Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • REGENERATIVE AMPLIFIER, LASER APPARATUS, AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM

REGENERATIVE AMPLIFIER, LASER APPARATUS, AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM

Номер патента: US20130315272A1
Опубликовано: 28-11-2013
Автор(ы): Nowak Krzysztof, SUGANUMA Takashi, Wakabayashi Osamu
Принадлежит: Gigaphoton Inc.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Laser apparatus, laser system, and extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US20140346375A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Takashi Suganuma,Krzysztof Nowak. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2014-11-27.

Laser apparatus and production method of laser apparatus

Номер патента: US20090052486A1. Автор: Kenji Tamamori,Shinan Wang. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-02-26.

Laser apparatus and production method of laser apparatus

Номер патента: US7477668B2. Автор: Kenji Tamamori,Shinan Wang. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-01-13.

Semiconductor laser apparatus and method of observing semiconductor laser apparatus

Номер патента: US20010046770A1. Автор: Shigemitsu Shiba. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-11-29.

Surface emitting laser apparatus and method for manufacturing the same

Номер патента: US20240235158A9. Автор: Li-Hung Lai,Li-Wen Lai. Владелец: HLJ TECHNOLOGY Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Regenerative amplifier, laser apparatus, and extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: EP2548270A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Takashi Suganuma,Krzysztof Nowak. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2013-01-23.

Laser apparatus

Номер патента: US9231364B2. Автор: Ryunosuke Yano. Владелец: Mitutoyo Corp. Дата публикации: 2016-01-05.

Laser apparatus and measurement unit

Номер патента: US20170373461A1. Автор: Seiji Nogiwa,Yasufumi Kawasuji. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-12-28.

Surface emitting laser array, solid-state laser apparatus, and subject information acquisition apparatus including the solid-state laser apparatus

Номер патента: WO2015190615A3. Автор: Mamoru Uchida,Tatsuro Uchida. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2016-03-24.

Tunable laser assembly including tunable semiconductor laser apparatus and photodetector outside of laser housing

Номер патента: US12100933B2. Автор: Liang Luo,Yuzhou SUN,Wenkai Tu,Jinan GU. Владелец: Innolight Technology Pte Ltd. Дата публикации: 2024-09-24.

Laser apparatus and method for controlling the linewidth of the emitted laser beam

Номер патента: EP4425726A1. Автор: Geert Morthier. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2024-09-04.

Surface emitting laser array, solid-state laser apparatus, and subject information acquisition apparatus including the solid-state laser apparatus

Номер патента: WO2015190615A2. Автор: Mamoru Uchida,Tatsuro Uchida. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2015-12-17.

Wavelength-tunable laser apparatus and wavelength changing method thereof

Номер патента: US20110002349A1. Автор: Kenji Sato,Koji Kudo,Kenji Mizutani. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2011-01-06.

Laser apparatus and power adjustment method for optical network terminal

Номер патента: EP4277050A1. Автор: Tianhai Chang,Guangcan Chen,Yuanbing Cheng. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-15.

Semiconductor laser apparatus, information recording/reproduction apparatus and image recording apparatus

Номер патента: US20020057721A1. Автор: Toyoki Taguchi,Tetsuya Nagahama,Masayuki Tazawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-05-16.

Laser apparatus and reservoir computing system

Номер патента: US20200052463A1. Автор: Seiji Takeda,Toshiyuki Yamane,Daiju Nakano. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2020-02-13.

Laser apparatus and method to re-tune emission wavelength tunable LD

Номер патента: US09444221B2. Автор: Hajime Shoji,Hiroyuki Matsuura,Shu Namiki,Katsumi Uesaka,Haruhiko Kuwatsuka,Eiichi Banno,Ken TANIZAWA. Владелец: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST. Дата публикации: 2016-09-13.

Method to tune emission wavelength of wavelength tunable laser apparatus and laser apparatus

Номер патента: US09819147B2. Автор: Hirokazu Tanaka,Hiromitsu Kawamura,Masao Shibata,Tetsufumi Odagawa. Владелец: Sumitomo Electric Device Innovations Inc. Дата публикации: 2017-11-14.

Laser apparatus and optical transmitter

Номер патента: US09711942B2. Автор: Hiroki Kanesaka. Владелец: Fujitsu Optical Components Ltd. Дата публикации: 2017-07-18.

Laser device and extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: US09743503B2. Автор: Yoshiaki Kurosawa. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-08-22.

Extreme ultraviolet light source device, laser light source device for extreme ultraviolet light source, and method of adjusting laser light source device for extreme ultraviolet light source device

Номер патента: US8698114B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Masato Moriya,Hideo Hoshino,Hakaru Mizoguchi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2014-04-15.

Laser apparatus and extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US9271382B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Masato Moriya. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2016-02-23.

Laser apparatus, extreme ultraviolet light generation system, and method for generating laser team

Номер патента: WO2012131452A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Hideo Hoshino,Hiroaki Nakarai. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2012-10-04.

Laser apparatus, extreme ultraviolet light generation system, and method for generating laser beam

Номер патента: EP2692030A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Hideo Hoshino,Hiroaki Nakarai. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2014-02-05.

Mode locked laser diode in a high power solid state regenerative amplifier and mount mechanism

Номер патента: US5469454A. Автор: Peter J. Delfyett, Jr.. Владелец: UNIVERSITY OF CENTRAL FLORIDA. Дата публикации: 1995-11-21.

System and method for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US09497842B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Kouji Kakizaki,Tatsuya Yanagida,Tsukasa Hori,Hakaru Mizoguchi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2016-11-15.

System and method for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US09877378B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Kouji Kakizaki,Tatsuya Yanagida,Tsukasa Hori,Hakaru Mizoguchi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-01-23.

System and method for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US20170019983A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Kouji Kakizaki,Tatsuya Yanagida,Tsukasa Hori,Hakaru Mizoguchi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-01-19.

System and method for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US20180110116A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Kouji Kakizaki,Tatsuya Yanagida,Tsukasa Hori,Hakaru Mizoguchi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-04-19.

System and method for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US20190037677A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Kouji Kakizaki,Tatsuya Yanagida,Tsukasa Hori,Hakaru Mizoguchi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2019-01-31.

Semiconductor laser apparatus and optical pickup apparatus using same

Номер патента: US20030174748A1. Автор: Kazunori Matsubara,Ayumi Yagi. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2003-09-18.

Laser apparatus, pulse width stretching apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20230022170A1. Автор: Hirotaka Miyamoto. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-01-26.

Semiconductor laser apparatus and manufacturing method thereof

Номер патента: US09484711B2. Автор: Babu Dayal PADULLAPARTHI. Владелец: SAE Magnetics HK Ltd. Дата публикации: 2016-11-01.

Gas laser apparatus, gas laser apparatus maintenance method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240154381A1. Автор: Junichi Fujimoto,Akira SUWA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-05-09.

Surface-emitting laser apparatus and manufacturing method thereof

Номер патента: US09966730B2. Автор: Naoto Jikutani,Kazuhiko Adachi. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Semiconductor laser apparatus and method of producing the same

Номер патента: US20030063640A1. Автор: Ikuo Kohashi. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2003-04-03.

Semiconductor laser apparatus and semiconductor laser device

Номер патента: US12119611B2. Автор: Masayuki Ono,Kazuya Yamada,Mitsuru Nishitsuji,Hiroshi Asaka,Tohru Nishikawa,Katsuya Samonji. Владелец: Nuvoton Technology Corp Japan. Дата публикации: 2024-10-15.

Excimer laser apparatus and excimer laser system

Номер патента: US09954340B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Takeshi Ohta,Tooru Abe,Hiroaki Tsushima. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-04-24.

Excimer laser apparatus and excimer laser system

Номер патента: US09425576B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Takeshi Ohta,Tooru Abe,Hiroaki Tsushima. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2016-08-23.

Excimer laser apparatus and excimer laser system

Номер патента: US10177520B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Kouji Kakizaki,Takeshi Asayama. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2019-01-08.

Excimer laser apparatus and excimer laser system

Номер патента: US20160254634A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Kouji Kakizaki,Takeshi Asayama. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2016-09-01.

Excimer laser apparatus and excimer laser system

Номер патента: US20180048109A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Kouji Kakizaki,Takeshi Asayama. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-02-15.

Excimer laser apparatus and excimer laser system

Номер патента: US09837780B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Kouji Kakizaki,Takeshi Asayama. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-12-05.

Laser apparatus and method for laser processing a target material

Номер патента: US09724235B2. Автор: Klaus Vogler,Olaf Kittelmann. Владелец: NOVARTIS AG. Дата публикации: 2017-08-08.

Pump device for pumping an amplifying laser medium

Номер патента: US20150244141A1. Автор: Daniel Kopf. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-08-27.

LASER APPARATUS, LASER SYSTEM, AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS

Номер патента: US20140346375A1. Автор: Wakabayashi Osamu,Nowak Krzysztof,SUGANUMA Takashi. Владелец: . Дата публикации: 2014-11-27.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US20140034852A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Kouji Kakizaki,Tooru Abe. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2014-02-06.

System and method for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US20150351209A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Kouji Kakizaki,Tatsuya Yanagida,Tsukasa Hori. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2015-12-03.

Apparatus and method for generating high redundancy laser pulse bursts

Номер патента: KR102243212B1. Автор: 마르티나스 바르카우스카스,카롤리스 네이몬타스,비타우타스 부트쿠스. Владелец: 유에이비 라이트 컨버젼. Дата публикации: 2021-04-23.

Laser apparatus and method of controlling laser apparatus

Номер патента: US09647415B2. Автор: Takashi Matsunaga,Osamu Wakabayashi,Hiroaki Tsushima. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-05-09.

Apparatus and method for controlling cooling of fuel cell-based generator system

Номер патента: US11271231B2. Автор: Hyun Jae Lee,Deuk Kuen Ahn,Seon Jong Kang. Владелец: Kia Motors Corp. Дата публикации: 2022-03-08.

Laser apparatus, apparatus and method for irradiating ultravilolet light , and apparatus and method for detecting pattern of object

Номер патента: KR100841147B1. Автор: 소이치 오와,도모코 오츠키. Владелец: 가부시키가이샤 니콘. Дата публикации: 2008-06-24.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and control method for laser apparatus in extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: US09468082B2. Автор: Kazuhiro Suzuki,Osamu Wakabayashi,Hideyuki Hayashi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2016-10-11.

Laser apparatus and extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: WO2013144690A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Masato Moriya,Takashi Suganuma,Hidenobu Kameda. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2013-10-03.

USE OF POSITIVE DISPERSION MIRRORS TO MAINTAIN BEAM QUALITY DURING CHIRPED PULSE AMPLIFICATION IN A Yb:KYW REGENERATIVE AMPLIFIER

Номер патента: US20200366046A1. Автор: Vladimir S. Ban,Michael B. Orozco. Владелец: Femto Blanc Inc. Дата публикации: 2020-11-19.

Extreme ultraviolet light generation device and method for controlling extreme ultraviolet light generation device

Номер патента: US20190045616A1. Автор: Yoshifumi Ueno,Yuta TAKASHIMA,Go SHIROZU. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2019-02-07.

Thin-disk regenerative amplifier and amplification method

Номер патента: US11876341B1. Автор: YANG He,Yi Chen,Junjie Sun,Fei Chen,Kuo ZhANG,Jinghua Yu,Zhihuan Yao,Deyang Yu. Владелец: Changchun Institute of Optics Fine Mechanics and Physics of CAS. Дата публикации: 2024-01-16.

Laser apparatus and extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: US20140348188A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Masato Moriya,Takashi Suganuma,Hidenobu Kameda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2014-11-27.

Laser apparatus and extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: WO2013144692A2. Автор: Osamu Wakabayashi,Krzysztof Nowak. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2013-10-03.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US11778721B2. Автор: Yuichi Nishimura,Takayuki Yabu,Hiroaki Nakarai. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-10-03.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2030088B1. Автор: YABU Takayuki,NISHIMURA Yuichi,NAKARAI Hiroaki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-01-04.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20230387644A1. Автор: Takashi Suganuma. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-11-30.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2034367A. Автор: SUGANUMA Takashi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-12-05.

Narrow-band laser apparatus

Номер патента: CA2032054A1. Автор: Naoya Horiuchi,Keiichiro Yamanaka,Nobuaki Furuya,Takeo Miyata,Takuhiro Ono. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1992-06-13.

Laser apparatus and photoacoustic apparatus

Номер патента: US20140031667A1. Автор: Shuichi Kobayashi,Shigeru Ichihara. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-01-30.

Laser apparatus and photoacoustic apparatus

Номер патента: US09293886B2. Автор: Shuichi Kobayashi,Shigeru Ichihara. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-03-22.

Two-wavelength laser apparatus

Номер патента: US20020118712A1. Автор: Takashige Omatsu,Yoshiyuki Usuki. Владелец: Furukawa Co Ltd. Дата публикации: 2002-08-29.

Fiber laser apparatus, image display apparatus and method of exciting up-conversion fiber laser apparatus

Номер патента: US20040156402A1. Автор: Kiyoyuki Kawai,Masaki Tsuchida. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2004-08-12.

Amplifier device and method for amplifying laser pulses

Номер патента: EP2873123A1. Автор: Ferenc Krausz,Thomas Metzger,Moritz UEFFING. Владелец: Max Planck Gesellschaft zur Foerderung der Wissenschaften eV. Дата публикации: 2015-05-20.

Narrowed-line gas laser apparatus and method for manufacturing electronic devices

Номер патента: US12068572B2. Автор: Yosuke Fujimaki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-08-20.

Laser gas regenerating apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20200403371A1. Автор: SATOSHI Tanaka,Osamu Wakabayashi,Takeshi Asayama,Hiroaki Tsushima,Yousuke FUJIMAKI. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-12-24.

Amplifier device and method for amplifying laser pulses

Номер патента: US09450367B2. Автор: Ferenc Krausz,Thomas Metzger,Moritz UEFFING. Владелец: Max Planck Gesellschaft zur Foerderung der Wissenschaften eV. Дата публикации: 2016-09-20.

Pulsed light generating method, pulse laser apparatus, exposure apparatus having pulse laser apparatus, and inspection apparatus having pulse laser apparatus

Номер патента: US20160359290A1. Автор: Naoto Inaba,Akira Tokuhisa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-12-08.

Pulsed light generating method, pulse laser apparatus, exposure apparatus having pulse laser apparatus, and inspection apparatus having pulse laser apparatus

Номер патента: US10044160B2. Автор: Naoto Inaba,Akira Tokuhisa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-08-07.

Laser apparatus and euv light generation system

Номер патента: US20200044407A1. Автор: Yoshifumi Ueno,Yoshiaki Kurosawa,Tsukasa Hori,Takayuki Yabu. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-02-06.

Laser apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240235149A1. Автор: Toru Suzuki,Osamu Wakabayashi,Hironori IGARASHI,Yousuke FUJIMAKI. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-07-11.

Apparatuses and methods for generating coherent electromagnetic laser radiation

Номер патента: WO2002025785A8. Автор: PETER B SEWELL,Michael R Mross,Thomas H Lowell,Robert A Durant. Владелец: VERMONT PHOTONICS. Дата публикации: 2002-07-04.

Apparatuses and methods for generating coherent electromagnetic laser radiation

Номер патента: WO2002025785A3. Автор: PETER B SEWELL,Michael R Mross,Thomas H Lowell,Robert A Durant. Владелец: VERMONT PHOTONICS. Дата публикации: 2003-07-10.

Laser apparatus and method of controlling laser apparatus

Номер патента: US09490603B2. Автор: Takashi Matsunaga,Osamu Wakabayashi,Hiroaki Tsushima,Takahito Kumazaki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2016-11-08.

Narrow band laser apparatus and method for positioning line narrow module

Номер патента: US20170205631A1. Автор: Miwa Igarashi,Yoshinobu Watabe,Koji ASHIKAWA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-07-20.

P-element doped laser medium apparatus and method

Номер патента: US20110206078A1. Автор: Robert R. Alfano,Mikhail Sharonov,Alexei Bykov. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-08-25.

Laser apparatus having temperature control function for maintenance work

Номер патента: US09899790B2. Автор: Atsushi Mori. Владелец: FANUC Corp. Дата публикации: 2018-02-20.

Grating coupling free electron laser apparatus and method

Номер патента: AU5104698A. Автор: John E Walsh. Владелец: Dartmouth College. Дата публикации: 1998-06-03.

Laser apparatus and method of operation therefor

Номер патента: CA3112983A1. Автор: Arkady Khachaturov. Владелец: LUMENIS LTD. Дата публикации: 2020-04-23.

Laser apparatus and method of operation therefor

Номер патента: AU2019360042A1. Автор: Arkady Khachaturov. Владелец: LUMENIS LTD. Дата публикации: 2021-04-15.

Laser apparatus and method of operation therefor

Номер патента: EP3864725A1. Автор: Arkady Khachaturov. Владелец: LUMENIS LTD. Дата публикации: 2021-08-18.

Laser apparatus and method of operation therefor

Номер патента: AU2019360042B2. Автор: Arkady Khachaturov. Владелец: LUMENIS LTD. Дата публикации: 2024-10-03.

System and method for generating extreme ultraviolet light, and laser apparatus

Номер патента: US09509115B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Tatsuya Yanagida. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2016-11-29.

Laser apparatus, extreme ultraviolet light generation system, method for controlling the laser apparatus, and method for generating the extreme ultraviolet light

Номер патента: EP2673856A2. Автор: Osamu Wakabayashi,Krzysztof Nowak. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2013-12-18.

Laser apparatus, extreme ultraviolet light generation system, method for controlling the laser apparatus, and method for generating the extreme ultraviolet light

Номер патента: US09570884B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Krzysztof Nowak. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-02-14.

Extreme ultraviolet light generating apparatus and control method for centroid of extreme ultraviolet light

Номер патента: US10251254B2. Автор: Yuichi Nishimura,Takayuki Yabu. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2019-04-02.

Extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: US09980360B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Tatsuya Yanagida. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-05-22.

Extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: US09497841B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Tatsuya Yanagida. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2016-11-15.

Laser apparatus, extreme ultraviolet light generation system including the laser apparatus, and method for controlling the laser apparatus

Номер патента: WO2012114172A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Motoki Niwano,Kenichi Miyao. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2012-08-30.

Laser apparatus and extreme ultraviolet light generating system

Номер патента: US10340654B2. Автор: Seiji Nogiwa,Yasufumi Kawasuji. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2019-07-02.

Laser apparatus and extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: US20190288478A1. Автор: Yoshiaki Kurosawa. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2019-09-19.

Extreme ultraviolet light generation system, laser beam size controlling method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2025490B9. Автор: YABU Takayuki,NISHIMURA Yuichi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-07-14.

Extreme ultraviolet light generation system, laser beam size controlling method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20200393687A1. Автор: Yuichi Nishimura,Takayuki Yabu. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-12-17.

Laser apparatus and extreme ultraviolet light generating system

Номер патента: US20180375283A1. Автор: Yoshiaki Kurosawa. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-12-27.

Extreme ultraviolet light generation system, laser beam size controlling method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2025490B1. Автор: YABU Takayuki,NISHIMURA Yuichi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-01-25.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2029356A. Автор: UEDA Atsushi,KOGE Koichiro,OSANAI Takayuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-06-27.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2029356B1. Автор: UEDA Atsushi,KOGE Koichiro,OSANAI Takayuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-09-11.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20220146943A1. Автор: Atsushi Ueda,Koichiro KOGE,Takayuki OSANAI. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-05-12.

Light source and extreme ultraviolet light source system using the same

Номер патента: US11828952B2. Автор: Dohyung Kim,Motoshi Sakai,Jungchul Lee,Seungkoo Lee,Seongchul HONG,Kyungsik KANG,Kyungbin Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-28.

Extreme ultraviolet light generating apparatus

Номер патента: US20180240562A1. Автор: Tamotsu Abe,Takayuki Yabu,Tooru Abe,Kenichi Miyao. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-08-23.

Extreme ultraviolet light source device

Номер патента: US09826617B2. Автор: Takuma Yokoyama. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2017-11-21.

Apparatus for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US09635749B2. Автор: Sung-Joo Kim,Jin-Seok Heo,Jae-Pil Lee,Do-Hyun Seo,Da-Hae Lee,Sung-Jo Hwang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-04-25.

215- to 222-nm wavelength laser light generating device

Номер патента: US20240226347A9. Автор: Hideharu Horikoshi,Nobuhiro Umemura,Tomosumi KAMIMURA. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-07-11.

Beam transport system for extreme ultraviolet light source

Номер патента: WO2011075346A1. Автор: William N. Partlo,Nam-Hyong Kim,Robert N. Bergstedt,Lgor V. Fomenkov. Владелец: CYMER, INC.. Дата публикации: 2011-06-23.

Laser apparatus, euv light generation system, and method of controlling laser apparatus

Номер патента: US20170070024A1. Автор: Yasufumi Kawasuji,Toshio Yokozuka,Naoya TAKAOKA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-03-09.

Target for extreme ultraviolet light source

Номер патента: US9155179B2. Автор: Igor V. Fomenkov,Daniel J. W. Brown,Yezheng Tao,Robert J. Rafac,Daniel J. Golich. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2015-10-06.

Target for extreme ultraviolet light source

Номер патента: US8912514B2. Автор: Igor V. Fomenkov,Daniel J. W. Brown,Yezheng Tao,Robert J. Rafac,Daniel J. Golich. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2014-12-16.

Extreme ultraviolet light source device

Номер патента: US20170094766A1. Автор: Takuma Yokoyama. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2017-03-30.

Amplifying laser pulses having different wavelengths for euv radiation generation

Номер патента: US20180279459A1. Автор: Matthias Wissert. Владелец: Trumpf Lasersystems for Semiconductor Manufacturing GmbH. Дата публикации: 2018-09-27.

215- to 222-nm wavelength laser light generating device

Номер патента: US20240131208A1. Автор: Hideharu Horikoshi,Nobuhiro Umemura,Tomosumi KAMIMURA. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-04-25.

Laser apparatus, light therapy apparatus, exposure apparatus, device manufacturing method, and object inspection apparatus

Номер патента: US20110245898A1. Автор: Yasutoshi Takada,Akira Tokuhisa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2011-10-06.

Light emitting apparatus and optical transmitting apparatus

Номер патента: US20180070423A1. Автор: Takashi Kondo,Jun Sakurai,Akemi Murakami,Junichiro Hayakawa,Naoki Jogan. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-08.

Surface emitting laser apparatus and method for manufacturing the same

Номер патента: US20240235159A9. Автор: Li-Hung Lai,Li-Wen Lai. Владелец: HLJ TECHNOLOGY Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Method, apparatus and system for using free-electron laser compatible euv beam for semiconductor wafer processing

Номер патента: US20160165710A1. Автор: Erik Robert Hosler. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2016-06-09.

Laser apparatus and laser apparatus manufacturing method

Номер патента: US20160365694A1. Автор: Hideo Hoshino,Yasufumi Kawasuji. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2016-12-15.

Laser apparatus and laser apparatus manufacturing method

Номер патента: WO2013144693A2. Автор: Hideo Hoshino,Yasufumi Kawasuji. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2013-10-03.

Picosecond laser apparatus and methods for treating target tissues with same

Номер патента: US12068571B2. Автор: Mirko Georgiev MIRKOV,Rafael Armando Sierra. Владелец: Cynosure LLC. Дата публикации: 2024-08-20.

Laser system including optical amplification subsystem providing an amplified laser output

Номер патента: US09893494B2. Автор: Eyal Shekel. Владелец: Civan Advanced Technologies Ltd. Дата публикации: 2018-02-13.

Laser apparatus and laser apparatus manufacturing method

Номер патента: US09837779B2. Автор: Hideo Hoshino,Yasufumi Kawasuji. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-12-05.

Laser system including optical amplification subsystem providing an amplified laser output

Номер патента: US09584224B2. Автор: Eyal Shekel. Владелец: Civan Advanced Technologies Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Laser apparatus and euv light generating system

Номер патента: US20200077500A1. Автор: Katsuhiko Wakana. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-03-05.

Laser apparatus and EUV light generating system

Номер патента: US10925143B2. Автор: Katsuhiko Wakana. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-02-16.

Medical laser apparatus and system

Номер патента: US12023096B2. Автор: Kurt G. Shelton,Masayasu CHIDA. Владелец: Gyrus ACMI Inc. Дата публикации: 2024-07-02.

Medical laser apparatus and system

Номер патента: US20240252245A1. Автор: Kurt G. Shelton,Masayasu CHIDA. Владелец: Gyrus ACMI Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Amplified laser light with multiple optical amplifiers

Номер патента: US20230130928A1. Автор: Craig Newswanger,Mary Lou Jepsen,Albert P. Heberle,Gregory Lee Keaton,Hosain Haghany. Владелец: Open Water Internet Inc. Дата публикации: 2023-04-27.

Laser system including optical amplification subsystem providing an amplified laser output

Номер патента: US20170125980A1. Автор: Eyal Shekel. Владелец: Civan Advanced Technologies Ltd. Дата публикации: 2017-05-04.

Laser system including optical amplification subsystem providing an amplified laser output

Номер патента: US20180145484A1. Автор: Eyal Shekel. Владелец: Civan Advanced Technologies Ltd. Дата публикации: 2018-05-24.

Target control in extreme ultraviolet lithography systems using aberration of reflection image

Номер патента: US11860544B2. Автор: Li-Jui Chen,Yen-Shuo Su,Han-Lung Chang,Ting-Ya CHENG,Shi-Han SHANN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-01-02.

Target control in extreme ultraviolet lithography systems using aberration of reflection image

Номер патента: US20240085797A1. Автор: Li-Jui Chen,Yen-Shuo Su,Han-Lung Chang,Ting-Ya CHENG,Shi-Han SHANN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Ultraviolet laser light generation device

Номер патента: EP4300186A1. Автор: Hideharu Horikoshi,Nobuhiro Umemura,Tomosumi KAMIMURA. Владелец: Nippon Silica Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-03.

Ultraviolet laser light generation device

Номер патента: US20240226348A9. Автор: Hideharu Horikoshi,Nobuhiro Umemura,Tomosumi KAMIMURA. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-07-11.

APPARATUS AND METHOD FOR CONTROLLING COOLING OF FUEL CELL-BASED GENERATOR SYSTEM

Номер патента: US20210336282A1. Автор: Lee Hyun Jae,Ahn Deuk Kuen,Kang Seon Jong. Владелец: . Дата публикации: 2021-10-28.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and extreme ultraviolet light generation apparatus controlling method

Номер патента: US20200185212A1. Автор: Takashi Saito,Atsushi Ueda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-06-11.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20220035249A1. Автор: Yoshiyuki Honda,Hirokazu HOSODA,Takanari KOBAYASHI. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-02-03.

Extreme ultraviolet light generation chamber device and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2036440A. Автор: UEDA Atsushi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-07-22.

Collector mirror assembly and extreme ultraviolet light source device using said collector mirror assembly

Номер патента: US9029815B2. Автор: Hiroto Sato. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2015-05-12.

Extreme ultraviolet light generation chamber device and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240241448A1. Автор: Atsushi Ueda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-07-18.

Methods and apparatus to reduce extreme ultraviolet light for photolithography

Номер патента: US20240241446A1. Автор: Charles H. Wallace,Leonard GULER,Elliot N. Tan,Shengsi LIU,Marvin Paik,Vivek Vishwakarma,Izabela Samek,Mohammadreza Soleymaniha. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2028521A. Автор: Honda Yoshiyuki,HOSODA Hirokazu,KOBAYASHI Takanari. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-03-21.

Extreme ultraviolet light generation apparatus, extreme ultraviolet light generation system, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2027449B1. Автор: UEDA Atsushi,Ishida Yuki,Yoshida Yoshiaki,KOGE Koichiro,OSANAI Takayuki,OHSAWA Akihiro,SHINTANI Toshiya,Takada Yosuke. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-10-27.

Extreme ultraviolet light generation apparatus, extreme ultraviolet light generation system, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2027449A. Автор: UEDA Atsushi,Ishida Yuki,Yoshida Yoshiaki,KOGE Koichiro,OSANAI Takayuki,OHSAWA Akihiro,SHINTANI Toshiya,Takada Yosuke. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-10-20.

Extreme ultraviolet light generation apparatus, extreme ultraviolet light generation system, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210298160A1. Автор: Yoshiaki Yoshida,Atsushi Ueda,Toshiya Shintani,Akihiro Ohsawa,Yuki Ishida,Yosuke Takada,Koichiro KOGE,Takayuki OSANAI. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-09-23.

Extreme ultraviolet light and plasma combined atomic-scale processing method

Номер патента: EP4197966A1. Автор: Fengzhou Fang. Владелец: TIANJIN UNIVERSITY. Дата публикации: 2023-06-21.

Method for generating extreme ultraviolet light and device for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US20150189730A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Masato Moriya,Hideyuki Hayashi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2015-07-02.

Extreme ultraviolet light generation device

Номер патента: US10990016B2. Автор: Atsushi Ueda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-04-27.

Semiconductor manufacturing apparatus and operating method thereof

Номер патента: US20240251496A1. Автор: Jinhong Park,Dohyung Kim,Insung Kim,Jungchul Lee,Seongchul HONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-25.

Atomic-scale processing method by combining extreme ultraviolet light and plasma

Номер патента: US20220336189A1. Автор: Fengzhou Fang. Владелец: TIANJIN UNIVERSITY. Дата публикации: 2022-10-20.

Photomask for extreme ultraviolet lithography and method for fabricating the same

Номер патента: US8158305B2. Автор: Sung Hyun Oh. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2012-04-17.

Extreme ultraviolet light source apparatus and plasma position adjusting method

Номер патента: US20210327701A1. Автор: Noritaka Ashizawa. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2021-10-21.

Extreme ultraviolet light source apparatus and plasma position adjusting method

Номер патента: US11631579B2. Автор: Noritaka Ashizawa. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2023-04-18.

Deep ultraviolet light emitting diode

Номер патента: US09806226B2. Автор: Michael Shur,Alexander Dobrinsky,Maxim S. Shatalov,Remigijus Gaska. Владелец: Sensor Electronic Technology Inc. Дата публикации: 2017-10-31.

Deep ultraviolet light emitting diode

Номер патента: US09437774B2. Автор: Michael Shur,Alexander Dobrinsky,Maxim S. Shatalov,Remigijus Gaska. Владелец: Sensor Electronic Technology Inc. Дата публикации: 2016-09-06.

Ultraviolet light generating target, electron-beam-excited ultraviolet light source, and method for producing ultraviolet light generating target

Номер патента: US20140034853A1. Автор: Koji Kawai,Takashi Suzuki,Yoshinori Honda,Norio Ichikawa,Fumitsugu Fukuyo,Takeaki HATTORI,Shucheng Chu. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2014-02-06.

Target for ultraviolet light generation, electron beam-excited ultraviolet light source, and production method for target for ultraviolet light generation

Номер патента: US09728393B2. Автор: Koji Kawai,Takashi Suzuki,Yoshinori Honda,Fumitsugu Fukuyo,Hiroyuki Taketomi,Hidetsugu Takaoka. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2017-08-08.

Charged particle beam writing apparatus and method therefor

Номер патента: US09552963B2. Автор: Shusuke Yoshitake. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-01-24.

Methods for producing flexible ultraviolet light generation sheets and systems

Номер патента: CA3084762C. Автор: David C. Keach,John M. Squeri,Mark DONHOWE,Scott P. FILLERY. Владелец: WL Gore and Associates Inc. Дата публикации: 2023-12-12.

Methods for producing flexible ultraviolet light generation sheets and systems

Номер патента: US11857689B2. Автор: David C. Keach,John M. Squeri,Mark DONHOWE,Scott P. FILLERY. Владелец: WL Gore and Associates Inc. Дата публикации: 2024-01-02.

System and method for rejuvenating an imaging sensor degraded by exposure to extreme ultraviolet or deep ultraviolet light

Номер патента: EP2837174A1. Автор: Gary Janik,Gildardo DELGADO. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2015-02-18.

System and method for rejuvenating an imaging sensor degraded by exposure to extreme ultraviolet or deep ultraviolet light

Номер патента: WO2013155391A1. Автор: Gary Janik,Gildardo DELGADO. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2013-10-17.

Extreme ultraviolet (euv) exposure system and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20180031978A1. Автор: Chang-min Park,Ji-Sun LEE,Myung-soo HWANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-02-01.

Extreme ultraviolet (EUV) exposure system and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US09996009B2. Автор: Chang-min Park,Ji-Sun LEE,Myung-soo HWANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-06-12.

Method and apparatus for controlling droplet in extreme ultraviolet light source

Номер патента: US20240160106A1. Автор: Chi-Hung Liao,Yueh-Lin Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Method and apparatus for controlling droplet in extreme ultraviolet light source

Номер патента: US20220155690A1. Автор: Chi-Hung Liao,Yueh-Lin Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-05-19.

Ultraviolet light-generating target and method for manufacturing the same, and electron beam-excited ultraviolet light source

Номер патента: US20180182609A1. Автор: Norio Ichikawa,Kohei Ikeda. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2018-06-28.

Extreme ultraviolet reflective element with multilayer stack and method of manufacturing thereof

Номер патента: US09581890B2. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-02-28.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: US20240213059A1. Автор: Gyeong Won SONG,Hee Man AHN,Sung Hun Eom,Jae Seung YU. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Semiconductor manufacturing apparatus and operating method thereof

Номер патента: US11979973B2. Автор: Jinhong Park,Dohyung Kim,Insung Kim,Jungchul Lee,Seongchul HONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-07.

Seep ultraviolet light emitting diode

Номер патента: EP2583316A2. Автор: Michael Shur,Maxim S. Shatalov,Remigijus Gaska. Владелец: Sensor Electronic Technology Inc. Дата публикации: 2013-04-24.

Method of manufacturing extreme ultraviolet (euv) photomask and method and apparatus for correcting euv photomask

Номер патента: US20220113619A1. Автор: Jongju Park,Sanguk Park,Jongkeun OH,Gyeongcheon JO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-04-14.

Substrate processing apparatus and method of processing substrate

Номер патента: US11733612B2. Автор: Kazuya Iwata,Norihisa Koga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-22.

Ultraviolet light generation target, method for manufacturing ultraviolet light generation target, and electron-beam-excited ultraviolet light source

Номер патента: US11887837B2. Автор: Norio Ichikawa,Kohei Ikeda. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2024-01-30.

Deep Ultraviolet Light Emitting Diode

Номер патента: US20150064822A1. Автор: Michael Shur,Alexander Dobrinsky,Maxim S. Shatalov,Remigijus Gaska. Владелец: Sensor Electronic Technology Inc. Дата публикации: 2015-03-05.

Deep Ultraviolet Light Emitting Diode

Номер патента: US20160064601A1. Автор: Michael Shur,Alexander Dobrinsky,Maxim S. Shatalov,Remigijus Gaska. Владелец: Sensor Electronic Technology Inc. Дата публикации: 2016-03-03.

Ultraviolet irradiation apparatus and ultraviolet irradiation method

Номер патента: US20240238462A1. Автор: Atsushi Kodama,Naoto YABUKI,Shunya OTSUKI. Владелец: Asahi Kasei Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Light generating system providing uv light

Номер патента: US20240347679A1. Автор: Ties Van Bommel,Rifat Ata Mustafa Hikmet. Владелец: Signify Holding BV. Дата публикации: 2024-10-17.

Target for ultraviolet light generation, electron beam-excited ultraviolet light source, and production method for target for ultraviolet light generation

Номер патента: EP2913377A1. Автор: Koji Kawai,Takashi Suzuki,Yoshinori Honda,Fumitsugu Fukuyo,Hiroyuki Taketomi,Hidetsugu Takaoka. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2015-09-02.

Method and apparatus for controlling droplet in extreme ultraviolet light source

Номер патента: US11914302B2. Автор: Chi-Hung Liao,Yueh-Lin Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-02-27.

Apparatus and method monitoring semiconductor manufacturing equipment

Номер патента: US20240128102A1. Автор: Akinori Okubo,Hyungjin Kim,Sangmin Lee,Sungho Jang,Wondon Joo,Minhwan Seo,Sinyong Lee,Sangjoon Hong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-18.

Euv exposure apparatus, and overlay correction method and semiconductor device fabricating method using the same

Номер патента: US20210397079A1. Автор: Jeongjin Lee,Chan Hwang,Seungyoon LEE,Doogyu Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-12-23.

Euv exposure apparatus, and overlay correction method and semiconductor device fabricating method using the same

Номер патента: US20210333701A1. Автор: Jeongjin Lee,Chan Hwang,Seungyoon LEE,Doogyu Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-10-28.

Sample clock generator for optical tomographic imaging apparatus, and optical tomographic imaging apparatus

Номер патента: US09584098B2. Автор: Keiichiro Okamoto,Masahiro YAMANARI. Владелец: Tomey Corp. Дата публикации: 2017-02-28.

Filter for material supply apparatus of an extreme ultraviolet light source

Номер патента: US9029813B2. Автор: William Oldham,Igor V. Fomenkov,William N. Partlo,Georgiy O. Vaschenko. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2015-05-12.

Target for ultraviolet light generation, and method for manufacturing same

Номер патента: US20180182608A1. Автор: Norio Ichikawa,Kohei Ikeda,Hiroyuki Taketomi. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2018-06-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240100647A1. Автор: Boun Yoon,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-28.

Apparatus and method for processing substrate

Номер патента: US20220206399A1. Автор: Sun Mi Kim,Oh Jin Kwon,Ji Su Hong. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-30.

Spectral purity filter, lithographic apparatus, and method for manufacturing a spectral purity filter

Номер патента: EP2443517A1. Автор: Wouter Soer,Ronald Dekker,Martin Jak. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2012-04-25.

Mask absorber layers for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US20240312783A1. Автор: Daniel Staaks. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2024-09-19.

Structure electron beam inspection system for inspecting extreme ultraviolet mask and structure for discharging extreme ultraviolet mask

Номер патента: US09572237B2. Автор: You-Jin Wang,Chiyan Kuan,Chung-Shih Pan. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2017-02-14.

Pattern forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet ray-sensitive resin composition, resist film, and method for manufacturing electronic device, and electronic device using the same

Номер патента: US09423690B2. Автор: Shuji Hirano,Hiroo Takizawa,Wataru Nihashi,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-08-23.

High power seed/amplifier laser system with beam shaping intermediate the seed and amplifier

Номер патента: WO2010033194A1. Автор: Thomas Hofmann,Richard L. Sandstrom,Daniel J. W. Brown,Jason D. Robinson,Craig W. Unick. Владелец: CYMER, INC.. Дата публикации: 2010-03-25.

Laser apparatus and method of controlling the laser apparatus

Номер патента: US20130070802A1. Автор: Shigeru Ichihara. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2013-03-21.

Control apparatus and control method, and combined power generation system provided therewith

Номер патента: US09768454B2. Автор: Shigenori Koga,Masanori Nishiura,Takuma Nagai,Yuichi Teramoto. Владелец: Mitsubishi Hitachi Power Systems Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Solid oxide fuel cell generation system and start up method thereof

Номер патента: US20090104484A1. Автор: Shin Takahashi,Hidekazu Fujimura,Hiromi Tokoi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2009-04-23.

Interferometer, lithography apparatus, and method of manufacturing article

Номер патента: US09625836B2. Автор: Takahiro Matsumoto,Wataru Yamaguchi,Hideki Ina. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-04-18.

Portable generator system for providing temporary power to an electrical-distribution system

Номер патента: US09608500B2. Автор: Mark C. McCartney,Nicolas V. Valente. Владелец: VMC Power Systems. Дата публикации: 2017-03-28.

Pattern forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet ray-sensitive resin composition, resist film, and method for manufacturing electronic device, and electronic device using the same

Номер патента: WO2014030723A1. Автор: Shuji Hirano,Hiroo Takizawa,Wataru Nihashi,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2014-02-27.

Extreme ultraviolet reflective element with multilayer stack and method of manufacturing thereof

Номер патента: EP3167474A1. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-05-17.

Approach to lowering extreme ultraviolet exposure dose for inorganic hardmasks for extreme ultraviolet patterning

Номер патента: US20180348636A1. Автор: Karen E. Petrillo,Ekmini A. De Silva,Indira P. Seshadri. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-12-06.

Mask for extreme ultraviolet lithography and method for manufacturing same

Номер патента: US20210397078A1. Автор: Jung Sik Kim,Jinho Ahn,Dong Min Jeong. Владелец: Industry University Cooperation Foundation IUCF HYU. Дата публикации: 2021-12-23.

Dispositioning defects detected on extreme ultraviolet photomasks

Номер патента: WO2020061241A1. Автор: Masaki Satake,Weston Sousa,Vikram Tolani. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2020-03-26.

Methods of manufacturing semiconductor devices, method sof performing extreme ultraviolet ray exposure, and methods of performing optical proximity correction

Номер патента: US20200064728A1. Автор: Ki-Soo Kim,No-Young Chung,Akio Misaka. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-02-27.

Methods and apparatus for ruthenium oxide reduction on extreme ultraviolet photomasks

Номер патента: US20240118603A1. Автор: Banqiu Wu,Khalid Makhamreh,Eliyahu Shlomo DAGAN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-11.

Method of shielding ultraviolet light and increasing visible light, and ultraviolet-light-shielding and visible-light-increasing material which enables implementation of the method

Номер патента: US20130221239A1. Автор: Yutaka Tsujiuchi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-08-29.

Method of generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: EP1502485A1. Автор: Günther Hans c/o Philips IP & Standards DERRA,Ulrich c/o Philips IP & Standards NIEMANN. Владелец: Philips Intellectual Property and Standards GmbH. Дата публикации: 2005-02-02.

Method of generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: EP1502485B1. Автор: Günther Hans c/o Philips IP & Standards GmbH DERRA,Ulrich c/o Philips IP & Standards GmbH NIEMANN. Владелец: Philips Intellectual Property and Standards GmbH. Дата публикации: 2011-11-02.

Silicon carbide-based lateral PN junction extreme ultraviolet detector based on selective-area ion implantation, and preparation method thereof

Номер патента: US12080821B2. Автор: Dong Zhou,Hai Lu,Weizong Xu. Владелец: NANJING UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-09-03.

Extreme Ultraviolet Lithography System, Device, and Method for Printing Low Pattern Density Features

Номер патента: US20200319545A1. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-10-08.

Extreme ultraviolet lithography system, device, and method for printing low pattern density features

Номер патента: US20180173089A1. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-06-21.

Gas-liquid separator, hydrogen generating apparatus, and fuel cell generation system having the same

Номер патента: US20100092818A1. Автор: Jae-Hyuk Jang,Eon-Soo Lee,Hey-Yeon CHA. Владелец: Samsung Electro Mechanics Co Ltd. Дата публикации: 2010-04-15.

Methods for forming extreme ultraviolet mask comprising magnetic material

Номер патента: US12092952B2. Автор: Hsin-Chang Lee,Pei-Cheng Hsu,Ta-Cheng Lien,Tzu-Yi Wang,Kevin TANADY. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Hybrid extreme ultraviolet imaging spectrometer

Номер патента: US20170062198A1. Автор: Norman A. Sanford,Ann Chiaramonti Debay,Brian P. Gorman,David R. Diercks. Владелец: US Department of Commerce. Дата публикации: 2017-03-02.

Hybrid extreme ultraviolet imaging spectrometer

Номер патента: US09899197B2. Автор: Norman A. Sanford,Ann Chiaramonti Debay,Brian P. Gorman,David R. Diercks. Владелец: US Department of Commerce. Дата публикации: 2018-02-20.

Optical proximity correction method and method of manufacturing extreme ultraviolet mask by using the optical proximity correction method

Номер патента: US09715170B2. Автор: Sang-hwa Lee,Sung-Hoon Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-07-25.

Methods for extreme ultraviolet mask defect mitigation by multi-patterning

Номер патента: US09673111B2. Автор: Tan Soon Yoeng,Gek Soon Chua. Владелец: GLOBALFOUNDRIES SINGAPORE PTE LTD. Дата публикации: 2017-06-06.

Methods for optical proximity correction in the design and fabrication of integrated circuits using extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US09651855B2. Автор: Lei Sun,Wenhui Wang,Ryan Ryoung-Han Kim. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-05-16.

Pattern forming method, pattern forming apparatus, and computer readable storage medium

Номер патента: US09618849B2. Автор: Makoto Muramatsu,Takahiro Kitano,Tadatoshi Tomita,Keiji Tanouchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-11.

System, method and reticle for improved pattern quality in extreme ultraviolet (EUV) lithography and method for forming the reticle

Номер патента: US09558944B2. Автор: Chia-Chen Chen,Shang-Chieh Chien,Jui-Ching Wu,Chia-Hao Hsu,Chia-Jen Chen,Chia-Ching HUANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Seawater power generation system

Номер патента: US09502720B2. Автор: Kuang-Che Lee,Ting-Chuan Lee,Chun-Jung Tsai,Chun-Hsien Tsai,Yuan-Shin Huang. Владелец: Taiwan Carbon Nanotube Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-22.

Structure electron beam inspection system for inspecting extreme ultraviolet mask and structure for discharging extreme ultraviolet mask

Номер патента: US20150305131A1. Автор: You-Jin Wang,Chiyan Kuan,Chung-Shih Pan. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2015-10-22.

Integrated warning structures for energized ultraviolet light-emitting diode packages

Номер патента: US12051769B2. Автор: Colin Blakely,Andre Pertuit. Владелец: Creeled Inc. Дата публикации: 2024-07-30.

Ultraviolet Curing Apparatus And Ultraviolet Curing Method Thereof

Номер патента: US20150132973A1. Автор: Chun-Lung Lin,Teng-Da Hung,Liang-Chang Hsieh,Hsin-Hung Chi,Yun-Wen Chu,Jiun-Wei Su. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-05-14.

Ultraviolet light emission device

Номер патента: EP4418303A2. Автор: Shingo Sato,Hajime Ishihara,Keita Yoshihara. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2024-08-21.

Ultraviolet light emission device

Номер патента: US20240252699A1. Автор: Shingo Sato,Hajime Ishihara,Keita Yoshihara. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2024-08-01.

Integrated warning structures for energized ultraviolet light-emitting diode packages

Номер патента: EP4406031A1. Автор: Colin Blakely,Andre Pertuit. Владелец: Creeled Inc. Дата публикации: 2024-07-31.

Structure of ultraviolet light sensing-enhanced photodiode

Номер патента: US20240194804A1. Автор: Yen-Chun Tseng,Chuan-Wei Chen. Владелец: Taiwan Asia Semiconductor Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

Systems and methods for detecting ultraviolet light using image sensors

Номер патента: US09635325B2. Автор: Swarnal Borthakur. Владелец: Semiconductor Components Industries LLC. Дата публикации: 2017-04-25.

Ultraviolet light sensor circuit

Номер патента: US09590110B2. Автор: Takeshi Osada. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-07.

Ultraviolet light emitting device using metal non-bondable amorphous fluororesin molding compound

Номер патента: US09450157B2. Автор: Akira Hirano,Naoki Morishima,Ko Aosaki,Kiho Yamada,Shoko Nagai,Yuta Furusawa,Masamichi Ippommatsu. Владелец: Soko Kagaku Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Aluminum nitride-based semiconductor deep ultraviolet light-emitting device

Номер патента: US10622530B2. Автор: Yoshihiro Ueta,Shuhichiroh YAMAMOTO. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2020-04-14.

Ultraviolet light emitting element

Номер патента: US20240178344A1. Автор: Tomoya Yamada. Владелец: Asahi Kasei Corp. Дата публикации: 2024-05-30.

Aluminum nitride-based semiconductor deep ultraviolet light-emitting device

Номер патента: US20180083173A1. Автор: Yoshihiro Ueta,Shuhichiroh YAMAMOTO. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2018-03-22.

Ultraviolet light emitting device

Номер патента: US20150372204A1. Автор: Kazuhiko Hayashi,Shintaro Hayashi,Kouichirou Matsuoka. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2015-12-24.

Epitaxial wafer for ultraviolet light emitting elements, method for producing metal bonded susbtrate for ultraviolet light emitting elements, method for producing ultraviolet light emitting element, and method for producing ultraviolet light emitting element array

Номер патента: EP4223912A1. Автор: Masato Yamada,Yoshihiro Kubota,Junya Ishizaki,Minoru Kawahara,Keitaro Tsuchiya. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-09.

Ultraviolet light-emitting diode

Номер патента: US11165003B2. Автор: Ming-Sen Hsu,Fu-Yi Tsai,Wei-Pu ZHENG. Владелец: EPILEDS TECHNOLOGIES Inc. Дата публикации: 2021-11-02.

Method for detecting etching endpoint, and etching apparatus and etching system using the method thereof

Номер патента: US6669810B1. Автор: Hiroyuki Tanaka,Toshiyuki Nakamura,Toshiya Miyazaki,Toshihiro Hayami,Tadao Nakatsuka. Владелец: Sumitomo Metal Industries Ltd. Дата публикации: 2003-12-30.

Ultraviolet light irradiation device

Номер патента: EP3882952A1. Автор: Masashi Yamaguchi,Noritaka Takezoe,Kazuki Arikawa,Masato Ozu. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2021-09-22.

Ultraviolet light-emitting diode

Номер патента: US20210167260A1. Автор: Ming-Sen Hsu,Fu-Yi Tsai,Wei-Pu ZHENG. Владелец: EPILEDS TECHNOLOGIES Inc. Дата публикации: 2021-06-03.

Ultraviolet light-emitting diode and light-emitting device including the same

Номер патента: US20240322086A1. Автор: Bin Jiang,Kang-Wei Peng,Sihe CHEN,Weichun Tseng,Mingchun TSENG,Yashu ZANG,Siyi Long. Владелец: Quanzhou Sanan Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Packaged ultraviolet light-emitting device and production method thereof

Номер патента: US12046704B2. Автор: Chen-Ke Hsu,Chih-Wei Chao,Junpeng Shi,Weng-Tack WONG,Jianbin TU,Yanqiu LIAO. Владелец: Xiamen Sanan Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Apparatus and method for determining three-dimensional shape of object

Номер патента: US12146734B2. Автор: Moon Young Jeon,Chan Kwon Lee,Deok Hwa HONG,Joong Ki Jeong. Владелец: KOH YOUNG TECHNOLOGY INC. Дата публикации: 2024-11-19.

Ultraviolet light emitting apparatus

Номер патента: US09640717B2. Автор: Denis SANNIKOV. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-05-02.

Ultraviolet lamp system and method for controlling emitted ultraviolet light

Номер патента: US09439273B2. Автор: James Smith,James Khoury,Edward C. Mcghee,James M. Borsuk. Владелец: Nordson Corp. Дата публикации: 2016-09-06.

Plasma-based debris mitigation for extreme ultraviolet (EUV) light source

Номер патента: US7652272B2. Автор: David Ruzic,Robert Bristol,Bryan J. Rice. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2010-01-26.

Critical dimension variation correction in extreme ultraviolet lithography

Номер патента: IL239577B. Автор: Sergey Oshemkov,Vladimir Kruglyakov,Frederik Blumrich,Yuval PERETS. Владелец: Yuval PERETS. Дата публикации: 2020-10-29.

Apparatus and method for in-situ deep ultraviolet photon-assisted semiconductor wafer processing

Номер патента: US5217559A. Автор: Mehrdad M. Moslehi,Cecil J. Davis,Ajit P. Paranjpe. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1993-06-08.

Methods and apparatus for ruthenium oxide reduction on extreme ultraviolet photomasks

Номер патента: EP4298479A1. Автор: Banqiu Wu,Khalid Makhamreh,Eliyahu Shlomo DAGAN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-03.

Extreme ultraviolet lithography patterning method

Номер патента: US11915931B2. Автор: Yoshihiro Kato,Choong-Man Lee,Toshio Hasegawa,Soo Doo Chae,Angelique RALEY,Qiaowei Lou. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-27.

Graded hardmask interlayer for enhanced extreme ultraviolet performance

Номер патента: US20200152460A1. Автор: Ekmini A. De Silva,Dario Goldfarb,Jennifer Church. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2020-05-14.

Reticle in an apparatus for extreme ultraviolet exposure

Номер патента: US11835850B2. Автор: Sanghyun Kim,Jinho Jeon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-12-05.

Extreme ultraviolet mask with alloy based absorbers

Номер патента: US20230375921A1. Автор: Hsin-Chang Lee,Pei-Cheng Hsu,Ta-Cheng Lien,Ping-Hsun LIN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Extreme ultraviolet mask blank defect reduction methods

Номер патента: WO2021081289A1. Автор: Wen Xiao,Sanjay Bhat,Vibhu Jindal,Azeddine Zerrade,Shuwei Liu,Herng Yau Yoong. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-04-29.

Extreme ultraviolet lithography mask blank manufacturing system and method of operation therefor

Номер патента: WO2014165300A1. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-10-09.

Extreme ultraviolet mask blank defect reduction methods

Номер патента: WO2021081291A1. Автор: Wen Xiao,SHIYU Liu,Sanjay Bhat,Vibhu Jindal,Azeddine Zerrade,Binni VARGHESE. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-04-29.

Methods for Extreme Ultraviolet (EUV) Resist Patterning Development

Номер патента: US20230341781A1. Автор: Alok Ranjan,Peter Ventzek,Yun Han. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-26.

Ultraviolet light emitting diode devices and methods for fabricating the same

Номер патента: US20120018753A1. Автор: Ling Yang,Yue Hao,Xiaohua Ma,Xiaowei Zhou,Peixian Li. Владелец: Xidian University. Дата публикации: 2012-01-26.

Structure for discharging extreme ultraviolet mask

Номер патента: US20120292509A1. Автор: You-Jin Wang,Chiyan Kuan,Chung-Shih Pan. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2012-11-22.

Extreme ultraviolet mask with capping layer

Номер патента: US20230116213A1. Автор: Hsin-Chang Lee,Pei-Cheng Hsu,Wei-Hao Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-04-13.

Rear-projection photodetection yarn clearing apparatus and ultraviolet enhanced silicon photodiode thereof

Номер патента: US10352878B2. Автор: Hejian PENG,Zuoliang WU. Владелец: Shanghai Institute of Kehua Optoelectronic Techniques. Дата публикации: 2019-07-16.

Extreme Ultraviolet Mask Blank Defect Reduction

Номер патента: US20200012183A1. Автор: KE CHANG,Vibhu Jindal,Shuwei Liu,Sai Abhinand,Hui Ni Grace Fong. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-01-09.

Methods for extreme ultraviolet (euv) resist patterning development

Номер патента: WO2022103949A1. Автор: Alok Ranjan,Peter Ventzek,Yun Han. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2022-05-19.

Method of forming a pattern of semiconductor device of a semiconductor device on a semiconductor substrate by using an extreme ultraviolet mask

Номер патента: US20230106148A1. Автор: Kisung Kim,Sangoh PARK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-04-06.

Extreme ultraviolet (euv) photomask and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20220100077A1. Автор: Jeongjin Lee,Seung Yoon Lee,Moosong Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-03-31.

Extreme ultraviolet (EUV) photomask and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US11927879B2. Автор: Jeongjin Lee,Seung Yoon Lee,Moosong Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-12.

Photoresist composition for extreme ultraviolet, and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20240168381A1. Автор: Naery YU,Juyoung Kim,Juhyeon Park,Honggu IM,Jincheol PARK,Seonghyeon Ahn,Sungmin KO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-23.

Method for Patterning a Substrate Using Extreme Ultraviolet Lithography

Номер патента: US20170090290A1. Автор: Anton J. deVilliers. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-30.

Blankmask and photomask for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US20210132487A1. Автор: Jong-Hwa Lee,Cheol Shin,Chul-Kyu Yang,Gil-Woo KONG,Gyeong-Won SEO. Владелец: S&S Tech Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-06.

Extreme ultraviolet lithography patterning method

Номер патента: US20240153773A1. Автор: Yoshihiro Kato,Choong-Man Lee,Toshio Hasegawa,Soo Doo Chae,Angelique RALEY,Qiaowei Lou. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Extreme ultraviolet lithography patterning method

Номер патента: WO2023023258A1. Автор: Yoshihiro Kato,Toshio Hasegawa,Soo Doo Chae,Angelique RALEY,Qiaowei Lou,Choongman LEE. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2023-02-23.

Structure for discharging extreme ultraviolet mask

Номер патента: US20140027634A1. Автор: You-Jin Wang,Chiyan Kuan,Chung-Shih Pan. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2014-01-30.

Rear-projection photodetection yarn clearing apparatus and ultraviolet enhanced silicon photodiode thereof

Номер патента: US20190072498A1. Автор: Hejian PENG,Zuoliang WU. Владелец: Shanghai Institute of Kehua Optoelectronic Techniques. Дата публикации: 2019-03-07.

Novel silicon carbide-based lateral pn junction extreme ultraviolet detector based on selective-area ion implantation, and preparation method thereof

Номер патента: US20240204126A1. Автор: Dong Zhou,Hai Lu,Weizong Xu. Владелец: NANJING UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-06-20.

Reflective mask for extreme ultraviolet lithography and a method of fabricating a semiconductor device using the same

Номер патента: US20240219824A1. Автор: Akio Misaka,Noyoung CHUNG,Seokyun Jeong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-04.

Cathode-ray tube ultraviolet light source

Номер патента: EP4396851A1. Автор: Eric C. BRETSCHNEIDER. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-07-10.

Ultraviolet light emitting diode package

Номер патента: US20140061706A1. Автор: Dae Sung Kal,Jae Jo Kim,Do Hyung Kim,Jeong Suk Bae. Владелец: Seoul Viosys Co Ltd. Дата публикации: 2014-03-06.

Ultraviolet light-emitting element

Номер патента: US20200395508A1. Автор: Han Sung Lee,Joon Mo Park,Nae Sung LEE,June Key Lee. Владелец: Sbk Materials. Дата публикации: 2020-12-17.

Focus-less inspection apparatus and method

Номер патента: EP4354081A3. Автор: Moon Young Jeon,Jung Hur,Chan Kwon Lee,Deok Hwa HONG,Eun Ha JO. Владелец: KOH YOUNG TECHNOLOGY INC. Дата публикации: 2024-07-17.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240234171A1. Автор: Mi So PARK,Do Hyeon YOON,Eun Seok Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Excimer lamp and ultraviolet light irradiation device

Номер патента: US11651950B1. Автор: Hideaki YAGYU. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2023-05-16.

Ultraviolet light emitting devices having a dielectric layer and a transparent electrode layer disposed in between patterned nitride semiconductor layers

Номер патента: US20190189841A1. Автор: Mi Hyun Kim,Young Hwan Park,Joo Sung KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-06-20.

Ultraviolet light emitting diode and electric device provided with same

Номер патента: EP4407699A1. Автор: Hideki Hirayama,Masafumi Jo. Владелец: RIKEN Institute of Physical and Chemical Research. Дата публикации: 2024-07-31.

Light source apparatus, exposure apparatus, and article manufacturing method

Номер патента: US12066759B2. Автор: Hiroyuki Tomita,Hiroshi Fukazawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-08-20.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US20170215267A1. Автор: Takashi Saito,Yoshifumi Ueno,Tamotsu Abe,Hirokazu HOSODA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-07-27.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US09942973B2. Автор: Takashi Saito,Yoshifumi Ueno,Tamotsu Abe,Hirokazu HOSODA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-04-10.

Apparatuses and methods for extreme ultraviolet light source utilizing thermally induced breakup of target material stream

Номер патента: WO2024141345A1. Автор: Farzad FAREED,Viktor Chikan,Robert Garrett RICHARDS. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-07-04.

Apparatus and method for use in connection with solar power generation systems

Номер патента: AU2021221412A1. Автор: Jason James Labrado. Владелец: Labrado Jason. Дата публикации: 2023-03-09.

COLLECTOR MIRROR EXCHANGING APPARATUS AND METHOD FOR EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE APPARATUS

Номер патента: US20130221247A1. Автор: HOSHINO Hideo,SUMITANI Akira,ABE Tamotsu,SOMEYA Hiroshi,SUGANUMA Takashi. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2013-08-29.

Collector mirror exchanging apparatus and method for extreme ultraviolet light source apparatus

Номер патента: US20080104828A1. Автор: Hideo Hoshino,Tamotsu Abe,Hiroshi Someya,Takashi Suganuma,Akira Sumitani. Владелец: KOMATSU LTD. Дата публикации: 2008-05-08.

Apparatus and method for use in connection with solar power generation systems

Номер патента: WO2023023708A1. Автор: Jason James Labrado. Владелец: Jason James Labrado. Дата публикации: 2023-03-02.

APPARATUS AND METHODS FOR PRODUCING AC POWER IN A POWER GENERATION SYSTEM, PROVIDING AC POWER, AND GENERATING AC POWER OUTPUT.

Номер патента: BRPI0716392A2. Автор: Kevin Allan Dooley. Владелец: Pratt & Whitney Canada. Дата публикации: 2013-10-15.

Apparatus and method of detecting ground fault of solar power generation system

Номер патента: US20020105765A1. Автор: Hiroshi Kondo,Naoki Manabe,Nobuyoshi Takehara. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2002-08-08.

Apparatus and method of detecting ground fault of solar power generation system

Номер патента: EP1229629A3. Автор: Hiroshi Kondo,Naoki Manabe,Nobuyoshi Takehara. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-01-25.

Apparatus and method for analyzing power generation of photovoltaic power generation system

Номер патента: WO2014142388A1. Автор: 박기주,권영복,최정내. Владелец: (주)케이디파워. Дата публикации: 2014-09-18.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: US09578730B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Tamotsu Abe. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-02-21.

Extreme ultraviolet light generating system

Номер патента: US09439276B2. Автор: Takashi Saito,Osamu Wakabayashi,Takayuki Yabu. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2016-09-06.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US09510433B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Shinji Nagai,Tamotsu Abe,Hitoshi Nagano. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2016-11-29.

Extreme ultraviolet light generation method, extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2032877A. Автор: Honda Yoshiyuki,HOSODA Hirokazu,KOUGE Kouichiro. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-05-19.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2033907A. Автор: UEDA Atsushi,KOGE Koichiro. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-08-25.

Extreme ultraviolet light generation method, extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2032877B1. Автор: Honda Yoshiyuki,HOSODA Hirokazu,KOUGE Kouichiro. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-07-08.

Extreme ultraviolet light sensor unit and extreme ultraviolet light generation device

Номер патента: US20190021159A1. Автор: Takuya Ishii,Hiroshi Someya,Hisashi Nara. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2019-01-17.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210235571A1. Автор: Shinji Nagai,Atsushi Ueda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-07-29.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2032453A. Автор: Miyashita Koutaro. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-03-14.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2032453B1. Автор: Miyashita Koutaro. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-06-10.

Extreme ultraviolet light generating apparatus

Номер патента: US20200133137A1. Автор: Katsuhiko Sugisawa. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-04-30.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2032043B1. Автор: Miyashita Koutaro. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-05-17.

Extreme ultraviolet light sensor unit and extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US11125613B2. Автор: Kotaro Miyashita. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-09-21.

Extreme ultraviolet light sensor unit and extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US20200064184A1. Автор: Kotaro Miyashita. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-02-27.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2036213A. Автор: UENO Yoshifumi,MIYASHITA Kotaro,NISHIMURA Yuichi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-06-11.

Extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2027481A. Автор: UEDA Atsushi,KOGE Koichiro,OSANAI Takayuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-10-20.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US20130161540A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Shinji Nagai. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2013-06-27.

Extreme ultraviolet light generation chamber device and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2036152A. Автор: UEDA Atsushi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-06-14.

Extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: EP2721908A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Tatsuya Yanagida. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2014-04-23.

Extreme ultraviolet light generation chamber device and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240196505A1. Автор: Atsushi Ueda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-06-13.

Extreme UV light generation apparatus and method

Номер патента: US09949354B2. Автор: Takashi Saito,Osamu Wakabayashi,Fumio Iwamoto,Takayuki Yabu. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-04-17.

Extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: US09402297B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Tatsuya Yanagida,Hakaru Mizoguchi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2016-07-26.

Mount, extreme ultraviolet light generation system, and device manufacturing method

Номер патента: US20200363733A1. Автор: Toshihiro Nishisaka. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-11-19.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2025678A. Автор: TAKASHIMA Yuta. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-02-15.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2025678B1. Автор: TAKASHIMA Yuta. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-02-23.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US20200077501A1. Автор: Yoshiyuki Honda,Shinji Nagai,Hiroaki Tomuro. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-03-05.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US09986629B2. Автор: Toru Suzuki,Osamu Wakabayashi,Tamotsu Abe,Tatsuya Yanagida. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-05-29.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20200236769A1. Автор: Yoshifumi Ueno,Yuta TAKASHIMA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-07-23.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20230300966A1. Автор: Shogo KITASAKA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-09-21.

Extreme ultraviolet light generating apparatus

Номер патента: US20180224747A1. Автор: Yoshifumi Ueno. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-08-09.

Target supply apparatus, extreme ultraviolet light generating apparatus, and target supply method

Номер патента: US09860967B2. Автор: Tsukasa Hori,Hirokazu HOSODA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-01-02.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2029171A. Автор: UENO Yoshifumi,YABU Takayuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-06-01.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2028171B1. Автор: UENO Yoshifumi,YABU Takayuki,TAKASHIMA Yuta,NISHIMURA Yuichi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-03-04.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US11219116B1. Автор: Yoshifumi Ueno,Yuichi Nishimura,Takayuki Yabu,Yuta TAKASHIMA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-01-04.

Extreme ultraviolet light generation device

Номер патента: US09961755B2. Автор: Hiroshi Umeda,Kazukiyo KAMIKANNA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-05-01.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20230284365A1. Автор: Yuichi Nishimura,Shogo KITASAKA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-09-07.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2034100A. Автор: NISHIMURA Yuichi,Kitasaka Shogo. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-09-11.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20220110205A1. Автор: Yoshifumi Ueno,Takayuki Yabu. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-04-07.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210410262A1. Автор: Yoshifumi Ueno,Yuichi Nishimura,Takayuki Yabu,Yuta TAKASHIMA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-12-30.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2028171A. Автор: UENO Yoshifumi,YABU Takayuki,TAKASHIMA Yuta,NISHIMURA Yuichi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-02-17.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US20160192470A1. Автор: Yutaka Shiraishi,Fumio Iwamoto,Takuya Ishii,Tsukasa Hori. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2016-06-30.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US09894744B2. Автор: Yutaka Shiraishi,Fumio Iwamoto,Takuya Ishii,Tsukasa Hori. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-02-13.

Extreme ultraviolet light generation device

Номер патента: US09872372B2. Автор: Yoshifumi Ueno,Shinji Nagai,Tamotsu Abe,Atsushi Ueda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-01-16.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US09854658B2. Автор: Masaki Nakano,Fumio Iwamoto,Tsukasa Hori. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-12-26.

Extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: EP2548080A1. Автор: Yukio Watanabe,Osamu Wakabayashi,Tamotsu Abe,Toshihiro Nishisaka. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2013-01-23.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: WO2012133720A1. Автор: Yukio Watanabe,Masato Moriya,Miwa Igarashi,Hiroaki Nakarai. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2012-10-04.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: EP2692212A1. Автор: Yukio Watanabe,Masato Moriya,Miwa Igarashi,Hiroaki Nakarai. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2014-02-05.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US09894743B2. Автор: Yukio Watanabe,Masato Moriya,Miwa Igarashi,Hiroaki Nakarai. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-02-13.

System and method to optimize extreme ultraviolet light generation

Номер патента: WO2013180884A2. Автор: Steven Chang,Matthew R. Graham,Wayne J. Dunstan,Daniel J. Riggs,Paul A. FRIHAUF. Владелец: Cymer, Llc.. Дата публикации: 2013-12-05.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US09622332B2. Автор: Toru Suzuki,Hiroshi Tanaka,Osamu Wakabayashi,Hideyuki Hayashi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-04-11.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20230309211A1. Автор: Yoshiyuki Honda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-09-28.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US11924954B2. Автор: Takayuki Yabu,Yuta TAKASHIMA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-03-05.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2028934B1. Автор: YABU Takayuki,TAKASHIMA Yuta. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-06-12.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2034127A. Автор: Honda Yoshiyuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-10-03.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2028934A. Автор: YABU Takayuki,TAKASHIMA Yuta. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-05-09.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2034729A. Автор: YABU Takayuki,TAKASHIMA Yuta. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-06-15.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2034729B1. Автор: YABU Takayuki,TAKASHIMA Yuta. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-01-25.

Extreme ultraviolet light generation chamber device and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2035896A. Автор: Honda Yoshiyuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-05-28.

Extreme ultraviolet chamber apparatus, extreme ultraviolet light generation system, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20200312479A1. Автор: Atsushi Ueda,Georg Soumagne,Gota Niimi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-10-01.

Extreme ultraviolet chamber apparatus, extreme ultraviolet light generation system, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: NL2025184B1. Автор: UEDA Atsushi,NIIMI Gota,SAUMAGNE Georg. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-12-11.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US20190364654A1. Автор: Atsushi Ueda,Akihiro Takayama. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2019-11-28.

Extreme ultraviolet light generating device

Номер патента: US20180224746A1. Автор: Takayuki Yabu. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-08-09.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and maintenance method

Номер патента: US20200142311A1. Автор: Katsuhiko Wakana. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-05-07.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US11924955B2. Автор: Yoshiyuki Honda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-03-05.

Extreme ultraviolet light generation chamber device and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240160107A1. Автор: Yoshiyuki Honda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-05-16.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2033425B1. Автор: Honda Yoshiyuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-09-11.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2032486B1. Автор: UEDA Atsushi,NISHISAKA Toshihiro,WATANABE Yukio,KOGE Koichiro,OSANAI Takayuki,Hoshino Yusuke,NIIMI Gouta. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-08-14.

Collector mirror and apparatus for creating extreme ultraviolet light including the same

Номер патента: US11698590B2. Автор: Injae Lee,SungHyup KIM,Jeonggil KIM,Hoseok SONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-11.

Collector mirror and apparatus for creating extreme ultraviolet light including the same

Номер патента: EP4145223A1. Автор: Injae Lee,SungHyup KIM,Jeonggil KIM,Hoseok SONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-08.

Collector mirror and apparatus for creating extreme ultraviolet light including the same

Номер патента: US20230071131A1. Автор: Injae Lee,SungHyup KIM,Jeonggil KIM,Hoseok SONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-09.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210333718A1. Автор: Yuichi Nishimura,Tsukasa Hori,Takayuki Yabu. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-10-28.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US11789374B2. Автор: Yukio Watanabe,Atsushi Ueda,Toshihiro Nishisaka,Gouta NIIMI,Yusuke Hoshino,Koichiro KOGE,Takayuki OSANAI. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-10-17.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and method of designing the same

Номер патента: US10001706B2. Автор: Shinji Nagai,Atsushi Ueda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-06-19.

Extreme ultraviolet light condenser mirror, extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2026306A. Автор: TOIDA Tomoyoshi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-07-07.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and method of designing the same

Номер патента: US20170315446A1. Автор: Shinji Nagai,Atsushi Ueda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-11-02.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2032486A. Автор: UEDA Atsushi,NISHISAKA Toshihiro,WATANABE Yukio,KOGE Koichiro,OSANAI Takayuki,Hoshino Yusuke,NIIMI Gouta. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-08-05.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2028940B1. Автор: UEDA Atsushi,NISHISAKA Toshihiro,WATANABE Yukio,KOGE Koichiro,OSANAI Takayuki,Hoshino Yusuke,NIIMI Gouta. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-07-26.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240184220A1. Автор: Yoshifumi Ueno,Yuichi Nishimura,Kotaro Miyashita. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-06-06.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20230007763A1. Автор: Koutaro MIYASHITA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-01-05.

Target debris collection device and extreme ultraviolet light source apparatus including the same

Номер патента: US11852984B2. Автор: Minseok Choi,Ho Yu,SungHyup KIM,Jeonggil KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-12-26.

Extreme ultraviolet light condenser mirror, extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2026306B1. Автор: TOIDA Tomoyoshi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-03-04.

Extreme ultraviolet light source, exposure apparatus, and integrated rotary structure fabricating method

Номер патента: US09927601B2. Автор: Qiang Wu,Liwan Yue. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2018-03-27.

Extreme ultraviolet light generation apparatus with a gas supply toward a trajectory of a target

Номер патента: US09661730B2. Автор: Takashi Saito,Osamu Wakabayashi,Atsushi Ueda,Takayuki Yabu,Georg Soumagne. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-05-23.

DEVICE FOR RECEIVING DIRECTIONAL EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION WITH WAVELENGTH OF 11,2 nm ±1% FOR HIGH-RESOLUTION PROJECTIVE LITHOGRAPHY

Номер патента: RU2633726C1. Автор: Сергей Владимирович Голубев,Николай Николаевич Салащенко,Николай Иванович Чхало,Александр Григорьевич Литвак,Иван Владимирович Изотов,Сергей Владимирович Разин,Александр Васильевич Сидоров,Вадим Александрович Скалыга,Александр Валентинович Водопьянов,Дмитрий Анатольевич Мансфельд,Михаил Юрьевич Глявин,Алексей Григорьевич Лучинин,Андрей Николаевич Нечай. Владелец: Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Федеральный исследовательский центр Институт прикладной физики Российской академии наук" (ИПФ РАН). Дата публикации: 2017-10-17.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240049378A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Masaki Nakano. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-02-08.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2035291A. Автор: Wakabayashi Osamu,Nakano Masaki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-02-07.

Extreme ultraviolet light generating apparatus, extreme ultraviolet light generating method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210072646A1. Автор: Kengo Hayashi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-03-11.

Extreme ultraviolet light generating apparatus, extreme ultraviolet light generating method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US11307501B2. Автор: Kengo Hayashi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-04-19.

Method of timing laser beam pulses to regulate extreme ultraviolet light dosing

Номер патента: WO2014109876A1. Автор: Steven Chang,Andrew Liu,Matthew R. Graham,Alexander A. Schafgans,Robert N. Jacques,James H. Crouch,Wayne J. Dunstan,Paul A. FRIHAUF. Владелец: CYMER, LLC. Дата публикации: 2014-07-17.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US20180146536A1. Автор: Toru Suzuki,Osamu Wakabayashi,Tamotsu Abe,Tatsuya Yanagida. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-05-24.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2029105B1. Автор: IWAMOTO Fumio. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-09-11.

Extreme ultraviolet light condensation mirror, extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US11409027B2. Автор: Masayuki Morita. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-08-09.

Extreme ultraviolet light condenser mirror, extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2026305B1. Автор: Morita Masayuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-02-21.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US8710474B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Takeshi Kodama. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2014-04-29.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20220110204A1. Автор: Fumio Iwamoto. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-04-07.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2029105A. Автор: IWAMOTO Fumio. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-06-01.

Extreme ultraviolet light condenser mirror, extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2026305A. Автор: Morita Masayuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-05-31.

Extreme ultraviolet light condensation mirror, extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210109262A1. Автор: Masayuki Morita. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-04-15.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US10820400B2. Автор: Yoshiyuki Honda,Shinji Nagai,Hiroaki Tomuro. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-10-27.

Extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: US10842011B2. Автор: Kengo Hayashi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-11-17.

Extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: US20200045802A1. Автор: Kengo Hayashi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-02-06.

Equalizer circuit, high fidelity regenerative amplifier including equalizer circuit and acoustic characteristic correction circuit in high fidelity regenerative amplifier

Номер патента: CA2049641C. Автор: Saburoh Ohkuma. Владелец: Individual. Дата публикации: 1995-12-26.

Extreme ultraviolet light generation device and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2026231A. Автор: SAUMAGNE Georg. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-05-17.

Extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210307150A1. Автор: Atsushi Ueda,Koichiro KOGE,Takayuki OSANAI. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-09-30.

Extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2027481B1. Автор: UEDA Atsushi,KOGE Koichiro,OSANAI Takayuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-06-01.

Apparatus and system for generating extreme ultraviolet light and method of using the same

Номер патента: US09544985B2. Автор: Jin-Hong Park,Jin-Seok Heo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-01-10.

Extreme ultraviolet light generation device

Номер патента: US20180314161A1. Автор: Toru Suzuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-11-01.

Extreme ultraviolet light condensation mirror, extreme ultraviolet light condensation mirror manufacturing method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210193344A1. Автор: Masahiko Ando. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-06-24.

Extreme ultraviolet light source device

Номер патента: US20240121877A1. Автор: Injae Lee,SungHyup KIM,Daegeun YOON,Yebin Nam. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-11.

Particle image velocimetry of extreme ultraviolet lithography systems

Номер патента: US20210294220A1. Автор: Chi Yang,Shang-Chieh Chien,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,En Hao Lai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-09-23.

Extreme ultraviolet light condenser mirror, extreme ultraviolet light condenser mirror manufacturing method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2026727A. Автор: ANDO Masahiko. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-08-11.

Particle image velocimetry of extreme ultraviolet lithography systems

Номер патента: US20230296642A1. Автор: Chi Yang,Shang-Chieh Chien,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,En Hao Lai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Extreme ultraviolet light source systems

Номер патента: US20220104336A1. Автор: SANGHOON Lee,Injae Lee,SungHyup KIM,Yebin Nam,Myeongjun Gil. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-03-31.

Particle image velocimetry of extreme ultraviolet lithography systems

Номер патента: US12085585B2. Автор: Chi Yang,Shang-Chieh Chien,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,En Hao Lai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Shock wave visualization for extreme ultraviolet plasma optimization

Номер патента: US12114412B2. Автор: Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Yen-Shuo Su,Chun-Lin Chang,Han-Lung Chang,Ting-Ya CHENG,Jen-Hao Yeh,Jhan-Hong YEH,Henry Yee Shian Tong. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-08.

Extreme ultraviolet light source device

Номер патента: US09867267B2. Автор: Jin-Hong Park,In-sung Kim,Seung-Koo Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-01-09.

System and method for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US09439275B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Masato Moriya. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2016-09-06.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240126185A1. Автор: Yoshifumi Ueno,Yuichi Nishimura,Shogo KITASAKA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-04-18.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2035745A. Автор: UENO Yoshifumi,NISHIMURA Yuichi,Kitasaka Shogo. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-05-02.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US8629417B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Takanobu Ishihara,Shinji Nagai,Tamotsu Abe. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2014-01-14.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210033981A1. Автор: Yuta TAKASHIMA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-02-04.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2034072B1. Автор: Kitasaka Shogo. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-03-19.

Extreme ultraviolet light source device

Номер патента: US20230213865A1. Автор: Hironobu Yabuta,Hajime Kikuiri. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2023-07-06.

Extreme ultraviolet light generating apparatus and method of manufacturing electronic device

Номер патента: NL2026127B1. Автор: Takayama Akihiro. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-07-19.

Extreme ultraviolet light generating apparatus and method of manufacturing electronic device

Номер патента: NL2026127A. Автор: Takayama Akihiro. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-05-04.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2034072A. Автор: Kitasaka Shogo. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-09-21.

Electron beam-based extreme ultraviolet light source device

Номер патента: EP4401513A1. Автор: Kyu Chang Park,Sung Tae Yoo. Владелец: Industry Academic Cooperation Foundation of Kyung Hee University. Дата публикации: 2024-07-17.

Extreme ultraviolet light source device

Номер патента: EP4152097A1. Автор: Shunichi Morimoto,Hideyuki URAKAMI. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2023-03-22.

Acoustic characteristic correction circuit in high fidelity regenerative amplifier

Номер патента: AU5242790A. Автор: Saburoh Ohkuma. Владелец: Individual. Дата публикации: 1990-10-04.

Acoustic characteristic correction circuit in high fidelity regenerative amplifier

Номер патента: AU627560B2. Автор: Saburoh Ohkuma. Владелец: Individual. Дата публикации: 1992-08-27.

High fidelity regenerative amplifier with phase correction circuit

Номер патента: CA2005228C. Автор: Saburoh Ohkuma. Владелец: Individual. Дата публикации: 1993-12-07.

Extreme ultraviolet chamber apparatus, extreme ultraviolet light generation system, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: NL2025184A. Автор: UEDA Atsushi,NIIMI Gota,SAUMAGNE Georg. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-10-06.

Stabilizing EUV light power in an extreme ultraviolet light source

Номер патента: US09713240B2. Автор: Robert Jay Rafac,Daniel Jason Riggs. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-07-18.

Extreme ultraviolet light generation apparatus including target droplet joining apparatus

Номер патента: US9699877B2. Автор: Fumio Iwamoto,Hiroshi Umeda,Tsukasa Hori. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-07-04.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US20160255707A1. Автор: Takashi Saito,Osamu Wakabayashi,Atsushi Ueda,Takayuki Yabu,Georg Soumagne. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2016-09-01.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: WO2013110968A1. Автор: Yukio Watanabe,Osamu Wakabayashi,Miwa Igarashi,Norio Iwai,Kouji ASHIKAWA. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2013-08-01.

Extreme ultraviolet light generation apparatus, target control method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210349400A1. Автор: Toru Abe. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-11-11.

Extreme ultraviolet light generation apparatus, target control method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2027803A. Автор: Abe Toru. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-11-23.

Extreme ultraviolet light generation apparatus, target control method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2027803B1. Автор: Abe Toru. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-06-15.

Pulsed discharge extreme ultraviolet source with magnetic shield

Номер патента: US20120146510A1. Автор: Malcolm W. McGeoch. Владелец: PLEX LLC. Дата публикации: 2012-06-14.

Optical module for extreme ultraviolet light source

Номер патента: EP4405732A1. Автор: Jaden Robert BANKHEAD,Paul Alexander MCKENZIE,Erik Fernando HUERTA,Moonseob Jin. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-07-31.

Target expansion rate control in an extreme ultraviolet light source

Номер патента: US09820368B2. Автор: Robert Jay Rafac,Daniel Jason Riggs. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-11-14.

Transport system for an extreme ultraviolet light source

Номер патента: US09557650B2. Автор: Gregory Wilson,Alexander I. Ershov,Silvia De Dea,Bruno M. La Fontaine,Brandon Verhoff. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-01-31.

Extreme ultraviolet light source device and protection method for receiving plate member

Номер патента: US20230324815A1. Автор: Nobuaki Miyagawa,Hironobu Yabuta. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2023-10-12.

Target material supply apparatus for an extreme ultraviolet light source

Номер патента: US09632418B2. Автор: Norbert Bowering,Georgiy O. Vaschenko,Peter Baumgart,Silvia De Dea. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-04-25.

System and method to adaptively pre-compensate for target material push-out to optimize extreme ultraviolet light production

Номер патента: US09588430B2. Автор: Matthew R. Graham,Charles Kinney,Wayne J. Dunstan,Jeroen van der Burgt. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-03-07.

Shock wave visualization for extreme ultraviolet plasma optimization

Номер патента: US11800626B2. Автор: Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Yen-Shuo Su,Chun-Lin Chang,Han-Lung Chang,Ting-Ya CHENG,Jen-Hao Yeh,Jhan-Hong YEH,Henry Yee Shian Tong. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-24.

Shock wave visualization for extreme ultraviolet plasma optimization

Номер патента: US20230380044A1. Автор: Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Yen-Shuo Su,Chun-Lin Chang,Han-Lung Chang,Ting-Ya CHENG,Jen-Hao Yeh,Jhan-Hong YEH,Henry Yee Shian Tong. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Extreme ultraviolet light condenser mirror, extreme ultraviolet light condenser mirror manufacturing method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2026727B1. Автор: ANDO Masahiko. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-09-29.

Target material supply apparatus for an extreme ultraviolet light source

Номер патента: US09392678B2. Автор: Norbert Bowering,Georgiy O. Vaschenko,Peter Baumgart,Silvia De Dea. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-07-12.

Beam position control for an extreme ultraviolet light source

Номер патента: US20150257246A1. Автор: Igor V. Fomenkov,Vladimir B. Fleurov. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2015-09-10.

Extreme ultraviolet light source device

Номер патента: US11774856B2. Автор: Hironobu Yabuta,Hajime Kikuiri. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2023-10-03.

Extreme ultraviolet light concentrating mirror and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2027952B1. Автор: Honda Yoshiyuki,Morita Masayuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-05-25.

Extreme ultraviolet light concentrating mirror and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2027952A. Автор: Honda Yoshiyuki,Morita Masayuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-02-17.

Extreme ultraviolet light concentrating mirror and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210407700A1. Автор: Yoshiyuki Honda,Masayuki Morita. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-12-30.

Extreme ultraviolet light source apparatus

Номер патента: US20230164899A1. Автор: Shunichi Morimoto,Hideyuki URAKAMI. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2023-05-25.

Extreme ultraviolet light source apparatus

Номер патента: US20230288821A1. Автор: Noritaka Ashizawa,Hironobu Yabuta. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2023-09-14.

Determining moving properties of a target in an extreme ultraviolet light source

Номер патента: WO2020156975A1. Автор: Robert Jay Rafac. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2020-08-06.

Determining moving properties of a target in an extreme ultraviolet light source

Номер патента: US11758639B2. Автор: Robert Jay Rafac. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-09-12.

Dose control in an extreme ultraviolet light source

Номер патента: WO2024046835A1. Автор: Merlin HUANG. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-03-07.

Alignment of extreme ultraviolet light source

Номер патента: WO2021239357A1. Автор: John Tom STEWART IV,Alexander Anthony Schafgans. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2021-12-02.

Light generating system

Номер патента: EP4402991A1. Автор: Cornelis Teunissen,Marcus Theodorus Maria LAMBOOIJ,Marcel Petrus Lucassen. Владелец: Signify Holding BV. Дата публикации: 2024-07-24.

Electrode-less discharge extreme ultraviolet light source

Номер патента: WO2006015125A3. Автор: Bruno Bauer. Владелец: Univ & Community College Syste. Дата публикации: 2006-03-23.

EUV light generator apparatus having a droplet generator configured to control a droplet position using a magnetic field

Номер патента: US09642234B2. Автор: Insung Kim,Seungkoo Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-05-02.

Extreme ultraviolet source with rotary electrodes and method for producing extreme ultraviolet radiation from gas-discharge plasma

Номер патента: RU2278483C2. Автор: Владимир Михайлович Борисов,Олег Борисович Христофоров,Валентин Александрович Мищенко,Александр Сергеевич Иванов,Юрий Борисович Кирюхин,Александр Юрьевич Виноходов,Александр Васильевич Прокофьев. Владелец: Александр Васильевич Прокофьев. Дата публикации: 2006-06-20.

Determining moving properties of a target in an extreme ultraviolet light source

Номер патента: NL2024753A. Автор: Jay Rafac Robert. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-08-18.

Determining moving properties of a target in an extreme ultraviolet light source

Номер патента: US20220086998A1. Автор: Robert Jay Rafac. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2022-03-17.

Device for emitting extreme ultraviolet light

Номер патента: US10143075B2. Автор: Yusuke Teramoto,Akihisa NAGANO,Hideyuki URAKAMI. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2018-11-27.

Method and apparatus for controlling extreme ultraviolet light

Номер патента: US20210364931A1. Автор: Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Ssu-Yu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-11-25.

Light source device and method for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US8698115B1. Автор: Masashi Onishi,Waheed Hugrass. Владелец: KANSAI UNIVERSITY. Дата публикации: 2014-04-15.

Device for emitting extreme ultraviolet light

Номер патента: US20160295674A1. Автор: Yusuke Teramoto,Akihisa NAGANO,Hideyuki URAKAMI. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2016-10-06.

Extreme ultraviolet radiation in genomic sequencing and other applications

Номер патента: EP3411692A1. Автор: Supriya JAISWAL. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-12-12.

Extreme Ultraviolet Radiation in Genomic Sequencing and Other Applications

Номер патента: US20200140941A1. Автор: Supriya JAISWAL. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-05-07.

Extreme ultraviolet radiation in genomic sequencing and other applications

Номер патента: US11718871B2. Автор: Supriya JAISWAL. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-08-08.

Protection system for an extreme ultraviolet light source

Номер патента: WO2020225347A1. Автор: Henricus Gerardus Tegenbosch,Silvia De Dea,René Wilhelmus Johannes Maria VAN DEN BOOMEN. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2020-11-12.

Method for creating extreme ultraviolet irradiation and source of such irradiation used in lithography

Номер патента: RU2249926C2. Автор: Даниель БАБОНО,Реми МАРМОРЕ,Лоранс БОННЕ. Владелец: Коммиссариат А Л`Энержи Атомик. Дата публикации: 2005-04-10.

Viewport assembly for an extreme ultraviolet light source

Номер патента: WO2023241885A1. Автор: Christopher Liu,Lam Nguyen,Dustin Michael URONE,Paul Alexander MCKENZIE,Gregory THERIAULT,Mark Joseph Mitry. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2023-12-21.

Transport system for an extreme ultraviolet light source

Номер патента: US20150282287A1. Автор: Gregory Wilson,Alexander I. Ershov,Silvia De Dea,Bruno M. La Fontaine,Brandon Verhoff. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2015-10-01.

Target expansion rate control in an extreme ultraviolet light source

Номер патента: US20200260564A1. Автор: Robert Jay Rafac,Daniel Jason Riggs. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-08-13.

Method for reducing contamination in extreme ultraviolet lithography light source

Номер патента: US09665017B2. Автор: Emily Shu. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2017-05-30.

Ultraviolet light germicidal sanitizing system

Номер патента: CA2995441C. Автор: Ann Alexander Dupuis,John Dupuis. Владелец: Elevated Health Systems LLC. Дата публикации: 2022-12-13.

Ultraviolet light germicidal sanitizing system ulitilizing various room sanitizing modes

Номер патента: US20160175475A1. Автор: Ann Alexander Dupuis,John Dupuis. Владелец: Elevated Health System LLC. Дата публикации: 2016-06-23.

Extreme ultraviolet light source obscuration bar and methods

Номер патента: WO2024094431A1. Автор: Yue Ma,Armin Bernhard Ridinger,Liza EASO,Mohsen Benjamin BATTOEI,Jonathan Anthony WALKER. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-05-10.

Gas jet nozzle for extreme ultraviolet light source

Номер патента: EP1150169A3. Автор: Charles W. Clendening, Jr.,Roy D. McGregor. Владелец: TRW Inc. Дата публикации: 2002-04-03.

System and method for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: EP2721907A2. Автор: Osamu Wakabayashi,Kouji Kakizaki,Tatsuya Yanagida,Tsukasa Hori. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2014-04-23.

System and method for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: WO2012173166A2. Автор: Osamu Wakabayashi,Kouji Kakizaki,Tatsuya Yanagida,Tsukasa Hori. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2012-12-20.

Radiation source apparatus and method for using the same

Номер патента: US20220304131A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Cheng-Hsuan Wu,Cheng-Hao Lai,Sheng-Kang Yu,Yu-Huan Chen,Yu-Kuang SUN,Ming-Hsun Tsai,Wei-Shin CHENG,Hsin-Feng Chen,Chiao-Hua Cheng,Yu-Fa LO. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-09-22.

Lithography Apparatus and Method

Номер патента: US20240295825A1. Автор: Chi Yang,Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Sheng-Kang Yu,Wei-Chun YEN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Apparatus and method for generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: US12114411B2. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Yu-Chih Huang,Yu-Huan Chen,Ming-Hsun Tsai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-08.

Diagnostics of an on-board water generation system

Номер патента: US20230278894A1. Автор: Douglas Raymond Martin,Robert D. Bedard. Владелец: FORD GLOBAL TECHNOLOGIES LLC. Дата публикации: 2023-09-07.

Apparatus and method for operating a light generator

Номер патента: US20160374185A1. Автор: Ekkehard Kress. Владелец: IIE GmbH and Co KG. Дата публикации: 2016-12-22.

Apparatus and method for operating a light generator

Номер патента: US09615437B2. Автор: Ekkehard Kress. Владелец: IIE GmbH and Co KG. Дата публикации: 2017-04-04.

Droplet splash control for extreme ultraviolet photolithography

Номер патента: US20240231241A1. Автор: Chi-Hung Liao,Po-Ming SHIH. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Display apparatus and home appliance having the same

Номер патента: US20240215797A1. Автор: Sungjin Kim,Jinhan Kim,Changhoon Lee,Kyonghyong KIM,Jongil Kim,Dukho Do,Junsik Kim,Kieok KIM. Владелец: DGT Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

System and method for monitoring and controlling extreme ultraviolet photolithography processes

Номер патента: US12085860B2. Автор: Heng-Hsin Liu,Tai-Yu Chen,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Apparatus and method for generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: US12133319B2. Автор: Li-Jui Chen,Chun-Lin Chang,Han-Lung Chang,Ting-Ya CHENG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Apparatus and method for generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: US20240381515A1. Автор: Li-Jui Chen,Chun-Lin Chang,Han-Lung Chang,Ting-Ya CHENG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-11-14.

Illumination system, projection apparatus and illumination switch method

Номер патента: US09477089B2. Автор: June-Jei Huang. Владелец: Delta Electronics Inc. Дата публикации: 2016-10-25.

EUV Light Generator Apparatus Having a Droplet Generator Configured to Control a Droplet Position Using a Magnetic Field

Номер патента: US20170048956A1. Автор: Seungkoo Lee,lnsung KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-02-16.

Optical receiving apparatus and frequency offset compensation method

Номер патента: US20240178921A1. Автор: Junichi Kani,Ryo Koma. Владелец: Nippon Telegraph and Telephone Corp. Дата публикации: 2024-05-30.

Extreme ultraviolet generation apparatus

Номер патента: US20210092825A1. Автор: In Ho Choi,In Jae Lee,Jeong-Gil Kim,Sung Ho Jang,Min Seok Choi,Hyuck Shin. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-03-25.

Image processing apparatus and image processing method

Номер патента: US20070040776A1. Автор: Ik-Song Kim,Han-Jin Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-02-22.

Variable Radius Mirror Dichroic Beam Splitter Module for Extreme Ultraviolet Source

Номер патента: US20160174351A1. Автор: Robert J. Rafac,Michael Purvis,Alexander Schafgans,Kevin W. Zhang. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-06-16.

Protection apparatus and protection method for photovoltaic power generation system and photovoltaic power generation system

Номер патента: EP4404406A2. Автор: Xiufeng Zhang,Yanzhong ZHANG. Владелец: Huawei Digital Power Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-24.

Particle image velocimetry of extreme ultraviolet lithography systems

Номер патента: US20240361350A1. Автор: Chi Yang,Shang-Chieh Chien,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,En Hao Lai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Variable radius mirror dichroic beam splitter module for extreme ultraviolet source

Номер патента: US09516729B2. Автор: Robert J Rafac,Michael Purvis,Alexander Schafgans,Kevin W Zhang. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-12-06.

Transmitting communication complex of high-frequency and extremely-frequency ranges with deep-sunk and remote objects

Номер патента: RU2653110C1. Автор: Андрей Андреевич Катанович,Виктор Леонидович Муравченко,Вячеслав Александрович Цыванюк,Рубен Александрович Маркосян. Владелец: Закрытое акционерное общество "Проектно-конструкторское бюро "РИО". Дата публикации: 2018-05-07.

Systems, apparatus and methods of creating recommendations

Номер патента: RU2451986C2. Автор: Шон КОРРИГАН,Хью О'ДОНОХУ,Шон КРОУ,Эндрю ПИГАМ,Курт Дэвид ЛИЛЛИ-УАЙТ. Владелец: Ксиам Текнолоджис Лимитед. Дата публикации: 2012-05-27.

Method for measuring the temperature of a current collector of a structure for induction heating, structure for induction heating, and aerosol-generating apparatus and system

Номер патента: RU2761243C1. Автор: Олег МИРОНОВ,Жером Кристиан КУРБА,Энрико СТУРА. Владелец: ФИЛИП МОРРИС ПРОДАКТС С.А.. Дата публикации: 2021-12-06.

Distributed power generation system, control means and method for controlling the power generation of the system

Номер патента: US20140001857A1. Автор: Krisztián Cservölgyi,Gábor Dicso,Lajos Németh,István Gál. Владелец: VPP ENERGY ZRT. Дата публикации: 2014-01-02.

Power generation system and communication apparatus for power generation system

Номер патента: EP4236089A2. Автор: Chen Wang,Wei Shui,Yanzhong ZHANG,Yongbing GAO,Tiansan LIN. Владелец: Huawei Digital Power Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-30.

Apparatus and method for frequency-shift-keying optical transmission

Номер патента: US20060029395A1. Автор: Hoon Kim,Seong-taek Hwang,Yun-Je Oh. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2006-02-09.

Digital key generating system and method, vehicle unlocking method and apparatus, and device

Номер патента: AU2023285836A1. Автор: JIANG He. Владелец: Chongqing Changan Automobile Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Digital key generation system and method, vehicle unlocking method and apparatus, and device

Номер патента: EP4439499A1. Автор: JIANG He. Владелец: Chongqing Changan Automobile Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-02.

Communication system of super low frequency and extremely low frequency ranges with deeply submerged and remote objects

Номер патента: RU2659409C1. Автор: Виктор Ефимович Пониматкин,Василий Александрович Майоров,Александр Александрович Кужелев,Евгений Владимирович Романченко. Владелец: Федеральное государственное казенное военное образовательное учреждение высшего образования "Военный учебно-научный центр Военно-Морского Флота "Военно-морская академия имени Адмирала флота Советского Союза Н.Г. Кузнецова". Дата публикации: 2018-07-02.

Ultra-low-frequency and extremely low-frequency communication system with deep-loaded and remote objects

Номер патента: RU2736926C1. Автор: Виктор Ефимович Пониматкин,Василий Александрович Майоров,Александр Александрович Кужелев. Владелец: Федеральное государственное казенное военное образовательное учреждение высшего образования "Военный учебно-научный центр Военно-Морского Флота "Военно-морская академия имени Адмирала флота Советского Союза Н.Г. Кузнецова". Дата публикации: 2020-11-23.

Electrode insulator materials for use in extreme ultraviolet electric discharge sources

Номер патента: US20040140439A1. Автор: Bryan Rice,Melissa Shell. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2004-07-22.

Apparatus and method for controlling power plant system

Номер патента: US20210210974A1. Автор: Jwa Young Maeng,Young Hoon RHIE,Ju Young YOUN,In Young CHUNG,Jin Gon Lim. Владелец: Korea Western Power Co Ltd. Дата публикации: 2021-07-08.

An extender and stabilizer for solar string power generation systems and a method thereof

Номер патента: AU2021387029A9. Автор: Shlomo Haim Adler. Владелец: Solad Solar Electronics Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Voltage compensation device, inversion device, and photovoltaic power generation system

Номер патента: EP4184743A1. Автор: Xun Wang. Владелец: Huawei Digital Power Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-24.

Fault protection apparatus and photovoltaic power generation system

Номер патента: AU2021420937A1. Автор: DONG Chen,Jun Wang,Lei Shi. Владелец: Huawei Digital Power Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Power generation system and communications apparatus used in power generation system

Номер патента: US20210126671A1. Автор: Chen Wang,Wei Shui,Yanzhong ZHANG,Yongbing GAO,Tiansan LIN. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-29.

Light source apparatus and projector

Номер патента: US09876998B2. Автор: Akira Egawa,Kiyoshi Kuroi. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2018-01-23.

Extreme ultraviolet exposure apparatus and method, and method of manufacturing semiconductor device by using the exposure method

Номер патента: US10969691B2. Автор: Seung-Yoon Lee,Doo-gyu LEE,Chan-sam Chang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-04-06.

Plasma position control for extreme ultraviolet lithography light sources

Номер патента: US20210389678A1. Автор: Chi Yang,Li-Jui Chen,Hsin-Feng Chen,Ssu-Yu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-12-16.

System and method for performing extreme ultraviolet photolithography processes

Номер патента: US11768437B2. Автор: Heng-Hsin Liu,Tai-Yu Chen,Zhiqiang Wu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH,Sagar Deepak KHIVSARA,Kai Tak Lam,Chung-Wei Wu,Kuo-An Liu,Gwan-Sin Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-26.

System and method for performing extreme ultraviolet photolithography processes

Номер патента: US20210349396A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Tai-Yu Chen,Zhiqiang Wu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH,Sagar Deepak KHIVSARA,Kai Tak Lam,Chung-Wei Wu,Kuo-An Liu,Gwan-Sin Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-11-11.

Extreme ultraviolet radiation in genomic sequencing and other applications

Номер патента: CA3012825C. Автор: Supriya JAISWAL. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-02-13.

Lithography apparatus and method

Номер патента: US12007694B2. Автор: Chi Yang,Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Sheng-Kang Yu,Wei-Chun YEN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-11.

System and method for performing extreme ultraviolet photolithography processes

Номер патента: US20230367225A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Tai-Yu Chen,Zhiqiang Wu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH,Sagar Deepak KHIVSARA,Kai Tak Lam,Chung-Wei Wu,Kuo-An Liu,Gwan-Sin Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Wavelength dispersion compensation apparatus and wavelength dispersion compensation method

Номер патента: US11929784B2. Автор: Takayuki Kobayashi,Yutaka Miyamoto,Shimpei Shimizu,Takushi Kazama. Владелец: Nippon Telegraph and Telephone Corp. Дата публикации: 2024-03-12.

Apparatus and method for self-routing optical packet

Номер патента: US7024115B2. Автор: Yoshihiro Ishimaru. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2006-04-04.

Apparatus for generating extreme ultraviolet (euv), method of manufacturing the same, and euv system

Номер патента: US20220167492A1. Автор: Jihoon Na,Mun Ja KIM,Byungchul YOO,Jaewhan Sung,Hyunjune Cho,Jibeom Yoo,Hakseok Lee,Myeongjin Jeong. Владелец: Sungkyunkwan University Research and Business Foundation. Дата публикации: 2022-05-26.

Collector in an Extreme Ultraviolet Lithography System with Optimal Air Curtain Protection

Номер патента: US20160306282A1. Автор: Tsung-Yu Chen,Shinn-Sheng Yu,Chia-Chen Chen,Chia-Hao Hsu,Chia-Ching HUANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-10-20.

Inspection system for extreme ultraviolet (euv) light source

Номер патента: US20230142835A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Sheng-Kang Yu,Chiao-Hua Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-05-11.

Apparatus and method for controlling power plant system

Номер патента: US11355952B2. Автор: Jwa Young Maeng,Young Hoon RHIE,Ju Young YOUN,In Young CHUNG,Jin Gon Lim. Владелец: Korea Western Power Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-07.

Apparatus for generating extreme ultraviolet (EUV), method of manufacturing the same, and EUV system

Номер патента: US11729896B2. Автор: Jihoon Na,Mun Ja KIM,Byungchul YOO,Jaewhan Sung,Hyunjune Cho,Jibeom Yoo,Hakseok Lee,Myeongjin Jeong. Владелец: Sungkyunkwan University Research and Business Foundation. Дата публикации: 2023-08-15.

Extreme ultraviolet control system

Номер патента: US20230030134A1. Автор: Shang-Chieh Chien,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH,Jen-Yang Chung. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-02-02.

Wavelength dispersion compensation apparatus and wavelength dispersion compensation method

Номер патента: US20230059003A1. Автор: Takayuki Kobayashi,Yutaka Miyamoto,Shimpei Shimizu,Takushi Kazama. Владелец: Nippon Telegraph and Telephone Corp. Дата публикации: 2023-02-23.

Arrangement for the generation of extreme ultraviolet radiation by means of electric discharge at electrodes which can be regenerated

Номер патента: US7649187B2. Автор: Christian Ziener,Guido Hergenhan,Frank Flohrer. Владелец: XTREME technologies GmbH. Дата публикации: 2010-01-19.

Induction heated buffer gas heat pipe for use in an extreme ultraviolet source

Номер патента: US20130153568A1. Автор: Malcolm W. McGeoch. Владелец: PLEX LLC. Дата публикации: 2013-06-20.

Apparatus and method for self-routing optical packet

Номер патента: US20020171893A1. Автор: Yoshihiro Ishimaru. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2002-11-21.

Apparatuses and methods for crank-based lighting

Номер патента: US12128980B2. Автор: Timothy Alan Talda,Katherine Anne Talda. Владелец: MCKT Products LLC. Дата публикации: 2024-10-29.

Extreme ultraviolet control system

Номер патента: US12044975B2. Автор: Shang-Chieh Chien,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH,Jen-Yang Chung. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Rotating target for extreme ultraviolet source with liquid metal

Номер патента: US12133318B2. Автор: Rui-Fang Shi,Alexander Bykanov. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-10-29.

Plasma position control for extreme ultraviolet lithography light sources

Номер патента: US12130556B2. Автор: Chi Yang,Li-Jui Chen,Hsin-Feng Chen,Ssu-Yu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Collector in an extreme ultraviolet lithography system with optimal air curtain protection

Номер патента: US09869934B2. Автор: Tsung-Yu Chen,Shinn-Sheng Yu,Chia-Chen Chen,Chia-Hao Hsu,Chia-Ching HUANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Apparatus and method for testing synchronized transmission between systems operating at different clock rates

Номер патента: US09826495B2. Автор: Neil H. Tender,Esmail H. CHITALWALA. Владелец: HUGHES NETWORK SYSTEMS LLC. Дата публикации: 2017-11-21.

Radiation source for an EUV optical lithographic apparatus, and lithographic apparatus comprising such a radiation source

Номер патента: US09753372B2. Автор: Johannes Christiaan Leonardus Franken. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-09-05.

Extreme ultraviolet reflective element with amorphous layers and method of manufacturing thereof

Номер патента: US09690016B2. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-06-27.

Apparatus and method for managing and conditioning photovoltaic power harvesting systems

Номер патента: US09660454B2. Автор: Alessandro Caraglio,Paolo Carletti. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-05-23.

Extreme ultraviolet lithography collector contamination reduction

Номер патента: US09625824B2. Автор: YEN-CHENG Lu,Jeng-Horng Chen,Tzu-Hsiang Chen,Shun-Der Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Extreme ultraviolet source with dual magnetic cusp particle catchers

Номер патента: US09578729B2. Автор: Malcolm W. McGeoch. Владелец: PLEX LLC. Дата публикации: 2017-02-21.

Extreme ultraviolet source with magnetic cusp plasma control

Номер патента: US09544986B2. Автор: Malcolm W. McGeoch. Владелец: PLEX LLC. Дата публикации: 2017-01-10.

Dual pulse driven extreme ultraviolet (EUV) radiation source method

Номер патента: US09451684B2. Автор: Oleg Gluschenkov,Sivarama Krishnan,Sadanand V. Deshpande,Daniel A. Corliss,Veeresh V. Deshpande. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2016-09-20.

Module and method for producing extreme ultraviolet radiation

Номер патента: US8901521B2. Автор: Tjarko Adriaan Rudolf Van Empel,Erik Roelof Loopstra,Johannes Hubertus Josephina Moors,Vadim Yevgenyevich Banine,Yuri Johannes Gabriel Van De Vijver,Jan Bernard Plechelmus Van Schoot,Gerardus Hubertus Petrus Maria Swinkels,Hendrikus Gijsbertus Schimmel,Dzmitry Labetski,Vladimir Vitalevich Ivanov. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2014-12-02.

Apparatus and method for generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: US20220260922A1. Автор: BO-TSUN Liu,Kuan-Hung Chen,Shang-Chieh Chien,Chun-Chia Hsu,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-08-18.

Apparatus and method for generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: US20230363074A1. Автор: Chi Yang,Shang-Chieh Chien,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Wei-Chih Lai,Han-Lung Chang,Bo--Tsun LIU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-09.

Apparatus and method for generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: US11792909B2. Автор: BO-TSUN Liu,Chi Yang,Shang-Chieh Chien,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Wei-Chih Lai,Han-Lung Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

System and method for performing extreme ultraviolet photolithography processes

Номер патента: US20220350257A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Tai-Yu Chen,Zhiqiang Wu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH,Sagar Deepak KHIVSARA,Kai Tak Lam,Chung-Wei Wu,Kuo-An Liu,Gwan-Sin Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-11-03.

Apparatus and method for generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: US20230060625A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Yu-Chih Huang,Yu-Huan Chen,Ming-Hsun Tsai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-03-02.

Method of manufacturing extreme ultraviolet (euv) mask for forming semiconductor memory device

Номер патента: US20240152043A1. Автор: Chan Hwang,Sangho Yun,Janghoon Kim,Minseung SONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-09.

Apparatus and method for generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: US20200075190A1. Автор: Li-Jui Chen,Chun-Lin Chang,Han-Lung Chang,Ting-Ya CHENG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-03-05.

Apparatus and method for generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: US20230225039A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Yu-Chih Huang,Yu-Huan Chen,Ming-Hsun Tsai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-07-13.

Apparatus and method for providing operator specific service

Номер патента: US20230370949A1. Автор: Jonghan PARK,Duckey Lee,Hyewon Lee,Kangjin YOON,Sujung KANG,Youngsun Ryu. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-16.

Photovoltaic power generation system including apparatus and method to buffer power fluctuations

Номер патента: US09641021B2. Автор: Bruce Gordon Norman,Maozhong Gong. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2017-05-02.

Electronic document generation system, image forming apparatus and program

Номер патента: US09471841B2. Автор: Masaaki Saka,Takuya Kawano. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2016-10-18.

IP (Intellectual Property) generating system

Номер патента: US20040068557A1. Автор: Takeshi Hashizume,Kumiko Tsujihashi. Владелец: Renesas Technology Corp. Дата публикации: 2004-04-08.

Storage medium having stored therein an image generation program, image generation method, image generation apparatus and image generation system

Номер патента: US09914056B2. Автор: Kiyoshi Takeuchi,Yusuke Amano,Koichi Hayashida. Владелец: Nintendo Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-13.

Power generation system including wind power generation and solar thermal power generation

Номер патента: US09903344B2. Автор: Yasuo Takagi,Nobuo Okita,Kazuo Takahata,Yoichi Tone,Dai Murayama,Mikhail Rodionov. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2018-02-27.

Buoyancy-driven power generation system

Номер патента: US09719485B2. Автор: Peter J. Borns. Владелец: FAWCETT CO Inc. Дата публикации: 2017-08-01.

Apparatus for decontaminating extreme ultraviolet source

Номер патента: TW201925929A. Автор: 陳鑫封,陳立銳,劉柏村,張漢龍. Владелец: 台灣積體電路製造股份有限公司. Дата публикации: 2019-07-01.

Apparatus for generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: TW202021427A. Автор: 陳冠宏,陳立銳,劉柏村,許峻嘉,謝劼,簡上傑,鄭博中. Владелец: 台灣積體電路製造股份有限公司. Дата публикации: 2020-06-01.

Apparatus and method for purifying air

Номер патента: US20020033327A1. Автор: George Benda,John Groetsema. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-03-21.

Plasma position control for extreme ultraviolet lithography light sources

Номер патента: US20230273526A1. Автор: Chi Yang,Li-Jui Chen,Hsin-Feng Chen,Ssu-Yu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-31.

Rotating target for extreme ultraviolet source with liquid metal

Номер патента: US20230403778A1. Автор: Rui-Fang Shi,Alexander Bykanov. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2023-12-14.

Orthogonal multiplexing of high efficiency (HE) and extremely high throughput (EHT) wireless traffic

Номер патента: US11800467B2. Автор: Lin Yang,Bin Tian,Sameer Vermani,Lochan VERMA. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2023-10-24.

Orthogonal multiplexing of high efficiency (HE) and extremely high throughput (EHT) wireless traffic

Номер патента: US11477745B2. Автор: Lin Yang,Bin Tian,Sameer Vermani,Lochan VERMA. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2022-10-18.

Device and method to remove debris from an extreme ultraviolet (EUV) lithography system

Номер патента: US11841625B2. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH,Chun-Han Lin,Sheng-Kang Yu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-12.

Method and apparatus for controlling exhaust pressure for an extreme ultraviolet generation chamber

Номер патента: US20200132300A1. Автор: Ming-Hsun Tsai,Ping-Cheng Li,Yen-Hsun Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-04-30.

Method and apparatus for controlling exhaust pressure for an extreme ultraviolet generation chamber

Номер патента: US20200003414A1. Автор: Ming-Hsun Tsai,Ping-Cheng Li,Yen-Hsun Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-01-02.

Method and apparatus for controlling exhaust pressure for an extreme ultraviolet generation chamber

Номер патента: US10684009B2. Автор: Ming-Hsun Tsai,Ping-Cheng Li,Yen-Hsun Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-06-16.

Extreme ultraviolet reflective element with amorphous layers and method of manufacturing thereof

Номер патента: US20160011345A1. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-01-14.

Rotating target for extreme ultraviolet source with liquid metal

Номер патента: WO2023239563A1. Автор: Rui-Fang Shi,Alexander Bykanov. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2023-12-14.

Orthogonal multiplexing of high efficiency (he) and extremely high throughput (eht) wireless traffic

Номер патента: EP3831002A1. Автор: Lin Yang,Bin Tian,Sameer Vermani,Lochan VERMA. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2021-06-09.

Device and method to remove debris from an extreme ultraviolet (euv) lithography system

Номер патента: US20230375950A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH,Chun-Han Lin,Sheng-Kang Yu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Orthogonal multiplexing of high efficiency (he) and extremely high throughput (eht) wireless traffic

Номер патента: US20230007604A1. Автор: Lin Yang,Bin Tian,Sameer Vermani,Lochan VERMA. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2023-01-05.

Orthogonal multiplexing of high efficiency (he) and extremely high throughput (eht) wireless traffic

Номер патента: WO2020028015A1. Автор: Lin Yang,Bin Tian,Sameer Vermani,Lochan VERMA. Владелец: QUALCOMM INCORPORATED. Дата публикации: 2020-02-06.

Orthogonal multiplexing of high efficiency (he) and extremely high throughput (eht) wireless traffic

Номер патента: US20240056996A1. Автор: Lin Yang,Bin Tian,Sameer Vermani,Lochan VERMA. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2024-02-15.

Droplet generator and method of sevicing extreme ultraviolet radiation source apparatus

Номер патента: US20200004168A1. Автор: Chia-Chen Chen,Li-Jui Chen,Shao-Hua Wang,Han-Lung Chang,Ming-Hsun Tsai,Yen-Hsun Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-01-02.

Collector in an Extreme Ultraviolet Lithography System with Optimal Air Curtain Protection

Номер патента: US20150261094A1. Автор: Tsung-Yu Chen,Shinn-Sheng Yu,Chia-Chen Chen,Chia-Hao Hsu,Chia-Ching HUANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-09-17.

A control device for controlling an ultraviolet light-based disinfection device

Номер патента: US20240216561A1. Автор: Ties Van Bommel,Kars-Michiel Hubert Lenssen,Bartel Marinus Van De Sluis,Dzmitry Viktorovich Aliakseyeu,Tobias BORRA,Erik Petrus Johannes MALLENS. Владелец: Signify Holding BV. Дата публикации: 2024-07-04.

Vapour generating systems

Номер патента: EP4391848A1. Автор: Peter Smith,Layth Sliman BOUCHUIGUIR,Jian Cheng LUO. Владелец: JT INTERNATIONAL SA. Дата публикации: 2024-07-03.

Vapour Generating Systems

Номер патента: US20240284986A1. Автор: Peter Smith,Layth Sliman BOUCHUIGUIR,Jian Cheng LUO. Владелец: JT INTERNATIONAL SA. Дата публикации: 2024-08-29.

APPARATUS AND METHOD FOR EXTREME ULTRAVIOLET SPECTROMETER CALIBRATION

Номер патента: US20150346029A1. Автор: JHON Young Min,Woo Deok Ha,Kim Sun Ho,Lee Seok,Kim Jae Hun,PARK Min-chul,BYUN Young Tae,LEE Taik Jin,Kim Yong Soo,AHN Joon Mo,SEO Min Ah. Владелец: . Дата публикации: 2015-12-03.

Controlled, diffused, and augmented wind energy generation apparatus and system

Номер патента: WO2011090729A3. Автор: Ed Marin. Владелец: AWR ENERGY, INC.. Дата публикации: 2011-11-17.

Vapour generating systems

Номер патента: WO2023025621A1. Автор: Layth Sliman BOUCHUIGUIR,Jian Cheng LUO. Владелец: JT INTERNATIONAL SA. Дата публикации: 2023-03-02.

Apparatus and method for wave power generation and wave power generation system using the same

Номер патента: KR20160030633A. Автор: 박태영,오영태. Владелец: 대우조선해양 주식회사. Дата публикации: 2016-03-21.

Apparatus and method for conditioning air received by a power generation system

Номер патента: US20130219916A1. Автор: Huong Van Vu,Bhachandra Arun Desai. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2013-08-29.

Apparatus and method for generating an elasticity data, elatricity image generating system using the same

Номер патента: KR20130096051A. Автор: 이태현,김경환,김상욱,강나협. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2013-08-29.

Control apparatus and control method for vehicle-mounted fuel cell power generation system

Номер патента: WO2004103763A1. Автор: Akihiro Ueda. Владелец: TOYOTA JIDOSHA KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2004-12-02.

Control apparatus and control method for vehicle-mounted fuel cell power generation system

Номер патента: CN1795113A. Автор: 上田晃宏. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2006-06-28.

Apparatus and method for supplying emergency power of wind power generation system

Номер патента: KR20150107297A. Автор: 오중기. Владелец: 현대중공업 주식회사. Дата публикации: 2015-09-23.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20230161262A1. Автор: Kotaro Miyashita,Gouta NIIMI. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-05-25.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2033232A. Автор: MIYASHITA Kotaro,NIIMI Gouta. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-06-12.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2036212A. Автор: UENO Yoshifumi,MIYASHITA Kotaro,NISHIMURA Yuichi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-06-11.

Foil trap and extreme ultraviolet light source device using the foil trap

Номер патента: EP1972999A3. Автор: Takahiro Inoue,Takahiro Shirai. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2009-07-15.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240184211A1. Автор: Yoshifumi Ueno,Yuichi Nishimura,Kotaro Miyashita. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-06-06.

Defect detection system for extreme ultraviolet lithography mask

Номер патента: US09546964B2. Автор: Ming Liu,Xiaoli Zhu,Dongmei Li,Changqing Xie,Hailiang Li,Lina Shi,Jiebin Niu. Владелец: Institute of Microelectronics of CAS. Дата публикации: 2017-01-17.

Amorphous layer extreme ultraviolet lithography blank, and manufacturing and lithography systems therefor

Номер патента: US09612521B2. Автор: Kevin Moraes,Ralf Hofmann. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-04-04.

Semiconductor device manufacturing method and extreme ultraviolet mask manufacturing method

Номер патента: US12092961B2. Автор: Dongwon Kang,Sang Chul YEO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-17.

Extreme ultraviolet light source apparatus and method of adjusting the same

Номер патента: US20100193712A1. Автор: Kazuo Tawarayama. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-08-05.

Amorphous layer extreme ultraviolet lithography blank, and manufacturing and lithography systems therefor

Номер патента: US20140268081A1. Автор: Kevin Moraes,Ralf Hofmann. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2014-09-18.

Amorphous layer extreme ultraviolet lithography blank, and manufacturing and lithography systems therefor

Номер патента: WO2014165298A1. Автор: Kevin Moraes,Ralf Hofmann. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-10-09.

Pellicle for preventing thermal accumulation and extreme ultra-violet lithography apparatus having the same

Номер патента: US20180203346A1. Автор: Roman Chalykh,Yongseok Jung,Sungwon KWON,Byunggook Kim,Jaehyuck CHOI,Munja KIM,Hwanchul JEON. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-07-19.

Pellicle for preventing thermal accumulation and extreme ultra-violet lithography apparatus having the same

Номер патента: US09952502B2. Автор: Roman Chalykh,Yongseok Jung,Sungwon KWON,Byunggook Kim,Jaehyuck CHOI,Munja KIM,Hwanchul JEON. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-04-24.

Therapeutic laser apparatus for hair loss

Номер патента: RU2472543C2. Автор: Тае Хёунг КИМ. Владелец: Иникс Лтд.. Дата публикации: 2013-01-20.

Method for forming resist pattern by using extreme ultraviolet light and method for forming pattern by using the resist pattern as mask

Номер патента: US20240045336A1. Автор: Chan Hwang,Sookyung Kim,Jonghyun JUNG,Moosong Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-08.

Pellicle for exposure to extreme ultraviolet light, photomask assembly, and method of manufacturing the pellicle

Номер патента: US20180284599A1. Автор: Chang-Young Jeong,Hee-Bom Kim,Mun Ja KIM,Hwan-Chul Jeon,Sung-won Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-10-04.

Extreme ultraviolet exposure apparatus including a mask stage

Номер патента: US20240219848A1. Автор: Jinhong Park,Dohyung Kim,Sanghwan Lee,Seongchul HONG,Hachul Shin. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-04.

Debris handling apparatus and method for an extreme ultraviolet light source

Номер патента: WO2024033020A1. Автор: Adam CROCKER,Kyle John SCAFFIDI,Gary Dwayne Mandrusiak,Esteban Joseph Sandoval JOHNSON,Liza EASO,Bryce Collin CAPUTO. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-02-15.

Methods and apparatus for use with extreme ultraviolet light having contamination protection

Номер патента: WO2014126915A1. Автор: Michail A. Gallis,Gildardo R. Delgado,Rudy Garcia,Frank Chilese,Leonard E. Klebanoff,John R. Torczynski,Anthony S. Geller,Daniel S. RADER. Владелец: Sandia Corporation. Дата публикации: 2014-08-21.

Methods and apparatus for use with extreme ultraviolet light having contamination protection

Номер патента: EP2956714A1. Автор: Michail A. Gallis,Gildardo R. Delgado,Rudy Garcia,Frank Chilese,Leonard E. Klebanoff,John R. Torczynski,Anthony S. Geller,Daniel S. RADER. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2015-12-23.

Extreme ultraviolet/soft x-ray laser nano-scale patterning using the demagnified talbot effect

Номер патента: US20150251441A1. Автор: Mario C. Marconi,Jorge J. Rocca,Artak Isoyan,Lukasz Urbanski. Владелец: Synopsys Inc. Дата публикации: 2015-09-10.

Extreme ultraviolet/soft X-ray laser nano-scale patterning using the demagnified Talbot effect

Номер патента: US9216590B2. Автор: Mario C. Marconi,Jorge J. Rocca,Artak Isoyan,Lukasz Urbanski. Владелец: Synopsys Inc. Дата публикации: 2015-12-22.

Apparatus and method for non-contact detection of hydrocarbon and other fluorescence materials on a surface

Номер патента: EP4427029A2. Автор: JianFeng Zhang,Jurgen ZACH. Владелец: Clearview Sensing Inc. Дата публикации: 2024-09-11.

Extreme Ultraviolet Lithography System

Номер патента: US20200019070A1. Автор: Ching-Yu Chang,Chin-Hsiang Lin,Cheng-Han Wu,Ming-Hui Weng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-01-16.

Reticle-masking structure, extreme ultraviolet apparatus, and method of forming the same

Номер патента: US20220214620A1. Автор: Ching-Hsiang Hsu,Feng Yuan Hsu,James Jeng-Jyi Hwang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-07-07.

Reticle-masking structure, extreme ultraviolet apparatus, and method of forming the same

Номер патента: US20210096469A1. Автор: Ching-Hsiang Hsu,Feng Yuan Hsu,James Jeng-Jyi Hwang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-04-01.

Reticle-masking structure, extreme ultraviolet apparatus, and method of forming the same

Номер патента: US11287745B2. Автор: Ching-Hsiang Hsu,Feng Yuan Hsu,James Jeng-Jyi Hwang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-03-29.

Optical apparatus and method for fluorescence measurement of analytes comprising backscattering detection

Номер патента: US09551659B2. Автор: Pekka Teppola,Mikko JUUTI. Владелец: Valtion teknillinen tutkimuskeskus. Дата публикации: 2017-01-24.

Extreme ultraviolet lithography mask blank and manufacturing method therefor

Номер патента: US6117597A. Автор: Kathleen R. Early. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2000-09-12.

Sterilization device and method by combining cold plasma and ultraviolet light

Номер патента: US20230310677A1. Автор: JIN Wang,Long Xu,Jianhao ZHANG,Xiaowei Sheng,Jinglin WAN,Xilin HOU. Владелец: Nanjing Suman Plasma Engineering Research Institute Co ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Inactivating apparatus and light irradiation device

Номер патента: US20230293755A1. Автор: Koji Yamada,Akira Ishikura. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2023-09-21.

Air Sterilization Apparatus and Air Conditioner Using Same

Номер патента: US20240240817A1. Автор: Hiroyuki Toyoda,Tomoaki Taguchi,Daisuke Akimaru,Akinori KAWASAKI. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2024-07-18.

Printing apparatus and printing method

Номер патента: US20230415496A1. Автор: Yoshitsugu TOKAI. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2023-12-28.

Extreme ultraviolet lithography system that utilizes pattern stitching

Номер патента: US20170336720A1. Автор: David M. Williamson,Michael B. Binnard,Daniel Gene Smith. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-11-23.

Extreme ultraviolet lithography system that utilizes pattern stitching

Номер патента: US20190235393A1. Автор: David M. Williamson,Michael B. Binnard,Daniel Gene Smith. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2019-08-01.

Robotic disinfection apparatus and control system

Номер патента: GB2626930A. Автор: Jawaharlal Kesavasankar. Владелец: Spotless AI Ltd. Дата публикации: 2024-08-14.

Apparatus and methods for identifying compounds of interest

Номер патента: GB2626885A. Автор: Stefano Pasquale King Roberto,Clement Simon,Neil Gould Justin. Владелец: Foster and Freeman Ltd. Дата публикации: 2024-08-07.

Apparatus and method for inactivating viruses in human body

Номер патента: US20240285970A1. Автор: Jongheon Kim,Hyun Hoon CHUNG,Seihoon PARK. Владелец: Chungmed Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Method for early risk prediction of motor disorders in premature newborns born with low and extremely low body weight, with perinatal hypoxic-ischemic brain lesions

Номер патента: RU2692670C2. Автор: Елена Ивановна Клещенко,Дильбар Абдунабиевна Каюмова,Маргарита Павловна Яковенко,Нина Алексеевна Петрухина. Владелец: Нина Алексеевна Петрухина. Дата публикации: 2019-06-25.

Robotic disinfection apparatus and control system

Номер патента: GB2626924A. Автор: Jawaharlal Kesavasankar. Владелец: Spotless AI Ltd. Дата публикации: 2024-08-14.

Robotic disinfection apparatus and control system

Номер патента: GB2626925A. Автор: Jawaharlal Kesavasankar. Владелец: Spotless AI Ltd. Дата публикации: 2024-08-14.

Apparatus and method for irradiating air in an air circulation system of a vehicle

Номер патента: EP3925882A1. Автор: Bryce VANDYKE. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2021-12-22.

Method of cleaning extreme ultraviolet lithography collector

Номер патента: US20200073250A1. Автор: Ching-Yu Chang,Chin-Hsiang Lin,An-Ren Zi. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-03-05.

Colorimetric apparatus and colorimetric method

Номер патента: US20130257971A1. Автор: Masato Eiyama. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2013-10-03.

Pattern forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet-sensitive composition, resist film, method for manufacturing electronic device using the same, and electronic device

Номер патента: US09411230B2. Автор: Kaoru Iwato,Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-08-09.

Method for increasing the efficiency of intensive therapy in severe-burned and extremely severe-burned

Номер патента: RU2751014C1. Автор: Михаил Владимирович Захаров,Игорь Владимирович Чмырёв,Артем Владимирович Марухов,Олег Александрович Корольков. Владелец: Федеральное государственное бюджетное военное образовательное учреждение высшего образования "Военно-медицинская академия имени С.М. Кирова" Министерства обороны Российской Федерации (ВМедА). Дата публикации: 2021-07-07.

Method for construction of a hydrodynamic model of a source of storm surges and extreme currents under the influence of a moving atmospheric typhoon

Номер патента: RU2652642C1. Автор: Василий Николаевич Храмушин. Владелец: Василий Николаевич Храмушин. Дата публикации: 2018-04-28.

Thermally stable multilayer mirror for extreme ultraviolet spectral range

Номер патента: RU2410732C2. Автор: Норберт КАЙЗЕР,Николя БЕНУА,Торстен ФАЙГЛЬ,Сергий ЮЛИН. Владелец: Фраунхофер-Гезелльшафт Цур Фердерунг Дер Ангевандтен Форшунг Е.Ф.. Дата публикации: 2011-01-27.

Image display apparatus and mobile apparatus

Номер патента: US20190219820A1. Автор: Makoto Hirakawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2019-07-18.

Pattern-forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using them and electronic device

Номер патента: EP2761373A1. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Naoki Inoue. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-08-06.

Dense line extreme ultraviolet lithography system with distortion matching

Номер патента: US20190212663A1. Автор: Michael B. Binnard. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2019-07-11.

X-ray imaging apparatus and x-ray imaging method

Номер патента: US20210102905A1. Автор: Malte Tschentscher,Marcel Kanter. Владелец: Siemens Healthcare GmbH. Дата публикации: 2021-04-08.

Apparatus and methods to prevent biofouling

Номер патента: US20210138519A1. Автор: Egbert Woelk. Владелец: Innovasea Systems Inc. Дата публикации: 2021-05-13.

Light generating system with triangular light guide panel

Номер патента: WO2024146727A1. Автор: Ties Van Bommel,Peter Johannes Martinus Bukkems,Johannes Petrus Maria Ansems. Владелец: SIGNIFY HOLDING B.V.. Дата публикации: 2024-07-11.

Pattern forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet-sensitive composition, resist film, manufacturing method of electronic device, and electronic device

Номер патента: US20130084438A1. Автор: Kaoru Iwato,Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2013-04-04.

Uniform light generating system for testing an image-sensing device and method of using the same

Номер патента: US20090190124A1. Автор: Bily Wang,Kuei-Pao Chen,Chih-Ming Wang. Владелец: Youngtek Electronics Corp. Дата публикации: 2009-07-30.

Ultraviolet therapy apparatus and light source

Номер патента: US20240245927A1. Автор: Hiroshi Shibata. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2024-07-25.

Apparatus and method for irradiating air in an air circulation system of a vehicle

Номер патента: US12097310B2. Автор: Bryce VANDYKE. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2024-09-24.

Extreme ultraviolet pellicle storage and method of preserving extreme ultraviolet pellicle properties thereof

Номер патента: US20240337922A1. Автор: Marcio D. Lima,Sergey Li,Hooman RAHMANI. Владелец: Lintec of America Inc. Дата публикации: 2024-10-10.

Photoacoustic apparatus and method of operating the same

Номер патента: US09939368B2. Автор: Jung-Taek Oh,Jung-Ho Kim,Jae-Kwang Lee,Dal-Kwon Koh,Jong-Kyu JUNG. Владелец: Samsung Medison Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

A light generation system for electrical correlated color temperature tunability

Номер патента: WO2024149740A1. Автор: Ties Van Bommel,Rifat Ata Mustafa Hikmet,Erik Petrus Johannes MALLENS. Владелец: SIGNIFY HOLDING B.V.. Дата публикации: 2024-07-18.

Pattern-forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using them and electronic device

Номер патента: US09470980B2. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Naoki Inoue. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

Extreme ultraviolet lithography process and mask

Номер патента: US09448491B2. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Portable filter for water treatment in field and extreme conditions

Номер патента: RU2709871C1. Автор: Александр Павлович Селезнев,Антон Игоревич Андриянов,Александр Леонидович Сметанин,Инна Алексеевна Коновалова,Анастасия Александровна Корнеева,Елена Сергеевна Мартынова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное военное образовательное учреждение высшего образования "Военно-медицинская академия имени С.М. Кирова" Министерства обороны Российской Федерации (ВМедА). Дата публикации: 2019-12-23.

Method for predicting the development of carbohydrate metabolism disorders in newborns with low, very low, and extremely low birth weight

Номер патента: RU2769623C1. Автор: Юлия Геннадьевна Самойлова,Иван Владиславович Толмачев,Татьяна Владимировна Сиволобова,Виктор Александрович Желев,Анастасия Михайловна Петракович. Владелец: Федеральное Государственное Бюджетное Образовательное Учреждение Высшего Образования "Сибирский Государственный Медицинский Университет" Министерства Здравоохранения Россиийской Федерации. Дата публикации: 2022-04-04.

Extreme ultraviolet light shield protection film structure body and its manufacturing method

Номер патента: CN108604057A. Автор: 金正植,金廷桓,安镇浩,禹东坤,张镛铸. Владелец: Hanyang Hak Won Co Ltd. Дата публикации: 2018-09-28.

Developer composition for forming fine pattern of photosensitive resist for extreme ultraviolet light source

Номер патента: CN111656285A. Автор: 李昇勋,李秀珍,金起洪. Владелец: Youngchang Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-09-11.

Radiodiagnostic apparatus and method of operating radiodiagnostic apparatus

Номер патента: US12036053B2. Автор: Yoshihiro Nishi,Kenji Takata,Keiji Tsubota. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-07-16.

Gas concentration measurement apparatus and techniques

Номер патента: US20200408674A1. Автор: Dmitry Medvedev. Владелец: OWS Agri Ltd. Дата публикации: 2020-12-31.

Apparatus for simultaneously exposing fluids or gases to a magnetic field and to ultraviolet light

Номер патента: US20220089464A1. Автор: Michael Jenzeh,Gerald V. Todd. Владелец: Magnation Corporation. Дата публикации: 2022-03-24.

Euv light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240295824A1. Автор: Tomoyoshi TOIDA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-09-05.

Euv light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2036518A. Автор: TOIDA Tomoyoshi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-09-05.

Clothing management apparatus and control method thereof

Номер патента: US20240344260A1. Автор: Yong Hoon Lee,Byung-In Ma,Kisup LEE,SuJin SEONG,Sukyoung CHOI. Владелец: MEDIAEVERCO LTD. Дата публикации: 2024-10-17.

Apparatus and method for generating wide-angle coherent light and display apparatus using wide-angle coherent light

Номер патента: US09836023B2. Автор: Seok Lee,Dong Kyung Nam,Ho Cheon Wey. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-12-05.

Image forming apparatus and image forming method

Номер патента: US09804539B2. Автор: Shuhei Takahashi,Jiro Ishizuka,Toru Kabashima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-10-31.

Fundus observation apparatus and fundus image analyzing apparatus

Номер патента: US09456745B2. Автор: Akiko Matsumoto,Akihiko Sekine,Tsutomu Kikawa,Nagahisa Yoshimura,Masanori Hangai,Yugo Kimura. Владелец: Kyoto University NUC. Дата публикации: 2016-10-04.

Lithographic apparatus and method

Номер патента: US20070146657A1. Автор: Hubert Mierlo,Gert-Jan Heerens,Hans Meiling,Antonius Theodorus Maria Bastein,Jacques Donck,Hedser Brug. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2007-06-28.

Method of producing drinking water in field and extreme conditions

Номер патента: RU2628615C1. Автор: Александр Павлович Селезнев,Антон Игоревич Андриянов,Елена Федоровна Сороколетова,Андрей Владимирович Кривцов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное военное образовательное учреждение высшего образования Военно-медицинская академия им. С.М. Кирова Министерства обороны Российской Федерации (ВМедА). Дата публикации: 2017-08-21.

Method for radiotal treatment of prostate cancer in high and extremely high risk of recurrency groups

Номер патента: RU2752709C1. Автор: Сергей Николаевич Новиков,Сергей Васильевич Канаев,Роман Владимирович Новиков,Николай Дмитриевич Ильин,Юрий Олегович Мережко,Алина Евгеньевна Наволока,Мария Юрьевна Готовчикова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение "Национальный медицинский исследовательский центр онкологии имени Н.Н. Петрова" Министерства здравоохранения Российской Федерации. Дата публикации: 2021-07-30.

System for global automatic monitoring of vehicles in normal and extreme conditions

Номер патента: RU2158003C1. Автор: И.М. Айнбиндер. Владелец: Айнбиндер Иосиф Миронович. Дата публикации: 2000-10-20.

Source of ultraviolet light employing a laser pumped borate crystal

Номер патента: US3934154A. Автор: William R. Cook, Jr.. Владелец: Individual. Дата публикации: 1976-01-20.

Wearable ultraviolet light shield

Номер патента: US20240100215A1. Автор: Tyler Smithson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-03-28.

Positive resist composition for extreme ultraviolet lithography and resist pattern formation kit for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US20230324797A1. Автор: Manabu Hoshino. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2023-10-12.

Pattern forming method, electron beam- or extreme ultraviolet-sensitive resin composition, resist film using the same, method of manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US20150370170A1. Автор: Shuji Hirano,Hiroo Takizawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-12-24.

Substrate inspection apparatus and substrate inspection method

Номер патента: US20240219315A1. Автор: LEI Tian,HAO WANG,Seungbeom Park,Hojun Lee,Myungjun Lee,Junho SHIN,Jiabei Zhu,Wookrae Kim,Jangwoon SUNG. Владелец: Boston University. Дата публикации: 2024-07-04.

Wind farm noise prediction method, apparatus and system

Номер патента: AU2022209253B2. Автор: Mengting YU,Emre BARLAS. Владелец: Beijing Goldwind Science and Creation Windpower Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Wind farm noise prediction method, apparatus and system

Номер патента: US20200362818A1. Автор: Mengting YU,Emre BARLAS. Владелец: Beijing Goldwind Science and Creation Windpower Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2020-11-19.

Apparatus and method for calculating aiming point information

Номер патента: WO2008060319A2. Автор: Dennis J. Sammut,Lawrence Chao,Dickinson Buell. Владелец: HORUS VISION LLC. Дата публикации: 2008-05-22.

Process solution composition for extreme ultraviolet lithography, and method for forming pattern by using same

Номер патента: US20210214649A1. Автор: Seung Hyun Lee,Su Jin Lee,Seung Hun Lee. Владелец: Youngchang Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-07-15.

Extreme ultraviolet lithography projection optics system and associated methods.

Номер патента: NL2013719B1. Автор: Lu Yen-Cheng,Yu Shinn-Sheng,Yen Anthony. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg Co Ltd. Дата публикации: 2016-04-04.

Wind farm noise prediction method, apparatus and system

Номер патента: AU2019370330A1. Автор: Mengting YU,Emre BARLAS. Владелец: Beijing Goldwind Science and Creation Windpower Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2020-08-20.

Wind farm noise prediction method, apparatus and system

Номер патента: AU2022209253A1. Автор: Mengting YU,Emre BARLAS. Владелец: Beijing Goldwind Science and Creation Windpower Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2022-08-18.

Reticle-masking structure, extreme ultra violet apparatus, and method of forming the same

Номер патента: US12066760B2. Автор: Ching-Hsiang Hsu,Feng Yuan Hsu,James Jeng-Jyi Hwang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Shutter device for a lithography apparatus and lithography apparatus

Номер патента: US20120162626A1. Автор: Ulrich Beck,Martin Rath,Marten Krebs. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-06-28.

Apparatus and method for calculating aiming point information

Номер патента: EP2008049A2. Автор: Dennis J. Sammut,Lawrence Chao,Dickinson Buell. Владелец: HORUS VISION LLC. Дата публикации: 2008-12-31.

Method of reducing undesired light influence in extreme ultraviolet exposure

Номер патента: US20240295820A1. Автор: BO-TSUN Liu,Chih-Tsung Shih,Yahru CHENG,Tsung Chuan LEE,Chen-Ming Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Document generation apparatus and methods

Номер патента: WO1990015392A1. Автор: Henry Goldstein,Eric Rustici,Richard W. Bolling,David F. Shannon. Владелец: Wang Laboratories, Inc.. Дата публикации: 1990-12-13.

Apparatus and method for removing a single particulate from a substrate

Номер патента: US20240295833A1. Автор: Christof Baur,Klaus Edinger,Tilo Sielaff,Christian Felix Hermanns,Jens Oster,Maksym Kompaniiets. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-09-05.

Raman scattering measuring apparatus and raman scattering measuring method

Номер патента: US20140253918A1. Автор: Keisuke Nose,Yasuyuki Ozeki,Kazuyoshi Itoh. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-09-11.

Extreme ultraviolet lithography method, extreme ultraviolet mask and formation method thereof

Номер патента: US12072633B2. Автор: BO-TSUN Liu,Chih-Tsung Shih,Yu-Hsun Wu,Tsung-Chuan LEE. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

Refrigeration cycle apparatus and leakage inspection method for refrigerant piping of refrigeration cycle apparatus

Номер патента: US20240310098A1. Автор: Kaoru Matsushita,Kazushi Takeuchi,Junichi Wakasugi. Владелец: Toshiba Carrier Corp. Дата публикации: 2024-09-19.

Dark-field confocal microscopic measurement apparatus and method based on vortex dichroism

Номер патента: US20240329377A1. Автор: Jian Liu,Chenguang Liu,Zijie Hua. Владелец: Harbin Institute of Technology. Дата публикации: 2024-10-03.

Apparatus and method for ultraviolet disinfection

Номер патента: US12090239B2. Автор: Corbin Collet,Brian Brandon,April Jennesis-Collet. Владелец: Blu Perspective LLC. Дата публикации: 2024-09-17.

Extreme ultraviolet lithography process and mask

Номер патента: US09996013B2. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

Apparatus and method for detecting leakage from a composition-containing pouch

Номер патента: US09869604B2. Автор: Suzanne Khalaf,Stefan Meskens,Kerry Brian Johnson,Leon Byrd, JR.. Владелец: Procter and Gamble Co. Дата публикации: 2018-01-16.

Apparatus and method for calculating aiming point information

Номер патента: US09869530B2. Автор: Dennis J. Sammut,Lawrence Chao. Владелец: HVRT Corp. Дата публикации: 2018-01-16.

Extreme ultraviolet lithography process and mask

Номер патента: US09829785B2. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-11-28.

Extreme ultraviolet lithography process

Номер патента: US09760015B2. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-09-12.

Apparatus and methods for inspecting extreme ultra violet reticles

Номер патента: US09679372B2. Автор: Stanley E. Stokowski,Mehdi Vaez-Iravani,Mehran Nasser-Ghodsi. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2017-06-13.

Method of making an extreme ultraviolet pellicle

Номер патента: US09664999B2. Автор: Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen,Chih-Tsung Shih,Shang-Chieh Chien,Chia-Jen Chen,Tien-Hsi Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Extreme ultraviolet mask blank production system with thin absorber and manufacturing system therefor

Номер патента: US09612522B2. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-04-04.

Apparatus and method for calculating aiming point information

Номер патента: US09612086B2. Автор: Dennis J. Sammut,Todd Hodnett. Владелец: HVRT Corp. Дата публикации: 2017-04-04.

Method, apparatus, and system for generating diagnostic image using photoacoustic material

Номер патента: US09591970B2. Автор: Gil-ju JIN,Mi-jeoung Ahn,Dal-Kwon Koh. Владелец: Samsung Medison Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-14.

Planarized extreme ultraviolet lithography blank with absorber and manufacturing system therefor

Номер патента: US09581889B2. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-02-28.

Apparatus and method for calculating aiming point information

Номер патента: US09574850B2. Автор: Dennis J. Sammut,Todd Hodnett. Владелец: HVRT Corp. Дата публикации: 2017-02-21.

Radiation source, lithographic apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US09529283B2. Автор: Johannes Hubertus Josephina Moors,Vadim Yevgenyevich Banine,Andrei Mikhailovich Yakunin,Leonid Aizikovitch Sjmaenok. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-12-27.

Extreme ultraviolet lithography process and mask

Номер патента: US09529272B2. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-12-27.

Decontamination apparatus and method

Номер патента: US09511164B2. Автор: Roderick M. Dayton. Владелец: Daylight Medical Inc. Дата публикации: 2016-12-06.

Apparatus and method for controlling power generation system

Номер патента: US09506405B2. Автор: David W. Vos. Владелец: Rockwell Collins Control Technologies Inc. Дата публикации: 2016-11-29.

Apparatus and method for calculating aiming point information

Номер патента: US09500444B2. Автор: Dennis J. Sammut,Lawrence Chao. Владелец: HVRT Corp. Дата публикации: 2016-11-22.

Apparatus and method for detecting leakage from a composition-containing pouch

Номер патента: US09470638B2. Автор: Suzanne Khalaf,Stefan Meskens,Kerry Brian Johnson,Leon Byrd, JR.. Владелец: Procter and Gamble Co. Дата публикации: 2016-10-18.

Apparatus and method for calculating aiming point information

Номер патента: US09459077B2. Автор: Dennis J. Sammut,Lawrence Chao. Владелец: HVRT Corp. Дата публикации: 2016-10-04.

Extreme ultraviolet lithography process

Номер патента: US09442387B2. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-09-13.

Display apparatus for changing color distribution of light generated by display and method thereof

Номер патента: US09373303B2. Автор: Sang-Hoon Lee,Sang-un Yun,Jun-Ho Jung,Gae-Youn Kim,Tae-young HUH. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-06-21.

Use of phospholipid emulsion containing effective amount of dihydroquercetin for treating ischemia-reperfusion syndrome in patients with ischemic organ and extremity injuries

Номер патента: RU2766681C1. Автор: Антон Владимирович Евтеев,Сергей Антонович Евтеев. Владелец: Антон Владимирович Евтеев. Дата публикации: 2022-03-15.

Fine structure evaluation apparatus and method

Номер патента: US5270794A. Автор: Kenji Saito,Toshihiko Tsuji. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1993-12-14.

Ligand-capped main group nanoparticles as high absorption extreme ultraviolet lithography resists

Номер патента: US11874600B2. Автор: Florian Gstrein,James M. Blackwell,Robert L. Bristol,Marie KRYSAK. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-01-16.

Ligand-capped main group nanoparticles as high absorption extreme ultraviolet lithography resists

Номер патента: US20190302615A1. Автор: Florian Gstrein,James M. Blackwell,Robert L. Bristol,Marie KRYSAK. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2019-10-03.

System and method for protecting optics from vacuum ultraviolet light

Номер патента: US20210149315A1. Автор: Matthew Derstine,Gildardo DELGADO,Evgeniia Butaeva,John Savee,Serguei Likhanski. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2021-05-20.

Measurement apparatus and method

Номер патента: US20210181081A1. Автор: Tatsushi Ohyama,Mariko Miyashita. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-17.

Photoacoustic measurement apparatus and probe

Номер патента: US20170360304A1. Автор: Atsushi Hashimoto,Kaku Irisawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-12-21.

Measurement apparatus and measurement method

Номер патента: US20200379112A1. Автор: Shinichi Hara,Yoshimasa Suzuki,Hiroki Ujihara. Владелец: Mitutoyo Corp. Дата публикации: 2020-12-03.

Apparatus and method for determining tree fall direction

Номер патента: US20200245571A1. Автор: Myer A. Kilinski. Владелец: Tree Felling Innovations LLC. Дата публикации: 2020-08-06.

Fluid circuit filling apparatus and method

Номер патента: EP3759398A1. Автор: Richard Cowley,Darren Wilkinson. Владелец: Vexo International UK Ltd. Дата публикации: 2021-01-06.

Fluid circuit filling apparatus and method

Номер патента: CA3092181A1. Автор: Richard Cowley,Darren Wilkinson. Владелец: Vexo International UK Ltd. Дата публикации: 2019-09-06.

Fluid circuit filling apparatus and method

Номер патента: AU2019226431A1. Автор: Richard Cowley,Darren Wilkinson. Владелец: Vexo International UK Ltd. Дата публикации: 2020-09-17.

Apparatus and method for generating system improvement data

Номер патента: US20240281747A1. Автор: Kenny Chapman. Владелец: Blue Collar Success Group. Дата публикации: 2024-08-22.

Printing apparatus and print method

Номер патента: US20200070544A1. Автор: Masaru Ohnishi. Владелец: MIMAKI ENGINEERING CO LTD. Дата публикации: 2020-03-05.

Steam generation apparatus and associated control system and methods for providing venting

Номер патента: US20150075629A1. Автор: Randall J. Davis,Charles F. Noll, JR.. Владелец: Skavis Corp. Дата публикации: 2015-03-19.

Quantum-limited extreme ultraviolet coherent diffraction imaging

Номер патента: US12085520B2. Автор: Bin Wang,Margaret Murnane,Henry C. Kapteyn,Chen-Ting Liao. Владелец: University of Colorado. Дата публикации: 2024-09-10.

Steam generation apparatus and associated control system and methods for providing a desired injection pressure

Номер патента: US20150075628A1. Автор: Randall J. Davis,Charles F. Noll, JR.. Владелец: Skavis Corp. Дата публикации: 2015-03-19.

Differential dark-field confocal microscopic measurement apparatus and method based on polarized vector light beam

Номер патента: US12111453B1. Автор: Jian Liu,Chenguang Liu,Zijie Hua,Chongliang Zou. Владелец: Harbin Institute of Technology. Дата публикации: 2024-10-08.

Metal vapour pressure detection apparatus and detection method

Номер патента: EP4439033A1. Автор: Fei Xiong,Yueming Zhou,Chunwei Zhang,Shanqing Li,Xiaoli Jin,Yiru WANG. Владелец: Baoshan Iron and Steel Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-02.

Differential dark-field confocal microscopic measurement apparatus and method based on polarized vector light beam

Номер патента: US20240310613A1. Автор: Jian Liu,Chenguang Liu,Zijie Hua,Chongliang Zou. Владелец: Harbin Institute of Technology. Дата публикации: 2024-09-19.

Imaging apparatus and imaging method

Номер патента: US09958388B2. Автор: Taro Imagawa. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-01.

Particle detection apparatus and particle detection method

Номер патента: US09958372B2. Автор: Yuho Matsuura. Владелец: Azbil Corp. Дата публикации: 2018-05-01.

Shape measurement apparatus and method

Номер патента: US09791266B2. Автор: Joong-Ki Jeong,Min-Young Kim,Seung-Jun Lee. Владелец: KOH YOUNG TECHNOLOGY INC. Дата публикации: 2017-10-17.

Shape measurement apparatus and method

Номер патента: US09739605B2. Автор: Joong-Ki Jeong,Min-Young Kim,Seung-Jun Lee. Владелец: KOH YOUNG TECHNOLOGY INC. Дата публикации: 2017-08-22.

Self-propelled floor apparatus and system having a bactericidal function

Номер патента: US09601007B2. Автор: Guy Thomas Duncan ASHWORTH. Владелец: Metapo Inc. Дата публикации: 2017-03-21.

Energy-storing and power-generating system and method for a vertical-axis wind generator

Номер патента: US09546642B2. Автор: Yunhe Deng. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-01-17.

Apparatus and method of improving air quality using photocatalytic oxidation

Номер патента: CA2755137C. Автор: Joseph DeAngelis,Dennis Neibrook,Frank Lockhart,Timothy Matt. Владелец: Marley Engineered Products LLC. Дата публикации: 2016-03-29.

Light generating system with cct-tunable laser

Номер патента: WO2024012927A1. Автор: Olexandr Valentynovych VDOVIN,Martinus Petrus Joseph Peeters. Владелец: SIGNIFY HOLDING B.V.. Дата публикации: 2024-01-18.

Pattern-forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using them and electronic device

Номер патента: EP2761372A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Takeshi Kawabata. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-08-06.

Pattern-forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using them and electronic device

Номер патента: WO2013047092A1. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Naoki Inoue. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-04-04.

Image collection apparatus, image collection system, image collection method, image generation apparatus, image generation system, image generation method, and program

Номер патента: US20210042571A1. Автор: Soma Shiraishi. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2021-02-11.

Machining failure detection device, laser cutting apparatus, and electric discharge machining apparatus

Номер патента: US20220147036A1. Автор: Masaki Seguchi,Kyohei ISHIKAWA,Teruaki Fukuoka. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2022-05-12.

Handheld, low-level laser apparatuses and methods for low-level laser beam production

Номер патента: EP3230783A1. Автор: Yonaton GERLITZ. Владелец: Medical Coherence LLC. Дата публикации: 2017-10-18.

Apparatus and method for recording holographic images of human subjects

Номер патента: US4474421A. Автор: Peter Nicholson. Владелец: Individual. Дата публикации: 1984-10-02.

Apparatus and processes for applying a coating to roll formed products

Номер патента: US20160263614A1. Автор: Stephen C. Linch. Владелец: Strong-Coat LLC. Дата публикации: 2016-09-15.

Hologram reproduction apparatus and hologram reproduction method

Номер патента: US20060153044A1. Автор: Nobuhiro Kihara,Kunihiko Hayashi. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2006-07-13.

Sunscreen detection apparatus and method

Номер патента: US20210102839A1. Автор: Xiaoyong Pan. Владелец: Beijing Youcai Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-08.

Steam generation apparatus and associated control system and methods for providing a desired injection pressure

Номер патента: US20160223189A1. Автор: Randall J. Davis,Charles F. Noll, JR.. Владелец: Skavis Corp. Дата публикации: 2016-08-04.

Steam generation apparatus and associated control system and methods for startup

Номер патента: US20160178189A1. Автор: Randall J. Davis,Charles F. Noll, JR.. Владелец: Skavis Corp. Дата публикации: 2016-06-23.

Handheld, low-level laser apparatuses and methods for low-level laser beam production

Номер патента: US09946082B2. Автор: Yonatan Gerlitz. Владелец: Medical Coherence LLC. Дата публикации: 2018-04-17.

Optical apparatus for skin treatment, method for controlling the optical apparatus, and method for skin treatment

Номер патента: US09821171B2. Автор: Kwang Chon Ko. Владелец: Lutronic Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Measuring apparatus and fluorescence measuring method

Номер патента: US09535007B2. Автор: Toshiyuki Hattori. Владелец: Olympus Corp. Дата публикации: 2017-01-03.

High-altitude wind power generation system with cycloidal turbine and motor-generator, and method of operating the same

Номер патента: US09422920B2. Автор: Seung Jo Kim,In Seong Hwang,Wang Gu Kang. Владелец: Korea Aerospace Research Institute KARI. Дата публикации: 2016-08-23.

Spectral purity filter, lithographic apparatus, and method for manufacturing a spectral purity filter.

Номер патента: NL2004787A. Автор: Wouter Soer,Martin Jak. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2011-01-04.

Light generating system

Номер патента: WO2024022943A1. Автор: Bianca Maria Irma Van Der Zande,Tobias BORRA,Rémy Cyrille BROERSMA,Marcel Petrus Lucassen. Владелец: SIGNIFY HOLDING B.V.. Дата публикации: 2024-02-01.

Euv collector inspection apparatus and inspection method

Номер патента: US20230108698A1. Автор: Matsuda Yozo,Minseok Choi,Dohyun Jung,Jeonggil KIM,Yoojin JEONG,Donghyub Lee,JongBin PARK,Eunhee Jeang,Wondon Joo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-04-06.

Pellicle for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: EP4075195A1. Автор: Hyeong Keun Kim,Seul Gi Kim,Hyun Mi Kim,Jin Woo Cho,Ki Hun Seong. Владелец: KOREA ELECTRONICS TECHNOLOGY INSTITUTE. Дата публикации: 2022-10-19.

Process for producing a reflective optical element for the extreme ultraviolet wavelength range and reflective optical element

Номер патента: US20230417961A1. Автор: Thomas Schicketanz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-12-28.

Apparatus and method for measuring phase of extreme ultraviolet (EUV) mask and method of fabricating EUV mask including the method

Номер патента: US11852583B2. Автор: Jongju Park,Raewon Yi,Hakseung Han,Seongsue Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-12-26.

Pattern forming method, electron beam- or extreme ultraviolet-sensitive resin composition, resist film using the same, method of manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US9612535B2. Автор: Shuji Hirano,Hiroo Takizawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-04-04.

Extreme ultraviolet lithography method, extreme ultraviolet mask and formation method thereof

Номер патента: US20230324804A1. Автор: BO-TSUN Liu,Chih-Tsung Shih,Yu-Hsun Wu,Tsung-Chuan LEE. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Extreme ultraviolet lithography device and method of operating extreme ultraviolet lithography device

Номер патента: US11960212B2. Автор: Chan Hwang,HyungJong BAE,Hoduk CHO,SeongBo Shim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-16.

Extreme ultraviolet pellicle with enhanced extreme ultraviolet transmission and method of producing thereof

Номер патента: WO2024072508A2. Автор: Takahiro Ueda,Marcio D. Lima,Sergey Li,Hooman RAHMANI. Владелец: Lintec Of America, Inc.. Дата публикации: 2024-04-04.

Extreme ultraviolet lithography device and method of operating extreme ultraviolet lithography device

Номер патента: EP4286942A2. Автор: Chan Hwang,HyungJong BAE,Hoduk CHO,SeongBo Shim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-12-06.

Extreme ultraviolet lithography device and method of operating extreme ultraviolet lithography device

Номер патента: US20230393484A1. Автор: Chan Hwang,HyungJong BAE,Hoduk CHO,SeongBo Shim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-12-07.

Extreme ultraviolet lithography process and mask

Номер патента: US20160306272A1. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-10-20.

Extreme ultraviolet mask blank production system with thin absorber and manufacturing system therefor

Номер патента: EP3167473A1. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-05-17.

Extreme Ultraviolet Mask Blank Production System With Thin Absorber And Manufacturing System Therefor

Номер патента: US20200058213A9. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-02-20.

Extreme ultraviolet mask blank production system with thin absorber and manufacturing system therefor

Номер патента: WO2016007610A1. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2016-01-14.

Extreme Ultraviolet Lithography Process and Mask

Номер патента: US20150098069A1. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-04-09.

Method of reducing undesired light influence in extreme ultraviolet exposure

Номер патента: US12013641B2. Автор: BO-TSUN Liu,Chih-Tsung Shih,Yahru CHENG,Tsung Chuan LEE,Chen-Ming Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-18.

Spectral filter for splitting a beam with electromagnetic radiation having wavelengths in the extreme ultraviolet (euv) or soft x-ray (soft x) and the infrared (ir) wavelength range

Номер патента: WO2012023853A1. Автор: Frederik Bijkerk,Frederik Albert Van Goor,Robert Van Der Meer,Antonius Johannes Ronald Van Den Boogaard. Владелец: UNIVERSITEIT TWENTE. Дата публикации: 2012-02-23.

Extreme ultraviolet pellicle with enhanced extreme ultraviolet transmission and method of producing thereof

Номер патента: WO2024072508A3. Автор: Takahiro Ueda,Marcio D. Lima,Sergey Li,Hooman RAHMANI. Владелец: Lintec Of America, Inc.. Дата публикации: 2024-05-16.

Extreme ultraviolet mask absorber materials

Номер патента: WO2020236883A1. Автор: Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-11-26.

Extreme ultraviolet (euv) substrate inspection system with simplified optics and method of manufacturing thereof

Номер патента: WO2015095621A1. Автор: Christopher Dennis Bencher,Christopher G. Talbot,Majeed A. Foad,John Christopher Moran. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2015-06-25.

Compounds and processes for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US20240002412A1. Автор: Thomas M. Cameron,David M. ERMERT. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-01-04.

Extreme ultraviolet mask absorber and processes for manufacture

Номер патента: WO2020132391A1. Автор: Wen Xiao,CHANG Ke,Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-06-25.

Apparatus and method with system error prediction

Номер патента: EP4361813A1. Автор: Minkyu Kim,Jae Hoon Kim,Seoung Bum Kim,Yoon Sang Cho,Ji Yoon Lee,Hun Seong Choi,Junyeon Lee,Byungwoo BANG,Uiseok Song,Han Sam Cho. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-01.

Extreme ultraviolet (EUV) multilayer defect compensation and EUV masks

Номер патента: US9052617B2. Автор: Alfred Wagner,Gregory R. McIntyre,Emily E. Gallagher. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2015-06-09.

Extreme ultraviolet (euv) mask absorber and method for forming the same

Номер патента: US20190227427A1. Автор: Jed H. Rankin,Lei Zhuang,Amr Y. Abdo. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2019-07-25.

Ultraviolet light irradiation system and ultraviolet light irradiation method

Номер патента: US20240216559A1. Автор: Kazuhide Nakajima,Takashi Matsui,Tomohiro Taniguchi,Chisato FUKAI,Yuto Sagae,Nobutomo Hanzawa,Satoshi NARIKAWA,Takahito KIRIHARA,Ayako IWAKI. Владелец: Nippon Telegraph and Telephone Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

Damascene extreme ultraviolet lithography (euvl) photomask and method of making

Номер патента: EP1412817A2. Автор: Pei-Yang Yan. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2004-04-28.

Extreme ultraviolet pellicles and method of manufacturing

Номер патента: US20240248391A1. Автор: Feng Q. Liu,Jeffrey W. Anthis,Mark Saly,Lakmal C. Kalutarage,Thomas Joseph Knisley,Nasrin Kazem. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-25.

Extreme ultraviolet lithography system

Номер патента: US12055865B2. Автор: Chi Yang,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Che-Chang Hsu,Ssu-Yu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Temperature control method, aerosol generation apparatus and aerosol generation system

Номер патента: US20220248769A1. Автор: Wenjie Lu,Xianglin Li,Jianghong QU,Bin NIE. Владелец: Shanghai New Tobacco Products Research Institute Co Ltd. Дата публикации: 2022-08-11.

Damascene extreme ultraviolet lithography (euvl) photomask and method of making

Номер патента: WO2003012546A3. Автор: Pei-Yang Yan. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2003-12-18.

Mask for extreme ultraviolet photolithography

Номер патента: US20210341829A1. Автор: Hsin-Chang Lee,Ta-Cheng Lien,Wen-Chang Hsueh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-11-04.

Correcting apparatus of extreme ultraviolet (euv) photomask and correcting method of euv photomask

Номер патента: US20220283512A1. Автор: Yongwoo Kim,Jongju Park,Sanguk Park,Jongkeun OH,Youngchang SEO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-09-08.

Apparatus and method of using an agricultural waste digester and biogas generation system

Номер патента: US20120135492A1. Автор: James E. STRAETER. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-05-31.

Nanotube-based pellicle for extreme ultraviolet lithography and related manufacturing method

Номер патента: US20240280893A1. Автор: Hyeong Keun Kim,Seul Gi Kim. Владелец: KOREA ELECTRONICS TECHNOLOGY INSTITUTE. Дата публикации: 2024-08-22.

Mask processing apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US12055857B2. Автор: Tae Hee Kim,Ji Hoon Jeong,Young Dae Chung,Tae Shin Kim,Young Eun JEON. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

High Heat Load Optics with Vibration Isolated Hoses in an Extreme Ultraviolet Lithography System

Номер патента: US20130323649A1. Автор: Douglas C. Watson,Travis BOW. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2013-12-05.

Multilayer extreme ultraviolet reflectors

Номер патента: US11762278B2. Автор: Wen Xiao,Vibhu Jindal,Herng Yau Yoong. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-19.

Extreme ultraviolet mask blank with multilayer absorber and method of manufacture

Номер патента: US11754917B2. Автор: Vibhu Jindal. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-12.

Inspection tool for an extreme ultraviolet radiation source to observe tin residual

Номер патента: US12066761B2. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Cheng-Hsuan Wu,Cheng-Hao Lai,Sheng-Kang Yu,Yu-Huan Chen,Wei-Chun YEN,Yu-Kuang SUN,Ming-Hsun Tsai,Wei-Shin CHENG,Chiao-Hua Cheng,Yu-Fa LO. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Extreme ultraviolet pellicles and method of manufacturing

Номер патента: WO2024155654A1. Автор: Feng Q. Liu,Jeffrey W. Anthis,Mark Saly,Lakmal C. Kalutarage,Thomas Joseph Knisley,Nasrin Kazem. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-07-25.

Extreme ultraviolet mask absorber materials

Номер патента: WO2020236886A1. Автор: Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-11-26.

Extreme Ultraviolet Mask Blank Structure

Номер патента: US20220252971A1. Автор: SHIYU Liu,Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-08-11.

Multiple Exposures in Extreme Ultraviolet Lithography

Номер патента: US20140272720A1. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2014-09-18.

Measuring apparatus and film formation method

Номер патента: US20020164829A1. Автор: Toru Otsubo,Tatehito Usui. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2002-11-07.

Apparatus and method of using an agricultural waste digester and biogas generation system

Номер патента: US20110256603A1. Автор: James E. STRAETER. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-10-20.

Cbc light strip structure capable of guiding ultraviolet light

Номер патента: US20240052151A1. Автор: Chien Cheng Chen,Ying Tsung Fan. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-02-15.

Ultraviolet light fluid treatment device

Номер патента: US20240150201A1. Автор: Shunsuke Miyajima. Владелец: Nichia Corp. Дата публикации: 2024-05-09.

Extreme ultraviolet mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US20240280889A1. Автор: SunPyo LEE,Minchang KIM,Yoontaek Han. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Phase shift mask for extreme ultraviolet lithography and a method of manufacturing a semiconductor device using the same

Номер патента: US12099293B2. Автор: Seongsue Kim,Changyoung Jeong,Hwanseok SEO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-24.

Novel design of an inspection tool for an extreme ultraviolet radiation source to observe tin residual

Номер патента: US20240361701A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Cheng-Hsuan Wu,Cheng-Hao Lai,Sheng-Kang Yu,Yu-Huan Chen,Wei-Chun YEN,Yu-Kuang SUN,Ming-Hsun Tsai,Wei-Shin CHENG,Chiao-Hua Cheng,Yu-Fa LO. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Extreme ultraviolet photolithography method with infiltration for enhanced sensitivity and etch resistance

Номер патента: US12111576B2. Автор: Christine Y OUYANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-08.

Extreme ultraviolet lithography system

Номер патента: US20240353766A1. Автор: Chi Yang,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Che-Chang Hsu,Ssu-Yu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Extreme ultraviolet lithography method using robust, high transmission pellicle

Номер патента: US12055855B2. Автор: Yun-Yue Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Hardware apparatuses and methods to prefetch a multidimensional block of elements from a multidimensional array

Номер патента: US09996350B2. Автор: Victor Lee,Alexander Heinecke,Mikhail Smelyanskiy. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2018-06-12.

Extreme ultraviolet lithography photomasks

Номер патента: US09946152B2. Автор: Jed H. Rankin,Zhengqing John QI,Christina A. Turley. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2018-04-17.

Extreme ultraviolet (EUV) substrate inspection system with simplified optics and method of manufacturing thereof

Номер патента: US09915621B2. Автор: Christopher Dennis Bencher,Christopher G. Talbot,Majeed A. Foad,John Christopher Moran. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-03-13.

Method providing for asymmetric pupil configuration for an extreme ultraviolet lithography process

Номер патента: US09886543B2. Автор: Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen,Norman Chen,Chih-Tsung Shih,Chia-Chun Chung. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Touch-sensing apparatus and a method for enabling control of a touch-sensing apparatus by an external device

Номер патента: US09817514B2. Автор: Mats Petter Wallander,Ivan KARLSSON,Mattias KRUS. Владелец: FLATFROG LABORATORIES AB. Дата публикации: 2017-11-14.

Optical measurement apparatus and optical measurement method

Номер патента: US12140523B2. Автор: Sunah PARK,Hyunjung Choi,Hyunok KIM,Juhyun Park,Jua Ryu,Deokhyeon Kwon,KiDoo Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-11-12.

Extreme ultraviolet capping layer and method of manufacturing and lithography thereof

Номер патента: US09739913B2. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Cara Beasley,Rudy Beckstrom, III. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-08-22.

Extreme ultraviolet lithography process and mask

Номер патента: US09690186B2. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Extreme ultraviolet lithography process to print low pattern density features

Номер патента: US09535334B2. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-01-03.

Extreme ultraviolet lithography process and mask

Номер патента: US09529249B2. Автор: Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen,Chih-Tsung Shih. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-12-27.

Sub-wavelength extreme ultraviolet metal transmission grating and manufacturing method thereof

Номер патента: US09442230B2. Автор: Ming Liu,Xiaoli Zhu,Dongmei Li,Changqing Xie,Hailiang Li,Lina Shi. Владелец: Institute of Microelectronics of CAS. Дата публикации: 2016-09-13.

Process for producing a reflective optical element for the extreme ultraviolet wavelength range and reflective optical element

Номер патента: EP4308981A1. Автор: Thomas Schicketanz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-01-24.

Pattern forming method, method for selecting heating temperature in pattern forming method, extreme ultraviolet-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using the same, and electronic device

Номер патента: US20150017576A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Naoki Inoue. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-01-15.

Hand-drying apparatus and hand-drying system

Номер патента: EP4238466A1. Автор: Akira Shiga,Takaki Kobayashi,Hideaki Kashiwabara,Koshiro Takano,Shigeyuki Nagata,Yohei ASAHI,Eigo Shimizu,Kenji Sawabe,Manabu Fukano. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2023-09-06.

Protective support for joints and extremities

Номер патента: US11771579B2. Автор: Michael Princip. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-10-03.

Extreme ultraviolet lithography device and method of operating extreme ultraviolet lithography device

Номер патента: EP4286942A3. Автор: Chan Hwang,HyungJong BAE,Hoduk CHO,SeongBo Shim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-12-13.

Multilayer graphene direct growth method and method for manufacturing pellicle for extreme ultraviolet lithography using the same

Номер патента: EP4002007A1. Автор: Hyeong Keun Kim,Seul Gi Kim,Hye Young Kim,Hyun Mi Kim. Владелец: KOREA ELECTRONICS TECHNOLOGY INSTITUTE. Дата публикации: 2022-05-25.

Controlled dose delivery of ultraviolet light for treating skin disorders

Номер патента: WO2002055149A3. Автор: Dean S. Irwin. Владелец: PHOTOMEDEX. Дата публикации: 2002-12-27.

Laser apparatus and laser machining method

Номер патента: US20230201969A1. Автор: Sung Yong Lee,Gyoo Wan HAN,Toshinaru Suzuki,Seung Ho MYOUNG,Gyeong Hee HAN. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Photocatalytic structure capable of uniformizing ultraviolet light

Номер патента: AU2022202481B2. Автор: Zhihong Zheng,Junhuang Zhuang. Владелец: Shenzhen Yitoa Intelligent Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Photocatalytic structure capable of uniformizing ultraviolet light

Номер патента: US20230233733A1. Автор: Zhihong Zheng,Junhuang Zhuang. Владелец: Shenzhen Yitoa Intelligent Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-27.

Photocatalytic structure capable of uniformizing ultraviolet light

Номер патента: AU2022202481A1. Автор: Zhihong Zheng,Junhuang Zhuang. Владелец: Shenzhen Yitoa Intelligent Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Ultraviolet light irradiation system and decontamination method

Номер патента: US20230270898A1. Автор: Kazuhide Nakajima,Kazutaka Hara,Takashi Matsui,Tomohiro Taniguchi,Chisato FUKAI,Yuto Sagae,Nobutomo Hanzawa,Atsuko Kawakita,Ayako IWAKI. Владелец: Nippon Telegraph and Telephone Corp. Дата публикации: 2023-08-31.

Ultraviolet light measuring chip and ultraviolet light sensor using the same

Номер патента: US20010027926A1. Автор: Takeshi Nishida,Kazuyoshi Mori,Hideaki Hashimoto. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-10-11.

Ultraviolet light-emitting faucet

Номер патента: US20210300791A1. Автор: Wen-Shun Huang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-09-30.

Wind power generation system, method of using wind power generation apparatus, and building in which wind power generation apparatus is installed

Номер патента: EP4431724A1. Автор: Yusuke Otake,Daisuke Kawaguchi,Kinya Nakatsu. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2024-09-18.

Apparatus and method for quantitative evaluation of braze bonding length with use of radiation

Номер патента: US20160265909A1. Автор: Fumio Sato,Hideyuki Nakamura,Shigeru Harada,Satoru Asai,Akio Sumita,Kazuya Segawa,Makoto Takanezawa,Tooru Ootaka,Ryosuke OHIRABARU. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-09-15.

Ultraviolet light-based inspection for detecting coating defects in manufactured webs using fluorescing agents

Номер патента: US12092585B2. Автор: Steven P. Floeder,Jason P. Smith. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2024-09-17.

Wind power generation system, method of using wind power generation apparatus, and building in which wind power generation apparatus is installed

Номер патента: US20240309844A1. Автор: Yusuke Otake,Daisuke Kawaguchi,Kinya Nakatsu. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2024-09-19.

Aerosol generating system

Номер патента: US20240284964A1. Автор: Marco FALK. Владелец: Imperial Tobacco Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Ultraviolet light sanitizing method and apparatus

Номер патента: WO2010054065A1. Автор: Bruce C. Armstrong,Kenneth A. Stanley,Thomas F. Ruggirello,Troy Daniel Smith,Kennet A. Stanley, Jr.. Владелец: Science And Light Technology Inc.. Дата публикации: 2010-05-14.

A chamber, for use in a fluid sterilisation unit, configured to contain the light emitted by an ultraviolet light source

Номер патента: GB2628096A. Автор: FISHER James,HODDINOTT Rhydian. Владелец: Biozone Scientific Group Ltd. Дата публикации: 2024-09-18.

Ultraviolet light sensing circuit and sensing system

Номер патента: US09983054B2. Автор: Wenjie Li,Shengdong Zhang,Zhijin Hu,Congwei Liao,Junmei LI. Владелец: Peking University Shenzhen Graduate School. Дата публикации: 2018-05-29.

Apparatus and method for quantitative evaluation of braze bonding length with use of radiation

Номер патента: US09841279B2. Автор: Fumio Sato,Hideyuki Nakamura,Shigeru Harada,Satoru Asai,Akio Sumita,Kazuya Segawa,Makoto Takanezawa,Tooru Ootaka,Ryosuke OHIRABARU. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-12-12.

Reflective ultraviolet light shield for a HVAC unit

Номер патента: US09726388B2. Автор: Rakesh Goel,Randy Lisbona. Владелец: Lennox Industries Inc. Дата публикации: 2017-08-08.

Temperature measurement method for ultraviolet light transmittance member, temperature measurement device for ultraviolet light transmittance member, and light source device

Номер патента: US09671290B2. Автор: Masafumi Mizuguchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-06-06.

Laser apparatus and laser machining method

Номер патента: US12128503B2. Автор: Sung Yong Lee,Gyoo Wan HAN,Toshinaru Suzuki,Seung Ho MYOUNG,Gyeong Hee HAN. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Sensory-and-logic system and method having ultraviolet light estimation from visible light

Номер патента: US09360364B2. Автор: Jeremy J. Lees,Vinod L. Hingorani,Ryna Karnik. Владелец: Microsoft Technology Licensing LLC. Дата публикации: 2016-06-07.

Apparatus for disinfection treatment of fluid medium by exposing fluid medium to ultraviolet light

Номер патента: RU2565684C2. Автор: Георг ГРОЙЕЛЬ,Ева МОНДТ,Эйнте ХОЛВЕРДА,Дайю ХАЯСИ. Владелец: КОНИНКЛЕЙКЕ ФИЛИПС ЭЛЕКТРОНИКС Н.В.. Дата публикации: 2015-10-20.

Downhole light generating systems and methods of use

Номер патента: CA2561668C. Автор: Sarmad Adnan,Michael G. Gay,Michael K. Kenison. Владелец: Schlumberger Canada Ltd. Дата публикации: 2009-08-11.

Apparatus and method for non-contact detection of hydrocarbon and other fluorescence materials on a surface

Номер патента: WO2023081937A2. Автор: JianFeng Zhang,Jurgen ZACH. Владелец: Clearview Sensing, Inc.. Дата публикации: 2023-05-11.

Ultraviolet therapy apparatus and method for applying ultraviolet light using ultraviolet therapy apparatus

Номер патента: US20240058618A1. Автор: Hiroshi Shibata,Takashi Horio,Akimichi Morita,Tomohiko KIO. Владелец: NAGOYA CITY UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-02-22.

Apparatus and method for non-contact detection of hydrocarbon and other fluorescence materials on a surface

Номер патента: WO2023081937A8. Автор: JianFeng Zhang,Jurgen ZACH. Владелец: Clearview Sensing, Inc.. Дата публикации: 2023-09-07.

Apparatus and method for non-contact detection of hydrocarbon and other fluorescence materials on a surface

Номер патента: WO2023081937A3. Автор: JianFeng Zhang,Jurgen ZACH. Владелец: Clearview Sensing, Inc.. Дата публикации: 2023-10-05.

Water generation system for a vehicle that implements sanitization by ultraviolet light

Номер патента: US20220169538A1. Автор: Douglas Raymond Martin,James George Gebbie,John P. CASCI,Robert D. Bedard,James Alan Acre. Владелец: FORD GLOBAL TECHNOLOGIES LLC. Дата публикации: 2022-06-02.

Light generating system providing uv light

Номер патента: EP4381231A1. Автор: Ties Van Bommel,Rifat Ata Mustafa Hikmet. Владелец: Signify Holding BV. Дата публикации: 2024-06-12.

Virtual integrated remote assistant apparatus and methods

Номер патента: EP4392982A1. Автор: Annmarie Hipsley,Griffin Peter THOMAS. Владелец: Ace Vision Group Inc. Дата публикации: 2024-07-03.

Artificial tooth molding apparatus and method

Номер патента: EP3741324A1. Автор: Hag Dong YU. Владелец: Aon Co Ltd. Дата публикации: 2020-11-25.

Pure water production system and ultraviolet light irradiation unit

Номер патента: US20210363045A1. Автор: Jun Saito,Miki Yoshida,Ken JOU. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2021-11-25.

Ballast water treatment apparatus and ballast water management system

Номер патента: US20150225257A1. Автор: Hiroki Inoue,Kenichiro Miyatake,Ryoji Harada. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2015-08-13.

Wearable ultraviolet light phototherapy device

Номер патента: WO2019067808A2. Автор: Robert M. Kennedy,Faris Mills Morrison Estes. Владелец: SENSOR ELECTRONIC TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2019-04-04.

Light probe for ultraviolet light activated gene transduction

Номер патента: EP1590038A2. Автор: Michael Maloney,Ph.D. Edward M. Schwarz,M.D. Paul T. Rubery,Ph.D. Thomas H. Foster. Владелец: UNIVERSITY OF ROCHESTER. Дата публикации: 2005-11-02.

Far Ultraviolet Light Application Device

Номер патента: US20220226669A1. Автор: Joseph McQuirter, SR.. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-07-21.

Biological information measurement apparatus and biological information measurement system

Номер патента: US20240310279A1. Автор: Ayae SAWADO. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2024-09-19.

Ultraviolet light fluid treatment device

Номер патента: US20240316234A1. Автор: Masahiro Imai,Hiroki Sano,Masaaki Miyazawa,Katsuyuki Onozuka. Владелец: Nichia Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Defect inspection apparatus and defect inspection method

Номер патента: US20240337603A1. Автор: Yoshito Ozaki,Shota FUJIKI. Владелец: Lasertec Corp. Дата публикации: 2024-10-10.

Ballast water treatment apparatus and ballast water management system

Номер патента: US09908793B2. Автор: Hiroki Inoue,Kenichiro Miyatake,Ryoji Harada. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2018-03-06.

Chemical sensor, chemical sensor module, chemical detection apparatus, and chemical detection method

Номер патента: US09618457B2. Автор: Masanori Iwasaki,Nobuyuki Matsuzawa,Kensaku Maeda,Yusuke Moriya. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2017-04-11.

Measurement apparatus and measurement method

Номер патента: US09594023B2. Автор: Sakuya Tamada. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2017-03-14.

Communication system of ultra-low frequency and extremely-frequency range with deep-seated and remote objects - 6

Номер патента: RU2626070C1. Автор: Виктор Ефимович Пониматкин,Василий Александрович Майоров,Вячеслав Леонидович Евстратов,Александр Александрович Кужелев,Евгений Владимирович Романченко. Владелец: Федеральное государственное казенное военное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Военный учебно-научный центр Военно-Морского флота "Военно-Морская академия" имени адмирала флота Советского Союза Н.Г. Кузнецова". Дата публикации: 2017-07-21.

Grease lubricant with improved anti-wear and extreme pressure properties and preparation method thereof

Номер патента: RU2586686C2. Автор: Александр Васильевич Нестеров,Виктор Васильевич Кириллов,Наталья Владимировна Окнина. Владелец: Открытое Акционерное Общество "Электрогорский Институт Нефтепереработки" (Оао "Элинп"). Дата публикации: 2016-06-10.

A beam line for a source of extreme ultraviolet (euv) radiation

Номер патента: WO2011116897A1. Автор: Franz Dieterich,Reza Abhari,Andrea Giovannini. Владелец: ETH Zurich. Дата публикации: 2011-09-29.

Method of grain crops adaptation in vegetation process to adverse and extreme environment factors by combined use of phytogormonms

Номер патента: RU2645329C1. Автор: Людмила Петровна Воронина,Екатерина Викторовна Морачевская. Владелец: Людмила Петровна Воронина. Дата публикации: 2018-02-21.

Exposure apparatus and method, measuring apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US20060210911A1. Автор: Akiyoshi Suzuki,Seiji Takeuchi,Kenji Yamazoe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-09-21.

An extreme ultraviolet lithography process

Номер патента: KR101485669B1. Автор: 옌-쳉 루,쉰-쉥 유,앤소니 옌. Владелец: 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드. Дата публикации: 2015-01-22.

Tubing hanger for temperature variations and extremes

Номер патента: CA1092509A. Автор: Delbert E. Vanderford. Владелец: Cameron Iron Works Inc. Дата публикации: 1980-12-30.

Extreme ultraviolet microscope

Номер патента: US20080266654A1. Автор: Arno Jan Bleeker,Vadim Yevgenyevich Banine,Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen,Frank Jeroen Pieter Schuurmans,Vladimir Vitalevich Ivanov,Vladimir Mihailòvitch Krivtsun,Konstantin Nikolaevich Koshelev. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2008-10-30.

Four-mirror extreme ultraviolet (EUV) lithography projection system

Номер патента: US6142641A. Автор: David R Shafer,Simon J Cohen,Hwan J Jeong. Владелец: Ultratech Inc. Дата публикации: 2000-11-07.

Illumination system for shaping extreme ultraviolet radiation used in a lithographic projection apparatus

Номер патента: US6498351B1. Автор: Borgert Kruizinga,Isabel Escudero Sanz. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2002-12-24.

Extreme ultraviolet mask absorber materials

Номер патента: WO2020236887A1. Автор: Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-11-26.

Method of making silica-titania extreme ultraviolet elements

Номер патента: US20030226377A1. Автор: Bradley Bowden,Claude Davis,Kenneth Hrdina,Michael Robinson,W. Barrett,John Wight,Michael Wasilewski. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2003-12-11.

Extreme ultraviolet mask with capping layer

Номер патента: KR20230076087A. Автор: 신-창 리,타-쳉 리엔,핑-순 린,페이-쳉 수,웨이-하오 리,칭-팡 유. Владелец: 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드. Дата публикации: 2023-05-31.

Mask for extreme ultraviolet photolithography

Номер патента: US11815805B2. Автор: Hsin-Chang Lee,Ta-Cheng Lien,Wen-Chang Hsueh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-14.

Pellicle for extreme ultraviolet lithography based on yttrium carbide

Номер патента: US11927881B2. Автор: Hyeong Keun Kim,Seul Gi Kim,Hyun Mi Kim,Jin Woo Cho,Ki Hun Seong. Владелец: KOREA ELECTRONICS TECHNOLOGY INSTITUTE. Дата публикации: 2024-03-12.

Extreme ultraviolet mask absorber materials

Номер патента: WO2021150556A1. Автор: Wen Xiao,Vibhu Jindal,Azeddine Zerrade,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-07-29.

Ultraviolet therapy apparatus and method for applying ultraviolet light using ultraviolet therapy apparatus

Номер патента: US20240115873A1. Автор: Hiroshi Shibata,Takashi Horio,Akimichi Morita,Tomohiko KIO. Владелец: NAGOYA CITY UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-04-11.

Extreme Ultraviolet Lithography Process and Mask

Номер патента: US20140272679A1. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2014-09-18.

Extreme Ultraviolet Lithography Process and Mask

Номер патента: US20150346596A1. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-12-03.

Extreme ultraviolet mask blank defect reduction

Номер патента: US11789358B2. Автор: Wen Xiao,Sanjay Bhat,Weimin Li,Vibhu Jindal,Azeddine Zerrade. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-17.

Extreme ultraviolet photomask and method for fabricating the same

Номер патента: US20180284596A1. Автор: Yu-Cheng Tung,En-Chiuan Liou. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2018-10-04.

Multilayer extreme ultraviolet reflectors

Номер патента: WO2023038840A1. Автор: Wen Xiao,Vibhu Jindal,Herng Yau Yoong. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-03-16.

System and method for cleaning optical surfaces of an extreme ultraviolet optical system

Номер патента: EP2969272A1. Автор: Rudy Garcia,Mohammed Tahmassebpur,Gildardo DELGADO,Francis C. Chilese,Salam Harb. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2016-01-20.

System and method for cleaning optical surfaces of an extreme ultraviolet optical system

Номер патента: WO2014152067A1. Автор: Rudy Garcia,Mohammed Tahmassebpur,Gildardo DELGADO,Francis C. Chilese,Salam Harb. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2014-09-25.

Apparatuses and methods for treating periimplantitis using uvc

Номер патента: WO2022217119A1. Автор: Robert J. Smith,William E. Brown. Владелец: BIOLASE, Inc.. Дата публикации: 2022-10-13.

Extreme ultraviolet mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US11774844B2. Автор: BO-TSUN Liu,Shih-Chi Fu,Chih-Tsung Shih,Tsung-Chih Chien,Tsung Chuan LEE,Chi-Hua FU,Kuotang CHENG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Method for manufacturing pellicle for extreme ultraviolet lithography having graphene defect healing layer

Номер патента: US11789359B2. Автор: Hyeong Keun Kim,Seul Gi Kim,Hyun Mi Kim,Jin Woo Cho,Jun Hyeok JEON. Владелец: KOREA ELECTRONICS TECHNOLOGY INSTITUTE. Дата публикации: 2023-10-17.

Phase-shift mask for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US20180143527A1. Автор: Roman Chalykh,Taehoon Lee,Seongsue Kim,Hwanseok SEO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-05-24.

Extreme ultraviolet mask with tantalum base alloy absorber

Номер патента: US11852965B2. Автор: Hsin-Chang Lee,Pei-Cheng Hsu,Ta-Cheng Lien. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Extreme ultraviolet mask absorber materials

Номер патента: US11860533B2. Автор: SHIYU Liu,Vibhu Jindal,Azeddine Zerrade,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-02.

Multilayer extreme ultraviolet reflector materials

Номер патента: US11815803B2. Автор: Wen Xiao,Vibhu Jindal,Binni VARGHESE. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-14.

Extreme ultraviolet mask blank structure

Номер патента: WO2022173777A1. Автор: SHIYU Liu,Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-08-18.

Extreme ultraviolet mask with capping layer

Номер патента: US20230161241A1. Автор: Ching-Fang Yu,Hsin-Chang Lee,Pei-Cheng Hsu,Ta-Cheng Lien,Ping-Hsun LIN,Wei-Hao Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-05-25.

Extreme ultraviolet masks having annealed light-absorptive borders and associated fabrication methods

Номер патента: US20130029253A1. Автор: Lei Sun,Pawitter Mangat,Oleg Kritsun. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2013-01-31.

Extreme Ultraviolet Lithography Process and Mask

Номер патента: US20140268091A1. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2014-09-18.

Extreme ultraviolet (euv) multilayer defect compensation and euv masks

Номер патента: US20140272687A1. Автор: Alfred Wagner,Gregory R. McIntyre,Emily E. Gallagher. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2014-09-18.

Multilayer extreme ultraviolet reflectors

Номер патента: US11782337B2. Автор: Wen Xiao,Vibhu Jindal,Herng Yau Yoong. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-10.

Colorimetric device, image forming apparatus, and calibration method

Номер патента: US20230401405A1. Автор: Tatsuya Ishii,Rie Suzuki. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Apparatuses and methods for treating periimplantitis using uvc

Номер патента: EP4319683A1. Автор: Robert J. Smith,William E. Brown. Владелец: Biolase Inc. Дата публикации: 2024-02-14.

Extreme ultraviolet mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US20230359115A1. Автор: Yun-Yue Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-09.

Extreme ultraviolet mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US11789355B2. Автор: Yun-Yue Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Apparatus And Method For Combined Use Of Two Independent Monoculars

Номер патента: US20230333362A1. Автор: Aliaksandr Alsheuski,Vladimir Dasiukevich. Владелец: Yukon Advanced Optics Worldwide UAB. Дата публикации: 2023-10-19.

Extreme ultraviolet photomask and method for fabricating the same

Номер патента: US10571796B2. Автор: Yu-Cheng Tung,En-Chiuan Liou. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2020-02-25.

Color-light generation system and method of using the same

Номер патента: US11934014B1. Автор: Jin-cherng Hsu. Владелец: FU JEN CATHOLIC UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-03-19.

Extreme ultraviolet capping layer and method of manufacturing and lithography thereof

Номер патента: MY182792A. Автор: Ralf Hofmann,Cara Beasley,Majeed A Foad,Iii Rudy Beckstrom. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-02-05.

Extreme ultraviolet mask absorber materials

Номер патента: US20220236634A1. Автор: SHIYU Liu,Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-07-28.

Extreme ultraviolet mask absorber materials

Номер патента: WO2020236888A1. Автор: Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-11-26.

Extreme ultraviolet (euv) mask for lithography and associated methods

Номер патента: US20190163048A1. Автор: No-Young Chung,Woon-hyuk CHOI. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-05-30.

Colorimetric device, image forming apparatus, and calibration method

Номер патента: US11893429B2. Автор: Tatsuya Ishii,Rie Suzuki. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-06.

Phase shift masks for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US11774846B2. Автор: Dongwan Kim,Seongsue Kim,Hwanseok SEO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-10-03.

Extreme ultraviolet mask absorber materials

Номер патента: US20200249559A1. Автор: Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-08-06.

Compounds and processes for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: WO2024006453A1. Автор: Thomas M. Cameron,David M. ERMERT. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2024-01-04.

Robust, high transmission pellicle for extreme ultraviolet lithography systems

Номер патента: US20210132490A1. Автор: Yun-Yue Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-05-06.

Wave-front aberration metrology of extreme ultraviolet mask inspection systems

Номер патента: EP3973355A1. Автор: Rui-Fang Shi,Qiang Zhang,Dmitriy ZUSIN. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2022-03-30.

Photomask for extreme ultraviolet

Номер патента: US20230305382A1. Автор: Tae Young Kim,Inkyun Shin,Sung Hoon Son,Min Gyo Jeong,GeonGon LEE,Seong Yoon Kim. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Extreme ultraviolet lithography method using robust, high transmission pellicle

Номер патента: US20230251566A1. Автор: Yun-Yue Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Extreme ultraviolet mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US20230367195A1. Автор: BO-TSUN Liu,Shih-Chi Fu,Chih-Tsung Shih,Tsung-Chih Chien,Tsung Chuan LEE,Chi-Hua FU,Kuotang CHENG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Apparatuses and methods for treating periimplantitis using uvc

Номер патента: US20220323786A1. Автор: Robert J. Miller,William E. Brown. Владелец: Biolase Inc. Дата публикации: 2022-10-13.

Apparatuses and methods for treating periimplantitis using uvc

Номер патента: CA3214758A1. Автор: Robert J. Smith,William E. Brown. Владелец: Biolase Inc. Дата публикации: 2022-10-13.

Extreme ultraviolet capping layer and method of manufacturing and lithography thereof

Номер патента: EP3167472A1. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Cara Beasley,Rudy BECKSTROM III. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-05-17.

Extreme ultraviolet capping layer and method of manufacturing and lithography thereof

Номер патента: WO2016007394A1. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Cara Beasley,Rudy BECKSTROM III. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2016-01-14.

Extreme ultraviolet lithography photomasks

Номер патента: US20170315438A1. Автор: Jed H. Rankin,Zhengqing John QI,Christina A. Turley. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-11-02.

Colorimetric device, image forming apparatus, and calibration method

Номер патента: EP4293329A1. Автор: Tatsuya Ishii,Rie Suzuki. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-20.

Extreme ultraviolet lithography system

Номер патента: US20210033983A1. Автор: Chi Yang,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Che-Chang Hsu,Ssu-Yu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-02-04.

Color-light generation system and method of using the same

Номер патента: WO2024092527A1. Автор: Jin-cherng Hsu. Владелец: FU JEN CATHOLIC UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-05-10.

Extreme ultraviolet (euv) mask and manufacturing method thereof

Номер патента: US20240126161A1. Автор: SunPyo LEE,Euihan Jung,Sungwoo JANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-18.

Information processing apparatus and method of controlling information processing apparatus

Номер патента: US20220362418A1. Автор: Tatsuya Ogawa,Tsutomu Kubota,Tsunahito Nakashita,Hidetaka Tabuchi,Motoki Koshigaya. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-11-17.

Extreme ultraviolet (euv) photomask

Номер патента: US20230400758A1. Автор: Jeonghyun Kim,Sangjin Kim,Jihun Lee,Yigwon Kim,Jinhee Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-12-14.

Multilayer extreme ultraviolet reflectors

Номер патента: WO2022266057A1. Автор: Wen Xiao,Vibhu Jindal,Herng Yau Yoong. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-12-22.

Extreme ultraviolet mask with tantalum base alloy absorber

Номер патента: US20240192581A1. Автор: Hsin-Chang Lee,Pei-Cheng Hsu,Ta-Cheng Lien. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Extreme ultraviolet reflectometer with rotating grating monochrometer

Номер патента: WO2006080909A1. Автор: James H. Underwood,Rupert C. C. Perrera,Phillip J. Batson. Владелец: Batson Phillip J. Дата публикации: 2006-08-03.

Damascene extreme ultraviolet lithography (euvl) photomask and method of making

Номер патента: WO2003012546A2. Автор: Pei-Yang Yan. Владелец: Intel Corporation (A Delaware Corporation). Дата публикации: 2003-02-13.

Extreme Ultraviolet Mask Absorber Materials

Номер патента: US20220221783A1. Автор: SHIYU Liu,Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-07-14.

Mask for Extreme-Ultraviolet (Extreme-UV) Lithography and Method for Manufacturing the Same

Номер патента: US20190155138A1. Автор: Jae Uk Lee,Ryan Ryoung Han Kim. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2019-05-23.

Extreme Ultraviolet Photolithography Method with Infiltration for Enhanced Sensitivity and Etch Resistance

Номер патента: US20210080832A1. Автор: Christine Y OUYANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-03-18.

Phase shift masks for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US20230018819A1. Автор: Dongwan Kim,Seongsue Kim,Hwanseok SEO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-01-19.

Extreme ultraviolet mask with backside coating

Номер патента: WO2020086932A1. Автор: Vikash Banthia,Madhavi R. Chandrachood,Vibhu Jindal. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-04-30.

Pellicle film including graphite-containing thin film for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US20180259847A1. Автор: Seul-Gi Kim,Sang-Jin Cho,Mun Ja KIM,Ji-Beom Yoo,Myung-shik CHANG,Jang-dong You. Владелец: Fine Semitech Corp. Дата публикации: 2018-09-13.

A NOVEL METHOD FOR Circ RNA BIOMARKER IDENTIFICATION BASED ON DEEP AUTOENCODER AND EXTREME GRADIENT BOOSTING

Номер патента: AU2021106213A4. Автор: Jereesh A. S.,Deepthi K.. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-11-25.

Ultraviolet light absorbers

Номер патента: US20070100031A1. Автор: Ramanathan Ravichandran,Robert Detlefsen,Joseph Suhadolnik,Anthony Debellis,Rong Xiong,Mervin Wood,Andrew Naughton,Deborah Judd,Joseph Babiarz,Stephen Pastor. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-05-03.

Gene of enzyme reactivating dna damaged by ultraviolet light using visible light

Номер патента: US20050074766A1. Автор: Kazuo Yamamoto,Tadashi Kumagai,Jun Hidema,Atsuhisa Hirouchi. Владелец: JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY. Дата публикации: 2005-04-07.

Gene of enzyme reactivating DNA damaged by ultraviolet light using visible light

Номер патента: US7205149B2. Автор: Kazuo Yamamoto,Tadashi Kumagai,Jun Hidema,Atsuhisa Hirouchi. Владелец: JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY. Дата публикации: 2007-04-17.

Ultraviolet light permeable filter for flaw detection light and method for detection of flaws

Номер патента: US6563126B1. Автор: Masami Motoyama. Владелец: Marktec Corp. Дата публикации: 2003-05-13.

Ultraviolet light absorber and cosmetic material using the same

Номер патента: US20140112876A1. Автор: Haruki Eguchi,Kenji FUCHIGAMI. Владелец: IHI Corp. Дата публикации: 2014-04-24.

Apparatus for curing an ultraviolet light curable repair material

Номер патента: WO2001022432A1. Автор: Borje Persson,Philip John De Rosa. Владелец: Thames Water Services Limited. Дата публикации: 2001-03-29.

Print head, image forming apparatus and light emitting device

Номер патента: US20180074429A1. Автор: Koji Tanimoto. Владелец: Toshiba TEC Corp. Дата публикации: 2018-03-15.

Optical information recording/reproducing apparatus and optical pickup apparatus

Номер патента: US20030021197A1. Автор: Noriaki Nishi. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2003-01-30.

Convective polymerase chain reaction apparatus and optical detecting method thereof

Номер патента: US20230201840A1. Автор: Shih-Bin Luo,Chun-Chuan Lin,Ping-Jung Wu,Ruey-Shyan HONG,Chien-Chih Kuo,Hsiao-Yue Tsao,Ting-Hsuan Chen,Kuo-Hsing Wen. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2023-06-29.

Ultraviolet light permeable filter for flaw detection light, and method for detection of flaws

Номер патента: US6525315B1. Автор: Masami Motoyama. Владелец: Marktec Corp. Дата публикации: 2003-02-25.

Ultraviolet light detection device

Номер патента: US20080068143A1. Автор: Makiko Sugiura. Владелец: Denso Corp. Дата публикации: 2008-03-20.

Ultraviolet light permeable filter for flaw detection light and method for detection of flaws

Номер патента: US20030075694A1. Автор: Masami Motoyama. Владелец: Marktec Corp. Дата публикации: 2003-04-24.

System and method of using endobronchial ultraviolet light therapy to treat patients infected with covid-19 coronavirus, sars, cov-2

Номер патента: US20210299467A1. Автор: Thomas P. Osypka,Timothy Searfoss,N R Chandrasekar. Владелец: Oscor Inc. Дата публикации: 2021-09-30.

Respirator mask with integated ultraviolet lighting system

Номер патента: US20230191170A1. Автор: Alex Demitri Smike,Nickolas David Smikle. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-06-22.

Method of controlling a modular ceramic oxygen generating system

Номер патента: EP1205434A1. Автор: Tuan Q. Cao,Russell F. Hart. Владелец: Litton Systems Inc. Дата публикации: 2002-05-15.

Bis(alkyleneoxybenzophenone) ultraviolet light absorbers

Номер патента: WO2002046136A3. Автор: Thomas Patrick Sassi. Владелец: Cytec Tech Corp. Дата публикации: 2003-01-16.

Impact modified polyoxymethylene composition and articles made therefrom that are stable when exposed to ultraviolet light

Номер патента: US20140187682A1. Автор: Ursula Ziegler,Bruce Mulholland. Владелец: Ticona LLC. Дата публикации: 2014-07-03.

Improved Pathogen Deactivating Ultraviolet Light Systems and Methods

Номер патента: US20230116478A1. Автор: Scott Johnson,David Bennett,R. Hunter Knight. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-04-13.

Food sterilization apparatus and method using pulsed light and pulsed light generator for sterilization

Номер патента: JP3609335B2. Автор: 博 田中,周一 鈴木,勲 藤村,照夫 日野. Владелец: 食肉生産技術研究組合. Дата публикации: 2005-01-12.

MAGNETIC RESONANCE IMAGING APPARATUS AND LOAD CALCULATION METHOD OF A GRADIENT MAGNETIC FIELD GENERATION SYSTEM

Номер патента: US20130009639A1. Автор: Ookawa Masashi. Владелец: . Дата публикации: 2013-01-10.

Lithographic Apparatus and Method

Номер патента: US20120002182A1. Автор: NIENHUYS Han-Kwang,HUIJBERTS Alexander Marinus Arnoldus,Jonkers Peter Gerardus. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2012-01-05.

Polishing method, polishing apparatus and GaN wafer

Номер патента: US20120001193A1. Автор: YAMAUCHI Kazuto,Sano Yasuhisa,MURATA Junji,YAGI Keita,Sadakuni Shun. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

LIGHT SOURCE APPARATUS AND PROJECTION DISPLAY APPARATUS

Номер патента: US20120002172A1. Автор: . Владелец: SANYO ELECTRIC CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR EXPOSING A SUBSTRATE TO UV RADIATION USING A REFLECTOR HAVING BOTH ELLIPTICAL AND PARABOLIC REFLECTIVE SECTIONS

Номер патента: US20120003398A1. Автор: . Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

Radiographic image capturing apparatus and radiographic image capturing system

Номер патента: US20120002784A1. Автор: . Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

CARBON DIOXIDE-BASED GEOTHERMAL ENERGY GENERATION SYSTEMS AND METHODS RELATED THERETO

Номер патента: US20120001429A1. Автор: Saar Martin O.,Randolph Jimmy Bryan,Kuehn Thomas H.. Владелец: Regents of the University of Minnesota. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR DISINFECTING WATER

Номер патента: US20120000862A1. Автор: Belluati Mario,Colombi Giorgio,Danesi Enrico,Donnini Nicola,Petrucci Giuseppe,Rosellini Massimiliano,Giuseppina Peri. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method of preventing bronchopulmonary dysplasia in newborn babies with very low and extremely low body weight at birth

Номер патента: RU2416388C1. Автор: Андрей Юрьевич Рындин,Альберт Григорьевич Антонов. Владелец: Федеральное государственное учреждение "Научный центр акушерства, гинекологии и перинатологии имени академика В.И. Кулакова Федерального агентства по высокотехнологичной медицинской помощи". Дата публикации: 2011-04-20.

Ultraviolet light projection photoetching objective lens with self-adaption total reflection pole

Номер патента: CN1466001A. Автор: 张强,姚汉民,胡松,刘业异,强 张. Владелец: Institute of Optics and Electronics of CAS. Дата публикации: 2004-01-07.

Communication system for very low frequency and extremely low frequency range with deeply submerged and remote objects - 2

Номер патента: RU2590899C2. Автор: Виктор Ефимович Пониматкин,Олег Романович Кивчун,Василий Александрович Майоров,Вячеслав Леонидович Евстратов,Алексей Алексеевич Типикин. Владелец: Федеральное государственное казенное военное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Военный учебно-научный центр Военно-Морского флота "Военно-Морская академия" имени адмирала флота Советского Союза Н.Г. Кузнецова". Дата публикации: 2016-07-10.

Method for selecting therapeutic approach in combined injury of chest and extremity segments

Номер патента: RU2521355C1. Автор: Игорь Алексеевич Норкин,Артем Дмитриевич Хмара,Татьяна Григорьевна Хмара. Владелец: Артем Дмитриевич Хмара. Дата публикации: 2014-06-27.

Light-generating system

Номер патента: CA148238S. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-12-17.

Assembly table/selection table generation system

Номер патента: CA2036820A1. Автор: William James Premerlani,Robert Michael Salemme,Michael Robert Blaha,Anthony Robert Bender. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1991-08-29.

System for very low-frequency and extremely low-frequency communication with deep-sunk and remote objects - 1

Номер патента: RU2567181C1. Автор: Виктор Ефимович Пониматкин,Олег Романович Кивчун,Сергей Алексеевич Дорофеев,Михаил Борисович Урюпин,Александр Сергеевич Воропаев. Владелец: Федеральное государственное казенное военное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Военный учебно-научный центр Военно-Морского флота "Военно-Морская академия" имени адмирала флота Советского Союза Н.Г. Кузнецова". Дата публикации: 2015-11-10.

Briquette for cows, adapted for usage in arid and extremely arid zones

Номер патента: RU2273149C1. Автор: Владимир Иванович Трухачев,Виктор Владимирович Родин,Михаил Георгиевич Водолазский,Эдуард Николаевич Грига. Владелец: Федеральное государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Ставропольский государственный аграрный университет. Дата публикации: 2006-04-10.

Method for extracting thin and extremely thin steep-falling and slanted deposits

Номер патента: RU2255222C1. Автор: В.А. Шестаков,А.А. Белодедов,С.А. Мусукаев,А.С. Мусукаев,Г.Ф. Каган,М.В. Игнатов. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Южно-Российский государственный технический университет (Новочеркасский политехнический институт)". Дата публикации: 2005-06-27.

Complex calcium metasilicate of europium and yttrium, red luminescent material based thereon for ultraviolet light-emitting diodes and method of producing said material

Номер патента: RU2470982C2. Автор: Александр Петрович Тютюнник,Владимир Георгиевич Зубков,Людмила Львовна Сурат,Иван Ильич Леонидов,Марина Александровна Мелкозерова. Владелец: Учреждение Российской Академии наук Институт химии твердого тела Уральского Отделения РАН. Дата публикации: 2012-12-27.

Method for extraction of thin and extremely thin steep-falling and slanting deposits

Номер патента: RU2255221C1. Автор: В.А. Шестаков,А.А. Белодедов,В.Н. Игнатов,С.А. Мусукаев,А.С. Мусукаев,Г.Ф. Каган. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Южно-Российский государственный технический университет (Новочеркасский политехнический институт)". Дата публикации: 2005-06-27.

A portable sterilizing apparatus using ultraviolet light

Номер патента: PH22020050543U1. Автор: Jose Luis R Salguero. Владелец: Dellagroup Corp. Дата публикации: 2020-10-21.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.