Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

Plasma etching and stealth dicing laser process

Номер патента: US09601437B2
Опубликовано: 21-03-2017
Автор(ы): Guido Albermann, Hartmut BUENNING, Martin Lapke, Sascha Moeller, Thomas Rohleder
Принадлежит: NXP BV
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Hybrid wafer dicing approach using a uniform rotating beam laser scribing process and plasma etch process

Номер патента: EP4014251A1. Автор: James S. Papanu,Karthik Balakrishnan,Jungrae Park. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-06-22.

Hybrid wafer dicing approach using a uniform rotating beam laser scribing process and plasma etch process

Номер патента: US20210050263A1. Автор: James S. Papanu,Karthik Balakrishnan,Jungrae Park. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-02-18.

Plasma etching method

Номер патента: US20180240690A1. Автор: Kenta Chito. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2018-08-23.

Laser scribing trench opening control in wafer dicing using hybrid laser scribing and plasma etch approach

Номер патента: US20240079273A1. Автор: James S. Papanu,Karthik Balakrishnan,Wei-Sheng Lei,Jungrae Park,Zavier Zai Yeong Tan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-07.

Laser scribing trench opening control in wafer dicing using hybrid laser scribing and plasma etch approach

Номер патента: US11854888B2. Автор: James S. Papanu,Karthik Balakrishnan,Wei-Sheng Lei,Jungrae Park,Zavier Zai Yeong Tan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-26.

Plasma etching apparatus and method of plasma etching a semiconductor substrate

Номер патента: EP3958288A1. Автор: Maxime Varvara,Codrin Prahoveanu. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2022-02-23.

Plasma etching apparatus

Номер патента: US20050061447A1. Автор: Yong-Dae Kim,Do-hyeong Kim,Doo-Won Lee,Soon-Ho Yon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2005-03-24.

Plasma etching apparatus

Номер патента: US20030203640A1. Автор: Kazue Takahashi,Saburo Kanai,Toshio Masuda,Tetsunori Kaji,Mitsuru Suehiro. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-10-30.

Method of manufacturing element chip and method of manufacturing electronic component-mounted structure using plasma etch to singulate element chip

Номер патента: US09698052B2. Автор: Noriyuki Matsubara,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-04.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20160268140A1. Автор: Shunichi Mikami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-15.

Plasma etching method and semiconductor device fabrication method including the same

Номер патента: US12020903B2. Автор: Yonghee Kim,Minjae Lee,Dougyong Sung,SeungBo SHIM,Myungsun Choi,Byunghun Han,Donghyeon NA,Minyoung HUR,Hyeongmo KANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-25.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US09887109B2. Автор: Kazuhiro Kubota,Masanobu Honda,Masaya Kawamata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Method and apparatus for plasma etching

Номер патента: EP3843126A1. Автор: Huma Ashraf,Kevin RIDDELL,Codrin Prahoveanu. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2021-06-30.

Method and Apparatus for Plasma Etching

Номер патента: US20210193471A1. Автор: Huma Ashraf,Kevin RIDDELL,Codrin Prahoveanu. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2021-06-24.

Method and apparatus for plasma etching

Номер патента: US11664232B2. Автор: Huma Ashraf,Kevin RIDDELL,Codrin Prahoveanu. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2023-05-30.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20190006186A1. Автор: Hiroki Sato,Hisashi Hirose. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-01-03.

Plasma etching apparatus and method for operating the same

Номер патента: US12046451B2. Автор: Ju Ho Lee,Seung Bo SHIM,Doug Yong SUNG,Nam Kyun Kim,Seung Han BAEK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-23.

Plasma etching method and semiconductor device fabrication method including the same

Номер патента: US20210104382A1. Автор: Yonghee Kim,Minjae Lee,Dougyong Sung,SeungBo SHIM,Myungsun Choi,Byunghun Han,Donghyeon NA,Minyoung HUR,Hyeongmo KANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-04-08.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US10872779B2. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Masaru Izawa,Kohei Kawamura,Nobuya MIYOSHI,Kazunori Shinoda,Kazumasa Ookuma,Yutaka Kouzuma. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-12-22.

Plasma edge ring, plasma etching apparatus including the same, and plasma etching method using the same

Номер патента: US20230142436A1. Автор: Sang Ki Nam,Hyunjoo Lee,Young Hyun Jo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-05-11.

Plasma etching apparatus, plasma etching method, and semiconductor device fabrication method including the plasma etching method

Номер патента: US20220020597A1. Автор: Dougyong Sung,SeungBo SHIM,Myungsun Choi,Nam Kyun Kim,Kyuho Kim,Sungjun ANN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-01-20.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20140076848A1. Автор: Yoichi Nakahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-03-20.

Multi-layer mask including non-photodefinable laser energy absorbing layer for substrate dicing by laser and plasma etch

Номер патента: US09620379B2. Автор: AJAY Kumar,Wei-Sheng Lei,Brad Eaton,Madhava Rao Yalamanchili,Todd Egan,Mohammad Kamruzzaman CHOWDHURY. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-04-11.

Laser processing apparatus

Номер патента: SG10201800386QA. Автор: Yoshida Yuta,ODANAKA Kentaro,Ban Yuri. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2018-08-30.

Laser processing apparatus and method of forming through-hole

Номер патента: US20160368088A1. Автор: Keiji Nomaru,Yu Kudo. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2016-12-22.

Laser processing apparatus and method of forming through-hole

Номер патента: US10610965B2. Автор: Keiji Nomaru,Yu Kudo. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2020-04-07.

Laser and plasma etch wafer dicing with partial pre-curing of uv release dicing tape for film frame wafer application

Номер патента: WO2014062582A1. Автор: AJAY Kumar,Wei-Sheng Lei,Brad Eaton,Madhava Rao Yalamanchili,Todd Egan,Mohammad Kamruzzaman CHOWDHURY. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-04-24.

Laser and plasma etch wafer dicing with a double sided uv-curable adhesive film

Номер патента: WO2014004917A1. Автор: AJAY Kumar,Wei-Sheng Lei,Brad Eaton,Madhava Rao Yalamanchili,Todd Egan,Mohammad Kamruzzaman CHOWDHURY. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-01-03.

Hybrid wafer dicing approach using a rectangular laser spot-based laser scribing process and plasma etch process

Номер патента: US20240363412A1. Автор: Karthik Balakrishnan,Zavier Tan,Praveen Choragudi,Ananth Jupudi. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-31.

Laser processing apparatus

Номер патента: US20210008661A1. Автор: Yutaka Kobayashi,Atsushi Ueki. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2021-01-14.

Plasma etching chemistries of high aspect ratio features in dielectrics

Номер патента: US20230187234A1. Автор: YANG Pan,Jeffrey Marks,Samantha SiamHwa Tan,Keren J. KANARIK. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-06-15.

Plasma etching chemistries of high aspect ratio features in dielectrics

Номер патента: US20240258128A1. Автор: YANG Pan,Jeffrey Marks,Samantha SiamHwa Tan,Keren J. KANARIK. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-01.

Plasma etching chemistries of high aspect ratio features in dielectrics

Номер патента: US20240258127A1. Автор: YANG Pan,Jeffrey Marks,Samantha SiamHwa Tan,Keren J. KANARIK. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-01.

Plasma etching method

Номер патента: US09437450B2. Автор: Tetsuro Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-06.

Plasma etching apparatus, plasma etching method using the same, and semiconductor fabrication method using the same

Номер патента: US20230187186A1. Автор: Jongchul Park,Sanghyun Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-15.

Laser processing method

Номер патента: US09847257B2. Автор: Senichi Ryo,Yukinobu OHURA. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2017-12-19.

Plasma etch system including tunable plasma sheath

Номер патента: US20240266179A1. Автор: Yu Jiang,Ting-Jung Chen,Ming-Hsun LIN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Etch mask for hybrid laser scribing and plasma etch wafer singulation process

Номер патента: SG11201809012PA. Автор: AJAY Kumar,James S Papanu,Brad Eaton,Prabhat Kumar,Wenguang Li,Alexander N Lerner,Ramesh Krishnamurthy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-11-29.

Plasma processing apparatus and plasma etching method

Номер патента: US20200286737A1. Автор: Toshifumi Nagaiwa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-09-10.

PLASMA ETCHING METHOD, PLASMA ETCHING DEVICE, PLASMA PROCESSING METHOD, AND PLASMA PROCESSING DEVICE

Номер патента: US20170169997A1. Автор: MORIGUCHI Naoki. Владелец: . Дата публикации: 2017-06-15.

Laser processing apparatus

Номер патента: US20190126397A1. Автор: Keiji Nomaru,Yuji Hadano,Masatoshi Nayuki. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2019-05-02.

Plasma etching apparatus

Номер патента: US09653357B2. Автор: Junichi Arami,Kenji Okazaki. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2017-05-16.

Polarization-dependent laser-assisted plasma etching

Номер патента: US20190096684A1. Автор: David N. Ruzic,Jason A. Peck. Владелец: University of Illinois. Дата публикации: 2019-03-28.

Polarization-dependent laser-assisted plasma etching

Номер патента: US10510550B2. Автор: David N. Ruzic,Jason A. Peck. Владелец: University of Illinois. Дата публикации: 2019-12-17.

Stealth dicing adhesive sheet and method for manufacturing semiconductor device using same

Номер патента: KR102382843B1. Автор: 시게유키 야마시타. Владелец: 린텍 가부시키가이샤. Дата публикации: 2022-04-05.

Adhesive sheet for stealth dicing

Номер патента: KR20190076959A. Автор: 시게유키 야마시타. Владелец: 린텍 가부시키가이샤. Дата публикации: 2019-07-02.

Adhesive sheet for stealth dicing

Номер патента: KR20190080862A. Автор: 시게유키 야마시타. Владелец: 린텍 가부시키가이샤. Дата публикации: 2019-07-08.

Laser processing method for plate-shaped workpiece

Номер патента: US20160184934A1. Автор: Hirokazu Matsumoto,Saki Kimura. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2016-06-30.

Liquid-carrying roller for wet etching and wet etching method

Номер патента: EP4207260A1. Автор: LIN Lu,Bin Chen,Yunlu Wang. Владелец: JA Solar Technology Yangzhou Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-05.

Liquid-carrying roller for wet etching and wet etching method

Номер патента: US20230343888A1. Автор: LIN Lu,Bin Chen,Yunlu Wang. Владелец: JA Solar Technology Yangzhou Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-26.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20150206715A1. Автор: Takayuki Ishii,Ryoichi Yoshida,Ken Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-07-23.

Plasma etching apparatus and plasma cleaning method

Номер патента: US09659756B2. Автор: Takamichi Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Method and Apparatus for Plasma Etching Dielectric Substrates

Номер патента: US20240212998A1. Автор: Andrew RUBIN,Nicolas Launay,Kevin RIDDELL. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Multiple-processing and contamination-free plasma etching system

Номер патента: US5344542A. Автор: Arthur W. Zafiropoulo,Joseph A. Maher,E. John Vowles,Joseph D. Napoli,Mark W. Miller. Владелец: General Signal Corp. Дата публикации: 1994-09-06.

Multiple-processing and contamination-free plasma etching system

Номер патента: CA1331163C. Автор: Arthur W. Zafiropoulo,Joseph A. Maher,E. John Vowles,Joseph D. Napoli,Mark W. Miller. Владелец: General Signal Corp. Дата публикации: 1994-08-02.

Apparatus and method for plasma etching

Номер патента: US20240258084A1. Автор: Jongwoo SUN,Jewoo HAN,Haejoong Park,Kyohyeok KIM,Taehwa Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2024-08-01.

Focus ring and plasma etching device including same

Номер патента: US20240030007A1. Автор: Yongsoo Choi,Sungsic Hwang,Kyungin Kim,Jungkun Kang,Kyungyeol Min,Su Man Chae. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20230245897A1. Автор: Koki Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

Method of plasma etching

Номер патента: US12087593B2. Автор: Shih Pin KUO. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2024-09-10.

Process for plasma etching of vias

Номер патента: US5514247A. Автор: Robert Wu,Hongching Shan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1996-05-07.

Plasma etching of additive-containing aln

Номер патента: EP4199687A1. Автор: Huma Ashraf,Alex WOOD,Kevin RIDDELL. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2023-06-21.

Focus ring and plasma etching apparatus comprising the same

Номер патента: EP4322200A1. Автор: Yongsoo Choi,Sungsic Hwang,Kyungin Kim,Jungkun Kang,Kyungyeol Min,Su Man Chae. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-14.

Plasma Etching

Номер патента: US20230197457A1. Автор: Huma Ashraf,Alex WOOD,Kevin RIDDELL. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2023-06-22.

Focus ring and plasma etching apparatus comprising the same

Номер патента: US20240055238A1. Автор: Yongsoo Choi,Sungsic Hwang,Kyungin Kim,Jungkun Kang,Kyungyeol Min,Su Man Chae. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Process for developing fine openings in a flexible electronic component with a plasma-etching technique

Номер патента: US20240071824A1. Автор: Gurinder S. Saini,David J. Crary. Владелец: Tech Etch Inc. Дата публикации: 2024-02-29.

Wafer dicing using hybrid laser scribing and plasma etch approach with intermediate breakthrough treatment

Номер патента: WO2020055523A1. Автор: AJAY Kumar,Wei-Sheng Lei,Brad Eaton. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-03-19.

Apparatus and method for plasma etching

Номер патента: US11984304B2. Автор: Jongwoo SUN,Jewoo HAN,Haejoong Park,Kyohyeok KIM,Taehwa Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-14.

Method and apparatus for plasma etching dielectric substrates

Номер патента: EP4391010A1. Автор: Andrew RUBIN,Nicolas Launay,Kevin RIDDEL. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2024-06-26.

Focus ring and plasma etching device including same

Номер патента: EP4310886A1. Автор: Yongsoo Choi,Sungsic Hwang,Kyungin Kim,Jungkun Kang,Kyungyeol Min,Su Man Chae. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-24.

Process for cleaning an electrostatic chuck of a plasma etching apparatus

Номер патента: US5746928A. Автор: Po-Tao Chu,Kuang-Hui Chang,Shih Kuei Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 1998-05-05.

Method of plasma etching

Номер патента: US20230411164A1. Автор: Shih Pin KUO. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2023-12-21.

Hybrid wafer dicing approach using a rotating beam laser scribing process and plasma etch process

Номер патента: US9852997B2. Автор: AJAY Kumar,James S. Papanu,Wei-Sheng Lei,Brad Eaton,Jungrae Park. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-12-26.

Hybrid wafer dicing approach using a rotating beam laser scribing process and plasma etch process

Номер патента: WO2017165706A1. Автор: AJAY Kumar,James S. Papanu,Wei-Sheng Lei,Brad Eaton,Jungrae Park. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2017-09-28.

Method for establishing mapping relation in STI etch and controlling critical dimension of STI

Номер патента: US09666472B2. Автор: JIN Xu,Xusheng Zhang,Yu Ren,Yukun LV,Qiyan Feng. Владелец: Shanghai Huali Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-05-30.

Method for establishing mapping relation in sti etch and controlling critical dimension of sti

Номер патента: US20170025304A1. Автор: JIN Xu,Xusheng Zhang,Yu Ren,Yukun LV,Qiyan Feng. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-01-26.

System, method and apparatus for ion milling in a plasma etch chamber

Номер патента: US09899227B2. Автор: Joydeep Guha,Aaron Eppler,Jun Hee Han,Butsurin JINNAI. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-02-20.

Plasma etching method

Номер патента: US09412607B2. Автор: Eiji Suzuki,Yuji Otsuka,Yutaka Osada,Akinori Kitamura,Masayuki Kohno,Hiroto Ohtake,Yusuke Takino,Tomiko Kamada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-08-09.

Plasma etching method

Номер патента: US09966273B2. Автор: Yoshiki Igarashi,Wataru TAKAYAMA,Sho TOMINAGA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Single-wafer real-time etch rate and uniformity predictor for plasma etch processes

Номер патента: US09953886B2. Автор: Justin Hiroki Sato,Brian Dee Hennes,Yannick Carll Kimmel. Владелец: Microchip Technology Inc. Дата публикации: 2018-04-24.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US09524876B2. Автор: Masanobu Honda,Toru Hisamatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-20.

Method for plasma etching of Ir-Ta-O electrode and for post-etch cleaning

Номер патента: US20020187645A1. Автор: HONG Ying,Sheng Hsu,Fengyan Zhang,Jer-shen Maa. Владелец: Sharp Laboratories of America Inc. Дата публикации: 2002-12-12.

Plasma etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20130267094A1. Автор: Takayuki Katsunuma,Masanobu Honda,Hironobu Ichikawa,Jin KUDO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-10-10.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20150332929A1. Автор: Masanobu Honda,Toru Hisamatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-11-19.

Method of high density plasma etching for semiconductor manufacture

Номер патента: US5783100A. Автор: Guy Blalock,Kevin Donohoe. Владелец: Micron Display Technology Inc. Дата публикации: 1998-07-21.

Wafer dicing with wide kerf by laser scribing and plasma etching hybrid approach

Номер патента: US20140346641A1. Автор: AJAY Kumar,Wei-Sheng Lei,Brad Eaton,Madhava Rao Yalamanchili,Aparna Iyer. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2014-11-27.

Thermal spray material, thermal spray coating, method for forming thermal spray coating, and component for plasma etching device

Номер патента: US20240043982A1. Автор: Hiroaki Mizuno,Kensuke Taguchi,Takaya MASUDA,Tatsuo Suidzu,Yasuhiro Shiojiri. Владелец: Tocalo Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Metal-based passivation-assisted plasma etching of iii-v semiconductors

Номер патента: US20180323074A1. Автор: Rebecca J. Nikolic,Qinghui Shao,Lars Voss,Sara Elizabeth Harrison,Clint Frye. Владелец: Lawrence Livermore National Security LLC. Дата публикации: 2018-11-08.

Non-corrosive cleaning composition and method for removing photoresist and/or plasma etching residues

Номер патента: US6103680A. Автор: Kenji Honda,Eugene F. Rothgery. Владелец: Arch Specialty Chemicals Inc. Дата публикации: 2000-08-15.

Plasma etching chamber

Номер патента: WO2009061104A1. Автор: Hee-Se Lee,Seong-Hyun Chung,Se Mun Park. Владелец: Sosul Co., Ltd.. Дата публикации: 2009-05-14.

Silicon carbide substrate manufacturing method, silicon carbide substrate, and method of removing strain layer introduced into silicon carbide substrate by laser processing

Номер патента: EP4137619A1. Автор: Tadaaki Kaneko,Daichi DOJIMA. Владелец: Toyota Tsusho Corp. Дата публикации: 2023-02-22.

Plasma generation and pulsed plasma etching

Номер патента: US09793127B2. Автор: yu chao Lin,Chao-Cheng Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-10-17.

Plasma etching method

Номер патента: US09978566B2. Автор: Akihiro Yokota,Shinji Himori,Kazuya Nagaseki,Etsuji Ito,Tatsuro Ohshita,Shu KUSANO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-22.

Plasma etching method

Номер патента: US20170372915A1. Автор: Hirotoshi Inui. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2017-12-28.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20140073113A1. Автор: Yoichi Nakahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-03-13.

Integrated laser and plasma etch dicing

Номер патента: WO2024163214A1. Автор: Cheng Sun,Clinton Goh,Jonathan Bryant MELLEN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-08.

Integrated laser and plasma etch dicing

Номер патента: US20240266220A1. Автор: Cheng Sun,Clinton Goh,Jonathan Bryant MELLEN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-08.

Quartz glass member for plasma etching

Номер патента: US20110232847A1. Автор: Tatsuhiro Sato,Kyoichi Inaki. Владелец: Shin Etsu Quartz Products Co Ltd. Дата публикации: 2011-09-29.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US09530666B2. Автор: Hideki Mizuno,Kumiko Yamazaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-27.

Plasma etching techniques

Номер патента: WO2022173633A1. Автор: Aelan Mosden,Pingshan Luan. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2022-08-18.

Plasma etching techniques

Номер патента: US20220254645A1. Автор: Aelan Mosden,Pingshan Luan. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-08-11.

Plasma etching apparatus and method of etching wafer

Номер патента: WO2009008659A3. Автор: Jung Hee Lee,Kwan Goo Rha,Chul Hee Jang,Young Ki Han,Gil Hun Lee. Владелец: Gil Hun Lee. Дата публикации: 2009-03-12.

Plasma etching apparatus and plasma etching method

Номер патента: US20200312622A1. Автор: SATOSHI Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-10-01.

Plasma etching method

Номер патента: EP3989682A1. Автор: Daisuke Sato,Yuki Oka,Kaoru Kaibuki. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2022-04-27.

Wafer dicing using hybrid laser scribing and plasma etch approach with mask plasma treatment for improved mask etch resistance

Номер патента: US20150214109A1. Автор: AJAY Kumar,James S. Papanu,Wei-Sheng Lei,Brad Eaton,Jungrae Park. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-07-30.

Plasma etching using multiphase multifrequency power pulses and variable duty cycling

Номер патента: US20230377895A1. Автор: Alok Ranjan,Peter Lowell George Ventzek,Shyam Sridhar,Ya-Ming Chen. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Method of planarizing an upper surface of a semiconductor substrate in a plasma etch chamber

Номер патента: US20150249016A1. Автор: Yoshie Kimura,Harmeet Singh,Yifeng Zhou,Meihua Shen,Baosuo Zhou,John Hoang,Monica TITUS,Gowri Kamarthy. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2015-09-03.

Plasma etching techniques

Номер патента: US11538690B2. Автор: Aelan Mosden,Pingshan Luan. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-27.

Non-plasma etch of titanium-containing material layers with tunable selectivity to alternate metals and dielectrics

Номер патента: US20210057213A1. Автор: Subhadeep Kal,Daisuke Ito,Shinji Irie,Aelan Mosden. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-02-25.

Laser processing machine

Номер патента: US20210129265A1. Автор: Keiji Nomaru,Yuji Hadano. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2021-05-06.

Laser processing apparatus

Номер патента: US09925618B2. Автор: Tsutomu Maeda,Kiyoshi Ohsuga. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2018-03-27.

Laser processing method

Номер патента: US20230321761A1. Автор: Hiroshi Morikazu. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2023-10-12.

Laser processing apparatus

Номер патента: US4769523A. Автор: Hiroshi Shirasu,Joji Iwamoto,Akikazu Tanimoto,Keiichiro Sakato,Kiyoto Mashima. Владелец: Nippon Kogaku KK. Дата публикации: 1988-09-06.

Laser processing apparatus

Номер патента: US20180214986A1. Автор: Yuta Yoshida,Kentaro Odanaka,Yuri Ban. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2018-08-02.

Laser processing apparatus

Номер патента: US11935765B2. Автор: Shuichiro Tsukiji. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2024-03-19.

Equipment for cleaning, etching and drying semiconductor wafer and its using method

Номер патента: US5896875A. Автор: Kenji Yoneda. Владелец: Matsushita Electronics Corp. Дата публикации: 1999-04-27.

Plasma Etching Method

Номер патента: US20120052688A1. Автор: Shoichi Murakami,Akimitsu Oishi,Masayasu Hatashita. Владелец: Sumitomo Precision Products Co Ltd. Дата публикации: 2012-03-01.

Plasma etching method

Номер патента: US09680090B2. Автор: Kentaro Yamada,Naohiro Yamamoto,Masato Ishimaru,Makoto Suyama,Daisuke Fujita. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-06-13.

Plasma etching chemistries of high aspect ratio features in dielectrics

Номер патента: US20240178014A1. Автор: YANG Pan,Jeffrey Marks,Samantha SiamHwa Tan,Keren J. KANARIK. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-05-30.

Plasma etching chemistries of high aspect ratio features in dielectrics

Номер патента: US20240203760A1. Автор: YANG Pan,Jeffrey Marks,Samantha SiamHwa Tan,Keren J. KANARIK. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Plasma etching chemistries of high aspect ratio features in dielectrics

Номер патента: US20240203759A1. Автор: YANG Pan,Jeffrey Marks,Samantha SiamHwa Tan,Keren J. KANARIK. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Plasma etching method, plasma etching apparatus, control program and computer-readable storage medium

Номер патента: US20080190892A1. Автор: Sung Tae Lee. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-08-14.

Plasma etching method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20150187588A1. Автор: Takayuki Katsunuma,Kazuhiro Kubota,Masanobu Honda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-07-02.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20080179283A1. Автор: Hiroyuki SHIBAMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-07-31.

Plasma etching method

Номер патента: US09793136B2. Автор: Kosei Ueda,Yoshinobu Hayakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-17.

Metal-based liner protection for high aspect ratio plasma etch

Номер патента: US20230298896A1. Автор: Qing Xu,Eric A. Hudson,Amit Mukhopadhyay,Merrett Wong,Gregory Clinton Veber,Walter Thomas RALSTON,Taner OZEL,Shuang Pi. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-09-21.

Plasma etching method and method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US10529582B2. Автор: Mitsunari Horiuchi. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2020-01-07.

In-situ sequential silicon containing hard mask layer/silicon layer plasma etch method

Номер патента: US6069091A. Автор: Ming-Yeon Hung,Fa-Yuan Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2000-05-30.

Plasma etching of ni-containing materials

Номер патента: WO2003065419A3. Автор: Lee Chen. Владелец: Lee Chen. Дата публикации: 2003-11-13.

Plasma etching method

Номер патента: US20240006186A1. Автор: Jun-Hyun Kim,Chang-Koo Kim,Sang-Hyun YOU. Владелец: Ajou University Industry Academic Cooperation Foundation. Дата публикации: 2024-01-04.

In situ declogging in plasma etching

Номер патента: WO2023239617A1. Автор: Ji Zhu,Zhongkui Tan,Xiaofeng Su,Qiang Ma,Mark Naoshi Kawaguchi,Gowri Channa KAMARTHY,Priyadarsini SUBRAMANIAN,Wenchi Liu. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2023-12-14.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20210118690A1. Автор: Shuichi Kuboi,Seiya YOSHINAGA. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2021-04-22.

Plasma etching method and method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20190080923A1. Автор: Mitsunari Horiuchi. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-03-14.

Laser processing method and device

Номер патента: US09511449B2. Автор: Tatsuya Suzuki,Fumitsugu Fukuyo,Kenshi Fukumitsu,Kazuhiro Atsumi,Koji Kuno,Masayoshi Kusunoki. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2016-12-06.

Substrate-floatation-type laser processing apparatus and method for measuring floating height

Номер патента: US11749545B2. Автор: Yuki Suzuki,Daisuke Hayashi,Takahiro Mikami. Владелец: JSW Aktina System Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-05.

Laser processing device and laser processing method

Номер патента: US20240286226A1. Автор: Takeshi Sakamoto. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2024-08-29.

Laser processing apparatus

Номер патента: US09724783B2. Автор: Wataru Odagiri,Shuichiro Tsukiji,Kentaro Odanaka,Hironari OHKUBO,Ryugo Oba,Kouichi Nehashi,Joel Koerwer,Takashi Sampei. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2017-08-08.

Laser processing apparatus and method of adjusting phase pattern

Номер патента: US12030137B2. Автор: Atsushi Ueki,Teppei Nomura. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2024-07-09.

Laser processing method and laser processing apparatus

Номер патента: MY144645A. Автор: Tatsuya Suzuki,Fumitsugu Fukuyo,Kenshi Fukumitsu,Kazuhiro Atsumi,Koji Kuno,Masayoshi Kusunoki. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2011-10-31.

Substrate-floatation-type laser processing apparatus and method for measuring floating height

Номер патента: US20230343618A1. Автор: Yuki Suzuki,Daisuke Hayashi,Takahiro Mikami. Владелец: JSW Aktina System Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-26.

Laser processing device and laser processing method

Номер патента: US20240051067A1. Автор: Naoki Uchiyama,Takashi Kurita,Takeshi Sakamoto,Takafumi Ogiwara,Ryo Yoshimura,Yo Sugimoto. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2024-02-15.

Laser processing device and laser processing method

Номер патента: US20240207978A1. Автор: Takafumi Ogiwara,Hayate Joan. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2024-06-27.

Laser processing method

Номер патента: US20190096763A1. Автор: Mie Matsuo. Владелец: Toshiba Electronic Devices and Storage Corp. Дата публикации: 2019-03-28.

Laser processing device

Номер патента: US20220410311A1. Автор: Takeshi Sakamoto,Tsubasa Hirose,Takafumi Ogiwara. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2022-12-29.

Laser processing apparatus and method of adjusting phase pattern

Номер патента: US20210146482A1. Автор: Atsushi Ueki,Teppei Nomura. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2021-05-20.

Method of determining plasma etching parameters

Номер патента: RU2686579C1. Автор: Владимир Иванович АНИСИМКИН,Наталья Владимировна Воронова,Геннадий Николаевич Галанов,Нелли Владимировна Воронова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт радиотехники и электроники им. В.А. Котельникова Российской академии наук. Дата публикации: 2019-04-29.

Method and apparatus for real-time monitoring of plasma etch uniformity

Номер патента: US09847262B2. Автор: Jean-Francois De Marneffe,Vladimir Samara. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2017-12-19.

Plasma etching apparatus and plasma etching method

Номер патента: US09583315B2. Автор: Tomoyuki Mizutani,Hiroshi Tsujimoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Plasma etching systems and methods using empirical mode decomposition

Номер патента: US09548189B2. Автор: Andrew D. Bailey, III,Yassine Kabouzi,Jorge Luque,Luc Albarede. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-01-17.

Plasma etching method and storage medium

Номер патента: US20120244709A1. Автор: Yoshiki Igarashi,Kazuki Narishige. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-09-27.

Plasma etching method for semiconductor device and etching apparatus of the same

Номер патента: US20020137340A1. Автор: Kye-Hyun Baek,Kil-Ho Kim. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-09-26.

Plasma etching method, and production method for semiconductor element

Номер патента: US20220068652A1. Автор: Yoshimasa Inamoto. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Method of Plasma Etching

Номер патента: US20230170188A1. Автор: Huma Ashraf,Janet Hopkins,Kevin RIDDELL,Alex Huw Wood. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2023-06-01.

Plasma etching gas

Номер патента: US20030017708A1. Автор: Ming-Chung Liang. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2003-01-23.

Method of anisotropic plasma etching of silicon microstructures in a cyclic two-step oxidation-etching process

Номер патента: RU2691758C1. Автор: Владимир Федорович Лукичев,Константин Васильевич Руденко,Юрий Федорович Семин,Сергей Николаевич Аверкин,Андрей Валерьевич Мяконьких,Александр Павлович Антипов,Алексей Анатольевич Рылов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Физико-технологический институт имени К.А. Валиева Российской академии наук (ФТИАН им К.А. Валиева РАН). Дата публикации: 2019-06-18.

Method of plasma etching

Номер патента: EP4391023A1. Автор: Samira Binte KAZEMI. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2024-06-26.

Plasma etching method

Номер патента: US20190096689A1. Автор: Go Matsuura. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2019-03-28.

Method of Plasma Etching

Номер патента: US20240213030A1. Автор: Binte Kazemi Samira. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Method of dry plasma etching semiconductor materials

Номер патента: EP1729978A2. Автор: Jennifer Wang. Владелец: Northrop Grumman Corp. Дата публикации: 2006-12-13.

Method of dry plasma etching semiconductor materials

Номер патента: WO2005079476B1. Автор: Jennifer Wang. Владелец: Northrop Grumman Corp. Дата публикации: 2006-07-27.

Method of dry plasma etching semiconductor materials

Номер патента: WO2005079476A2. Автор: Jennifer Wang. Владелец: NORTHROP GRUMMAN CORPORATION. Дата публикации: 2005-09-01.

Plasma etch process using polymerizing etch gases with different etch and polymer-deposition rates in different radial gas injection zones with time modulation

Номер патента: US20070251918A1. Автор: Bryan Pu,Xiaoye Zhao,Daniel Hoffman,Paul Brillhart,Kallol Bera,Bruno Geoffrion,Kenny Doan,Ezra Gold. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2007-11-01.

Plasma etching tools and systems

Номер патента: WO2023239630A1. Автор: Andrew Metz,Minjoon PARK. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2023-12-14.

Method of dry plasma etching semiconductor materials

Номер патента: US20050178740A1. Автор: Jennifer Wang. Владелец: Northrop Grumman Space and Mission Systems Corp. Дата публикации: 2005-08-18.

Inductively coupled plasma etching apparatus, and inductively coupled plasma etching method using same

Номер патента: US20240055226A1. Автор: Byung Jun Lee,Kwang Ho KWON,No Min LIM. Владелец: KOREA UNIVERSITY RESEARCH AND BUSINESS FOUNDATION. Дата публикации: 2024-02-15.

Plasma etching tools and systems

Номер патента: US20230395385A1. Автор: Andrew Metz,Minjoon PARK. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Apparatus and method for shielding a wafer from charged particles during plasma etching

Номер патента: EP1568061A2. Автор: Bomy Chen,Hongwen Yan,Siddhartha Panda,Richard Wise,Brian Ji. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2005-08-31.

Plasma etching electrode

Номер патента: US5993597A. Автор: Kazuo Saito,Akira Yamaguchi,Yasushi Mochizuki. Владелец: Nisshinbo Industries Inc. Дата публикации: 1999-11-30.

Method and apparatus for etching a semiconductor substrate in a plasma etch chamber

Номер патента: US20230402286A1. Автор: Li Ling,Daisuke Shimizu,Kenji Takeshita,Hikaru Watanabe. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-14.

Method and apparatus for etching a semiconductor substrate in a plasma etch chamber

Номер патента: WO2023239400A1. Автор: Li Ling,Daisuke Shimizu,Kenji Takeshita,Hikaru Watanabe. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-12-14.

Plasma etching method

Номер патента: US8741166B2. Автор: Tomoyuki Watanabe,Tetsuo Ono,Mamoru Yakushiji,Michikazu Morimoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2014-06-03.

Plasma etching method of modulating high frequency bias power to processing target object

Номер патента: US09548214B2. Автор: Fumio Yamazaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-17.

Device fabrication by plasma etching

Номер патента: CA1124208A. Автор: Cyril J. Mogab. Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1982-05-25.

Plasma etching of silicon carbide

Номер патента: WO2002097852A3. Автор: Si Yi Li. Владелец: Si Yi Li. Дата публикации: 2003-04-03.

Focus ring for improvement of semiconductor plasma etching process

Номер патента: US20220415621A1. Автор: Seung Ho Yang,Byeong Su An,Sung Dong Cho,Seong Wan BAE. Владелец: One Semicon Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-29.

Plasma etch process for single-crystal silicon with improved selectivity to silicon dioxide

Номер патента: WO1985002818A1. Автор: Mammen Thomas,Atiye Bayman. Владелец: Advanced Micro Devices, Inc.. Дата публикации: 1985-07-04.

Semiconductor device manufacturing method and plasma etching apparatus

Номер патента: US8772172B2. Автор: Eiichi Nishimura,Masato Kushibiki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-07-08.

Method for controlling etch rate when using consumable electrodes during plasma etching

Номер патента: US5955383A. Автор: Yuan-ko Hwang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 1999-09-21.

Apparatus for controlling etch rate when using consumable electrodes during plasma etching

Номер патента: US6030489A. Автор: Yuan-ko Hwang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2000-02-29.

Device fabrication by plasma etching

Номер патента: CA1121305A. Автор: William R. Harshbarger,Hyman J. Levinstein,Cyril J. Mogab,Roy A. Porter. Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1982-04-06.

Cyclical plasma etching

Номер патента: US20170069469A1. Автор: Michael J. Cooke,Andrew L. Goodyear. Владелец: OXFORD INSTRUMENTS NANOTECHNOLOGY TOOLS LTD. Дата публикации: 2017-03-09.

Improvements relating to plasma etching

Номер патента: EP1188180A1. Автор: Srinivasan Anand,Carl-Fredrik Carlstrom,Gunnar Landgren. Владелец: Surface Technology Systems Ltd. Дата публикации: 2002-03-20.

Plasma etching apparatus

Номер патента: US5895551A. Автор: Chang Heon Kwon. Владелец: Hyundai Electronics Industries Co Ltd. Дата публикации: 1999-04-20.

Apparatus and methods for actively controlling rf peak-to-peak voltage in an inductively coupled plasma etching system

Номер патента: WO2001075930A3. Автор: Shu Nakajima. Владелец: Shu Nakajima. Дата публикации: 2002-05-23.

Anisotropic plasma etching of trenches in silicon by control of substrate temperature

Номер патента: GB2341348A. Автор: Franz Laermer,Andrea Schilp,Volker Becker. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2000-03-15.

Device fabrication by plasma etching

Номер патента: US4208241A. Автор: William R. Harshbarger,Hyman J. Levinstein,Cyril J. Mogab,Roy A. Porter. Владелец: Bell Telephone Laboratories Inc. Дата публикации: 1980-06-17.

End point detection method for plasma etching of semiconductor wafers with low exposed area

Номер патента: WO2006078851A3. Автор: Georges J Gorin,Sumer Johal,Barton Lane,Sylvia G J P Spruytte,Herve C Kieffel. Владелец: Herve C Kieffel. Дата публикации: 2009-04-30.

Apparatus and method for shielding a wafer from charged particles during plasma etching

Номер патента: WO2004053922A2. Автор: Bomy Chen,Hongwen Yan,Siddhartha Panda,Richard Wise,Brian Ji. Владелец: Ibm United Kingdom Limited. Дата публикации: 2004-06-24.

Selective wet etching and textured surface planarization processes

Номер патента: US09558954B2. Автор: Hong Lu,Scott W. Duncan. Владелец: Luminus Devices Inc. Дата публикации: 2017-01-31.

Plasma processing apparatus for vapor phase etching and cleaning

Номер патента: US20150059979A1. Автор: Sung Yong Kang,Gyoo Dong KIM,Woo Gon SHIN. Владелец: Gen Co Ltd. Дата публикации: 2015-03-05.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US12062522B2. Автор: Fumiya Kobayashi,Maju TOMURA,Keiji Kitagaito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Etch mask for hybrid laser scribing and plasma etch wafer singulation process

Номер патента: US09793132B1. Автор: AJAY Kumar,James S. Papanu,Brad Eaton,Alexander N. Lerner,Prabhat Kumar,Wenguang Li,Ramesh Krishnamurthy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-10-17.

High-purity fluorinated hydrocarbon, use as a plasma etching gas, and plasma etching method

Номер патента: US09984896B2. Автор: Tatsuya Sugimoto. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2018-05-29.

Plasma etch singulated semiconductor packages and related methods

Номер патента: US09559007B1. Автор: Darrell Truhitte. Владелец: Semiconductor Components Industries LLC. Дата публикации: 2017-01-31.

Plasma etching apparatus component for manufacturing semiconductor comprising composite sintered body and manufacturing method therefor

Номер патента: US20240055266A1. Автор: Young Jo Park,Jae Woong Ko,Ha Neul Kim,Mi Ju KIM,Hyeon Myeong OH. Владелец: Korea Institute of Materials Science KIMS. Дата публикации: 2024-02-15.

Device fabrication by plasma etching with lessened loading effect

Номер патента: CA1124207A. Автор: Cyril J. Mogab. Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1982-05-25.

Plasma etching method using perfluoroisopropyl vinyl ether

Номер патента: US20230162972A1. Автор: Jun-Hyun Kim,Chang-Koo Kim. Владелец: Ajou University Industry Academic Cooperation Foundation. Дата публикации: 2023-05-25.

Plasma etching method using pentafluoropropanol

Номер патента: US20230178341A1. Автор: Jun-Hyun Kim,Chang-Koo Kim. Владелец: Ajou University Industry Academic Cooperation Foundation. Дата публикации: 2023-06-08.

Plasma etch apparatus with heated scavenging surfaces

Номер патента: US6083412A. Автор: Michael Rice,Jeffrey Marks,David W Groechel,Nicolas J Bright. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-07-04.

Method of plasma etching

Номер патента: US9040427B2. Автор: Huma Ashraf,Anthony Barker. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2015-05-26.

Plasma etching method

Номер патента: US20190228983A1. Автор: Takaaki Sakurai,Hirotoshi Inui. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2019-07-25.

Hybrid wafer dicing approach using a spatially multi-focused laser beam laser scribing process and plasma etch process

Номер патента: EP4010919A1. Автор: James S. Papanu,Jungrae Park,Zavier Zai Yeong Tan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-06-15.

Device fabrication by plasma etching

Номер патента: US4226665A. Автор: Cyril J. Mogab. Владелец: Bell Telephone Laboratories Inc. Дата публикации: 1980-10-07.

Hybrid wafer dicing approach using a spatially multi-focused laser beam laser scribing process and plasma etch process

Номер патента: US20210043515A1. Автор: James S. Papanu,Jungrae Park,Zavier Zai Yeong Tan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-02-11.

Plasma etching apparatus component and manufacturing method for the same

Номер патента: US20130251949A1. Автор: Michio Sato,Takashi Hino,Takashi Rokutanda,Masashi Nakatani. Владелец: Toshiba Materials Co Ltd. Дата публикации: 2013-09-26.

Process of making components for electronic and optical devices using laser processing on a patterned conductive film

Номер патента: US20210299789A1. Автор: Christopher Muratore,Nicholas R. Glavin. Владелец: US Air Force. Дата публикации: 2021-09-30.

Laser processing apparatus and laser processing method

Номер патента: US20240131629A1. Автор: Yohei Kaneko,Hiroshi Morikazu,Kentaro Odanaka,Naotoshi Kirihara. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2024-04-25.

Dry etching by alternately etching and depositing

Номер патента: US4985114A. Автор: Shinichi Tachi,Hiroshi Kawakami,Kazunori Tsujimoto,Tokuo Kure,Sadayuki Okudaira. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1991-01-15.

Composition for etching and method for manufacturing semiconductor device using same

Номер патента: US20210054286A1. Автор: Jin Uk Lee,Jae Wan Park,Jung Hun Lim. Владелец: Soulbrain Co Ltd. Дата публикации: 2021-02-25.

Composition for etching and method for manufacturing semiconductor device using same

Номер патента: US20210054285A1. Автор: Jin Uk Lee,Jae Wan Park,Jung Hun Lim. Владелец: Soulbrain Co Ltd. Дата публикации: 2021-02-25.

Composition for etching and method for manufacturing semiconductor device using same

Номер патента: US20210054284A1. Автор: Jin Uk Lee,Jae Wan Park,Jung Hun Lim. Владелец: Soulbrain Co Ltd. Дата публикации: 2021-02-25.

Composition for etching and method for manufacturing semiconductor device using same

Номер патента: US20200263087A1. Автор: Jin Uk Lee,Jae Wan Park,Jung Hun Lim. Владелец: Soulbrain Co Ltd. Дата публикации: 2020-08-20.

Composition for etching and method for manufacturing semiconductor device using same

Номер патента: US20210054281A1. Автор: Jin Uk Lee,Jae Wan Park,Jung Hun Lim. Владелец: Soulbrain Co Ltd. Дата публикации: 2021-02-25.

Composition for etching and method for manufacturing semiconductor device using same

Номер патента: US20210054282A1. Автор: Jin Uk Lee,Jae Wan Park,Jung Hun Lim. Владелец: Soulbrain Co Ltd. Дата публикации: 2021-02-25.

Plasma etching method and storage medium

Номер патента: US20120309203A1. Автор: Noriyuki Kobayashi,Naotsugu Hoshi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-12-06.

Plasma etching method and storage medium

Номер патента: US8252694B2. Автор: Noriyuki Kobayashi,Naotsugu Hoshi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-08-28.

Vacuum loadlock ultraviolet bake for plasma etch

Номер патента: US20020046809A1. Автор: Mark Tesauro. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-04-25.

Method of controlling plasma etch process

Номер патента: US20030153102A1. Автор: Hsien-Kuang Chiu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2003-08-14.

Formation of removable shroud by anisotropic plasma etch

Номер патента: US20050287762A1. Автор: John Lee,Barbara Haselden. Владелец: Mosel Vitelic Inc. Дата публикации: 2005-12-29.

Method for manufacturing electronic device by forming a hole in a multilayer insulator film by plasma etching

Номер патента: US09530664B2. Автор: Shingo Kitamura,Aiko Kato. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-12-27.

Dual mode plasma etching system and method of plasma endpoint detection

Номер патента: US5242532A. Автор: John L. Cain. Владелец: VLSI Technology Inc. Дата публикации: 1993-09-07.

Display panel, plasma etching method and system

Номер патента: US20210119128A1. Автор: Pengbin ZHANG. Владелец: Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-22.

Focus ring, plasma etching apparatus and plasma etching method

Номер патента: US20060102288A1. Автор: Hideyuki Kobayashi,Daiki Satoh,Masato Horiguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-05-18.

Focus ring, plasma etching apparatus and plasma etching method

Номер патента: US8192577B2. Автор: Hideyuki Kobayashi,Daiki Satoh,Masato Horiguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-06-05.

Hydrofluorocarbon gas-assisted plasma etch for interconnect fabrication

Номер патента: US09934984B2. Автор: Eric A. Joseph,Takefumi Suzuki,Robert L. Bruce,Joe Lee. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Plasma etching process

Номер патента: US5405491A. Автор: Iraj E. Shahvandi,Carol Gelatos,Leroy Grant, Jr.. Владелец: Motorola Inc. Дата публикации: 1995-04-11.

Hydrofluorocarbon gas-assisted plasma etch for interconnect fabrication

Номер патента: US20190013209A1. Автор: Eric A. Joseph,Takefumi Suzuki,Robert L. Bruce,Joe Lee. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2019-01-10.

Plasma etching method and plasma etching system for carrying out the same

Номер патента: US6159388A. Автор: Shinya Iida,Yasuhiro Horiike,Michihiko Yanagisawa. Владелец: SpeedFam Co Ltd. Дата публикации: 2000-12-12.

Plasma etching unit

Номер патента: US20100024983A1. Автор: Masanobu Honda,Shoichiro Matsuyama,Kazuya Nagaseki,Koichiro Inazawa,Hisataka Hayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2010-02-04.

Plasma etching device

Номер патента: US20040134612A1. Автор: Takeomi Numata. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 2004-07-15.

Plasma etching method and storage medium

Номер патента: US09384999B2. Автор: Noriyuki Kobayashi,Naotsugu Hoshi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-07-05.

Plasma etching apparatus and plasma etching method

Номер патента: US20080110569A1. Автор: Junichi Tanaka,Hiroshi Akiyama,Naoshi Itabashi,Kouhei Satou,Go Miya,Seiichiro Kanno. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2008-05-15.

Plasma etching of porous substrates

Номер патента: US9595422B2. Автор: Mikhaïl Baklanov,Liping Zhang,Jean-Francois De Marneffe. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2017-03-14.

Hard mask for copper plasma etch

Номер патента: US20010035582A1. Автор: Peter D. Nunan,Mark Richard Tesauro. Владелец: STMicroelectronics lnc USA. Дата публикации: 2001-11-01.

Display panel, plasma etching method and system

Номер патента: US11189797B2. Автор: Pengbin ZHANG. Владелец: Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-30.

Photomask plasma etching apparatus, etching method, and photomask forming method

Номер патента: US20060292727A1. Автор: Takeharu Motokawa,Junichi Tonotani. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-12-28.

Hydrofluorocarbon gas-assisted plasma etch for interconnect fabrication

Номер патента: US20180122649A1. Автор: Eric A. Joseph,Takefumi Suzuki,Robert L. Bruce,Joe Lee. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2018-05-03.

Hydrofluorocarbon gas-assisted plasma etch for interconnect fabrication

Номер патента: WO2017044154A1. Автор: Eric A. Joseph,Takefumi Suzuki,Robert L. Bruce,Joe Lee. Владелец: ZEON CORPORATION. Дата публикации: 2017-03-16.

Carbon doped metal oxyfluoride (c:m-0-f) layer as protection layer in fluorine plasma etch processes

Номер патента: US20230383396A1. Автор: Siegfried Krassnitzer,Julien Keraudy,Sebastien Guimond,Matthew Paul KIRK,John CONIFF. Владелец: Oerlikon Surface Solutions AG Pfaeffikon. Дата публикации: 2023-11-30.

Laser processing apparatus and laser processing method

Номер патента: US20240227083A9. Автор: Yohei Kaneko,Hiroshi Morikazu,Kentaro Odanaka,Naotoshi Kirihara. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Laser processing apparatus, laser processing method, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12011777B2. Автор: Naoyuki Kobayashi,Yoshihiro Yamaguchi,Sadao Tanigawa,Miki Sawai,Hirotaka SAZUKA. Владелец: JSW Aktina System Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-18.

Laser processing machine and processing method of workpiece

Номер патента: US20230286079A1. Автор: Satoshi Kumazawa,Masatoshi Nayuki,Keisuki NISHIMOTO. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2023-09-14.

Laser processing apparatus and laser processing method

Номер патента: US11810799B2. Автор: Masashi Machida,Suk-Hwan Chung. Владелец: JSW Aktina System Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-07.

Laser processing machine and manufacturing method of wafer

Номер патента: US20240051064A1. Автор: Ryohei Yamamoto. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2024-02-15.

Laser processing apparatus

Номер патента: US11839931B2. Автор: Keiji Nomaru. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2023-12-12.

Wafer producing method and laser processing apparatus

Номер патента: US20200086426A1. Автор: Kazuya Hirata,Ryohei Yamamoto. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2020-03-19.

Laser processing apparatus

Номер патента: US20230073693A1. Автор: Tsubasa Obata. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2023-03-09.

Laser processing machine

Номер патента: US20240082951A1. Автор: Naotoshi Kirihara. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2024-03-14.

Laser processing machine

Номер патента: US20240009763A1. Автор: Yuta Yoshida. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2024-01-11.

Laser processing apparatus

Номер патента: US20220250192A1. Автор: Kentaro Iizuka. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2022-08-11.

Laser processing apparatus

Номер патента: US20230219164A1. Автор: Shogo Matsuda,Taiki Sawabe,Nobumori Ogoshi,Taizo Kise. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2023-07-13.

Laser processing apparatus

Номер патента: US20230234163A1. Автор: Shogo Matsuda,Taiki Sawabe. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2023-07-27.

Etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US11637020B2. Автор: Koki Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-04-25.

Etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20220051902A1. Автор: Koki Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-02-17.

Low pressure plasma etch process for preferential generation of oxide residue and applications for the same

Номер патента: US20240355629A1. Автор: Jih-Jse Lin,Tzu-Ging LIN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Anodic aluminum oxide as hard mask for plasma etching

Номер патента: WO2019240909A1. Автор: Chanyuan Liu,Shih-Ked Lee. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2019-12-19.

Method for etching organic film and plasma etching device

Номер патента: US9293346B2. Автор: Hironori Matsuoka,Hiroyuki Takaba. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-03-22.

Method and apparatus useful in the plasma etching of semiconductor materials

Номер патента: US5096536A. Автор: David A. Cathey, Jr.. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1992-03-17.

Method for selectivity enhancement during dry plasma etching

Номер патента: US09666447B2. Автор: Vinayak Rastogi,Alok Ranjan. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

PLASMA ETCHING AND STEALTH DICING LASER PROCESS

Номер патента: US20160071770A1. Автор: Albermann Guido,Moeller Sascha,Rohleder Thomas,Lapke Martin,Buenning Hartmut. Владелец: . Дата публикации: 2016-03-10.

Plasma etching method

Номер патента: US09779962B2. Автор: Shinichi Kozuka,Takao FUNAKUBO,Yuta Seya,Aritoshi Mitani. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-03.

Plasma Etching with Metal Sputtering

Номер патента: US20240249927A1. Автор: Andrew Metz,Minjoon PARK. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US09460897B2. Автор: Takayuki Katsunuma. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-10-04.

Semiconductor device manufactured using an improved plasma etch process for a fully silicided gate flow process

Номер патента: WO2008118837A1. Автор: Frank S. Johnson,Freidoon Mehrad,Jinhan Choi. Владелец: TEXAS INSTRUMENTS INCORPORATED. Дата публикации: 2008-10-02.

Method of plasma etching

Номер патента: US20020011464A1. Автор: Makoto Nawata,Tomoyuki Tamura,Mamoru Yakushiji. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-01-31.

Thinning and dicing of semiconductor wafers using dry etch, and obtaining semiconductor chips with rounded bottom edges and corners

Номер патента: WO2001056063A9. Автор: Oleg Siniaguine,Sergey Savastiouk,Patrick Halahan. Владелец: Tru Si Technologies Inc. Дата публикации: 2002-10-31.

Thinning and dicing of semiconductor wafers using dry etch, and obtaining semiconductor chips with rounded bottom edges and corners

Номер патента: EP1266399A2. Автор: Oleg Siniaguine,Sergey Savastiouk,Patrick Halahan. Владелец: Allvia Inc. Дата публикации: 2002-12-18.

Thinning and dicing of semiconductor wafers using dry etch, and obtaining semiconductor chips with rounded bottom edges and corners

Номер патента: EP1266399A4. Автор: Oleg Siniaguine,Sergey Savastiouk,Patrick Halahan. Владелец: Allvia Inc. Дата публикации: 2007-04-25.

Plasma etching apparatus

Номер патента: US20100133234A1. Автор: Hiroshi Suzuki,Tetsuo Yoshida,Ryoichi Yoshida,Michishige Saito,Akira Obi,Toshikatsu Wakaki,Hayato Aoyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2010-06-03.

Method of plasma etching thin films of difficult to dry etch materials

Номер патента: WO2001020655A1. Автор: Martin Gutsche,Satish D. Athavale. Владелец: Infineon Technologies North America Corp.. Дата публикации: 2001-03-22.

Plasma etching method and apparatus, control program and computer-readable storage medium storing the control program

Номер патента: US20060289385A1. Автор: Akihiro Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-12-28.

Plasma etching method

Номер патента: US09449842B2. Автор: Takahiro Abe,Takeshi Shimada,Masato Ishimaru,Makoto Suyama. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-09-20.

Plasma etching methods

Номер патента: US6010967A. Автор: Kevin G. Donohoe,Richard L. Stocks. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-01-04.

Method of Plasma Etching

Номер патента: US20210193908A1. Автор: Huma Ashraf,Kevin RIDDELL,Codrin Prahoveanu. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2021-06-24.

Damage free gate dielectric process during gate electrode plasma etching

Номер патента: US5843835A. Автор: Ming-Hsi Liu. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 1998-12-01.

Selective silicon nitride plasma etching

Номер патента: US5188704A. Автор: Bang C. Nguyen,Kenneth L. Devries,Wayne T. Babie,Chau-Hwa J. Yang. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1993-02-23.

Plasma passivation technique for the prevention of post etch corrosion of plasma-etched aluminum films

Номер патента: CA1151106A. Автор: Christopher H. Galfo,Ashok L. Nalamwar. Владелец: Fairchild Camera and Instrument Corp. Дата публикации: 1983-08-02.

Baffle plate and plasma etching device having same

Номер патента: WO2003098669A1. Автор: Moon Hwan Kim,Jeung Woo Lee,Young Jae Moon. Владелец: Tokyo Electron Korea Ltd.. Дата публикации: 2003-11-27.

Two step plasma etching

Номер патента: CA1191479A. Автор: Steven F. Bergeron,Bernard F. Duncan. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1985-08-06.

Plasma etching method

Номер патента: US7037843B2. Автор: Isamu Namose. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2006-05-02.

Plasma etching method

Номер патента: US5928963A. Автор: Akira Koshiishi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 1999-07-27.

Method of producing polysilicon structures in the 1 um range on substrates containing integrated semiconductor circuits by plasma etching

Номер патента: CA1165724A. Автор: Barbara Hasler,Willy Beinvogel. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1984-04-17.

Method for etching oxide film in plasma etching system

Номер патента: US6103137A. Автор: Jae-Hyun Park. Владелец: LG Semicon Co Ltd. Дата публикации: 2000-08-15.

Two step plasma etching

Номер патента: US4457820A. Автор: Steven F. Bergeron,Bernard F. Duncan. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1984-07-03.

Plasma etching method

Номер патента: US20100264116A1. Автор: Tatsuya Sugimoto,Masahiro Nakamura,Takefumi Suzuki. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2010-10-21.

Method and system for reducing polymer build up during plasma etch of an intermetal dielectric

Номер патента: US20020158247A1. Автор: Mohammad Massoodi,Mehrdad Mahanpour,Jose Hulog. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-10-31.

Plasma etching method using gas molecule containing sulfur atom

Номер патента: EP3813097A1. Автор: Yoshinao Takahashi,Korehito Kato,Yoshihiko IKETANI,Mitsuharu SHIMODA. Владелец: Kanto Denka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-28.

Device fabrication by plasma etching of aluminum rich surfaces

Номер патента: CA1121306A. Автор: David N. Wang,Hyman J. Levinstein. Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1982-04-06.

Magnetron-enhanced plasma etching process

Номер патента: US4668338A. Автор: Sasson Somekh,David Cheng,Dan Maydan,Mei Cheng. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1987-05-26.

Apparatus and method for plasma etching

Номер патента: US20070199657A1. Автор: Hiroshi Akiyama,Naoyuki Kofuji. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2007-08-30.

Anisotropic polysilicon plasma etch using fluorine gases

Номер патента: US5453156A. Автор: Ming-Shry Cher,Chung-Hsing Shan. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 1995-09-26.

Process for the plasma etching of materials not containing silicon

Номер патента: US7071110B2. Автор: Josef Mathuni,Günther Ruhl. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2006-07-04.

Device fabrication by plasma etching

Номер патента: US4256534A. Автор: David N. Wang,Hyman J. Levinstein. Владелец: Bell Telephone Laboratories Inc. Дата публикации: 1981-03-17.

Method of manufacturing a ferroelectric device using a plasma etching process

Номер патента: US5443688A. Автор: Steven R. Collins,Abron S. Toure,Bruce W. LeBlanc. Владелец: Raytheon Co. Дата публикации: 1995-08-22.

Enhanced plasma etching

Номер патента: US4985112A. Автор: Walter E. Mlynko,Frank D. Egitto. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1991-01-15.

Plasma etching of dielectric layer with etch profile control

Номер патента: US20030045114A1. Автор: Lumin Li,Tuqiang Ni. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-03-06.

Process of making components for electronic and optical devices using laser processing including ablation

Номер патента: EP4314793A1. Автор: Christopher Muratore,Nicholas R. Glavin,Philip R. BUSKOHL,Kimberly A. GLIEBE,Drake Austin. Владелец: US Air Force. Дата публикации: 2024-02-07.

Process of making components for electronic and optical devices using laser processing

Номер патента: EP4314792A1. Автор: Christopher Muratore,Nicholas R. Glavin,Philip R. BUSKOHL,Kimberly A. GLIEBE,Drake Austin. Владелец: US Air Force. Дата публикации: 2024-02-07.

Process of making components for electronic and optical devices using laser processing on a patterned conductive film

Номер патента: EP4315402A1. Автор: Christopher Muratore,Nicholas R. Glavin. Владелец: US Air Force. Дата публикации: 2024-02-07.

Protective film material for laser processing and wafer processing method using the protective film material

Номер патента: US09502295B2. Автор: Masafumi Hirose,Yoshimasa Takeuchi,Masaaki Shinjo,Tsuyoshi Tadano. Владелец: Nikka Seiko Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-22.

Method of laser-processing device wafer

Номер патента: US20180108565A1. Автор: Kazuma Sekiya. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2018-04-19.

Laser processing apparatus

Номер патента: SG10201709847QA. Автор: Nomura Hiroshi. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2018-07-30.

Laser processing method and laser processing apparatus

Номер патента: US09475152B2. Автор: Yukio Morishige,Kuniaki Iwashiro. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2016-10-25.

Laser processing apparatus and laser processing method

Номер патента: US20240030021A1. Автор: Yasutaka Mizomoto,Yohei Yamashita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Laser processing apparatus

Номер патента: MY190223A. Автор: Nomura Hiroshi. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2022-04-06.

Evaluation jig and evaluation method for height position detection unit of laser processing apparatus

Номер патента: US20180304402A1. Автор: Kenji Furuta. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2018-10-25.

Method of laser processing of non-metallic plates

Номер патента: RU2685427C1. Автор: Александр Фёдорович Коваленко. Владелец: Федеральное Государственное Унитарное Предприятие "Всероссийский Научно-Исследовательский Институт Автоматики Им.Н.Л.Духова" (Фгуп "Внииа"). Дата публикации: 2019-04-18.

Method of laser processing of non-metallic plates

Номер патента: RU2691923C1. Автор: Александр Фёдорович Коваленко. Владелец: Федеральное Государственное Унитарное Предприятие "Всероссийский Научно-Исследовательский Институт Автоматики Им.Н.Л.Духова" (Фгуп "Внииа"). Дата публикации: 2019-06-18.

Laser processing apparatus and laser processing method

Номер патента: US20240082959A1. Автор: Naoki Uchiyama,Takashi Kurita,Takeshi Sakamoto,Takafumi Ogiwara,Ryo Yoshimura,Yo Sugimoto. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2024-03-14.

Laser processing device and laser processing method

Номер патента: US20230294212A1. Автор: Takeshi Sakamoto,Takafumi Ogiwara,Katsuhiro Korematsu. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2023-09-21.

Laser processing apparatus

Номер патента: US8319143B2. Автор: Keiji Nomaru. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2012-11-27.

Process of making components for electronic and optical devices using laser processing

Номер патента: WO2022212084A1. Автор: Christopher Muratore,Nicholas R. Glavin,Philip R. BUSKOHL,Kimberly A. GLIEBE,Drake Austin. Владелец: Government of the United States, as represented by the Secretary of the Air Force. Дата публикации: 2022-10-06.

Process of making components for electronic and optical devices using laser processing including ablation

Номер патента: WO2022212085A1. Автор: Christopher Muratore,Nicholas R. Glavin,Philip R. BUSKOHL,Kimberly A. GLIEBE,Drake Austin. Владелец: Government of the United States, as represented by the Secretary of the Air Force. Дата публикации: 2022-10-06.

Protective film material for laser processing and wafer processing method using the protective film material

Номер патента: US20150179538A1. Автор: Masafumi Hirose,Yoshimasa Takeuchi,Masaaki Shinjo,Tsuyoshi Tadano. Владелец: Nikka Seiko Co Ltd. Дата публикации: 2015-06-25.

Laser processing apparatus

Номер патента: US20100044355A1. Автор: Keiji Nomaru. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2010-02-25.

Methods for planarizing a substrate using a combined wet etch and chemical mechanical polishing (cmp) process

Номер патента: US20240087907A1. Автор: Shan Hu,Eric Chih-Fang Liu,Henan ZHANG,Sangita Kumari,Peter Delia. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Methods for planarizing a substrate using a combined wet etch and chemical mechanical polishing (CMP) process

Номер патента: US12100598B2. Автор: Shan Hu,Eric Chih-Fang Liu,Henan ZHANG,Sangita Kumari,Peter Delia. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-24.

Laser processing method and alignment

Номер патента: US5643801A. Автор: Nobuhiro Tanaka,Hiroki Adachi,Kazuhisa Nakashita,Hideto Ohnuma,Hiroaki Ishihara. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 1997-07-01.

Methods of fabricating memory devices using wet etching and dry etching

Номер патента: US09484219B2. Автор: Dong-Chan Kim,Han-jin Lim,Young-Geun Park,Sang-Yeol Kang,Bong-Hyun Kim,Wook-Yeol Yi,Chang-Mu AN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-11-01.

Laser processing method, semiconductor device manufacturing method, and laser processing device

Номер патента: US20230405725A1. Автор: Atsushi Tanaka,Daisuke Kawaguchi,Toshiki Yui,Tomomi Aratani. Владелец: Tokai National Higher Education and Research System NUC. Дата публикации: 2023-12-21.

Laser processing method, and laser processing device

Номер патента: US20180281116A1. Автор: Takafumi Ogiwara,Yuta Kondoh. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2018-10-04.

Evaluation jig and evaluation method for height position detection unit of laser processing apparatus

Номер патента: US10864598B2. Автор: Kenji Furuta. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2020-12-15.

Laser processing method

Номер патента: US5968441A. Автор: Yuko Seki. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1999-10-19.

Laser processing apparatus

Номер патента: US11964342B2. Автор: Teruaki Shimoji,Daisuke Ito,Ryo Shimizu,Tatsuro MATSUSHIMA. Владелец: JSW Aktina System Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-23.

Method and apparatus for semiconductor etching and stripping

Номер патента: WO1997004476A3. Автор: Richard L Bersin. Владелец: Ulvac Technologies Inc. Дата публикации: 1997-03-06.

System, method and apparatus for plasma etch having independent control of ion generation and dissociation of process gas

Номер патента: US09735020B2. Автор: Eric A. Hudson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-08-15.

Process gas for cryogenic etching, plasma etching apparatus, and method of fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20230230840A1. Автор: Hiroshi Sasaki,Dongkyu LEE,Songyun Kang,Younseon Wang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-20.

Methods and systems for plasma etching using bi-modal process gas composition responsive to plasma power level

Номер патента: US09691625B2. Автор: Qing Xu,Qian Fu,Ying Wu,Zhongkui Tan. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-06-27.

Plasma etching techniques

Номер патента: US11837467B2. Автор: Aelan Mosden,Pingshan Luan,Christopher Catano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-05.

Plasma etching method

Номер патента: US20190027368A1. Автор: Go Matsuura. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2019-01-24.

Method and apparatus for plasma etching

Номер патента: US4595452A. Автор: Richard F. Landau,Henry A. Majewski. Владелец: Oerlikon Buhrle USA Inc. Дата публикации: 1986-06-17.

Laser processing method

Номер патента: US20200135563A1. Автор: Hiroshi Morikazu. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2020-04-30.

SiARC removal with plasma etch and fluorinated wet chemical solution combination

Номер патента: US09508560B1. Автор: Yann Mignot,Brown C. Peethala,Shariq Siddiqui. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2016-11-29.

Construction of a chamber casing in a plasma etching system

Номер патента: US5720846A. Автор: Whikun Yi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 1998-02-24.

Method of reducing dielectric damage from plasma etch charging

Номер патента: US5843827A. Автор: Richard William Gregor,Chung Wai Leung. Владелец: Lucent Technologies Inc. Дата публикации: 1998-12-01.

Method of laser processing of nonmetallic plates

Номер патента: RU2602402C1. Автор: Александр Фёдорович Коваленко,Олег Николаевич Федорищев. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт автоматики им. Н.Л. Духова" (ФГУП "ВНИИА"). Дата публикации: 2016-11-20.

Laser processing apparatus, laser processing method, and method for manufacturing semiconductor apparatus

Номер патента: US12090570B2. Автор: Naoyuki Kobayashi,Hiroaki Imamura,Masashi Machida. Владелец: JSW Aktina System Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Laser processing apparatus, laser processing method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240173796A1. Автор: Yasuhiro Adachi,Yasufumi Kawasuji,Akira SUWA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-05-30.

Laser processing apparatus

Номер патента: US09981343B2. Автор: Taiki Sawabe. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2018-05-29.

Method for laser processing of non-metallic plates

Номер патента: RU2760764C1. Автор: Александр Фёдорович Коваленко. Владелец: Федеральное Государственное Унитарное Предприятие "Всероссийский Научно-Исследовательский Институт Автоматики Им.Н.Л.Духова" (Фгуп "Внииа"). Дата публикации: 2021-11-30.

Method of laser processing of non-metallic materials

Номер патента: RU2695440C1. Автор: Александр Фёдорович Коваленко. Владелец: Федеральное Государственное Унитарное Предприятие "Всероссийский Научно-Исследовательский Институт Автоматики Им.Н.Л.Духова" (Фгуп "Внииа"). Дата публикации: 2019-07-23.

Laser processing apparatus, laser processing method, and method for manufacturing semiconductor apparatus

Номер патента: US20240024980A1. Автор: Naoyuki Kobayashi,Hiroaki Imamura,Masashi Machida. Владелец: JSW Aktina System Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Laser processing apparatus, laser processing method, and method for manufacturing semiconductor apparatus

Номер патента: US11813694B2. Автор: Naoyuki Kobayashi,Hiroaki Imamura,Masashi Machida. Владелец: JSW Aktina System Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-14.

Fin etch and fin replacement for finfet integration

Номер патента: US20140117419A1. Автор: Werner Juengling. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2014-05-01.

First-etched and later-packaged three-dimensional system-in-package normal chip stack package structure and processing method thereof

Номер патента: US20160372450A1. Автор: Yaqin Wang,Yu-Bin Lin,Chih-Chung Liang,Chunyan Zhang,Youhai Zhang. Владелец: Jiangsu Changjiang Electronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-12-22.

First-etched and later-packaged three-dimensional system-in-package normal chip stack package structure and processing method thereof

Номер патента: US09633985B2. Автор: Yaqin Wang,Yu-Bin Lin,Chih-Chung Liang,Chunyan Zhang,Youhai Zhang. Владелец: Jiangsu Changjiang Electronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-25.

Method of laser processing of non-metallic plates

Номер патента: RU2624989C1. Автор: Александр Фёдорович Коваленко. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт автоматики им. Н.Л. Духова" (ФГУП "ВНИИА"). Дата публикации: 2017-07-11.

Aqueous alkaline etching and cleaning composition and method for treating the surface of silicon substrates

Номер патента: EP2580303A1. Автор: Berthold Ferstl,Achim Fessenbecker,Simon Braun. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2013-04-17.

First-etched and later-packaged three-dimensional system-in- package normal chip stack package structure and processing method thereof

Номер патента: WO2015018174A1. Автор: Yaqin Wang,Yu-Bin Lin,Chih-Chung Liang,Chunyan Zhang,Youhai Zhang. Владелец: Jiangsu Changjiang Electronics Technology Co., Ltd. Дата публикации: 2015-02-12.

Polymer Removal via Multiple Flash Steps during Plasma Etch

Номер патента: US20240136195A1. Автор: Minseok Oh,Minjoon PARK,Alec Dorfner. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-25.

Polymer Removal via Multiple Flash Steps during Plasma Etch

Номер патента: US20240234157A9. Автор: Minseok Oh,Minjoon PARK,Alec Dorfner. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Plasma etching method

Номер патента: US20130048599A1. Автор: Masato Ishimaru,Makoto Satake,Makoto Suyama,Yasukiyo Morioka. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2013-02-28.

Method for selective plasma etch

Номер патента: EP1012877A1. Автор: Helen H. Zhu,Lumin Li,Thomas D. Nguyen,George A. Mueller. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2000-06-28.

Method for plasma etching a layer based on a iii-n material

Номер патента: EP4441778A1. Автор: Nicolas Posseme,Simon Ruel,Patricia PIMENTA BARROS,Bryan Helmer,Philippe Thoueille. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-10-09.

Etching method for substrate to be processed and plasma-etching device

Номер патента: US09721803B2. Автор: Hiroyuki Takaba. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Etching methods with alternating non-plasma and plasma etching processes

Номер патента: WO2024091612A1. Автор: Xiangyu GUO,Nathan Stafford. Владелец: L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2024-05-02.

Etching methods with alternating non-plasma and plasma etching processes

Номер патента: US20240162042A1. Автор: Xiangyu GUO,Nathan Stafford. Владелец: American Air Liquide Inc. Дата публикации: 2024-05-16.

Methods for performing plasma etching operations on microelectronic structures

Номер патента: US5900163A. Автор: Gyu-Hwan Kwag,Kyung-Hoon Kim,Dai-Sik Moon,Whi-kun Yi,Sung-kyeong Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 1999-05-04.

Rapid and uniform gas switching for a plasma etch process

Номер патента: WO2012061277A2. Автор: Theo Panagopoulos. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2012-05-10.

Method for selective plasma etch

Номер патента: WO1999010923B1. Автор: Lumin Li,Helen H Zhu,George A Mueller,Thomas D Nguyen. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 1999-05-14.

Semi-conductor substrate plasma etching method for e.g. micro-electro-mechanical system, involves etching substrate by injection of etching gas, performing amorphization of substrate in reactor and re-iterating above steps

Номер патента: FR2905516A1. Автор: Remi Dussart,Pierre Ranson,Philippe Lefaucheux,Maaza Nasreddine Mekkakia. Владелец: CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE CNRS. Дата публикации: 2008-03-07.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: TW201209914A. Автор: Seiji Ogata,Manabu Yoshii,Yasuhiro Morikawa. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2012-03-01.

Plasma processing tools dual-source plasma etchers, dual-source plasma etching methods, and methods of forming planar coil dual-source plasma etchers

Номер патента: US6136720A. Автор: Guy T. Blalock,Kevin G. Donohoe. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-10-24.

Continuous plasma etch process

Номер патента: US20140329391A1. Автор: Qian Fu,Wonchul Lee. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2014-11-06.

Plasma etching method and apparatus therefor

Номер патента: US7442274B2. Автор: Koji Maruyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-10-28.

Anisotropic etching of structures defined by etching mask in silicon substrate involves periodic deposition of fluoropolymer from exotic fluorocarbon by plasma polymerization, alternating with plasma etching

Номер патента: DE10246063A1. Автор: Franz Laermer. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2004-04-22.

Plasma etching of polysilicon using fluorinated gas mixtures

Номер патента: WO2000033372A1. Автор: Taeho Shin,Nam-Hun Kim,Jeffrey Chinn. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2000-06-08.

Method for improving CD micro-loading in photomask plasma etching

Номер патента: US09425062B2. Автор: AJAY Kumar,Xiaoyi Chen,Amitabh Sabharwal,Zhigang Mao. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-08-23.

High conductive passivation layers and method of forming the same during high aspect ratio plasma etching

Номер патента: US12106971B2. Автор: Xiangyu GUO,Nathan Stafford,Kayla Diemoz. Владелец: American Air Liquide Inc. Дата публикации: 2024-10-01.

Post chromium alloy plasma etch ashing process

Номер патента: US20110086518A1. Автор: ABBAS Ali. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2011-04-14.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20200126770A1. Автор: Koji Maruyama,Kazunobu Fujiwara,Shinji Himori,Kazuya Nagaseki,Koichi Nagami,Takashi Dokan,Tatsuro Ohshita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-23.

Method for prolonging life time of a plasma etching chamber

Номер патента: US6069088A. Автор: Wen-Pin Hsieh,Wen-Peng Chiang. Владелец: Mosel Vitelic Inc. Дата публикации: 2000-05-30.

Subtractive plasma etching of a blanket layer of metal or metal alloy

Номер патента: US8871107B2. Автор: Chun Yan,Eric A. Joseph,Hiroyuki Miyazoe,Nicholas C. M. Fuller,Mark Hoinkis. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2014-10-28.

Plasma etching apparatus, plasma etching system and method of etching a substrate using the same

Номер патента: KR101317160B1. Автор: 김근호,이중희,전선규. Владелец: (주)소슬. Дата публикации: 2013-10-11.

Fabrication and design methods using selective etching and dual-material self-aligned multiple patterning processes to reduce the cut-hole patterning yield loss

Номер патента: US09679771B1. Автор: Yijian Chen. Владелец: Peking University Shenzhen Graduate School. Дата публикации: 2017-06-13.

Plasma etching method, plasma etching device, plasma processing method, and plasma processing device

Номер патента: US09837251B2. Автор: Naoki Moriguchi. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2017-12-05.

Plasma etching method and apparatus, and method of manufacturing liquid ejection head

Номер патента: US20120175061A1. Автор: Shuji Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2012-07-12.

Plasma etching method and method for manufacturing semiconductor element

Номер патента: US20240038546A1. Автор: Kazuma Matsui,Yuki Oka. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2024-02-01.

Dry plasma etch method to pattern MRAM stack

Номер патента: US09806252B2. Автор: Samantha Tan,Jeffrey Marks,Thorsten Lill,Wenbing Yang,Taeseung KIM. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-10-31.

Plasma etching method using faraday cage

Номер патента: EP3712927A1. Автор: So Young Choo,Eun Kyu Her,Jeong Ho Park,Bu Gon Shin,Chung Wan Kim,Song Ho Jang,Jung Hwan Yoon. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2020-09-23.

Hybrid wafer dicing approach using a split beam laser scribing process and plasma etch process

Номер патента: US09972575B2. Автор: AJAY Kumar,James S. Papanu,Wei-Sheng Lei,Brad Eaton,Jungrae Park. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-05-15.

Plasma etching method using faraday cage

Номер патента: US20200365379A1. Автор: So Young Choo,Eun Kyu Her,Jeong Ho Park,Bu Gon Shin,Chung Wan Kim,Song Ho Jang,Jung Hwan Yoon. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2020-11-19.

Irregular-surface forming method using plasma-etching process, and electrode member

Номер патента: US20130008697A1. Автор: Takeshi Kondo,Satoshi Naganawa. Владелец: Lintec Corp. Дата публикации: 2013-01-10.

Method of laser processing of nonmetallic plates

Номер патента: RU2649238C1. Автор: Александр Фёдорович Коваленко. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт автоматики им. Н.Л. Духова" (ФГУП "ВНИИА"). Дата публикации: 2018-03-30.

Laser processing machine, processing method, and laser light source

Номер патента: US12080996B2. Автор: Masanao Kamata,Go Hirano. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2024-09-03.

Laser processed back contact heterojunction solar cells

Номер патента: US09837561B2. Автор: David E. Carlson,David Howard Levy. Владелец: Natcore Technology Inc. Дата публикации: 2017-12-05.

Controlling dynamic and thermal loads on laser beam positioning system to achieve high throughput laser processing of workpiece features

Номер патента: SG171442A1. Автор: Mark A Unrath. Владелец: Electro Scient Ind Inc. Дата публикации: 2011-07-28.

Laser processing apparatus

Номер патента: US20190047090A1. Автор: Masaya Suwa,Junki Sakamoto. Владелец: Shimadzu Corp. Дата публикации: 2019-02-14.

Laser processing system, laser processing method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240272444A1. Автор: Akiyoshi Suzuki,Osamu Wakabayashi,Yasufumi Kawasuji. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-08-15.

Heat sunk, laser module, laser device, and laser-processing device

Номер патента: EP1605220A1. Автор: Hikaru c/o NEC Corporation Kouta,Hisaya c/o NEC CORPORATION TAKAHASHI,Kazuyuki c/o NEC CORPORATION MIKUBO,Hideyuki c/o NEC CORPORATION ONO,Masaki c/o NEC CORPORATION TUNEKANE,Toshinori C/O Nec Corporation Ishida,Keiichi c/o NEC CORPORATION KUBOTA. Владелец: Laserfront Technologies Inc. Дата публикации: 2005-12-14.

Method of laser processing of nonmetallic plates

Номер патента: RU2649054C1. Автор: Александр Фёдорович Коваленко. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт автоматики им. Н.Л. Духова" (ФГУП "ВНИИА"). Дата публикации: 2018-03-29.

Laser processing device and laser processing method

Номер патента: US11897056B2. Автор: Takeshi Sakamoto,Katsuhiro Korematsu. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2024-02-13.

Laser processing method

Номер патента: US11833608B2. Автор: Naotoshi Kirihara,Takamasa Kaneko. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2023-12-05.

Laser processing method

Номер патента: US20220288719A1. Автор: Naotoshi Kirihara,Takamasa Kaneko. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2022-09-15.

Laser processing apparatus and laser processing method using the same

Номер патента: US20230132812A1. Автор: Kyuwon SHIM. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-04.

Laser processing apparatus and stack processing apparatus

Номер патента: US20170330973A1. Автор: Shunpei Yamazaki,Naoto Kusumoto,Yoshiharu Hirakata. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-16.

Process of making components for electronic and optical devices using laser processing

Номер патента: US20210299781A1. Автор: Christopher Muratore,Nicholas R. Glavin,Philip R. BUSKOHL,Kimberly A. GLIEBE,Drake Austin. Владелец: US Air Force. Дата публикации: 2021-09-30.

Process of making components for electronic and optical devices using laser processing including ablation

Номер патента: US20210301381A1. Автор: Christopher Muratore,Nicholas R. Glavin,Philip R. BUSKOHL,Kimberly A. GLIEBE,Drake Austin. Владелец: US Air Force. Дата публикации: 2021-09-30.

Laser processing device and laser processing method

Номер патента: US20220331907A1. Автор: Takeshi Sakamoto,Takafumi Ogiwara. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2022-10-20.

Methods of and apparatus for electrochemically fabricating structures via interlaced layers or via selective etching and filling of voids

Номер патента: US09512532B2. Автор: Dennis R. Smalley. Владелец: Microfabrica Inc. Дата публикации: 2016-12-06.

Laser processing for high-efficiency thin crystalline silicon solar cell fabrication

Номер патента: US8399331B2. Автор: Mehrdad M. Moslehi,Virendra V. Rana,Pranav Anbalagan,Jianjun Liang. Владелец: Solexel Inc. Дата публикации: 2013-03-19.

Protective film substance for laser processing and method of processing workpiece

Номер патента: US20220392805A1. Автор: Yuki Ikeda,Toshiyuki Yoshikawa,Senichi Ryo,Yukinobu OHURA. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2022-12-08.

Controlling dynamic and thermal loads on laser beam positioning system to achieve high throughput laser processing of workpiece features

Номер патента: WO2010077506A2. Автор: Mark A. Unrath. Владелец: ELECTRO SCIENTIFIC INDUSTRIES, INC. Дата публикации: 2010-07-08.

Laser processing apparatus and adjustment method for laser processing apparatus

Номер патента: US11752574B2. Автор: Nobuyuki Kimura,Atsushi Ueki. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2023-09-12.

Method of laser processing non-metallic plates

Номер патента: RU2624998C1. Автор: Александр Фёдорович Коваленко. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт автоматики им. Н.Л. Духова" (ФГУП "ВНИИА"). Дата публикации: 2017-07-11.

Laser processing method

Номер патента: US20090081851A1. Автор: Takeshi Sakamoto,Ryuji Sugiura. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2009-03-26.

Laser processing device, laser processing method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240103336A1. Автор: Yasufumi Kawasuji. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-03-28.

Laser processing apparatus

Номер патента: US20210066101A1. Автор: Yoshiki Kobayashi,Seiji Miura,Hisatoshi Fujisawa,Hidenori Akamatsu,Hiroki URYU,Haruhiko Asahi. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2021-03-04.

Laser processing apparatus

Номер патента: US20230219169A1. Автор: Nobuyuki Kimura,Hiroshi Morikazu. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2023-07-13.

Laser processing method, substrate dicing method and substrate processing system for performing the same

Номер патента: US10504804B2. Автор: Jin-Yeol Yang,Hae-Gu LEE,Hyung-su SON,Dong-su Han. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-12-10.

Laser processing apparatus

Номер патента: US11978645B2. Автор: Masaru Nakamura. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2024-05-07.

Laser processing apparatus and laser processing method

Номер патента: US20200114473A1. Автор: Kazushi Hyakumura. Владелец: Tokyo Seimitsu Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-16.

Laser processing apparatus

Номер патента: US12009229B2. Автор: Yoshiki Kobayashi,Seiji Miura,Hisatoshi Fujisawa,Hidenori Akamatsu,Hiroki URYU,Haruhiko Asahi. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2024-06-11.

Laser processing apparatus

Номер патента: MY177496A. Автор: NAYUKI Masatoshi. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2020-09-16.

Laser processing apparatus, semiconductor device manufacturing method, and amorphous silicon crystallization method

Номер патента: US20190271871A1. Автор: Masashi Machida,Suk-Hwan Chung. Владелец: Japan Steel Works Ltd. Дата публикации: 2019-09-05.

Laser processing apparatus

Номер патента: US20220118547A1. Автор: Yuta Yoshida,Shinya Honda,Hironari OHKUBO,Kuo Wei Wu,Keita Obara. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2022-04-21.

Method for fabricating interconnection and capacitors of a DRAM using a simple geometry active area, self-aligned etching, and polysilicon plugs

Номер патента: US6080620A. Автор: Erik S. Jeng. Владелец: Vanguard International Semiconductor Corp. Дата публикации: 2000-06-27.

Selective and precise etching and plating of conductive substrates

Номер патента: US5202222A. Автор: Martin J. Harris,Ivan K. Ho. Владелец: Shipley Co Inc. Дата публикации: 1993-04-13.

Apparatus for electrochemical etching and apparatus for electroplating

Номер патента: US20170121842A1. Автор: Teng-Yu Wang. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2017-05-04.

Methods of and Apparatus for Electrochemically Fabricating Structures Via Interlaced Layers or Via Selective Etching and Filling of Voids

Номер патента: US20120261267A1. Автор: Dennis R. Smalley. Владелец: Microfabrica Inc. Дата публикации: 2012-10-18.

Nitrogen-containing aromatic or ring structure molecules for plasma etch and deposition

Номер патента: WO2024145170A1. Автор: Xiangyu GUO,Nathan Stafford,Scott BILTEK. Владелец: L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2024-07-04.

Nitrogen-containing aromatic or ring structure molecules for plasma etch and deposition

Номер патента: US20240242971A1. Автор: Xiangyu GUO,Nathan Stafford,Scott BILTEK. Владелец: American Air Liquide Inc. Дата публикации: 2024-07-18.

Plasma etching using polycarbonate etch mask

Номер патента: WO1998038837A1. Автор: Chungdee Pong,Kristin Brigham. Владелец: Candescent Technologies Corporation. Дата публикации: 1998-09-03.

Method of plasma etching and plasma chamber cleaning using f2 and cof2

Номер патента: EP2501837A1. Автор: Marcello Riva. Владелец: SOLVAY SA. Дата публикации: 2012-09-26.

Hydrogen peroxide plasma etch of ashable hard mask

Номер патента: US12057320B2. Автор: Jeffrey J. Spiegelman. Владелец: Rasiro Inc. Дата публикации: 2024-08-06.

Reduction of metal oxide in dual frequency plasma etch chamber

Номер патента: EP1078389A1. Автор: ZHENG Xu,Vijay Parkhe,Gilbert Hausmann,Barney M. Cohen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2001-02-28.

Passivation chemistry for plasma etching

Номер патента: US20230335378A1. Автор: Eric A. Hudson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-10-19.

Passivation chemistry for plasma etching

Номер патента: WO2022072160A3. Автор: Eric A. Hudson. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2022-07-21.

Hydrogen peroxide plasma etch of ashable hard mask

Номер патента: US20240112921A1. Автор: Jeffrey J. Spiegelman. Владелец: RASIRC Inc. Дата публикации: 2024-04-04.

Hydrogen peroxide plasma etch of ashable hard mask

Номер патента: WO2024074929A1. Автор: Jeffrey J. Spiegelman. Владелец: RASIRC, INC.. Дата публикации: 2024-04-11.

Method of manufacturing a semiconductor device by plasma etching of a double layer

Номер патента: US4698126A. Автор: Anton P. M. Van Arendonk,Alfred J. Van Roosmalen. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 1987-10-06.

In-Situ Adsorbate Formation for Plasma Etch Process

Номер патента: US20240112887A1. Автор: Yoshihide Kihara,Masahiko Yokoi,Mingmei Wang,Yu-Hao Tsai,Du Zhang. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-04.

In-situ adsorbate formation for plasma etch process

Номер патента: WO2024072569A1. Автор: Yoshihide Kihara,Masahiko Yokoi,Mingmei Wang,Yu-Hao Tsai,Du Zhang. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2024-04-04.

Sidewall passivation layers and method of forming the same during high aspect ratio plasma etching

Номер патента: WO2023244214A1. Автор: Xiangyu GUO,Nathan Stafford,Kayla Diemoz. Владелец: L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2023-12-21.

Solid state devices formed by differential plasma etching of resists

Номер патента: US4232110A. Автор: Gary N. Taylor. Владелец: Bell Telephone Laboratories Inc. Дата публикации: 1980-11-04.

Plasma etching apparatus and operating method thereof

Номер патента: US20240128056A1. Автор: SeungBo SHIM,Changho Kim,Kyungsun Kim,Minyoung HUR,Yoonbum Nam,Hyeontae Kim,Juneeok Leem. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-18.

Method and apparatus for plasma etching

Номер патента: US20180102235A1. Автор: Yongsun Ko,Kijong Park,Taeheon Kim,Kyunghyun Kim,Jun-youl Yang,Jae Jin SHIN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-04-12.

Improved endpoint detection system and method for plasma etching

Номер патента: WO1991005367A1. Автор: Calvin Gabriel,Jim Nulty. Владелец: Vlsi Technology, Inc.. Дата публикации: 1991-04-18.

Method and apparatus for plasma etching

Номер патента: US20170207066A1. Автор: Yongsun Ko,Kijong Park,Taeheon Kim,Kyunghyun Kim,Jun-youl Yang,Jae Jin SHIN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-07-20.

Cleaning method for plasma etching chamber, and application thereof

Номер патента: EP4403270A1. Автор: FENG LIANG,Jiahe LI,Xuedong Li,Xiaobo Liu,Kaidong Xu,Yuxin Yang,Taiyan PENG. Владелец: Jiangsu Leuven Instruments Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-24.

Method and apparatus to improve plasma etch uniformity

Номер патента: WO2006041634A2. Автор: David Johnson,Russell Westerman. Владелец: Unaxis Usa Inc.. Дата публикации: 2006-04-20.

Method and apparatus to improve plasma etch uniformity

Номер патента: EP1797578A2. Автор: David Johnson,Russell Westerman. Владелец: Unaxis USA Inc. Дата публикации: 2007-06-20.

Plasma etching method

Номер патента: US09960014B2. Автор: Masatoshi Miyake,Nobuyuki Negishi,Ken'etsu Yokogawa,Naoyuki Kofuji,Masami Kamibayashi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-05-01.

Integration of vapor deposition process into plasma etch reactor

Номер патента: US20230260759A1. Автор: Eric A. Hudson,Ramesh Chandrasekharan,Andrew Clark SERINO,Alan M. Schoepp,Thad NICHOLSON. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-08-17.

Plasma etching apparatus

Номер патента: US20020014308A1. Автор: Takayoshi Sawayama. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 2002-02-07.

Method and system for facilitating the determination of the end point in plasma etching processes

Номер патента: WO2006106556A1. Автор: Roberto Colombo,Giuseppe Fazio,Diego Zappa. Владелец: STMICROELECTRONICS S.R.L.. Дата публикации: 2006-10-12.

Plasma etching method and plasma etching device

Номер патента: US20240096596A1. Автор: Hee Ju Kim,Ji Eun Kang,Jong Woo HONG,Geun Young Yeom,Wonjun CHANG,Soo NAM GOONG. Владелец: Sungkyunkwan University Research and Business Foundation. Дата публикации: 2024-03-21.

Silicon part for plasma etching apparatus and method of producing the same

Номер патента: US09472380B2. Автор: Yoshinobu Nakada,Fumitake Kikuchi. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

Plasma etching reactor with reduced plasma potential

Номер патента: CA1219975A. Автор: Charles J. Hendricks,Brian H. Desilets,Thomas A. Gunther,John H. Keller. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1987-03-31.

Method and apparatus for etching and deposition using micro-plasmas

Номер патента: CA2387432C. Автор: Yogesh B. Gianchandani,Chester G. Wilson. Владелец: WISCONSIN ALUMNI RESEARCH FOUNDATION. Дата публикации: 2010-02-09.

Focus ring heating method, plasma etching apparatus, and plasma etching method

Номер патента: US20130299455A1. Автор: Masashi Saito,Chishio Koshimizu,Jun Yamawaku,Tatsuo Matsudo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-11-14.

Radio frequency electron cyclotron resonance plasma etching apparatus

Номер патента: US5401351A. Автор: Seiji Samukawa. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1995-03-28.

System and method for plasma etching endpoint detection

Номер патента: US5405488A. Автор: Samuel V. Dunton,Calvin T. Gabriel,Dimitrios Dimitrelis. Владелец: VLSI Technology Inc. Дата публикации: 1995-04-11.

Plasma etch chamber and method of plasma etching

Номер патента: EP3465727A1. Автор: Mohamed Elghazzali,Ben CURTIS,Frantisek Balon. Владелец: EVATEC AG. Дата публикации: 2019-04-10.

Plasma etch chamber and method of plasma etching

Номер патента: US20190304757A1. Автор: Mohamed Elghazzali,Ben CURTIS,Frantisek Balon. Владелец: EVATEC AG. Дата публикации: 2019-10-03.

Plasma etching method

Номер патента: US20170084430A1. Автор: Masatoshi Miyake,Nobuyuki Negishi,Ken'etsu Yokogawa,Naoyuki Kofuji,Masami Kamibayashi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-03-23.

Sealing surfaces of components used in plasma etching tools using atomic layer deposition

Номер патента: US20230215703A1. Автор: LIN Xu,John Daugherty,Robin Koshy. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-07-06.

Plasma etching apparatus and semiconductor processing system

Номер патента: US20230078095A1. Автор: Sejin Oh,Dougyong Sung,Byeongsang KIM,Youngdo Kim,Sungho Jang,Yunhwan Kim,Jungmo YANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-16.

Plasma etch-resistant film and a method for its fabrication

Номер патента: US20210115555A1. Автор: Pekka J. Soininen,Mohammad Ameen,Vasil Vorsa. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2021-04-22.

A plasma etch-resistant film and a method for its fabrication

Номер патента: US20200080197A1. Автор: Pekka J. Soininen,Mohammad Ameen,Vasil Vorsa. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2020-03-12.

A plasma etch-resistant film and a method for its fabrication

Номер патента: EP3423610A1. Автор: Pekka J. Soininen,Mohammad Ameen,Vasil Vorsa. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2019-01-09.

Inductively coupled plasma etching apparatus

Номер патента: EP1269513A2. Автор: Shu Nakajima. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2003-01-02.

Inductively coupled plasma etching apparatus

Номер патента: WO2001075931A3. Автор: Shu Nakajima. Владелец: Shu Nakajima. Дата публикации: 2002-03-21.

Solid polymer electrolyte composite membrane comprising plasma etched porous support

Номер патента: WO2006036957A2. Автор: HAN Liu,Anthony B. LaConti. Владелец: GINER ELECTROCHEMICAL SYSTEMS, LLC. Дата публикации: 2006-04-06.

Method for fabricating micro-structures with various surface properties in multilayer body by plasma etching

Номер патента: CA2399027C. Автор: Walter Schmidt,Frederic Reymond,Joel S. Rossier. Владелец: DiagnoSwiss SA. Дата публикации: 2010-06-22.

Plasma etching using improved electrode

Номер патента: US4297162A. Автор: Randall S. Mundt,Timothy A. Wooldridge,Thomas O. Blasingame. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1981-10-27.

Electrode for plasma etching

Номер патента: US6007672A. Автор: Kazuo Saito,Akira Yamaguchi,Yasushi Mochizuki. Владелец: Nisshinbo Industries Inc. Дата публикации: 1999-12-28.

Microwave plasma etching apparatus

Номер патента: US4559100A. Автор: Shigeru Nishimatsu,Keizo Suzuki,Yoshifumi Ogawa,Sadayuki Okudaira,Ken Ninomiya. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1985-12-17.

Laser processing method and processing device based on normal laser-induced material changes

Номер патента: RU2401185C2. Автор: Саэ Чаэ ДЗЕОУНГ,Дзи Санг ЯХНГ,Бионг Хиок ЧОН,Дзае Хиук ЧОЙ. Владелец: Корея Рисерч Инститьют Оф Стэндардс Энд Сайенс. Дата публикации: 2010-10-10.

Laser processing system and laser processing method

Номер патента: US20190283177A1. Автор: Osamu Wakabayashi,Kouji Kakizaki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2019-09-19.

Measuring device for acquiring surface data and/or interfaces of a workpiece to be processed by a laser processing device

Номер патента: US09816808B2. Автор: Christian Truckenbrodt,Eckhard Lessmüller. Владелец: Lessmueller Lasertechnik GmbH. Дата публикации: 2017-11-14.

Laser processing apparatus capable of switching fiber core

Номер патента: US09470842B2. Автор: Atsushi Mori. Владелец: FANUC Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

Laser processing system operating by plurality of operation modes

Номер патента: US20160288255A1. Автор: Kazuhiro Suzuki. Владелец: FANUC Corp. Дата публикации: 2016-10-06.

Method for manufacturing laser processed product and the laser processed product

Номер патента: US20180369963A1. Автор: Masaki Koike,Hideki Yamauchi,Akira Tsukui,Junya Shimotamari. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2018-12-27.

Femtosecond laser processing system with process parameters controls and feedback

Номер патента: US09774160B2. Автор: Donald J. Harter. Владелец: IMRA America Inc. Дата публикации: 2017-09-26.

Laser processing machine and focusing angle setting method of laser processing machine

Номер патента: US09703111B2. Автор: Takuya Yoshimi,Takayoshi Miyazaki,Tomoki Komiya. Владелец: Panasonic Industrial Devices SUNX Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-11.

Laser processing method and laser processing system

Номер патента: US09350137B1. Автор: Kiwamu Takehisa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-05-24.

Laser processing apparatus

Номер патента: MY135053A. Автор: Naoki Uchiyama,Norio Kurita. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2008-01-31.

Detection assembly, laser module, laser emission control method, and laser processing equipment

Номер патента: WO2024078058A1. Автор: Mingwen Li,Huilin LIU,Fayang CAO. Владелец: Shenzhen Creality 3D Technology Co., Ltd.. Дата публикации: 2024-04-18.

Laser processing apparatus including beam analysis system and methods of measurement and control of beam characteristics

Номер патента: US20240286217A1. Автор: Joe HASTY,Jay Davis. Владелец: Electro Scientific Industries Inc. Дата публикации: 2024-08-29.

System and method for calibrating laser processing machines

Номер патента: US09718146B2. Автор: Alan Sullivan,Vijay Shilpiekandula,William S Yerazunis,Scott A Bortoff,Abraham M Goldsmith,John C Barnwell, III. Владелец: Mitsubishi Electric Research Laboratories Inc. Дата публикации: 2017-08-01.

Control device and control method for laser processing machine

Номер патента: US09492884B2. Автор: Naoki Miyamoto,Tomohiro Kyoto,Mototoshi Kumaoka. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2016-11-15.

Laser processing method of printed circuit board and laser processing machine for printed circuit board

Номер патента: US20220216665A1. Автор: Kunio Arai,Yasuhiko Kanaya,Kazuhisa Ishii,Yasuhiko Kita,Hidenori Tateishi,Izumi Hata. Владелец: Ofuna Enterprise Japan Co Ltd. Дата публикации: 2022-07-07.

Device and a method for distance measurement for a laser processing system, and a laser processing system

Номер патента: US20190226832A1. Автор: Martin SCHÖNLEBER,Rüdiger Moser. Владелец: Precitec GmbH and Co KG. Дата публикации: 2019-07-25.

Improvement welding method for laser weld of battery foils stack, welding method, laser processing system, associated computer program product

Номер патента: EP4433252A1. Автор: LU Zhang,YUAN LIU,Weiyu Wang,Franz Lehleuter,Zekai Hou. Владелец: Trumpf China Co ltd. Дата публикации: 2024-09-25.

Laser processing apparatus and method for processing workpiece

Номер патента: US12076815B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Masashi SHIMBORI. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-09-03.

Fiber laser oscillator, fiber laser processing device, and fiber laser oscillator dehumidification method

Номер патента: US09548583B2. Автор: Hiroshi Sako,Asami Morino,Keishi Tanaka. Владелец: Amada Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-17.

Laser processing device for processing shielded conductors and method for operating a laser processing device for processing shielded conductors

Номер патента: US20210046583A1. Автор: Benedikt Strauss. Владелец: MD ELEKTRONIK GMBH. Дата публикации: 2021-02-18.

Laser processing head, optical fiber inspection device, and optical fiber inspection method

Номер патента: EP3683002A1. Автор: Takayuki Yamashita,Hideaki Yamaguchi,Ryo Ishikawa,Naoya Kato,Kenji Hoshino,Doukei Nagayasu,Shinya Domoto,Kiyotaka Eizumi. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-22.

Laser processing head, optical fiber inspection device, and optical fiber inspection method

Номер патента: US20200198053A1. Автор: Takayuki Yamashita,Hideaki Yamaguchi,Ryo Ishikawa,Naoya Kato,Kenji Hoshino,Doukei Nagayasu,Shinya Domoto,Kiyotaka Eizumi. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2020-06-25.

Laser processing device

Номер патента: EP4035824A1. Автор: Kazuhiro Nakashima. Владелец: Brother Industries Ltd. Дата публикации: 2022-08-03.

Device for adjusting a beam profile, laser processing machine and method for producing the device

Номер патента: US8628227B2. Автор: Stefan Fuchs,Rudolf Huber,Peter Olschowsky. Владелец: Trumpf Laser Gmbh. Дата публикации: 2014-01-14.

Laser processing apparatus

Номер патента: EP4397429A1. Автор: Koji Kuno. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2024-07-10.

Ultraviolet laser processing system

Номер патента: EP4429047A1. Автор: Sylvain Perrot,Nabil DOURI,Martin HEINTZMANN,Yacine BOUKSOU,Guillaume THEBAULT,Bastien VANIER. Владелец: Laser Systems and Solutions of Europe SAS. Дата публикации: 2024-09-11.

Laser processing device

Номер патента: EP4431218A1. Автор: Keita NAGATOSHI. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-18.

Laser processing apparatus and laser irradiation method

Номер патента: US09607744B2. Автор: Koji Hirano,Hirofumi Imai,Hideyuki Hamamura. Владелец: Nippon Steel and Sumitomo Metal Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Laser processing machine

Номер патента: US09520693B2. Автор: Keita Matsumoto. Владелец: Murata Machinery Ltd. Дата публикации: 2016-12-13.

Optical system and laser processing apparatus

Номер патента: US09500781B2. Автор: Masao Watanabe. Владелец: Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2016-11-22.

Measuring device for acquiring surface data and/or interfaces of a workpiece to be processed by a laser processing device

Номер патента: US20150338210A1. Автор: Christian Truckenbrodt,Eckhard Lessmüller. Владелец: Lessmueller Lasertechnik GmbH. Дата публикации: 2015-11-26.

Femtosecond laser processing system with process parameters, controls and feedback

Номер патента: US7486705B2. Автор: Tadashi Yamamoto,Donald J. Harter,Lawrence Shah,James M Bovatsek,Alan Y Arai,Rajesh S. Patel. Владелец: IMRA America Inc. Дата публикации: 2009-02-03.

Laser processing apparatus and laser processing method

Номер патента: US20200004057A1. Автор: Mitsuru Kato,Atsushi Sakamoto,Kazuo Watanabe,Kazuya Matsumoto,Masanori Sato,Masaru Kikuchi. Владелец: Via Mechanics Ltd. Дата публикации: 2020-01-02.

Laser processing method

Номер патента: US20240213439A1. Автор: Haruhiko Yamamoto. Владелец: Prime Planet Energy and Solutions Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

Ultrashort pulse laser processing apparatus

Номер патента: US8995477B2. Автор: Masanori Amano. Владелец: Nidek Co Ltd. Дата публикации: 2015-03-31.

Laser processing method and laser processing system

Номер патента: US20180250768A1. Автор: Kiwamu Takehisa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-09-06.

Laser processing method and laser processing apparatus

Номер патента: US20230219167A1. Автор: Atsushi Ogino,Takashi Kayahara,Keisuke Tominaga,Keigo Matsunaga,Ryosuke Tamura,Kousuke KASHIWAGI,Masakazu YOSHIHARA. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-13.

Laser processing apparatus including beam analysis system and methods of measurement and control of beam characteristics

Номер патента: EP4359164A1. Автор: David Lord,Mark Unrath,Andrew Koll,Joe HASTY,Jay Davis. Владелец: Electro Scientific Industries Inc. Дата публикации: 2024-05-01.

Laser Processing Device

Номер патента: US20080019405A1. Автор: Naoki Uchiyama,Norio Kurita. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2008-01-24.

Laser processing method and laser processing apparatus

Номер патента: EP4219063A1. Автор: Atsushi Ogino,Takashi Kayahara,Keisuke Tominaga,Keigo Matsunaga,Ryosuke Tamura,Kousuke KASHIWAGI,Masakazu YOSHIHARA. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-02.

Laser processing apparatus

Номер патента: US20190375052A1. Автор: Keiji Nomaru,Yuji Hadano. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2019-12-12.

Gas shielding device for use with a laser processing head

Номер патента: WO2020047454A1. Автор: Yuri Grapov,Iurii V. MARKUSHOV,Nikhit N. NAIR,Frank L. DUBUQUE. Владелец: IPG Photonics Corporation. Дата публикации: 2020-03-05.

Optical unit for laser processing system and laser processing system

Номер патента: US20210231933A1. Автор: Takayuki Kai,Kouki Ichihashi. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2021-07-29.

Gas shielding device for use with a laser processing head

Номер патента: EP3826802A1. Автор: Yuri Grapov,Iurii V. MARKUSHOV,Nikhit N. NAIR,Frank L. DUBUQUE. Владелец: IPG Photonics Corp. Дата публикации: 2021-06-02.

Device for automatically selecting a beam mode in laser processing machine

Номер патента: US20070002908A1. Автор: Tsunehiko Yamazaki,Naoomi Miyakawa. Владелец: Yamazaki Mazak Corp. Дата публикации: 2007-01-04.

Laser processing machine

Номер патента: US10413996B2. Автор: Hiroaki Ishiguro,Ryohei Ito. Владелец: Amada Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-09-17.

Method and apparatus for laser processing of materials

Номер патента: CA1294009C. Автор: Ronald D. Young,Charles M. Sharp. Владелец: PRC Corp. Дата публикации: 1992-01-07.

Laser processing apparatus and coupler

Номер патента: US20230411922A1. Автор: Hajime Mori,Kohei KAWASAKI,Taisuke ATSUMI. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Laser processing device

Номер патента: US20230364710A1. Автор: Akira Yamada,Hiroshi Yanagida,Isao Okita. Владелец: Komatsu NTC Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Laser processing device and coupler

Номер патента: EP4292750A1. Автор: Hajime Mori,Kohei KAWASAKI,Taisuke ATSUMI. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-20.

Device for Adjusting a Beam Profile, Laser Processing Machine and Method for Producing The Device

Номер патента: US20130114285A1. Автор: Stefan Fuchs,Rudolf Huber,Peter Olschowsky. Владелец: Trumpf Laser Gmbh. Дата публикации: 2013-05-09.

Systems and methods for laser processing of solid-state batteries

Номер патента: US11865636B2. Автор: Jianchao Ye,Jae Hyuck Yoo,John Roehling. Владелец: Lawrence Livermore National Security LLC. Дата публикации: 2024-01-09.

Laser Processing Machine Component having a Corrosion-Resistant Internal Coating

Номер патента: US20090179012A1. Автор: Timo Zepf. Владелец: Trumpf Werkzeugmaschinen SE and Co KG. Дата публикации: 2009-07-16.

Laser Processing Apparatus and Solid Laser Resonator

Номер патента: US20080225917A1. Автор: Masao Sato. Владелец: Keyence Corp. Дата публикации: 2008-09-18.

Method and apparatus for low energy electron enhanced etching and cleaning of substrates

Номер патента: CA2353479C. Автор: Kevin P. Martin,Harry P. Gillis,Dimitri A. Choutov. Владелец: Georgia Tech Research Corp. Дата публикации: 2008-02-12.

Method and apparatus for ion etching and deposition

Номер патента: CA1331866C. Автор: John R. McNeil,Scott R. Wilson. Владелец: University of New Mexico UNM. Дата публикации: 1994-09-06.

Plasma-Generating Structures, Display Devices, Plasma-Enhanced Treatments, Methods Of Forming Plasma-Generating Structures; Methods Of Plasma-Assisted Etching, And Methods Of Plasma-Assisted Deposition

Номер патента: US20090015160A1. Автор: Stephen J. Kramer,Neal Rueger. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-01-15.

Methods of forming plasma-generating structures; methods of plasma-assisted etching, and methods of plasma-assisted deposition

Номер патента: US8033884B2. Автор: Stephen J. Kramer,Neal R. Rueger. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2011-10-11.

Plasma etching of mask materials

Номер патента: EP4330769A1. Автор: Madhava Rao Yalamanchili,Toi Yue Becky Leung,Madhavi Rajaram Chandrachood. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-06.

Plasma etching of mask materials

Номер патента: US11915932B2. Автор: Madhava Rao Yalamanchili,Toi Yue Becky Leung,Madhavi Rajaram Chandrachood. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-27.

Gas distribution showerhead for inductively coupled plasma etch reactor

Номер патента: US09934979B2. Автор: Alex Paterson,Michael Kang,Ian J. Kenworthy. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Plasma etch for chromium alloys

Номер патента: US20110086488A1. Автор: ABBAS Ali. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2011-04-14.

Plasma etching indium tin oxide using a deposited silicon nitride mask

Номер патента: WO1992022930A1. Автор: Paul L. Roselle. Владелец: EASTMAN KODAK COMPANY. Дата публикации: 1992-12-23.

Plasma etching indium tin oxide using a deposited oxide mask

Номер патента: WO1992000609A1. Автор: Paul L. Roselle. Владелец: EASTMAN KODAK COMPANY. Дата публикации: 1992-01-09.

Power supply system, plasma etching apparatus, and plasma etching method

Номер патента: US09922802B2. Автор: Taichi Hirano,Fumitoshi KUMAGAI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-20.

System, method and apparatus for RF power compensation in plasma etch chamber

Номер патента: US09412670B2. Автор: Arthur Sato,Seetharaman Ramachandran,Shang-I Chou,Eric Tonnis,Robert G. O'Neill. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-08-09.

High-temperature isotropic plasma etching process to prevent electrical shorts

Номер патента: US09405089B2. Автор: Neng Jiang,Joel Soman,Thomas Warren Lassiter,Mary Alyssa Drummond Roby,YungShan Chang,Nayeemuddin Mohammed. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2016-08-02.

Plasma etching method, plasma etching method, plasma processing method, and plasma processing device

Номер патента: WO2015129719A1. Автор: 尚樹 森口. Владелец: 株式会社 アルバック. Дата публикации: 2015-09-03.

Plasma etching method, plasma etching apparatus, plasma processing method, and plasma processing apparatus

Номер патента: TW201535518A. Автор: Naoki Moriguchi. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2015-09-16.

Plasma etching apparatus

Номер патента: US20050211380A1. Автор: Takayoshi Sawayama. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-09-29.

Plasma etching apparatus, kit for retrofitting an existing plasma etching apparatus, and method of plasma etching a substrate

Номер патента: TWI692795B. Автор: 麥斯梅 瓦爾瓦拉. Владелец: 英商Ｓｐｔｓ科技公司. Дата публикации: 2020-05-01.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US8425786B2. Автор: Kenji Maeda,Kenetsu Yokogawa,Tsutomu Tetsuka,Makoto Satake,Ryoji Nishio,Tatehito Usui. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2013-04-23.

Plasma etch reactor with dual sources for enhancing both etch selectivity and etch rate

Номер патента: EP1308986B1. Автор: AJAY Kumar,Ralph M. Wadensweiler,Alan H. Ouye,Dragan Podlesnik,John P. Holland,Valentin Todorov,Anisul Khan,Arthur H. Sato,John J. Hagerty. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2008-07-30.

Microwave plasma etching apparatus

Номер патента: US5983829A. Автор: Nobumasa Suzuki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1999-11-16.

Plasma etching electrode

Номер патента: US4342901A. Автор: John Zajac. Владелец: Eaton Corp. Дата публикации: 1982-08-03.

Electrodes for plasma etching apparatus and plasma etching apparatus using the same

Номер патента: US5447595A. Автор: Satoshi Nakagawa. Владелец: Matsushita Electronics Corp. Дата публикации: 1995-09-05.

Plasma etching method

Номер патента: US8293127B1. Автор: Joseph F. Rypl. Владелец: Lockheed Martin Corp. Дата публикации: 2012-10-23.

Etching and thinning for the fabrication of lithographically patterned diamond nanostructures

Номер патента: US20210399708A1. Автор: Hailin Wang,Ignas Lekavicius. Владелец: University of Oregon. Дата публикации: 2021-12-23.

Plasma etching of solder resist openings

Номер патента: US20170273187A1. Автор: SHENG Li,Rahul Jain,Robert Alan May,Sri Ranga Sai Boyapati,Kristof Darmawikarta. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-09-21.

Plasma etching of solder resist openings

Номер патента: WO2017160459A1. Автор: SHENG Li,Rahul Jain,Robert Alan May,Sri Ranga Sai Boyapati,Kristof Darmawikarta. Владелец: Intel Corporation. Дата публикации: 2017-09-21.

Plasma etching of solder resist openings

Номер патента: US09820386B2. Автор: SHENG Li,Rahul Jain,Robert Alan May,Sri Ranga Sai Boyapati,Kristof Darmawikarta. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-11-14.

Ultrasonic wave-driven triboelectric generator with self-gap formed using plasma etching

Номер патента: US20230135593A1. Автор: Sangwoo Kim,Young Jun Kim,Joon Ha Hwang,Young Wook CHUNG. Владелец: Sungkyunkwan University Research and Business Foundation. Дата публикации: 2023-05-04.

Plasma Etched Catalytic Laminate with Traces and Vias

Номер патента: US20190014666A1. Автор: Konstantine Karavakis,Kenneth S. Bahl. Владелец: Sierra Circuits Inc. Дата публикации: 2019-01-10.

Method of measuring laser processing alignment

Номер патента: RU2552906C2. Автор: Том Марттила. Владелец: Текномар Ой. Дата публикации: 2015-06-10.

Laser processing protection sheet and production methodfor laser processed article

Номер патента: EP1714730A4. Автор: Tomokazu Takahashi,Takeshi Matsumura,Masakatsu Urairi,Naoyuki Matsuo,Atsushi Hino,Syouji Yamamoto. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2008-11-05.

Laser processing device

Номер патента: US20230398626A1. Автор: Mizuho Abe,Mituhiro Yosinaga. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Laser processing apparatus, methods of operating the same, and methods of processing workpieces using the same

Номер патента: EP4271536A1. Автор: Mark Unrath,Jan Kleinert,James Brookhyser,Ruolin CHEN,Honghua Hu. Владелец: Electro Scientific Industries Inc. Дата публикации: 2023-11-08.

Resin composition for laser processing

Номер патента: US09708466B2. Автор: Satoshi Murakami,Manabu Kikuta. Владелец: Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-18.

Laser processing device and organic electroluminescent display panel using the same

Номер патента: US20020098614A1. Автор: Tomonori Akai. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-07-25.

Method and system for laser processing

Номер патента: US20080223836A1. Автор: William A. Miller. Владелец: Efficere LLC. Дата публикации: 2008-09-18.

Manufacturing method of laser processed parts and protective sheet for laser processing

Номер патента: US20060228650A1. Автор: Masakatsu Urairi,Naoyuki Matsuo,Atsushi Hino. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2006-10-12.

Display device, method for manufacturing the device and laser processing apparatus for manufacturing the display device

Номер патента: US11971751B2. Автор: Geun Woo YUG,Ku Hyun KANG. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-30.

Laser process alignment measuring method

Номер патента: US9030512B2. Автор: Tom Marttila. Владелец: TECNOMAR OY. Дата публикации: 2015-05-12.

Laser processing apparatus, methods of operating the same, and methods of processing workpieces using the same

Номер патента: US20240017350A1. Автор: Mark Unrath,Jan Kleinert,James Brookhyser,Ruolin CHEN,Honghua Hu. Владелец: Electro Scientific Industries Inc. Дата публикации: 2024-01-18.

Copper foil suitable for laser processing, copper foil provided with carrier foil suitable for laser processing, copper-clad laminate, and method of manufacturing printed wiring board

Номер патента: MY178050A. Автор: Kazuhiro Yoshikawa,Takao Fujimoto,Mitsuyoshi Matsuda,Yasuji Hara. Владелец: Mitsui Mining & Smelting Co Ltd. Дата публикации: 2020-09-30.

Laser processing method and circuit board manufacturing method

Номер патента: US20230071592A1. Автор: Masakazu Kobayashi,Junichi Fujimoto,Kouji Kakizaki,Yasufumi Kawasuji,Akira SUWA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-03-09.

Laser processing method of an inkjet head

Номер патента: US20030217450A1. Автор: Tetsuo Okuno. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2003-11-27.

Laser processing apparatus

Номер патента: US20220241906A1. Автор: Kyongho HONG,Jaeseok Park,Kyu-Bum Kim,Inho Lee,Jungseob Lee,Bosuck Jeon. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2022-08-04.

Dry etching and mirror deposition processes for silicone elastomer

Номер патента: US20020148813A1. Автор: Axel Scherer,Mark Adams. Владелец: California Institute of Technology CalTech. Дата публикации: 2002-10-17.

Dry etching and mirror deposition processes for silicone elastomer

Номер патента: WO2002066700A1. Автор: Axel Scherer,Mark Adams. Владелец: California Institute of Technology. Дата публикации: 2002-08-29.

Device for fabricating a mask by plasma etching a semiconductor substrate

Номер патента: US20060148274A1. Автор: Michel Puech,Martial Chabloz. Владелец: Alcatel SA. Дата публикации: 2006-07-06.

Method and apparatus for micromachining using a magnetic field and plasma etching

Номер патента: US20030040178A1. Автор: Neal Rueger. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-02-27.

Silicon component for plasma etching apparatus

Номер патента: US9290391B2. Автор: Kosuke Imafuku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-03-22.

Method of recycling silicon component for plasma etching apparatus and silicon component for plasma etching apparatus

Номер патента: US20110076221A1. Автор: Kosuke Imafuku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-03-31.

Projection optics for metal processing by means of laser radiation and containing its laser processing head

Номер патента: RU2711287C1. Автор: Давид БЛАСКЕС-САНЧЕС. Владелец: Прецитек Гмбх Унд Ко. Кг. Дата публикации: 2020-01-16.

Laser processing apparatus and laser processing method

Номер патента: US20240227074A1. Автор: Jun Yokoyama,Yohei Takechi. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Laser processing machine

Номер патента: US20240300048A1. Автор: Koichi Wake,Shuji Miyoshi,Akihiko Sugiyama,Hiroaki Ishiguro,Hirotada WAKUI. Владелец: Amada Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Automated laser processing system for thermal strengthening of part surface

Номер патента: RU2708285C1. Автор: Григорий Анатольевич Евстюнин. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Новые технологии лазерного термоупрочнения" (ООО "НТЛТ"). Дата публикации: 2019-12-05.

System for thermal treatment of articles including plasma or laser processing head to be connected with help of one shank

Номер патента: RU2525016C2. Автор: Франк ЛАУРИШ,Фолькер КРИНК,Фридрих-Вильгельм Бах,Томас РЮМЕНАПП. Владелец: Кьелльберг Финстервальде Пласма унд Машинен ГмбХ. Дата публикации: 2014-08-10.

Method of laser processing materials in liquid medium

Номер патента: RU2692153C1. Автор: Андрей Анатольевич Перцев,Константин Александрович Щербаков,Михаил Владимирович Конюхов. Владелец: Акционерное общество "Высокотехнологический научно-исследовательский институт неорганических материалов имени академика А.А. Бочвара". Дата публикации: 2019-06-21.

Method of laser processing of nonmetallic materials

Номер патента: RU2646177C1. Автор: Александр Фёдорович Коваленко. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт автоматики им. Н.Л. Духова" (ФГУП "ВНИИА"). Дата публикации: 2018-03-01.

Machine tool for laser processing of profiles and method of inclined cutting operation on profile by means of this machine tool

Номер патента: RU2710253C2. Автор: Паоло ГАЛВАГНИНИ,Карло МИКЕЛИ,Сержио НИКОЛЕТТИ,Мартейн ВАН ОПБЕРГЕН. Владелец: Адиге С.П.А.. Дата публикации: 2019-12-25.

Modular laser processing enclosure and system

Номер патента: WO2017079409A1. Автор: Joseph DALLAROSA,Benjamin AMAR,Mark LABBE. Владелец: IPG Photonics Corporation. Дата публикации: 2017-05-11.

Laser processing apparatus, laser processing method, and correction data generation method

Номер патента: US20240227072A1. Автор: Jun Yokoyama,Yohei Takechi. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Laser processing apparatus, laser processing method and thin plate processed using the same

Номер патента: US20200215647A1. Автор: Akio Yamakawa,Naohiko Soma,Mitsuyuki Kaneko. Владелец: Wired Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-09.

Laser processing apparatus, control method of laser processing apparatus, and control program of laser processing apparatus

Номер патента: US20200254560A1. Автор: Eiji Oshima. Владелец: Kantatsu Co Ltd. Дата публикации: 2020-08-13.

Laser processing system

Номер патента: US20190262936A1. Автор: Yohei Kobayashi,Shuntaro TANI,Yutsuki AOYAGI. Владелец: University of Tokyo NUC. Дата публикации: 2019-08-29.

Modular laser processing enclosure and system

Номер патента: EP3372061A1. Автор: Benjamin Amar,Joseph Dallarosa,Mark Labbe. Владелец: IPG Photonics Corp. Дата публикации: 2018-09-12.

Laser processing apparatus

Номер патента: US12048970B2. Автор: Nobuaki Tanaka,Kenta Fujii,Masaki Seguchi,Kyohei ISHIKAWA,Motoaki Nishiwaki. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-30.

Laser processing device and laser processing method

Номер патента: US20240261891A1. Автор: Yusuke Arai. Владелец: Tokyo Seimitsu Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Method of determining whether or not result of processing process of laser processing apparatus is acceptable

Номер патента: US20210060697A1. Автор: Hiroki Takeuchi,Masanobu Takenaka,Yukito Akutagawa. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2021-03-04.

Laser processing device and laser processing method

Номер патента: EP4420818A1. Автор: Takahiro Ota. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-28.

Laser processing machine and laser processing method

Номер патента: EP3769897A1. Автор: Jun Iwasaki,Hironobu Miyoshi. Владелец: Amada Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-27.

Laser processing apparatus and laser processing method

Номер патента: US20240316698A1. Автор: Nobuaki Tanaka,Kenta Fujii,Kyohei ISHIKAWA,Motoaki Nishiwaki. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Laser processing device having function for avoiding interference at the time of nozzle approach

Номер патента: US09895769B2. Автор: Hiroaki Tokito. Владелец: FANUC Corp. Дата публикации: 2018-02-20.

Laser processing apparatus

Номер патента: US09895768B2. Автор: Junichi Kuki,Yusaku Ito. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2018-02-20.

Laser processing machines with barrier-free accesses

Номер патента: US09772067B2. Автор: Andreas Bunz,Detlef Breitling. Владелец: Trumpf Werkzeugmaschinen SE and Co KG. Дата публикации: 2017-09-26.

Laser processing method and land laser processed product

Номер патента: US09566663B2. Автор: Naoyuki Matsuo,Atsushi Hino,Kanji Nishida. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2017-02-14.

Method for laser processing of metal material with a high level of dynamic control of the axes of movement of the laser beam along a pre-selected processing path, as well as a machine and a computer program for implementing this method

Номер патента: RU2750313C2. Автор: СБЕТТИ Маурицио. Владелец: Адиге С.П.А.. Дата публикации: 2021-06-25.

Laser processing system and laser processing method

Номер патента: US20220184745A1. Автор: Akiko Inoue,Saneyuki Goya. Владелец: Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2022-06-16.

Laser processing method and laser processing system

Номер патента: US20230302573A1. Автор: HUNG-WEN Chen,Chen-Wei Hu,Yu-Chieh Wen. Владелец: National Tsing Hua University NTHU. Дата публикации: 2023-09-28.

A method for laser processing of a metallic material, based on the automatic determination of the material or processing parameters

Номер патента: WO2024134472A1. Автор: Daniele Colombo,Barbara Previtali,Mattia VANIN,Bianca Maria Colosimo,Marco Luigi Giuseppe Grasso,Ali Gokhan Demir,Lucia FERRARIO. Владелец: Adige S.p.A.. Дата публикации: 2024-06-27.

Method and apparatus for real-time control of laser processing of materials

Номер патента: WO1995011106A1. Автор: Walter W. Duley,Grant Kinsman. Владелец: Powerlasers Ltd.. Дата публикации: 1995-04-27.

Splatter detection by artificial intelligence during laser processing

Номер патента: US20240198450A1. Автор: Andreas Jahn,Oliver Bocksrocker,Julia HARTUNG,Vinayakraj SALVARRAJAN. Владелец: Trumpf Laser und Systemtechnik GmbH. Дата публикации: 2024-06-20.

Laser processing device and automatic correction method for focal point position of laser light

Номер патента: US20240082950A1. Автор: Jingbo Wang,Shunsuke Kawai,Kenzo Shibata,Jin MATSUZAKA. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Laser processing apparatus and processing method employed therein

Номер патента: US20110155709A1. Автор: Akira Inoue,Eiichiro Yamada,Hiroshi Kohda,Koji Nakazato,Hitoshi Hatayama,Takemi Hasegawa. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2011-06-30.

An automatic surface tracing method, system, and storage medium for laser processing

Номер патента: US20230150056A1. Автор: Han Lin,Baohua Jia,Jinchuan Zheng. Владелец: Innofocus Photonics Technology Pty Ltd. Дата публикации: 2023-05-18.

Laser processing device and laser processing method

Номер патента: EP4134196A1. Автор: Takashi Kurita,Yuu Takiguchi. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2023-02-15.

Laser processing apparatus and laser processing method

Номер патента: EP2767362A3. Автор: Morikatsu Matsuda,Eiki Kobayashi,Toshihide Ohara,Kanehide Amano. Владелец: Amada Co Ltd. Дата публикации: 2015-04-29.

System for preventing processing defect in laser processing

Номер патента: EP1894663A3. Автор: Tsunehiko Yamazaki,Naoomi Miyakawa. Владелец: Yamazaki Mazak Corp. Дата публикации: 2008-07-16.

Laser processing apparatus capable of retracting processing nozzle upon power failure

Номер патента: US10092978B2. Автор: Hiroaki Tokito. Владелец: FANUC Corp. Дата публикации: 2018-10-09.

Method and apparatus for compensating for thermally-induced beam pointing errors in a laser-processing system

Номер патента: WO2024167702A1. Автор: Mehmet Alpay,Daragh Finn,Mark Peeples,Tobin HALL. Владелец: Electro Scientific Industries, Incorporated. Дата публикации: 2024-08-15.

Laser processing method and laser processing system

Номер патента: US20240269769A1. Автор: Takashi Onose. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-08-15.

Laser processing apparatus and laser processing method

Номер патента: US20240238894A1. Автор: Yasuhiro Asai. Владелец: Brother Industries Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Control method and control device for a laser processing machine

Номер патента: US20240307996A1. Автор: Juergen Vogel,Martin Keller,Martin Stambke,Rainer Flaig,Michael Kraus,Thomas Notheis,Jan-Patrick Hermani,Ralf Bartmuss. Владелец: Trumpf Laser Gmbh. Дата публикации: 2024-09-19.

Laser processing method

Номер патента: EP4406688A1. Автор: Mutsuhiro Nakazawa. Владелец: Kawasaki Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2024-07-31.

Laser processing apparatus, method involving same, and object processed thereby

Номер патента: EP4406686A1. Автор: Jin Ha Kim,Byoung Chan CHOI,Ki Seok KANG. Владелец: Laserwall Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-31.

Laser processing apparatus and processing method thereof

Номер патента: US20240342829A1. Автор: Schang-Jing Hon. Владелец: E&R ENGINEERING CORP. Дата публикации: 2024-10-17.

Laser processing head and annular nozzle for a laser processing head

Номер патента: US09969029B2. Автор: Volker Rominger,Gerhard Broghammer. Владелец: Trumpf Laser Gmbh. Дата публикации: 2018-05-15.

Power control method for fiber laser processing machine, and fiber laser processing machine

Номер патента: US09815140B2. Автор: Seiichi Hayashi. Владелец: Komatsu Industries Corp. Дата публикации: 2017-11-14.

Measurement device for a laser processing system and a method for performing position measurements by means of a measurement beam on a workpiece

Номер патента: US09784562B2. Автор: Christian Truckenbrodt,Konstantin Werner,Eckhard Lessmueller. Владелец: Lessmueller Lasertechnik GmbH. Дата публикации: 2017-10-10.

Particle control in laser processing systems

Номер патента: US09579750B2. Автор: Bruce E. Adams,Mehran Behdjat,Aaron Muir Hunter. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-02-28.

Method of laser processing of parts of rotation bodies from tool steels

Номер патента: RU2734826C1. Автор: Геннадий Николаевич Гаврилов,Владимир Викторович Галкин,Анатолий Владиславович Братухин,Евгений Анатольевич Маринин. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Нижегородский государственный технический университет им. Р.Е. Алексеева" (НГТУ). Дата публикации: 2020-10-23.

Laser-processing apparatus, methods of operating the same, and methods of processing workpieces using the same

Номер патента: US20240227071A9. Автор: Mark Unrath,Mark Kosmowski,Corie Neufeld. Владелец: Electro Scientific Industries Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Method for calculation, device for laser processing, and non-transitory computer-readable storage medium

Номер патента: US20240173793A1. Автор: Yuanxiu ZHANG. Владелец: Makeblock Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Laser processing device and nozzle inspection method

Номер патента: US20230278137A1. Автор: Kazuhiro Iwata. Владелец: Amada Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Laser processing device

Номер патента: EP3785841A1. Автор: Kazuhiro Yoshida,Yoshinao Komatsu,Akiko Inoue,Ryuichi Narita,Saneyuki Goya,Yasuyuki Fujiya. Владелец: Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2021-03-03.

Supporting device for a laser processing machine and laser processing machine

Номер патента: US20220379414A1. Автор: Thomas Haug. Владелец: Trumpf Werkzeugmaschinen SE and Co KG. Дата публикации: 2022-12-01.

Multi-degree of freedom laser processing device

Номер патента: EP3722043A1. Автор: Fusong Yuan,Peijun Lv. Владелец: Beijing University School of Stomatology. Дата публикации: 2020-10-14.

Laser processing method and laser processing apparatus

Номер патента: EP4400247A1. Автор: Keiichi Serizawa. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-17.

Suction device, laser processing machine, and method for suctioning

Номер патента: EP3826799A1. Автор: Thomas Seiler,Christian FLÜCKIGER. Владелец: BYSTRONIC LASER AG. Дата публикации: 2021-06-02.

Laser processing apparatus

Номер патента: US20070023691A1. Автор: Toshio Tsuchiya,Yukio Morishige,Koichi Takeyama,Hiroshi Morikazu. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2007-02-01.

Laser processing apparatus, laser processing method, manufacturing method of wiring substrate, manufacturing method of display apparatus and wiring substrate

Номер патента: US20080085413A1. Автор: Hideo Kawabe,Satoshi Tomioka,Kazuhito Shimoda,Ryo Koshiishi. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2008-04-10.

Laser processing device

Номер патента: US20210060706A1. Автор: Kazuhiro Yoshida,Yoshinao Komatsu,Akiko Inoue,Ryuichi Narita,Saneyuki Goya,Yasuyuki Fujiya. Владелец: Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Laser-processing apparatus with debris removal system and integrated beam dump and methods of operating the same

Номер патента: EP4244016A1. Автор: Zachary Dunn,Corie Neufeld,Jeremy Willey,Timothy Nuckolls. Владелец: Electro Scientific Industries Inc. Дата публикации: 2023-09-20.

Laser processing machine and laser processing method

Номер патента: US20240238896A1. Автор: Akihiko Sugiyama. Владелец: Amada Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Container body, laser processing apparatus, and laser processing method

Номер патента: EP4183587A1. Автор: Tetsuya Sonoda,Hiromichi Matsuda. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-24.

Suction Device, Laser Processing Machine, and Method for Suctioning

Номер патента: US20210260697A1. Автор: Thomas Seiler,Christian FLÜCKIGER. Владелец: BYSTRONIC LASER AG. Дата публикации: 2021-08-26.

Container body, laser processing apparatus, and laser processing method

Номер патента: US12083812B2. Автор: Tetsuya Sonoda,Hiromichi Matsuda. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Method for laser processing and laser processing system

Номер патента: US20240293891A1. Автор: Matthias Werner,Li Wen Chang,Tom Walde,Martin Hochberg. Владелец: Precitec GmbH and Co KG. Дата публикации: 2024-09-05.

Laser processing device and laser processing method

Номер патента: US20240307997A1. Автор: Akira Takeda,Hirotake Fukuoka. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2024-09-19.

Laser-processing apparatus, methods of operating the same, and methods of processing workpieces using the same

Номер патента: US20240293897A1. Автор: Mark Unrath,Patrick Riechel,Jake Roberts,Joseph Hasty. Владелец: Electro Scientific Industries Inc. Дата публикации: 2024-09-05.

Predictive cooling for a laser processing device

Номер патента: EP4431222A1. Автор: Manuel Wiedmann,Alexander Stocker. Владелец: Raylase GmbH. Дата публикации: 2024-09-18.

Multiple-beam laser processing using multiple laser beams with distinct wavelengths and/or pulse durations

Номер патента: US09956646B2. Автор: Marco Mendes,Jeffrey P. Sercel,Joshua Schoenly,Rouzbeh SARRAFI,Xiangyang Song,Roy Van Gemert,Cristian Porneala. Владелец: IPG Photonics Corp. Дата публикации: 2018-05-01.

Laser processing method and laser processing apparatus

Номер патента: US09919945B2. Автор: Shuichi Fujikawa,Tomotaka Katsura,Reona Hirayama. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2018-03-20.

Laser processing method and laser processing program creation device

Номер патента: US09849544B2. Автор: Takaaki OOTSU. Владелец: Amada Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-26.

Moving a laser processing head relative to a clamping claw

Номер патента: US09744622B2. Автор: Martin Huonker. Владелец: Trumpf Laser Gmbh. Дата публикации: 2017-08-29.

F-theta lens and laser processing device for far-infrared laser processing

Номер патента: US09739984B2. Автор: Bo Sun,Yunfeng Gao,Jiaying LI,Chaoming Zhou. Владелец: HAN'S CNC SCIENCE AND TECHNOLOGY CO LTD. Дата публикации: 2017-08-22.

Laser processing apparatus

Номер патента: US09643280B2. Автор: Arnold Gillner,Choong-ho Lee,Stephan Eifel,Jens Holtkamp,Alexander Gatej,Doh-Hyoung Lee,Sung-Sik Yun,Tong-Jin Park,Lasse Büsing,Nelli Hambach. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-09.

Laser processing device with a high speed vibration unit

Номер патента: US09616523B2. Автор: Chao-Yung YEH,Chen-Bin Chou. Владелец: METAL INDUSTRIES RESEARCH AND DEVELOPMENT CENTRE. Дата публикации: 2017-04-11.

Laser processing apparatus

Номер патента: US09592570B2. Автор: Arnold Gillner,Choong-ho Lee,Stephan Eifel,Jens Holtkamp,Alexander Gatej,Doh-Hyoung Lee,Sung-Sik Yun,Tong-Jin Park,Lasse Büsing,Nelli Hambach. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-14.

Laser processing method and apparatus

Номер патента: US09536551B2. Автор: Tadashi TOKIWA. Владелец: NHK Spring Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-03.

Predictive cooling for a laser processing device

Номер патента: WO2024189128A1. Автор: Manuel Wiedmann,Alexander Stocker. Владелец: Raylase GmbH. Дата публикации: 2024-09-19.

Laser processing system and method of same

Номер патента: US09423240B2. Автор: Chen-Han Lin. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-23.

Laser processing apparatus and laser processing method

Номер патента: US09415465B2. Автор: Koji Hirano,Hirofumi Imai. Владелец: Nippon Steel and Sumitomo Metal Corp. Дата публикации: 2016-08-16.

Method of forming anti-friction coating by the automated device of powder material supply in the laser processing area

Номер патента: RU2652335C1. Автор: Евгений Викторович Харанжевский,Алексей Геннадьевич Ипатов,Юлия Юрьевна Матвеева. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "ФторКОМ". Дата публикации: 2018-04-25.

Odor reduction in laser processed material with curl reduction

Номер патента: EP2846959A1. Автор: Brian LINDAHL,Daniel B. Miller,Christopher Chow. Владелец: Preco LLC. Дата публикации: 2015-03-18.

Laser processing device and nozzle inspection method

Номер патента: EP4230339A1. Автор: Kazuhiro Iwata. Владелец: Amada Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-23.

Laser processing method, laser processing apparatus, and output control device of laser processing apparatus

Номер патента: US20210229212A1. Автор: Masahiro Mori. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2021-07-29.

Laser processing equipment and method

Номер патента: US20230415280A1. Автор: Pi-cheng Tung,Chih-Kuang Lin,Jeng-Rong Ho. Владелец: National Central University. Дата публикации: 2023-12-28.

Laser Head Assembly For Laser Processing System

Номер патента: US20140285900A1. Автор: Yuri Grapov,Michael DiGiantommaso. Владелец: IPG Photonics Corp. Дата публикации: 2014-09-25.

Method of bessel beam laser processing for forming through glass vias

Номер патента: US20230227352A1. Автор: Schang-Jing Hon. Владелец: E & R Engineering Corp. Дата публикации: 2023-07-20.

Laser processing system

Номер патента: US20230211623A1. Автор: Naoki Yoshitake,Tadamasa Yokoi,Tatsunori SAKAMOTO,Kazumi Tsuchimichi,Yoshimitsu Ashihara. Владелец: Omron Corp. Дата публикации: 2023-07-06.

Laser processing device

Номер патента: CA3072154A1. Автор: Kazuhiro Yoshida,Yoshinao Komatsu,Akiko Inoue,Ryuichi Narita,Saneyuki Goya,Yasuyuki Fujiya. Владелец: Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2021-02-28.

Laser Processing Device

Номер патента: US20120181454A1. Автор: Makoto Kubota. Владелец: Keyence Corp. Дата публикации: 2012-07-19.

Laser processing head and laser processing device using same

Номер патента: US20190351507A1. Автор: Jingbo Wang,Yoshiaki Takenaka,Hitoshi Nishimura,Hideaki Yamaguchi,Ryo Ishikawa,Masatoshi Nishio,Makoto Ryudo,Doukei Nagayasu,Kiyotaka Eizumi. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-21.

Laser processing apparatus and processing method

Номер патента: US20240157476A1. Автор: Haruki Kamiyama,Toshiyuki Akishiba. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2024-05-16.

Laser processing apparatus, laser processing method, and method for processing a workpiece

Номер патента: US20220080526A1. Автор: Shinji KAMEDA. Владелец: Nichia Corp. Дата публикации: 2022-03-17.

Laser processing device

Номер патента: US8389963B2. Автор: Makoto Kubota. Владелец: Keyence Corp. Дата публикации: 2013-03-05.

Head assembly for a laser processing system

Номер патента: EP2760620A1. Автор: Yuri Grapov,Michael DiGiantommaso. Владелец: IPG Photonics Corp. Дата публикации: 2014-08-06.

Laser Processing Machines and Methods for Providing a Gas to the Beam Guide of a Laser Processing Machine

Номер патента: US20090120917A1. Автор: Reiner Koch,Gerhard Link,Jochen Bihler. Владелец: Trumpf Laser und Systemtechnik GmbH. Дата публикации: 2009-05-14.

Laser Processing Apparatus, Laser Processing Method, and Method for Manufacturing Semiconductor Apparatus

Номер патента: US20200061742A1. Автор: Keigo Fukunaga,Tamio Matsumura. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2020-02-27.

Protective film forming resin agent and laser processing method

Номер патента: US20180134905A1. Автор: Yohei Yamashita,Senichi Ryo,Yukinobu OHURA. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2018-05-17.

Laser processing system integrated with mbe device

Номер патента: US20240309544A1. Автор: Fang Dong,Cheng Lei,Sheng Liu,Yueyun Weng. Владелец: Wuhan University WHU. Дата публикации: 2024-09-19.

Laser processing apparatus and laser processing method

Номер патента: US12103110B2. Автор: TAKESHI SATOH,Atsushi Sakamoto,Masaru Futaana,Yusuke TAKEGAWA. Владелец: Via Mechanics Ltd. Дата публикации: 2024-10-01.

Laser processing system

Номер патента: US12109831B2. Автор: Naoki Yoshitake,Tadamasa Yokoi,Tatsunori SAKAMOTO,Kazumi Tsuchimichi,Yoshimitsu Ashihara. Владелец: Omron Corp. Дата публикации: 2024-10-08.

Method and apparatus for laser processing a complex pattern on a continuous roll

Номер патента: US09962791B2. Автор: Kevin Mitchell. Владелец: Preco LLC. Дата публикации: 2018-05-08.

Laser processing apparatus

Номер патента: US09700960B2. Автор: Jun-Hyung Kim,Gyoo-wan Han,Il-Young Jeong. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-11.

Work table for laser processing and method of operating the same

Номер патента: US20180154485A1. Автор: Gyoowan Han,Sungyong Lee,Jaeha Lim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-07.

Laser processing apparatus

Номер патента: US11766742B2. Автор: Kenichi Kakishita. Владелец: Prime Planet Energy and Solutions Inc. Дата публикации: 2023-09-26.

Laser processing machine

Номер патента: US12018239B2. Автор: Junichi Matsumoto,Toshiyuki Kanamori,Masami Suzuki,Norio Nishi,Kimio Sumaru. Владелец: Kataoka Corp. Дата публикации: 2024-06-25.

Laser processing apparatus and laser processing method

Номер патента: US20240139863A1. Автор: Yohei Kaneko,Hiroshi Morikazu,Kentaro Odanaka,Naotoshi Kirihara. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2024-05-02.

Laser processing head and laser processing device

Номер патента: EP3967441A1. Автор: Yasuhiro Takase,Akihiko Sugiyama,Chisato Udagawa. Владелец: Amada Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-16.

Sensing arrangement for monitoring contamination of cover slide on laser processing head

Номер патента: US12007336B2. Автор: Danny Chan. Владелец: II VI Delaware Inc. Дата публикации: 2024-06-11.

Laser processing method and apparatus

Номер патента: US20140011336A1. Автор: Chi Wah Cheng,Lap Kei Chow,Chi Hang Kwok. Владелец: Individual. Дата публикации: 2014-01-09.

Laser processing apparatus

Номер патента: WO2018168446A3. Автор: Tomomi Ishimi,Kazutaka Yamamoto. Владелец: RICOH COMPANY, LTD.. Дата публикации: 2018-10-25.

Laser processing apparatus

Номер патента: US20210031540A1. Автор: Tomomi Ishimi,Kazutaka Yamamoto. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2021-02-04.

Laser processing apparatus

Номер патента: WO2018168446A2. Автор: Tomomi Ishimi,Kazutaka Yamamoto. Владелец: RICOH COMPANY, LTD.. Дата публикации: 2018-09-20.

Laser processing apparatus

Номер патента: EP3595905A2. Автор: Tomomi Ishimi,Kazutaka Yamamoto. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2020-01-22.

Apparatus and method for controlling laser processing of a material

Номер патента: EP3426428A1. Автор: Stephen John Keen. Владелец: SPI LASERS UK LTD. Дата публикации: 2019-01-16.

Laser processing apparatus

Номер патента: US20220168843A1. Автор: Kenichi Kakishita. Владелец: Prime Planet Energy and Solutions Inc. Дата публикации: 2022-06-02.

Method and System for Laser Processing of Workpieces in Liquid

Номер патента: US20240238899A1. Автор: Alexander Kanitz,Jan Stefan Hoppius,Jannis Köhler,Alexander Igelmann. Владелец: Lidrotec GmbH. Дата публикации: 2024-07-18.

Laser Processing Head Comprising a Lens Interchange System

Номер патента: US20170057009A1. Автор: Dieter Burger,Dominik Vees. Владелец: Trumpf Werkzeugmaschinen SE and Co KG. Дата публикации: 2017-03-02.

Varifocal laser processing system and method based on variable light spot diffractive element

Номер патента: US11766741B2. Автор: Yong Chang,Bin Du. Владелец: Hsg Laser Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-26.

Laser processing head and laser processing device

Номер патента: US20230311246A1. Автор: Takahiro Ota,Akihisa Matsumoto,Keita NAGATOSHI. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Laser processing device for making metrological scale

Номер патента: US20210039196A1. Автор: Chun-Hao Li. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-02-11.

Laser processing device and laser processing method

Номер патента: US20240286219A1. Автор: Takeshi Imai,Yoshihiro Yamada,Yoshiaki Hirota,Hideyuki Hamamura,Dairi YAJIMA. Владелец: Nippon Steel Corp. Дата публикации: 2024-08-29.

Laser processing method

Номер патента: US11712757B2. Автор: Yasushi Ito,Kaori TATEISHI. Владелец: Via Mechanics Ltd. Дата публикации: 2023-08-01.

Laser processing apparatus and method

Номер патента: US20190383998A1. Автор: Jarno Kangastupa. Владелец: CORELASE OY. Дата публикации: 2019-12-19.

Laser processing method and laser processing apparatus using ultra-short pulse laser

Номер патента: EP1531962A1. Автор: Xinbing Liu,Chen-Hsiung Cheng,Yosuke Toyofuku,Yosuke Mizuyama. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2005-05-25.

Work table for laser processing and laser processing apparatus

Номер патента: US20240181577A1. Автор: Hyoung-Joo Kim,Jong-Hee Lim,Hak-Min Kim,Ilyoung Jeong,Yong Geun LEE,Eun Su Jun. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Highly positioned laser processing nozzle

Номер патента: US20240342830A1. Автор: Sanjay Garg,Aaron D. Brandt,Kenneth J. Woods,David J. Cook,Joe Ciambra,Marco Celeghin. Владелец: Hypertherm Inc. Дата публикации: 2024-10-17.

Clamping device for laser processing machine

Номер патента: EP4426510A1. Автор: Luca Fontana,Hisham Skayky,Davide Taroni. Владелец: BYSTRONIC LASER AG. Дата публикации: 2024-09-11.

Laser processing machine

Номер патента: US09937590B2. Автор: Thierry Perrin,David Broger,Ernest Imboden,Daniel Cathry,Tobias Bugmann. Владелец: BYSTRONIC LASER AG. Дата публикации: 2018-04-10.

Deposition mask production method and laser processing apparatus

Номер патента: US09802221B2. Автор: Michinobu Mizumura. Владелец: V Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Laser processing apparatus

Номер патента: US09656348B2. Автор: Masaru Nakamura. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2017-05-23.

Apparatus for laser processing a light guide plate and having constant light path distance of a laser beam

Номер патента: US09440309B2. Автор: Ho Yeon Lee,Hae Kwang Park. Владелец: LASERLIGHTING. Дата публикации: 2016-09-13.

Laser-processed grin lenses and optical interface devices and assemblies using same

Номер патента: US09435917B2. Автор: Pushkar Tandon,Davide Domenico Fortusini,Jeffery Alan DEMERITT. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2016-09-06.

Laser processing method

Номер патента: US09409256B2. Автор: Ryuji Sugiura. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2016-08-09.

Laser processing machine

Номер патента: US09358636B2. Автор: Ulrich Ritter,Gunther Krieg,Gerhard Hammann,Dirk Fey,Giovanni Sanfelici. Владелец: Trumpf Werkzeugmaschinen SE and Co KG. Дата публикации: 2016-06-07.

Method and device for control over laser processing of part and laser processing head with above described device

Номер патента: RU2529136C2. Автор: Инго ШТОРК ГЕНАННТ ВЕРСБОРГ. Владелец: Прецитек Итм Гмбх. Дата публикации: 2014-09-27.

Laser processing system having optical diffraction tomography function

Номер патента: US20230356324A1. Автор: TAO Yao,Baohua Jia. Владелец: Innofocus Photonics Technology Pty Ltd. Дата публикации: 2023-11-09.

Method and controller for controlling a laser processing process on a surface of a workpiece and processing system for processing a surface of a workpiece by means of a laser processing process

Номер патента: US20240033847A1. Автор: Christian Doering,André Kern,Nicolas Kroth,Jan LANGENBACH. Владелец: JENOPTIK Automatisierungstechnik GmbH. Дата публикации: 2024-02-01.

Laser processing control method and apparatus, and laser processing device and readable storage medium

Номер патента: EP3858535A1. Автор: Yuchao LIU. Владелец: Makeblock Co Ltd. Дата публикации: 2021-08-04.

Laser processing machine

Номер патента: EP4289545A1. Автор: Koichi Wake,Shuji Miyoshi,Akihiko Sugiyama,Hiroaki Ishiguro,Hirotada WAKUI. Владелец: Amada Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-13.

Laser processing apparatus

Номер патента: US20160318125A1. Автор: Atsushi Kawakita,Kohei Hisada. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2016-11-03.

Laser processing method and device

Номер патента: EP3693125A1. Автор: Kenji Masuda,Ryo Kobayashi,Hiroaki Ishiguro,Ryohei Ito,Yuya MIZOGUCHI. Владелец: Amada Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-08-12.

Mixing nozzle for a laser processing system

Номер патента: AU2022380686A1. Автор: Henry White,Takayuki Hirano,Kenneth J. Woods,Ryan CONROY,Brenda Melius. Владелец: MC Machinery Systems Inc. Дата публикации: 2024-05-16.

Laser processing device for forming vias

Номер патента: US20230228987A1. Автор: Schang-Jing Hon. Владелец: E&R ENGINEERING CORP. Дата публикации: 2023-07-20.

Laser-processing unit with observation device

Номер патента: US20020066721A1. Автор: Wolfgang Bauer,Thomas Renner,Lutz Langhans. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-06-06.

Laser processing apparatus

Номер патента: US20240181562A1. Автор: Kazuki Mori. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2024-06-06.

Laser processing apparatus and method of manufacturing the same

Номер патента: US20200086423A1. Автор: Kyongho HONG,Seokjoo Lee,Jinwon BAEK,Sangsun HAN. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2020-03-19.

Laser processing method and preform

Номер патента: US20230201967A1. Автор: Yoichi Ichikawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-06-29.

Laser processing device having an optical arrangement which comprises a beam splitter

Номер патента: US20220258280A1. Автор: Tobias Dyck. Владелец: 4Jet Microtech Gmbh. Дата публикации: 2022-08-18.

Apparatus and method for laser processing a material

Номер патента: US12030134B2. Автор: Christophe Andre CODEMARD,Malcolm Paul Varnham,Mikhail Nickolaos Zervas,Iain Botheroyd,Andrew Malinowski,Stephen John Keen. Владелец: Trumpf Laser UK Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Laser processing apparatus

Номер патента: US12050305B2. Автор: Hae Sook Lee,Emil Aslanov,Je Kil Ryu,Kyung Hoon Chung,Gyoo Wan HAN. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Laser processing apparatus

Номер патента: EP3096918A1. Автор: Atsushi Kawakita,Kohei Hisada. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2016-11-30.

Method of laser processing a liquid crystal device wafer

Номер патента: US7483115B2. Автор: Satoshi Kobayashi,Koichi Shigematsu,Kiyoshi Ohsuga. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2009-01-27.

Methods for laser processing transparent workpieces using radially variable laser beam focal columns

Номер патента: US20230339042A1. Автор: Craig John Mancusi UNGARO,Patrick Scott LESLIE. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2023-10-26.

Laser processing apparatus

Номер патента: US20240217029A1. Автор: Tsubasa Hirose. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

Laser processing method and preform

Номер патента: EP4209325A1. Автор: Yoichi Ichikawa. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-12.

Laser processing device having an optical arrangement comprising a beam splitter

Номер патента: CA3144721A1. Автор: Tobias Dyck. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-01-28.

Laser processing device having an optical arrangement which comprises a beam splitter

Номер патента: AU2020317998A1. Автор: Tobias Dyck. Владелец: 4Jet Microtech Gmbh. Дата публикации: 2022-02-10.

Laser processing

Номер патента: WO2019030522A2. Автор: Ian James THOMSON. Владелец: RENISHAW PLC. Дата публикации: 2019-02-14.

Laser processing

Номер патента: EP3664953A2. Автор: Ian James THOMSON. Владелец: RENISHAW PLC. Дата публикации: 2020-06-17.

Laser beam profiling system for use in laser processing systems

Номер патента: WO2022216991A1. Автор: Jacob HAY,Craig T. Walters,Stanley L. Ream. Владелец: EDISON WELDING INSTITUTE, INC.. Дата публикации: 2022-10-13.

Laser processing apparatus

Номер патента: US20230060484A1. Автор: Hisayuki Oguchi,Keiji Narumi. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-02.

Laser processing method and fine particle layer forming agent

Номер патента: US20140175070A1. Автор: Seiji Harada,Nobuyasu Kitahara,Daigo Shitabo,Yukinobu OHURA. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2014-06-26.

Mirror Arrangement of a Laser Processing System

Номер патента: US20090073587A1. Автор: Dieter Pfitzner. Владелец: Trumpf Werkzeugmaschinen SE and Co KG. Дата публикации: 2009-03-19.

Apparatus and method for laser processing a material

Номер патента: WO2019150071A4. Автор: Christophe Andre CODEMARD,Mikhail Nickolaos Zervas,Iain Botheroyd,Andrew Malinowski,Stephen John Keen,Malcom Paul Varnham. Владелец: SPI Lasers UK Limited. Дата публикации: 2019-09-26.

Apparatus and method for laser processing a material

Номер патента: EP3746256A1. Автор: Christophe Andre CODEMARD,Malcolm Paul Varnham,Mikhail Nickolaos Zervas,Iain Botheroyd,Andrew Malinowski,Stephen John Keen. Владелец: SPI LASERS UK LTD. Дата публикации: 2020-12-09.

Apparatus And Method For Laser Processing A Material

Номер патента: US20210031303A1. Автор: Christophe Andre CODEMARD,Malcolm Paul Varnham,Iain Botheroyd,Andrew Malinowski,Stephen John Keen,Mikhail Nickolaos Zarvas. Владелец: SPI LASERS UK LTD. Дата публикации: 2021-02-04.

Highly Positioned Laser Processing Nozzle

Номер патента: US20170334022A1. Автор: Sanjay Garg,Kenneth J. Woods,David J. Cook,Davide Orlandi,Joe Ciambra. Владелец: Hypertherm Inc. Дата публикации: 2017-11-23.

System For Moving An Optical Element In A Laser Processing System

Номер патента: US20240261895A1. Автор: Axel Heinrici,Rutger Wevers. Владелец: II VI Delaware Inc. Дата публикации: 2024-08-08.

Laser processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240253158A1. Автор: Tamio Matsumura,Ryo Kamoshida. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2024-08-01.

Water jet laser processing machine

Номер патента: US20220362884A1. Автор: Kenichi Yada. Владелец: Makino Milling Machine Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-17.

Systems and methods for laser processing system characterization and calibration

Номер патента: US12097558B2. Автор: Layton Seth Travis,Nicholas E. Buhr. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2024-09-24.

Laser processing apparatus

Номер патента: US20240316692A1. Автор: Nobuyuki Kimura. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Laser processing method and preform

Номер патента: US12097573B2. Автор: Yoichi Ichikawa. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-24.

Laser processing apparatus with mirror having different concave profiles

Номер патента: WO2010117286A1. Автор: Wojciech Depczyński,Kazimierz Bolanowski,Krzysztof Grysa. Владелец: POLITECHNIKA SWIETOKRZYSKA. Дата публикации: 2010-10-14.

Apparatus and method for laser processing a material

Номер патента: US20240342833A1. Автор: Mark Greenwood,Christophe Andre CODEMARD,Mikhail Nickolaos Zervas,Paul Martin HARRISON,Andrew Malinowski. Владелец: Trumpf Laser UK Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Laser processing apparatus with mirror having different concave profiles

Номер патента: EP2416921A1. Автор: Wojciech Depczyński,Kazimierz Bolanowski,Krzysztof Grysa. Владелец: POLITECHNIKA SWIETOKRZYSKA. Дата публикации: 2012-02-15.

Laser processing device for forming vias

Номер патента: US12130427B2. Автор: Schang-Jing Hon. Владелец: E&R ENGINEERING CORP. Дата публикации: 2024-10-29.

Laser processing system

Номер патента: US09889522B2. Автор: Wataru Takahashi,Yasushi Mukai,Yiheng KUNG. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-13.

Implantable medical device and method for laser processing

Номер патента: US09757572B2. Автор: Benjamin David Pless,Carl Lance Boling. Владелец: Autonomic Technologies Inc. Дата публикации: 2017-09-12.

Laser processing system and method of use

Номер патента: US09427824B2. Автор: Daniel B. Miller,James J. Bucklew,Jeffrey L. Kulibert,Thomas P. Gates. Владелец: Preco LLC. Дата публикации: 2016-08-30.

Laser processing apparatus

Номер патента: US09421643B2. Автор: Kentaro Odanaka,Tomoaki Endo. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2016-08-23.

Method of laser cutting and processing of clad steel plate, product obtained by laser cutting and processing, method of thermal cutting and processing, product obtained by thermal cutting and treatment, steel sheet with surface treatment, method of laser cutting and laser processing head

Номер патента: RU2724253C1. Автор: Масахито ИТО,Хидео ХАРА,Масанори УЕХАРА,Хироси АСАДА,Хирокадзу САСАКИ,Хироси ХОРИКАВА. Владелец: Ниссин Стил Ко., Лтд.. Дата публикации: 2020-06-22.

Method and device for control over laser processing of part and laser processing head with above described device

Номер патента: RU2529135C2. Автор: Инго ШТОРК ГЕНАННТ ВЕРСБОРГ. Владелец: Прецитек Итм Гмбх. Дата публикации: 2014-09-27.

Laser processing head with belt drive for moving optics

Номер патента: RU2661686C1. Автор: Георг ШПЕРЛ,Кристиан ЛОЗЕ. Владелец: Прецитек Гмбх Унд Ко. Кг. Дата публикации: 2018-07-19.

Active automated security system of a laser processing technological complex

Номер патента: RU2765549C1. Автор: Сергей Иванович Сухоруков. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Комсомольский-на-Амуре государственный университет" (ФГБОУ ВО "КнАГУ"). Дата публикации: 2022-02-01.

Method for laser processing of a metal material with control of the position of the optical axis of the laser relative to the shielding gas flow, including an installation and computer software for implementing the said method

Номер патента: RU2750781C2. Автор: СБЕТТИ Маурицио. Владелец: Адиге С.П.А.. Дата публикации: 2021-07-02.

Focusing apparatus for laser processing

Номер патента: RU2760443C1. Автор: Юрий Владимирович Сорокин,Владимир Юрьевич Федяков,Олег Станиславович Першин,Светлана Леонидовна Кислова. Владелец: Общество с Ограниченной Ответственностью Научно Исследовательский Центр «Астрофизика». Дата публикации: 2021-11-25.

Device for electrolytic etching and dissolution and a method for extracting particles of a metallic compound

Номер патента: RU2698004C1. Автор: Кадзуми МИДЗУКАМИ. Владелец: Ниппон Стил Корпорейшн. Дата публикации: 2019-08-21.

Combined installation of etching and rolling of strip metal

Номер патента: RU2664075C1. Автор: Лучиано ВИНЬОЛО,Клаудио СЕПУЛВЕРЕС,Андреа ЧЕРЕТТИ. Владелец: ДАНИЕЛИ И К° ОФФИЧИНЕ МЕККАНИКЕ С.п.А.. Дата публикации: 2018-08-14.

Processing device and processing method for etching and phosphating of metal parts

Номер патента: RU2691443C2. Автор: Йоахим ШЕНБЕРГ. Владелец: Рио Фервальтунгс Аг. Дата публикации: 2019-06-13.

Laser processing head and method for processing a workpiece by means of a laser beam

Номер патента: CA2792322C. Автор: Bert Schuermann. Владелец: Precitec GmbH and Co KG. Дата публикации: 2016-06-28.

Laser processing machine

Номер патента: US7449659B2. Автор: Andreas Kettner-Reich. Владелец: Trumpf Laser und Systemtechnik GmbH. Дата публикации: 2008-11-11.

Laser processing unit and processing apparatus comprising laser processing unit

Номер патента: US6818858B2. Автор: Masato Fukushima,Hisashi Yasoda. Владелец: UHT Corp. Дата публикации: 2004-11-16.

Laser processing apparatus and processing method

Номер патента: EP3922399A2. Автор: Naoki Yoshitake,Tadamasa Yokoi,Tatsunori SAKAMOTO,Kazumi Tsuchimichi,Yoshimitsu Ashihara. Владелец: Omron Tateisi Electronics Co. Дата публикации: 2021-12-15.

Laser processing system

Номер патента: US11951562B2. Автор: Yohei Kobayashi,Shuntaro TANI,Yutsuki AOYAGI. Владелец: University of Tokyo NUC. Дата публикации: 2024-04-09.

An automatic landing method, system, and storage medium for laser processing

Номер патента: US20230106674A1. Автор: Han Lin,Baohua Jia,Jinchuan Zheng. Владелец: Innofocus Photonics Technology Pty Ltd. Дата публикации: 2023-04-06.

Laser processing apparatus

Номер патента: US20230415263A1. Автор: Hiroshi Morikazu. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2023-12-28.

Laser processing method

Номер патента: US20230302572A1. Автор: Tetsuya Imai,Yoshinori Ogawa,Takeshi Jin. Владелец: Sodick Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Laser processing device and laser processing system

Номер патента: US20190212449A1. Автор: Yoshinori Murakami. Владелец: FANUC Corp. Дата публикации: 2019-07-11.

Laser processing method and laser processing apparatus

Номер патента: CA2921212C. Автор: Toshiya Watanabe,Atsushi Takita,Takashi Ishide,Minoru Danno,Saneyuki Goya,Masato Kinouchi. Владелец: Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2020-08-18.

Processing data creation method, laser processing method, processing data creation system, processing system, processing data creation program, and processing program

Номер патента: US20200110384A1. Автор: Toshio Maeda,Makoto Yoshida,Jun Ueda. Владелец: Roland DG Corp. Дата публикации: 2020-04-09.

Laser processing device and method for processing a workpiece

Номер патента: US11852891B2. Автор: HUNG-WEN Chen,Ren-Feng DING,Shih-Yung Chiu,Shu-Han WU,Keng-Ning CHANG. Владелец: Delta Electronics Inc. Дата публикации: 2023-12-26.

Process Monitor for Laser Processing Head

Номер патента: US20240091883A1. Автор: Danny Chan. Владелец: II VI Delaware Inc. Дата публикации: 2024-03-21.

Laser processing system and method

Номер патента: US11772203B2. Автор: Seong Ho Bae. Владелец: NPS Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Control method of laser processing, laser processing apparatus, and non-transitory computer readable storage medium

Номер патента: US20210237205A1. Автор: Yuchao LIU. Владелец: Makeblock Co Ltd. Дата публикации: 2021-08-05.

Laser processing apparatus, laser processing method, and correction data generation method

Номер патента: US11975403B2. Автор: Jun Yokoyama,Yohei Takechi. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-07.

Laser-processed material conveying device

Номер патента: US20240109153A1. Автор: Keikichi INO. Владелец: Higoichi Corp. Дата публикации: 2024-04-04.

Laser processing apparatus and laser processing method

Номер патента: US11969823B2. Автор: Jun Yokoyama,Yohei Takechi. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-30.

Laser processing apparatus and laser processing method

Номер патента: US11980971B2. Автор: Yuki Saeki. Владелец: Via Mechanics Ltd. Дата публикации: 2024-05-14.

Laser processing apparatus facilitating directed inspection of laser-processed workpieces and methods of operating the same

Номер патента: EP4149715A1. Автор: Patrick Riechel,Jake Roberts. Владелец: Electro Scientific Industries Inc. Дата публикации: 2023-03-22.

System and method for remote controlled actuation of laser processing head

Номер патента: US20080116184A1. Автор: Richard Lee,Scott Swartzinski,William Fredrick,Mike Delbusso. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-05-22.

Laser processing machine

Номер патента: US20190009374A1. Автор: Thomas Haeberle,Karsten Ruetz,Philipp Matt,Florian Jarsch. Владелец: Trumpf Werkzeugmaschinen SE and Co KG. Дата публикации: 2019-01-10.

Laser processing machine and processing method

Номер патента: US20230095329A1. Автор: Takehiko Shigefuji,Yuya MIZOGUCHI,Hitomi KAMEI. Владелец: Amada Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

System and method for remote controlled actuation of laser processing head

Номер патента: EP1725368A2. Автор: Richard Lee,Scott Swartzinski,William G. Fredrick,Mike Delbusso. Владелец: Laser Mechanisms Inc. Дата публикации: 2006-11-29.

Odor reduction in laser processed material with curl reduction

Номер патента: US20130299492A1. Автор: Brian LINDAHL,Daniel B. Miller,Christopher Chow. Владелец: Preco LLC. Дата публикации: 2013-11-14.

Laser processing machine, in particular laser cutting machine, with a spark protection device

Номер патента: WO2023242174A1. Автор: Lino Giovanoli,Christian FLÜCKIGER. Владелец: BYSTRONIC LASER AG. Дата публикации: 2023-12-21.

Method for laser processing of metal material with control of transversal distribution of laser beam power in the working plane, including installation and computer software for method implementation

Номер патента: RU2746317C2. Автор: Мауризио СБЕТТИ. Владелец: Адиге С.П.А.. Дата публикации: 2021-04-12.

Laser processing robot system with a scanning head and a rapid movable support mechanism ; Method for controlling the same

Номер патента: EP1661657A1. Автор: Kazuhisa FANUC Manshonharimomi Otsuka,Yoshitake FANUC Manshonharimomi Furuya. Владелец: FANUC Corp. Дата публикации: 2006-05-31.

Method and apparatus for laser processing

Номер патента: EP3045257A3. Автор: Markus Zimmermann,Beat Jäggi. Владелец: Berner Fachhochschule Wissens- und Technologietransfer (WTT). Дата публикации: 2016-11-23.

Laser processing device

Номер патента: EP1806201A1. Автор: Hirotaka Yawatayama Kojo SANGO CO. LTD. SAKAI,Tetsuya Yawatayama Kojo SANGO CO. LTD. WATABE,Hidenori Yawatayama Kojo SANGO CO. LTD. NAKANO. Владелец: Sango Co Ltd. Дата публикации: 2007-07-11.

Laser processing system

Номер патента: CA1210459A. Автор: Akira Tsutsumi. Владелец: Amada Engineering and Service Co Inc. Дата публикации: 1986-08-26.

Method Of and System For Setting Laser Processing Conditions, Laser Processing System, Computer Program For Setting Laser Processing Conditions, Computer Readable Medium and Recording Device On Which Laser Processing Conditions Are Recorded

Номер патента: US20080011854A1. Автор: Mamoru Idaka. Владелец: Keyence Corp. Дата публикации: 2008-01-17.

Laser processing device

Номер патента: US20230330773A1. Автор: Marc Hüske,Anas Moalem,Steffen Gerd Josef Scholtes,Marc Holers. Владелец: 4Jet Microtech Gmbh. Дата публикации: 2023-10-19.

Laser processing device and processed article manufacturing method

Номер патента: US20230398638A1. Автор: Hideo Ichihashi,Keita Mizuma,Shun Hirano,Takeshi Yachiguchi,Hikaru Kimura. Владелец: Towa Corp. Дата публикации: 2023-12-14.

Laser processing device, control method, storage medium, and product manufacturing method

Номер патента: US20230226641A1. Автор: Hiroyuki Morimoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-07-20.

Measuring module with adjustable path length difference for laser processing apparatus

Номер патента: EP4296612A1. Автор: Reza Ghadimi. Владелец: Raylase GmbH. Дата публикации: 2023-12-27.

Laser processing machine with fluid flow nozzle cleaning device

Номер патента: US11858066B2. Автор: Heinz Oberholzer,Matthias Wüthrich. Владелец: BYSTRONIC LASER AG. Дата публикации: 2024-01-02.

Laser processing apparatus, laser processing system, and laser processing method

Номер патента: US20240058894A1. Автор: Masakazu Kobayashi,Osamu Wakabayashi,Akira SUWA,Masashi SHIMBORI. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-02-22.

Laser processing apparatus, laser processing system, and laser processing method

Номер патента: US11826852B2. Автор: Masakazu Kobayashi,Osamu Wakabayashi,Akira SUWA,Masashi SHIMBORI. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-11-28.

Laser processing head and laser processing system using same

Номер патента: US11904406B2. Автор: Takayuki Yamashita,Hideaki Yamaguchi,Ryo Ishikawa,Naoya Kato,Kenji Hoshino,Doukei Nagayasu,Shinya Domoto,Kiyotaka Eizumi. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-20.

Laser processing device and laser processing method

Номер патента: US20210053150A1. Автор: Yoshihiro Kawaguchi,Hirotoshi Mori,Hayato TANOUE,Kazuya HISANO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-02-25.

Method for laser-processing a surface and laser processing system

Номер патента: CA3090338A1. Автор: Alex Fraser,Michael Dallaire,Xavier PRUNEAU GODMAIRE. Владелец: Laserax Inc. Дата публикации: 2019-08-15.

Method for laser-processing a surface and laser processing system

Номер патента: EP3749479A1. Автор: Alex Fraser,Michael Dallaire,Xavier PRUNEAU GODMAIRE. Владелец: Laserax Inc. Дата публикации: 2020-12-16.

A machine for laser processing an object, a safety device for a guard for protecting a machine for processing and/or scanning an object and a method for viewing a work area in a machine for processing and/or laser scanning an object

Номер патента: EP4219061A1. Автор: Marco CAREGARO NEGRIN. Владелец: Sisma Spa. Дата публикации: 2023-08-02.

Laser processing apparatus

Номер патента: US20230398630A1. Автор: Hiroshi Morikazu. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2023-12-14.

Laser processing apparatus and laser processing method

Номер патента: US20230201958A1. Автор: Takanori Miyazaki,Daisuke Kashiba. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2023-06-29.

Method and machine for a laser processing

Номер патента: WO2024089597A1. Автор: Mara Tanelli,Sergio Matteo Savaresi,Barbara Previtali,Davide GANDOLFI,Matteo PACHER,Valentina FINAZZI,Fabio PICCOLI,Giulio DELAMA. Владелец: Adige S.p.A.. Дата публикации: 2024-05-02.

Laser-processing apparatus with debris removal system and integrated beam dump and methods of operating the same

Номер патента: US20230415264A1. Автор: Zachary Dunn,Corie Neufeld,Jeremy Willey,Timothy Nuckolls. Владелец: Electro Scientific Industries Inc. Дата публикации: 2023-12-28.

Method of adjusting laser processing apparatus

Номер патента: US11969824B2. Автор: Kazuhiko Ida,Tetsuya Mizutani,Junya MIMURA. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2024-04-30.

Method for laser-processing a surface and laser processing system

Номер патента: US20210220944A1. Автор: Alex Fraser,Michael Dallaire,Xavier PRUNEAU GODMAIRE. Владелец: Laserax Inc. Дата публикации: 2021-07-22.

Laser processing system and laser processing method

Номер патента: US20200061738A1. Автор: Takashi Izumi. Владелец: FANUC Corp. Дата публикации: 2020-02-27.

Laser-processing apparatus, methods of operating the same, and methods of processing workpieces using the same

Номер патента: US20240131622A1. Автор: Mark Unrath,Mark Kosmowski,Corie Neufeld. Владелец: Electro Scientific Industries Inc. Дата публикации: 2024-04-25.

Laser-processing apparatus, methods of operating the same, and methods of processing workpieces using the same

Номер патента: EP4301541A1. Автор: Mark Unrath,Mark Kosmowski,Corie Neufeld. Владелец: Electro Scientific Industries Inc. Дата публикации: 2024-01-10.

Laser processing device and laser processing system

Номер патента: EP4059653A2. Автор: Yoshihiro Yoshida,Katsuya Kazama,Jun YAGAWA,Takuji ISHIGE. Владелец: Yaskawa Electric Corp. Дата публикации: 2022-09-21.

Laser processing device and laser processing system

Номер патента: EP4059653A3. Автор: Yoshihiro Yoshida,Katsuya Kazama,Jun YAGAWA,Takuji ISHIGE. Владелец: Yaskawa Electric Corp. Дата публикации: 2022-12-21.

Laser processing device and evaluation method

Номер патента: US20230364704A1. Автор: Takashi Motoyoshi,Ryuta MATSUO. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2023-11-16.

Laser processing machine and laser processing method

Номер патента: US20240173802A1. Автор: Akihiko Sugiyama. Владелец: Amada Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Laser processing apparatus capable of retracting processing nozzle upon power failure

Номер патента: US20180339366A1. Автор: Hiroaki Tokito. Владелец: FANUC Corp. Дата публикации: 2018-11-29.

Method for carrying out a system test of a laser processing system, control unit and laser processing system

Номер патента: US20240180747A1. Автор: Mark Bischoff,Gregor Stobrawa,Wolf Weimer. Владелец: CARL ZEISS MEDITEC AG. Дата публикации: 2024-06-06.

Laser processing method and laser processing apparatus

Номер патента: US20240173805A1. Автор: Keiichi Serizawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-05-30.

Laser processing device, and laser processing method

Номер патента: US20220355413A1. Автор: Takeshi Sakamoto,Takafumi Ogiwara. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2022-11-10.

Laser processing device, and laser processing method

Номер патента: US20220331902A1. Автор: Yasunori Igasaki,Takafumi Ogiwara. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2022-10-20.

Laser processing system

Номер патента: US20230302571A1. Автор: HUNG-WEN Chen. Владелец: National Tsing Hua University NTHU. Дата публикации: 2023-09-28.

Methods for characterizing a laser beam of a laser processing system, diaphragm assembly and laser processing system

Номер патента: US12016798B2. Автор: Martin Hacker,Gerard Antkowiak,Christian Deutsch. Владелец: CARL ZEISS MEDITEC AG. Дата публикации: 2024-06-25.

Method of and machine for a laser processing with roughness estimation

Номер патента: WO2024089476A1. Автор: Mara Tanelli,Sergio Matteo Savaresi,Barbara Previtali,Davide GANDOLFI,Matteo PACHER,Valentina FINAZZI,Fabio PICCOLI,Giulio DELAMA. Владелец: Adige S.p.A.. Дата публикации: 2024-05-02.

Laser-processing apparatus, methods of operating the same, and methods of processing workpieces using the same

Номер патента: US12011785B2. Автор: Zachary Dunn,James Brookhyser,Christopher Hamner. Владелец: Electro Scientific Industries Inc. Дата публикации: 2024-06-18.

F-theta lens and laser processing device for far-infrared laser processing

Номер патента: US20150293333A1. Автор: Bo Sun,Yunfeng Gao,Jiaying LI,Chaoming Zhou. Владелец: Han s Laser Technology Co Ltd. Дата публикации: 2015-10-15.

Laser-etching and machine-vision positioning system

Номер патента: AU2020204074A1. Автор: Tyler Emerson Berkey,John Eric Miller,James Alan Aske. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2021-03-25.

SUPERHYDROPHILIC THICK-FILM pH SENSOR BASED ON CHEMICAL ETCHING, AND PREPARATION METHOD THEREOF

Номер патента: US20240264108A1. Автор: CHENG Chen,Xiliang Zhang,Yalei Zhang,Tianyu MAO,Xiaoqing SU. Владелец: Jiangsu University. Дата публикации: 2024-08-08.

Preparation tray for improved etching and bonding of a tooth surface prior to the placement of a tooth attachment or a bracket

Номер патента: US20240252287A1. Автор: Carl J. Metz. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-08-01.

Superhydrophilic thick-film pH sensor based on chemical etching, and preparation method thereof

Номер патента: US12099029B2. Автор: CHENG Chen,Xiliang Zhang,Yalei Zhang,Tianyu MAO,Xiaoqing SU. Владелец: Jiangsu University. Дата публикации: 2024-09-24.

Method of laser processing of transparent brittle material and device for its implementation

Номер патента: RU2720791C1. Автор: Николай Николаевич Евтихиев,Тимур Алекперович Алиев,Михаил Олегович Каптаков,Иван Владимирович Обронов. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "НАУЧНО-ТЕХНИЧЕСКОЕ ОБЪЕДИНЕНИЕ "ИРЭ-Полюс" (ООО НТО "ИРЭ-Полюс"). Дата публикации: 2020-05-13.

Laser processing method and laser processing apparatus

Номер патента: US20060109874A1. Автор: Manabu Shiozaki,Keiji Fuse,Kenichi Watatani. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2006-05-25.

Method for laser processing of ductile tool from zirconium dioxide ceramics

Номер патента: RU2612182C1. Автор: Валерий Викторович Кузин,Михаил Юрьевич Федоров,Сергей Юрьевич Федоров,Михаил Ростиславович Портной. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский государственный технологический университет "СТАНКИН" (ФГБОУ ВО "МГТУ "СТАНКИН"). Дата публикации: 2017-03-02.

Laser processing head

Номер патента: US20070012669A1. Автор: Atsushi Mori,Ryoma Okazaki. Владелец: FANUC Corp. Дата публикации: 2007-01-18.

Laser process monitoring and evaluation

Номер патента: US5283416A. Автор: Bryan W. Shirk. Владелец: TRW Inc. Дата публикации: 1994-02-01.

Laser processing device, laser processing system, and laser processing method

Номер патента: US20220266380A1. Автор: Yoshihiro Yoshida,Katsuya Kazama,Jun YAGAWA,Takuji ISHIGE. Владелец: Yaskawa Electric Corp. Дата публикации: 2022-08-25.

Method of and apparatus for supplying cooling water to laser processing head and method of producing cooling water

Номер патента: US11878370B2. Автор: Jun Iwasaki. Владелец: Amada Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-23.

Multifunctional laser processing apparatus

Номер патента: US20200180070A1. Автор: Hsiang-Pin Wang,Yu-Ting Lyu,Po-Chi HU,Chao-Yung YEH. Владелец: METAL INDUSTRIES RESEARCH AND DEVELOPMENT CENTRE. Дата публикации: 2020-06-11.

Laser processing method and laser processing device

Номер патента: US20230330774A1. Автор: Takashi Kurita,Ryo Yoshimura,Takeshi Watari,Yuki KABEYA. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2023-10-19.

Laser processing method

Номер патента: US20230321755A1. Автор: Shinichi Kaga,Takahiro Yagi,Yujiro Watanabe,Takehisa Okuda. Владелец: Primetals Technologies Japan Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Laser processing apparatus and laser processing method

Номер патента: US11717917B2. Автор: Takashi Kobayashi,Kenji Sugai,Kenichi Fukami,Naruhiko Okubo,Seiichi Kouketsu. Владелец: Honda Motor Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-08.

Laser processing apparatus and laser processing method

Номер патента: US20210299793A1. Автор: Takashi Kobayashi,Kenji Sugai,Kenichi Fukami,Naruhiko Okubo,Seiichi Kouketsu. Владелец: Honda Motor Co Ltd. Дата публикации: 2021-09-30.

Laser processing device and laser processing method

Номер патента: US20180339363A1. Автор: Dong Jun Lee,Dong Won Hyun,Byung Oh Kim. Владелец: EO Technics Co Ltd. Дата публикации: 2018-11-29.

Method and apparatus for laser processing a complex pattern on a continuous roll

Номер патента: US20150217407A1. Автор: Kevin Mitchell. Владелец: Preco LLC. Дата публикации: 2015-08-06.

Method for integrally forming graphene film (GF) of high specific surface area (SSA) by ultrafast ultraviolet (UV) laser processing

Номер патента: US11845663B2. Автор: Jian Gao,Xin Chen,Yun Chen,Kyoung-Sik Moon,Ching-Ping Wong,Dachuang SHI,Huilong LIU,Yixin ZHENG. Владелец: GUANGDONG UNIVERSITY OF TECHNOLOGY. Дата публикации: 2023-12-19.

Laser processing method, and laser processing device

Номер патента: EP4046742A1. Автор: Masahiko Shimizu,Hiroki Mori,Akiko Inoue,Akihisa Okuda,Ryuichi Narita,Saneyuki Goya,Ryota Ozaki. Владелец: Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2022-08-24.

Laser processing apparatus and laser processing method

Номер патента: US20230150066A1. Автор: Kazunori Watanabe,Hiroyuki Tanabe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-05-18.

Teaching device and teaching method for teaching operation of laser processing device

Номер патента: US20240091879A1. Автор: Youhei Suzuki. Владелец: FANUC Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

Measuring module with adjustable path length difference for laser processing apparatus

Номер патента: WO2023247605A1. Автор: Reza Ghadimi. Владелец: Raylase GmbH. Дата публикации: 2023-12-28.

Adaptive optic beamshaping in laser processing systems

Номер патента: WO2010030575A2. Автор: Mark A. Unrath,Peter Pirogovsky,Leo Baldwin. Владелец: ELECTRO SCIENTIFIC INDUSTRIES, INC.. Дата публикации: 2010-03-18.

Method and apparatus for the laser processing of a workpiece

Номер патента: US20240109150A1. Автор: Jonas Kleiner,Daniel Flamm,Tim Hesse. Владелец: Trumpf Laser und Systemtechnik GmbH. Дата публикации: 2024-04-04.

Method for integrally forming graphene film (gf) of high specific surface area (ssa) by ultrafast ultraviolet (uv) laser processing

Номер патента: US20230357016A1. Автор: Jian Gao,Xin Chen,Yun Chen,Kyoung-Sik Moon,Ching-Ping Wong,Dachuang SHI,Huilong LIU,Yixin ZHENG. Владелец: GUANGDONG UNIVERSITY OF TECHNOLOGY. Дата публикации: 2023-11-09.

Laser processing method and laser processing device

Номер патента: EP4197688A1. Автор: Takashi Kurita,Ryo Yoshimura,Takeshi Watari,Yuki KABEYA. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2023-06-21.

Laser processing apparatus and laser processing method

Номер патента: US20240123546A1. Автор: Yohei Kaneko,Hiroshi Morikazu,Kentaro Odanaka,Naotoshi Kirihara. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2024-04-18.

Laser Processing Apparatus

Номер патента: US20220023972A1. Автор: Junichi Kuki,Shungo Yoshii,Kana Aida. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2022-01-27.

Laser processing device, laser processing method, and transmission inhibition liquid

Номер патента: US20230191538A1. Автор: Yoshihiro Yamaguchi,Shigeru Nozaki,Keita Kondou,Kyohei Okamoto,Nobuhiro Takata. Владелец: Komatsu Industries Corp. Дата публикации: 2023-06-22.

Laser processing apparatus

Номер патента: US20240066631A1. Автор: Hiroki Nishioka. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2024-02-29.

Laser processing machine with at least one sensor on a movable part of the machine

Номер патента: WO2013158052A1. Автор: Tayfun SIĞIRTMAÇ. Владелец: Coşkunöz Metalform Maki̇ne Endüstri̇ Ve Ti̇caret A.Ş.. Дата публикации: 2013-10-24.

Coolant supply system for laser processing head and method for supplying coolant to laser processing head

Номер патента: US20200180074A1. Автор: Jun Iwasaki. Владелец: Amada Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-06-11.

Laser processing apparatus

Номер патента: US20180169978A1. Автор: Shunsuke Yajima. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-21.

Method for laser processing cutting inserts made of oxide-carbide ceramics

Номер патента: RU2621245C1. Автор: Валерий Викторович Кузин,Михаил Юрьевич Федоров,Евгений Анатольевич Остриков,Сергей Юрьевич Федоров,Михаил Ростиславович Портной,Николай Ростиславович Портной. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский государственный технологический университет "СТАНКИН" (ФГБОУ ВО "МГТУ "СТАНКИН"). Дата публикации: 2017-06-01.

Monocrystal of garnet-type structure, optical insulator and device for laser processing

Номер патента: RU2536970C2. Автор: Цубаса ХАТАНАКА,Акихару ФУНАКИ,Кийоси СИМАМУРА,Виллора Энкарнасион Антония ГАРСИА. Владелец: Нэшнл Инститьют Фор Матириалз Сайенс. Дата публикации: 2014-12-27.

Laser processing method

Номер патента: US5670069A. Автор: Yuji Uesugi,Toshiharu Okada,Izuru Nakai. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1997-09-23.

Underwater laser processing method and apparatus

Номер патента: US5790620A. Автор: Yuji Sano,Arata Ito,Chikara Konagai,Nobutada Aoki,Kouki Okazaki,Naruhiko Mukai,Muneyoshi Kikunaga. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1998-08-04.

An apparatus for laser processing an eye

Номер патента: CA2963020A1. Автор: Peter Riedel,Mario Abraham,Sissimos Lemonis. Владелец: NOVARTIS AG. Дата публикации: 2016-05-26.

Laser processing apparatus, mask for laser processing, and method for making the mask

Номер патента: US6906282B2. Автор: Shiro Hamada. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2005-06-14.

An apparatus for laser processing an eye

Номер патента: CA2963020C. Автор: Peter Riedel,Mario Abraham,Sissimos Lemonis. Владелец: NOVARTIS AG. Дата публикации: 2019-09-10.

Highly positioned laser processing nozzle

Номер патента: US11850681B2. Автор: Sanjay Garg,Aaron D. Brandt,Kenneth J. Woods,David J. Cook,Joe Ciambra,Marco Celeghin. Владелец: Hypertherm Inc. Дата публикации: 2023-12-26.

Laser processing system and control method

Номер патента: US20230381890A1. Автор: Atsushi Mori. Владелец: FANUC Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Clamping device for laser processing machine

Номер патента: WO2023156292A1. Автор: Luca Fontana,Hisham Skayky,Davide Taroni. Владелец: BYSTRONIC LASER AG. Дата публикации: 2023-08-24.

Clamping device for laser processing machine

Номер патента: EP4230340A1. Автор: Luca Fontana,Hisham Skayky,Davide Taroni. Владелец: BYSTRONIC LASER AG. Дата публикации: 2023-08-23.

Laser processing machine

Номер патента: US20240042546A1. Автор: Masaru Yoshida,Akihiro Ueno,Junji Miyata,Kazuki Kuba,Toshinobu Eguchi. Владелец: Tada Electric Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Laser processing apparatus and method

Номер патента: EP3551372A1. Автор: Jarno Kangastupa. Владелец: CORELASE OY. Дата публикации: 2019-10-16.

Laser processing method

Номер патента: US20180318965A1. Автор: Yasushi Ito,Kaori TATEISHI. Владелец: Via Mechanics Ltd. Дата публикации: 2018-11-08.

Drilling device with controllable femtosecond laser processing taper and drilling process thereof

Номер патента: US11865643B2. Автор: Yao Xue,Xiaogang Li,Rong Zhong,Guang Feng,Fengping LI,Guang Ma,Dehua Zhu,Jihong PANG,Liqu LIN,Chengji LU. Владелец: Lyncwell Innovation Intelligent System (zhejiang) Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-09.

Laser processing machine and method of correcting spot diameter of laser processing machine

Номер патента: US20230364718A1. Автор: Takashi Motoyoshi,Ryuta MATSUO. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2023-11-16.

Laser processing system and control method

Номер патента: US20230381889A1. Автор: Atsushi Mori. Владелец: FANUC Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Laser processing device

Номер патента: US11872655B2. Автор: Junji Okuma. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2024-01-16.

Laser processing device and laser processing method

Номер патента: EP4353397A1. Автор: Takeshi Imai,Yoshihiro Yamada,Yoshiaki Hirota,Hideyuki Hamamura,Dairi YAJIMA. Владелец: Nippon Steel Corp. Дата публикации: 2024-04-17.

Laser processing system and control method

Номер патента: US20230356326A1. Автор: Atsushi Mori. Владелец: FANUC Corp. Дата публикации: 2023-11-09.

Laser processing head and laser processing system

Номер патента: EP4316724A1. Автор: Wataru Takahashi,Hisayuki Oguchi. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-07.

Laser processing machine and laser processing method

Номер патента: US20240123543A1. Автор: Ryohei Ito. Владелец: Amada Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-18.

Laser-processed grin lenses and optical interface devices and assemblies using same

Номер патента: US20120321249A1. Автор: Pushkar Tandon,Davide Domenico Fortusini,Jeffery Alan DEMERITT. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2012-12-20.

Vacuum laser processing device

Номер патента: EP4321292A1. Автор: Kenji Kawasaki,Takehisa Okuda,Naoki Suda,Tomoharu TAMARU. Владелец: Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2024-02-14.

Laser processing method using ultra-short pulse laser beam

Номер патента: EP1494870A2. Автор: Yosuke Toyofuku,Yosuke Mizuyama. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2005-01-12.

Housing for a laser processing machine and laser processing machine having a housing

Номер патента: ZA202213000B. Автор: Andrea Colombo,Giovanni Riva,Roberto GEMIGNANI,Andrea Crosato,Davide Raffaelli,Corrado Cattaneo. Владелец: BLM SpA. Дата публикации: 2023-11-29.

Nozzle unit for laser processing

Номер патента: US20200269350A1. Автор: Won Jae Lee,Hyo Sang Kim,Hyun Woo YANG. Владелец: HK CO Ltd. Дата публикации: 2020-08-27.

Laser processing device

Номер патента: US20240157470A1. Автор: Takeshi Yamamura,Keisuke Hayashi,Etsushi Kato. Владелец: Kataoka Corp. Дата публикации: 2024-05-16.

Housing for a Laser Processing Machine and Laser Processing Machine Having a Housing

Номер патента: US20230173618A1. Автор: Andrea Colombo,Giovanni Riva,Roberto GEMIGNANI,Andrea Crosato,Davide Raffaelli,Corrado Cattaneo. Владелец: BLM SpA. Дата публикации: 2023-06-08.

Ultraviolet laser zoom beam expanding system and laser processing equipment

Номер патента: US20150192778A1. Автор: Bo Sun,Yunfeng Gao,Yuqing Chen,Jiaying LI,Chaoming Zhou. Владелец: HAN'S CNC SCIENCE AND TECHNOLOGY CO LTD. Дата публикации: 2015-07-09.

Laser processing device

Номер патента: EP4265363A1. Автор: Tetsuya Imai,Takeshi Jin. Владелец: Sodick Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-25.

Laser processing device

Номер патента: US20230302579A1. Автор: Tetsuya Imai,Takeshi Jin. Владелец: Sodick Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Bridge for a laser processing machine

Номер патента: WO2024083561A1. Автор: Christian Kähr,Peter SCHMUTZ,Fabian Bürgi. Владелец: BYSTRONIC LASER AG. Дата публикации: 2024-04-25.

Laser processing head and laser processing system

Номер патента: US20230415261A1. Автор: Wataru Takahashi,Hisayuki Oguchi. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Laser processing machine and laser processing method

Номер патента: US20200122274A1. Автор: Takaaki Yamanashi,Kouji Funaki,Dennis Pohle. Владелец: Amada Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-23.

Method and laser processing apparatus for producing a bipolar plate

Номер патента: US20240082953A1. Автор: Martin Stambke,Jan-Patrick Hermani. Владелец: Trumpf Laser Gmbh. Дата публикации: 2024-03-14.

Laser processing apparatus

Номер патента: US11969820B2. Автор: Junya Onoda. Владелец: Keyence Corp. Дата публикации: 2024-04-30.

Laser processing device and laser processing head

Номер патента: US20230278144A1. Автор: Takahiro Ota,Akihisa Matsumoto,Keita NAGATOSHI. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Laser processing apparatus

Номер патента: US20230364707A1. Автор: Seiji Miura. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2023-11-16.

Laser processing head and laser processing device provided with same

Номер патента: EP3978179A1. Автор: Jingbo Wang,Masatoshi Nishio,Manabu Nishihara,Kenzo Shibata. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2022-04-06.

Method and device for laser processing a workpiece

Номер патента: US20240165737A1. Автор: Jonas Kleiner,Daniel Flamm,Myriam Kaiser. Владелец: Trumpf Laser und Systemtechnik GmbH. Дата публикации: 2024-05-23.

Powder-bed laser processing apparatus, powder additive manufacturing apparatus, processing method, and a computer readable medium

Номер патента: US20240181564A1. Автор: Naoki Ueda,Seiya Hiramatsu. Владелец: Japan Steel Works Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Laser processing beam machine

Номер патента: US20070228020A1. Автор: Ryugo Oba. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2007-10-04.

Laser processing head and laser processing machine

Номер патента: US11878366B2. Автор: Yasuhiro Takase,Akihiko Sugiyama,Chisato Udagawa. Владелец: Amada Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-23.

Vacuum laser processing device

Номер патента: US20240139872A1. Автор: Kenji Kawasaki,Takehisa Okuda,Naoki Suda,Tomoharu TAMARU. Владелец: Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2024-05-02.

Housing for a laser processing machine and laser processing machine having a housing

Номер патента: ZA202213001B. Автор: Andrea Colombo,Giovanni Riva,Roberto GEMIGNANI,Andrea Crosato,Davide Raffaelli,Corrado Cattaneo. Владелец: BLM SpA. Дата публикации: 2023-11-29.

Housing for a laser processing machine and laser processing machine having a housing

Номер патента: CA3182536A1. Автор: Andrea Colombo,Giovanni Riva,Roberto GEMIGNANI,Andrea Crosato,Davide Raffaelli,Corrado Cattaneo. Владелец: BLM SpA. Дата публикации: 2023-06-03.

Laser processing apparatus

Номер патента: US20240157475A1. Автор: Ryohei Suzaki,Monika Imanishi. Владелец: Keyence Corp. Дата публикации: 2024-05-16.

Method and device for laser processing a workpiece

Номер патента: US20240217031A1. Автор: Jonas Kleiner,Daniel Flamm,Myriam Kaiser. Владелец: Trumpf Laser und Systemtechnik GmbH. Дата публикации: 2024-07-04.

Laser processing machine and laser processing method

Номер патента: EP3765231A1. Автор: Takaaki Yamanashi,Kouji Funaki,Dennis Pohle. Владелец: Amada Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-20.

Light guide device and laser processing device

Номер патента: RU2752126C1. Автор: Муцухиро НАКАДЗАВА. Владелец: Кавасаки Дзюкогио Кабусики Кайся. Дата публикации: 2021-07-23.

Methods for laser processing a substrate stack having one or more transparent workpieces and a black matrix layer

Номер патента: US11059131B2. Автор: Garrett Andrew Piech,Kristopher Allen Wieland. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2021-07-13.

Methods for laser processing transparent workpieces using modified pulse burst profiles

Номер патента: US20210379695A1. Автор: Sasha Marjanovic,Garrett Andrew Piech,Ralf Joachim Terbrueggen,Vytautas SABONIS,Valdemaras Juzumas,Reinhard Moritz Malchus. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2021-12-09.

Method and apparatus for laser process control

Номер патента: US4865683A. Автор: Leslie L. Burns. Владелец: Lasa Industries Inc. Дата публикации: 1989-09-12.

Light guide device and laser processing device

Номер патента: RU2754523C1. Автор: Муцухиро НАКАДЗАВА,Осами ООГУСИ. Владелец: Кавасаки Дзюкогио Кабусики Кайся. Дата публикации: 2021-09-02.

Laser processing apparatus and method

Номер патента: CA3026330C. Автор: Jarno Kangastupa. Владелец: CORELASE OY. Дата публикации: 2020-11-24.

A laser processing bench with a movement mechanism

Номер патента: WO2014185878A2. Автор: Mastar ERCAN. Владелец: COSKUNÖZ METAL FORM MAKINA ENDÜSTRI VE TIC. A.S.. Дата публикации: 2014-11-20.

Laser processing method to a micro lens

Номер патента: US5951731A. Автор: Keiji Tsunetomo,Tadashi Koyama. Владелец: Nippon Sheet Glass Co Ltd. Дата публикации: 1999-09-14.

Methods and apparatuses for laser processing materials

Номер патента: WO2016007572A1. Автор: Michael Klein,Richard GRUNDMUELLER,Frank Fabian Herrnberger,Florian Spaeth. Владелец: CORNING INCORPORATED. Дата публикации: 2016-01-14.

Near infrared (nir) laser processing of resin based articles

Номер патента: EP3594008A1. Автор: Hubertus Van Aert,Tim Desmet,Faïma LAZREG. Владелец: Agfa Gevaert NV. Дата публикации: 2020-01-15.

Means of enhancing laser processing efficiency of metals

Номер патента: US4877939A. Автор: Walter W. Duley,Grant Kinsman. Владелец: Individual. Дата публикации: 1989-10-31.

Depth measurement and depth control or automatic depth control for a hollow to be produced by a laser processing device

Номер патента: US7767928B2. Автор: Martin Reisacher,Peter Hildebrand,Michael Kuhl,Peter Wrba. Владелец: Lasertec GmbH. Дата публикации: 2010-08-03.

Apparatus and method for laser processing a material

Номер патента: US11331757B2. Автор: Christophe Andre CODEMARD,Malcolm Paul Varnham,Mikhail Nickolaos Zervas,Iain Botheroyd,Andrew Malinowski,Stephen John Keen. Владелец: Trumpf Laser UK Ltd. Дата публикации: 2022-05-17.

Laser processing apparatus

Номер патента: US11703659B2. Автор: Hideki Yamakawa,Kazuma Nehashi,Yu Takabatake. Владелец: Keyence Corp. Дата публикации: 2023-07-18.

Laser process apparatus

Номер патента: CA2055899C. Автор: Takashi Watanabe,Akira Goto,Hiroshi Kohno,Masayuki Nishiwaki,Kazuaki Masuda,Toshio Tsuda,Fumio Ichikawa,Masaki Inaba,Tsuyoshi Orikasa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1997-12-16.

System and method for calibrating laser processing parameters

Номер патента: US20230191536A1. Автор: Bin Zhang,Zhongpeng ZHONG,Fengming LONG,Zilin WU,Zheyong CHEN. Владелец: Shenzhen Snapmaker Technologies Co ltd. Дата публикации: 2023-06-22.

Laser processing device

Номер патента: US20230256535A1. Автор: Junji Okuma. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2023-08-17.

Laser processing apparatus

Номер патента: US11938570B2. Автор: Keiji Nomaru. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2024-03-26.

Laser processing system

Номер патента: US11914269B2. Автор: Shang-Yu Hsu,Zih-Yi LI,Ying-Tso Lin,Ying-Hui Yang. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2024-02-27.

Cosemtics having impregnation member with recessed pattern formed on surface thereof by laser processing

Номер патента: CA3005585C. Автор: Jun Young Kim,Ju Ho Kim. Владелец: Amorepacific Corp. Дата публикации: 2023-06-06.

Method for laser processing packaging box

Номер патента: US11780031B2. Автор: LIANG Shih,Chia-Liang Lu,Heng-Kuan Lin. Владелец: Great Computer Corp. Дата публикации: 2023-10-10.

Laser processing machine

Номер патента: US11801570B2. Автор: Koji Kubo. Владелец: Mitutoyo Corp. Дата публикации: 2023-10-31.

Apparatus for laser processing a material

Номер патента: WO2024003551A1. Автор: Chen Rongsheng,Michael Kevan Durkin,Fabio Ghiringhelli,Iain Botheroyd,Andrew Malinowski,Krysztof Pawel HERDZIG. Владелец: Trumpf Laser Uk Limited. Дата публикации: 2024-01-04.

Laser processing apparatus capable of measuring a distance to a workpiece with laser light

Номер патента: US11852894B2. Автор: Hideki Yamakawa,Kazuma Nehashi,Kosuke Matano. Владелец: Keyence Corp. Дата публикации: 2023-12-26.

Device for aligning and positioning a workpiece relative to a laser beam of a laser processing machine

Номер патента: US11872653B2. Автор: Christian Krumm,Pascal SCHOENENBERGER,José CANOSA,Mouhamad Ali FREIDY. Владелец: Rollomatic SA. Дата публикации: 2024-01-16.

Polarizing plate and method for laser processing polarizing plate

Номер патента: US20190179068A1. Автор: Mitsuru Naruse. Владелец: Tokai Rika Co Ltd. Дата публикации: 2019-06-13.

Laser processing apparatus and container manufacturing apparatus

Номер патента: US20120121749A1. Автор: Tatsuhiko Sakai,Hirokazu Yokoya. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-05-17.

Laser processing

Номер патента: US11794281B2. Автор: Ian James THOMSON. Владелец: RENISHAW PLC. Дата публикации: 2023-10-24.

Laser processing apparatus

Номер патента: US11858056B2. Автор: Shin Yoshida,Takanori Sato,Yuichi Hirata,Hiroki TOKUICHI. Владелец: Honda Motor Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-02.

Laser processing apparatus

Номер патента: US11839933B2. Автор: Shin Yoshida,Takanori Sato,Yuichi Hirata,Naruhiko Okubo,Hiroki TOKUICHI,Koki MIZUTANI. Владелец: Honda Motor Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-12.

Double nozzle for a laser processing head

Номер патента: EP3481586A1. Автор: Sanjay Garg,Kenneth J. Woods,David J. Cook,Davide Orlandi,Joe Ciambra. Владелец: Hypertherm Inc. Дата публикации: 2019-05-15.

Laser processing device and method for adjusting focal position of laser beam using same

Номер патента: EP4269016A1. Автор: Takayasu Ohara,Masatoshi Nishio,Yoichi FUKUMITSU. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-01.

Laser processing apparatus

Номер патента: US20230364717A1. Автор: Ryohei Yamamoto. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2023-11-16.

Laser processing system

Номер патента: US20220082900A1. Автор: Shang-Yu Hsu,Zih-Yi LI,Ying-Tso Lin,Ying-Hui Yang. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2022-03-17.

Laser processing apparatus

Номер патента: US8378257B2. Автор: Keiji Nomaru,Taiki Sawabe. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2013-02-19.

Laser processing apparatus

Номер патента: US11938561B2. Автор: Takayuki Yoshida,Izuru Nakai,Takaaki Kassai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-26.

Laser processing apparatus

Номер патента: US20220371122A1. Автор: Mitsuoki Hishida,Keiji Narumi. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-24.

Mixing nozzle for a laser processing system

Номер патента: CA3237022A1. Автор: Henry White,Takayuki Hirano,Kenneth J. Woods,Ryan CONROY,Brenda Melius. Владелец: MC Machinery Systems Inc. Дата публикации: 2023-05-11.

Laser processing device, and method for manufacturing chip

Номер патента: US20220371130A1. Автор: Minoru Yamamoto,Hiroaki Tamemoto,Ryota SUGIO,Tominori Nakamura,Yusuke SEKIMOTO. Владелец: Nichia Corp. Дата публикации: 2022-11-24.

Laser processing apparatus

Номер патента: US20230150061A1. Автор: Saneyuki Goya. Владелец: Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2023-05-18.

Laser processing apparatus

Номер патента: US20230191539A1. Автор: Atsushi Maeda,Tasuku Koyanagi. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2023-06-22.

Mixing nozzle for a laser processing system

Номер патента: US20230142249A1. Автор: Henry White,Takayuki Hirano,Ryan CONROY,Kenneth Woods,Brenda Melius. Владелец: Hypertherm Inc. Дата публикации: 2023-05-11.

Laser processing machine and nozzle thereof

Номер патента: US20190168339A1. Автор: Sung-Ling Fang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2019-06-06.

System and method to measure and calibrate laser processing machine using low-power beam profiler

Номер патента: US20230130740A1. Автор: Danny Chan. Владелец: II VI Delaware Inc. Дата публикации: 2023-04-27.

Laser processing machine and control method therefor

Номер патента: US11986903B2. Автор: Satoshi Ito,Atsuya Tanaka. Владелец: Amada Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-21.

Laser processing device

Номер патента: US20240207972A1. Автор: Chang Yang,YONG Cheng,you-wei Huang,Liao-Yuan Liang,Hai-Bo Tang. Владелец: Fulian Yuzhan Precision Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Laser processing apparatus and method of manufacturing the same

Номер патента: US11819941B2. Автор: Kyongho HONG,Seokjoo Lee,Jinwon BAEK,Sangsun HAN. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-21.

Dental material compositions for cleansing, etching, and identifying residual caries & their methods of use

Номер патента: US20240139075A1. Автор: Scott Lamerand,Alexander D. Johnson. Владелец: Inter Med Inc. Дата публикации: 2024-05-02.

Method of making a printing plate for etching and etching solution for its implementation

Номер патента: RU2699750C1. Автор: Сергей Геннадьевич Каплунов. Владелец: Сергей Геннадьевич Каплунов. Дата публикации: 2019-09-09.

Method and arrangement for continuous etching and anodizing of aluminum

Номер патента: US3632486A. Автор: Helmut F Herrmann,Rolando M Dizon. Владелец: Metalloxyd GmbH. Дата публикации: 1972-01-04.

Electroless Nickel Etch Chemistry, Method Of Etching And Pretreatment

Номер патента: US20220127729A1. Автор: Douglas P. Riemer,Matthew J. Horner,Gowtham V. Vangara. Владелец: Hutchinson Technology Inc. Дата публикации: 2022-04-28.

Electroless nickel etch chemistry, method of etching and pretreatment

Номер патента: US11932948B2. Автор: Douglas P. Riemer,Matthew J. Horner,Gowtham V. Vangara. Владелец: Hutchinson Technology Inc. Дата публикации: 2024-03-19.

Preparation tray for improved etching and bonding of a tooth surface prior to the placement of a tooth attachment or a bracket

Номер патента: US11957535B1. Автор: Carl J. Metz. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-04-16.

Glass etching and breaking apparatus and methods of using the same

Номер патента: US20220250963A1. Автор: Ray Nicholas,Ryan Nicholas,Jordan Anderson. Владелец: Creator's Stained Glass Inc. Дата публикации: 2022-08-11.

Method of Correcting Etch and Lithographic Processes

Номер патента: US20090300572A1. Автор: Joerg Thiele,Christof Bodendorf,Martin Keck,Robert Wildfeuer. Владелец: Qimonda AG. Дата публикации: 2009-12-03.

Laser-etching and machine-vision positioning system

Номер патента: US20210069825A1. Автор: Tyler Emerson Berkey,John Eric Miller,James Alan Aske. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2021-03-11.

Machine for etching and rinsing printing plates

Номер патента: US3604438A. Автор: Kurt Fries. Владелец: Individual. Дата публикации: 1971-09-14.

Preparation tray for improved etching and bonding of a tooth surface prior to the placement of a tooth attachment or a bracket

Номер патента: US20240115354A1. Автор: Carl J. Metz. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-04-11.

Method of etching and cleaning objects

Номер патента: US7419614B2. Автор: Jeong-Jin Kim,Il-Ryong Park,Hae-Joo Choi. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2008-09-02.

Plasma generation device, plasma treatment device, and plasma etching device for seamless roller mold

Номер патента: EP4351281A1. Автор: Kohei Murakami,Tsuneharu TANAKA,Akira NAGAYASU. Владелец: Shinko Seiki Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-10.

Plasma generating device, plasma processing device, and plasma etching device for seamless roller mold

Номер патента: US20240260165A1. Автор: Kohei Murakami,Tsuneharu TANAKA,Akira NAGAYASU. Владелец: Shinko Seiki Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Method of printing stealth white image, set of substrate and stealth ink, and printing device

Номер патента: US20210146708A1. Автор: Koji Katsuragi,Haruki Saitoh. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-05-20.

A method for regenerating a silicon member for a plasma etching apparatus, a silicon member for a plasma etching apparatus, a silicon focusing ring, and a silicon electrode plate

Номер патента: TWI525695B. Автор: Kosuke Imafuku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-03-11.

Method of printing stealth white image, set of substrate and stealth ink, and printing device

Номер патента: US11701911B2. Автор: Koji Katsuragi,Haruki Saitoh. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-18.

Fabricating a planar optical waveguide in a single plasma etching chamber

Номер патента: GB2330800A. Автор: Tae-Hyung Rhee,Byong-Gwon You,Jung-Hee Kim,Woo-Hyuk Jang,Sang-Yun Yi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 1999-05-05.

PLASMA ETCHING METHOD

Номер патента: US20120003838A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Composition of gas mixture to form tantalum nitride metal gate by plasma etch chemistry

Номер патента: RU2450385C1. Автор: Геннадий Яковлевич Красников,Олег Павлович Гущин,Андрей Владимирович Данила,Михаил Родионович Бакланов,Денис Георгиевич Шамирян. Владелец: Открытое акционерное общество "НИИ молекулярной электроники и завод "Микрон". Дата публикации: 2012-05-10.

Device for plasma etch chemistry

Номер патента: RU2529633C1. Автор: Данил Геннадьевич Челапкин,Владимир Евгеньевич Белецкий. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "ЭСТО-Вакуум". Дата публикации: 2014-09-27.

Method and apparatus for measuring the wafer etch rate and etch depth in a plasma etch process.

Номер патента: IES20070301A2. Автор: Stephen Daniels,Shane Glynn,Felipe Soberon,Maria Tipaka. Владелец: Lexas Res Ltd. Дата публикации: 2008-04-02.

Apparatus for ion-plasma etching and depositing thin films

Номер патента: RU2540318C2. Автор: Алексей Алексеевич Исаев. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-производственное предприятие "Исток" (ФГУП "НПП "Исток"). Дата публикации: 2015-02-10.

Method of material laser processing and device to this end

Номер патента: RU2505386C2. Автор: Леонид Григорьевич Сапрыкин,Михаил Николаевич Миленький. Владелец: ООО Научно-производственный центр "Лазеры и аппаратура ТМ". Дата публикации: 2014-01-27.

Method of perfecting magnetic properties of anisotropic electric steel by laser processing

Номер патента: RU2501866C1. Автор: Владимир Иванович Пудов,Юрий Николаевич Драгошанский. Владелец: Юрий Николаевич Драгошанский. Дата публикации: 2013-12-20.

Device for laser processing

Номер патента: RU2482945C1. Автор: Игорь Николаевич Егоров,Владимир Павлович Умнов,Александр Викторович Власенков,Николай Николаевич Соколов,Владимир Николаевич Веденеев,Елена Александровна Гольцова,Сергей Владимирович Молостов,Александр Владимирович Астафьев. Владелец: Открытое Акционерное Общество Научно-исследовательский проектно-технологический институт "Микрон". Дата публикации: 2013-05-27.

Material laser processing method, and device for its implementation

Номер патента: RU2474022C2. Автор: Леонид Григорьевич Сапрыкин,Михаил Николаевич Миленький,Евгений Валентинович Раевский,Василий Петрович Максюков. Владелец: ООО Научно-производственный центр "Лазеры и аппаратура ТМ". Дата публикации: 2013-01-27.

Method and device for surface laser processing of pyroceram

Номер патента: RU2463267C2. Автор: Валерий Васильевич Тарасов,Валерий Валентинович Бесогонов,Василий Федорович Лыс,Ирина Николаевна Скворцова. Владелец: Учреждение Российской академии наук Институт прикладной механики Уральского отделения РАН. Дата публикации: 2012-10-10.

Device for laser processing of seeds before sowing

Номер патента: RU2328847C2. Автор: Вера Трифоновна Ольшевская,Вера Трифоновна Ольшевска,В чеслав Михайлович Гаврилов,Вячеслав Михайлович Гаврилов,Константин Николаевич Штубов. Владелец: ФГОУ ВПО "Казанский государственный аграрный университет". Дата публикации: 2008-07-20.

Device of multiway laser processing

Номер патента: RU2365476C1. Автор: Юрий Александрович Чивель,Дмитрий Александрович Затягин,Игорь Смуров,Бернар Лаже,Филипп Бертран. Владелец: Национальная инженерная школа Сент-Этьенна. Дата публикации: 2009-08-27.

Plasmo-chemical low-pressure reactor for etching and depositing materials

Номер патента: RU2293796C2. Автор: Ильдар Искандерович Амиров,Олег Валентинович Морозов,Михаил Олегович Изюмов. Владелец: Институт микроэлектроники и информатики РАН. Дата публикации: 2007-02-20.

Laser processing of non-metallic materials

Номер патента: RU2566138C2. Автор: Александр Фёдорович Коваленко,Игорь Валентинович Евсеев,Александр Александрович Мишин. Владелец: Федеральное государственное казенное военное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Военная академия Ракетных войск стратегического назначения имени Петра Великого" Министерства обороны Российской Федерации. Дата публикации: 2015-10-20.

Laser processing of nonmetallic plates

Номер патента: RU2583870C1. Автор: Александр Фёдорович Коваленко. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт автоматики им. Н.Л. Духова" (ФГУП "ВНИИА"). Дата публикации: 2016-05-10.

Medical adhesive bioimplant of new generation of biopolymer nanocomposites in form of semi-synthetic polymer matrix with use of laser processing

Номер патента: RU2477996C1. Автор: Елена Владимировна Фейгина,Роберт Иванович Баграмов. Владелец: Роберт Иванович Баграмов. Дата публикации: 2013-03-27.

Method of plasma etching and plasma chamber cleaning using F2 and COF2

Номер патента: TW201129722A. Автор: Marcello Riva. Владелец: Solvay. Дата публикации: 2011-09-01.

Method for setting plasma chamber having an adaptive plasma source, plasma etching method using the same and manufacturing method for adaptive plasma source

Номер патента: TWI274527B. Автор: Nam-Hun Kim,Yeong-Su Song,Sang-Ryong Oh,Sheung-Ki Kim,Yung-Kun Oh. Владелец: Adaptive Plasma Tech Corp. Дата публикации: 2007-02-21.

Method for setting plasma chamber having an adaptive plasma source, plasma etching method using the same and manufacturing method for adaptive plasma source

Номер патента: TW200635444A. Автор: Do Hyung Lee,Nam-Hun Kim,Yeong-Su Song,Sang-Ryong Oh,Sheung-Ki Kim,Yung-Kun Oh. Владелец: Adaptive Plasma Tech Corp. Дата публикации: 2006-10-01.

Deposition gas for forming etching protective film, plasma etching method, and plasma etching apparatus

Номер патента: JP6438511B2. Автор: 孝 山本,隆一郎 伊崎,山本　孝,尚弥 池本,洋志 ▲高▼. Владелец: SPP Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2018-12-12.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.