Method of fabricating thin film transistor substrate and photoresist composition used therein
Номер патента: KR101661695B1
Опубликовано: 11-10-2016
Автор(ы): 김동민, 김병욱, 신재호, 이원영, 이희국, 전우석, 정양호
Принадлежит: 삼성디스플레이 주식회사, 주식회사 동진쎄미켐
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 11-10-2016
Автор(ы): 김동민, 김병욱, 신재호, 이원영, 이희국, 전우석, 정양호
Принадлежит: 삼성디스플레이 주식회사, 주식회사 동진쎄미켐
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method of fabricating thin film transistor substrate and negative photoresist composition used therein
Номер патента: US20100203449A1. Автор: Hi-Kuk Lee,Byung-Uk Kim,Hyoc-Min Youn,Ki-Hyuk Koo,Yeong-Beom Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2010-08-12.