Nitride semiconductor structure
Номер патента: US20190157080A1
Опубликовано: 23-05-2019
Автор(ы): Jin-Hsiang Liu, Kun-Chuan Lin, Yu-Lin Hsiao
Принадлежит: Elite Advanced Laser Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 23-05-2019
Автор(ы): Jin-Hsiang Liu, Kun-Chuan Lin, Yu-Lin Hsiao
Принадлежит: Elite Advanced Laser Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Nitride semiconductor substrate
Номер патента: US20170011919A1. Автор: Hiroshi Oishi,Tomoko Watanabe,Yoshihisa Abe,Jun Komiyama,Noriko Omori,Kenichi Eriguchi. Владелец: CoorsTek KK. Дата публикации: 2017-01-12.