Methods of cleaning semiconductor devices at the back end of line using amidoxime compositions
Номер патента: TW200940706A
Опубликовано: 01-10-2009
Автор(ы): Wai Mun Lee
Принадлежит: EKC Technology Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 01-10-2009
Автор(ы): Wai Mun Lee
Принадлежит: EKC Technology Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Solution, method of forming resist pattern, and semiconductor device manufacturing method
Номер патента: US11822250B2. Автор: Hiroyuki Iida,Masaharu Nakamura,Motoki Takahashi. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-21.