US20130256567A1. Автор: KAKIZAKI Kouji,YANAGIDA Tatsuya,NAGAI Shinji. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2013-10-03.

System, Method and Apparatus for Laser Produced Plasma Extreme Ultraviolet Chamber with Hot Walls and Cold Collector Mirror

Номер патента: US20140048099A1. Автор: Partlo William N.,Fomenkov Igor V.. Владелец: CYMER, LLC. Дата публикации: 2014-02-20.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM

Номер патента: US20140084183A1. Автор: Wakabayashi Osamu,YANAGIDA Tatsuya. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2014-03-27.

DROPLET DETECTOR AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATING APPARATUS

Номер патента: US20180007771A1. Автор: UENO Yoshifumi,YABU Takayuki,HOSODA Hirokazu,SATOU Kouichi. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2018-01-04.

System, Method and Apparatus for Aligning and Synchronizing Target Material for Optimum Extreme Ultraviolet Light Output

Номер патента: US20140103229A1. Автор: Ershov Alexander I.,Chroback Christopher C.,Partlo William N.,Fomenkov Igor V,Crouch James H.. Владелец: CYMER, LLC. Дата публикации: 2014-04-17.

VIEWPORT PROTECTOR FOR AN EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE

Номер патента: US20140126043A1. Автор: Senekerimyan Vahan. Владелец: . Дата публикации: 2014-05-08.

Method of Timing Laser Beam Pulses to Regulate Extreme Ultraviolet Light Dosing

Номер патента: US20140191132A1. Автор: Liu Andrew,Graham Matthew R.,Chang Steven,Schafgans Alexander,Crouch James,Frihauf Paul,Dunstan Wayne. Владелец: CYMER, INC.. Дата публикации: 2014-07-10.

Method of Timing Laser Beam Pulses to Regulate Extreme Ultraviolet Light Dosing

Номер патента: US20140191133A1. Автор: Liu Andrew,Graham Matthew R.,Crouch James,Jacques Robert. Владелец: CYMER, INC.. Дата публикации: 2014-07-10.

Variable Radius Mirror Dichroic Beam Splitter Module for Extreme Ultraviolet Source

Номер патента: US20160174351A1. Автор: Robert J. Rafac,Michael Purvis,Alexander Schafgans,Kevin W. Zhang. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-06-16.

Structure electron beam inspection system for inspecting extreme ultraviolet mask and structure for discharging extreme ultraviolet mask

Номер патента: US09572237B2. Автор: You-Jin Wang,Chiyan Kuan,Chung-Shih Pan. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2017-02-14.

Variable radius mirror dichroic beam splitter module for extreme ultraviolet source

Номер патента: US09516729B2. Автор: Robert J Rafac,Michael Purvis,Alexander Schafgans,Kevin W Zhang. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-12-06.

Extreme ultraviolet light source, exposure apparatus, and integrated rotary structure fabricating method

Номер патента: US09927601B2. Автор: Qiang Wu,Liwan Yue. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2018-03-27.

Extreme ultraviolet radiation in genomic sequencing and other applications

Номер патента: EP3411692A1. Автор: Supriya JAISWAL. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-12-12.

Extreme Ultraviolet Radiation in Genomic Sequencing and Other Applications

Номер патента: US20200140941A1. Автор: Supriya JAISWAL. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-05-07.

Extreme ultraviolet radiation in genomic sequencing and other applications

Номер патента: US11718871B2. Автор: Supriya JAISWAL. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-08-08.

Hybrid extreme ultraviolet imaging spectrometer

Номер патента: US20170062198A1. Автор: Norman A. Sanford,Ann Chiaramonti Debay,Brian P. Gorman,David R. Diercks. Владелец: US Department of Commerce. Дата публикации: 2017-03-02.

Hybrid extreme ultraviolet imaging spectrometer

Номер патента: US09899197B2. Автор: Norman A. Sanford,Ann Chiaramonti Debay,Brian P. Gorman,David R. Diercks. Владелец: US Department of Commerce. Дата публикации: 2018-02-20.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US09622332B2. Автор: Toru Suzuki,Hiroshi Tanaka,Osamu Wakabayashi,Hideyuki Hayashi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-04-11.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2028934A. Автор: YABU Takayuki,TAKASHIMA Yuta. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-05-09.

Optical module for extreme ultraviolet light source

Номер патента: EP4405732A1. Автор: Jaden Robert BANKHEAD,Paul Alexander MCKENZIE,Erik Fernando HUERTA,Moonseob Jin. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-07-31.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US11924954B2. Автор: Takayuki Yabu,Yuta TAKASHIMA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-03-05.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2028934B1. Автор: YABU Takayuki,TAKASHIMA Yuta. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-06-12.

Structure electron beam inspection system for inspecting extreme ultraviolet mask and structure for discharging extreme ultraviolet mask

Номер патента: US20150305131A1. Автор: You-Jin Wang,Chiyan Kuan,Chung-Shih Pan. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2015-10-22.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2034729A. Автор: YABU Takayuki,TAKASHIMA Yuta. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-06-15.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2034729B1. Автор: YABU Takayuki,TAKASHIMA Yuta. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-01-25.

Structure for discharging extreme ultraviolet mask

Номер патента: US20120292509A1. Автор: You-Jin Wang,Chiyan Kuan,Chung-Shih Pan. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2012-11-22.

Extreme ultraviolet radiation in genomic sequencing and other applications

Номер патента: CA3012825C. Автор: Supriya JAISWAL. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-02-13.

Structure for discharging extreme ultraviolet mask

Номер патента: US20140027634A1. Автор: You-Jin Wang,Chiyan Kuan,Chung-Shih Pan. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2014-01-30.

Extreme ultraviolet reflectometer with rotating grating monochrometer

Номер патента: WO2006080909A1. Автор: James H. Underwood,Rupert C. C. Perrera,Phillip J. Batson. Владелец: Batson Phillip J. Дата публикации: 2006-08-03.

Critical dimension uniformity monitoring for extreme ultraviolet reticles

Номер патента: US09863761B2. Автор: Rui-Fang Shi,Abdurrahman Sezginer,Alex Pokrovskiy,Weston L. Sousa. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2018-01-09.

Method for Forming an Extreme Ultraviolet Lithography Pellicle

Номер патента: US20210191255A1. Автор: Ivan Pollentier,Cedric Huyghebaert,Emily Gallagher,Marina Timmermans,Elie Schapmans. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2021-06-24.

Optical proximity correction method and method of manufacturing extreme ultraviolet mask by using the same

Номер патента: US20220413377A1. Автор: Dongwon Kang,Narak Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-12-29.

Extreme ultraviolet (EUV) pod having marks

Номер патента: US09817306B2. Автор: Long-Ming Lu,Cheng-Hsin Chen,Tien-Jui Lin,Wei-Yen Chen,Cheng-Ju Lee. Владелец: Gudeng Precision Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-14.

EXTREME ULTRAVIOLET MASK BLANK PRODUCTION SYSTEM WITH THIN ABSORBER AND MANUFACTURING SYSTEM THEREFOR

Номер патента: US20160011499A1. Автор: Hofmann Ralf,FOAD MAJEED A.,Hassan Vinayak Vishwanath,Beasley Cara. Владелец: . Дата публикации: 2016-01-14.

PLANARIZED EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY BLANK WITH ABSORBER AND MANUFACTURING SYSTEM THEREFOR

Номер патента: US20160011500A1. Автор: Hofmann Ralf,FOAD MAJEED A.,Hassan Vinayak Vishwanath,Beasley Cara. Владелец: . Дата публикации: 2016-01-14.

Extreme Ultraviolet (EUV) Mask, Method Of Fabricating The EUV Mask And Method Of Inspecting The EUV Mask

Номер патента: US20150037712A1. Автор: Chen Jeng-Horng,Lu Yen-Cheng,Yu Shinn-Sheng,Yen Anthony,Shih Chih-Tsung. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd.. Дата публикации: 2015-02-05.

PROTECTION LAYER ON LOW THERMAL EXPANSION MATERIAL (LTEM) SUBSTRATE OF EXTREME ULTRAVIOLET (EUV) MASK

Номер патента: US20200057363A1. Автор: Lee Hsin-Chang,Wang Shih-Che,Hsu Pei-Cheng,Lien Ta-Cheng,LIN Ping-Hsun. Владелец: . Дата публикации: 2020-02-20.

Method Of Manufacturing An Extreme Ultraviolet (EUV) Mask And The Mask Manufactured Therefrom

Номер патента: US20150072270A1. Автор: Chen Ming-Yun,Yu Chia-Hao. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd.. Дата публикации: 2015-03-12.

METHODS OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICES, METHOD SOF PERFORMING EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE, AND METHODS OF PERFORMING OPTICAL PROXIMITY CORRECTION

Номер патента: US20200064728A1. Автор: MISAKA Akio,CHUNG NO-YOUNG,KIM Ki-soo. Владелец: . Дата публикации: 2020-02-27.

OPTICAL PROXIMITY CORRECTION METHOD AND METHOD OF MANUFACTURING EXTREME ULTRAVIOLET MASK BY USING THE OPTICAL PROXIMITY CORRECTION METHOD

Номер патента: US20160077426A1. Автор: Lee Sang-Hwa,Jang Sung-hoon. Владелец: . Дата публикации: 2016-03-17.

EXTREME ULTRAVIOLET MASK AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20200073225A1. Автор: Fu Shih-Chi,Shih Chih-Tsung,LIU Bo-Tsun,LEE Tsung Chuan,CHIEN Tsung-Chih,FU Chi-Hua,CHENG Kuotang. Владелец: . Дата публикации: 2020-03-05.

EXTREME ULTRAVIOLET (EUV) POD HAVING MARKS

Номер патента: US20160085144A1. Автор: CHEN Cheng-Hsin,LEE Cheng-Ju,CHEN Wei-Yen,LU LONG-MING,LIN TIEN-JUI. Владелец: . Дата публикации: 2016-03-24.

EXTREME ULTRAVIOLET (EUV) PHOTOMASK AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME

Номер патента: US20220100077A1. Автор: Lee Jeongjin,LEE Seung Yoon,Lee Moosong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2022-03-31.

Extreme ultraviolet lithography (euvl) alternating phase shift mask

Номер патента: US20140170533A1. Автор: Lei Sun,Vibhu Jindal,Pawitter S. Mangat,II Obert R. Wood. Владелец: Sematech Inc. Дата публикации: 2014-06-19.

MECHANICAL ISOLATION CONTROL FOR AN EXTREME ULTRAVIOLET (EUV) PELLICLE

Номер патента: US20170090281A1. Автор: Goldfarb Dario L.. Владелец: . Дата публикации: 2017-03-30.

DISPOSITIONING DEFECTS DETECTED ON EXTREME ULTRAVIOLET PHOTOMASKS

Номер патента: US20200096862A1. Автор: Tolani Vikram,Satake Masaki,Sousa Weston L.. Владелец: . Дата публикации: 2020-03-26.

EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY PATTERNING WITH DIRECTIONAL DEPOSITION

Номер патента: US20200098578A1. Автор: Fan Su Chen,Mignot Yann,De Silva Ekmini Anuja,Xu Yongan. Владелец: . Дата публикации: 2020-03-26.

EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY PATTERNING WITH DIRECTIONAL DEPOSITION

Номер патента: US20200098581A1. Автор: Fan Su Chen,Mignot Yann,De Silva Ekmini Anuja,Xu Yongan. Владелец: . Дата публикации: 2020-03-26.

VESSEL FOR EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION SOURCE

Номер патента: US20200103758A1. Автор: CHEN Li-Jui,YANG Chi,CHIEN Shang-Chieh,CHENG Po-Chung,HSU Che-Chang,Chen Ssu-Yu. Владелец: . Дата публикации: 2020-04-02.

Extreme Ultraviolet Lithography System, Device, and Method for Printing Low Pattern Density Features

Номер патента: US20190121228A1. Автор: Chen Jeng-Horng,Lu Yen-Cheng,Yu Shinn-Sheng,Yen Anthony. Владелец: . Дата публикации: 2019-04-25.

Multilayer extreme ultraviolet film with heat stability and irradiation damage resistance

Номер патента: CN104765078A. Автор: 姚舜,王珣,喻波,靳京城. Владелец: Changchun Institute of Optics Fine Mechanics and Physics of CAS. Дата публикации: 2015-07-08.

Laser apparatus, extreme ultraviolet light generation system, method for controlling the laser apparatus, and method for generating the extreme ultraviolet light

Номер патента: EP2673856A2. Автор: Osamu Wakabayashi,Krzysztof Nowak. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2013-12-18.

Laser apparatus, extreme ultraviolet light generation system, method for controlling the laser apparatus, and method for generating the extreme ultraviolet light

Номер патента: US09570884B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Krzysztof Nowak. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-02-14.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and extreme ultraviolet light generation apparatus controlling method

Номер патента: US20200185212A1. Автор: Takashi Saito,Atsushi Ueda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-06-11.

Extreme ultraviolet radiation source module, extreme ultraviolet lithography system and extreme ultraviolet lithography process

Номер патента: TWI569689B. Автор: 盧彥丞,陳政宏,吳善德,陳子祥. Владелец: 台灣積體電路製造股份有限公司. Дата публикации: 2017-02-01.

Extreme ultraviolet light source, extreme ultraviolet light source targets and methods of manufacturing an extreme ultraviolet light source target

Номер патента: EP1612848B1. Автор: Keiji NAGAI,Hiroaki NISHIMURA,Takayoshi NORIMATSU,Katsunobu NISHIHARA,Noriaki MIYANAGA,Masahiro NAKATSUKA,Yasukazu IZAWA,Tatsuhiko YAMANAKA,Mitsuo NAKAI,Keisuke SHIGEMORI,Masakatsu MURAKAMI,Yoshinori SHIMADA,Shigeaki UCHIDA,Hiroyuki Furukawa,Atsushi SUNAHARA,Vasilli ZHAKHOVSKI,Ryouji MATSUI,Takahiro HIBINO,Tomoharu OKUNO. Владелец: Osaka University NUC. Дата публикации: 2013-09-25.

Condenser for ring-field deep-ultraviolet and extreme-ultraviolet lithography

Номер патента: US6186632B1. Автор: Henry N. Chapman,Keith A. Nugent. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2001-02-13.

Extreme ultraviolet light source and target for extreme ultraviolet light source

Номер патента: CN1759467A. Автор: 岛田义则,中塚正大,宫永宪明,井泽靖和,松井亮二,奥野智晴,长井圭治,西村博明,乘松孝好,西原功修,山中龙彦,中山光男,重森启介,村上匡且,内田成明,古河裕之,砂石淳,瓦西利·扎克夫斯基,日比野隆宏. Владелец: Kansai Technology Licensing Organization Co Ltd. Дата публикации: 2006-04-12.

Optical assembly for use in illumination optics of optical system of projection exposure system for extreme ultraviolet-lithography, has output mirror for outputting extreme ultraviolet light from illumination beam path

Номер патента: DE102012207865B3. Автор: Ralf Scharnweber. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-07-11.

Extreme ultraviolet light generator, extreme ultraviolet light generation method, and manufacturing method of electronic device

Номер патента: JPWO2020003517A1. Автор: 健悟 林. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-08-02.

EXTREME ULTRAVIOLET (EUV) RADIATION SOURCE AND A METHOD FOR GENERATING EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION

Номер патента: US20200041908A1. Автор: CHEN Li-Jui,YANG Chi,CHIEN Shang-Chieh,CHENG Po-Chung,YEN Wei-Chun. Владелец: . Дата публикации: 2020-02-06.

Extreme ultraviolet light generating apparatus, extreme ultraviolet light generating method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210072646A1. Автор: Kengo Hayashi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-03-11.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT CONDENSATION MIRROR, EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS, AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20210124275A1. Автор: TOIDA Tomoyoshi. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2021-04-29.

Extreme ultraviolet light generating apparatus and method for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US20170205713A1. Автор: Takayuki Yabu. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-07-20.

APPROACH TO LOWERING EXTREME ULTRAVIOLET EXPOSURE DOSE FOR INORGANIC HARDMASKS FOR EXTREME ULTRAVIOLET PATTERNING

Номер патента: US20180203355A1. Автор: De Silva Ekmini A.,Seshadri Indira P.,Petrillo Karen E.. Владелец: . Дата публикации: 2018-07-19.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS, EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM, AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20210298160A1. Автор: UEDA Atsushi,Ishida Yuki,Yoshida Yoshiaki,KOGE Koichiro,OSANAI Takayuki,OHSAWA Akihiro,SHINTANI Toshiya,Takada Yosuke. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2021-09-23.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATING SYSTEM, EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATING METHOD, AND THOMSON SCATTERING MEASUREMENT SYSTEM

Номер патента: US20170280545A1. Автор: Wakabayashi Osamu,YANAGIDA Tatsuya,Tomita Kentaro,UCHINO Kiichiro,TOMURO Hiroaki. Владелец: . Дата публикации: 2017-09-28.

EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY METHOD, EXTREME ULTRAVIOLET MASK AND FORMATION METHOD THEREOF

Номер патента: US20210389661A1. Автор: Shih Chih-Tsung,WU YU-HSUN,LIU Bo-Tsun,LEE Tsung-Chuan. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd.. Дата публикации: 2021-12-16.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATING APPARATUS AND CONTROL METHOD FOR CENTROID OF EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT

Номер патента: US20180343729A1. Автор: YABU Takayuki,NISHIMURA Yuichi. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2018-11-29.

APPROACH TO LOWERING EXTREME ULTRAVIOLET EXPOSURE DOSE FOR INORGANIC HARDMASKS FOR EXTREME ULTRAVIOLET PATTERNING

Номер патента: US20180348636A1. Автор: De Silva Ekmini A.,Seshadri Indira P.,Petrillo Karen E.. Владелец: . Дата публикации: 2018-12-06.

Illumination lens for use in scanner-type projection illumination system e.g. stepper, for extreme ultraviolet microlithography, has correction element arranged in optical path of ultraviolet radiation between radiation source and location

Номер патента: DE102007041004A1. Автор: Wolfgang Singer,Martin Endres,Ralf STÜTZLE,Jens Ossmann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2009-03-05.

Extreme ultraviolet light generation system and method of generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US10057972B2. Автор: Yoshifumi Ueno,Hirokazu HOSODA,Takayuki Yabu. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-08-21.

Extreme ultraviolet light source device and extreme ultraviolet light generation method

Номер патента: JP4623192B2. Автор: 雄介 寺本,寛 溝越,拓馬 横山. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2011-02-02.

RESIN, TWO-LAYER RESIN FOR EXTREME ULTRAVIOLET (EUV) PHOTOLITHOGRAPHY AND METHOD FOR EXTREME ULTRAVIOLET (EUV) PHOTOLITHOGRAPHY

Номер патента: FR2812450B1. Автор: Andre Schiltz. Владелец: France Telecom SA. Дата публикации: 2003-01-10.

Method for the detection of the irradiance distribution in an extreme ultraviolet light source device and an extreme ultraviolet light source device

Номер патента: US8841625B2. Автор: Daiki Yamatani. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2014-09-23.

Extreme ultraviolet light source and target for extreme ultraviolet light source

Номер патента: WO2004086467A1. Автор: Hiroaki Nishimura,Yoshinori Shimada,Hiroyuki Furukawa,Mitsuo Nakai,Yasukazu Izawa,Masahiro Nakatsuka,Takayoshi Norimatsu,Keiji Nagai,Noriaki Miyanaga,Katsunobu Nishihara,Tatsuhiko Yamanaka,Keisuke Shigemori,Masakatsu Murakami,Shigeaki Uchida,Atsushi Sunahara,Vasilli Zhakhovski,Ryouji Matsui,Takahiro Hibino,Tomoharu Okuno. Владелец: Kansai Technology Licensing Organization Co., Ltd.. Дата публикации: 2004-10-07.

Method for generating extreme ultraviolet radiation and apparatus as a source of extreme ultraviolet light

Номер патента: DE602008002194D1. Автор: Kyohei Seki,Kazuhiko Horioka,Takuma Yokoyama,Tomonao Hosokai. Владелец: Tokyo Institute of Technology NUC. Дата публикации: 2010-09-30.

Extreme ultraviolet light source device and extreme ultraviolet radiation generating method

Номер патента: US20080237501A1. Автор: Kyohei Seki,Kazuhiko Horioka,Takuma Yokoyama,Tomonao Hosokai,Hiroshi Mizokoshi. Владелец: Tokyo Institute of Technology NUC. Дата публикации: 2008-10-02.

Extreme ultraviolet light source device and extreme ultraviolet radiation generating method

Номер патента: EP1976344A2. Автор: Kyohei Seki,Kazuhiko Horioka,Takuma Yokoyama,Tomonao Hosokai,Hiroshi Mizokoshi. Владелец: Tokyo Institute of Technology NUC. Дата публикации: 2008-10-01.

ULTRAVIOLET LIGHT GENERATING DEVICE AND APPLICATION TO A RADIATION LITHOGRAPHIC SOURCE IN THE EXTREME ULTRAVIOLET

Номер патента: FR2871622B1. Автор: Martin Schmidt,Olivier Sublemontier,Pierre Yves Thro,Guy Cheymol,Benoit Barthod,Philippe Cormont. Владелец: Alcatel Vacuum Technology France SAS. Дата публикации: 2008-09-12.

Control method of extreme ultraviolet light generator and extreme ultraviolet light generator

Номер патента: JP6977047B2. Автор: 隆志 斎藤,篤 植田. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-12-08.

Extreme ultraviolet light source and target for extreme ultraviolet light source

Номер патента: AU2003296155A1. Автор: Hiroaki Nishimura,Yoshinori Shimada,Hiroyuki Furukawa,Mitsuo Nakai,Yasukazu Izawa,Masahiro Nakatsuka,Takayoshi Norimatsu,Keiji Nagai,Noriaki Miyanaga,Katsunobu Nishihara,Tatsuhiko Yamanaka,Keisuke Shigemori,Masakatsu Murakami,Shigeaki Uchida,Atsushi Sunahara,Vasilli Zhakhovski,Ryouji Matsui,Takahiro Hibino,Tomoharu Okuno. Владелец: Kansai Technology Licensing Organization Co Ltd. Дата публикации: 2004-10-18.

Photoacid generator for chemically amplified photoresists for deep ultraviolet and extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US20230229077A1. Автор: Gerhard Ingmar Meijer,Peter Willem Jan Staar,Valery Weber. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2023-07-20.

System and method for rejuvenating an imaging sensor degraded by exposure to extreme ultraviolet or deep ultraviolet light

Номер патента: EP2837174A4. Автор: Gary Janik,Gildardo DELGADO. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2016-01-06.

Dispositioning defects detected on extreme ultraviolet photomasks

Номер патента: IL281403B2. Автор: . Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-04-01.

Euv cleaning systems and methods thereof for an extreme ultraviolet light source

Номер патента: US20180259861A1. Автор: Marc Guy Langlois. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-09-13.

Laser unit and extreme ultraviolet light generating system

Номер патента: US09954339B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Takashi Suganuma,Hakaru Mizoguchi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-04-24.

Drying an extreme ultraviolet (EUV) pellicle

Номер патента: US09950349B2. Автор: Dario L. Goldfarb. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-04-24.

Laser amplifier, laser apparatus, and extreme ultraviolet light generating system

Номер патента: US09685756B2. Автор: Hideo Hoshino,Takashi Suganuma. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-06-20.

Extreme ultraviolet photolithography method with developer composition

Номер патента: US20240377731A1. Автор: Joy Cheng,Ching-Yu Chang,Chin-Hsiang Lin,An-Ren Zi. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-11-14.

Euv chamber apparatus, extreme ultraviolet light generation system, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210029811A1. Автор: Takashi Okada,Toshihiro Nishisaka,Yusuke Hoshino,Kouichiro KOUGE. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-01-28.

System and method for focus control in extreme ultraviolet lithography systems using a focus-sensitive metrology target

Номер патента: US20220214625A1. Автор: Xuemei Chen,Roel Gronheid. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2022-07-07.

Euv cleaning systems and methods thereof for an extreme ultraviolet light source

Номер патента: WO2018164819A1. Автор: Marc Guy Langlois. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2018-09-13.

Euv cleaning systems and methods thereof for an extreme ultraviolet light source

Номер патента: NL2020434A. Автор: Guy Langlois Marc. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-09-17.

Extreme Ultraviolet Lithography with Reduced Exposure Dose and Negative Tone Development

Номер патента: US20170315447A1. Автор: Ching-Yu Chang,Chen-Yu Liu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-11-02.

Extreme ultraviolet (euv) polarization splitter

Номер патента: US20200124978A1. Автор: Minfeng CHEN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-04-23.

Continuous generation of extreme ultraviolet light

Номер патента: WO2014205410A1. Автор: Qiang Zhang,Layton C. Hale,Francis C. Chilese. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2014-12-24.

Extreme ultraviolet lithography projection optics system and associated methods.

Номер патента: NL2013719A. Автор: Lu Yen-Cheng,Yu Shinn-Sheng,Yen Anthony. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg Co Ltd. Дата публикации: 2016-01-19.

Extreme ultraviolet light source device

Номер патента: EP4167030A4. Автор: Hironobu Yabuta,Hajime Kikuiri. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2024-08-21.

Method of generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: TW200404483A. Автор: Günther Hans DERRA,Ulrich Niemann. Владелец: Koninkl Philips Electronics Nv. Дата публикации: 2004-03-16.

Method of generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: TWI304306B. Автор: Niemann Ulrich,Hans Derra Gunther. Владелец: Koninkl Philips Electronics Nv. Дата публикации: 2008-12-11.

Laser amplification device and extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US20230051665A1. Автор: Tatsuya Yamamoto,Junichi Nishimae,Yuzuru TADOKORO. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2023-02-16.

Transport system for an extreme ultraviolet light source

Номер патента: WO2015034687A1. Автор: Bruno LaFontaine,Alexander I. Ershov,Silvia De Dea,Gregory J. Wilson,Brandon W. VERHOFF. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2015-03-12.

Laser apparatus, extreme ultraviolet light generation system including the laser apparatus, and method for controlling the laser apparatus

Номер патента: WO2012114172A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Motoki Niwano,Kenichi Miyao. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2012-08-30.

Extreme ultraviolet inner pod seal gap

Номер патента: EP4423571A1. Автор: Russ V. Raschke. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-09-04.

Extreme ultraviolet illumination source

Номер патента: US20060017024A1. Автор: Bryan Rice,Manish Chandhok,Eric Panning. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2006-01-26.

Reticle in an apparatus for extreme ultraviolet exposure

Номер патента: US20210302825A1. Автор: Hoon Kim,Minho Kim,Heebom Kim,Jongkeun OH,Mankyu KANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-09-30.

Apparatus for cleaning an extreme ultraviolet light creation chamber

Номер патента: US20240280917A1. Автор: Jung Dohyun,Sanggon Shin,Seunghee Lee,Jinwook Jung,Sungwook Kang,Youngduk SUH. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Hybrid photoresist composition for extreme ultraviolet photolithography applications

Номер патента: US20240264525A1. Автор: Takuo Sugioka,Tsuyoshi Goya,Albert Manfred Brouwer,Quentin Jack Omer EVRARD. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-08-08.

Tilt stage, extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240248416A1. Автор: Takuya Ishii,Shinichi Hagiwara,Yuto Tanaka. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-07-25.

Tilt stage, extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2036526A. Автор: ISHII Takuya,HAGIWARA Shinichi,TANAKA Yuto. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-07-30.

Target supply device, extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2028391B1. Автор: HORI Tsukasa,Shiraishi Yutaka,NISHISAKA Toshihiro. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-07-13.

Quantum-limited extreme ultraviolet coherent diffraction imaging

Номер патента: US12085520B2. Автор: Bin Wang,Margaret Murnane,Henry C. Kapteyn,Chen-Ting Liao. Владелец: University of Colorado. Дата публикации: 2024-09-10.

Methods of generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: US20240324090A1. Автор: Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Han-Lung Chang,Wei-Shin CHENG,Hsiao-Lun CHANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Reducing roughness of extreme ultraviolet lithography resists

Номер патента: US12125711B2. Автор: Xiang Zhou,Yoshie Kimura,Teng Hooi Goh. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-10-22.

Inspection or qualification apparatus for processing an object for use within an extreme ultraviolet (euv) lithographic apparatus

Номер патента: WO2024223396A1. Автор: Christoph Sebastian Phiesel,Dries Els Victor Van Gestel,Andreas Biermanns-Foeth,Rainer Helmut LEBERT. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-10-31.

Mechanical isolation control for an extreme ultraviolet (EUV) pellicle

Номер патента: US09915867B2. Автор: Dario L. Goldfarb. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Extreme ultraviolet lithography with reduced exposure dose and negative tone development

Номер патента: US09891528B2. Автор: Ching-Yu Chang,Chen-Yu Liu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-02-13.

Transmission system for transmitting pulse laser beam to extreme ultraviolet light chamber, and laser system

Номер патента: US09888555B2. Автор: Toru Suzuki,Masahiko Ando,Yoshifumi Ueno. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-02-06.

Transport system for an extreme ultraviolet light source

Номер патента: US09560730B2. Автор: Gregory Wilson,Alexander I. Ershov,Silvia De Dea,Bruno M. La Fontaine,Brandon Verhoff. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-01-31.

Negative tone developer composition for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US09459536B1. Автор: Ching-Yu Chang,Wei-Han Lai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-10-04.

High Heat Load Optics with Vibration Isolated Hoses in an Extreme Ultraviolet Lithography System

Номер патента: US20130323649A1. Автор: Watson Douglas C.,Bow Travis. Владелец: NIKON. Дата публикации: 2013-12-05.

Chamber apparatus and extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: US20140001369A1. Автор: Yukio Watanabe,Osamu Wakabayashi,Tamotsu Abe,Toshihiro Nishisaka. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2014-01-02.

TARGET SUPPLY APPARATUS, CHAMBER, AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS

Номер патента: US20140008552A1. Автор: MIZOGUCHI Hakaru,Umeda Hiroshi,YAMAZAKI Taku,NISHISAKA Toshihiro. Владелец: . Дата публикации: 2014-01-09.

EXTREME ULTRAVIOLET/SOFT X-RAY LASER NANO-SCALE PATTERNING USING THE DEMAGNIFIED TALBOT EFFECT

Номер патента: US20140023973A1. Автор: Isoyan Artak,Marconi Mario C.,Urbankski Lukasz,Rocca Jorge J.. Владелец: . Дата публикации: 2014-01-23.

METHODS FOR CONTROLLING DEFECTS FOR EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY (EUVL) PHOTOMASK SUBSTRATE

Номер патента: US20140045103A1. Автор: Kumar Ajay,Wu Banqiu,NALAMASU Omkaram. Владелец: . Дата публикации: 2014-02-13.

APPARATUS FOR CREATING AN EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT, AN EXPOSING APPARATUS INCLUDING THE SAME, AND ELECTRONIC DEVICES MANUFACTURED USING THE EXPOSING APPARATUS

Номер патента: US20140078480A1. Автор: YEO JEONG-HO,Park Chang-Min,PARK Joo-on. Владелец: . Дата публикации: 2014-03-20.

Method and apparatus for controlling exhaust pressure for an extreme ultraviolet generation chamber

Номер патента: US20200003414A1. Автор: Ming-Hsun Tsai,Ping-Cheng Li,Yen-Hsun Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-01-02.

DROPLET GENERATOR AND METHOD OF SEVICING EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION SOURCE APPARATUS

Номер патента: US20200004168A1. Автор: Chen Chia-Chen,CHEN Yen-Hsun,TSAI Ming-Hsun,WANG Shao-Hua,CHANG Han-Lung,CHEN Li-Jui. Владелец: . Дата публикации: 2020-01-02.

EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY APPARATUS

Номер патента: US20210003929A1. Автор: KIM Eokbong,Kim Mun Ja. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2021-01-07.

Target control in extreme ultraviolet lithography systems using aberration of reflection image

Номер патента: US20220011675A1. Автор: Li-Jui Chen,Yen-Shuo Su,Han-Lung Chang,Ting-Ya CHENG,Shi-Han SHANN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-01-13.

TARGET SUPPLY DEVICE, EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS, AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20220015218A1. Автор: HORI Tsukasa,Shiraishi Yutaka,NISHISAKA Toshihiro. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2022-01-13.

CHAMBER DEVICE, TARGET GENERATION METHOD, AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM

Номер патента: US20180007770A1. Автор: HORI Tsukasa,Saito Takashi,Shiraishi Yutaka,ISHIHARA Takanobu. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2018-01-04.

PHOTORESIST COMPOSITION FOR EXTREME ULTRAVIOLET AND METHOD OF FORMING PHOTORESIST PATTERN USING THE SAME

Номер патента: US20170010531A1. Автор: KIM Hyunwoo,PARK Cheol Hong,KOH Chawon,WOO Sang-Yoon,JEON Hyejin. Владелец: . Дата публикации: 2017-01-12.

EXTREME ULTRAVIOLET REFLECTIVE ELEMENT WITH AMORPHOUS LAYERS AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF

Номер патента: US20160011345A1. Автор: Hofmann Ralf,FOAD MAJEED A.,Hassan Vinayak Vishwanath,Beasley Cara. Владелец: . Дата публикации: 2016-01-14.

Extreme Ultraviolet Lithography Device

Номер патента: US20210011370A1. Автор: Gallagher Emily,Franke Joern-Holger. Владелец: . Дата публикации: 2021-01-14.

EUV CLEANING SYSTEMS AND METHODS THEREOF FOR AN EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE

Номер патента: US20200012202A1. Автор: Langlois Marc Guy. Владелец: . Дата публикации: 2020-01-09.

PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR SELECTING HEATING TEMPERATURE IN PATTERN FORMING METHOD, EXTREME ULTRAVIOLET-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE USING THE SAME, AND ELECTRONIC DEVICE

Номер патента: US20150017576A1. Автор: INOUE Naoki,TSUBAKI Hideaki,Takizawa Hiroo. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2015-01-15.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20220035249A1. Автор: Honda Yoshiyuki,HOSODA Hirokazu,KOBAYASHI Takanari. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2022-02-03.

METHOD FOR REDUCING CONTAMINATION IN EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY LIGHT SOURCE

Номер патента: US20160018739A1. Автор: SHU EMILY. Владелец: . Дата публикации: 2016-01-21.

Extreme Ultraviolet Lithography System

Номер патента: US20200019070A1. Автор: Lin Chin-Hsiang,Wu Cheng-Han,Chang Ching-Yu,Weng Ming-Hui. Владелец: . Дата публикации: 2020-01-16.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT (EUV) PHOTOMASKS AND FABRICATION METHODS THEREOF

Номер патента: US20150024305A1. Автор: Chen Jeng-Horng,Lu Yen-Cheng,Yu Shinn-Sheng,Yen Anthony,Shih Chih-Tsung. Владелец: . Дата публикации: 2015-01-22.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20210026254A1. Автор: HOSODA Hirokazu,KOBAYASHI Takanari. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2021-01-28.

APPARATUS GENERATING EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT AND EXPOSURE SYSTEM INCLUDING THE SAME

Номер патента: US20170031142A1. Автор: Park Jongju,Lee Donggun,KIM Byunggook,KIM Eokbong,Kim Mun Ja. Владелец: . Дата публикации: 2017-02-02.

EUV CHAMBER APPARATUS, EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM, AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20210029811A1. Автор: Okada Takashi,NISHISAKA Toshihiro,Hoshino Yusuke,KOUGE Kouichiro. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2021-01-28.

EXTREME ULTRAVIOLET (EUV) EXPOSURE SYSTEM AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME

Номер патента: US20180031978A1. Автор: Park Chang-Min,HWANG Myung-soo,Lee Ji-sun. Владелец: . Дата публикации: 2018-02-01.

TARGET SUPPLY DEVICE, EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION DEVICE, AND TARGET SUPPLY METHOD

Номер патента: US20200033731A1. Автор: UENO Yoshifumi,TAKASHIMA Yuta. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2020-01-30.

EXTREME ULTRAVIOLET PHOTOMASK MANUFACTURING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE FABRICATION METHOD INCLUDING THE SAME

Номер патента: US20210033959A1. Автор: Park Jongju,Park Sanguk,Han Hakseung,Yi Raewon. Владелец: . Дата публикации: 2021-02-04.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20210033981A1. Автор: TAKASHIMA Yuta. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2021-02-04.

EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY SYSTEM

Номер патента: US20210033983A1. Автор: CHEN Li-Jui,YANG Chi,CHENG Po-Chung,HSU Che-Chang,Chen Ssu-Yu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd.. Дата публикации: 2021-02-04.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION DEVICE

Номер патента: US20200041909A1. Автор: UEDA Atsushi. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2020-02-06.

TARGET IMAGE CAPTURING DEVICE AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS

Номер патента: US20210048752A1. Автор: HOSODA Hirokazu. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2021-02-18.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM

Номер патента: US20200045802A1. Автор: HAYASHI Kengo. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2020-02-06.

LIGHT SOURCE AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE SYSTEM USING THE SAME

Номер патента: US20220066225A1. Автор: KIM Dohyung,LEE Jungchul,Hong Seongchul,Lee Seungkoo,Kang Kyungsik,Park Kyungbin,Sakai Motoshi. Владелец: . Дата публикации: 2022-03-03.

MATERIALS, COMPONENTS, AND METHODS FOR USE WITH EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION IN LITHOGRAPHY AND OTHER APPLICATIONS

Номер патента: US20190049634A1. Автор: Jaiswal Supriya. Владелец: . Дата публикации: 2019-02-14.

METHOD OF EXPOSURE USING EXTREME ULTRAVIOLET AND METHOD OF MANUFACTURING A SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME

Номер патента: US20220070992A1. Автор: Jang Sungho,Kim Yoonjae,SHIN HYUCK,LEE DONGHYUB,INN KUL. Владелец: . Дата публикации: 2022-03-03.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE SYSTEM

Номер патента: US20220075271A1. Автор: Lee Injae,KIM SUNGHYUP,Gil Myeongjun,Nam Yebin. Владелец: . Дата публикации: 2022-03-10.

Graphene Pellicle for Extreme Ultraviolet Lithography

Номер патента: US20180059534A1. Автор: Tu Chih-Chiang,Lin Yun-Yue,Tsai Chia-Shiung,Lee Hsin-Chang,Chen Chun-Lang,Liu Ping-Yin,Lin Chih-Cheng,Chang Jong-Yuh,Yoo Chue San. Владелец: . Дата публикации: 2018-03-01.

Graphene Pellicle For Extreme Ultraviolet Lithography

Номер патента: US20180059535A1. Автор: Tu Chih-Chiang,Chen Chun-Lang. Владелец: . Дата публикации: 2018-03-01.

EXTREME ULTRAVIOLET GENERATION DEVICE AND EXPOSURE SYSTEM INCLUDING THE SAME

Номер патента: US20170059998A1. Автор: KIM Insung,Heo Jinseok,KIM Hoyeon. Владелец: . Дата публикации: 2017-03-02.

APPARATUS AND METHOD FOR GENERATING EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION

Номер патента: US20200057382A1. Автор: CHEN Kuan-Hung,CHEN Li-Jui,CHIEN Shang-Chieh,CHENG Po-Chung,HSIEH Chieh,HSU Chun-Chia,BO-TSUN Liu. Владелец: . Дата публикации: 2020-02-20.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATING SYSTEM

Номер патента: US20160066401A1. Автор: Wakabayashi Osamu,Saito Takashi,YABU Takayuki. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2016-03-03.

Apparatus for generating extreme ultraviolet light and lithography apparatus including the same

Номер патента: US20220082946A1. Автор: Junghwan Kim,Yongchan KIM,Injae Lee,SungHyup KIM,Jeonggil KIM,Ohkug Kwon,Ouiserg Kim,Hosun Yoo,Daerim Choi,Dongkyeng Han. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-03-17.

POLYMER BRUSHES FOR EXTREME ULTRAVIOLET PHOTOLITHOGRAPHY

Номер патента: US20190064667A1. Автор: Goldfarb Dario L.,Glodde Martin,Vora Ankit. Владелец: . Дата публикации: 2019-02-28.

Extreme Ultraviolet Lithography Process and Mask

Номер патента: US20150072271A1. Автор: Chen Jeng-Horng,Lu Yen-Cheng,Yu Shinn-Sheng,Yen Anthony. Владелец: . Дата публикации: 2015-03-12.

MODULE AND METHOD FOR PRODUCING EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION

Номер патента: US20150077729A1. Автор: Van Schoot Jan Bernard Plechelmus,Banine Vadim Yevgenyevich,Loopstra Erik Roelof,Ivanov Vladimir Vitalevich,Labetski Dzmitry,Moors Johannes Hubertus Josephina,Swinkels Gerardus Hubertus Petrus Maria,Schimmel Hendrikus Gijsbertus,VAN DE VIJVER Yuri Johannes Gabriël,VAN EMPEL Tjarko Adriaan Rudolf. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2015-03-19.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATING APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE

Номер патента: US20210076478A1. Автор: Takayama Akihiro. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2021-03-11.

DRYING AN EXTREME ULTRAVIOLET (EUV) PELLICLE

Номер патента: US20170075212A1. Автор: Goldfarb Dario L.. Владелец: . Дата публикации: 2017-03-16.

METHOD OF CLEANING EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY COLLECTOR

Номер патента: US20200073250A1. Автор: Lin Chin-Hsiang,Chang Ching-Yu,ZI An-Ren. Владелец: . Дата публикации: 2020-03-05.

Extreme Ultraviolet Photolithography Method with Infiltration for Enhanced Sensitivity and Etch Resistance

Номер патента: US20210080832A1. Автор: Ouyang Christine Y. Владелец: . Дата публикации: 2021-03-18.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20210080842A1. Автор: SAUMAGNE Georg. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2021-03-18.

Extreme Ultraviolet Absorbing Alloys

Номер патента: US20190078177A1. Автор: Adelmann Hanns Christoph,Luong Kim Vu,Philipsen Vicky. Владелец: . Дата публикации: 2019-03-14.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS

Номер патента: US20200077501A1. Автор: Honda Yoshiyuki,NAGAI Shinji,TOMURO Hiroaki. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2020-03-05.

Quantum-limited Extreme Ultraviolet Coherent Diffraction Imaging

Номер патента: US20220100094A1. Автор: Wang Bin,Kapteyn Henry C.,Liao Chen-Ting,Murnane Margaret. Владелец: . Дата публикации: 2022-03-31.

PROCESS LIQUID COMPOSITION FOR EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME

Номер патента: US20210088910A1. Автор: LEE Seung Hyun,LEE Su Jin,Lee Seung Hun. Владелец: . Дата публикации: 2021-03-25.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE SYSTEMS

Номер патента: US20220104336A1. Автор: Lee Sanghoon,Lee Injae,KIM SUNGHYUP,Gil Myeongjun,Nam Yebin. Владелец: . Дата публикации: 2022-03-31.

Method for Patterning a Substrate Using Extreme Ultraviolet Lithography

Номер патента: US20170090290A1. Автор: deVilliers Anton J.. Владелец: . Дата публикации: 2017-03-30.

Apparatus for generating extreme ultraviolet light using plasma

Номер патента: US20150097107A1. Автор: Jae Won Lim,Bu Yeob Yoo,Jong Lip Choi. Владелец: FST Inc. Дата публикации: 2015-04-09.

TIN TRAP DEVICE, EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS, AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20220141945A1. Автор: Soumagne Georg,NIIMI Gouta. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2022-05-05.

RETICLE-MASKING STRUCTURE, EXTREME ULTRAVIOLET APPARATUS, AND METHOD OF FORMING THE SAME

Номер патента: US20210096469A1. Автор: Hsu Ching-Hsiang,Hwang James Jeng-Jyi,HSU FENG YUAN. Владелец: . Дата публикации: 2021-04-01.

METHOD TO IMPROVE ADHESION OF PHOTORESIST ON SILICON SUBSTRATE FOR EXTREME ULTRAVIOLET AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY

Номер патента: US20200090936A1. Автор: Goldfarb Dario L.,Glodde Martin. Владелец: . Дата публикации: 2020-03-19.

MULTILAYER GRAPHENE DIRECT GROWTH METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING PELLICLE FOR EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY USING THE SAME

Номер патента: US20220146928A1. Автор: KIM Hyeong Keun,Kim Seul Gi,Kim Hyun Mi,KIM Hye Young. Владелец: . Дата публикации: 2022-05-12.

PELLICLE FOR EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY

Номер патента: US20220146949A1. Автор: KIM Hyeong Keun,Kim Seul Gi,Kim Hyun Mi,CHO Jin Woo,SEONG Ki Hun. Владелец: . Дата публикации: 2022-05-12.

Extreme Ultraviolet Photolithography Method With Developer Composition

Номер патента: US20210103213A1. Автор: Lin Chin-Hsiang,Chang Ching-Yu,Cheng Joy,ZI An-Ren. Владелец: . Дата публикации: 2021-04-08.

METHOD OF MAKING AN EXTREME ULTRAVIOLET PELLICLE

Номер патента: US20160109798A1. Автор: Chen Chia-Jen,Chen Jeng-Horng,Yu Shinn-Sheng,Yen Anthony,Shih Chih-Tsung,CHIEN Shang-Chieh,Lee Tien-Hsi. Владелец: . Дата публикации: 2016-04-21.

METHOD FOR MANUFACTURING PELLICLE FOR EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY HAVING GRAPHENE DEFECT HEALING LAYER

Номер патента: US20220171278A1. Автор: KIM Hyeong Keun,Kim Seul Gi,Kim Hyun Mi,CHO Jin Woo,JEON Jun Hyeok. Владелец: . Дата публикации: 2022-06-02.

EXTREME ULTRAVIOLET MASK BLANK DEFECT REDUCTION METHODS

Номер патента: US20210124252A1. Автор: Jindal Vibhu,Xiao Wen,Bhat Sanjay,Zerrade Azeddine,LIU Shiyu,Varghese Binni. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-04-29.

Extreme Ultraviolet Lithography Process to Print Low Pattern Density Features

Номер патента: US20150116685A1. Автор: Chen Jeng-Horng,Lu Yen-Cheng,Yu Shinn-Sheng,Yen Anthony. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.. Дата публикации: 2015-04-30.

PATTERN-FORMING METHOD, ELECTRON BEAM-SENSITIVE OR EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE USING THEM AND ELECTRONIC DEVICE

Номер патента: US20140193749A1. Автор: TSUBAKI Hideaki,HIRANO Shuji,Takizawa Hiroo. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2014-07-10.

Extreme Ultraviolet Lithography Mask Blank Manufacturing System And Method Of Operation Therefor

Номер патента: US20170115555A1. Автор: Ralf Hofmann,Majeed Foad,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-04-27.

OPTICAL ELEMENT ANGLE ADJUSTMENT DEVICE AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION DEVICE

Номер патента: US20190113765A1. Автор: WATANABE Yukio,NAGAHAMA Kenshiro. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2019-04-18.

Pattern-forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using them and electronic device

Номер патента: US20140199617A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Takeshi Kawabata. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-07-17.

DRYING AN EXTREME ULTRAVIOLET (EUV) PELLICLE

Номер патента: US20180117639A1. Автор: Goldfarb Dario L.. Владелец: . Дата публикации: 2018-05-03.

PATTERN FORMING METHOD, ELECTRON BEAM-SENSITIVE OR EXTREME ULTRAVIOLET-SENSITIVE COMPOSITION, RESIST FILM, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE USING THE SAME, AND ELECTRONIC DEVICE

Номер патента: US20140212796A1. Автор: IWATO Kaoru,TSUBAKI Hideaki,Takizawa Hiroo. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2014-07-31.

PATTERN-FORMING METHOD, ELECTRON BEAM-SENSITIVE OR EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE USING THEM AND ELECTRONIC DEVICE

Номер патента: US20140212811A1. Автор: INOUE Naoki,TSUBAKI Hideaki,HIRANO Shuji,Takizawa Hiroo. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2014-07-31.

System and method for generating extreme ultraviolet light, and laser apparatus

Номер патента: US20140124685A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Tatsuya Yanagida. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2014-05-08.

Laser system, extreme ultraviolet light generator, and extreme ultraviolet light generation method

Номер патента: JP6838155B2. Автор: 正彦 安藤,安藤　正彦. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-03-03.

Polymer brushes for extreme ultraviolet photolithography

Номер патента: EP3672996B1. Автор: Ankit Vora,Martin Glodde,Dario Goldfarb. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-15.

Polymer brushes for extreme ultraviolet photolithography

Номер патента: US20190285985A1. Автор: Ankit Vora,Dario L. Goldfarb,Martin Glodde. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2019-09-19.

Polymer brushes for extreme ultraviolet photolithography

Номер патента: WO2019038625A1. Автор: Ankit Vora,Martin Glodde,Dario Goldfarb. Владелец: Ibm (China) Investment Company Limited. Дата публикации: 2019-02-28.

Optical etendue matching methods for extreme ultraviolet metrology

Номер патента: WO2020243374A1. Автор: Daniel Wack,Zefram Marks,Larissa Juschkin. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2020-12-03.

Optical etendue matching methods for extreme ultraviolet metrology

Номер патента: EP3953695A1. Автор: Daniel Wack,Zefram Marks,Larissa Juschkin. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2022-02-16.

EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION SOURCE AND CLEANING METHOD THEREOF

Номер патента: US20200037427A1. Автор: Lin Sheng-Ta,CHEN Li-Jui,YANG Chi,CHIEN Shang-Chieh,CHENG Po-Chung. Владелец: . Дата публикации: 2020-01-30.

System and Method for Generation of Extreme Ultraviolet Light

Номер патента: US20150076359A1. Автор: Hale Layton,Khodykin Oleg,Chilese Frank,Wack Daniel C.,Bykanov Alexander,Tsigutkin Konstantin,Walsh Joseph. Владелец: . Дата публикации: 2015-03-19.

Laser source device and extreme ultraviolet lithography device

Номер патента: US20200107428A1. Автор: Hsin-Liang Chen,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Wen-Chih Wang,Cheng-Chieh Chen,Henry Yee-Shian TONG,Louis Chun-Lin CHANG,Jeng-Yann Tsay. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-04-02.

Distributed intrusion detection method based on multilayer extreme learning machine in Internet of things environment

Номер патента: CN112653751A. Автор: 焦利彬,索宏泽,付兴兵,吴炳金,章坚武,唐向宏. Владелец: CETC 54 Research Institute. Дата публикации: 2021-04-13.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SENSOR UNIT AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS

Номер патента: US20200064184A1. Автор: MIYASHITA Kotaro. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2020-02-27.

Detecting device for extreme ultraviolet collecting mirror system and method for assembling extreme ultraviolet collecting mirror system by applying detecting device

Номер патента: CN105865758A. Автор: 徐强,王骐,祝东远. Владелец: Harbin Institute of Technology. Дата публикации: 2016-08-17.

Metal-containing film forming composition for extreme ultraviolet light or electron beam lithography, metal-containing film for extreme ultraviolet light or electron beam lithography, and pattern forming method

Номер патента: WO2019021975A1. Автор: 龍一 芹澤,希美 佐藤,裕介 大坪. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2019-01-31.

Composition for forming resist underlayer film for electron beam or extreme ultraviolet light lithography, resist underlayer film for electron beam or extreme ultraviolet light lithography, and method for producing semiconductor substrate

Номер патента: WO2021193030A1. Автор: 祐亮 庵野,智昭 瀬古,明崇 二位. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2021-09-30.

Window unit, window device, laser apparatus, and extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: EP2609459A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Masato Moriya,Hidenobu Kameda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2013-07-03.

Determining moving properties of a target in an extreme ultraviolet light source

Номер патента: US09778022B1. Автор: Vahan Senekerimyan,Jesse Quinn Odle,Cèsar Fernandez-Espasa. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-10-03.

OPTICAL DEVICE, LASER APPARATUS, AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM

Номер патента: US20130126751A1. Автор: Wakabayashi Osamu,MIZOGUCHI Hakaru. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2013-05-23.

BEAM LINE FOR A SOURCE OF EXTREME ULTRAVIOLET (EUV) RADIATION

Номер патента: US20130134318A1. Автор: Giovannini Andrea,ABHARI Reza,Dieterich Franz. Владелец: . Дата публикации: 2013-05-30.

MATERIALS, COMPONENTS, AND METHODS FOR USE WITH EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION IN LITHOGRAPHY AND OTHER APPLICATIONS

Номер патента: US20130188245A1. Автор: Jaiswal Supriya. Владелец: . Дата публикации: 2013-07-25.

COLLECTOR MIRROR EXCHANGING APPARATUS AND METHOD FOR EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE APPARATUS

Номер патента: US20130221247A1. Автор: HOSHINO Hideo,SUMITANI Akira,ABE Tamotsu,SOMEYA Hiroshi,SUGANUMA Takashi. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2013-08-29.

DEVICE FOR COLLECTING EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT

Номер патента: US20130228695A1. Автор: Wakabayashi Osamu,MIZOGUCHI Hakaru. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2013-09-05.

STRUCTURE FOR DISCHARGING EXTREME ULTRAVIOLET MASK

Номер патента: US20140027634A1. Автор: KUAN CHIYAN,WANG YOU-JIN,PAN Chung-Shih. Владелец: HERMES MICROVISION, INC.. Дата публикации: 2014-01-30.

EXTREME ULTRAVIOLET CAPPING LAYER AND METHOD OF MANUFACTURING AND LITHOGRAPHY THEREOF

Номер патента: US20160011344A1. Автор: Hofmann Ralf,FOAD MAJEED A.,Beasley Cara,Beckstrom,III Rudy. Владелец: . Дата публикации: 2016-01-14.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS

Номер патента: US20140111635A1. Автор: Wakabayashi Osamu,Tanaka Hiroshi,HAYASHI Hideyuki,SUZUKI Toru. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2014-04-24.

Extreme Ultraviolet Mask Blank Production System With Thin Absorber And Manufacturing System Therefor

Номер патента: US20200058213A9. Автор: Hofmann Ralf,FOAD MAJEED A.,Hassan Vinayak Vishwanath,Beasley Cara. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-02-20.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20220078898A1. Автор: YABU Takayuki,TAKASHIMA Yuta. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2022-03-10.

HYBRID EXTREME ULTRAVIOLET IMAGING SPECTROMETER

Номер патента: US20170062198A1. Автор: SANFORD NORMAN A.,CHIARAMONTI DEBAY ANN,GORMAN BRIAN P.,DIERCKS DAVID R.. Владелец: . Дата публикации: 2017-03-02.

APPARATUS AND METHOD FOR GENERATING EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION

Номер патента: US20200060015A1. Автор: CHEN Li-Jui,SU Yen-Shuo,YANG Chi,CHIEN Shang-Chieh,CHENG Po-Chung,HSIEH Chieh,HSU Chun-Chia. Владелец: . Дата публикации: 2020-02-20.

Determining moving properties of a target in an extreme ultraviolet light source

Номер патента: US20220086998A1. Автор: Robert Jay Rafac. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2022-03-17.

MATERIALS, COMPONENTS, AND METHODS FOR USE WITH EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION IN LITHOGRAPHY AND OTHER APPLICATIONS

Номер патента: US20160085003A1. Автор: Jaiswal Supriya. Владелец: . Дата публикации: 2016-03-24.

LASER SYSTEM, EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM, AND METHOD OF CONTROLLING LASER APPARATUS

Номер патента: US20160087389A1. Автор: Saito Takashi,Niwano Motoki. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2016-03-24.

SUB-WAVELENGTH EXTREME ULTRAVIOLET METAL TRANSMISSION GRATING AND MANUFACTURING METHOD THEREOF

Номер патента: US20140177039A1. Автор: Liu Ming,Xie Changqing,Zhu Xiaoli,Li Hailiang,Shi Lina,Li Dongmei. Владелец: INSTITUTE OF MICROELECTRONICS, CHINESE ACADEMY OF SCIENCES. Дата публикации: 2014-06-26.

DEFECT DETECTION SYSTEM FOR EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY MASK

Номер патента: US20150104094A1. Автор: Liu Ming,Xie Changqing,Zhu Xiaoli,Li Hailiang,Shi Lina,Li Dongmei,Niu Jiebin. Владелец: The Institute of Microelectronics of Chinese Academy of Sciences. Дата публикации: 2015-04-16.

PARTICLE IMAGE VELOCIMETRY OF EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY SYSTEMS

Номер патента: US20200103433A1. Автор: CHEN Li-Jui,YANG Chi,CHIEN Shang-Chieh,CHENG Po-Chung,LAI Allen. Владелец: . Дата публикации: 2020-04-02.

Extreme ultraviolet source with rotary electrodes and method for producing extreme ultraviolet radiation from gas-discharge plasma

Номер патента: RU2278483C2. Автор: Владимир Михайлович Борисов,Олег Борисович Христофоров,Валентин Александрович Мищенко,Александр Сергеевич Иванов,Юрий Борисович Кирюхин,Александр Юрьевич Виноходов,Александр Васильевич Прокофьев. Владелец: Александр Васильевич Прокофьев. Дата публикации: 2006-06-20.

Extreme ultraviolet light and plasma combined atomic-scale processing method

Номер патента: EP4197966A1. Автор: Fengzhou Fang. Владелец: TIANJIN UNIVERSITY. Дата публикации: 2023-06-21.

Extreme ultraviolet light generation device and method for controlling extreme ultraviolet light generation device

Номер патента: US20190045616A1. Автор: Yoshifumi Ueno,Yuta TAKASHIMA,Go SHIROZU. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2019-02-07.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US20130161540A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Shinji Nagai. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2013-06-27.

Extreme ultraviolet light generation method, extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2032877A. Автор: Honda Yoshiyuki,HOSODA Hirokazu,KOUGE Kouichiro. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-05-19.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: US09578730B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Tamotsu Abe. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-02-21.

Extreme ultraviolet light generation method, extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2032877B1. Автор: Honda Yoshiyuki,HOSODA Hirokazu,KOUGE Kouichiro. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-07-08.

Pulsed discharge extreme ultraviolet source with magnetic shield

Номер патента: US20120146510A1. Автор: Malcolm W. McGeoch. Владелец: PLEX LLC. Дата публикации: 2012-06-14.

Extreme ultraviolet light generation device

Номер патента: US09961755B2. Автор: Hiroshi Umeda,Kazukiyo KAMIKANNA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-05-01.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US09854658B2. Автор: Masaki Nakano,Fumio Iwamoto,Tsukasa Hori. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-12-26.

Extreme ultraviolet light source device

Номер патента: US09826617B2. Автор: Takuma Yokoyama. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2017-11-21.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and control method for laser apparatus in extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: US09468082B2. Автор: Kazuhiro Suzuki,Osamu Wakabayashi,Hideyuki Hayashi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2016-10-11.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US20140034852A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Kouji Kakizaki,Tooru Abe. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2014-02-06.

Atomic-scale processing method by combining extreme ultraviolet light and plasma

Номер патента: US20220336189A1. Автор: Fengzhou Fang. Владелец: TIANJIN UNIVERSITY. Дата публикации: 2022-10-20.

Stabilizing EUV light power in an extreme ultraviolet light source

Номер патента: US09713240B2. Автор: Robert Jay Rafac,Daniel Jason Riggs. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-07-18.

Compounds and processes for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US20240002412A1. Автор: Thomas M. Cameron,David M. ERMERT. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-01-04.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20230300966A1. Автор: Shogo KITASAKA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-09-21.

System and method for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US20150351209A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Kouji Kakizaki,Tatsuya Yanagida,Tsukasa Hori. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2015-12-03.

Silicon carbide-based lateral PN junction extreme ultraviolet detector based on selective-area ion implantation, and preparation method thereof

Номер патента: US12080821B2. Автор: Dong Zhou,Hai Lu,Weizong Xu. Владелец: NANJING UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-09-03.

Method of timing laser beam pulses to regulate extreme ultraviolet light dosing

Номер патента: WO2014109876A1. Автор: Steven Chang,Andrew Liu,Matthew R. Graham,Alexander A. Schafgans,Robert N. Jacques,James H. Crouch,Wayne J. Dunstan,Paul A. FRIHAUF. Владелец: CYMER, LLC. Дата публикации: 2014-07-17.

Induction heated buffer gas heat pipe for use in an extreme ultraviolet source

Номер патента: US20130153568A1. Автор: Malcolm W. McGeoch. Владелец: PLEX LLC. Дата публикации: 2013-06-20.

Electrode-less discharge extreme ultraviolet light source

Номер патента: WO2006015125A3. Автор: Bruno Bauer. Владелец: Univ & Community College Syste. Дата публикации: 2006-03-23.

Apparatus and method for generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: US12114411B2. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Yu-Chih Huang,Yu-Huan Chen,Ming-Hsun Tsai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-08.

Rotating target for extreme ultraviolet source with liquid metal

Номер патента: US12133318B2. Автор: Rui-Fang Shi,Alexander Bykanov. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-10-29.

System and method for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US09877378B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Kouji Kakizaki,Tatsuya Yanagida,Tsukasa Hori,Hakaru Mizoguchi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-01-23.

Target supply apparatus, extreme ultraviolet light generating apparatus, and target supply method

Номер патента: US09860967B2. Автор: Tsukasa Hori,Hirokazu HOSODA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-01-02.

Target expansion rate control in an extreme ultraviolet light source

Номер патента: US09820368B2. Автор: Robert Jay Rafac,Daniel Jason Riggs. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-11-14.

Extreme ultraviolet light generation apparatus with a gas supply toward a trajectory of a target

Номер патента: US09661730B2. Автор: Takashi Saito,Osamu Wakabayashi,Atsushi Ueda,Takayuki Yabu,Georg Soumagne. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-05-23.

Extreme ultraviolet source with dual magnetic cusp particle catchers

Номер патента: US09578729B2. Автор: Malcolm W. McGeoch. Владелец: PLEX LLC. Дата публикации: 2017-02-21.

Extreme ultraviolet source with magnetic cusp plasma control

Номер патента: US09544986B2. Автор: Malcolm W. McGeoch. Владелец: PLEX LLC. Дата публикации: 2017-01-10.

System and method for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US09497842B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Kouji Kakizaki,Tatsuya Yanagida,Tsukasa Hori,Hakaru Mizoguchi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2016-11-15.

Dual pulse driven extreme ultraviolet (EUV) radiation source method

Номер патента: US09451684B2. Автор: Oleg Gluschenkov,Sivarama Krishnan,Sadanand V. Deshpande,Daniel A. Corliss,Veeresh V. Deshpande. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2016-09-20.

Method for generating extreme ultraviolet light and device for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US20150189730A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Masato Moriya,Hideyuki Hayashi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2015-07-02.

Extreme ultraviolet light source device

Номер патента: US20170094766A1. Автор: Takuma Yokoyama. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2017-03-30.

Extreme ultraviolet light generation apparatus including target droplet joining apparatus

Номер патента: US9699877B2. Автор: Fumio Iwamoto,Hiroshi Umeda,Tsukasa Hori. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-07-04.

Method of making silica-titania extreme ultraviolet elements

Номер патента: US20030226377A1. Автор: Bradley Bowden,Claude Davis,Kenneth Hrdina,Michael Robinson,W. Barrett,John Wight,Michael Wasilewski. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2003-12-11.

Rotating target for extreme ultraviolet source with liquid metal

Номер патента: US20230403778A1. Автор: Rui-Fang Shi,Alexander Bykanov. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2023-12-14.

Apparatus and method for generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: US20230363074A1. Автор: Chi Yang,Shang-Chieh Chien,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Wei-Chih Lai,Han-Lung Chang,Bo--Tsun LIU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-09.

System and method for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US20170019983A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Kouji Kakizaki,Tatsuya Yanagida,Tsukasa Hori,Hakaru Mizoguchi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-01-19.

System and method for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US20180110116A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Kouji Kakizaki,Tatsuya Yanagida,Tsukasa Hori,Hakaru Mizoguchi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-04-19.

System and method for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US20190037677A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Kouji Kakizaki,Tatsuya Yanagida,Tsukasa Hori,Hakaru Mizoguchi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2019-01-31.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US11778721B2. Автор: Yuichi Nishimura,Takayuki Yabu,Hiroaki Nakarai. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-10-03.

Device for emitting extreme ultraviolet light

Номер патента: US10143075B2. Автор: Yusuke Teramoto,Akihisa NAGANO,Hideyuki URAKAMI. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2018-11-27.

Apparatus and method for generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: US11792909B2. Автор: BO-TSUN Liu,Chi Yang,Shang-Chieh Chien,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Wei-Chih Lai,Han-Lung Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Rotating target for extreme ultraviolet source with liquid metal

Номер патента: WO2023239563A1. Автор: Rui-Fang Shi,Alexander Bykanov. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2023-12-14.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US20160255707A1. Автор: Takashi Saito,Osamu Wakabayashi,Atsushi Ueda,Takayuki Yabu,Georg Soumagne. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2016-09-01.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2030088B1. Автор: YABU Takayuki,NISHIMURA Yuichi,NAKARAI Hiroaki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-01-04.

Light source device and method for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US8698115B1. Автор: Masashi Onishi,Waheed Hugrass. Владелец: KANSAI UNIVERSITY. Дата публикации: 2014-04-15.

Compounds and processes for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: WO2024006453A1. Автор: Thomas M. Cameron,David M. ERMERT. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2024-01-04.

Apparatus and method for generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: US20230060625A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Yu-Chih Huang,Yu-Huan Chen,Ming-Hsun Tsai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-03-02.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20230387644A1. Автор: Takashi Suganuma. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-11-30.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2034367A. Автор: SUGANUMA Takashi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-12-05.

Extreme ultraviolet light source obscuration bar and methods

Номер патента: WO2024094431A1. Автор: Yue Ma,Armin Bernhard Ridinger,Liza EASO,Mohsen Benjamin BATTOEI,Jonathan Anthony WALKER. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-05-10.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2034072A. Автор: Kitasaka Shogo. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-09-21.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2034072B1. Автор: Kitasaka Shogo. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-03-19.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US8710474B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Takeshi Kodama. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2014-04-29.

Target expansion rate control in an extreme ultraviolet light source

Номер патента: US20200260564A1. Автор: Robert Jay Rafac,Daniel Jason Riggs. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-08-13.

Device for emitting extreme ultraviolet light

Номер патента: US20160295674A1. Автор: Yusuke Teramoto,Akihisa NAGANO,Hideyuki URAKAMI. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2016-10-06.

Novel silicon carbide-based lateral pn junction extreme ultraviolet detector based on selective-area ion implantation, and preparation method thereof

Номер патента: US20240204126A1. Автор: Dong Zhou,Hai Lu,Weizong Xu. Владелец: NANJING UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-06-20.

Apparatus and method for generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: US20230225039A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Yu-Chih Huang,Yu-Huan Chen,Ming-Hsun Tsai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-07-13.

Extreme ultraviolet light source device, laser light source device for extreme ultraviolet light source, and method of adjusting laser light source device for extreme ultraviolet light source device

Номер патента: US8698114B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Masato Moriya,Hideo Hoshino,Hakaru Mizoguchi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2014-04-15.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE DEVICE, LASER LIGHT SOURCE DEVICE FOR EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE DEVICE, AND METHOD OF ADJUSTING LASER LIGHT SOURCE DEVICE FOR EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE DEVICE

Номер патента: US20130148677A1. Автор: MORIYA Masato,Wakabayashi Osamu,MIZOGUCHI Hakaru,HOSHINO Hideo. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2013-06-13.

Extreme ultraviolet light source device, laser light source device for extreme ultraviolet light source device and method for controlling saturable absorber used in extreme ultraviolet light source device

Номер патента: US20100078580A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Masato Moriya,Akira Endo,Hideo Hoshino,Tatsuya Ariga,Krzysztof Nowak. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2010-04-01.

System for an extreme ultraviolet light source, method of aligning an irradiating amplified light beam generated from an extreme ultraviolet light system relative to a target material, and extreme ultraviolet light system

Номер патента: TWI612851B. Автор: 弗拉迪米爾Ｂ 弗魯羅夫,伊格爾Ｖ 佛蒙柯維. Владелец: Ａｓｍｌ荷蘭公司. Дата публикации: 2018-01-21.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION DEVICE AND METHOD FOR CONTROLLING EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION DEVICE

Номер патента: US20190045616A1. Автор: UENO Yoshifumi,SHIROZU Go,TAKASHIMA Yuta. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2019-02-07.

LASER SYSTEM, EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS, AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION METHOD

Номер патента: US20200119514A1. Автор: ANDO Masahiko. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2020-04-16.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS AND CONTROL METHOD FOR EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS

Номер патента: US20160227638A1. Автор: HORI Tsukasa,Umeda Hiroshi,IWAMOTO Fumio. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2016-08-04.

Extreme ultraviolet light generation system and extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: JPWO2014098181A1. Автор: 伸治 永井,隆志 斎藤. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-01-12.

LASER APPARATUS, EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM, METHOD FOR CONTROLLING THE LASER APPARATUS, AND METHOD FOR GENERATING THE EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT

Номер патента: US20130148674A1. Автор: Wakabayashi Osamu,Nowak Krzysztof. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2013-06-13.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE DEVICE AND CONTROL METHOD FOR EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE DEVICE

Номер патента: US20130187065A1. Автор: MORIYA Masato,Wakabayashi Osamu. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2013-07-25.

System and Method for Rejuvenating an Imaging Sensor Degraded by Exposure to Extreme Ultraviolet or Deep Ultraviolet Light

Номер патента: US20130295695A1. Автор: Delgado Gildardo,Janik Gary. Владелец: . Дата публикации: 2013-11-07.

STRUCTURE ELECTRON BEAM INSPECTION SYSTEM FOR INSPECTING EXTREME ULTRAVIOLET MASK AND STRUCTURE FOR DISCHARGING EXTREME ULTRAVIOLET MASK

Номер патента: US20170053774A1. Автор: KUAN CHIYAN,WANG YOU-JIN,PAN Chung-Shih. Владелец: . Дата публикации: 2017-02-23.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION DEVICE AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM

Номер патента: US20150083939A1. Автор: Wakabayashi Osamu,UENO Yoshifumi. Владелец: . Дата публикации: 2015-03-26.

Extreme ultraviolet light generation system and extreme ultraviolet light generation method

Номер патента: US20170127505A1. Автор: Yoshifumi Ueno,Hideo Hoshino,Georg Soumagne,Atsushi Sunahara. Владелец: Institute for Laser Technology. Дата публикации: 2017-05-04.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM

Номер патента: US20160135276A1. Автор: Wakabayashi Osamu,ABE Tamotsu. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2016-05-12.

CHAMBER FOR EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS, AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS

Номер патента: US20140253716A1. Автор: Wakabayashi Osamu,Saito Takashi,IMACHI Naoyoshi. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2014-09-11.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM AND METHOD OF GENERATING EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT

Номер патента: US20170171955A1. Автор: UENO Yoshifumi,YABU Takayuki,HOSODA Hirokazu. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2017-06-15.

Method for generating extreme ultraviolet light and device for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US20150189730A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Masato Moriya,Hideyuki Hayashi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2015-07-02.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS CONTROLLING METHOD

Номер патента: US20200185212A1. Автор: UEDA Atsushi,Saito Takashi. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2020-06-11.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS AND CONTROL METHOD FOR LASER APPARATUS IN EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM

Номер патента: US20140353528A1. Автор: Wakabayashi Osamu,Suzuki Kazuhiro,HAYASHI Hideyuki. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2014-12-04.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS

Номер патента: US20150296604A1. Автор: Saito Takashi,NAGAI Shinji. Владелец: . Дата публикации: 2015-10-15.

STRUCTURE ELECTRON BEAM INSPECTION SYSTEM FOR INSPECTING EXTREME ULTRAVIOLET MASK AND STRUCTURE FOR DISCHARGING EXTREME ULTRAVIOLET MASK

Номер патента: US20150305131A1. Автор: KUAN CHIYAN,WANG YOU-JIN,PAN Chung-Shih. Владелец: . Дата публикации: 2015-10-22.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS AND CONTROL METHOD FOR LASER APPARATUS IN EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM

Номер патента: US20150342015A1. Автор: Wakabayashi Osamu,Suzuki Kazuhiro,HAYASHI Hideyuki. Владелец: . Дата публикации: 2015-11-26.

TARGET IMAGE-CAPTURE DEVICE, EXTREME-ULTRAVIOLET-LIGHT GENERATION DEVICE, AND EXTREME-ULTRAVIOLET-LIGHT GENERATION SYSTEM

Номер патента: US20170358442A1. Автор: HOSHINO Hideo,YABU Takayuki,HOSODA Hirokazu. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2017-12-14.

Chamber for extreme ultraviolet light generation apparatus, and extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US9538629B2. Автор: Takashi Saito,Osamu Wakabayashi,Naoyoshi IMACHI. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-01-03.

Extreme ultraviolet light source device, control method of extreme ultraviolet light source device

Номер патента: JP5368261B2. Автор: 理 若林,正人 守屋. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2013-12-18.

Extreme ultraviolet radiation generating device for use in extreme ultraviolet lithography, has high voltage supply unit comprising capacitor battery, which consists of capacitor units that are arranged along round rings

Номер патента: DE102006015640B3. Автор: Guido Dr. Hergenhan,Frank Flohrer,Christian Dr. Ziener,Carsten Thode. Владелец: XTREME technologies GmbH. Дата публикации: 2007-10-04.

Extreme ultraviolet light generator and control method of extreme ultraviolet light generator

Номер патента: JP6283684B2. Автор: 司 堀,岩本　文男,文男 岩本,博 梅田. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-02-21.

Extreme ultraviolet light source device and method of generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: US20080029717A1. Автор: Takahiro Shirai. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2008-02-07.

Extreme ultraviolet light source device and control method for extreme ultraviolet light source device

Номер патента: US8692220B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Masato Moriya. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2014-04-08.

Source constructed and arranged to produce extreme ultraviolet radiation and method for producing extreme ultraviolet radiation

Номер патента: TW200938961A. Автор: Vadim Yevgenyevich Banine,Olav Waldemar Vladimir Frijns,Vladimir Mihailòvitch Krivtsun,Konstantin Nikolaevich Koshelev,Yurii Victorovitch Sidelnikov. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2009-09-16.

Method for generating extreme ultraviolet with mather-type plasma accelerators for use in Extreme Ultraviolet Lithography

Номер патента: US7115887B1. Автор: Ahmed Hassanein,Isak Konkashbaev. Владелец: US Department of Energy. Дата публикации: 2006-10-03.

Extreme ultraviolet light source device and extreme ultraviolet radiation generating method

Номер патента: TW200908815A. Автор: Kyohei Seki,Kazuhiko Horioka,Takuma Yokoyama,Tomonao Hosokai,Hiroshi Mizokoshi. Владелец: Ushio Electric Inc. Дата публикации: 2009-02-16.

Laser apparatus and extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: WO2013144690A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Masato Moriya,Takashi Suganuma,Hidenobu Kameda. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2013-10-03.

Forming a reticle for extreme ultraviolet radiation and structures formed thereby

Номер патента: US20060102986A1. Автор: Bryan Rice,Kramadhati Ravi. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2006-05-18.

Liquid sprays as the target for a laser-plasma extreme ultraviolet light source

Номер патента: EP1182912A1. Автор: Michael B. Petach,Rocco A. Orsini,Roy D. McGregor. Владелец: TRW Inc. Дата публикации: 2002-02-27.

Extreme-ultraviolet light source device using electron beams

Номер патента: EP4120802A4. Автор: Kyu Chang Park. Владелец: Worldbeam Solution Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-17.

Apparatuses and methods for extreme ultraviolet light source utilizing thermally induced breakup of target material stream

Номер патента: WO2024141345A1. Автор: Farzad FAREED,Viktor Chikan,Robert Garrett RICHARDS. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-07-04.

Amplifier, laser apparatus, and extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: US20140341248A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Krzysztof Nowak. Владелец: GIGAPHOTHON Inc. Дата публикации: 2014-11-20.

Atomic layer etch and selective deposition process for extreme ultraviolet lithography resist improvement

Номер патента: US12062538B2. Автор: Liu Yang,YANG Pan,Samantha S. H. Tan,Da Li,Andrew Liang,Jengyi Yu,Richard Wise,Boris VOLOSSKIY,Chen-Wei Liang,Ge YUAN. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-13.

Laser apparatus, extreme ultraviolet light generation system, and method for generating laser team

Номер патента: WO2012131452A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Hideo Hoshino,Hiroaki Nakarai. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2012-10-04.

Regenerative amplifier, laser apparatus, and extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: EP2548270A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Takashi Suganuma,Krzysztof Nowak. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2013-01-23.

Target trajectory metrology in an extreme ultraviolet light source

Номер патента: US10681796B2. Автор: Cory Alan Stinson,Michael Leslie Price,Mark Joseph Mitry. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-06-09.

Laser apparatus, extreme ultraviolet light generation system, and method for generating laser beam

Номер патента: EP2692030A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Hideo Hoshino,Hiroaki Nakarai. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2014-02-05.

Laser device and extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: US09743503B2. Автор: Yoshiaki Kurosawa. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-08-22.

Slab amplifier, and laser apparatus and extreme ultraviolet light generation apparatus including slab amplifier

Номер патента: US09680277B2. Автор: Takashi Saito,Takashi Suganuma,Krzysztof Nowak,Yasufumi Kawasuji. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-06-13.

Laser apparatus and extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: US09667019B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Masato Moriya,Takashi Suganuma. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-05-30.

Laser unit and extreme ultraviolet light generating system

Номер патента: US09647406B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Takashi Suganuma,Takayuki Yabu,Seiji Nogiwa. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-05-09.

Extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: US09402297B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Tatsuya Yanagida,Hakaru Mizoguchi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2016-07-26.

Ultraviolet reflector on box for plants

Номер патента: GB2361550B. Автор: Kenneth Brian William Nutt. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-10-15.

Extreme ultraviolet light source apparatus

Номер патента: US20120097869A1. Автор: Yoshifumi Ueno,Akira Endo,Tatsuya Yanagida,Georg Soumagne,Shiniji Nagai. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2012-04-26.

Apparatus and method for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US20120305809A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Masato Moriya. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2012-12-06.

Laser apparatus and extreme ultraviolet light generation system including the laser apparatus

Номер патента: US20130032735A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Hideo Hoshino,Krzysztof Nowak. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2013-02-07.

LASER APPARATUS, METHOD FOR GENERATING LASER BEAM, AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM

Номер патента: US20130094529A1. Автор: Wakabayashi Osamu. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2013-04-18.

LASER APPARATUS, EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM, AND METHOD FOR GENERATING LASER BEAM

Номер патента: US20130099140A1. Автор: Wakabayashi Osamu,HOSHINO Hideo,NAKARAI Hiroaki. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2013-04-25.

APPARATUS AND METHOD FOR GENERATING EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT

Номер патента: US20130105712A1. Автор: Wakabayashi Osamu,YANAGIDA Tatsuya,FUJIMOTO Junichi. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2013-05-02.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS

Номер патента: US20130105713A1. Автор: MORIYA Masato,WATANABE Yukio,IGARASHI Miwa,NAKARAI Hiroaki. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2013-05-02.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS

Номер патента: US20130153794A1. Автор: Wakabayashi Osamu. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2013-06-20.

OPTICAL DEVICE, LASER APPARATUS, AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM

Номер патента: US20130208742A1. Автор: Wakabayashi Osamu,MIZOGUCHI Hakaru,HOSHINO Hideo,SUGANUMA Takashi. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2013-08-15.

REGENERATIVE AMPLIFIER, LASER APPARATUS, AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM

Номер патента: US20130315272A1. Автор: Wakabayashi Osamu,Nowak Krzysztof,SUGANUMA Takashi. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2013-11-28.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE APPARATUS

Номер патента: US20140008554A1. Автор: KAKIZAKI Kouji,ENDO Akira,NAGAI Shinji,ASAYAMA Takeshi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2014-01-09.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS

Номер патента: US20140034852A1. Автор: Wakabayashi Osamu,KAKIZAKI Kouji,ABE Tooru. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2014-02-06.

TARGET SUPPLY DEVICE AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS

Номер патента: US20140061512A1. Автор: Umeda Hiroshi. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2014-03-06.

SYSTEM AND METHOD FOR GENERATING EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT

Номер патента: US20140077099A1. Автор: Wakabayashi Osamu,HORI Tsukasa,KAKIZAKI Kouji,YANAGIDA Tatsuya. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2014-03-20.

System and Method to Adaptively Pre-Compensate for Target Material Push-Out to Optimize Extreme Ultraviolet Light Production

Номер патента: US20140091239A1. Автор: Graham Matthew R.,van der Burgt Jeroen,Kinney Charles,Dunstan Wayne J.. Владелец: . Дата публикации: 2014-04-03.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM

Номер патента: US20140098830A1. Автор: Suzuki Kazuhiro,HAYASHI Hideyuki,Saito Takashi,YABU Takayuki,NAKARAI Hiroaki. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2014-04-10.

INTEGRATED CIRCUITS (ICS) MADE USING EXTREME ULTRAVIOLET (EUV) PATTERNING AND METHODS FOR FABRICATING SUCH ICS

Номер патента: US20200006122A1. Автор: RIM Kern,BADAROGLU Mustafa. Владелец: . Дата публикации: 2020-01-02.

EXTREME ULTRAVIOLET SOURCE WITH MAGNETIC CUSP PLASMA CONTROL

Номер патента: US20160007433A1. Автор: McGeoch Malcolm W.. Владелец: PLEX LLC. Дата публикации: 2016-01-07.

Extreme ultraviolet light source

Номер патента: US20160007434A1. Автор: Daniel Brown,Yezheng Tao,John Tom Stewart, IV,Jordan Jur,Andrew LaForge,Jason M. Arcand,Alexander A. Schafgans,Michael A. Purvis. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-01-07.

SYSTEM AND METHOD FOR GENERATING EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT

Номер патента: US20170019983A1. Автор: Wakabayashi Osamu,HORI Tsukasa,KAKIZAKI Kouji,YANAGIDA Tatsuya,MIZOGUCHI Hakaru. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2017-01-19.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM

Номер патента: US20170027047A1. Автор: Wakabayashi Osamu,YANAGIDA Tatsuya. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2017-01-26.

TARGET FOR EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE

Номер патента: US20160029471A1. Автор: Tao Yezheng,Rafac Robert Jay,Fomenkov Igor Vladimirovich,Brown Daniel John William,Golich Daniel James. Владелец: . Дата публикации: 2016-01-28.

LASER APPARATUS AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS

Номер патента: US20180034228A1. Автор: Funaoka Kouji,NARUSE Masashi. Владелец: Mitsubishi Electric Corporation. Дата публикации: 2018-02-01.

SYSTEM AND METHOD FOR GENERATING EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT

Номер патента: US20190037677A1. Автор: Wakabayashi Osamu,HORI Tsukasa,KAKIZAKI Kouji,YANAGIDA Tatsuya,MIZOGUCHI Hakaru. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2019-01-31.

TARGET MEASURING APPARATUS AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS

Номер патента: US20200037429A1. Автор: YABU Takayuki. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2020-01-30.

Laser system and extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: US20150043599A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Tatsuya Yanagida. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2015-02-12.

SYSTEM AND METHOD TO REDUCE OSCILLATIONS IN EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION

Номер патента: US20160044772A1. Автор: Graham Matthew. Владелец: . Дата публикации: 2016-02-11.

TARGET GENERATION DEVICE AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS

Номер патента: US20160044773A1. Автор: Wakabayashi Osamu,Nakano Masaki. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2016-02-11.

Target Expansion Rate Control in an Extreme Ultraviolet Light Source

Номер патента: US20170048957A1. Автор: Riggs Daniel Jason,Rafac Robert Jay. Владелец: . Дата публикации: 2017-02-16.

Stabilizing EUV Light Power in an Extreme Ultraviolet Light Source

Номер патента: US20170048958A1. Автор: Riggs Daniel Jason,Rafac Robert Jay. Владелец: . Дата публикации: 2017-02-16.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE APPARATUS

Номер патента: US20140131587A1. Автор: Wakabayashi Osamu,WATANABE Yukio,IGARASHI Miwa. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2014-05-15.

SYSTEM AND METHOD FOR GENERATING EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT, AND LASER APPARATUS

Номер патента: US20170063020A1. Автор: Wakabayashi Osamu,YANAGIDA Tatsuya. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2017-03-02.

TRANSPORT SYSTEM FOR AN EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE

Номер патента: US20150069273A1. Автор: Ershov Alexander I.,De Dea Silvia,Wilson Gregory,Verhoff Brandon,La Fontaine Bruno M.. Владелец: . Дата публикации: 2015-03-12.

System and Method for Extreme Ultraviolet Source Control

Номер патента: US20210068241A1. Автор: CHEN Li-Jui,CHIEN Shang-Chieh,CHENG Po-Chung,HSIEH Chieh,FU Tzung-Chi,LIU Bo-Tsun,HSU Chun-Chia. Владелец: . Дата публикации: 2021-03-04.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM

Номер патента: US20160073487A1. Автор: Wakabayashi Osamu,YANAGIDA Tatsuya. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2016-03-10.

TARGET TRAJECTORY METROLOGY IN AN EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE

Номер патента: US20190069386A1. Автор: Price Michael Leslie,Stinson Cory Alan,Mitry Mark Joseph. Владелец: . Дата публикации: 2019-02-28.

TARGET FOR EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE

Номер патента: US20150076374A1. Автор: Brown Daniel J.W.,Fomenkov Igor V.,Tao Yezheng,Rafac Robert J.,Golich Daniel J.. Владелец: . Дата публикации: 2015-03-19.

CHAMBER DEVICE AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATING DEVICE

Номер патента: US20190075642A1. Автор: HORI Tsukasa. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2019-03-07.

Dual pulse driven extreme ultraviolet (euv) radiation source utilizing a droplet comprising a metal core with dual concentric shells of buffer gas

Номер патента: US20160081174A1. Автор: Oleg Gluschenkov,Sivarama Krishnan,Sadanand V. Deshpande,Daniel A. Corliss,Veeresh V. Deshpande. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2016-03-17.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION DEVICE

Номер патента: US20180077785A1. Автор: ISHII Takuya,SUZUKI Toru,UENO Yoshifumi,MIYASHITA Kotaro. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2018-03-15.

TARGET TRAJECTORY METROLOGY IN AN EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE

Номер патента: US20180077786A1. Автор: Price Michael Leslie,Stinson Cory Alan,Mitry Mark Joseph. Владелец: . Дата публикации: 2018-03-15.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS

Номер патента: US20170079126A1. Автор: SUZUKI Toru,YABU Takayuki. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2017-03-16.

SEQUENTIAL INFILTRATION SYNTHESIS EXTREME ULTRAVIOLET SINGLE EXPOSE PATTERNING

Номер патента: US20210082697A1. Автор: Guo Jing,Felix Nelson,De Silva Ekmini Anuja,Meli Luciana. Владелец: . Дата публикации: 2021-03-18.

TARGET SUPPLY CONTROL APPARATUS AND METHOD IN AN EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE

Номер патента: US20220104335A1. Автор: Driessen Theodorus Wilhelmus. Владелец: . Дата публикации: 2022-03-31.

EXTREME ULTRAVIOLET GENERATION APPARATUS

Номер патента: US20210092825A1. Автор: CHOI Min Seok,Lee In Jae,Choi In Ho,JANG Sung Ho,SHIN HYUCK,Kim Jeong-gil. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2021-03-25.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE DEVICE

Номер патента: US20170094766A1. Автор: Yokoyama Takuma. Владелец: USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2017-03-30.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM

Номер патента: US20150102239A1. Автор: Wakabayashi Osamu,YANAGIDA Tatsuya,MIZOGUCHI Hakaru. Владелец: . Дата публикации: 2015-04-16.

SYSTEM AND METHOD FOR GENERATING EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT

Номер патента: US20140183379A1. Автор: Wakabayashi Osamu,HORI Tsukasa,KAKIZAKI Kouji,YANAGIDA Tatsuya. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2014-07-03.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION DEVICE

Номер патента: US20180103534A1. Автор: Soumagne Georg,Saito Takashi,UENO Yoshifumi. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2018-04-12.

ALIGNMENT SYSTEM AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM

Номер патента: US20140191108A1. Автор: MORIYA Masato,Wakabayashi Osamu. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2014-07-10.

SYSTEM AND METHOD FOR GENERATING EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT

Номер патента: US20180110116A1. Автор: Wakabayashi Osamu,HORI Tsukasa,KAKIZAKI Kouji,YANAGIDA Tatsuya,MIZOGUCHI Hakaru. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2018-04-19.

SYSTEM AND METHOD FOR GENERATING EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT

Номер патента: US20150123018A1. Автор: MORIYA Masato,Wakabayashi Osamu. Владелец: . Дата публикации: 2015-05-07.

SYSTEM AND METHOD FOR GENERATING EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT

Номер патента: US20150123019A1. Автор: Wakabayashi Osamu,HORI Tsukasa,KAKIZAKI Kouji,YANAGIDA Tatsuya. Владелец: . Дата публикации: 2015-05-07.

Thermal Monitor For An Extreme Ultraviolet Light Source

Номер патента: US20140203195A1. Автор: Srivastava Shailendra,Fomenkov Igor,Fleurov Vladimir. Владелец: CYMER, INC.. Дата публикации: 2014-07-24.

SYSTEM AND METHOD FOR GENERATING EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT

Номер патента: US20160128172A1. Автор: Wakabayashi Osamu,HORI Tsukasa,KAKIZAKI Kouji,YANAGIDA Tatsuya,MIZOGUCHI Hakaru. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2016-05-05.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE

Номер патента: US20180124906A1. Автор: Stewart,Brown Daniel,Tao Yezheng,IV John Tom,Jur Jordan. Владелец: . Дата публикации: 2018-05-03.

COMPACT STORAGE RING EXTREME ULTRAVIOLET FREE ELECTRON LASER

Номер патента: US20190123507A1. Автор: Feser Michael,Ruth Ronald D.,Loewen Roderick J.. Владелец: . Дата публикации: 2019-04-25.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE DEVICE, LASER LIGHT SOURCE DEVICE FOR EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE DEVICE, AND METHOD FOR CONTROLLING SATURABLE ABSORBER USED IN EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE DEVICE

Номер патента: US20120068091A1. Автор: MORIYA Masato,Wakabayashi Osamu,HOSHINO Hideo,ENDO Akira,Nowak Krzysztof,ARIGA Tatsuya. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2012-03-22.

METHOD FOR THE DETECTION OF THE IRRADIANCE DISTRIBUTION IN AN EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE DEVICE AND AN EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE DEVICE

Номер патента: US20120112077A1. Автор: Yamatani Daiki. Владелец: USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-05-10.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE APPARATUS AND METHOD OF GENERATING EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT

Номер патента: US20120161040A1. Автор: Wakabayashi Osamu,UENO Yoshifumi,ENDO Akira,SASAKI Youichi. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2012-06-28.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE APPARATUS, METHOD FOR CONTROLLING EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE APPARATUS, AND RECORDING MEDIUM WITH PROGRAM RECORDED THEREON

Номер патента: US20120175533A1. Автор: . Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2012-07-12.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION METHOD

Номер патента: US20120241649A1. Автор: Wakabayashi Osamu,NISHIHARA Katsunobu,SUNAHARA Atsushi. Владелец: . Дата публикации: 2012-09-27.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE DEVICE AND CONTROL METHOD FOR EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE DEVICE

Номер патента: US20120319014A1. Автор: MORIYA Masato,Wakabayashi Osamu. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2012-12-20.

CHAMBER APPARATUS, EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM, AND METHOD FOR CONTROLLING THE EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM

Номер патента: US20130026393A1. Автор: Wakabayashi Osamu,ABE Tooru. Владелец: . Дата публикации: 2013-01-31.

Driver laser for extreme ultraviolet light source device, and lpp-type extreme ultraviolet light source device

Номер патента: JP2012227167A. Автор: Akira Endo,Taisuke Miura,彰 遠藤,Takashi Suganuma,崇 菅沼,泰祐 三浦,Tatsuya Ariga,達也 有我. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2012-11-15.

Extreme ultraviolet light generation method and extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: JP4807560B2. Автор: 武史 東口,昌一 窪寺,能史 植野. Владелец: KOMATSU LTD. Дата публикации: 2011-11-02.

Extreme ultraviolet light detection system capable of real-timely acquiring extreme ultraviolet light radiation characteristic

Номер патента: CN102494765A. Автор: 徐强,王骐,赵永蓬. Владелец: Harbin Institute of Technology. Дата публикации: 2012-06-13.

Extreme ultraviolet light source device and method of generating extreme ultraviolet light

Номер патента: JP5368764B2. Автор: 理 若林,陽一 佐々木,達哉 柳田. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2013-12-18.

Extreme ultraviolet exposure mask, manufacturing method thereof, and extreme ultraviolet exposure method

Номер патента: JP5292669B2. Автор: 正 松尾. Владелец: Toppan Inc. Дата публикации: 2013-09-18.

Extreme ultraviolet light source

Номер патента: TW200403905A. Автор: Bowering Norbert,William N Partlo,Stephan T Melnychuk,Igor V Fomenkov,Richard M Ness,I Roger Oliver,Khodykin Oleh,L Rettig Curtis,M Blumenstock Gerry,S Dyer Timothy,D Simmons Rodney,R Hoffman Jerzy,Mark Johnson R. Владелец: Cymer Inc. Дата публикации: 2004-03-01.

Method and device for producing extreme ultraviolet radiation and soft x-radiation

Номер патента: AU2002302317A1. Автор: Jürgen Klein,Joseph Pankert,Willi Neff,Klaus Bergmann,Michael Loken,Stefan Seiwert. Владелец: Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV. Дата публикации: 2002-10-21.

Method and device for generating extreme ultraviolet radiation in particular for lithography

Номер патента: AU2002313018A1. Автор: Martin Schmidt,Olivier Sublemontier,Marc Segers,Tiberio Ceccotti. Владелец: Commissariat a lEnergie Atomique CEA. Дата публикации: 2002-10-28.

EXTREME ULTRAVIOLET PHOTOMASK

Номер патента: US20120009512A1. Автор: JANG Ilyong,Woo SangGyun,Huh Sungmin. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-12.

LASER DEVICE, LASER SYSTEM, AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS

Номер патента: US20120012762A1. Автор: MORIYA Masato,Wakabayashi Osamu,Nowak Krzysztof. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-19.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE WITH A DEBRIS-MITIGATED AND COOLED COLLECTOR OPTICS

Номер патента: US20120025109A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-02-02.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT (EUV) PHOTOMASKS, AND FABRICATION METHODS THEREOF

Номер патента: US20120045712A1. Автор: Huang Wen-Chun,Liu Ru-Gun,Wang Hung-Chun,Luo Boren,Chang Ching-Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.. Дата публикации: 2012-02-23.

Passivation of Multi-Layer Mirror for Extreme Ultraviolet Lithography

Номер патента: US20120069311A1. Автор: . Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2012-03-22.

Methods and Systems for Evaluating Extreme Ultraviolet Mask Flatness

Номер патента: US20120075604A1. Автор: Lee Sang,Lorusso Gian Francesco. Владелец: IMEC. Дата публикации: 2012-03-29.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE APPARATUS

Номер патента: US20120091893A1. Автор: KAKIZAKI Kouji,YANAGIDA Tatsuya,HOSHINO Hideo,KOMORI Hiroshi,ENDO Akira,NAGAI Shinji,ABE Tamotsu. Владелец: Gigaphoton, Inc.. Дата публикации: 2012-04-19.

HIGH HEAT LOAD OPTICS WITH A LIQUID METAL INTERFACE FOR USE IN AN EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY SYSTEM

Номер патента: US20120099088A1. Автор: Phillips Alton H.. Владелец: . Дата публикации: 2012-04-26.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM

Номер патента: US20120104290A1. Автор: Wakabayashi Osamu,HOSHINO Hideo,NISHISAKA Toshihiro,WATANABE Yukio. Владелец: . Дата публикации: 2012-05-03.

Method and Arrangement for the Stabilization of the Source Location of the Generation of Extreme Ultraviolet (EUV) Radiation Based on a Discharge Plasma

Номер патента: US20120112101A1. Автор: . Владелец: XTREME technologies GmbH. Дата публикации: 2012-05-10.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE SYSTEM

Номер патента: US20120119118A1. Автор: Wakabayashi Osamu,HOSHINO Hideo,FUJIMOTO Junichi,SOMEYA Hiroshi,NISHISAKA Toshihiro,WATANABE Yukio. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2012-05-17.

REFLECTIVE EXTREME ULTRAVIOLET MASK AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120135339A1. Автор: Lee Dong-gun,KIM Dong-Wan,KIM Seong-Sue,KIM Tae-Geun. Владелец: . Дата публикации: 2012-05-31.

Protective Cap for Extreme Ultraviolet Lithography Masks

Номер патента: US20120141923A1. Автор: Deweerd Wim Yves. Владелец: . Дата публикации: 2012-06-07.

SYSTEM AND METHOD FOR GENERATING EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT, AND LASER APPARATUS

Номер патента: US20120146507A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-06-14.

PULSED DISCHARGE EXTREME ULTRAVIOLET SOURCE WITH MAGNETIC SHIELD

Номер патента: US20120146510A1. Автор: McGeoch Malcolm W.. Владелец: PLEX LLC. Дата публикации: 2012-06-14.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE APPARATUS

Номер патента: US20120176036A1. Автор: KAKIZAKI Kouji,ENDO Akira,NAGAI Shinji,ASAYAMA Takeshi. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2012-07-12.

Tools, Methods and Devices for Mitigating Extreme Ultraviolet Optics Contamination

Номер патента: US20120205558A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-08-16.

TARGET SUPPLY DEVICE AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS

Номер патента: US20120205559A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-08-16.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS

Номер патента: US20120217422A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-08-30.

PHOTORESIST HAVING IMPROVED EXTREME-ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY IMAGING PERFORMANCE

Номер патента: US20120219897A1. Автор: . Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.. Дата публикации: 2012-08-30.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS

Номер патента: US20120223257A1. Автор: Wakabayashi Osamu,NAGAI Shinji,ABE Tamotsu,NAGANO Hitoshi. Владелец: . Дата публикации: 2012-09-06.

SYSTEM AND METHOD FOR GENERATING EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT

Номер патента: US20120228525A1. Автор: MORIYA Masato,Wakabayashi Osamu,HAYASHI Hideyuki. Владелец: . Дата публикации: 2012-09-13.

REGENERATIVE AMPLIFIER, LASER APPARATUS, AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM

Номер патента: US20120229889A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-09-13.

REFLECTIVE EXTREME ULTRAVIOLET MASK AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120237860A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-09-20.

TARGET SUPPLY UNIT AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS

Номер патента: US20120241650A1. Автор: MIZOGUCHI Hakaru,Umeda Hiroshi,YABU Takayuki. Владелец: . Дата публикации: 2012-09-27.

SYSTEM AND METHOD FOR GENERATING EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT

Номер патента: US20120243566A1. Автор: Wakabayashi Osamu,HORI Tsukasa,KAKIZAKI Kouji,YANAGIDA Tatsuya. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2012-09-27.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM

Номер патента: US20120248344A1. Автор: . Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2012-10-04.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS

Номер патента: US20120267553A1. Автор: . Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2012-10-25.

STRUCTURE FOR DISCHARGING EXTREME ULTRAVIOLET MASK

Номер патента: US20120292509A1. Автор: KUAN CHIYAN,WANG YOU-JIN,PAN Chung-Shih. Владелец: . Дата публикации: 2012-11-22.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM

Номер патента: US20120305811A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-12-06.

SYSTEM AND METHOD FOR GENERATING EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT

Номер патента: US20120307851A1. Автор: Wakabayashi Osamu,HORI Tsukasa,KAKIZAKI Kouji,YANAGIDA Tatsuya,MIZOGUCHI Hakaru. Владелец: . Дата публикации: 2012-12-06.

TARGET SUPPLY UNIT OF EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120311969A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-12-13.

COLLECTOR MIRROR ASSEMBLY AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE DEVICE USING SAID COLLECTOR MIRROR ASSEMBLY

Номер патента: US20120326058A1. Автор: Sato Hiroto. Владелец: USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-12-27.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE AND POSITIONING METHOD OF LIGHT FOCUSING OPTICAL MEANS

Номер патента: US20130009076A1. Автор: . Владелец: USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2013-01-10.

ILLUMINANCE DISTRIBUTION DETECTION METHOD IN EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE APPARATUS AND POSITIONING METHOD OF LIGHT FOCUSING OPTICAL MEANS

Номер патента: US20130010282A1. Автор: Yamatani Daiki. Владелец: USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2013-01-10.

OPTICAL DEVICE, LASER APPARATUS INCLUDING THE OPTICAL DEVICE, AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM INCLUDING THE LASER APPARATUS

Номер патента: US20130015319A1. Автор: MORIYA Masato,Wakabayashi Osamau. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2013-01-17.

WINDOW UNIT, WINDOW DEVICE, LASER APPARATUS, AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM

Номер патента: US20130020499A1. Автор: MORIYA Masato,Wakabayashi Osamu,Kameda Hidenobu. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2013-01-24.

MIRROR, MIRROR DEVICE, LASER APPARATUS, AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS

Номер патента: US20130020511A1. Автор: Wakabayashi Osamu,Kameda Hidenobu. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2013-01-24.

EXTREME ULTRAVIOLET MASKS HAVING ANNEALED LIGHT-ABSORPTIVE BORDERS AND ASSOCIATED FABRICATION METHODS

Номер патента: US20130029253A1. Автор: Sun Lei,Mangat Pawitter,Kritsun Oleg. Владелец: GLOBALFOUNDRIES INC.. Дата публикации: 2013-01-31.

SLAB AMPLIFICATION DEVICE, LASER APPARATUS, AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM

Номер патента: US20130034116A1. Автор: Wakabayashi Osamu,Nowak Krzysztof,SUGANUMA Takashi. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2013-02-07.

OPTICAL SYSTEM AND EXTREME ULTRAVIOLET (EUV) LIGHT GENERATION SYSTEM INCLUDING THE OPTICAL SYSTEM

Номер патента: US20130037693A1. Автор: MORIYA Masato,Wakabayashi Osamu,IGARASHI Miwa. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2013-02-14.

CHAMBER APPARATUS AND EXTREME ULTRAVIOLET (EUV) LIGHT GENERATION APPARATUS INCLUDING THE CHAMBER APPARATUS

Номер патента: US20130048886A1. Автор: MORIYA Masato,Wakabayashi Osamu. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2013-02-28.

LASER APPARATUS, EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM INCLUDING THE LASER APPARATUS, AND METHOD FOR CONTROLLING THE LASER APPARATUS

Номер патента: US20130051412A1. Автор: Wakabayashi Osamu,Miyao Kenichi,Niwano Motoki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2013-02-28.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS

Номер патента: US20130062538A1. Автор: Wakabayashi Osamu,Kodama Takeshi. Владелец: . Дата публикации: 2013-03-14.

TARGET SUPPLY UNIT AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS

Номер патента: US20130075625A1. Автор: UENO Yoshifumi,FUJIMOTO Junichi,YABU Takayuki,NISHISAKA Toshihiro,WATANABE Yukio. Владелец: . Дата публикации: 2013-03-28.

PATTERN FORMING METHOD, ELECTRON BEAM-SENSITIVE OR EXTREME ULTRAVIOLET-SENSITIVE COMPOSITION, RESIST FILM, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE

Номер патента: US20130084438A1. Автор: IWATO Kaoru,TSUBAKI Hideaki,HIRANO Shuji. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-04-04.

SYSTEM AND METHOD FOR GENERATING EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT

Номер патента: US20130119232A1. Автор: MORIYA Masato,Wakabayashi Osamu. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2013-05-16.

CHAMBER APPARATUS AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM

Номер патента: US20130126761A1. Автор: NAGAI Shinji,FUJIMOTO Junichi,ASHIKAWA Kouji. Владелец: . Дата публикации: 2013-05-23.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS, TARGET COLLECTION DEVICE, AND TARGET COLLECTION METHOD

Номер патента: US20130134326A1. Автор: Wakabayashi Osamu,NAGAI Shinji,SASAKI Youichi,YABU Takayuki,Shiraishi Yulaka. Владелец: . Дата публикации: 2013-05-30.

HOLDER DEVICE, CHAMBER APPARATUS, AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM

Номер патента: US20130134330A1. Автор: Wakabayashi Osamu,FUJIMOTO Junichi,Kameda Hidenobu,ASHIKAWA Kouji. Владелец: . Дата публикации: 2013-05-30.

INDUCTION HEATED BUFFER GAS HEAT PIPE FOR USE IN AN EXTREME ULTRAVIOLET SOURCE

Номер патента: US20130153568A1. Автор: McGeoch Malcolm W.. Владелец: PLEX LLC. Дата публикации: 2013-06-20.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS

Номер патента: US20130161540A1. Автор: Wakabayashi Osamu,NAGAI Shinji. Владелец: . Дата публикации: 2013-06-27.

LITHOGRAPHY PROCESSES UTILIZING EXTREME ULTRAVIOLET RAYS AND METHODS OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICES USING THE SAME

Номер патента: US20130210234A1. Автор: KIM Seok Kyun,LIM Chang Moon,PARK Jun Taek. Владелец: SK HYNIX INC.. Дата публикации: 2013-08-15.

EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY PROCESS AND MASK

Номер патента: US20130260288A1. Автор: Lu Yen-Cheng,Yu Shinn-Sheng,Yen Anthony. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.. Дата публикации: 2013-10-03.

System and Method To Optimize Extreme Ultraviolet Light Generation

Номер патента: US20130320244A1. Автор: Riggs Daniel J.,Graham Matthew R.,Chang Steven,Dunstan Wayne J.,Frihauf Paul. Владелец: CYMER, INC.. Дата публикации: 2013-12-05.

EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY PROCESS AND MASK

Номер патента: US20140011120A1. Автор: Lu Yen-Cheng,Yu Shinn-Sheng,Yen Anthony. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.. Дата публикации: 2014-01-09.

Phase Shift Mask for Extreme Ultraviolet Lithography and Method of Fabricating Same

Номер патента: US20140038086A1. Автор: Chen Chia-Jen,Lee Hsin-Chang,Lu Yen-Cheng,Yu Shinn-Sheng,Yen Anthony,Shih Chih-Tsung,CHANG Shu-Hao,Hsu Pei-Cheng,Wu Tsiao-Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.. Дата публикации: 2014-02-06.

EXTREME ULTRAVIOLET (EUV) MULTILAYER DEFECT COMPENSATION AND EUV MASKS

Номер патента: US20140038087A1. Автор: Wagner Alfred,McIntyre Gregory R.,GALLAGHER Emily E.. Владелец: INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION. Дата публикации: 2014-02-06.

Extreme Ultraviolet Lithography Mask and Multilayer Deposition Method for Fabricating Same

Номер патента: US20140038090A1. Автор: Lu Yen-Cheng,Yu Shinn-Sheng,Yen Anthony. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.. Дата публикации: 2014-02-06.

REDUCING EDGE DIE REFLECTIVITY IN EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY

Номер патента: US20140051015A1. Автор: McIntyre Gregory R.,GALLAGHER Emily E.. Владелец: INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION. Дата публикации: 2014-02-20.

METHOD FOR EXTREME ULTRAVIOLET ELECTROSTATIC CHUCK WITH REDUCED CLAMPING EFFECT

Номер патента: US20140061655A1. Автор: Hsu Chia-Hao,Chen Chia-Chen,FU Tzung-Chi,KAO Tzu-Wei,LIN Yu Chao. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.. Дата публикации: 2014-03-06.

TARGET MATERIAL SUPPLY APPARATUS FOR AN EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE

Номер патента: US20140102875A1. Автор: Vaschenko Georgiy O.,De Dea Silvia,Baumgart Peter,Bowering Norbert. Владелец: . Дата публикации: 2014-04-17.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.