Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • Extreme ultraviolet source with dual magnetic cusp particle catchers

Extreme ultraviolet source with dual magnetic cusp particle catchers

Номер патента: US09578729B2
Опубликовано: 21-02-2017
Автор(ы): Malcolm W. McGeoch
Принадлежит: PLEX LLC
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Extreme ultraviolet source with magnetic cusp plasma control

Номер патента: US09544986B2. Автор: Malcolm W. McGeoch. Владелец: PLEX LLC. Дата публикации: 2017-01-10.

Rotating target for extreme ultraviolet source with liquid metal

Номер патента: US12133318B2. Автор: Rui-Fang Shi,Alexander Bykanov. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-10-29.

Rotating target for extreme ultraviolet source with liquid metal

Номер патента: US20230403778A1. Автор: Rui-Fang Shi,Alexander Bykanov. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2023-12-14.

Rotating target for extreme ultraviolet source with liquid metal

Номер патента: WO2023239563A1. Автор: Rui-Fang Shi,Alexander Bykanov. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2023-12-14.

Extreme ultraviolet light generation method, extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2032877A. Автор: Honda Yoshiyuki,HOSODA Hirokazu,KOUGE Kouichiro. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-05-19.

Extreme ultraviolet light generation method, extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2032877B1. Автор: Honda Yoshiyuki,HOSODA Hirokazu,KOUGE Kouichiro. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-07-08.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US20130161540A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Shinji Nagai. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2013-06-27.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US09894744B2. Автор: Yutaka Shiraishi,Fumio Iwamoto,Takuya Ishii,Tsukasa Hori. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-02-13.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US20160192470A1. Автор: Yutaka Shiraishi,Fumio Iwamoto,Takuya Ishii,Tsukasa Hori. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2016-06-30.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US09986629B2. Автор: Toru Suzuki,Osamu Wakabayashi,Tamotsu Abe,Tatsuya Yanagida. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-05-29.

Extreme ultraviolet light generation device

Номер патента: US09961755B2. Автор: Hiroshi Umeda,Kazukiyo KAMIKANNA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-05-01.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US09854658B2. Автор: Masaki Nakano,Fumio Iwamoto,Tsukasa Hori. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-12-26.

Collector in an extreme ultraviolet lithography system with optimal air curtain protection

Номер патента: US09869934B2. Автор: Tsung-Yu Chen,Shinn-Sheng Yu,Chia-Chen Chen,Chia-Hao Hsu,Chia-Ching HUANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US20180146536A1. Автор: Toru Suzuki,Osamu Wakabayashi,Tamotsu Abe,Tatsuya Yanagida. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-05-24.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US11924954B2. Автор: Takayuki Yabu,Yuta TAKASHIMA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-03-05.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2028934B1. Автор: YABU Takayuki,TAKASHIMA Yuta. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-06-12.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2028934A. Автор: YABU Takayuki,TAKASHIMA Yuta. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-05-09.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2034729A. Автор: YABU Takayuki,TAKASHIMA Yuta. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-06-15.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2034729B1. Автор: YABU Takayuki,TAKASHIMA Yuta. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-01-25.

Collector in an Extreme Ultraviolet Lithography System with Optimal Air Curtain Protection

Номер патента: US20160306282A1. Автор: Tsung-Yu Chen,Shinn-Sheng Yu,Chia-Chen Chen,Chia-Hao Hsu,Chia-Ching HUANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-10-20.

Dual pulse driven extreme ultraviolet (EUV) radiation source method

Номер патента: US09451684B2. Автор: Oleg Gluschenkov,Sivarama Krishnan,Sadanand V. Deshpande,Daniel A. Corliss,Veeresh V. Deshpande. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2016-09-20.

EUV LPP source with improved dose control by tracking dose over specified window

Номер патента: US09693440B1. Автор: Alexander Igorevich Ershov. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-06-27.

Extreme ultraviolet light generation apparatus including target droplet joining apparatus

Номер патента: US9699877B2. Автор: Fumio Iwamoto,Hiroshi Umeda,Tsukasa Hori. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-07-04.

Device and method to remove debris from an extreme ultraviolet (EUV) lithography system

Номер патента: US11841625B2. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH,Chun-Han Lin,Sheng-Kang Yu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-12.

Device and method to remove debris from an extreme ultraviolet (euv) lithography system

Номер патента: US20230375950A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH,Chun-Han Lin,Sheng-Kang Yu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

EUV LPP source with improved dose control by tracking dose over specified window

Номер патента: US9693440B1. Автор: Alexander Igorevich Ershov. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-06-27.

Apparatus and method for generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: US20230363074A1. Автор: Chi Yang,Shang-Chieh Chien,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Wei-Chih Lai,Han-Lung Chang,Bo--Tsun LIU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-09.

Device for emitting extreme ultraviolet light

Номер патента: US10143075B2. Автор: Yusuke Teramoto,Akihisa NAGANO,Hideyuki URAKAMI. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2018-11-27.

Apparatus and method for generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: US11792909B2. Автор: BO-TSUN Liu,Chi Yang,Shang-Chieh Chien,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Wei-Chih Lai,Han-Lung Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Device for emitting extreme ultraviolet light

Номер патента: US20160295674A1. Автор: Yusuke Teramoto,Akihisa NAGANO,Hideyuki URAKAMI. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2016-10-06.

Collector in an Extreme Ultraviolet Lithography System with Optimal Air Curtain Protection

Номер патента: US20150261094A1. Автор: Tsung-Yu Chen,Shinn-Sheng Yu,Chia-Chen Chen,Chia-Hao Hsu,Chia-Ching HUANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-09-17.

Laser-produced plasma euv source with reduced debris generation

Номер патента: EP2754213A1. Автор: Daniel Wack,Gildardo DELGADO. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2014-07-16.

Euv lpp source with improved dose control by tracking dose over specified window

Номер патента: US20170181258A1. Автор: Alexander Igorevich Ershov. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-06-22.

Extreme ultraviolet source with rotary electrodes and method for producing extreme ultraviolet radiation from gas-discharge plasma

Номер патента: RU2278483C2. Автор: Владимир Михайлович Борисов,Олег Борисович Христофоров,Валентин Александрович Мищенко,Александр Сергеевич Иванов,Юрий Борисович Кирюхин,Александр Юрьевич Виноходов,Александр Васильевич Прокофьев. Владелец: Александр Васильевич Прокофьев. Дата публикации: 2006-06-20.

Pulsed discharge extreme ultraviolet source with magnetic shield

Номер патента: US20120146510A1. Автор: Malcolm W. McGeoch. Владелец: PLEX LLC. Дата публикации: 2012-06-14.

DEVICE FOR RECEIVING DIRECTIONAL EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION WITH WAVELENGTH OF 11,2 nm ±1% FOR HIGH-RESOLUTION PROJECTIVE LITHOGRAPHY

Номер патента: RU2633726C1. Автор: Сергей Владимирович Голубев,Николай Николаевич Салащенко,Николай Иванович Чхало,Александр Григорьевич Литвак,Иван Владимирович Изотов,Сергей Владимирович Разин,Александр Васильевич Сидоров,Вадим Александрович Скалыга,Александр Валентинович Водопьянов,Дмитрий Анатольевич Мансфельд,Михаил Юрьевич Глявин,Алексей Григорьевич Лучинин,Андрей Николаевич Нечай. Владелец: Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Федеральный исследовательский центр Институт прикладной физики Российской академии наук" (ИПФ РАН). Дата публикации: 2017-10-17.

Extreme ultraviolet light generation device and method for controlling extreme ultraviolet light generation device

Номер патента: US20190045616A1. Автор: Yoshifumi Ueno,Yuta TAKASHIMA,Go SHIROZU. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2019-02-07.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US09942973B2. Автор: Takashi Saito,Yoshifumi Ueno,Tamotsu Abe,Hirokazu HOSODA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-04-10.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: US09578730B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Tamotsu Abe. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-02-21.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US20170215267A1. Автор: Takashi Saito,Yoshifumi Ueno,Tamotsu Abe,Hirokazu HOSODA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-07-27.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2032043B1. Автор: Miyashita Koutaro. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-05-17.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2028171B1. Автор: UENO Yoshifumi,YABU Takayuki,TAKASHIMA Yuta,NISHIMURA Yuichi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-03-04.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US20140034852A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Kouji Kakizaki,Tooru Abe. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2014-02-06.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210410262A1. Автор: Yoshifumi Ueno,Yuichi Nishimura,Takayuki Yabu,Yuta TAKASHIMA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-12-30.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US11219116B1. Автор: Yoshifumi Ueno,Yuichi Nishimura,Takayuki Yabu,Yuta TAKASHIMA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-01-04.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2028171A. Автор: UENO Yoshifumi,YABU Takayuki,TAKASHIMA Yuta,NISHIMURA Yuichi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-02-17.

Extreme ultraviolet light generation chamber device and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2036152A. Автор: UEDA Atsushi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-06-14.

Extreme ultraviolet light generation device

Номер патента: US09872372B2. Автор: Yoshifumi Ueno,Shinji Nagai,Tamotsu Abe,Atsushi Ueda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-01-16.

Extreme ultraviolet light source device

Номер патента: US09826617B2. Автор: Takuma Yokoyama. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2017-11-21.

Extreme ultraviolet generation apparatus

Номер патента: US20210092825A1. Автор: In Ho Choi,In Jae Lee,Jeong-Gil Kim,Sung Ho Jang,Min Seok Choi,Hyuck Shin. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-03-25.

Extreme ultraviolet light generation chamber device and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240196505A1. Автор: Atsushi Ueda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-06-13.

Extreme ultraviolet light source device

Номер патента: EP4152097A1. Автор: Shunichi Morimoto,Hideyuki URAKAMI. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2023-03-22.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: WO2012133720A1. Автор: Yukio Watanabe,Masato Moriya,Miwa Igarashi,Hiroaki Nakarai. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2012-10-04.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: EP2692212A1. Автор: Yukio Watanabe,Masato Moriya,Miwa Igarashi,Hiroaki Nakarai. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2014-02-05.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US09894743B2. Автор: Yukio Watanabe,Masato Moriya,Miwa Igarashi,Hiroaki Nakarai. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-02-13.

Apparatus for decontaminating extreme ultraviolet source

Номер патента: TW201925929A. Автор: 陳鑫封,陳立銳,劉柏村,張漢龍. Владелец: 台灣積體電路製造股份有限公司. Дата публикации: 2019-07-01.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20230284365A1. Автор: Yuichi Nishimura,Shogo KITASAKA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-09-07.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2034100A. Автор: NISHIMURA Yuichi,Kitasaka Shogo. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-09-11.

Arrangement for the generation of extreme ultraviolet radiation by means of electric discharge at electrodes which can be regenerated

Номер патента: US7649187B2. Автор: Christian Ziener,Guido Hergenhan,Frank Flohrer. Владелец: XTREME technologies GmbH. Дата публикации: 2010-01-19.

Stabilizing EUV light power in an extreme ultraviolet light source

Номер патента: US09713240B2. Автор: Robert Jay Rafac,Daniel Jason Riggs. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-07-18.

Extreme ultraviolet light generation apparatus with a gas supply toward a trajectory of a target

Номер патента: US09661730B2. Автор: Takashi Saito,Osamu Wakabayashi,Atsushi Ueda,Takayuki Yabu,Georg Soumagne. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-05-23.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20230007763A1. Автор: Koutaro MIYASHITA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-01-05.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US11789374B2. Автор: Yukio Watanabe,Atsushi Ueda,Toshihiro Nishisaka,Gouta NIIMI,Yusuke Hoshino,Koichiro KOGE,Takayuki OSANAI. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-10-17.

Plasma position control for extreme ultraviolet lithography light sources

Номер патента: US20210389678A1. Автор: Chi Yang,Li-Jui Chen,Hsin-Feng Chen,Ssu-Yu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-12-16.

Extreme ultraviolet light source device

Номер патента: US20170094766A1. Автор: Takuma Yokoyama. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2017-03-30.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20230309211A1. Автор: Yoshiyuki Honda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-09-28.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2032486A. Автор: UEDA Atsushi,NISHISAKA Toshihiro,WATANABE Yukio,KOGE Koichiro,OSANAI Takayuki,Hoshino Yusuke,NIIMI Gouta. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-08-05.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2028940B1. Автор: UEDA Atsushi,NISHISAKA Toshihiro,WATANABE Yukio,KOGE Koichiro,OSANAI Takayuki,Hoshino Yusuke,NIIMI Gouta. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-07-26.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2032486B1. Автор: UEDA Atsushi,NISHISAKA Toshihiro,WATANABE Yukio,KOGE Koichiro,OSANAI Takayuki,Hoshino Yusuke,NIIMI Gouta. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-08-14.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2034127A. Автор: Honda Yoshiyuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-10-03.

Extreme ultraviolet light source apparatus

Номер патента: US20230164899A1. Автор: Shunichi Morimoto,Hideyuki URAKAMI. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2023-05-25.

Extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2027481A. Автор: UEDA Atsushi,KOGE Koichiro,OSANAI Takayuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-10-20.

Extreme ultraviolet light source device

Номер патента: US20230213865A1. Автор: Hironobu Yabuta,Hajime Kikuiri. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2023-07-06.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20230300966A1. Автор: Shogo KITASAKA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-09-21.

System and method to optimize extreme ultraviolet light generation

Номер патента: WO2013180884A2. Автор: Steven Chang,Matthew R. Graham,Wayne J. Dunstan,Daniel J. Riggs,Paul A. FRIHAUF. Владелец: Cymer, Llc.. Дата публикации: 2013-12-05.

Method of timing laser beam pulses to regulate extreme ultraviolet light dosing

Номер патента: WO2014109876A1. Автор: Steven Chang,Andrew Liu,Matthew R. Graham,Alexander A. Schafgans,Robert N. Jacques,James H. Crouch,Wayne J. Dunstan,Paul A. FRIHAUF. Владелец: CYMER, LLC. Дата публикации: 2014-07-17.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US20190364654A1. Автор: Atsushi Ueda,Akihiro Takayama. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2019-11-28.

Apparatus and method for generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: US12114411B2. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Yu-Chih Huang,Yu-Huan Chen,Ming-Hsun Tsai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-08.

Plasma position control for extreme ultraviolet lithography light sources

Номер патента: US12130556B2. Автор: Chi Yang,Li-Jui Chen,Hsin-Feng Chen,Ssu-Yu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Target supply apparatus, extreme ultraviolet light generating apparatus, and target supply method

Номер патента: US09860967B2. Автор: Tsukasa Hori,Hirokazu HOSODA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-01-02.

Target expansion rate control in an extreme ultraviolet light source

Номер патента: US09820368B2. Автор: Robert Jay Rafac,Daniel Jason Riggs. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-11-14.

Method for reducing contamination in extreme ultraviolet lithography light source

Номер патента: US09665017B2. Автор: Emily Shu. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2017-05-30.

Euv lpp source with dose control and laser stabilization using variable width laser pulses

Номер патента: NL2019847A. Автор: Vladimirovich Fomenkov Igor,Jay Rafac Robert. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-05-23.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US20160255707A1. Автор: Takashi Saito,Osamu Wakabayashi,Atsushi Ueda,Takayuki Yabu,Georg Soumagne. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2016-09-01.

Beam position control for an extreme ultraviolet light source

Номер патента: US20150257246A1. Автор: Igor V. Fomenkov,Vladimir B. Fleurov. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2015-09-10.

Apparatus and method for generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: US20230060625A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Yu-Chih Huang,Yu-Huan Chen,Ming-Hsun Tsai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-03-02.

Extreme ultraviolet light source obscuration bar and methods

Номер патента: WO2024094431A1. Автор: Yue Ma,Armin Bernhard Ridinger,Liza EASO,Mohsen Benjamin BATTOEI,Jonathan Anthony WALKER. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-05-10.

Extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210307150A1. Автор: Atsushi Ueda,Koichiro KOGE,Takayuki OSANAI. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-09-30.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US8710474B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Takeshi Kodama. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2014-04-29.

Target expansion rate control in an extreme ultraviolet light source

Номер патента: US20200260564A1. Автор: Robert Jay Rafac,Daniel Jason Riggs. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-08-13.

Extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: US10842011B2. Автор: Kengo Hayashi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-11-17.

Plasma position control for extreme ultraviolet lithography light sources

Номер патента: US20230273526A1. Автор: Chi Yang,Li-Jui Chen,Hsin-Feng Chen,Ssu-Yu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-31.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240126185A1. Автор: Yoshifumi Ueno,Yuichi Nishimura,Shogo KITASAKA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-04-18.

Light source device and method for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US8698115B1. Автор: Masashi Onishi,Waheed Hugrass. Владелец: KANSAI UNIVERSITY. Дата публикации: 2014-04-15.

Dose control in an extreme ultraviolet light source

Номер патента: WO2024046835A1. Автор: Merlin HUANG. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-03-07.

Alignment of extreme ultraviolet light source

Номер патента: WO2021239357A1. Автор: John Tom STEWART IV,Alexander Anthony Schafgans. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2021-12-02.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2035745A. Автор: UENO Yoshifumi,NISHIMURA Yuichi,Kitasaka Shogo. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-05-02.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2034072A. Автор: Kitasaka Shogo. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-09-21.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2034072B1. Автор: Kitasaka Shogo. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-03-19.

Extreme ultraviolet light source device

Номер патента: US11774856B2. Автор: Hironobu Yabuta,Hajime Kikuiri. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2023-10-03.

Extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2027481B1. Автор: UEDA Atsushi,KOGE Koichiro,OSANAI Takayuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-06-01.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: WO2013110968A1. Автор: Yukio Watanabe,Osamu Wakabayashi,Miwa Igarashi,Norio Iwai,Kouji ASHIKAWA. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2013-08-01.

Extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: US20200045802A1. Автор: Kengo Hayashi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-02-06.

Apparatus and method for generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: US20230225039A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Yu-Chih Huang,Yu-Huan Chen,Ming-Hsun Tsai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-07-13.

EXTREME ULTRAVIOLET SOURCE WITH DUAL MAGNETIC CUSP PARTICLE CATCHERS

Номер патента: US20160150625A1. Автор: McGeoch Malcolm W.. Владелец: PLEX LLC. Дата публикации: 2016-05-26.

Dual pulse driven extreme ultraviolet (euv) radiation source utilizing a droplet comprising a metal core with dual concentric shells of buffer gas

Номер патента: US20160081174A1. Автор: Oleg Gluschenkov,Sivarama Krishnan,Sadanand V. Deshpande,Daniel A. Corliss,Veeresh V. Deshpande. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2016-03-17.

Chamber for extreme ultraviolet light generation apparatus, and extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US9538629B2. Автор: Takashi Saito,Osamu Wakabayashi,Naoyoshi IMACHI. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-01-03.

Extreme ultraviolet light generator and control method of extreme ultraviolet light generator

Номер патента: JP6283684B2. Автор: 司 堀,岩本　文男,文男 岩本,博 梅田. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-02-21.

Method for generating extreme ultraviolet radiation and an extreme ultraviolet (EUV) radiation source

Номер патента: US11239001B2. Автор: Chung-Hung Lin,Chih-Wei Wen,Tzu Han Liu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-02-01.

Extreme ultraviolet light generation system and extreme ultraviolet light generation method

Номер патента: US20170127505A1. Автор: Yoshifumi Ueno,Hideo Hoshino,Georg Soumagne,Atsushi Sunahara. Владелец: Institute for Laser Technology. Дата публикации: 2017-05-04.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS AND CONTROL METHOD FOR EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS

Номер патента: US20160227638A1. Автор: HORI Tsukasa,Umeda Hiroshi,IWAMOTO Fumio. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2016-08-04.

System and Method for Extreme Ultraviolet Source Control

Номер патента: US20190166680A1. Автор: BO-TSUN Liu,Shang-Chieh Chien,Chun-Chia Hsu,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH,Tzung-Chi Fu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2019-05-30.

Electrode insulator materials for use in extreme ultraviolet electric discharge sources

Номер патента: US20040140439A1. Автор: Bryan Rice,Melissa Shell. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2004-07-22.

Method for creating extreme ultraviolet irradiation and source of such irradiation used in lithography

Номер патента: RU2249926C2. Автор: Даниель БАБОНО,Реми МАРМОРЕ,Лоранс БОННЕ. Владелец: Коммиссариат А Л`Энержи Атомик. Дата публикации: 2005-04-10.

Extreme ultraviolet light source systems

Номер патента: US20220104336A1. Автор: SANGHOON Lee,Injae Lee,SungHyup KIM,Yebin Nam,Myeongjun Gil. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-03-31.

Electron beam-based extreme ultraviolet light source device

Номер патента: EP4401513A1. Автор: Kyu Chang Park,Sung Tae Yoo. Владелец: Industry Academic Cooperation Foundation of Kyung Hee University. Дата публикации: 2024-07-17.

Transport system for an extreme ultraviolet light source

Номер патента: US09557650B2. Автор: Gregory Wilson,Alexander I. Ershov,Silvia De Dea,Bruno M. La Fontaine,Brandon Verhoff. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-01-31.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and control method for laser apparatus in extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: US09468082B2. Автор: Kazuhiro Suzuki,Osamu Wakabayashi,Hideyuki Hayashi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2016-10-11.

Extreme ultraviolet light generating system

Номер патента: US09439276B2. Автор: Takashi Saito,Osamu Wakabayashi,Takayuki Yabu. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2016-09-06.

Extreme ultraviolet light generating apparatus

Номер патента: US20200133137A1. Автор: Katsuhiko Sugisawa. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-04-30.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and method of designing the same

Номер патента: US10001706B2. Автор: Shinji Nagai,Atsushi Ueda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-06-19.

Extreme ultraviolet light source device and protection method for receiving plate member

Номер патента: US20230324815A1. Автор: Nobuaki Miyagawa,Hironobu Yabuta. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2023-10-12.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and maintenance method

Номер патента: US20200142311A1. Автор: Katsuhiko Wakana. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-05-07.

Extreme ultraviolet light generating apparatus, extreme ultraviolet light generating method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210072646A1. Автор: Kengo Hayashi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-03-11.

Extreme ultraviolet light generating apparatus, extreme ultraviolet light generating method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US11307501B2. Автор: Kengo Hayashi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-04-19.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and method of designing the same

Номер патента: US20170315446A1. Автор: Shinji Nagai,Atsushi Ueda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-11-02.

System and method for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US20150351209A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Kouji Kakizaki,Tatsuya Yanagida,Tsukasa Hori. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2015-12-03.

Extreme ultraviolet light source, exposure apparatus, and integrated rotary structure fabricating method

Номер патента: US09927601B2. Автор: Qiang Wu,Liwan Yue. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2018-03-27.

System and method for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US09877378B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Kouji Kakizaki,Tatsuya Yanagida,Tsukasa Hori,Hakaru Mizoguchi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-01-23.

System and method for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US09497842B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Kouji Kakizaki,Tatsuya Yanagida,Tsukasa Hori,Hakaru Mizoguchi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2016-11-15.

Extreme ultraviolet light generation device and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2026231A. Автор: SAUMAGNE Georg. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-05-17.

Method for generating extreme ultraviolet light and device for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US20150189730A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Masato Moriya,Hideyuki Hayashi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2015-07-02.

System and method for performing extreme ultraviolet photolithography processes

Номер патента: US11768437B2. Автор: Heng-Hsin Liu,Tai-Yu Chen,Zhiqiang Wu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH,Sagar Deepak KHIVSARA,Kai Tak Lam,Chung-Wei Wu,Kuo-An Liu,Gwan-Sin Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-26.

System and method for performing extreme ultraviolet photolithography processes

Номер патента: US20210349396A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Tai-Yu Chen,Zhiqiang Wu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH,Sagar Deepak KHIVSARA,Kai Tak Lam,Chung-Wei Wu,Kuo-An Liu,Gwan-Sin Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-11-11.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20200236769A1. Автор: Yoshifumi Ueno,Yuta TAKASHIMA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-07-23.

System and method for performing extreme ultraviolet photolithography processes

Номер патента: US20220350257A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Tai-Yu Chen,Zhiqiang Wu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH,Sagar Deepak KHIVSARA,Kai Tak Lam,Chung-Wei Wu,Kuo-An Liu,Gwan-Sin Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-11-03.

Extreme ultraviolet light generation apparatus, extreme ultraviolet light generation system, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2027449B1. Автор: UEDA Atsushi,Ishida Yuki,Yoshida Yoshiaki,KOGE Koichiro,OSANAI Takayuki,OHSAWA Akihiro,SHINTANI Toshiya,Takada Yosuke. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-10-27.

Extreme ultraviolet light generation apparatus, extreme ultraviolet light generation system, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2027449A. Автор: UEDA Atsushi,Ishida Yuki,Yoshida Yoshiaki,KOGE Koichiro,OSANAI Takayuki,OHSAWA Akihiro,SHINTANI Toshiya,Takada Yosuke. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-10-20.

Extreme ultraviolet light generation apparatus, extreme ultraviolet light generation system, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210298160A1. Автор: Yoshiaki Yoshida,Atsushi Ueda,Toshiya Shintani,Akihiro Ohsawa,Yuki Ishida,Yosuke Takada,Koichiro KOGE,Takayuki OSANAI. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-09-23.

System and method for performing extreme ultraviolet photolithography processes

Номер патента: US20230367225A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Tai-Yu Chen,Zhiqiang Wu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH,Sagar Deepak KHIVSARA,Kai Tak Lam,Chung-Wei Wu,Kuo-An Liu,Gwan-Sin Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2036213A. Автор: UENO Yoshifumi,MIYASHITA Kotaro,NISHIMURA Yuichi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-06-11.

Electrode-less discharge extreme ultraviolet light source

Номер патента: WO2006015125A3. Автор: Bruno Bauer. Владелец: Univ & Community College Syste. Дата публикации: 2006-03-23.

Optical module for extreme ultraviolet light source

Номер патента: EP4405732A1. Автор: Jaden Robert BANKHEAD,Paul Alexander MCKENZIE,Erik Fernando HUERTA,Moonseob Jin. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-07-31.

Extreme ultraviolet lithography collector contamination reduction

Номер патента: US09625824B2. Автор: YEN-CHENG Lu,Jeng-Horng Chen,Tzu-Hsiang Chen,Shun-Der Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US09622332B2. Автор: Toru Suzuki,Hiroshi Tanaka,Osamu Wakabayashi,Hideyuki Hayashi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-04-11.

Transport system for an extreme ultraviolet light source

Номер патента: US20150282287A1. Автор: Gregory Wilson,Alexander I. Ershov,Silvia De Dea,Bruno M. La Fontaine,Brandon Verhoff. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2015-10-01.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210333718A1. Автор: Yuichi Nishimura,Tsukasa Hori,Takayuki Yabu. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-10-28.

Extreme ultraviolet light source apparatus

Номер патента: US20230288821A1. Автор: Noritaka Ashizawa,Hironobu Yabuta. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2023-09-14.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240049378A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Masaki Nakano. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-02-08.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2029105B1. Автор: IWAMOTO Fumio. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-09-11.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2035291A. Автор: Wakabayashi Osamu,Nakano Masaki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-02-07.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2030088B1. Автор: YABU Takayuki,NISHIMURA Yuichi,NAKARAI Hiroaki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-01-04.

Extreme ultraviolet light generation apparatus, target control method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2027803B1. Автор: Abe Toru. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-06-15.

EUV LPP source with dose control and laser stabilization using variable width laser pulses

Номер патента: US09832852B1. Автор: Igor V. Fomenkov,Robert Jay Rafac. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-11-28.

EUV LPP source with improved dose control by combining pulse modulation and pulse control mode

Номер патента: US09755396B1. Автор: Steven Chang,Andrew Liu,Matthew R. Graham,Daniel Jason Riggs,Wayne J. Dunstan,Paul Frihauf,Spencer Rich. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-09-05.

Protection system for an extreme ultraviolet light source

Номер патента: WO2020225347A1. Автор: Henricus Gerardus Tegenbosch,Silvia De Dea,René Wilhelmus Johannes Maria VAN DEN BOOMEN. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2020-11-12.

System and method for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US20170019983A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Kouji Kakizaki,Tatsuya Yanagida,Tsukasa Hori,Hakaru Mizoguchi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-01-19.

System and method for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US20180110116A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Kouji Kakizaki,Tatsuya Yanagida,Tsukasa Hori,Hakaru Mizoguchi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-04-19.

System and method for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US20190037677A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Kouji Kakizaki,Tatsuya Yanagida,Tsukasa Hori,Hakaru Mizoguchi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2019-01-31.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US11778721B2. Автор: Yuichi Nishimura,Takayuki Yabu,Hiroaki Nakarai. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-10-03.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20220110204A1. Автор: Fumio Iwamoto. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-04-07.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2029105A. Автор: IWAMOTO Fumio. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-06-01.

Gas jet nozzle for extreme ultraviolet light source

Номер патента: EP1150169A3. Автор: Charles W. Clendening, Jr.,Roy D. McGregor. Владелец: TRW Inc. Дата публикации: 2002-04-03.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240184220A1. Автор: Yoshifumi Ueno,Yuichi Nishimura,Kotaro Miyashita. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-06-06.

Extreme ultraviolet light generation apparatus, target control method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210349400A1. Автор: Toru Abe. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-11-11.

Extreme ultraviolet light generation apparatus, target control method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2027803A. Автор: Abe Toru. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-11-23.

X-ray source with friction drive

Номер патента: RU2600326C2. Автор: Карлос КАМАРА,Марк ВАЛЕНТАЙН. Владелец: Трайбодженикс, Инк.. Дата публикации: 2016-10-20.

Inductively coupled plasma light source with direct gas injection

Номер патента: WO2024123564A1. Автор: Donald K. Smith,Kosuke Saito,Stephen F. Horne,Wolfram Neff,Michael J. Roderick. Владелец: Energetiq Technology, Inc.. Дата публикации: 2024-06-13.

Arrangement for cooling a plasma-based radiation source with a metal cooling liquid and method for starting up a cooling arrangement of this type

Номер патента: US09581392B2. Автор: Dominik Marcel Vaudrevange,Ralf Gordon Conrads,Gota Niimi,Maghiel Jan KOLE. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2017-02-28.

X-ray source with rotating liquid-metal target

Номер патента: US11869742B2. Автор: Denis Alexandrovich Glushkov,Konstantin Nikolaevich Koshelev,Vladimir Mikhailovich KRIVTSUN,Aleksandr Andreevich LASH,Aleksandr Yurievich Vinokhodov,Vladimir Vitalievich Ivanov,Mikhail Sergeyevich Krivokorytov,Vyacheslav Valerievich Medvedev,Yury Viktorovich Sidelnikov,Oleg Feliksovich Yakushev,Samir Ellwi,Oleg Borisovich Khristoforov. Владелец: Isteq Group Holding BV. Дата публикации: 2024-01-09.

Inductively Coupled Plasma Light Source with Direct Gas Injection

Номер патента: US20240194454A1. Автор: Donald K. Smith,Kosuke Saito,Stephen F. Horne,Wolfram Neff,Michael J. Roderick. Владелец: Energetiq Technology Inc. Дата публикации: 2024-06-13.

EXTREME ULTRAVIOLET SOURCE WITH MAGNETIC CUSP PLASMA CONTROL

Номер патента: US20160007433A1. Автор: McGeoch Malcolm W.. Владелец: PLEX LLC. Дата публикации: 2016-01-07.

EXTREME ULTRAVIOLET SOURCE WITH MAGNETIC CUSP PLASMA CONTROL

Номер патента: US20160242268A1. Автор: McGeoch Malcolm W.. Владелец: PLEX LLC. Дата публикации: 2016-08-18.

Extreme ultraviolet light source device, laser light source device for extreme ultraviolet light source device and method for controlling saturable absorber used in extreme ultraviolet light source device

Номер патента: US20100078580A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Masato Moriya,Akira Endo,Hideo Hoshino,Tatsuya Ariga,Krzysztof Nowak. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2010-04-01.

System for an extreme ultraviolet light source, method of aligning an irradiating amplified light beam generated from an extreme ultraviolet light system relative to a target material, and extreme ultraviolet light system

Номер патента: TWI612851B. Автор: 弗拉迪米爾Ｂ 弗魯羅夫,伊格爾Ｖ 佛蒙柯維. Владелец: Ａｓｍｌ荷蘭公司. Дата публикации: 2018-01-21.

Extreme ultraviolet source with wide angle vapor containment and reflux

Номер патента: US20070158595A1. Автор: Malcolm Mcgeoch. Владелец: PLEX LLC. Дата публикации: 2007-07-12.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION DEVICE AND METHOD FOR CONTROLLING EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION DEVICE

Номер патента: US20190045616A1. Автор: UENO Yoshifumi,SHIROZU Go,TAKASHIMA Yuta. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2019-02-07.

METHOD FOR GENERATING EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION AND AN EXTREME ULTRAVIOLET (EUV) RADIATION SOURCE

Номер патента: US20200105431A1. Автор: LIN CHUNG-HUNG,WEN Chih-wei,LIU TZU HAN. Владелец: . Дата публикации: 2020-04-02.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM

Номер патента: US20160135276A1. Автор: Wakabayashi Osamu,ABE Tamotsu. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2016-05-12.

Method for generating extreme ultraviolet radiation and apparatus as a source of extreme ultraviolet light

Номер патента: DE602008002194D1. Автор: Kyohei Seki,Kazuhiko Horioka,Takuma Yokoyama,Tomonao Hosokai. Владелец: Tokyo Institute of Technology NUC. Дата публикации: 2010-09-30.

Extreme ultraviolet light source device and method of generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: US20080029717A1. Автор: Takahiro Shirai. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2008-02-07.

Extreme ultraviolet light generation system and extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: JPWO2014098181A1. Автор: 伸治 永井,隆志 斎藤. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-01-12.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE DEVICE AND CONTROL METHOD FOR EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE DEVICE

Номер патента: US20130187065A1. Автор: MORIYA Masato,Wakabayashi Osamu. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2013-07-25.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION DEVICE AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM

Номер патента: US20150083939A1. Автор: Wakabayashi Osamu,UENO Yoshifumi. Владелец: . Дата публикации: 2015-03-26.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT CONDENSATION MIRROR, EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS, AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20210124275A1. Автор: TOIDA Tomoyoshi. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2021-04-29.

CHAMBER FOR EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS, AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS

Номер патента: US20140253716A1. Автор: Wakabayashi Osamu,Saito Takashi,IMACHI Naoyoshi. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2014-09-11.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS AND CONTROL METHOD FOR LASER APPARATUS IN EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM

Номер патента: US20140353528A1. Автор: Wakabayashi Osamu,Suzuki Kazuhiro,HAYASHI Hideyuki. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2014-12-04.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS

Номер патента: US20150296604A1. Автор: Saito Takashi,NAGAI Shinji. Владелец: . Дата публикации: 2015-10-15.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS AND CONTROL METHOD FOR LASER APPARATUS IN EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM

Номер патента: US20150342015A1. Автор: Wakabayashi Osamu,Suzuki Kazuhiro,HAYASHI Hideyuki. Владелец: . Дата публикации: 2015-11-26.

Extreme ultraviolet light source device and extreme ultraviolet light generation method

Номер патента: JP4623192B2. Автор: 雄介 寺本,寛 溝越,拓馬 横山. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2011-02-02.

Extreme ultraviolet radiation generating device for use in extreme ultraviolet lithography, has high voltage supply unit comprising capacitor battery, which consists of capacitor units that are arranged along round rings

Номер патента: DE102006015640B3. Автор: Guido Dr. Hergenhan,Frank Flohrer,Christian Dr. Ziener,Carsten Thode. Владелец: XTREME technologies GmbH. Дата публикации: 2007-10-04.

Method for generating extreme ultraviolet with mather-type plasma accelerators for use in Extreme Ultraviolet Lithography

Номер патента: US7115887B1. Автор: Ahmed Hassanein,Isak Konkashbaev. Владелец: US Department of Energy. Дата публикации: 2006-10-03.

System and Method for Extreme Ultraviolet Source Control

Номер патента: US20210068241A1. Автор: CHEN Li-Jui,CHIEN Shang-Chieh,CHENG Po-Chung,HSIEH Chieh,FU Tzung-Chi,LIU Bo-Tsun,HSU Chun-Chia. Владелец: . Дата публикации: 2021-03-04.

System and Method for Extreme Ultraviolet Source Control

Номер патента: US20190289706A1. Автор: CHEN Li-Jui,CHIEN Shang-Chieh,CHENG Po-Chung,HSIEH Chieh,FU Tzung-Chi,LIU Bo-Tsun,HSU Chun-Chia. Владелец: . Дата публикации: 2019-09-19.

Extreme ultra violet lithography light-source system and extreme ultraviolet method

Номер патента: CN104345569B. Автор: 徐依协. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2017-03-29.

Extreme ultra violet lithography light-source system and extreme ultraviolet method

Номер патента: CN104345570B. Автор: 徐依协. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2017-03-29.

Liquid sprays as the target for a laser-plasma extreme ultraviolet light source

Номер патента: EP1182912A1. Автор: Michael B. Petach,Rocco A. Orsini,Roy D. McGregor. Владелец: TRW Inc. Дата публикации: 2002-02-27.

Extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: EP2721908A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Tatsuya Yanagida. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2014-04-23.

Extreme ultraviolet radiation source module, extreme ultraviolet lithography system and extreme ultraviolet lithography process

Номер патента: TWI569689B. Автор: 盧彥丞,陳政宏,吳善德,陳子祥. Владелец: 台灣積體電路製造股份有限公司. Дата публикации: 2017-02-01.

Extreme ultraviolet light source, extreme ultraviolet light source targets and methods of manufacturing an extreme ultraviolet light source target

Номер патента: EP1612848B1. Автор: Keiji NAGAI,Hiroaki NISHIMURA,Takayoshi NORIMATSU,Katsunobu NISHIHARA,Noriaki MIYANAGA,Masahiro NAKATSUKA,Yasukazu IZAWA,Tatsuhiko YAMANAKA,Mitsuo NAKAI,Keisuke SHIGEMORI,Masakatsu MURAKAMI,Yoshinori SHIMADA,Shigeaki UCHIDA,Hiroyuki Furukawa,Atsushi SUNAHARA,Vasilli ZHAKHOVSKI,Ryouji MATSUI,Takahiro HIBINO,Tomoharu OKUNO. Владелец: Osaka University NUC. Дата публикации: 2013-09-25.

Extreme ultraviolet source (EUV source)

Номер патента: JP7193459B2. Автор: ラベッツスキ，ドズミトリ,ベレンドセン，クリスチアヌス，ウィルヘルムス，ヨハンネス,マ，ユエ,ラングロア，マーク，ガイ,ロドリゲス ヌネス，ルイ，ミゲル デュアルテ,エルショフ，アレクサンダー，イーゴレヴィッチ,フェーンストラ，コルネリス，フリッツ,フォメンコフ，イゴール，ウラジーミロヴィチ,ハマー，クラウス，マーティン,ジョンカダクシャム，アルン,クラウスハール，マサイアス,ラフォージ，アンドリュー，デイビッド,ロギノフ，マクシム,モジャブ，セイイェドモハンマド,ナディール，ケリム,シャタロフ，アレクサンダー,スチュワート，ジョン，トム，フォース,テゲンボス，ヘンリカス，ジェラルドゥス,シャー，チュングアン. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2022-12-20.

High output extreme ultraviolet source

Номер патента: US20020162975A1. Автор: Rocco Orsini. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-11-07.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS, EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM, AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20210298160A1. Автор: UEDA Atsushi,Ishida Yuki,Yoshida Yoshiaki,KOGE Koichiro,OSANAI Takayuki,OHSAWA Akihiro,SHINTANI Toshiya,Takada Yosuke. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2021-09-23.

Extreme ultraviolet light source and target for extreme ultraviolet light source

Номер патента: CN1759467A. Автор: 岛田义则,中塚正大,宫永宪明,井泽靖和,松井亮二,奥野智晴,长井圭治,西村博明,乘松孝好,西原功修,山中龙彦,中山光男,重森启介,村上匡且,内田成明,古河裕之,砂石淳,瓦西利·扎克夫斯基,日比野隆宏. Владелец: Kansai Technology Licensing Organization Co Ltd. Дата публикации: 2006-04-12.

Extreme ultraviolet light generator, extreme ultraviolet light generation method, and manufacturing method of electronic device

Номер патента: JPWO2020003517A1. Автор: 健悟 林. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-08-02.

Extreme ultraviolet light source and target for extreme ultraviolet light source

Номер патента: AU2003296155A1. Автор: Hiroaki Nishimura,Yoshinori Shimada,Hiroyuki Furukawa,Mitsuo Nakai,Yasukazu Izawa,Masahiro Nakatsuka,Takayoshi Norimatsu,Keiji Nagai,Noriaki Miyanaga,Katsunobu Nishihara,Tatsuhiko Yamanaka,Keisuke Shigemori,Masakatsu Murakami,Shigeaki Uchida,Atsushi Sunahara,Vasilli Zhakhovski,Ryouji Matsui,Takahiro Hibino,Tomoharu Okuno. Владелец: Kansai Technology Licensing Organization Co Ltd. Дата публикации: 2004-10-18.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SENSOR UNIT AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS

Номер патента: US20200064184A1. Автор: MIYASHITA Kotaro. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2020-02-27.

Extreme ultraviolet light generating apparatus, extreme ultraviolet light generating method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210072646A1. Автор: Kengo Hayashi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-03-11.

Method for generating extreme ultraviolet light and device for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US20150189730A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Masato Moriya,Hideyuki Hayashi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2015-07-02.

TARGET IMAGE-CAPTURE DEVICE, EXTREME-ULTRAVIOLET-LIGHT GENERATION DEVICE, AND EXTREME-ULTRAVIOLET-LIGHT GENERATION SYSTEM

Номер патента: US20170358442A1. Автор: HOSHINO Hideo,YABU Takayuki,HOSODA Hirokazu. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2017-12-14.

Extreme ultraviolet light source and target for extreme ultraviolet light source

Номер патента: WO2004086467A1. Автор: Hiroaki Nishimura,Yoshinori Shimada,Hiroyuki Furukawa,Mitsuo Nakai,Yasukazu Izawa,Masahiro Nakatsuka,Takayoshi Norimatsu,Keiji Nagai,Noriaki Miyanaga,Katsunobu Nishihara,Tatsuhiko Yamanaka,Keisuke Shigemori,Masakatsu Murakami,Shigeaki Uchida,Atsushi Sunahara,Vasilli Zhakhovski,Ryouji Matsui,Takahiro Hibino,Tomoharu Okuno. Владелец: Kansai Technology Licensing Organization Co., Ltd.. Дата публикации: 2004-10-07.

Extreme ultraviolet light source device and extreme ultraviolet radiation generating method

Номер патента: US20080237501A1. Автор: Kyohei Seki,Kazuhiko Horioka,Takuma Yokoyama,Tomonao Hosokai,Hiroshi Mizokoshi. Владелец: Tokyo Institute of Technology NUC. Дата публикации: 2008-10-02.

Extreme ultraviolet light source device and extreme ultraviolet radiation generating method

Номер патента: EP1976344A2. Автор: Kyohei Seki,Kazuhiko Horioka,Takuma Yokoyama,Tomonao Hosokai,Hiroshi Mizokoshi. Владелец: Tokyo Institute of Technology NUC. Дата публикации: 2008-10-01.

Source constructed and arranged to produce extreme ultraviolet radiation and method for producing extreme ultraviolet radiation

Номер патента: TW200938961A. Автор: Vadim Yevgenyevich Banine,Olav Waldemar Vladimir Frijns,Vladimir Mihailòvitch Krivtsun,Konstantin Nikolaevich Koshelev,Yurii Victorovitch Sidelnikov. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2009-09-16.

Extreme ultraviolet light source device and extreme ultraviolet radiation generating method

Номер патента: TW200908815A. Автор: Kyohei Seki,Kazuhiko Horioka,Takuma Yokoyama,Tomonao Hosokai,Hiroshi Mizokoshi. Владелец: Ushio Electric Inc. Дата публикации: 2009-02-16.

ULTRAVIOLET LIGHT GENERATING DEVICE AND APPLICATION TO A RADIATION LITHOGRAPHIC SOURCE IN THE EXTREME ULTRAVIOLET

Номер патента: FR2871622B1. Автор: Martin Schmidt,Olivier Sublemontier,Pierre Yves Thro,Guy Cheymol,Benoit Barthod,Philippe Cormont. Владелец: Alcatel Vacuum Technology France SAS. Дата публикации: 2008-09-12.

Euv chamber apparatus, extreme ultraviolet light generation system, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210029811A1. Автор: Takashi Okada,Toshihiro Nishisaka,Yusuke Hoshino,Kouichiro KOUGE. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-01-28.

Laser apparatus and extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: WO2013144690A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Masato Moriya,Takashi Suganuma,Hidenobu Kameda. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2013-10-03.

Variable Radius Mirror Dichroic Beam Splitter Module for Extreme Ultraviolet Source

Номер патента: US20160174351A1. Автор: Robert J. Rafac,Michael Purvis,Alexander Schafgans,Kevin W. Zhang. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-06-16.

Variable radius mirror dichroic beam splitter module for extreme ultraviolet source

Номер патента: US09516729B2. Автор: Robert J Rafac,Michael Purvis,Alexander Schafgans,Kevin W Zhang. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-12-06.

Extreme ultraviolet light generating apparatus and control method for centroid of extreme ultraviolet light

Номер патента: US10251254B2. Автор: Yuichi Nishimura,Takayuki Yabu. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2019-04-02.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2033907A. Автор: UEDA Atsushi,KOGE Koichiro. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-08-25.

Shock wave visualization for extreme ultraviolet plasma optimization

Номер патента: US12114412B2. Автор: Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Yen-Shuo Su,Chun-Lin Chang,Han-Lung Chang,Ting-Ya CHENG,Jen-Hao Yeh,Jhan-Hong YEH,Henry Yee Shian Tong. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-08.

Extreme ultraviolet light condensation mirror, extreme ultraviolet light condensation mirror manufacturing method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210193344A1. Автор: Masahiko Ando. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-06-24.

System and method for monitoring and controlling extreme ultraviolet photolithography processes

Номер патента: US12085860B2. Автор: Heng-Hsin Liu,Tai-Yu Chen,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Extreme ultraviolet light source device

Номер патента: US20240121877A1. Автор: Injae Lee,SungHyup KIM,Daegeun YOON,Yebin Nam. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-11.

Droplet splash control for extreme ultraviolet photolithography

Номер патента: US20240231241A1. Автор: Chi-Hung Liao,Po-Ming SHIH. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Particle image velocimetry of extreme ultraviolet lithography systems

Номер патента: US20210294220A1. Автор: Chi Yang,Shang-Chieh Chien,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,En Hao Lai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-09-23.

Extreme ultraviolet light condenser mirror, extreme ultraviolet light condenser mirror manufacturing method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2026727A. Автор: ANDO Masahiko. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-08-11.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2032453A. Автор: Miyashita Koutaro. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-03-14.

Particle image velocimetry of extreme ultraviolet lithography systems

Номер патента: US20230296642A1. Автор: Chi Yang,Shang-Chieh Chien,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,En Hao Lai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2032453B1. Автор: Miyashita Koutaro. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-06-10.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210235571A1. Автор: Shinji Nagai,Atsushi Ueda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-07-29.

Particle image velocimetry of extreme ultraviolet lithography systems

Номер патента: US12085585B2. Автор: Chi Yang,Shang-Chieh Chien,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,En Hao Lai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Extreme ultraviolet light sensor unit and extreme ultraviolet light generation device

Номер патента: US20190021159A1. Автор: Takuya Ishii,Hiroshi Someya,Hisashi Nara. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2019-01-17.

Extreme ultraviolet light sensor unit and extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US11125613B2. Автор: Kotaro Miyashita. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-09-21.

Extreme ultraviolet light condenser mirror, extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2026306A. Автор: TOIDA Tomoyoshi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-07-07.

Extreme ultraviolet light generation chamber device and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240160107A1. Автор: Yoshiyuki Honda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-05-16.

Extreme ultraviolet light sensor unit and extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US20200064184A1. Автор: Kotaro Miyashita. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-02-27.

Extreme ultraviolet light generation chamber device and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2035896A. Автор: Honda Yoshiyuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-05-28.

Extreme ultraviolet light generating apparatus

Номер патента: US20180224747A1. Автор: Yoshifumi Ueno. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-08-09.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US09510433B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Shinji Nagai,Tamotsu Abe,Hitoshi Nagano. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2016-11-29.

Shock wave visualization for extreme ultraviolet plasma optimization

Номер патента: US11800626B2. Автор: Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Yen-Shuo Su,Chun-Lin Chang,Han-Lung Chang,Ting-Ya CHENG,Jen-Hao Yeh,Jhan-Hong YEH,Henry Yee Shian Tong. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-24.

Extreme ultraviolet light condenser mirror, extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2026306B1. Автор: TOIDA Tomoyoshi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-03-04.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US20200077501A1. Автор: Yoshiyuki Honda,Shinji Nagai,Hiroaki Tomuro. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-03-05.

Extreme ultraviolet chamber apparatus, extreme ultraviolet light generation system, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20200312479A1. Автор: Atsushi Ueda,Georg Soumagne,Gota Niimi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-10-01.

Extreme ultraviolet chamber apparatus, extreme ultraviolet light generation system, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: NL2025184B1. Автор: UEDA Atsushi,NIIMI Gota,SAUMAGNE Georg. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-12-11.

Particle image velocimetry of extreme ultraviolet lithography systems

Номер патента: US20240361350A1. Автор: Chi Yang,Shang-Chieh Chien,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,En Hao Lai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Apparatus for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US09635749B2. Автор: Sung-Joo Kim,Jin-Seok Heo,Jae-Pil Lee,Do-Hyun Seo,Da-Hae Lee,Sung-Jo Hwang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-04-25.

System and method for generating extreme ultraviolet light, and laser apparatus

Номер патента: US09509115B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Tatsuya Yanagida. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2016-11-29.

Extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: EP2548080A1. Автор: Yukio Watanabe,Osamu Wakabayashi,Tamotsu Abe,Toshihiro Nishisaka. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2013-01-23.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2029171A. Автор: UENO Yoshifumi,YABU Takayuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-06-01.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20220110205A1. Автор: Yoshifumi Ueno,Takayuki Yabu. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-04-07.

Shock wave visualization for extreme ultraviolet plasma optimization

Номер патента: US20230380044A1. Автор: Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Yen-Shuo Su,Chun-Lin Chang,Han-Lung Chang,Ting-Ya CHENG,Jen-Hao Yeh,Jhan-Hong YEH,Henry Yee Shian Tong. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Extreme ultraviolet light generating device

Номер патента: US20180224746A1. Автор: Takayuki Yabu. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-08-09.

Extreme ultraviolet light condensation mirror, extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US11409027B2. Автор: Masayuki Morita. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-08-09.

Beam transport system for extreme ultraviolet light source

Номер патента: WO2011075346A1. Автор: William N. Partlo,Nam-Hyong Kim,Robert N. Bergstedt,Lgor V. Fomenkov. Владелец: CYMER, INC.. Дата публикации: 2011-06-23.

Extreme ultraviolet light condenser mirror, extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2026305B1. Автор: Morita Masayuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-02-21.

Extreme ultraviolet light generation system, laser beam size controlling method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2025490B9. Автор: YABU Takayuki,NISHIMURA Yuichi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-07-14.

Extreme ultraviolet light condenser mirror, extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2026305A. Автор: Morita Masayuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-05-31.

Extreme ultraviolet light condensation mirror, extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210109262A1. Автор: Masayuki Morita. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-04-15.

Extreme ultraviolet light condenser mirror, extreme ultraviolet light condenser mirror manufacturing method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2026727B1. Автор: ANDO Masahiko. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-09-29.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2025678A. Автор: TAKASHIMA Yuta. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-02-15.

Method and apparatus for controlling droplet in extreme ultraviolet light source

Номер патента: US20220155690A1. Автор: Chi-Hung Liao,Yueh-Lin Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-05-19.

System and method to adaptively pre-compensate for target material push-out to optimize extreme ultraviolet light production

Номер патента: US09588430B2. Автор: Matthew R. Graham,Charles Kinney,Wayne J. Dunstan,Jeroen van der Burgt. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-03-07.

Module and method for producing extreme ultraviolet radiation

Номер патента: US8901521B2. Автор: Tjarko Adriaan Rudolf Van Empel,Erik Roelof Loopstra,Johannes Hubertus Josephina Moors,Vadim Yevgenyevich Banine,Yuri Johannes Gabriel Van De Vijver,Jan Bernard Plechelmus Van Schoot,Gerardus Hubertus Petrus Maria Swinkels,Hendrikus Gijsbertus Schimmel,Dzmitry Labetski,Vladimir Vitalevich Ivanov. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2014-12-02.

Target for extreme ultraviolet light source

Номер патента: US9155179B2. Автор: Igor V. Fomenkov,Daniel J. W. Brown,Yezheng Tao,Robert J. Rafac,Daniel J. Golich. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2015-10-06.

Target for extreme ultraviolet light source

Номер патента: US8912514B2. Автор: Igor V. Fomenkov,Daniel J. W. Brown,Yezheng Tao,Robert J. Rafac,Daniel J. Golich. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2014-12-16.

Collector mirror assembly and extreme ultraviolet light source device using said collector mirror assembly

Номер патента: US9029815B2. Автор: Hiroto Sato. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2015-05-12.

Extreme ultraviolet chamber apparatus, extreme ultraviolet light generation system, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: NL2025184A. Автор: UEDA Atsushi,NIIMI Gota,SAUMAGNE Georg. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-10-06.

Extreme ultraviolet light generation system, laser beam size controlling method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20200393687A1. Автор: Yuichi Nishimura,Takayuki Yabu. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-12-17.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2029356A. Автор: UEDA Atsushi,KOGE Koichiro,OSANAI Takayuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-06-27.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20220146943A1. Автор: Atsushi Ueda,Koichiro KOGE,Takayuki OSANAI. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-05-12.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US11924955B2. Автор: Yoshiyuki Honda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-03-05.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2033425B1. Автор: Honda Yoshiyuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-09-11.

Extreme ultraviolet light generation system, laser beam size controlling method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2025490B1. Автор: YABU Takayuki,NISHIMURA Yuichi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-01-25.

Extreme ultraviolet light source apparatus and plasma position adjusting method

Номер патента: US20210327701A1. Автор: Noritaka Ashizawa. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2021-10-21.

Extreme ultraviolet light source apparatus and plasma position adjusting method

Номер патента: US11631579B2. Автор: Noritaka Ashizawa. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2023-04-18.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US10820400B2. Автор: Yoshiyuki Honda,Shinji Nagai,Hiroaki Tomuro. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-10-27.

Extreme ultraviolet light concentrating mirror and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2027952B1. Автор: Honda Yoshiyuki,Morita Masayuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-05-25.

Extreme ultraviolet light concentrating mirror and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2027952A. Автор: Honda Yoshiyuki,Morita Masayuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-02-17.

Extreme ultraviolet light concentrating mirror and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210407700A1. Автор: Yoshiyuki Honda,Masayuki Morita. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-12-30.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2025678B1. Автор: TAKASHIMA Yuta. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-02-23.

Method and apparatus for controlling droplet in extreme ultraviolet light source

Номер патента: US20240160106A1. Автор: Chi-Hung Liao,Yueh-Lin Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Collector mirror and apparatus for creating extreme ultraviolet light including the same

Номер патента: US11698590B2. Автор: Injae Lee,SungHyup KIM,Jeonggil KIM,Hoseok SONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-11.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20220035249A1. Автор: Yoshiyuki Honda,Hirokazu HOSODA,Takanari KOBAYASHI. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-02-03.

Method of generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: EP1502485A1. Автор: Günther Hans c/o Philips IP & Standards DERRA,Ulrich c/o Philips IP & Standards NIEMANN. Владелец: Philips Intellectual Property and Standards GmbH. Дата публикации: 2005-02-02.

Method of generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: EP1502485B1. Автор: Günther Hans c/o Philips IP & Standards GmbH DERRA,Ulrich c/o Philips IP & Standards GmbH NIEMANN. Владелец: Philips Intellectual Property and Standards GmbH. Дата публикации: 2011-11-02.

Extreme ultraviolet control system

Номер патента: US20230030134A1. Автор: Shang-Chieh Chien,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH,Jen-Yang Chung. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-02-02.

Extreme ultraviolet light generating apparatus

Номер патента: US20180240562A1. Автор: Tamotsu Abe,Takayuki Yabu,Tooru Abe,Kenichi Miyao. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-08-23.

Collector mirror and apparatus for creating extreme ultraviolet light including the same

Номер патента: EP4145223A1. Автор: Injae Lee,SungHyup KIM,Jeonggil KIM,Hoseok SONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-08.

Collector mirror and apparatus for creating extreme ultraviolet light including the same

Номер патента: US20230071131A1. Автор: Injae Lee,SungHyup KIM,Jeonggil KIM,Hoseok SONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-09.

Mount, extreme ultraviolet light generation system, and device manufacturing method

Номер патента: US20200363733A1. Автор: Toshihiro Nishisaka. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-11-19.

Apparatus and method for generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: US12133319B2. Автор: Li-Jui Chen,Chun-Lin Chang,Han-Lung Chang,Ting-Ya CHENG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Extreme ultraviolet control system

Номер патента: US12044975B2. Автор: Shang-Chieh Chien,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH,Jen-Yang Chung. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: US09980360B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Tatsuya Yanagida. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-05-22.

Extreme ultraviolet reflective element with amorphous layers and method of manufacturing thereof

Номер патента: US09690016B2. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-06-27.

Target material supply apparatus for an extreme ultraviolet light source

Номер патента: US09632418B2. Автор: Norbert Bowering,Georgiy O. Vaschenko,Peter Baumgart,Silvia De Dea. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-04-25.

Apparatus and method for generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: US20240381515A1. Автор: Li-Jui Chen,Chun-Lin Chang,Han-Lung Chang,Ting-Ya CHENG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-11-14.

Apparatus and system for generating extreme ultraviolet light and method of using the same

Номер патента: US09544985B2. Автор: Jin-Hong Park,Jin-Seok Heo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-01-10.

Extreme ultraviolet light generation system

Номер патента: US09497841B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Tatsuya Yanagida. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2016-11-15.

System and method for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US09439275B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Masato Moriya. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2016-09-06.

Target material supply apparatus for an extreme ultraviolet light source

Номер патента: US09392678B2. Автор: Norbert Bowering,Georgiy O. Vaschenko,Peter Baumgart,Silvia De Dea. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-07-12.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2029356B1. Автор: UEDA Atsushi,KOGE Koichiro,OSANAI Takayuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-09-11.

Euv light source with a beam positioning device

Номер патента: US20240357726A1. Автор: Boris Regaard,Martin Lambert,Tolga Ergin,Oliver Schlosser. Владелец: Trumpf Lasersystems for Semiconductor Manufacturing GmbH. Дата публикации: 2024-10-24.

Method and apparatus for controlling exhaust pressure for an extreme ultraviolet generation chamber

Номер патента: US10684009B2. Автор: Ming-Hsun Tsai,Ping-Cheng Li,Yen-Hsun Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-06-16.

Extreme ultraviolet light generation device

Номер патента: US10990016B2. Автор: Atsushi Ueda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-04-27.

Extreme ultraviolet reflective element with amorphous layers and method of manufacturing thereof

Номер патента: US20160011345A1. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-01-14.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2034367A. Автор: SUGANUMA Takashi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-12-05.

Droplet generator and method of sevicing extreme ultraviolet radiation source apparatus

Номер патента: US20200004168A1. Автор: Chia-Chen Chen,Li-Jui Chen,Shao-Hua Wang,Han-Lung Chang,Ming-Hsun Tsai,Yen-Hsun Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-01-02.

System and method for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: WO2012173166A2. Автор: Osamu Wakabayashi,Kouji Kakizaki,Tatsuya Yanagida,Tsukasa Hori. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2012-12-20.

Extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: US8629417B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Takanobu Ishihara,Shinji Nagai,Tamotsu Abe. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2014-01-14.

Plasma-based debris mitigation for extreme ultraviolet (EUV) light source

Номер патента: US7652272B2. Автор: David Ruzic,Robert Bristol,Bryan J. Rice. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2010-01-26.

Apparatus and method for generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: US20220260922A1. Автор: BO-TSUN Liu,Kuan-Hung Chen,Shang-Chieh Chien,Chun-Chia Hsu,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-08-18.

Extreme ultraviolet exposure apparatus and method, and method of manufacturing semiconductor device by using the exposure method

Номер патента: US10969691B2. Автор: Seung-Yoon Lee,Doo-gyu LEE,Chan-sam Chang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-04-06.

Apparatus for generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: TW202021427A. Автор: 陳冠宏,陳立銳,劉柏村,許峻嘉,謝劼,簡上傑,鄭博中. Владелец: 台灣積體電路製造股份有限公司. Дата публикации: 2020-06-01.

Method and apparatus for controlling droplet in extreme ultraviolet light source

Номер патента: US11914302B2. Автор: Chi-Hung Liao,Yueh-Lin Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-02-27.

Light source and extreme ultraviolet light source system using the same

Номер патента: US11828952B2. Автор: Dohyung Kim,Motoshi Sakai,Jungchul Lee,Seungkoo Lee,Seongchul HONG,Kyungsik KANG,Kyungbin Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-28.

Viewport assembly for an extreme ultraviolet light source

Номер патента: WO2023241885A1. Автор: Christopher Liu,Lam Nguyen,Dustin Michael URONE,Paul Alexander MCKENZIE,Gregory THERIAULT,Mark Joseph Mitry. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2023-12-21.

Target debris collection device and extreme ultraviolet light source apparatus including the same

Номер патента: US11852984B2. Автор: Minseok Choi,Ho Yu,SungHyup KIM,Jeonggil KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-12-26.

Target control in extreme ultraviolet lithography systems using aberration of reflection image

Номер патента: US11860544B2. Автор: Li-Jui Chen,Yen-Shuo Su,Han-Lung Chang,Ting-Ya CHENG,Shi-Han SHANN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-01-02.

Method and apparatus for controlling exhaust pressure for an extreme ultraviolet generation chamber

Номер патента: US20200132300A1. Автор: Ming-Hsun Tsai,Ping-Cheng Li,Yen-Hsun Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-04-30.

Method and apparatus for controlling exhaust pressure for an extreme ultraviolet generation chamber

Номер патента: US20200003414A1. Автор: Ming-Hsun Tsai,Ping-Cheng Li,Yen-Hsun Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-01-02.

Method and apparatus for controlling extreme ultraviolet light

Номер патента: US20210364931A1. Автор: Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Ssu-Yu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-11-25.

Target control in extreme ultraviolet lithography systems using aberration of reflection image

Номер патента: US20240085797A1. Автор: Li-Jui Chen,Yen-Shuo Su,Han-Lung Chang,Ting-Ya CHENG,Shi-Han SHANN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20230387644A1. Автор: Takashi Suganuma. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-11-30.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2028521A. Автор: Honda Yoshiyuki,HOSODA Hirokazu,KOBAYASHI Takanari. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2022-03-21.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210033981A1. Автор: Yuta TAKASHIMA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-02-04.

Extreme ultraviolet light generation device

Номер патента: US20180314161A1. Автор: Toru Suzuki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-11-01.

Apparatus and method for generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: US20200075190A1. Автор: Li-Jui Chen,Chun-Lin Chang,Han-Lung Chang,Ting-Ya CHENG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-03-05.

System and method for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: EP2721907A2. Автор: Osamu Wakabayashi,Kouji Kakizaki,Tatsuya Yanagida,Tsukasa Hori. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2014-04-23.

Systems and methods for improving x-ray sources with switchable electron emitters

Номер патента: US20240047167A1. Автор: HITOSHI MASUYA,Nir EDEN,Amir Ben Shalom. Владелец: Nano X Imaging Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Induction heated buffer gas heat pipe for use in an extreme ultraviolet source

Номер патента: US20130153568A1. Автор: Malcolm W. McGeoch. Владелец: PLEX LLC. Дата публикации: 2013-06-20.

Inspection system for extreme ultraviolet (euv) light source

Номер патента: US20230142835A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Sheng-Kang Yu,Chiao-Hua Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-05-11.

Extreme ultraviolet light source device

Номер патента: US09867267B2. Автор: Jin-Hong Park,In-sung Kim,Seung-Koo Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-01-09.

Structure electron beam inspection system for inspecting extreme ultraviolet mask and structure for discharging extreme ultraviolet mask

Номер патента: US09572237B2. Автор: You-Jin Wang,Chiyan Kuan,Chung-Shih Pan. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2017-02-14.

Structure electron beam inspection system for inspecting extreme ultraviolet mask and structure for discharging extreme ultraviolet mask

Номер патента: US20150305131A1. Автор: You-Jin Wang,Chiyan Kuan,Chung-Shih Pan. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2015-10-22.

Apparatus for generating extreme ultraviolet (euv), method of manufacturing the same, and euv system

Номер патента: US20220167492A1. Автор: Jihoon Na,Mun Ja KIM,Byungchul YOO,Jaewhan Sung,Hyunjune Cho,Jibeom Yoo,Hakseok Lee,Myeongjin Jeong. Владелец: Sungkyunkwan University Research and Business Foundation. Дата публикации: 2022-05-26.

Apparatus for generating extreme ultraviolet (EUV), method of manufacturing the same, and EUV system

Номер патента: US11729896B2. Автор: Jihoon Na,Mun Ja KIM,Byungchul YOO,Jaewhan Sung,Hyunjune Cho,Jibeom Yoo,Hakseok Lee,Myeongjin Jeong. Владелец: Sungkyunkwan University Research and Business Foundation. Дата публикации: 2023-08-15.

Extreme ultraviolet radiation in genomic sequencing and other applications

Номер патента: EP3411692A1. Автор: Supriya JAISWAL. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-12-12.

Extreme Ultraviolet Radiation in Genomic Sequencing and Other Applications

Номер патента: US20200140941A1. Автор: Supriya JAISWAL. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-05-07.

Extreme ultraviolet radiation in genomic sequencing and other applications

Номер патента: US11718871B2. Автор: Supriya JAISWAL. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-08-08.

Structure for discharging extreme ultraviolet mask

Номер патента: US20120292509A1. Автор: You-Jin Wang,Chiyan Kuan,Chung-Shih Pan. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2012-11-22.

Extreme ultraviolet radiation in genomic sequencing and other applications

Номер патента: CA3012825C. Автор: Supriya JAISWAL. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-02-13.

Structure for discharging extreme ultraviolet mask

Номер патента: US20140027634A1. Автор: You-Jin Wang,Chiyan Kuan,Chung-Shih Pan. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2014-01-30.

Method and apparatus of confining high energy charged particles in magnetic cusp configuration

Номер патента: EP3117438A2. Автор: Jaeyoung Park,Nicholas Anthony KRALL,Paul Earl SIECK. Владелец: Energy Matter Conversion Corp Inc. Дата публикации: 2017-01-18.

Electric light and daylight control system with dual-mode light sensor

Номер патента: RU2598172C2. Автор: Дагначев БИРРУ,Эдуард Йоханнес МЕЙЕР. Владелец: КОНИНКЛЕЙКЕ ФИЛИПС Н.В.. Дата публикации: 2016-09-20.

Fluorescent light unit with dual light levels

Номер патента: CA1248169A. Автор: Charles E. Beck. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1989-01-03.

Microwave resonant system with dual resonant frequency and a cyclotron fitted with such a system

Номер патента: CA1139819A. Автор: Duc T. Tran. Владелец: CGR MEV SA. Дата публикации: 1983-01-18.

Node for connection of flat body with voltage source with embedded control unit

Номер патента: RU2699814C1. Автор: Патрик Вебер. Владелец: СЭН-ГОБЭН ГЛАСС ФРАНС. Дата публикации: 2019-09-11.

Device to improve compatibility of solid-state light sources with intensity control with phase cut-off

Номер патента: RU2619055C2. Автор: Бертранд Йохан Эдвард ХОНТЕЛЕ,Джеймс М. ГЕЙНЗ,Х. Эндрю МЭЙО. Владелец: Филипс Лайтинг Холдинг Б.В.. Дата публикации: 2017-05-11.

Duoplasmatron ion source with a partially ferromagnetic anode

Номер патента: EP4049298A1. Автор: Peter Williams. Владелец: Arizona State University ASU. Дата публикации: 2022-08-31.

Duoplasmatron ion source with a partially ferromagnetic anode

Номер патента: US20210375574A1. Автор: Peter Williams. Владелец: Arizona State University ASU. Дата публикации: 2021-12-02.

Duoplasmatron ion source with a partially ferromagnetic anode

Номер патента: WO2021081347A1. Автор: Peter Williams. Владелец: Arizona Board of Regents on behalf of Arizona State University. Дата публикации: 2021-04-29.

Lighting device having a vivid and dulling light source with controlled duty cycling thereof

Номер патента: US11796140B1. Автор: Todd Lee Marcucci,Wallace Andrew Kluck. Владелец: Alliance Sports Group LP. Дата публикации: 2023-10-24.

Systems and methods for modifying and enhancing pyrotechnic emissions and effects by irradiating pyrotechnic emissions using electromagnetic radiation sources with programmable electromagnetic radiation profiles

Номер патента: US20180299236A1. Автор: Eric J. Miklaszewski,Jonathan M. Dilger,Travis R. Siplpel,James B. Michael. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 2018-10-18.

Symmetrical inductively coupled plasma source with symmetrical flow chamber

Номер патента: US09745663B2. Автор: Shahid Rauf,Kartik Ramaswamy,Kenneth S. Collins,Andrew Nguyen,Ajit Balakrishna,Douglas A. Buchberger, Jr.,Richard Fovell,Ankur Agarwal,Jason A. Kenney,James D. Carducci,Leonid Dorf. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-08-29.

Light source with total low distortion by higher harmonics

Номер патента: RU2491604C2. Автор: Томас Э. СТЭК. Владелец: Кью ТЕКНОЛОДЖИ, ИНК.. Дата публикации: 2013-08-27.

Solid-state light source with colour feedback and composite communication apparatus

Номер патента: RU2437184C2. Автор: Ахим ХИЛЬГЕРС. Владелец: КОНИНКЛЕЙКЕ ФИЛИПС ЭЛЕКТРОНИКС Н.В.. Дата публикации: 2011-12-20.

Inductively coupled plasma source with symmetrical RF feed

Номер патента: US09928987B2. Автор: Shahid Rauf,Kartik Ramaswamy,Kenneth S. Collins,Richard Fovell,Jason A. Kenney,James D. Carducci. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-03-27.

Symmetrical plural-coil plasma source with side RF feeds and RF distribution plates

Номер патента: US09870897B2. Автор: Shahid Rauf,Kartik Ramaswamy,Kenneth S. Collins,Richard Fovell,Jason A. Kenney,James D. Carducci. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-01-16.

Light-emitting diode light source with improved reduction of residual glow

Номер патента: RU2713922C2. Автор: Фокко Ян Виллем ХУЛСХОФ,Вилхелмус Йосефус КОРНЕЛИССЕН. Владелец: Филипс Лайтинг Холдинг Б.В.. Дата публикации: 2020-02-11.

Light source with adjustable brightness and light temperature colour shift

Номер патента: RU2523438C2. Автор: Георг ЗАУЭРЛЕНДЕР. Владелец: КОНИНКЛЕЙКЕ ФИЛИПС ЭЛЕКТРОНИКС Н.В.. Дата публикации: 2014-07-20.

X-ray source with cyclotron autoresonance

Номер патента: RU2760284C1. Автор: Владимир Леонидович Саввин,Александр Викторович Коннов,Гоар Мартиросовна Казарян. Владелец: Александр Викторович Коннов. Дата публикации: 2021-11-23.

Luminous source with pleasing light

Номер патента: WO2015019331A2. Автор: Giorgio Martini,Giulio VEZZANI. Владелец: MARTINI SPA. Дата публикации: 2015-02-12.

Luminous source with pleasing light

Номер патента: US20160198543A1. Автор: Giorgio Martini,Giulio VEZZANI. Владелец: MARTINI SPA. Дата публикации: 2016-07-07.

Light Source with a Pleasant Light

Номер патента: US20150233545A1. Автор: Giorgio Martini. Владелец: MARTINI SPA. Дата публикации: 2015-08-20.

Light source with a pleasant light

Номер патента: EP2901502A1. Автор: Giorgio Martini. Владелец: MARTINI SPA. Дата публикации: 2015-08-05.

Light source with a pleasant light

Номер патента: WO2014049422A1. Автор: Giorgio Martini. Владелец: MARTINI SPA. Дата публикации: 2014-04-03.

Light-emitting diode (led) light source with reduced flickering

Номер патента: RU2597326C2. Автор: Тео Геррит ЗЕЙЛМАН. Владелец: КОНИНКЛЕЙКЕ ФИЛИПС Н.В.. Дата публикации: 2016-09-10.

Symmetrical Plural-Coil Plasma Source with Side Rf Feeds and Rf Distribution Plates

Номер патента: US20180138014A1. Автор: Shahid Rauf,Kartik Ramaswamy,Kenneth S. Collins,Richard Fovell,Jason A. Kenney,James D. Carducci. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-05-17.

Symmetrical plural-coil plasma source with side rf feeds and rf distribution plates

Номер патента: US20140312766A1. Автор: Shahid Rauf,Kartik Ramaswamy,Kenneth S. Collins,Richard Fovell,Jason A. Kenney,James D. Carducci. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2014-10-23.

Laser-sustained plasma light source with reverse vortex flow

Номер патента: US11776804B2. Автор: Ilya Bezel,Leonid Borisovich Zvedenuk,Andrey Evgenievich Stepanov,Vitaly K. Rerikh,Boris Vasilyevich Potapkin. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2023-10-03.

Extreme ultraviolet light source device, laser light source device for extreme ultraviolet light source, and method of adjusting laser light source device for extreme ultraviolet light source device

Номер патента: US8698114B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Masato Moriya,Hideo Hoshino,Hakaru Mizoguchi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2014-04-15.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and extreme ultraviolet light generation apparatus controlling method

Номер патента: US20200185212A1. Автор: Takashi Saito,Atsushi Ueda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-06-11.

Laser apparatus, extreme ultraviolet light generation system, method for controlling the laser apparatus, and method for generating the extreme ultraviolet light

Номер патента: EP2673856A2. Автор: Osamu Wakabayashi,Krzysztof Nowak. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2013-12-18.

Laser apparatus, extreme ultraviolet light generation system, method for controlling the laser apparatus, and method for generating the extreme ultraviolet light

Номер патента: US09570884B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Krzysztof Nowak. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-02-14.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SENSOR UNIT AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION DEVICE

Номер патента: US20190021159A1. Автор: ISHII Takuya,NARA Hisashi,SOMEYA Hiroshi. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2019-01-17.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT CONDENSATION MIRROR, EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT CONDENSATION MIRROR MANUFACTURING METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20210193344A1. Автор: ANDO Masahiko. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2021-06-24.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATING SYSTEM, EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATING METHOD, AND THOMSON SCATTERING MEASUREMENT SYSTEM

Номер патента: US20170280545A1. Автор: Wakabayashi Osamu,YANAGIDA Tatsuya,Tomita Kentaro,UCHINO Kiichiro,TOMURO Hiroaki. Владелец: . Дата публикации: 2017-09-28.

Extreme ultraviolet light source device and method for producing extreme ultraviolet light

Номер патента: US8471226B2. Автор: Yoshifumi Ueno,Hiroshi Komori,Akira Endo,Tatsuya Yanagida,Akira Sumitani,Tsukasa Hori. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2013-06-25.

An extreme ultraviolet light system and a method of generating an extreme ultraviolet light

Номер патента: TWI599269B. Автор: 威廉Ｎ 派特洛,伊克爾Ｖ 佛門哥,亞歷山大Ｉ 艾瑟夫,查理斯Ｃ 查羅巴克,詹姆斯Ｈ 克羅奇. Владелец: Ａｓｍｌ荷蘭公司. Дата публикации: 2017-09-11.

Mirror for extreme ultraviolet light and extreme ultraviolet light generating apparatus

Номер патента: US11614572B2. Автор: Yoshiyuki Honda,Osamu Wakabayashi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-03-28.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM AND METHOD OF GENERATING EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT

Номер патента: US20170171955A1. Автор: UENO Yoshifumi,YABU Takayuki,HOSODA Hirokazu. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2017-06-15.

Extreme ultraviolet light generating apparatus and method for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US20170205713A1. Автор: Takayuki Yabu. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-07-20.

Extreme ultraviolet chamber apparatus, extreme ultraviolet light generation system, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20200312479A1. Автор: Atsushi Ueda,Georg Soumagne,Gota Niimi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-10-01.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATING APPARATUS, METHOD OF GENERATING EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT, CONCENTRATED PULSED LASER LIGHT BEAM MEASURING APPARATUS, AND METHOD OF MEASURING CONCENTRATED PULSED LASER LIGHT BEAM

Номер патента: US20150351211A1. Автор: Wakabayashi Osamu,MIZOGUCHI Hakaru,KAWASUJI Yasufumi. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2015-12-03.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATING APPARATUS AND CONTROL METHOD FOR CENTROID OF EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT

Номер патента: US20180343729A1. Автор: YABU Takayuki,NISHIMURA Yuichi. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2018-11-29.

Extreme ultraviolet light source device and method for producing extreme ultraviolet light

Номер патента: US20110101863A1. Автор: Yoshifumi Ueno,Hiroshi Komori,Akira Endo,Tatsuya Yanagida,Akira Sumitani,Tsukasa Hori. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2011-05-05.

Extreme ultraviolet light generation system and method of generating extreme ultraviolet light

Номер патента: US10057972B2. Автор: Yoshifumi Ueno,Hirokazu HOSODA,Takayuki Yabu. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-08-21.

Extreme ultraviolet light source device, control method of extreme ultraviolet light source device

Номер патента: JP5368261B2. Автор: 理 若林,正人 守屋. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2013-12-18.

Extreme ultraviolet light source device and method for generating extreme ultraviolet light

Номер патента: JP2010080940A. Автор: Yoshifumi Ueno,Hiroshi Komori,Akira Endo,彰 遠藤,明 住谷,司 堀,浩 小森,Akira Sumiya,Tatsuya Yanagida,Tsukasa Hori,能史 植野,達哉 柳田. Владелец: KOMATSU LTD. Дата публикации: 2010-04-08.

Extreme ultraviolet light generating apparatus, method of generating extreme ultraviolet light, concentrated pulsed laser light beam measuring apparatus, and method of measuring concentrated pulsed laser light beam

Номер патента: US9510434B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Hakaru Mizoguchi,Yasufumi Kawasuji. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2016-11-29.

Extreme ultraviolet light source device and control method for extreme ultraviolet light source device

Номер патента: US8692220B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Masato Moriya. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2014-04-08.

Control method of extreme ultraviolet light generator and extreme ultraviolet light generator

Номер патента: JP6977047B2. Автор: 隆志 斎藤,篤 植田. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-12-08.

Extreme-ultraviolet light source device and method for generating extreme-ultraviolet light

Номер патента: WO2011102277A1. Автор: 弘司 柿崎,若林　理,司 堀,柳田　達哉. Владелец: ギガフォトン株式会社. Дата публикации: 2011-08-25.

Methods of generating extreme ultraviolet radiation

Номер патента: US20240324090A1. Автор: Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Han-Lung Chang,Wei-Shin CHENG,Hsiao-Lun CHANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Variable Radius Mirror Dichroic Beam Splitter Module for Extreme Ultraviolet Source

Номер патента: US20160174351A1. Автор: Rafac Robert J.,Schafgans Alexander,Zhang Kevin W.,Purvis Michael. Владелец: . Дата публикации: 2016-06-16.

Variable radius mirror dichroic beam splitter module for extreme ultraviolet source

Номер патента: KR102526923B1. Автор: 로버트 제이 라팍,케빈 웨이민 장,알렉산더 앤서니 샤프간스,마이클 앤서니 퍼비스. Владелец: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.. Дата публикации: 2023-04-27.

Euv cleaning systems and methods thereof for an extreme ultraviolet light source

Номер патента: WO2018164819A1. Автор: Marc Guy Langlois. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2018-09-13.

Chamber device, extreme ultraviolet light generation apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20210289611A1. Автор: Atsushi Ueda,Koichiro KOGE,Takayuki OSANAI. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-09-16.

Euv cleaning systems and methods thereof for an extreme ultraviolet light source

Номер патента: US20180259861A1. Автор: Marc Guy Langlois. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-09-13.

STRUCTURE ELECTRON BEAM INSPECTION SYSTEM FOR INSPECTING EXTREME ULTRAVIOLET MASK AND STRUCTURE FOR DISCHARGING EXTREME ULTRAVIOLET MASK

Номер патента: US20170053774A1. Автор: KUAN CHIYAN,WANG YOU-JIN,PAN Chung-Shih. Владелец: . Дата публикации: 2017-02-23.

STRUCTURE ELECTRON BEAM INSPECTION SYSTEM FOR INSPECTING EXTREME ULTRAVIOLET MASK AND STRUCTURE FOR DISCHARGING EXTREME ULTRAVIOLET MASK

Номер патента: US20150305131A1. Автор: KUAN CHIYAN,WANG YOU-JIN,PAN Chung-Shih. Владелец: . Дата публикации: 2015-10-22.

Laser system, extreme ultraviolet light generator, and extreme ultraviolet light generation method

Номер патента: JP6838155B2. Автор: 正彦 安藤,安藤　正彦. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2021-03-03.

Induction heated buffer gas heat pipe for use in an extreme ultraviolet source

Номер патента: US8569724B2. Автор: Malcolm W. McGeoch. Владелец: PLEX LLC. Дата публикации: 2013-10-29.

Optical etendue matching methods for extreme ultraviolet metrology

Номер патента: WO2020243374A1. Автор: Daniel Wack,Zefram Marks,Larissa Juschkin. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2020-12-03.

Extreme ultraviolet light and plasma combined atomic-scale processing method

Номер патента: EP4197966A1. Автор: Fengzhou Fang. Владелец: TIANJIN UNIVERSITY. Дата публикации: 2023-06-21.

Photomask for extreme ultraviolet lithography and method for fabricating the same

Номер патента: US8158305B2. Автор: Sung Hyun Oh. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2012-04-17.

Pattern forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet ray-sensitive resin composition, resist film, and method for manufacturing electronic device, and electronic device using the same

Номер патента: US09423690B2. Автор: Shuji Hirano,Hiroo Takizawa,Wataru Nihashi,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-08-23.

Atomic-scale processing method by combining extreme ultraviolet light and plasma

Номер патента: US20220336189A1. Автор: Fengzhou Fang. Владелец: TIANJIN UNIVERSITY. Дата публикации: 2022-10-20.

Mask absorber layers for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US20240312783A1. Автор: Daniel Staaks. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2024-09-19.

Extreme ultraviolet (euv) exposure system and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20180031978A1. Автор: Chang-min Park,Ji-Sun LEE,Myung-soo HWANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-02-01.

Methods and apparatus to reduce extreme ultraviolet light for photolithography

Номер патента: US20240241446A1. Автор: Charles H. Wallace,Leonard GULER,Elliot N. Tan,Shengsi LIU,Marvin Paik,Vivek Vishwakarma,Izabela Samek,Mohammadreza Soleymaniha. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Extreme ultraviolet (EUV) exposure system and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US09996009B2. Автор: Chang-min Park,Ji-Sun LEE,Myung-soo HWANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-06-12.

Dispositioning defects detected on extreme ultraviolet photomasks

Номер патента: WO2020061241A1. Автор: Masaki Satake,Weston Sousa,Vikram Tolani. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2020-03-26.

Extreme ultraviolet reflective element with multilayer stack and method of manufacturing thereof

Номер патента: US09581890B2. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-02-28.

Pattern forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet ray-sensitive resin composition, resist film, and method for manufacturing electronic device, and electronic device using the same

Номер патента: WO2014030723A1. Автор: Shuji Hirano,Hiroo Takizawa,Wataru Nihashi,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2014-02-27.

Approach to lowering extreme ultraviolet exposure dose for inorganic hardmasks for extreme ultraviolet patterning

Номер патента: US20180348636A1. Автор: Karen E. Petrillo,Ekmini A. De Silva,Indira P. Seshadri. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-12-06.

Method of manufacturing extreme ultraviolet (euv) mask for forming semiconductor memory device

Номер патента: US20240152043A1. Автор: Chan Hwang,Sangho Yun,Janghoon Kim,Minseung SONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-09.

Mask for extreme ultraviolet lithography and method for manufacturing same

Номер патента: US20210397078A1. Автор: Jung Sik Kim,Jinho Ahn,Dong Min Jeong. Владелец: Industry University Cooperation Foundation IUCF HYU. Дата публикации: 2021-12-23.

Extreme ultraviolet light generation chamber device and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240241448A1. Автор: Atsushi Ueda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-07-18.

Methods of manufacturing semiconductor devices, method sof performing extreme ultraviolet ray exposure, and methods of performing optical proximity correction

Номер патента: US20200064728A1. Автор: Ki-Soo Kim,No-Young Chung,Akio Misaka. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-02-27.

Methods and apparatus for ruthenium oxide reduction on extreme ultraviolet photomasks

Номер патента: US20240118603A1. Автор: Banqiu Wu,Khalid Makhamreh,Eliyahu Shlomo DAGAN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-11.

Extreme ultraviolet light generation chamber device and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2036440A. Автор: UEDA Atsushi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-07-22.

Silicon carbide-based lateral PN junction extreme ultraviolet detector based on selective-area ion implantation, and preparation method thereof

Номер патента: US12080821B2. Автор: Dong Zhou,Hai Lu,Weizong Xu. Владелец: NANJING UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-09-03.

Extreme Ultraviolet Lithography System, Device, and Method for Printing Low Pattern Density Features

Номер патента: US20200319545A1. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-10-08.

Extreme ultraviolet lithography system, device, and method for printing low pattern density features

Номер патента: US20180173089A1. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-06-21.

Methods for forming extreme ultraviolet mask comprising magnetic material

Номер патента: US12092952B2. Автор: Hsin-Chang Lee,Pei-Cheng Hsu,Ta-Cheng Lien,Tzu-Yi Wang,Kevin TANADY. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Hybrid extreme ultraviolet imaging spectrometer

Номер патента: US20170062198A1. Автор: Norman A. Sanford,Ann Chiaramonti Debay,Brian P. Gorman,David R. Diercks. Владелец: US Department of Commerce. Дата публикации: 2017-03-02.

Hybrid extreme ultraviolet imaging spectrometer

Номер патента: US09899197B2. Автор: Norman A. Sanford,Ann Chiaramonti Debay,Brian P. Gorman,David R. Diercks. Владелец: US Department of Commerce. Дата публикации: 2018-02-20.

Optical proximity correction method and method of manufacturing extreme ultraviolet mask by using the optical proximity correction method

Номер патента: US09715170B2. Автор: Sang-hwa Lee,Sung-Hoon Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-07-25.

Methods for extreme ultraviolet mask defect mitigation by multi-patterning

Номер патента: US09673111B2. Автор: Tan Soon Yoeng,Gek Soon Chua. Владелец: GLOBALFOUNDRIES SINGAPORE PTE LTD. Дата публикации: 2017-06-06.

Methods for optical proximity correction in the design and fabrication of integrated circuits using extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US09651855B2. Автор: Lei Sun,Wenhui Wang,Ryan Ryoung-Han Kim. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-05-16.

System, method and reticle for improved pattern quality in extreme ultraviolet (EUV) lithography and method for forming the reticle

Номер патента: US09558944B2. Автор: Chia-Chen Chen,Shang-Chieh Chien,Jui-Ching Wu,Chia-Hao Hsu,Chia-Jen Chen,Chia-Ching HUANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

System and method for rejuvenating an imaging sensor degraded by exposure to extreme ultraviolet or deep ultraviolet light

Номер патента: EP2837174A1. Автор: Gary Janik,Gildardo DELGADO. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2015-02-18.

System and method for rejuvenating an imaging sensor degraded by exposure to extreme ultraviolet or deep ultraviolet light

Номер патента: WO2013155391A1. Автор: Gary Janik,Gildardo DELGADO. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2013-10-17.

Graded hardmask interlayer for enhanced extreme ultraviolet performance

Номер патента: US20200152460A1. Автор: Ekmini A. De Silva,Dario Goldfarb,Jennifer Church. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2020-05-14.

Extreme ultraviolet mask blank defect reduction methods

Номер патента: WO2021081291A1. Автор: Wen Xiao,SHIYU Liu,Sanjay Bhat,Vibhu Jindal,Azeddine Zerrade,Binni VARGHESE. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-04-29.

Methods for Extreme Ultraviolet (EUV) Resist Patterning Development

Номер патента: US20230341781A1. Автор: Alok Ranjan,Peter Ventzek,Yun Han. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-26.

Extreme ultraviolet (EUV) photomask and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US11927879B2. Автор: Jeongjin Lee,Seung Yoon Lee,Moosong Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-12.

Method for Patterning a Substrate Using Extreme Ultraviolet Lithography

Номер патента: US20170090290A1. Автор: Anton J. deVilliers. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-30.

Blankmask and photomask for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US20210132487A1. Автор: Jong-Hwa Lee,Cheol Shin,Chul-Kyu Yang,Gil-Woo KONG,Gyeong-Won SEO. Владелец: S&S Tech Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-06.

Extreme ultraviolet lithography patterning method

Номер патента: US20240153773A1. Автор: Yoshihiro Kato,Choong-Man Lee,Toshio Hasegawa,Soo Doo Chae,Angelique RALEY,Qiaowei Lou. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Critical dimension variation correction in extreme ultraviolet lithography

Номер патента: IL239577B. Автор: Sergey Oshemkov,Vladimir Kruglyakov,Frederik Blumrich,Yuval PERETS. Владелец: Yuval PERETS. Дата публикации: 2020-10-29.

Methods and apparatus for ruthenium oxide reduction on extreme ultraviolet photomasks

Номер патента: EP4298479A1. Автор: Banqiu Wu,Khalid Makhamreh,Eliyahu Shlomo DAGAN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-03.

Extreme ultraviolet lithography patterning method

Номер патента: US11915931B2. Автор: Yoshihiro Kato,Choong-Man Lee,Toshio Hasegawa,Soo Doo Chae,Angelique RALEY,Qiaowei Lou. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-27.

Reticle in an apparatus for extreme ultraviolet exposure

Номер патента: US11835850B2. Автор: Sanghyun Kim,Jinho Jeon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-12-05.

Extreme ultraviolet mask with alloy based absorbers

Номер патента: US20230375921A1. Автор: Hsin-Chang Lee,Pei-Cheng Hsu,Ta-Cheng Lien,Ping-Hsun LIN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Extreme ultraviolet mask blank defect reduction methods

Номер патента: WO2021081289A1. Автор: Wen Xiao,Sanjay Bhat,Vibhu Jindal,Azeddine Zerrade,Shuwei Liu,Herng Yau Yoong. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-04-29.

Extreme ultraviolet lithography mask blank manufacturing system and method of operation therefor

Номер патента: WO2014165300A1. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-10-09.

Extreme ultraviolet reflective element with multilayer stack and method of manufacturing thereof

Номер патента: EP3167474A1. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-05-17.

Extreme ultraviolet mask with capping layer

Номер патента: US20230116213A1. Автор: Hsin-Chang Lee,Pei-Cheng Hsu,Wei-Hao Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-04-13.

Extreme Ultraviolet Mask Blank Defect Reduction

Номер патента: US20200012183A1. Автор: KE CHANG,Vibhu Jindal,Shuwei Liu,Sai Abhinand,Hui Ni Grace Fong. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-01-09.

Methods for extreme ultraviolet (euv) resist patterning development

Номер патента: WO2022103949A1. Автор: Alok Ranjan,Peter Ventzek,Yun Han. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2022-05-19.

Method of forming a pattern of semiconductor device of a semiconductor device on a semiconductor substrate by using an extreme ultraviolet mask

Номер патента: US20230106148A1. Автор: Kisung Kim,Sangoh PARK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-04-06.

Extreme ultraviolet (euv) photomask and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20220100077A1. Автор: Jeongjin Lee,Seung Yoon Lee,Moosong Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-03-31.

Photoresist composition for extreme ultraviolet, and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20240168381A1. Автор: Naery YU,Juyoung Kim,Juhyeon Park,Honggu IM,Jincheol PARK,Seonghyeon Ahn,Sungmin KO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-23.

Extreme ultraviolet lithography patterning method

Номер патента: WO2023023258A1. Автор: Yoshihiro Kato,Toshio Hasegawa,Soo Doo Chae,Angelique RALEY,Qiaowei Lou,Choongman LEE. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2023-02-23.

Novel silicon carbide-based lateral pn junction extreme ultraviolet detector based on selective-area ion implantation, and preparation method thereof

Номер патента: US20240204126A1. Автор: Dong Zhou,Hai Lu,Weizong Xu. Владелец: NANJING UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-06-20.

Method of manufacturing extreme ultraviolet (euv) photomask and method and apparatus for correcting euv photomask

Номер патента: US20220113619A1. Автор: Jongju Park,Sanguk Park,Jongkeun OH,Gyeongcheon JO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-04-14.

Reflective mask for extreme ultraviolet lithography and a method of fabricating a semiconductor device using the same

Номер патента: US20240219824A1. Автор: Akio Misaka,Noyoung CHUNG,Seokyun Jeong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-04.

Electric machine stator lamination with dual phase magnetic material

Номер патента: US20160087503A1. Автор: Ayman Mohamed Fawzi EL-Refaie,Steven Joseph Galioto. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2016-03-24.

Transistor with dual spacer and forming method thereof

Номер патента: US20190157418A1. Автор: Chih-Chung Wang,Chia-Ling Wang,Wen-Fang Lee,Ping-Hung Chiang,Chang-Po Hsiung,Nien-Chung Li,Chia-Wen Lu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2019-05-23.

Conditional handover with dual connectivity

Номер патента: EP4193668A1. Автор: Elena Virtej,Amaanat ALI,Ahmad Awada,Srinivasan Selvaganapathy. Владелец: NOKIA TECHNOLOGIES OY. Дата публикации: 2023-06-14.

Method and apparatus for wireless communication with dual connectivity

Номер патента: US09930629B2. Автор: Joonkui Ahn,Yunjung Yi,Byounghoon Kim. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2018-03-27.

Phase-locked loop with dual-mode phase/frequency detection

Номер патента: US6759838B2. Автор: Kuang-Chung Tao,Chi-Ming Hsiao,Chang-Fu Kuo. Владелец: MediaTek Inc. Дата публикации: 2004-07-06.

Magnetic random access memory cell with dual junction for ternary content addressable memory applications

Номер патента: RU2572464C2. Автор: Бертран КАМБУ. Владелец: Крокус Текнолоджи Са. Дата публикации: 2016-01-10.

Conditional handover with dual connectivity

Номер патента: WO2022028920A1. Автор: Elena Virtej,Amaanat ALI,Ahmad Awada,Srinivasan Selvaganapathy. Владелец: NOKIA TECHNOLOGIES OY. Дата публикации: 2022-02-10.

Apparatus and circuits with dual threshold voltage transistors and methods of fabricating the same

Номер патента: US20200135733A1. Автор: Chan-Hong Chern. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-04-30.

Apparatus and circuits with dual threshold voltage transistors and methods of fabricating the same

Номер патента: US20230290782A1. Автор: Chan-Hong Chern. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-14.

Apparatus and circuits with dual polarization transistors and methods of fabricating the same

Номер патента: US11990541B2. Автор: Chan-Hong Chern. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-05-21.

Antenna array element with dual polarization, antenna array including antenna array element and electronic device including antenna array

Номер патента: US20240195085A1. Автор: Anton Sergeevich Lukyanov,Elena Aleksandrovna Shepeleva,Gennadiy Aleksandrovich Evtyushkin,Artem Rudolfovitch Vilenskiy. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-13.

Improved cmos diodes with dual gate conductors, and methods for forming the same

Номер патента: EP2020029A4. Автор: Werner Rausch,Haining S Yang,David M Onsongo. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2009-09-09.

Improved cmos diodes with dual gate conductors, and methods for forming the same

Номер патента: EP2020029A2. Автор: Haining S. Yang,Werner Rausch,David M. Onsongo. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2009-02-04.

A broadband monopole antenna with dual radiating structures

Номер патента: EP2586099A1. Автор: Qinjiang Rao,Mina Ayatollahi. Владелец: Research in Motion Ltd. Дата публикации: 2013-05-01.

Broadband monopole antenna with dual radiating structures

Номер патента: US20130328737A1. Автор: Qinjiang Rao,Mina Ayatollahi. Владелец: BlackBerry Ltd. Дата публикации: 2013-12-12.

Method for manufacturing memory device having word line with dual conductive materials

Номер патента: US20230301072A1. Автор: Jhen-Yu Tsai,Yu-Ping Chen. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2023-09-21.

Memory device having word line with dual conductive materials

Номер патента: US20230298998A1. Автор: Jhen-Yu Tsai,Yu-Ping Chen. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2023-09-21.

Providing group call priority access in lte and priority access for user equipments with dual access classes

Номер патента: WO2014036321A2. Автор: Kirankumar Anchan,Arvind V. SANTHANAM,Karthika Paladugu. Владелец: QUALCOMM INCORPORATED. Дата публикации: 2014-03-06.

Single Antenna with Dual Circular Polarizations and Quad Feeds for Millimeter Wave Applications

Номер патента: US20240250448A1. Автор: Edwin Lim,Marvin Weinstein. Владелец: Waymo LLC. Дата публикации: 2024-07-25.

Pulse controller with dual latches

Номер патента: US20080111603A1. Автор: Kuo-Fan Lin. Владелец: SPI Electronic Co Ltd. Дата публикации: 2008-05-15.

Package-on-package devices with WLP components with dual RDLs for surface mount dies and methods therefor

Номер патента: US09972609B2. Автор: MIN Tao,Zhuowen Sun,Belgacem Haba,Wael Zohni,Ashok S. Prabhu,Hoki Kim. Владелец: Invensas LLC. Дата публикации: 2018-05-15.

Integrated circuits having multiple gate devices with dual threshold voltages and methods for fabricating such integrated circuits

Номер патента: US09754939B2. Автор: Shyue Seng Tan,Kiok Boone Elgin Quek. Владелец: GLOBALFOUNDRIES SINGAPORE PTE LTD. Дата публикации: 2017-09-05.

Bond pad structure with dual passivation layers

Номер патента: US09691703B2. Автор: Ye Wang. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-06-27.

Image recording device for vehicle with dual Wi-Fi access function and image sharing system using the same

Номер патента: US09648546B2. Автор: Hyun Chul Kim,Jake Lee,Tae Yun Lee,Hyun Chul Im,Hyun Min HUR. Владелец: PITTASOFT CO Ltd. Дата публикации: 2017-05-09.

Providing group call priority access in LTE and priority access for user equipments with dual access classes

Номер патента: US09408134B2. Автор: Kirankumar Bhoja ANCHAN,Arvind Vardarajan Santhanam,Karthika Paladugu. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2016-08-02.

Cell phone with dual thermometer functionality

Номер патента: US20110190030A1. Автор: Kenneth P. Glynn. Владелец: GlynnTech Inc. Дата публикации: 2011-08-04.

Smart card with dual interface and its manufacturing method

Номер патента: RU2607725C1. Автор: Иван Сергеевич Демидов,Евгений Геннадьевич Яковлев. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Интеллектуальные Системы Управления Бизнесом". Дата публикации: 2017-01-10.

Dual magnetic circuits structure and sound device

Номер патента: US11765513B2. Автор: Jiujian Liu. Владелец: AAC Microtech Changzhou Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Dual magnetic tunnel junction (DMTJ) stack design

Номер патента: US12082509B2. Автор: Ru-Ying Tong,Yu-Jen Wang,Guenole Jan,Luc Thomas,Sahil Patel,Vignesh SUNDAR. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Ferroresonant transformer with dual outputs

Номер патента: CA1297546C. Автор: Howard H. Bobry. Владелец: Albar Inc. Дата публикации: 1992-03-17.

Remote monitoring system receiver with dual baud rate selector

Номер патента: CA1286410C. Автор: Irving W. Cahalan. Владелец: Hazeltine Corp. Дата публикации: 1991-07-16.

Integrated circuit structure with dual thickness cobalt silicide layers and method for its manufacture

Номер патента: US6040606A. Автор: Christopher S. Blair. Владелец: National Semiconductor Corp. Дата публикации: 2000-03-21.

Browser with dual scripting engine for privacy protection

Номер патента: RU2556338C2. Автор: Вальтер ДЕС,Михаел П. Ф. ВЕРСОР. Владелец: КОНИНКЛЕЙКЕ ФИЛИПС ЭЛЕКТРОНИКС Н.В.. Дата публикации: 2015-07-10.

Organic thin film transistor with dual layer electrodes

Номер патента: CA2612033C. Автор: Beng S. Ong,Yiliang Wu. Владелец: Xerox Corp. Дата публикации: 2013-09-10.

Semiconductor devices with dual-metal gate structures and fabrication methods thereof

Номер патента: US20080099851A1. Автор: Peng-Fu Hsu,Hun-Jan Tao,Ying Jin,Huan-Just Lin,Fong-Yu Yen,Yi-Shien Mor. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2008-05-01.

Broadband monopole antenna with dual radiating structures

Номер патента: US8531344B2. Автор: Qinjiang Rao,Mina Ayatollahi. Владелец: BlackBerry Ltd. Дата публикации: 2013-09-10.

Field effect transistors with dual silicide contact structures

Номер патента: US20240088261A1. Автор: Sung-Li Wang,Ding-Kang SHIH,Yasutoshi Okuno,Peng-Wei Chu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Stylus pen apparatus with dual power sources

Номер патента: US20200310563A1. Автор: Hsueh-Li CHEN. Владелец: Renaisser Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-10-01.

Field effect transistors with dual silicide contact structures

Номер патента: US11855177B2. Автор: Sung-Li Wang,Ding-Kang SHIH,Yasutoshi Okuno,Peng-Wei Chu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Ofdma trigger based peer to peer operations with dual-stage triggering

Номер патента: US20220182981A1. Автор: Xiaogang Chen,Qinghua Li,David Birnbaum,Jonathan Segev,Ofer Hareuveni. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-06-09.

Methods and apparatus for detecting ACK/NACK bits with dual list-RM decoder and symbol regeneration for LTE PUCCH format 3

Номер патента: US11690057B2. Автор: Yuanbin Guo. Владелец: Marvell Asia Pte Ltd. Дата публикации: 2023-06-27.

Intra block copy mode with dual tree partition

Номер патента: US11825030B2. Автор: LI ZHANG,Kai Zhang,Hongbin Liu,Yue Wang,Jizheng Xu. Владелец: ByteDance Inc. Дата публикации: 2023-11-21.

Hybrid center-fed edge-fed metasurface antenna with dual-beam capabilities

Номер патента: EP4315510A1. Автор: Mohsen Sazegar,Hamidreza CHALABI. Владелец: Kymeta Corp. Дата публикации: 2024-02-07.

Microphone speaker with dual independent sound chambers

Номер патента: US20230156387A1. Автор: Kuo Su. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-05-18.

Single antenna with dual circular polarizations and quad feeds for millimeter wave applications

Номер патента: US11967764B1. Автор: Edwin Lim,Marvin Weinstein. Владелец: Waymo LLC. Дата публикации: 2024-04-23.

Tunable external cavity laser with dual gain chips

Номер патента: US11978996B2. Автор: Wei Chen,Ming Li,Ninghua Zhu,Wenhui Sun,Changda Xu,Dechao Ban. Владелец: Institute of Semiconductors of CAS. Дата публикации: 2024-05-07.

Power semiconductor device with dual shield structure in silicon carbide and manufacturing method thereof

Номер патента: US20230411511A1. Автор: Chongman Yun,Kwang Hoon OH,Soo Seong KIM. Владелец: Trinno Tech Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Asymmetric static random access memory cell with dual stress liner

Номер патента: WO2012170465A3. Автор: Shaofeng Yu,Wah Kit Loh. Владелец: Texas Instruments Japan Limited. Дата публикации: 2013-04-25.

Asymmetric static random access memory cell with dual stress liner

Номер патента: WO2012170465A2. Автор: Shaofeng Yu,Wah Kit Loh. Владелец: Texas Instruments Japan Limited. Дата публикации: 2012-12-13.

Double-ended dual magnetic dc-dc switching power converter with stacked secondary windings and an ac coupled output

Номер патента: WO2023107468A1. Автор: Marty Perry,Robert J. Schaller. Владелец: Raytheon Company. Дата публикации: 2023-06-15.

Subscriber prioritization for devices with dual subscriptions

Номер патента: US20220039110A1. Автор: Kazuki Takeda,Masakazu Shirota,Marco Papaleo. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2022-02-03.

Integrated circuits with dual silicide contacts and methods for fabricating same

Номер патента: US20160049490A1. Автор: Guillaume Bouche,Andy Wei,Jeremy A. Wahl,Shao Ming Koh. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2016-02-18.

Light-field optical image system with dual mode

Номер патента: CA3201341A1. Автор: Francisco Alventosa,Jorge Blasco,Fran Ribes,Carles Montoliu,Javier Grandia,Adolfo Martinez,Ivan VIRGILIO PERINO. Владелец: Photonic Sensors & Algorithms Sl. Дата публикации: 2022-06-23.

Light-field optical image system with dual mode

Номер патента: EP4264935A1. Автор: Francisco Alventosa,Jorge Blasco,Fran Ribes,Carles Montoliu,Javier Grandia,Adolfo Martinez,Ivan VIRGILIO PERINO. Владелец: Photonic Sensors and Algorithms SL. Дата публикации: 2023-10-25.

Light-field optical image system with dual mode

Номер патента: US20240053574A1. Автор: Francisco Alventosa,Jorge Blasco,Fran Ribes,Carles Montoliu,Javier Grandia,Adolfo Martinez,Ivan VIRGILIO PERINO. Владелец: Photonic Sensors & Algorithms Sl. Дата публикации: 2024-02-15.

Integrated circuits having multiple gate devices with dual threshold voltages and methods for fabricating such integrated circuits

Номер патента: US20170133373A1. Автор: Shyue Seng Tan,Kiok Boone Elgin Quek. Владелец: GLOBALFOUNDRIES SINGAPORE PTE LTD. Дата публикации: 2017-05-11.

Methods and apparatus for detecting ack/nack bits with dual list-rm decoder and symbol regeneration for lte pucch format 3

Номер патента: US20190335468A1. Автор: Yuanbin Guo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2019-10-31.

Methods and apparatus for detecting ack/nack bits with dual list-rm decoder and symbol regeneration for lte pucch format 3

Номер патента: US20210329639A1. Автор: Yuanbin Guo. Владелец: Marvell Asia Pte Ltd. Дата публикации: 2021-10-21.

Field-effect transistors with dual thickness gate dielectrics

Номер патента: US20210167180A1. Автор: Rui Ma,Mark Armstrong,Ayan KAR,Akm A. AHSAN,Kalyan C. Kolluru,Nicholas A. Thomson,Sameer Jayanta Joglekar,Hyuk Ju Ryu,Sayan Saha. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2021-06-03.

Subscriber prioritization for devices with dual subscriptions

Номер патента: EP4190084A1. Автор: Kazuki Takeda,Masakazu Shirota,Marco Papaleo. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2023-06-07.

Antenna array element with dual polarization, antenna array including antenna array element and electronic device including antenna array

Номер патента: WO2024122750A1. Автор: Anton Sergeevich Lukyanov,Elena Aleksandrovna Shepeleva,Gennadiy Aleksandrovich Evtyushkin,Artem Rudolfovitch Vilenskiy. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2024-06-13.

Subscriber prioritization for devices with dual subscriptions

Номер патента: WO2022031425A1. Автор: Kazuki Takeda,Masakazu Shirota,Marco Papaleo. Владелец: QUALCOMM INCORPORATED. Дата публикации: 2022-02-10.

System and method for switching data session in user equipment with dual sim in a wireless communication system

Номер патента: US20230217513A1. Автор: Abhishek Tiwari,Danish Ehsan HASHMI,Jagadeesh GANDIKOTA,Brijendra Kumar ASTHANA,Jyotimoy KARJEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-06.

Dual Magnetic Tunnel Junction (DMTJ) Stack Design

Номер патента: US20200091408A1. Автор: Ru-Ying Tong,Yu-Jen Wang,Guenole Jan,Luc Thomas,Sahil Patel,Vignesh SUNDAR. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-03-19.

Microwave light source with solid dielectric waveguide

Номер патента: RU2497228C2. Автор: Эндрю Саймон Нит,Барри ПРЕСТОН. Владелец: Серавижн Лимитед. Дата публикации: 2013-10-27.

Controlled high-stable voltage source with arbitrary-shaped signal generator function with isolated output

Номер патента: RU2744936C1. Автор: Николай Васильевич Краснов,Максим Николаевич Краснов,Александр Николаевич Арсеньев,Александр Георгиевич Монаков. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Эйч Ви Девайсес" (ООО "Эйч Ви Девайсес"). Дата публикации: 2021-03-17.

Welding source with operating cycle digital control

Номер патента: RU2540952C2. Автор: Бернард Дж. ВОДЖЕЛ. Владелец: ИЛЛИНОЙС ТУЛ ВОРКС ИНК.. Дата публикации: 2015-02-10.

Method for stabilizing frequency of output voltage of autonomous power supply source with power plant of internal combustion

Номер патента: RU2735322C1. Автор: Борис Николаевич Сидоров,Владимир Евсеевич Ютт. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский автомобильно-дорожный государственный технический университет (МАДИ)". Дата публикации: 2020-10-30.

Reserve power supply source with electrode plates fixed by auxiliary conductors

Номер патента: RU2544244C2. Автор: Тай-Хер ЯНГ. Владелец: Тай-Хер ЯНГ. Дата публикации: 2015-03-20.

Method for controlling welding current source with resonance circuit

Номер патента: RU2245232C2. Автор: Хуберт АИГНЕР,Хуберт АИГНЕР (AT). Владелец: Фрониус Интернациональ Гмбх. Дата публикации: 2005-01-27.

X-ray source with variety of electron emitters

Номер патента: RU2538771C2. Автор: Гереон ФОГТМАЙЕР,Вольфганг ХРОСТ. Владелец: КОНИНКЛЕЙКЕ ФИЛИПС ЭЛЕКТРОНИКС Н.В.. Дата публикации: 2015-01-10.

Chemical current source with an electrolyte forming as a result of a reaction

Номер патента: RU2648244C1. Автор: Рустем Галятдинович Тазетдинов,Геннадий Серафимович Тибрин. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский авиационный институт (национальный исследовательский университет)". Дата публикации: 2018-03-23.

Frequency source with improved phase noise

Номер патента: US20160164528A1. Автор: Matthew A. Morton,Tina P. Srivastava. Владелец: Raytheon Co. Дата публикации: 2016-06-09.

Systems and methods for using spatial and temporal analysis to associate data sources with mobile devices

Номер патента: US20240334159A1. Автор: Dale Hartzell,Mark Welton,Michael Perri,Stephen Skory. Владелец: Mobile Technology Corp. Дата публикации: 2024-10-03.

Systems and methods for using spatial and temporal analysis to associate data sources with mobile devices

Номер патента: US09870574B2. Автор: Dale Hartzell,Mark Welton,Michael Perri. Владелец: Mobile Technology Corp. Дата публикации: 2018-01-16.

Frequency comb source with large comb spacing

Номер патента: US09759983B2. Автор: Ingmar Hartl,Martin Fermann. Владелец: IMRA America Inc. Дата публикации: 2017-09-12.

Frequency source with improved phase noise

Номер патента: US09705513B2. Автор: Matthew A. Morton,Tina P. Srivastava. Владелец: Raytheon Co. Дата публикации: 2017-07-11.

Systems and methods for using spatial and temporal analysis to associate data sources with mobile devices

Номер патента: US09654919B2. Автор: Dale Hartzell,Mark Welton,Michael Perri. Владелец: Mobile Technology Corp. Дата публикации: 2017-05-16.

Reflective light-emitting device for a WDM PON optical access network, the device including a light source with an optical gain medium

Номер патента: US09602216B2. Автор: Philippe Chanclou,Benoit Charbonnier,Fabienne Saliou. Владелец: ORANGE SA. Дата публикации: 2017-03-21.

Systems and methods for using spatial and temporal analysis to associate data sources with mobile devices

Номер патента: US09439033B2. Автор: Dale Hartzell,Mark Welton,Michael Perri. Владелец: Mobile Technology Corp. Дата публикации: 2016-09-06.

HIGH-POWER FIBRE PUMPING SOURCE WITH HIGH-BRIGHTNESS LOW NOISE OUTPUT RADIATION IN WAVELENGTH RANGE 974-1030 nm

Номер патента: RU2591586C2. Автор: Валентин ГАПОНЦЕВ,Игорь САМАРЦЕВ. Владелец: Ай-Пи-Джи Фоутоникс Корпорейшн. Дата публикации: 2016-07-20.

Mismatch detection in digital twin data by comparing to thresholds the reliability and latency constraint communication related values received from sources with geolocation information

Номер патента: US20220361011A1. Автор: Mikko Aleksi Uusitalo,Martti Johannes Moisio,Kimmo Kalervo HÄTÖNEN,Dani Johannes KORPI,Tero Johannes IHALAINEN. Владелец: NOKIA SOLUTIONS AND NETWORKS OY. Дата публикации: 2022-11-10.

Light source with set emission spectrum

Номер патента: WO1983003719A1. Автор: Baasel Lasertechnik Gmbh Carl. Владелец: Langhans, Lutz. Дата публикации: 1983-10-27.

Light-emitting diode light source with biologically adequate radiation spectrum

Номер патента: RU2693632C1. Автор: Владимир Николаевич Уласюк. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью «Научно-технический центр «Биолюмен» (ООО «НТЦ «Биолюмен»). Дата публикации: 2019-07-03.

Radiation power current source with low radiation coefficient

Номер патента: RU2684167C2. Автор: Мая Ивановна Стальная,Татьяна Михайловна Халина,Илья Алексеевич Иванов. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Алтайский государственный технический университет им. И.И. Ползунова" (АлтГТУ). Дата публикации: 2019-04-04.

Source with recuperation of power of higher harmonics

Номер патента: RU2767319C1. Автор: Николай Петрович Кириллов,Александр Викторович Чемусов,Денис Валерьевич Аркадьев,Роман Александрович Раенко. Владелец: Федеральное государственное казенное военное образовательное учреждение высшего образования "Военная академия Ракетных войск стратегического назначения имени Петра Великого" МО РФ. Дата публикации: 2022-03-17.

Led light source with remote luminophor

Номер патента: RU2604059C2. Автор: Владимир Александрович Горюнов,Борис Николаевич Денисов,Владимир Яковлевич Гришаев,Лилия Максимовна Лавренко,Евгений Васильевич Никишин. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский Мордовский государственный университет им. Н.П. Огарёва". Дата публикации: 2016-12-10.

Device for ion transport in sources with ionization at atmospheric pressure with conversion of continuous flow into pulse one

Номер патента: RU2732074C2. Автор: Николай Васильевич Краснов,Максим Николаевич Краснов. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "БиАП". Дата публикации: 2020-09-11.

Fibre-optic light source with amplified spontaneous emission and a method for generating light using amplified spontaneous emission

Номер патента: WO2023187637A1. Автор: Ryszard Buczynski,Dariusz Pysz,Rafał Kasztelanic,Mariusz Klimczak. Владелец: Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Mikroelektroniki I Fotoniki. Дата публикации: 2023-10-05.

Light source with adapted spectral distribution

Номер патента: RU2665121C2. Автор: БОММЕЛ Тис ВАН,Рифат Ата Мустафа ХИКМЕТ. Владелец: Филипс Лайтинг Холдинг Б.В.. Дата публикации: 2018-08-28.

Structured quantizer for sources with memory

Номер патента: CA2131280C. Автор: Rajiv Laroia. Владелец: American Telephone and Telegraph Co Inc. Дата публикации: 1998-09-22.

Method of modulating a coherent light source with an electronic digital data stream

Номер патента: US6141132A. Автор: Dmitry Berger,Harlan Faller,Michael O'hagan,James R. Palmer. Владелец: Silkroad Inc. Дата публикации: 2000-10-31.

Modulated light source with a linear transfer function and method utilizing same

Номер патента: US5289550A. Автор: Robert J. Plastow. Владелец: Orchard Communications Inc. Дата публикации: 1994-02-22.

System and Method for Prioritizing the Synchronization of a Light Source with Image Sensor

Номер патента: US20200336634A1. Автор: Eduardo M. Molieri. Владелец: Karl Storz Imaging Inc. Дата публикации: 2020-10-22.

Primary source with frequency re-utilization

Номер патента: CA1190317A. Автор: Nhu Bui-Hai. Владелец: Thomson CSF SA. Дата публикации: 1985-07-09.

A power source with solid oxide fuel cells

Номер патента: CA2452657C. Автор: Gilles Robert. Владелец: Cerion AG. Дата публикации: 2009-03-03.

Systems and methods for using spatial and temporal analysis to associate data sources with mobile devices

Номер патента: US20230410152A1. Автор: Dale Hartzell,Mark Welton,Michael Perri,Stephen Skory. Владелец: Mobile Technology Corp. Дата публикации: 2023-12-21.

Systems and methods for using spatial and temporal analysis to associate data sources with mobile devices

Номер патента: US20210092559A1. Автор: Dale Hartzell,Mark Welton,Michael Perri,Stephen Skory. Владелец: Mobile Technology Corp. Дата публикации: 2021-03-25.

Systems and methods for using spatial and temporal analysis to associate data sources with mobile devices

Номер патента: WO2021061901A1. Автор: Dale Hartzell,Mark Welton,Michael Perri,Stephen Skory. Владелец: Mobile Technology, LLC. Дата публикации: 2021-04-01.

Systems and methods for using spatial and temporal analysis to associate data sources with mobile devices

Номер патента: US11783372B2. Автор: Dale Hartzell,Mark Welton,Michael Perri,Stephen Skory. Владелец: Mobile Technology Corp. Дата публикации: 2023-10-10.

Systems and methods for using spatial and temporal analysis to associate data sources with mobile devices

Номер патента: US20200019994A1. Автор: Dale Hartzell,Mark Welton,Michael Perri,Stephen Skory. Владелец: Mobile Technology Corp. Дата публикации: 2020-01-16.

Systems and methods for using spatial and temporal analysis to associate data sources with mobile devices

Номер патента: US12028779B2. Автор: Dale Hartzell,Mark Welton,Michael Perri,Stephen Skory. Владелец: Mobile Technology Corp. Дата публикации: 2024-07-02.

Charger for power sources with battery support

Номер патента: RU2657012C1. Автор: Бернхард ВАГНЕР. Владелец: КОНИНКЛЕЙКЕ ФИЛИПС Н.В.. Дата публикации: 2018-06-08.

Light source with light-emitting component

Номер патента: RU2251761C2. Автор: Гундула РОТ,Вальтер ТЕВС,Стефан ТАШ,Петер ПАХЛЕР,Вольфганг КЕМПФЕРТ,Детлеф ШТАРИК. Владелец: Тойода Госеи Ко., Лтд. Дата публикации: 2005-05-10.

Techniques for improving the performance and extending the lifetime of an ion source with gas mixing

Номер патента: US7655931B2. Автор: Atul Gupta. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2010-02-02.

Electron source with micropoint emissive cathodes and display means by cathodoluminescence excited by field emission using said source

Номер патента: US4940916A. Автор: Robert Meyer,Michel Borel,Philippe Rambaud,Jean-Francois Boronat. Владелец: Commissariat a lEnergie Atomique CEA. Дата публикации: 1990-07-10.

Mobile power source with keyboard

Номер патента: US20150188341A1. Автор: Guang-Feng Ou. Владелец: Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2015-07-02.

Mismatch detection in digital twin data by comparing to thresholds the reliability and latency constraint communication related values received from sources with geolocation information

Номер патента: EP3994909A1. Автор: Mikko Aleksi Uusitalo,Martti Johannes Moisio,Kimmo Kalervo HÄTÖNEN,Dani Johannes KORPI,Tero Johannes IHALAINEN. Владелец: NOKIA SOLUTIONS AND NETWORKS OY. Дата публикации: 2022-05-11.

Plasma Source with Lamp House Correction

Номер патента: US20200041774A1. Автор: Ilya Bezel,Shiyu Zhang. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2020-02-06.

Wearable devices comprising semiconductor diode light sources with improved signal-to-noise ratio

Номер патента: US20240180428A1. Автор: Mohammed N. Islam. Владелец: Omni Medsci Inc. Дата публикации: 2024-06-06.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE DEVICE, LASER LIGHT SOURCE DEVICE FOR EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE DEVICE, AND METHOD OF ADJUSTING LASER LIGHT SOURCE DEVICE FOR EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE DEVICE

Номер патента: US20130148677A1. Автор: MORIYA Masato,Wakabayashi Osamu,MIZOGUCHI Hakaru,HOSHINO Hideo. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2013-06-13.

LASER SYSTEM, EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS, AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION METHOD

Номер патента: US20200119514A1. Автор: ANDO Masahiko. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2020-04-16.

LASER APPARATUS, EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM, METHOD FOR CONTROLLING THE LASER APPARATUS, AND METHOD FOR GENERATING THE EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT

Номер патента: US20130148674A1. Автор: Wakabayashi Osamu,Nowak Krzysztof. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2013-06-13.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS CONTROLLING METHOD

Номер патента: US20200185212A1. Автор: UEDA Atsushi,Saito Takashi. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2020-06-11.

EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY METHOD, EXTREME ULTRAVIOLET MASK AND FORMATION METHOD THEREOF

Номер патента: US20210389661A1. Автор: Shih Chih-Tsung,WU YU-HSUN,LIU Bo-Tsun,LEE Tsung-Chuan. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd.. Дата публикации: 2021-12-16.

APPROACH TO LOWERING EXTREME ULTRAVIOLET EXPOSURE DOSE FOR INORGANIC HARDMASKS FOR EXTREME ULTRAVIOLET PATTERNING

Номер патента: US20180348636A1. Автор: De Silva Ekmini A.,Seshadri Indira P.,Petrillo Karen E.. Владелец: . Дата публикации: 2018-12-06.

Extreme ultraviolet photomask and methods and apparatuses for manufacturing the extreme ultraviolet photomask

Номер патента: CN101750874B. Автор: 张日容,禹相均,许圣民. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2013-06-12.

Metal-containing film forming composition for extreme ultraviolet light or electron beam lithography, metal-containing film for extreme ultraviolet light or electron beam lithography, and pattern forming method

Номер патента: WO2019021975A1. Автор: 龍一 芹澤,希美 佐藤,裕介 大坪. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2019-01-31.

Composition for forming resist underlayer film for electron beam or extreme ultraviolet light lithography, resist underlayer film for electron beam or extreme ultraviolet light lithography, and method for producing semiconductor substrate

Номер патента: WO2021193030A1. Автор: 祐亮 庵野,智昭 瀬古,明崇 二位. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2021-09-30.

Force actuator with dual magnetic operation

Номер патента: US5896076A. Автор: Frederik T. van Namen. Владелец: MOTRAN INDUSTRIES Inc. Дата публикации: 1999-04-20.

System and Method for Rejuvenating an Imaging Sensor Degraded by Exposure to Extreme Ultraviolet or Deep Ultraviolet Light

Номер патента: US20130295695A1. Автор: Delgado Gildardo,Janik Gary. Владелец: . Дата публикации: 2013-11-07.

System and method for rejuvenating an imaging sensor degraded by exposure to extreme ultraviolet or deep ultraviolet light

Номер патента: EP2837174A4. Автор: Gary Janik,Gildardo DELGADO. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2016-01-06.

Polymer brushes for extreme ultraviolet photolithography

Номер патента: EP3672996B1. Автор: Ankit Vora,Martin Glodde,Dario Goldfarb. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-15.

System and method for focus control in extreme ultraviolet lithography systems using a focus-sensitive metrology target

Номер патента: US20220214625A1. Автор: Xuemei Chen,Roel Gronheid. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2022-07-07.

Polymer brushes for extreme ultraviolet photolithography

Номер патента: US20190285985A1. Автор: Ankit Vora,Dario L. Goldfarb,Martin Glodde. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2019-09-19.

Polymer brushes for extreme ultraviolet photolithography

Номер патента: WO2019038625A1. Автор: Ankit Vora,Martin Glodde,Dario Goldfarb. Владелец: Ibm (China) Investment Company Limited. Дата публикации: 2019-02-28.

Dispositioning defects detected on extreme ultraviolet photomasks

Номер патента: IL281403B2. Автор: . Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-04-01.

Forming a reticle for extreme ultraviolet radiation and structures formed thereby

Номер патента: US20060102986A1. Автор: Bryan Rice,Kramadhati Ravi. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2006-05-18.

Defect detection system for extreme ultraviolet lithography mask

Номер патента: US09546964B2. Автор: Ming Liu,Xiaoli Zhu,Dongmei Li,Changqing Xie,Hailiang Li,Lina Shi,Jiebin Niu. Владелец: Institute of Microelectronics of CAS. Дата публикации: 2017-01-17.

Amorphous layer extreme ultraviolet lithography blank, and manufacturing and lithography systems therefor

Номер патента: US09612521B2. Автор: Kevin Moraes,Ralf Hofmann. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-04-04.

Extreme ultraviolet lithography system that utilizes pattern stitching

Номер патента: US20190235393A1. Автор: David M. Williamson,Michael B. Binnard,Daniel Gene Smith. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2019-08-01.

Thermally stable multilayer mirror for extreme ultraviolet spectral range

Номер патента: RU2410732C2. Автор: Норберт КАЙЗЕР,Николя БЕНУА,Торстен ФАЙГЛЬ,Сергий ЮЛИН. Владелец: Фраунхофер-Гезелльшафт Цур Фердерунг Дер Ангевандтен Форшунг Е.Ф.. Дата публикации: 2011-01-27.

Extreme ultraviolet lithography system that utilizes pattern stitching

Номер патента: US20170336720A1. Автор: David M. Williamson,Michael B. Binnard,Daniel Gene Smith. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-11-23.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20230161262A1. Автор: Kotaro Miyashita,Gouta NIIMI. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-05-25.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2033232A. Автор: MIYASHITA Kotaro,NIIMI Gouta. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-06-12.

Method of cleaning extreme ultraviolet lithography collector

Номер патента: US20200073250A1. Автор: Ching-Yu Chang,Chin-Hsiang Lin,An-Ren Zi. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-03-05.

Pattern forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet-sensitive composition, resist film, method for manufacturing electronic device using the same, and electronic device

Номер патента: US09411230B2. Автор: Kaoru Iwato,Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-08-09.

Pattern-forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using them and electronic device

Номер патента: EP2761373A1. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Naoki Inoue. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-08-06.

Dense line extreme ultraviolet lithography system with distortion matching

Номер патента: US20190212663A1. Автор: Michael B. Binnard. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2019-07-11.

Pattern forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet-sensitive composition, resist film, manufacturing method of electronic device, and electronic device

Номер патента: US20130084438A1. Автор: Kaoru Iwato,Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2013-04-04.

Extreme ultraviolet pellicle storage and method of preserving extreme ultraviolet pellicle properties thereof

Номер патента: US20240337922A1. Автор: Marcio D. Lima,Sergey Li,Hooman RAHMANI. Владелец: Lintec of America Inc. Дата публикации: 2024-10-10.

Pattern-forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using them and electronic device

Номер патента: US09470980B2. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Naoki Inoue. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

Extreme ultraviolet lithography process and mask

Номер патента: US09448491B2. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Amorphous layer extreme ultraviolet lithography blank, and manufacturing and lithography systems therefor

Номер патента: US20140268081A1. Автор: Kevin Moraes,Ralf Hofmann. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2014-09-18.

Amorphous layer extreme ultraviolet lithography blank, and manufacturing and lithography systems therefor

Номер патента: WO2014165298A1. Автор: Kevin Moraes,Ralf Hofmann. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-10-09.

Extreme ultraviolet light source apparatus and method of adjusting the same

Номер патента: US20100193712A1. Автор: Kazuo Tawarayama. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-08-05.

Extreme ultraviolet lithography method, extreme ultraviolet mask and formation method thereof

Номер патента: US12072633B2. Автор: BO-TSUN Liu,Chih-Tsung Shih,Yu-Hsun Wu,Tsung-Chuan LEE. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

Extreme ultraviolet lithography process and mask

Номер патента: US09529272B2. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-12-27.

Positive resist composition for extreme ultraviolet lithography and resist pattern formation kit for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US20230324797A1. Автор: Manabu Hoshino. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2023-10-12.

Pattern forming method, electron beam- or extreme ultraviolet-sensitive resin composition, resist film using the same, method of manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US20150370170A1. Автор: Shuji Hirano,Hiroo Takizawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-12-24.

Process solution composition for extreme ultraviolet lithography, and method for forming pattern by using same

Номер патента: US20210214649A1. Автор: Seung Hyun Lee,Su Jin Lee,Seung Hun Lee. Владелец: Youngchang Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-07-15.

Extreme ultraviolet lithography projection optics system and associated methods.

Номер патента: NL2013719B1. Автор: Lu Yen-Cheng,Yu Shinn-Sheng,Yen Anthony. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg Co Ltd. Дата публикации: 2016-04-04.

Extreme ultraviolet lithography process and mask

Номер патента: US09996013B2. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

Extreme ultraviolet lithography process and mask

Номер патента: US09829785B2. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-11-28.

Extreme ultraviolet lithography process

Номер патента: US09760015B2. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-09-12.

Method of making an extreme ultraviolet pellicle

Номер патента: US09664999B2. Автор: Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen,Chih-Tsung Shih,Shang-Chieh Chien,Chia-Jen Chen,Tien-Hsi Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Extreme ultraviolet mask blank production system with thin absorber and manufacturing system therefor

Номер патента: US09612522B2. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-04-04.

Planarized extreme ultraviolet lithography blank with absorber and manufacturing system therefor

Номер патента: US09581889B2. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-02-28.

Extreme ultraviolet lithography process

Номер патента: US09442387B2. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-09-13.

Ligand-capped main group nanoparticles as high absorption extreme ultraviolet lithography resists

Номер патента: US11874600B2. Автор: Florian Gstrein,James M. Blackwell,Robert L. Bristol,Marie KRYSAK. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-01-16.

Ligand-capped main group nanoparticles as high absorption extreme ultraviolet lithography resists

Номер патента: US20190302615A1. Автор: Florian Gstrein,James M. Blackwell,Robert L. Bristol,Marie KRYSAK. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2019-10-03.

Extreme ultraviolet lithography mask blank and manufacturing method therefor

Номер патента: US6117597A. Автор: Kathleen R. Early. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2000-09-12.

Pattern-forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using them and electronic device

Номер патента: EP2761372A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Takeshi Kawabata. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-08-06.

Pattern-forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using them and electronic device

Номер патента: WO2013047092A1. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Naoki Inoue. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-04-04.

Extreme ultraviolet exposure apparatus including a mask stage

Номер патента: US20240219848A1. Автор: Jinhong Park,Dohyung Kim,Sanghwan Lee,Seongchul HONG,Hachul Shin. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-04.

Method of reducing undesired light influence in extreme ultraviolet exposure

Номер патента: US20240295820A1. Автор: BO-TSUN Liu,Chih-Tsung Shih,Yahru CHENG,Tsung Chuan LEE,Chen-Ming Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Mask for Extreme-Ultraviolet (Extreme-UV) Lithography and Method for Manufacturing the Same

Номер патента: US20190155138A1. Автор: Jae Uk Lee,Ryan Ryoung Han Kim. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2019-05-23.

Extreme ultraviolet (euv) substrate inspection system with simplified optics and method of manufacturing thereof

Номер патента: WO2015095621A1. Автор: Christopher Dennis Bencher,Christopher G. Talbot,Majeed A. Foad,John Christopher Moran. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2015-06-25.

Extreme Ultraviolet Lithography System

Номер патента: US20200019070A1. Автор: Ching-Yu Chang,Chin-Hsiang Lin,Cheng-Han Wu,Ming-Hui Weng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-01-16.

Compounds and processes for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US20240002412A1. Автор: Thomas M. Cameron,David M. ERMERT. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-01-04.

Extreme ultraviolet pellicles and method of manufacturing

Номер патента: US20240248391A1. Автор: Feng Q. Liu,Jeffrey W. Anthis,Mark Saly,Lakmal C. Kalutarage,Thomas Joseph Knisley,Nasrin Kazem. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-25.

Multilayer extreme ultraviolet reflectors

Номер патента: US11762278B2. Автор: Wen Xiao,Vibhu Jindal,Herng Yau Yoong. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-19.

Inspection tool for an extreme ultraviolet radiation source to observe tin residual

Номер патента: US12066761B2. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Cheng-Hsuan Wu,Cheng-Hao Lai,Sheng-Kang Yu,Yu-Huan Chen,Wei-Chun YEN,Yu-Kuang SUN,Ming-Hsun Tsai,Wei-Shin CHENG,Chiao-Hua Cheng,Yu-Fa LO. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Extreme Ultraviolet Mask Blank Structure

Номер патента: US20220252971A1. Автор: SHIYU Liu,Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-08-11.

Multiple Exposures in Extreme Ultraviolet Lithography

Номер патента: US20140272720A1. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2014-09-18.

Phase shift mask for extreme ultraviolet lithography and a method of manufacturing a semiconductor device using the same

Номер патента: US12099293B2. Автор: Seongsue Kim,Changyoung Jeong,Hwanseok SEO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-24.

Extreme ultraviolet lithography method using robust, high transmission pellicle

Номер патента: US12055855B2. Автор: Yun-Yue Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Extreme ultraviolet lithography process and mask

Номер патента: US09690186B2. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Sub-wavelength extreme ultraviolet metal transmission grating and manufacturing method thereof

Номер патента: US09442230B2. Автор: Ming Liu,Xiaoli Zhu,Dongmei Li,Changqing Xie,Hailiang Li,Lina Shi. Владелец: Institute of Microelectronics of CAS. Дата публикации: 2016-09-13.

Foil trap and extreme ultraviolet light source device using the foil trap

Номер патента: EP1972999A3. Автор: Takahiro Inoue,Takahiro Shirai. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2009-07-15.

Process for producing a reflective optical element for the extreme ultraviolet wavelength range and reflective optical element

Номер патента: EP4308981A1. Автор: Thomas Schicketanz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-01-24.

Pattern forming method, method for selecting heating temperature in pattern forming method, extreme ultraviolet-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using the same, and electronic device

Номер патента: US20150017576A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Naoki Inoue. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-01-15.

Pellicle for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: EP4075195A1. Автор: Hyeong Keun Kim,Seul Gi Kim,Hyun Mi Kim,Jin Woo Cho,Ki Hun Seong. Владелец: KOREA ELECTRONICS TECHNOLOGY INSTITUTE. Дата публикации: 2022-10-19.

Process for producing a reflective optical element for the extreme ultraviolet wavelength range and reflective optical element

Номер патента: US20230417961A1. Автор: Thomas Schicketanz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-12-28.

Pattern forming method, electron beam- or extreme ultraviolet-sensitive resin composition, resist film using the same, method of manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US9612535B2. Автор: Shuji Hirano,Hiroo Takizawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-04-04.

Extreme ultraviolet lithography method, extreme ultraviolet mask and formation method thereof

Номер патента: US20230324804A1. Автор: BO-TSUN Liu,Chih-Tsung Shih,Yu-Hsun Wu,Tsung-Chuan LEE. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Extreme ultraviolet lithography device and method of operating extreme ultraviolet lithography device

Номер патента: US11960212B2. Автор: Chan Hwang,HyungJong BAE,Hoduk CHO,SeongBo Shim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-16.

Extreme ultraviolet pellicle with enhanced extreme ultraviolet transmission and method of producing thereof

Номер патента: WO2024072508A2. Автор: Takahiro Ueda,Marcio D. Lima,Sergey Li,Hooman RAHMANI. Владелец: Lintec Of America, Inc.. Дата публикации: 2024-04-04.

Extreme ultraviolet lithography device and method of operating extreme ultraviolet lithography device

Номер патента: EP4286942A3. Автор: Chan Hwang,HyungJong BAE,Hoduk CHO,SeongBo Shim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-12-13.

Multilayer graphene direct growth method and method for manufacturing pellicle for extreme ultraviolet lithography using the same

Номер патента: EP4002007A1. Автор: Hyeong Keun Kim,Seul Gi Kim,Hye Young Kim,Hyun Mi Kim. Владелец: KOREA ELECTRONICS TECHNOLOGY INSTITUTE. Дата публикации: 2022-05-25.

Extreme ultraviolet lithography device and method of operating extreme ultraviolet lithography device

Номер патента: EP4286942A2. Автор: Chan Hwang,HyungJong BAE,Hoduk CHO,SeongBo Shim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-12-06.

Extreme ultraviolet lithography device and method of operating extreme ultraviolet lithography device

Номер патента: US20230393484A1. Автор: Chan Hwang,HyungJong BAE,Hoduk CHO,SeongBo Shim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-12-07.

Extreme ultraviolet lithography process and mask

Номер патента: US20160306272A1. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-10-20.

Pellicle for exposure to extreme ultraviolet light, photomask assembly, and method of manufacturing the pellicle

Номер патента: US20180284599A1. Автор: Chang-Young Jeong,Hee-Bom Kim,Mun Ja KIM,Hwan-Chul Jeon,Sung-won Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-10-04.

Extreme ultraviolet mask blank production system with thin absorber and manufacturing system therefor

Номер патента: EP3167473A1. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-05-17.

Extreme Ultraviolet Mask Blank Production System With Thin Absorber And Manufacturing System Therefor

Номер патента: US20200058213A9. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-02-20.

Extreme ultraviolet mask blank production system with thin absorber and manufacturing system therefor

Номер патента: WO2016007610A1. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Vinayak Vishwanath Hassan,Cara Beasley. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2016-01-14.

Extreme Ultraviolet Lithography Process and Mask

Номер патента: US20150098069A1. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-04-09.

Spectral filter for splitting a beam with electromagnetic radiation having wavelengths in the extreme ultraviolet (euv) or soft x-ray (soft x) and the infrared (ir) wavelength range

Номер патента: WO2012023853A1. Автор: Frederik Bijkerk,Frederik Albert Van Goor,Robert Van Der Meer,Antonius Johannes Ronald Van Den Boogaard. Владелец: UNIVERSITEIT TWENTE. Дата публикации: 2012-02-23.

Extreme ultraviolet pellicle with enhanced extreme ultraviolet transmission and method of producing thereof

Номер патента: WO2024072508A3. Автор: Takahiro Ueda,Marcio D. Lima,Sergey Li,Hooman RAHMANI. Владелец: Lintec Of America, Inc.. Дата публикации: 2024-05-16.

Extreme ultraviolet mask absorber materials

Номер патента: WO2020236883A1. Автор: Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-11-26.

Extreme ultraviolet mask absorber and processes for manufacture

Номер патента: WO2020132391A1. Автор: Wen Xiao,CHANG Ke,Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-06-25.

Extreme ultraviolet (EUV) multilayer defect compensation and EUV masks

Номер патента: US9052617B2. Автор: Alfred Wagner,Gregory R. McIntyre,Emily E. Gallagher. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2015-06-09.

Extreme ultraviolet (euv) mask absorber and method for forming the same

Номер патента: US20190227427A1. Автор: Jed H. Rankin,Lei Zhuang,Amr Y. Abdo. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2019-07-25.

Damascene extreme ultraviolet lithography (euvl) photomask and method of making

Номер патента: EP1412817A2. Автор: Pei-Yang Yan. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2004-04-28.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2036212A. Автор: UENO Yoshifumi,MIYASHITA Kotaro,NISHIMURA Yuichi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-06-11.

Reticle-masking structure, extreme ultraviolet apparatus, and method of forming the same

Номер патента: US20220214620A1. Автор: Ching-Hsiang Hsu,Feng Yuan Hsu,James Jeng-Jyi Hwang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-07-07.

Extreme ultraviolet lithography system

Номер патента: US12055865B2. Автор: Chi Yang,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Che-Chang Hsu,Ssu-Yu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Damascene extreme ultraviolet lithography (euvl) photomask and method of making

Номер патента: WO2003012546A3. Автор: Pei-Yang Yan. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2003-12-18.

Mask for extreme ultraviolet photolithography

Номер патента: US20210341829A1. Автор: Hsin-Chang Lee,Ta-Cheng Lien,Wen-Chang Hsueh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-11-04.

Correcting apparatus of extreme ultraviolet (euv) photomask and correcting method of euv photomask

Номер патента: US20220283512A1. Автор: Yongwoo Kim,Jongju Park,Sanguk Park,Jongkeun OH,Youngchang SEO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-09-08.

Nanotube-based pellicle for extreme ultraviolet lithography and related manufacturing method

Номер патента: US20240280893A1. Автор: Hyeong Keun Kim,Seul Gi Kim. Владелец: KOREA ELECTRONICS TECHNOLOGY INSTITUTE. Дата публикации: 2024-08-22.

Extreme ultraviolet/soft x-ray laser nano-scale patterning using the demagnified talbot effect

Номер патента: US20150251441A1. Автор: Mario C. Marconi,Jorge J. Rocca,Artak Isoyan,Lukasz Urbanski. Владелец: Synopsys Inc. Дата публикации: 2015-09-10.

Reticle-masking structure, extreme ultraviolet apparatus, and method of forming the same

Номер патента: US20210096469A1. Автор: Ching-Hsiang Hsu,Feng Yuan Hsu,James Jeng-Jyi Hwang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-04-01.

Reticle-masking structure, extreme ultraviolet apparatus, and method of forming the same

Номер патента: US11287745B2. Автор: Ching-Hsiang Hsu,Feng Yuan Hsu,James Jeng-Jyi Hwang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-03-29.

High Heat Load Optics with Vibration Isolated Hoses in an Extreme Ultraviolet Lithography System

Номер патента: US20130323649A1. Автор: Douglas C. Watson,Travis BOW. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2013-12-05.

Extreme ultraviolet mask blank with multilayer absorber and method of manufacture

Номер патента: US11754917B2. Автор: Vibhu Jindal. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-12.

Extreme ultraviolet pellicles and method of manufacturing

Номер патента: WO2024155654A1. Автор: Feng Q. Liu,Jeffrey W. Anthis,Mark Saly,Lakmal C. Kalutarage,Thomas Joseph Knisley,Nasrin Kazem. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-07-25.

Extreme ultraviolet mask absorber materials

Номер патента: WO2020236886A1. Автор: Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-11-26.

Extreme ultraviolet mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US20240280889A1. Автор: SunPyo LEE,Minchang KIM,Yoontaek Han. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Extreme ultraviolet/soft X-ray laser nano-scale patterning using the demagnified Talbot effect

Номер патента: US9216590B2. Автор: Mario C. Marconi,Jorge J. Rocca,Artak Isoyan,Lukasz Urbanski. Владелец: Synopsys Inc. Дата публикации: 2015-12-22.

Semiconductor device manufacturing method and extreme ultraviolet mask manufacturing method

Номер патента: US12092961B2. Автор: Dongwon Kang,Sang Chul YEO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-17.

Novel design of an inspection tool for an extreme ultraviolet radiation source to observe tin residual

Номер патента: US20240361701A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Cheng-Hsuan Wu,Cheng-Hao Lai,Sheng-Kang Yu,Yu-Huan Chen,Wei-Chun YEN,Yu-Kuang SUN,Ming-Hsun Tsai,Wei-Shin CHENG,Chiao-Hua Cheng,Yu-Fa LO. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Extreme ultraviolet photolithography method with infiltration for enhanced sensitivity and etch resistance

Номер патента: US12111576B2. Автор: Christine Y OUYANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-08.

Extreme ultraviolet lithography system

Номер патента: US20240353766A1. Автор: Chi Yang,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Che-Chang Hsu,Ssu-Yu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Extreme ultraviolet lithography photomasks

Номер патента: US09946152B2. Автор: Jed H. Rankin,Zhengqing John QI,Christina A. Turley. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2018-04-17.

Extreme ultraviolet (EUV) substrate inspection system with simplified optics and method of manufacturing thereof

Номер патента: US09915621B2. Автор: Christopher Dennis Bencher,Christopher G. Talbot,Majeed A. Foad,John Christopher Moran. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-03-13.

Method providing for asymmetric pupil configuration for an extreme ultraviolet lithography process

Номер патента: US09886543B2. Автор: Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen,Norman Chen,Chih-Tsung Shih,Chia-Chun Chung. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Extreme ultraviolet capping layer and method of manufacturing and lithography thereof

Номер патента: US09739913B2. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Cara Beasley,Rudy Beckstrom, III. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-08-22.

Extreme ultraviolet lithography process to print low pattern density features

Номер патента: US09535334B2. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-01-03.

Extreme ultraviolet lithography process and mask

Номер патента: US09529249B2. Автор: Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen,Chih-Tsung Shih. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-12-27.

Method for forming resist pattern by using extreme ultraviolet light and method for forming pattern by using the resist pattern as mask

Номер патента: US20240045336A1. Автор: Chan Hwang,Sookyung Kim,Jonghyun JUNG,Moosong Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-08.

Method of reducing undesired light influence in extreme ultraviolet exposure

Номер патента: US12013641B2. Автор: BO-TSUN Liu,Chih-Tsung Shih,Yahru CHENG,Tsung Chuan LEE,Chen-Ming Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-18.

Extreme ultraviolet microscope

Номер патента: US20080266654A1. Автор: Arno Jan Bleeker,Vadim Yevgenyevich Banine,Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen,Frank Jeroen Pieter Schuurmans,Vladimir Vitalevich Ivanov,Vladimir Mihailòvitch Krivtsun,Konstantin Nikolaevich Koshelev. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2008-10-30.

Extreme ultraviolet mask absorber materials

Номер патента: WO2020236887A1. Автор: Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-11-26.

Method of making silica-titania extreme ultraviolet elements

Номер патента: US20030226377A1. Автор: Bradley Bowden,Claude Davis,Kenneth Hrdina,Michael Robinson,W. Barrett,John Wight,Michael Wasilewski. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2003-12-11.

Mask for extreme ultraviolet photolithography

Номер патента: US11815805B2. Автор: Hsin-Chang Lee,Ta-Cheng Lien,Wen-Chang Hsueh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-14.

Extreme Ultraviolet Lithography Process and Mask

Номер патента: US20140272679A1. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2014-09-18.

Extreme ultraviolet photomask and method for fabricating the same

Номер патента: US20180284596A1. Автор: Yu-Cheng Tung,En-Chiuan Liou. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2018-10-04.

System and method for cleaning optical surfaces of an extreme ultraviolet optical system

Номер патента: WO2014152067A1. Автор: Rudy Garcia,Mohammed Tahmassebpur,Gildardo DELGADO,Francis C. Chilese,Salam Harb. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2014-09-25.

Method for manufacturing pellicle for extreme ultraviolet lithography having graphene defect healing layer

Номер патента: US11789359B2. Автор: Hyeong Keun Kim,Seul Gi Kim,Hyun Mi Kim,Jin Woo Cho,Jun Hyeok JEON. Владелец: KOREA ELECTRONICS TECHNOLOGY INSTITUTE. Дата публикации: 2023-10-17.

Extreme ultraviolet mask blank structure

Номер патента: WO2022173777A1. Автор: SHIYU Liu,Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-08-18.

Extreme ultraviolet capping layer and method of manufacturing and lithography thereof

Номер патента: MY182792A. Автор: Ralf Hofmann,Cara Beasley,Majeed A Foad,Iii Rudy Beckstrom. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-02-05.

Extreme ultraviolet mask absorber materials

Номер патента: WO2020236888A1. Автор: Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-11-26.

Extreme ultraviolet (euv) mask for lithography and associated methods

Номер патента: US20190163048A1. Автор: No-Young Chung,Woon-hyuk CHOI. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-05-30.

Compounds and processes for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: WO2024006453A1. Автор: Thomas M. Cameron,David M. ERMERT. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2024-01-04.

Robust, high transmission pellicle for extreme ultraviolet lithography systems

Номер патента: US20210132490A1. Автор: Yun-Yue Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-05-06.

Methods and apparatus for use with extreme ultraviolet light having contamination protection

Номер патента: EP2956714A1. Автор: Michail A. Gallis,Gildardo R. Delgado,Rudy Garcia,Frank Chilese,Leonard E. Klebanoff,John R. Torczynski,Anthony S. Geller,Daniel S. RADER. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2015-12-23.

Extreme ultraviolet lithography photomasks

Номер патента: US20170315438A1. Автор: Jed H. Rankin,Zhengqing John QI,Christina A. Turley. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-11-02.

Phase shift masks for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US20230018819A1. Автор: Dongwan Kim,Seongsue Kim,Hwanseok SEO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-01-19.

A beam line for a source of extreme ultraviolet (euv) radiation

Номер патента: WO2011116897A1. Автор: Franz Dieterich,Reza Abhari,Andrea Giovannini. Владелец: ETH Zurich. Дата публикации: 2011-09-29.

Extreme ultraviolet light shield protection film structure body and its manufacturing method

Номер патента: CN108604057A. Автор: 金正植,金廷桓,安镇浩,禹东坤,张镛铸. Владелец: Hanyang Hak Won Co Ltd. Дата публикации: 2018-09-28.

An extreme ultraviolet lithography process

Номер патента: KR101485669B1. Автор: 옌-쳉 루,쉰-쉥 유,앤소니 옌. Владелец: 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드. Дата публикации: 2015-01-22.

Developer composition for forming fine pattern of photosensitive resist for extreme ultraviolet light source

Номер патента: CN111656285A. Автор: 李昇勋,李秀珍,金起洪. Владелец: Youngchang Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-09-11.

Four-mirror extreme ultraviolet (EUV) lithography projection system

Номер патента: US6142641A. Автор: David R Shafer,Simon J Cohen,Hwan J Jeong. Владелец: Ultratech Inc. Дата публикации: 2000-11-07.

Illumination system for shaping extreme ultraviolet radiation used in a lithographic projection apparatus

Номер патента: US6498351B1. Автор: Borgert Kruizinga,Isabel Escudero Sanz. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2002-12-24.

Extreme ultraviolet mask with capping layer

Номер патента: KR20230076087A. Автор: 신-창 리,타-쳉 리엔,핑-순 린,페이-쳉 수,웨이-하오 리,칭-팡 유. Владелец: 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드. Дата публикации: 2023-05-31.

Pellicle for extreme ultraviolet lithography based on yttrium carbide

Номер патента: US11927881B2. Автор: Hyeong Keun Kim,Seul Gi Kim,Hyun Mi Kim,Jin Woo Cho,Ki Hun Seong. Владелец: KOREA ELECTRONICS TECHNOLOGY INSTITUTE. Дата публикации: 2024-03-12.

Extreme ultraviolet mask absorber materials

Номер патента: WO2021150556A1. Автор: Wen Xiao,Vibhu Jindal,Azeddine Zerrade,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-07-29.

Extreme Ultraviolet Lithography Process and Mask

Номер патента: US20150346596A1. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-12-03.

Debris handling apparatus and method for an extreme ultraviolet light source

Номер патента: WO2024033020A1. Автор: Adam CROCKER,Kyle John SCAFFIDI,Gary Dwayne Mandrusiak,Esteban Joseph Sandoval JOHNSON,Liza EASO,Bryce Collin CAPUTO. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-02-15.

Extreme ultraviolet mask blank defect reduction

Номер патента: US11789358B2. Автор: Wen Xiao,Sanjay Bhat,Weimin Li,Vibhu Jindal,Azeddine Zerrade. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-17.

Multilayer extreme ultraviolet reflectors

Номер патента: WO2023038840A1. Автор: Wen Xiao,Vibhu Jindal,Herng Yau Yoong. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-03-16.

System and method for cleaning optical surfaces of an extreme ultraviolet optical system

Номер патента: EP2969272A1. Автор: Rudy Garcia,Mohammed Tahmassebpur,Gildardo DELGADO,Francis C. Chilese,Salam Harb. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2016-01-20.

Extreme ultraviolet mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US11774844B2. Автор: BO-TSUN Liu,Shih-Chi Fu,Chih-Tsung Shih,Tsung-Chih Chien,Tsung Chuan LEE,Chi-Hua FU,Kuotang CHENG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Phase-shift mask for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US20180143527A1. Автор: Roman Chalykh,Taehoon Lee,Seongsue Kim,Hwanseok SEO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-05-24.

Extreme ultraviolet mask with tantalum base alloy absorber

Номер патента: US11852965B2. Автор: Hsin-Chang Lee,Pei-Cheng Hsu,Ta-Cheng Lien. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Extreme ultraviolet mask absorber materials

Номер патента: US11860533B2. Автор: SHIYU Liu,Vibhu Jindal,Azeddine Zerrade,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-02.

Multilayer extreme ultraviolet reflector materials

Номер патента: US11815803B2. Автор: Wen Xiao,Vibhu Jindal,Binni VARGHESE. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-14.

Extreme ultraviolet mask with capping layer

Номер патента: US20230161241A1. Автор: Ching-Fang Yu,Hsin-Chang Lee,Pei-Cheng Hsu,Ta-Cheng Lien,Ping-Hsun LIN,Wei-Hao Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-05-25.

Extreme ultraviolet masks having annealed light-absorptive borders and associated fabrication methods

Номер патента: US20130029253A1. Автор: Lei Sun,Pawitter Mangat,Oleg Kritsun. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2013-01-31.

Extreme Ultraviolet Lithography Process and Mask

Номер патента: US20140268091A1. Автор: YEN-CHENG Lu,Shinn-Sheng Yu,Jeng-Horng Chen,Anthony Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2014-09-18.

Extreme ultraviolet (euv) multilayer defect compensation and euv masks

Номер патента: US20140272687A1. Автор: Alfred Wagner,Gregory R. McIntyre,Emily E. Gallagher. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2014-09-18.

Multilayer extreme ultraviolet reflectors

Номер патента: US11782337B2. Автор: Wen Xiao,Vibhu Jindal,Herng Yau Yoong. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-10.

Extreme ultraviolet mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US20230359115A1. Автор: Yun-Yue Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-09.

Extreme ultraviolet mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US11789355B2. Автор: Yun-Yue Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Apparatus and method for measuring phase of extreme ultraviolet (EUV) mask and method of fabricating EUV mask including the method

Номер патента: US11852583B2. Автор: Jongju Park,Raewon Yi,Hakseung Han,Seongsue Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-12-26.

Extreme ultraviolet photomask and method for fabricating the same

Номер патента: US10571796B2. Автор: Yu-Cheng Tung,En-Chiuan Liou. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2020-02-25.

Extreme ultraviolet mask absorber materials

Номер патента: US20220236634A1. Автор: SHIYU Liu,Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-07-28.

Phase shift masks for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US11774846B2. Автор: Dongwan Kim,Seongsue Kim,Hwanseok SEO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-10-03.

Extreme ultraviolet mask absorber materials

Номер патента: US20200249559A1. Автор: Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-08-06.

Wave-front aberration metrology of extreme ultraviolet mask inspection systems

Номер патента: EP3973355A1. Автор: Rui-Fang Shi,Qiang Zhang,Dmitriy ZUSIN. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2022-03-30.

Photomask for extreme ultraviolet

Номер патента: US20230305382A1. Автор: Tae Young Kim,Inkyun Shin,Sung Hoon Son,Min Gyo Jeong,GeonGon LEE,Seong Yoon Kim. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Extreme ultraviolet lithography method using robust, high transmission pellicle

Номер патента: US20230251566A1. Автор: Yun-Yue Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Methods and apparatus for use with extreme ultraviolet light having contamination protection

Номер патента: WO2014126915A1. Автор: Michail A. Gallis,Gildardo R. Delgado,Rudy Garcia,Frank Chilese,Leonard E. Klebanoff,John R. Torczynski,Anthony S. Geller,Daniel S. RADER. Владелец: Sandia Corporation. Дата публикации: 2014-08-21.

Extreme ultraviolet mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US20230367195A1. Автор: BO-TSUN Liu,Shih-Chi Fu,Chih-Tsung Shih,Tsung-Chih Chien,Tsung Chuan LEE,Chi-Hua FU,Kuotang CHENG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Extreme ultraviolet capping layer and method of manufacturing and lithography thereof

Номер патента: EP3167472A1. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Cara Beasley,Rudy BECKSTROM III. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-05-17.

Extreme ultraviolet capping layer and method of manufacturing and lithography thereof

Номер патента: WO2016007394A1. Автор: Ralf Hofmann,Majeed A. Foad,Cara Beasley,Rudy BECKSTROM III. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2016-01-14.

Extreme ultraviolet lithography system

Номер патента: US20210033983A1. Автор: Chi Yang,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Che-Chang Hsu,Ssu-Yu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-02-04.

Extreme ultraviolet (euv) mask and manufacturing method thereof

Номер патента: US20240126161A1. Автор: SunPyo LEE,Euihan Jung,Sungwoo JANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-18.

Extreme ultraviolet (euv) photomask

Номер патента: US20230400758A1. Автор: Jeonghyun Kim,Sangjin Kim,Jihun Lee,Yigwon Kim,Jinhee Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-12-14.

Multilayer extreme ultraviolet reflectors

Номер патента: WO2022266057A1. Автор: Wen Xiao,Vibhu Jindal,Herng Yau Yoong. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-12-22.

Extreme ultraviolet mask with tantalum base alloy absorber

Номер патента: US20240192581A1. Автор: Hsin-Chang Lee,Pei-Cheng Hsu,Ta-Cheng Lien. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Extreme ultraviolet reflectometer with rotating grating monochrometer

Номер патента: WO2006080909A1. Автор: James H. Underwood,Rupert C. C. Perrera,Phillip J. Batson. Владелец: Batson Phillip J. Дата публикации: 2006-08-03.

Damascene extreme ultraviolet lithography (euvl) photomask and method of making

Номер патента: WO2003012546A2. Автор: Pei-Yang Yan. Владелец: Intel Corporation (A Delaware Corporation). Дата публикации: 2003-02-13.

Extreme Ultraviolet Mask Absorber Materials

Номер патента: US20220221783A1. Автор: SHIYU Liu,Vibhu Jindal,Shuwei Liu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-07-14.

Extreme Ultraviolet Photolithography Method with Infiltration for Enhanced Sensitivity and Etch Resistance

Номер патента: US20210080832A1. Автор: Christine Y OUYANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-03-18.

Extreme ultraviolet light generation system and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240184211A1. Автор: Yoshifumi Ueno,Yuichi Nishimura,Kotaro Miyashita. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-06-06.

Extreme ultraviolet mask with backside coating

Номер патента: WO2020086932A1. Автор: Vikash Banthia,Madhavi R. Chandrachood,Vibhu Jindal. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-04-30.

Pellicle film including graphite-containing thin film for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US20180259847A1. Автор: Seul-Gi Kim,Sang-Jin Cho,Mun Ja KIM,Ji-Beom Yoo,Myung-shik CHANG,Jang-dong You. Владелец: Fine Semitech Corp. Дата публикации: 2018-09-13.

Particle catcher and axle assembly comprising same

Номер патента: US20220074482A1. Автор: Enrico Greco,Fabrizio Buratto. Владелец: Donaldson Co Inc. Дата публикации: 2022-03-10.

Water kettle, and particle catcher/filter assembly for said kettle

Номер патента: EP1353590A1. Автор: Remco Linnewiel,Jaleleddine Chaouachi. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2003-10-22.

Analysis Method for Closed-Loop Supply Chain with Dual Recycling Channels

Номер патента: US20220027864A1. Автор: Xuelian Zhang,Shizhen Bai. Владелец: Harbin University of Commerce. Дата публикации: 2022-01-27.

Braking device with particle catcher

Номер патента: RU2644037C2. Автор: Кристоф РОККА-СЕРРА. Владелец: Таллано Текноложи. Дата публикации: 2018-02-07.

Dealing robot device with dual card shoes

Номер патента: US10252148B2. Автор: Chun-Hsiang Su,Yen-Hung Lai,Kuo-Tsung Huang,Bing-Chuen Tsai. Владелец: Taiwan Intelligent Robotics Co Ltd. Дата публикации: 2019-04-09.

Low profile portable exercise machine with dual resistance

Номер патента: US11998788B2. Автор: Mohamed Kerdjoudj. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-06-04.

Heptacyclic gearbox with dual engagement

Номер патента: RU2436001C1. Автор: Теджиндер СИНГХ,Патрик С. ПОРТЕЛЛ,Микаэль Б. МОЛИН,Дэвид М. ЗИНИ. Владелец: Джи Эм Глоубал Текнолоджи Оперейшнз, Инк.. Дата публикации: 2011-12-10.

Hydraulic control system for cooling and lubrication of automatic transmission with dual clutch

Номер патента: RU2723052C1. Автор: Вэй Чжан,Хуасюэ ЛЮ,Линь ЧЖОУ,Гуанцин ТАН,Цзяньчэн ГАО. Владелец: Грэйт Уолл Мотор Компани Лимитед. Дата публикации: 2020-06-08.

Method of controlling engine with dual fuel injection system (versions)

Номер патента: RU2717784C2. Автор: Джозеф Лайл ТОМАС,Стивен Джордж РАСС,Скотт Аллан ЛЕХТО,Кристофер Арнольд ВУДРИНГ,Жанна ВЭЙ,Дэвид ШЕЛЛИ. Владелец: ФОРД ГЛОБАЛ ТЕКНОЛОДЖИЗ, ЛЛК. Дата публикации: 2020-03-25.

Gearbox with dual clutch for vehicles

Номер патента: RU2729341C2. Автор: Йоханн КИРХХОФФЕР. Владелец: ФОРД ГЛОУБАЛ ТЕКНОЛОДЖИЗ, ЭлЭлСи. Дата публикации: 2020-08-06.

Integrated ultraviolet and infrared source with minimal visible radiation

Номер патента: US5563420A. Автор: M. E. Sullivan,G. A. Walter,D. A. Thiede. Владелец: Santa Barbara Research Center. Дата публикации: 1996-10-08.

One-time sintering preparation process for metal injection molding of golf head with dual metal components

Номер патента: US20240299815A1. Автор: FEI Xiao,Xiaohua Tian,Liqun Yi,Guangxing Deng. Владелец: Matrix Guangzhou Metamaterials Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Dental device with dual saliva extraction and dual retractor

Номер патента: US09636194B2. Автор: Fahad Ibrahim Fatiny. Владелец: KING SAUD UNIVERSITY. Дата публикации: 2017-05-02.

Anti-folate antimalarials with dual-binding modes and their preparation

Номер патента: WO2012121682A3. Автор: Yongyuth Yuthavong,Sumalee Kamchonwongpaisan,Bongkoch Tarnchompoo,Penchit Chitnumsub,Philip James SHAW,Roonglawan RATTANAJAK,Sinothai POEN,Tosapol ANUKUNWITHAYA,Chayaphat WONGSOMBAT. Владелец: NATIONAL SCIENCE AND TECHNOLOGY DEVELOPMENT AGENCY. Дата публикации: 2012-12-27.

Embolic protection device with dual-layer filter meshes

Номер патента: WO2022099987A1. Автор: Bin Yang,Shuang Li,Jie Xia,Liqun JIAO,Zehui WANG. Владелец: Suzhou Zenith Vascular Scitech Limited. Дата публикации: 2022-05-19.

Pegylated t cell engager with dual specificities to cd3 and cd19

Номер патента: US20240181074A1. Автор: YU Wen,Dechun Wu,Shumin Liu,Shuangyu TAN. Владелец: Shenzhen Enduring Biotech Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Uroflowmetry system operating with dual cell technology and by the method of urinating into the water

Номер патента: WO2019203744A3. Автор: Hurol Tugrul AY. Владелец: Aymed Medi̇kal Teknoloji̇ Sanayi̇ Ve Ti̇caret Li̇mi̇ted Şi̇rketi̇. Дата публикации: 2020-01-16.

Rotary engine with dual axis rotor rotation

Номер патента: US12116925B1. Автор: Dale Warner. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-10-15.

Flame arrester with dual arrangement for denitrifying and ammonia-supplying system

Номер патента: LU506536B1. Автор: Jiang Lin,Jiancheng Wang,Yufeng Huang,Haijun Zhang,Lijun Jiang,Jinping Chen,Mingwei Liu,Chunyu Yang,Fengtao Zhang,Qinglin Dai,Shizeng Liu,Xikui Guo,Liquan Xin,Chaopeng Fan. Владелец: Huaneng Yingkou Xianrendao Thermal Power Co ltd. Дата публикации: 2024-09-09.

High exchange-capacity anion exchange resin with dual functional-groups and method of synthesis thereof

Номер патента: US09950319B2. Автор: XIN YANG,CHEN CHEN,Cheng Cheng,Yi Wang,Jinnan Wang. Владелец: Nanjing University Yancheng Environmental Protection Technology and Engineering Research Institute. Дата публикации: 2018-04-24.

Novel compounds with dual inhibition activity against sars-cov-2 critical enzymes rdrp, mpro and human tmprss2

Номер патента: US20240226128A1. Автор: Sameh SOLIMAN,Rania Hamdy. Владелец: University Of Sharjah. Дата публикации: 2024-07-11.

Gearbox with dual clutch

Номер патента: RU2592187C1. Автор: Цзянь ЛИНЬ. Владелец: Вуху Пауер-Текнолоджи Ресёрч Ко., Лтд.. Дата публикации: 2016-07-20.

Flow hydraulic control system for use with dual hydraulic drive, servo drive control system and method of keeping up standby flow control means for hydraulic drive

Номер патента: RU2330997C2. Автор: Кеннет Э. ХАРТ,Кеннет Э. ХАРТ (US). Владелец: ЭйчАр ТЕКСТРОН ИНК.. Дата публикации: 2008-08-10.

Noise suppression system with dual transducer for underwater hydrophone streamer

Номер патента: RU2569414C2. Автор: Дейл Дж. ЛАМБЕРТ. Владелец: Ион Геофизикал Корпорейшн. Дата публикации: 2015-11-27.

Dealing robot device with dual card shoes

Номер патента: US20180099211A1. Автор: Chun-Hsiang Su,Yen-Hung Lai,Kuo-Tsung Huang,Bing-Chuen Tsai. Владелец: Taiwan Intelligent Robotics Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-12.

Water boiler with dual heating functionality

Номер патента: EP4375586A1. Автор: Yan Zeng,Quanduo Hou. Владелец: Xiamen Aquasu Electric Shower Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-29.

Paper clip with dual central wire loops

Номер патента: US20090165260A1. Автор: David Tong,Kun Yuan Tong. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-07-02.

Refrigeration cycle intercooler with dual coil evaporator

Номер патента: US20240167738A1. Автор: Dustin A. Woolf. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-05-23.

Refrigeration cycle intercooler with dual coil evaporator

Номер патента: US20230417462A1. Автор: Dustin A. Woolf. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-12-28.

Method and device for powering a diesel engine with dual fuel feed

Номер патента: EP2438282A1. Автор: Franco Pizzo. Владелец: Landi Renzo SpA. Дата публикации: 2012-04-11.

A torque distribution system and method for vehicles with dual e-axles

Номер патента: WO2024125905A1. Автор: Feng Hu,Xiaobing Chen,Weiqing Lin. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2024-06-20.

Embolic protection device with dual-layer filter meshes

Номер патента: US20230116973A1. Автор: Bin Yang,Shuang Li,Jie Xia,Liqun JIAO,Liyou GUO. Владелец: Suzhou Zenith Vascular Scitech Ltd. Дата публикации: 2023-04-20.

Method and device for powering a diesel engine with dual fuel feed

Номер патента: WO2010139572A1. Автор: Franco Pizzo. Владелец: Landi Renzo S.P.A.. Дата публикации: 2010-12-09.

Twin Buckle Assembly with Dual Release Positions

Номер патента: US20100186204A1. Автор: Marc Jung,Jason Chin. Владелец: Conax Florida Corp. Дата публикации: 2010-07-29.

Twin buckle assembly with dual release positions

Номер патента: EP2326194A1. Автор: Jason Chin. Владелец: Conax Florida Corp. Дата публикации: 2011-06-01.

Assembly for equipping motor vehicle with dual-steer capabilities

Номер патента: US20240278823A1. Автор: Josh Liddle. Владелец: Fontaine Modification Co. Дата публикации: 2024-08-22.

Blow-off valve with dual axis internal seal ring

Номер патента: WO2019234722A1. Автор: KUMAR ABHISHEK,Kabir BHANDARI,Amardip KUMAR,Parsuram ROUT. Владелец: Padmini VNA Mechatronics Pvt. Ltd.. Дата публикации: 2019-12-12.

Blow-off valve with dual axis internal seal ring

Номер патента: EP3803078A1. Автор: KUMAR ABHISHEK,Kabir BHANDARI,Amardip KUMAR,Parsuram ROUT. Владелец: Padmini VNA Mechatronics Pvt Ltd. Дата публикации: 2021-04-14.

Hydraulic actuator with dual pneumatic actuation for use in hydraulic actuation for hydroelectric plants

Номер патента: EP4407194A1. Автор: Vinícius Vigolo,Gregori Picolotto Conterato,Talles Augusto Bragagnolo Spada,Cláudio Mazzi,Victor Juliano De Negri,Leonardo AUGUSTO WEISS,Thiago LUCHTENBERG SEHNEM,Victor André ODEBRECHT. Владелец: Rio Paranapanema Energia SA. Дата публикации: 2024-07-31.

Navigation device with dual airflow sensors

Номер патента: US20100073293A1. Автор: Nobutaka Itagaki. Владелец: Avago Technologies ECBU IP Singapore Pte Ltd. Дата публикации: 2010-03-25.

Hard disk drive cartridge with dual joints for 68-pin and 80-pin hard disks

Номер патента: US20030139098A1. Автор: Shu-Fen Lin. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-07-24.

External Controller for an Implantable Medical Device with Dual Microcontrollers for Improved Graphics Rendering

Номер патента: US20120092354A1. Автор: Daniel Aghassian,Vuong Nguyen,Thomas Stouffer. Владелец: Boston Scientific Neuromodulation Corp. Дата публикации: 2012-04-19.

External controller for an implantable medical device with dual microcontrollers for improved graphics rendering

Номер патента: EP2627405A1. Автор: Daniel Aghassian,Vuong Nguyen,Thomas Stouffer. Владелец: Boston Scientific Neuromodulation Corp. Дата публикации: 2013-08-21.

Computing devices with dual computing architectures for use in a subscription model

Номер патента: US12079849B2. Автор: Shibi Panikkar,Dhilip S. Kumar,Rohit Gosain. Владелец: Dell Products LP. Дата публикации: 2024-09-03.

Grass trimming device with dual linehead spool hubs

Номер патента: CA2585799A1. Автор: William Flemm. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-05-26.

Grass trimming device with dual linehead spool hubs

Номер патента: AU2005306699A1. Автор: William Flemm. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-05-26.

Grass trimming device with dual linehead spool hubs

Номер патента: WO2006055432A2. Автор: William Flemm. Владелец: William Flemm. Дата публикации: 2006-05-26.

Hydraulic brake with dual piston structure

Номер патента: EP4438420A1. Автор: Yonggang Chen. Владелец: Ningbo Lewis Sports Goods Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-02.

Surface cleaning head with dual rotating agitators

Номер патента: US20240341549A1. Автор: David Jalbert,Peter Hutchinson,Adam UDY,Jason Thorne,Daniel Meyer,Daniel John INNES,Andre David Brown,Lee COTTRELL,John Freese,Patrick CLEARY,Gordon HOWES,David Wu,Catriona A. SUTTER,David S. CLARE,Alexander Calvino,Christopher PINCHES,Nancy GAO WENXIU,Steven Paul CARTER,David W. POIRER. Владелец: SharkNinja Operating LLC. Дата публикации: 2024-10-17.

Polypeptide derivative with dual glp-1r and gipr targeting agonistic effect, and preparation method and use thereof

Номер патента: US20240360193A1. Автор: WEI Ding,Zhefeng ZHANG. Владелец: Nanjing Zhihe Medicine Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Surface cleaning head with dual rotating agitators

Номер патента: US12048410B2. Автор: David Jalbert,Peter Hutchinson,Adam UDY,Jason Thorne,Daniel Meyer,Daniel John INNES,Andre David Brown,Lee COTTRELL,John Freese,Patrick CLEARY,Gordon HOWES,David Wu,Catriona A. SUTTER,David S. CLARE,Alexander Calvino,Christopher PINCHES,Nancy GAO WENXIU,Steven Paul CARTER,David W. POIRER. Владелец: SharkNinja Operating LLC. Дата публикации: 2024-07-30.

Method and system for MEMS devices with dual damascene formed electrodes

Номер патента: US09919915B2. Автор: Peter Smeys,Chunchieh Huang. Владелец: InvenSense Inc. Дата публикации: 2018-03-20.

Firearm with dual feed magazine

Номер патента: US20240361095A1. Автор: Jason Kiyoshi Brown. Владелец: Xcal Ip LLC. Дата публикации: 2024-10-31.

Disc-shaped aircraft with dual spinning discs

Номер патента: US09511857B2. Автор: Guijing Chai. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-12-06.

Transparent optical element with dual light-polarizing effect

Номер патента: US09477099B2. Автор: Philip Miller,Aref Jallouli,Haifeng Shan. Владелец: Essilor International Compagnie Generale dOptique SA. Дата публикации: 2016-10-25.

Bell device with dual tones for transport vehicles

Номер патента: US09454950B2. Автор: Chang-Yu Pan. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-09-27.

Method of obtaining versions of gearbox design with dual clutche

Номер патента: RU2646681C1. Автор: Юрий Леонидович Евтодеев. Владелец: Юрий Леонидович Евтодеев. Дата публикации: 2018-03-06.

Multi-stage gearbox with dual clutch

Номер патента: RU2738665C1. Автор: Павел Игоревич Мохов,Дмитрий Николаевич Золотарев,Эмиль Рамилевич Калимуллин. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Центральный ордена Трудового Красного Знамени научно-исследовательский автомобильный и автомоторный институт "НАМИ" (ФГУП "НАМИ"). Дата публикации: 2020-12-15.

Acoustic atomizer with dual liquid inlet

Номер патента: RU2663733C1. Автор: Олег Савельевич Кочетов. Владелец: Олег Савельевич Кочетов. Дата публикации: 2018-08-09.

Smoking article with dual function cap

Номер патента: RU2604480C2. Автор: Кристофер Джон ГРАНТ. Владелец: ФИЛИП МОРРИС ПРОДАКТС С.А.. Дата публикации: 2016-12-10.

Seven-speed with dual clutch with four shafts

Номер патента: RU2528466C2. Автор: Теджиндер СИНГХ,Патрик С. ПОРТЕЛЛ. Владелец: Джи Эм Глоубал Текнолоджи Оперейшнз, Инк.. Дата публикации: 2014-09-20.

Electrohydraulic control system of gearbox with dual clutch

Номер патента: RU2664618C1. Автор: Сергей Андреевич Николаев,Максим Андреевич Николаев,Александр Сергеевич Грачёв. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Центральный ордена Трудового Красного Знамени научно-исследовательский автомобильный и автомоторный институт "НАМИ" (ФГУП "НАМИ"). Дата публикации: 2018-08-21.

Flow cytometry with dual laser beams

Номер патента: WO2017185071A1. Автор: Eric Chase,Ming Yan,Yung-Chieh Hsieh. Владелец: CYTEK BIOSCIENCES, INC.. Дата публикации: 2017-10-26.

Method for extracting plant essential oil with dual auxiliaries

Номер патента: US11959043B2. Автор: Jing Hu,Weijun Deng,Fucheng WEI. Владелец: Shanghai Institute of Technology. Дата публикации: 2024-04-16.

Adaptable user interface with dual screen device

Номер патента: AU2020201149A1. Автор: Bernardo Núñez Rojas. Владелец: Google LLC. Дата публикации: 2020-03-05.

Adaptable user interface with dual screen device

Номер патента: AU2021203197A1. Автор: Bernardo Núñez Rojas. Владелец: Google LLC. Дата публикации: 2021-06-10.

Gearbox with dual clutch for vehicles

Номер патента: RU2723436C2. Автор: Йоханн КИРХХОФФЕР. Владелец: ФОРД ГЛОУБАЛ ТЕКНОЛОДЖИЗ, ЭлЭлСи. Дата публикации: 2020-06-11.

Security inspection of liquid articles with dual energy CT imaging

Номер патента: GB2453641A. Автор: LI ZHANG,Yuanjing Li,Yinong Liu,Yuxiang Xing,Ziran Zhao,Zhiqiang Chen,Haifeng Hu,Xuewu Wang,Yumin Yi,Jinyu Zhang,Hongxin Wu,Hu Tang. Владелец: Nuctech Co Ltd. Дата публикации: 2009-04-15.

An integrated device for homogenization and cell disruption featuring a pressurized cylinder in line with dual homogenizers

Номер патента: CA2956292C. Автор: Qian Yu,Xingwen Yu. Владелец: Guangzhou Juneng Nano&bio Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-08-24.

Pegylated t cell engager with dual specificities to cd3 and cd19

Номер патента: EP4308163A1. Автор: YU Wen,Dechun Wu,Shumin Liu,Shuangyu TAN. Владелец: Shenzhen Enduring Biotech Ltd. Дата публикации: 2024-01-24.

Pegylated t cell engager with dual specificities to cd3 and cd19

Номер патента: AU2022237459A1. Автор: YU Wen,Dechun Wu,Shumin Liu,Shuangyu TAN. Владелец: Shenzhen Enduring Biotech Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Umbrella with dual arms to tighten and top fabric for clean look and ability to brand

Номер патента: US11969064B2. Автор: Martin James Dotterweich. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-04-30.

Umbrella with dual arms to tighten and top fabric for clean look and ability to brand

Номер патента: US20220248817A1. Автор: Martin James Dotterweich. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-08-11.

Separator with dual drive and method of decreasing stocking therein

Номер патента: RU2514936C2. Автор: Иан ЭРБАТНОТ,Ричард Триглавканин,Джеффри Виктор Белк. Владелец: Ототек Оюй. Дата публикации: 2014-05-10.

Sprayer with dual servo drive and method of applying coatings by spraying

Номер патента: RU2475312C2. Автор: Роберт П. ПЕРЕЗ,Сильван ПРАТУРЛОН. Владелец: Рексам Беверидж Кэн Компани. Дата публикации: 2013-02-20.

Method for synchronising aircraft engines with dual intermediate state

Номер патента: RU2672440C2. Автор: Флоран НОБЕЛЕН. Владелец: Сафран Эйркрафт Энджинз. Дата публикации: 2018-11-14.

Smoking article with dual heat-conducting elements and improved airflow

Номер патента: RU2649257C2. Автор: Ди Кораса Ана Каролина Боржис,Фредерик ЛАВАНШИ,Лоран Эдуар Поже,БИРЦА Кристина АПЕТРЕЙ,Дэвид КУХЕН. Владелец: ФИЛИП МОРРИС ПРОДАКТС С.А.. Дата публикации: 2018-03-30.

Turbofan with dual flow

Номер патента: RU2472961C2. Автор: Джон Джаред ДЕКЕР,Брэндон Флауэрз ПАУЭЛЛ. Владелец: Дженерал Электрик Компани (Э Нью Йорк Корпорейшн). Дата публикации: 2013-01-20.

Smoking article with dual additive delivery system

Номер патента: RU2670544C2. Автор: Лоран ЛАВАНАН. Владелец: ФИЛИП МОРРИС ПРОДАКТС С.А.. Дата публикации: 2018-10-23.

Method for probing lachrymal passages with dual endoscopic control

Номер патента: RU2734628C1. Автор: Сергей Филиппович Школьник,Галина Сергеевна Школьник,Дарраджи Исса Оудах Хуссейн Аль. Владелец: федеральное государственное автономное учреждение "Национальный медицинский исследовательский центр "Межотраслевой научно-технический комплекс "Микрохирургия глаза" имени академика С.Н. Федорова" Министерства здравоохранения Российской Федерации. Дата публикации: 2020-10-21.

Acoustic atomizer with dual liquid inlet

Номер патента: RU2644870C1. Автор: Олег Савельевич Кочетов. Владелец: Олег Савельевич Кочетов. Дата публикации: 2018-02-14.

Cryogenic air separation system with dual product side condenser

Номер патента: CA2045739A1. Автор: James Robert Dray. Владелец: Union Carbide Industrial Gases Technology Corp. Дата публикации: 1991-12-28.

Combustor liner with dual function cooling airflow

Номер патента: CA1208922A. Автор: Jacob S. Hoffman. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1986-08-05.

Internal combustion engine with dual induction system and with egr system

Номер патента: CA1087471A. Автор: Toshiaki Tanaka,Yukihiro Etoh. Владелец: Nissan Motor Co Ltd. Дата публикации: 1980-10-14.

Grenade with dual fuses for simulating small arms fire

Номер патента: US5074218A. Автор: Joseph Castro. Владелец: Individual. Дата публикации: 1991-12-24.

Transfer apparatus with dual transfer-assist blades

Номер патента: US6233423B1. Автор: Gerald M. Fletcher,Christian O. Abreu,John T. Buzzelli,Palghat S. Ramesh. Владелец: Xerox Corp. Дата публикации: 2001-05-15.

Load sensing steering system with dual power source

Номер патента: CA1062123A. Автор: James K. Yip. Владелец: Eaton Corp. Дата публикации: 1979-09-11.

Combination lock with dual key numbers

Номер патента: US20110041574A1. Автор: Kuo-Tsung Yang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-02-24.

Hot gas defrost system with dual function liquid line

Номер патента: CA1049798A. Автор: Daniel Krämer,Ram K. Chopra,Harold Kramer,Israel Kramer,William Micai,Lawrence C. Board. Владелец: Kramer Trenton Co. Дата публикации: 1979-03-06.

Lock cylinder with dual drivers

Номер патента: CA1051058A. Автор: Roger J. Nolin. Владелец: Tre Corp. Дата публикации: 1979-03-20.

Veneer lathe with dual powered backup rolls

Номер патента: CA1283027C. Автор: Paul Milton Carter,Gary Lindsay Wilson,Arthur Horst Buchsdrucker. Владелец: Durand Raute Industries Ltd. Дата публикации: 1991-04-16.

Esophageal probe with dual sound detection

Номер патента: CA1149926A. Автор: Alfred R. Perlin. Владелец: Kendall Co. Дата публикации: 1983-07-12.

Multiple weighing apparatus for mass materials with dual-acting hopper gates mechanism

Номер патента: US5324894A. Автор: Kuan-Chou Chen,Long-Iong Wu. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 1994-06-28.

Transdermal drug delivery device with dual permeation enhancers

Номер патента: CA1313352C. Автор: David J. Enscore,Yu-Ling Cheng,Harold F. Sanders,Shari B. Libicki. Владелец: Alza Corp. Дата публикации: 1993-02-02.

Variable flow cryostat with dual orifice

Номер патента: CA1108422A. Автор: Ralph C. Longsworth,Matthew G. Chalmers. Владелец: Air Products and Chemicals Inc. Дата публикации: 1981-09-08.

Photo interrupter with dual-direction detection ability

Номер патента: US20030136899A1. Автор: CHENG Chen,Yao Kuo. Владелец: Lite On Technology Corp. Дата публикации: 2003-07-24.

Cranio-cervical extension pillow with dual arcs

Номер патента: WO2009073731A1. Автор: David Eckhous,Blain Tomlinson,Lawrence Hecox. Владелец: Cpair, Inc.. Дата публикации: 2009-06-11.

Dish transport apparatus with dual positionable handles

Номер патента: US5354111A. Автор: Charles S. Parks. Владелец: Individual. Дата публикации: 1994-10-11.

Roller shutter with dual operation modes

Номер патента: US11891856B1. Автор: Taotao Lei. Владелец: Dongguan City Geshengmei Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-06.

Adjustable plier with dual adjust

Номер патента: US20230381926A1. Автор: David P. Engvall,Pavel Dugin,Nick Clontz,Chris Ibrahim. Владелец: Black and Decker Inc. Дата публикации: 2023-11-30.

Hydraulic jack with dual pump system

Номер патента: US20040065082A1. Автор: XUE Zhong. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-04-08.

Parallel processing architecture with dual load buffers

Номер патента: US20230376447A1. Автор: Peter Foley. Владелец: Ascenium Inc. Дата публикации: 2023-11-23.

Parallel processing architecture with dual load buffers

Номер патента: WO2024030351A1. Автор: Peter Foley. Владелец: Ascenium, Inc.. Дата публикации: 2024-02-08.

Ladder hinge with dual lock-pins

Номер патента: US20190383099A1. Автор: Kang-Shuo Yeh. Владелец: Individual. Дата публикации: 2019-12-19.

Ladder hinge with dual lock-pins

Номер патента: AU2019203825B2. Автор: Kang-Shuo Yeh. Владелец: Yeh Kang Shuo. Дата публикации: 2020-04-09.

Surface cleaning head with dual rotating agitators

Номер патента: CA3002867C. Автор: David Jalbert,Peter Hutchinson,Jason B. Thorne,Adam UDY,Daniel Meyer,Daniel John INNES,Andre David Brown,Lee COTTRELL,John Freese,Patrick CLEARY,David Wu,Catriona A. SUTTER,David S. CLARE,Alexander Calvino,Christopher PINCHES,Gordon HOWE,Nancy GAO WENXIU,Steven Paul CARTER,David W. POIRER. Владелец: SharkNinja Operating LLC. Дата публикации: 2024-01-09.

Eyeglasses Frame with Dual Hooks and a Slingshot

Номер патента: US20120224137A1. Автор: Di Shu Li. Владелец: Eagle International Ind Ltd. Дата публикации: 2012-09-06.

Protective eyewear with dual-mode sidearms

Номер патента: WO2016164252A1. Автор: Hans O.E. GUSTAFSSON,Anton J. HJALMARSSON. Владелец: 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY. Дата публикации: 2016-10-13.

Water boiler with dual heating functionality

Номер патента: US20240175607A1. Автор: Yan Zeng,Quanduo Hou. Владелец: Xiamen Aquasu Electric Shower Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Computing devices with dual computing architectures for use in a subscription model

Номер патента: US20230334541A1. Автор: Shibi Panikkar,Dhilip S. Kumar,Rohit Gosain. Владелец: Dell Products LP. Дата публикации: 2023-10-19.

Refrigeration cycle intercooler with dual coil evaporator

Номер патента: US11885541B2. Автор: Dustin A. Woolf. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-01-30.

Method for determining location of radio source with periodic structure of signal and rotating directed antenna

Номер патента: RU2670976C1. Автор: Андрей Анатольевич Строцев,Александр Павлович Морозов,Юлия Александровна Ломанцова,Андрей Александрович Щегров. Владелец: Российская Федерация, от имени которой выступает Министерство обороны Российской Федерации. Дата публикации: 2018-10-26.

Method for determining location of radio source with periodic structure of signal and rotating directed antenna

Номер патента: RU2670976C9. Автор: Андрей Анатольевич Строцев,Александр Павлович Морозов,Юлия Александровна Ломанцова,Андрей Александрович Щегров. Владелец: Российская Федерация, от имени которой выступает Министерство обороны Российской Федерации. Дата публикации: 2018-11-22.

Fixed and movable supporting of dual magnetic heads

Номер патента: US4250530A. Автор: Charles S. Yang. Владелец: Yang Electromagnetic Systems Inc. Дата публикации: 1981-02-10.

Reference voltage source with calibration of output voltage

Номер патента: RU2715215C1. Автор: Ярослав Ярославович Петричкович,Александр Андреевич Щекин. Владелец: Акционерное общество Научно-производственный центр "Электронные вычислительно-информационные системы". Дата публикации: 2020-02-26.

Lithium chemical current source with roll electrode packaging

Номер патента: RU2335828C1. Автор: Михаил Степанович Плешаков,Николай Исмаилович Ялюшев,Дмитрий Борисович Федотов,Владимир Григорьевич Калайда,Кеворк Аркадиевич Тышлангов,Алексей Михайлович Рыбалов. Владелец: Закрытое акционерное общество Инженерная фирма "Орион-ХИТ". Дата публикации: 2008-10-10.

Light source with leds, light guide and reflector

Номер патента: RU2526046C2. Автор: Эрик БОНЕКАМП,Томас ДЮСТЕР. Владелец: КОНИНКЛЕЙКЕ ФИЛИПС ЭЛЕКТРОНИКС Н.В.. Дата публикации: 2014-08-20.

Dual magnetic tunnel junction sensor with a longitudinal bias stack

Номер патента: US6822838B2. Автор: Tsann Lin,Daniele Mauri. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2004-11-23.

Analog switch for measuring sources with semiconductor devices under test

Номер патента: RU2751647C1. Автор: Алексей Михайлович Бабец. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "ФОРМ". Дата публикации: 2021-07-15.

Device for measuring amplitude-phase noise of microwave radio-pulse signal sources with high duty cycle of transmitters of high-coherence detection and communication systems

Номер патента: RU2694451C2. Автор: Алексей Борисович Шталев. Владелец: Акционерное общество "Концерн радиостроения "Вега". Дата публикации: 2019-07-15.

Fertilisers containing boron sources with slow and quick release

Номер патента: RU2765229C2. Автор: Майкл МАКЛАФЛИН,Жозефин ДЕГРИЗ,Рослин БЕЙРД,Родриго Коки ДА СИЛЬВА,Кайл ФРИМАН,Томас ФРАЙ. Владелец: Дзе Мозаик Компани. Дата публикации: 2022-01-26.

Federated search of multiple sources with conflict resolution

Номер патента: US12124472B2. Автор: David Cohen,Kevin Zhang,Jeffrey Chen,David Tobin,Robert Liu,Alexander Landau,Peter Wilczynski,Steven Freiberg,Matthew Avant,Andrew Israel,William Waldrep,Bryan Offutt,Danielle Kramer,Jason Hoch. Владелец: Palantir Technologies Inc. Дата публикации: 2024-10-22.

Manufacturing method of combustible heat source with barrier

Номер патента: RU2632280C2. Автор: Олег МИРОНОВ. Владелец: ФИЛИП МОРРИС ПРОДАКТС С.А.. Дата публикации: 2017-10-03.

Light source with light-emitting matrix and collecting optical system

Номер патента: RU2431878C2. Автор: Герард ХАРБЕРС,Серж Й.А. БИРХЭЙЗЕН. Владелец: ФИЛИПС ЛЬЮМИЛДЗ ЛАЙТИНГ КОМПАНИ, ЭлЭлСи. Дата публикации: 2011-10-20.

Methods for aligning a light source with a flow stream and systems thereof

Номер патента: US20160169787A1. Автор: Timothy Wayne Petersen,Matthew J. Crow,Valdis J. Riekstins. Владелец: Becton Dickinson and Co. Дата публикации: 2016-06-16.

Combustible heat source with improved binding material

Номер патента: RU2635078C2. Автор: Александр Мальга,Лоран Поже. Владелец: ФИЛИП МОРРИС ПРОДАКТС С.А.. Дата публикации: 2017-11-08.

Semiconductor light source with optical feedback

Номер патента: US20070063125A1. Автор: John Downing. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-03-22.

Compact high output led light source with heat sink

Номер патента: US20230250949A1. Автор: Henry V. Holec,Brian Hillstrom. Владелец: METROSPEC Tech LLC. Дата публикации: 2023-08-10.

Compact high output LED light source with heat sink

Номер патента: US12018829B2. Автор: Henry V. Holec,Brian Hillstrom. Владелец: METROSPEC Tech LLC. Дата публикации: 2024-06-25.

Smoking article comprising a combustible heat source with a rear barrier coating

Номер патента: US09629393B2. Автор: Frederic LAVANCHY,Yvan Degoumois,Steffen Stolz. Владелец: PHILIP MORRIS PRODUCTS SA. Дата публикации: 2017-04-25.

Flexible tubular light source with effect of moving flashes

Номер патента: RU2353853C1. Автор: Бен ФАН. Владелец: Хе Шан Лиде Електроникс Ентерпрайз Компани Лтд.. Дата публикации: 2009-04-27.

Borehole pulse plasma source with contactor-discharger

Номер патента: RU2600502C1. Автор: Петр Георгиевич Агеев,Евгений Иванович Головкин,Никита Петрович Агеев,Андрей Вадимович Бочкарев. Владелец: Общество С Ограниченной Ответственностью "Новас Ск". Дата публикации: 2016-10-20.

Light source with light emitter arranged inside transparent external flask

Номер патента: RU2538098C2. Автор: Рене Т. ВЕГ,Йоханнес П. М. АНСЕМС,Христоф Г. А. ХОЭЛЕН,Сяоцин ДУАНЬ,Роджер С. П. ХОСКЕНС,ДЖОРДЖ Нибу АМПАЛАТХУМКАЛ,Тимоти Х. РАЙДЕР,Лэй ШИ. Владелец: КОНИНКЛЕЙКЕ ФИЛИПС ЭЛЕКТРОНИКС Н.В.. Дата публикации: 2015-01-10.

Smoking article comprising a combustible heat source with at least one airflow channel

Номер патента: RU2672007C2. Автор: Олег МИРОНОВ,Стефан РУДЬЕ,Лоран Эдуар Поже. Владелец: ФИЛИП МОРРИС ПРОДАКТС С.А.. Дата публикации: 2018-11-08.

Method and device of polarization-entangled photon source with maximum possible degree of entanglement

Номер патента: RU2636808C1. Автор: Дмитрий Николаевич Фроловцев,Сергей Александрович Магницкий. Владелец: Общество С Ограниченной Ответственностью "Лаборатория Оптико-Электронных Приборов". Дата публикации: 2017-11-28.

System of heat source with auxiliary pumps and method to control heat source with auxiliary pumps

Номер патента: RU2490561C2. Автор: Такеру МОРИТА,Юудзи МАЦУМОТО,Сейдзи ЦУКИЯМА,Манабу ЯМАМОТО. Владелец: Тосиба Кэрриер Корпорейшн. Дата публикации: 2013-08-20.

Pulse skid seismic source with electromechanical drive

Номер патента: RU2634079C1. Автор: Виктор Васильевич Ивашин,Николай Александрович Иванников,Евгений Хакимович Насыбулин,Феликс Исаакович Оменцов,Олег Алексеевич Асан-Джалалов. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью Фирма "ПРИМОД" (ООО Фирма "ПРИМОД"). Дата публикации: 2017-10-23.

Light source with light-emitting diodes, beamguide and reflector

Номер патента: RU2519278C2. Автор: Эрик БОНЕКАМП,Томас ДЮСТЕР. Владелец: КОНИНКЛЕЙКЕ ФИЛИПС ЭЛЕКТРОНИКС Н.В.. Дата публикации: 2014-06-10.

X-ray source with optical indication

Номер патента: RU2602433C2. Автор: Александр Георгиевич Турьянский. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "КДП" (ООО "КДП"). Дата публикации: 2016-11-20.

Alkali metal ion source with moderate rate of ion release and methods of forming

Номер патента: CA2911246A1. Автор: Antoine Allanore,Taisiya Skorina. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2014-11-13.

Alkali metal ion source with moderate rate of ion release and methods of forming

Номер патента: CA2911246C. Автор: Antoine Allanore,Taisiya Skorina. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2023-01-03.

Federated search of multiple sources with conflict resolution

Номер патента: US20230229666A1. Автор: David Cohen,Kevin Zhang,Jeffrey Chen,David Tobin,Robert Liu,Alexander Landau,Peter Wilczynski,Steven Freiberg,Matthew Avant,Andrew Israel,William Waldrep,Bryan Offutt,Danielle Kramer,Jason Hoch. Владелец: Palantir Technologies Inc. Дата публикации: 2023-07-20.

Federated search of multiple sources with conflict resolution

Номер патента: US20200151189A1. Автор: David Cohen,Kevin Zhang,Jeffrey Chen,David Tobin,Robert Liu,Alexander Landau,Peter Wilczynski,Stephen Freiberg,Andrew Israel,William Waldrep,Bryan Offutt,Danielle Kramer,Jason Hoch,Matt Avant. Владелец: Palantir Technologies Inc. Дата публикации: 2020-05-14.

Geometric and radiometric calibration and test apparatus for electro-optical thermal-ir instruments and designed to simulate different angularly-extending thermal-ir sources with different geometries and with thermal-ir emissions containing different hot-cold transitions

Номер патента: EP3665454A1. Автор: Marco Barilli,Stefano BROGI. Владелец: Leonardo SpA. Дата публикации: 2020-06-17.

Geometric and Radiometric Calibration and Test apparatus for Electro-Optical Thermal-IR Instruments and Designed To Simulate Different Angularly-Extending Thermal-IR Sources with Different Geometries and with Thermal-IR Emissions Containing Different Hot-Cold Transitions

Номер патента: US20200256736A1. Автор: Marco Barilli,Stefano BROGI. Владелец: Leonardo SpA. Дата публикации: 2020-08-13.

Geometric and radiometric calibration and test apparatus for electro-optical thermal-IR instruments and designed to simulate different angularly-extending thermal-IR sources with different geometries and with thermal-IR emissions containing different hot-cold transitions

Номер патента: US11187588B2. Автор: Marco Barilli,Stefano BROGI. Владелец: Leonardo SpA. Дата публикации: 2021-11-30.

Apparatus for aligning optical source with optical fiber and optical source module having the same

Номер патента: CA2292316C. Автор: Oh-Dal Kwon,Seong-Eun Lim,Tae-Woo Yun. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2003-03-25.

System and method for matching a visual source with a sound signal

Номер патента: WO2023239004A1. Автор: Sujoy Saha,Sathyanarayanan Kulasekaran,Sarthak Sengupta. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2023-12-14.

System and method for matching a visual source with a sound signal

Номер патента: US20230402055A1. Автор: Sujoy Saha,Sathyanarayanan Kulasekaran,Sarthak Sengupta. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-12-14.

Smoking article comprising combustible heat source with rear barrier coating

Номер патента: RU2616554C2. Автор: Фредерик ЛАВАНШИ,Штеффен ШТОЛЬЦ,Иван Дегумуа. Владелец: ФИЛИП МОРРИС ПРОДАКТС С.А.. Дата публикации: 2017-04-17.

Extreme ultraviolet source temperature monitoring using confocal sensor

Номер патента: US20240201581A1. Автор: Patrick Tae,Caijun Su. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Extreme ultraviolet source temperature monitoring using confocal sensor

Номер патента: WO2024130057A1. Автор: Patrick Tae,Caijun Su. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2024-06-20.

Extreme ultraviolet mask blank with alloy absorber, method of manufacturing extreme ultraviolet mask blank, and extreme ultraviolet mask blank production system

Номер патента: TW202232225A. Автор: 維胡 吉達. Владелец: 美商應用材料股份有限公司. Дата публикации: 2022-08-16.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE DEVICE AND METHOD FOR GENERATING EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT

Номер патента: US20130284949A1. Автор: HORI Tsukasa,YANAGIDA Tatsuya,KOMORI Hiroshi,UENO Yoshifumi,SUMITANI Akira,ENDO Akira. Владелец: . Дата публикации: 2013-10-31.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION METHOD

Номер патента: US20130320232A1. Автор: Wakabayashi Osamu,HORI Tsukasa,FUJIMOTO Junichi. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2013-12-05.

APPROACH TO LOWERING EXTREME ULTRAVIOLET EXPOSURE DOSE FOR INORGANIC HARDMASKS FOR EXTREME ULTRAVIOLET PATTERNING

Номер патента: US20180203355A1. Автор: De Silva Ekmini A.,Seshadri Indira P.,Petrillo Karen E.. Владелец: . Дата публикации: 2018-07-19.

Detecting device for extreme ultraviolet collecting mirror system and method for assembling extreme ultraviolet collecting mirror system by applying detecting device

Номер патента: CN105865758A. Автор: 徐强,王骐,祝东远. Владелец: Harbin Institute of Technology. Дата публикации: 2016-08-17.

Optical assembly for use in illumination optics of optical system of projection exposure system for extreme ultraviolet-lithography, has output mirror for outputting extreme ultraviolet light from illumination beam path

Номер патента: DE102012207865B3. Автор: Ralf Scharnweber. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-07-11.

EXTREME ULTRAVIOLET (EUV) RADIATION SOURCE AND A METHOD FOR GENERATING EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION

Номер патента: US20200041908A1. Автор: CHEN Li-Jui,YANG Chi,CHIEN Shang-Chieh,CHENG Po-Chung,YEN Wei-Chun. Владелец: . Дата публикации: 2020-02-06.

MIRROR FOR EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATING APPARATUS

Номер патента: US20200209444A1. Автор: Wakabayashi Osamu,Honda Yoshiyuki. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2020-07-02.

MIRROR FOR EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATING APPARATUS

Номер патента: US20200209755A1. Автор: Wakabayashi Osamu,Honda Yoshiyuki. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2020-07-02.

Mirror for extreme ultraviolet light and extreme ultraviolet light generating apparatus

Номер патента: US20200209759A1. Автор: Yoshiyuki Honda,Osamu Wakabayashi. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2020-07-02.

Extreme ultraviolet mirror arrangement for optical system for extreme ultraviolet microlithography, comprises multiple mirror elements that are arranged side by side, such that mirror elements form mirror surface

Номер патента: DE102011005940A1. Автор: Dr. Dinger Udo,Prof. Dr. Bijkerk Frederik,Muharrem Bayraktar. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-09-27.

RESIN, TWO-LAYER RESIN FOR EXTREME ULTRAVIOLET (EUV) PHOTOLITHOGRAPHY AND METHOD FOR EXTREME ULTRAVIOLET (EUV) PHOTOLITHOGRAPHY

Номер патента: FR2812450B1. Автор: Andre Schiltz. Владелец: France Telecom SA. Дата публикации: 2003-01-10.

Extreme ultraviolet light exposure apparatus and extreme ultraviolet light source device

Номер патента: KR100930779B1. Автор: 교헤이 세키. Владелец: 우시오덴키 가부시키가이샤. Дата публикации: 2009-12-09.

Method for the detection of the irradiance distribution in an extreme ultraviolet light source device and an extreme ultraviolet light source device

Номер патента: US8841625B2. Автор: Daiki Yamatani. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2014-09-23.

Extreme ultraviolet lithography method, extreme ultraviolet mask and formation method thereof

Номер патента: US11392022B2. Автор: BO-TSUN Liu,Chih-Tsung Shih,Yu-Hsun Wu,Tsung-Chuan LEE. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-07-19.

Extreme ultraviolet light exposure device and extreme ultraviolet light source device

Номер патента: JP4710406B2. Автор: 匡平 関. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2011-06-29.

Superconductor-based modulator for extreme ultraviolet (EUV)

Номер патента: US20070076283A1. Автор: David Williams,Michael Goldstein. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2007-04-05.

Detecting erosion in collector optics with plasma sources in extreme ultraviolet (EUV) lithography systems

Номер патента: US6841322B1. Автор: Sang Hun Lee. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2005-01-11.

Mask for Extreme-Ultraviolet (Extreme-UV) Lithography and Method for Manufacturing the Same

Номер патента: US20190155138A1. Автор: Kim Ryan Ryoung Han,Lee Jae Uk. Владелец: . Дата публикации: 2019-05-23.

Optical collector collecting extreme ultraviolet radiation, method for operating such an optical collector, and euv source with such a collector

Номер патента: US20130003167A1. Автор: Franz Dieterich,Reza Abhari,Andrea Giovannini,Vipluv Aga. Владелец: Eidgenoessische Technische Hochschule Zurich ETHZ. Дата публикации: 2013-01-03.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE APPARATUS AND METHOD OF GENERATING ULTRAVIOLET LIGHT

Номер патента: US20130256568A1. Автор: Wakabayashi Osamu,UENO Yoshifumi,ENDO Akira,SASAKI Youichi. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2013-10-03.

Illumination lens for use in scanner-type projection illumination system e.g. stepper, for extreme ultraviolet microlithography, has correction element arranged in optical path of ultraviolet radiation between radiation source and location

Номер патента: DE102007041004A1. Автор: Wolfgang Singer,Martin Endres,Ralf STÜTZLE,Jens Ossmann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2009-03-05.

Method for producing a mask for the extreme ultraviolet wavelength range, mask and device

Номер патента: WO2016037851A1. Автор: Jan-Hendrik PETERS,Frederik Blumrich,Anthony Garetto,Renzo Capelli. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-03-17.

Condenser for ring-field deep-ultraviolet and extreme-ultraviolet lithography

Номер патента: US6186632B1. Автор: Henry N. Chapman,Keith A. Nugent. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2001-02-13.

Optical collector for collecting extreme ultraviolet radiation, method for operating such an optical collector, and EUV source with such a collector

Номер патента: US9513569B2. Автор: Franz Dieterich,Reza Abhari,Andrea Giovannini,Vipluv Aga. Владелец: Eidgenoessische Technische Hochschule Zurich ETHZ. Дата публикации: 2016-12-06.

Photoacid generator for chemically amplified photoresists for deep ultraviolet and extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US20230229077A1. Автор: Gerhard Ingmar Meijer,Peter Willem Jan Staar,Valery Weber. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2023-07-20.

Method for Forming an Extreme Ultraviolet Lithography Pellicle

Номер патента: US20210191255A1. Автор: Ivan Pollentier,Cedric Huyghebaert,Emily Gallagher,Marina Timmermans,Elie Schapmans. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2021-06-24.

Mirror, mirror device, laser apparatus, and extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: WO2012046133A2. Автор: Osamu Wakabayashi,Hidenobu Kameda. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2012-04-12.

Mirror, mirror device, laser apparatus, and extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: EP2625559A2. Автор: Osamu Wakabayashi,Hidenobu Kameda. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2013-08-14.

Method of manufacturing an extreme ultraviolet (euv) mask and the mask manufactured therefrom

Номер патента: US20160161838A1. Автор: Ming-Yun Chen,Chia-Hao Yu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-06-09.

Extreme Ultraviolet Lithography with Reduced Exposure Dose and Negative Tone Development

Номер патента: US20170315447A1. Автор: Ching-Yu Chang,Chen-Yu Liu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-11-02.

Extreme ultraviolet (euv) polarization splitter

Номер патента: US20200124978A1. Автор: Minfeng CHEN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-04-23.

Self-braking asynchronous electric motor with dual massive rotor

Номер патента: RU2551893C1. Автор: Сергей Анатольевич Попов,Николай Васильевич Ладенко,Вера Сергеевна Спичак,Лилия Михайловна Шишканова,Кристина Юрьевна Романенко. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Кубанский государственный технологический университет" (ФГБОУ ВПО "КубГТУ"). Дата публикации: 2015-06-10.

Fishing reel with dual spool spin axes

Номер патента: US20120001007A1. Автор: Bloemendaal Brent J.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

High-speed generator based on double-pole machine with dual voltage system, intermediate rotor and capacitor-type self-excitation

Номер патента: RU2501147C1. Автор: Абрек-Заур Рауфович Джендубаев,Зураб Абрек-Заурович Джендубаев,Рашид Юнусович Барахоев. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "НИЭЛЬ". Дата публикации: 2013-12-10.

Sixteen-stage coaxial gearbox with dual clutch

Номер патента: RU2481510C1. Автор: Владимир Иванович Некрасов,Анна Андреевна Морозова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Тюменский государственный нефтегазовый университет" (ТюмГНГУ). Дата публикации: 2013-05-10.

Six-stage nonaligned gearbox with dual clutch

Номер патента: RU2542810C1. Автор: Владимир Иванович Некрасов,Георгий Николаевич Шпитко,Анастасия Станиславовна Богатырева. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Курганский государственный университет". Дата публикации: 2015-02-27.

Sixteen-stage coaxial planetary gearbox 16r4 with dual clutch

Номер патента: RU2542816C1. Автор: Владимир Иванович Некрасов,Георгий Николаевич Шпитко. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Курганский государственный университет". Дата публикации: 2015-02-27.

Method of determining air-tightness of downhole equipment with dual extraction of fluids from well with sucker-rod and electric-centrifugal pump

Номер патента: RU2589016C1. Автор: Наиль Габдулбариевич Ибрагимов,Айрат Рафкатович Рахманов,Мирзахан Атакиши оглы Джафаров,Дмитрий Валерьевич Матвеев,Фарид Раисович Хазипов. Владелец: Публичное акционерное общество "Татнефть" им. В.Д. Шашина. Дата публикации: 2016-07-10.

Eight-stage transmission with dual clutch

Номер патента: RU2542815C1. Автор: Владимир Иванович Некрасов,Георгий Николаевич Шпитко,Анастасия Станиславовна Богатырева. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Курганский государственный университет". Дата публикации: 2015-02-27.

Deodorant removal device with dual foam textures

Номер патента: AU304059S. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-11-10.

Six-stage misaligned transfer gearbox with dual clutch

Номер патента: RU2542814C1. Автор: Владимир Иванович Некрасов,Георгий Николаевич Шпитко,Анастасия Станиславовна Богатырева. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Курганский государственный университет". Дата публикации: 2015-02-27.

Twelve-stage coaxial planetary gearbox with dual clutch

Номер патента: RU2539267C1. Автор: Владимир Иванович Некрасов,Руслан Альбертович Зиганшин,Анна Владимировна Зиганшина. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Тюменский государственный нефтегазовый университет" (ТюмГНГУ). Дата публикации: 2015-01-20.

Installation named after garipov for oil production with dual disposal of brine water and method of its implementation (versions)

Номер патента: RU2534688C2. Автор: Олег Марсович Гарипов. Владелец: ООО Научно-производственное объединение "Новые нефтяные технологии". Дата публикации: 2014-12-10.

Surface cleaning head with dual cleaning rollers

Номер патента: CA178339S. Автор: . Владелец: SharkNinja Operating LLC. Дата публикации: 2018-10-11.

Alternator having single stator with dual windings and compound output

Номер патента: CA1112298A. Автор: Serge J.H. Thomas. Владелец: Motorola Automobile SA. Дата публикации: 1981-11-10.

Heptacyclic gearbox with dual clutch

Номер патента: RU2565799C1. Автор: Юрий Леонидович Евтодеев. Владелец: Юрий Леонидович Евтодеев. Дата публикации: 2015-10-20.

Clipboard storage container with dual compartments

Номер патента: CA152568S. Автор: . Владелец: ELLIS N SHAMOON. Дата публикации: 2014-07-16.

Method for determining deformation of soil by emitting panel - antenna of pulse seismic source with electromagnetic drive

Номер патента: RU2265234C1. Автор: В.В. Ивашин,Н.А. Иванников. Владелец: Иванников Николай Алексеевич. Дата публикации: 2005-11-27.

Direction finding method of radio signal sources with pseudorandom tuning of working frequency in short-wave band

Номер патента: RU2461015C2. Автор: Алексей Викторович Вассенков,Анатолий Семенович Дикарев,Виктор Александрович Изюмов,Владимир Николаевич Скобелкин,Александр Николаевич Ражев. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "18 Центральный научно-исследовательский институт" Министерства обороны Российской Федерации. Дата публикации: 2012-09-10.

Outlet unit of plasma relativistic microwave pulses source with conversion of wave type

Номер патента: RU2595554C2. Автор: Игорь Евгеньевич Иванов,Олег Тимофеевич Лоза,Елена Александровна Шульгина,Ирина Леонидовна Богданкевич,Рена Гаджиага кызы Гусейн-заде,Денис Константинович Ульянов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт общей физики им. А.М. Прохорова Российской академии наук. Дата публикации: 2016-08-27.

Method of ion-plasma coating and arc vapour source with composite cathode

Номер патента: RU2376398C2. Автор: Аскар Джамилевич Мингажев,Сергей Петрович Павлинич,Анатолий Михайлович Смыслов,Юрий Михайлович Дыбленко,Константин Сергеевич Селиванов,Вячеслав Юрьевич Гордеев,Марина Константинова Смыслова. Владелец: Федеральное государственное учреждение Российский научный центр "Курчатовский институт". Дата публикации: 2009-12-20.

Power supply source with pulse conversion of energy

Номер патента: RU2014716C1. Автор: С.П. Фурсов,М.В. Поповский. Владелец: Фурсов Сергей Петрович. Дата публикации: 1994-06-15.

Source with cathode cone of high-frequency pulses of ions of hydrogen

Номер патента: RU2231162C2. Автор: Ю.Я. Лапицкий. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие Государственный научный центр Российской Федерации Институт теоретической и экспериментальной физики. Дата публикации: 2004-06-20.

Emission source with low level of intensity noises for fibre-optic gyroscope

Номер патента: RU2495376C1. Автор: Александр Михайлович Курбатов,Роман Александрович Курбатов. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Центр эксплуатации объектов наземной космической инфраструктуры" (ФГУП "ЦЭНКИ"). Дата публикации: 2013-10-10.

Method determining radial velocity of movement of traveling radio radiation source with unknown parameters and device for its realization

Номер патента: RU2211460C2. Автор: В.В. Климин. Владелец: Климин Валентин Васильевич. Дата публикации: 2003-08-27.

Ion source with effect of hollow cathode

Номер патента: RU2231163C2. Автор: Б.К. Кондратьев,В.И. Турчин. Владелец: Государственное унитарное предприятие Государственный научный центр Российской Федерации Институт теоретической и экспериментальной физики. Дата публикации: 2004-06-20.

Alternating voltage source with energy regeneration

Номер патента: RU2377710C1. Автор: Николай Петрович Кириллов,Сергей Леонидович Рудницкий,Сергей Сергеевич Матвеев,Рушат Гаярович Исмятуллин. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Военная академия Ракетных войск стратегического назначения имени Петра Великого. Дата публикации: 2009-12-27.

Method for producing three-dimensional radionuclide sources with butt-end working surface

Номер патента: RU2223563C2. Автор: А.Ф. Сироткин,Н.М. Ледовских,М.М. Саликов. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие Государственный научный центр РФ Научно-исследовательский институт атомных реакторов. Дата публикации: 2004-02-10.

All optical microwave/millimeter wave source with variable resolution

Номер патента: MY176438A. Автор: Kanesan Thavamaran,Binti Maskuriy Farha,Bin Mohamad Romli,Hafiz bin Mohamad Nor Mohd,Mousa Ibrahim Mitani Sufian. Владелец: Telekom Malaysia Berhad. Дата публикации: 2020-08-10.

Filtering chuck for preparation of drinking water from source with low content of calcium, magnesium and fluorine ions and increased content of iron ions

Номер патента: RU2533715C1. Автор: Игорь Олегович Мельников,Виктор Васильевич Сапрыкин,Сергей Викторович Захаров,Александр Петрович Маслюков,Владимир Викторович Николотов,Антон Валерьевич Новиков,Роман Евгеньевич Подобедов,Алексей Григорьевич Растегаев,Анна Николаевна Якубаускас. Владелец: Закрытое акционерное общество "МЕТТЭМ-технологии". Дата публикации: 2014-11-20.

Method of radar protection against antiradar missile based on use of additional radiation source with a lift-type horn aerial

Номер патента: RU2287168C1. Автор: Сергей Васильевич Афонин,Сергей Владимирович Сергиенко,Сергей Анатольевич Успенский,Дмитрий Геннадиевич Митрофанов,Сергей Николаевич Барсуков,Андрей Валерьевич Колосовский,ев Иль Игоревич Чукл,Илья Игоревич Чукляев,Евгений Викторович Почечуев,Александр Владимирович Редин,Дмитрий Леонидович Ксензов. Владелец: Военная академия войсковой ПВО ВС РФ. Дата публикации: 2006-11-10.

Laser ion source with multipolar magnetic field

Номер патента: RU2378735C1. Автор: Владимир Иванович Турчин,Борис Константинович Кондратьев,Антон Владимирович Турчин. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Государственный научный центр Российской Федерации Институт теоретической и экспериментальной физики". Дата публикации: 2010-01-10.

Deceleration radiation source with small focal spot

Номер патента: RU2462844C1. Автор: Владимир Борисович Сорокин. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский Томский политехнический университет". Дата публикации: 2012-09-27.

Method for detection of azimuthal and elevation bearings of radiation sources with improved efficiency

Номер патента: RU2380720C2. Автор: Анатолий Антонович Грешилов,Павел Анатольевич Плохута. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский государственный технический университет имени Н.Э. Баумана" (ГОУ ВПО "МГТУ им. Н.Э. Баумана"). Дата публикации: 2010-01-27.

Laser lithographic light source with beam transmission

Номер патента: RU2340057C2. Автор: Ричард Л. СЭНДСТРОМ,Александр И. ЕРШОВ,Брайан С. КЛЕНЕ,Палаш П. ДАС,Стивен Л. ГРОУВ,Скотт Т. СМИТ,Ксиаодзианг Дж. ПАН. Владелец: Саймер, Инк.. Дата публикации: 2008-11-27.

Pyrometric sensor of coordinates of fire source with field stop

Номер патента: RU2536355C2. Автор: Андрей Николаевич Павлов,Евгений Викторович Сыпин,Юрий Анатольевич Галенко,Антон Игоревич Сидоренко. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Алтайский государственный технический университет им. И.И. Ползунова" (АлтГТУ). Дата публикации: 2014-12-20.

Method for determining coordinates of moving radio irradiation source with unknown parameters and apparatus for performing the same

Номер патента: RU2234712C2. Автор: В.В. Климин. Владелец: Климин Валентин Васильевич. Дата публикации: 2004-08-20.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE DEVICE, LASER LIGHT SOURCE DEVICE FOR EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE DEVICE, AND METHOD FOR CONTROLLING SATURABLE ABSORBER USED IN EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE DEVICE

Номер патента: US20120068091A1. Автор: MORIYA Masato,Wakabayashi Osamu,HOSHINO Hideo,ENDO Akira,Nowak Krzysztof,ARIGA Tatsuya. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2012-03-22.

PULSED DISCHARGE EXTREME ULTRAVIOLET SOURCE WITH MAGNETIC SHIELD

Номер патента: US20120146510A1. Автор: McGeoch Malcolm W.. Владелец: PLEX LLC. Дата публикации: 2012-06-14.

METHOD FOR THE DETECTION OF THE IRRADIANCE DISTRIBUTION IN AN EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE DEVICE AND AN EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE DEVICE

Номер патента: US20120112077A1. Автор: Yamatani Daiki. Владелец: USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-05-10.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE APPARATUS, METHOD FOR CONTROLLING EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE APPARATUS, AND RECORDING MEDIUM WITH PROGRAM RECORDED THEREON

Номер патента: US20120175533A1. Автор: . Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2012-07-12.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION METHOD

Номер патента: US20120241649A1. Автор: Wakabayashi Osamu,NISHIHARA Katsunobu,SUNAHARA Atsushi. Владелец: . Дата публикации: 2012-09-27.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE DEVICE AND CONTROL METHOD FOR EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE DEVICE

Номер патента: US20120319014A1. Автор: MORIYA Masato,Wakabayashi Osamu. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2012-12-20.

CHAMBER APPARATUS, EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM, AND METHOD FOR CONTROLLING THE EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM

Номер патента: US20130026393A1. Автор: Wakabayashi Osamu,ABE Tooru. Владелец: . Дата публикации: 2013-01-31.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE APPARATUS AND METHOD OF GENERATING EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT

Номер патента: US20120161040A1. Автор: Wakabayashi Osamu,UENO Yoshifumi,ENDO Akira,SASAKI Youichi. Владелец: Gigaphoton Inc.. Дата публикации: 2012-06-28.

Driver laser for extreme ultraviolet light source device, and lpp-type extreme ultraviolet light source device

Номер патента: JP2012227167A. Автор: Akira Endo,Taisuke Miura,彰 遠藤,Takashi Suganuma,崇 菅沼,泰祐 三浦,Tatsuya Ariga,達也 有我. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2012-11-15.

Extreme ultraviolet light generation method and extreme ultraviolet light generation apparatus

Номер патента: JP4807560B2. Автор: 武史 東口,昌一 窪寺,能史 植野. Владелец: KOMATSU LTD. Дата публикации: 2011-11-02.

Extreme ultraviolet light detection system capable of real-timely acquiring extreme ultraviolet light radiation characteristic

Номер патента: CN102494765A. Автор: 徐强,王骐,赵永蓬. Владелец: Harbin Institute of Technology. Дата публикации: 2012-06-13.

Extreme ultraviolet light source device and method of generating extreme ultraviolet light

Номер патента: JP5368764B2. Автор: 理 若林,陽一 佐々木,達哉 柳田. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2013-12-18.

Extreme ultraviolet exposure mask, manufacturing method thereof, and extreme ultraviolet exposure method

Номер патента: JP5292669B2. Автор: 正 松尾. Владелец: Toppan Inc. Дата публикации: 2013-09-18.

INDUCTION HEATED BUFFER GAS HEAT PIPE FOR USE IN AN EXTREME ULTRAVIOLET SOURCE

Номер патента: US20130153568A1. Автор: McGeoch Malcolm W.. Владелец: PLEX LLC. Дата публикации: 2013-06-20.

Device and method for generating extreme ultraviolet source based on radial polarization laser driving

Номер патента: CN103149804B. Автор: 陆培祥,王新兵,卢宏,左都罗,罗海鹏. Владелец: HUAZHONG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY. Дата публикации: 2015-03-04.

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE WITH A DEBRIS-MITIGATED AND COOLED COLLECTOR OPTICS

Номер патента: US20120025109A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-02-02.

Method and device for producing extreme ultraviolet radiation and soft x-radiation

Номер патента: AU2002302317A1. Автор: Jürgen Klein,Joseph Pankert,Willi Neff,Klaus Bergmann,Michael Loken,Stefan Seiwert. Владелец: Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV. Дата публикации: 2002-10-21.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.