Semiconductor device
Номер патента: US20090114975A1
Опубликовано: 07-05-2009
Автор(ы): Cha-Hsin Lin, Lurng-Shehng Lee
Принадлежит: Industrial Technology Research Institute ITRI
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 07-05-2009
Автор(ы): Cha-Hsin Lin, Lurng-Shehng Lee
Принадлежит: Industrial Technology Research Institute ITRI
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Semiconductor devices including gate insulation layers on channel materials
Номер патента: US09553105B2. Автор: Dae-Seok Byeon,Jung-Hwan Lee,Jee-Yong Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-01-24.