METHODS FOR MAKING A SEMICONDUCTOR DEVICE WITH SHAPED SOURCE AND DRAIN RECESSES AND RELATED DEVICES
Номер патента: US20140353714A1
Опубликовано: 04-12-2014
Автор(ы): LATULIPE DOUGLAS, Loubet Nicolas, Reznicek Alexander
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 04-12-2014
Автор(ы): LATULIPE DOUGLAS, Loubet Nicolas, Reznicek Alexander
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method for forming a stress-reduced field-effect semiconductor device
Номер патента: US09941365B2. Автор: Anton Mauder,Franz Hirler,Markus Zundel,Ralf Siemieniec,Stefan Sedlmaier,Michael Hutzler,Oliver Blank,Johannes Baumgartl. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AUSTRIA AG. Дата публикации: 2018-04-10.