Nitride semiconductor laser device
Номер патента: US8085826B2
Опубликовано: 27-12-2011
Автор(ы): Masataka Ohta, Yoshie Fujishiro, Yuhzoh Tsuda
Принадлежит: Sharp Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 27-12-2011
Автор(ы): Masataka Ohta, Yoshie Fujishiro, Yuhzoh Tsuda
Принадлежит: Sharp Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Nitride semiconductor crystal producing method, nitride semiconductor epitaxial wafer, and nitride semiconductor freestanding substrate
Номер патента: US20130069075A1. Автор: Yuichi Oshima,Hajime Fujikura,Taichiroo Konno. Владелец: Hitachi Cable Ltd. Дата публикации: 2013-03-21.